JP2002080242A - Method of manufacturing optical element - Google Patents

Method of manufacturing optical element

Info

Publication number
JP2002080242A
JP2002080242A JP2000267812A JP2000267812A JP2002080242A JP 2002080242 A JP2002080242 A JP 2002080242A JP 2000267812 A JP2000267812 A JP 2000267812A JP 2000267812 A JP2000267812 A JP 2000267812A JP 2002080242 A JP2002080242 A JP 2002080242A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
optical
lens
mask
shape
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000267812A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akira Kochiyama
彰 河内山
Koichiro Kijima
公一朗 木島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2000267812A priority Critical patent/JP2002080242A/en
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to TW090121468A priority patent/TWI236543B/en
Priority to US09/943,358 priority patent/US6946237B2/en
Priority to KR1020010054192A priority patent/KR20020021989A/en
Priority to CNB011303611A priority patent/CN1279383C/en
Publication of JP2002080242A publication Critical patent/JP2002080242A/en
Priority to US11/105,545 priority patent/US20050195723A1/en
Priority to US11/105,375 priority patent/US20050185563A1/en
Priority to US11/105,544 priority patent/US7145860B2/en
Priority to KR1020070087012A priority patent/KR20070093385A/en
Priority to KR1020070087011A priority patent/KR20070093384A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an optical lens for irradiating a recording layer of an optical disc. SOLUTION: This method comprises forming a photo-converging means on one surface of a substrate 1 made from an optical material by dry-etching using as an etching gas a mixed gas of a fluorocarbon gas and at least a gas selected from the group consisting of oxygen gas, Ar gas and He gas. For example, after forming a masking piece corresponding with the shape of an optical lens on the substrate made from an optical material, deforming the shape of the masking piece to shrink in its surface area by thermal treatment, transcribing a photo-converging means corresponding with the shape of the mask on the substrate by dry-etching to form a small hemisphere lens 4.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク等の光
学記録媒体に対して情報信号の記録、再生を行う記録再
生装置に用いられる光学素子の製造方法に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an optical element used in a recording / reproducing apparatus for recording / reproducing information signals on / from an optical recording medium such as an optical disk.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光ディスクの光記録層側に光学系
を配して高NA化を図ることにより高密度記録を実現し
ようとした光ディスク装置が提案されている。
2. Description of the Related Art In recent years, there has been proposed an optical disk apparatus which realizes high-density recording by increasing an NA by arranging an optical system on an optical recording layer side of an optical disk.

【0003】この光ディスク装置は、対物レンズとし
て、例えば特開平10−123410号公報に示される
ような2つのレンズを光収束手段として有する光学素子
を用いている。
This optical disk device uses an optical element having two lenses as light converging means as disclosed in, for example, JP-A-10-123410, as an objective lens.

【0004】上記光学素子は、2つのレンズのうち光デ
ィスク側のレンズ(以下、この光ディスク側のレンズを
先玉レンズ、他方のレンズを後玉レンズと称する。)
が、いわゆる半球レンズからなる。
The above optical element is a lens on the optical disk side of the two lenses (hereinafter, the lens on the optical disk side is called a front lens, and the other lens is called a rear lens).
Is composed of a so-called hemispherical lens.

【0005】そして、この光学素子は、光源から出射さ
れ光学素子に入射する手前に設けられた絞り(光透過
孔)により、開口数NAを決定するようになされてい
る。
The numerical aperture NA of the optical element is determined by a stop (light transmission hole) provided before the light is emitted from the light source and enters the optical element.

【0006】上記構成の光学素子では、記録光や再生光
は、これら後玉レンズ及び先玉レンズにより収束され、
光ディスクの光記録層に照射される。
In the optical element having the above structure, recording light and reproduction light are converged by the rear lens and the front lens.
Irradiates the optical recording layer of the optical disc.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な光学素子(光学レンズ)は、射出成形により形成され
るプラスチックレンズ、ガラスモールド法により形成さ
れるガラスレンズ、研磨により形成されるガラスレンズ
が代表的なものである。
By the way, the above optical element (optical lens) includes a plastic lens formed by injection molding, a glass lens formed by a glass molding method, and a glass lens formed by polishing. It is typical.

