JP4603348B2 - Method for hydrophilic treatment of polymer film surface, polymer film obtained thereby, and polarizing plate using the same - Google Patents
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Description
本発明は、例えば、液晶ディスプレイの偏光板用保護フィルム等に用いられる高分子フィルム表面の親水化処理方法、およびそれにより得られる高分子フィルム、ならびにそれを用いて得られた偏光板に関するものである。 The present invention relates to a method for hydrophilizing a polymer film surface used for, for example, a protective film for a polarizing plate of a liquid crystal display, a polymer film obtained thereby, and a polarizing plate obtained using the same. is there.
近年、液晶ディスプレイが様々な分野で用いられるようになり、それに伴い液晶ディスプレイを構成する偏光板に対しても高い信頼性が要求されるようになってきている。 In recent years, liquid crystal displays have been used in various fields, and accordingly, high reliability has been demanded for polarizing plates constituting liquid crystal displays.
このような偏光板としては、ポリビニルアルコール(PVA)フィルムをヨウ素等を用いて着色し延伸してなる偏光フィルムの両面に、水溶性の接着剤層を介して保護フィルムが積層され、さらに上記両保護フィルムの片面には外部に対して表面硬度を高めて偏光板を保護する目的でハードコート層が形成されたものが用いられている。そして、上記保護フィルムとしては、従来から、例えば、トリアセチルセルロース(TAC)フィルムが汎用されてきた。 As such a polarizing plate, a protective film is laminated on both surfaces of a polarizing film obtained by coloring and stretching a polyvinyl alcohol (PVA) film with iodine or the like, and further, On one side of the protective film, one having a hard coat layer formed for the purpose of increasing the surface hardness against the outside and protecting the polarizing plate is used. As the protective film, for example, a triacetyl cellulose (TAC) film has been widely used.
しかしながら、上記TACフィルムは、いわゆる疎水性を示すことから、接着剤層を介して偏光フィルムに接着する際の保護フィルムと接着剤層との密着性の悪さが問題となっており、これが信頼性の低下要因の一つとなっている。このような観点から、接着剤層に対する密着性を向上させるために、保護フィルム表面を親水化処理することが行われている。例えば、保護フィルム表面に溶剤を塗布してフィルム表面を改質する方法や、保護フィルム表面に溶剤を塗布したり、保護フィルム表面に電子線照射処理した後、薬液アルカリ処理(ケン化処理)を行うことにより保護フィルム表面を親水化する改質方法が提案されている(特許文献1参照)。さらには、酸素ガス含有雰囲気下でプラズマ処理することにより保護フィルム表面を親水化処理する方法が提案されている(特許文献2参照)。
しかしながら、上記保護フィルム表面に溶剤を塗布する方法では、溶剤塗布後における乾燥ムラの影響から保護フィルムの平面性が悪化するという問題が生じる。また、上記電子線照射処理した後、薬液アルカリ処理(ケン化処理)を行う方法は、処理工程に長時間を要し生産性が悪い、さらに処理廃液が大量に発生し環境負荷の原因となる等の問題を有している。そして、上記酸素ガス含有雰囲気下でプラズマ処理する方法では、ある程度の保護フィルム表面の親水化はなされるが、最近の高信頼性の要求に対して満足させるまでの水準には至っておらず、親水化に関してより高い次元にて満足のいくものが要求されているのが実情である。 However, in the method of applying a solvent to the surface of the protective film, there arises a problem that the flatness of the protective film is deteriorated due to the influence of drying unevenness after the solvent is applied. Moreover, the method of performing the chemical alkali treatment (saponification treatment) after the electron beam irradiation treatment requires a long time for the treatment process, resulting in poor productivity, and a large amount of treatment waste liquid is generated, causing an environmental burden. Have problems such as. And, in the method of plasma treatment under the above oxygen gas-containing atmosphere, the surface of the protective film is made hydrophilic to some extent, but it has not reached the level to satisfy the recent high reliability requirement, The reality is that a higher level of satisfaction is required.
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、表面の親水化により優れた密着性を付与することのできる高分子フィルム表面の親水化処理方法およびそれにより得られる高分子フィルム、ならびにそれを用いた信頼性の高い偏光板の提供をその目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and a method for hydrophilizing a polymer film surface capable of imparting excellent adhesion by hydrophilizing the surface, a polymer film obtained thereby, and the same It is an object to provide a highly reliable polarizing plate using
上記の目的を達成するために、本発明は、対向する電極の間に被処理体を配置させ、大気圧プラズマによる処理を行う大気圧プラズマ発生装置内に、高分子フィルムを配置し、その装置内で発生した大気圧プラズマにより、上記高分子フィルム表面を親水化処理する方法であって、上記高分子フィルムが、トリアセチルセルロースフィルムであって、F 2 ガス濃度が雰囲気ガス全体の0.1〜2.0容量%の範囲である雰囲気ガス中で大気圧プラズマによる処理を行い、表面の水接触角が25°以下である高分子フィルムを得る高分子フィルム表面の親水化処理方法を第1の要旨とする。In order to achieve the above-described object, the present invention provides a device in which an object to be processed is disposed between opposing electrodes, and a polymer film is disposed in an atmospheric pressure plasma generator that performs treatment with atmospheric pressure plasma. The surface of the polymer film is hydrophilized by atmospheric pressure plasma generated therein, wherein the polymer film is a triacetyl cellulose film, and the F 2 gas concentration is 0.1% of the total atmospheric gas. 2.0 There line treatment with atmospheric pressure plasma in an atmosphere gas within a range of volume%, the hydrophilic treatment method of a polymer film surface water contact angle of the surface to obtain a polymer film is 25 ° or less first It is set as the summary of 1.
また、本発明は、上記高分子フィルム表面の親水化処理方法によってフィルム表面が親水化されてなる高分子フィルムを第2の要旨とする。 Moreover, this invention makes the 2nd summary the polymer film by which the film surface is hydrophilized by the said hydrophilic treatment method of the polymer film surface.
