JP2002082223A - Protective film or polarizing plate, optical film and picture display material - Google Patents

Protective film or polarizing plate, optical film and picture display material

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JP2002082223A JP2000273066A JP2000273066A JP2002082223A JP 2002082223 A JP2002082223 A JP 2002082223A JP 2000273066 A JP2000273066 A JP 2000273066A JP 2000273066 A JP2000273066 A JP 2000273066A JP 2002082223 A JP2002082223 A JP 2002082223A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film such as a protective film for a polarizing plate, an antistatic film which are excellent in adhesion to a polyvinyl alcohol sheet and are manufactured with safety in operation and by processing without any adverse effect on environment, a polarizing plate, a liquid crystal display and further a picture display material using the films. SOLUTION: The protective film for the polarizing plate is characterized by having a layer with >=10.0 mN/m polar term component of surface energy, <=0.1 μm film thickness and >=90% transmittance on one surface of a transparent substrate film, to which a polarizer is adhered.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光学用フィルム、
特に液晶ディスプレイなどに用いられる偏光板用保護フ
ィルム、偏光板および該光学用フィルムを画像の保存性
向上にもちいた画像表示材料に関する。
[0001] The present invention relates to an optical film,
In particular, the present invention relates to a protective film for a polarizing plate used for a liquid crystal display, a polarizing plate, and an image display material using the optical film for improving storage stability of an image.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶ディスプレイやプラズマディスプレ
イなどにはさまざまな光学用フィルムが用いられてい
る。液晶ディスプレイには偏光板(フィルム)、位相差
フィルム、視野角拡大フィルムなどの機能性フィルムが
用いられており、これらのフィルムは主に塗工や貼り合
わせ等により生産されている。なかでも偏光板はセルロ
ースエステルからなる偏光板用保護フィルムをヨウ素や
染料を吸着配向させたポリビニルアルコールフィルム等
からなる偏光子の両側に積層した構成をしている。しか
し偏光板を製造する工程でセルロースアセテートフィル
ムを強アルカリでケン化する工程が行われており、メン
テナンス、安全性、廃液にかかわる環境等の問題を有し
ている。特開平6−94915号、同6−118252
号、同7−333436号、同8−96801号公報に
は基材フィルムに易接着層を塗布して上記問題を解決す
る方法が提案されている。しかし、塗布で易接着層を形
成する方法ではホコリ、異物等による塗布欠陥による収
率の問題や塗布ライン、乾燥ライン等の設備が必要であ
りコストが高くなってしまう問題点を有していた。
2. Description of the Related Art Various optical films are used in liquid crystal displays and plasma displays. Functional films such as a polarizing plate (film), a retardation film, and a viewing angle widening film are used for a liquid crystal display, and these films are mainly produced by coating or laminating. Above all, the polarizing plate has a structure in which a protective film for a polarizing plate made of cellulose ester is laminated on both sides of a polarizer made of a polyvinyl alcohol film or the like in which iodine or a dye is adsorbed and oriented. However, in the process of manufacturing a polarizing plate, a process of saponifying a cellulose acetate film with a strong alkali is performed, and has problems such as maintenance, safety, and environment related to waste liquid. JP-A-6-94915 and JP-A-6-118252
Nos. 7-333436 and 8-96801 propose a method of solving the above problem by applying an easy-adhesion layer to a base film. However, the method of forming an easily-adhesive layer by coating has a problem of a yield problem due to a coating defect due to dust, foreign matter, and the like, and has a problem that equipment such as a coating line and a drying line is required and costs are increased. .

【0003】又、その他の光学フィルムとしては例えば
帯電防止能を有するトリアセチルセルロースフィルムが
あり、特開平6−123806号に記載されているよう
に金属酸化物やイオン性重合体を含む帯電防止層を塗布
して形成する方法が知られている。しかしながら、塗布
方式で帯電防止層を形成した樹脂フィルムを偏光板用保
護フィルムとして使用する場合には、塗布溶媒による基
材への影響のためカールが大きくなってしまう問題を生
じたり帯電防止層が裏面とブロッキングを起こし生産性
を下げてしまう欠点を有していた。さらに塗布で帯電防
止層を形成する際に、ゴミ・異物の混入により塗布故障
を発生し、収率が下がってしまう問題点を有していた。
As another optical film, there is, for example, a triacetyl cellulose film having an antistatic property. As described in JP-A-6-123806, an antistatic layer containing a metal oxide or an ionic polymer is used. Is known. However, when a resin film on which an antistatic layer is formed by a coating method is used as a protective film for a polarizing plate, there is a problem in that the curl becomes large due to the influence of a coating solvent on a substrate, or the antistatic layer is not used. There was a drawback that blocking occurred on the back surface and reduced productivity. Further, when forming an antistatic layer by coating, there is a problem that coating failure occurs due to mixing of dust and foreign matter, and the yield is reduced.

【0004】一方、プラズマ処理でフィルムの表面改質
や薄膜を製膜する技術は、連続処理が可能であり処理が
簡便なため、近年注目されつつある技術である。本発明
者らは種々検討した結果、反応性ガスの存在下でプラズ
マ放電処理を行うことで表面改質や薄膜を製膜する技術
が偏光板用保護フィルムおよび偏光板(フィルム)等の
様な光学フィルムにおいて特に有効であることを見出し
た。
[0004] On the other hand, a technique for modifying the surface of a film or forming a thin film by plasma processing is a technique that has been attracting attention in recent years because continuous processing is possible and processing is simple. As a result of various studies, the inventors of the present invention have found that the technology of surface modification and thin film formation by performing plasma discharge treatment in the presence of a reactive gas has been developed for protective films for polarizing plates and polarizing plates (films). It was found to be particularly effective in optical films.

【0005】また、更に他の光学フィルムの応用として
は、画像のラミネートに用いる画像表示用フィルムとし
ての用途があり、例えば、インクジェットで出力された
画像は画像保存性が悪く退色しやすい欠点をもっており
改良が望まれており、ポリエステルフィルムと粘着剤に
よりラミネートするなどの後処理が行われているが、こ
れまでのフィルムと粘着剤を用いたラミネート方法で
は、ラミネート操作が煩雑であったり、気泡が混入する
などの問題点を有していた。インクジェット記録用紙の
インク受容層はポリビニルアルコールを主体として構成
されているものが多く、これらのインク受容層に対して
より接着性の優れたラミネートフィルムが望まれてい
た。
Further, as another application of the optical film, there is a use as an image display film used for laminating an image. For example, an image outputted by an ink jet has a drawback that image storability is poor and fading easily occurs. Improvements are desired, and post-treatments such as lamination with a polyester film and an adhesive have been performed.However, in the conventional lamination method using a film and an adhesive, the laminating operation is complicated or bubbles are generated. There were problems such as mixing. Many ink receiving layers of ink jet recording paper are mainly composed of polyvinyl alcohol, and a laminate film having better adhesion to these ink receiving layers has been desired.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、偏光子やインクジェット受像シートに用いられるポ
リビニルアルコールフィルム乃至ポリビニルアルコール
含有層を有するシートとの接着性が優れた、作業上安全
で環境に悪影響を及ぼさない加工で生産できる偏光板用
保護フィルムや帯電防止フィルム等の光学フィルムおよ
びこれらを用いた偏光板、液晶ディスプレイを提供する
ことにあり、さらにはラミネート用フィルムとしてより
接着性に優れ、インクジェット記録紙とともに用い、こ
れと一体になって画像の保存性向上をもたらすことので
きる画像表示材料を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide a process which is excellent in adhesion to a polyvinyl alcohol film or a sheet having a polyvinyl alcohol-containing layer used in a polarizer or an ink-jet image-receiving sheet and which is safe and environmentally friendly to work. To provide an optical film such as a protective film or an antistatic film for a polarizing plate and a polarizing plate using the same, which can be produced by processing that has no adverse effect, and to provide a liquid crystal display. It is an object of the present invention to provide an image display material that can be used together with an ink jet recording paper and can integrally improve the storability of an image.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は以下
の手段により達成される。
The above object of the present invention is achieved by the following means.

【0008】1.透明基材フィルムの偏光子を接着する
面上に、表面エネルギーの極性項成分が10.0mN/
m以上である膜厚0.1μm以下の層を有し、90%以
上の透過率を有することを特徴とする偏光板用保護フィ
ルム。
[0008] 1. On the surface of the transparent substrate film to which the polarizer is bonded, the polarity term component of the surface energy is 10.0 mN /
A protective film for a polarizing plate, comprising a layer having a thickness of 0.1 μm or less that is not less than m and having a transmittance of 90% or more.

【0009】2.透明基材フィルムの偏光子を接着する
面に膜厚0.1μm以下の層を有し、90%以上の透過
率を有する偏光板用保護フィルムにおいて、該膜厚0.
1μm以下の層の表面における炭素に対する酸素、窒
素、リンの元素比をOcl、Ncl、Pcl、該表面か
ら膜厚0.1μmの層を除いた基材フィルム表面におけ
る炭素に対する酸素、窒素、リンの元素比をそれぞれO
cs、Ncs、Pcsと表したとき、Ocl/Ocs、
Ncl/Ncs、Pcl/Pcsの値のうちいずれか一
つが1.1以上であることを特徴とする偏光板用保護フ
ィルム。
[0009] 2. In a protective film for a polarizing plate having a layer having a thickness of 0.1 μm or less on a surface of a transparent substrate film to which a polarizer is adhered and having a transmittance of 90% or more, the protective film for a polarizing plate having a thickness of 0.
Elemental ratios of oxygen, nitrogen, and phosphorus to carbon on the surface of the layer of 1 μm or less are Ocl, Ncl, Pcl, and oxygen, nitrogen, and phosphorus for carbon on the surface of the base film excluding the layer having a thickness of 0.1 μm from the surface. Element ratio is O
When expressed as cs, Ncs, Pcs, Ocl / Ocs,
A protective film for a polarizing plate, wherein one of the values of Ncl / Ncs and Pcl / Pcs is 1.1 or more.

【0010】3.透明基材フィルムの偏光子を接着する
面に膜厚0.1μm以下の層を有し、90%以上の透過
率を有する偏光板用保護フィルムにおいて、該膜厚0.
1μm以下の層の上に更にポリビニルアルコール(重合
度1500以上、けん化度98〜99mol%)を塗布
したとき、該ポリビニルアルコール層の該膜厚0.1μ
m以下の層との密着性がJIS K−5400に準拠し
た碁盤目テープ法をもちいた時、剥がれずに残っている
碁盤目の数が90個以上であることを特徴とする偏光板
用保護フィルム。
[0010] 3. In a protective film for a polarizing plate having a layer having a thickness of 0.1 μm or less on a surface of a transparent substrate film to which a polarizer is adhered and having a transmittance of 90% or more, the protective film for a polarizing plate having a thickness of 0.
When polyvinyl alcohol (polymerization degree: 1500 or more, saponification degree: 98 to 99 mol%) is further applied on a layer having a thickness of 1 μm or less, the polyvinyl alcohol layer has a thickness of 0.1 μm.
When the cross-cut tape method conforming to JIS K-5400 is used for the adhesion to a layer having a thickness of not more than m, the number of cross-cuts remaining without peeling is 90 or more, and the polarizing plate is protected. the film.

【0011】4.膜厚0.1μm以下の層が、有機化合
物を含有する反応性ガス雰囲気下で透明基材フィルムを
プラズマ放電処理することにより形成されたものである
ことを特徴とする前記1〜3のいずれか1項に記載の偏
光板用保護フィルム。
4. The layer according to any one of the above items 1 to 3, wherein the layer having a thickness of 0.1 μm or less is formed by subjecting the transparent substrate film to plasma discharge treatment under a reactive gas atmosphere containing an organic compound. Item 2. The protective film for a polarizing plate according to item 1.

【0012】5.有機化合物が不飽和結合を有する化合
物であることを特徴とする前記4に記載の偏光板用保護
フィルム。
5. 5. The protective film for a polarizing plate as described in 4 above, wherein the organic compound is a compound having an unsaturated bond.

【0013】6.不飽和結合を有する化合物が、少なく
とも水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、エポキシ
基から選ばれる置換基を有する化合物であることを特徴
とする前記5に記載の偏光板用保護フィルム。
6. 6. The protective film for a polarizing plate as described in 5 above, wherein the compound having an unsaturated bond is a compound having at least a substituent selected from a hydroxyl group, a carbonyl group, a carboxyl group, and an epoxy group.

【0014】7.不飽和結合を有する化合物が少なくと
も前記一般式I〜IVから選ばれる化合物であることを特
徴とする前記5に記載の偏光板用保護フィルム。
7. 6. The protective film for a polarizing plate according to the item 5, wherein the compound having an unsaturated bond is at least a compound selected from the general formulas I to IV.

【0015】8.有機化合物が窒素原子を有する化合物
であることを特徴とする前記4に記載の偏光板用保護フ
ィルム。
[8] 5. The protective film for a polarizing plate as described in 4 above, wherein the organic compound is a compound having a nitrogen atom.

【0016】9.窒素原子を有する化合物が少なくとも
前記一般式Vから選ばれる化合物であることを特徴とす
る前記8に記載の偏光板用保護フィルム。
9. 9. The protective film for a polarizing plate as described in 8 above, wherein the compound having a nitrogen atom is at least a compound selected from the general formula V.

【0017】10.プラズマ放電処理に用いる反応性ガ
スが更に酸素原子を含むガスを含有することを特徴とす
る前記4〜9のいずれか1項に記載の偏光板用保護フィ
ルム。
10. The protective film for a polarizing plate according to any one of the above items 4 to 9, wherein the reactive gas used for the plasma discharge treatment further contains a gas containing an oxygen atom.

【0018】11.透明基材フィルムにセルロースエス
テルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステ
ルフィルム、ポリ乳酸又はポリアクリルフィルムを用い
たことを特徴とする前記1〜10のいずれか1項に記載
の偏光板用保護フィルム。
11. The protective film for a polarizing plate according to any one of the above items 1 to 10, wherein a cellulose ester film, a polycarbonate film, a polyester film, a polylactic acid or a polyacryl film is used as the transparent substrate film.

【0019】12.プラズマ放電処理において気圧を
0.007〜27hPa以下とすることを特徴とする前
記4〜11のいずれか1項に記載の偏光板用保護フィル
ム。
[12] 12. The protective film for a polarizing plate according to any one of the items 4 to 11, wherein the pressure in the plasma discharge treatment is set to 0.007 to 27 hPa or less.

【0020】13.プラズマ放電処理を大気圧と同じか
または大気圧近傍にて行うことを特徴とする前記4〜1
1のいずれか1項に記載の偏光板用保護フィルム。
13. Wherein the plasma discharge treatment is performed at or near atmospheric pressure.
2. The protective film for a polarizing plate according to claim 1.

【0021】14.プラズマ放電処理に用いる電極の少
なくとも一つが、固体誘電体を具有することを特徴とす
る前記13に記載の偏光板用保護フィルム。
14. 14. The protective film for a polarizing plate as described in 13 above, wherein at least one of the electrodes used for the plasma discharge treatment has a solid dielectric.

【0022】15.プラズマ放電処理に用いる反応性ガ
スがさらに不活性ガスを含有することを特徴とする前記
13または14に記載の偏光板用保護フィルム。
15. 15. The protective film for a polarizing plate as described in 13 or 14, wherein the reactive gas used for the plasma discharge treatment further contains an inert gas.

【0023】16.不活性ガスがアルゴンガスまたはヘ
リウムガスであることを特徴とする前記15に記載の偏
光板用保護フィルム。
16. 16. The protective film for a polarizing plate as described in 15 above, wherein the inert gas is an argon gas or a helium gas.

【0024】17.プラズマ放電電極間にパルス状の電
圧を印加することを特徴とする前記13または14に記
載の偏光板用保護フィルム。
17. 15. The protective film for a polarizing plate as described in 13 or 14, wherein a pulse-like voltage is applied between the plasma discharge electrodes.

【0025】18.パルス状の電圧の印加により電極間
に作られるパルス電界の立ち上がりまたは立ち下がり時
間が、共に40ns〜100μsの範囲で、且つ、その
パルス電界の強さが1〜100kV/cmの範囲である
ことを特徴とする前記17に記載の偏光板用保護フィル
ム。
18. The rising or falling time of the pulse electric field created between the electrodes by application of the pulsed voltage is both in the range of 40 ns to 100 μs, and the intensity of the pulse electric field is in the range of 1 to 100 kV / cm. 18. The protective film for a polarizing plate as described in 17 above, which is characterized by:

【0026】19.パルス電界の周波数が1kHz〜1
00kHzであり、且つ、その一つのパルス電界の形成
時間が1μs〜1000μsであることを特徴とする前
記18に記載の偏光板用保護フィルム。
19. The frequency of the pulse electric field is 1 kHz to 1
20. The protective film for a polarizing plate as described in 18 above, wherein the frequency is 00 kHz, and the formation time of one pulse electric field is 1 μs to 1000 μs.

【0027】20.少なくとも2つの対向する電極にそ
れぞれ同時に異極の電圧を印加することによりパルス電
界を発生させることを特徴とする前記18または19に
記載の偏光板用保護フィルム。
20. 20. The protective film for a polarizing plate as described in 18 or 19 above, wherein a pulse electric field is generated by simultaneously applying different polar voltages to at least two opposing electrodes.

【0028】21.外側電極を備えたスリット状の反応
管及び反応管の内部に内側電極を備えたプラズマ処理装
置の反応管に不活性ガスまたは不活性ガスと反応ガスの
混合気体を導入し、外側電極と内側電極の間に交流電界
を印加し、プラズマを含む励起活性種を発生させて、該
励起活性種を透明基材フィルムに吹き付けることにより
表面処理を行ったことを特徴とする光学用フィルム。
21. An inert gas or a mixed gas of an inert gas and a reaction gas is introduced into a slit-shaped reaction tube provided with an outer electrode and a reaction tube of a plasma processing apparatus provided with an inner electrode inside the reaction tube. An optical film characterized in that a surface treatment is performed by applying an AC electric field during the process to generate excited active species including plasma and spraying the excited active species onto a transparent substrate film.

【0029】22.外側電極を備えたスリット状の反応
管及び反応管の内部に内側電極を備えたプラズマ処理装
置の反応管に不活性ガスまたは不活性ガスと金属元素含
有化合物を含有する反応ガスを導入し、外側電極と内側
電極の間に交流電界を印加することにより、プラズマを
含む励起活性種を発生させ、該励起活性種を透明基材フ
ィルムに吹き付けることにより表面処理を行ったことを
特徴とする光学用フィルム。
22. An inert gas or a reaction gas containing an inert gas and a metal element-containing compound is introduced into a slit-shaped reaction tube having an outer electrode and a reaction tube of a plasma processing apparatus having an inner electrode inside the reaction tube. An optical field characterized by applying an alternating electric field between the electrode and the inner electrode to generate excited active species including plasma and performing a surface treatment by spraying the excited active species onto a transparent substrate film. the film.

【0030】23.周波数20Hzにおけるインピーダ
ンスの絶対値が4×105Ω以上であることを特徴とす
る前記22に記載の光学用フィルム。
23. 23. The optical film as described in 22 above, wherein the absolute value of the impedance at a frequency of 20 Hz is 4 × 10 5 Ω or more.

【0031】24.透明基材フィルムがセルロースアセ
テートであることを特徴とする前記21〜23のいずれ
か1項に記載の光学用フィルム。
24. 24. The optical film as described in any one of 21 to 23 above, wherein the transparent substrate film is cellulose acetate.