【0008】しかしながら、これらのレンズは、いずれ
も曲率半径を小さくすることが容易でなく、結果的に小
径の光学レンズを作製することが容易でないという問題
を抱えている。
However, all of these lenses have a problem that it is not easy to reduce the radius of curvature, and consequently it is not easy to manufacture a small-diameter optical lens.

【0009】また、フレネルレンズの製造方法を応用し
て連続した曲面のレンズを製造するという案もあるが、
高精度なレンズを作製することは難しい。
There is also a proposal to manufacture a lens having a continuous curved surface by applying a method for manufacturing a Fresnel lens.
It is difficult to produce a highly accurate lens.

【0010】本発明は、かかる従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、小型で曲率半径の大きな光学レンズ
を精度良く作製することが可能な光学素子の製造方法を
提供することを目的とする。
The present invention has been proposed in view of such conventional circumstances, and has as its object to provide a method for manufacturing an optical element capable of accurately manufacturing a small optical lens having a large radius of curvature. I do.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明の光学素子の製造方法は、光学材料よりな
る基板の一方に面にドライエッチングにより光収束手段
を形成する光学素子の製造方法において、エッチングガ
スとして、酸素ガス、Arガス、Heガスから選ばれる
少なくとも一種とフッ化炭素ガスとの混合ガスを用いる
ことを特徴とするものである。
In order to achieve the above-mentioned object, a method of manufacturing an optical element according to the present invention is directed to a method of forming an optical element in which light converging means is formed on one surface of a substrate made of an optical material by dry etching. In the manufacturing method, a mixed gas of at least one selected from oxygen gas, Ar gas, and He gas and a fluorocarbon gas is used as an etching gas.

【0012】ドライエッチングを利用することで、小型
で曲率半径の大きな光学レンズが容易に作製される。
By using dry etching, an optical lens having a small size and a large radius of curvature can be easily manufactured.

【0013】例えば、光学材料よりなる基板上に光学レ
ンズの形状に対応するマスク材料を形成した後、熱処理
を行うことによりマスク材料の形状を表面積が小さくな
るように変形させ、ドライエッチングによりこのマスク
形状に応じた形状の光収束手段を基板に転写形成するこ
とにより、小型の半球レンズが形成される。
For example, after a mask material corresponding to the shape of an optical lens is formed on a substrate made of an optical material, heat treatment is performed to deform the shape of the mask material so as to reduce the surface area, and the mask is formed by dry etching. By transferring the light converging means having a shape corresponding to the shape onto the substrate, a small hemispherical lens is formed.

【0014】また、このとき、エッチングガスとして酸
素ガス、Arガス、Heガスから選ばれる少なくとも一
種とフッ化炭素ガスとの混合ガスを用いることにより、
形成される光学レンズの表面性が大幅に改善される。
At this time, by using a mixed gas of at least one selected from oxygen gas, Ar gas and He gas and a fluorocarbon gas as an etching gas,
The surface properties of the formed optical lens are greatly improved.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した光学素子
の製造方法について、図面を参照しながら説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, a method for manufacturing an optical element to which the present invention is applied will be described with reference to the drawings.

【0016】光学素子の作製工程の概略は、図1〜図4
に示す通りである。
The outline of the manufacturing process of the optical element is shown in FIGS.
As shown in FIG.

【0017】光学素子の作製工程は、次の4工程が主な
ものである。 (a)基板上にマスク材となる材料を配置する工程。す
なわち、マスク材料に感光性材料を用いた場合にはスピ
ンコーティング法等により所定の厚さ塗布する工程。 (b)マスク材料をパターニングする工程。マスク材料
に感光性材料を用いた場合においては、露光・現像工
程。 (c)熱処理により、マスク材料の表面積が少なくなる
ような変形をさせて、光学的になだらかな曲面を有する
形状に変形させる工程。 (d)マスク材の形状に対応した形状を光学材料に形成
する工程。本例においては、ドライエッチング法を用い
てマスク材料の形状に対応した形状を光学材料に形成す
る工程。
The following four steps are the main steps in the manufacturing process of the optical element. (A) arranging a material to be a mask material on a substrate; That is, when a photosensitive material is used as a mask material, a step of applying a predetermined thickness by a spin coating method or the like. (B) a step of patterning the mask material; In the case where a photosensitive material is used as the mask material, an exposure and development step. (C) a step of deforming the mask material so that the surface area of the mask material is reduced by heat treatment, and deforming the mask material into a shape having a gentle optically curved surface. (D) a step of forming a shape corresponding to the shape of the mask material on the optical material. In this example, a step of forming a shape corresponding to the shape of the mask material on the optical material by using a dry etching method.

