JP4360926B2 - Plasma display panel - Google Patents

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本発明は、高精度で安価な、軽量薄型の大型画面用カラー画像表示装置等の発光素子として用いられるプラズマディスプレイパネル(以下、「PDP」という。)に関するものである。   The present invention relates to a plasma display panel (hereinafter referred to as “PDP”) used as a light-emitting element in a color image display device for a large-size screen with high accuracy and low cost.

従来、画像表示装置として多用されてきたCRTは、容積および重量が大きく、高電圧が必要であるといった欠点がある。このため、近年のマルチメディアの浸透に伴い、情報のインターフェースとして、PDPや、発光ダイオード(LED)や、液晶表示素子(LCD)など、大型画面であり、高画質であり、かつ軽量薄型で設置場所を選ばないなどといった特徴を有する平面画像表示装置が開発され、これらの利用範囲が拡大しつつある(例えば、特許文献1参照)。   Conventionally, CRTs that have been frequently used as image display devices have the disadvantages that they are large in volume and weight and require a high voltage. Therefore, with the recent penetration of multimedia, the information interface is a large screen such as PDP, light emitting diode (LED), liquid crystal display element (LCD), etc. Planar image display devices having features such as not selecting a place have been developed, and the range of use of these devices is expanding (see, for example, Patent Document 1).

図1(a)、(b)に、一般的な交流型PDPの一例を示す。この交流型PDPは、実質的に、前面基板1と、表示電極2と、誘電体層3と、保護層4と、蛍光体層6と、アドレス電極7と、背面基板8と、隔壁9と、誘電体層10とで構成されている。かかる交流型PDPにおいては、一般に、表示電極2は、ガラス製の前面基板1上に形成され、誘電体層3および保護層4で覆われている。また、アドレス電極7および蛍光体層6は、ガラス製の背面基板8上に設けられている。   FIGS. 1A and 1B show an example of a general AC type PDP. This AC type PDP substantially includes a front substrate 1, a display electrode 2, a dielectric layer 3, a protective layer 4, a phosphor layer 6, an address electrode 7, a rear substrate 8, a partition wall 9, And the dielectric layer 10. In such an AC type PDP, the display electrode 2 is generally formed on a glass front substrate 1 and covered with a dielectric layer 3 and a protective layer 4. The address electrode 7 and the phosphor layer 6 are provided on a glass back substrate 8.

そして、前面基板1(保護層4)と背面基板8(蛍光体層6)との間に、放電ガスが封入された放電空間5が形成されている。放電空間5では、放電に伴って真空紫外線(主として、波長147nm)が発生し、蛍光体層6が励起発光されることによって表示が行われる。
特開2002−367518号公報(段落[0015]、図1)
A discharge space 5 in which a discharge gas is enclosed is formed between the front substrate 1 (protective layer 4) and the back substrate 8 (phosphor layer 6). In the discharge space 5, vacuum ultraviolet rays (mainly at a wavelength of 147 nm) are generated along with the discharge, and the phosphor layer 6 is excited to emit light, thereby displaying.
JP 2002-367518 A (paragraph [0015], FIG. 1)

しかし、かかる従来のPDPでは、保護層や蛍光体層に吸着している不純物や、製造工程で吸着してパネル内に持ち込まれた不純物により、保護層の2次電子放出効率が低下し、輝度ばらつきや点灯タイミングのずれが発生し、画像均一性が損なわれるといった問題がある。   However, in such a conventional PDP, the secondary electron emission efficiency of the protective layer is reduced due to impurities adsorbed on the protective layer and the phosphor layer, and impurities adsorbed in the manufacturing process and brought into the panel. There is a problem that variations and lighting timing shifts occur and image uniformity is impaired.

本発明は、上記従来の問題を解決するためになされたものであって、保護層の2次電子放出効率を高位に維持・均一化し、輝度ばらつきや点灯タイミングのずれが発生せず、また画像の均一性が良好なPDP(プラズマディスプレイパネル)を提供することを解決すべき課題とする。   The present invention has been made to solve the above-described conventional problems. The secondary electron emission efficiency of the protective layer is maintained and uniformed at a high level so that luminance variations and lighting timing shifts do not occur, and an image is generated. It is a problem to be solved to provide a plasma display panel (PDP) with good uniformity.

本発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意検討を行い、保護層に酸化チタンを加えることにより、酸化チタンの触媒特性により有機物などの汚染物質が分解され、汚染物質が蛍光体に吸着するのが抑制され、輝度のばらつきが小さくなるということを見出した。本発明者らは、この検討結果に基づき、輝度ばらつきや点灯タイミングのずれが少ない画像均一性に優れたPDPを提供する。   The present inventors have intensively studied to achieve the above object, and by adding titanium oxide to the protective layer, pollutants such as organic substances are decomposed by the catalytic properties of titanium oxide, and the pollutants become phosphors. It was found that the adsorption is suppressed and the variation in luminance is reduced. Based on the results of this study, the present inventors provide a PDP excellent in image uniformity with little luminance variation and lighting timing shift.