さらに、本発明は、偏光フィルムの両面に接着剤層を介して保護フィルムが積層されてなる偏光板であって、上記保護フィルムが、上記高分子フィルムである偏光板を第3の要旨とする。 Furthermore, the present invention is a polarizing plate in which a protective film is laminated on both surfaces of a polarizing film via an adhesive layer, and the protective film is a polarizing plate in which the polymer film is the third gist. .
すなわち、本発明者らは、従来から用いられている疎水性を示す高分子フィルム表面を親水化することにより優れた密着性を付与することのできる方法について一連の研究を重ねた。その結果、高分子フィルム表面を、F2ガスを特定の濃度で含む雰囲気ガス中で大気圧プラズマによる処理を行うと、高分子フィルム表面が高度に親水化されて、接着剤層形成材料等の密着対象物との密着性が向上し、高分子フィルムに対する接着性に優れるようになることを見出し本発明に到達した。That is, the present inventors have repeated a series of studies on a method that can impart excellent adhesion by hydrophilizing a conventionally used polymer film surface that exhibits hydrophobicity. As a result, when the surface of the polymer film is treated with atmospheric pressure plasma in an atmospheric gas containing a specific concentration of F 2 gas, the surface of the polymer film is highly hydrophilized, and the adhesive layer forming material, etc. It has been found that the adhesion with the object to be adhered is improved and the adhesion to the polymer film is excellent, and the present invention has been achieved.
このように、本発明の高分子フィルム表面の親水化処理方法によれば、F2ガスを特定の濃度で含む雰囲気ガス下、大気圧プラズマ発生装置内で発生した大気圧プラズマにより、上記高分子フィルム表面が高度に親水化される。その結果、密着対象物との密着性が向上し、例えば、偏光板作製時において、水溶性接着剤層を介して偏光フィルムに保護フィルムとして高分子フィルムを積層する際、上記接着剤層に対して優れた密着性が付与されることとなる。したがって、この親水化処理され密着性が改善された保護フィルムである高分子フィルムを積層して得られた偏光板としては、信頼性の高いものが得られるようになる。本発明の高分子フィルム表面の親水化処理方法により親水化処理されてなる高分子フィルムとしては、様々な分野における高分子フィルムの使用形態において有用であり、上記偏光板用保護フィルム以外に、フレキシブルプリント配線板用フィルム等各種フィルムに適用される。As described above, according to the method for hydrophilizing a polymer film surface of the present invention, the polymer is generated by atmospheric pressure plasma generated in an atmospheric pressure plasma generator under an atmospheric gas containing F 2 gas at a specific concentration. The film surface is highly hydrophilized. As a result, the adhesion with the object to be adhered is improved. For example, when a polymer film is laminated as a protective film on a polarizing film via a water-soluble adhesive layer during the production of a polarizing plate, Excellent adhesion will be imparted. Accordingly, a highly reliable polarizing plate obtained by laminating the polymer film, which is a protective film having improved adhesion and improved hydrophilicity, can be obtained. The polymer film obtained by hydrophilizing the polymer film surface according to the present invention is useful in various forms of use of the polymer film in various fields. In addition to the polarizing plate protective film, the polymer film is flexible. It is applied to various films such as films for printed wiring boards.
そして、上記F2ガス濃度を雰囲気ガス全体の0.1〜2.0容量%の範囲に設定するため、より一層高度な高分子フィルム表面の親水化がなされ密着性の向上が実現する。Then, to set the F 2 gas concentration in the range of 0.1 to 2.0% by volume of the total atmosphere gas, even more hydrophilic advanced polymer film surface is made improvement in adhesion to implement.
また、上記高分子フィルムとしてTACフィルムを用いるため、親水化効果がより顕著となる。Moreover, since a TAC film is used as the polymer film, the hydrophilization effect becomes more prominent.
つぎに、本発明の実施の形態を詳しく説明する。 Next, embodiments of the present invention will be described in detail.
本発明の高分子フィルム表面の親水化処理方法において、親水化処理の対象となるフィルム材料としては、親水化処理効果等の特性を考慮して、TACフィルムが用いられる。In the hydrophilic treatment method of the polymer film surface of the present invention, the film material to be hydrophilized, in consideration of the characteristics of such parent hydration treatment effect, Ru is used is TAC film.
つぎに、本発明の高分子フィルム表面の親水化処理方法について、図面に基づいて説明する。 Next, the method for hydrophilizing the polymer film surface of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、本発明の高分子フィルム表面の親水化処理方法の一実施の形態を示している。この実施の形態では、高分子フィルムGを大気圧プラズマ発生装置内に配置し、その装置内で大気圧プラズマを発生させ、その大気圧プラズマにより、上記高分子フィルムGの表面を親水化処理するようにしている。なお、本発明において、大気圧プラズマ発生装置における大気圧とは、具体的には、60000〜210000Paの圧力を意味する。特に本発明における大気圧プラズマ発生装置においては、親水化処理時の装置内の圧力を93000〜107000Paの範囲に設定することが好ましい。 FIG. 1 shows an embodiment of a method for hydrophilizing a polymer film surface according to the present invention. In this embodiment, the polymer film G is placed in an atmospheric pressure plasma generator, atmospheric pressure plasma is generated in the device, and the surface of the polymer film G is hydrophilized by the atmospheric pressure plasma. I am doing so. In addition, in this invention, the atmospheric pressure in an atmospheric pressure plasma generator specifically means the pressure of 60000-210000Pa. In particular, in the atmospheric pressure plasma generation apparatus of the present invention, it is preferable to set the pressure in the apparatus during the hydrophilization treatment to a range of 93,000 to 107000 Pa.