【0018】図1は、上記(a)工程を示すものであ
り、先ず、光学材料からなる基板1上に感光性材料をス
ピンコーティング法等により塗布し、マスク材料層2を
形成する。
FIG. 1 shows the above step (a). First, a photosensitive material is applied on a substrate 1 made of an optical material by a spin coating method or the like to form a mask material layer 2.

【0019】次いで、図2に示すように、露光・現像に
より上記マスク材層2をパターニングし、各レンズに対
応してマスク3を形成する。
Next, as shown in FIG. 2, the mask material layer 2 is patterned by exposure and development to form a mask 3 corresponding to each lens.

【0020】そして、図3に示すように、熱処理を施
し、マスク材料の表面積が少なくなるような変形をさせ
て、上記マスク3を光学的になだらかな曲面を有する形
状に変形させる。
Then, as shown in FIG. 3, a heat treatment is performed to deform the mask material so that the surface area of the mask material is reduced, thereby deforming the mask 3 into a shape having an optically gentle curved surface.

【0021】ここで、任意の感光性材料をマスク材に用
いた場合、必ずしも熱処理によりマスク材料の表面積が
少なくなるような変形現象が生じ、光学的になだらかな
曲面が得られるわけではない。
Here, when an arbitrary photosensitive material is used for the mask material, a deformation phenomenon such that the surface area of the mask material is reduced by heat treatment does not necessarily occur, and an optically smooth curved surface is not necessarily obtained.

【0022】例えば、熱処理温度110〜150℃の範
囲で検討を行ったところ、200℃以上の温度における
加熱処理を行った場合においては、いずれのレジスト材
料においても変質してしまう現象(いわゆる焼け付き)
が生じてしまった。変質が生じてしまうと、マスク材料
のエッチングレートが不均一になってしまうことになる
ので、マスク材料の形状に対応する形状を光学材料にお
いて得ようとする際に、形状が乱れてしまう虞れがあ
る。
For example, when the heat treatment was conducted at a heat treatment temperature of 110 to 150 ° C., when the heat treatment was performed at a temperature of 200 ° C. or more, any of the resist materials deteriorated (so-called burn-in). )
Has occurred. If the alteration occurs, the etching rate of the mask material becomes non-uniform. Therefore, when trying to obtain a shape corresponding to the shape of the mask material in the optical material, the shape may be disturbed. There is.

【0023】実験結果より、マスク材料が熱処理によ
り、光学的になめらかな面が得られる程度に丸くなる条
件としては、マスク材料のガラス転移点Tgは、熱処理
温度よりも低いことを挙げることができる。さらに、ド
ライエッチング等の手法によりマスクの形状を光学レン
ズ形状に形成しようとする場合には、上述したように熱
処理後のマスク材料が変質していないことが必要である
ことから、上記熱処理温度は、マスク材質が変質しない
温度であることという条件が必要となる。
According to the experimental results, the condition that the mask material is rounded by the heat treatment to obtain an optically smooth surface is that the glass transition point Tg of the mask material is lower than the heat treatment temperature. . Further, when the mask is to be formed into an optical lens shape by a method such as dry etching, the mask material after the heat treatment must not be altered as described above. In addition, a condition that the temperature is such that the mask material is not deteriorated is required.

【0024】マスク材料の上にメッキを形成し、そのメ
ッキを型とするような場合(レプリカを形成する場合)
においては、マスク材料のエッチングを行わないので、
この条件は上記の理由において必ずしも必要とはならな
いが、レプリカを形成する場合においても、熱処理によ
りマスク材料が変質する場合においては、マスク材料表
面に荒れが発生する場合が多いので、「熱処理温度は、
マスク材料が変質しない温度であること。」という条件
は、このようなレプリカを形成する場合においても望ま
しい条件である。
When plating is formed on a mask material and the plating is used as a mold (when forming a replica)
In, because the etching of the mask material is not performed,
Although this condition is not always necessary for the above-mentioned reason, even in the case of forming a replica, when the mask material is deteriorated by the heat treatment, the mask material surface is often roughened. ,
The temperature must not change the quality of the mask material. Is a desirable condition even when such a replica is formed.

