JP2003232919A - Polarizing plate, method for manufacturing the same and optical element - Google Patents

Polarizing plate, method for manufacturing the same and optical element

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polarizing plate having a polarizing film produced by a coating method with high shearing stress and featuring that the polarizing film is hardly scratched but easily processed and that the film gives high yield during manufacturing and excellent productivity, to provide a method for manufacturing the polarizing plate, and to provide an optical element having an antireflection layer and an antistatic layer by using the polarizing plate having excellent processing property. <P>SOLUTION: The method for manufacturing a polarizing plate is carried out by applying a composition containing at least a photoreactive dichroic dye on at least one surface of a transparent film while adding high shearing stress in the traveling direction of the transparent film so as to form a polarizing film, then by irradiating the polarizing film with UV rays to cure and further by applying a composition for a transparent resin protective layer thereon to form a transparent resin protective layer or by laminating a transparent protective film on the polarizing film. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は新規な偏光板及びそ
の製造方法に関し、この偏光板を使用した新規な光学要
素に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel polarizing plate and a method for manufacturing the same, and a novel optical element using this polarizing plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ノートパソコンの薄型、軽量化、
低コスト化が進み、それらに伴いそれらに使用される液
晶表示装置に用いられる偏光板に対しても、益々薄膜
化、低コスト化、耐久性の要求が強まっている。
2. Description of the Related Art In recent years, notebook computers have become thinner and lighter,
As the cost decreases, the demands for thinning, cost reduction, and durability of the polarizing plates used in the liquid crystal display devices used for them are increasing accordingly.

【0003】通常、偏光板はポリビニルアルコールフィ
ルムを一軸延伸してヨウ素等で染色した偏光膜に、樹脂
保護フィルムを貼り合わせて偏光板を作製しているが、
偏光膜が脆く生産中に破損したりして歩留まりが悪く、
また幅や長さが保護フィルムに対して狭く且つ短いた
め、保護フィルムもわざわざ裁断して貼り合わせたり、
大量安定生産が出来にくく、コスト、生産性が劣ってい
た。また上記偏光膜の厚さが厚く、薄膜化に対応しにく
いという問題もある。
Normally, a polarizing plate is produced by laminating a polyvinyl alcohol film uniaxially and dyeing it with iodine or the like, and attaching a resin protective film to the polarizing film.
The polarizing film is fragile and damaged during production, resulting in poor yield.
Moreover, since the width and length are narrower and shorter than the protective film, the protective film is purposely cut and stuck,
It was difficult to mass-produce stable production, and the cost and productivity were inferior. There is also a problem that the above-mentioned polarizing film is thick and it is difficult to make it thinner.

【0004】最近、米国特許第6,049,428号明
細書に、透明フィルムの上に二色性色素を含有する組成
物を塗布する際、ある方向に剪断力を与えて塗布するこ
とにより、二色性色素を配向させた偏光フィルムが開示
されている。このような方法で作られる偏光フィルム
は、軟らかい配向面を有し傷が付き易かったり、ゴミが
付着し易かったり、次工程での加工においてロスが多く
歩留まりが低下し易い。
Recently, in US Pat. No. 6,049,428, when a composition containing a dichroic dye is applied onto a transparent film, a shearing force is applied in a certain direction to apply the composition. A polarizing film in which a dichroic dye is oriented is disclosed. The polarizing film produced by such a method has a soft alignment surface, is easily scratched, is likely to be attached with dust, and has a large loss in the processing in the next step, and the yield is likely to decrease.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、新規な偏光
板及びその製造方法、またそれを用いた光学要素を提供
しようとするもので、本発明の目的は、塗布方式で高い
ずり応力を塗布組成物に与えて作製した偏光膜を用いて
偏光板を製造する過程において、耐傷性、易加工性、高
収率、優れた生産性を有する偏光板及びその製造方法を
提供することにあり、本発明の第2の目的は、上記偏光
板を用いた反射防止層や帯電防止層を有する光学要素を
提供することにある。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is to provide a novel polarizing plate, a method for producing the same, and an optical element using the same, and an object of the present invention is to obtain a high shear stress by a coating method. In the process of manufacturing a polarizing plate using a polarizing film produced by applying it to a coating composition, there is provided a polarizing plate having scratch resistance, easy processability, high yield, and excellent productivity, and a manufacturing method thereof. A second object of the present invention is to provide an optical element having an antireflection layer or an antistatic layer using the above polarizing plate.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、延伸ポリビニ
ルアルコールフィルム−ヨウ素系偏光フィルムを使用せ
ずに、光反応性基を有しない二色性色素または光反応性
二色性色素を使用して新規な方法で偏光板を作製する方
法を提供するものである。
The present invention uses a dichroic dye having no photoreactive group or a photoreactive dichroic dye without using a stretched polyvinyl alcohol film-iodine type polarizing film. And a novel method for producing a polarizing plate.

【0007】前記米国特許第6,049,428号明細
書に記載されている偏光フィルムの製造方法では偏光フ
ィルム配向膜の表面は傷つきやすくそのままでは偏光板
として使用出来ない。
In the method for producing a polarizing film described in the above-mentioned US Pat. No. 6,049,428, the surface of the polarizing film alignment film is easily scratched and cannot be used as it is as a polarizing plate.

【0008】本発明は、下記のごとく透明フィルム上
に、特殊な方法で作製する偏光膜の膜面を出来るだけ早
い時期に保護層または保護フィルムを付加して、耐傷
性、易加工性、高収率、優れた生産性を有する偏光板を
製造することにある。また、更なる本発明は、偏光膜自
体を光反応性基を有する化合物等により一度作られた偏
光膜を強固で乱されにくいものにし、更にその表面を保
護するという優れた偏光板を製造するものである。
According to the present invention, a protective layer or a protective film is added as early as possible to the film surface of a polarizing film produced by a special method on a transparent film as described below to obtain scratch resistance, easy workability and high processability. It is to produce a polarizing plate having high yield and excellent productivity. Further, the present invention provides an excellent polarizing plate in which the polarizing film itself is made strong and less likely to be disturbed by the polarizing film once made of a compound having a photoreactive group or the like, and the surface thereof is protected. It is a thing.

【0009】本発明は、下記の構成よりなる。 (1) 移送する透明フィルムの少なくとも一面に少な
くとも光反応性基を有しない二色性色素を含有する組成
物を該透明フィルムの移送方向に対して高いずり応力を
与えながら塗布して偏光膜を形成した後、該偏光膜の上
に透明樹脂保護層組成物を塗布して透明樹脂保護層を形
成させるか、または該偏光膜の上に透明保護フィルムを
貼り合わせることを特徴とする偏光板の製造方法。
The present invention has the following constitution. (1) A polarizing film is formed by applying a composition containing a dichroic dye having no photoreactive group to at least one surface of a transparent film to be transferred while giving a high shear stress in the transfer direction of the transparent film. After forming, a transparent resin protective layer composition is applied onto the polarizing film to form a transparent resin protective layer, or a transparent protective film is laminated on the polarizing film. Production method.

【0010】(2) 前記少なくとも光反応性基を有し
ない二色性色素を含有する組成物が光反応性基を有しな
い配向性化合物を含有することを特徴とする(1)に記
載の偏光板の製造方法。
(2) The polarized light as described in (1), wherein the composition containing at least a dichroic dye having no photoreactive group contains an alignment compound having no photoreactive group. Method of manufacturing a plate.

【0011】(3) 移送する透明フィルムの少なくと
も一面に少なくとも光反応性基を有しない二色性色素及
び配向性基を有しない光反応性化合物を含有する組成物
を該透明フィルムの移送方向に対して高いずり応力を与
えながら塗布して偏光膜を形成した後、該偏光膜に紫外
線を照射して硬化させ、その上に透明樹脂保護層組成物
を塗布して透明樹脂保護層を形成させるか、または該偏
光膜の上に透明保護フィルムを貼り合わせることを特徴
とする偏光板の製造方法。
(3) A composition containing a dichroic dye having no photoreactive group and a photoreactive compound having no aligning group on at least one surface of the transparent film to be transferred in the transfer direction of the transparent film. On the other hand, after applying a high shear stress to form a polarizing film, the polarizing film is irradiated with ultraviolet rays to be cured, and a transparent resin protective layer composition is applied thereon to form a transparent resin protective layer. Alternatively, a method for producing a polarizing plate, which comprises laminating a transparent protective film on the polarizing film.

【0012】(4) 前記少なくとも光反応性基を有し
ない二色性色素及び配向性基を有しない光反応性化合物
を含有する組成物が光反応性基を有しない配向性化合物
を含有することを特徴とする(3)に記載の偏光板の製
造方法。
(4) The composition containing at least the dichroic dye having no photoreactive group and the photoreactive compound having no photoreactive group contains an alignment compound having no photoreactive group. (3) The method for producing a polarizing plate according to (3).

【0013】(5) 移送する透明フィルムの少なくと
も一面に少なくとも光反応性基を有しない二色性色素及
び光反応性配向性化合物を含有する組成物を該透明フィ
ルムの移送方向に対して高いずり応力を与えながら塗布
して偏光膜を形成した後、該偏光膜に紫外線を照射して
硬化させ、その上に透明樹脂保護層組成物を塗布して透
明樹脂保護層を形成させるか、または該偏光膜の上に透
明保護フィルムを貼り合わせることを特徴とする偏光板
の製造方法。
(5) A composition containing a dichroic dye having no photoreactive group and a photoreactive aligning compound on at least one surface of the transparent film to be transferred is highly sheared with respect to the transfer direction of the transparent film. After applying a stress to form a polarizing film, the polarizing film is irradiated with ultraviolet rays to be cured, and a transparent resin protective layer composition is applied thereon to form a transparent resin protective layer, or A method for producing a polarizing plate, which comprises laminating a transparent protective film on a polarizing film.

【0014】(6) 前記少なくとも光反応性基を有し
ない二色性色素及び光反応性配向性化合物を含有する組
成物が光反応性基を有しない配向性化合物を含有するこ
とを特徴とする(5)に記載の偏光板の製造方法。
(6) The composition containing at least the dichroic dye having no photoreactive group and the photoreactive alignment compound contains an alignment compound having no photoreactive group. The method for producing a polarizing plate according to (5).

【0015】(7) 移送する透明フィルムの少なくと
も一面に少なくとも光反応性二色性色素を含有する組成
物を該透明フィルムの移送方向に対して高いずり応力を
与えながら塗布して偏光膜を形成した後、該偏光膜に紫
外線を照射して硬化させ、その上に透明樹脂保護層組成
物を塗布して透明樹脂保護層を形成させるか、または該
偏光膜の上に透明保護フィルムを貼り合わせることを特
徴とする偏光板の製造方法。
(7) A polarizing film is formed by applying a composition containing at least a photoreactive dichroic dye to at least one surface of a transparent film to be transferred while giving a high shear stress in the transfer direction of the transparent film. After that, the polarizing film is irradiated with ultraviolet rays to be cured, and a transparent resin protective layer composition is applied thereon to form a transparent resin protective layer, or a transparent protective film is laminated on the polarizing film. A method of manufacturing a polarizing plate, comprising:

【0016】(8) 前記少なくとも光反応性二色性色
素を含有する組成物が光反応性基を有しない配向性化合
物を含有することを特徴とする(7)に記載の偏光板の
製造方法。
(8) The method for producing a polarizing plate as described in (7), wherein the composition containing at least the photoreactive dichroic dye contains an aligning compound having no photoreactive group. .

【0017】(9) 前記少なくとも光反応性二色性色
素を含有する組成物が配向性基を有しない光反応性化合
物を含有することを特徴とする(7)または(8)に記
載の偏光板の製造方法。
(9) The polarized light as described in (7) or (8), wherein the composition containing at least the photoreactive dichroic dye contains a photoreactive compound having no alignment group. Method of manufacturing a plate.

【0018】(10) 前記少なくとも光反応性二色性
色素を含有する組成物が光反応性配向性化合物を含有す
ることを特徴とする(7)乃至(9)の何れか1項に記
載の偏光板の製造方法。
(10) The composition according to any one of (7) to (9), wherein the composition containing at least the photoreactive dichroic dye contains a photoreactive alignment compound. Method for manufacturing polarizing plate.

【0019】(11) 前記少なくとも光反応性二色性
色素を含有する組成物が光反応性基を有しない二色性色
素を含有することを特徴とする(7)乃至(10)の何
れか1項に記載の偏光板の製造方法。
(11) The composition containing at least the photoreactive dichroic dye contains a dichroic dye having no photoreactive group, (7) to (10) Item 1. A method for producing a polarizing plate according to item 1.

【0020】(12) 前記透明樹脂保護層組成物が光
反応性化合物を含有し、該透明樹脂保護層組成物を塗布
後、紫外線を照射することを特徴とする(1)乃至(1
1)の何れか1項に記載の偏光板の製造方法。
(12) The transparent resin protective layer composition contains a photoreactive compound, and after the transparent resin protective layer composition is applied, it is irradiated with ultraviolet rays (1) to (1).
The method for producing a polarizing plate according to any one of 1).

【0021】(13) 透明樹脂保護層を形成させる前
または透明保護フィルムを貼り合わせる前に、偏光膜の
表面を表面処理するかまたは接着剤層を塗設することを
特徴とする(1)乃至(12)の何れか1項に記載の偏
光板の製造方法。
(13) Before the transparent resin protective layer is formed or before the transparent protective film is laminated, the surface of the polarizing film is surface-treated or an adhesive layer is applied (1) to 1). The method for producing a polarizing plate according to any one of (12).

【0022】(14) 透明保護フィルムを貼り合わせ
る面に予め表面処理することを特徴とする(1)乃至
(13)の何れか1項に記載の偏光板の製造方法。
(14) The method for producing a polarizing plate as described in any one of (1) to (13), characterized in that the surface on which the transparent protective film is adhered is previously treated.

【0023】(15) 透明フィルムを表面処理した
後、その面に偏光膜を形成することを特徴とする(1)
乃至(14)の何れか1項に記載の偏光板の製造方法。
(15) A transparent film is surface-treated, and then a polarizing film is formed on the surface (1)
A method for manufacturing a polarizing plate according to any one of (1) to (14).

【0024】(16) 表面処理がコロナ放電であるこ
とを特徴とする(13)乃至(15)の何れか1項に記
載の偏光板の製造方法。
(16) The method for producing a polarizing plate as described in any one of (13) to (15), wherein the surface treatment is corona discharge.

【0025】(17) 透明フィルムがセルロースエス
テルフィルムであることを特徴とする(1)乃至(1
6)の何れか1項に記載の偏光板の製造方法。
(17) The transparent film is a cellulose ester film (1) to (1)
The method for producing a polarizing plate according to any one of 6).

【0026】(18) 透明保護フィルムがセルロース
エステルフィルムであることを特徴とする(1)乃至
(17)の何れか1項に記載の偏光板の製造方法。
(18) The method for producing a polarizing plate as described in any one of (1) to (17), wherein the transparent protective film is a cellulose ester film.

【0027】(19) (1)乃至(18)の何れか1
項に記載の方法で製造されたことを特徴とする偏光板。
(19) Any one of (1) to (18)
A polarizing plate manufactured by the method described in the item.

【0028】(20) (19)に記載の偏光板の何れ
かの表面に直接または他の層を介して反射防止層を有す
ることを特徴とする光学要素。
(20) An optical element having an antireflection layer on any surface of the polarizing plate described in (19) directly or through another layer.

【0029】(21) (19)に記載の偏光板が、予
め直接または他の層を介して反射防止層を有する透明フ
ィルムまたは透明保護フィルムの、反射防止層のない面
と偏光膜とを貼り合わせたものであることを特徴とする
光学要素。
(21) In the polarizing plate according to (19), a surface of a transparent film or a transparent protective film having an antireflection layer directly or through another layer is attached to the surface without the antireflection layer and the polarizing film. An optical element characterized by being combined.

【0030】(22) 前記反射防止層が、大気圧もし
くはその近傍の圧力下、対向電極間に高周波電圧を印加
し、該電極間に導入された反応ガスをプラズマ状態と
し、該プラズマ状態の反応ガスに透明フィルム面をさら
しプラズマ放電処理して形成したものであることを特徴
とする(20)または(21)に記載の光学要素。
(22) The antireflection layer applies a high-frequency voltage between the opposing electrodes under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof to bring the reaction gas introduced between the electrodes into a plasma state, and the reaction in the plasma state is performed. The optical element as described in (20) or (21), which is formed by exposing the transparent film surface to gas and performing plasma discharge treatment.

【0031】(23) 前記他の層がクリアハードコー
ト層または防眩層であることを特徴とする(20)乃至
(22)の何れか1項に記載の光学要素。
(23) The optical element according to any one of (20) to (22), wherein the other layer is a clear hard coat layer or an antiglare layer.

【0032】(24) クリアハードコート層組成物ま
たは防眩層組成物が前記透明樹脂保護層組成物と同一組
成であることを特徴とする(23)に記載の光学要素。
(24) The optical element as described in (23), wherein the clear hard coat layer composition or the antiglare layer composition has the same composition as the transparent resin protective layer composition.

【0033】(25) (19)に記載の偏光板の少な
くとも1面に帯電防止層を有することを特徴とする光学
要素。
(25) An optical element having an antistatic layer on at least one surface of the polarizing plate described in (19).

【0034】(26) (19)に記載の偏光板が、予
め直接または他の層を介して帯電防止層を有する透明フ
ィルムまたは透明保護フィルムの、帯電防止層のない面
と偏光膜とを貼り合わせたものであることを特徴とする
光学要素。
(26) In the polarizing plate according to (19), a surface of a transparent film or a transparent protective film having an antistatic layer, which has an antistatic layer in advance or directly through another layer, is attached to a polarizing film. An optical element characterized by being combined.

【0035】(27) 反射防止層を有する偏光板の最
外層に帯電防止層を有することを特徴とする(20)乃
至(24)の何れか1項に記載の光学要素。
(27) The optical element as described in any one of (20) to (24), which has an antistatic layer as the outermost layer of the polarizing plate having an antireflection layer.

【0036】(28) 帯電防止層が、錫化合物を反応
ガスに使用した大気圧プラズマ放電処理方法、非晶質酸
化錫を含有する組成物を塗布する方法及び架橋型アイオ
ネン高分子を含有する組成物を塗布する方法から選ばれ
る方法により形成されたものであることを特徴とする
(25)乃至(27)の何れか1項に記載の光学要素。
(28) The antistatic layer comprises an atmospheric pressure plasma discharge treatment method using a tin compound as a reaction gas, a method of applying a composition containing amorphous tin oxide, and a composition containing a crosslinked ionene polymer. The optical element according to any one of (25) to (27), which is formed by a method selected from the methods of applying an object.

【0037】本発明を詳述する。先ず、本発明の偏光板
及び光学要素の主な層構成について以下に簡単に示す。
ここで、1)〜4)は偏光板の基本的な構成の例であ
り、この構成物を=偏光板として表している。また5)
〜8)は偏光板を使用した光学要素の構成の例であり、
これを=光学要素として表している。なお、透明フィル
ム、透明保護フィルム、偏光膜表面等の表面処理につい
ては省略してある。
The present invention will be described in detail. First, the main layer configurations of the polarizing plate and the optical element of the present invention will be briefly described below.
Here, 1) to 4) are examples of the basic configuration of the polarizing plate, and this component is represented as a = polarizing plate. See also 5)
8) is an example of the structure of an optical element using a polarizing plate,
This is represented as = optical element. Surface treatments such as a transparent film, a transparent protective film and a polarizing film surface are omitted.

【0038】 1)透明フィルム/偏光膜/透明樹脂保護層=偏光板 2)透明フィルム/偏光膜/透明保護フィルム=偏光板 3)透明フィルム/偏光膜/接着層/透明樹脂保護層=
偏光板 4)透明フィルム/偏光膜/接着層/透明保護フィルム
=偏光板 5)偏光板/反射防止層=光学要素 6)偏光板/クリアハードコート層または防眩層/反射
防止層=光学要素 7)偏光板/帯電防止層=光学要素 8)帯電防止層/偏光板/反射防止層=光学要素。
1) transparent film / polarizing film / transparent resin protective layer = polarizing plate 2) transparent film / polarizing film / transparent protective film = polarizing plate 3) transparent film / polarizing film / adhesive layer / transparent resin protective layer =
Polarizing plate 4) Transparent film / polarizing film / adhesive layer / transparent protective film = polarizing plate 5) polarizing plate / antireflection layer = optical element 6) polarizing plate / clear hard coat layer or antiglare layer / antireflection layer = optical element 7) Polarizing plate / antistatic layer = optical element 8) Antistatic layer / polarizing plate / antireflection layer = optical element.

【0039】また、本発明に使用する用語について説明
する。光反応性基を有しない二色性色素とは、後述の光
反応性二色性色素と異なり光反応性のない二色性色素を
いう。光反応性二色性色素は光反応性基を置換基として
有する二色性色素をいう。光反応性基を有しない配向性
化合物とは後述の光反応性配向性化合物と異なり光反応
性のない配向性化合物をいう。また光反応性配向性化合
物とは置換基に光反応性基を有する配向性化合物をい
う。更に、配向性基を有しない光反応性化合物とは配向
性がなく一般の光反応性を有する化合物をいい、紫外線
硬化性樹脂のようなものをいう場合もある。なお、単
に、二色性色素あるいは配向性化合物という場合には、
大きな概念でのこれらの化合物を指す場合に使用し、本
発明においては上記のように光反応性基を有しないある
いは光反応性なる語を付けて限定して使用する。
The terms used in the present invention will be described. The dichroic dye having no photoreactive group refers to a dichroic dye having no photoreactivity, which is different from the photoreactive dichroic dye described below. The photoreactive dichroic dye refers to a dichroic dye having a photoreactive group as a substituent. The alignment compound having no photoreactive group refers to an alignment compound having no photoreactivity, which is different from the photoreactive alignment compound described below. Further, the photoreactive alignment compound means an alignment compound having a photoreactive group as a substituent. Further, the photoreactive compound having no aligning group means a compound having no aligning property and having general photoreactivity, and may also be a UV-curable resin. Incidentally, when simply referring to a dichroic dye or an orientation compound,
It is used when referring to these compounds in a broad concept, and in the present invention, as described above, it is used by limiting with or not having a photoreactive group or a photoreactive group.

【0040】本発明の基本的な偏光膜は、移送する透明
フィルムの上に、少なくとも光反応性基を有しない二色
性色素を含有する組成物を、該透明フィルムの移送する
方向に対して高ずり応力をかけて塗布し、該光反応性基
を有しない二色性色素を配向させることによって形成さ
れる。更に光反応性基を有しない二色性色素と共に用い
る光反応性基を有しない配向性化合物、配向性基を有し
ない光反応性化合物、光反応性配向化合物等を該組成物
中に含有させることにより配向度を向上させ、またくず
れにくい安定化した配向とする高品質の偏光膜を形成す
ることが出来る。更に光反応性二色性色素を配向させ、
光照射により配向を安定させ、その上、光反応性二色性
色素と共に用いる光反応性基を有しない二色性色素、光
反応性基を有しない配向性化合物、配向性基を有しない
光反応性化合物、光反応性配向化合物等を該組成物中に
含有させることにより配向度を向上させ、上記以上にく
ずれにくい安定化した配向とする高品質の偏光膜を形成
することが出来る。
The basic polarizing film of the present invention comprises a transparent film to be transferred, and a composition containing at least a dichroic dye having no photoreactive group, in the direction of transfer of the transparent film. It is formed by applying high shear stress and orienting the dichroic dye having no photoreactive group. Furthermore, an alignment compound having no photoreactive group used with a dichroic dye having no photoreactive group, a photoreactive compound having no alignment group, a photoreactive alignment compound, etc. is contained in the composition. As a result, it is possible to improve the orientation degree and form a high-quality polarizing film having a stable orientation that does not easily collapse. Furthermore, orient the photoreactive dichroic dye,
Stabilizes the alignment by light irradiation, and is used with a photoreactive dichroic dye, and also has no photoreactive group, a dichroic dye that does not have a photoreactive group, and a light that does not have an alignment group. By containing a reactive compound, a photoreactive alignment compound, etc. in the composition, the degree of alignment can be improved, and a high-quality polarizing film having stable alignment that is resistant to collapse as described above can be formed.

【0041】本発明に係る光反応性基を有しない二色性
色素または光反応性二色性色素は、色素のπ電子の分子
軌道の方向性を有し、遷移モーメントの方向性と分子の
長軸方向が出来るだけ一致するもので、配向し易い性質
を有するものである。本発明においては光反応性基を有
しない二色性色素または光反応性二色性色素だけでも高
ずり応力をかけることによって配向し易く、更に光反応
性基を有しない配向性化合物を一緒にして高ずり応力を
かけることによって、より優れた配向性を示す。また、
本発明において、光反応性基を有しない二色性色素また
は光反応性二色性色素は二色性色素を主鎖に有するか、
または側鎖に有する高分子二色性色素であってもよい。
更に、本発明における二色性色素は光反応性二色性色素
とすることにより、配向後、光を照射することによって
高分子化され、また架橋構造化されることによって後の
外力、例えばその上に塗布される組成物の溶媒によって
乱されにくくなり、より安定した偏光膜を形成すること
が出来る。
The dichroic dye having no photoreactive group or the photoreactive dichroic dye according to the present invention has the direction of the molecular orbital of the π electron of the dye, the direction of the transition moment and the direction of the molecule. The major axis directions match as much as possible, and they have the property of being easily oriented. In the present invention, a dichroic dye having no photoreactive group or a photoreactive dichroic dye alone can be easily aligned by applying high shear stress, and an orienting compound having no photoreactive group can be used together. By exerting a high shear stress on the surface, more excellent orientation is exhibited. Also,
In the present invention, the dichroic dye having no photoreactive group or the photoreactive dichroic dye has a dichroic dye in its main chain,
Alternatively, it may be a polymer dichroic dye having a side chain.
Further, the dichroic dye in the present invention is a photoreactive dichroic dye, and after alignment, the dichroic dye is polymerized by irradiation with light, and is crosslinked to form a later external force, for example, It is less likely to be disturbed by the solvent of the composition applied on the top, and a more stable polarizing film can be formed.

【0042】本発明に有用な光反応性基を有しない二色
性色素または光反応性二色性色素は、いろいろな色相を
有し、配向した後の偏光膜の透過率は50%以下であ
り、偏光度は90%以上である。
The dichroic dye having no photoreactive group or the photoreactive dichroic dye useful in the present invention has various hues, and the transmittance of the polarizing film after alignment is 50% or less. Yes, the degree of polarization is 90% or more.

【0043】本発明に有用な光反応性基を有しない二色
性色素は、一般に二色性色素といわれるものであれば、
制限なく使用出来る。本発明に有用な光反応性基を有し
ない二色性色素(DCと略し番号を付した)を下記に例
示する。
The dichroic dye having no photoreactive group useful in the present invention may be any dichroic dye which is generally called a dichroic dye.
Can be used without restrictions. The dichroic dyes (abbreviated as DC and numbered) having no photoreactive group useful in the present invention are exemplified below.

【0044】[0044]

【化1】 [Chemical 1]

【0045】[0045]

【化2】 [Chemical 2]

【0046】[0046]

【化3】 [Chemical 3]

【0047】[0047]

【化4】 [Chemical 4]

【0048】[0048]

【化5】 [Chemical 5]

【0049】[0049]

【化6】 [Chemical 6]

【0050】本発明において、光反応性基を有しない配
向性化合物とは、様々な配向方法により配向する、例え
ば一般に高分子フィルムのような延伸による配向、延伸
された高分子フィルムによる配向、ラビングによる配
向、光配向による配向、剥離による配向等の操作により
一方向に配向し得る化合物をいい、本発明においてはこ
のような性質を有する配向性化合物であれば制限なく使
用出来る。例えば、ネマティック液晶化合物、スメクテ
ィック液晶化合物、延伸などにより結晶性を示すような
高分子化合物、高分子液晶等を挙げることが出来る。本
発明においては、かかる配向性化合物を配向させる技術
は、配向性化合物の溶液を透明フィルム上に塗布方式を
用い高ずり応力を与えることによって配向させるもので
ある。
In the present invention, the aligning compound having no photoreactive group means that it is aligned by various alignment methods, for example, generally oriented by stretching such as a polymer film, oriented by a stretched polymer film, and rubbing. A compound that can be oriented in one direction by an operation such as orientation by (1), orientation by photo-alignment, orientation by peeling, etc. In the present invention, an orienting compound having such properties can be used without limitation. For example, a nematic liquid crystal compound, a smectic liquid crystal compound, a polymer compound that exhibits crystallinity by stretching, a polymer liquid crystal, and the like can be given. In the present invention, the technique of orienting the orienting compound is to orient the solution of the orienting compound on the transparent film by applying a high shear stress using a coating method.

【0051】本発明に有用な光反応性基を有しない配向
性化合物(OCと略して番号を付してある)について以
下に例示する。
Orientation compounds having no photoreactive group (numbered as OC for short) which are useful in the present invention are exemplified below.

【0052】[0052]

【化7】 [Chemical 7]

【0053】[0053]

【化8】 [Chemical 8]

【0054】[0054]

【化9】 [Chemical 9]

【0055】[0055]

【化10】 [Chemical 10]

【0056】[0056]

【化11】 [Chemical 11]

【0057】本発明において、上記光反応性基を有しな
い配向性化合物を異種のものを組み合わせて使用しても
よく、好ましい。
In the present invention, different kinds of alignment compounds having no photoreactive group may be used in combination, which is preferable.

【0058】本発明における少なくとも光反応性基を有
しない二色性色素、または光反応性基を有しない二色性
色素及び光反応性基を有しない配向性化合物を含有する
組成物を透明フィルムの上に高いずり応力をかけて塗布
し、光反応性基を有しない二色性色素等を配向させる方
法としては、配向することが出来る方法であれば制限な
く使用出来るが、例えば、ダイを使用する方法、ドクタ
ーブレードを使用する方法、逆回転ロールを使用する方
法、スクイーズロールを使用する方法、直径の非常に小
さなロールを高速で回転させる方法、非常に狭いスロッ
トから液を流出させる方法、フィルムの上に液溜まりを
作りこれを非常に細かく短い櫛状のものでしごく方法、
また、下記のような出口が入り口より狭くなっているブ
ロックを使用する方法とを挙げることが出来るが、高い
ずり応力を形成出来るような塗布方法であれば制限なく
使用出来る。
A transparent film is prepared from a composition containing at least a dichroic dye having no photoreactive group, or a dichroic dye having no photoreactive group and an aligning compound having no photoreactive group in the present invention. As a method for orienting a dichroic dye or the like having no photoreactive group by applying a high shear stress on it, any method can be used without limitation as long as it can be oriented. How to use, how to use doctor blade, how to use counter-rotating rolls, how to use squeeze rolls, how to rotate a roll with a very small diameter at high speed, how to drain the liquid from a very narrow slot, How to make a liquid pool on the film and squeeze it with a very fine and short comb
Further, there can be mentioned a method of using a block whose outlet is narrower than the inlet as described below, but any coating method capable of forming a high shear stress can be used without limitation.

【0059】本発明において偏光膜を作製する上での高
いずり応力は0.8N/cm幅以上、好ましくは2〜1
00N/cm幅をかけることが好ましい。透明フィルム
の移送速度は2〜150m/分、好ましくは10〜10
0m/分である。透明フィルムの移送速度に合わせて塗
布装置を選ぶことが好ましい。
In the present invention, the high shear stress in producing the polarizing film is 0.8 N / cm width or more, preferably 2-1.
It is preferable to apply a width of 00 N / cm. The transfer rate of the transparent film is 2 to 150 m / min, preferably 10 to 10
It is 0 m / min. It is preferable to select a coating device according to the transfer speed of the transparent film.

【0060】組成物を塗布デバイスに供給する手段は、
非常に少ない容量を供給するため、スリット幅の狭いダ
イで供給する手段、ダイから間接に供給し回転ロールに
転写して更にブレードやロールで量をコントロールする
手段等を用いることが出来るが、特に制限はない。
Means for delivering the composition to the coating device are:
In order to supply a very small capacity, it is possible to use a means for supplying with a die having a narrow slit width, a means for indirectly supplying from the die and transferring to a rotating roll and further controlling the amount with a blade or a roll, but especially There is no limit.

【0061】本発明に係わる光反応性基を有しないある
いは光反応性二色性色素を含有する組成物またはこれら
二色性色素及び光反応性基を有しないあるいは光反応性
配向性化合物を含有する組成物に使用する溶媒は、上記
二色性色素や光反応性基を有しないあるいは光反応性配
向性化合物が、スルホン酸塩、カルボン酸塩またはアン
モニウム塩を置換基として有する化合物である場合に
は、塗布溶媒は水系またはアルコール系のものを用い、
水溶性基を有しない化合物の場合には有機溶媒系のもの
を用いる。
A composition containing no photoreactive group or containing a photoreactive dichroic dye according to the present invention, or a composition containing these dichroic dyes and no photoreactive group or containing a photoreactive alignment compound When the solvent used in the composition has a dichroic dye or a photoreactive group or a photoreactive alignment compound is a compound having a sulfonate, carboxylate or ammonium salt as a substituent For, the coating solvent used is water-based or alcohol-based,
In the case of a compound having no water-soluble group, an organic solvent type compound is used.

【0062】水系溶媒としては水、または水と相溶性の
有機溶媒を混合して用いる。水と相溶性の有機溶媒とし
てはメタノール、エタノール、プロパノール、アセト
ン、ジオキサン、ピロリドン、ホルムアミド、ジメチル
ホルムアミド、ジメチルスルホオキシド等を挙げること
が出来る。また、有機溶媒系溶媒としては二色性色素を
溶解し得るものが選ばれる。例えば、メチレンクロライ
ド、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン、メチルエチル
ケトン、フラン、1,3−ジオキソラン、ホルムアミ
ド、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホオキシド、
含フッ素アルコール(例えば、2−フルオロエタノー
ル、2,2,2−トリフルオロエタノール、2,2,
3,3,3−ペンタフルオロプロパノール等)等を挙げ
ることが出来る。
As the aqueous solvent, water or an organic solvent compatible with water is mixed and used. Examples of the organic solvent compatible with water include methanol, ethanol, propanol, acetone, dioxane, pyrrolidone, formamide, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide and the like. Further, as the organic solvent-based solvent, one that can dissolve the dichroic dye is selected. For example, methylene chloride, methyl acetate, ethyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, furan, 1,3-dioxolane, formamide, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide,
Fluorine-containing alcohol (eg, 2-fluoroethanol, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,2
3,3,3-pentafluoropropanol etc.) and the like.

