JP2002086292A - Solder paste - Google Patents

Solder paste

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JP2002086292A
JP2002086292A JP2000224866A JP2000224866A JP2002086292A JP 2002086292 A JP2002086292 A JP 2002086292A JP 2000224866 A JP2000224866 A JP 2000224866A JP 2000224866 A JP2000224866 A JP 2000224866A JP 2002086292 A JP2002086292 A JP 2002086292A
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solder paste
solder
flux
halogen
mass
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JP2000224866A
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Japanese (ja)
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Hitoshi Amita
仁 網田
Noriko Murase
典子 村瀬
Takashi Shoji
孝志 荘司
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Showa Denko KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide solder paste having excellent preservation stability, to provide a soldering method corresponding to pitches becoming increasing finer and the diversification of parts and having high reliability and to provide a joined article. SOLUTION: The concentration of halogen ions in 1 g of flux in this solder paste containing a halogen compound is controlled to 3,000 ppm or below in terms of chlorine.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電子部品の表面実装
に用いられるハンダペーストに関し、さらに詳しくは、
保存安定性に優れたハンダペースト、並びに、該ハンダ
ペーストを用いたハンダ付け方法、及び接合物に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solder paste used for surface mounting of an electronic component.
The present invention relates to a solder paste having excellent storage stability, a soldering method using the solder paste, and a joined product.

【0002】[0002]

【従来の技術】ハンダペーストは、エレクトロニクス産
業において電子部品を表面実装するために用いられる。
ハンダペーストはその印刷適性、粘着性のため自動化に
適しており、近年その使用量が増大している。
2. Description of the Related Art Solder pastes are used in the electronics industry for surface mounting electronic components.
Solder paste is suitable for automation due to its printability and adhesiveness, and its use has increased in recent years.

【0003】エレクトロニクス産業においては、ハンダ
ペーストはプリント基板上にスクリーン印刷またはディ
スペンサーにより塗布され、電子部品が載置され、つい
でリフローして電子部品が固定化される。ここでリフロ
ーとは電子部品が載置された基板を予熱しその後ハンダ
ペーストを融解温度以上に加熱し部品の接合を行う一連
の操作を言う。
[0003] In the electronics industry, solder paste is applied on a printed circuit board by screen printing or dispenser, electronic components are placed, and then reflowed to fix the electronic components. Here, reflow refers to a series of operations for preheating a substrate on which electronic components are mounted and thereafter heating the solder paste to a temperature equal to or higher than the melting temperature to join the components.

【0004】一方、最近では電子製品の小型化のためフ
ァインピッチ化が要求され、ファインピッチの部品、例
えば0.3mmピッチのQFP(Quad Flat
Package)タイプLSIの使用や、さらにはCS
P(Chip Size Package)などが多く
用いられている。このため、ハンダペーストには、ファ
インピッチ対応の印刷性能が要求されている。このよう
な産業界の要望に応えるため、ハンダ粒子の平均粒子径
を下げることがなされているが、一方ハンダ粒子全体の
比表面積が増大するため、ハンダ粒子とフラックスとの
反応が促進され、ハンダペーストの保存安定性が一層悪
化するという問題点があった。
On the other hand, in recent years, fine pitch has been required to reduce the size of electronic products, and fine pitch components such as a 0.3 mm pitch QFP (Quad Flat) have been demanded.
Package) Type LSI and CS
P (Chip Size Package) and the like are often used. For this reason, the solder paste is required to have a printing performance compatible with fine pitch. In order to respond to such demands of the industry, the average particle diameter of the solder particles has been reduced.On the other hand, the specific surface area of the entire solder particles has been increased, so that the reaction between the solder particles and the flux has been promoted, and There was a problem that the storage stability of the paste was further deteriorated.

【0005】ハンダペーストの保存安定性低下の最大原
因は、保存中にハンダ粉末がフラックスと優先的に反応
し、ハンダ粉末の酸化が進行してフラックス中の活性剤
が消費され、フラックスの活性度が低下すると同時に、
反応生成物によりハンダペーストの粘度が増加してしま
うためである。このため、ハンダペーストの使用におい
て、適正な印刷特性が維持出来なくなる上に、リフロー
時に溶解しなくなるという問題が生ずる。
[0005] The biggest cause of the decrease in the storage stability of the solder paste is that the solder powder reacts preferentially with the flux during storage, the oxidation of the solder powder progresses, the activator in the flux is consumed, and the activity of the flux is reduced. At the same time
This is because the reaction product increases the viscosity of the solder paste. For this reason, when using the solder paste, there arises a problem that proper printing characteristics cannot be maintained and that the solder paste does not melt during reflow.

【0006】従来より、ハンダペーストの保存安定性を
向上させるために、ハンダ粒子の表面を保護し、粒子金
属の反応性を下げる努力がなされてきた。
Conventionally, in order to improve the storage stability of the solder paste, efforts have been made to protect the surface of the solder particles and reduce the reactivity of the metal particles.

【0007】例えば、ハンダ粉末をグリセリンで被覆す
る方法(特公平5−26598号公報)、ハンダ粉末を
ハンダペーストの溶剤に対し不溶性あるいは難溶性のコ
ーティング剤によりコートする方法(特開平1−113
197号公報)が開示されている。後者のコーティング
剤の好適な例としてはシリコーンオイル、シリコーンベ
ース高分子量化合物、フッ素化シリコーンオイル、フル
オロシリコーン樹脂およびフッ素化炭化水素ベース高分
子化合物などが挙げられている。
For example, a method of coating a solder powder with glycerin (Japanese Patent Publication No. 5-26598), a method of coating a solder powder with a coating agent that is insoluble or hardly soluble in a solder paste solvent (Japanese Patent Laid-Open No. 1-113).
197). Preferred examples of the latter coating agent include silicone oil, silicone-based high molecular weight compound, fluorinated silicone oil, fluorosilicone resin, and fluorinated hydrocarbon-based polymer compound.

【0008】またハンダ粉末を、常温ではフラックスと
不相溶であるが、ハンダ付け温度で相溶するロジンを主
体とする樹脂でコートする方法(特開平3−18469
8号公報、特開平4−251691号公報)が開示され
ている。
Also, a method of coating a solder powder with a resin mainly composed of rosin which is incompatible with the flux at room temperature but is compatible with the soldering temperature (Japanese Patent Laid-Open No. 18469/1991).
No. 8, JP-A-4-251691).

【0009】前述の方法では、比較的多量のコーティン
グ剤で被覆を行えばハンダ粉末の酸化を抑えるに有効で
あるが、多量の被覆材料はハンダペーストのリフローに
対しむしろ不都合であって、逆にハンダボールが多発す
るおそれがある。またこれらの被覆は物理的に行われて
いるだけで、付着は非常に弱いと考えられ、ハンダペー
ストを製造する際の混練あるいは使用時の移送、印刷等
の取扱ではがれてしまう恐れが強い。また、前述のロジ
ンを主体とする樹脂のコーティング剤はそれ自身に反応
性の有機酸を多く含み粉末を保護しているとは言い難
い。
In the above-mentioned method, coating with a relatively large amount of a coating agent is effective in suppressing the oxidation of the solder powder, but a large amount of the coating material is rather inconvenient to reflow of the solder paste. There is a possibility that solder balls are frequently generated. In addition, since these coatings are only performed physically, the adhesion is considered to be very weak, and there is a strong possibility that the coatings may be peeled off during kneading when producing a solder paste or during handling such as transfer and printing during use. Further, it is hard to say that the above-mentioned resin coating agent mainly composed of rosin contains a large amount of reactive organic acid itself and protects the powder.