【0025】さらには、マスクが形成されている基板の
保持状態において、マスクが変形してしまうと、プロセ
スの再現性が容易でなくなること、およびドライエッチ
ングプロセス中において変形してしまうとプロセスの再
現性が容易でなくなることから、マスク材料のガラス転
移点Tgは、保存温度(室温)あるいは加工ブロセス温
度(室温付近)よりも高いこと、という条件が望まし
い。
Furthermore, if the mask is deformed while holding the substrate on which the mask is formed, the reproducibility of the process becomes difficult, and if the mask is deformed during the dry etching process, the process is reproducible. It is desirable that the glass transition point Tg of the mask material be higher than the storage temperature (room temperature) or the processing temperature (near room temperature) because the glass material becomes difficult to operate.

【0026】ここで、一般にガラス転移点Tgとは、そ
の材料がガラス状態、すなわち、決まった構造をとら
ず、流動が可能な状態となる境界を示す温度であること
から、プロセスの安定性を考えると熱処理温度は、ガラ
ス転移点Tgよりも余裕を持って高い温度であることが
望ましい。すなわち、マスク材料を熱処理によりその表
面積が小さくなるように変形させる(熱処理によりマス
ク材料を流動が可能な状態とし、マスク材料の表面張力
によりマスク材料を変形させる)ためには、熱処理温度
はガラス転移点Tgよりも数十℃高いことが望ましい。
Here, generally, the glass transition point Tg is a temperature at which a material is in a glassy state, that is, a temperature indicating a boundary where a material does not have a fixed structure and is capable of flowing. Considering this, it is desirable that the heat treatment temperature be a temperature higher than the glass transition point Tg with a margin. That is, in order to deform the mask material by heat treatment so as to reduce its surface area (to make the mask material flowable by heat treatment and to deform the mask material by the surface tension of the mask material), the heat treatment temperature is set to the glass transition temperature. It is desirable that the temperature is several tens degrees Celsius higher than the point Tg.

【0027】より具体的には、熱処理温度はガラス転移
点Tgよりも40℃程度以上高い温度とすることによ
り、1時間以内にマスク材料を丸く変形させることがで
きるので、高効率の製造を行うことができる。
More specifically, by setting the heat treatment temperature to be higher than the glass transition point Tg by about 40 ° C. or more, the mask material can be deformed in a round within one hour. be able to.

【0028】さらに、同様の観点から、ガラス転移点T
gと保存温度あるいは加工温度との関係においては、保
存温度あるいは加工温度とガラス転移点Tgとの差は、
数十℃以内であってもよいことになる。
Further, from the same viewpoint, the glass transition point T
In the relationship between g and the storage temperature or the processing temperature, the difference between the storage temperature or the processing temperature and the glass transition point Tg is:
The temperature may be within several tens of degrees Celsius.

【0029】以上により、マスク3を丸く変形させた
後、図4に示すように、マスク3の形状に対応した形状
を光学材料に形成する。具体的には、ドライエッチング
法を用いてマスク3の形状に対応した形状を光学材料に
形成する。これが半球レンズ4となる。
As described above, after the mask 3 is deformed into a round shape, a shape corresponding to the shape of the mask 3 is formed on the optical material as shown in FIG. Specifically, a shape corresponding to the shape of the mask 3 is formed on the optical material by using a dry etching method. This becomes the hemispherical lens 4.

【0030】このドライエッチングにおいては、磁気中
性線放電を用いた高密度プラズマエッチング(NLDプ
ラズマによる高速エッチング)を採用することが好まし
い。
In this dry etching, it is preferable to employ high-density plasma etching (high-speed etching by NLD plasma) using magnetic neutral discharge.

【0031】また、エッチングガスの選択が重要であ
り、酸素ガス、Arガス、Heガスから選ばれる少なく
とも一種とフッ化炭素ガスとの混合ガスを用いる。
It is important to select an etching gas, and a mixed gas of at least one selected from oxygen gas, Ar gas and He gas and a fluorocarbon gas is used.

【0032】ここで、フッ化炭素ガスとしては、CHF
3 、CH22、CF4 、C26、C 38、C48、C5
8等を挙げることができる。
Here, CHF is used as the fluorocarbon gas.
Three , CHTwoFTwo, CFFour , CTwoF6, C ThreeF8, CFourF8, CFive
F8And the like.