【0063】本発明における組成物中の二色性色素の固
形分濃度は1〜50質量%が好ましく、2〜20質量%
がより好ましい。
The solid content concentration of the dichroic dye in the composition of the present invention is preferably 1 to 50% by mass, and 2 to 20% by mass.
Is more preferable.

【0064】偏光膜の乾燥膜厚は0.1〜10μmが好
ましく、より好ましくは0.2〜5μm、更に好ましく
は0.3〜1μm、特に好ましくは0.3〜0.7μm
である。
The dry film thickness of the polarizing film is preferably 0.1 to 10 μm, more preferably 0.2 to 5 μm, further preferably 0.3 to 1 μm, and particularly preferably 0.3 to 0.7 μm.
Is.

【0065】透明フィルムの上に形成された偏光膜は非
常に外力に弱く、次工程において傷が付き易く、また有
機溶媒により再溶解される場合もあり、その結果、偏光
が乱され使用に耐えないものになってしまう。
The polarizing film formed on the transparent film is very weak against external force, is easily scratched in the next step, and may be redissolved in an organic solvent. It becomes something that does not exist.

【0066】本発明は、上述のような形成された偏光膜
の偏光の乱れを克服するために、下記のような方法によ
って保護したり、強化することが出来る。
The present invention can be protected or strengthened by the following methods in order to overcome the polarization disorder of the polarizing film formed as described above.

【0067】 a:偏光膜の上に透明樹脂保護層を形成する b:偏光膜の上に透明保護フィルムを貼り合わせる c:偏光膜中に配向性基を有しない光反応性化合物を含
有させる d:偏光膜中に光反応性配向性化合物を含有させる e:偏光膜中に光反応性二色性色素を含有させる f:aの偏光膜の上の透明樹脂保護層中に光反応性化合
物を含有させる。
A: forming a transparent resin protective layer on the polarizing film b: laminating a transparent protective film on the polarizing film c: incorporating a photoreactive compound having no alignment group into the polarizing film d : The photoreactive alignment compound is contained in the polarizing film e: The photoreactive dichroic dye is contained in the polarizing film f: The photoreactive compound is contained in the transparent resin protective layer on the polarizing film of a Include.

【0068】更に、a〜f個々2種以上の組み合わせと
することも好ましい。本発明においては、偏光膜が出来
上がり次第出来るだけ早い時期に、偏光膜の上に透明樹
脂保護層を被覆したり、透明保護フィルムを貼り合わせ
て、偏光膜形成後に紫外線を照射して偏光膜を強化する
ことが好ましい。
Furthermore, it is also preferable to use a combination of two or more of a to f. In the present invention, as soon as the polarizing film is completed, as soon as possible, a transparent resin protective layer is coated on the polarizing film, or a transparent protective film is attached, and the polarizing film is irradiated with ultraviolet rays to form the polarizing film. It is preferable to strengthen.

【0069】特に、c〜eは、塗布配向後、紫外線を照
射して偏光膜自体を硬化するため、表面の硬度が増し外
力や溶媒に対して安定となるばかりでなく、配向された
光反応性基を有しない二色性色素や光反応性基を有しな
い配向性化合物の偏光状態を固定化し、組成物を塗設後
配向が乱れることを押さえ、偏光性を極めて安定に維持
することが出来るという特徴がある。
Particularly, in the cases of c to e, after the coating orientation, the polarizing film itself is cured by irradiating with ultraviolet rays, so that the hardness of the surface is increased to be stable against external force and solvent, and the oriented photoreaction is caused. Fixing the polarization state of the dichroic dye having no functional group or the orientation compound having no photoreactive group, suppressing the disorder of the orientation after coating the composition, and maintaining the polarization property extremely stable. There is a feature that you can do it.

【0070】このような透明樹脂保護層の塗設、透明保
護フィルムの貼り合わせや、紫外線照射は、偏光膜の形
成と同じラインの中(インライン)で行うのが好まし
い。
The coating of the transparent resin protective layer, the bonding of the transparent protective film, and the irradiation of ultraviolet rays are preferably carried out in the same line (in-line) as the formation of the polarizing film.

【0071】本発明において、光反応性基を有しないあ
るいは光反応性二色性色素または光反応性基を有しない
あるいは光反応性配向性化合物を含有する組成物には、
樹脂バインダーを含有させてもよく、特に光反応性基を
有しないあるいは光反応性二色性色素または光反応性基
を有しないあるいは光反応性配向性化合物が高分子でな
い場合は、樹脂バインダーを含有させることが望まし
い。樹脂バインダーとしては、光反応性基を有しないあ
るいは光反応性二色性色素または光反応性基を有しない
あるいは光反応性配向性化合物の親水性的性質または疎
水性的性質に応じて、水溶性バインダーと疎水性バイン
ダーを使い分ければよい。
In the present invention, the composition containing no photoreactive group or a photoreactive dichroic dye or a photoreactive group-free or photoreactive aligning compound is
A resin binder may be contained, and in particular, when a photoreactive dichroic dye or a photoreactive group-free photoreactive group-free or photoreactive alignment compound is not a polymer, a resin binder is used. It is desirable to include it. The resin binder may be a water-soluble resin having no photoreactive group or having no photoreactive dichroic dye or photoreactive group, or depending on the hydrophilic property or hydrophobic property of the photoreactive alignment compound. It suffices to selectively use a hydrophilic binder and a hydrophobic binder.

【0072】本発明において、水溶性バインダーとして
は、例えば、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル加
水分解物、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミダゾ
ール塩酸塩、ポリアクリルアミド、ポリメチルアクリル
アミド、ポリモルホリノアクリルアミド、ポリアクリル
酸及びその塩、ポリアクリル酸ポリエチレングリコール
エステル、あるいはこれらの共重合物、ゼラチン、アル
ギン酸塩、カルボキシメチルセルロース塩等を挙げるこ
とが出来る。また、ポリマーラテックスをバインダーと
して使用してもよい。ポリマーラテックスとしては下記
の疎水性バインダーと同様な成分を有していることが好
ましく、その中に親水性の成分、例えば2−ヒドロキシ
アクリレート、ピロリドンのような成分を一部に有して
いることがより好ましい。
In the present invention, examples of the water-soluble binder include polyvinyl alcohol, polyvinyl acetate hydrolyzate, polyvinylpyrrolidone, polyvinylimidazole hydrochloride, polyacrylamide, polymethylacrylamide, polymorpholinoacrylamide, polyacrylic acid and salts thereof. , Polyacrylic acid polyethylene glycol ester, copolymers thereof, gelatin, alginates, carboxymethyl cellulose salts and the like. Further, polymer latex may be used as a binder. The polymer latex preferably has the same components as those of the following hydrophobic binder, and partially has hydrophilic components such as 2-hydroxyacrylate and pyrrolidone therein. Is more preferable.

【0073】また、組成物が有機溶媒系の場合の疎水性
バインダーとしては、有機溶媒可溶性バインダーが好ま
しく、例えば、ポリアクリル酸エステル(メチルエステ
ル、エチルエステル、プロピルエステルブチルエステ
ル、シクロヘキシルエステル、2−エチルヘキシルエス
テル、炭素原子数20までのアルキルエステル等)、こ
れらと同等のポリメタクリル酸エステル及びこれらの共
重合物、ポリ塩化ビニル共重合物、ブタジエン共重合
物、スチレン共重合物、酢酸ビニル共重合物等を挙げる
ことが出来る。
When the composition is an organic solvent system, the hydrophobic binder is preferably an organic solvent soluble binder, and examples thereof include polyacrylic acid esters (methyl ester, ethyl ester, propyl ester butyl ester, cyclohexyl ester, 2-ester). (Ethyl hexyl ester, alkyl ester having up to 20 carbon atoms, etc.), polymethacrylic acid ester equivalent thereto and copolymers thereof, polyvinyl chloride copolymer, butadiene copolymer, styrene copolymer, vinyl acetate copolymer You can list things etc.

【0074】これらの樹脂バインダーと共にそのバイン
ダーを架橋する硬化剤を含有することが好ましい。硬化
剤としては、水溶性のバインダーのタンパク質、例えば
ゼラチンに対しては、感光性ハロゲン化銀写真感光材料
に使用するような架橋剤を好まく使用出来、ポリビニル
アルコールに対しては、ホウ酸、アルデヒド化合物、イ
ソシアネート化合物、ビニルスルホン化合物、活性エス
テル化合物等を用いることが出来る。また疎水性のバイ
ンダーに対しては、共重合物の場合の被反応性基に対し
て反応性を有するイソシアナート化合物のような硬化剤
を使用するのが好ましい。疎水性のバインダーの場合に
は特に架橋剤のようなものはいらないが、必要があるな
らば、疎水性のバインダーに反応性基または被反応性基
を有することが望ましい。例えば、2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、グリシジルアクリレートのようなモノ
マーを他の疎水性モノマーと共重合させればよい。
It is preferable to contain a curing agent that crosslinks the binder with these resin binders. As a curing agent, a water-soluble binder protein, for example, gelatin can be preferably used as a crosslinking agent used in a photosensitive silver halide photographic light-sensitive material, and polyvinyl alcohol can be used with boric acid, Aldehyde compounds, isocyanate compounds, vinyl sulfone compounds, active ester compounds and the like can be used. Further, for the hydrophobic binder, it is preferable to use a curing agent such as an isocyanate compound having reactivity with the group to be reacted in the case of the copolymer. In the case of a hydrophobic binder, there is no particular need for a crosslinking agent, but if necessary, it is desirable that the hydrophobic binder have a reactive group or a reactive group. For example, a monomer such as 2-hydroxyethyl acrylate or glycidyl acrylate may be copolymerized with another hydrophobic monomer.

【0075】本発明に係る光反応性二色性色素、光反応
性配向性化合物、配向性基を有しない光反応性化合物の
有用な光反応性基としては、ビニル基、アクリロイル
基、メタクリロイル基、イソプロペニル基、エポキシ基
等の光重合性基を有するか、またカルコン基やクマリン
基のような光二量化性基を有するもので、紫外線照射に
より重合構造、架橋構造または網目構造を形成するもの
が好ましい。
The useful photoreactive group of the photoreactive dichroic dye, the photoreactive alignment compound and the photoreactive compound having no alignment group according to the present invention include a vinyl group, an acryloyl group and a methacryloyl group. , Having a photopolymerizable group such as an isopropenyl group or an epoxy group, or having a photodimerizable group such as a chalcone group or a coumarin group, which forms a polymerized structure, a crosslinked structure or a network structure by ultraviolet irradiation. Is preferred.

【0076】本発明において、光重合性基としてはアク
リロイル基、メタクリロイル基またはエポキシ基が、増
感剤の共存下で重合速度、反応性の点から好ましく、多
官能モノマーまたはオリゴマーがより好ましい。
In the present invention, as the photopolymerizable group, an acryloyl group, a methacryloyl group or an epoxy group is preferable from the viewpoint of polymerization rate and reactivity in the presence of a sensitizer, and a polyfunctional monomer or oligomer is more preferable.

【0077】アクリル基またはメタクリル基を有する上
記光反応性化合物としては、光硬化型アクリルウレタン
系樹脂、光硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、光
硬化型エポキシアクリレート系樹脂、光硬化型ポリオー
ルアクリレート系樹脂等を挙げることが出来る。
As the photoreactive compound having an acrylic group or a methacrylic group, a photocurable acrylic urethane resin, a photocurable polyester acrylate resin, a photocurable epoxy acrylate resin, a photocurable polyol acrylate resin, etc. Can be mentioned.

【0078】光硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般
にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、
もしくはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更
に2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシ
エチルメタクリレート(以下アクリレートにはメタクリ
レートを包含するものとしてアクリレートのみを表示す
る)、2−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基
を有するアクリレート系のモノマーを反応させることに
よって容易に得ることが出来る(例えば特開昭59−1
51110号公報)。
The photocurable acrylic urethane resin is generally a polyester polyol, an isocyanate monomer,
Alternatively, the product obtained by reacting the prepolymer may be further added to 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate (hereinafter, acrylate is referred to as including methacrylate), and 2-hydroxypropyl acrylate. It can be easily obtained by reacting an acrylate-based monomer having a hydroxyl group (for example, JP-A-59-1).
51110).

【0079】光硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂
は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基
に2−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアク
リレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応させる
ことによって容易に得ることが出来る(例えば、特開昭
59−151112号公報)。
The photocurable polyester acrylate resin can generally be easily obtained by reacting a hydroxyl group or a carboxyl group at the polyester terminal with a monomer such as 2-hydroxyethyl acrylate, glycidyl acrylate, or acrylic acid (for example, JP-A-59-151112).

【0080】光硬化型エポキシアクリレート系樹脂は、
エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸
クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマー
を反応させて得られる。
The photocurable epoxy acrylate resin is
It is obtained by reacting a terminal hydroxyl group of an epoxy resin with a monomer such as acrylic acid, acrylic acid chloride or glycidyl acrylate.

【0081】光硬化型ポリオールアクリレート系樹脂と
しては、エチレングリコール(メタ)アクリレート、ポ
リエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、グリセ
リントリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパ
ントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペン
タエリスリトールペンタエリスリトール等を挙げること
が出来る。
Examples of the photocurable polyol acrylate resin include ethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate. , Dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, alkyl-modified dipentaerythritol pentaerythritol, and the like.

【0082】また、上記アクリル基またはメタクリル基
を有する光反応性化合物を希釈性重合性のモノマーを添
加してもよい。例えば、メチルアクリレート、メチルメ
タクリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレ
ート、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレー
ト、酢酸ビニル、ベンジルアクリレート、ベンジルメタ
クリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキ
シルメタクリレート、スチレン等を挙げることが出来
る。
A dilutable polymerizable monomer may be added to the photoreactive compound having an acrylic group or a methacrylic group. Examples thereof include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, vinyl acetate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate and styrene.

【0083】本発明に使用するアクリル系光反応性化合
物を光重合は、何も添加しなくとも光重合は開始される
が、重合の誘導期が長かったり、重合開始が遅かったり
するため、光増感剤や光開始剤を用いることが好まし
く、それにより重合を早めることが出来る。これらの光
増感剤や光開始剤は公知のものを使用し得る。具体的に
は、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベン
ゾフェノン、ミヒラーケトン、α−アミロキシムエステ
ル、テトラメチルウラムモノサルファイド、チオキサン
トン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。
In the photopolymerization of the acrylic photoreactive compound used in the present invention, the photopolymerization is initiated without adding anything, but since the induction period of the polymerization is long or the initiation of the polymerization is slow, It is preferable to use a sensitizer or a photoinitiator, which can accelerate the polymerization. Known photosensitizers and photoinitiators can be used. Specific examples thereof include acetophenone, benzophenone, hydroxybenzophenone, Michler's ketone, α-amyloxime ester, tetramethyluram monosulfide, thioxanthone and derivatives thereof.

【0084】また、エポキシアクリレート基を有する光
反応性化合物の場合は、n−ブチルアミン、トリエチル
アミン、トリ−n−ブチルホスフィン等の増感剤を用い
ることが出来る。この光反応性化合物に用いられる光反
応開始剤または光増感剤は光反応性化合物の100質量
部に対して0.1〜15質量部で光反応を開始するには
十分であり、好ましくは1〜10質量部である。この増
感剤は近紫外線領域から可視光線領域に吸収極大のある
ものが好ましい。
In the case of a photoreactive compound having an epoxy acrylate group, a sensitizer such as n-butylamine, triethylamine or tri-n-butylphosphine can be used. The photoreaction initiator or photosensitizer used in the photoreactive compound is sufficient to start the photoreaction with 0.1 to 15 parts by mass relative to 100 parts by mass of the photoreactive compound, and preferably, It is 1 to 10 parts by mass. This sensitizer preferably has an absorption maximum in the near-ultraviolet region to the visible light region.

【0085】本発明に係る光反応性化合物としての光反
応性エポキシ樹脂も好ましく用いられる。光線反応性エ
ポキシ樹脂としては、芳香族エポキシ化合物(多価フェ
ノールのポリグリシジルエーテル)、例えば、水素添加
ビスフェノールAまたはビスフェノールAとエピクロル
ヒドリンとの反応物のグリシジルエーテル、エポキシノ
ボラック樹脂、脂肪族エポキシ樹脂としては、脂肪族多
価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物の
ポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグ
リシジルエステル、グリシジルアクリレートやグリシジ
ルメタクリレートのホモポリマー、コポリマーなどがあ
り、その代表例としては、エチレングリコールジグリシ
ジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエー
テル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ジ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロ
ピレングリコールグリシジルエーテル、1,4−ブタン
ジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオ
ールジグリシジルエーテル、ノナプロピレングリコール
ジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリ
シジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、
ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ジグリセロー
ルテトラグリシジルエーテル、トリメチロールプロパン
トリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグ
リシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシ
ジルエーテル、ソルビトールのポリグリシジルエーテ
ル、脂環式エポキシ化合物、例えば、3,4−エポキシ
シクロヘキシルメチル−3′,4′−エポキシシクロヘ
キサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシク
ロヘキシル−5,5−スピロ−3′,4′−エポキシ)
シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エ
ポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビニルシク
ロヘキセンジオキサイド、ビス(3,4−エポキシ−6
−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−
エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3′,4′−エ
ポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、
メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)ジシ
クロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコール
のジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテ
ル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート)、ジシクロペンタジエンジエポキサイ
ド、トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート
のジグリシジルエーテル、トリス(2−ヒドロキシエチ
ル)イソシアヌレートのトリグリシジルエーテル、ポリ
グリシジルアクリレート、ポリグリシジルメタクリレー
ト、グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリ
レートと他のモノマーとの共重合物、ポリ−2−グリシ
ジルオキシエチルアクリレート、ポリ−2−グリシジル
オキシエチルメタクリレート、2−グリシジルオキシエ
チルアクリレート、2−グリシジルオキシエチルアクリ
レートまたは2−グリシジルオキシエチルメタクリレー
トと他のモノマーとの共重合物、ビス−2,2−ヒドロ
キシシクロヘキシルプロパンジグリシジルエーテル等を
挙げることが出来、または単独または2種以上組み合わ
せた付加重合物を挙げることが出来る。本発明は、これ
らの化合物に限定せず、これらから類推される化合物も
含むものである。
A photoreactive epoxy resin as the photoreactive compound according to the present invention is also preferably used. As the light-reactive epoxy resin, an aromatic epoxy compound (polyglycidyl ether of polyhydric phenol), for example, glycidyl ether of hydrogenated bisphenol A or a reaction product of bisphenol A and epichlorohydrin, epoxy novolac resin, aliphatic epoxy resin Is a polyglycidyl ether of an aliphatic polyhydric alcohol or an alkylene oxide adduct thereof, a polyglycidyl ester of an aliphatic long-chain polybasic acid, a homopolymer or a copolymer of glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate, and a typical example thereof is ethylene. Glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, diethylene glycol diglycidyl ether, dipropylene glycol diglycidyl ether, propylene Glycol glycidyl ether, 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, nonapropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether,
Diglycerol triglycidyl ether, diglycerol tetraglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, pentaerythritol triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, alicyclic epoxy compounds, for example, 3,4-epoxy Cyclohexylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3', 4'-epoxy)
Cyclohexane-meta-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, vinylcyclohexene dioxide, bis (3,4-epoxy-6)
-Methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-
Epoxy-6-methylcyclohexyl-3 ', 4'-epoxy-6-methylcyclohexanecarboxylate,
Methylenebis (3,4-epoxycyclohexane) dicyclopentadiene diepoxide, di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether of ethylene glycol, ethylenebis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), dicyclopentadiene diepoxide, Tris Diglycidyl ether of (2-hydroxyethyl) isocyanurate, triglycidyl ether of tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate, polyglycidyl acrylate, polyglycidyl methacrylate, copolymer of glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate with other monomer, Poly-2-glycidyloxyethyl acrylate, poly-2-glycidyloxyethyl methacrylate, 2-glycidyloxyethyl acrylate Examples thereof include copolymers of 2-glycidyloxyethyl acrylate or 2-glycidyloxyethyl methacrylate with other monomers, bis-2,2-hydroxycyclohexylpropane diglycidyl ether, or a combination of two or more thereof. An addition polymer can be mentioned. The present invention is not limited to these compounds and includes compounds inferred from these.

【0086】本発明の光反応性化合物エポキシ樹脂は、
エポキシ基を分子内に2つ以上有するもの以外に、モノ
エポキサイドも所望の性能に応じて配合して使用するこ
とが出来る。
The photoreactive compound epoxy resin of the present invention is
In addition to those having two or more epoxy groups in the molecule, monoepoxide can be blended and used according to desired performance.

【0087】光反応性のエポキシ樹脂は、ラジカル重合
によるのではなく、カチオン重合により重合、架橋構造
または網目構造を形成する。ラジカル重合と異なり反応
系中の酸素に影響を受けないため好ましい光反応性化合
物である。
The photoreactive epoxy resin forms a polymerized, crosslinked structure or network structure by cationic polymerization rather than radical polymerization. Unlike radical polymerization, it is a preferable photoreactive compound because it is not affected by oxygen in the reaction system.

【0088】本発明に有用な光反応性エポキシ樹脂は、
紫外線照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出
する化合物を、光重合開始剤または光増感剤により重合
する。照射によりカチオン重合させるルイス酸を放出す
るオニウム塩での複塩の一群が特に好ましい。具体例と
しては、テトラフルオロボレート(BF4 -)、ヘキサフ
ルオロホスフェート(PF4 -)、ヘキサフルオロアンチ
モネート(SbF4 -)、ヘキサフルオロアルセネート
(AsF4 -)、ヘキサクロロアンチモネート(SbCl
4 -)等を挙げることが出来る。
Photoreactive epoxy resins useful in the present invention include:
A compound that releases a substance that initiates cationic polymerization upon irradiation with ultraviolet rays is polymerized with a photopolymerization initiator or a photosensitizer. Particularly preferred is the group of double salts of onium salts which release Lewis acids which undergo cationic polymerization upon irradiation. Specific examples include tetrafluoroborate (BF 4 ), hexafluorophosphate (PF 4 ), hexafluoroantimonate (SbF 4 ), hexafluoroarsenate (AsF 4 ), hexachloroantimonate (SbCl 4 ).
4 -), or the like can be mentioned.

【0089】更に陰イオンも用いることが出来る。ま
た、その他の陰イオンとしては過塩素酸イオン(ClO
4 -)、トリフルオロメチル亜硫酸イオン(CF3
3 -)、フルオロスルホン酸イオン(FSO3 -)、トル
エンスルホン酸イオン、トリニトロベンゼン酸陰イオン
等を挙げることが出来る。
Further, anions can also be used. Other anions include perchlorate ion (ClO
4 -), trifluoromethyl sulfite ion (CF 3 S
O 3 ), fluorosulfonate ion (FSO 3 ), toluenesulfonate ion, trinitrobenzene acid anion and the like can be mentioned.

【0090】このようなオニウム塩の中でも特に芳香族
オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが、
特に有効であり、中でも特開昭50−151996号、
同50−158680号公報等に記載の芳香族ハロニウ
ム塩、特開昭50−151997号、同52−3089
9号、同59−55420号、同55−125105号
公報等に記載のVIA族芳香族オニウム塩、特開昭56
−8428号、同56−149402号、同57−19
2429号公報等に記載のオキソスルホキソニウム塩、
特公昭49−17040号公報等に記載の芳香族ジアゾ
ニウム塩、米国特許第4,139,655号明細書等に
記載のチオピリリュム塩等が好ましい。また、アルミニ
ウム錯体や光分解性ケイ素化合物系重合開始剤等を挙げ
ることが出来る。上記カチオン重合開始剤と、ベンゾフ
ェノン、ベンゾインイソプロピルエーテル、チオキサン
トンなどの光増感剤を併用することが出来る。
Among these onium salts, the aromatic onium salt is preferably used as a cationic polymerization initiator.
It is particularly effective, among others, JP-A-50-151996,
Aromatic halonium salts described in JP-A-50-158680, JP-A-50-151997 and JP-A-52-3089.
No. 9, No. 59-55420, No. 55-125105, etc., Group VIA aromatic onium salts, JP-A-56.
-8428, 56-149402, 57-19.
Oxosulfoxonium salts described in Japanese Patent No. 2429, etc.,
Aromatic diazonium salts described in JP-B-49-17040 and the like, thiopyrylium salts described in US Pat. No. 4,139,655 and the like are preferable. Moreover, an aluminum complex, a photodegradable silicon compound-based polymerization initiator, and the like can be given. A photosensitizer such as benzophenone, benzoin isopropyl ether, and thioxanthone can be used in combination with the above cationic polymerization initiator.

【0091】本発明に有用な配向性基を有しない光反応
性化合物を含有する組成物において、重合開始剤は、一
般的には、光反応性エポキシ樹脂(プレポリマー)10
0質量部に対して好ましくは0.1〜15質量部、より
好ましくは1〜10質量部の範囲で添加される。またエ
ポキシ樹脂を光硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、光
硬化型ポリエーテルアクリレート系樹脂等とも併用する
ことも出来、この場合、光ラジカル重合開始剤と光カチ
オン重合開始剤を併用することが好ましい。
In the composition containing a photoreactive compound having no orienting group useful in the present invention, the polymerization initiator is generally a photoreactive epoxy resin (prepolymer) 10
It is preferably added in an amount of 0.1 to 15 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass, relative to 0 parts by mass. The epoxy resin can also be used in combination with a photo-curable urethane acrylate-based resin, a photo-curable polyether acrylate-based resin, or the like. In this case, it is preferable to use a photo radical polymerization initiator and a photo cationic polymerization initiator in combination.

【0092】本発明に有用な配向性基を有しない光反応
性化合物のうちの光二量化性基を有する化合物として
は、シンナモイル基、クマリン基、カルコン基、スチリ
ルピリジニウム基、アルコキシスチルベン基、α−フェ
ニルマレイミド基等を有する化合物を挙げることが出
来、光二量化性基が配向し易い構造を有しているから配
向性化合物と共に配向する可能性があることからこれら
光二量化性基は好ましい。光二量化性基を有する配向性
基を有しない光反応性化合物(LRと略して番号を付し
てある)を下記に例示する。
Among the photoreactive compounds having no orienting group useful in the present invention, compounds having a photodimerizable group include cinnamoyl group, coumarin group, chalcone group, styrylpyridinium group, alkoxystilbene group and α- A compound having a phenylmaleimide group or the like can be mentioned, and these photodimerizable groups are preferable because they have a structure in which the photodimerizable group is easily oriented and therefore they may be oriented together with the orientation compound. A photoreactive compound having a photodimerizable group and not having an aligning group (abbreviated as LR and numbered) is exemplified below.

【0093】[0093]

【化12】 [Chemical 12]

【0094】また、本発明に有用な偏光膜において、光
反応性基を有しない二色性色素や光反応性基を有しない
配向性化合物を配向させたものより、配向を安定に固定
化するためには光反応性二色性色素または光反応性配向
性化合物を用いた方が、遙かに優れた偏光膜を得ること
が出来る。その光反応性基としては、上記の重合性基の
アクリル基、メタクリル基またはエポキシ基の他に、シ
ンナモイル基、クマリン基、カルコン基、スチリルピリ
ジニウム基、アルコキシスチルベン基、α−フェニルマ
レイミド基等の光二量化性基が好ましい。
Further, in the polarizing film useful in the present invention, the orientation can be stably fixed by using a dichroic dye having no photoreactive group or an orientation compound having no photoreactive group. For that purpose, it is possible to obtain a far superior polarizing film by using a photoreactive dichroic dye or a photoreactive alignment compound. As the photoreactive group, in addition to the acrylic group, methacrylic group or epoxy group of the above-mentioned polymerizable groups, cinnamoyl group, coumarin group, chalcone group, styrylpyridinium group, alkoxystilbene group, α-phenylmaleimide group, etc. Photodimerizable groups are preferred.

【0095】本発明に有用な重合性基を有する二色性色
素または配向性化合物を下記に示すが、特開平9−28
1480号及び同9−281481号公報に記載の構造
のような化合物も用いることが出来る。
The dichroic dyes or orienting compounds having a polymerizable group useful in the invention are shown below. JP-A-9-28
Compounds having the structures described in 1480 and 9-281481 can also be used.

【0096】また、光二量化性基は配向し易い構造を有
していることから他の二色性色素や配向性化合物と共に
配向する可能性があり、特に二色性色素または配向性化
合物が高分子の場合、配向と網目構造を形成するので好
ましい。本発明に有用な重合性基または光二量化性基を
有する光反応性二色性色素(LDCと略して番号を付し
てある)を下記に例示する。
Further, since the photodimerizable group has a structure that is easily oriented, it may be oriented together with other dichroic dyes or orientation compounds. In the case of a molecule, orientation and network structure are formed, which is preferable. The photoreactive dichroic dyes (abbreviated as LDC and numbered) having a polymerizable group or a photodimerizable group useful in the present invention are exemplified below.

【0097】[0097]

【化13】 [Chemical 13]

【0098】[0098]

【化14】 [Chemical 14]

【0099】本発明に有用な重合性基または光二量化性
基を有する光反応性配向性化合物(LOCと略して番号
を付している)を下記に例示する。
Photoreactive alignment compounds having a polymerizable group or a photodimerizable group useful in the present invention (abbreviated as LOC and numbered) are exemplified below.

【0100】[0100]

【化15】 [Chemical 15]

【0101】[0101]

【化16】 [Chemical 16]

【0102】[0102]

【化17】 [Chemical 17]

【0103】[0103]

【化18】 [Chemical 18]

【0104】DC〜LOCに記載中の下記の記号を説明
する。nは線状縮合重合物の重合度を示している。n
1、n2及びn3はエチレン性不飽和単量体からなるポ
リマー中のmol%を示し、n1+n2+n3=100
である。n1は少なくとも30mol%を有するものと
する。m1、m2、m3は線状縮合重合物のmol%を
示し、m1+m2+m3+・・=100である。(n)
はノルマル(直鎖)を意味する。Aについては、共重合
可能なエチレン性不飽和単量体を示しており、下記のよ
うな他のエチレン性不飽和単量体を示しているが、これ
らに制限されない。
The following symbols in DC to LOC are explained. n represents the degree of polymerization of the linear condensation polymer. n
1, n2 and n3 represent mol% in a polymer composed of an ethylenically unsaturated monomer, and n1 + n2 + n3 = 100.
Is. It is assumed that n1 has at least 30 mol%. m1, m2, and m3 represent mol% of the linear condensation polymer, and are m1 + m2 + m3 + ... = 100. (N)
Means normal (straight chain). Regarding A, a copolymerizable ethylenically unsaturated monomer is shown, and other ethylenically unsaturated monomers such as those shown below are shown, but not limited thereto.

【0105】他のエチレン性不飽和単量体単位として
は、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、エチ
ルアクリレート、エチルメタクリレート、プロピルアク
リレート、プロピルメタクリレート、ブチルアクリレー
ト、ブチルメタクリレート、シクロヘキシルアクリレー
ト、シクロヘキシルメタクリレート、フェニルアクリレ
ート、フェニルメタクリレート、ベンジルメタクリレー
ト、フェニルメタクリレート、フェネチルアクリレー
ト、フェネチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート等
のアクリレート類またはメタクリレート類、酢酸ビニ
ル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニル等
のビニルエステル類、アクリルアミド、N−メチルアク
リルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N−プ
ロピルアクリルアミド、N,N−ジプロピルアクリルア
ミド、N−ブチルアクリルアミド、N,N−ジブチルア
クリルアミド、ベンジルアクリルアミド等のアクリルア
ミド類、スチレン、p−メチルスチレン、p−ヒドロキ
シスチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン等のスチレ
ン類、ビニルピロリドン、アクリロニトリル、エチレン
等を挙げることが出来るが、これらに限定されない。こ
れらの単量体は2種以上共重合してもよい。
Other ethylenically unsaturated monomer units include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl. Methacrylate, benzyl methacrylate, phenyl methacrylate, phenethyl acrylate, phenethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate,
Acrylates or methacrylates such as glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, vinyl acetates such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl valerate, acrylamide, N-methyl acrylamide, N, N-dimethyl acrylamide, N-propyl acrylamide , N, N-dipropylacrylamide, N-butylacrylamide, N, N-dibutylacrylamide, benzylacrylamide and other acrylamides, styrene, p-methylstyrene, p-hydroxystyrene, p-hydroxymethylstyrene and other styrenes, Examples thereof include vinylpyrrolidone, acrylonitrile and ethylene, but are not limited thereto. Two or more kinds of these monomers may be copolymerized.

【0106】上記の化合物は、常法の合成方法により合
成し得る。本発明において、配向された偏光膜に紫外線
を照射する光照射装置は、特に制限ないが、光照射装置
としての光源は、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高
圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハ
ライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来
る。
The above compound can be synthesized by a conventional synthetic method. In the present invention, the light irradiation device for irradiating the oriented polarizing film with ultraviolet rays is not particularly limited, but the light source as the light irradiation device is, for example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a carbon arc. A lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, etc. can be used.

【0107】照射条件はそれぞれのランプによって異な
るが、照射光量は20〜10,000mJ/cm2程度
あればよく、好ましくは、50〜2,000mJ/cm
2である。近紫外線領域〜可視光線領域にかけてはその
領域に吸収極大のある増感剤を用いることによって使用
出来る。
The irradiation conditions differ depending on the lamp, but the irradiation light amount may be about 20 to 10,000 mJ / cm 2 , preferably 50 to 2,000 mJ / cm 2.
Is 2 . It can be used by using a sensitizer having an absorption maximum in the near-ultraviolet region to the visible light region.