【0032】25.偏光板用保護フィルム、位相差フィ
ルム又は輝度向上フィルムとして用いることを特徴とす
る前記21〜23のいずれか1項に記載の光学用フィル
ム。
25. 24. The optical film as described in any one of 21 to 23 above, which is used as a protective film for a polarizing plate, a retardation film, or a brightness enhancement film.

【0033】26.前記21〜24のいずれか1項に記
載の光学用フィルムを用いることを特徴とする偏光板。
26. 25. A polarizing plate using the optical film according to any one of 21 to 24.

【0034】27.前記25に記載の光学用フィルムを
用いることを特徴とする液晶ディスプレイ。
27. A liquid crystal display using the optical film described in 25 above.

【0035】28.前記26に記載の偏光板を用いるこ
とを特徴とする液晶ディスプレイ。 29.前記1〜11に記載の偏光板用保護フィルムとポ
リビニルアルコールからなる偏光子を貼合したことを特
徴とする偏光板。
28. 27. A liquid crystal display using the polarizing plate described in 26 above. 29. A polarizing plate, wherein the protective film for a polarizing plate according to any one of 1 to 11 and a polarizer made of polyvinyl alcohol are bonded to each other.

【0036】30.前記1〜11に記載の偏光板用保護
フィルムとポリビニルアルコールからなる偏光子を貼合
する前に、偏光板用保護フィルムを水洗することを特徴
とする偏光板の作製方法。
30. 12. A method for producing a polarizing plate, comprising: washing the polarizing plate protective film with water before laminating the polarizer protective film described in any one of 1 to 11 and a polarizer made of polyvinyl alcohol.

【0037】31.反応性ガス雰囲気下でのプラズマ放
電処理あるいはプラズマを含む励起活性種を吹き付ける
ことにより形成された層を有する透明基材フィルムを、
画像が形成された、少なくともポリビニルアルコールを
含有する層を支持体上に有する画像表示材料と貼合する
ことを特徴とする画像の保存性向上方法。
31. A transparent substrate film having a layer formed by spraying excited active species including plasma discharge treatment or plasma under a reactive gas atmosphere,
A method for improving the storability of an image, comprising laminating an image display material having at least a layer containing polyvinyl alcohol, on which an image is formed, on a support.

【0038】32.反応性ガス雰囲気下でのプラズマ放
電処理あるいはプラズマを含む励起活性種を吹き付ける
ことにより形成された層を有する透明基材フィルムと、
画像が形成された、少なくともポリビニルアルコールを
含有する層を支持体上に有する画像表示材料とを貼合し
たことを特徴とする画像の保存性が向上した画像表示材
料。
32. A transparent substrate film having a layer formed by spraying excited active species including plasma discharge treatment or plasma under a reactive gas atmosphere,
An image display material having improved image storability characterized by laminating an image display material having at least a layer containing polyvinyl alcohol on a support on which an image is formed.

【0039】33.透明基材フィルムがセルロースエス
テルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステ
ルフィルムであることを特徴とする前記31に記載の画
像の保存性向上方法。
33. 32. The method for improving image storability according to the item 31, wherein the transparent substrate film is a cellulose ester film, a polycarbonate film, or a polyester film.

【0040】34.透明基材フィルムがセルロースエス
テルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステ
ルフィルムであることを特徴とする前記32に記載の画
像表示材料。
34. 33. The image display material as described in 32 above, wherein the transparent substrate film is a cellulose ester film, a polycarbonate film, or a polyester film.

【0041】35.少なくともポリビニルアルコールを
含有する層を支持体上に有する画像表示材料がインクジ
ェット記録紙であることを特徴とする前記31または3
3に記載の画像の保存性向上方法。
35. The image display material having at least a layer containing polyvinyl alcohol on a support is an ink jet recording paper;
3. The method for improving image storability according to item 3.

【0042】36.少なくともポリビニルアルコールを
含有する層を支持体上に有する画像表示材料がインクジ
ェット記録紙であることを特徴とする前記32又は34
に記載の画像表示材料。
36. 32 or 34, wherein the image display material having at least a layer containing polyvinyl alcohol on a support is an ink jet recording paper.
The image display material described in 1.

【0043】以下本発明を詳細に説明する。本発明に用
いられる透明基材フィルムは特に限定されないが、例え
ばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレ
ート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィル
ム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロース
アセテートフィルム、セルロースアセテートブチレート
フィルム、セルロースアセテートフタレートフィルム、
セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロ
ーストリアセテート、セルロースナイトレート等のセル
ロースエステル類またはそれらの誘導体からなるフィル
ム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコー
ルフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シン
ジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボ
ネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フィルム、ポリメ
チルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、
ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリスルホン系フィ
ルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミド
フィルム、アクリルフィルムあるいはポリアクリレート
系フィルムなどを挙げることができる。本発明にはセル
ローストリアセテートフィルム(TACフィルム)等の
セルロースエステルフィルム、ポリカーボネートフィル
ム、ポリエステルフィルム、ポリ乳酸又はポリアクリル
フィルムが透明性、機械的性質、光学的異方性がない点
などで特に好ましい。またこれらの樹脂を積層したフィ
ルムであっても混合したフィルムであってもよく、これ
らの基材に用途に応じて樹脂層や無機層が塗工されてい
てもよい。上記記載のフィルム中でも、特に好ましく用
いられるセルロースの低級脂肪酸エステルはセルロース
トリアセテートである。更に、ベース強度の観点から、
特に重合度250〜400、結合酢酸量54.0〜6
2.5%のセルローストリアセテートが好ましく用いら
れ、また重量平均分子量は70,000〜120,00
0が好ましく、80,000〜100,000がより好
ましい。更に好ましいのは、結合酢酸量が58〜62.
5%のセルローストリアセテートである。このセルロー
ストリアセテートにセルロースアセテートプロピオネー
トまたはセルロースジアセテートを1:9から9:1に
混合したフィルムも好ましく用いられる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. The transparent substrate film used in the present invention is not particularly limited, for example, polyethylene terephthalate, polyester film such as polyethylene naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, cellophane, cellulose acetate film, cellulose acetate butyrate film, cellulose acetate phthalate film,
Cellulose acetate propionate film, cellulose triacetate, a film composed of cellulose esters such as cellulose nitrate or a derivative thereof, a polyvinylidene chloride film, a polyvinyl alcohol film, an ethylene vinyl alcohol film, a syndiotactic polystyrene film, a polycarbonate film, Norbornene resin film, polymethylpentene film, polyetherketone film,
Examples thereof include a polyether sulfone film, a polysulfone film, a polyether ketone imide film, a polyamide film, an acrylic film, and a polyacrylate film. In the present invention, a cellulose ester film such as a cellulose triacetate film (TAC film), a polycarbonate film, a polyester film, a polylactic acid, or a polyacryl film is particularly preferable in terms of transparency, mechanical properties, and absence of optical anisotropy. Further, a film in which these resins are laminated or a film in which these resins are mixed may be used, and a resin layer or an inorganic layer may be applied to these base materials according to the application. Among the films described above, the lower fatty acid ester of cellulose that is particularly preferably used is cellulose triacetate. Furthermore, from the viewpoint of base strength,
Particularly, the polymerization degree is 250 to 400, and the amount of bound acetic acid is 54.0 to 6
2.5% cellulose triacetate is preferably used, and the weight average molecular weight is 70,000 to 120,000.
0 is preferable, and 80,000 to 100,000 is more preferable. More preferably, the amount of bound acetic acid is 58-62.
5% cellulose triacetate. A film in which cellulose acetate propionate or cellulose diacetate is mixed with the cellulose triacetate at a ratio of 1: 9 to 9: 1 is also preferably used.

【0044】本発明に係るセルローストリアセテート
は、綿花リンターから合成されたセルローストリアセテ
ートと木材パルプから合成されたセルローストリアセテ
ートのどちらかを単独あるいは混合して用いることがで
きる。流延による製膜の際に、ベルトやドラムからの剥
離性がもし問題になれば、ベルトやドラムからの剥離性
が良い綿花リンターから合成されたセルローストリアセ
テートを多く使用すれば生産性が高く好ましい。木材パ
ルプから合成されたセルローストリアセテートを混合し
用いた場合、綿花リンターから合成されたセルロースト
リアセテートの比率が40質量%以上で、剥離性の効果
が顕著になるため好ましく、60質量%以上がさらに好
ましく、単独で使用することが最も好ましい。
As the cellulose triacetate according to the present invention, either cellulose triacetate synthesized from cotton linter or cellulose triacetate synthesized from wood pulp can be used alone or in combination. During film formation by casting, if the releasability from the belt or drum becomes a problem, it is preferable to use a large amount of cellulose triacetate synthesized from cotton linter, which has good releasability from the belt or drum. . When cellulose triacetate synthesized from wood pulp is used by mixing, the ratio of cellulose triacetate synthesized from cotton linter is preferably 40% by mass or more, and the effect of releasability is remarkable, and more preferably 60% by mass or more. It is most preferred to use it alone.

【0045】これらセルロースエステルについては、流
延によるセルロースエステルの製造方法及びセルロース
エステルの添加剤等について多くのものが公知であり、
マット剤、可塑剤、UV吸収剤等の添加剤や、流延によ
るフィルムの製造方法等、例えば特開平10−2371
86号、特願平11−238290号、同11−353
162号等に記載されており、これらの技術を用いるこ
とが出来る。
Many of these cellulose esters are known as to a method for producing the cellulose ester by casting and additives of the cellulose ester.
Additives such as a matting agent, a plasticizer, and a UV absorber, and a method for producing a film by casting, for example, see JP-A-10-2371.
No. 86, Japanese Patent Application No. 11-238290, and No. 11-353
162, etc., and these techniques can be used.

【0046】本発明に用いられる偏光子とは、ポリビニ
ルアルコール系フィルムに沃素や2色性色素を吸着させ
配向させたフィルム、偏光板用保護フィルムとは、偏光
子を貼り合わせるフィルム、偏光板とは偏光子に、保護
フィルムとして、例えばトリアセチルセルロースフィル
ムを貼り合わせた構造を有したフィルムのことをいう。
The polarizer used in the present invention is a film in which iodine or a dichroic dye is adsorbed and oriented on a polyvinyl alcohol-based film, and the protective film for a polarizing plate is a film on which a polarizer is bonded, a polarizing plate. Refers to a film having a structure in which, for example, a triacetyl cellulose film is bonded to a polarizer as a protective film.

【0047】偏光板用保護フィルムにはハードコート
層、防眩層、反射防止層、保護層、粘着層、配向膜、液
晶層が塗工されていることが好ましく、プラズマ処理前
にハードコート層、防眩層、反射防止層、保護層、粘着
層、配向膜、液晶層を塗工するが好ましい。
The protective film for a polarizing plate is preferably coated with a hard coat layer, an antiglare layer, an antireflection layer, a protective layer, an adhesive layer, an alignment film, and a liquid crystal layer. It is preferable to coat an antiglare layer, an antireflection layer, a protective layer, an adhesive layer, an alignment film, and a liquid crystal layer.

【0048】本発明の偏光板用保護フィルムにおいて、
その表面層の表面エネルギーが偏光子との接着性に関わ
りがあることが判った。即ち、本発明において、反応性
ガスの存在下においてプラズマ放電処理を表面に行うこ
とで基材フィルム表面に形成される0.1μm以下の重
合皮膜からなる層表面の表面エネルギーの極性項成分が
10mN/m以上の試料は偏光子との接着性が良好であ
った。おそらく表面または表面近傍の極性基と偏光子を
構成するポリビニルアルコールとの水素結合の寄与が大
きいと推定できる。表面エネルギーの極性項成分の値は
10mN/m以上であり、15mN/m以上が好ましく
20mN/m以上がさらに好ましい。表面エネルギーの
極性項成分の値は40mN/m程度が上限である。一般
に、表面を作る物質の表面エネルギー(表面張力)γT
は、次式(1)で示すように、主に分散力成分γd
と極性項成分γp の和である。
In the protective film for a polarizing plate of the present invention,
It was found that the surface energy of the surface layer was related to the adhesion to the polarizer. That is, in the present invention, the polarity term component of the surface energy of the layer surface composed of the polymer film of 0.1 μm or less formed on the surface of the base film by performing the plasma discharge treatment on the surface in the presence of the reactive gas is 10 mN. / M or more had good adhesion to the polarizer. Probably, the contribution of hydrogen bonding between the polar group on the surface or near the surface and the polyvinyl alcohol constituting the polarizer can be presumed to be large. The value of the polar component of the surface energy is 10 mN / m or more, preferably 15 mN / m or more, more preferably 20 mN / m or more. The upper limit of the value of the polar term component of the surface energy is about 40 mN / m. In general, the surface energy (surface tension) of the material forming the surface γ T
Is mainly the dispersion force component γ d as shown in the following equation (1).
And the polar term component γ p .

【0049】γT=γd+γp (1) さらに固体表面の表面エネルギーと溶媒の表面エネルギ
ーとの間には次の関係式があり、 (1+COSθ)γL T =2(γL d・γS d1/2+2(γL p+γS p1/2 (2) θは接触角(°)、γL T は、溶媒の表面エネルギー、
γL d は、溶媒の表面エネルギーの分散力成分、γL p
は、溶媒の表面エネルギーの極性項成分、γS dは、固体
表面の表面エネルギーの分散力成分、γS p は、固体の
表面エネルギーの極性項成分を示す。エネルギーの単位
はいずれもmN/mである。
Γ T = γ d + γ p (1) Further, there is the following relational expression between the surface energy of the solid surface and the surface energy of the solvent: (1 + COS θ) γ L T = 2 (γ L d · γ S d) 1/2 +2 (γ L p + γ S p) 1/2 (2) θ is the contact angle (°), γ L T, the surface energy of the solvent,
γ L d is the dispersive force component of the surface energy of the solvent, γ L p
A polar term component of the surface energy of the solvent, gamma S d is the dispersion force component of the surface energy of the solid surface, gamma S p represents the polar term component of the solid surface energy of the. The unit of energy is mN / m.

【0050】(2)式から、分散力成分と極性項成分が
既知の2種類の溶媒を用いて接触角を測定して連立方程
式を解けば、固体表面のγS d とγS p 成分が求められ
る。例えば、後述する実施例で表面改質膜の分散力成分
と極性項成分を求めるのに用いた水とヨウ化メチレンの
それぞれの分散力成分と極性項成分を次に示す(J.A
dhesion,Vol.2,p66(1970))。
[0050] (2) from the equation, if the dispersion force component and a polar term component by measuring the contact angle using a known two solvents solving the simultaneous equations, gamma S d and gamma S p component of solid surface Desired. For example, the dispersing power component and the polar term component of water and methylene iodide used for obtaining the dispersing force component and the polar term component of the surface-modified film in Examples described later are shown below (JA).
dhsion, Vol. 2, p66 (1970)).

【0051】 溶媒 γL d γL p γL T 水 21.5 51.0 72.5 ヨウ化メチレン 48.5 2.3 50.8 本発明においては水およびヨウ化メチレンの接触角の測
定はエルマ工業(株)製ゴニオメーターG1を用い、基
材フィルムの表面に5μl垂らして5回測定し、その平
均を接触角とし表面エネルギーを算出する。
Solvent γ L d γ L p γ L T Water 21.5 51.0 72.5 Methylene iodide 48.5 2.3 50.8 In the present invention, the measurement of the contact angle between water and methylene iodide Using a goniometer G1 manufactured by Elma Industry Co., Ltd., 5 μl is dropped on the surface of the base film, and the measurement is performed five times, and the average is used as the contact angle to calculate the surface energy.

【0052】本発明においては又、フィルム表面の元素
比が接着性に関わりがあることが判った。即ち、反応性
ガスの存在下でのプラズマ放電処理を基材フィルム表面
に行うことで形成される前記0.1μm以下の重合皮膜
からなる層表面の元素を解析して酸素、窒素、リンの割
合が基材内部のものよりも多いと偏光子との接着性が良
好なことがわかった。これらの重合皮膜中では、基材フ
ィルムに比べ酸素、窒素、リンの割合が増加することに
より偏光子に用いるポリビニルアルコールとの水素結合
が増加したものと推定される。本発明において、プラズ
マによる表面処理で基材フィルム表面に形成される重合
皮膜からなる層の厚みはプラズマ処理の条件により変化
するが、本発明においてプラズマ処理により形成される
重合皮膜の膜厚は0.1μm以下が生産性の面で好まし
い。膜厚が厚くなると処理する時間が長くなり生産性が
劣ってしまう。さらに好ましくは0.05μmである。
In the present invention, it was also found that the element ratio on the film surface was related to the adhesiveness. That is, by analyzing the elements on the surface of the polymer film having a thickness of 0.1 μm or less formed by performing a plasma discharge treatment on the surface of the substrate film in the presence of a reactive gas, the proportion of oxygen, nitrogen, and phosphorus It was found that when the content was larger than that inside the substrate, the adhesion to the polarizer was good. It is presumed that in these polymerized films, the proportion of oxygen, nitrogen and phosphorus was increased as compared with the base film, so that the hydrogen bond with polyvinyl alcohol used for the polarizer was increased. In the present invention, the thickness of the polymer film formed on the surface of the base film by the plasma surface treatment varies depending on the conditions of the plasma treatment. .1 μm or less is preferred in terms of productivity. When the film thickness is large, the processing time is long, and the productivity is inferior. More preferably, it is 0.05 μm.

【0053】又、基材フィルムとは前記のプラズマ放電
処理により形成される重合皮膜からなる層を除いた基材
フィルム表面であればよいが、本発明においては表面よ
り0.1μmの厚み分だけフィルム層を除いた表面の炭
素原子に対する酸素、窒素、リン原子を測定するものと
する。
The substrate film may be any surface of the substrate film excluding the layer composed of the polymer film formed by the above-described plasma discharge treatment. In the present invention, the substrate film has a thickness of 0.1 μm from the surface. Oxygen, nitrogen and phosphorus atoms with respect to carbon atoms on the surface excluding the film layer are measured.

【0054】本発明のプラズマ放電処理により形成され
る重合皮膜表面の前記元素比および基材フィルムすなわ
ち表面より0.1μm以下の膜厚の前記重合皮膜からな
る層を除いた表面の炭素原子に対する酸素、窒素、リン
原子それぞれの割合は下記XPS(X−ray Pho
toelectron Spectroscopy)を
用いて知ることができる。
The element ratio on the surface of the polymer film formed by the plasma discharge treatment of the present invention and the oxygen relative to the carbon atoms on the surface of the substrate film, that is, excluding the layer comprising the polymer film having a thickness of 0.1 μm or less from the surface. , Nitrogen, and phosphorus atoms are in the following XPS (X-ray Pho)
(Spectroscopic Spectroscopy).

【0055】表面の元素はXPS(X−ray Pho
toelectron Spectroscopy)に
より求めることができる。固体試料表面にX線を照射す
るとX線によって励起された原子から光電子が放出さ
れ、この光電子の運動エネルギーをKE、照射するX線
のエネルギーをhν、電子の結合エネルギーをBEとす
ると次の式(3)が成立する。
The element on the surface is XPS (X-ray Pho).
electron spectroscopy). When a solid sample surface is irradiated with X-rays, photoelectrons are emitted from atoms excited by the X-rays. If the kinetic energy of the photoelectrons is KE, the energy of the irradiated X-rays is hν, and the binding energy of the electrons is BE, the following equation is obtained. (3) is established.

