JP2002090686A

JP2002090686A - 光照射装置

Info

Publication number: JP2002090686A
Application number: JP2000283196A
Authority: JP
Inventors: Makoto Uehara; 誠上原
Original assignee: MEJIRO PREC KK; Mejiro Precision KK
Current assignee: MEJIRO PREC KK; Mejiro Precision KK
Priority date: 2000-09-19
Filing date: 2000-09-19
Publication date: 2002-03-27

Abstract

(57)【要約】【課題】被検査対象物の光−電気特性を検査する際に
必要とされる均一な照度分布を有する光の照度面を、小
型で低コストの光照射装置を用いて提供する。【解決手段】光源と、光伝送系と、投影光学系とを有
し、前記光伝送系は、前記光源からの光を入射して導く
光ファイバー束とこの光ファイバー束からの出射光を入
射して均一化して出射するオプティカルロッドとを有
し、前記光ファイバー束は、光入射端に配置される個々
の光ファイバーが出射端において、ランダムに配置換え
することによって、均一な照度分布を有する光の照度面
を得る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＣＣＤ撮像素子等
の受光素子の検査工程において、被検査対象物である受
光素子に所望の光を照射して、必要とされる電気特性が
得られるか否かを検査する検査装置等に用いられる光照
射装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ＣＣＤ撮像素子の製造工程にお
いて、ＣＣＤ撮像素子に様々な条件の光を照射してその
電気的特性を計測・評価する検査工程が必須である。と
ころで、ＣＣＤ撮像素子は微少な受光部分が二次元状に
配置されて構成されていることから、これらの微少な受
光部分が均一な電気的特性を有していることを確認する
には、均一な照度分布を有する光を被検査対象物である
ＣＣＤ撮像素子に照射出来ることが検査装置の重要な性
能である。そして、光の均一な照度分布を保持したまま
照度を変化させて、ＣＣＤ撮像素子中の微少な受光部分
の入射光量対電気出力の検査を行うことで、電気出力の
でない受光部分の存否を確認したり、各々の受光部分の
入射光量対電気出力カーブに差があるか否かの検査を行
う。また例えば、カラーフィルターを通過させて波長を
限定した光を前記受光部分に照射して、入射波長対電気
出力カーブの検査も行われる。

【０００３】一方、ＣＣＤ撮像素子の生産ラインにおい
て、１枚のウエハーにいくつもの工程を経て多数のＣＣ
Ｄ撮像素子が電極と共に作られる。そして、１枚のウエ
ハーでなるべく多くのＣＣＤ撮像素子を生産するため、
各素子を１００μｍ程の間隔で密接させてＣＣＤ撮像素
子とその電極が２次元的に作られている。

【０００４】前記ウエハー上に作製されたＣＣＤ撮像素
子検査の際は、プローバーと呼ばれる電極針をＣＣＤ撮
像素子の電極に押し当てる装置を用い、ＣＣＤ撮像素子
へ電力を供給し、また信号出力を引き出す。プローバー
の電極針は前述の各素子間の間隔１００μｍより大きな
サイズのため、隣り合わせの素子に同時に電極を当てる
ことは困難なので、少なくとも１つおきの素子に電極を
押し当てて同時検査を実施する。一方、検査の効率化を
図るために１回の光の照射で複数のＣＣＤ撮像素子を同
時に検査したいという要求が高まっている。

【０００５】従来、均一な照度分布を有する光を被検査
対象物に照射する光照射装置にはフライアイが用いられ
てきた。フライアイは光軸に垂直な二次元平面に複数の
入射端面を持ち、複数枚で構成される大きな一群のレン
ズで複数の入射端面像を重ね合わせて均一な照度分布を
有する光の照度面を得るものである。この均一照度分布
面に所望のパターンを穿ったマスクを置き、投影レンズ
により被検査対象物へ均一照度分布を有する光を照射す
るものである。この、フライアイを用いた光照射装置の
場合、被検査対象物に様々なサイズのものがある場合
は、最大サイズのものに合わせて均一照度分布面のサイ
ズを設定する必要があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】前記フライアイを用い
た光照射装置によって、前記ウエハー上に作製されたＣ
ＣＤ撮像素子検査の際、例えば２つのＣＣＤ撮像素子を
同時に検査するためには、最低でも３つのＣＣＤ撮像素
子をカバーする均一な照度分布を有する光の照度面を作
る必要がある。現実的には横に１つおき、縦にも１つお
きの配置でマージンをもった使い方が望まれることか
ら、種々のサイズのＣＣＤ撮像素子検査を想定した場合
は、非常に大きな均一な照度分布を有する光の照度面を
作る必要がある。しかしながら、前述の技術には次のよ
うな問題があることが本発明者によって明らかにされ
た。すなわち均一な照度分布を有する光のうち有効に使
われる割合は６／９〜２／９しかなく、３／９〜７／９
の光は無駄になってしまうのである。