【0010】その他、ハンダ付けフラックスの活性剤と
して、フェノール系、フォスファイト系または硫黄系の
抗酸化剤を添加する方法(特公昭59−22632号公
報、特開平3−124092号公報)、分子内に第三ブ
チル基のついたフェノ−ル骨格を一つまたはそれ以上含
む酸化防止剤の一種またはそれ以上を1〜30重量%添
加する方法(特開平5−185283号公報)、また特
定の界面活性剤を用いること(特開平2−147194
号公報)などが提案されている。
In addition, a method of adding a phenol-based, phosphite-based or sulfur-based antioxidant as an activator for the soldering flux (Japanese Patent Publication No. 59-22632, Japanese Patent Application Laid-Open No. 3-124092), A method of adding 1 to 30% by weight of one or more antioxidants containing one or more phenol skeletons having a tertiary butyl group (JP-A-5-185283); Using an activator (Japanese Patent Laid-Open No. 2-147194)
Publication).

【0011】また最近は環境問題から、鉛を含まないP
bフリーハンダペーストが推奨されおり、これに対応す
べく開発が進められている。中でも、Sn−Zn系のハ
ンダペーストは、資源、コスト的に有利で、しかもSn
−Pb系のハンダと同等レベルまでリフロー温度が下げ
られるため、実装部品の長寿命化がはかられ、また部品
の多様化にも対応できることから、特に有望なものとし
て注目されている。しかし、Sn−Zn系のハンダペー
ストは、通常のPbベースのハンダペーストより更に保
存安定性が悪く、ハンダ粉末中の、Znの酸化の進行や
Znとフラックスとの反応により、経時的に粘度が上昇
する。特にZnが常温においてフラックス中のハロゲン
化合物と反応し、ハンダペーストの保存安定性を悪化さ
せている。また、フラックス中のハロゲン化合物と、ハ
ンダ粉末中のZnが反応して微量の水素ガスを発生し、
この発生した水素ガスが部品接合後もハンダフィレット
内に内蔵されるため、信頼性に重大な影響をもたらすこ
とがわかった。
Recently, due to environmental problems, lead-free P
b Free solder paste is recommended, and development is underway to meet this requirement. Above all, Sn—Zn based solder paste is advantageous in resources and cost, and moreover, Sn
Since the reflow temperature is reduced to the same level as that of the -Pb solder, the life of the mounted components can be extended, and the components can be diversified. However, the Sn—Zn-based solder paste has poorer storage stability than ordinary Pb-based solder paste, and the viscosity of the solder powder over time increases due to the progress of oxidation of Zn in the solder powder and the reaction between Zn and flux. To rise. In particular, Zn reacts with the halogen compound in the flux at room temperature to deteriorate the storage stability of the solder paste. Further, the halogen compound in the flux reacts with Zn in the solder powder to generate a small amount of hydrogen gas,
Since the generated hydrogen gas is incorporated in the solder fillet even after the parts are joined, it has been found that the reliability is seriously affected.

【0012】[0012]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点に鑑みなされたもので、保存安定性に優れたハンダペ
ーストを提供し、更にこのハンダペーストを用いること
により、信頼性の高いハンダ付け方法、及び接合物を提
供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and provides a solder paste having excellent storage stability. Further, by using this solder paste, a highly reliable solder paste is provided. It is an object of the present invention to provide an attachment method and a joint.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】発明者らは上記の課題を
解決するベく鋭意努力し検討した結果、本発明に到達し
た。即ち、本発明は、[1]ハロゲン化合物を含むハン
ダペーストにおいて、フラックス1グラム当たりのハロ
ゲンイオン濃度が塩素換算値で3000ppm以下であ
ることを特徴とするハンダペースト、[2]ハロゲンイ
オンが、臭素イオンであることを特徴とする請求項1に
記載のハンダペースト、[3]ハンダペーストが、ハン
ダ粉末としてZnを含有することを特徴とする請求項1
または2に記載のハンダペースト、[4]請求項1〜3
の何れか1項に記載のハンダペーストを、回路板上に塗
布する工程と、該ハンダペーストをリフローする工程と
を含むことを特徴とする回路板のハンダ付け方法、
[5]請求項4に記載の回路板のハンダ付け方法により
製造した接合物、に関する。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have made intensive efforts to solve the above-mentioned problems, and as a result, have reached the present invention. That is, the present invention relates to [1] a solder paste containing a halogen compound, wherein the halogen ion concentration per gram of flux is 3000 ppm or less in terms of chlorine, and [2] the halogen ion is bromine. 2. The solder paste according to claim 1, wherein the solder paste is an ion, and [3] the solder paste contains Zn as a solder powder.
Or the solder paste according to 2, [4].
A method for soldering a circuit board, comprising: a step of applying the solder paste according to any one of the above, on a circuit board; and a step of reflowing the solder paste.
[5] A joined article manufactured by the circuit board soldering method according to claim 4.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】ハンダペーストに含まれるフラッ
クスは、ロジンまたは合成樹脂系の樹脂成分、活性剤と
してハロゲン化合物および/または有機酸成分、溶剤、
チクソトロピック剤等を配合したものである。これらの
成分のうち、リフロー時にハンダ金属の表面酸化物を除
去し良好な結合を得るために有効な成分は、活性剤とし
て使用されているハロゲン化合物および/または有機酸
成分である。これらの活性剤は、表面酸化物の除去能力
を高めることができるが、ハンダペーストとした時、ま
た保存中においてハンダ粉末と反応しハンダペーストを
劣化させる。特にハロゲン化合物は活性剤としての効果
が高いものの、一方でハンダペーストを劣化させる影響
が強い。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The flux contained in the solder paste includes a resin component of rosin or a synthetic resin, a halogen compound and / or an organic acid component as an activator, a solvent,
It contains a thixotropic agent and the like. Among these components, the components effective for removing the surface oxide of the solder metal at the time of reflow and obtaining a good bond are a halogen compound and / or an organic acid component used as an activator. Although these activators can enhance the ability to remove surface oxides, they react with the solder powder when formed into a solder paste and during storage, and deteriorate the solder paste. In particular, a halogen compound has a high effect as an activator, but has a strong effect of deteriorating a solder paste.

【0015】本発明らはハンダペーストにおけるハンダ
粉と活性剤の反応について検討した結果、ハンダペース
トのフラックス1グラム当たりにおけるハロゲンイオン
濃度を塩素換算値で3000ppm以下、好ましくは1
000ppm以下、より好ましくは500ppm以下、
最も好ましくは300ppm以下とすることにより、ハ
ンダ粉と活性剤の反応を抑制し、ハンダペーストの劣化
を防止し、保存安定性を高めることが可能なことを見出
した。
The present inventors have studied the reaction between the solder powder and the activator in the solder paste. As a result, the halogen ion concentration per gram of the flux of the solder paste was 3000 ppm or less in terms of chlorine, preferably 1 ppm or less.
000 ppm or less, more preferably 500 ppm or less,
It has been found that by setting the content to 300 ppm or less most preferably, the reaction between the solder powder and the activator can be suppressed, the deterioration of the solder paste can be prevented, and the storage stability can be increased.

【0016】ハロゲンイオンがハンダペーストの保存安
定性に悪影響を及ぼす理由は明かではないが、ハロゲン
イオンの存在下で、フラックスに添加されているハロゲ
ン化合物の酸化力が増強され、ハンダ金属との反応が促
進されるものと考えられる。
It is not clear why the halogen ions adversely affect the storage stability of the solder paste, but in the presence of the halogen ions, the oxidizing power of the halogen compound added to the flux is enhanced, and the reaction with the solder metal is increased. Is considered to be promoted.

【0017】ハロゲンイオン濃度の塩素換算値は、ハン
ダペーストをはかりとり、有機溶剤−水系で抽出した時
の水層中に含まれるハロゲンイオン濃度を、イオンクロ
マトグラフィーで定量し、更に塩素換算しフラックス1
グラム当たりに換算した値から求められる。塩素換算値
とは、含有ハロゲンイオンを塩素イオンに換算した時の
値であり、例えば、活性剤に臭素化合物を使用した場
合、ハンダペースト中における臭素イオンの定量値(μ
g/g)に、35.453/79.904(塩素の原子
量/臭素の原子量)の値を乗じればよい。また、活性剤
にヨウ素化合物を使用した場合は、該イオンの定量値
(μg/g)に、35.453/126.9045(塩
素の原子量/ヨウ素の原子量)の値を乗じればよい。
The chlorine equivalent value of the halogen ion concentration is determined by measuring the concentration of the halogen ion contained in the aqueous layer when the solder paste is weighed and extracted with an organic solvent-water system by ion chromatography, and further converted to chlorine to obtain a flux. 1
It is determined from the value converted per gram. The chlorine conversion value is a value when the contained halogen ion is converted to chloride ion. For example, when a bromine compound is used as the activator, the quantitative value of the bromine ion in the solder paste (μ
g / g) may be multiplied by a value of 35.453 / 79.904 (atomic weight of chlorine / atomic weight of bromine). When an iodine compound is used as the activator, the quantitative value (μg / g) of the ion may be multiplied by the value of 35.453 / 126.9045 (atomic weight of chlorine / atomic weight of iodine).