【0056】KE=hν−BE (3) 電子の結合エネルギーはそれぞれの元素に固有の値を有
するので光電子スペクトルを観測することによって元素
の同定を行うことが可能となる。
KE = hν-BE (3) Since the electron binding energy has a value specific to each element, it is possible to identify the element by observing the photoelectron spectrum.

【0057】本発明における前記プラズマ放電処理によ
り形成される0.1μm以下の層とは、表面エネルギー
の極性項成分が10.0mN/m以上である層であれば
厚みは問わないし、また、該0.1μm以下の層が表面
を上記XPSにより測定したときに、該表面の炭素原子
に対する酸素、窒素、リン、原子それぞれの割合がフィ
ルム基材内部に比べて前記元素のうちいずれか一つが
1.1以上である層であればよく、厚みは問わないが、
これらの層は後述する、透明基材フィルムを反応性ガス
の存在下プラズマ処理すること或いは反応性ガスプラズ
マを吹き付けることにより重合被膜を透明基材フィルム
上に形成することで製造することができるので、これら
の処理の条件により該膜厚は調整することができる。
In the present invention, the layer having a thickness of 0.1 μm or less formed by the plasma discharge treatment is not limited as long as it has a polar component of surface energy of 10.0 mN / m or more. When the surface of the layer having a thickness of 0.1 μm or less is measured by the XPS, the ratio of each of oxygen, nitrogen, phosphorus, and atoms to carbon atoms on the surface is one of one of the above elements compared to the inside of the film substrate. The thickness is not limited, provided that it is at least 1 layer.
These layers can be manufactured by forming a polymer film on the transparent substrate film by plasma-treating the transparent substrate film in the presence of a reactive gas or spraying a reactive gas plasma, which will be described later. The film thickness can be adjusted by the conditions of these treatments.

【0058】本発明で形成されるこれら重合皮膜の膜厚
は0.1μm以下が生産性の面で好ましい。膜厚が厚く
なると製造に要するプラズマ処理時間が長くなり生産性
が劣ってしまう。さらに好ましくは0.05μmであ
る。
The thickness of the polymer film formed in the present invention is preferably 0.1 μm or less from the viewpoint of productivity. When the film thickness is large, the plasma processing time required for the production is long, and the productivity is inferior. More preferably, it is 0.05 μm.

【0059】また、XPSによる表面の元素比の測定
は、表面からせいぜい10nm以内の範囲なので、本発
明における前記表面とは少なくとも10nm以下の層を
含めた組成比ということになるが、膜厚は0.1μm以
下の層に比べ充分に薄く充分表面ということができる。
The element ratio of the surface measured by XPS is within a range of at most 10 nm from the surface. Therefore, the surface in the present invention is a composition ratio including a layer of at least 10 nm or less. It can be said that the surface is sufficiently thin and sufficient compared to a layer having a thickness of 0.1 μm or less.

【0060】前記0.1μm以下の層表面の炭素に対す
る酸素、窒素、リンの元素比の、基材内部に対する比を
測定するには、表面の前記元素比を測定した後、フィル
ム表面より、0.1μmの膜厚分だけ基材フィルムを取
り除き(溶解、或いは機械的に)新たな表面を露出させ
た後XPSで更に炭素に対する上記酸素、窒素、リンの
元素比を測定する。このようにして測定した表面の炭素
に対する酸素、窒素、リンの元素比をOcl、Ncl、
Pcl、更に表面より0.1μmの厚さを取り除いた基
材内部の表面の炭素に対する酸素、窒素、リンの元素比
をOcs、Ncs、Pcsと表したとき、Ocl/Oc
s、Ncl/Ncs、Pcl/Pcsの値のうちいずれ
か一つが1.1以上であると偏光子との接着性が良好と
なる。好ましくは1.2以上でありさらに好ましくは
1.5以上である。膜の表面の酸素、窒素、リンの比を
上げるには、プラズマ処理において反応性ガス中に酸
素、窒素、リンを含む化合物、酸素を含有する反応性ガ
スの存在下でプラズマ処理することが好ましい。
In order to measure the ratio of the element ratio of oxygen, nitrogen and phosphorus to carbon on the surface of the layer of 0.1 μm or less to the inside of the substrate, the element ratio on the surface is measured, After removing the base film by a thickness of 0.1 μm (dissolving or mechanically) and exposing a new surface, the element ratios of oxygen, nitrogen and phosphorus to carbon are further measured by XPS. The element ratios of oxygen, nitrogen, and phosphorus to carbon on the surface measured in this manner are represented by Ocl, Ncl,
Ocl / Ocs, where Ocl, Ncs, and Pcs represent the elemental ratios of oxygen, nitrogen, and phosphorus to carbon on the surface of the substrate inside the Pcl, and further removing the thickness of 0.1 μm from the surface.
If any one of the values of s, Ncl / Ncs, and Pcl / Pcs is 1.1 or more, the adhesion to the polarizer becomes good. Preferably it is 1.2 or more, more preferably 1.5 or more. In order to increase the ratio of oxygen, nitrogen, and phosphorus on the surface of the film, it is preferable to perform plasma processing in the presence of a compound containing oxygen, nitrogen, and phosphorus in a reactive gas and a reactive gas containing oxygen in the plasma processing. .

【0061】測定表面の炭素に対する酸素、窒素、リン
の元素比の実際の測定は、XPS測定(ESCALAB
−200R)を用い、測定条件としては、Mgアノード
(600W)、エネルギー分解能は清浄な銀板におい
て、Ag3d5/2ピークを測定したとき、その半値幅
が1.80eV±0.2となるように設定した。また取
り出し角度は90度にて、各元素を測定する。本発明に
おいては、炭素のピークの面積強度に対する酸素、窒
素、リン原子の面積強度の比率を炭素に対する元素比と
して表した。
The actual measurement of the element ratio of oxygen, nitrogen, and phosphorus to carbon on the measurement surface is performed by XPS measurement (ESCALAB).
-200R) using a Mg anode (600 W) and a silver plate having a clean energy resolution such that the half width of the Ag3d5 / 2 peak is 1.80 eV ± 0.2 when the peak is measured. Set. Each element is measured at an extraction angle of 90 degrees. In the present invention, the ratio of the area intensity of oxygen, nitrogen, and phosphorus atoms to the area intensity of the carbon peak is represented as the element ratio to carbon.

【0062】本発明で前記プラズマ放電処理により形成
された膜厚が0.1μm以下の層を有し透過率90%以
上の偏光板用保護フィルム上に塗布して接着性をみるた
めのポリビニルアルコールは、一般に市販されているも
のを用いることができ重合度1500以上、ケン化度9
8〜99mol%のものを使用する。ポリビニルアルコ
ール層は、ポリビニルアルコールは水または温水に溶解
後、偏光板用保護フィルムのテスト面上にバーコーター
などで塗布し、80℃で30分乾燥する。形成されたポ
リビニルアルコール層の膜厚は0.5μm±10%に調
整する。このポリビニルアルコール層の密着性の評価
は、JIS K−5400の碁盤目テープ法に準拠し、
規定のカッターナイフ、カッターガイドを用いて1mm
間隔で100個のます目を作成し、規定のセロハン粘着
テープをはりつけ消しゴムでこすって塗膜に付着する。
テープを付着後2分後に塗面に直角方向に瞬間的に引き
剥がす。残っている碁盤目の数が90個以上ならば、偏
光板用保護フィルムは偏光子との密着性がよく、耐久性
も優れていることが判った。
Polyvinyl alcohol for coating on a protective film for a polarizing plate having a thickness of 0.1 μm or less and having a transmittance of 90% or more in the present invention and having a film thickness of 0.1 μm or less in the present invention to check adhesion. Can be used as those generally available on the market. The polymerization degree is 1500 or more, and the saponification degree is 9
Use 8 to 99 mol%. After dissolving the polyvinyl alcohol in water or warm water, the polyvinyl alcohol layer is applied on the test surface of the protective film for a polarizing plate with a bar coater or the like, and dried at 80 ° C. for 30 minutes. The thickness of the formed polyvinyl alcohol layer is adjusted to 0.5 μm ± 10%. The evaluation of the adhesion of the polyvinyl alcohol layer is based on the grid tape method of JIS K-5400,
1mm using the specified cutter knife and cutter guide
One hundred squares are made at intervals, glued with a specified cellophane adhesive tape, and rubbed with an eraser to adhere to the coating.
Two minutes after application of the tape, it is momentarily peeled off in the direction perpendicular to the coated surface. If the number of remaining grids is 90 or more, it was found that the protective film for a polarizing plate had good adhesion to a polarizer and excellent durability.

【0063】本発明の前記膜厚が0.1μm以下の層は
前記透明基材フィルムを反応性ガスのもとでプラズマ放
電処理して作製することができる。
The layer having a thickness of 0.1 μm or less according to the present invention can be produced by subjecting the transparent base film to a plasma discharge treatment under a reactive gas.

【0064】プラズマ放電処理とは、反応性ガス中での
放電によりプラズマ状態を発生させ、このプラズマによ
りフィルム等の表面を処理することである。これらは特
開平06−123062号、特開平11−293011
号、特開平11−5857号公報に記載された方法を用
いることができ、少なくとも2つの対向する電極に電圧
を印加することによって行なうプラズマ放電処理が好ま
しい。
The plasma discharge treatment is to generate a plasma state by a discharge in a reactive gas and treat the surface of a film or the like with the plasma. These are disclosed in JP-A-06-123062 and JP-A-11-293011.
And a method described in JP-A-11-5857 can be used, and a plasma discharge treatment performed by applying a voltage to at least two opposing electrodes is preferable.

【0065】本発明において反応性ガスとして用いられ
る有機化合物としてはプラズマ放電処理により基材上に
重合皮膜を形成する化合物が用いられる。プラズマ放電
処理で重合皮膜を形成する化合物としては、ラジカルを
経由するため気化が可能な有機化合物はすべて重合可能
なモノマーとなりうるが、化学構造や官能基によって重
合の度合いが異なり、またプラズマの処理条件によって
も差がみられるので色々な特性の皮膜を作製することが
できる。本発明では、不飽和結合を有する化合は飽和化
合物よりも重合皮膜の形成速度が速く、しかも膜が強い
(傷がつきにくい)ので好ましく用いられる。
As the organic compound used as the reactive gas in the present invention, a compound which forms a polymer film on a substrate by plasma discharge treatment is used. As a compound that forms a polymerized film by plasma discharge treatment, any organic compound that can vaporize because it passes through a radical can be a polymerizable monomer.However, the degree of polymerization differs depending on the chemical structure and functional groups. Since there is a difference depending on the conditions, films having various characteristics can be produced. In the present invention, a compound having an unsaturated bond is preferably used because the formation rate of a polymer film is faster than that of a saturated compound and the film is strong (not easily damaged).

【0066】本発明において反応性ガスとして用いられ
る有機化合物としては不飽和結合を有する化合物であれ
ば、プラズマ放電処理の条件を選択することで使用可能
であるが、これらのうち特に好ましい化合物は、特に水
酸基、カルボニル基、カルボキシル基、エポキシ基から
選ばれる置換基を有する化合物である。
As the organic compound used as the reactive gas in the present invention, any compound having an unsaturated bond can be used by selecting the conditions of the plasma discharge treatment. Particularly, it is a compound having a substituent selected from a hydroxyl group, a carbonyl group, a carboxyl group, and an epoxy group.

【0067】本発明において反応性ガスとして好ましく
用いられる不飽和結合を有する有機化合物は、前記の一
般式で表される化合物であり、本発明の目的において
は、これらのうちでも特に水酸基、カルボニル基、カル
ボキシル基、エポキシ基から選ばれる置換基を有する化
合物が好ましい。
The organic compound having an unsaturated bond, which is preferably used as a reactive gas in the present invention, is a compound represented by the above general formula. For the purpose of the present invention, among these, a hydroxyl group and a carbonyl group are particularly preferable. And a compound having a substituent selected from a carboxyl group and an epoxy group.

【0068】前記一般式Iにおいて、R1、R2は水素、
置換基を有していてもよいアルキル基を表す。具体的な
化合物の例としては、末端にアセチレン(エチニル)基
を持つ化合物としてはアセチレン、プロピン、ブチン−
1、ヘキシン−1、オクテン−1、分子内にエチニレン
基(−C≡C−)を有する化合物の例としては、ブチン
−2、ヘキシン−2、ヘキシン−3及びオクチン−4を
挙げることができる。
In the above general formula I, R 1 and R 2 represent hydrogen,
Represents an alkyl group which may have a substituent. Specific examples of the compound include compounds having an acetylene (ethynyl) group at the terminal, such as acetylene, propyne, and butyne-.
1, Hexin-1, octene-1, and compounds having an ethynylene group (—C≡C—) in the molecule include butyne-2, hexyne-2, hexyne-3, and octin-4. .

【0069】芳香族基を有する化合物の例としては、フ
ェニルアセチレン、3−フェニルプロピン及び4−フェ
ニルブチン−1を挙げることができる。
Examples of the compound having an aromatic group include phenylacetylene, 3-phenylpropyne and 4-phenylbutyne-1.

【0070】一般式Iで表される化合物がO,N,F,
Cl,Br,Si,Sから選ばれる原子を含んでいる場
合の例としては、含酸素アセチレン系化合物、例えば3
−メチル−1−ブチン−3−オール及び3−フェニル−
1−ブチン−3−オール;含ケイ素アセチレン系化合
物、例えば1−ブチン−3−オールのO−トリメチルシ
リル化物(HC≡C−CH(CH3)−O−Si(C
33)及び3−フェニル−1−プロピン−3−オール
のO−トリメチルシリル化物(HC≡C−CH(C
65)−O−Si(CH33)などを挙げることができ
る。
The compound represented by the general formula I is represented by O, N, F,
Field containing an atom selected from Cl, Br, Si, S
Examples of the case include an oxygen-containing acetylene compound such as 3
-Methyl-1-butyn-3-ol and 3-phenyl-
1-butyn-3-ol; silicon-containing acetylene-based compound
, For example, the 1-butyn-3-ol O-trimethyl
Lylated product (HC≡C-CH (CHThree) -O-Si (C
HThree)Three) And 3-phenyl-1-propyn-3-ol
O-trimethylsilyl compound (HC≡C-CH (C
6HFive) -O-Si (CHThree)Three) Etc.
You.

【0071】不飽和結合を有する化合物としてはエチレ
ン性不飽和化合物を含むが、例えば、エチレン、プロピ
レン、ブタジエン、イソプレン、1,4−ジオキセン、
1,4−ジオキシンが好ましく、特に前記一般式IIで表
される化合物が好ましい。
The compound having an unsaturated bond includes an ethylenically unsaturated compound. Examples of the compound include ethylene, propylene, butadiene, isoprene, 1,4-dioxene,
1,4-dioxin is preferable, and particularly, the compound represented by the general formula II is preferable.

【0072】前記一般式IIにおいて、R1〜R6は水素、
置換基を有していてもよいアルキル基を表し、nは0〜
4迄の整数を表す。
In the general formula II, R 1 to R 6 represent hydrogen,
Represents an alkyl group which may have a substituent;
Represents an integer up to 4.

【0073】又、置換基を有するエチレン性化合物とし
てはまた、前記一般式IIIで表される化合物が好まし
い。前記一般式IIIにおいて、R1〜R3は水素、置換基
を有していてもよいアルキル基を表す。Xは−CH2
または−CH(Y)−を表す。Yはヒドロキシル基、エ
ポキシ基、複素環基、脂環式炭化水素基、アルキル基を
表す。nは0〜4の整数を表す。
Further, as the ethylenic compound having a substituent, a compound represented by the above general formula III is also preferable. In the general formula III, R 1 to R 3 represent hydrogen or an alkyl group which may have a substituent. X is -CH 2 -
Or -CH (Y)-. Y represents a hydroxyl group, an epoxy group, a heterocyclic group, an alicyclic hydrocarbon group, or an alkyl group. n represents the integer of 0-4.

【0074】複素環式エチレン性不飽和化合物の例とし
てはモルホリン(メタ)アクリレート、テトラヒドロフ
ルフリル(メタ)アクリレートなどの複素環式(メタ)
アクリレートなど、アルコキシ(ポリ)アルキレングリ
コール(メタ)アクリレート[例えば、メトキシエチレ
ングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチ
レングリコール(メタ)アクリレート、ブトキシポリエ
チレングリコール(メタ)アクリレートなど]、アルキ
ルフェノキシエチル(メタ)アクリレート[例えば、ノ
ニルフェノキシエチル(メタ)アクリレートなど]、フ
ェノキシ(ポリ)アルキレングリコール(メタ)アクリ
レート[例えば、フェノキシエチル(メタ)アクリレー
ト、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリ
レートなど]、アルキル(メタ)アクリレート[例え
ば、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル
(メタ)アクリレートなど]、シクロアルキル(メタ)
アクリレート[例えば、シクロヘキシル(メタ)アクリ
レートなど]、アラルキル(メタ)アクリレート[例え
ば、ベンジル(メタ)アクリレートなど]、脂環式炭化
水素基を有するジ(メタ)アクリレート[例えば、イソ
ボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエン
(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)ア
クリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレー
ト、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレ
ート、トリシクロデカニルオキシエチル(メタ)アクリ
レート、イソボルニルオキシエチル(メタ)アクリレー
トなど]、ヒドロキシル基含有(メタ)アクリレート
[例えば、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3
−クロロ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレー
ト、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)
アクリレート、2−(メタ)アクリロキシエチル−2−
ヒドロキシエチルフタル酸、3−アクリロキシグリセリ
ン(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メ
タ)アクリレート、2−ヒドロキシ−1−(メタ)アク
リロキシ−3−(メタ)アクリロキシプロパン、ポリプ
ロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリセ
ロールモノ(メタ)クリレート、N,N,N−トリメチ
ルN−(2−ヒドロキシ−3−メタクリロイルオキシプ
ロピル)アンモニウムクロライドなど]、エポキシ基含
有(メタ)アクリレート[例えば、グリシジル(メタ)
アクリレート]、ハロゲン含有(メタ)アクリレート
[例えば、トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、
2,2,3,3−テトラフルオロプロピル(メタ)アク
リレート、2,2,3,4,4,4−ヘキサフルオロブ
チル(メタ)アクリレート、パーフルオロオクチルエチ
ル(メタ)アクリレートなど]などが含まれる。Yはヒ
ドロキシル基、エポキシ基が特に接着性の面で特に好ま
しい。
Examples of the heterocyclic ethylenically unsaturated compound include heterocyclic (meth) acrylates such as morpholine (meth) acrylate and tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate.
Alkoxy (poly) alkylene glycol (meth) acrylates such as acrylates [eg, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, butoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, etc.], alkylphenoxyethyl (meth) acrylate [ For example, nonylphenoxyethyl (meth) acrylate or the like], phenoxy (poly) alkylene glycol (meth) acrylate [for example, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate or the like], alkyl (meth) acrylate [for example. Butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, etc.], cycloalkyl (meth)
Acrylates [eg, cyclohexyl (meth) acrylate], aralkyl (meth) acrylates [eg, benzyl (meth) acrylate], di (meth) acrylates having an alicyclic hydrocarbon group [eg, isobornyl (meth) acrylate, Dicyclopentadiene (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, tricyclodecanyloxyethyl (meth) acrylate, isobornyloxy Ethyl (meth) acrylate, etc.), hydroxyl group-containing (meth) acrylate [for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3
-Chloro-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl (meth)
Acrylate, 2- (meth) acryloxyethyl-2-
Hydroxyethylphthalic acid, 3-acryloxyglycerin (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-1- (meth) acryloxy-3- (meth) acryloxypropane, polypropylene glycol mono (meth) Acrylate, glycerol mono (meth) acrylate, N, N, N-trimethyl N- (2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl) ammonium chloride, etc., epoxy group-containing (meth) acrylate [for example, glycidyl (meth)
Acrylate], halogen-containing (meth) acrylate [for example, trifluoroethyl (meth) acrylate,
2,2,3,3-tetrafluoropropyl (meth) acrylate, 2,2,3,4,4,4-hexafluorobutyl (meth) acrylate, perfluorooctylethyl (meth) acrylate, etc.] . Y is particularly preferably a hydroxyl group or an epoxy group from the viewpoint of adhesiveness.