【０００７】またフライアイを用いて大きな面積の均一
な照度分布面を得るには、個々のフライアイ入射面積を
大きくして、複数枚で構成される大きな一群のレンズを
用意しなければならず、装置が非常に大型化すると共に
コストも高くなってしまう。そこで、複数枚のフライア
イを用いて隣接する複数の均一な照度分布面を作ること
も考えられる。しかし、１組のフライアイは光軸に垂直
な２次元平面に複数の入射端面を持ち、コンデンサーレ
ンズで複数の入射端面を重ね合わせる必要がある、一
方、一般にコンデンサーレンズの径はフライアイの径よ
り大きいため、フライアイが接近して隣接する場合、コ
ンデンサーレンズ同士が互いに重なり合い、均一照度面
を得ることは困難である。

【０００８】また別の問題として、検査に際し入射光量
対電気出力のデータを採るため入射光量をランプに入力
する電力でコントロールすると、通常のハロゲンランプ
では色温度が変化してしまい、スペクトル分布も変化し
てしまうため好ましくない。そこで、入射光量を連続的
に変化させるためには、回転角に応じて透過率が変わる
ようにコーティングされたガラス円盤を用い、これをパ
ルスモーターで回転させることで対応するが、ガラス円
盤をＣＣＤ撮像素子近傍に配置すると均一な照度分布面
が得られなくなるので、フライアイを用いた従来の装置
においてガラス円盤の配置はフライアイ出射近傍に限ら
れる。ところが、当該検査装置においては、カラーフィ
ルターや回転式高速シャッターもフライアイ出射近傍に
設置することが好ましいため、独立に動作する複数枚の
フィルターやシャッターの全てを最適位置に設置するこ
とは困難である。

【０００９】本発明は以上のような課題を解決すべくな
されたものであり、複数の被検査対象物の電気特性を検
査する検査装置において、光エネルギーを無駄にせず、
必要とされる均一な照度分布を有する光の照度面を小型
で低コストの光照射装置を用いて提供することにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の第１の手段は光
源と、この光源からの光のビーム断面の照度分布を均一
にする光伝送系と、前記光伝送系からの光を被検査対象
物に照射する投影光学系とを有し、前記光伝送系は、前
記光源からの光を入射して導く光ファイバー束とこの光
ファイバー束からの出射光を入射して均一化して出射す
るオプティカルロッドとを有し、前記光ファイバー束
は、光入射端に配置される個々の光ファイバーが出射端
において、ランダムに配置換えされたものであることを
特徴とする光照射装置である。

【００１１】本発明の第２の手段は、前記光ファイバー
束として複数分岐型光ファイバーを用い、複数の出射端
に各々前記オプティカルロッドを配することで、光のビ
ーム断面の照度分布が均一で且つ同一の照度を有する複
数の光を被検査対象物に照射できることを特徴とする第
１の手段に記載の光照射装置である。

【００１２】本発明の第３の手段は、前記オプティカル
ロッドが移動可能であって、前記オプティカルロッドと
前記投影光学系との間に設置される照射パターン形成マ
スクと位置合わせをおこなうことにより、所望のパター
ンを有する光を、被検査対象物の所望の場所に照射する
ことが可能であることを特徴とする第１または第２の手
段に記載の光照射装置である。

【００１３】本発明の第４の手段は、前記オプティカル
ロッドの出射端面と前記照射パターン形成マスクとが、
前記投影光学系を構成するレンズ群の焦点深度の範囲内
に設置されることを特徴とする第３の手段に記載の光照
射装置である。