【0018】ここで、抽出に用いられる有機溶剤として
は、フラックスと反応せず、有機合成等で使われる従来
周知の水に可溶しない、ハロゲンイオンを含まない溶剤
であれば良く、例えばクロロホルム、塩化メチレン、ト
ルエン、キシレン、ベンゼン、ジエチルエーテル、石油
エーテル等が挙げられる。フラックスの溶解性、抽出操
作のしやすさ等からクロロホルム、トルエン、キシレ
ン、ジエチルエーテル、石油エーテルが好適に用いられ
る。抽出に使われる水は、ハロゲンイオンを含んでいな
ければよく、例えば超純水が最も好適に用いられる。な
お、有機溶剤−水抽出によるハロゲンイオン濃度測定
は、水溶性フラックス、非水溶性フラックスの何れを用
いたハンダペーストにおいても実施することができる。
Here, the organic solvent used for the extraction may be any solvent which does not react with flux, is insoluble in water, and does not contain halogen ions, which is conventionally used in organic synthesis and the like. Examples include methylene chloride, toluene, xylene, benzene, diethyl ether, petroleum ether and the like. Chloroform, toluene, xylene, diethyl ether and petroleum ether are preferably used from the viewpoints of the solubility of the flux and the ease of the extraction operation. The water used for the extraction need not contain halogen ions. For example, ultrapure water is most preferably used. The measurement of the halogen ion concentration by extraction with an organic solvent-water can be performed on a solder paste using either a water-soluble flux or a water-insoluble flux.

【0019】本発明では、ハンダペーストを、ハンダペ
ーストのフラックス中におけるハロゲンイオン濃度を塩
素換算値で3000ppm以下となるようにする。例え
ば、活性剤として好適に用いられる、有機塩基のハロゲ
ン化水素酸塩であるイソプロピルアミン臭化水素酸塩、
ブチルアミン塩化水素酸塩や、シクロヘキシルアミン臭
化水素酸塩等のハロゲン化水素酸アミン塩、1,3−ジ
フェニルグアニジン臭化水素酸塩等の場合、これらの化
合物中に含まれるハロゲンは、全量ハロゲンイオンであ
る。よって、その添加量は、他にハロゲン化合物を併用
しない場合は、ハロゲンイオンの塩素換算値が3000
ppm以下となるよう計算し添加すればよい。
In the present invention, the concentration of halogen ions in the flux of the solder paste is 3000 ppm or less in terms of chlorine. For example, isopropylamine hydrobromide, which is a hydrohalide of an organic base, preferably used as an activator,
In the case of amine salts of hydrohalic acid such as butylamine hydrochloride and cyclohexylamine hydrobromide, and 1,3-diphenylguanidine hydrobromide, the total amount of halogen contained in these compounds is halogen. It is an ion. Therefore, when the halogen compound is not used in combination, the chlorine equivalent of the halogen ion is 3,000.
What is necessary is just to calculate and add so that it may become ppm or less.

【0020】ハロゲン化合物は、通常のハンダ用フラッ
クスとして使用されているハロゲン化合物を用いてもよ
いが、ハンダペーストのハンダ付け性、濡れ性をさらに
改良するために、ハンダペースト保存中にはハロゲン化
合物として安定に存在し、リフロー温度では、分解して
活性力を発揮するハロゲン化合物、特に有機臭素化合物
を、ハロゲンイオンの塩素換算値が3000ppm以下
となるようにして用いることが好ましい。
As the halogen compound, a halogen compound used as a normal solder flux may be used. However, in order to further improve the solderability and wettability of the solder paste, the halogen compound is used during storage of the solder paste. It is preferable to use a halogen compound, particularly an organic bromine compound, which stably exists at a reflow temperature and decomposes to exhibit an activity at a reflow temperature so that the chlorine equivalent of halogen ions is 3000 ppm or less.

【0021】このような性能を有する有機臭素化合物の
一例を挙げれば、炭素数10以上のアルキル置換基を有
する臭化ベンジル化合物、または炭素数10以上の脂肪
酸または脂環式化合物の一分子中に4個以上の臭素を含
むポリ臭素化合物が挙げられ、これらを混合して使用し
ても良い。
As an example of an organic bromine compound having such performance, a benzyl bromide compound having an alkyl substituent having 10 or more carbon atoms, or a fatty acid or alicyclic compound having 10 or more carbon atoms in one molecule. Examples thereof include polybromine compounds containing four or more bromines, and these may be used as a mixture.

【0022】炭素数10以上のアルキル鎖を持った臭化
べンジル化合物は、具体的には例えば4−ステアロイル
オキシベンジルブロマイド、4−ステアリルオキシベン
ジルブロマイド、4−ステアリルベンジルブロマイド、
4−ブロモメチルベンジルステアレート、4−ステアロ
イルアミノベンジルブロマイド、2,4−ビスブロモメ
チルべンジルステアレート等のような化合物が挙げられ
る。これ以外にも4−パルミトイルオキシベンジルブロ
マイド、4−ミリストイルオキシベンジルブロマイド、
4−ラウロイルオキシべンジルブロマイド、4−ウンデ
カノイルオキシベンジルブロマイド等が挙げられる。
Benzyl bromide compounds having an alkyl chain having at least 10 carbon atoms include, for example, 4-stearoyloxybenzyl bromide, 4-stearyloxybenzyl bromide, 4-stearylbenzyl bromide,
Compounds such as 4-bromomethylbenzyl stearate, 4-stearoylaminobenzyl bromide, 2,4-bisbromomethylbenzyl stearate and the like can be mentioned. Other than this, 4-palmitoyloxybenzyl bromide, 4-myristoyloxybenzyl bromide,
4-lauroyloxybenzyl bromide, 4-undecanoyloxybenzyl bromide and the like.

【0023】またポリ臭素化合物としては、例えばカル
ボキシル基、エステル基、アルコール基、エーテル基、
ケトン基などを有していても良く、4個以上の臭素原子
が結合した化合物である。
The polybromine compounds include, for example, carboxyl groups, ester groups, alcohol groups, ether groups,
It is a compound which may have a ketone group or the like and is bonded to four or more bromine atoms.

【0024】これら化合物の具体例としては、9,1
0,12,13,15,16−ヘキサブロモステアリン
酸、9,10,12,13,15,16−へキサブロモ
ステアリン酸メチルエステル、同エチルエステル、9,
10,12,13−テトラブロモステアリン酸、同メチ
ルエステル、同エチルエステル、9,10,12,1
3,15,16−へキサブロモステアリルアルコール、
9,10,12,13−テトラブロモステアリルアルコ
ール、1,2,5,6,9,10−ヘキサブロモシクロ
ドデカン等が挙げられる。特にへキサブロモステアリン
酸、ヘキサブロモシクロドデカンが好ましい。
Specific examples of these compounds include 9.1
0,12,13,15,16-hexabromostearic acid, 9,10,12,13,15,16-hexabromostearic acid methyl ester, the same ethyl ester,
10,12,13-Tetrabromostearic acid, methyl ester, ethyl ester, 9,10,12,1
3,15,16-hexabromostearyl alcohol,
9,10,12,13-tetrabromostearyl alcohol, 1,2,5,6,9,10-hexabromocyclododecane and the like. Hexabromostearic acid and hexabromocyclododecane are particularly preferred.