【0075】前記一般式IVで表される2官能性以上の化
合物も好ましく用いることができる。
Compounds having two or more functional groups represented by the above general formula IV can also be preferably used.

【0076】一般式IVにおいて、R1〜R3は水素、置換
基を有してもよいアルキル基を表し、Raは水素、ヒド
ロキシル基を表し、nは1から3の整数を表す。具体的
な化合物として2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロ
ピル−2,2−ジメチル−3−ヒドロキシプロピオネー
トのジ(メタ)アクリレート、(ポリオキシ)アルキレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート[例えば、エチレ
ングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリ
コールジ(メタ)アクリレート、トリエチレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコール
ジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ
(メタ)アクリレート、プロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メ
タ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)
アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)ア
クリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリ
レート、ペンタンジオールジ(メタ)アクリレートな
ど]、グリセリンジ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールプロパンジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリ
トールジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールAのア
ルキレンオキサイド(エチレンオキシド、プロピレンオ
キシド、ブチレンオキシドなど)付加物のジ(メタ)ア
クリレート[例えば、2,2−ビス(2−ヒドロキシエ
トキシフェニル)プロパンのジ(メタ)アクリレートな
ど]、架橋脂環式炭化水素基を有するジ(メタ)アクリ
レート[例えば、トリシクロデカンジメタノールジ(メ
タ)アクリレート、ジシクロペンタジエンジ(メタ)ア
クリレートなど]、2官能エポキシ樹脂の(メタ)アク
リル酸付加物[例えば、2,2−ビス(グリシジルオキ
シフェニル)プロパンの(メタ)アクリル酸付加物な
ど]などが含まれる。n=3の化合物としては、例え
ば、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)
アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アク
リレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリ
レート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリ
レート、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレ
ートのトリ(メタ)アクリレート、トリス(ヒドロキシ
プロピル)イソシアヌレートのトリ(メタ)アクリレー
ト、トリアリルトリメリット酸、トリアリルイソシアヌ
レートなど例示できる。これらエチレン性不飽和化合物
は、単独でまたは二種以上組み合わせて使用できる。
In the general formula IV, R 1 to R 3 represent hydrogen or an alkyl group which may have a substituent, Ra represents hydrogen or a hydroxyl group, and n represents an integer of 1 to 3. As specific compounds, di (meth) acrylate of 2,2-dimethyl-3-hydroxypropyl-2,2-dimethyl-3-hydroxypropionate, (polyoxy) alkylene glycol di (meth) acrylate [eg, ethylene glycol Di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol di (Meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth)
Acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentanediol di (meth) acrylate, etc.], glycerin di (meth) acrylate, trimethylolpropane di (meth) acrylate, penta Erythritol di (meth) acrylate, di (meth) acrylate of an alkylene oxide (ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, etc.) adduct of bisphenol A [for example, di (meth) acrylate of 2,2-bis (2-hydroxyethoxyphenyl) propane Acrylate), a di (meth) acrylate having a crosslinked alicyclic hydrocarbon group [eg, tricyclodecane dimethanol di (meth) acrylate, dicyclopentadiene di (meth) acrylate, etc.], Functional epoxy resin (meth) acrylic acid adduct [e.g., 2,2-bis (glycidyloxyphenyl) propane (meth) acrylic acid adduct], and the like. Examples of the compound with n = 3 include trimethylolpropane tri (meth) acrylate and trimethylolpropane trioxyethyl (meth)
Acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tri (meth) acrylate, tris (hydroxypropyl) isocyanurate Of tri (meth) acrylate, triallyl trimellitic acid, triallyl isocyanurate, and the like. These ethylenically unsaturated compounds can be used alone or in combination of two or more.

【0077】これらエチレン性不飽和化合物のなかで
も、酸素原子を有する置換基、たとえば水酸基、カルボ
キシル基およびエポキシ基等を含む化合物雰囲気中でプ
ラズマ放電処理して形成した重合皮膜は偏光子との接着
性が良好であり、また放電処理のエネルギーが小さくで
も重合被膜が形成できる点で好ましく、そのため処理時
間を短くできるので生産性を上げることが可能となる。
また水酸基、カルボキシル基およびエポキシ基等の親水
性基を含む不飽和化合物で形成した重合被膜は偏光子と
接着した時に気泡が入り難く均一な接着面が得られたこ
とは予想外であった。推測であるが表面エネルギーと膜
の柔軟性によるものと考えている。これらの特に好まし
い化合物の例として、アクリル酸、メタクリル酸、グリ
シジル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル
(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレートがあげられる。
Among these ethylenically unsaturated compounds, a polymer film formed by plasma discharge treatment in a compound atmosphere containing a substituent having an oxygen atom, for example, a hydroxyl group, a carboxyl group, an epoxy group, etc., has an adhesion to a polarizer. This is preferable in that the polymer film can be formed even when the discharge treatment energy is small, and the treatment time can be shortened, so that the productivity can be increased.
Also, it was unexpected that a polymer coating formed of an unsaturated compound containing a hydrophilic group such as a hydroxyl group, a carboxyl group, or an epoxy group, when bonded to a polarizer, was less likely to contain air bubbles and provided a uniform bonded surface. It is presumed that it depends on the surface energy and the flexibility of the film. Examples of these particularly preferred compounds include acrylic acid, methacrylic acid, glycidyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, and 2-hydroxypropyl (meth) acrylate.

【0078】本発明で好ましく用いられるもう一つの化
合物例として窒素を含有する有機化合物が挙げられる。
窒素を含有する化合物としては、アミノ基、アミド基、
イミノ基、シアノ基などの置換基やピリジン環、ピリミ
ジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、ピラジン環、
トリアゾール環などの含窒素芳香環を含有する化合物が
好ましく、特に前記一般式Vで表される化合物が好まし
い。
Another example of a compound preferably used in the present invention is an organic compound containing nitrogen.
Compounds containing nitrogen include amino groups, amide groups,
Imino group, substituent such as cyano group, pyridine ring, pyrimidine ring, pyrazole ring, imidazole ring, pyrazine ring,
A compound containing a nitrogen-containing aromatic ring such as a triazole ring is preferable, and a compound represented by the above general formula V is particularly preferable.

【0079】式中、RbはHまたは1価の種々の置換基
を表し、またRbは隣接する炭素原子Cと結合し、窒素
原子Nと該炭素原子Cとが2重結合を形成するための2
価の単なる結合手となってもよい。Zは複素環を完成す
るのに必要な原子群であり置換基が結合していてもよ
い。
In the formula, Rb represents H or various monovalent substituents, and Rb is bonded to an adjacent carbon atom C so that the nitrogen atom N and the carbon atom C form a double bond. 2
It may be a simple bond of valence. Z is a group of atoms necessary to complete a heterocyclic ring, and may have a substituent bonded thereto.

【0080】窒素を含有する有機化合物の例としてはト
リシクロヘキシルアミン、トリベンジルアミン、オクタ
デシルベンジルアミン、ステアリルアミン、アリル尿
素、チオ尿素、メチルチオ尿素、アリルチオ尿素、エチ
レンチオ尿素、2−ベンジルイミダゾール、4−フェニ
ルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾー
ル、2−ウンデシルイミダゾリン、2,4,5−トリフ
リル−2−イミダゾリン、1,2−ジフェニル−4,4
−ジメチル−2−イミダゾリン、2−フェニル−2−イ
ミダゾリン、1,2,3−トリフェニルグアニジン、
1,2−ジシクロヘキシルグアニジン、1,2,3−ト
リシクロヘキシルグアニジン、N,N’−ジベンジルピ
ペラジン、4,4’−ジチオモルホリン、2−アミノベ
ンゾチアゾール、2−ベンゾイルヒドラジノベンゾチア
ゾール、N−ビニルピロリドン、N−ビニルピリジン、
N−ビニルカプロラクタムなどのN−ビニル複素環化合
物、N−ビニルアセトアミド、N−ビニルフォルムアミ
ド、ジアルキルアミノエチル(メタ)アクリレートやジ
メチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルア
ミノエチル(メタ)アクリレート、N,N′−ジメチル
アクリルアミド、などがある。これらは、2種以上併用
することができる。これらのなかで不飽和結合を有する
含窒素化合物を用いた場合にプラズマ放電処理のエネル
ギーが少なく重合皮膜の形成が可能であり、偏光子との
接着性、さらに偏光子との接着において気泡が入りづら
い点で特に好ましい。
Examples of nitrogen-containing organic compounds include tricyclohexylamine, tribenzylamine, octadecylbenzylamine, stearylamine, allylurea, thiourea, methylthiourea, allylthiourea, ethylenethiourea, 2-benzylimidazole, 4-benzylimidazole, Phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 2-undecylimidazoline, 2,4,5-trifuryl-2-imidazoline, 1,2-diphenyl-4,4
-Dimethyl-2-imidazoline, 2-phenyl-2-imidazoline, 1,2,3-triphenylguanidine,
1,2-dicyclohexylguanidine, 1,2,3-tricyclohexylguanidine, N, N'-dibenzylpiperazine, 4,4'-dithiomorpholine, 2-aminobenzothiazole, 2-benzoylhydrazinobenzothiazole, N- Vinylpyrrolidone, N-vinylpyridine,
N-vinyl heterocyclic compounds such as N-vinylcaprolactam, N-vinylacetamide, N-vinylformamide, dialkylaminoethyl (meth) acrylate, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N '-Dimethylacrylamide, and the like. These can be used in combination of two or more. Among these, when a nitrogen-containing compound having an unsaturated bond is used, the energy of the plasma discharge treatment is low and a polymer film can be formed, and bubbles are generated in the adhesiveness to the polarizer and in the adhesiveness to the polarizer. It is particularly preferable in terms of difficulty.

【0081】又、更に本発明においては、揮発性を有す
るリンを含有する化合物(例えばビニルホスホン酸等)
の化合物も好ましく用いられる。
Further, in the present invention, a compound containing a volatile phosphorus (for example, vinylphosphonic acid, etc.)
The compound of the formula (1) is also preferably used.

【0082】本発明においては反応性ガス中でのプラズ
マ放電処理により重合皮膜を透明基材フィルム上に形成
する時には反応性ガスが酸素原子を含むガスを含有する
ことが好ましい。酸素原子は、プラズマ放電処理中に形
成される重合皮膜に取り込まれ、水酸基、カルボニル基
として膜の内部および表面に取り込まれる。この為にポ
リビニルアルコールと水素結合が増加し接着性および接
着耐久性が向上するので好ましい。酸素原子を含むガス
とは酸素、オゾン、一酸化炭素、二酸化炭素であり、酸
素、オゾン、二酸化炭素が好ましく、安全性の面で二酸
化炭素が特に好ましい。また、酸素原子を含むガスと不
飽和結合を有する化合物を同時に含有する反応性ガスを
用いプラズマ放電処理すると不飽和結合を含有する化合
物の重合皮膜を形成後に酸素含有ガスでプラズマ放電処
理するよりも多くの重合皮膜上または内部に酸素原子を
含有する置換基を付与することができる。したがって同
時に処理することで接着性の向上とプロセスの簡略化が
可能となる。この酸素原子を含むガスと同時に用いられ
る不飽和化合物の好ましい例としては、ブタジエン、イ
ソプレン等が特に重合皮膜の生成速度の点で好ましい。
In the present invention, when a polymer film is formed on a transparent substrate film by plasma discharge treatment in a reactive gas, the reactive gas preferably contains a gas containing an oxygen atom. Oxygen atoms are incorporated into the polymer film formed during the plasma discharge treatment, and are incorporated into the inside and the surface of the film as hydroxyl groups and carbonyl groups. For this reason, hydrogen bonds with polyvinyl alcohol are increased, and the adhesiveness and the adhesive durability are improved, which is preferable. The gas containing an oxygen atom is oxygen, ozone, carbon monoxide, or carbon dioxide, preferably oxygen, ozone, or carbon dioxide, and particularly preferably carbon dioxide from the viewpoint of safety. Further, when plasma discharge treatment is performed using a reactive gas containing a gas containing an oxygen atom and a compound having an unsaturated bond at the same time, a plasma discharge treatment is performed using an oxygen-containing gas after forming a polymerized film of a compound containing an unsaturated bond. A substituent containing an oxygen atom can be provided on or in many polymerized films. Therefore, by performing the treatment at the same time, it is possible to improve the adhesiveness and to simplify the process. As a preferable example of the unsaturated compound used simultaneously with the gas containing an oxygen atom, butadiene, isoprene and the like are particularly preferable in view of the rate of forming a polymer film.

【0083】本発明の不飽和化合物および含窒素化合物
のプラズマ放電処理雰囲気中へ反応性ガスとして供給す
る方法としては、加熱して気化させて導入する方法、溶
媒に溶解させたものを加熱または減圧等により気化させ
導入する方法が用いられる。
The unsaturated compound and the nitrogen-containing compound of the present invention may be supplied as a reactive gas into a plasma discharge treatment atmosphere by heating and vaporizing the gas, or by heating or decompressing the material dissolved in a solvent. For example, a method of vaporizing and introducing by vaporization is used.

【0084】本発明で形成される重合皮膜の膜厚は0.
1μm以下が生産性の面で好ましい。膜厚が厚くなると
処理する時間が長くなり生産性が劣ってしまう。さらに
好ましくは0.05μmである。偏光子との接着性や接
着耐久性については更に薄くても性能に差はでず、むし
ろ薄いほうが接着の作業性や気泡が入りにくく、折り曲
げた時にクラックが入りづらいので好ましい。さらに好
ましい膜厚は0.01μm以下であり、膜が薄いほど透
明性が高くなるので光学用フィルムとして好ましい。本
発明では可視光における透過率は90%以上である。
The thickness of the polymer film formed in the present invention is 0.1.
1 μm or less is preferable in terms of productivity. When the film thickness is large, the processing time is long, and the productivity is inferior. More preferably, it is 0.05 μm. Regarding the adhesion to the polarizer and the adhesion durability, there is no difference in performance even if the film is thinner. Rather, the thinner film is preferable because it is less likely to cause adhesion workability and bubbles and hardly cracks when bent. The film thickness is more preferably 0.01 μm or less, and the thinner the film, the higher the transparency. In the present invention, the transmittance for visible light is 90% or more.

【0085】プラズマ放電とは、放電によりプラズマ状
態を発生させることである。少なくとも2つの対向する
電極に電圧を印加することによって行なうプラズマ放電
処理が好ましい。本発明に係るプラズマ放電処理系と
は、反応性ガス存在下プラズマ放電を行なう処理空間の
ことであり、具体的には壁等で仕切りを設けて隔離した
処理室のことである。前記処理室の気圧を真空に近い
0.007hPa〜27hPaで行なう真空プラズマ放
電処理の場合には、反応性ガスの導入を調整する必要が
ある。処理速度を増加させるためには、電極に印加する
電圧を高くする必要があるが、電界強度を上げすぎると
被処理体(例えば、基材フィルム等)にダメージを与え
る場合があるので注意が必要である。
The term “plasma discharge” refers to the generation of a plasma state by discharge. A plasma discharge treatment performed by applying a voltage to at least two opposing electrodes is preferred. The plasma discharge processing system according to the present invention is a processing space in which a plasma discharge is performed in the presence of a reactive gas, and specifically, a processing chamber separated by providing a partition with walls or the like. In the case of a vacuum plasma discharge treatment performed at a pressure of 0.007 hPa to 27 hPa close to a vacuum in the processing chamber, it is necessary to adjust the introduction of the reactive gas. In order to increase the processing speed, it is necessary to increase the voltage applied to the electrodes, but care must be taken because if the electric field intensity is too high, the object to be processed (eg, a base film) may be damaged. It is.

【0086】また、好ましいの様態として、前記処理室
の気圧を大気圧もしくは大気圧近傍で行なう大気圧プラ
ズマ処理が生産性を上げる点で好ましい。処理室に導入
する気体として、前記反応性ガス以外に不活性ガスを導
入することが、安定な放電を発生させる上で好ましい。
大気圧もしくは大気圧近傍とは、133〜1064hP
aの圧力下のことであり、好ましくは931〜1037
hPaの範囲である。不活性ガスはプラズマ放電により
自身は反応しない気体のことであり、アルゴンガス、ヘ
リウムガス、キセノンガス、クリプトンガスがある。こ
の中で好ましいガスはアルゴンガスとヘリウムガスであ
る。大気圧プラズマ処理時に処理室に導入する不活性ガ
スは60圧力%以上と反応性ガスよりも割合を多くする
と放電を安定に発生させることができて好ましい。印加
する電圧高くすると処理速度を上げることができるが、
電界強度を上げすぎると被処理体にダメージを与えるこ
とになるので注意が必要である。
As a preferred embodiment, an atmospheric pressure plasma treatment in which the pressure in the processing chamber is at or near atmospheric pressure is preferable in terms of increasing productivity. As a gas introduced into the processing chamber, it is preferable to introduce an inert gas other than the reactive gas in order to generate a stable discharge.
Atmospheric pressure or near atmospheric pressure means 133 to 1064 hP
a, preferably 931 to 1037
hPa. The inert gas is a gas that does not react by plasma discharge itself, and includes an argon gas, a helium gas, a xenon gas, and a krypton gas. Among them, preferred gases are argon gas and helium gas. It is preferable that the ratio of the inert gas introduced into the processing chamber during the atmospheric pressure plasma treatment is 60% by pressure or more, which is larger than the reactive gas, because the discharge can be stably generated. The processing speed can be increased by increasing the applied voltage,
Care must be taken because an excessively high electric field strength may damage the object.

【0087】しかし、前記大気圧プラズマ処理であって
も、パルス化された電界でプラズマを発生させる場合に
は、不活性ガスは必ずしも必要でなく、処理系における
反応性ガスの濃度を上げることが可能となり、生産効率
を上げることができる。この時のパルス波形は例えば、
特開平10−130851号の図1(a)〜(d)のよ
うなパルス波形が用いられる。
However, even in the case of the above-mentioned atmospheric pressure plasma processing, in the case where plasma is generated by a pulsed electric field, an inert gas is not always necessary, and the concentration of a reactive gas in the processing system may be increased. It becomes possible and production efficiency can be increased. The pulse waveform at this time is, for example,
A pulse waveform as shown in FIGS. 1 (a) to 1 (d) of JP-A-10-130851 is used.

【0088】パルス状の電圧の印加により電極間に作ら
れるパルス電界の立ち上がりまたは立ち下がり時間が、
共に40ns〜100μsの範囲で、且つ、そのパルス
電界の強さが1〜100kV/cmの範囲であることが
好ましい。
The rise or fall time of the pulse electric field created between the electrodes by application of the pulse voltage is
It is preferable that both ranges from 40 ns to 100 μs and the intensity of the pulse electric field ranges from 1 to 100 kV / cm.