本発明にかかるPDPは、表示電極が配線されている前面基板と、アドレス電極が配線されている背面基板とを有する。前面基板および背面基板の対向面の少なくとも一方には蛍光体層が設けられている。また、前面基板および背面基板の対向面の少なくとも一方には誘電体層と、さらに前記誘電体層を保護する保護層が設けられている。そして、PDPは、前面基板と背面基板との間に形成された微小な放電空間での放電により画像を表示するようになっている。ここで、保護層は、酸化マグネシウムを主体とする一方、酸化チタンを0.2〜10wt%含む。酸化チタンは、アナターゼ結晶を主体とし、ルチル結晶およびブルカイト結晶の含有比率が20wt%以下のものである。   The PDP according to the present invention includes a front substrate on which display electrodes are wired and a back substrate on which address electrodes are wired. A phosphor layer is provided on at least one of the opposing surfaces of the front substrate and the rear substrate. In addition, a dielectric layer and a protective layer for protecting the dielectric layer are provided on at least one of the opposing surfaces of the front substrate and the rear substrate. The PDP displays an image by discharging in a minute discharge space formed between the front substrate and the rear substrate. Here, the protective layer mainly contains magnesium oxide and contains 0.2 to 10 wt% of titanium oxide. Titanium oxide is mainly composed of anatase crystals, and the content ratio of rutile crystals and brookite crystals is 20 wt% or less.

酸化チタンは、物理的、化学的に安定であり、下地の色を隠す隠蔽力や着色性が良く、紫外線遮蔽効果がある。このため、塗料やプラスチックなどの顔料、化粧品用紫外線遮蔽材、あるいは電子部品用誘電体原材料などとして幅広く使用され、また食品添加物としても認められている安価で安全な材料である。酸化チタンは、3.0eVのバンドギャップを有しており、410nm以下の波長の光で励起される。励起された酸化チタンは、汚染物質に対して触媒として作用する。   Titanium oxide is physically and chemically stable, has a good hiding power and colorability for hiding the underlying color, and has an ultraviolet shielding effect. For this reason, it is a cheap and safe material widely used as a pigment such as paint or plastic, an ultraviolet shielding material for cosmetics, or a dielectric raw material for electronic parts, and also recognized as a food additive. Titanium oxide has a band gap of 3.0 eV and is excited by light having a wavelength of 410 nm or less. Excited titanium oxide acts as a catalyst for contaminants.

酸化チタンには、アナターゼ(Anatase;鋭錐石)、ルチル(Rutile;金紅石)およびブルカイト(Brookite;板チタン石)の3種の結晶形態があり、とくにアナターゼ結晶が紫外光環境下における触媒効果が大きく、次いでルチル結晶が紫外光環境下における触媒効果が大きい。よって、保護層に用いる酸化チタンは、アナターゼ結晶を主体とする酸化チタンであるのが好ましく、ルチル結晶とブルカイト結晶の含有率は20wt%以下であるのが好ましい。   Titanium oxide has three crystal forms, anatase (Anatase), rutile (Rutile), and brookite (Brookite), and the anatase crystal has a catalytic effect in an ultraviolet light environment. Next, rutile crystals have a large catalytic effect in an ultraviolet light environment. Therefore, the titanium oxide used for the protective layer is preferably titanium oxide mainly composed of anatase crystals, and the content of rutile crystals and brookite crystals is preferably 20 wt% or less.

酸化マグネシウムを主体とする保護層に、触媒効果を有する酸化チタンを含有させる場合、酸化チタンの含有率は0.2wt%以上であるのが好ましい。また、酸化マグネシウムの電子放出特性および壁電荷を蓄積する絶縁性を損なわないよう、酸化チタンの含有率は10wt%以下であるのが好ましい。   When the protective layer mainly composed of magnesium oxide contains titanium oxide having a catalytic effect, the content of titanium oxide is preferably 0.2 wt% or more. Further, the content of titanium oxide is preferably 10 wt% or less so as not to impair the electron emission characteristics of magnesium oxide and the insulating property for accumulating wall charges.

かくして、本発明によれば、2次電子放出効率を高位に維持・均一化することにより、輝度ばらつきや点灯タイミングのずれが発生せず、また画像の均一性が良好なPDPを提供することができる。   Thus, according to the present invention, by maintaining and uniformizing the secondary electron emission efficiency at a high level, it is possible to provide a PDP in which luminance variation and lighting timing shift do not occur and image uniformity is good. it can.