【0108】本発明において、光反応性基を有する化合
物を含有する組成物を塗布・配向し、乾燥した後、紫外
線を光源より照射するが、照射時間は光反応性基にもよ
るが、0.5秒〜5分がよく、光反応性基を有する化合
物の反応効率、作業効率とから3秒〜2分がより好まし
い。
In the present invention, a composition containing a compound having a photoreactive group is applied / orientated, dried, and then irradiated with ultraviolet rays from a light source. The irradiation time depends on the photoreactive group. 5 seconds to 5 minutes is preferable, and 3 seconds to 2 minutes is more preferable in view of reaction efficiency and work efficiency of the compound having a photoreactive group.

【0109】本発明に係る偏光膜に使用する光反応性基
を有する化合物に紫外線を照射する際、照射方法には特
に制限ないが、高いずり応力を与えた方向に対して平行
に、上記光源と偏光子を組み合わせて紫外線を直線偏光
として偏光膜に照射する直線性偏光紫外線が好ましく、
主に使用されているものとして延伸染色ポリビニルアル
コールフィルムを挙げることが出来る。この直線偏光紫
外線照射装置としては、例えば、特開平10−9068
4号公報に開示されているものを用いることが出来る。
直線偏光された紫外線を照射することにより、その方向
に光二量化化合物が二量化し、二色性色素成分や配向性
化合物成分の配向を更に強固に固定化することが出来
る。
When the compound having a photoreactive group used in the polarizing film according to the present invention is irradiated with ultraviolet rays, the irradiation method is not particularly limited, but the light source may be parallel to the direction in which high shear stress is applied. Linearly polarized ultraviolet light that irradiates a polarizing film with linearly polarized ultraviolet light by combining a polarizer with a
A stretch-dyed polyvinyl alcohol film can be mentioned as one mainly used. As this linearly polarized ultraviolet irradiation device, for example, JP-A-10-9068 is used.
The one disclosed in Japanese Patent Publication No. 4 can be used.
By irradiating linearly polarized ultraviolet rays, the photodimerizing compound dimerizes in that direction, and the orientation of the dichroic dye component and the orienting compound component can be more firmly fixed.

【0110】本発明の偏光膜の支持体としての後述の透
明フィルムに偏光膜をよく接着させるために接着層を設
けることが望ましい。また偏光膜に後述の透明保護フィ
ルムや後述の透明樹脂保護層をより接着させるためにも
接着層を設けるのが望ましい。また透明保護フィルムに
接着層を設けてから偏光膜と貼り合わせてもよい。接着
層には透明フィルム、偏光膜、透明保護フィルム、透明
樹脂保護層の相互の関係から適宜接着層の素材を選択す
ればよい。
It is desirable to provide an adhesive layer for adhering the polarizing film well to the transparent film described later as a support for the polarizing film of the present invention. Further, it is desirable to provide an adhesive layer in order to further adhere a transparent protective film described later or a transparent resin protective layer described later to the polarizing film. Further, the transparent protective film may be provided with an adhesive layer and then bonded to the polarizing film. For the adhesive layer, the material of the adhesive layer may be appropriately selected from the mutual relationship among the transparent film, the polarizing film, the transparent protective film, and the transparent resin protective layer.

【0111】親水性接着層組成物に使用するものとして
は、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロースナ
トリウム塩、ヒドロキシエチルセルロース等の水溶性セ
ルロース類、完全鹸化ポリビニルアルコール、酢酸ビニ
ル部分加水分解物、ポリビニル部分アセタール等のポリ
ビニルアルコール類、ゼラチン、カゼイン、ペクチン等
の水溶性タンパク質、テレフタル酸/フタル酸/スルホ
フタル酸−エチレングリコールからのスルフォン基を有
するポリエステル、ポリビニルピロリドン、ポリイミダ
ゾール、ポリビニルピラゾール等の水溶性ビニル樹脂
類、−COOM(Mは水素原子またはカチオンを表す)
基を有する高分子化合物等を挙げることが出来る。例え
ば、スチレン/無水マレイン酸共重合体や酢酸ビニル/
無水マレイン酸共重合体等を挙げることが出来、何れも
無水マレイン酸が部分または完全に開環したものであ
る。また、これらの高分子化合物として特開平6−94
915号及び同7−333436号公報に記載のものも
好ましく用いられる。
Examples of those used in the hydrophilic adhesive layer composition include water-soluble celluloses such as methyl cellulose, carboxymethyl cellulose sodium salt and hydroxyethyl cellulose, polyvinyl alcohol such as completely saponified polyvinyl alcohol, vinyl acetate partial hydrolyzate and polyvinyl partial acetal. Water-soluble proteins such as alcohols, gelatin, casein, and pectin, terephthalic acid / phthalic acid / sulfophthalic acid-polyethylene having a sulfone group from ethylene glycol, water-soluble vinyl resins such as polyvinylpyrrolidone, polyimidazole, and polyvinylpyrazole- COOM (M represents a hydrogen atom or a cation)
Examples thereof include polymer compounds having a group. For example, styrene / maleic anhydride copolymer or vinyl acetate /
Examples thereof include maleic anhydride copolymers, all of which are maleic anhydride partially or completely ring-opened. Further, as these polymer compounds, JP-A-6-94
Those described in Japanese Patent Nos. 915 and 7-333436 are also preferably used.

【0112】疎水性接着層組成物に使用するものとして
は、スチレン、ニトロスチレン、ハロゲン化スチレン、
クロロメチルスチレン、アルキルスチレン等のスチレン
類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル等の
ビニルエーテル類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、
酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、
アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブ
チル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシ
ル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸フェニ
ル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸フェネチル等のア
クリル酸エステル類及び同様なメタクリル酸エステル
類、アクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン等
のモノマーの1種の重合体、または2種以上の共重合体
を挙げることが出来る。
As the one used in the hydrophobic adhesive layer composition, styrene, nitrostyrene, halogenated styrene,
Styrenes such as chloromethylstyrene and alkylstyrene, vinyl ethers such as vinyl methyl ether and vinyl ethyl ether, vinyl acetate, vinyl propionate,
Vinyl esters such as vinyl butyrate, methyl acrylate,
Acrylic esters such as ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, hexyl acrylate, cyclohexyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, phenyl acrylate, benzyl acrylate, phenethyl acrylate and similar methacrylic acid esters , Acrylonitrile, vinyl chloride, vinylidene chloride, and the like, one polymer or two or more copolymers.

【0113】接着剤組成物の溶媒としては、水系では、
水、その他に水と相溶性を有する有機溶媒、例えば、メ
タノール、エタノール、アセトン、ホルムアミド、ジメ
チルホルムアミド、ジメチルスルホオキシド、ジオキサ
ン、酢酸等を混合して使用してもよい。
As a solvent for the adhesive composition, in an aqueous system,
Water and other organic solvents compatible with water, for example, methanol, ethanol, acetone, formamide, dimethylformamide, dimethylsulfoxide, dioxane, acetic acid and the like may be mixed and used.

【0114】また、接着剤組成物の溶媒としては、疎水
性系では、アセトン、メチルエチルケトン、メタノー
ル、エタノール、プロパノール、ブタノール、酢酸メチ
ル、酢酸エチル、酢酸アミル、メチレンクロライド、ジ
クロロエタン、ジオキサン、テトラヒドロフラン、1,
3−ジオキソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサ
ノン、ギ酸エチル、2,2,2−トリフルオロエタノー
ル、2,2,3,3−ヘキサフルオロ−1−プロパノー
ル、1,3−ジフルオロ−2−プロパノール、1,1,
1,3,3,3−ヘキサフルオロ−2−メチル−2−プ
ロパノール、1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロ
−2−プロパノール、2,2,3,3,3−ペンタフル
オロ−1−プロパノール、ニトロエタン等を挙げること
が出来る。
As the solvent of the adhesive composition, in a hydrophobic system, acetone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, butanol, methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, methylene chloride, dichloroethane, dioxane, tetrahydrofuran, 1 ,
3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate, 2,2,2-trifluoroethanol, 2,2,3,3-hexafluoro-1-propanol, 1,3-difluoro-2-propanol, 1, 1,
1,3,3,3-hexafluoro-2-methyl-2-propanol, 1,1,1,3,3,3-hexafluoro-2-propanol, 2,2,3,3,3-pentafluoro Examples include -1-propanol and nitroethane.

【0115】本発明において、接着または貼り合わせる
前に、透明フィルム、透明保護フィルム、偏光膜の表面
に表面処理を施すことが好ましい。表面処理としては、
例えば、コロナ放電処理、真空プラズマ放電処理、特開
2000−072903に記載されているような大気圧
もしくはその近傍の圧力下プラズマ放電処理等を挙げる
ことが出来るが、コロナ放電処理が容易で装置も簡単な
ことから本発明において好ましく用いられる。
In the present invention, it is preferable that the surface of the transparent film, the transparent protective film or the polarizing film is subjected to a surface treatment before the bonding or the bonding. As surface treatment,
For example, corona discharge treatment, vacuum plasma discharge treatment, plasma discharge treatment under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof as described in JP-A-2000-072903, and the like can be mentioned. It is preferably used in the present invention because of its simplicity.

【0116】本発明において、透明フィルムと透明保護
フィルムは同様なものを使用出来る。これらのフィルム
としては、透明性に優れ、平滑性に優れ、且つ膜厚が均
一であるプラスティックフィルムであれば何れも使用出
来、例えば、セルロースエステルフィルム、ポリエステ
ルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスチレン
フィルム、ポリオレフィンフィルム等を挙げることが出
来る。セルロースエステルフィルムとしては、セルロー
スジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレ
ートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフ
ィルム、セルロースアセテートフタレートフィルム、セ
ルローストリアセテート、セルロースナイトレート等;
ポリエステルフィルムとしては、ポリエチレンテレフタ
レートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、
ポリブチレンテレフタレートフィルム、1,4−ジメチ
レンシクロヘキシレンテレフタレートフィルム、あるい
はこれら構成単位のコポリエステルフィルム等;ポリカ
ーボネートフィルムとしてはビスフェノールAのポリカ
ーボネートフィルム;ポリスチレンフィルムとしては、
シンジオタクティックポリスチレンフィルム;ポリオレ
フィンフィルムとしてはポリエチレンフィルム、ポリプ
ロピレンフィルム;この他に、ノルボルネン樹脂系フィ
ルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケト
ンフィルム、ポリイミドフィルム、ポリエーテルスルホ
ンフィルム、ポリスルホン系フィルム、ポリエーテルケ
トンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂
フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレー
トフィルム、アクリルフィルムあるいはポリアリレート
フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム等を挙げること
が出来る。ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリス
ルフォンあるいはポリエーテルスルフォン等の固有の複
屈折率が高い素材であっても、溶液流延あるいは溶融押
し出し等の条件、更には縦、横方向に延伸する条件等を
適宜設定することにより、本発明に適した透明フィルム
及び透明保護フィルムを得ることが出来る。本発明にお
いては、上記記載のフィルムに限定されない。また、一
つの偏光板において、透明フィルムと透明保護フィルム
のフィルム材質が同じでも、異なっていてもよい。本発
明において、特に好ましい透明フィルム及び透明保護フ
ィルムはセルロースエステルフィルムである。
In the present invention, the same transparent film and transparent protective film can be used. As these films, any plastic film having excellent transparency, excellent smoothness, and uniform film thickness can be used, and examples thereof include a cellulose ester film, a polyester film, a polycarbonate film, a polystyrene film, and a polyolefin film. Etc. can be mentioned. As the cellulose ester film, cellulose diacetate film, cellulose acetate butyrate film, cellulose acetate propionate film, cellulose acetate phthalate film, cellulose triacetate, cellulose nitrate, etc .;
As the polyester film, polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film,
Polybutylene terephthalate film, 1,4-dimethylene cyclohexylene terephthalate film, or copolyester film of these constituent units; a polycarbonate film of bisphenol A as a polycarbonate film; a polystyrene film,
Syndiotactic polystyrene film; Polyethylene film, polypropylene film as polyolefin film; Norbornene resin film, polymethylpentene film, polyetherketone film, polyimide film, polyethersulfone film, polysulfone film, polyetherketone Examples thereof include imide film, polyamide film, fluororesin film, nylon film, polymethylmethacrylate film, acrylic film or polyarylate film, and polyvinylidene chloride film. Even for materials with a high inherent birefringence such as polycarbonate, polyarylate, polysulfone or polyethersulfone, conditions such as solution casting or melt extrusion, as well as conditions for stretching in the longitudinal and transverse directions, etc. are set appropriately. By doing so, a transparent film and a transparent protective film suitable for the present invention can be obtained. In the present invention, the film is not limited to those described above. Further, in one polarizing plate, the film materials of the transparent film and the transparent protective film may be the same or different. In the present invention, a particularly preferable transparent film and transparent protective film are cellulose ester films.

【0117】ここで、本発明に特に有用なセルロースエ
ステルフィルムについて説明する。先ずその原料である
セルロースエステルについて説明する。
The cellulose ester film particularly useful in the present invention will be described below. First, the cellulose ester as the raw material will be described.

【0118】本発明に用いられるセルロースエステルの
原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リ
ンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることが出来
る。またそれらから得られたセルロースエステルはそれ
ぞれを単独であるいは任意の割合で混合使用することが
出来るが、綿花リンターを50質量%以上使用すること
が好ましい。
The raw material cellulose of the cellulose ester used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include cotton linter, wood pulp, kenaf and the like. The cellulose esters obtained from them can be used alone or as a mixture at an arbitrary ratio, but it is preferable to use 50% by mass or more of cotton linter.

【0119】本発明に係わるセルロースエステルは、主
にセルロース原料のアシル化剤として酸無水物を酸無水
物を形成している有機酸やメチレンクロライド等の有機
溶媒を用い、硫酸のようなプロトン性触媒を用いて反応
が行われる。具体的には特開平10−45804号公報
に記載の方法で合成することが出来る。
The cellulose ester according to the present invention is mainly prepared by using an acid anhydride as an acylating agent for a cellulose raw material, an organic acid forming an acid anhydride, or an organic solvent such as methylene chloride, and a protic acid such as sulfuric acid. The reaction is carried out using a catalyst. Specifically, it can be synthesized by the method described in JP-A-10-45804.

【0120】本発明のセルロースエステルフィルムに用
いることが出来るセルロースエステルには特に限定はな
いが、総アシル基の置換度が2.40から2.98で、
アシル基のうちアセチル基の置換度が1.4以上が好ま
しく用いられる。
The cellulose ester which can be used in the cellulose ester film of the present invention is not particularly limited, but the total acyl group substitution degree is from 2.40 to 2.98,
Of the acyl groups, the substitution degree of the acetyl group is preferably 1.4 or more.

【0121】アシル基の置換度の測定方法はASTM−
D817−96に準じて測定することが出来る。
The method for measuring the degree of substitution of an acyl group is ASTM-
It can be measured according to D817-96.

【0122】本発明に係わるセルロースエステルは、セ
ルローストリアセテートやセルロースジアセテート等の
セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオ
ネート、セルロースアセテートブチレート、またはセル
ロースアセテートプロピオネートブチレートのようなア
セチル基の他にプロピオネート基あるいはブチレート基
が結合したセルロースエステルであることが好ましい。
The cellulose ester according to the present invention is a cellulose acetate such as cellulose triacetate or cellulose diacetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, or propionate in addition to acetyl group such as cellulose acetate propionate butyrate. A cellulose ester having a group or a butyrate group bonded thereto is preferable.

【0123】本発明のセルロースエステルの数平均分子
量Mnは、70,000〜250,000の範囲が、得
られるフィルムの機械的強度が強く、且つ適度のドープ
粘度となり好ましい。更に80,000〜150,00
0が好ましい。また、重量平均分子量Mwとの比Mw/
Mnは1.0〜5.0のセルロースエステルが好ましく
使用され、更に好ましくは1.5〜4.5である。
The number average molecular weight Mn of the cellulose ester of the present invention is preferably in the range of 70,000 to 250,000 because the resulting film has high mechanical strength and an appropriate dope viscosity. Further 80,000 to 150,000
0 is preferred. Further, the ratio Mw / of the weight average molecular weight Mw /
A cellulose ester having a Mn of 1.0 to 5.0 is preferably used, and more preferably 1.5 to 4.5.

【0124】セルロースエステルを溶解しセルロースエ
ステル溶液またはドープ形成に有用な有機溶媒として、
塩素系有機溶媒のメチレンクロライド(塩化メチレン)
を挙げることが出来、セルロースエステル、特にセルロ
ーストリアセテートの溶解に適している。非塩素系有機
溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸
アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、1,3−ジオ
キソラン、1,4−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ
酸エチル等を挙げることが出来る。これらの有機溶媒を
セルローストリアセテートに対して使用する場合には、
常温での溶解方法も使用可能であるが、高温溶解方法、
冷却溶解方法、高圧溶解方法等の溶解方法を用いること
により不溶解物を少なくすることが出来るので好まし
い。セルローストリアセテート以外のセルロースエステ
ルに対しては、メチレンクロライドを用いることも出来
るが、メチレンクロライドを使用せずに、酢酸メチル、
酢酸エチル、アセトンを好ましく使用することが出来
る。特に酢酸メチルが好ましい。本発明において、上記
セルロースエステルに対して良好な溶解性を有する有機
溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を示し、そ
の中で大量に使用する有機溶媒を主(有機)溶媒または
主たる(有機)溶媒という。
As an organic solvent useful for dissolving a cellulose ester and forming a cellulose ester solution or dope,
Methylene chloride (methylene chloride), a chlorine-based organic solvent
It is suitable for dissolving cellulose ester, especially cellulose triacetate. Examples of the non-chlorine organic solvent include methyl acetate, ethyl acetate, amyl acetate, acetone, tetrahydrofuran, 1,3-dioxolane, 1,4-dioxane, cyclohexanone, ethyl formate and the like. When using these organic solvents for cellulose triacetate,
A melting method at room temperature can also be used, but a high temperature melting method,
By using a dissolution method such as a cooling dissolution method or a high-pressure dissolution method, it is possible to reduce the amount of insoluble matter, which is preferable. For cellulose ester other than cellulose triacetate, methylene chloride can be used, but without using methylene chloride, methyl acetate,
Ethyl acetate and acetone can be preferably used. Methyl acetate is particularly preferable. In the present invention, an organic solvent having good solubility in the above-mentioned cellulose ester is referred to as a good solvent, and also exhibits a main effect on dissolution, in which a large amount of organic solvent is the main (organic) solvent or the main ( Organic) solvent.

【0125】本発明に係るドープには、上記有機溶媒の
他に、1〜40質量%の炭素原子数1〜4のアルコール
を含有させることが好ましい。これらはドープを金属支
持体に流延後溶媒が蒸発をし始めアルコールの比率が多
くなるとウェブがゲル化し、ウェブを丈夫にし金属支持
体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用い
られたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒
のセルロースエステルの溶解を促進する役割もある。炭
素原子数1〜4のアルコールとしては、メタノール、エ
タノール、n−プロパノール、iso−プロパノール、
n−ブタノール、sec−ブタノール、tert−ブタ
ノールを挙げることが出来る。これらのうちドープの安
定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥性も良く、且つ毒
性がないこと等からエタノールが好ましい。これらの有
機溶媒は単独ではセルロースエステルに対して溶解性を
有していないので、貧溶媒という。
In addition to the above organic solvent, the dope according to the present invention preferably contains 1 to 40% by mass of an alcohol having 1 to 4 carbon atoms. These are used as a gelling solvent that makes the web gel when the dope is cast on a metal support and the solvent begins to evaporate and the ratio of alcohol increases, and makes the web tough and easy to peel from the metal support. When these proportions are small, it also has a role of promoting the dissolution of the cellulose ester of the non-chlorine organic solvent. Examples of the alcohol having 1 to 4 carbon atoms include methanol, ethanol, n-propanol, iso-propanol,
Examples thereof include n-butanol, sec-butanol and tert-butanol. Of these, ethanol is preferable because it is excellent in stability of the dope, has a relatively low boiling point, has good drying property, and has no toxicity. These organic solvents alone are not soluble in cellulose ester and are therefore called poor solvents.

【0126】本発明において、反射防止膜を有する透明
フィルムとして上記セルロースエステルフィルムを用い
る場合、このセルロースエステルフィルムには可塑剤、
紫外線吸収剤、酸化防止剤、微粒子(マット剤)等を含
有するのが好ましい。
In the present invention, when the above cellulose ester film is used as the transparent film having the antireflection film, the cellulose ester film contains a plasticizer,
It is preferable to contain an ultraviolet absorber, an antioxidant, fine particles (matting agent) and the like.

【0127】可塑剤としては特に限定はないが、リン酸
エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメ
リット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、
グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、ポ
リエステル系可塑剤などを好ましく用いることが出来
る。リン酸エステル系の主なものとして、トリフェニル
ホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート等、
フタル酸エステル系の主なものとして、ジエチルフタレ
ート、ジシクロヘキシルフタレート等、トリメリット酸
系の主なものとしてトリブチルトリメリテート等、ピロ
メリット酸エステル系の主なものとして、テトラブチル
ピロメリテート、テトラフェニルピロメリテート等、グ
リコール酸エステル系の主なものとして、エチルフタリ
ルエチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレ
ート等、クエン酸エステル系の主なものとして、トリエ
チルシトレート、トリ−n−ブチルシトレート、フタル
酸ジシクロヘキシル等を挙げることが出来る。
The plasticizer is not particularly limited, but is a phosphoric acid ester plasticizer, a phthalic acid ester plasticizer, a trimellitic acid ester plasticizer, a pyromellitic acid plasticizer,
Glycolate plasticizers, citric acid ester plasticizers, polyester plasticizers and the like can be preferably used. Triphenyl phosphate, diphenyl biphenyl phosphate, etc.
The main phthalate-based compounds are diethyl phthalate and dicyclohexyl phthalate, the main trimellitic acid-based compounds are tributyl trimellitate, and the main pyromellitic ester-based compounds are tetrabutylpyromellitate and tetra- Phenylpyromellitate and the like, glycolic acid ester-based major ones such as ethylphthalylethyl glycolate and butylphthalylbutyl glycolate, and citric acid ester-based major ones such as triethyl citrate and tri-n-butyl. Examples thereof include citrate and dicyclohexyl phthalate.

【0128】これらの可塑剤の使用量は、フィルム性
能、加工性等の点で、セルロースエステルに対して1〜
20質量%であることが好ましい。
The amount of these plasticizers used is 1 to cellulose ester in view of film performance, processability and the like.
It is preferably 20% by mass.

【0129】本発明において、透明フィルムまたは透明
保護フィルムには、紫外線吸収剤を含有することが好ま
しい。
In the present invention, the transparent film or transparent protective film preferably contains an ultraviolet absorber.

【0130】紫外線吸収剤としては、波長370nm以
下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観
点から、波長400nm以上の可視光の吸収が少ないも
のが好ましく用いられる。好ましく用いられる紫外線吸
収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系
化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エス
テル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、トリアジン系
化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系
化合物などが挙げられるが、これらに限定されない。ま
た、特開平6−148430号記載の高分子紫外線吸収
剤も好ましく用いられる。
As the ultraviolet absorber, those having excellent absorption of ultraviolet rays having a wavelength of 370 nm or less and little absorption of visible light having a wavelength of 400 nm or more are preferably used from the viewpoint of good liquid crystal display property. Specific examples of the ultraviolet absorber preferably used include, for example, oxybenzophenone compounds, benzotriazole compounds, salicylate compounds, benzophenone compounds, triazine compounds, cyanoacrylate compounds, nickel complex salt compounds and the like. , But not limited to these. Further, the polymeric UV absorbers described in JP-A-6-148430 are also preferably used.

【0131】本発明に有用なベンゾトリアゾール系の紫
外線吸収剤の具体例として、2−(2′−ヒドロキシ−
5′−メチル−フェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(2′−ヒドロキシ−3′,5′−ジ−tert−ブチ
ル−フェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒド
ロキシ−3′−tert−ブチル−5′−メチル−フェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−
3′,5′−ジ−tert−ブチル−フェニル)−5−
クロロベンゾトリアゾール、2−(2′−ヒドロキシ−
3′−(3″,4″,5″,6″−テトラヒドロフタル
イミドメチル)−5′−メチル−フェニル)ベンゾトリ
アゾール、2,2−メチレンビス(4−(1,1,3,
3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリア
ゾール−2−イル)フェノール)、2−(2′−ヒドロ
キシ−3′−tert−ブチル−5′−メチルフェニ
ル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル)−6−(直鎖及び側鎖ド
デシル)−4−メチル−フェノール《チヌビン(TIN
UVIN)171》、2−オクチル−3−〔3−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−(クロロ−2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネー
トと2−エチルヘキシル−3−〔3−tert−ブチル
−4−ヒドロキシ−5−(5−クロロ−2H−ベンゾト
リアゾール−2−イル)フェニル〕プロピオネートの混
合物《チヌビン(TINUVIN)109》、2−(2
H−ベンゾトリアゾール−2イル)−4,6−ビス(1
−メチル−1−フェニルエチル)フェノール《チヌビン
234》等を挙げることが出来、市販品のチヌビン(T
INUVIN)171、チヌビン(TINUVIN)1
09、チヌビン234を好ましく使用出来、何れもチバ
・スペシャリティ・ケミカルズ社製の市販品で、好まし
く使用出来る。ベンゾフェノン系化合物の具体例とし
て、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2,2′−
ジヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒド
ロキシ−4−メトキシ−5−スルホベンゾフェノン、ビ
ス(2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイルフ
ェニルメタン)等を挙げることが出来るが、これらに限
定されない。また、この目的のために特開平6−148
430号公報及び特願2000−156039記載の高
分子紫外線吸収剤(または紫外線吸収性ポリマー)も好
ましく用いることが出来る。高分子紫外線吸収剤として
は、PUVA−30M(大塚化学(株)製)などが市販
されている。特開平6−148430号の一般式(1)
あるいは一般式(2)あるいは特願2000−1560
39の一般式(3)、(6)、(7)に記載の高分子紫
外線吸収剤が特に好ましく用いられる。
Specific examples of the benzotriazole type ultraviolet absorber useful in the present invention include 2- (2'-hydroxy-).
5'-methyl-phenyl) benzotriazole, 2-
(2'-hydroxy-3 ', 5'-di-tert-butyl-phenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methyl-phenyl) benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-
3 ', 5'-di-tert-butyl-phenyl) -5-
Chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-
3 '-(3 ", 4", 5 ", 6" -tetrahydrophthalimidomethyl) -5'-methyl-phenyl) benzotriazole, 2,2-methylenebis (4- (1,1,3,3)
3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol), 2- (2'-hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2H-benzotriazol-2-yl) -6- (linear and side chain dodecyl) -4-methyl-phenol << Tinuvin (TIN
UVIN) 171 >>, 2-octyl-3- [3-ter
t-Butyl-4-hydroxy-5- (chloro-2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate and 2-ethylhexyl-3- [3-tert-butyl-4-hydroxy-5- (5-chloro- 2H-benzotriazol-2-yl) phenyl] propionate mixture << TINUVIN 109 >>, 2- (2
H-benzotriazol-2yl) -4,6-bis (1
-Methyl-1-phenylethyl) phenol << Tinuvin 234 >> and the like, and commercially available tinuvin (T
INUVIN) 171, tinuvin (TINUVIN) 1
09 and TINUVIN 234 can be preferably used, and both are commercially available products manufactured by Ciba Specialty Chemicals and can be preferably used. Specific examples of benzophenone compounds include 2,4-dihydroxybenzophenone and 2,2′-
Examples thereof include, but are not limited to, dihydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxy-5-sulfobenzophenone and bis (2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoylphenylmethane). Further, for this purpose, JP-A-6-148
The polymer UV absorbers (or UV absorbing polymers) described in Japanese Patent Application No. 430 and Japanese Patent Application No. 2000-156039 can also be preferably used. As the polymeric ultraviolet absorber, PUVA-30M (manufactured by Otsuka Chemical Co., Ltd.) and the like are commercially available. General formula (1) of JP-A-6-148430
Or general formula (2) or Japanese Patent Application No. 2000-1560
The polymeric ultraviolet absorbers represented by 39 in the general formulas (3), (6) and (7) are particularly preferably used.

【0132】セルロースエステルフィルム中に添加され
る微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪
素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレ
イ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カ
ルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及
びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。中でもケイ
素を含むものが濁度が低くなる点、また、フィルムのヘ
イズを小さく出来るので好ましく、特に二酸化珪素が好
ましい。二酸化珪素のような微粒子は有機物により表面
処理されている場合が多いが、このようなものはフィル
ムのヘイズを低下出来るため好ましい。表面処理で好ま
しい有機物としては、ハロシラン類、アルコキシシラン
類、シラザン、シロキサンなどを挙げることが出来る。
二酸化珪素微粒子は、例えば、気化させた四塩化珪素と
水素を混合させたものを1000〜1200℃にて空気
中で燃焼させることで得ることが出来る。本発明におい
て、1次粒子の平均径が20nm以下、見掛比重が70
g/l以上の微粒子が好ましく、より好ましくは、90
〜200g/lであり、更に好ましくは、100〜20
0g/lである。見掛比重が大きい程、高濃度の分散液
を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するた
め好ましい。ここで、微粒子の1次平均粒子径の測定
は、透過型電子顕微鏡(倍率50万〜200万倍)で粒
子を観察を行い、粒子100個を観察し、その平均値を
もって、1次平均粒子径とした。本発明において、上記
記載の見掛比重は二酸化珪素微粒子を一定量メスシリン
ダーに採り、この時の重さを測定し、下記式で算出し
た。
The fine particles added to the cellulose ester film include, as examples of inorganic compounds, silicon dioxide, titanium dioxide, aluminum oxide, zirconium oxide, calcium carbonate, calcium carbonate, talc, clay, calcined kaolin, calcined calcium silicate, Mention may be made of hydrated calcium silicate, aluminum silicate, magnesium silicate and calcium phosphate. Among them, those containing silicon are preferable because the turbidity is low and the haze of the film can be reduced, and silicon dioxide is particularly preferable. Although fine particles such as silicon dioxide are often surface-treated with an organic substance, such particles are preferable because they can reduce the haze of the film. Preferred organic substances for the surface treatment include halosilanes, alkoxysilanes, silazanes, siloxanes and the like.
The silicon dioxide fine particles can be obtained, for example, by burning a mixture of vaporized silicon tetrachloride and hydrogen at 1000 to 1200 ° C. in the air. In the present invention, the average diameter of primary particles is 20 nm or less, and the apparent specific gravity is 70 nm.
Fine particles of g / l or more are preferable, and more preferably 90
To 200 g / l, more preferably 100 to 20
It is 0 g / l. The higher the apparent specific gravity is, the higher the concentration of the dispersion liquid can be made, which is preferable because the haze and the aggregates are improved. Here, the primary average particle diameter of the fine particles is measured by observing the particles with a transmission electron microscope (magnification: 500,000 to 2,000,000 times), observing 100 particles, and averaging the average value of the average primary particles The diameter. In the present invention, the apparent specific gravity described above was calculated by the following formula by taking a certain amount of silicon dioxide fine particles in a graduated cylinder and measuring the weight at this time.

【0133】見掛比重(g/l)=二酸化珪素質量
(g)/二酸化珪素の容積(l) 本発明に好ましい二酸化珪素の微粒子としては、例え
ば、日本アエロジル(株)製のアエロジルR972、R
972V、R974、R812、200、200V、3
00、R202、OX50、TT600(以上日本アエ
ロジル(株)製)の商品名で市販されているものを挙げ
ることが出来、アエロジル200V、R972、R97
2V、R974、R202、R812を好ましく用いる
ことが出来る。酸化ジルコニウムの微粒子としては、例
えば、アエロジルR976及びR811(以上日本アエ
ロジル(株)製)の商品名で市販されており、何れも使
用することが出来る。これらの中でアエロジル200
V、アエロジルR972V、アエロジルTT600が本
発明に係るセルロースエステルフィルムの濁度を低く
し、且つ摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好まし
い。
Apparent specific gravity (g / l) = mass of silicon dioxide (g) / volume of silicon dioxide (l) Examples of the fine particles of silicon dioxide preferable in the present invention include, for example, Aerosil R972 and R manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.
972V, R974, R812, 200, 200V, 3
00, R202, OX50, and TT600 (all manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) are commercially available. Aerosil 200V, R972, R97
2V, R974, R202 and R812 can be preferably used. The fine particles of zirconium oxide are commercially available, for example, under the trade names of Aerosil R976 and R811 (all manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.), and any of them can be used. Among these Aerosil 200
V, Aerosil R972V, and Aerosil TT600 are particularly preferable because they have a large effect of reducing the turbidity and the coefficient of friction of the cellulose ester film according to the present invention.

【0134】本発明における透明フィルムまたは透明保
護フィルムとしてのセルロースエステルフィルム1m2
当たりの微粒子の添加量は0.01〜1.0gが好まし
く、0.03〜0.3gがより好ましく、0.08〜
0.16gが更に好ましい。
Cellulose ester film 1 m 2 as a transparent film or transparent protective film in the present invention
The amount of fine particles added per unit is preferably 0.01 to 1.0 g, more preferably 0.03 to 0.3 g, and 0.08 to
0.16 g is more preferred.

【0135】本発明に係わるセルロースエステルフィル
ムの製膜方法について述べる。セルロースエステルフィ
ルムは常法の溶液流延製膜方法により作製する。その一
例を下記に示す。
A method for forming a cellulose ester film according to the present invention will be described. The cellulose ester film is produced by a conventional solution casting film forming method. An example is shown below.