【0089】また、パルス電界の周波数が1kHz〜1
00kHzであり、且つ、その一つのパルス電界の形成
時間が1μs〜1000μsであることが好ましい。
The frequency of the pulse electric field is 1 kHz to 1
It is preferable that the frequency is 00 kHz and the time for forming one pulse electric field is 1 μs to 1000 μs.

【0090】また、大気圧プラズマ処理に用いる少なく
とも2つの対向する電極は、固体誘電体をその対向面側
に設けることが好ましい。固体誘電体としては、焼結セ
ラミックスを用いることが好ましく、その体積固有抵抗
値は108Ω・cm以上が好ましい。
It is preferable that at least two opposing electrodes used in the atmospheric pressure plasma treatment have a solid dielectric on the opposing surface side. It is preferable to use sintered ceramics as the solid dielectric, and it is preferable that the volume specific resistance value is 10 8 Ω · cm or more.

【0091】更に、大気圧近傍にてプラズマ放電処理を
行う場合、少なくとも2つの対向する電極にはそれぞれ
同時に異極の電圧を印加することによりパルス電界を発
生させることが好ましい。
Further, when performing the plasma discharge treatment near the atmospheric pressure, it is preferable to generate a pulsed electric field by simultaneously applying different polar voltages to at least two opposing electrodes.

【0092】本発明において被処理体は、上述の処理室
内の少なくとも2つの対向する電極間に載置することに
より高率的に帯電防止性を被処理体(基材フィルム)に
付与することができる。長尺のフィルム状基材を連続搬
送しながら行なう場合には、対向する電極をライン上に
長さを持って配置し、その間隙を移送するように配置す
ることが好ましい。
In the present invention, the object to be processed (base film) can be efficiently provided with an antistatic property by being placed between at least two opposing electrodes in the processing chamber. it can. In the case where a long film-shaped substrate is continuously transported, it is preferable to dispose the facing electrodes with a length on a line and to transport the gap therebetween.

【0093】図1に長尺の被処理体(フィルム状基材)
に連続大気圧プラズマ放電処理を行う装置の一形態を概
略図で示す。
FIG. 1 shows a long object to be processed (film-like substrate).
FIG. 1 schematically shows an embodiment of an apparatus for performing a continuous atmospheric pressure plasma discharge process.

【0094】装置は前室10、および処理ガス(反応性
ガス)を連続的に導入できる導入口8および排出口9、
電極群3、4が設けられた反応室2、さらに前室と同様
の後室(図では省略されている)からなり、反応室の電
極群の間を被処理体(長尺フィルム基材)1が搬送され
てゆく際に、前記電極間で発生したプラズマ放電処理を
連続的に受けられるものである。
The apparatus has a front chamber 10, an inlet 8 and an outlet 9, which can continuously introduce a processing gas (reactive gas).
It comprises a reaction chamber 2 provided with electrode groups 3 and 4 and a rear chamber (not shown) similar to the front chamber, and a processing object (a long film base material) is provided between the electrode groups in the reaction chamber. 1 can be continuously subjected to a plasma discharge process generated between the electrodes when the wafer 1 is transported.

【0095】本発明においてさらに好ましいプラズマ放
電処理方法として、大気圧下でグロー放電により生成し
たプラズマを含む励起活性種を処理基材に吹き付ける方
法が特に好ましい。この方法においても反応性ガスとし
て前述のものを用いることが出来るが、この方法におい
ては基材フィルムに処理する場合には片面ずつ処理が可
能であり、反応性ガス又はガス条件を変えるだけで機能
の異なる層を付与することが可能となる。例えば片面が
接着層、別の面が帯電防止層という構成や親水性層/撥
水性層(防汚層)、防汚層/接着層、低反射層/帯電防
止層といった構成などが挙げられる。別の効果として、
電極に挟まれた大気圧グロー放電では、放電空間に被処
理物があるため被処理物がダメージを受けやすかったの
に対し、プラズマを被処理体に吹き付ける方法では基材
がダメージを受けにくいメリットがある。特にセルロー
スアセテートは電極に挟まれた大気圧グロー放電処理で
はプラズマ放電雰囲気の電子線によりセルロースアセテ
ートが脆くなる問題があったが、プラズマを被処理体に
吹き付ける方法ではセルロースアセテートへのダメージ
を著しく少なく表面処理を行うことが出来、本発明の重
合皮膜が効率よく形成できることがわかった。さらに別
の効果として重合皮膜を作製する場合にガスの流量で製
膜速度をコントロールできるため生産性を落とさずに光
学用フィルムを製造することができる。また片面処理が
可能であるために基材の片方ずつに上記のように別の機
能を有する光学用フィルムを製造することができる。
In the present invention, as a more preferable plasma discharge treatment method, a method in which excited active species including plasma generated by glow discharge under atmospheric pressure is sprayed on a substrate to be treated is particularly preferable. In this method, the above-described reactive gas can be used. However, in this method, when processing is performed on a base film, the processing can be performed on one side at a time, and only by changing the reactive gas or gas conditions, the function can be achieved. Can be provided. For example, a configuration in which one side is an adhesive layer and another side is an antistatic layer, a configuration such as a hydrophilic layer / water repellent layer (antifouling layer), an antifouling layer / adhesive layer, and a low reflection layer / antistatic layer are exemplified. As another effect,
In an atmospheric pressure glow discharge sandwiched between electrodes, the object to be processed is easily damaged due to the presence of the object in the discharge space. On the other hand, the method in which the plasma is sprayed on the object does not easily damage the substrate. There is. In particular, cellulose acetate had a problem that the cellulose acetate became brittle due to the electron beam in the plasma discharge atmosphere in the atmospheric pressure glow discharge treatment sandwiched between the electrodes, but the method in which the plasma was sprayed on the workpiece significantly reduced the damage to the cellulose acetate. It was found that the surface treatment could be performed and the polymer film of the present invention could be formed efficiently. As another effect, when a polymer film is formed, the film forming speed can be controlled by the gas flow rate, so that an optical film can be manufactured without reducing productivity. Further, since single-sided processing is possible, an optical film having another function as described above can be manufactured on each side of the substrate.

【0096】従って、上記説明の2つの対向する電極に
電圧を印加し、該対向する電極間に基材フィルムを通し
基材フィルムに表面処理を施す代わりにこの様な大気圧
下でプラズマを含む励起活性種を処理基材に吹き付ける
ことにより基材フィルムを処理する方法も有用である。
Therefore, instead of applying a voltage to the two opposing electrodes described above and passing a base film between the opposing electrodes and subjecting the base film to a surface treatment, plasma is contained under such atmospheric pressure. A method of treating a substrate film by spraying an excited active species onto a treated substrate is also useful.

【0097】大気圧下でプラズマを含む励起活性種を被
処理体(フィルム基材)に吹き付けることにより処理す
る表面処理装置の一例を示す概略図を図2に示す。外側
に外部電極12、内側に内部電極13(電極は冷却用の
冷却水導入口13aおよび排出口13bを有する)を備
えた筒状の反応管11の電極間に電源14により交流を
印加し、反応管11の内部にグロー放電を発生させるこ
とで、導入口16から導入された処理ガスをプラズマを
含む励起活性種とし下部の吹きつけ口17から被処理物
に吹き付けるものである。
FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of a surface treatment apparatus for treating an object to be processed (film substrate) by spraying excited species including plasma under atmospheric pressure. An alternating current is applied by a power supply 14 between the electrodes of a tubular reaction tube 11 having an outer electrode 12 on the outside and an inner electrode 13 on the inside (the electrode has a cooling water inlet 13a and an outlet 13b for cooling), By generating a glow discharge inside the reaction tube 11, the processing gas introduced from the inlet 16 is made into an excited active species including plasma, and is blown from the lower blowing port 17 to the workpiece.

【0098】プラズマを含む励起活性種を処理基材に吹
き付ける本発明の方法において、基材フィルムの、例え
ば一方の面に帯電防止性能を付与した光学フィルムを作
製する際、帯電防止性の度合いについて、処理系のガス
条件(ガス種、ガス濃度、ガス封入条件、圧力等)、電
界強度、放電条件等を変化させることにより、便宜コン
トロールすることができる。このように調整して形成さ
れた光学用フィルムのインピーダンスとしては、周波数
20Hzにおけるインピーダンスの絶対値が4×105
Ω以上であることが好ましい。さらに光学用フィルムの
表面比抵抗が1×1012Ω/cm2以下が好ましい。イ
ンピーダンス測定法については後述する方法を用いる。
In the method of the present invention in which excited active species including plasma are sprayed on the treated substrate, the degree of the antistatic property of the substrate film, for example, when an optical film having an antistatic property on one surface is produced. By changing the gas conditions of the processing system (gas type, gas concentration, gas sealing conditions, pressure, etc.), electric field strength, discharge conditions, and the like, the control can be conveniently performed. The absolute value of the impedance at a frequency of 20 Hz is 4 × 10 5
It is preferably Ω or more. Further, the surface specific resistance of the optical film is preferably 1 × 10 12 Ω / cm 2 or less. The method described later is used for the impedance measurement method.

【0099】表面比抵抗については以下に示す方法によ
り測定を行った。測定する試料を23℃、55%RHの
条件にて24時間調湿し、川口電機株式会社製テラオー
ムメーターモデルVE−30を用いて測定した。測定に
用いた電極は、2本の電極(試料と接触する部分が1c
m×5cm)を間隔を1cmで平行に配置し、該電極に
試料を接触させて測定し、測定値を5倍にした値を表面
比抵抗値Ω/cm2とした。
The surface resistivity was measured by the following method. The sample to be measured was conditioned at 23 ° C. and 55% RH for 24 hours, and measured using a Teraohmmeter model VE-30 manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd. The electrodes used for the measurement were two electrodes (the part in contact with the sample was 1c
m × 5 cm) were arranged in parallel at an interval of 1 cm, the sample was brought into contact with the electrode, and measured. The value obtained by doubling the measured value was defined as the surface resistivity Ω / cm 2 .

【0100】これら帯電防止性能を有する層を基材フィ
ルム上に形成させる場合に用いる反応性ガス(プラズマ
放電により基材フィルム上に導電性層(但し、本発明に
おいて、層とは、膜状のものも含む)が形成可能な気体
のことをいう)は、具体的にはインジウム、亜鉛、ス
ズ、チタン等を含む金属化合物含有ガスや酸素、一酸化
炭素、二酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒素、過酸化水
素およびオゾンから選ばれる、基材フィルムや前記金属
含有化合物と反応可能なガスのことである。
The reactive gas used for forming these layers having antistatic properties on a substrate film (a conductive layer (provided in the present invention that a conductive layer is formed on a substrate film by plasma discharge). Is a gas that can form), specifically, a gas containing a metal compound containing indium, zinc, tin, titanium, etc., oxygen, carbon monoxide, carbon dioxide, nitrogen monoxide, nitrogen dioxide. , Hydrogen peroxide and ozone, and a gas that can react with the base film and the metal-containing compound.

【0101】又、安定な放電を発生させるために、反応
性ガス以外に不活性ガスを導入することが好ましい。
In order to generate a stable discharge, it is preferable to introduce an inert gas other than the reactive gas.

【0102】上記記載の金属化合物含有ガスとは、イン
ジウム、亜鉛、スズ、チタン等を含有する有機化合物が
好ましく用いられる。特に、ジンクアセチルアセトネー
ト、トリエチルインジウム、トリメチルインジウム、ジ
エチル亜鉛、ジメチル亜鉛、テトラエチルスズ、テトラ
メチルスズ、ジブチルスズジアセテート、テトラブチル
スズ等が好ましく、これらの液体または溶液に気体を通
し、バブリングして発生させることができるので好まし
い。バブリングするための気体を前記、酸素、一酸化炭
素、二酸化炭素、一酸化窒素、二酸化窒素、過酸化水素
またはオゾン等の反応性ガス或いは前記不活性ガスとす
ると効率よく反応性ガスを調製することができるので特
に好ましい。バブリングする溶液がトリエチルインジウ
ム、ジエチル亜鉛、ジメチルジンクの場合、発火性の問
題から二酸化炭素を用いるのが安全である。
As the metal compound-containing gas described above, an organic compound containing indium, zinc, tin, titanium and the like is preferably used. In particular, zinc acetylacetonate, triethyl indium, trimethyl indium, diethyl zinc, dimethyl zinc, tetraethyl tin, tetramethyl tin, dibutyl tin diacetate, tetrabutyl tin, and the like are preferable, and gas is passed through these liquids or solutions and generated by bubbling. It is preferable because it can be performed. When the gas for bubbling is the reactive gas such as oxygen, carbon monoxide, carbon dioxide, nitric oxide, nitrogen dioxide, hydrogen peroxide or ozone or the inert gas, the reactive gas is efficiently prepared. This is particularly preferred because When the solution to be bubbled is triethylindium, diethylzinc, or dimethylzinc, it is safe to use carbon dioxide due to the problem of ignitability.

【0103】本発明に係る導電性層は、上記記載の基材
フィルムと上記の反応性ガスの存在下に、プラズマ放電
により形成されるが、具体的には、金属酸化物含有層ま
たは金属酸化物と有機成分との混合した層であり、導電
性を示すというのは、本発明に係る導電性層が形成され
たフィルムの周波数20Hzにおけるインピーダンスの
絶対値が4×105Ω以上であることをいう。
The conductive layer according to the present invention is formed by plasma discharge in the presence of the above-mentioned substrate film and the above-mentioned reactive gas. A layer in which a substance and an organic component are mixed and exhibiting conductivity means that the film having the conductive layer according to the present invention has an absolute value of impedance of 4 × 10 5 Ω or more at a frequency of 20 Hz. Say.

【0104】公知のように材料の帯電防止性は、陽イオ
ン、陰イオンもしくは、電子、正孔など粒子中に存在す
る電荷担体により発現する。主な電荷担体がイオンのと
き固体電解質となり、電荷担体が電子の場合は、半導体
となる。さらに、導電性について詳細な検討を行ったと
ころ、一般には次の公知の式に見られるように材料の導
電性が上がれば、抵抗の項を含むインピーダンスZの絶
対値が減少することは良く知られている。
As is known, the antistatic property of a material is exhibited by a cation, an anion, or a charge carrier such as an electron or a hole present in a particle. When the main charge carrier is an ion, it becomes a solid electrolyte, and when the charge carrier is an electron, it becomes a semiconductor. In addition, a detailed study of the conductivity reveals that, generally, as the conductivity of the material increases, the absolute value of the impedance Z including the resistance term decreases as shown in the following known formula. Have been.

【0105】|Z|=〔R2+(1/ωC)21/2 但し、Z:インピーダンス R:抵抗、C:静電容量、ω:2πf、f:周波数 本発明において、フィルム材料のインピーダンス測定に
関しては、電子部品の誘電率測定に用いる一般のインピ
ーダンス測定装置を用いることができるが、好ましくは
周波数1Hz以上の測定が可能なインピーダンス測定装
置と、フィルム測定用電極を組み合わせた装置である。
例えば、ヒューレット・パッカード社製プレシジョンL
CRメーターHP4284AとHP16451Bの組み
合わせである。他の装置を用いる場合には、電極部分の
補正を行う必要がある。本発明達成の為には、フィルム
材料のインピーダンスを正しく測定する必要があるの
で、補正不可能の装置を用いた場合には、好ましい結果
が得られない。この装置の組み合わせでさらに20Hz
におけるインピーダンスの絶対値を求める一例を以下に
詳細に記すが、フィルム材料の正確な周波数20Hzの
インピーダンスの絶対値が測定できるならば、本発明で
は測定方法を制限しない。
| Z | = [R 2 + (1 / ωC) 2 ] 1/2 where Z: impedance R: resistance, C: capacitance, ω: 2πf, f: frequency Regarding the impedance measurement, a general impedance measurement device used for measuring the permittivity of an electronic component can be used, but preferably, an impedance measurement device capable of measuring a frequency of 1 Hz or more and a film measurement electrode are combined. .
For example, Precision L manufactured by Hewlett-Packard Company
This is a combination of the CR meters HP4284A and HP16451B. When using another device, it is necessary to correct the electrode portion. In order to achieve the present invention, it is necessary to correctly measure the impedance of the film material. Therefore, when an uncorrectable device is used, a favorable result cannot be obtained. 20Hz more with this device combination
An example of obtaining the absolute value of the impedance in the following is described in detail below. However, the present invention does not limit the measuring method as long as the accurate absolute value of the impedance of the film material at a frequency of 20 Hz can be measured.

【0106】平行な平面で構成される二電極とガード電
極を有するHP16451Bの接続されたプレシジョン
LCRメーターHP4284Aを用い、23℃、55%
RH雰囲気下で、空隙法によりフィルム材料のインピー
ダンスの絶対値を計測する。空隙法の測定に関しては、
HP16451Bの取り扱い説明書に記載された電極非
接触法に従う。サンプルの大きさについては、電極平面
よりも大きければ特に制限は無いが、主電極の直径が
3.8cmの場合には、大きさ6cm×6cmから5c
m×5cmの正方形サンプルが好ましい。サンプルの直
流電流を用いて測定された表面比抵抗の大きさが、表裏
で等しければ、どちらの面を上方にしてもよいが、表裏
で等しくなければ、表面比抵抗の値が低い面を上方に向
け、平行な平面で構成される二電極間にサンプルを設置
し交流電圧をかけながら空隙法で計測する。計測された
好ましい範囲は、周波数20Hzにおけるインピーダン
スの絶対値が4×105Ω以上であり、好ましくは4×
105〜1×1020Ω、更に好ましくは5×105〜1×
1014Ωである。表面比抵抗としては、1×1012Ω/
cm2以下(23℃、55%RH)が好ましく、更に好
ましくは、5×1011Ω/cm2以下(23℃、55%
RH)である。
Using a precision LCR meter HP4284A connected to an HP16451B having two electrodes composed of parallel planes and a guard electrode, at 23 ° C. and 55%
Under an RH atmosphere, the absolute value of the impedance of the film material is measured by a gap method. Regarding the measurement of the void method,
Follow the electrode non-contact method described in the instruction manual of HP16451B. The size of the sample is not particularly limited as long as it is larger than the electrode plane, but when the diameter of the main electrode is 3.8 cm, the size is 6 cm × 6 cm to 5 c.
A square sample of mx 5 cm is preferred. If the surface resistivity measured using the direct current of the sample is the same on the front and back, either side may be placed on the upper side. A sample is placed between two electrodes composed of parallel planes, and measurement is performed by the air gap method while applying an AC voltage. The measured range is preferably such that the absolute value of the impedance at a frequency of 20 Hz is 4 × 10 5 Ω or more, preferably 4 × 10 5 Ω.
10 5 to 1 × 10 20 Ω, more preferably 5 × 10 5 to 1 ×
10 14 Ω. The surface resistivity is 1 × 10 12 Ω /
cm 2 or less (23 ° C., 55% RH), more preferably 5 × 10 11 Ω / cm 2 or less (23 ° C., 55% RH).
RH).