以下、本発明の実施の形態にかかるPDPおよびその製造方法を、図1(a)、(b)に基づいて、詳細に説明する。   Hereinafter, a PDP and a method for manufacturing the same according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS.

この実施の形態にかかるPDPでは、表示電極2とアドレス電極7との間の放電により放電空間5で発生した紫外線が、パネルの内面に形成された蛍光体層6(蛍光体)を励起し、フォトルミネッセンスの原理により、蛍光体材料に特有の発光スペクトルをもつ可視光が放射される。それぞれの表示セルにおいては、隔壁9により放電空間5が分離されている。隔壁9は、アルミナ含有ガラスからなり、高さおよび隣の隔壁とのピッチを約0.15mmとして、可視光反射層の表面上に突設されている。このような構成をもつPDPのサイズは、106.68cm(42インチ)のハイビジョンテレビ用のディスプレイに設定されている。画素数は1920×1125であり、セルピッチは0.15mm×0.48mmであり、単位セル面積は0.072mmである。 In the PDP according to this embodiment, the ultraviolet rays generated in the discharge space 5 due to the discharge between the display electrode 2 and the address electrode 7 excite the phosphor layer 6 (phosphor) formed on the inner surface of the panel, Visible light having an emission spectrum specific to the phosphor material is emitted by the principle of photoluminescence. In each display cell, the discharge space 5 is separated by the barrier rib 9. The partition walls 9 are made of alumina-containing glass, and protrude from the surface of the visible light reflection layer with a height and a pitch of about 0.15 mm with the adjacent partition walls. The size of the PDP having such a configuration is set to a display for a high-definition television of 106.68 cm (42 inches). The number of pixels is 1920 × 1125, the cell pitch is 0.15 mm × 0.48 mm, and the unit cell area is 0.072 mm 2 .

この実施の形態にかかるPDPは、以下に示す製造方法により作製される。また、それぞれ表示セルには赤色、緑色、青色発光の蛍光体が形成されている。フルカラー表示は、それぞれの表示セルの赤色、緑色、青色発光の蛍光体の発光強度を変化させることにより行われる。一般に、交流駆動型のPDPは、保護層ないしは誘電体層の上に蓄積する荷電粒子の制御によりONとOFFの状態をとるメモリー機能を有する。   The PDP according to this embodiment is manufactured by the following manufacturing method. In addition, red, green, and blue light emitting phosphors are formed in the display cells, respectively. Full color display is performed by changing the emission intensity of the red, green, and blue light emitting phosphors of the respective display cells. In general, an AC drive type PDP has a memory function that takes on and off states by controlling charged particles accumulated on a protective layer or a dielectric layer.

この実施の形態では、前面基板1および背面基板8には、対角106.68cm(42インチ)のソーダライムガラスが用いられている。PDP用の基板としては対角101.6cm(40インチ)を超える大きなサイズの板ガラスが必要である。このような大きさの板ガラスを製造する方法はいくつかあるが、平坦度や平行度の面で優れたフロート法で製造するのが好ましい。PDPの製造工程では、繰り返し熱処理工程を経なければならない。したがって、PDP用の基板としては、熱変形する温度が高い材料であるのが望ましく、誘電体層3の焼成温度以上であればよい。さらに、電気絶縁性を考慮した材料であればよく、ソーダライムガラスや低ソーダガラス、鉛アルカリケイ酸ガラス、ホウケイ酸塩ガラス等の透明ガラス基板を用いてもよい。   In this embodiment, the front substrate 1 and the rear substrate 8 are made of soda-lime glass having a diagonal of 106.68 cm (42 inches). As a substrate for PDP, a plate glass having a large size exceeding a diagonal of 101.6 cm (40 inches) is required. There are several methods for manufacturing such a glass plate, but it is preferable to manufacture by a float method that is excellent in terms of flatness and parallelism. In the manufacturing process of the PDP, a heat treatment process must be repeated. Therefore, it is desirable that the substrate for PDP is a material having a high thermal deformation temperature, and it may be higher than the firing temperature of the dielectric layer 3. Furthermore, any material in consideration of electrical insulation may be used, and a transparent glass substrate such as soda lime glass, low soda glass, lead alkali silicate glass, or borosilicate glass may be used.

交流型のPDPの表示電極においては、面放電を実現させるため、広い範囲に電極を配置した構造が必要である。また、発光した蛍光体可視光を前面基板1を通過させるため、透明電極材料であるのが望ましい。したがって、表示電極2は、可視光の透過率が高く、信号の高速伝達が可能なように、抵抗値が低く、パターンニング性が良く、周辺材料との耐久性等のマッチングが良好であり、大面積にわたって均一な膜質である材料を用いればよい。   In the display electrode of the AC type PDP, a structure in which electrodes are arranged in a wide range is necessary in order to realize surface discharge. In addition, a transparent electrode material is desirable for allowing the emitted phosphor visible light to pass through the front substrate 1. Therefore, the display electrode 2 has a high visible light transmittance, a low resistance value so that high-speed signal transmission is possible, a good patterning property, and a good matching such as durability with peripheral materials, A material having a uniform film quality over a large area may be used.