【0025】また上記以外にも、有機臭素化合物として
更に例示すれば、1−ブロモ−2−ブタノール、1−ブ
ロモ−2−プロパノール、3−ブロモ−1−プロパノー
ル、3−ブロモ−1,2−プロパンジオール、1,4−
ジブロモ−2−ブタノール、1,3−ジブロモ−2−プ
ロパノール、2,3−ジブロモ−1−プロパノール、
1,4ジブロモ−2,3−ブタンジオール、2,3−ジ
ブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、1−ブロモ−
3−メチル−1−ブテン、1,4−ジブロモブテン、1
−ブロモ−1−プロペン、2,3−ジブロモプロペン、
ブロモ酢酸エチル、α−ブロモカプリル酸エチル、α−
ブロモプロピオン酸エチル、β−ブロモプロピオン酸エ
チル、α−ブロモ−酢酸エチル、2,3−ジブロモコハ
ク酸、2−ブロモコハク酸、2,2−ブロモアジピン
酸、2,4−ジブロモアセトフェノン、1,1−ジブロ
モテトラクロロエタン、1,2−ジブロモ−1−フェニ
ルエタン、1,2−ジブロモスチレン等の臭化物が挙げ
られるがこれらの例示に限定されるものではない。また
臭素の代わりに、塩素、ヨウ素を含む有機ハロゲン化合
物を用いても良い。
In addition to the above, examples of organic bromine compounds include 1-bromo-2-butanol, 1-bromo-2-propanol, 3-bromo-1-propanol, 3-bromo-1,2- Propanediol, 1,4-
Dibromo-2-butanol, 1,3-dibromo-2-propanol, 2,3-dibromo-1-propanol,
1,4-dibromo-2,3-butanediol, 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, 1-bromo-
3-methyl-1-butene, 1,4-dibromobutene, 1
-Bromo-1-propene, 2,3-dibromopropene,
Ethyl bromoacetate, ethyl α-bromocaprylate, α-
Ethyl bromopropionate, ethyl β-bromopropionate, α-bromo-ethyl acetate, 2,3-dibromosuccinic acid, 2-bromosuccinic acid, 2,2-bromoadipic acid, 2,4-dibromoacetophenone, 1,1 Bromide such as -dibromotetrachloroethane, 1,2-dibromo-1-phenylethane, and 1,2-dibromostyrene; and the like, but is not limited to these examples. An organic halogen compound containing chlorine and iodine may be used instead of bromine.

【0026】これらの、ハロゲン化合物の添加量は、ハ
ンダペースト中のハロゲンイオンがフラックス1グラム
当たりの塩素換算値で3000ppm以下に収まるよう
にする。またハロゲン化合物は1種類またはそれ以上を
添加してもよく、また有機ハロゲン化合物と有機塩基の
ハロゲン化水素酸塩を併用してもよい。
The amount of the halogen compound added is such that the halogen ions in the solder paste fall within 3000 ppm or less in terms of chlorine per gram of flux. One or more halogen compounds may be added, or an organic halogen compound and an organic base hydrohalide may be used in combination.

【0027】本発明における有機酸成分としては、従来
周知のコハク酸、フタル酸、ステアリン酸、セバシン酸
等が挙げられ、リフロー温度に達した時に有機酸を発生
する化合物である有機酸誘導体は好適に用いられる。そ
の例としては、各種脂肪族カルボン酸エステル、芳香族
カルボン酸エステル、脂肪族スルホン酸エステル、芳香
族スルホン酸エステル等が挙げられる。
Examples of the organic acid component in the present invention include conventionally known succinic acid, phthalic acid, stearic acid, sebacic acid and the like, and an organic acid derivative which is a compound which generates an organic acid when the reflow temperature is reached is preferable. Used for Examples thereof include various aliphatic carboxylic acid esters, aromatic carboxylic acid esters, aliphatic sulfonic acid esters, aromatic sulfonic acid esters, and the like.

【0028】これらエステルのアルコール残基として
は、アルキル、アリル、特にエステルの分解性が高いt
−ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基が好まし
く、またこれらの化合物はハロゲン原子を含んでいても
よい。
Alcohol residues of these esters include alkyl and allyl, especially t.
-A butyl group, an isopropyl group and an isobutyl group are preferred, and these compounds may contain a halogen atom.

【0029】具体的な例としては、パラトルエンスルホ
ン酸−n−プロピル、パラトルエンスルホン酸イソプロ
ピル、パラトルエンスルホン酸イソブチル、パラトルエ
ンスルホン酸−n−ブチル、ベンゼンスルホン酸−n−
プロピル、ベンゼンスルホン酸イソプロピル、ベンゼン
スルホン酸イソブチル、サリチル酸−n−プロピル、サ
リチル酸イソプロピル、サリチル酸イソブチル、サリチ
ル酸−n−ブチル、4−ニトロ安息香酸イソプロピル、
4−ニトロ安息香酸−t−ブチル、メタクリル酸−t−
ブチル、アクリル酸−t−ブチル、マロン酸−t−ブチ
ル、ブロモ酢酸−t−ブチルなどが挙げられる。 この
中で特にパラトルエンスルホン酸−n−プロピル、サリ
チル酸イソブチル、ブロモ酢酸−t−ブチルが特に好ま
しい。添加量としてはフラックス全量に対して0.01
〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%の範囲を
使用する。
Specific examples include n-propyl paratoluenesulfonate, isopropyl paratoluenesulfonate, isobutyl paratoluenesulfonate, n-butyl paratoluenesulfonate, and n-butylbenzenesulfonate.
Propyl, isopropyl benzenesulfonate, isobutyl benzenesulfonate, n-propyl salicylate, isopropyl salicylate, isobutyl salicylate, n-butyl salicylate, isopropyl 4-nitrobenzoate,
4-t-butyl 4-nitrobenzoate, t-methacrylic acid
Butyl, t-butyl acrylate, t-butyl malonate, t-butyl bromoacetate and the like. Of these, n-propyl paratoluenesulfonate, isobutyl salicylate, and t-butyl bromoacetate are particularly preferred. The addition amount is 0.01 to the total amount of the flux.
-20% by weight, preferably 0.05-5% by weight.

【0030】上記の分解性の有機酸エステルは、単独で
はリフロー温度においても分解性が低いため、分解を促
進するためには少量のエステル分解触媒の添加が有効で
ある。エステル分解触媒としては、分解性の有機酸エス
テルがリフロー温度で分解して酸の発生を促進する作用
を有する触媒であればよいが、その中で特に有機塩基の
ハロゲン化水素酸塩が有効である。
Since the decomposable organic acid ester alone has low decomposability even at a reflow temperature, it is effective to add a small amount of an ester decomposing catalyst to accelerate the decomposition. As the ester decomposition catalyst, any catalyst may be used as long as the decomposable organic acid ester has a function of decomposing at the reflow temperature to promote the generation of an acid. Among them, a hydrohalide of an organic base is particularly effective. is there.

【0031】本発明のハンダペーストに配合される樹脂
成分としては、従来フラックスに配合される周知の樹脂
を用いることができ、例えば、天然ロジン、不均化ロジ
ン、重合ロジン、変性ロジンなど、合成樹脂としてはポ
リエステル、ポリウレタン、アクリル系樹脂その他が用
いられる。
As the resin component blended in the solder paste of the present invention, a well-known resin blended in a conventional flux can be used. For example, natural rosin, disproportionated rosin, polymerized rosin, modified rosin, etc. As the resin, polyester, polyurethane, acrylic resin or the like is used.

【0032】溶剤としては、従来のフラックスやハンダ
ペーストと同様にアルコール類、エーテル類、エステル
類、又は芳香族系の溶剤が利用でき、例えばベンジルア
ルコール、ブタノール、エチルセロソルブ、ブチルセロ
ソルブ、ブチルカルビトール、ジエチレングリコールヘ
キシルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエ
ーテル、ジオクチルフタレート、キシレン等が一種また
は混合して用いられる。
As the solvent, alcohols, ethers, esters, or aromatic solvents can be used as in the case of conventional fluxes and solder pastes. For example, benzyl alcohol, butanol, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, butyl carbitol, Diethylene glycol hexyl ether, propylene glycol monophenyl ether, dioctyl phthalate, xylene and the like are used alone or in combination.