【0136】セルロースエステル(フレーク状の)に対
する良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜中で主溶媒の沸
点以上で加圧して、該セルロースエステル、ポリマーや
添加剤を攪拌しながら溶解しドープを形成する工程、あ
るいはセルロースエステル溶液にポリマー溶液や添加剤
溶液を混合してドープを形成する。ドープ中のセルロー
スエステルの濃度は10〜35質量%が好ましい。溶解
中または後のドープに添加剤を加えて溶解及び分散した
後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送
る。ドープを送液ポンプ(例えば、加圧型定量ギヤポン
プ)を通して加圧ダイに送液し、無限に移送する無端の
金属ベルト、例えばステンレスベルト、あるいは回転す
る金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイ
スリットからドープを流延する工程である。ダイの口金
部分のスリット形状を調整出来、膜厚を均一にし易い加
圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイ
やTダイ等があるが、何れも好ましく用いられる。金属
支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるた
めに加圧ダイを金属支持体上に2基以上設け、ドープ量
を分割して重層してもよい。ウェブ(金属支持体上にド
ープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとす
る)を金属支持体上で加熱し金属支持体からウェブが剥
離可能になるまで溶媒を蒸発させる。溶媒を蒸発させる
には、ウェブ側から風を吹かせる方法及び/または金属
支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱に
より表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱の
方法が乾燥効率がよく好ましい。またそれらを組み合わ
せる方法も好ましい。裏面液体伝熱の場合は、ドープ使
用有機溶媒の主溶媒または最も低い沸点を有する有機溶
媒の沸点以下で加熱するのが好ましい。金属支持体上で
溶媒が蒸発したウェブを剥離位置で剥離する。剥離する
時点でのウェブの残留溶媒量(下記式)があまり大き過
ぎると剥離し難かったり、逆に金属支持体上で充分に乾
燥させてから剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれ
たりする。金属支持体上でのウェブの乾燥が条件の強
弱、金属支持体の長さ等により5〜150質量%の範囲
で剥離することが出来るが、残留溶媒量がより多い時点
で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性
を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易
く、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量
を決められる。従って、本発明においては、該金属支持
体上の剥離位置における温度を10〜40℃、好ましく
は15〜30℃とし、且つ該剥離位置におけるウェブの
残留溶媒量を10〜120質量%とすることが好まし
い。本発明においては、残留溶媒量は下記の式で表わす
ことが出来る。
A good solvent for cellulose ester (flake-like) is added to an organic solvent mainly composed of a solvent by pressurizing at a temperature not lower than the boiling point of the main solvent to dissolve the cellulose ester, polymer and additives with stirring to form a dope. A dope is formed by mixing the cellulose ester solution with a polymer solution or an additive solution. The concentration of cellulose ester in the dope is preferably 10 to 35% by mass. An additive is added to the dope during or after the dissolution to dissolve and disperse it, and the dope is filtered through a filter medium, defoamed, and sent to the next step by a liquid sending pump. A casting position on a metal support such as an endless metal belt, for example, a stainless steel belt, or a rotating metal drum, which feeds the dope to a pressure die through a liquid feed pump (for example, a pressure-type metering gear pump) and transfers it indefinitely. In the second step, the dope is cast from the pressure die slit. It is preferable to use a pressure die that can adjust the slit shape of the die of the die and can easily make the film thickness uniform. The pressure die includes a coat hanger die and a T die, and any of them is preferably used. The surface of the metal support is a mirror surface. In order to increase the film formation speed, two or more pressure dies may be provided on the metal support, and the dope amount may be divided to form multiple layers. A web (hereinafter referred to as a dope film after casting the dope on the metal support is referred to as a web) is heated on the metal support to evaporate the solvent until the web can be peeled from the metal support. To evaporate the solvent, there are a method of blowing air from the web side and / or a method of transferring heat from the back surface of the metal support by a liquid, a method of transferring heat from the front and back sides by radiant heat, and the like. Is preferable because of good drying efficiency. A method of combining them is also preferable. In the case of rear surface liquid heat transfer, it is preferable to heat at a temperature not higher than the boiling point of the main solvent of the organic solvent used for the dope or the organic solvent having the lowest boiling point. The solvent-evaporated web on the metal support is peeled off at the peeling position. If the residual solvent amount of the web at the time of peeling (the following formula) is too large, it is difficult to peel, or conversely if you peel it after drying it sufficiently on the metal support, part of the web may peel off in the middle . Drying of the web on the metal support can be peeled in the range of 5 to 150 mass% depending on the strength and weakness of the conditions, the length of the metal support, etc., but when peeling at a time when the residual solvent amount is larger, the web If is too soft, the flatness is deteriorated at the time of peeling, and cracks and vertical lines due to peeling tension are likely to occur, and the amount of residual solvent at the time of peeling can be determined in consideration of economic speed and quality. Therefore, in the present invention, the temperature at the peeling position on the metal support is 10 to 40 ° C., preferably 15 to 30 ° C., and the residual solvent amount of the web at the peeling position is 10 to 120% by mass. Is preferred. In the present invention, the amount of residual solvent can be represented by the following formula.

【0137】 残留溶媒量(質量%)={(M−N)/N}×100 ここで、Mはウェブの任意時点での質量、NはMのもの
を110℃で3時間乾燥させた時の質量である。
Amount of residual solvent (% by mass) = {(M−N) / N} × 100 Here, M is the mass of the web at an arbitrary time point, and N is the one when M is dried at 110 ° C. for 3 hours. Is the mass of.

【0138】剥離後、ウェブを乾燥装置内に複数配置し
たロールに交互に通して搬送する乾燥装置及び/または
クリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンタ
ー装置を用いてウェブを乾燥する。前述のように本発明
において、クリップ間の幅手方向に対して1.02〜
1.50倍延伸する方法としてテンター装置を用いて延
伸することが好ましい。ウェブの両面に熱風を吹かせ乾
燥させる。全体を通して、通常乾燥温度は40〜250
℃の範囲とするのがよい。
After the peeling, the web is dried by using a drying device that alternately conveys the web through a plurality of rolls arranged in the drying device and / or a tenter device that conveys the web by clipping both ends of the web. As described above, in the present invention, the width direction between the clips is 1.02 to 1.02.
As a method of stretching 1.50 times, it is preferable to stretch using a tenter device. Dry both sides of the web with hot air. Generally, the drying temperature is 40 to 250 throughout
It is preferable that the temperature is in the range of ° C.

【0139】このような延伸によって得られた位相差フ
ィルムを本発明に係る透明フィルム及び/または透明保
護フィルムとして好ましく用いられる。
The retardation film obtained by such stretching is preferably used as the transparent film and / or the transparent protective film according to the present invention.

【0140】本発明に係る透明フィルム及び/または透
明保護フィルムとしてのセルロースエステルフィルムを
アルカリ鹸化処理した後に、偏光に貼り合わせてもよ
い。鹸化処理したセルロースエステルフィルムは、約6
0℃の2mol/lのNaOH水溶液に約90秒浸漬
後、その後常温水で水洗して、約80℃で乾燥して得る
ことが出来る。
The cellulose ester film as the transparent film and / or the transparent protective film according to the present invention may be alkali-saponified, and then bonded to polarized light. The saponified cellulose ester film has about 6
It can be obtained by immersing in a 2 mol / l NaOH aqueous solution at 0 ° C. for about 90 seconds, then washing with normal temperature water and drying at about 80 ° C.

【0141】ここで、本発明に有用な、偏光膜の上に被
覆する透明樹脂保護層について説明するが、透明樹脂保
護層組成物中に、上述の偏光膜の光反応性化合物の項で
記述したアクリル基、メタクリロイル基またはエポキシ
基を有する光反応性化合物、増感剤溶媒等を含有してい
ることが好ましい。ここでは、上述の記述があるので省
略する。透明樹脂保護層組成物の塗布方法としては、グ
ラビアコーター、スピナーコーター、ワイヤーバーコー
ター、ロールコーター、リバースコーター、押し出しコ
ーター、エアードクターコーター等公知の方法を用いる
ことが出来る。塗布量はウエット膜厚で0.1〜30μ
mが適当で、好ましくは、0.5〜15μmである。塗
布速度は好ましくは10〜60m/分で行われる。透明
樹脂保護層組成物は塗布乾燥された後、紫外線を光源よ
り照射するが、照射時間は0.5秒〜5分がよく、紫外
線硬化性樹脂の硬化効率、作業効率とから3秒〜2分が
より好ましい。ここで使用し得る光反応性化合物の市販
品について下記に例示する。例えば、紫外線硬化樹脂と
しては、アデカオプトマーKR・BYシリーズ:KR−
400、KR−410、KR−550、KR−566、
KR−567、BY−320B(以上、旭電化工業株式
会社製)、あるいはコーエイハードA−101−KK、
A−101−WS、C−302、C−401−N、C−
501、M−101、M−102、T−102、D−1
02、NS−101、FT−102Q8、MAG−1−
P20、AG−106、M−101−C(以上、広栄化
学工業株式会社製)、あるいはセイカビームPHC22
10(S)、PHC X−9(K−3)、PHC221
3、DP−10、DP−20、DP−30、P100
0、P1100、P1200、P1300、P140
0、P1500、P1600、SCR900(以上、大
日精化工業株式会社製)、あるいはKRM7033、K
RM7039、KRM7130、KRM7131、UV
ECRYL29201、UVECRYL29202(以
上、ダイセル・ユーシービー株式会社)、あるいはRC
−5015、RC−5016、RC−5020、RC−
5031、RC−5100、RC−5102、RC−5
120、RC−5122、RC−5152、RC−51
71、RC−5180、RC−5181(以上、大日本
インキ化学工業株式会社製)、あるいはオーレックスN
o.340クリヤ(中国塗料株式会社製)、あるいはサ
ンラッドH−601(三洋化成工業株式会社製)、ある
いはSP−1509、SP−1507(昭和高分子株式
会社製)、あるいはRCC−15C(グレース・ジャパ
ン株式会社製)、アロニックスM−6100、M−80
30、M−8060(以上、東亞合成株式会社製)ある
いはこの他の市販のものから適宜選択して利用出来る。
The transparent resin protective layer coated on the polarizing film, which is useful in the present invention, will be described below. In the transparent resin protective layer composition, the description is given in the section of the photoreactive compound of the polarizing film. It is preferable to contain a photoreactive compound having an acryl group, a methacryloyl group or an epoxy group, a sensitizer solvent and the like. Since the above description is given here, it is omitted. As a method for applying the transparent resin protective layer composition, known methods such as a gravure coater, a spinner coater, a wire bar coater, a roll coater, a reverse coater, an extrusion coater and an air doctor coater can be used. The coating amount is 0.1 to 30μ in terms of wet film thickness.
m is suitable, and preferably 0.5 to 15 μm. The coating speed is preferably 10 to 60 m / min. After the transparent resin protective layer composition is applied and dried, it is irradiated with ultraviolet rays from a light source, and the irradiation time is preferably 0.5 seconds to 5 minutes. From the curing efficiency and work efficiency of the ultraviolet curable resin, it is 3 seconds to 2 minutes. Minutes are more preferred. Examples of commercially available photoreactive compounds that can be used here are shown below. For example, as an ultraviolet curable resin, ADEKA OPTOMER KR / BY series: KR-
400, KR-410, KR-550, KR-566,
KR-567, BY-320B (above, Asahi Denka Kogyo Co., Ltd.), or Koei Hard A-101-KK,
A-101-WS, C-302, C-401-N, C-
501, M-101, M-102, T-102, D-1
02, NS-101, FT-102Q8, MAG-1-
P20, AG-106, M-101-C (all manufactured by Koei Chemical Industry Co., Ltd.), or Seika Beam PHC22
10 (S), PHC X-9 (K-3), PHC221
3, DP-10, DP-20, DP-30, P100
0, P1100, P1200, P1300, P140
0, P1500, P1600, SCR900 (above, manufactured by Dainichiseika Kogyo Co., Ltd.), or KRM7033, K
RM7039, KRM7130, KRM7131, UV
ECRYL29201, UVECRYL29202 (above, Daicel UCB), or RC
-5015, RC-5016, RC-5020, RC-
5031, RC-5100, RC-5102, RC-5
120, RC-5122, RC-5152, RC-51
71, RC-5180, RC-5181 (above, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) or Aurex N
o. 340 Kuriya (Chugoku Paint Co., Ltd.), Sunrad H-601 (Sanyo Kasei Co., Ltd.), SP-1509, SP-1507 (Showa High Polymer Co., Ltd.), or RCC-15C (Grace Japan Co., Ltd.) Company made), Aronix M-6100, M-80
30, M-8060 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.) or other commercially available ones can be appropriately selected and used.

【0142】本発明の光学要素として本発明の偏光板の
上に直接または他の層(好ましくはハードコート層ある
いは防眩層)を介して反射防止層を設けることによっ
て、反射防止層を有する偏光板を形成することが出来
る。
As an optical element of the present invention, a polarizing plate having an antireflection layer is provided by providing an antireflection layer directly or on another layer (preferably a hard coat layer or an antiglare layer) on the polarizing plate of the present invention. Plates can be formed.

【0143】ここで、ハードコート層あるいは防眩層に
ついて説明するが、ハードコート層あるいは防眩層塗布
組成物の主成分は上述の偏光膜または透明樹脂保護層の
光反応性化合物と同様である。またハードコート層や防
眩層については特願2001−237684の実施例1
に記載されているような紫外線硬化樹脂層を使用出来
る。
Here, the hard coat layer or the antiglare layer will be described. The main component of the coating composition for the hard coat layer or the antiglare layer is the same as the above-mentioned photoreactive compound of the polarizing film or the transparent resin protective layer. . Regarding the hard coat layer and the antiglare layer, Example 1 of Japanese Patent Application No. 2001-237684
An ultraviolet curable resin layer as described in 1. can be used.

【0144】本発明において、透明樹脂保護層の上にク
リアハードコート層または防眩層を積層することなく、
クリアハードコート層または防眩層を透明樹脂保護層に
代えて塗設してもよい。
In the present invention, a clear hard coat layer or an antiglare layer is not laminated on the transparent resin protective layer,
The clear hard coat layer or the antiglare layer may be coated instead of the transparent resin protective layer.

【0145】本発明のハードコート層あるいは防眩層に
ブロッキングを防止するため、また対擦り傷性等を高め
るために無機あるいは有機の微粒子を加えることが好ま
しい。例えば、無機微粒子としては酸化ケイ素、酸化チ
タン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、炭酸カル
シウム、硫酸バリウム、タルク、カオリン、硫酸カルシ
ウム等を挙げることが出来、また有機微粒子としては、
ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アク
リルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹
脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉
末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹
脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉
末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、
ポリイミド系樹脂粉末、あるいはポリ弗化エチレン系樹
脂粉末等を挙げることが出来、紫外線硬化性樹脂組成物
に加えることが出来る。これらの微粒子粉末の平均粒径
としては、0.005μm〜1μmが好ましく0.01
〜0.1μmであることが特に好ましい。
Inorganic or organic fine particles are preferably added to the hard coat layer or antiglare layer of the present invention to prevent blocking and to enhance scratch resistance. For example, examples of the inorganic fine particles include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, tin oxide, zinc oxide, calcium carbonate, barium sulfate, talc, kaolin, calcium sulfate, and the like.
Polymethacrylic acid methyl acrylate resin powder, acrylic styrene resin powder, polymethyl methacrylate resin powder, silicon resin powder, polystyrene resin powder, polycarbonate resin powder, benzoguanamine resin powder, melamine resin powder, polyolefin resin powder, Polyester resin powder, polyamide resin powder,
Examples thereof include polyimide resin powder and polyfluorinated ethylene resin powder, which can be added to the ultraviolet curable resin composition. The average particle size of these fine particle powders is preferably 0.005 μm to 1 μm.
It is particularly preferable that the thickness is 0.1 μm.

【0146】ハードコート層あるいは防眩層組成物中の
微粒子粉末との割合は、紫外線硬化性樹脂組成物100
質量部に対して、0.1〜10質量部となるように配合
することが望ましい。
The ratio with respect to the fine particle powder in the hard coat layer or antiglare layer composition is 100% by weight of the ultraviolet curable resin composition 100.
It is desirable that the amount be 0.1 to 10 parts by mass with respect to parts by mass.

【0147】このようにして形成された紫外線硬化樹脂
を硬化させた層は中心線平均粗さRaが1〜50nmの
クリアハードコート層であっても、Raが0.1〜1μ
m程度の防眩層であってもよい。本発明では、これらの
層の上にプラズマ放電処理で金属酸化物層を形成するこ
とが出来る。JIS B 0601で規定される中心線
平均粗さ(Ra)が0.1〜0.5μmの防眩層上に均
一にプラズマ処理出来るために好ましい。
The layer formed by curing the ultraviolet curable resin thus formed is a clear hard coat layer having a center line average roughness Ra of 1 to 50 nm, but Ra is 0.1 to 1 μm.
It may be an antiglare layer having a thickness of about m. In the present invention, a metal oxide layer can be formed on these layers by plasma discharge treatment. It is preferable because the plasma treatment can be performed uniformly on the antiglare layer having a center line average roughness (Ra) defined by JIS B 0601 of 0.1 to 0.5 μm.

【0148】本発明において、上記のクリアハードコー
ト層または防眩層に500〜600nmに吸収波長を有
する色素を含有させてもよい。500〜600nmに吸
収波長を有する染料であれば、特に制限ないが、クリア
ハードコート層または防眩層組成物に使用する有機溶媒
に溶解性の有るものであればよい。本発明に有用な染料
としては、500〜600nmに吸収波長を有するアゾ
染料、ポリメチン染料、キノン系染料が好ましい。本発
明において、これらの染料を2種以上混合して使用して
もよい。500〜600nmの領域の波長の光は人間の
眼の視感度の比較的高い波長領域であり、反射光は見る
人にギラツキ間を与えるため、この領域に吸収波長を有
する染料を用いることによって、見やすい画像表示装置
を提供することが出来る。更にその上に設ける反射防止
層または防眩層の存在により更に見やすいものを得るこ
とが出来る。
In the present invention, the clear hard coat layer or antiglare layer may contain a dye having an absorption wavelength of 500 to 600 nm. There is no particular limitation as long as it is a dye having an absorption wavelength in the range of 500 to 600 nm, but any dye may be used as long as it is soluble in the organic solvent used for the clear hard coat layer or antiglare layer composition. As the dye useful in the present invention, an azo dye, a polymethine dye and a quinone dye having an absorption wavelength of 500 to 600 nm are preferable. In the present invention, two or more kinds of these dyes may be mixed and used. Light having a wavelength in the range of 500 to 600 nm is a wavelength range in which the human eye has a relatively high visibility, and reflected light gives glare to the viewer, so by using a dye having an absorption wavelength in this region, An easily viewable image display device can be provided. Further, the presence of an antireflection layer or an antiglare layer provided thereon can provide a more observable one.

【0149】本発明の偏光板に反射防止層を有する光学
要素は、偏光膜の上の透明樹脂保護層、透明保護フィル
ムまたは透明フィルム(以降、本発明において、透明樹
脂保護層、透明保護フィルム、透明フィルムを総称して
基材と表現することがある)の上に、金属化合物薄膜を
積層して形成したものである。また、上記基材の上に、
ハードコート層あるいは防眩層を設けた上に反射防止層
を設けることが好ましい。
The optical element having an antireflection layer on the polarizing plate of the present invention is a transparent resin protective layer, a transparent protective film or a transparent film on a polarizing film (hereinafter, in the present invention, a transparent resin protective layer, a transparent protective film, A transparent film may be collectively referred to as a substrate), and a metal compound thin film is laminated on the transparent film. Further, on the above base material,
It is preferable to provide an antireflection layer on the hard coat layer or the antiglare layer.

【0150】本発明の光学要素は、偏光板を形成した後
の透明保護フィルムまたは透明フィルムの基材の上に薄
膜を形成させる方法、予め透明保護フィルムまたは透明
フィルムの表面に反射防止層の薄膜を形成させた後、本
発明に係る偏光膜をこの反射防止層を有する透明フィル
ムの反射防止層の反対側の面上に設ける方法、または透
明フィルムの上に偏光膜を形成し、その上に予め反射防
止層を有する透明保護フィルムを貼り合わせる方法によ
り作製したものでもよい。
The optical element of the present invention comprises a method of forming a thin film on a transparent protective film or a transparent film substrate after forming a polarizing plate, and a thin film of an antireflection layer on the surface of the transparent protective film or transparent film in advance. After forming a polarizing film according to the present invention on the opposite surface of the antireflection layer of the transparent film having this antireflection layer, or a polarizing film is formed on the transparent film, on which It may be produced by a method of pasting a transparent protective film having an antireflection layer in advance.

【0151】本発明において、反射防止層を形成する方
法は、特に制限なく、例えば、反射防止層のための金属
化合物と紫外線硬化樹脂を含有する組成物を偏光板の基
材の面上に塗布、乾燥し、更に紫外線を照射して反射防
止層を形成させる例えば特開平11−246692号明
細書に記載の方法や、反射防止層用の化合物のガスを用
いて真空プラズマ、スパッタリング、プラズマ放電処理
等による方法を用いることが出来る。本発明においては
特に、大気圧プラズマ放電処理方法による反射防止層の
形成が好ましい。大気圧プラズマ放電処理方法というの
は、大気圧もしくはその近傍の圧力下で対向電極間に高
周波電圧を印加してプラズマを発生させ、該対向電極間
に導入された希ガス及び反応性ガスを含有する反応ガス
をプラズマ状態として、該プラズマ状態の反応ガスに基
材をさらすことによって反応ガスの組成に応じた機能性
の薄膜を形成する反射防止層を形成する方法である。
In the present invention, the method for forming the antireflection layer is not particularly limited, and for example, a composition containing a metal compound for the antireflection layer and an ultraviolet curable resin is applied on the surface of the base material of the polarizing plate. , Drying, and further irradiating with ultraviolet rays to form an antireflection layer, for example, the method described in JP-A No. 11-246692 or vacuum plasma, sputtering, plasma discharge treatment using a compound gas for the antireflection layer. It is possible to use the method according to the above. In the present invention, it is particularly preferable to form the antireflection layer by the atmospheric pressure plasma discharge treatment method. The atmospheric pressure plasma discharge treatment method is a method in which a high frequency voltage is applied between opposing electrodes at atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof to generate plasma, and a rare gas and a reactive gas introduced between the opposing electrodes are contained. In this method, an antireflection layer for forming a functional thin film according to the composition of the reaction gas is formed by exposing the substrate to the reaction gas in the plasma state with the reaction gas to be formed into a plasma state.

【0152】本発明において、大気圧もしくはその近傍
の圧力とは、20〜200kPaの圧力を表すが、本発
明に記載の効果を好ましく得るためには90〜110k
Pa、特に93〜104kPaが好ましい。
In the present invention, the atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof means a pressure of 20 to 200 kPa, but in order to obtain the effect described in the present invention preferably 90 to 110 kPa.
Pa, particularly 93 to 104 kPa is preferable.

【0153】本発明に有用な大気圧プラズマ放電処理方
法は、特願2001−127649、同2001−17
5475、同2001−131663、同2001−2
37684、同2001−377091等に記載されて
いる対向電極を有する放電処理装置により、該対向電極
の間隙を大気圧もしくはその近傍の圧力とし、そこに少
なくとも金属化合物ガス(反応性ガス)及び希ガスを含
有する反応ガスを導入し放電プラズマを起こさせ、プラ
ズマ放電処理室を連続して移送する基材に金属化合物の
薄膜を形成させる方法である。例えば、3層薄膜を積層
する場合には、前記特願2001−131663の図6
に記載されている装置や同2001−377091の図
3に記載されている装置をそれぞれ直列に、例えば3〜
4基並べ、移送している基材の上に中屈折率層/高屈折
率層/低屈折率層を3層積層(防汚層を最上層に設ける
場合には4層積層)して連続的に処理することも出来、
この連続的積層処理は品質の安定や生産性の向上等から
本発明の光学要素の作製に適している。また積層せず
に、1層処理ごと、処理後巻き取り、逐次処理して積層
してもよい。
The atmospheric pressure plasma discharge treatment method useful in the present invention is described in Japanese Patent Application Nos. 2001-127649 and 2001-17.
5475, 2001-131663, 2001-2
By the discharge treatment apparatus having a counter electrode described in 37684 and 2001-377091, the gap between the counter electrodes is set to atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof, and at least a metal compound gas (reactive gas) and a noble gas are present therein. Is a method of forming a thin film of a metal compound on a base material that is continuously transferred to a plasma discharge treatment chamber by introducing a reaction gas containing the metal oxide. For example, when laminating three-layer thin films, the structure shown in FIG.
3 and the device described in FIG. 3 of 2001-377091, respectively.
4 layers are arranged and 3 layers of medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer are laminated (4 layers when the antifouling layer is provided as the uppermost layer) on the substrate which is being transferred to be continuous. Can be treated as
This continuous lamination process is suitable for producing the optical element of the present invention because of stable quality and improvement in productivity. In addition, without laminating, each layer may be treated, wound after treatment, and sequentially treated to be laminated.

【0154】本発明の光学要素に用いる反射防止層は、
高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層を適宜組み合わせ
て積層しても得られるが、これら3層を積層することが
好ましく、特に基材側から中屈折率層/高屈折率層/低
屈折率層の順に積層することが好ましい。
The antireflection layer used in the optical element of the present invention is
The high refractive index layer, the medium refractive index layer, and the low refractive index layer can be obtained by appropriately combining and laminating them, but it is preferable to laminate these three layers, and particularly from the base material side, the medium refractive index layer / high refractive index layer. / It is preferable to stack the low refractive index layers in this order.

【0155】本発明の反射防止層を形成する装置につい
て説明する。図1は本発明に有用な大気圧プラズマ放電
処理装置の一例の概略図である。図1はプラズマ放電処
理装置30、ガス充填手段50、電圧印加手段40、及
び電極温度調節手段60から構成されている。基材Fは
図示されていない元巻きから巻きほぐされて搬送して来
るか、または前工程から搬送されて来てガイドロール6
4を経てニップロール65で基材に同伴して来る空気等
を遮断し、アース電極としてのロール回転電極25に接
触したまま巻き回されながら印加電極としての角筒型固
定電極群36との間を移送され、ニップロール66、ガ
イドロール67を経て、図示してない巻き取り機で巻き
取られるか、次工程に移送する。反応ガスはガス充填手
段50で、ガス発生装置51で発生させた反応ガスG
を、流量制御して給気口52より放電処理室32のプラ
ズマ放電処理容器31内に入れ、該プラズマ放電処理容
器31内を反応ガスGで充填し処理排ガスG′を排気口
53より排出するようにする。次に電圧印加手段40
で、高周波電源41により角筒型固定電極群36に電圧
を印加し、ロール回転電極25にはアースを接地し、放
電プラズマを発生させる。ロール回転電極25及び角筒
型固定電極群36を電極温度調節手段60を用いて媒体
を加熱または冷却し電極に送液する。電極温度調節手段
60で温度を調節した媒体を送液ポンプPで配管61を
経てロール回転電極25及び角筒型固定電極群36内側
から温度を調節する。プラズマ放電処理の際、基材の温
度によって得られる薄膜の物性や組成は変化することが
あり、これに対して適宜制御することが好ましい。媒体
としては、蒸留水、油等の絶縁性材料が好ましく用いら
れる。プラズマ放電処理の際、幅手方向あるいは長手方
向での基材の温度ムラが出来るだけ生じないようにロー
ルを用いた回転電極の内部の温度を制御することが望ま
れる。なお、68及び69はプラズマ放電処理容器31
と外界を仕切る仕切板である。
An apparatus for forming the antireflection layer of the invention will be described. FIG. 1 is a schematic view of an example of an atmospheric pressure plasma discharge treatment apparatus useful in the present invention. FIG. 1 comprises a plasma discharge treatment device 30, a gas filling means 50, a voltage applying means 40, and an electrode temperature adjusting means 60. The base material F is unwound from an unillustrated original roll and conveyed, or is conveyed from the previous step and is guided by the guide roll 6
The nip roll 65 cuts off air and the like entrained in the base material via the nip roll 65, and is wound while being in contact with the roll rotating electrode 25 as an earth electrode, and between the square tubular fixed electrode group 36 as an applying electrode. After being transferred, it passes through the nip roll 66 and the guide roll 67 and is wound by a winder (not shown) or transferred to the next step. The reaction gas is the gas filling means 50 and the reaction gas G generated by the gas generator 51.
Is controlled into the plasma discharge processing container 31 of the discharge processing chamber 32 through the air supply port 52, the inside of the plasma discharge processing container 31 is filled with the reaction gas G, and the processing exhaust gas G ′ is discharged from the exhaust port 53. To do so. Next, the voltage applying means 40
Then, a voltage is applied to the rectangular cylindrical fixed electrode group 36 by the high frequency power source 41, and the roll rotating electrode 25 is grounded to generate discharge plasma. The roll rotating electrode 25 and the prismatic fixed electrode group 36 are heated or cooled by the electrode temperature adjusting means 60 to feed the medium to the electrodes. The temperature of the medium whose temperature has been adjusted by the electrode temperature adjusting means 60 is adjusted by the liquid feed pump P through the pipe 61 from the inside of the roll rotating electrode 25 and the prismatic fixed electrode group 36. During plasma discharge treatment, the physical properties and composition of the thin film obtained may change depending on the temperature of the base material, and it is preferable to appropriately control this. An insulating material such as distilled water or oil is preferably used as the medium. During the plasma discharge treatment, it is desired to control the temperature inside the rotary electrode using a roll so that the temperature unevenness of the base material in the width direction or the longitudinal direction is not generated as much as possible. Incidentally, 68 and 69 are plasma discharge processing containers 31.
And the partition that separates the outside world.

【0156】本発明に係る電極は金属母材とその上に被
覆されている誘電体から構成されている。図2は、本発
明におけるロール回転電極の一例を示す斜視図である。
図2において、ロール回転電極25aの構成は、金属の
導電性を有する金属母材25Aに対しセラミックス溶射
後、無機質物質により封孔処理した誘電体25Bを被覆
した組み合わせでなっている。また誘電体はライニング
によるものでもよい。
The electrode according to the present invention is composed of a metal base material and a dielectric material coated thereon. FIG. 2 is a perspective view showing an example of the roll rotating electrode in the present invention.
In FIG. 2, the roll rotating electrode 25a is configured such that a metal base material 25A having metal conductivity is sprayed with ceramics and then covered with a dielectric 25B that is sealed with an inorganic substance. The dielectric may be a lining.

【0157】図3は角筒型電極の一例を示す斜視図であ
る。図1において、角筒型電極36aは上記ロール回転
電極25aと同様に、または金属の導電性を有する金属
母材36Aに対しセラミックス溶射後、無機質物質によ
り封孔処理した誘電体36Bを被覆した組み合わせでな
っている。また誘電体はライニングによるものでもよ
い。固定電極は円筒型であってもよい。固定電極として
角筒型電極36aは、円筒型に比べ放電範囲を広げる効
果があり、好ましい。
FIG. 3 is a perspective view showing an example of a rectangular tube type electrode. In FIG. 1, the prismatic electrode 36a is the same as the roll rotating electrode 25a, or a combination of a metal base material 36A having metal conductivity and ceramics sprayed and then covered with a dielectric material 36B sealed with an inorganic substance. It consists of The dielectric may be a lining. The fixed electrode may be cylindrical. The prismatic electrode 36a as a fixed electrode is preferable because it has the effect of widening the discharge range as compared with the cylindrical electrode.

【0158】本発明において、電極(誘電体の付いた)
の表面粗さについては、電極の少なくとも基材と接する
側のJIS B 0601で規定される表面粗さの最大
高さ(Rmax)は、10μm以下になるように調整さ
れることが、本発明に記載の効果を得る観点から好まし
いが、更に好ましくは、表面粗さの最大高さ(Rma
x)が8μm以下であり、特に好ましくは、7μm以下
に調整することである。
In the present invention, an electrode (with a dielectric)
Regarding the surface roughness of, the maximum height (Rmax) of the surface roughness defined by JIS B 0601 on at least the side of the electrode in contact with the base material is adjusted to be 10 μm or less. It is preferable from the viewpoint of obtaining the effect described above, but more preferably the maximum height of surface roughness (Rma).
x) is 8 μm or less, particularly preferably 7 μm or less.

【0159】電圧印加手段40は高周波電源41より、
それぞれの電極の金属の導電性を有する金属母材に電圧
を印加する。本発明に係る反射防止層を形成させるため
の対向電極に電圧を印加する高周波電源としては、特に
限定はないが、好ましくは比較的ハイパワーの電源であ
る。また防汚層の形成のためには上記ほどハイパワーで
ある必要はない。反射防止層や防汚層の形成に使用し得
る高周波電源としては、神鋼電機製高周波電源(50k
Hz)、ハイデン研究所製高周波電源(連続モード使
用、100kHz)、パール工業製高周波電源(200
kHz)、パール工業製高周波電源(800kHz)、
パール工業製高周波電源(2MHz)、日本電子製高周
波電源(13.56MHz)、パール工業製高周波電源
(27MHz)、パール工業製高周波電源(150MH
z)等を好ましく使用出来る。
The voltage applying means 40 uses a high frequency power source 41,
A voltage is applied to the metal base material having the metal conductivity of each electrode. The high frequency power source for applying a voltage to the counter electrode for forming the antireflection layer according to the present invention is not particularly limited, but is preferably a relatively high power source. Further, the formation of the antifouling layer does not need to have the high power as described above. As a high frequency power source that can be used for forming the antireflection layer and the antifouling layer, a high frequency power source (50k
Hz), high frequency power supply manufactured by HEIDEN R & D Co., Ltd. (continuous mode used, 100 kHz), high frequency power supply manufactured by Pearl Industry (200
kHz), high frequency power supply (800 kHz) made by Pearl Industry,
High frequency power supply made by Pearl Industry (2MHz), high frequency power supply made by JEOL (13.56MHz), high frequency power supply made by Pearl Industry (27MHz), high frequency power supply made by Pearl Industry (150MH)
z) and the like can be preferably used.