【００１４】本発明の第５の手段は、前記光源と前記光
伝送系との間に、光のビームのＯＮ・ＯＦＦ制御及び／
又は、照度制御及び／又は、波長制御をおこなう光ビー
ム制御用光学装置を設置したことを特徴とする第１ない
し第４のいずれかの手段に記載の光照射装置である。

【００１５】本発明の第６の手段は、前記光ビーム制御
用光学装置は、光のビームのＯＮ・ＯＦＦ制御をおこな
うシャッター、光のビームの照度制御をおこなうＮＤ
（Neutral Density）ターレットとＮＤウェッジ、及び
光のビームの波長制御をおこなうカラーフィルターとの
いずれか１以上であることを特徴とする第５の手段に記
載の光照射装置である。

【００１６】本発明の第７の手段は、前記複数分岐型光
ファイバーの出射端の少なくとも１つにセンサーを設置
したことを特徴とする第２ないし第６のいずれかの手段
に記載の光照射装置である。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。図１は本発明における光照射
装置の概略構成を示す。当該光照射装置は、光源１０、
前記光源で発生した光のビームのＯＮ・ＯＦＦ制御、照
度制御、波長制御等をおこなう光ビーム制御系２０、前
記光源で発生した光のビーム断面の照度分布を均一にす
る光伝送系３０、及び前記光伝送系３０からの光を被検
査対象物に照射する投影光学系４０を主な構成要素とし
ている。

【００１８】光源１０はランプ１１とアパーチャー１２
とで構成されている。ランプ１０には太陽光と類似な連
続スペクトルを有するハロゲンランプの使用が好まし
い。光を有効利用するためにミラー集光タイプのハロゲ
ンランプを用いることは更に好ましい。アパーチャー１
２は後述する光ファイバーの入射端面３１に合致する開
口を有している。この開口は後述する光ビーム制御系２
０におけるリレーレンズ群２１を介して、光ファイバー
入射端面３１と共役になることで、余分な光をカットす
る働きをしている。また、アパーチャー１２の設置角度
に対しランプ１０の光軸を１０〜２０°傾ける構成とす
ることで、ランプ１０より発生する光ビームのうち角度
成分が一様な部分のみを光ビーム制御系２０へ入射させ
ることができ好ましい。

【００１９】尚、ハロゲンランプは太陽光に比較して波
長の長い赤成分や赤外成分が多いので、適宜、ランプ１
１とアパーチャー１２の間に色温度補正フィルターや熱
線カットフィルターを挿入しても良い。

【００２０】光のビームのＯＮ・ＯＦＦ制御、照度制
御、及び波長制御等をおこなう光ビーム制御系２０は、
シャッター２２と、ＮＤターレット２３と、ＮＤウエッ
ジ２４と、カラーフィルター２５と、これら光ビーム制
御装置の配置の自由度を担保するリレーレンズ群２１と
で構成される。

【００２１】シャッター２２は、回転板に光のビームを
通過させる穴を穿ったものである。これを光のビームの
進路に設置し、円盤を回転させることで光照射のＯＮ／
ＯＦＦをおこなう。

【００２２】ＮＤターレット２３は異なるＮＤ値、例え
ばＮＤ＝０（フィルターなし）、ＮＤ＝１．０（透過率
１０％）、ＮＤ＝２．０（透過率１％）、ＮＤ＝３．０
（透過率０．１％）を有するフィルターが回転板上に組
み込まれたものである。これを光のビームの進路に設置
し、回転板を回転させることで所望のＮＤフィルターを
選択することができる。ＮＤウエッジ２４は回転円弧方
向にＮＤ値がリニアに変化するように作られた円盤であ
る。例えば角度０°の基準位置でＮＤ＝０(透過率１０
０％)、角度２．７°の位置でＮＤ＝０．０１（透過率
９７．７２％）、角度１３５°の位置でＮＤ＝０．５、
そして角度２７０°の位置でＮＤ＝１．０、というよう
に変化する。ＮＤウエッジ２４は、ＮＤターレット２３
とともに光のビームの進路に設置される。これらは、そ
れぞれ円盤の回転により光の透過率を変えることが出来
るので、最終的に被検査対象物へ照射される光の照度を
広いダイナミックレンジと細かい透過率分解能で、所望
の値に制御することが出来る。