【0033】具体的な組み合わせとしては、C38+A
r、C38+O2 、C38+Ar+O2 、C38+H
e、C38+Ar+He、C38+He+O2 、C38
+Ar+He+O2 等である。
As a specific combination, C 3 F 8 + A
r, C 3 F 8 + O 2 , C 3 F 8 + Ar + O 2 , C 3 F 8 + H
e, C 3 F 8 + Ar + He, C 3 F 8 + He + O 2, C 3 F 8
+ Ar + He + O 2 and the like.

【0034】上記混合ガスにおいて、Arは物理エッチ
ングにより表面性を向上する効果がある。酸素ガスは、
炭化生成物の除去、及び選択比の調整の機能を有する。
Heは、放電維持のためのガス圧の調整、及び軽い物理
エッチングの機能を有する。
In the above mixed gas, Ar has the effect of improving the surface properties by physical etching. Oxygen gas is
It has the function of removing carbonized products and adjusting the selectivity.
He has a function of adjusting a gas pressure for maintaining a discharge and a light physical etching.

【0035】いずれにしても、これらの混合ガスを用い
ることにより、なめらかな表面性を有するレンズが形成
される。
In any case, a lens having a smooth surface property is formed by using these mixed gases.

【0036】図5は、C38+C26+O2 をエッチン
グガスとして用いて作製されたレンズの表面性を示すも
のであり、図6は、C38+C26をエッチングガスと
して用いて作製されたレンズの表面性を示すものであ
る。
FIG. 5 shows the surface properties of a lens manufactured by using C 3 F 8 + C 2 F 6 + O 2 as an etching gas, and FIG. 6 shows the etching of C 3 F 8 + C 2 F 6 . It shows the surface properties of a lens manufactured using a gas.

【0037】酸素ガスを併用することで、表面性が大幅
に改善されている様子がわかる。フッ化炭素ガスのみで
は、表面に微細な残渣が残存している。
It can be seen that the surface properties are greatly improved by using oxygen gas together. With fluorocarbon gas alone, fine residues remain on the surface.

【0038】最後に、研磨工程により、光学レンズを所
定の厚みに調整を行い、光学レンズを完成する。
Finally, the optical lens is adjusted to a predetermined thickness by a polishing process to complete the optical lens.

【0039】本例では、基板1のガラス材料として溶融
石英基板を用い、感光性材料を約20μmの厚さに塗布
した後、約120μmの円形パターンを露光・現像工程
により形成した。これを、150℃の熱処理温度により
変形させ、磁気中性線放電を用いた高密度プラズマエッ
チング(NLDプラズマによる高速エッチング)により
光学レンズを作製した。
In this example, a fused quartz substrate was used as the glass material of the substrate 1, a photosensitive material was applied to a thickness of about 20 μm, and a circular pattern of about 120 μm was formed by exposure and development steps. This was deformed by a heat treatment temperature of 150 ° C., and an optical lens was manufactured by high-density plasma etching (high-speed etching by NLD plasma) using magnetic neutral discharge.

【0040】作製した光学レンズは、光学的になめらか
な曲面を有する光学レンズであるとともに、光学レンズ
部分の径が120μm程度のきわめて小径な光学レンズ
であるとともに、その光学レンズは約30μm程度の凸
部の高さを有する高いNAの光学レンズである。
The manufactured optical lens is an optical lens having an optically smooth curved surface, an extremely small diameter optical lens having an optical lens portion having a diameter of about 120 μm, and an optical lens having a convexity of about 30 μm. It is a high NA optical lens having a part height.

【0041】さらに、作製された光学レンズは、熱処理
工程を経ても基板1とマスク3が接している位置は移動
していないので、マスク3は境界線により形状が規定さ
れている。
Further, since the position where the substrate 1 and the mask 3 are in contact does not move even after the heat treatment step, the shape of the mask 3 is defined by the boundary line.

【0042】ここで、マスク3の境界線とは、感光性材
料を露光する際に用いるフォトマスクにより規定される
ので、光学レンズの位置は極めて高精度な位置に形成さ
れている。また、光学レンズの高さは、マスク3の厚さ
により規定される。
Here, since the boundary of the mask 3 is defined by a photomask used when exposing the photosensitive material, the position of the optical lens is formed at an extremely high precision position. Further, the height of the optical lens is defined by the thickness of the mask 3.