【0160】プラズマ放電処理容器31はパイレックス
(R)ガラスやプラスティックで絶縁された金属性容器
であってもよい。例えば、アルミまたは、ステンレスス
ティールのフレームの内面にポリイミド樹脂等を張り付
けても良く、該金属フレームにセラミックス溶射を行い
絶縁性をとっても良い。
The plasma discharge processing container 31 may be a metallic container insulated with Pyrex (R) glass or plastic. For example, a polyimide resin or the like may be attached to the inner surface of a frame made of aluminum or stainless steel, and the metal frame may be sprayed with ceramics to have an insulating property.

【0161】本発明に係る大気圧プラズマ放電処理方法
あるいは条件等について説明する。本発明において、大
気圧もしくはその近傍の圧力とは、20〜200kPa
の圧力を表すが、本発明に記載の効果を好ましく得るた
めには90〜110kPa、特に93〜104kPaが
好ましい。
The atmospheric pressure plasma discharge treatment method or conditions according to the present invention will be described. In the present invention, the atmospheric pressure or the pressure in the vicinity thereof means 20 to 200 kPa.
In order to obtain the effect described in the present invention, 90 to 110 kPa, particularly 93 to 104 kPa is preferable.

【0162】本発明に係る反射防止層を形成するする場
合の対向電極間に印加する高周波電界の周波数としては
特に限定はないが、対向電極間には、100kHzを超
えて150MHzの範囲に周波数を有する高周波電界を
印加するのが好ましい。特に周波数が高い程、薄膜形成
速度を上げることが出来る。対向電極間に、100kH
zを越えた高周波電圧で、1W/cm2以上の電力を供
給し、反応ガスを励起してプラズマを発生させる。この
ようなハイパワーの電界を印加することによって、緻密
で、膜厚均一性の高い高機能性の薄膜を、生産効率高く
得ることが出来る。本発明において、対向電極間に印加
する高周波電圧の周波数は、好ましくは150MHz以
下である。また、高周波電圧の周波数としては、好まし
くは200kHz以上、さらに好ましくは800kHz
以上である。また、対向電極間に供給する電力は、好ま
しくは1.2W/cm2以上であり、好ましくは50W
/cm2以下、さらに好ましくは30W/cm2以下であ
る。尚、対向電極における電圧の印加面積(/cm2
は、放電が起こる範囲の面積のことを指す。対向電極間
に印加する高周波電圧は、断続的なパルス波であって
も、連続したサイン波であっても構わないが、本発明の
効果を高く得るためには、連続したサイン波であること
が好ましい。
The frequency of the high-frequency electric field applied between the counter electrodes when forming the antireflection layer according to the present invention is not particularly limited, but the frequency between the counter electrodes should be in the range of 150 MHz to more than 100 kHz. It is preferable to apply a high frequency electric field having the electric field. In particular, the higher the frequency, the higher the thin film formation rate. 100kH between opposing electrodes
Electric power of 1 W / cm 2 or more is supplied at a high frequency voltage exceeding z to excite the reaction gas and generate plasma. By applying such a high-power electric field, a dense and highly functional thin film with high film thickness uniformity can be obtained with high production efficiency. In the present invention, the frequency of the high frequency voltage applied between the opposed electrodes is preferably 150 MHz or less. The frequency of the high frequency voltage is preferably 200 kHz or higher, more preferably 800 kHz.
That is all. The power supplied between the opposing electrodes is preferably 1.2 W / cm 2 or more, preferably 50 W.
/ Cm 2 or less, more preferably 30 W / cm 2 or less. The voltage application area (/ cm 2 ) at the counter electrode
Refers to the area in the range where discharge occurs. The high-frequency voltage applied between the opposing electrodes may be an intermittent pulse wave or a continuous sine wave, but in order to obtain the effect of the present invention high, it should be a continuous sine wave. Is preferred.

【0163】本発明において、電極間の距離は、電極の
金属母材に設置した誘電体の厚さ、印加電圧の大きさ、
プラズマを利用する目的等を考慮して決定される。上記
電極の一方に誘電体を設置した場合の誘電体と電極の最
短距離、上記電極の双方に誘電体を設置した場合の誘電
体同士の距離としては、いずれの場合も均一な放電を行
う観点から0.5〜20mmが好ましく、より好ましく
は0.5〜5mm、更に好ましくは0.5〜3mm、特
に好ましくは1mm±0.5mmである。
In the present invention, the distance between the electrodes is defined by the thickness of the dielectric material provided on the metal base material of the electrodes, the magnitude of the applied voltage,
It is determined in consideration of the purpose of using plasma. The shortest distance between the dielectric and the electrode when the dielectric is installed on one of the electrodes, and the distance between the dielectrics when the dielectric is installed on both of the electrodes, from the viewpoint of uniform discharge in both cases. Is preferably 0.5 to 20 mm, more preferably 0.5 to 5 mm, still more preferably 0.5 to 3 mm, and particularly preferably 1 mm ± 0.5 mm.

【0164】本発明に係る大気圧もしくはその近傍の圧
力下で反応ガス雰囲気内でプラズマ放電処理する際、処
理前に、予め基材表面の除電処理を行い、更にゴミ除去
を行うことによって、表面処理の均一性が更に向上する
ので好ましい。除電手段及び除電処理後のゴミ除去手段
としては、前述装置のところでした手段と同様の手段を
採用出来る。図示してないが、除電手段としては、通常
のブロアー式や接触式以外に、複数の正負のイオン生成
用除電電極と基材を挟むようにイオン吸引電極を対向さ
せた除電装置とその後に正負の直流式除電装置を設けた
高密度除電システム(特開平7−263173号)を挙
げることが出来、好ましく用いることが出来る。またこ
のときの基材の帯電量は±500V以下となることが好
ましい。また除電処理後のゴミ除去手段としては、非接
触式のジェット風式減圧型ゴミ除去装置(特開平7−6
0211号)等を挙げることが出来好ましく用いること
が出来るが、これらに限定されない。
When plasma discharge treatment is carried out in a reaction gas atmosphere under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof according to the present invention, before the treatment, the surface of the base material is preliminarily destaticized, and dust is further removed. It is preferable because the uniformity of treatment is further improved. As the charge removing means and the dust removing means after the charge removing processing, the same means as those used in the above-mentioned apparatus can be adopted. Although not shown, as the static elimination means, in addition to a normal blower type or contact type, a static eliminator in which a plurality of positive / negative ion-eliminating electrodes and an ion-suction electrode are placed so as to sandwich the substrate and a positive / negative The high-density static elimination system (Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-263173) provided with the DC static eliminator of No. 2 can be mentioned and can be preferably used. Further, the charge amount of the base material at this time is preferably ± 500 V or less. Further, as the dust removing means after the static elimination processing, a non-contact type jet type decompression type dust removing device (Japanese Patent Laid-Open No. 7-6
No. 0211) and the like can be mentioned and can be preferably used, but the invention is not limited thereto.

【0165】本発明に係る大気圧プラズマ放電処理装置
の対向電極間の放電処理室に充満させる反応ガス、つま
り反射防止層を形成する反応ガスについて述べる。
The reaction gas filling the discharge processing chamber between the opposing electrodes of the atmospheric pressure plasma discharge processing apparatus according to the present invention, that is, the reaction gas forming the antireflection layer will be described.

【0166】本発明に使用する反応ガスは希ガスと反応
性ガスを含有する混合ガスであることが好ましい。
The reaction gas used in the present invention is preferably a mixed gas containing a rare gas and a reactive gas.

【0167】希ガスとしては、周期表の第18属元素、
具体的には、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプト
ン、キセノン、ラドン等を挙げることが出来るが、本発
明に記載の効果を得るためには、ヘリウム、アルゴンが
好ましく用いられ、特に比較的安価なアルゴンガスが好
ましい。
As the rare gas, an element belonging to Group 18 of the periodic table,
Specific examples thereof include helium, neon, argon, krypton, xenon, and radon, but in order to obtain the effects described in the present invention, helium and argon are preferably used, and particularly relatively inexpensive argon. Gas is preferred.

【0168】本発明において、反応ガス中の希ガスの混
合割合は、90.0〜99.9体積%が好ましい。
In the present invention, the mixing ratio of the rare gas in the reaction gas is preferably 90.0 to 99.9% by volume.

【0169】反応性ガスは、薄膜を形成するのに用いら
れるガスであり、直接薄膜を形成する化合物と水素ガ
ス、酸素ガス、窒素ガス、炭酸ガス等補助的に使用する
ガスとがある。
The reactive gas is a gas used for forming a thin film, and there are a compound for directly forming a thin film and a gas for auxiliary use such as hydrogen gas, oxygen gas, nitrogen gas and carbon dioxide gas.

【0170】本発明の光学要素の反射防止層用形成反応
ガスには、適切な屈折率を得ることの出来る化合物であ
れば、制限なく使用出来るが、本発明において、高屈折
率層形成用反応性ガスとしては主にチタン化合物を、中
屈折率層形成用反応性ガスとしては主に錫化合物または
チタン化合物と珪素化合物の混合物(または高屈折率形
成用のチタン化合物で形成した層と低屈折率層を形成す
る珪素化合物で形成した層を積層してもよい)を、また
低屈折率層形成用反応性ガスとしては主に珪素化合物、
フッ素化合物、あるいは珪素化合物とフッ素化合物の混
合物を好ましく用いることが出来る。これらの化合物を
屈折率を調節するために、何れかの層の形成用反応性ガ
スとして2種以上混合して使用してもよい。
As the reaction gas for forming the antireflection layer of the optical element of the present invention, any compound capable of obtaining an appropriate refractive index can be used without limitation. In the present invention, the reaction for forming the high refractive index layer is used. As a reactive gas for forming a medium refractive index layer, a titanium compound is mainly used as a reactive gas, and as a reactive gas for forming a medium refractive index layer, a tin compound or a mixture of a titanium compound and a silicon compound (or a layer formed of a titanium compound for forming a high refractive index and a low refractive index are used). A layer formed of a silicon compound forming the refractive index layer may be laminated), and a silicon compound is mainly used as the reactive gas for forming the low refractive index layer,
A fluorine compound or a mixture of a silicon compound and a fluorine compound can be preferably used. Two or more kinds of these compounds may be mixed and used as a reactive gas for forming any layer in order to adjust the refractive index.

【0171】本発明に有用な高屈折率層形成用反応性ガ
スに使用するチタン化合物としては、有機チタン化合
物、チタン水素化合物、ハロゲン化チタン等があり、有
機チタン化合物としては、例えば、トリエチルチタン、
トリメチルチタン、トリイソプロピルチタン、トリブチ
ルチタン、テトラエチルチタン、テトライソプロピルチ
タン、テトラブチルチタン、トリエトキシチタン、トリ
メトキシチタン、トリイソプロポキシチタン、トリブト
キシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポ
キシチタン、メチルジメトキシチタン、エチルトリエト
キシチタン、メチルトリイソプロポキシチタン、テトラ
ジメチルアミノチタン、ジメチルチタンジアセトアセト
ナート、エチルチタントリアセトアセトナート等、チタ
ン水素化合物としてはモノチタン水素化合物、ジチタン
水素化合物等、ハロゲン化チタンとしては、トリクロロ
チタン、テトラクロロチタン等を挙げることが出来、何
れも本発明において好ましく用いることが出来る。また
これらの反応性ガスを2種以上を同時に混合して使用す
ることが出来る。
Titanium compounds used in the reactive gas for forming a high refractive index layer useful in the present invention include organic titanium compounds, titanium hydrogen compounds and titanium halides. Examples of the organic titanium compounds include triethyl titanium. ,
Trimethyl titanium, triisopropyl titanium, tributyl titanium, tetraethyl titanium, tetraisopropyl titanium, tetrabutyl titanium, triethoxy titanium, trimethoxy titanium, triisopropoxy titanium, tributoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, methyldimethoxy titanium , Ethyltriethoxytitanium, methyltriisopropoxytitanium, tetradimethylaminotitanium, dimethyltitanium diacetoacetonate, ethyltitanium triacetoacetonate, etc., as titanium hydrogen compounds, monotitanium hydrogen compounds, dititanium hydrogen compounds, etc., titanium halides. Examples thereof include trichlorotitanium and tetrachlorotitanium, and any of them can be preferably used in the present invention. Further, two or more kinds of these reactive gases can be mixed and used at the same time.

【0172】本発明に有用な中屈折率層形成用反応性ガ
スに用いる錫化合物としては、有機錫化合物、錫水素化
合物、ハロゲン化錫等であり、有機錫化合物としては、
例えば、テトラエチル錫、テトラメチル錫、二酢酸ジ−
n−ブチル錫、テトラブチル錫、テトラオクチル錫、テ
トラエトキシ錫、メチルトリエトキシ錫、ジエチルジエ
トキシ錫、トリイソプロピルエトキシ錫、ジエチル錫、
ジメチル錫、ジイソプロピル錫、ジブチル錫、ジエトキ
シ錫、ジメトキシ錫、ジイソプロポキシ錫、ジブトキシ
錫、錫ジブチラート、錫ジアセトアセトナート、エチル
錫アセトアセトナート、エトキシ錫アセトアセトナー
ト、ジメチル錫ジアセトアセトナート等、錫水素化合物
等、ハロゲン化錫としては、二塩化錫、四塩化錫等を挙
げることが出来、何れも本発明において、好ましく用い
ることが出来る。また、これらの反応性ガスを2種以上
同時に混合して使用してもよい。なお、このようにし
て、形成された酸化錫層は表面比抵抗値を1011Ω/c
2以下に下げることが出来るため、帯電防止層として
も有用である。
Examples of the tin compound used in the reactive gas for forming the medium refractive index layer useful in the present invention include organic tin compounds, tin hydrogen compounds, tin halides, and the like.
For example, tetraethyl tin, tetramethyl tin, diacetate di-
n-butyltin, tetrabutyltin, tetraoctyltin, tetraethoxytin, methyltriethoxytin, diethyldiethoxytin, triisopropylethoxytin, diethyltin,
Dimethyltin, diisopropyltin, dibutyltin, diethoxytin, dimethoxytin, diisopropoxytin, dibutoxytin, tin dibutyrate, tin diacetoacetonate, ethyltin acetoacetonate, ethoxytin acetoacetonate, dimethyltin diacetoacetonate Etc. Examples of tin halides such as tin-hydrogen compounds include tin dichloride, tin tetrachloride and the like, and any of them can be preferably used in the present invention. Further, two or more kinds of these reactive gases may be mixed and used at the same time. The tin oxide layer thus formed has a surface resistivity of 10 11 Ω / c.
Since it can be reduced to m 2 or less, it is also useful as an antistatic layer.

【0173】本発明に有用な低屈折率層形成用反応性ガ
スに使用する珪素化合物としては、有機珪素化合物、珪
素水素化合物、ハロゲン化珪素化合物等を挙げることが
出来、有機珪素化合物としては、例えば、テトラエチル
シラン、テトラメチルシラン、テトライソプロピルシラ
ン、テトラブチルシラン、テトラエトキシシラン、テト
ライソプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、ジメ
チルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ
エチルシランジアセトアセトナート、メチルトリメトキ
シシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン等、珪素水素化合物としては、テトラ水素化
シラン、ヘキサ水素化ジシラン等、ハロゲン化珪素化合
物としては、テトラクロロシラン、メチルトリクロロシ
ラン、ジエチルジクロロシラン等を挙げることが出来、
何れも本発明において好ましく用いることが出来る。ま
た、前記フッ素化合物を使用することが出来る。これら
の反応性ガスを2種以上を同時に混合して使用すること
が出来る。また、屈折率の微調整にこれら錫化合物、チ
タン化合物、珪素化合物を適宜2種以上同時に混合して
使用してもよい。
Examples of the silicon compound used in the reactive gas for forming the low refractive index layer useful in the present invention include organic silicon compounds, silicon hydride compounds, silicon halide compounds, and the like. For example, tetraethylsilane, tetramethylsilane, tetraisopropylsilane, tetrabutylsilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetrabutoxysilane, dimethyldimethoxysilane, diethyldiethoxysilane, diethylsilanediacetacetonate, methyltrimethoxysilane. , Methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane and the like, silicon hydrogen compounds such as tetrahydrogenated silane and hexahydrogenated disilane, and silicon halide compounds such as tetrachlorosilane, methyltrichlorosilane and diethyldisilane. And the like can be mentioned Roroshiran,
Both can be preferably used in the present invention. Further, the above-mentioned fluorine compound can be used. Two or more of these reactive gases can be mixed and used at the same time. Further, for fine adjustment of the refractive index, two or more kinds of these tin compounds, titanium compounds and silicon compounds may be appropriately mixed and used at the same time.

【0174】上記の有機錫化合物、有機チタン化合物ま
たは有機珪素化合物は、取り扱い上の観点から金属水素
化合物、金属アルコキシドが好ましく、腐食性、有害ガ
スの発生がなく、工程上の汚れなども少ないことから、
金属アルコキシドが好ましく用いられる。また、上記の
有機錫化合物、有機チタン化合物または有機珪素化合物
を放電空間である電極間に導入するには、両者は常温常
圧で、気体、液体、固体何れの状態であっても構わな
い。気体の場合は、そのまま放電空間に導入出来るが、
液体、固体の場合は、加熱、減圧、超音波照射等の手段
により気化させて使用される。有機錫化合物、有機チタ
ン化合物または有機珪素化合物を加熱により気化して用
いる場合、金属テトラエトキシド、金属テトライソプロ
ポキシドなどの常温で液体で、沸点が200℃以下であ
る金属アルコキシドが反射防止膜の形成に好適に用いら
れる。上記金属アルコキシドは、溶媒によって希釈して
使用されても良く、この場合、希ガス中へ気化器等によ
り気化して反応ガスに使用すればよい。気化器としては
例えば、リンテック(株)製の気化器を用いることが出
来る。この際使用可能な有機溶媒としては、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、n−
ヘキサン等及びこれらの混合溶媒が使用出来る。
The above-mentioned organotin compound, organotitanium compound or organosilicon compound is preferably a metal hydrogen compound or a metal alkoxide from the viewpoint of handling, and it is free from corrosiveness, generation of harmful gas, and little stain in the process. From
Metal alkoxides are preferably used. Further, in order to introduce the above-mentioned organotin compound, organotitanium compound or organosilicon compound between the electrodes, which is the discharge space, both may be in a gas, liquid or solid state at normal temperature and pressure. In the case of gas, it can be directly introduced into the discharge space,
In the case of a liquid or solid, it is used after being vaporized by means such as heating, decompression, and ultrasonic irradiation. When an organic tin compound, an organic titanium compound, or an organic silicon compound is vaporized by heating and used, a metal alkoxide, such as metal tetraethoxide or metal tetraisopropoxide, which is liquid at room temperature and has a boiling point of 200 ° C. or lower is an antireflection film. It is preferably used for the formation of The metal alkoxide may be diluted with a solvent before use, and in this case, it may be vaporized into a rare gas by a vaporizer or the like and used as a reaction gas. As the vaporizer, for example, a vaporizer manufactured by Lintec Co., Ltd. can be used. Organic solvents that can be used at this time include methanol, ethanol, isopropanol, butanol, and n-.
Hexane and the like and mixed solvents thereof can be used.

【0175】反応性ガスについて、放電プラズマ処理に
より透明フィルム上に均一な薄膜を形成する観点から、
反応ガス中の含有率は、0.01〜10体積%で有する
ことが好ましいが、更に好ましくは、0.01〜1体積
%である。
With respect to the reactive gas, from the viewpoint of forming a uniform thin film on the transparent film by the discharge plasma treatment,
The content rate in the reaction gas is preferably 0.01 to 10% by volume, and more preferably 0.01 to 1% by volume.

【0176】なお、中屈折率層については、上記珪素化
合物、上記チタン化合物または上記錫化合物を、目標と
する屈折率に合わせて適宜混合することによっても得る
ことが出来る。
The medium refractive index layer can also be obtained by appropriately mixing the above silicon compound, the above titanium compound or the above tin compound in accordance with the target refractive index.

【0177】本発明において、以降、酸化錫を含有する
金属酸化物層、酸化チタンを含有する金属酸化物層、ま
た酸化珪素を含有する金属酸化物層を、それぞれ順に、
酸化錫層、酸化チタン層及び酸化珪素層と略すことがあ
る。また、本発明において、酸化錫を含有する金属酸化
物層とは金属酸化物層中に主として酸化錫を含有してい
る金属酸化物層をいい、主としてとは金属酸化物層の8
0質量%以上を含有することをいう。以下、酸化チタン
を含有する金属酸化物層及び酸化珪素を含有する金属酸
化物層についても同様である。
In the present invention, hereinafter, a metal oxide layer containing tin oxide, a metal oxide layer containing titanium oxide, and a metal oxide layer containing silicon oxide will be described in this order.
It may be abbreviated as a tin oxide layer, a titanium oxide layer, and a silicon oxide layer. Further, in the present invention, the metal oxide layer containing tin oxide means a metal oxide layer mainly containing tin oxide in the metal oxide layer, and mainly refers to the metal oxide layer 8
It means to contain 0 mass% or more. The same applies to the metal oxide layer containing titanium oxide and the metal oxide layer containing silicon oxide.

【0178】本発明において、中屈折率層として、屈折
率が1.60〜1.90の酸化錫層を中屈折率層として
設けることによって優れた反射防止層を形成することが
出来た。この酸化錫の中屈折率層を、屈折率が2.00
〜2.35の酸化チタン層及び屈折率が1.40〜1.
48の酸化珪素層と積層することによって、好ましくは
酸化錫層の上に、酸化チタン層、更にその上に酸化珪素
層を積層することによって可視光波長領域での反射率が
ほぼゼロになる反射効率のよい反射防止フィルムを得る
ことが出来た。好ましい例として、酸化錫層は屈折率が
1.70で且つ膜厚67nmであり、酸化チタン層は屈
折率が2.14で且つ膜厚110nmであり、酸化珪素
層は屈折率が1.44で且つ膜厚が87nmの組み合わ
せを挙げることが出来る。各々の層は非晶性の金属酸化
物層である。
In the present invention, an excellent antireflection layer could be formed by providing a tin oxide layer having a refractive index of 1.60 to 1.90 as the medium refractive index layer as the medium refractive index layer. This tin oxide medium refractive index layer has a refractive index of 2.00
~ 2.35 titanium oxide layer and refractive index 1.40 ~ 1.
48 by laminating with a silicon oxide layer, preferably by depositing a titanium oxide layer on the tin oxide layer, and further laminating a silicon oxide layer thereon, the reflectance in the visible light wavelength region becomes almost zero. It was possible to obtain an efficient antireflection film. As a preferred example, the tin oxide layer has a refractive index of 1.70 and a thickness of 67 nm, the titanium oxide layer has a refractive index of 2.14 and a thickness of 110 nm, and the silicon oxide layer has a refractive index of 1.44. In addition, a combination having a film thickness of 87 nm can be mentioned. Each layer is an amorphous metal oxide layer.

【0179】上述の反射防止層の更に上に、特願200
1−286722に記載されているようなフッ素化合
物、フッ素化合物と珪素化合物の混合物またはフッ素原
子と珪素原子を共に有する化合物を含有する防汚層を大
気圧プラズマ放電処理方法により設けてもよい。また、
防汚層は塗布によって設けてもよい。
On the above-mentioned antireflection layer, Japanese Patent Application No.
The antifouling layer containing a fluorine compound, a mixture of a fluorine compound and a silicon compound or a compound having both a fluorine atom and a silicon atom as described in 1-286722 may be provided by an atmospheric pressure plasma discharge treatment method. Also,
The antifouling layer may be provided by coating.

【0180】本発明の偏光板の基材の上に帯電防止層を
設けることが好ましい。偏光板を更に画像表示装置に組
み込む際の、静電気を排除するために好ましく、これに
よりゴミ等の付着がなくなり、歩留まりの向上、生産性
の向上に大きく寄与する。
An antistatic layer is preferably provided on the base material of the polarizing plate of the present invention. This is preferable in order to eliminate static electricity when the polarizing plate is further incorporated into the image display device, and this will prevent dust and the like from adhering, which will greatly contribute to improvement in yield and productivity.

【0181】本発明に係る光学要素に有用な帯電防止層
を形成する物質は、低湿で導電性を有する導電性素材で
あれば特に制限なく使用出来る。特に、本発明におい
て、大気圧プラズマ放電処理により錫酸化物薄膜形成す
る有機錫化合物、塗布により導電性層を形成する金属酸
化物微粒子、またカチオン性の架橋性アイオネン型高分
子微粒子が光学要素として好ましく用いられる。
The substance forming the antistatic layer useful for the optical element according to the present invention can be used without particular limitation as long as it is a conductive material having low humidity and conductivity. In particular, in the present invention, an organic tin compound for forming a tin oxide thin film by atmospheric pressure plasma discharge treatment, metal oxide fine particles for forming a conductive layer by coating, and cationic crosslinkable ionene type polymer fine particles are used as optical elements. It is preferably used.

【0182】本発明における好ましい帯電防止層の形成
方法の一つは、上述の中屈折率層の形成に使用した錫化
合物ガス及び希ガスを含有する反応ガスを使用し、上述
の大気圧プラズマ放電処理と同様に、透明フィルム、透
明保護フィルム、透明樹脂保護層または反射防止層の上
に大気圧プラズマ放電処理により中屈折率層薄膜を形成
する方法である。錫化合物としては、上述の中屈折率層
のところで記載したような化合物を使用出来、特に有機
錫化合物が好ましい。本発明の光学要素として反射防止
膜を形成した場合には、あらためて酸化錫薄膜を形成せ
ずとも導電性が反射防止層を形成されているので更なる
酸化錫膜の形成は必要でない。
One of the preferable methods for forming the antistatic layer in the present invention is to use the reaction gas containing the tin compound gas and the rare gas used for forming the medium refractive index layer, and to perform the above atmospheric pressure plasma discharge. Similar to the treatment, it is a method of forming a medium refractive index layer thin film on the transparent film, transparent protective film, transparent resin protective layer or antireflection layer by atmospheric pressure plasma discharge treatment. As the tin compound, compounds such as those described above for the medium refractive index layer can be used, and an organic tin compound is particularly preferable. When the antireflection film is formed as the optical element of the present invention, it is not necessary to form a further tin oxide film because the antireflection layer having conductivity is formed without newly forming the tin oxide thin film.

【0183】本発明における好ましい帯電防止層の第2
の形成方法は、非晶質酸化錫微粒子を含有する塗布液を
透明フィルム、透明保護フィルムまたは透明樹脂保護層
の上に塗布することにより形成するものである。非晶質
酸化錫微粒子及び帯電防止層形成方法としては、例え
ば、特開平10−59720号、特開2000−128
532、同2000−128533、同2001−06
7938及び同2001−072421、特願2001
−319299に記載されているものを使用することが
出来る。例えば、非晶質酸化錫の原料は加水分解性の錫
化合物であり、これを加水分解して加水分解して非晶質
酸化錫を調製する。加水分解された非晶質酸化錫を含有
する水分散液を分離水洗中または後において、スラリー
状の非晶質酸化錫に吸着等により残存する塩素イオンの
ためpHが4程度となっているのを、アンモニア等のア
ルカリ水溶液を用いてpHを調整し、これを適宜バイン
ダー、界面活性剤、水及び/または有機溶媒と共に組成
物を作製する。
Second Preferred Antistatic Layer in the Invention
In the method of forming, the coating liquid containing the amorphous tin oxide fine particles is applied on the transparent film, the transparent protective film or the transparent resin protective layer. Amorphous tin oxide fine particles and a method for forming an antistatic layer are described in, for example, JP-A-10-59720 and JP-A-2000-128.
532, 2000-128533, 2001-06
7938 and 2001-072421, Japanese Patent Application 2001
The thing described in 319299 can be used. For example, the raw material of amorphous tin oxide is a hydrolyzable tin compound, and this is hydrolyzed and hydrolyzed to prepare amorphous tin oxide. While the aqueous dispersion containing the hydrolyzed amorphous tin oxide is separated or washed with water, the pH is about 4 due to chlorine ions remaining due to adsorption or the like on the amorphous tin oxide in a slurry form. The pH is adjusted using an alkaline aqueous solution such as ammonia, and the composition is prepared together with a binder, a surfactant, water and / or an organic solvent.

【0184】本発明において非晶質は、結晶質とは異な
る物質の状態を意味しているものである。ここで、結晶
質とは、電気・電子工学大系72巻、結晶の評価(伊藤
次、犬塚直夫、コロナ社、1982年)第4頁に記載さ
れているように、原子の配列に長距離秩序があり、その
物質に固相の融点があることが特徴である。例えば、高
純度で無色透明な結晶性の酸化錫であれば、正方晶系ル
チル型構造であり、屈折率1.9968、電気伝導性は
室温で106Ωcm以上の高抵抗を示すことが知られて
いる。また融点は1127℃であり、結晶性酸化錫であ
ればこの温度まで熱的に安定である。これに対して、一
般に非晶質酸化錫は、以上の性質を示さない物質であ
り、原子の配列に長距離秩序がなく、しかも結晶性酸化
錫の融点以下に物質の変化を示す温度領域が存在する酸
化錫である。
In the present invention, amorphous means a state of a substance different from crystalline. As used herein, the term “crystalline” refers to a long array of atoms, as described in Electrical and Electronic Engineering, Volume 72, Crystal Evaluation (Itsuji, Inuzuka Nao, Corona, 1982), page 4. It is characterized by distance order and the melting point of the solid phase of the substance. For example, it is known that high-purity, colorless and transparent crystalline tin oxide has a tetragonal rutile structure, a refractive index of 1.9968, and a high resistance of 10 6 Ωcm or more at room temperature. Has been. The melting point is 1127 ° C., and crystalline tin oxide is thermally stable up to this temperature. On the other hand, in general, amorphous tin oxide is a substance that does not exhibit the above properties, and there is no long-range order in the arrangement of the atoms, and the temperature range where the substance changes below the melting point of crystalline tin oxide is It is the existing tin oxide.

【0185】酸化錫は、X線回折によりその構造を同定
することが可能であり、新版カリティX線回折要論(松
村源太郎訳、アグネ社、1977年)に記載された結晶
子サイズの測定から長距離秩序のおおよその値を知るこ
とが出来る。例えば、酸化錫の(110)面の面間隔は
おおよそ0.33nmであり、結晶性酸化錫ならば数1
0個以上の繰り返し単位がなければならず、結晶子測定
を行うことによって、10数nmの値が観測出来ること
から判別が出来る。従って、結晶子測定において10n
m未満であれば、もはや長距離秩序があるとはいえず、
非晶質と考えられることが出来る。まして5nm未満で
あれば、もはや繰り返し単位がなく結晶は存在しない。
非晶性であるか、結晶性であるかについては固体の熱分
析を行うことによって容易に明らかとなり、測定条件の
影響、試料サイズの影響を考慮しても1000℃未満で
熱的な変化が生じるならば結晶とは言い難い。熱的な変
化で容易に観測出来るのは熱質量分析であり、200℃
での質量を測定開始質量として質量減少を、結晶性酸化
錫の融点よりはるかに低い500℃までの温度領域で
0.1質量%以上生じるならばもはや単結晶酸化錫では
ない。
The structure of tin oxide can be identified by X-ray diffraction, and the crystallite size was described in the new edition of Karity X-ray diffraction (Translated by Gentaro Matsumura, Agne Co., 1977). You can know the approximate value of long-range order. For example, the interplanar spacing of the (110) plane of tin oxide is approximately 0.33 nm, and in the case of crystalline tin oxide, it is several 1
There must be 0 or more repeating units, and it can be discriminated from the fact that a value of 10 and several nm can be observed by performing crystallite measurement. Therefore, 10n in crystallite measurement
If it is less than m, it can no longer be said that there is long-range order,
It can be considered amorphous. If it is less than 5 nm, there are no repeating units and crystals do not exist.
Whether it is amorphous or crystalline is easily clarified by conducting a thermal analysis of the solid, and even if the influence of the measurement conditions and the influence of the sample size are taken into consideration, there is a thermal change below 1000 ° C. If it occurs, it is hard to call it a crystal. Thermal mass spectrometry is easily observable due to thermal changes.
If the mass reduction at the starting mass is 0.1 mass% or more in the temperature range up to 500 ° C., which is much lower than the melting point of crystalline tin oxide, it is no longer single crystal tin oxide.

【0186】本発明に使用される非晶質酸化錫は、その
製造過程で200℃以上の高温で処理されないため、上
記の条件を満たしており、明らかに非晶質なものであ
る。
Since the amorphous tin oxide used in the present invention is not treated at a high temperature of 200 ° C. or higher in the manufacturing process, it satisfies the above conditions and is obviously amorphous.

【0187】本発明において、非晶質酸化錫を含有する
水分散液というのは、少なくとも非晶質酸化錫を含有す
る水分散液という意味であり、その他の金属化合物や有
機化合物が少量含まれていてもよい。
In the present invention, the aqueous dispersion containing amorphous tin oxide means an aqueous dispersion containing at least amorphous tin oxide and contains a small amount of other metal compounds and organic compounds. May be.

【0188】酸化錫の原料は加水分解性の錫化合物であ
り、これを加水分解して非晶質酸化錫を調製する。錫化
合物とは、K2SnO3・3H2Oのようなオキソ陰イオ
ンを含む化合物、SnCl4、SnCl4・5H2Oのよ
うな水溶性ハロゲン化物、RSnR4-m・R′4-m-n・X
4-m-n-p(ここで、Rはアルキル基もしくは芳香環を有
する基、R′はアルキルオキシ基、芳香環を有するエー
テル基、脂肪族カルボオキシ基もしくはβ−ケトン環を
有する基、Xはハロゲン原子を示し、mは0、1、2、
3を、nは0、1、2、3を、またpは0、1、2を示
す)の構造を有する化合物、例えば(C254Sn、
(CH33SnOC25、(C492Sn(OCOC2
52、(C252SnCl2、(CH33SnCl・
55N等の有機錫化合物、Sn(SO42・2H2
等のようなオキソ塩を含む化合物等を挙げることが出来
る。
The raw material of tin oxide is a hydrolyzable tin compound, which is hydrolyzed to prepare amorphous tin oxide. The tin compound is a compound containing an oxo anion such as K 2 SnO 3 .3H 2 O, a water-soluble halide such as SnCl 4 , SnCl 4 .5H 2 O, RSnR 4-m・ R ' 4-mn.・ X
4-mnp (where R is an alkyl group or a group having an aromatic ring, R'is an alkyloxy group, an ether group having an aromatic ring, an aliphatic carbooxy group or a group having a β-ketone ring, and X is a halogen atom) , M is 0, 1, 2,
3, n is 0, 1, 2, 3 and p is 0, 1, 2), for example, (C 2 H 5 ) 4 Sn,
(CH 3 ) 3 SnOC 2 H 5 , (C 4 H 9 ) 2 Sn (OCOC 2
H 5) 2, (C 2 H 5) 2 SnCl 2, (CH 3) 3 SnCl ·
Organotin compounds such as C 5 H 5 N, Sn (SO 4 ) 2 .2H 2 O
Examples thereof include compounds containing an oxo salt.