より詳しく説明すると、上記大気圧プラズマ発生装置は、空間をあけて対向する高圧電極1と低圧電極2とを一組とする電極を備えており、その高圧電極1と低圧電極2の間の空間の少なくとも一部に上記高分子フィルムGを配置できるようになっている。そして、上記高圧電極1と低圧電極2は通常金属製であり、これらの対向面の少なくとも一方には、放電を安定な状態で持続させるために誘電体5をそれぞれ設ける必要がある。上記高圧電極1および低圧電極2を形成する金属としては、銀,白金,ステンレス,アルミニウム,鉄等の汎用の金属が用いられる。また、上記誘電体5は、通常金属に被覆することにより設けられ、その材料としては、ケイ酸塩系ガラス,ホウ酸塩系ガラス,リン酸塩系ガラス,ゲルマン酸塩系ガラス,亜テルル酸塩ガラス,アルミン酸塩ガラス,バナジン酸塩ガラス等を用いることができる。なお、上記高圧電極1および低圧電極2は、図1においては双方とも平板電極のものを用いているが、これに限定するものではなく、例えば、一方もしくは双方の電極を、円筒状電極,角柱状電極,ロール状電極の形状のものを用いてもよい。また、上記大気圧プラズマ発生装置は、大気圧プラズマに用いるガスを充填する流入口3とそれに用いたガスを排出する流出口4とを備えている。 More specifically, the atmospheric pressure plasma generator includes an electrode that is a pair of a
本発明では、上記大気圧プラズマに用いるガスとしては、F2ガスを必須成分として含有される雰囲気ガス(混合ガス)を用いることを最大の特徴とするものである。上記F2ガスを必須成分として含有される混合ガスとしては、例えば、F2ガスを必須成分とし、これにプラズマを発生させるベースガスとしてヘリウム,ネオン,アルゴン,クリプトン,キセノン,ラドンおよび窒素からなる不活性ガス群から選ばれる少なくとも一つの不活性ガスを混合した混合ガスが用いられる。なかでも、取り扱い性,放電安定性という観点から、F2ガスとともにHeを用いた、HeとF2からなる雰囲気ガス(混合ガス)を用いることが特に好ましい。In the present invention, as the gas used for the atmospheric pressure plasma, an atmospheric gas (mixed gas) containing F 2 gas as an essential component is used. As a mixed gas containing the F 2 gas as an essential component, for example, the F 2 gas as essential components, consisting of helium, neon, argon, krypton, xenon, radon and nitrogen as the base gas to which the generating plasma A mixed gas in which at least one inert gas selected from an inert gas group is mixed is used. Among these, from the viewpoints of handleability and discharge stability, it is particularly preferable to use an atmosphere gas (mixed gas) composed of He and F 2 using He together with F 2 gas.
さらに、雰囲気ガス中におけるF2ガス濃度は、雰囲気ガス全体の0.1〜2.0容量%の範囲に設定される。特に好ましくは雰囲気ガス全体の0.1〜1.0容量%である。すなわち、0.1容量%未満では、F2ガス濃度が低過ぎて、高分子フィルムG表面の親水化処理が充分になされず所望の効果(密着性の向上)を得ることが困難となる傾向がみられ、2.0容量%を超えると、撥水化傾向がみられるからである。Furthermore, the F 2 gas concentration in the atmospheric gas is set in a range of 0.1 to 2.0% by volume of the entire atmospheric gas. Particularly preferred is 0.1 to 1.0% by volume of the whole atmospheric gas. That is, if it is less than 0.1% by volume, the F 2 gas concentration is too low, and the hydrophilic treatment on the surface of the polymer film G is not sufficiently performed, and it is difficult to obtain a desired effect (improvement of adhesion). This is because when the amount exceeds 2.0% by volume, a tendency of water repellency is observed.
このようなことから、F2ガスを必須成分として含有する雰囲気ガスとしては、具体的には、He/F2(容量%)=98/2〜99.9/0.1の範囲に設定してなる混合ガスを用いることが特に好ましい。For this reason, as an atmospheric gas containing F 2 gas as an essential component, specifically, He / F 2 (volume%) = 98/2 to 99.9 / 0.1 is set. It is particularly preferable to use a mixed gas of
そして、上記高分子フィルムGは、例えば、つぎのようにして親水化処理することができる。すなわち、高分子フィルムGを準備し、まず、必要に応じて、高分子フィルムGの表面にエアーを吹き付ける等して、高分子フィルムG表面の塵埃等を除去する。ついで、高分子フィルムGを上記大気圧プラズマ発生装置の高圧電極1と低圧電極2の間の空間に配置し、上記F2ガスを必須成分として含有する混合ガス(雰囲気ガス)を充填する。つぎに、上記高圧電極1と低圧電極2の間に電圧を印加し、大気圧プラズマを発生させる。そして、この大気圧プラズマにより、上記高分子フィルムGの表面にフッ素原子が導入され、フッ素特有の新規官能基が形成される(XPS分析、KRATOS社製のXIS−HSi装置)。このようにして、上記高分子フィルムG表面が親水化処理され、結果、密着性の向上が実現するのである。And the said polymer film G can be hydrophilized as follows, for example. That is, the polymer film G is prepared, and first, dust or the like on the surface of the polymer film G is removed by blowing air on the surface of the polymer film G as necessary. Next, the polymer film G is disposed in a space between the high-
上記大気圧プラズマの発生において、高圧電極1と低圧電極2の間に印加する電圧は、大気圧プラズマが発生すれば、特に限定されるものではないが、通常、1kV〜10kVの範囲である。また、その電源の周波数も、大気圧プラズマが発生すれば、特に限定されるものではないが、通常、1kHz〜150MHzの範囲であるが、それよりも高いGHz帯であっても差し支えない。ただし、被処理物の熱の影響を考慮すれば、1kHz〜500kHzの範囲が好ましい。 In the generation of the atmospheric pressure plasma, the voltage applied between the
そして、大気圧プラズマを発生させる時間(親水化処理する時間)は、F2ガスを必須成分として含有される雰囲気ガス中のF2ガス濃度等他の条件にもよるが、通常、3秒以上に設定することが好ましく、特に好ましくは3〜180秒の範囲である。The time for generating atmospheric pressure plasma (the time for hydrophilization treatment) is usually 3 seconds or more, although it depends on other conditions such as the concentration of F 2 gas in the atmospheric gas containing F 2 gas as an essential component. It is preferable to set to be in the range of 3 to 180 seconds.