【0043】上記により作製される光学レンズにおいて
は、感光性材料を露光する際に用いるフォトマスクによ
り規定されるので、複数個の光学レンズが同一基板に形
成されているようなマルチレンズ(あるいはレンズアレ
ー)の場合、光学レンズの位置はその単体としての位
置、およびレンズ同士の相互の位置共に高精度な位置に
形成される。さらに、作製される光学レンズは、従来の
拡散プロセスにより形成する光学レンズに比較して、大
きなNAの光学レンズを形成することができるので、適
用範囲が広い。
In the optical lens manufactured as described above, since it is defined by the photomask used when exposing the photosensitive material, a multi-lens (or lens) in which a plurality of optical lenses are formed on the same substrate is used. In the case of (array), the position of the optical lens is formed at a position with high precision in both the position as a single unit and the mutual position of the lenses. Further, the manufactured optical lens can form an optical lens having a larger NA than an optical lens formed by a conventional diffusion process, and thus has a wide range of application.

【0044】[0044]

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明に係る光学素子の製造方法によれば、小型で曲率半径
の大きな光学レンズを精度良く作製することが可能であ
る。
As is clear from the above description, according to the method of manufacturing an optical element according to the present invention, an optical lens having a small radius and a large radius of curvature can be manufactured with high accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】光学素子の作製工程を工程順に示すものであ
り、基板上へのマスク材料層の形成工程を示す模式図で
ある。
FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a process of forming an optical element in the order of processes, and illustrating a process of forming a mask material layer on a substrate.

【図2】マスク形成工程を示す模式図である。FIG. 2 is a schematic view showing a mask forming step.

【図3】熱処理によるマスクの変形工程を示す模式図で
ある。
FIG. 3 is a schematic view showing a step of deforming a mask by heat treatment.

【図4】ドライエッチングによるレンズ形成工程を示す
模式図である。
FIG. 4 is a schematic view showing a lens forming step by dry etching.

【図5】酸素ガスとフッ化炭素ガスとの混合ガスを用い
てドライエッチングしたレンズの表面性を示す模式図で
ある。
FIG. 5 is a schematic view showing the surface properties of a lens which is dry-etched using a mixed gas of oxygen gas and fluorocarbon gas.

【図6】フッ化炭素ガスのみを用いてドライエッチング
したレンズの表面性を示す模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram showing the surface properties of a lens that has been dry-etched using only a fluorocarbon gas.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板、3 マスク、4 半球レンズ 1 substrate, 3 masks, 4 hemispherical lenses

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光学材料よりなる基板の一方に面にドラ
イエッチングにより光収束手段を形成する光学素子の製
造方法において、 エッチングガスとして、酸素ガス、Arガス、Heガス
から選ばれる少なくとも一種とフッ化炭素ガスとの混合
ガスを用いることを特徴とする光学素子の製造方法。
1. A method of manufacturing an optical element in which light converging means is formed on one surface of a substrate made of an optical material by dry etching, wherein at least one selected from oxygen gas, Ar gas, and He gas is used as an etching gas. A method for producing an optical element, comprising using a mixed gas with a carbonized gas.
【請求項2】 光学材料よりなる基板上に光学レンズの
形状に対応するマスク材料を形成した後、熱処理を行う
ことによりマスク材料の形状を表面積が小さくなるよう
に変形させ、ドライエッチングによりこのマスク形状に
応じた形状の光収束手段を基板に転写形成することを特
徴とする請求項1記載の光学素子の製造方法。
2. After forming a mask material corresponding to the shape of an optical lens on a substrate made of an optical material, heat treatment is performed to deform the shape of the mask material so as to reduce the surface area, and the mask is formed by dry etching. 2. The method for manufacturing an optical element according to claim 1, wherein a light converging means having a shape corresponding to the shape is transferred and formed on the substrate.
【請求項3】 上記熱処理の温度は、マスク材料のガラ
ス転移温度よりも高く炭化温度よりも低いことを特徴と
する請求項2記載の光学素子の製造方法。
3. The method according to claim 2, wherein the temperature of the heat treatment is higher than the glass transition temperature of the mask material and lower than the carbonization temperature.
JP2000267812A 2000-04-09 2000-09-04 Method of manufacturing optical element Withdrawn JP2002080242A (en)