【0189】非晶質酸化錫を含有する水分散液の製造工
程は、加水分解性の錫化合物を加水分解処理する工程
と、加水分解物の水洗工程、水洗中または後においてp
Hを調整して分散する工程の主に3工程からなるが、水
洗工程とpH調整工程とを同時に行ってもよい。また、
強制的に機械的に分散させる工程を、水洗工程後、また
はpH調整工程の後に行ってもよい。また、各工程が更
に細分化されることに本発明は制限を加えない。
The steps of producing an aqueous dispersion containing amorphous tin oxide include a step of subjecting a hydrolyzable tin compound to a hydrolysis treatment, a step of washing the hydrolyzate with water, and a step of washing during or after washing with water.
Although the main step of adjusting and dispersing H is three steps, the washing step and the pH adjusting step may be performed at the same time. Also,
The step of forcibly mechanically dispersing may be performed after the water washing step or the pH adjusting step. Further, the present invention does not limit the subdivision of each step.

【0190】本発明の非晶質酸化錫を含有する水分散液
に水溶性ポリマーを添加してもよい。水溶性ポリマーと
しては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリアクリル
アミド、アクリルアミド/ナトリウムスルホ−2,2ジ
メチルエチルアクリルアミドコポリマー、ポリアクリル
酸ナトリウム及び他のモノマーとのコポリマー、ポリメ
タクリル酸ナトリウム、ポリ−p−クロロアンモニウム
メチルスチレン及び他のモノマーとのコポリマー、ポリ
ビニルピロリドン等を挙げることが出来、これらに限定
されない。
A water-soluble polymer may be added to the aqueous dispersion containing the amorphous tin oxide of the present invention. Examples of the water-soluble polymer include polyvinyl alcohol, polyacrylamide, acrylamide / sodium sulfo-2,2 dimethylethyl acrylamide copolymer, sodium polyacrylate and copolymers with other monomers, sodium polymethacrylate, poly-p-chloroammonium. Examples thereof include copolymers with methylstyrene and other monomers, polyvinylpyrrolidone, and the like, but are not limited thereto.

【0191】本発明の非晶質酸化錫を含有する水分散液
中の固形分量は、水分散液1gをルツボ中で800℃で
1時間加熱した残留物が30〜200mgになるように
仕上げることが好ましい。ここで、本発明において、固
形分というのは、該水分散液中にはほとんどが非晶質酸
化錫ではあるが、他の金属化合物も若干含まれる場合が
あり、全体が800℃の加熱により残存するもの全てを
いう。しかし実質的には非晶質酸化錫が固形分のほとん
どを占めている。
The solid content in the aqueous dispersion containing amorphous tin oxide of the present invention is adjusted so that the residue obtained by heating 1 g of the aqueous dispersion in a crucible at 800 ° C. for 1 hour becomes 30 to 200 mg. Is preferred. Here, in the present invention, the solid content means that most of the aqueous dispersion contains amorphous tin oxide, but there may be a small amount of other metal compounds. It refers to all that remains. However, substantially amorphous tin oxide occupies most of the solid content.

【0192】本発明の非晶質酸化錫を含有する水分散液
が薄い場合濃縮してもよい。濃縮は、非晶質酸化錫の分
散性を劣化させないよう限外濾過膜を使用して濃縮する
ことが好ましい。
When the aqueous dispersion containing amorphous tin oxide of the present invention is thin, it may be concentrated. Concentration is preferably performed using an ultrafiltration membrane so as not to deteriorate the dispersibility of amorphous tin oxide.

【0193】また、上記スラリー中の粒子を適度の分散
状態とするため、またはpH調整を容易にするために、
超音波分散や機械的分散を行ってもよい。特に凝集した
粒子を粉砕することが出来、分散性を向上させることが
出来る。また、粒子サイズを揃える意味でも機械的な分
散方法を使用してもよい。本発明でいう機械的な分散方
法としては、媒体ミル、コロイドミル、高速剪断撹拌、
高圧衝撃分散等によるものが好ましい。媒体ミルの具体
的装置としては、ボールミル、アトライター、サンドミ
ル及びビーズミルなどを挙げることが出来る。コロイド
ミルの具体的装置としては、コロイドミル、ストーンミ
ル、ケーデーミル及びホモジナイザー等を挙げることが
出来る。高速剪断撹拌の具体的装置としては、商品名と
してハイスピードディスパーサー、ハイスピードインペ
ラー及びデイゾルバーと呼ばれているものを挙げること
が出来る。
Further, in order to make the particles in the above slurry be in an appropriately dispersed state or to facilitate pH adjustment,
Ultrasonic dispersion or mechanical dispersion may be performed. In particular, aggregated particles can be crushed and the dispersibility can be improved. In addition, a mechanical dispersion method may be used in order to make the particle sizes uniform. As the mechanical dispersion method in the present invention, a media mill, a colloid mill, a high-speed shear stirring,
Those by high-pressure impact dispersion or the like are preferable. Specific examples of the medium mill include a ball mill, an attritor, a sand mill and a bead mill. Specific examples of the colloid mill include a colloid mill, a stone mill, a caddy mill and a homogenizer. Specific examples of the device for high-speed shear stirring include those known as high speed dispersers, high speed impellers, and dissolvers as trade names.

【0194】本発明において好ましい帯電防止層の第3
の形成方法は、架橋性アイオネン高分子微粒子を用いる
ものである。特開平07−028194号公報に記載の
一般式(1)〜(15)に基づく架橋型アイオネン重合
体を用いて、その分散液組成物を透明フィルム、透明保
護フィルム、透明樹脂保護層または反射防止層の上に塗
布することにより形成することが出来る。下記に架橋型
アイオネン高分子の架橋型アイオネン単位について下記
に例を示す。
Third Antistatic Layer Preferred in the Invention
The method of forming (1) uses crosslinked ionene polymer fine particles. Using the crosslinked ionene polymer based on the general formulas (1) to (15) described in JP-A-07-028194, the dispersion composition is prepared into a transparent film, a transparent protective film, a transparent resin protective layer or an antireflection coating. It can be formed by coating on the layer. Examples of the crosslinked ionene units of the crosslinked ionene polymer are shown below.

【0195】[0195]

【化19】 [Chemical 19]

【0196】[0196]

【化20】 [Chemical 20]

【0197】[0197]

【化21】 [Chemical 21]

【0198】上記架橋型アイオネン単位は単独架橋重合
物であっても、他の単量体との共重合物であってもよ
く、本発明に係る架橋型アイオネン重合物の構造は必ず
架橋構造を有している。ここで、nはアイオネンの縮合
の度合を示しており、n=1〜500、好ましくは2〜
100程度が好ましい。また、n1、n2、n3は架橋
型アイオネン重合物中の各単位のmol%を表してい
る。n1は少なくとも30mol%を有している。A及
びBは他のエチレン性不飽和単量体単位を表し、Bのな
い重合体においてはAは下記のエチレン性不飽和単量体
であり、Bのある場合にはAは非架橋性のエチレン性不
飽和単量体であり、Bは架橋性のエチレン性不飽和単量
体を示している。他のこれらのエチレン性不飽和単量体
としては、メチルアクリレート、メチルメタクリレー
ト、エチルアクリレート、エチルメタクリレート、プロ
ピルアクリレート、プロピルメタクリレート、ブチルア
クリレート、ブチルメタクリレート、シクロヘキシルア
クリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェニル
アクリレート、フェニルメタクリレート、ベンジルメタ
クリレート、フェニルメタクリレート、フェネチルアク
リレート、フェネチルメタクリレート、2−ヒドロキシ
エチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレ
ート等のアクリレート類またはメタクリレート類、酢酸
ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、吉草酸ビニ
ル等のビニルエステル類、アクリルアミド、N−メチル
アクリルアミド、N,N−ジメチルアクリルアミド、N
−プロピルアクリルアミド、N,N−ジプロピルアクリ
ルアミド、N−ブチルアクリルアミド、N,N−ジブチ
ルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド等のアクリ
ルアミド類、スチレン、p−メチルスチレン、p−ヒド
ロキシスチレン、p−ヒドロキシメチルスチレン等のス
チレン類、エチレングリコールジアクリレート、エチレ
ングリコールジメタクリレート、プロピレングリコール
ジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレー
ト、1,4−ジメチルシクロヘキシレンジアクリレー
ト、1,4−ジメチルシクロヘキシレンジメタクリレー
ト、ジビニルベンゼン、トリメチロールプロパントリア
クリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート等の多官能性単量体類、ビニルピ
ロリドン、アクリロニトリル、エチレン等を挙げること
が出来るが、これらに限定されない。これらの単量体は
2種以上共重合してもよい。上記架橋性アイオネン単量
体中、nは1〜300であり、好ましくは1〜100で
ある。上記架橋性アイオネン単量体単位の含有量は重合
体中の全単量体の10〜100mol%が好ましい。
The above-mentioned crosslinked ionene unit may be a homocrosslinked polymer or a copolymer with another monomer, and the structure of the crosslinked ionene polymer according to the present invention always has a crosslinked structure. Have Here, n represents the degree of condensation of ionene, and n = 1 to 500, preferably 2 to
About 100 is preferable. Further, n1, n2 and n3 represent mol% of each unit in the crosslinked ionene polymer. n1 has at least 30 mol%. A and B represent other ethylenically unsaturated monomer units. In a polymer without B, A is the following ethylenically unsaturated monomer, and when B is present, A is a non-crosslinkable group. It is an ethylenically unsaturated monomer, and B represents a crosslinkable ethylenically unsaturated monomer. Other these ethylenically unsaturated monomers include methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, propyl acrylate, propyl methacrylate, butyl acrylate, butyl methacrylate, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, phenyl acrylate, phenyl methacrylate, Acrylates or methacrylates such as benzyl methacrylate, phenyl methacrylate, phenethyl acrylate, phenethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate, vinyl valerate. Vinyl esters such as De, N- methyl acrylamide, N, N- dimethylacrylamide, N
-Propylacrylamide, N, N-dipropylacrylamide, N-butylacrylamide, N, N-dibutylacrylamide, benzylacrylamide and other acrylamides, styrene, p-methylstyrene, p-hydroxystyrene, p-hydroxymethylstyrene, etc. Styrenes, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, 1,4-dimethylcyclohexylene diacrylate, 1,4-dimethylcyclohexylene dimethacrylate, divinylbenzene, trimethylolpropane tri Acrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethyl Acrylate, polyfunctional monomers such as pentaerythritol tetraacrylate, vinyl pyrrolidone, acrylonitrile, it can be mentioned ethylene, and the like. Two or more kinds of these monomers may be copolymerized. In the crosslinkable ionene monomer, n is 1 to 300, preferably 1 to 100. The content of the crosslinkable ionene monomer unit is preferably 10 to 100 mol% of all the monomers in the polymer.

【0199】本発明において、上記非架橋性アイオネン
単量体単位の場合は、非架橋性アイオネン単量体に必ず
多官能性単量体単位及び/または上記架橋性アイオネン
単量体単位を共重合相手として使用し、架橋性の重合体
とすることを必須とする。上述のその他の1官能性の単
量体を適宜共重合してもよい。非架橋性アイオネン単量
体の含有量は10〜60mol%程度が好ましい。
In the present invention, in the case of the non-crosslinkable ionene monomer unit, the non-crosslinkable ionene monomer is necessarily copolymerized with the polyfunctional monomer unit and / or the crosslinkable ionene monomer unit. It is essential to use it as a partner and make it a crosslinkable polymer. The above-mentioned other monofunctional monomers may be appropriately copolymerized. The content of the non-crosslinkable ionene monomer is preferably about 10 to 60 mol%.

【0200】上記の各帯電防止層は、25℃、20%R
Hの低湿状態において、1012Ω/□以下の表面比抵抗
値を有しており、本発明に係る透明フィルム、透明樹脂
保護層、または透明保護フィルムに好ましく適用出来
る。
Each of the above antistatic layers has a temperature of 25 ° C. and 20% R
It has a surface resistivity value of 10 12 Ω / □ or less in the low humidity state of H, and can be preferably applied to the transparent film, the transparent resin protective layer, or the transparent protective film according to the present invention.

【0201】[0201]

【実施例】以下に実施例にて、本発明の態様を具体的に
説明するが、本発明はこれに限定されない。
EXAMPLES The embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

【0202】〔測定・評価〕 〈擦り傷〉配向膜面、透明樹脂保護層面または透明保護
フィルム面をJIS K5400に準じた試験方法で鉛
筆硬度の測定により耐すり傷性を評価した。
[Measurement / Evaluation] <Scratch> The scratch resistance was evaluated by measuring the pencil hardness of the alignment film surface, the transparent resin protective layer surface, or the transparent protective film surface by a test method according to JIS K5400.

【0203】〈偏光板作製過程での収率〉偏光板を作製
した過程において、傷、作り易さ、ひび割れや折れのト
ラブルなどの発生をチェックし、また、元のセルロース
エステルフィルムに対する製品仕上がりの収率%(偏光
板面積の割合)もチェックし、下記のような評価を行っ
た。
<Yield in the process of producing a polarizing plate> In the process of producing a polarizing plate, scratches, easiness of production, occurrence of cracks and breakage troubles were checked, and the product finish of the original cellulose ester film was checked. The yield% (ratio of the polarizing plate area) was also checked, and the following evaluation was performed.

【0204】 A:収率が98%以上 B:収率が90〜97% C:収率が75〜89% D:収率が65〜74% E:収率が50〜64% F:収率が49%以下。[0204] A: Yield is 98% or more B: Yield 90-97% C: Yield 75-89% D: Yield 65-74% E: Yield 50-64% F: Yield 49% or less.

【0205】〈光学要素作製過程での収率〉 A:収率が98%以上 B:収率が90〜97% C:収率が75〜89% D:収率が65〜74% E:収率が50〜64% F:収率が49%以下。<Yield in Manufacturing Process of Optical Element> A: Yield is 98% or more B: Yield 90-97% C: Yield 75-89% D: Yield 65-74% E: Yield 50-64% F: Yield 49% or less.

【0206】〈偏光度〉同種の二枚の偏光板の平行位及
び直交位での透過率をそれぞれP0及びP90とする時、
偏光度Vを下記のように表す。
<Polarization Degree> When the transmittances of two polarizing plates of the same kind in the parallel position and the orthogonal position are P 0 and P 90 , respectively,
The degree of polarization V is expressed as follows.

【0207】 V={(P0−P90)/(P0+P90)}1/2 〈平行透過率と直交透過率〉上記P0を平行透過率とし
て表した。
V = {(P 0 −P 90 ) / (P 0 + P 90 )} 1/2 <Parallel transmittance and orthogonal transmittance> The above P 0 was expressed as parallel transmittance.

【0208】〈平均分光反射率〉上記光学要素の平均分
光反射率は分光光度計U−4000型(日立製作所製)
を用いて、5度正反射の条件にて反射率の測定を行っ
た。測定は、観察側の裏面を粗面化処理した後、黒色の
スプレーを用いて光吸収処理を行い、フィルム裏面での
光の反射を防止して、反射率の測定を行って450nm
〜650nmの波長の平均分光反射率を求めた。
<Average Spectral Reflectance> The average spectral reflectance of the above optical elements is spectrophotometer U-4000 type (manufactured by Hitachi Ltd.).
Was used to measure the reflectance under the condition of regular reflection at 5 degrees. The measurement is performed by roughening the back surface of the observation side, then performing light absorption processing using a black spray, preventing reflection of light on the back surface of the film, and measuring the reflectance to 450 nm.
The average spectral reflectance at a wavelength of ˜650 nm was determined.

【0209】〈表面比抵抗値の測定〉塗布試料を25
℃、20%RHの条件下に24時間調湿した後、同条件
下で川口電気社製テラオームメーターVE−30を用い
て印加電圧100Vで帯電防止層面の表面比抵抗を測定
しlog(Ω/□)で表した。
<Measurement of surface specific resistance value>
After conditioning the humidity for 24 hours under the condition of 20 ° C. and 20% RH, the surface specific resistance of the antistatic layer surface was measured at an applied voltage of 100 V by using a teraohm meter VE-30 manufactured by Kawaguchi Electric Co., Ltd. under the same condition, and log (Ω / □).

【0210】実施例1 〔セルロースエステルフィルム(透明フィルム及び透明
保護フィルム)の作製〕 〈ドープA及びBの調製〉下記ドープ組成物中のアエロ
ジル200Vは予め添加するエタノールの一部に添加
し、高圧分散機マントンゴーリンで充分に分散した分散
液とした。下記組成物の残りのものと上記分散液を密閉
容器に投入し、加圧して80℃に保温、攪拌しながら完
全に溶解させた。これを流延する温度(30℃)まで冷
却した後、静置して、脱泡操作した後、安積濾紙(株)
製の安積濾紙No.244を用いて濾過し各ドープを得
た。
Example 1 [Production of Cellulose Ester Film (Transparent Film and Transparent Protective Film)] <Preparation of Dope A and B> Aerosil 200V in the following dope composition was added to a part of ethanol to be added in advance, and high pressure was applied. A dispersion liquid was obtained which was sufficiently dispersed with a disperser, Manton-Gaulin. The rest of the following composition and the above-mentioned dispersion liquid were put into a closed container, pressurized and kept at 80 ° C. and completely dissolved while stirring. After cooling to a casting temperature (30 ° C.), the mixture was allowed to stand and defoamed, and then Azumi Filter Paper Co., Ltd.
Azumi filter paper No. Each dope was obtained by filtration using 244.

【0211】 《ドープA組成物》 セルローストリアセテート(アセチル基置換度2.87) 85kg メチレンクロライド 290L エタノール 25L アエロジル200V 0.12kg チヌビン171 0.5kg チヌビン109 0.5kg チヌビン326 0.3kg フタル酸ジシクロヘキシル 10kg 《ドープB組成物》 セルロースアセテートプロピオネート (アセチル基置換度1.9、プロピオニル基置換度0.7) 85kg 酢酸エチル 290L エタノール 25L アエロジル200V 0.12kg チヌビン171 0.5kg チヌビン109 0.5kg チヌビン326 0.3kg トリフェニルホスフェート 8kg エチルフタリルエチルグリコレート 2kg。[0211]   << Dope A composition >>   Cellulose triacetate (acetyl group substitution degree 2.87) 85 kg   Methylene chloride 290L   Ethanol 25L   Aerosil 200V 0.12kg   Tinuvin 171 0.5 kg   Tinuvin 109 0.5 kg   Tinuvin 326 0.3 kg   Dicyclohexyl phthalate 10kg   << Dope B composition >>   Cellulose acetate propionate   (Acetyl group substitution degree 1.9, propionyl group substitution degree 0.7) 85 kg   Ethyl acetate 290L   Ethanol 25L   Aerosil 200V 0.12kg   Tinuvin 171 0.5 kg   Tinuvin 109 0.5 kg   Tinuvin 326 0.3 kg   Triphenyl phosphate 8kg   2 kg of ethylphthalylethyl glycolate.

【0212】《セルロースエステルフィルム1及び2の
作製》2台の溶液流延製膜装置を使用し、30℃に温度
調整したドープA及びBを別々のダイに導入し、それぞ
れのダイスリットからドープA及びBをそれぞれのエン
ドレスステンレススティールベルト上に均一に幅172
cmの幅で流延した。幅180cmのエンドレスステン
レススティールベルトの流延部は裏面からドープAに対
しては35℃、ドープBに対しては45℃の温水で加熱
した。流延後、エンドレスステンレススティールベルト
上のそれぞれのドープ膜A及びB(ステンレススティー
ルベルトに流延以降はウェブA及びBということにす
る)に44℃及び55℃の温風をあてて乾燥させ、流延
から90秒後に剥離残留溶媒量を80質量%としてそれ
ぞれを剥離し、多数のロールで搬送させながら乾燥させ
た。剥離部のエンドレスステンレスベルトの温度は11
℃とした。剥離されたウェブは、50℃に設定された第
1乾燥ゾーンを1分間搬送させた後、第2乾燥ゾーンは
テンター乾燥装置を用い、85℃に設定して幅手方向に
1.06倍に延伸を行い、30秒間搬送させた。テンタ
ー装置のクリップを把持した両端を裁ち落とし、更に1
20℃に設定された第3乾燥ゾーンで20分間搬送させ
て、乾燥を行い、最後に両端を裁ち落とし幅1300m
m、長さ2000m、膜厚80μmの、ドープAを用い
てセルロースエステルフィルム1及びドープBを用いて
セルロースエステルフィルム2を得た。なお、フィルム
巻き取り時の残留溶媒量は何れも0.01%未満であっ
た。セルロースエステルフィルム1及び2を透明フィル
ムと透明保護フィルムに使用し、セルロースエステルフ
ィルム1を透明フィルム1及び透明保護フィルム1とし
て使用し、またセルロースエステルフィルム2を透明フ
ィルム2及び透明保護フィルム2として使用した。な
お、ウェブをステンレススティールベルト上で乾燥させ
る際、ベルト側に接している面をB面、また空気側の面
をA面とする。
<< Preparation of Cellulose Ester Films 1 and 2 >> Using two solution casting film forming apparatuses, the dopes A and B whose temperature was adjusted to 30 ° C. were introduced into separate dies, and the dope was passed through the respective die slits. Width A and B evenly 172 on each endless stainless steel belt
It was cast in a width of cm. The casting portion of the endless stainless steel belt having a width of 180 cm was heated from the back surface with hot water at 35 ° C. for the dope A and 45 ° C. for the dope B. After the casting, the dope films A and B on the endless stainless steel belt (hereinafter referred to as webs A and B on the stainless steel belt) are dried by applying warm air at 44 ° C. and 55 ° C., After 90 seconds from casting, the amount of residual solvent for peeling was set to 80% by mass, and each was peeled off, and dried while being conveyed by a large number of rolls. The temperature of the endless stainless belt at the peeling part is 11
℃ was made. The peeled web was conveyed through the first drying zone set at 50 ° C. for 1 minute, and then the second drying zone was set to 85 ° C. by using a tenter dryer, and the width was 1.06 times in the width direction. Stretching was carried out and it was conveyed for 30 seconds. Grip the clips of the tenter device and cut off both ends.
It is transported in the third drying zone set at 20 ° C for 20 minutes to be dried, and finally both edges are cut off and the width is 1300 m.
Cellulose ester film 1 was obtained using dope A and cellulose ester film 2 was obtained using dope B, each having a length of m, a length of 2000 m and a film thickness of 80 μm. The amount of residual solvent when the film was wound was less than 0.01%. Cellulose ester films 1 and 2 are used as a transparent film and a transparent protective film, cellulose ester film 1 is used as transparent film 1 and transparent protective film 1, and cellulose ester film 2 is used as transparent film 2 and transparent protective film 2. did. When the web is dried on a stainless steel belt, the surface in contact with the belt is referred to as surface B, and the surface on the air side is referred to as surface A.

【0213】〔偏光板1〜16の作製〕 〈偏光板1の作製〉透明フィルムは幅1300mm、長
さ2000m、膜厚80μmで移送速度は10m/分で
偏光膜組成物を図1及び2に示した塗布装置を用いてず
り応力をかけて塗布し、100〜130℃で乾燥して偏
光膜1を形成した後、偏光膜1の上に下記透明樹脂保護
層塗布組成物をウエット膜厚で13μmとなるようにグ
ラビアコーターで塗布し、次いで85℃に設定された乾
燥部で乾燥した後、115mJ/cm2の照射強度で紫
外線照射して、透明樹脂保護層を形成し偏光板1を作製
した。
[Preparation of Polarizing Plates 1 to 16] <Preparation of Polarizing Plate 1> The transparent film has a width of 1300 mm, a length of 2000 m, a film thickness of 80 μm, and a transfer speed of 10 m / min. After applying shear stress using the coating apparatus shown and drying at 100 to 130 ° C. to form a polarizing film 1, the following transparent resin protective layer coating composition is applied on the polarizing film 1 in a wet film thickness. It was coated with a gravure coater so as to have a thickness of 13 μm, then dried in a drying section set at 85 ° C., and then was irradiated with ultraviolet rays at an irradiation intensity of 115 mJ / cm 2 to form a transparent resin protective layer to prepare a polarizing plate 1. did.

【0214】 《偏光膜組成物1》 DC−6 20質量部 p−ノニルフェノキシポリエチレンオキシド(重合度12) 2質量部 ポリビニルアルコール(鹸化度92.5mol%) 10質量部 ホウ酸 1質量部 純水 67.5質量部 《透明樹脂保護層塗布組成物》 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 24質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 8質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 7質量部 ジメトキシベンゾフェノン 2質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 29質量部 メチルエチルケトン 30質量部。[0214]   << Polarizing Film Composition 1 >>   DC-6 20 parts by mass   p-Nonylphenoxy polyethylene oxide (degree of polymerization 12) 2 parts by mass   Polyvinyl alcohol (saponification degree 92.5 mol%) 10 parts by mass   Boric acid 1 part by mass   Pure water 67.5 parts by mass   << Transparent resin protective layer coating composition >>   Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 24 parts by mass   Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 8 parts by mass   Dipentaerythritol hexaacrylate trimer or more components                                                             7 parts by mass   2 parts by weight of dimethoxybenzophenone   Propylene glycol monomethyl ether 29 parts by mass   Methyl ethyl ketone 30 parts by mass.

【0215】〈偏光板2の作製〉15m/分で移送する
透明フィルム1にコロナ放電を8W/cm2・分の強さ
でかけた後、この上に下記偏光膜組成物2を偏光板1で
使用した塗布装置によりずり応力をかけて塗布し、80
〜120℃で乾燥し偏光膜2を形成した後、その上にコ
ロナ放電を8W/cm2・分の強さでかけ、更にその上
に下記接着剤組成物をウエット膜厚で15μmとなるよ
うに塗設し、直ぐに透明保護フィルム1を貼り付け70
℃に熱したニップロールに通し、引き続き80℃で加熱
して、冷却後巻き取り、偏光板2を作製した。
<Preparation of Polarizing Plate 2> The transparent film 1 transported at 15 m / min was subjected to corona discharge with an intensity of 8 W / cm 2 · min, and then the following polarizing film composition 2 was applied on the polarizing plate 1. Apply a shear stress by the coating device used and apply
After drying at ˜120 ° C. to form the polarizing film 2, a corona discharge is applied thereon with a strength of 8 W / cm 2 · min, and the following adhesive composition is further applied onto it so that the wet film thickness is 15 μm. Apply the transparent protective film 1 immediately after coating 70
The film was passed through a nip roll heated to 0 ° C., subsequently heated at 80 ° C., cooled, and wound up to prepare a polarizing plate 2.

【0216】 《偏光膜組成物2》 DC−4 15質量部 OC−10 10質量部 p−ノニルフェノキシポリエチレンオキシド(重合度12) 1質量部 ゼラチン 9質量部 下記カルボジイミド型硬化剤 1質量部 純水 59質量部 メタノール 5質量部[0216]   <Polarizing film composition 2>   DC-4 15 parts by mass   OC-10 10 parts by mass   p-Nonylphenoxy polyethylene oxide (degree of polymerization 12) 1 part by mass   Gelatin 9 parts by mass   1 part by mass of the following carbodiimide type curing agent   Pure water 59 parts by mass   5 parts by mass of methanol

【0217】[0217]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0218】 《接着剤組成物》 ポリビニルブチラール(ブチラール置換度50mol%) 20質量部 ジオキサン 30質量部 エタノール 50質量部。[0218]   << Adhesive composition >>   Polyvinyl butyral (butyral substitution degree 50 mol%) 20 parts by mass   30 parts by mass of dioxane   50 parts by mass of ethanol.

【0219】〈偏光板3の作製〉15m/分で移送する
透明フィルム2にコロナ放電を8W/cm2・分の強さ
でかけた後、この上に下記偏光膜組成物3を偏光板1で
使用した塗布装置によりずり応力をかけて塗布して80
〜120℃で乾燥した面に高圧水銀ランプ(80W)を
用いて紫外線を300mJ/cm2照射して硬化させ、
偏光膜3を形成した後、その上にコロナ放電を8W/c
2・分の強さでかけ、更にその上に前記接着剤組成物
をウエット膜厚で15μmとなるように塗設し、直ぐに
透明保護フィルム2を貼り付け70℃に熱したニップロ
ールに通し、引き続き80℃で加熱して、冷却後巻き取
り、偏光板3を作製した。
<Preparation of Polarizing Plate 3> The transparent film 2 transported at 15 m / min was subjected to corona discharge with an intensity of 8 W / cm 2 · min, and then the following polarizing film composition 3 was applied on the polarizing plate 1. Apply a shear stress by the coating device used to coat 80
The surface dried at ~ 120 ° C is irradiated with ultraviolet rays of 300 mJ / cm 2 using a high pressure mercury lamp (80 W) to cure the surface,
After forming the polarizing film 3, apply corona discharge on it at 8 W / c
m 2 · minute strength, and further, the adhesive composition is coated thereon so that the wet film thickness is 15 μm, and the transparent protective film 2 is immediately stuck and passed through a nip roll heated to 70 ° C. It was heated at 80 ° C., cooled and wound up to prepare a polarizing plate 3.

【0220】 《偏光膜組成物3》 DC−12 15質量部 DC−13 15質量部 F−177(界面活性剤、大日本インキ社製) 1質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 10質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 3質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 3質量部 ジメトキシベンゾフェノン 0.5質量部 ジメチルアセトアミド 10質量部 エチルペンタフルオロプロピオネート 10質量部 メチルエチルケトン 32.5質量部 なお、上記ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
の混合物を下記表1においてDPEHAと略して表すこ
ととする。
<< Polarizing Film Composition 3 >> DC-12 15 parts by mass DC-13 15 parts by mass F-177 (surfactant, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 1 part by mass Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 10 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 3 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate trimer 3 parts by mass or more 3 parts by mass Dimethoxybenzophenone 0.5 parts by mass Dimethylacetamide 10 parts by mass Ethyl pentafluoropropionate 10 parts by mass Methyl ethyl ketone 32.5 Parts by mass The mixture of dipentaerythritol hexaacrylate will be abbreviated as DPEHA in Table 1 below.

【0221】〈偏光板4の作製〉15m/分で移送する
透明フィルム1にコロナ放電を8W/cm2・分の強さ
でかけた後、この上に下記偏光膜組成物4を偏光板1で
使用した塗布装置によりずり応力をかけて塗布して80
〜120℃で乾燥した面に高圧水銀ランプ(80W)を
用いて紫外線を300mJ/cm2照射して硬化させ、
偏光膜4を形成した後、その上にコロナ放電を8W/c
2・分の強さでかけ、更にその上に前記接着剤組成物
をウエット膜厚で15μmとなるように塗設し、直ぐに
透明保護フィルム1を貼り付け70℃に熱したニップロ
ールに通し、引き続き80℃で加熱して、冷却後巻き取
り、偏光板4を作製した。
<Preparation of Polarizing Plate 4> The transparent film 1 transported at 15 m / min was subjected to corona discharge with an intensity of 8 W / cm 2 · min, and then the following polarizing film composition 4 was applied on the polarizing plate 1. Apply a shear stress by the coating device used to coat 80
The surface dried at ~ 120 ° C is irradiated with ultraviolet rays of 300 mJ / cm 2 using a high pressure mercury lamp (80 W) to cure the surface,
After forming the polarizing film 4, apply corona discharge on it at 8W / c
m 2 · minute strength, and further, the adhesive composition is coated thereon to have a wet film thickness of 15 μm, and immediately the transparent protective film 1 is attached and passed through a nip roll heated to 70 ° C. It was heated at 80 ° C., cooled and wound up to prepare a polarizing plate 4.

【0222】 《偏光膜組成物4》 DC−2 8質量部 DC−10 8質量部 LR−10(A:4′−メチルピリジニウム−4−メチルスチレン・クロライ ド、n1:n2=80:20) 34質量部 OC−18 4質量部 プロピレングリコールモノメチルエーテル 10質量部 エタノール 36質量部。[0222]   <Polarizing film composition 4>   DC-2 8 parts by mass   DC-10 8 parts by mass   LR-10 (A: 4'-methylpyridinium-4-methylstyrene chloride) De, n1: n2 = 80: 20) 34 parts by mass   OC-18 4 parts by mass   Propylene glycol monomethyl ether 10 parts by mass   36 parts by mass of ethanol.

【0223】〈偏光板5の作製〉15m/分で移送する
透明フィルム1にコロナ放電を8W/cm2・分の強さ
でかけた後、この上に下記偏光膜組成物5を偏光板1で
使用した塗布装置によりずり応力をかけて塗布して80
〜120℃で乾燥した面に高圧水銀ランプ(80W)を
用いて紫外線を300mJ/cm2照射して硬化させ、
偏光膜5を形成した後、その上にコロナ放電を8W/c
2・分の強さでかけ、更にその上に前記接着剤組成物
をウエット膜厚で15μmとなるように塗設し、直ぐに
透明保護フィルム1を貼り付け70℃に熱したニップロ
ールに通し、引き続き80℃で加熱して、冷却後巻き取
り、偏光板5を作製した。
<Preparation of Polarizing Plate 5> The transparent film 1 transported at 15 m / min was subjected to corona discharge with an intensity of 8 W / cm 2 · min, and then the following polarizing film composition 5 was applied on the polarizing plate 1. Apply a shear stress by the coating device used to coat 80
The surface dried at ~ 120 ° C is irradiated with ultraviolet rays of 300 mJ / cm 2 using a high pressure mercury lamp (80 W) to cure the surface,
After forming the polarizing film 5, apply corona discharge on it at 8W / c
m 2 · minute strength, further coated with the adhesive composition to have a wet film thickness of 15 μm, immediately attach the transparent protective film 1 and pass through a nip roll heated to 70 ° C., It was heated at 80 ° C., cooled, and wound up to prepare a polarizing plate 5.