本発明では、このようにして、高分子フィルムG表面が大気圧プラズマにより親水化処理された結果、例えば、水接触角が25°以下となるようなフィルム表面に改質されることとなる。本発明の親水化処理における、高分子フィルムGに対する親水化処理後の水接触角の下限値は1°である。なお、上記水接触角は、固体である高分子フィルムGの疎水性の程度を示す特性値の一つであって、JIS R3257 6に準じて測定される値であり、例えば、接触角測定装置を用いて測定される。したがって、この値が小さいほど親水性を備えているということであり、例えば、偏光板用保護フィルムとして用いた場合、後述の接着剤層との密着性、さらにはハードコート層との密着性が良好であることを意味する。 In the present invention, as a result of the hydrophilic treatment of the surface of the polymer film G by atmospheric pressure plasma as described above, the film surface is modified to have a water contact angle of 25 ° or less, for example. In the hydrophilization treatment of the present invention, the lower limit value of the water contact angle after the hydrophilization treatment for the polymer film G is 1 °. The water contact angle is one of characteristic values indicating the degree of hydrophobicity of the polymer film G that is a solid, and is a value measured according to JIS R32576. For example, the contact angle measuring device Is measured. Therefore, the smaller this value is, the more hydrophilic it is. For example, when used as a protective film for a polarizing plate, the adhesiveness with an adhesive layer described later, and further the adhesiveness with a hard coat layer. Means good.
したがって、例えば、高分子フィルムGを偏光板用保護フィルムとして用いた偏光板の作製時には、偏光フィルムの両面に接着剤層を介して高分子フィルムGである保護フィルムを接着積層する際、高分子フィルムGである保護フィルムと接着剤層との密着性が良好となる。その結果、偏光フィルムに対する接着性が向上して信頼性の高い偏光板が得られることとなる。また、通常、積層される保護フィルムの一方の片面にハードコート層が形成されるが、このハードコート層形成時においても保護フィルムである高分子フィルムの親水化処理により両者の密着性が良好になる。また、本発明の大気圧プラズマによる親水化処理では、従来のような、薬液処理工程を必要としないため、工程が煩雑とはならず生産性が向上するとともに、廃液発生による環境負荷の問題も生じない。 Therefore, for example, when preparing a polarizing plate using the polymer film G as a protective film for a polarizing plate, when the protective film as the polymer film G is adhesively laminated on both surfaces of the polarizing film via an adhesive layer, the polymer Adhesiveness between the protective film as the film G and the adhesive layer is improved. As a result, the adhesiveness to the polarizing film is improved and a highly reliable polarizing plate is obtained. In addition, a hard coat layer is usually formed on one side of the protective film to be laminated, and even when this hard coat layer is formed, the adhesion of both is improved by the hydrophilic treatment of the polymer film that is the protective film. Become. In addition, the hydrophilic treatment by atmospheric pressure plasma of the present invention does not require a chemical solution treatment step as in the prior art, so the process is not complicated and productivity is improved, and there is also a problem of environmental burden due to generation of waste liquid. Does not occur.
また、上記実施の形態では、大気圧プラズマによる親水化処理は、対向する高圧電極1と低圧電極2の間に高分子フィルムGを配置するようにしたが、これに限定されるものではなく、電極間で発生させた大気圧プラズマをガス流や電界配置や磁気の作用により電極間の外側に配置されている高分子フィルムGの表面の所定の部分に吹き出す方法(リモートプラズマ)で親水化処理してもよい。 Moreover, in the said embodiment, although the hydrophilic treatment by atmospheric pressure plasma arranged the polymer film G between the
このようにして表面が親水化処理されてなる高分子フィルムGの実施態様の一例として、偏光板用保護フィルムに用いた場合について述べる。すなわち、偏光板用保護フィルム(以下「保護フィルム」と称す)として用いることにより、対象物との密着性が向上し信頼性の高い偏光板が作製される。本発明における偏光板の構成の一例を図面に基づいて説明する。すなわち、図2に示すように、偏光板15は、偏光フィルム11の両面に接着剤層12を介して、保護フィルムG(親水化処理されてなる高分子フィルムG)がそれぞれ積層形成されている。そして、上記保護フィルムGの片面には、適宜にプライマー層(図示せず)を設け、これを介してさらにハードコート層14が形成されている。 As an example of the embodiment of the polymer film G having a hydrophilic surface as described above, a case where it is used for a protective film for a polarizing plate will be described. That is, by using as a protective film for a polarizing plate (hereinafter referred to as “protective film”), adhesion with an object is improved and a highly reliable polarizing plate is produced. An example of the configuration of the polarizing plate in the present invention will be described with reference to the drawings. That is, as shown in FIG. 2, the
上記偏光フィルム11としては、特に限定されるものではないが、PVA系フィルム、エチレンビニルアルコール系フィルム、セルロース系フィルム、ポリカーボネート系フィルム等があげられ、なかでも、PVA系フィルムが好適である。 Although it does not specifically limit as said polarizing film 11, A PVA-type film, an ethylene vinyl alcohol-type film, a cellulose-type film, a polycarbonate-type film etc. are mention | raise | lifted, Especially, a PVA-type film is suitable.
上記PVAは通常、酢酸ビニルを重合したポリ酢酸ビニルをケン化して製造されるが、必ずしもこれに限定されるものではなく、少量の不飽和カルボン酸(塩、エステル、アミド、ニトリル等を含む)、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸塩等、酢酸ビニルと共重合可能な成分を含有していてもよい。上記PVAにおける平均ケン化度は85〜100モル%が実用的である。また、上記PVAの平均重合度としては任意のものが使用可能であるが、1500〜5000が有利である。 The PVA is usually produced by saponifying polyvinyl acetate obtained by polymerizing vinyl acetate, but is not necessarily limited thereto, and a small amount of unsaturated carboxylic acid (including salt, ester, amide, nitrile, etc.) Further, it may contain a component copolymerizable with vinyl acetate such as olefins, vinyl ethers and unsaturated sulfonates. The average saponification degree in the PVA is practically 85 to 100 mol%. Moreover, although arbitrary things can be used as an average degree of polymerization of the said PVA, 1500-5000 are advantageous.