【００２３】カラーフィルター２５は全波長透過、赤フ
ィルター、緑フィルター、及び青フィルター等が円盤上
にターレット状に組み込まれたものである。これを光の
ビームの進路に設置し、円盤を回転させることで所望の
波長の光を選択して、被検査対象物へ照射することが出
来る。

【００２４】前記光源からの光を入射して導き、均一化
して、後述する投影光学系へ出射する光伝送系３０は、
入射端面３１を有する複数分岐型光ファイバー３２と、
センサー３３と、複数のオプティカルロッド（うち２本
を図示）３４、３５と、照射パターン形成マスク３６
と、及びオプティカルロッドの移動用マイクロメーター
３７、３８とで構成される。

【００２５】複数分岐型光ファイバー３２は多数の光フ
ァイバーが束ねられて構成されており、１つの入射端面
３１と複数の出射端面を有している。光ファイバーの束
は出射端面に向けて複数分岐し、且つ全ての出射端面に
おいて光の照度を均一にするために、入射端面３１での
光ファイバーの位置と出射端面での位置がランダムにな
るように編み上げられている。

【００２６】光源１０で発生し、光ビーム制御系２０を
通過してきた光ビームは複数分岐型光ファイバー３２の
入射端面３１より光ファイバーへ入射後、均一な照度分
布を有する複数の光ビームとなって出射し、センサー３
３と、複数のオプティカルロッド３４、３５とへ到達す
る。尚、後述するオプティカルロッド３４、３５の出射
端面での単位面積当たりの光の照度を最大にし、かつオ
プティカルロッド出射端面での照度均一性を増すため
に、複数分岐型光ファイバー３２の各出射端面形状とオ
プティカルロッド３４、３５の入射端面形状を一致させ
ておくことが好ましい。

【００２７】センサー３３は、前記構成により、被検査
対象物へ照射されるのと同じ光ビームを受光し，これを
リアルタイムでモニターする。このデータを、前記光ビ
ーム制御系の光ビーム制御装置へフィードバックする構
成とすることも好ましい。

【００２８】オプティカルロッド３４、３５は棒状のガ
ラスその他の透明材料で構成された光学部材である。オ
プティカルロッド３４、３５の入射端面に入射した光は
入射角により、その側面で全反射される回数が異なるの
で、出射端面でさまざまな角度の光が重なり合うために
照度が均一になり出射していく。

【００２９】さらに、オプティカルロッド３４、３５は
マイクロメーター３７、３８の移動軸の先端に取り付け
られており、前記複数分岐光ファイバー３２は自在に曲
げることができることから、後述する投影レンズ群４１
の光軸に垂直なＸＹ平面においてマイクロメーター３
７、３８駆動により移動可能な構成とすることが出来
る。

【００３０】また、オプティカルロッド３４、３５にお
いては入射端面において光の照度分布にムラがあって
も、出射端面においては照度分布が均一になる効果も有
しているので、複数分岐型光ファイバー３２の照度分布
均一化の効果と相俟って、出射端面から出射する光ビー
ムの照度分布は更に均一となっている。

【００３１】前記オプティカルロッド３４、３５の各出
射端面に、照射パターンマスク３６が設置される。この
照射パターンマスク３６は、光ビームが照射される被検
査対象物の位置、形状にあわせた所望のテストパターン
が複数穿たれたマスク円盤である。前記オプティカルロ
ッド３４、３５から出射した光ビームは照射パターンマ
スク３６を通過することで、所望のテストパターンを有
する光ビームに整形され、後述する投影光学系４０へ入
射する。照射パターンマスク３６は、円盤の回転により
所望のテストパターンが選択され、一方、前記オプティ
カルロッド３４、３５は、前記マイクロメーター３７、
３８により駆動され、テストパターンと出射端面の位置
合わせをおこなう。これにより、多様なテストパターン
への適用が可能となり、幅広い機種の被検査対象物に対
する光照射が可能になる。

【００３２】また、照射パターンマスク３６とオプティ
カルロッド３４、３５の出射端面の設置位置は、後述す
る投影レンズ群４１の有する焦点深度内に置くという構
成を採る。この構成により、投影レンズ群から見て照射
パターンマスク３６とオプティカルロッド３４、３５の
出射端面に焦点が合うことで、照射パターンマスク３６
の複数のパターンから所望のパターンを選択して、被検
査対象物へ投影することが可能になる。