【0107】この様に、大気圧下でグロー放電により生
成したプラズマを被処理体に吹き付ける方法により帯電
防止層を付与した光学フィルムを製造することが出来
る。同様にして、例えば前記図2に示す装置で、易接着
層、別の面が帯電防止層という構成や親水性層/撥水性
層(防汚層)、防汚層/接着層、低反射層/帯電防止層
等の機能の異なる層を、反応性ガスの種類や、組成等、
ガス条件を変えるだけで基材フィルムに付与することが
出来、これにより種々の機能を有する光学フィルムの製
造が可能となる。
As described above, an optical film provided with an antistatic layer can be manufactured by a method in which plasma generated by glow discharge under atmospheric pressure is sprayed onto a target object. Similarly, for example, in the apparatus shown in FIG. 2, an easily adhesive layer, a structure in which another surface is an antistatic layer, a hydrophilic layer / water repellent layer (antifouling layer), an antifouling layer / adhesive layer, and a low reflection layer / Layers with different functions such as antistatic layer, the type of reactive gas, composition, etc.
It can be applied to the substrate film only by changing the gas conditions, thereby making it possible to produce optical films having various functions.

【0108】又、本発明の一つの態様として、本発明の
光学フィルムをインクジェット方式による画像の保護に
用いることが出来、以下にこれについて詳細に説明す
る。
Further, as one embodiment of the present invention, the optical film of the present invention can be used for protecting an image by an ink jet system, which will be described in detail below.

【0109】近年、ハートコピーとしてインクジェット
によるプリントが普及してきた。なかでも高画質な画像
が選られるインクジェット記録用紙が広く用いられるよ
うになった。なかでも空隙を有する層でインク吸収性を
向上したインクジェット用記録紙は微粒子により空隙を
形成させ親水性バインダーを用いてインク受容層を形成
しているものが一般的である。本発明者らはインクジェ
ット記録用紙の親水性バインダーの性質に着目し、該親
水性バインダーと水素結合を形成できる本発明によるプ
ラズマ処理を施された親水性を有する重合層が形成され
たフィルムを保護フィルムとしてインクジェット記録紙
と接着することが可能であり、これによりインクジェッ
ト記録紙の問題点を改良できることを見出した。特にイ
ンク吸収層に透明フィルムを貼合したときの接着性が良
好であり、酸素による酸化退色を防止し画像の保存性を
向上させることが出来、又水分などによる画像の滲みを
防止することができる。
In recent years, inkjet printing has become widespread as heart copy. In particular, ink jet recording paper from which high-quality images are selected has come to be widely used. Above all, an ink jet recording paper in which ink absorption is improved by a layer having a void is generally one in which a void is formed by fine particles and an ink receiving layer is formed using a hydrophilic binder. The present inventors paid attention to the properties of the hydrophilic binder of the ink jet recording paper, and protected the film on which the plasma-treated hydrophilic polymer layer according to the present invention capable of forming hydrogen bonds with the hydrophilic binder was formed. It has been found that the film can be adhered to the ink jet recording paper, thereby improving the problems of the ink jet recording paper. In particular, it has good adhesiveness when a transparent film is bonded to the ink absorbing layer, prevents oxidative discoloration due to oxygen, improves image preservability, and prevents image bleeding due to moisture and the like. it can.

【0110】本発明では透明基材フィルムに設けられた
前記重合層を接着層とし、インクジェット用記録紙と、
その接着層を介して該透明フィルムを貼合し画像を透明
フィルム側から見るものである。透明フィルムに用いる
フィルムとしては上記に記載の透明フィルムを用いるこ
とが出来る。
In the present invention, the polymer layer provided on the transparent substrate film is used as an adhesive layer,
The transparent film is bonded through the adhesive layer, and an image is viewed from the transparent film side. As the film used for the transparent film, the transparent film described above can be used.

【0111】接着層は前記の透明フィルムをアルカリに
よるケン化処理や塗布による接着層、プラズマ放電処理
により接着層を設けても良いがフィルムの生産性の面で
プラズマ放電処理により形成するのが好ましい。
The adhesive layer may be provided with an adhesive layer by saponifying or coating the above-mentioned transparent film with an alkali, or an adhesive layer by plasma discharge treatment, but is preferably formed by plasma discharge treatment in terms of film productivity. .

【0112】これらのプラズマ処理としては、前記のよ
うに真空グロー放電、大気圧グロー放電等による方法が
あり、これらには前述のように特開平06−12306
2号、特願平10−97426号、特願平10−944
68号公報に記載された方法、更に前記に詳細に記載さ
れた方法と同様の方法によりを用いることができ、プラ
ズマ処理することで透明基材フィルム表面に重合皮膜を
形成し親水性を付与することができる。なかでも大気圧
グロー放電によるものが好ましく用いられる。大気圧グ
ロー放電には相対する電極を用いるものと、グロー放電
により生成したプラズマを被処理体に吹き付ける方法を
前記と同様用いることが出来る。
As the plasma treatment, there are methods such as vacuum glow discharge and atmospheric pressure glow discharge as described above.
2, Japanese Patent Application No. 10-97426, Japanese Patent Application No. 10-944
No. 68, it can be used by a method similar to the method described in further detail above, to form a polymer film on the transparent substrate film surface by plasma treatment to impart hydrophilicity be able to. Above all, those based on atmospheric pressure glow discharge are preferably used. As for the atmospheric pressure glow discharge, a method using an opposing electrode and a method in which plasma generated by the glow discharge is blown onto the object to be processed can be used as described above.

【0113】プラズマ処理に用いられるガスとしては、
アルゴン、ヘリウム等の不活性ガスに水素、酸素、窒
素、水蒸気、二酸化炭素、オゾン、一酸化炭素、アンモ
ニア等の反応性ガスを添加することで透明基材に親水性
の表面を得ることができる。またこの反応性ガス中に重
合化合物を添加して重合皮膜を形成する方法がある。こ
の重合皮膜を形成する方法については上記に詳細に説明
した方法と同様である。
The gas used for the plasma processing includes
A hydrophilic surface can be obtained on a transparent substrate by adding a reactive gas such as hydrogen, oxygen, nitrogen, water vapor, carbon dioxide, ozone, carbon monoxide, or ammonia to an inert gas such as argon or helium. . Further, there is a method of forming a polymer film by adding a polymer compound to the reactive gas. The method for forming the polymer film is the same as the method described in detail above.

【0114】塗布による接着層の例としては、特開平0
6−94915号、特開平06−118252号、特開
平07−333436号、特開平08−96801号公
報に記載されるように、好ましい構成として、透明基材
フィルムに−COOM基を有する高分子化合物を含有す
る層を設け、それに隣接させて偏光膜側に親水性高分子
化合物を主たる成分として含む層を設けたものである。
高分子化合物としては例えば−COOM基を有するスチ
レン−マレイン酸共重合体や−COOM基を有する酢酸
ビニル−マレイン酸共重合体、酢酸ビニル−マレイン酸
−無水マレイン酸共重合体などであり、特に−COOM
基を有する酢酸ビニル−マレイン酸共重合体を用いると
好ましい。親水性高分子化合物としては好ましくは、親
水性セルロース誘導体(例えば、メチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロース、ヒドロキシセルロース
等)、ポリビニルアルコール誘導体(例えば、ポリビニ
ルアルコール、酢酸ビニルービニルアルコール共重合
体、ポリビニルアセタール、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルベンザール等)、天然高分子化合物(例えば、
ゼラチン、カゼイン、アラビアゴム等)、親水性ポリエ
ステル誘導体(例えば、部分的にスルホン化されたポリ
エチレンテレフタレート等)、親水性ポリビニル誘導体
(例えば、ポリ−N−ビニルピロリドン、ポリアクリル
アミド、ポリビニルインダゾール、ポリビニルピラゾー
ル等)が挙げられ、単独あるいは2種以上併用して用い
られる。
As an example of the adhesive layer formed by coating, see
As described in JP-A-6-94915, JP-A-06-118252, JP-A-07-333436, and JP-A-08-96801, a polymer compound having a -COOM group in a transparent substrate film is preferable. Is provided, and a layer containing a hydrophilic polymer compound as a main component is provided on the polarizing film side adjacent to the layer.
Examples of the polymer compound include a styrene-maleic acid copolymer having a -COOM group, a vinyl acetate-maleic acid copolymer having a -COOM group, and a vinyl acetate-maleic acid-maleic anhydride copolymer. -COOM
It is preferable to use a vinyl acetate-maleic acid copolymer having a group. As the hydrophilic polymer compound, preferably, a hydrophilic cellulose derivative (eg, methyl cellulose, carboxymethyl cellulose, hydroxycellulose, etc.), a polyvinyl alcohol derivative (eg, polyvinyl alcohol, a vinyl acetate-vinyl alcohol copolymer, polyvinyl acetal, polyvinyl formal) , Polyvinyl benzal, etc.), natural polymer compounds (for example,
Gelatin, casein, gum arabic, etc.), hydrophilic polyester derivatives (eg, partially sulfonated polyethylene terephthalate, etc.), hydrophilic polyvinyl derivatives (eg, poly-N-vinylpyrrolidone, polyacrylamide, polyvinylindazole, polyvinylpyrazole) And the like, and used alone or in combination of two or more.

【0115】これらのインクジェット記録紙の画像保護
に用いられる光学フィルムにおいても接着層の他反対面
に帯電防止層等を前記の方法で形成したものを使用して
もよい。
The optical film used for protecting the image of the ink jet recording paper may also be one having an antistatic layer or the like formed on the other surface in addition to the adhesive layer by the method described above.

【0116】本発明の光学フィルムと共に用いるインク
ジェット記録用紙は微粒子を含有する空隙層をインク吸
収層として有するが、平均粒径が100nm以下の微粒
子を含有するものが好ましい。微粒子としては従来イン
クジェット記録用紙で公知の各種の無機または有機の固
体微粒子を用いることができる。無機微粒子の例として
は、軽質炭酸カルシウム、重質炭酸カルシウム、炭酸マ
グネシウム、カオリン、クレー、タルク、硫酸カルシウ
ム、硫酸バリウム、二酸化チタン、酸化亜鉛、水酸化亜
鉛、硫化亜鉛、炭酸亜鉛、ハイドロタルサイト、珪酸ア
ルミニウム、ケイソウ土、珪酸カルシウム、珪酸マグネ
シウム、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ、アルミ
ナ、コロイダルアルミナ、擬ベーマイト、水酸化アルミ
ニウム、リトポン、ゼオライト、水酸化マグネシウム等
の白色無機顔料等を挙げることが出来る。また、有機微
粒子の例としては、ポリスチレン、ポリアクリル酸エス
テル類、ポリメタクリル酸エステル類、ポリアクリルア
ミド類、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、またはこれらの共重合体、尿
素樹脂、またはメラミン樹脂等が挙げられる。特に高い
濃度を達成し、鮮明な画像を記録し低コストで製造でき
る等の点より、微粒子として、シリカ微粒子を用いるこ
とが好ましい。
The ink jet recording paper used together with the optical film of the present invention has a void layer containing fine particles as an ink absorbing layer, and preferably contains fine particles having an average particle diameter of 100 nm or less. As the fine particles, various kinds of inorganic or organic solid fine particles conventionally known in ink jet recording paper can be used. Examples of inorganic fine particles include light calcium carbonate, heavy calcium carbonate, magnesium carbonate, kaolin, clay, talc, calcium sulfate, barium sulfate, titanium dioxide, zinc oxide, zinc hydroxide, zinc sulfide, zinc carbonate, hydrotalcite. , Aluminum silicate, diatomaceous earth, calcium silicate, magnesium silicate, synthetic amorphous silica, colloidal silica, alumina, colloidal alumina, pseudoboehmite, aluminum hydroxide, lithopone, zeolite, white inorganic pigments such as magnesium hydroxide and the like. Can be done. Examples of the organic fine particles include polystyrene, polyacrylates, polymethacrylates, polyacrylamides, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, or a copolymer thereof, a urea resin, or Melamine resins and the like can be mentioned. In particular, silica fine particles are preferably used as the fine particles in terms of achieving a high density, recording a clear image, and being able to be manufactured at low cost.

【0117】インクジェット記録用紙において、インク
吸収層に微粒子を含有させ空隙を形成させるためには、
層中に親水性バインダーを含有させておくことが安定な
皮膜を形成させる上で必要である。用いられる親水性バ
インダーとしては、ゼラチンまたはゼラチン誘導体、ポ
リビニルピロリドン、プルラン、ポリビニルアルコール
またはその誘導体、ポリエチレングリコール、カルボキ
シメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、デ
キストラン、デキストリン、ポリアクリル酸及びその
塩、寒天、κ−カラギーナン、λ−カラギーナン、ι−
カラギーナン、キサンテンガム、ローカストビーンガ
ム、アルギン酸、アラビアゴム、特開平7−19582
6号公報及び同7−9757号公報に記載のポリアルキ
レンオキサイド系共重合性ポリマー、水溶性ポリビニル
ブチラール、あるいは、特開昭62−245260号公
報に記載のカルボキシル基やスルホン酸基を有するビニ
ルモノマーの単独またはこれらのビニルモノマーを繰り
返して有する共重合体等のポリマーを挙げることができ
る。これらの親水性バインダーは単独で使用してもよ
く、2種以上を併用してもよい。中でも、ポリビニルア
ルコールを含有する親水性バインダーを用いることが、
皮膜の吸湿性、高湿下でのベタつき、インクジェット記
録時の染料の滲みが少ないことなどから好ましい。上記
のポリビニルアルコールには、カチオン変性、ノニオン
変性及びアニオン変性の各変性ボリビニルアルコールが
含まれる。
In the case of ink-jet recording paper, in order to contain fine particles in the ink absorbing layer and form voids,
It is necessary to include a hydrophilic binder in the layer in order to form a stable film. As the hydrophilic binder used, gelatin or a gelatin derivative, polyvinylpyrrolidone, pullulan, polyvinyl alcohol or a derivative thereof, polyethylene glycol, carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, dextran, dextrin, polyacrylic acid and a salt thereof, agar, κ-carrageenan, λ-carrageenan, ι-
Carrageenan, xanthene gum, locust bean gum, alginic acid, gum arabic, JP-A-7-19582
Nos. 6 and 7-9957, polyalkylene oxide copolymerizable polymers, water-soluble polyvinyl butyral, and vinyl monomers having a carboxyl group or a sulfonic acid group described in JP-A-62-245260. Or a polymer such as a copolymer having these vinyl monomers repeatedly. These hydrophilic binders may be used alone or in combination of two or more. Among them, using a hydrophilic binder containing polyvinyl alcohol,
It is preferable because the film has a hygroscopic property, is sticky under high humidity, and has little bleeding of the dye during ink jet recording. The polyvinyl alcohol includes cationically modified, nonionicly modified, and anionicly modified polyvinyl alcohols.

【0118】ポリビニルアルコールの平均重合度は、造
膜性の観点から1000〜5000のものが好ましく用
いられ、特に、平均重合度が2000以上のものが好ま
しい。ポリビニルアルコールのケン化度は、70〜10
0%のものが好ましく、80〜100%のものが特に好
ましい。
The average degree of polymerization of polyvinyl alcohol is preferably from 1,000 to 5,000 from the viewpoint of film-forming properties, and particularly preferably the average degree of polymerization is 2,000 or more. The degree of saponification of polyvinyl alcohol is 70 to 10
0% is preferred, and 80-100% is particularly preferred.

【0119】[0119]

【実施例】以下、本発明を実施例により説明するが、本
発明はこれらに限定されない。
The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0120】 実施例1 《樹脂フィルム1の作製》 (ドープ組成物(1)の調製) セルローストリアセテート(平均酸化度61.0%) 85kg セルロースアセテートプロピオネート(アセチル基置換度2.0、 プロピオニル基置換度0.8) 15kg トリフェニルフォスフェート 5kg エチルフタリルエチルグリコレート 2kg チヌビン109 0.5kg チヌビン117 0.5kg チヌビン326 0.3kg 超微粒子シリカ(アエロジル200V:日本アエロジル(株)製) 0.01kg メチレンクロライド 430kg メタノール 90kg 上記組成物を密閉容器に投入し、加圧下で80℃に保温
し撹伴しながら完全に溶解してドープ組成物を得た。次
にこのドープ組成物を濾過し、冷却して35℃に保ちス
テンレスバンド上に均一に流延し、剥離が可能になるま
で溶媒を蒸発させたところで、ステンレスバンド上から
剥離した。剥離後の残留溶媒量50質量%〜5質量%の
間の乾燥ゾーン内でテンターによって幅保持しながら乾
燥を進行させ、さらに、多数のロールで搬送させながら
残留溶媒量1質量%以下となるまで乾燥させ、膜厚80
μmのフィルムを得た。
Example 1 << Preparation of Resin Film 1 >> (Preparation of Dope Composition (1)) Cellulose triacetate (average degree of oxidation: 61.0%) 85 kg Cellulose acetate propionate (degree of acetyl group substitution 2.0, propionyl) Degree of group substitution 0.8) 15 kg Triphenyl phosphate 5 kg Ethylphthalylethyl glycolate 2 kg Tinuvin 109 0.5 kg Tinuvin 117 0.5 kg Tinuvin 326 0.3 kg Ultrafine silica (Aerosil 200V: manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) 0 0.01 kg methylene chloride 430 kg methanol 90 kg The above composition was charged into a closed container, kept at 80 ° C. under pressure, and completely dissolved with stirring to obtain a dope composition. Next, this dope composition was filtered, cooled and kept at 35 ° C., and was uniformly cast on a stainless steel band. When the solvent was evaporated until peeling was possible, the dope composition was separated from the stainless steel band. In the drying zone between 50% by mass and 5% by mass of the residual solvent after the peeling, the drying proceeds while maintaining the width by the tenter, and further, while being conveyed by a number of rolls, until the residual solvent amount becomes 1% by mass or less. Dry, film thickness 80
A μm film was obtained.

【0121】上記樹脂フィルム1および 〈樹脂フィルム2〉一軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トフィルム(東洋紡株式会社製)、 〈樹脂フィルム3〉ポリ乳酸フィルム(重量平均分子量
140000)ユニチカ株式会社製、の各フィルムを以
下表1に示す条件でプラズマ放電処理(処理に用いた反
応性ガスおよび不活性ガスについては表1に記載)した
フィルム試料を用いポリビニルアルコール(PVA)層
とフィルム試料のプラズマ処理面の接着性を以下に示す
方法により評価した。
The resin film 1 and <resin film 2> uniaxially stretched polyethylene terephthalate film (manufactured by Toyobo Co., Ltd.), and <resin film 3> polylactic acid film (weight average molecular weight 140000) manufactured by Unitika Ltd. Adhesion between the polyvinyl alcohol (PVA) layer and the plasma-treated surface of the film sample was determined using the film sample subjected to the plasma discharge treatment (the reactive gas and the inert gas used in the treatment are described in Table 1) under the conditions shown in Table 1. The evaluation was performed according to the method described in

【0122】〈PVA接着性〉日本合成化学(株)社製
のポリビニルアルコールNH−17(重合度1500以
上、ケン化度98〜99mol%)を温水に溶解後、透
明基材フィルム上にバーコーターなどで塗布し、80℃
で30分乾燥する。形成されたポリビニルアルコール層
の膜厚は0.5μm±10%に調整する。このポリビニ
ルアルコール層の密着性の評価は、JIS K−540
0の碁盤目テープ法に準拠し、規定のカッターナイフ、
カッターガイドを用いて1mm間隔で100個のます目
を作成し、規定のセロハン粘着テープをはりつけ消しゴ
ムでこすって塗膜に付着する。テープを付着後2分後に
塗面に直角方向に瞬間的に引き剥がす。100個のます
目のうち剥がれずに残った碁盤目の数で表した。結果を
表1に示した。
<PVA Adhesion> Polyvinyl alcohol NH-17 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd. (polymerization degree: 1500 or more, saponification degree: 98 to 99 mol%) is dissolved in warm water, and then coated with a bar coater on a transparent substrate film. 80 ° C
And dry for 30 minutes. The thickness of the formed polyvinyl alcohol layer is adjusted to 0.5 μm ± 10%. The evaluation of the adhesion of this polyvinyl alcohol layer is based on JIS K-540.
According to the crosscut tape method of 0, the specified cutter knife,
Using a cutter guide, 100 squares are formed at 1 mm intervals, and a specified cellophane adhesive tape is attached thereto and rubbed with an eraser to adhere to the coating film. Two minutes after application of the tape, it is momentarily peeled off in the direction perpendicular to the coated surface. It was represented by the number of grids remaining without peeling out of the 100 grids. The results are shown in Table 1.