【0033】また印刷性を改善するために添加されるチ
クソトロピック剤としては、微細なシリカ粒子、カオリ
ン粒子などの無機系のもの、または水添ヒマシ油、アマ
イド化合物などの有機系のものが使用される。
As the thixotropic agent added to improve printability, inorganic agents such as fine silica particles and kaolin particles, or organic agents such as hydrogenated castor oil and amide compounds are used. Is done.

【0034】本発明のハンダペーストにおいては、還元
剤を安定剤として併用することで、保存安定性を更に向
上させることができる。
In the solder paste of the present invention, the storage stability can be further improved by using a reducing agent as a stabilizer.

【0035】上記還元剤としては、通常樹脂などの酸化
防止剤として使用されており、溶剤に溶解可能なフェノ
ール系化合物、りん系化合物、硫黄系化合物、トコフェ
ロール及びその誘導体、L−アスコルビン酸及びその誘
導体等が挙げられる。
As the reducing agent, a phenolic compound, a phosphorus compound, a sulfur compound, tocopherol and its derivatives, L-ascorbic acid and its derivatives, which are usually used as antioxidants for resins and the like, are soluble in solvents. Derivatives and the like.

【0036】具体的には、フェノール系化合物として
は、ハイドロキノン、カテコール、2,6−ジ−t−ブ
チル−p−クレゾール、ブチルヒドロキシアニソール、
2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチル
フェノール)などを挙げることができる。
Specifically, phenolic compounds include hydroquinone, catechol, 2,6-di-t-butyl-p-cresol, butylhydroxyanisole,
2,2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol) and the like can be mentioned.

【0037】りん系化合物としては、トリフェニルフォ
スファイト、トリオクタデシルフォスファイト、トリデ
シルフォスファイト等が挙げられる。
Examples of the phosphorus compound include triphenyl phosphite, trioctadecyl phosphite, tridecyl phosphite and the like.

【0038】また硫黄系化合物としては、ジラウリル−
3,3’−チオジプロピオネート、ジステアリル−3,
3’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3’
−チオジプロピオネートなどを挙げることができる。
As the sulfur compound, dilauryl-
3,3'-thiodipropionate, distearyl-3,
3'-thiodipropionate, dimyristyl-3,3 '
-Thiodipropionate and the like.

【0039】トコフェロール及びその誘導体、L−アス
コルビン酸及びその誘導体としては、還元性を有し、溶
剤に対して可溶な化合物、例えばこれらのエステルであ
れば使用可能である。特にトコフェロールまたはその誘
導体とLーアスコルビン酸またはその誘導体の2種を併
用した時に好結果が得られる。配合比としては重量比で
0.5:1〜1:0.5、特に好ましくはほぼ1対1が
よい。
As tocopherol and its derivatives, and L-ascorbic acid and its derivatives, any compound having a reducing property and soluble in a solvent, such as esters thereof, can be used. Particularly good results are obtained when two kinds of tocopherol or its derivative and L-ascorbic acid or its derivative are used in combination. The compounding ratio is preferably 0.5: 1 to 1: 0.5 by weight, particularly preferably about 1: 1.

【0040】L−アスコルビン酸誘導体の具体例として
は、アスコルビン酸−2−リン酸、アスコルビン酸−2
−硫酸、アスコルビン酸−2−グルコシド、アスコルビ
ン酸−2,6−ジブチレート、アスコルビン酸−2,6
−ジステアレ−ト、アスコルビン酸−2,6−ジミリス
チレート、アスコルビン酸−6−パルミテート、アスコ
ルビン酸−6−ステアレート、アスコルビン酸−6−ミ
リスチレート、アスコルビン酸−2,3,5,6−テト
ラパルミテート、アスコルビン酸−2,3,5,6−テ
トラミリスチレート、アスコルビン酸−2,3,5,6
−テトラステアレート、アスコルビン酸−2−グルコシ
ド−6−パルミテート、アスコルビン酸−2−グルコシ
ド−6−ミリスチレート、アスコルビン酸−2−グルコ
シド−6−ステアレート、アスコルビン酸−5,6−ベ
ンジリデン、アスコルビン酸−5,6−プロピリデン、
アスコルビン酸−2−リン酸−5,6−ベンジリデン、
アスコルビン酸−2−リン酸−5,6−プロピリデン等
が、また、トコフェロール誘導体の具体例としては、ト
コール、酢酸トコフェロール、リン酸トコフェロール、
ソルビン酸トコフェロール、ニコチン酸トコフェロール
等が挙げられる。
Specific examples of the L-ascorbic acid derivative include ascorbic acid-2-phosphate, ascorbic acid-2
-Sulfuric acid, ascorbic acid-2-glucoside, ascorbic acid-2,6-dibutyrate, ascorbic acid-2,6
-Distearate, ascorbic acid-2,6-dimyristylate, ascorbic acid-6-palmitate, ascorbic acid-6-stearate, ascorbic acid-6-myristylate, ascorbic acid-2,3,5,6-tetrapalmitate , Ascorbic acid-2,3,5,6-tetramyristylate, ascorbic acid-2,3,5,6
Tetrastearate, ascorbic acid-2-glucoside-6-palmitate, ascorbic acid-2-glucoside-6-myristylate, ascorbic acid-2-glucoside-6-stearate, ascorbic acid-5,6-benzylidene, ascorbic acid -5,6-propylidene,
Ascorbic acid-2-phosphate-5,6-benzylidene,
Ascorbic acid-2-phosphate-5,6-propylidene and the like, and specific examples of tocopherol derivatives include tocol, tocopherol acetate, tocopherol phosphate,
And tocopherol sorbate, tocopherol nicotinate and the like.

【0041】これらの還元剤は、単独であってもまたは
混合して使用してもよい。還元剤の添加量は、ハンダペ
ーストの保存安定性を充分に確保するに足る量であれば
よいが、一般的にはフラックス全量に対し0.005質
量%以上20質量%以下であり、さらに好ましくは0.
01質量%以上10質量%以下である。添加量が少なす
ぎると安定化効果が無く、20質量%以上添加しても高
濃度添加に見合うだけの効果の向上が認められないので
好ましくない。
These reducing agents may be used alone or as a mixture. The amount of the reducing agent added may be an amount sufficient to sufficiently secure the storage stability of the solder paste, but is generally 0.005% by mass or more and 20% by mass or less based on the total amount of the flux, and more preferably. Is 0.
It is at least 01% by mass and at most 10% by mass. If the addition amount is too small, there is no stabilizing effect, and even if it is added in an amount of 20% by mass or more, no improvement in the effect corresponding to high concentration addition is observed, which is not preferable.

【0042】本発明のハンダペーストに用いられるフラ
ックスは、例えば、フラックス全量に対し、20〜60
質量%の樹脂成分、0.04〜20質量%のチクソトロ
ピック剤、0.01〜20質量%の有機酸成分、上述し
たハロゲンイオンの範囲を満たすハロゲン化合物、0.
005〜20質量%の還元剤及び残部として溶剤その他
を用いる。このフラックスを、例えば、ハンダペースト
全量に対し14〜8質量%と、ハンダ粉末86〜92質
量%とを混練して本発明のハンダペーストとする。この
場合のハロゲン化物の添加量は、ハンダペースト混練後
のフラックス中のハロゲンイオン濃度が塩素換算値で3
000ppm以下となるようにする必要がある。
The flux used in the solder paste of the present invention is, for example, 20 to 60 with respect to the total amount of the flux.
0.1% by mass of a resin component, 0.04% by mass to 20% by mass of a thixotropic agent, 0.01% by mass to 20% by mass of an organic acid component, and a halogen compound satisfying the above-mentioned range of halogen ions.
A reducing agent of 005 to 20% by mass and a solvent and others are used as the balance. This flux is kneaded with, for example, 14 to 8% by mass and 86 to 92% by mass of the solder powder based on the total amount of the solder paste to obtain a solder paste of the present invention. In this case, the amount of halide added is such that the concentration of halogen ions in the flux after kneading the solder paste is 3 in terms of chlorine.
It is necessary to make it below 000 ppm.