【００３３】前記光伝送系からの光を被検査対象物に照
射する投影光学系４０は投影レンズ群４１と、電動絞り
４２とで構成される。尚、この実施例の光照射装置にお
いては、被検査対象物であるＣＣＤ撮像素子が２次元的
に作られているウエハ４５の電気特性を測定するテスタ
ー本体４３、プローバー４４が設けられている。投影レ
ンズ群４１は複数枚のレンズの組み合わせで構成され、
照射パターン形成マスク３６を通過してきた、照度分布
が均一で所望のパターンを有する光ビームを、正確に被
検査対象物に照射する。電動絞り４２は投影レンズ群４
１中に設置され、被検査対象物に照射される光のＦナン
バーを変える作用をする。被検査対象物が例えばＣＣＤ
撮像素子の場合、完成したＣＣＤ撮像素子が使用される
カメラのＦナンバーに合わせて検査できるようにしたも
のである。

【００３４】以上、記載した構成により当該光照射装置
は次のように動作する。すなわち、光源１０において、
ランプ１１で発生した光は、アパーチャー１２を通過し
て光ファイバー入射端面３１に入射しない余分な光をカ
ットされ、且つ角度成分が一様になった光ビームとなり
光ビーム制御系２０へ入射する。

【００３５】光ビーム制御系２０へ入射した光ビーム
は、シャッター２２で適宜ＯＮ・ＯＦＦ制御され、ＮＤ
ターレット２３、ＮＤウエッジ２４及びカラーフィルタ
ー２５を通過して所望の照度と波長を有する光ビームと
なって、光伝送系３０へ入射する。

【００３６】光伝送系３０へ入射した光ビームは、光フ
ァイバー入射端面３１より複数分岐光ファイバー３２へ
入射し、照度分布が均一な光ビームへ分割される。複数
分岐光ファイバー３２の各出射端から出射した光ビーム
は、あらかじめ照射パターンマスク３６と位置あわせを
完了している、オプティカルロッド３４、３５へ入射し
て、更に照度分布の均一性を増した後、オプティカルロ
ッド３４、３５を出射して照射パターンマスク３６を通
過し、照度分布が均一で所望のパターンを有する光ビー
ムとなり投影光学系４０へ入射する。

【００３７】投影光学系４０へ入射した光ビームは電動
絞り４２により所望のＦナンバーを与えられ、投影レン
ズ群４１により、所望のＯＮ・ＯＦＦ、照度、波長、パ
ターン、及びＦナンバーを有する均一な照度を有する光
ビームとして、被検査対象物であるＣＣＤ撮像素子が２
次元的に作られているウエハ４５へ正確に照射される。
ウエハ４５ににはプローバー４４を介してテスター本体
４３が接続され、光ビーム照射を受けたＣＣＤ撮像素子
の電気特性が測定、検査される。

【００３８】ここで、本発明と従来のフライアイを用い
た光照射装置を比較すると、本発明には更に下記の優位
点がある。その１は、前記光ビーム制御系２０におい
て、シャッター２２、ＮＤターレット２３等の光ビーム
制御用光学装置を通過する光ビームの径と、従来のフラ
イアイを用いた光照射装置において、フライアイ通過後
に光ビーム制御用光学装置を通過する光ビームの径を比
較すると、本発明は前記複数分岐型光ファイバー３２と
前記オプティカルロッド３４、３５を用いていること
で、被検査対象物の配置に関わりなく、前者を後者より
小さくすることが可能である。このことにより、各所の
フィルター等を挿入するために付加されるリレーレンズ
群の口径も小さなもので済み、シャッター２２、ＮＤタ
ーレット２３等の光ビーム制御用光学装置も有効径が小
さなもので済み、各装置の配置設計の自由度が増すと同
時により高速な回転制御が可能になる。