上記接着剤層12形成材料としては、特に限定されるものではなく従来公知のもの、例えば、PVA系樹脂(アセトアセチル基、スルホン酸基、カルボキシル基、オキシアルキレン基等により変性されたPVAを含む)、ホウ素化合物等の水溶液が適宜採用されるが、なかでもPVA系樹脂、特にPVAの水溶液が好適に用いられる。このPVAについては、平均重合度500〜4000、ケン化度90.0〜99.9モル%のものが好適に用いられる。さらに、水溶液の濃度は0.1〜15重量%程度が好適である。 The material for forming the adhesive layer 12 is not particularly limited and may be a conventionally known material such as PVA resin (including PVA modified with acetoacetyl group, sulfonic acid group, carboxyl group, oxyalkylene group, etc.). ), An aqueous solution of a boron compound or the like is appropriately employed, and among them, a PVA resin, particularly an aqueous solution of PVA is preferably used. As this PVA, those having an average degree of polymerization of 500 to 4000 and a degree of saponification of 90.0 to 99.9 mol% are preferably used. Further, the concentration of the aqueous solution is preferably about 0.1 to 15% by weight.
上記ハードコート層14を形成する際にハードコート層14と保護フィルムGとの間に設けられるプライマー層の形成材料としては、特に限定するものではなく従来公知の各種材料、例えば、(メタ)アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、ポリエステル等が好ましく用いられる。そして、使用可能なモノマー単位としては特に限定するものではなく、具体的には、上記(メタ)アクリル系ポリマーとしては、(メタ)アクリル酸、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、(メタ)アリルアクリレート、(メタ)ウレタンアクリレート、(メタ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル等があげられる。また、上記スチレン系ポリマーとしては、スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等があげられる。そして、上記ポリエステルとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコールと無水フタル酸,フタル酸,テレフタル酸,無水マレイン酸,マレイン酸との縮合物等があげられる。 The material for forming the primer layer provided between the
上記ハードコート層14形成材料としては、特に限定するものではなく従来公知の各種材料、例えば、アクリレート系塗料,ウレタン−アクリレート系塗料,エポキシ−アクリレート系塗料,ポリエステルアクリレート系塗料等の紫外線(UV)硬化性塗料、ウレタン系塗料,アルキッド系塗料,メラミン系塗料等の熱硬化性塗料、シリコーン系塗料等があげられる。 The material for forming the
このような構成における偏光板15の製法について具体的に説明する。 The manufacturing method of the
上記偏光フィルム11は、例えば、PVAを溶媒に溶解した原液を流延製膜した後、延伸、染色、ホウ素化合物処理を施すことにより得られる。 The polarizing film 11 can be obtained, for example, by casting and forming a stock solution in which PVA is dissolved in a solvent, followed by stretching, dyeing, and boron compound treatment.
上記原液調製に際して使用される溶媒としては、例えば、水はもちろん、ジメチルスルホキシド(DMSO)、N−メチルピロリドン、グリセリン、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、トリメチロールプロパン等の多価アルコールや、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン等のアミン類等の溶媒が用いられる。これらは単独であるいは二種以上併せて用いられる。上記溶媒中には、例えば、5〜30重量%の少量の水を含有させても差し支えない。また、原液中のPVAの濃度としては、5〜20重量%が実用的である。 Examples of the solvent used for preparing the stock solution include water, dimethyl sulfoxide (DMSO), N-methylpyrrolidone, glycerin, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, trimethylolpropane, and the like. Solvents such as polyhydric alcohols and amines such as ethylenediamine and diethylenetriamine are used. These may be used alone or in combination of two or more. For example, a small amount of water of 5 to 30% by weight may be contained in the solvent. Moreover, as a density | concentration of PVA in a stock solution, 5 to 20 weight% is practical.
上記原液の製膜法としては、特に限定はなく、例えば、キャスト法、押出法等の任意の方法があげられる。具体的には、乾・湿式製膜法により、すなわち、上記原液を口金スリットから一旦空気中、または窒素、ヘリウム、アルゴン等の不活性雰囲気中に吐出し、ついで凝固浴中に導くことにより未延伸フィルムが得られる。なお、口金から吐出された製膜原液を、一旦ローラーやベルトコンベアー等の上で一部乾燥した後、凝固浴中に導入しても差し支えない。また、PVAの原液を凝固浴中に導入してフィルム化するいわゆるゲル製膜法等も実施可能である。 The method for forming the stock solution is not particularly limited, and examples thereof include arbitrary methods such as a casting method and an extrusion method. Specifically, it is not performed by a dry / wet film-forming method, that is, by discharging the stock solution from the base slit into the air or an inert atmosphere such as nitrogen, helium, or argon, and then introducing it into a coagulation bath. A stretched film is obtained. In addition, the film-forming stock solution discharged from the die may be partially dried on a roller, a belt conveyor or the like and then introduced into the coagulation bath. In addition, a so-called gel film forming method in which a PVA undiluted solution is introduced into a coagulation bath to form a film can be performed.
上記凝固浴に用いる溶媒としては、上記PVAの溶媒と混和性を有するものであれば特に限定はなく、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類や、アセトン、ベンゼン、トルエン等があげられる。 The solvent used in the coagulation bath is not particularly limited as long as it is miscible with the PVA solvent, and examples thereof include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, and butanol, acetone, benzene, toluene, and the like. It is done.
つぎに、上記のようにして得られるPVA未延伸フィルムは、延伸、染色、ホウ素化合物処理が施される。この場合、延伸、染色、ホウ素化合物処理は別々に行っても、同時に行ってもよい。例えば、上記PVA未延伸フィルムを延伸してヨウ素または二色性染料の水溶液に浸漬し染色するか、または延伸と染色を同時に行うか、あるいはヨウ素または二色性染料により染色して延伸する等した後、ホウ素化合物処理する方法があげられる。また、染色した後ホウ素化合物の溶液中で延伸する方法等もあり、適宜選択して用いることができる。 Next, the PVA unstretched film obtained as described above is subjected to stretching, dyeing, and boron compound treatment. In this case, stretching, dyeing, and boron compound treatment may be performed separately or simultaneously. For example, the PVA unstretched film is stretched and immersed in an aqueous solution of iodine or dichroic dye and dyed, or stretched and dyed simultaneously, or dyed with iodine or dichroic dye and stretched. Thereafter, a method of treating with a boron compound can be mentioned. In addition, there is a method of stretching in a solution of a boron compound after dyeing, etc., which can be appropriately selected and used.