【0123】[0123]

【表1】 [Table 1]

【0124】(プラズマ放電処理条件1) 電源出力:8000W/m2 処理ガス:不活性ガス/反応性ガス=8/2(圧力比)
の割合となるようにマスフローコントローラで流量を制
御し、ミキサーで混合したものを処理室へ導入した。
(Plasma discharge processing condition 1) Power output: 8000 W / m 2 Processing gas: inert gas / reactive gas = 8/2 (pressure ratio)
The flow rate was controlled by a mass flow controller so as to achieve the ratio described above, and the mixture obtained by the mixer was introduced into the processing chamber.

【0125】処理時間:35秒 装置1:連続大気圧プラズマ放電処理装置(図1に概略
図を示す) 電源:神鋼電機社製高周波電源SPG05−4500 電源周波数:5kHz(サイン波式) (プラズマ放電処理条件2) 電源出力:8000W/m2 処理ガス:プラズマ放電処理条件1と同じ 処理時間:35秒 装置2:連続大気圧プラズマ放電処理装置(図1に概略
図を示す) 電源:ハイデン研究社製PHF−4K 電源周波数:10kHz 電源をインパルス式に変更した。
Processing time: 35 seconds Apparatus 1: continuous atmospheric pressure plasma discharge processing apparatus (schematic diagram shown in FIG. 1) Power supply: Shinko Electric Co., Ltd. high frequency power supply SPG05-4500 Power supply frequency: 5 kHz (sine wave type) (plasma discharge Processing condition 2) Power output: 8000 W / m 2 Processing gas: Same as plasma discharge processing condition 1 Processing time: 35 seconds Apparatus 2: Continuous atmospheric pressure plasma discharge processing apparatus (schematic diagram shown in FIG. 1) Power supply: Heiden Kenkyusha PHF-4K power supply frequency: 10 kHz The power supply was changed to an impulse type.

【0126】(プラズマ放電処理条件3) 電源出力:8000W/m2 処理ガス:プラズマ放電処理条件1と同じ 処理時間:プラズマを吹き付ける時間を15秒とした 装置3:プラズマを含む励起活性種を処理基材に吹き付
ける装置(図2に概略図を示した) 表面エネルギー極性成分のOcl/Ocs、Ncl/N
cs、Pcl/Pcs値が高い水準であるとPVAとの
接着性が良好となることがわかる。したがって偏光板保
護フィルムとした場合に偏光子との接着性が良好であ
る。
(Plasma discharge processing condition 3) Power output: 8000 W / m 2 Processing gas: Same as plasma discharge processing condition 1 Processing time: Plasma blowing time was set to 15 seconds Apparatus 3: Processing excited active species including plasma Apparatus for spraying on substrate (schematic diagram shown in FIG. 2) Surface energy polar components Ocl / Ocs, Ncl / N
It can be seen that when the cs and Pcl / Pcs values are at high levels, the adhesion to PVA is good. Accordingly, when the protective film is a polarizing plate protective film, the adhesiveness to the polarizer is good.

【0127】実施例2 実施例1で使用した樹脂フィルム1〜3および実施例1
で作製したフィルム試料(表2に被処理フィルムとして
記載した)の表面処理した面(A面)と反対側の面に、
以下に示すプラズマ処理条件4でプラズマ放電処理した
試料201〜211を作製した(プラズマ処理した面を
B面とする)。インピーダンス、B面の表面比抵抗値お
よびB面へのホコリの付着について評価した結果を表2
に示した。
Example 2 Resin films 1 to 3 used in Example 1 and Example 1
On the surface opposite to the surface-treated surface (A surface) of the film sample (described as a film to be treated in Table 2) prepared in
Samples 201 to 211 that were subjected to plasma discharge processing under the plasma processing conditions 4 shown below were produced (the surface subjected to the plasma processing is referred to as surface B). Table 2 shows the results of the evaluation of the impedance, the surface resistivity of the surface B, and the adhesion of dust to the surface B.
It was shown to.

【0128】〈インピーダンスの測定〉ヒューレット・
パッカード社製プレシジョンLCRメーターHP428
4AとHP16451Bの組み合わせを用いて20Hz
におけるインピーダンスを測定した。具体的には平行な
平面で構成される二電極とガード電極を有するHP16
451Bの接続されたプレシジョンLCRメーターHP
4284Aを用い、23℃、55%RH雰囲気下で測定
した。
<Measurement of Impedance>
Packard Precision LCR Meter HP428
20Hz using the combination of 4A and HP16451B
Was measured. More specifically, an HP16 having a two-electrode formed of parallel planes and a guard electrode
451B connected precision LCR meter HP
Using 4284A, it measured at 23 degreeC and 55% RH atmosphere.

【0129】〈表面比抵抗〉各々の試料を23℃、55
%RHの条件にて24時間調湿し、川口電機株式会社製
テラオームメーターモデルVE−30を用いて測定し
た。測定に用いた電極は、2本の電極(試料と接触する
部分が1cm×5cm)を間隔を1cmで平行に配置
し、該電極に試料を接触させて測定し、測定値を5倍に
した値を表面比抵抗値Ω/cm2とした。
<Surface Resistivity> Each sample was heated at 23 ° C. and 55 ° C.
The humidity was controlled for 24 hours under the condition of% RH, and the measurement was performed using a Teraohmmeter model VE-30 manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd. The electrodes used for the measurement were measured by placing two electrodes (the part in contact with the sample was 1 cm × 5 cm) in parallel at an interval of 1 cm, contacting the sample with the electrode, and measuring the value five times. The value was defined as a surface resistivity value Ω / cm 2 .

【0130】〈ホコリ付着〉フィルム試料を10cm×
20cmに切り出し、それぞれB面側をティッシュペー
パーで20往復擦り、フィルムのB面側をタバコの灰に
10秒間、高さ1cmまで近づけ、ホコリ(灰)の付着
を観察し、3段階のランク評価を行った。
<Adhesion of Dust> A film sample of 10 cm ×
Cut out to 20 cm, rub each side of B side 20 times with tissue paper, bring the B side of the film close to the height of 1 cm for 10 seconds to the ash of cigarette, observe the adhesion of dust (ash), and evaluate the rank on a three-point scale Was done.

【0131】 ○:ホコリの付着は全く見られなかった △:ホコリの付着が少し認められた ×:ホコリの付着が異しく認められた:: No dust adhesion was observed at all Δ: Dust adhesion was slightly observed ×: Dust adhesion was observed differently

【0132】[0132]

【表2】 [Table 2]

【0133】(プラズマ放電処理条件4) 電源出力:8000W/m2 処理ガス:アルゴンガス/反応性ガス=8/2(圧力
比)の割合となるようにマスフローコントローラで流量
を制御し、ミキサーで混合したものを処理室へ導入し
た。
(Plasma discharge processing condition 4) Power output: 8000 W / m 2 Processing gas: Argon gas / reactive gas = 8/2 (pressure ratio) The flow rate was controlled by a mass flow controller, and the flow rate was controlled by a mixer. The mixture was introduced into the processing chamber.

【0134】反応性ガス:100℃に加熱したジンクア
セチルアセトナートに酸素を通して調製した。
Reactive gas: Zinc acetylacetonate heated to 100 ° C. was prepared by passing oxygen.

【0135】処理時間:フィルム面にプラズマを吹き付
ける時間を35秒に調整した。 装置3:プラズマを含む励起活性種を処理基材に吹き付
ける装置(図2に概略図を示したもの) これらによれば基材フィルムの片側の面に効率的に導電
性層を付与することができ、PVA接着性が良好であり
かつ導電性を有するフィルムの作製が可能である。
Processing time: The time for spraying plasma on the film surface was adjusted to 35 seconds. Apparatus 3: Apparatus for spraying excited active species including plasma onto the processing substrate (schematic diagram shown in FIG. 2) According to these, a conductive layer can be efficiently applied to one surface of the substrate film. It is possible to produce a film having good PVA adhesion and conductivity.

【0136】実施例3 実施例1の試料No.101〜116および実施例2の
試料No.204〜211をそれぞれ2枚使用し、これ
ら2枚のフィルムの、試料No.101〜116につい
てはプラズマ処理面、又試料No.204〜211につ
いてはA面側にポリビニルアルコール接着剤(3%水溶
液、乾燥膜厚0.01μm)を塗布し、以下に示す様に
作製した偏光子を貼合して偏光板を作製した。No.1
01以外の試料から作製した偏光板の接着性は良好であ
った。また80℃、90%で2週間、100℃ドライ条
件で偏光板を保存しても偏光板接着性に変化は見られな
かった。尚、試料No.204〜210から作製した偏
光板のホコリ付着性の評価は○であった。
Example 3 Sample No. 1 of Example 1 101 to 116 and the sample Nos. Nos. 204 to 211 were used, and Sample Nos. Of these two films were used. Regarding 101 to 116, the plasma treated surface and the sample No. Regarding 204 to 211, a polyvinyl alcohol adhesive (3% aqueous solution, dry film thickness: 0.01 μm) was applied to the A side, and a polarizer produced as described below was bonded to produce a polarizing plate. No. 1
The adhesiveness of the polarizing plates prepared from samples other than Sample No. 01 was good. Even when the polarizing plate was stored at 80 ° C. and 90% for 2 weeks under a dry condition at 100 ° C., no change was observed in the adhesiveness of the polarizing plate. In addition, sample No. The evaluation of dust adhesion of the polarizing plate prepared from 204 to 210 was ○.

【0137】〈偏光子の作製〉厚さ75μmのPVAフ
ィルム(クラレビニロン#7500;クラレ株式会社
製)を縦一軸延伸(延伸倍率4倍)して偏光子基材とし
た。この基材をヨウ素0.2g/l、ヨウ化カリ30g
/lよりなる水溶液に30℃にて4分間浸漬した。次い
でホウ酸70g/l、ヨウ化カリ30g/lの組成の水
溶液に55℃にて5分間浸漬し、さらに20℃の水で3
0秒洗浄後、乾燥して偏光子を得た。
<Preparation of Polarizer> A 75 μm thick PVA film (Kuraray Vinylon # 7500; manufactured by Kuraray Co., Ltd.) was uniaxially stretched longitudinally (stretching ratio 4 times) to obtain a polarizer base material. This base material was washed with 0.2 g / l of iodine and 30 g of potassium iodide.
/ L of an aqueous solution at 30 ° C for 4 minutes. Then, it is immersed in an aqueous solution having a composition of boric acid 70 g / l and potassium iodide 30 g / l at 55 ° C. for 5 minutes, and further immersed in water at 20 ° C. for 3 minutes.
After washing for 0 second, drying was performed to obtain a polarizer.

【0138】実施例4 特開平11−264982の実施例に記載の方法で、以
下のように横電界式(IPS)方式のアクティブ型液晶
表示装置を作製した。ただし用いた偏光板は実施例3の
偏光板(実施例2のNo.204を用いて作製したも
の)を使用した。
Example 4 An in-plane switching (IPS) active liquid crystal display device was manufactured by the method described in the example of JP-A-11-264982 as follows. However, the polarizing plate used was the polarizing plate of Example 3 (manufactured using No. 204 of Example 2).

【0139】先ず、傷防止のために上記偏光板の両面に
ポリエチレンからなるカバーシートを貼りつけた。次い
で片面のポリエチレンカバーシートを剥がし、液晶ガラ
ス基板に貼りつけて液晶パネルを作製した。液晶パネル
表面のポリエチレンカバーシートを剥がしたところ液晶
の乱れはなかった。一方、導電層を形成していない偏光
板を用いた場合は液晶の乱れを生じた。又導電層を形成
した偏光板を用いた液晶パネルはホコリの付着がみられ
なかった。
First, a cover sheet made of polyethylene was attached to both surfaces of the polarizing plate to prevent scratches. Next, the polyethylene cover sheet on one side was peeled off and attached to a liquid crystal glass substrate to produce a liquid crystal panel. When the polyethylene cover sheet on the surface of the liquid crystal panel was peeled off, there was no disturbance of the liquid crystal. On the other hand, when a polarizing plate having no conductive layer was used, the liquid crystal was disturbed. In addition, no dust adhered to the liquid crystal panel using the polarizing plate having the conductive layer formed thereon.

【0140】実施例5 含水率が6質量%の坪量170g/m2の写真用原紙の
裏面に押し出し塗布法により密度が0.92の低密度ポ
リエチレンを30μmの厚さで塗布した。ついで表側に
アナターゼ型酸化チタン5.5質量%含有する密度が
0.92の低密度ポリエチレンを35μmの厚さで押し
出し塗布法で塗布して両面をポリエチレンで被覆した支
持体を作製した。表側にコロナ放電を行いゼラチン下引
き層を0.3g/m2、裏面にもコロナ放電を行った後
ラテックス層を厚みが0.2g/m2に成るように塗布
した。さらに下記の構成を有する塗布液−1を表側塗布
した後、皮膜温度が15℃以下になるように30秒以内
に急速に冷却し、20〜50℃の範囲の風で2分間で急
速乾燥して、乾燥膜厚20μmの空隙層を有するインク
ジェット記録用紙を作製した。得られた記録用紙は36
℃で3日間保管して硬膜させた。この記録用紙の空隙層
の断面の電子顕微鏡で観察したところ、微粒子の1次粒
子の平均粒径は12nmであり、2次凝集粒子の平均粒
径は65nmであった。
Example 5 Low-density polyethylene having a density of 0.92 and a thickness of 30 μm were applied to the back surface of a photographic base paper having a water content of 6% by mass and a basis weight of 170 g / m 2 by an extrusion coating method. Then, low-density polyethylene containing 5.5% by mass of anatase-type titanium oxide and having a density of 0.92 was applied to the front side with a thickness of 35 μm by extrusion coating to prepare a support having both surfaces coated with polyethylene. Corona discharge was applied to the front side to form a gelatin undercoat layer of 0.3 g / m 2 , and corona discharge was applied to the back side, and then a latex layer was applied to a thickness of 0.2 g / m 2 . Further, after applying the coating solution-1 having the following composition on the front side, the coating temperature is rapidly cooled within 30 seconds so that the coating temperature becomes 15 ° C. or less, and rapidly dried in a wind of 20 to 50 ° C. for 2 minutes. Thus, an ink jet recording paper having a void layer having a dry film thickness of 20 μm was produced. The obtained recording paper is 36
C. for 3 days to harden. When the cross section of the void layer of this recording paper was observed with an electron microscope, the average particle size of the primary particles was 12 nm, and the average particle size of the secondary aggregated particles was 65 nm.

【0141】 (塗布液−1) 微粒子シリカ分散液* 450ml カチオン性ポリマー(P−1) 2g エタノール 35ml n−プロパノール 10ml 酢酸エチル 5ml ポリビニルアルコール(クラレ株式会社製PVA203) 0.1g ポリビニルアルコール(クラレ株式会社製PVA235) 12g ホウ酸 2.0g ほう砂 1.0g 〈微粒子シリカ分散液〉日本アエロジル工業株式会社製
A200(平均1次粒子径12nmの気相法シリカ)の
80gを純水400ml中に添加し乳化分散機で分散し
た後、全量を純水で450mlに調整した。
(Coating liquid-1) Fine particle silica dispersion * 450 ml Cationic polymer (P-1) 2 g Ethanol 35 ml n-propanol 10 ml Ethyl acetate 5 ml Polyvinyl alcohol (PVA203 manufactured by Kuraray Co., Ltd.) 0.1 g Polyvinyl alcohol (Kuraray stock) 12 g boric acid 2.0 g borax 1.0 g <fine particle silica dispersion> 80 g of A200 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. (vapor-phase silica having an average primary particle diameter of 12 nm) is added to 400 ml of pure water. After that, the whole amount was adjusted to 450 ml with pure water.

【0142】[0142]

【化6】 Embedded image

【0143】得られた記録用紙について以下の方法で画
像の光褪色性を評価した。セイコーエプソン株式会社製
のインクジェットプリンターPM−750Cで、Y、
M、Cのウェッジ画像をプリントした。実施例1の試料
No.110および実施例2の試料No.209のA面
にポリビニルアルコール接着剤(3%水溶液、乾燥膜厚
0.01μm)を塗布しウェッジ画像をプリントした画
像に貼り合わせた後、80℃2分間乾燥させて接着させ
た。
The obtained recording paper was evaluated for the light fading property of the image by the following method. Seiko Epson Inkjet Printer PM-750C, Y,
M and C wedge images were printed. Sample No. of Example 1 110 and the sample Nos. A polyvinyl alcohol adhesive (3% aqueous solution, dry film thickness 0.01 μm) was applied to the A side of 209, and a wedge image was attached to the printed image, and then dried at 80 ° C. for 2 minutes to be adhered.

【0144】ぞれをスガ試験機株式会社製の耐光試験機
でキセノンランプを用いて、100時間光照射し、初期
濃度1.0における色素残存率(耐光性)を調べた。
Each of them was irradiated with light using a xenon lamp for 100 hours using a light resistance tester manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., and the dye remaining ratio (light resistance) at an initial density of 1.0 was examined.

【0145】色素残存率=100×(光照射後の濃度)
/(初期濃度) (初期濃度=1.0の処で測定した) として表した。本発明フィルムを貼らなかった試料は、
マゼンタ色素の残存率が32%だったのに対して、本発
明のフィルムを貼ったものは、それぞれ98%、99%
とほとんどの色素が残存していた。
Dye residual rate = 100 × (density after light irradiation)
/ (Initial concentration) (measured at an initial concentration of 1.0). The sample on which the film of the present invention was not applied,
Whereas the residual ratio of the magenta dye was 32%, those to which the film of the present invention was applied were 98% and 99%, respectively.
And most of the dye remained.

【0146】[0146]

【発明の効果】作業上安全で環境に悪影響を及ぼさず、
基材フィルム上にポリビニルアルコール乃至ポリビニル
アルコール含有層との接着性に優れた層を形成が可能な
表面処理加工により、偏光板用保護フィルムや帯電防止
フィルム等に適した光学フィルム得を得ることが出来、
またこれらを用いた偏光板、液晶ディスプレイを提供す
ることができた。さらにはラミネート用フィルムとして
よりインクジェット記録紙に対する接着性に優れ、これ
と一体になって画像の保存性向上をもたらすことのでき
る画像表示材料を提供できた。
According to the present invention, the work is safe and does not adversely affect the environment.
By performing surface treatment capable of forming a layer having excellent adhesion with a polyvinyl alcohol or a polyvinyl alcohol-containing layer on a base film, an optical film suitable for a protective film for a polarizing plate, an antistatic film, or the like can be obtained. Done
In addition, a polarizing plate and a liquid crystal display using these can be provided. Further, an image display material which is more excellent in adhesiveness to an ink jet recording paper as a laminating film and which can improve the preservability of an image integrally therewith can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】大気圧プラズマ放電処理を行う装置の一形態を
示す概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram illustrating one embodiment of an apparatus for performing an atmospheric pressure plasma discharge process.