表示電極2は、ターゲット比9(In):1(SnO)にてアルゴン雰囲気中で0.266Pa(2×10−3Torr)の条件下で、マグネトロンスパッタリングにより形成された、550nmの透過率90%、抵抗2×10−4Ωcm、のインジウムスズ酸化物薄膜である。マグネトロンスパッタは、酸素を少量混合してもよい。また、他の表示電極2の材料として、SnO、ZnO、CdSnOなどを用いてもよいが、これらに限定されない。表示電極2の製法としては、印刷法、塗布法、熱CVD等のCVD法、真空蒸着法等のPVD法を用いればよい。成膜後は、フォトエッチング法によってパターンニングしてもよい。また、表示電極の抵抗値を小さくするため、前述の透明な電極の上に、AgやAlやMgAgやCr/Cu/Cr等からなる補助電極を形成してもよい。 The display electrode 2 was formed by magnetron sputtering under the condition of 0.266 Pa (2 × 10 −3 Torr) in an argon atmosphere at a target ratio of 9 (In 2 O 3 ): 1 (SnO 2 ). Indium tin oxide thin film having a transmittance of 90% and a resistance of 2 × 10 −4 Ωcm. Magnetron sputtering may mix a small amount of oxygen. Further, SnO 2 , ZnO, CdSnO or the like may be used as the material of the other display electrode 2, but is not limited thereto. As a manufacturing method of the display electrode 2, a printing method, a coating method, a CVD method such as thermal CVD, or a PVD method such as a vacuum evaporation method may be used. After film formation, patterning may be performed by a photoetching method. In order to reduce the resistance value of the display electrode, an auxiliary electrode made of Ag, Al, MgAg, Cr / Cu / Cr, or the like may be formed on the transparent electrode.

交流駆動のPDPにおける誘電体層3の特性としては、耐電圧、透過率、静電容量、面粗度、保護層とのマッチングが良好であることが要求される。誘電体層3としては、酸化鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素系、酸化鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化亜鉛系、および酸化鉛−酸化ホウ素−酸化ケイ素−酸化アルミ系の低融点ガラスを主成分とするガラスペーストをスクリーン印刷法やダイコート法、ロールコート法等、公知の塗布方法により成膜した後、乾燥、焼成して形成される。この実施の形態では、75wt%の酸化鉛・15wt%の酸化ホウ素・10wt%の酸化ケイ素からなる誘電体ペーストを用い、スクリーン印刷法により成膜した後、580℃で焼成した。膜厚は20μmとした。   The characteristics of the dielectric layer 3 in the AC drive PDP are required to have good withstand voltage, transmittance, capacitance, surface roughness, and matching with the protective layer. The dielectric layer 3 is mainly composed of low melting point glass of lead oxide-boron oxide-silicon oxide, lead oxide-boron oxide-silicon oxide-zinc oxide, and lead oxide-boron oxide-silicon oxide-aluminum oxide. The glass paste is formed by a known coating method such as screen printing, die coating, or roll coating, and then dried and fired. In this embodiment, a dielectric paste made of 75 wt% lead oxide, 15 wt% boron oxide, and 10 wt% silicon oxide was used to form a film by a screen printing method, followed by baking at 580 ° C. The film thickness was 20 μm.

保護層4は、誘電体層3をプラズマによるイオン衝撃から保護するためのものであり、高い2次電子放出効率によって放電開始電圧を低電圧化できることから、酸化マグネシウムが広く用いられている。その成膜方法としては、電子ビーム蒸着法やCVD法、スパッタリング法等が用いられる。また、ペースト化してスクリーン印刷法により成膜した後、焼成してもよい。ピンホールを少なくするため、原子層エピタキシ法(ALE法)による成膜をしてもよい。吸着物を除去するため、成膜前または/かつ後で酸化マグネシウムを加温してもよい。この実施の形態では、まず、酸化マグネシウムの粉末に10wt%のマグネシウムジエトキシド、またはオクチル酸(2−エチルヘキサン酸)マグネシウム溶液を加えてペーストを作製した。これに任意の酸化チタン等を混合したものを、スクリーン印刷法により成膜した後、500〜600℃で焼成した。膜厚は、0.5μmとした。   The protective layer 4 is for protecting the dielectric layer 3 from ion bombardment caused by plasma, and magnesium oxide is widely used because the discharge start voltage can be lowered by high secondary electron emission efficiency. As the film formation method, an electron beam evaporation method, a CVD method, a sputtering method, or the like is used. Alternatively, the paste may be formed into a film by a screen printing method and then fired. In order to reduce pinholes, a film may be formed by an atomic layer epitaxy method (ALE method). In order to remove the adsorbate, the magnesium oxide may be heated before and / or after the film formation. In this embodiment, first, a paste was prepared by adding 10 wt% magnesium diethoxide or octylic acid (2-ethylhexanoic acid) magnesium solution to magnesium oxide powder. A mixture obtained by mixing arbitrary titanium oxide and the like was formed into a film by a screen printing method and then baked at 500 to 600 ° C. The film thickness was 0.5 μm.