上記延伸は一軸方向に3.5〜10倍延伸することが好ましい。この際、前記と直角方向にも若干の延伸(軸方向の収縮を防止する程度あるいはそれ以上の延伸)を行っても差し支えない。延伸時の温度条件は、通常、40〜130℃の範囲で適宜選択される。さらに、上記延伸倍率は最終的に上記の範囲に設定されれば良く、延伸操作は一段階のみならず、製造工程の任意の範囲の段階に実施すれば良い。 The stretching is preferably performed 3.5 to 10 times in a uniaxial direction. At this time, the film may be slightly stretched in the direction perpendicular to the above (stretching to prevent the axial shrinkage or more). The temperature condition at the time of stretching is usually appropriately selected within the range of 40 to 130 ° C. Furthermore, the stretching ratio may be finally set within the above range, and the stretching operation may be performed not only in one stage but also in any stage of the manufacturing process.
上記延伸は、延伸後のフィルムの膜厚が、20μm以下になるよう行うのが好ましく、特に好ましくは、15〜20μmである。 The stretching is preferably performed so that the film thickness of the stretched film is 20 μm or less, particularly preferably 15 to 20 μm.
なお、延伸前のPVAの原反フィルムとしては、通常、その膜厚は30〜100μm、好ましくは50〜90μmである。すなわち、30μm未満では延伸不能となる可能性があり、逆に100μmを超えると、膜厚精度が低下し不適当となる可能性があるからである。 In addition, as a raw film of PVA before extending | stretching, the film thickness is 30-100 micrometers normally, Preferably it is 50-90 micrometers. That is, if it is less than 30 μm, it may be impossible to stretch, while if it exceeds 100 μm, the film thickness accuracy may be lowered and may be inappropriate.
上記フィルムに対するヨウ素の染色は、通常はヨウ素−ヨウ化カリウムの水溶液を接触させることによって行われる。この場合、ヨウ素の濃度は0.1〜2g/l、ヨウ化カリウムの濃度は10〜50g/l、ヨウ素とヨウ化カリウムの重量比は、ヨウ素/ヨウ化カリウム=20〜100が適当である。また、染色時間は30〜500秒程度が実用的であり、処理浴の温度は5〜50℃が好ましい。なお、水溶液以外に水と相溶性のある有機溶媒を少量含有させても差し支えない。接触手段としては、浸漬、塗布、噴霧等の任意の手段が適用できる。 The iodine dyeing of the film is usually performed by bringing an iodine-potassium iodide aqueous solution into contact with the film. In this case, the iodine concentration is suitably 0.1-2 g / l, the potassium iodide concentration is 10-50 g / l, and the iodine / potassium iodide weight ratio is suitably iodine / potassium iodide = 20-100. . The dyeing time is practically about 30 to 500 seconds, and the temperature of the treatment bath is preferably 5 to 50 ° C. In addition to the aqueous solution, a small amount of an organic solvent compatible with water may be contained. As the contact means, any means such as dipping, coating, spraying and the like can be applied.
このようにして染色処理されたフィルムは、ついでホウ酸やホウ砂等のホウ素化合物によって処理される。ホウ素化合物は水溶液または水−有機溶媒混合液の形で濃度0.5〜2モル/リットル程度で用いられ、液中には少量のヨウ化カリウムを共存させるのが実用上好ましい。ヨウ化カリウムの濃度は30〜70g/リットル程度に設定される。また、処理法は浸漬法が好ましいが、もちろん塗布法、噴霧法も実施可能である。さらに、処理時の温度は40〜70℃程度、処理時間は5〜20分程度が好ましい。 The film thus dyed is then treated with a boron compound such as boric acid or borax. The boron compound is used in the form of an aqueous solution or a water-organic solvent mixture at a concentration of about 0.5 to 2 mol / liter, and it is practically preferable that a small amount of potassium iodide coexists in the solution. The concentration of potassium iodide is set to about 30 to 70 g / liter. The treatment method is preferably an immersion method, but of course, an application method and a spray method can also be carried out. Furthermore, the temperature during the treatment is preferably about 40 to 70 ° C., and the treatment time is preferably about 5 to 20 minutes.
一方、上記接着剤層12形成材料を用いて上記表面が親水化処理された保護フィルムGの片面上に均一な膜を形成するように塗布し、接着剤層12を形成して保護フィルムGの片面に接着剤層12が形成されたフィルム状体を2種類作製する。このとき、一つのフィルム状体には、接着剤層12形成面とは反対の面に、プライマー層を塗布形成した後、ハードコート層14を形成する。上記接着剤層12形成材料を用いての塗布に際しては、乾燥後の厚みが0.01〜10μmとなるようにするのが実用的である。すなわち、0.01μm未満では接着力が不充分であり、逆に、10μmを超える場合は、使用量の割には効果は増加せず、また外観が悪化し、実用的でないからである。塗布操作は必ずしもロール等を用いる塗布手段に限定されるものではなく、噴霧法、浸漬法等の手段が適用可能である。 On the other hand, the adhesive layer 12 forming material is applied so as to form a uniform film on one surface of the protective film G whose surface is hydrophilized, and the adhesive layer 12 is formed to form the protective film G. Two types of film-like bodies having the adhesive layer 12 formed on one side are produced. At this time, a primer layer is applied and formed on one film-like body on the surface opposite to the surface on which the adhesive layer 12 is formed, and then the
つぎに、上記処理により得られた偏光フィルム11両面に、上記接着剤層12形成材料を用いて接着剤層12が形成された各保護フィルムGを、接着剤層12を介して貼り合わせ接着した後、40〜100℃で、1〜20分間熱処理を行うことにより、偏光フィルム11両面に保護フィルムGが強固に接着した偏光板15が得られる。このようにして、図2に示すような偏光板15を得ることができる。 Next, each protective film G in which the adhesive layer 12 is formed using the adhesive layer 12 forming material is bonded and bonded to both surfaces of the polarizing film 11 obtained by the above-described treatment via the adhesive layer 12. Then, the
このようにして得られる本発明の偏光板15としては、偏光フィルム11の厚みは50〜300μmが好適である。また、上記接着剤層12の厚みは、0.01〜10μmが好適である。さらに上記保護フィルムGの厚みは、10〜200μmが好適である。また、ハードコート層14の厚みは、0.5〜15μmが好適である。 As the
つぎに、実施例について比較例と併せて説明する。 Next, examples will be described together with comparative examples.