【0043】配合物の調合、混練においてフラックスな
どの水分、雰囲気の湿度を調節し、ハンダペースト中の
水分含有量を、0.5質量%以下、より好ましくは0.
3質量%以下に管理するのが好ましい。ペースト中に水
分が0.5質量%より多く混入するとハロゲン化物の解
離を促進し、その解離したハロゲンがハンダ合金粉末と
反応するために好ましくない。また、ハンダペーストの
pH値も4〜9、より好ましくは6〜8の範囲にあるこ
とが、ハンダ粉とフラックスとの反応を抑制する意味で
好ましい。この場合、pH調整剤として、アルカノール
アミン類、脂肪族第1〜第3アミン類、脂肪族不飽和ア
ミン類、脂環式アミン類、芳香族アミン類などのアミン
化合物を用いることが好ましい。
In the preparation and kneading of the mixture, the moisture such as the flux and the humidity of the atmosphere are adjusted so that the moisture content in the solder paste is 0.5% by mass or less, more preferably 0.1% by mass or less.
It is preferable to control it to 3% by mass or less. If the paste contains more than 0.5% by weight of water, dissociation of the halide is promoted, and the dissociated halogen reacts with the solder alloy powder, which is not preferable. Further, the pH value of the solder paste is preferably in the range of 4 to 9, and more preferably in the range of 6 to 8, from the viewpoint of suppressing the reaction between the solder powder and the flux. In this case, it is preferable to use amine compounds such as alkanolamines, aliphatic primary to tertiary amines, aliphatic unsaturated amines, alicyclic amines, and aromatic amines as the pH adjuster.

【0044】これらアミン化合物の具体的な化合物とし
ては、エタノールアミン、ブチルアミン、アミノプロパ
ノール、ポリオキシエチレンオレイルアミン、ポリオキ
シエチレンラウレルアミン、ポリオキシエチレンステア
リルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、メト
キシプロピルアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、
ジブチルアミノプロピルアミン、エチルへキシルアミ
ン、エトキシプロピルアミン、エチルへキシルオキシプ
ロピルアミン、ビスプロピルアミン、イソプロピルアミ
ン、ジイソプロピルアミンなどを挙げることができる。
Specific examples of these amine compounds include ethanolamine, butylamine, aminopropanol, polyoxyethylene oleylamine, polyoxyethylene laurelamine, polyoxyethylene stearylamine, diethylamine, triethylamine, methoxypropylamine and dimethylaminopropyl. Amine,
Examples thereof include dibutylaminopropylamine, ethylhexylamine, ethoxypropylamine, ethylhexyloxypropylamine, bispropylamine, isopropylamine, and diisopropylamine.

【0045】アミン化合物の使用量は、ハンダペースト
のフラックスの全量に対し、0.05〜20質量%とす
ることが好ましい。0.05質量%未満ではpH調整剤
としての効果が十分でなく、20質量%を超えると一般
にpHが9を超え、アルカリ側に移行しハンダペースト
が吸湿しやすくなる。
The amount of the amine compound used is preferably 0.05 to 20% by mass based on the total amount of the solder paste flux. If the amount is less than 0.05% by mass, the effect as a pH adjuster is not sufficient. If the amount exceeds 20% by mass, the pH generally exceeds 9, and the composition shifts to the alkali side, and the solder paste easily absorbs moisture.

【0046】更に回路の銅を防錆するためフラックス中
に、アゾール類、例えばベンゾトリアゾール、ベンズイ
ミダゾール、トリルトリアゾールなどを添加しても良
い。防錆剤の添加量は、フラックス全量に対して0.0
5〜20質量%が好ましい。
Further, azoles, for example, benzotriazole, benzimidazole, tolyltriazole and the like may be added to the flux to prevent rust of copper in the circuit. The amount of rust inhibitor added is 0.0
5-20 mass% is preferable.

【0047】本発明のハンダペーストに使用するハンダ
粉末は、従来周知の金属組成のものでよいが、酸化しや
すいZnを含むハンダ粉末が好適に用いられる。例え
ば、Sn−Zn系、Sn−Ag−Zn系、Sn−Bi−
Sb−Zn系、Sn−Bi−Cu−Zn系、Sn−Ag
−Sb−Zn系、Sn−Ag−Cu−Zn系、Sn−Z
n−Bi系が挙げられる。
The solder powder used for the solder paste of the present invention may have a conventionally known metal composition, but a solder powder containing Zn which is easily oxidized is preferably used. For example, Sn-Zn-based, Sn-Ag-Zn-based, Sn-Bi-
Sb-Zn system, Sn-Bi-Cu-Zn system, Sn-Ag
-Sb-Zn system, Sn-Ag-Cu-Zn system, Sn-Z
An n-Bi system is mentioned.

【0048】上記の具体例としては、Snが91質量
%、Znが9質量%の共晶ハンダ(以下91Sn/9Z
nと表す。)を中心として、95.5Sn/3.5Ag
/1Zn、51Sn/45Bi/3Sb/1Zn、84
Sn/10Bi/5Sb/1Zn、88.2Sn/10
Bi/0.8Cu/1Zn、88Sn/4Ag/7Sb
/1Zn、97Sn/1Ag/1Sb/1Zn、91.
2Sn/2Ag/0.8Cu/6Zn、89Sn/8Z
n/3Bi、86Sn/8Zn/6Bi、89.1Sn
/2Ag/0.9Cu/8Znなどが挙げられる。また
本発明のハンダ粉末として、異なる組成のハンダ粉末を
2種類以上混合したものでもよい。
As a specific example, a eutectic solder containing 91% by mass of Sn and 9% by mass of Zn (hereinafter referred to as 91Sn / 9Z
Expressed as n. ) And 95.5Sn / 3.5Ag
/ 1Zn, 51Sn / 45Bi / 3Sb / 1Zn, 84
Sn / 10Bi / 5Sb / 1Zn, 88.2Sn / 10
Bi / 0.8Cu / 1Zn, 88Sn / 4Ag / 7Sb
/ 1Zn, 97Sn / 1Ag / 1Sb / 1Zn, 91.
2Sn / 2Ag / 0.8Cu / 6Zn, 89Sn / 8Z
n / 3Bi, 86Sn / 8Zn / 6Bi, 89.1Sn
/2Ag/0.9Cu/8Zn. The solder powder of the present invention may be a mixture of two or more types of solder powders having different compositions.

【0049】本発明のハンダペーストは、基板、例え
ば、プリント配線板と電子部品を接合して接合物を製造
する際に好適に使用される。本発明のハンダペーストの
使用方法、並びに電子部品接合物の製造方法では、例え
ば、ハンダ付けを所望する部分に、印刷法等でハンダペ
ーストを塗布し、電子部品を載置し、その後加熱してハ
ンダ粒子を溶融し凝固させることにより電子部品を基板
に接合することができる。
The solder paste of the present invention is suitably used when a substrate, for example, a printed wiring board and an electronic component are joined together to produce a joined product. In the method of using the solder paste of the present invention, and in the method of manufacturing an electronic component joint, for example, a solder paste is applied to a portion where soldering is desired by a printing method or the like, the electronic component is placed, and then heated. The electronic component can be joined to the substrate by melting and solidifying the solder particles.