隔壁9成形用組成物としては、焼成後にガラス質となり、気密性を保持できるガラス材料であればどのようなものでもよい。例えば、低融点ガラス粉末と酸化物セラミック粉末の混合物等を無機成分として使用することができ、該無機成分とバインダ、溶剤、各種添加物等の有機物との混合物を適宜、隔壁の成形条件に応じて調製して使用することができる。   The partition wall 9 molding composition may be any glass material as long as it becomes glassy after firing and can maintain airtightness. For example, a mixture of a low melting glass powder and an oxide ceramic powder can be used as an inorganic component, and a mixture of the inorganic component and an organic substance such as a binder, a solvent, and various additives can be appropriately selected depending on the molding conditions of the partition walls. Can be prepared and used.

そして、最終的に隔壁成形用組成物の被覆層が塑性変形性を有するようになればよい。例えば、塑性変形性を有する隔壁成形用組成物で被覆層を形成するか、あるいは隔壁成形用組成物の被覆層を形成した後、該被覆層に塑性変形性を付与させることも可能である。隔壁の間隔は、色を調整するために、赤色、緑色、青色、のそれぞれの部分において変化させてもよい。この実施の形態では、ホワイトバランスを調整するため、赤色部分を0.153mmとし、緑色部分を0.133mmとし、青色部分を0.16mmとしている。   And what is necessary is for the coating layer of the composition for partition wall shaping | molding to finally have a plastic deformation property. For example, it is possible to form the coating layer with a partition wall molding composition having plastic deformability, or to form the coating layer of the partition wall molding composition and then impart plastic deformation properties to the coating layer. The interval between the partition walls may be changed in each of red, green, and blue in order to adjust the color. In this embodiment, in order to adjust the white balance, the red portion is 0.153 mm, the green portion is 0.133 mm, and the blue portion is 0.16 mm.

なお、塑性変形性を有する前記隔壁成形用組成物に好適な有機物として、バインダには、例えば、アクリル系、ブチラール系等の熱可塑性バインダあるいは紫外線硬化性樹脂や光硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等の反応硬化性樹脂を用いることができる。   In addition, as an organic substance suitable for the partition molding composition having plastic deformability, the binder includes, for example, an acrylic or butyral thermoplastic binder, an ultraviolet curable resin, a photocurable resin, or a thermosetting resin. A reaction curable resin such as can be used.

背面基板8の一方の主面上に、アドレス電極7用の銀ペーストを0.15mmピッチでストライプ状にスクリーン印刷し、その後焼成してアドレス電極7を形成した。誘電体層10は、誘電体層4と比べると、輝度を向上させるため、白色化して反射層の役割を持たせる点以外は、実質的に同一であるため、同種の低融点ガラスおよび同種の製膜方法を用いることができる。この実施の形態では、75wt%の酸化鉛・15wt%の酸化ホウ素・10wt%の酸化ケイ素からなる誘電体ペーストに若干の酸化チタン粒子を混合し、これを背面基板8の主面上に上記アドレス電極7を覆うようにしてスクリーン印刷法により成膜した後、580℃で焼成した。膜厚は20μmとした。続いて、アルミナを含有するガラスペーストを、0.15mmピッチでストライブ状にスクリーン印刷し、これを数回積層行った後に焼成し、高さ0.15mmの隔壁9を形成した。アドレス電極7は、Ag、Ni、Cu、Al等の導体金属、あるいはこれらの合金、または前記導体金属やその合金に少量のガラスを混合した導電性ペーストを用いて形成することができ、製法はエッチング法を用いてもよい。   On one main surface of the back substrate 8, a silver paste for the address electrode 7 was screen-printed in a stripe shape at a pitch of 0.15 mm, and then baked to form the address electrode 7. The dielectric layer 10 is substantially the same as the dielectric layer 4 except that the dielectric layer 10 is whitened to have the role of a reflective layer in order to improve luminance, so that the same kind of low-melting glass and the same kind of glass are used. A film forming method can be used. In this embodiment, some titanium oxide particles are mixed in a dielectric paste made of 75 wt% lead oxide, 15 wt% boron oxide, and 10 wt% silicon oxide, and this is added to the main surface of the back substrate 8 with the above address. A film was formed by screen printing so as to cover the electrode 7, and then baked at 580 ° C. The film thickness was 20 μm. Subsequently, a glass paste containing alumina was screen-printed in a stripe shape at a pitch of 0.15 mm, and this was laminated several times and then baked to form a partition wall 9 having a height of 0.15 mm. The address electrode 7 can be formed using a conductive metal such as Ag, Ni, Cu, or Al, or an alloy thereof, or a conductive paste in which a small amount of glass is mixed with the conductive metal or the alloy. An etching method may be used.