上記実施の形態(図1参照)と同様にして、高分子フィルムGとなるTACフィルム(コニカ社製、コニカタック4UX)を大気圧プラズマ処理装置(エア・ウォーター社製、AP−70TF−SI)を用いて大気圧プラズマにより親水化処理した。この親水化処理において、表面を親水化処理するTACフィルムGの大きさは幅70mm×厚み40μmとした。また、大気圧プラズマに用いる雰囲気ガスとして、He/F2(容量%)=99.9/0.1からなる混合ガスを用いた。なお、大気圧プラズマ発生装置における条件としては、電源として、周波数が30kHzの交流電源を用い、高圧電極1と低圧電極2の間(電極間距離3mm)に10kVの電圧を印加し、大気圧プラズマによる親水化処理工程を30秒間行った。また、大気圧プラズマ発生装置内の圧力は、102000Paとした。In the same manner as in the above embodiment (see FIG. 1), a TAC film (Konica Corporation, Konicatak 4UX) to be a polymer film G is converted into an atmospheric pressure plasma processing apparatus (Air Water, AP-70TF-SI). Was hydrophilized with atmospheric pressure plasma. In this hydrophilization treatment, the size of the TAC film G for hydrophilizing the surface was 70 mm wide × 40 μm thick. Further, a mixed gas consisting of He / F 2 (volume%) = 99.9 / 0.1 was used as the atmospheric gas used for the atmospheric pressure plasma. The conditions in the atmospheric pressure plasma generator include an AC power source having a frequency of 30 kHz as a power source, a voltage of 10 kV applied between the
大気圧プラズマに用いる雰囲気ガスとして、He/F2(容量%)=99.7/0.3からなる混合ガスを用いた。また、大気圧プラズマによる親水化処理工程を3秒間とした。それ以外は上記実施例1と同様にした。As the atmospheric gas used for the atmospheric pressure plasma, a mixed gas consisting of He / F 2 (volume%) = 99.7 / 0.3 was used. Moreover, the hydrophilization treatment process by atmospheric pressure plasma was made into 3 second. Other than that, it was the same as in Example 1 above.
大気圧プラズマに用いる雰囲気ガスとして、He/F2(容量%)=99.7/0.3からなる混合ガスを用いた。また、大気圧プラズマによる親水化処理工程を30秒間とした。それ以外は上記実施例1と同様にした。As the atmospheric gas used for the atmospheric pressure plasma, a mixed gas consisting of He / F 2 (volume%) = 99.7 / 0.3 was used. Moreover, the hydrophilization treatment process by atmospheric pressure plasma was made into 30 seconds. Other than that, it was the same as in Example 1 above.
大気圧プラズマに用いる雰囲気ガスとして、He/F2(容量%)=99.0/1.0からなる混合ガスを用いた。また、大気圧プラズマによる親水化処理工程を3秒間とした。それ以外は上記実施例1と同様にした。As the atmospheric gas used for atmospheric pressure plasma, a mixed gas consisting of He / F 2 (volume%) = 99.0 / 1.0 was used. Moreover, the hydrophilization treatment process by atmospheric pressure plasma was made into 3 second. Other than that, it was the same as in Example 1 above.
大気圧プラズマに用いる雰囲気ガスとして、He/F2(容量%)=99.0/1.0からなる混合ガスを用いた。また、大気圧プラズマによる親水化処理工程を30秒間とした。それ以外は上記実施例1と同様にした。As the atmospheric gas used for atmospheric pressure plasma, a mixed gas consisting of He / F 2 (volume%) = 99.0 / 1.0 was used. Moreover, the hydrophilization treatment process by atmospheric pressure plasma was made into 30 seconds. Other than that, it was the same as in Example 1 above.
大気圧プラズマに用いる雰囲気ガスとして、He/F2(容量%)=99.0/1.0からなる混合ガスを用いた。また、大気圧プラズマによる親水化処理工程を180秒間とした。それ以外は上記実施例1と同様にした。As the atmospheric gas used for atmospheric pressure plasma, a mixed gas consisting of He / F 2 (volume%) = 99.0 / 1.0 was used. Moreover, the hydrophilization treatment process by atmospheric pressure plasma was made into 180 second. Other than that, it was the same as in Example 1 above.
大気圧プラズマに用いる雰囲気ガスとして、He/F2(容量%)=98.0/2.0からなる混合ガスを用いた。また、大気圧プラズマによる親水化処理工程を30秒間とした。それ以外は上記実施例1と同様にした。As the atmospheric gas used for atmospheric pressure plasma, a mixed gas consisting of He / F 2 (volume%) = 98.0 / 2.0 was used. Moreover, the hydrophilization treatment process by atmospheric pressure plasma was made into 30 seconds. Other than that, it was the same as in Example 1 above.
〔比較例1〕
大気圧プラズマに用いる雰囲気ガスとして、Ar/He/CO2/CH4(容量%)=47.5/47.5/1.1/3.9からなる混合ガスを用いた。それ以外は上記実施例1と同様にした。[Comparative Example 1]
As an atmospheric gas used for atmospheric pressure plasma, a mixed gas of Ar / He / CO 2 / CH 4 (volume%) = 47.5 / 47.5 / 1.1 / 3.9 was used. Other than that, it was the same as in Example 1 above.
〔比較例2〕
大気圧プラズマに用いる雰囲気ガスとして、He/NF3(容量%)=99.0/1.0からなる混合ガスを用いた。それ以外は上記実施例1と同様にした。[Comparative Example 2]
As the atmospheric gas used for the atmospheric pressure plasma, a mixed gas consisting of He / NF 3 (volume%) = 99.0 / 1.0 was used. Other than that, it was the same as in Example 1 above.
〔比較例3〕
大気圧プラズマに用いる雰囲気ガスとして、He/CF4/O2(容量%)=89/9/2からなる混合ガスを用いた。それ以外は上記実施例1と同様にした。[Comparative Example 3]
As the atmospheric gas used for the atmospheric pressure plasma, a mixed gas consisting of He / CF 4 / O 2 (volume%) = 89/9/2 was used. Other than that, it was the same as in Example 1 above.