【0224】 《偏光膜組成物5》 DC−11 7質量部 LOC−21 7質量部 F−177(界面活性剤、大日本インキ社製) 1質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 20質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2量体 7質量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート3量体以上の成分 7質量部 ジメトキシベンゾフェノン 0.5質量部 プロピレングリコールメチルエーテルアセテート 10質量部 メチルエチルケトン 40.5質量部。[0224]   <Polarizing film composition 5>   DC-11 7 parts by mass   LOC-21 7 parts by mass   F-177 (surfactant, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 1 part by mass   Dipentaerythritol hexaacrylate monomer 20 parts by mass   Dipentaerythritol hexaacrylate dimer 7 parts by mass   Dipentaerythritol hexaacrylate trimer or more components                                                             7 parts by mass   Dimethoxybenzophenone 0.5 parts by mass   Propylene glycol methyl ether acetate 10 parts by mass   Methyl ethyl ketone 40.5 parts by mass.

【0225】〈偏光板6の作製〉13m/分で移送する
透明フィルム1にコロナ放電を8W/cm2・分の強さ
でかけた後、この上に下記偏光膜組成物6を偏光板1で
使用した塗布装置によりずり応力をかけて塗布して80
〜120℃で乾燥した面に高圧水銀ランプ(80W)を
用いて紫外線を300mJ/cm2照射して硬化させ、
偏光膜6を形成した後、その上にコロナ放電を8W/c
2・分の強さでかけ、更にその上に前記接着剤組成物
をウエット膜厚で15μmとなるように塗設し、直ぐに
透明保護フィルム1を貼り付け70℃に熱したニップロ
ールに通し、引き続き80℃で加熱して、冷却後巻き取
り、偏光板6を作製した。
<Preparation of Polarizing Plate 6> The transparent film 1 transported at 13 m / min was subjected to corona discharge with a strength of 8 W / cm 2 · min, and then the following polarizing film composition 6 was applied on the polarizing plate 1. Apply a shear stress by the coating device used to coat 80
The surface dried at ~ 120 ° C is irradiated with ultraviolet rays of 300 mJ / cm 2 using a high pressure mercury lamp (80 W) to cure the surface,
After forming the polarizing film 6, apply corona discharge on it at 8 W / c
m 2 · minute strength, further coated with the adhesive composition to have a wet film thickness of 15 μm, immediately attach the transparent protective film 1 and pass through a nip roll heated to 70 ° C., It was heated at 80 ° C., cooled and wound up to prepare a polarizing plate 6.

【0226】 《偏光膜組成物6》 DC−6 7質量部 OC−19 10質量部 LOC−28 10質量部 p−ノニルフェノキシポリエチレンオキシド(重合度12) 2質量部 エチレングリコールモノメチルエーテル 5質量部 純水 66質量部。[0226]   <Polarizing film composition 6>   DC-6 7 parts by mass   OC-19 10 parts by mass   LOC-28 10 parts by mass   p-Nonylphenoxy polyethylene oxide (degree of polymerization 12) 2 parts by mass   Ethylene glycol monomethyl ether 5 parts by mass   66 parts by mass of pure water.

【0227】〈偏光板7の作製〉17m/分で移送する
透明フィルム2にコロナ放電を8W/cm2・分の強さ
でかけた後、この上に下記偏光膜組成物7を偏光板1で
使用した塗布装置によりずり応力をかけて塗布して80
〜120℃で乾燥した面に高圧水銀ランプ(80W)を
用いて紫外線を300mJ/cm2照射して硬化させ、
偏光膜7を形成した後、その上にコロナ放電を8W/c
2・分の強さでかけ、更にその上に前記接着剤組成物
をウエット膜厚で15μmとなるように塗設し、直ぐに
透明保護フィルム2を貼り付け70℃に熱したニップロ
ールに通し、引き続き80℃で加熱して、冷却後巻き取
り、偏光板7を作製した。
<Production of Polarizing Plate 7> Corona discharge was applied to the transparent film 2 transported at 17 m / min with a strength of 8 W / cm 2 · min, and then the following polarizing film composition 7 was applied on the polarizing plate 1. Apply a shear stress by the coating device used to coat 80
The surface dried at ~ 120 ° C is irradiated with ultraviolet rays of 300 mJ / cm 2 using a high pressure mercury lamp (80 W) to cure the surface,
After forming the polarizing film 7, apply corona discharge 8W / c on it.
m 2 · minute strength, and further, the adhesive composition is coated thereon so that the wet film thickness is 15 μm, and the transparent protective film 2 is immediately stuck and passed through a nip roll heated to 70 ° C. It was heated at 80 ° C., cooled, and wound up to prepare a polarizing plate 7.

【0228】 《偏光膜組成物7》 LDC−6 20質量部 F−177(界面活性剤、大日本インキ社製) 1質量部 ポリビニルアセタール(アセタール化度70mol%) 15質量部 トリフルオロボロン 1質量部 チオキサントン 3質量部 ジメチルフォルムアミド 2質量部 メチルエチルケトン 68質量部。[0228]   <Polarizing film composition 7>   LDC-6 20 parts by mass   F-177 (surfactant, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 1 part by mass   Polyvinyl acetal (Acetalization degree 70 mol%) 15 parts by mass   Trifluoroboron 1 part by mass   Thioxanthone 3 parts by mass   Dimethylformamide 2 parts by mass   Methyl ethyl ketone 68 parts by mass.

【0229】〈偏光板8の作製〉15m/分で移送する
透明フィルム1にコロナ放電を8W/cm2・分の強さ
でかけた後、この上に下記偏光膜組成物8を偏光板1で
使用した塗布装置によりずり応力をかけて塗布して80
〜120℃で乾燥した面に高圧水銀ランプ(80W)を
用いて紫外線を300mJ/cm2照射して硬化させ、
偏光膜8を形成した後、偏光膜8の上に前記透明樹脂保
護層塗布組成物をウエット膜厚で13μmとなるように
グラビアコーターで塗布し、次いで85℃に設定された
乾燥部で乾燥した後、115mJ/cm2の照射強度で
紫外線照射して、透明樹脂保護層を形成し偏光板8を作
製した。
<Preparation of Polarizing Plate 8> The transparent film 1 transported at 15 m / min was subjected to corona discharge with a strength of 8 W / cm 2 · min, and then the following polarizing film composition 8 was applied on the polarizing plate 1. Apply a shear stress by the coating device used to coat 80
The surface dried at ~ 120 ° C is irradiated with ultraviolet rays of 300 mJ / cm 2 using a high pressure mercury lamp (80 W) to cure the surface,
After the polarizing film 8 was formed, the transparent resin protective layer coating composition was applied onto the polarizing film 8 by a gravure coater so that the wet film thickness was 13 μm, and then dried in a drying section set to 85 ° C. Then, it was irradiated with ultraviolet rays at an irradiation intensity of 115 mJ / cm 2 to form a transparent resin protective layer, and a polarizing plate 8 was produced.

【0230】 《偏光膜組成物8》 LDC−8 20質量部 OC−18 10質量部 F−177(界面活性剤、大日本インキ社製) 1質量部 ポリビニルブチラール(ブチラール化度50mol%) 5質量部 チオキサントン 2質量部 エチレングリコールモノメチルエーテル 10質量部 エタノール 52質量部 〈偏光板9の作製〉12m/分で移送する透明フィルム
2にコロナ放電を8W/cm2・分の強さでかけた後、
この上に下記偏光膜組成物9を偏光板1で使用した塗布
装置によりずり応力をかけて塗布して80〜120℃で
乾燥した面に高圧水銀ランプ(80W)を用いて紫外線
を300mJ/cm2照射して硬化させ、偏光膜9を形
成した後、その上にコロナ放電を8W/cm2・分の強
さでかけ、更にその上に前記接着剤組成物をウエット膜
厚で15μmとなるように塗設し、直ぐに透明保護フィ
ルム2を貼り付け70℃に熱したニップロールに通し、
引き続き80℃で加熱して、冷却後巻き取り、偏光板9
を作製した。
<< Polarizing Film Composition 8 >> LDC-8 20 parts by mass OC-18 10 parts by mass F-177 (surfactant, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 1 part by mass Polyvinyl butyral (degree of butyralization 50 mol%) 5 parts by mass Parts thioxanthone 2 parts by mass ethylene glycol monomethyl ether 10 parts by mass ethanol 52 parts by mass <Preparation of polarizing plate 9> After corona discharge was applied to the transparent film 2 transported at 12 m / min at a strength of 8 W / cm 2 · min,
The following polarizing film composition 9 was applied with shear stress by a coating device used in the polarizing plate 1 and applied to the surface dried at 80 to 120 ° C. using a high pressure mercury lamp (80 W) to emit 300 mJ / cm of ultraviolet rays. After irradiating and curing to form a polarizing film 9, a corona discharge is applied on the polarizing film 9 with a strength of 8 W / cm 2 · min, and the above adhesive composition is further applied thereon to a wet film thickness of 15 μm. , And immediately attach the transparent protective film 2 and pass it through a nip roll heated to 70 ° C.
Continue heating at 80 ° C., cool and wind up, polarizing plate 9
Was produced.

【0231】 《偏光膜組成物9》 LDC−10 20質量部 LR−6(A=メタクリル酸メチル、n1:n2=50:50) 10質量部 F−177(界面活性剤、大日本インキ社製) 1質量部 ポリメチルメタクリレート 5質量部 チオキサントン 1質量部 メチルエチルケトン 10質量部 シクロヘキサノン 10質量部 メチレンクロライド 43質量部。[0231]   <Polarizing film composition 9>   LDC-10 20 parts by mass   LR-6 (A = methyl methacrylate, n1: n2 = 50: 50)                                                           10 parts by mass   F-177 (surfactant, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 1 part by mass   Polymethylmethacrylate 5 parts by mass   Thioxanthone 1 part by mass   Methyl ethyl ketone 10 parts by mass   Cyclohexanone 10 parts by mass   Methylene chloride 43 parts by mass.

【0232】〈偏光板10の作製〉18m/分で移送す
る透明フィルム1にコロナ放電を8W/cm2・分の強
さでかけた後、この上に下記偏光膜組成物10を偏光板
1で使用した塗布装置によりずり応力をかけて塗布して
80〜140℃で乾燥した面に高圧水銀ランプ(80
W)を用いて紫外線を300mJ/cm2照射して硬化
させ、偏光膜10を形成した後、その上にコロナ放電を
8W/cm2・分の強さでかけ、更にその上に前記接着
剤組成物をウエット膜厚で15μmとなるように塗設
し、直ぐに透明保護フィルム1を貼り付け70℃に熱し
たニップロールに通し、引き続き80℃で加熱して、冷
却後巻き取り、偏光板10を作製した。
<Production of Polarizing Plate 10> The transparent film 1 transported at 18 m / min was subjected to corona discharge at a strength of 8 W / cm 2 · min, and then the following polarizing film composition 10 was applied on the polarizing plate 1. A high-pressure mercury lamp (80
W) is used to irradiate the film with ultraviolet rays to cure it to 300 mJ / cm 2 to form a polarizing film 10, and then corona discharge is applied thereon with a strength of 8 W / cm 2 · min, and the adhesive composition The product is applied to have a wet film thickness of 15 μm, the transparent protective film 1 is immediately pasted onto the nip roll heated to 70 ° C., the product is subsequently heated at 80 ° C., and the film is cooled and wound to form a polarizing plate 10. did.

【0233】 《偏光膜組成物10》 LDC−5 20質量部 LOC−20 20質量部 プロパン−2,2−ビス(p−フェノニルグリシジルエーテル)5質量部 F−177(界面活性剤、大日本インキ社製) 1質量部 チオキサントン 1質量部 ジメチルホルムアミド 10質量部 シクロヘキサノン 10質量部 メチレンクロライド 43質量部。[0233]   << Polarizing film composition 10 >>   LDC-5 20 parts by mass   LOC-20 20 parts by mass   Propane-2,2-bis (p-phenonyl glycidyl ether) 5 parts by mass   F-177 (surfactant, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 1 part by mass   Thioxanthone 1 part by mass   Dimethylformamide 10 parts by mass   Cyclohexanone 10 parts by mass   Methylene chloride 43 parts by mass.

【0234】なお、プロパン−2,2−ビス(p−フェ
ノニルグリシジルエーテル)を下記表1において、PB
PGと略して表すこととする。
Propane-2,2-bis (p-phenonyl glycidyl ether) was added to PB in Table 1 below.
It is abbreviated as PG.

【0235】〈偏光板11の作製〉15m/分で移送す
る透明フィルム2にコロナ放電を8W/cm2・分の強
さでかけた後、この上に下記偏光膜組成物11を偏光板
1で使用した塗布装置によりずり応力をかけて塗布して
80〜130℃で乾燥した面に高圧水銀ランプ(80
W)を用いて紫外線を300mJ/cm2照射して硬化
させ、偏光膜11を形成した後、その上にコロナ放電を
8W/cm2・分の強さでかけ、更にその上に前記接着
剤組成物をウエット膜厚で15μmとなるように塗設
し、直ぐに透明保護フィルム2を貼り付け70℃に熱し
たニップロールに通し、引き続き80℃で加熱して、冷
却後巻き取り、偏光板11を作製した。
<Preparation of Polarizing Plate 11> The transparent film 2 transported at 15 m / min was subjected to corona discharge with an intensity of 8 W / cm 2 · min, and then the following polarizing film composition 11 was applied on the polarizing plate 1. A high pressure mercury lamp (80
W) to 300 mJ / cm 2 of ultraviolet light for curing to form the polarizing film 11, and then corona discharge is applied thereon with a strength of 8 W / cm 2 · min. The product is applied so as to have a wet film thickness of 15 μm, the transparent protective film 2 is immediately attached, and the product is passed through a nip roll heated to 70 ° C., followed by heating at 80 ° C. and winding after cooling to prepare a polarizing plate 11. did.

【0236】 《偏光膜組成物11》 LDC−11(A:N−アクリロイルオキシエチルピロリドン、n1:n2: n3=30:30:40) 10質量部 OC−42(A:N−アクリロイルオキシエチルピロリドン、n1:n2=7 0:30) 10質量部 LR−9(A:N−アクリロイルオキシエチルピロリドン、n1:n2=60 :40) 5質量部 F−177(界面活性剤、大日本インキ社製) 1質量部 p,p′−テトラメチルジアミノベンゾフェノン(ミヒラーズケトン) 2質量部 F−177(界面活性剤、大日本インキ社製) 1質量部 ピロリドン 20質量部 ジメチルホルムアミド 13質量部 2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロピルアセテート 37質量部。[0236]   << Polarizing film composition 11 >>   LDC-11 (A: N-acryloyloxyethylpyrrolidone, n1: n2: n3 = 30: 30: 40) 10 parts by mass   OC-42 (A: N-acryloyloxyethylpyrrolidone, n1: n2 = 7) 0:30) 10 parts by mass   LR-9 (A: N-acryloyloxyethylpyrrolidone, n1: n2 = 60 : 40) 5 parts by mass   F-177 (surfactant, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 1 part by mass   p, p'-tetramethyldiaminobenzophenone (Michler's ketone)                                                             2 parts by mass   F-177 (surfactant, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 1 part by mass   20 parts by mass of pyrrolidone   Dimethylformamide 13 parts by mass   37 parts by mass of 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl acetate.

【0237】〈偏光板12の作製〉15m/分で移送す
る透明フィルム1にコロナ放電を8W/cm2・分の強
さでかけた後、この上に下記偏光膜組成物12を偏光板
1で使用した塗布装置によりずり応力をかけて塗布して
80〜120℃で乾燥した面に高圧水銀ランプ(80
W)を用いて紫外線を300mJ/cm2照射して硬化
させ、偏光膜12を形成した後、その上にコロナ放電を
8W/cm2・分の強さでかけ、更にその上に前記接着
剤組成物をウエット膜厚で15μmとなるように塗設
し、直ぐに透明保護フィルム1を貼り付け70℃に熱し
たニップロールに通し、引き続き80℃で加熱して、冷
却後巻き取り、偏光板12を作製した。
<Production of Polarizing Plate 12> The transparent film 1 transported at 15 m / min was subjected to corona discharge at a strength of 8 W / cm 2 · min, and then the following polarizing film composition 12 was applied to the polarizing plate 1. A high pressure mercury lamp (80
W) is used to irradiate the film with ultraviolet rays to cure it to 300 mJ / cm 2 to form a polarizing film 12, which is then subjected to corona discharge with a strength of 8 W / cm 2 · min, and the adhesive composition The product is applied to have a wet film thickness of 15 μm, the transparent protective film 1 is immediately pasted on the product, passed through a nip roll heated to 70 ° C., subsequently heated at 80 ° C., and after winding, rolled up, a polarizing plate 12 is prepared. did.

【0238】 《偏光膜組成物12》 LDC−12 10質量部 OC−46(A:2−メトキシエチルアクリレート、 n1:n2=50:50) 10質量部 LOC−3 10質量部 F−177(界面活性剤、大日本インキ社製) 1質量部 ジメチルホルムアミド 20質量部 酢酸メチル 30質量部 エチレングリコールアセテートメチルエーテル 19質量部。[0238]   << Polarizing film composition 12 >>   LDC-12 10 parts by mass   OC-46 (A: 2-methoxyethyl acrylate,               n1: n2 = 50: 50) 10 parts by mass   LOC-3 10 parts by mass   F-177 (surfactant, Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) 1 part by mass   Dimethylformamide 20 parts by mass   Methyl acetate 30 parts by mass   19 parts by mass of ethylene glycol acetate methyl ether.

【0239】〈偏光板13の作製〉14m/分で移送す
る透明フィルム1にコロナ放電を8W/cm2・分の強
さでかけた後、この上に下記偏光膜組成物13を偏光板
1で使用した塗布装置によりずり応力をかけて塗布して
80〜120℃で乾燥した面に高圧水銀ランプ(80
W)を用いて紫外線を300mJ/cm2照射して硬化
させ、偏光膜13を形成した後、その上にコロナ放電を
8W/cm2・分の強さでかけ、更にその上に前記接着
剤組成物をウエット膜厚で15μmとなるように塗設
し、直ぐに透明保護フィルム1を貼り付け70℃に熱し
たニップロールに通し、引き続き80℃で加熱して、冷
却後巻き取り、偏光板13を作製した。
<Preparation of Polarizing Plate 13> The transparent film 1 transported at 14 m / min was subjected to corona discharge with an intensity of 8 W / cm 2 · min, and then the following polarizing film composition 13 was applied on the polarizing plate 1. A high-pressure mercury lamp (80
W) is used to irradiate the film with ultraviolet rays to cure it to 300 mJ / cm 2 to form a polarizing film 13, which is then subjected to corona discharge with a strength of 8 W / cm 2 · min, and the adhesive composition The product is applied to have a wet film thickness of 15 μm, the transparent protective film 1 is immediately applied, and the product is passed through a nip roll heated to 70 ° C., followed by heating at 80 ° C. and winding after cooling to prepare a polarizing plate 13. did.

【0240】 《偏光膜組成物13》 LDC−13(A:2−トリエチルアンモニウムエチルアクリレート・ブロマ イド、n1:n2:n3=50:25:25) 10質量部 DC−2 10質量部 LR−11(A:2−トリエチルアンモニウムエチルアクリレート・ブロマイ ド、n1:n2=50:50) 5質量部 トリエチルベンジルアンモニウムブロマイド 1質量部 エタノール 40質量部 モノメチルエチレングリコール 5質量部 2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパノール 29質量部。[0240]   << Polarizing Film Composition 13 >>   LDC-13 (A: 2-triethylammonium ethyl acrylate bromide Id, n1: n2: n3 = 50: 25: 25) 10 parts by mass   DC-2 10 parts by mass   LR-11 (A: 2-triethylammonium ethyl acrylate bromide De, n1: n2 = 50: 50) 5 parts by mass   Triethylbenzylammonium bromide 1 part by mass   40 parts by mass of ethanol   Monomethyl ethylene glycol 5 parts by mass   29 parts by mass of 2,2,3,3,3-pentafluoropropanol.

【0241】〈偏光板14(比較例)の作製〉透明樹脂
保護層塗布組成物を塗布しなかった以外は偏光板1と同
様に行い、偏光板14とした。
<Production of Polarizing Plate 14 (Comparative Example)> Polarizing plate 14 was prepared in the same manner as in polarizing plate 1 except that the transparent resin protective layer coating composition was not applied.

【0242】〈偏光板15(比較例)の作製〉透明保護
フィルムを貼りあわせなかった以外は偏光板2と同様に
行い、偏光板15とした。
<Production of Polarizing Plate 15 (Comparative Example)> Polarizing plate 15 was prepared in the same manner as in polarizing plate 2 except that the transparent protective film was not attached.

【0243】〈偏光板16(比較例)の作製〉長さ20
0m、幅600mm、厚さ120μmのポリビニルアル
コールフィルムを沃素1質量部、ホウ酸4質量部を含む
水溶液100質量部に浸漬し、50℃で4倍に延伸して
偏光膜(偏光子)を作った。この偏光膜の両面に下記ア
ルカリ鹸化処理透明フィルム(長さ250m、幅650
mm、厚さ80μmのセルロースエステルフィルム1)
を完全鹸化型ポリビニルアルコール5%水溶液を接着剤
として各々貼り合わせ偏光板16を作製した。
<Production of Polarizing Plate 16 (Comparative Example)> Length 20
A polyvinyl alcohol film having a width of 0 m, a width of 600 mm and a thickness of 120 μm is immersed in 100 parts by mass of an aqueous solution containing 1 part by mass of iodine and 4 parts by mass of boric acid, and stretched 4 times at 50 ° C. to form a polarizing film (polarizer). It was On both sides of this polarizing film, the following alkali saponification-treated transparent film (length 250 m, width 650
mm, 80 μm thick cellulose ester film 1)
A 5% aqueous solution of completely saponified polyvinyl alcohol was used as an adhesive to bond the sheets to prepare a polarizing plate 16.

【0244】《アルカリ鹸化処理透明フィルム》透明フ
ィルム1を60℃、2mol/lの濃度の水酸化ナトリ
ウム水溶液中に2分間浸漬し水洗した後、100℃で1
0分間乾燥しアルカリ鹸化処理透明フィルムを得た。
<< Alkali saponification-treated transparent film >> Transparent film 1 was immersed in an aqueous sodium hydroxide solution having a concentration of 2 mol / l for 2 minutes at 60 ° C., washed with water, and then at 100 ° C. for 1 minute.
It was dried for 0 minutes to obtain an alkali saponification-treated transparent film.

【0245】以上の偏光板1〜16について、擦り傷、
偏光板作製過程の収率、偏光度V、平行透過率について
評価し結果を表1に示した。
With respect to the above polarizing plates 1 to 16, scratches,
The yield, the degree of polarization V, and the parallel transmittance in the process for producing a polarizing plate were evaluated, and the results are shown in Table 1.

【0246】なお、表1において、光反応性基を有しな
い二色性色素及び配向性化合物は単に二色性色素(D
C)及び配向性化合物(OC)と記載してある。
In Table 1, dichroic dyes and alignment compounds having no photoreactive group are simply dichroic dyes (D
C) and the orienting compound (OC).

【0247】[0247]

【表1】 [Table 1]

【0248】(結果)本発明の方法で偏光膜形成後、そ
の上に透明保護フィルムや透明樹脂保護層を直ぐに設け
ることによって得られた偏光板は、偏光膜が保護され傷
が付かず偏光板を作製する過程での収率もよく得ること
が出来た。これに対して、比較例の保護フィルムや保護
層を設けないものは、その偏光膜形成後の取り扱いが難
しく、収率が非常に低かった。また、ポリビニルアルコ
ール−ヨウ素系の偏光膜を使用するものは、偏光度及び
透過率は良好ではあるが、偏光膜の取り扱いの難しさ等
により収率が低かった。
(Results) A polarizing plate obtained by forming a polarizing film by the method of the present invention and then immediately providing a transparent protective film or a transparent resin protective layer on the polarizing film is a polarizing film which protects the polarizing film and is not scratched. The yield in the process of producing was also good. On the other hand, in the case of Comparative Example in which the protective film or protective layer was not provided, it was difficult to handle after forming the polarizing film, and the yield was very low. In addition, the polyvinyl alcohol-iodine type polarizing film has a good degree of polarization and transmittance, but the yield is low due to the difficulty of handling the polarizing film.

【0249】また、本発明内の方法において、偏光膜に
光反応性を有しない二色性色素だけを用いたものより、
光反応性化合物、光反応性二色性化合物あるいは光配向
性化合物を用いたものは、偏光度が優れ、透過率も良好
であり、より優れた偏光板を得ることが出来ることがわ
かった。
In addition, in the method of the present invention, when the polarizing film uses only the dichroic dye having no photoreactivity,
It was found that the one using the photoreactive compound, the photoreactive dichroic compound or the photoalignment compound has an excellent degree of polarization and an excellent transmittance, and a more excellent polarizing plate can be obtained.

【0250】実施例2 〔反射防止層を有する光学要素1〜16の作製〕上記偏
光板1〜16について、反射防止層を設け、光学要素1
〜16を作製した。
Example 2 [Production of Optical Elements 1 to 16 Having Antireflection Layer] An antireflection layer was provided on each of the above polarizing plates 1 to 16 to prepare an optical element 1.
~ 16 were produced.

【0251】先ず、偏光板1〜13の透明フィルム面に
下記バックコート層を塗設した。また、偏光板1〜13
のバックコート層の反対側に、透明保護フィルムを有す
る偏光板2、3、4、5、6、7、9、10、11、1
2、13については透明保護フィルムの上に下記クリア
ハードコート層を塗設し、更に該クリアハードコート層
の上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層及び防汚層
の順に下記のように大気圧プラズマ放電処理方法により
積層して反射防止層を有する光学要素2、3、4、5、
6、7、9、10、11、12、13を作製し、また、
透明樹脂保護層を有する1及び8については透明樹脂保
護層の上に上記と同様にして反射防止層を積層して反射
防止層を有する光学要素1及び8を作製した。なお、偏
光板14及び15については、バック層を透明フィルム
の上に設けた後、偏光膜の上に直接上記と同様な反射防
止層を設け、光学要素14及び15とした。偏光板16
についてはポリビニルアルコール−ヨウ素系偏光膜の両
側にある透明フィルムの一面にバック層を、また他の一
面に上記と同様に反射防止層を積層し光学要素16を作
製した。但し、光学要素1〜15については幅1100
mm、長さ1000mの大きさで作製し、光学要素11
については幅600mm、長さ200mの光学要素を、
幅650mmの大気圧プラズマ放電処理装置を使用し、
作製した。
First, the following back coat layer was coated on the transparent film surface of each of the polarizing plates 1 to 13. In addition, the polarizing plates 1 to 13
Polarizing plates 2, 3, 4, 5, 6, 7, 9, 10, 11, 1 having a transparent protective film on the opposite side of the back coat layer of
Regarding Nos. 2 and 13, the following clear hard coat layer was applied on the transparent protective film, and further on the clear hard coat layer, a medium refractive index layer, a high refractive index layer, a low refractive index layer and an antifouling layer were formed in this order. Optical elements 2, 3, 4, 5 having an antireflection layer laminated by the atmospheric plasma discharge treatment method as described below.
6, 7, 9, 10, 11, 12, 13 were made, and
Regarding 1 and 8 having a transparent resin protective layer, an antireflection layer was laminated on the transparent resin protective layer in the same manner as above to prepare optical elements 1 and 8 having an antireflection layer. Regarding the polarizing plates 14 and 15, after providing a back layer on a transparent film, an antireflection layer similar to the above was directly provided on the polarizing film to obtain optical elements 14 and 15. Polarizer 16
For, the backing layer was laminated on one surface of the transparent film on both sides of the polyvinyl alcohol-iodine polarizing film, and the antireflection layer was laminated on the other surface in the same manner as above to prepare the optical element 16. However, the width of the optical elements 1 to 15 is 1100.
The optical element 11 is manufactured with a size of mm and a length of 1000 m.
Is an optical element with a width of 600 mm and a length of 200 m,
Using an atmospheric pressure plasma discharge treatment device with a width of 650 mm,
It was made.

【0252】〈バックコート層の塗設〉下記のバックコ
ート層塗布組成物を偏光板の透明フィルム上に、ウエッ
ト膜厚14μmとなるようにグラビアコーターで塗布
し、乾燥温度85℃で乾燥させバックコート層(BC層
と略すことがある)を塗設した。
<Coating of Backcoat Layer> The following backcoat layer coating composition was coated on a transparent film of a polarizing plate with a gravure coater so that a wet film thickness was 14 μm, and dried at a drying temperature of 85 ° C. A coat layer (sometimes abbreviated as BC layer) was applied.

【0253】 《バックコート層塗布組成物》 アセトン 30質量部 酢酸エチル 45質量部 イソプロピルアルコール 10質量部 セルロースジアセテート 0.5質量部 アエロジル200V 0.1質量部 〈クリアハードコート層(CHC層)の塗設〉ここでは
クリアハードコート層塗布組成物は前述の透明樹脂保護
層組成物同一の組成物を用いた。クリアハードコート層
塗布組成物をウエット膜厚で13μmとなるようにグラ
ビアコーターで塗布し、次いで85℃に設定された乾燥
部で乾燥した後、115mJ/cm2の照射強度で紫外
線照射し、乾燥膜厚で5μmの中心線平均表面粗さ(R
a)12nmのクリアハードコート層を設けた。但し、
透明樹脂保護層を塗設した偏光板1と8、及び比較例の
14〜16についてはCHC層は設けなかった。
<< Backcoat Layer Coating Composition >> Acetone 30 parts by mass Ethyl acetate 45 parts by mass Isopropyl alcohol 10 parts by mass Cellulose diacetate 0.5 parts by mass Aerosil 200V 0.1 parts by mass <Clear hard coat layer (CHC layer) Coating> Here, the same composition as the transparent resin protective layer composition described above was used as the clear hard coat layer coating composition. The clear hard coat layer coating composition was applied by a gravure coater so that the wet film thickness was 13 μm, and then dried in a drying section set at 85 ° C., followed by ultraviolet irradiation at an irradiation intensity of 115 mJ / cm 2 and drying. Center line average surface roughness (R
a) A 12 nm clear hard coat layer was provided. However,
No CHC layer was provided for polarizing plates 1 and 8 coated with a transparent resin protective layer, and for Comparative Examples 14 to 16.

【0254】〈大気圧プラズマ放電処理による反射防止
層の形成〉ロール電極には、温度調節機能を有するステ
ンレス製ジャケットロール母材を用いた。これにセラミ
ック溶射によりアルミナを1mm被覆し、その上にテト
ラメトキシシランを酢酸エチルで希釈した溶液を塗布乾
燥後、紫外線照射により硬化させて封孔処理を行いRm
ax1μmの誘電体を有するロール電極を製作しアース
(接地)した。印加電極としては、中空のステンレスパ
イプに対し、上記同様の誘電体を同条件にて被覆し、相
対する電極群とし、第1のプラズマ放電処理装置を中屈
折率層用に、第2のそれを高屈折率層用に、更に第3の
それを低屈折率層用として、それぞれ必要な膜厚が各々
得られるように調整した。また、第1、2及び3のプラ
ズマ放電処理装置の電源は、日本電子製高周波電源を使
用し、連続周波数を13.56MHzとし、15W/c
2の電力を供給した。但し、ロール電極は、ドライブ
を用いて搬送速度に同期して回転させた。偏光板のCH
C層、または透明樹脂保護層の上に、電極間隙を1.0
mm、反応ガスの圧力を103kPaとして、下記反応
ガスを使用し大気圧プラズマ放電処理を行い反射防止層
を有する光学要素1〜16を作製した。
<Formation of Antireflection Layer by Atmospheric Pressure Plasma Discharge Treatment> For the roll electrode, a stainless steel jacket roll base material having a temperature adjusting function was used. Alumina was coated to 1 mm by ceramic spraying on this, and a solution of tetramethoxysilane diluted with ethyl acetate was applied and dried, and then cured by ultraviolet irradiation to perform sealing treatment and Rm.
A roll electrode having a dielectric of ax1 μm was manufactured and grounded. As the application electrode, a hollow stainless steel pipe was coated with the same dielectric material as above under the same conditions to form an opposing electrode group, and the first plasma discharge treatment device was used for the medium refractive index layer and the second electrode. Was used for the high refractive index layer, and the third was used for the low refractive index layer so as to obtain the required film thicknesses. Further, the first, second and third plasma discharge processing devices were powered by a JEOL high frequency power source, with a continuous frequency of 13.56 MHz and 15 W / c.
m 2 of electric power was supplied. However, the roll electrode was rotated using a drive in synchronization with the transport speed. Polarizer CH
On the C layer or the transparent resin protective layer, put an electrode gap of 1.0
mm, the pressure of the reaction gas was 103 kPa, and atmospheric pressure plasma discharge treatment was performed using the following reaction gas to prepare optical elements 1 to 16 having an antireflection layer.