蛍光体は、各々の放電表示セル内にマスクパターンを介して塗布し、焼き付ける。この後、背面板と正面板とを封着し、XeやHe−Xe、Ne−Xe等を主成分とする放電ガスを1330〜79800Pa(10〜600Torr)気密封入してPDPが完成する。この実施の形態では、蛍光体層6は、赤色はYBO:Eu、緑色はBaAl1219:Mn、青色はBaMgAl1017:Eu、をそれぞれ用い、厚みは5〜50μmとした。蛍光体はホワイトバランスを調整するため、厚みを調整すればよい。 The phosphor is applied and baked in each discharge display cell through a mask pattern. Thereafter, the back plate and the front plate are sealed, and a discharge gas mainly containing Xe, He-Xe, Ne-Xe, or the like is hermetically sealed at 1330 to 79800 Pa (10 to 600 Torr) to complete the PDP. In this embodiment, the phosphor layer 6 uses YBO 3 : Eu for red, BaAl 12 O 19 : Mn for green, and BaMgAl 10 O 17 : Eu for blue, and has a thickness of 5 to 50 μm. Since the phosphor adjusts the white balance, the thickness may be adjusted.

各部材を前面基板1と背面基板8とに形成した後、両者の部材が所定の位置にくるように両基板1、8を合わせ、周辺に封着用のガラスペーストを塗布して封着した。この後、放電空間内の空気を排気し、ネオン8%のキセノン混合ガスを62500Pa(約470Torr)の圧力で封入し、電極の表面の一様化のため、エージングを行った。封入するガスはネオン、キセノン、アルゴン、ヘリウム等のガスやこれらガスの混合ガスを用いることができる。ただし、蛍光体を励起するための紫外線にキセノンの共鳴線である147nmを利用するには、キセノンまたはキセノン混合ガスを用いるのが好ましい。   After forming each member on the front substrate 1 and the back substrate 8, both the substrates 1 and 8 were put together so that both members were in a predetermined position, and a glass paste for sealing was applied to the periphery and sealed. Thereafter, the air in the discharge space was evacuated, and a xenon mixed gas of 8% neon was sealed at a pressure of 62500 Pa (about 470 Torr), and aging was performed to make the surface of the electrode uniform. As the gas to be sealed, a gas such as neon, xenon, argon, helium, or a mixed gas of these gases can be used. However, in order to use 147 nm, which is a resonance line of xenon, for ultraviolet rays for exciting the phosphor, it is preferable to use xenon or a xenon mixed gas.

以上のように作製したPDPを用いて交流電圧にて発光させ、画面を上段、中段、下段部に分け、更に右、中央、左部の計9ヶ所の各々3×4cmのエリア部分の輝度を測定し、そのばらつきを評価した。印加電圧は約200Vであるが、高電圧化は不灯点セルの発生等を引き起こすため200V以下であるのが好ましい。   Using the PDP produced as described above, light is emitted at an alternating voltage, and the screen is divided into an upper stage, a middle stage, and a lower stage, and the luminance of the area portion of 3 × 4 cm in each of the right, center, and left parts is totaled. Measured and evaluated its variation. Although the applied voltage is about 200V, it is preferable that the applied voltage is 200V or less because an increase in voltage causes generation of unlit cells.

輝度のばらつきは、輝度に対して10%を超えると目視で認識できるので、例えば輝度が300cd/mであるならば、ばらつきは±15cd/mを超えてはならない。 Variation in luminance, can recognize visually that more than 10% with respect to the luminance, for example, the luminance, if it is 300 cd / m 2, variations should not exceed ± 15cd / m 2.

実施例1では、保護層中にアナターゼ結晶の酸化チタンを10wt%混合した。放電開始電圧は170Vであり、輝度は250±5cd/mであり、そのばらつきは、輝度に対して10%以下であった。 In Example 1, 10 wt% of anatase crystal titanium oxide was mixed in the protective layer. The discharge start voltage was 170 V, the luminance was 250 ± 5 cd / m 2 , and the variation was 10% or less with respect to the luminance.