【００３９】その２は、本発明を、光の有効利用及び装
置のランニングコスト削減の観点から考えてみると、均
一な照度分布を有する光を照射すべき面積が従来のフラ
イアイを用いた方法に比較して２／３〜２／９となるた
め、光源として同一のランプを用いた場合、照射される
光の照度は１．５〜４．５倍になる。従って、従来と同
等の照度でよい場合には出力の小さな光源を使用するこ
とができ、２／３〜２／９の出力のランプで同様の照度
の光を得ることが出来る。また、光源として使用される
ランプは太陽光と同じような連続スペクトルを持った色
温度の高いハロゲンランプが使用されることが多いが、
ハロゲンランプは電力を１０％落として点灯すると寿命
は約２倍となる。本発明においては、従来のフライアイ
を用いた方法に比較して、必要とされる光の照度は少な
くて済むのでランプの出力を若干落として使用すること
も可能になる。この結果、ランプが長寿命化し交換コス
トばかりでなく、交換に際しての装置停止に伴うロス時
間の削減にも大きなメリットがある。

【００４０】

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、光源と、この光源からの光のビーム断面の照度
分布を均一にする光伝送系と、前記光伝送系からの光を
被検査対象物に照射する投影光学系とを有し、前記光伝
送系は、前記光源からの光を入射して導く光ファイバー
束とこの光ファイバー束からの出射光を入射して均一化
して出射するオプティカルロッドとを有し、前記光ファ
イバー束において、前記光入射端に配置される個々の光
ファイバーが出射端において、ランダムに配置換えした
ことにより、複数の被検査対象物の電気特性を検査する
検査装置において、光エネルギーを無駄にせず、必要な
均一照度分布を有する光の照度面を小型で低コストの光
照射装置を用いて作り出すことができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る光照射装置の一実施形態を示す概
念図である。

【符号の説明】

１０光源部２０光ビーム制御系３０光伝送系３１光ファイバー入射端面３２複数分岐光ファイバー３３光量モニター素子３４、３５オプティカルロッド３６照射パターン形成マスク３７、３８マイクロメーター４０投影光学系

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｌ 21/66 Ｆ２１Ｓ 1/00 Ｆ 27/14 Ｈ０１Ｌ 27/14 Ｚ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光源と、この光源からの光のビーム断面
の照度分布を均一にする光伝送系と、前記光伝送系からの光を被検査対象物に照射する投影光
学系とを有し、前記光伝送系は、前記光源からの光を入射して導く光フ
ァイバー束とこの光ファイバー束からの出射光を入射し
て均一化して出射するオプティカルロッドとを有し、前記光ファイバー束は、光入射端に配置される個々の光
ファイバーが出射端において、ランダムに配置換えされ
たものであることを特徴とする光照射装置。
【請求項２】前記光ファイバー束として複数分岐型光
ファイバーを用い、複数の出射端に各々前記オプティカ
ルロッドを配することで、光のビーム断面の照度分布が
均一で且つ同一の照度を有する複数の光を被検査対象物
に照射できることを特徴とする請求項１に記載の光照射
装置。
【請求項３】前記オプティカルロッドが移動可能であ
って、前記オプティカルロッドと前記投影光学系との間
に設置される照射パターン形成マスクと位置合わせをお
こなうことにより、所望のパターンを有する光を、被検
査対象物の所望の場所に照射することが可能であること
を特徴とする請求項１または２に記載の光照射装置。
【請求項４】前記オプティカルロッドの出射端面と前
記照射パターン形成マスクとが、前記投影光学系を構成
するレンズ群の焦点深度の範囲内に設置されることを特
徴とする請求項３に記載の光照射装置。
【請求項５】前記光源と前記光伝送系との間に、光の
ビームのＯＮ・ＯＦＦ制御及び／又は、照度制御及び／
又は、波長制御をおこなう光ビーム制御用光学装置を設
置したことを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに
記載の光照射装置。
【請求項６】前記光ビーム制御用光学装置は、光のビ
ームのＯＮ・ＯＦＦ制御をおこなうシャッター、光のビ
ームの照度制御をおこなうＮＤターレットとＮＤウェッ
ジ、及び光のビームの波長制御をおこなうカラーフィル
ターとのいずれか１以上であることを特徴とする請求項
５に記載の光照射装置。
【請求項７】前記複数分岐型光ファイバーの出射端の
少なくとも１つにセンサーを設置したことを特徴とする
請求項２ないし６のいずれかに記載の光照射装置。