【図2】プラズマを含む励起活性種を被処理体に吹き付
けるための装置の一形態を示す概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram illustrating an embodiment of an apparatus for spraying excited active species including plasma onto a target object.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フィルム基材(被処理体) 2 反応室 3、4 電極 5 電源 6 アース 7 ニップロール 8 処理ガスの導入口 9 処理ガスの排出口 10 前室 20、21、22 搬送ロール L 電極間隔 11 反応管 12 外部電極 13 内部電極 13a 冷却水導入口 13b 冷却水排出口 14 電源 15 アース 16 処理ガスの導入口 17 励起活性種吹きつけ口 REFERENCE SIGNS LIST 1 film substrate (object to be processed) 2 reaction chamber 3, 4 electrode 5 power supply 6 ground 7 nip roll 8 processing gas inlet 9 processing gas outlet 10 front chamber 20, 21, 22 transport roll L electrode spacing 11 reaction tube DESCRIPTION OF SYMBOLS 12 External electrode 13 Internal electrode 13a Cooling water inlet 13b Cooling water outlet 14 Power supply 15 Ground 16 Processing gas inlet 17 Excited active species spray port

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/00 313 G02B 1/10 Z Fターム(参考) 2H049 BA02 BB22 BB23 BB27 BB28 BB33 BB43 BB51 BC14 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA50X FA50Z FB02 FB12 FC27 FD14 GA16 LA01 LA07 LA09 2K009 BB11 BB14 BB24 BB28 DD17 EE00 FF03 5G435 AA03 AA14 BB12 FF00 FF05 GG42 KK05 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) G09F 9/00 313 G02B 1/10 Z F term (reference) 2H049 BA02 BB22 BB23 BB27 BB28 BB33 BB43 BB51 BC14 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA50X FA50Z FB02 FB12 FC27 FD14 GA16 LA01 LA07 LA09 2K009 BB11 BB14 BB24 BB28 DD17 EE00 FF03 5G435 AA03 AA14 BB12 FF00 FF05 GG42 KK05

Claims (36)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明基材フィルムの偏光子を接着する面
上に、表面エネルギーの極性項成分が10.0mN/m
以上である膜厚0.1μm以下の層を有し、90%以上
の透過率を有することを特徴とする偏光板用保護フィル
ム。
1. A polar component having a surface energy of 10.0 mN / m on a surface of a transparent substrate film to which a polarizer is adhered.
A protective film for a polarizing plate, comprising a layer having a thickness of 0.1 μm or less as described above and having a transmittance of 90% or more.
【請求項2】 透明基材フィルムの偏光子を接着する面
に膜厚0.1μm以下の層を有し、90%以上の透過率
を有する偏光板用保護フィルムにおいて、該膜厚0.1
μm以下の層の表面における炭素に対する酸素、窒素、
リンの元素比をOcl、Ncl、Pcl、該表面から膜
厚0.1μmの層を除いた基材フィルム表面における炭
素に対する酸素、窒素、リンの元素比をそれぞれOc
s、Ncs、Pcsと表したとき、Ocl/Ocs、N
cl/Ncs、Pcl/Pcsの値のうちいずれか一つ
が1.1以上であることを特徴とする偏光板用保護フィ
ルム。
2. A protective film for a polarizing plate having a layer having a thickness of 0.1 μm or less on a surface of a transparent substrate film to which a polarizer is adhered, and having a transmittance of 90% or more.
oxygen, nitrogen to carbon on the surface of the layer below μm,
The element ratios of phosphorus are Ocl, Ncl, and Pcl, and the element ratios of oxygen, nitrogen, and phosphorus to carbon on the surface of the base film excluding the layer having a thickness of 0.1 μm are Oc, respectively.
When expressed as s, Ncs, Pcs, Ocl / Ocs, N
A protective film for a polarizing plate, wherein any one of cl / Ncs and Pcl / Pcs is 1.1 or more.
【請求項3】 透明基材フィルムの偏光子を接着する面
に膜厚0.1μm以下の層を有し、90%以上の透過率
を有する偏光板用保護フィルムにおいて、該膜厚0.1
μm以下の層の上に更にポリビニルアルコール(重合度
1500以上、けん化度98〜99mol%)を塗布し
たとき、該ポリビニルアルコール層の該膜厚0.1μm
以下の層との密着性がJIS K−5400に準拠した
碁盤目テープ法をもちいた時、剥がれずに残っている碁
盤目の数が90個以上であることを特徴とする偏光板用
保護フィルム。
3. A protective film for a polarizing plate having a layer having a thickness of 0.1 μm or less on a surface of a transparent substrate film to which a polarizer is adhered and having a transmittance of 90% or more.
When polyvinyl alcohol (polymerization degree 1500 or more, saponification degree 98 to 99 mol%) is further applied on the layer having a thickness of 0.1 μm or less,
A protective film for a polarizing plate, wherein the number of grids remaining without being peeled off is 90 or more when the grid tape method conforming to JIS K-5400 is used for adhesion to the following layers. .
【請求項4】 膜厚0.1μm以下の層が、有機化合物
を含有する反応性ガス雰囲気下で透明基材フィルムをプ
ラズマ放電処理することにより形成されたものであるこ
とを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の偏
光板用保護フィルム。
4. A layer having a thickness of 0.1 μm or less is formed by subjecting a transparent substrate film to plasma discharge treatment in a reactive gas atmosphere containing an organic compound. The protective film for a polarizing plate according to any one of claims 1 to 3.
【請求項5】 有機化合物が不飽和結合を有する化合物
であることを特徴とする請求項4に記載の偏光板用保護
フィルム。
5. The protective film for a polarizing plate according to claim 4, wherein the organic compound is a compound having an unsaturated bond.
【請求項6】 不飽和結合を有する化合物が、少なくと
も水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、エポキシ基
から選ばれる置換基を有する化合物であることを特徴と
する請求項5に記載の偏光板用保護フィルム。
6. The protective film for a polarizing plate according to claim 5, wherein the compound having an unsaturated bond is a compound having at least a substituent selected from a hydroxyl group, a carbonyl group, a carboxyl group, and an epoxy group. .
【請求項7】 不飽和結合を有する化合物が少なくとも
一般式I〜IVから選ばれる化合物であることを特徴とす
る請求項5に記載の偏光板用保護フィルム。 【化1】 (式中、R1、R2は水素、アルキル基を表し、アルキル
基は置換基を有していてもよい。) 【化2】 (式中、R1〜R6は水素、アルキル基を表し、アルキル
基は置換基を有していてもよい。nは0〜4の整数を表
す。) 【化3】 (式中、R1〜R3は水素、アルキル基を表し、アルキル
基は置換基を有していてもよい。XはCH2またはCH
−Yを表す。Yはヒドロキシル基、エポキシ基、複素環
基、脂環式炭化水素基、アルキル基を表す。nは0〜4
の整数を表す。) 【化4】 (式中、R1〜R3は水素、アルキル基を表し、アルキル
基は置換基を有してもよい。Raは水素、ヒドロキシル
基を表し、nは1から3の整数を表す。)
7. The protective film for a polarizing plate according to claim 5, wherein the compound having an unsaturated bond is at least a compound selected from formulas I to IV. Embedded image (In the formula, R 1 and R 2 represent hydrogen or an alkyl group, and the alkyl group may have a substituent.) (In the formula, R 1 to R 6 represent hydrogen or an alkyl group, and the alkyl group may have a substituent. N represents an integer of 0 to 4.) (Wherein, R 1 to R 3 represent hydrogen or an alkyl group, and the alkyl group may have a substituent. X is CH 2 or CH
Represents -Y. Y represents a hydroxyl group, an epoxy group, a heterocyclic group, an alicyclic hydrocarbon group, or an alkyl group. n is 0 to 4
Represents an integer. ) (In the formula, R 1 to R 3 represent hydrogen or an alkyl group, and the alkyl group may have a substituent. Ra represents hydrogen or a hydroxyl group, and n represents an integer of 1 to 3.)
【請求項8】 有機化合物が窒素原子を有する化合物で
あることを特徴とする請求項4に記載の偏光板用保護フ
ィルム。
8. The protective film for a polarizing plate according to claim 4, wherein the organic compound is a compound having a nitrogen atom.
【請求項9】 窒素原子を有する化合物が少なくとも一
般式Vから選ばれる化合物であることを特徴とする請求
項8に記載の偏光板用保護フィルム。 【化5】 (式中、RbはHまたは1価の置換基を表す。またRb
は隣接する炭素原子Cと結合し、窒素原子Nと該炭素原
子Cとが2重結合を形成するための2価の単なる結合手
となってもよい。Zは複素環を完成するのに必要な原子
群であり置換基が結合していてもよい。)
9. The protective film for a polarizing plate according to claim 8, wherein the compound having a nitrogen atom is at least a compound selected from general formula V. Embedded image (In the formula, Rb represents H or a monovalent substituent.
May bond to an adjacent carbon atom C, and the nitrogen atom N and the carbon atom C may serve as a mere divalent bond for forming a double bond. Z is a group of atoms necessary to complete a heterocyclic ring, and may have a substituent bonded thereto. )
【請求項10】 プラズマ放電処理に用いる反応性ガス
が更に酸素原子を含むガスを含有することを特徴とする
請求項4〜9のいずれか1項に記載の偏光板用保護フィ
ルム。
10. The polarizing plate protective film according to claim 4, wherein the reactive gas used in the plasma discharge treatment further contains a gas containing an oxygen atom.
【請求項11】 透明基材フィルムにセルロースエステ
ルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステル
フィルム、ポリ乳酸又はポリアクリルフィルムを用いた
ことを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載
の偏光板用保護フィルム。
11. The polarizing plate according to claim 1, wherein a cellulose ester film, a polycarbonate film, a polyester film, a polylactic acid or a polyacryl film is used as the transparent substrate film. Protective film.
【請求項12】 プラズマ放電処理において気圧を0.
007〜27hPa以下とすることを特徴とする請求項
4〜11のいずれか1項に記載の偏光板用保護フィル
ム。
12. The air pressure is set at 0 in plasma discharge processing.
The protective film for a polarizing plate according to any one of claims 4 to 11, wherein the pressure is 007 to 27 hPa or less.
【請求項13】 プラズマ放電処理を大気圧と同じかま
たは大気圧近傍にて行うことを特徴とする請求項4〜1
1のいずれか1項に記載の偏光板用保護フィルム。
13. The plasma discharge process according to claim 4, wherein the plasma discharge process is performed at or near atmospheric pressure.
2. The protective film for a polarizing plate according to claim 1.
【請求項14】 プラズマ放電処理に用いる電極の少な
くとも一つが、固体誘電体を具有することを特徴とする
請求項13に記載の偏光板用保護フィルム。
14. The protective film for a polarizing plate according to claim 13, wherein at least one of the electrodes used for the plasma discharge treatment has a solid dielectric.
【請求項15】 プラズマ放電処理に用いる反応性ガス
がさらに不活性ガスを含有することを特徴とする請求項
13または14に記載の偏光板用保護フィルム。
15. The protective film for a polarizing plate according to claim 13, wherein the reactive gas used for the plasma discharge treatment further contains an inert gas.
【請求項16】 不活性ガスがアルゴンガスまたはヘリ
ウムガスであることを特徴とする請求項15に記載の偏
光板用保護フィルム。
16. The protective film for a polarizing plate according to claim 15, wherein the inert gas is an argon gas or a helium gas.
【請求項17】 プラズマ放電電極間にパルス状の電圧
を印加することを特徴とする請求項13または14に記
載の偏光板用保護フィルム。
17. The protective film for a polarizing plate according to claim 13, wherein a pulse-like voltage is applied between the plasma discharge electrodes.
【請求項18】 パルス状の電圧の印加により電極間に
作られるパルス電界の立ち上がりまたは立ち下がり時間
が、共に40ns〜100μsの範囲で、且つ、そのパ
ルス電界の強さが1〜100kV/cmの範囲であるこ
とを特徴とする請求項17に記載の偏光板用保護フィル
ム。
18. A pulse electric field generated between electrodes by application of a pulse-like voltage has a rise or fall time in a range of 40 ns to 100 μs and a pulse electric field strength of 1 to 100 kV / cm. The protective film for a polarizing plate according to claim 17, which is within the range.
【請求項19】 パルス電界の周波数が1kHz〜10
0kHzであり、且つ、その一つのパルス電界の形成時
間が1μs〜1000μsであることを特徴とする請求
項18に記載の偏光板用保護フィルム。
19. The frequency of a pulse electric field is 1 kHz to 10 kHz.
The protective film for a polarizing plate according to claim 18, wherein the frequency is 0 kHz, and one pulse electric field is formed in a time of 1 µs to 1000 µs.
【請求項20】 少なくとも2つの対向する電極にそれ
ぞれ同時に異極の電圧を印加することによりパルス電界
を発生させることを特徴とする請求項18または19に
記載の偏光板用保護フィルム。
20. The protective film for a polarizing plate according to claim 18, wherein a pulse electric field is generated by simultaneously applying different polar voltages to at least two opposing electrodes.
【請求項21】 外側電極を備えたスリット状の反応管
及び反応管の内部に内側電極を備えたプラズマ処理装置
の反応管に不活性ガスまたは不活性ガスと反応ガスの混
合気体を導入し、外側電極と内側電極の間に交流電界を
印加し、プラズマを含む励起活性種を発生させて、該励
起活性種を透明基材フィルムに吹き付けることにより表
面処理を行ったことを特徴とする光学用フィルム。
21. An inert gas or a mixed gas of an inert gas and a reactive gas is introduced into a slit-shaped reaction tube having an outer electrode and a reaction tube of a plasma processing apparatus having an inner electrode inside the reaction tube; An optical field characterized by applying an AC electric field between the outer electrode and the inner electrode to generate excited active species including plasma, and performing a surface treatment by spraying the excited active species onto a transparent substrate film. the film.
【請求項22】 外側電極を備えたスリット状の反応管
及び反応管の内部に内側電極を備えたプラズマ処理装置
の反応管に不活性ガスまたは不活性ガスと金属元素含有
化合物を含有する反応ガスを導入し、外側電極と内側電
極の間に交流電界を印加することにより、プラズマを含
む励起活性種を発生させ、該励起活性種を透明基材フィ
ルムに吹き付けることにより表面処理を行ったことを特
徴とする光学用フィルム。
22. A reaction gas containing an inert gas or an inert gas and a metal element-containing compound in a slit-shaped reaction tube having an outer electrode and a reaction tube of a plasma processing apparatus having an inner electrode inside the reaction tube. By applying an AC electric field between the outer electrode and the inner electrode to generate excited active species including plasma, and performing the surface treatment by spraying the excited active species onto the transparent substrate film. Characteristic optical film.
【請求項23】 周波数20Hzにおけるインピーダン
スの絶対値が4×105Ω以上であることを特徴とする
請求項22に記載の光学用フィルム。
23. The optical film according to claim 22, wherein the absolute value of the impedance at a frequency of 20 Hz is 4 × 10 5 Ω or more.
【請求項24】 透明基材フィルムがセルロースアセテ
ートであることを特徴とする請求項21〜23のいずれ
か1項に記載の光学用フィルム。
24. The optical film according to any one of claims 21 to 23, wherein the transparent substrate film is cellulose acetate.
【請求項25】 偏光板用保護フィルム、位相差フィル
ム又は輝度向上フィルムとして用いることを特徴とする
請求項21〜23のいずれか1項に記載の光学用フィル
ム。
25. The optical film according to claim 21, which is used as a protective film for a polarizing plate, a retardation film, or a brightness enhancement film.
【請求項26】 請求項21〜24のいずれか1項に記
載の光学用フィルムを用いることを特徴とする偏光板。
A polarizing plate comprising the optical film according to any one of claims 21 to 24.
【請求項27】 請求項25に記載の光学用フィルムを
用いることを特徴とする液晶ディスプレイ。
27. A liquid crystal display using the optical film according to claim 25.
【請求項28】 請求項26に記載の偏光板を用いるこ
とを特徴とする液晶ディスプレイ。
28. A liquid crystal display using the polarizing plate according to claim 26.
【請求項29】 請求項1〜11に記載の偏光板用保護
フィルムとポリビニルアルコールからなる偏光子を貼合
したことを特徴とする偏光板。
29. A polarizing plate comprising the protective film for a polarizing plate according to claim 1 and a polarizer made of polyvinyl alcohol.
【請求項30】 請求項1〜11に記載の偏光板用保護
フィルムとポリビニルアルコールからなる偏光子を貼合
する前に、偏光板用保護フィルムを水洗することを特徴
とする偏光板の作製方法。
30. A method for producing a polarizing plate, comprising: washing the polarizing plate protective film with water before laminating the polarizer protective film according to claim 1 with a polarizer comprising polyvinyl alcohol. .
【請求項31】 反応性ガス雰囲気下でのプラズマ放電
処理あるいはプラズマを含む励起活性種を吹き付けるこ
とにより形成された層を有する透明基材フィルムを、画
像が形成された、少なくともポリビニルアルコールを含
有する層を支持体上に有する画像表示材料と貼合するこ
とを特徴とする画像の保存性向上方法。
31. A transparent substrate film having a layer formed by plasma discharge treatment in a reactive gas atmosphere or by spraying excited active species containing plasma, comprising at least polyvinyl alcohol having an image formed thereon. A method for improving image storability, comprising laminating an image display material having a layer on a support.
【請求項32】 反応性ガス雰囲気下でのプラズマ放電
処理あるいはプラズマを含む励起活性種を吹き付けるこ
とにより形成された層を有する透明基材フィルムと、画
像が形成された、少なくともポリビニルアルコールを含
有する層を支持体上に有する画像表示材料とを貼合した
ことを特徴とする画像の保存性が向上した画像表示材
料。
32. A transparent substrate film having a layer formed by plasma discharge treatment in a reactive gas atmosphere or by spraying excited active species containing plasma, and at least polyvinyl alcohol on which an image has been formed. An image display material having improved image storability, wherein the image display material has been laminated with an image display material having a layer on a support.
【請求項33】 透明基材フィルムがセルロースエステ
ルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステル
フィルムであることを特徴とする請求項31に記載の画
像の保存性向上方法。
33. The method according to claim 31, wherein the transparent substrate film is a cellulose ester film, a polycarbonate film, or a polyester film.
【請求項34】 透明基材フィルムがセルロースエステ
ルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリエステル
フィルムであることを特徴とする請求項32に記載の画
像表示材料。
34. The image display material according to claim 32, wherein the transparent substrate film is a cellulose ester film, a polycarbonate film, or a polyester film.
【請求項35】 少なくともポリビニルアルコールを含
有する層を支持体上に有する画像表示材料がインクジェ
ット記録紙であることを特徴とする請求項31または3
3に記載の画像の保存性向上方法。
35. The image display material having at least a layer containing polyvinyl alcohol on a support is an ink jet recording paper.
3. The method for improving image storability according to item 3.
【請求項36】 少なくともポリビニルアルコールを含
有する層を支持体上に有する画像表示材料がインクジェ
ット記録紙であることを特徴とする請求項32又は34
に記載の画像表示材料。
36. The image display material having at least a layer containing polyvinyl alcohol on a support is an ink jet recording paper.
The image display material described in 1.
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