〔比較例4〕
大気圧プラズマに用いる雰囲気ガスとして、He/CF4(容量%)=90/10からなる混合ガスを用いた。それ以外は上記実施例1と同様にした。[Comparative Example 4]
As the atmospheric gas used for atmospheric pressure plasma, a mixed gas consisting of He / CF 4 (volume%) = 90/10 was used. Other than that, it was the same as in Example 1 above.
〔水接触角の測定〕
そして、上記実施例1〜7および比較例1〜4により親水化処理された各高分子フィルムGについて、そのフィルム表面の水による接触角を、接触角測定装置(エルマ社製のGL−700SQ)により測定した。なお、本発明においては、水接触角が25°以下のものが充分に親水化処理されたものと評価した。その結果を雰囲気ガスの組成割合および処理時間とともに下記の表1に併せて示す。(Measurement of water contact angle)
And about each polymer film G hydrophilized by the said Examples 1-7 and Comparative Examples 1-4, the contact angle by the water of the film surface is made into a contact angle measuring apparatus (GL-700SQ made from Elma). It was measured by. In the present invention, it was evaluated that a water contact angle of 25 ° or less was sufficiently hydrophilized. The results are shown in Table 1 below together with the composition ratio of the atmospheric gas and the treatment time.
上記結果から、F2ガスを含む混合ガスを用いて大気圧プラズマにより親水化処理された実施例品は、いずれも水接触角が22°以下であり、親水化処理において顕著な効果が得られたことがわかる。特に、実施例5,6では、水接触角が5°未満と非常に小さく親水化処理が一層効果的に行われたことが明らかである。From the above results, all of the example products hydrophilized by atmospheric pressure plasma using a mixed gas containing F 2 gas have a water contact angle of 22 ° or less, and a remarkable effect is obtained in the hydrophilization treatment. I understand that. In particular, in Examples 5 and 6, it is clear that the water contact angle was very small as less than 5 °, and the hydrophilization treatment was performed more effectively.
これに対して、F2ガスを用いずAr/He/CO2/CH4からなる混合ガスを使用して大気圧プラズマにより親水化処理した比較例1品は、水接触角が43.0°と大きく、実施例品に比べて親水化処理に劣るものであった。同様に、F2ガスを用いない混合ガスを使用して気圧プラズマにより親水化処理した比較例3,4品は、水接触角がそれぞれ47.0°,44.0°と大きく親水化処理に劣るものであった。また、フッ素系ガスであるNF3を含有する混合ガスを用いて大気圧プラズマにより親水化処理された比較例2品も、水接触角が41.7°と大きく、実施例品に比べて親水化処理に劣るものであった。On the other hand, the comparative example 1 product hydrophilized by atmospheric pressure plasma using a mixed gas composed of Ar / He / CO 2 / CH 4 without using F 2 gas has a water contact angle of 43.0 °. It was inferior to the hydrophilization treatment as compared with the example product. Similarly, Comparative Examples 3 and 4 which were hydrophilized by atmospheric pressure plasma using a mixed gas that did not use F 2 gas had water contact angles of 47.0 ° and 44.0 °, respectively, so that they could be hydrophilized. It was inferior. Further, the comparative example 2 product hydrophilized by atmospheric pressure plasma using a mixed gas containing NF 3 which is a fluorine-based gas has a water contact angle as large as 41.7 °, which is more hydrophilic than the example product. It was inferior to the chemical treatment.
このようにして得られた実施例1品である高分子フィルムを保護フィルムとして用いて、従来公知の方法により偏光板を作製した。すなわち、まず、2枚の保護フィルムを準備し、その片面にそれぞれPVA系接着剤を用いて塗布することにより厚み0.1μmの接着剤層を形成した。一方、メタクリル酸メチル樹脂をメチルエチルケトンとシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解してなるプライマー層形成材料を調製し、2枚の保護フィルムのうち一枚の保護フィルムの、接着剤層形成面とは反対面に、上記プライマー層形成材料を用いてプライマー層を形成した。さらに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物をメチルエチルケトンとシクロヘキサノンの混合溶媒に溶解し、これに光重合開始剤(イルガキュア907、チバガイギー社製)を加えてハードコート層形成材料を調製した。そして、上記プライマー層形成面に、上記ハードコート層形成材料を用いてハードコート層を形成した。そして、偏光フィルムの両面に、上記接着剤層付保護フィルムを接着剤層を介して接着し積層することにより偏光板(図2参照)を得た。このようにして得られた偏光板は、上記接着剤層を介して保護フィルムが良好に接着されており信頼性の高いものであった。さらに、実施例2〜10品である高分子フィルムを保護フィルムとして用いて、上記と同様にして偏光板を作製した結果、実施例1品の場合と同様、保護フィルムが良好に接着されており信頼性の高いものが得られた。 A polarizing plate was produced by a conventionally known method using the polymer film as the product of Example 1 thus obtained as a protective film. That is, first, two protective films were prepared, and an adhesive layer having a thickness of 0.1 μm was formed on each side using a PVA adhesive. On the other hand, a primer layer forming material prepared by dissolving methyl methacrylate resin in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and cyclohexanone is prepared, and one of the two protective films is on the surface opposite to the adhesive layer forming surface. A primer layer was formed using the primer layer forming material. Furthermore, a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate is dissolved in a mixed solvent of methyl ethyl ketone and cyclohexanone, and a photopolymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Geigy) is added to prepare a hard coat layer forming material. did. Then, a hard coat layer was formed on the primer layer forming surface using the hard coat layer forming material. And the polarizing plate (refer FIG. 2) was obtained by adhere | attaching and laminating | stacking the said protective film with an adhesive layer on both surfaces of a polarizing film through an adhesive layer. The polarizing plate thus obtained had high reliability because the protective film was satisfactorily bonded through the adhesive layer. Furthermore, as a result of producing a polarizing plate in the same manner as described above using the polymer film of Examples 2 to 10 as a protective film, the protective film is well adhered as in the case of Example 1 A highly reliable one was obtained.
1 高圧電極
2 低圧電極
G 高分子フィルム1
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