実施例2では、保護層中にアナターゼ結晶の酸化チタンを0.2wt%混合した。放電開始電圧は150Vであり、輝度は430±20cd/mであり、そのばらつきは、輝度に対して10%以下であった。 In Example 2, 0.2 wt% of anatase crystal titanium oxide was mixed in the protective layer. The discharge start voltage was 150 V, the luminance was 430 ± 20 cd / m 2 , and the variation was 10% or less with respect to the luminance.

実施例3では、保護層中に酸化チタンを10wt%混合した。前記酸化チタンはアナターゼ結晶の酸化チタンを80wt%、ルチル結晶の酸化チタンを20wt%混合した。放電開始電圧は170Vであり、輝度は250±8cd/mであり、そのばらつきは、輝度に対して10%以下であった。 In Example 3, 10 wt% titanium oxide was mixed in the protective layer. As the titanium oxide, 80 wt% of titanium oxide of anatase crystal and 20 wt% of titanium oxide of rutile crystal were mixed. The discharge start voltage was 170 V, the luminance was 250 ± 8 cd / m 2 , and the variation was 10% or less with respect to the luminance.

実施例4では、保護層中に酸化チタンを10wt%混合した。前記酸化チタンはアナターゼ結晶の酸化チタンを80wt%、ブルカイト結晶の酸化チタンを20wt%混合した。放電開始電圧は170Vであり、輝度は250±10cd/mであり、そのばらつきは、輝度に対して10%以下であった。 In Example 4, 10 wt% of titanium oxide was mixed in the protective layer. As the titanium oxide, 80 wt% of titanium oxide of anatase crystal and 20 wt% of titanium oxide of brookite crystal were mixed. The discharge start voltage was 170 V, the luminance was 250 ± 10 cd / m 2 , and the variation was 10% or less with respect to the luminance.

(比較例1)
比較例1では、保護層中に酸化チタンを混合しなかった。放電開始電圧は150Vであり、輝度は500±35cd/mであり、そのばらつきは輝度に対して10%以上であった。
(Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, titanium oxide was not mixed in the protective layer. The discharge start voltage was 150 V, the luminance was 500 ± 35 cd / m 2 , and the variation was 10% or more with respect to the luminance.

(比較例2)
比較例2では、保護層中にアナターゼ結晶の酸化チタンを11wt%混合した。放電開始電圧は170Vであり、輝度は230±5cd/mであり、そのばらつきは、輝度に対して10%以下であった。
(Comparative Example 2)
In Comparative Example 2, 11 wt% of anatase crystal titanium oxide was mixed in the protective layer. The discharge start voltage was 170 V, the luminance was 230 ± 5 cd / m 2 , and the variation was 10% or less with respect to the luminance.

(比較例3)
比較例3では、保護層中にアナターゼ結晶の酸化チタンを0.1wt%混合した。放電開始電圧は150Vであり、輝度は500±30cd/mであり、そのばらつきは、輝度に対して10%以上であった。
(Comparative Example 3)
In Comparative Example 3, 0.1 wt% of anatase crystal titanium oxide was mixed in the protective layer. The discharge start voltage was 150 V, the luminance was 500 ± 30 cd / m 2 , and the variation was 10% or more with respect to the luminance.

(比較例4)
比較例4では、保護層中に酸化チタンを10wt%混合した。前記酸化チタンはアナターゼ結晶の酸化チタンを75wt%、ルチル結晶の酸化チタンを25wt%混合した。放電開始電圧は180Vであり、輝度は240±8cd/mであり、そのばらつきは、輝度に対して10%以下であった。
(Comparative Example 4)
In Comparative Example 4, 10 wt% titanium oxide was mixed in the protective layer. The titanium oxide was a mixture of 75 wt% of anatase crystal titanium oxide and 25 wt% of rutile crystal titanium oxide. The discharge start voltage was 180 V, the luminance was 240 ± 8 cd / m 2 , and the variation was 10% or less with respect to the luminance.

(比較例5)
比較例5では、保護層中に酸化チタンを10wt%混合した。前記酸化チタンはアナターゼ結晶の酸化チタンを75wt%、ブルカイト結晶の酸化チタンを25wt%混合した。放電開始電圧は180Vであり、輝度は240±22cd/mであり、そのばらつきは、輝度に対して10%以下であった。
(Comparative Example 5)
In Comparative Example 5, 10 wt% titanium oxide was mixed in the protective layer. As the titanium oxide, 75 wt% of titanium oxide of anatase crystal and 25 wt% of titanium oxide of brookite crystal were mixed. The discharge start voltage was 180 V, the luminance was 240 ± 22 cd / m 2 , and the variation was 10% or less with respect to the luminance.