【0050】基板と電子部品の接合方法(実装方法)と
しては、例えば表面実装技術(SMT)があげられる。
この実装方法は、まずハンダペーストを印刷法により基
板、例えば配線板上の所望する箇所に塗布する。次い
で、チップ部品やQFPなどの電子部品をハンダペース
ト上に載置し、リフロー熱源により一括してハンダ付け
する。リフロー熱源には、熱風炉、赤外線炉、蒸気凝縮
ハンダ付け装置、光ビームハンダ付け装置等を使用する
ことができる。
As a bonding method (mounting method) between the substrate and the electronic component, there is, for example, a surface mount technology (SMT).
In this mounting method, first, a solder paste is applied to a desired portion on a substrate, for example, a wiring board by a printing method. Next, electronic components such as chip components and QFPs are placed on the solder paste, and are collectively soldered by a reflow heat source. As the reflow heat source, a hot blast stove, an infrared stove, a steam condensation soldering device, a light beam soldering device, or the like can be used.

【0051】本発明のリフローのプロセスはハンダ合金
組成で異なるが、91Sn/9Zn、89Sn/8Zn
/3Bi、86Sn/8Zn/6BiなどのSn−Zn
系の場合、プレヒートとリフローの2段工程で行うのが
好ましく、それぞれの条件は、プレヒートが温度130
〜180℃、好ましくは、130〜150℃、プレヒー
ト時間が60〜120秒、好ましくは、60〜90秒、
リフローは温度が210〜230℃、好ましくは、21
0〜220℃、リフロー時間が30〜60秒、好ましく
は、30〜40秒である。なお他の合金系におけるリフ
ロー温度は、用いる合金の融点に対し+20〜+50
℃、好ましくは、合金の融点に対し+20〜+30℃と
し、他のプレヒート温度、プレヒート時間、リフロー時
間は上記と同様の範囲であればよい。
Although the reflow process of the present invention differs depending on the solder alloy composition, 91Sn / 9Zn and 89Sn / 8Zn
Sn-Zn such as / 3Bi, 86Sn / 8Zn / 6Bi
In the case of a system, it is preferable to carry out the preheating and the reflow in a two-step process, and the conditions are as follows.
To 180 ° C, preferably 130 to 150 ° C, and a preheating time of 60 to 120 seconds, preferably 60 to 90 seconds,
The reflow is performed at a temperature of 210 to 230 ° C., preferably 21 ° C.
The temperature is 0 to 220 ° C and the reflow time is 30 to 60 seconds, preferably 30 to 40 seconds. The reflow temperature in other alloy systems is +20 to +50 with respect to the melting point of the alloy used.
° C, preferably +20 to + 30 ° C with respect to the melting point of the alloy, and the other preheating temperature, preheating time, and reflow time may be in the same ranges as described above.

【0052】本発明のハンダペーストでは上記のリフロ
ープロセスを窒素中でも大気中でも実施することが可能
である。窒素リフローの場合は酸素濃度を5vol%以
下、好ましくは0.5vol%以下とすることで大気リ
フローの場合より配線板などの基板へのハンダの濡れ性
が向上し、ハンダボールの発生も少なくなり安定した処
理ができる。
With the solder paste of the present invention, the above-mentioned reflow process can be carried out in nitrogen or in air. In the case of nitrogen reflow, by setting the oxygen concentration to 5 vol% or less, preferably 0.5 vol% or less, the wettability of solder to a substrate such as a wiring board is improved and the generation of solder balls is reduced as compared with the case of atmospheric reflow. Stable processing is possible.

【0053】この後、基板を冷却し表面実装が完了す
る。この実装方法による電子部品接合物の製造方法にお
いては、プリント配線板等の基板(被接合板)の両面に
接合を行ってもよい。なお、本発明のハンダペーストを
使用することができる電子部品としては、例えば、LS
I、抵抗器、コンデンサ、トランス、インダクタンス、
フィルタ、発振子・振動子等があげられるが、これに限
定されるものではない。
Thereafter, the substrate is cooled to complete the surface mounting. In the method for manufacturing a bonded electronic component by this mounting method, bonding may be performed on both surfaces of a substrate (plate to be bonded) such as a printed wiring board. In addition, as an electronic component to which the solder paste of the present invention can be used, for example, LS
I, resistor, capacitor, transformer, inductance,
Examples include a filter, an oscillator and a vibrator, but are not limited thereto.

【0054】また本発明は、あらかじめ基板の所定の表
面、例えばプリント基板の回路金属の、所定の表面にの
み化学反応により粘着性皮膜を形成し、これにハンダ粉
末を付着させた後フラックスを塗布し、ハンダの溶融温
度まで加熱してリフローさせ、ハンダバンプを形成した
回路基板(特開平7−7244公報)上に、本発明のハ
ンダペーストを用いてSMT(表面実装技術)で実装し
た場合、より優れたハンダ付け性を有する。
Further, according to the present invention, an adhesive film is formed in advance only on a predetermined surface of a substrate, for example, a predetermined surface of a circuit metal of a printed circuit board by a chemical reaction, a solder powder is adhered to this, and then a flux is applied. Then, the solder paste is heated to the melting temperature of the solder, reflowed, and mounted on a circuit board (JP-A-7-7244) on which solder bumps are formed using the solder paste of the present invention by SMT (surface mounting technology). Has excellent solderability.

【0055】本発明のハンダペーストにより、環境汚染
が少ないPbを含まないハンダ合金による電子部品の接
合のファインピッチ化、例えば実装配線板のファインピ
ッチ化、部品の多様化に対応でき、またこれにより部品
寿命の優れた配線板を提供することができる。
The solder paste of the present invention can cope with fine pitch of joining of electronic parts by a solder alloy which does not contain Pb and has little environmental pollution, for example, fine pitch of a mounting wiring board and diversification of parts. A wiring board having an excellent component life can be provided.

【0056】[0056]

【実施例】以下実施例をもって発明の内容をさらに具体
的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the invention thereto.

【0057】[試験法] ハロゲンイオン濃度測定 ハンダペースト1gにクロロホルム5mlを加えて攪拌
し、フラックス分を溶解した後、超純水10mlを加え
てハロゲンイオンを水に抽出し、水層をイオンクロマト
グラフィーで測定した。 使用した装置:YOKOGAWA IC−100 分離カラム:SAM3−125 充填剤:親水性低交換容量強イオン交換樹脂 粒子径:10μm 交換容量:60μeq/ml 溶離液と流量:4mM Na2CO3/4mM NaHC
3、2ml/分 除去液と流量:0.05M n−ドデシルベンゼンスル
ホン酸、2ml/分 温度:40℃ サンプル量:100μl
[Test Method] Measurement of Halogen Ion Concentration 5 ml of chloroform was added to 1 g of the solder paste, and the mixture was stirred to dissolve the flux. Then, 10 ml of ultrapure water was added to extract the halogen ions into water, and the aqueous layer was subjected to ion chromatography. Measured by graphy. Apparatus was used: Yokogawa IC-100 separation column: SAM3-125 Filler: hydrophilic low exchange capacity strong ion exchange resin particle size: 10 [mu] m exchange capacity: 60μeq / ml eluent and flow: 4mM Na 2 CO 3 / 4mM NaHC
O 3 , 2 ml / min Removal solution and flow rate: 0.05 M n-dodecylbenzenesulfonic acid, 2 ml / min Temperature: 40 ° C. Sample volume: 100 μl

【0058】粘度測定 製造時および25℃、7日後のハンダペーストの10r
pmにおける粘度を、マルコム社製PCU−205型ス
パイラル粘度計を用いて測定した。
Viscosity measurement 10 r of the solder paste at the time of production and after 25 days at 25 ° C.
The viscosity at pm was measured using a Malcolm PCU-205 spiral viscometer.

【0059】ボイドの観察(接合の信頼性) 60mm平方の銅板に厚さ150ミクロンのメタルマス
クを用いて、直径6mm×6個のパターンを印刷後、大
気雰囲気下でリフローし、次いでカッターでハンダと共
に銅板を切断した後、該ハンダ部分を顕微鏡により観察
し、ボイドの発生状況を観察した。6個のパターンにつ
いて大きさが10μm以上のボイドを計測し、1個のパ
ターン当たりの平均個数が2個以上であった場合を不合
格とした。
Observation of voids (reliability of bonding) A pattern of 6 mm in diameter × 6 was printed on a 60 mm square copper plate using a 150 μm thick metal mask, and then reflowed in an air atmosphere, and then soldered with a cutter. After cutting the copper plate together, the solder portion was observed with a microscope to observe the occurrence of voids. Voids having a size of 10 μm or more were measured for six patterns, and the case where the average number per one pattern was two or more was rejected.