Priority Applications (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000267812A JP2002080242A (en) 2000-09-04 2000-09-04 Method of manufacturing optical element
TW090121468A TWI236543B (en) 2000-09-04 2001-08-30 Optical device, its producing method, as well as recording and reproducing apparatus that employing the optical device
US09/943,358 US6946237B2 (en) 2000-09-04 2001-08-31 Optical device, method for producing the same and recording and/or reproducing apparatus employing the same
KR1020010054192A KR20020021989A (en) 2000-09-04 2001-09-04 Method for manufacturing an optical element and apparatus for recording/reproducing using them
CNB011303611A CN1279383C (en) 2000-09-04 2001-09-04 Optical device, its manufacturing method and recording and/or replaying device using said device
US11/105,545 US20050195723A1 (en) 2000-04-09 2005-04-14 Optical device, method for producing the same and recording and/or reproducing apparatus employing the same
US11/105,544 US7145860B2 (en) 2000-09-04 2005-04-14 Method for preparing an optical device using position markers around an optical lens and a light barrier film
US11/105,375 US20050185563A1 (en) 2000-04-09 2005-04-14 Optical device, method for producing the same and recording and/or reproducing apparatus employing the same
KR1020070087012A KR20070093385A (en) 2000-09-04 2007-08-29 An optical element and apparatus for recording/reproducing using them
KR1020070087011A KR20070093384A (en) 2000-09-04 2007-08-29 Method for manufacturing an optical element

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000267812A JP2002080242A (en) 2000-09-04 2000-09-04 Method of manufacturing optical element

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002080242A true JP2002080242A (en) 2002-03-19

Family

ID=18754669

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000267812A Withdrawn JP2002080242A (en) 2000-04-09 2000-09-04 Method of manufacturing optical element

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002080242A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2008156176A1 (en) * 2007-06-20 2010-08-26 旭硝子株式会社 Surface treatment method of oxide glass with fluorinating agent
KR101754053B1 (en) 2017-01-05 2017-07-05 주식회사 케이씨씨 The paste composition and construction method of wallpaper using the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPWO2008156176A1 (en) * 2007-06-20 2010-08-26 旭硝子株式会社 Surface treatment method of oxide glass with fluorinating agent
JP5359871B2 (en) * 2007-06-20 2013-12-04 旭硝子株式会社 Surface treatment method of oxide glass with fluorinating agent
KR101754053B1 (en) 2017-01-05 2017-07-05 주식회사 케이씨씨 The paste composition and construction method of wallpaper using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4099121B2 (en) Microlens manufacturing method
US7145860B2 (en) Method for preparing an optical device using position markers around an optical lens and a light barrier film
JP3058062B2 (en) How to make a recording master for optical discs
US20060222967A1 (en) Reticle, method for manufacturing magnetic disk medium using reticle, and magnetic disk medium
JP2002321941A (en) Method for producing optical element
US5480763A (en) Method for manufacturing a stamper for high-density recording discs
US20050006336A1 (en) Information medium master manufacturing method information medium stamper manufacturing method information medium master manufacturing apparatus and information medium stamper manufacturing apparatus
US20030209819A1 (en) Process for making micro-optical elements from a gray scale etched master mold
JP2002080242A (en) Method of manufacturing optical element
KR100561874B1 (en) Fabrication method of microlens array
JP3223548B2 (en) Manufacturing method of information glass master
JPH01205744A (en) Original disk for duplicating stamper and its manufacture
JP2002323747A (en) Photomask, microlens forming method using the same photomask, and microlens formed by the same microlens forming method
JPH03252936A (en) Stamper for optical disk
JPH11102541A (en) Production method of matrix of optical disk
JP2997384B2 (en) Method for manufacturing master master and method for manufacturing optical disk
JPH0512722A (en) Production of stamper
JP2739841B2 (en) Manufacturing method of information recording medium
JP2002015474A (en) Method for manufacturing master disk of optical disk and optical disk substrate
JPH02245321A (en) Manufacture of stamper for optical disc and of optical disc board utilizing the same
JP2006259292A (en) Member having antireflection structure and its manufacturing method
JPH04162228A (en) Optical disk substrate
JPH06318342A (en) Base plate used for making die for manufacture of optical record carrier and its preparation
JP2001216690A (en) Direct mastering method and device for the same
JPS62161533A (en) Manufacture of plastic lens and so on

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20071106