【0255】プラズマ放電処理に用いた反応ガスの組成
を以下に記す。 《酸化錫層(中屈折率層)形成用反応ガス》 不活性ガス(アルゴン) 98.7体積% 反応性ガス(酸素ガス) 1体積% 反応性ガス(テトラブチル錫蒸気) 0.3体積% 《酸化チタン層(高屈折率層)形成用反応ガス》 不活性ガス(アルゴン) 98.7体積% 反応性ガス(酸素ガス) 1体積% 反応性ガス(テトライソプロポキシチタン蒸気) 0.3体積% 《酸化珪素層(低屈折率層)形成用反応ガス》 不活性ガス(アルゴン) 98.7体積% 反応性ガス(酸素ガス) 1体積% 反応性ガス(テトラエトキシシラン蒸気) 0.3体積% 連続的に大気圧プラズマ処理して、順に酸化錫層(屈折
率1.7、膜厚67nm)、酸化チタン層(屈折率2.
14、膜厚110nm)、酸化珪素層(屈折率1.4
4、膜厚87nm)の3層を設けた。
The composition of the reaction gas used for the plasma discharge treatment is described below. << Reactive Gas for Forming Tin Oxide Layer (Medium Refractive Index Layer) >> Inert Gas (Argon) 98.7% by Volume Reactive Gas (Oxygen Gas) 1% by Volume Reactive Gas (Tetrabutyltin Vapor) 0.3% by Volume << Reaction Gas for Forming Titanium Oxide Layer (High Refractive Index Layer) >> Inert gas (argon) 98.7% by volume Reactive gas (oxygen gas) 1% by volume Reactive gas (tetraisopropoxytitanium vapor) 0.3% by volume << Reaction Gas for Forming Silicon Oxide Layer (Low Refractive Index Layer) >> Inert Gas (Argon) 98.7% by Volume Reactive Gas (Oxygen Gas) 1% by Volume Reactive Gas (Tetraethoxysilane Vapor) 0.3% by Volume Continuous atmospheric pressure plasma treatment was performed, and a tin oxide layer (refractive index 1.7, film thickness 67 nm) and a titanium oxide layer (refractive index 2.
14, film thickness 110 nm), silicon oxide layer (refractive index 1.4
4 and a film thickness of 87 nm) were provided.

【0256】作製した反射防止層を有する光学要素1〜
16について、光学要素作製過程の収率(反射防止層作
製工程の収率)、偏光度V、平行透過率、平均分光反射
率を評価し、結果を表2に示した。
Optical Element 1 Having Produced Antireflection Layer
For No. 16, the yield in the optical element production process (the yield in the antireflection layer production process), the polarization degree V, the parallel transmittance, and the average spectral reflectance were evaluated, and the results are shown in Table 2.

【0257】[0257]

【表2】 [Table 2]

【0258】(結果)本発明の反射防止層を有する光学
要素の作製時の収率は良好であるが、比較例の透明保護
フィルムまたは透明樹脂保護層のないものまたはPVA
系のものは作製時の収率は低かった。
(Results) The yield of the optical element having the antireflection layer of the present invention was good, but the transparent protective film or the transparent resin protective layer of Comparative Example or PVA was not used.
The system had a low yield at the time of production.

【0259】実施例3 〔帯電防止層を有する光学要素17〜36の作製〕実施
例2で作製した反射防止層を有する光学要素1、2、
4、6、7、10、13、14、15及び16、並びに
偏光板1、2、4、6、7、10、13、14、15及
び16の透明フィルムの上に、実施例2で使用したBC
層を塗設し、更にその上に下記帯電防止層を形成し、帯
電防止層を有する光学要素17〜36を作製した。
Example 3 [Production of Optical Elements 17 to 36 Having Antistatic Layer] Optical elements 1 and 2 having an antireflection layer produced in Example 2
Used in Example 2 on transparent films of 4, 6, 7, 10, 13, 13, 14, 15 and 16 and polarizing plates 1, 2, 4, 6, 7, 10, 13, 14, 15 and 16. BC
A layer was applied, and the following antistatic layer was further formed thereon to prepare optical elements 17 to 36 having an antistatic layer.

【0260】〈帯電防止層1、大気圧プラズマ放電処理
による帯電防止層の形成〉反射防止層の面と反対側の露
出している透明フィルム面に、上述の実施例2の中屈折
率層の形成に使用した条件と反応性ガスとしてテトラブ
チル錫蒸気を用いての大気圧プラズマ放電処理により酸
化錫薄膜を有する光学要素を作製した。
<Antistatic Layer 1, Formation of Antistatic Layer by Atmospheric Pressure Plasma Discharge Treatment> On the exposed transparent film surface opposite to the surface of the antireflection layer, the medium refractive index layer of Example 2 was formed. An optical element having a tin oxide thin film was prepared by atmospheric pressure plasma discharge treatment using the conditions used for formation and tetrabutyltin vapor as a reactive gas.

【0261】〈帯電防止層2、非晶質酸化錫層の形成〉 《非晶質酸化錫水分散液の作製》滴下ロート、温度計、
攪拌棒を装着した300リットルの反応釜に純水200
リットルを入れ、滴下ロートに無水塩化第2錫(SnC
4)5.4kgを入れた。フラスコ内を攪拌棒で攪拌
しながら、滴下ロートより無水塩化第2錫をまず4.8
kg滴下して5分間攪拌した。その後、無水塩化第2錫
を0.5kg滴下して5分間攪拌した後、残りの無水塩
化第2錫を滴下した。全塩化第2錫を滴下終了後、滴下
ロートを外し、U字型に曲げた管に取り替えた。管の先
は、炭酸ナトリウムの水溶液に浸した。その後、釜を蒸
気で加熱、釜内を85℃に保った。85℃に近づくにつ
れフラスコ内は白濁してきた。釜内を断続的に攪拌しな
がら、1時間保温し、水冷し、内部の温度が60℃とな
った時点で、40℃の純水1000リットル中にフラス
コ内の加水分解した内容物を注ぎ込んだ。スラリー状に
なり自然沈降するのを待ち、水中でスラリーの嵩高さが
1/3になった時点で、上澄みを捨てた。この中に、6
00リットルの40℃純水を加え、更に加えては、沈降
させデカンテーションを17回繰り返した。17回のデ
カンテーションの途中で、pHが6.8となるように水
酸化ナトリウム1mol/Lの水溶液を注ぎ込んだ。1
7回目のデカンテーションが終わった後、更にSEP−
1013限外濾過膜(旭化成社製)を用いて、非晶質酸
化錫の固形分(800℃で1時間加熱乾涸した後の固形
分)が10質量%となるまで濃縮し非晶質酸化錫水分散
液を調製した。
<Formation of Antistatic Layer 2, Amorphous Tin Oxide Layer><Preparation of Amorphous Tin Oxide Aqueous Dispersion> Dropping funnel, thermometer,
Pure water 200 in a 300 liter reaction kettle equipped with a stir bar.
Add liter and put anhydrous stannic chloride (SnC) in the dropping funnel.
I 4 ) 5.4 kg was added. While stirring the inside of the flask with a stir bar, first add anhydrous stannic chloride 4.8 from the dropping funnel.
kg was dropped and the mixture was stirred for 5 minutes. After that, 0.5 kg of anhydrous stannic chloride was dropped and stirred for 5 minutes, and then the remaining anhydrous stannic chloride was dropped. After the dropping of all the stannic chloride was completed, the dropping funnel was removed and replaced with a U-shaped bent tube. The tip of the tube was immersed in an aqueous solution of sodium carbonate. Then, the kettle was heated with steam, and the inside of the kettle was maintained at 85 ° C. The inside of the flask became cloudy as it approached 85 ° C. While intermittently stirring the inside of the kettle, it was kept warm for 1 hour and cooled with water, and when the internal temperature reached 60 ° C, the hydrolyzed contents in the flask were poured into 1000 liters of pure water at 40 ° C. . After waiting for the slurry to spontaneously settle in a slurry state, the supernatant was discarded when the bulkiness of the slurry became 1/3 in water. In this, 6
00 liters of 40 ° C. pure water was added, and the mixture was further added and allowed to settle, and decantation was repeated 17 times. During the 17th decantation, an aqueous solution of sodium hydroxide 1 mol / L was poured so that the pH became 6.8. 1
After the 7th decantation, SEP-
Amorphous tin oxide was concentrated using 1013 ultrafiltration membrane (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) until the solid content of the amorphous tin oxide (solid content after heating and drying at 800 ° C. for 1 hour) was 10% by mass. An aqueous dispersion was prepared.

【0262】透明フィルム面に下記非晶質酸化錫塗布液
を、乾燥後の塗布量が0.12/m 2となるようにエク
ストルージョンコーターを用いて塗布し、140℃で2
分間乾燥した。
The following amorphous tin oxide coating solution is applied to the transparent film surface.
The coating amount after drying is 0.12 / m 2So that
Coat using a strung coater, and 2 at 140 ℃
Dry for minutes.

【0263】 《非晶質酸化錫塗布液》 非晶質酸化錫(水分散液中の非晶質酸化錫の量) 592g ポリマーラテックス(ブチルアクリレート/スチレン/グリシジルアクリ レート:(質量比)30/20/50)(固形分30質量%) 83g ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 0.5g ヘキサメチレン−1,6−ビス(エチレンウレア) 0.5g 蒸留水で1000mlに仕上げる。[0263]   << Amorphous tin oxide coating liquid >>   Amorphous tin oxide (amount of amorphous tin oxide in aqueous dispersion) 592 g   Polymer latex (butyl acrylate / styrene / glycidyl acrylate     Rate: (mass ratio) 30/20/50) (solid content 30 mass%) 83 g   Sodium dodecylbenzene sulfonate 0.5g   Hexamethylene-1,6-bis (ethylene urea) 0.5 g Make up to 1000 ml with distilled water.

【0264】〈帯電防止層3、架橋性アイオネン高分子
帯電防止層の形成〉透明フィルム面に下記の架橋性アイ
オネン高分子帯電防止加工液を18ml/m2になるよ
うに塗布乾燥し、続いて該帯電防止層の上に下記保護層
液組成物を乾燥後に1平方メートル当たりの質量になる
ように塗布乾燥して光学要素を作製し、表面比抵抗値の
測定に提供した。
<Formation of Antistatic Layer 3, Crosslinkable Ionene Polymer Antistatic Layer> The following crosslinkable ionene polymer antistatic processing liquid was applied on the transparent film surface at a rate of 18 ml / m 2 , followed by drying. On the antistatic layer, the following protective layer liquid composition was dried and then coated and dried to a mass per square meter to prepare an optical element, which was provided for measurement of the surface specific resistance.

【0265】 《架橋性アイオネン高分子帯電防止加工液》 P−1 8質量部 アセトン:メタノール(質量割合で55:45)混合溶媒 450質量部 セルロースジアセテート 8質量部 《保護層液組成物》 セルロースジアセテート 100mg/m2 ステアリン酸 50mg/m2 シリカマット剤 50mg/m2 以上、実施例1で作製した偏光板、及び反射防止層を有
する光学要素に帯電防止層を設けた帯電防止層を有する
光学要素17〜36につき、光学要素作製過程収率(帯
電防止層作製工程の収率)、偏光度V、平行透過率、平
均分光反射率及び表面比抵抗値の評価を行った結果を表
3に示した。
<< Crosslinkable Ionene Polymer Antistatic Processing Liquid >> P-1 8 parts by mass Acetone: methanol (55:45 by mass ratio) mixed solvent 450 parts by mass Cellulose diacetate 8 parts by mass << Protective Layer Liquid Composition >> Cellulose Diacetate 100 mg / m 2 Stearic acid 50 mg / m 2 Silica matting agent 50 mg / m 2 or more, the polarizing plate prepared in Example 1, and an antistatic layer in which an antistatic layer is provided in the optical element having an antireflection layer. For optical elements 17 to 36, the results of evaluation of optical element production process yield (yield of antistatic layer production step), polarization degree V, parallel transmittance, average spectral reflectance and surface specific resistance are shown in Table 3. It was shown to.

【0266】[0266]

【表3】 [Table 3]

【0267】(結果)偏光板または反射防止層を有する
偏光板に帯電防止層を設けた光学要素も本発明の方法に
より好収率で容易に得ることが出来たが、比較例のもの
は収率が同様に悪かった。表面比抵抗値は反射防止層を
有するものが小さく、このことは中屈折率層の酸化錫の
影響があるものと考えられる。
(Results) An optical element having a polarizing plate or a polarizing plate having an antireflection layer provided with an antistatic layer could be easily obtained in a good yield by the method of the present invention, but those of the comparative examples were collected. The rate was equally bad. The surface resistivity of the one having the antireflection layer is small, and it is considered that this is influenced by tin oxide of the medium refractive index layer.

【0268】[0268]

【発明の効果】本発明は塗布形式による高いずり応力を
与えて偏光膜を形成する簡便な方法で、品質、収率、生
産性に優れた偏光板を提供出来る。更にこの偏光板を使
用した反射防止層や帯電防止層を有する高品位、高生産
性の光学要素を提供出来る。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can provide a polarizing plate excellent in quality, yield and productivity by a simple method of forming a polarizing film by applying a high shear stress depending on the coating method. Furthermore, it is possible to provide a high-quality and high-productivity optical element having an antireflection layer or an antistatic layer using this polarizing plate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に有用な大気圧プラズマ放電処理装置の
一例の概略図である。
FIG. 1 is a schematic view of an example of an atmospheric pressure plasma discharge treatment apparatus useful in the present invention.

【図2】本発明におけるロール回転電極の一例を示す斜
視図である。
FIG. 2 is a perspective view showing an example of a roll rotating electrode according to the present invention.

【図3】角筒型電極の一例を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing an example of a rectangular tube type electrode.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

25 ロール回転電極 25A、36A 金属母材 25B、36B 誘電体 30 プラズマ放電処理装置 31 プラズマ放電処理容器 32 処理部 36 角筒型固定電極 40 電圧印加手段 50 ガス充填手段 51 ガス発生装置 52 給気口 53 排気口 60 電極温度調節手段 64、67 ガイドロール 65、66 ニップロール 68、69 仕切板 CF 基材 G 反応ガス G′ 処理排ガス P 送液ポンプ 25 roll rotating electrode 25A, 36A Metal base material 25B, 36B dielectric 30 Plasma discharge treatment device 31 Plasma discharge treatment vessel 32 processing unit 36 square tube fixed electrode 40 voltage applying means 50 Gas filling means 51 gas generator 52 Air inlet 53 Exhaust port 60 Electrode temperature control means 64, 67 Guide roll 65, 66 nip roll 68, 69 Partition plate CF base material G reaction gas G'treatment exhaust gas P liquid feed pump

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H049 BA02 BA26 BB17 BB63 BB65 BB67 BC02 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA37X GA16 GA17 LA02 4F006 AA02 AB03 AB24 AB55 AB62 BA01 BA02 CA05 DA04 EA03   ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    F term (reference) 2H049 BA02 BA26 BB17 BB63 BB65                       BB67 BC02 BC22                 2H091 FA08X FA08Z FA37X GA16                       GA17 LA02                 4F006 AA02 AB03 AB24 AB55 AB62                       BA01 BA02 CA05 DA04 EA03

Claims (28)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 移送する透明フィルムの少なくとも一面
に少なくとも光反応性基を有しない二色性色素を含有す
る組成物を該透明フィルムの移送方向に対して高いずり
応力を与えながら塗布して偏光膜を形成した後、該偏光
膜の上に透明樹脂保護層組成物を塗布して透明樹脂保護
層を形成させるか、または該偏光膜の上に透明保護フィ
ルムを貼り合わせることを特徴とする偏光板の製造方
法。
1. A polarizing film prepared by applying a composition containing a dichroic dye having no photoreactive group to at least one surface of a transparent film to be transferred while applying a high shear stress to the transparent film in the transfer direction. After forming a film, a transparent resin protective layer composition is applied onto the polarizing film to form a transparent resin protective layer, or a transparent protective film is laminated on the polarizing film. Method of manufacturing a plate.
【請求項2】 前記少なくとも光反応性基を有しない二
色性色素を含有する組成物が光反応性基を有しない配向
性化合物を含有することを特徴とする請求項1に記載の
偏光板の製造方法。
2. The polarizing plate according to claim 1, wherein the composition containing at least the dichroic dye having no photoreactive group contains an aligning compound having no photoreactive group. Manufacturing method.
【請求項3】 移送する透明フィルムの少なくとも一面
に少なくとも光反応性基を有しない二色性色素及び配向
性基を有しない光反応性化合物を含有する組成物を該透
明フィルムの移送方向に対して高いずり応力を与えなが
ら塗布して偏光膜を形成した後、該偏光膜に紫外線を照
射して硬化させ、その上に透明樹脂保護層組成物を塗布
して透明樹脂保護層を形成させるか、または該偏光膜の
上に透明保護フィルムを貼り合わせることを特徴とする
偏光板の製造方法。
3. A composition containing a dichroic dye having no photoreactive group and a photoreactive compound having no orienting group on at least one surface of the transparent film to be transferred, in the direction of transfer of the transparent film. After applying a high shear stress to form a polarizing film, the polarizing film is irradiated with ultraviolet rays to be cured, and then a transparent resin protective layer composition is applied to form a transparent resin protective layer. Or a method for manufacturing a polarizing plate, which comprises laminating a transparent protective film on the polarizing film.
【請求項4】 前記少なくとも光反応性基を有しない二
色性色素及び配向性基を有しない光反応性化合物を含有
する組成物が光反応性基を有しない配向性化合物を含有
することを特徴とする請求項3に記載の偏光板の製造方
法。
4. A composition containing at least a dichroic dye having no photoreactive group and a photoreactive compound having no alignment group contains an alignment compound having no photoreactive group. The method for manufacturing a polarizing plate according to claim 3, wherein the polarizing plate is manufactured.
【請求項5】 移送する透明フィルムの少なくとも一面
に少なくとも光反応性基を有しない二色性色素及び光反
応性配向性化合物を含有する組成物を該透明フィルムの
移送方向に対して高いずり応力を与えながら塗布して偏
光膜を形成した後、該偏光膜に紫外線を照射して硬化さ
せ、その上に透明樹脂保護層組成物を塗布して透明樹脂
保護層を形成させるか、または該偏光膜の上に透明保護
フィルムを貼り合わせることを特徴とする偏光板の製造
方法。
5. A composition containing a dichroic dye having no photoreactive group and a photoreactive alignment compound on at least one surface of a transparent film to be transferred has a high shear stress in the transfer direction of the transparent film. Is applied to form a polarizing film, and then the polarizing film is irradiated with ultraviolet rays to be cured, and a transparent resin protective layer composition is applied thereon to form a transparent resin protective layer. A method for producing a polarizing plate, which comprises laminating a transparent protective film on a film.
【請求項6】 前記少なくとも光反応性基を有しない二
色性色素及び光反応性配向性化合物を含有する組成物が
光反応性基を有しない配向性化合物を含有することを特
徴とする請求項5に記載の偏光板の製造方法。
6. The composition containing at least the dichroic dye having no photoreactive group and the photoreactive alignment compound contains an alignment compound having no photoreactive group. Item 6. A method for producing a polarizing plate according to item 5.
【請求項7】 移送する透明フィルムの少なくとも一面
に少なくとも光反応性二色性色素を含有する組成物を該
透明フィルムの移送方向に対して高いずり応力を与えな
がら塗布して偏光膜を形成した後、該偏光膜に紫外線を
照射して硬化させ、その上に透明樹脂保護層組成物を塗
布して透明樹脂保護層を形成させるか、または該偏光膜
の上に透明保護フィルムを貼り合わせることを特徴とす
る偏光板の製造方法。
7. A polarizing film is formed by applying a composition containing at least a photoreactive dichroic dye to at least one surface of a transparent film to be transferred while applying a high shear stress in the direction of transfer of the transparent film. After that, the polarizing film is irradiated with ultraviolet rays to be cured, and a transparent resin protective layer composition is applied thereon to form a transparent resin protective layer, or a transparent protective film is laminated on the polarizing film. A method for manufacturing a polarizing plate, comprising:
【請求項8】 前記少なくとも光反応性二色性色素を含
有する組成物が光反応性基を有しない配向性化合物を含
有することを特徴とする請求項7に記載の偏光板の製造
方法。
8. The method for producing a polarizing plate according to claim 7, wherein the composition containing at least the photoreactive dichroic dye contains an alignment compound having no photoreactive group.
【請求項9】 前記少なくとも光反応性二色性色素を含
有する組成物が配向性基を有しない光反応性化合物を含
有することを特徴とする請求項7または8に記載の偏光
板の製造方法。
9. The production of a polarizing plate according to claim 7, wherein the composition containing at least the photoreactive dichroic dye contains a photoreactive compound having no alignment group. Method.
【請求項10】 前記少なくとも光反応性二色性色素を
含有する組成物が光反応性配向性化合物を含有すること
を特徴とする請求項7乃至9の何れか1項に記載の偏光
板の製造方法。
10. The polarizing plate according to claim 7, wherein the composition containing at least the photoreactive dichroic dye contains a photoreactive alignment compound. Production method.
【請求項11】 前記少なくとも光反応性二色性色素を
含有する組成物が光反応性基を有しない二色性色素を含
有することを特徴とする請求項7乃至10の何れか1項
に記載の偏光板の製造方法。
11. The composition according to claim 7, wherein the composition containing at least the photoreactive dichroic dye contains a dichroic dye having no photoreactive group. A method for producing the polarizing plate described above.
【請求項12】 前記透明樹脂保護層組成物が光反応性
化合物を含有し、該透明樹脂保護層組成物を塗布後、紫
外線を照射することを特徴とする請求項1乃至11の何
れか1項に記載の偏光板の製造方法。
12. The transparent resin protective layer composition contains a photoreactive compound, and after the transparent resin protective layer composition is applied, the composition is irradiated with ultraviolet rays. A method for producing a polarizing plate according to item.
【請求項13】 透明樹脂保護層を形成させる前または
透明保護フィルムを貼り合わせる前に、偏光膜の表面を
表面処理するかまたは接着剤層を塗設することを特徴と
する請求項1乃至12の何れか1項に記載の偏光板の製
造方法。
13. The surface of the polarizing film is surface-treated or an adhesive layer is applied before the transparent resin protective layer is formed or before the transparent protective film is attached. A method for manufacturing a polarizing plate according to any one of 1.
【請求項14】 透明保護フィルムを貼り合わせる面に
予め表面処理することを特徴とする請求項1乃至13の
何れか1項に記載の偏光板の製造方法。
14. The method for producing a polarizing plate according to claim 1, wherein the surface to which the transparent protective film is attached is previously surface-treated.
【請求項15】 透明フィルムを表面処理した後、その
面に偏光膜を形成することを特徴とする請求項1乃至1
4の何れか1項に記載の偏光板の製造方法。
15. The transparent film is surface-treated and then a polarizing film is formed on the surface thereof.
4. The method for manufacturing a polarizing plate according to any one of 4 above.
【請求項16】 表面処理がコロナ放電であることを特
徴とする請求項13乃至15の何れか1項に記載の偏光
板の製造方法。
16. The method of manufacturing a polarizing plate according to claim 13, wherein the surface treatment is corona discharge.
【請求項17】 透明フィルムがセルロースエステルフ
ィルムであることを特徴とする請求項1乃至16の何れ
か1項に記載の偏光板の製造方法。
17. The method for producing a polarizing plate according to claim 1, wherein the transparent film is a cellulose ester film.
【請求項18】 透明保護フィルムがセルロースエステ
ルフィルムであることを特徴とする請求項1乃至17の
何れか1項に記載の偏光板の製造方法。
18. The method for producing a polarizing plate according to claim 1, wherein the transparent protective film is a cellulose ester film.
【請求項19】 請求項1乃至18の何れか1項に記載
の方法で製造されたことを特徴とする偏光板。
19. A polarizing plate manufactured by the method according to any one of claims 1 to 18.
【請求項20】 請求項19に記載の偏光板の何れかの
表面に直接または他の層を介して反射防止層を有するこ
とを特徴とする光学要素。
20. An optical element having an antireflection layer on any surface of the polarizing plate according to claim 19 either directly or through another layer.
【請求項21】 請求項19に記載の偏光板が、予め直
接または他の層を介して反射防止層を有する透明フィル
ムまたは透明保護フィルムの、反射防止層のない面と偏
光膜とを貼り合わせたものであることを特徴とする光学
要素。
21. The polarizing plate according to claim 19, wherein a surface of a transparent film or a transparent protective film having an antireflection layer in advance, directly or through another layer, is attached to the surface without the antireflection layer and the polarizing film. An optical element characterized by being a thing.
【請求項22】 前記反射防止層が、大気圧もしくはそ
の近傍の圧力下、対向電極間に高周波電圧を印加し、該
電極間に導入された反応ガスをプラズマ状態とし、該プ
ラズマ状態の反応ガスに透明フィルム面をさらしプラズ
マ放電処理して形成したものであることを特徴とする請
求項20または21に記載の光学要素。
22. The antireflection layer applies a high-frequency voltage between opposing electrodes under atmospheric pressure or a pressure in the vicinity thereof to make a reaction gas introduced between the electrodes into a plasma state, and the reaction gas in the plasma state 22. The optical element according to claim 20, which is formed by exposing the transparent film surface to a plasma discharge treatment.
【請求項23】 前記他の層がクリアハードコート層ま
たは防眩層であることを特徴とする請求項20乃至22
の何れか1項に記載の光学要素。
23. The other layer is a clear hard coat layer or an antiglare layer.
The optical element according to any one of 1.
【請求項24】 クリアハードコート層組成物または防
眩層組成物が前記透明樹脂保護層組成物と同一組成であ
ることを特徴とする請求項23に記載の光学要素。
24. The optical element according to claim 23, wherein the clear hard coat layer composition or the antiglare layer composition has the same composition as the transparent resin protective layer composition.
【請求項25】 請求項19に記載の偏光板の少なくと
も1面に帯電防止層を有することを特徴とする光学要
素。
25. An optical element having an antistatic layer on at least one surface of the polarizing plate according to claim 19.
【請求項26】 請求項19に記載の偏光板が、予め直
接または他の層を介して帯電防止層を有する透明フィル
ムまたは透明保護フィルムの、帯電防止層のない面と偏
光膜とを貼り合わせたものであることを特徴とする光学
要素。
26. The polarizing plate according to claim 19, wherein a surface of a transparent film or a transparent protective film having an antistatic layer directly or through another layer, which has no antistatic layer, is bonded to a polarizing film. An optical element characterized by being a thing.
【請求項27】 反射防止層を有する偏光板の最外層に
帯電防止層を有することを特徴とする請求項20乃至2
4の何れか1項に記載の光学要素。
27. An antistatic layer is provided as the outermost layer of a polarizing plate having an antireflection layer.
4. The optical element according to any one of 4 above.
【請求項28】 帯電防止層が、錫化合物を反応ガスに
使用した大気圧プラズマ放電処理方法、非晶質酸化錫を
含有する組成物を塗布する方法及び架橋型アイオネン高
分子を含有する組成物を塗布する方法から選ばれる方法
により形成されたものであることを特徴とする請求項2
5乃至27の何れか1項に記載の光学要素。
28. An antistatic layer comprising an atmospheric pressure plasma discharge treatment method using a tin compound as a reaction gas, a method of applying a composition containing amorphous tin oxide, and a composition containing a crosslinked ionene polymer. The coating material is formed by a method selected from the coating methods of
The optical element according to any one of 5 to 27.
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006193742A (en) * 2004-12-31 2006-07-27 Ind Technol Res Inst Dichroic dye, dye composition of the same and microencapsulated liquid crystal containing dichroic dye, liquid crystal composition and liquid crystal display device
JP2006309185A (en) * 2005-03-29 2006-11-09 Mitsubishi Chemicals Corp Composition for in-cell type polarizer, the in-cell type polarizer, in-cell type layered light polarizer, and liquid crystal element using them
DE112007001910T5 (en) 2006-09-08 2009-10-22 Lg Chem, Ltd. Dichroic dye for polarizing film, composition comprising the same, for polarizing film, method of forming a polarizing plate and polarizing plate produced thereby
WO2010038818A1 (en) * 2008-09-30 2010-04-08 富士フイルム株式会社 Dichroic dye composition, light-absorbable anisotropic film, and polarizing element
US20100134726A1 (en) * 2008-11-28 2010-06-03 Fujifilm Corporation Polarizing element and method of producing the same
CN102879848A (en) * 2011-07-12 2013-01-16 住友化学株式会社 Polarizer and manufacturing method thereof
CN105131667A (en) * 2014-05-26 2015-12-09 住友化学株式会社 Composition
EP2960692A1 (en) 2014-06-27 2015-12-30 Samsung Electronics Co., Ltd Polarization film, antireflection film, and display device
JPWO2014073658A1 (en) * 2012-11-08 2016-09-08 日産化学工業株式会社 Film, alignment material and retardation material with cured film formed
WO2019198974A1 (en) * 2018-04-11 2019-10-17 동우 화인켐 주식회사 Hard coating composition, hard coating film comprising same, and image display device
IT201800005987A1 (en) * 2018-06-04 2019-12-04 Photochromic compounds
WO2021010141A1 (en) * 2019-07-12 2021-01-21 日本化薬株式会社 Polarized light-emitting film containing water-soluble coumarin compound or salt thereof, polarized light-emitting plate, and display device
CN113512744A (en) * 2021-06-30 2021-10-19 西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所) Protection method of high-corrosion-resistance airborne aluminum-based LRM module
CN113655556A (en) * 2016-12-02 2021-11-16 住友化学株式会社 Polarizing film and method for producing polarizing laminate film

Cited By (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4583303B2 (en) * 2004-12-31 2010-11-17 財団法人工業技術研究院 Dichroic dye, dye composition thereof, microencapsulated liquid crystal containing dichroic dye, liquid crystal composition and liquid crystal display device
JP2010047775A (en) * 2004-12-31 2010-03-04 Ind Technol Res Inst Dichroic dye, dye composition thereof, microencapsulated liquid crystal composition including dichroic dye, liquid crystal composition and liquid crystal display device
JP2006193742A (en) * 2004-12-31 2006-07-27 Ind Technol Res Inst Dichroic dye, dye composition of the same and microencapsulated liquid crystal containing dichroic dye, liquid crystal composition and liquid crystal display device
JP2006309185A (en) * 2005-03-29 2006-11-09 Mitsubishi Chemicals Corp Composition for in-cell type polarizer, the in-cell type polarizer, in-cell type layered light polarizer, and liquid crystal element using them
DE112007001910T5 (en) 2006-09-08 2009-10-22 Lg Chem, Ltd. Dichroic dye for polarizing film, composition comprising the same, for polarizing film, method of forming a polarizing plate and polarizing plate produced thereby
US8197708B2 (en) 2006-09-08 2012-06-12 Lg Chem, Ltd. Dichroic dye for polarization film, composition comprising the same for polarization film, method for forming polarization plate and polarization plate prepared thereby
DE112007001910B4 (en) 2006-09-08 2018-05-30 Lg Chem. Ltd. Dichroic dye for polarizing film, composition comprising the same, for polarizing film, method of forming a polarizing plate and polarizing plate produced thereby
WO2010038818A1 (en) * 2008-09-30 2010-04-08 富士フイルム株式会社 Dichroic dye composition, light-absorbable anisotropic film, and polarizing element
JP2010150513A (en) * 2008-09-30 2010-07-08 Fujifilm Corp Dichroic dye composition, light-absorbable anisotropic film, and polarizing element
US20100134726A1 (en) * 2008-11-28 2010-06-03 Fujifilm Corporation Polarizing element and method of producing the same
CN101750662A (en) * 2008-11-28 2010-06-23 富士胶片株式会社 Polarizing element and method of producing the same
JP2010152351A (en) * 2008-11-28 2010-07-08 Fujifilm Corp Polarizing element and method of producing the same
US8623476B2 (en) * 2008-11-28 2014-01-07 Fujifilm Corporation Polarizing element and method of producing the same
KR102028894B1 (en) * 2011-07-12 2019-10-07 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Polarizer and method for production thereof
KR20180120131A (en) * 2011-07-12 2018-11-05 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Polarizer and method for production thereof
CN102879848A (en) * 2011-07-12 2013-01-16 住友化学株式会社 Polarizer and manufacturing method thereof
CN108873137A (en) * 2011-07-12 2018-11-23 住友化学株式会社 The polarizer and its manufacturing method
JP2013037353A (en) * 2011-07-12 2013-02-21 Sumitomo Chemical Co Ltd Polarizer and method for manufacturing the same
JP2017107232A (en) * 2011-07-12 2017-06-15 住友化学株式会社 Polarizer and method for manufacturing the same
KR101913864B1 (en) * 2011-07-12 2018-10-31 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Polarizer and method for production thereof
KR20130008466A (en) * 2011-07-12 2013-01-22 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 Polarizer and method for production thereof
JPWO2014073658A1 (en) * 2012-11-08 2016-09-08 日産化学工業株式会社 Film, alignment material and retardation material with cured film formed
CN105131667A (en) * 2014-05-26 2015-12-09 住友化学株式会社 Composition
US9812670B2 (en) 2014-06-27 2017-11-07 Samsung Electronics Co., Ltd. Polarization film, antireflection film, and display device
EP2960692A1 (en) 2014-06-27 2015-12-30 Samsung Electronics Co., Ltd Polarization film, antireflection film, and display device
CN113655556A (en) * 2016-12-02 2021-11-16 住友化学株式会社 Polarizing film and method for producing polarizing laminate film
WO2019198974A1 (en) * 2018-04-11 2019-10-17 동우 화인켐 주식회사 Hard coating composition, hard coating film comprising same, and image display device
IT201800005987A1 (en) * 2018-06-04 2019-12-04 Photochromic compounds
WO2019234567A1 (en) * 2018-06-04 2019-12-12 Fondazione Istituto Italiano Di Tecnologia Photochromic compounds for use in the treatment of eye disorders
US11401250B2 (en) 2018-06-04 2022-08-02 Fondazione Istituto Italiano Di Tecnologia Photochromic compounds for use in the treatment of eye disorders
WO2021010141A1 (en) * 2019-07-12 2021-01-21 日本化薬株式会社 Polarized light-emitting film containing water-soluble coumarin compound or salt thereof, polarized light-emitting plate, and display device
CN114026199B (en) * 2019-07-12 2023-12-26 日本化药株式会社 Polarized light emitting film, polarized light emitting panel and display device containing water-soluble coumarin compound or salt thereof
CN113512744A (en) * 2021-06-30 2021-10-19 西南电子技术研究所(中国电子科技集团公司第十研究所) Protection method of high-corrosion-resistance airborne aluminum-based LRM module

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