【0060】(実施例1〜9、比較例1〜3) <フラックス及びハンダペーストの製造>樹脂成分とし
て重合ロジン17.5質量%、不均化ロジン27.5質
量%、チクソトロピック剤として水添ヒマシ油7質量
%、有機塩基ハロゲン化水素酸塩としてジフェニルグア
ニジン臭化水素酸塩、シクロヘキシルアミン臭化水素酸
塩、ハロゲン化合物としてヘキサブロモシクロドデカ
ン、2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオー
ル、4−ステアロイルオキシベンジルブロマイド、有機
酸成分としてサリチル酸イソブチル、p−トルエンスル
ホン酸−n−プロピルをそれぞれ表1に示す量、更にp
H調整剤としてトリエタノ−ルアミン2質量%、還元剤
としてハイドロキノン0.3質量%、防錆剤としてベン
ズイミダゾールを1質量%加え、溶剤としてジエチレン
グリコール モノ−2−エチルヘキシルエ−テルを加え
て100質量%とするフラックスを調製した。
(Examples 1 to 9, Comparative Examples 1 to 3) <Production of flux and solder paste> 17.5% by mass of polymerized rosin, 27.5% by mass of disproportionated rosin as a resin component, and water as a thixotropic agent 7% by mass of castor oil, diphenylguanidine hydrobromide and cyclohexylamine hydrobromide as organic base hydrohalides, hexabromocyclododecane and 2,3-dibromo-2-butene-1 as halogen compounds , 4-diol, 4-stearoyloxybenzyl bromide, isobutyl salicylate and n-propyl p-toluenesulfonate as organic acid components in the amounts shown in Table 1, respectively.
2% by mass of triethanolamine as an H regulator, 0.3% by mass of hydroquinone as a reducing agent, 1% by mass of benzimidazole as a rust preventive agent, and 100% by mass of diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether as a solvent. Was prepared.

【0061】[0061]

【表1】 [Table 1]

【0062】このフラックス11質量%に89Sn/8
Zn/3BiのPbフリーハンダ粉末89質量%を添加
し、プラネタリーミルで混練し3kgのハンダペースト
を製造した。
The amount of 89Sn / 8 was added to 11% by mass of this flux.
89 mass% of Zn / 3Bi Pb-free solder powder was added and kneaded with a planetary mill to produce a 3 kg solder paste.

【0063】<電子部品接合物の製造>実装方法として
SMTを用いた。実施例1〜9、比較例1〜3の組成の
ハンダペーストをそれぞれ1枚の回路板に印刷し、LS
I、チップ抵抗、チップコンデンサーをハンダペースト
上に載置した後、リフロー熱源により加熱してハンダ付
けした。リフロー熱源には熱風炉を用いた。
<Manufacture of Electronic Component Joint> SMT was used as a mounting method. Each of the solder pastes having the compositions of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 3 was printed on one circuit board, and LS
After placing I, the chip resistor, and the chip capacitor on the solder paste, they were soldered by heating with a reflow heat source. A hot blast stove was used as the reflow heat source.

【0064】リフロー条件は、プレヒートが温度130
℃、プレヒート時間が80秒、リフローはピーク温度が
220℃、200℃以上のリフロー時間を50秒とし
た。
The reflow conditions are as follows:
° C, preheating time was 80 seconds, and reflow was performed at a peak temperature of 220 ° C and a reflow time of 200 ° C or more for 50 seconds.

【0065】作製したプリント配線板および用いたハン
ダペーストについて前述した測定方法により特性を比較
した。測定結果を表2に示す。なお、表2中のハロゲン
イオン濃度は塩素換算値を示す。
The characteristics of the produced printed wiring board and the used solder paste were compared by the measurement method described above. Table 2 shows the measurement results. In addition, the halogen ion concentration in Table 2 shows a chlorine conversion value.

【0066】[0066]

【表2】 [Table 2]

【0067】更に、同様に91Sn/9Zn、86Sn
/8Zn/6BiのPbフリーハンダ粉末を使用して同
様の実験を行ったが、全く同様の結果が得られた。
Further, similarly, 91Sn / 9Zn, 86Sn
A similar experiment was performed using a / 8Zn / 6Bi Pb-free solder powder, but exactly the same results were obtained.

【0068】また実施例1〜9のリフロー後のハンダ合
金組織と従来のSn−Pb系ハンダペーストのハンダ合
金組織とを比較したところ、Sn−Pb系の場合、高温
環境下での結晶の粗大化が著しいのに対し、本発明のS
n−Zn系合金では粗大化の傾向が小さく、これにより
ハンダの機械的物性が向上しこれを用いた実装配線板の
寿命特性の向上が確認された。
Further, when the solder alloy structure after reflow in Examples 1 to 9 was compared with the solder alloy structure of the conventional Sn—Pb solder paste, it was found that in the case of Sn—Pb, the crystal coarseness in a high temperature environment was large. , While S of the present invention
In the case of the n-Zn-based alloy, the tendency of coarsening is small, whereby the mechanical properties of the solder were improved, and the improvement of the life characteristics of the mounting wiring board using the same was confirmed.

【0069】[0069]

【発明の効果】本発明のハンダペーストにより、ハンダ
合金とフラックスの反応が大幅に抑制され、極めて優れ
た保存安定性が得られた。特に本発明は、従来より保存
安定性が悪いとされたSn−Zn系ハンダペーストにお
いても、保存安定性を格段に向上させ、その有効性が確
認できた。
According to the solder paste of the present invention, the reaction between the solder alloy and the flux is greatly suppressed, and extremely excellent storage stability is obtained. In particular, the present invention significantly improved the storage stability of Sn-Zn-based solder paste, which was considered to have poor storage stability, and its effectiveness was confirmed.

【0070】また本発明のハンダペーストの開発によ
り、実装配線板のファインピッチ化、部品の多様化に対
応した信頼性の高い回路板のハンダ付け方法、ハンダ付
けした接合物を提供することが可能となった。
Further, by developing the solder paste of the present invention, it is possible to provide a highly reliable circuit board soldering method and a soldered joint corresponding to the fine pitch of the mounting wiring board and diversification of components. It became.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 荘司 孝志 千葉県千葉市緑区大野台1丁目1−1 昭 和電工株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 5E319 BB05 CC33  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Takashi Shoji 1-1-1 Onodai, Midori-ku, Chiba-shi, Chiba F-term in the Research Institute, Showa Denko KK (reference) 5E319 BB05 CC33

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】ハロゲン化合物を含むハンダペーストにお
いて、フラックス1グラム当たりのハロゲンイオン濃度
が塩素換算値で3000ppm以下であることを特徴と
するハンダペースト。
1. A solder paste containing a halogen compound, wherein the concentration of halogen ions per gram of flux is not more than 3000 ppm in terms of chlorine.
【請求項2】ハロゲンイオンが、臭素イオンであること
を特徴とする請求項1に記載のハンダペースト。
2. The solder paste according to claim 1, wherein the halogen ions are bromine ions.
【請求項3】ハンダペーストが、ハンダ粉末としてZn
を含有することを特徴とする請求項1または2に記載の
ハンダペースト。
3. The method according to claim 1, wherein the solder paste is Zn powder.
The solder paste according to claim 1, further comprising:
【請求項4】請求項1〜3の何れか1項に記載のハンダ
ペーストを、回路板上に塗布する工程と、該ハンダペー
ストをリフローする工程とを含むことを特徴とする回路
板のハンダ付け方法。
4. A solder for a circuit board, comprising: a step of applying the solder paste according to claim 1 on a circuit board; and a step of reflowing the solder paste. Attachment method.
【請求項5】請求項4に記載の回路板のハンダ付け方法
により製造した接合物。
5. A joined article manufactured by the circuit board soldering method according to claim 4.
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