実施例1〜4では、いずれも200V以下の交流電圧にて発光し、250cd/m以上の輝度が得られ、輝度のばらつきも10%以下であった。比較例4では、200Vでは発光しなかった。比較例1、3、5では、輝度のばらつきが10%を超えて大きくなった。また、比較例2では、輝度が250cd/m未満に低下した。 In Examples 1 to 4, all emitted light with an AC voltage of 200 V or less, a luminance of 250 cd / m 2 or more was obtained, and the variation in luminance was 10% or less. In Comparative Example 4, no light was emitted at 200V. In Comparative Examples 1, 3, and 5, the variation in luminance was larger than 10%. In Comparative Example 2, the luminance decreased to less than 250 cd / m 2 .

保護層として、酸化マグネシウムに酸化チタンを混合すると、触媒効果により輝度ばらつきが小さくなる。しかし、10wt%を超えて混合すると、酸化マグネシウムの2次電子放出効率および壁電荷を蓄積する絶縁性が低下するため、輝度が半分以下に低下してしまう。酸化チタンは、アナターゼ結晶では光触媒効果により輝度ばらつきを小さくする効果があるが、ルチル結晶ではかかる効果が殆ど無く、ブルカイト結晶では逆効果があると思われる。したがって、酸化チタンはアナターゼ結晶を主体とし、ブルカイト結晶はなるべく使用しないのが好ましい。   When titanium oxide is mixed with magnesium oxide as the protective layer, luminance variation is reduced due to the catalytic effect. However, if it exceeds 10 wt%, the secondary electron emission efficiency of magnesium oxide and the insulating property for accumulating wall charges are reduced, so that the luminance is reduced to half or less. Titanium oxide has the effect of reducing the luminance variation due to the photocatalytic effect in the anatase crystal, but hardly has such an effect in the rutile crystal, and seems to have an adverse effect in the brookite crystal. Therefore, it is preferable that titanium oxide is mainly composed of anatase crystals and brookite crystals are not used as much as possible.

以上のように、本発明にかかるプラズマディスプレイパネルは、輝度ばらつきや点灯タイミングのずれが発生せず、また画像の均一性が良好な大型ディスプレイパネルとして有用であり、とくに大型テレビジョン等の表示画面として用いるのに適している。   As described above, the plasma display panel according to the present invention is useful as a large display panel which does not cause luminance variation and lighting timing shift and has good image uniformity, and is particularly a display screen for a large television or the like. Suitable for use as

(a)は表示電極の伸びる方向と垂直な面で切断した本発明にかかるPDPの断面図であり、(b)はアドレス電極の伸びる方向と垂直な面で切断した本発明にかかるPDPの断面図である。(A) is sectional drawing of PDP concerning this invention cut | disconnected by the surface perpendicular | vertical to the extending direction of a display electrode, (b) is a cross section of PDP concerning this invention cut | disconnected by the surface perpendicular | vertical to the extending direction of an address electrode. FIG.

符号の説明Explanation of symbols

1 前面基板、 2 表示電極、 3 誘電体層、 4 保護層、 5 放電空間、 6 蛍光体層、 7 アドレス電極、 8 背面基板、 9 隔壁、 10 誘電体層。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Front substrate, 2 Display electrode, 3 Dielectric layer, 4 Protective layer, 5 Discharge space, 6 Phosphor layer, 7 Address electrode, 8 Back substrate, 9 Partition, 10 Dielectric layer

Claims (1)

表示電極が配線されている前面基板と、アドレス電極が配線されている背面基板とを有し、
前面基板および背面基板の対向面の少なくとも一方に蛍光体層が設けられ、
前面基板および背面基板の対向面の少なくとも一方に誘電体層が設けられ、さらに前記誘電体層を保護する保護層が設けられ、
前面基板と背面基板との間に形成された微小な放電空間での放電により画像を表示するようになっているプラズマディスプレイパネルにおいて、
前記保護層が、酸化マグネシウムを主体とする一方、酸化チタンを0.2〜10wt%含み、
前記酸化チタンが、アナターゼ結晶を主体とし、ルチル結晶およびブルカイト結晶の含有比率が20wt%以下のものであることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
A front substrate on which display electrodes are wired and a rear substrate on which address electrodes are wired;
A phosphor layer is provided on at least one of the opposing surfaces of the front substrate and the rear substrate,
A dielectric layer is provided on at least one of the opposing surfaces of the front substrate and the back substrate, and further, a protective layer for protecting the dielectric layer is provided,
In the plasma display panel that is designed to display an image by discharge in a minute discharge space formed between the front substrate and the rear substrate,
While the protective layer is mainly composed of magnesium oxide, it contains 0.2 to 10 wt% of titanium oxide,
The plasma display panel, wherein the titanium oxide is mainly composed of anatase crystals and the content ratio of rutile crystals and brookite crystals is 20 wt% or less.
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