JP2002072187A - Liquid crystal display device - Google Patents

Liquid crystal display device

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JP2002072187A
JP2002072187A JP2000253887A JP2000253887A JP2002072187A JP 2002072187 A JP2002072187 A JP 2002072187A JP 2000253887 A JP2000253887 A JP 2000253887A JP 2000253887 A JP2000253887 A JP 2000253887A JP 2002072187 A JP2002072187 A JP 2002072187A
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JP
Japan
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liquid crystal
crystal display
display device
light
active matrix
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Pending
Application number
JP2000253887A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Yamamoto
武志 山本
Kiyoshi Shobara
潔 庄原
Natsuko Maya
奈津子 磨矢
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve reliability in relation to a displaying characteristic by preventing the lack of uniform display from occurring. SOLUTION: A secondary shading layer 12 is placed in a clearance between wires 13 in the section where a black resist frame area 11 is located in a TFT array substrate 2 forming electrode wiring with a thin-film transistor 1.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は液晶表示装置に関
し、表示性能が良く、信頼性の高い液晶表示装置を提供
することに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display, and more particularly to providing a liquid crystal display having high display performance and high reliability.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、一般的に用いられている液晶表示
装置は、電極を有する2枚のガラス基板の間に液晶組成
物を挟持し、2枚の基板の周囲が液晶封入口を除いて接
着剤で固定され,液晶封入口が封止剤で封止された構成
をしている。この2枚の基板間の距離を一定に保つため
のスペーサとして粒径の均一なプラスティックビーズ等
を基板間に散在させている。この中でカラー表示用の液
晶表示装置は2枚のガラス基板の内1枚にRGBの着色
層のついたカラーフィルタが形成されている。
2. Description of the Related Art A liquid crystal display device generally used at present has a liquid crystal composition sandwiched between two glass substrates having electrodes. The structure is fixed with an adhesive and the liquid crystal sealing port is sealed with a sealant. As spacers for keeping the distance between the two substrates constant, plastic beads or the like having a uniform particle size are scattered between the substrates. Among them, in the liquid crystal display device for color display, a color filter having an RGB coloring layer is formed on one of two glass substrates.

【0003】これらの液晶表示装置においては、一般的
に額縁部に遮光層を設ける構成を持たせている。遮光層
はカラーフィルタ基板上に設けられることが多いが、カ
ラーフィルタと遮光層の両方をアクティブマトリクス基
板上に設けることにより画素部の開口率を上げることを
可能とし、高透過率の液晶表示装置を得る方式が提案さ
れている。この構成においてはフォトリソグラフィを用
いて黒色レジストを加工し、遮光層とする構成が提案さ
れている。
[0003] These liquid crystal display devices generally have a structure in which a light shielding layer is provided in a frame portion. A light-shielding layer is often provided on a color filter substrate, but by providing both a color filter and a light-shielding layer on an active matrix substrate, it is possible to increase the aperture ratio of a pixel portion, and a liquid crystal display device with a high transmittance is provided. Have been proposed. In this configuration, a configuration has been proposed in which a black resist is processed using photolithography to form a light-shielding layer.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記した
ように、液晶表示装置において額縁部に黒色レジストか
らなる遮光層を設けた場合、黒色レジストは露光の際の
光が深部にまで届かず、光反応が不十分になり、このた
め、黒色レジストと基板の界面近傍には未反応物質が偏
在し、これらに液晶表示装置の裏面からバックライト光
が照射されると未反応物質が分解して液晶層に溶け出
し、表示むらを発生させるという問題があった。
However, as described above, when a light-shielding layer made of a black resist is provided on a frame portion in a liquid crystal display device, light during exposure does not reach a deep portion, and the black resist has a light reaction. The unreacted substances are unevenly distributed near the interface between the black resist and the substrate, and when these are irradiated with backlight from the back surface of the liquid crystal display device, the unreacted substances are decomposed and the liquid crystal layer is decomposed. To cause display unevenness.

【0005】そこで、この発明は、表示むらの発生を防
いで表示性能に対する信頼性を向上させた液晶表示装置
を提供することを目的とする。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which display unevenness is prevented and the reliability of display performance is improved.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明の液晶表示装置
は、一対の基板と、前記一対の基板間に配置された液晶
組成物と、前記一対の基板の少なくとも一方に形成さ
れ、額縁部を遮光する感光性レジストからなる第1の遮
光層と、前記第1の遮光層と前記一方の基板間に形成さ
れ、前記額縁部よりも内部の表示領域内に接続された配
線と、前記第1の遮光層と前記一方の基板間に形成さ
れ、前記配線とは異なる第2の遮光層とから構成されて
いる。
A liquid crystal display device according to the present invention comprises a pair of substrates, a liquid crystal composition disposed between the pair of substrates, and a frame formed on at least one of the pair of substrates. A first light-shielding layer made of a photosensitive resist that shields light, wiring formed between the first light-shielding layer and the one of the substrates, and connected to a display area inside the frame portion, And a second light-blocking layer formed between the one substrate and different from the wiring.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態に
ついて図面を参照して説明する。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0008】図1は、この発明の液晶表示装置に係る第
1実施例のアクティブマトリクス液晶表示装置における
概略断面の構成を示すものである。
FIG. 1 shows a schematic sectional configuration of an active matrix liquid crystal display device according to a first embodiment of the liquid crystal display device of the present invention.

【0009】アクティブマトリクス液晶表示装置20
は、カラーフィルタとしての着色層が設けられたアクテ
ィブマトリクス基板2と、このアクティブマトリクス基
板2にスペーサ7によって所定のギャップを置いて対向
配置された対向基板9とを備え、これらアクティブマト
リクス基板2と対向基板9との間に液晶組成物10が挟
持されている。アクティブマトリクス基板2と対向基板
9とは、接着剤8によって貼り合わせられる。また、ア
クティブマトリクス基板2上には、赤、緑、青の着色層
3,4,5が形成され、さらに黒色レジスト額縁部11
が形成されている。
Active matrix liquid crystal display device 20
Is provided with an active matrix substrate 2 provided with a coloring layer as a color filter, and a counter substrate 9 which is opposed to the active matrix substrate 2 by a spacer 7 with a predetermined gap therebetween. The liquid crystal composition 10 is sandwiched between the liquid crystal composition 10 and the counter substrate 9. The active matrix substrate 2 and the opposing substrate 9 are bonded with an adhesive 8. On the active matrix substrate 2, red, green, and blue colored layers 3, 4, and 5 are formed.
Are formed.

【0010】詳しくは、後述するが、第1実施例として
黒色レジスト額縁部11とアクティブマトリクス基板2
との間に第2の額縁遮光層12が形成されている。この
第2の額縁遮光層は、表示領域内に電流を供給する目的
ではなくフローティング電位やアース電位となってい
る。なお、13は、Alからなる配線である。この配線
13は、額縁部より内部の表示領域内に電流を供給する
などの目的で接続されている。また、アクティブマトリ
クス液晶表示装置20は、例えば、薄膜トランジスタ1
と電極配線を形成した縦横100画素、合計10000
画素を有するようなものであり、図1に示す薄膜トラン
ジスタ1、着色層3,4,5等の構成数は実際とは異な
っている。
As will be described later in detail, as a first embodiment, the black resist frame 11 and the active matrix substrate 2
The second frame light-shielding layer 12 is formed between the first and second frames. The second frame light-shielding layer has a floating potential or a ground potential, not for the purpose of supplying current to the display area. Reference numeral 13 denotes a wiring made of Al. The wiring 13 is connected for the purpose of supplying a current from the frame to the display area inside. The active matrix liquid crystal display device 20 is, for example, a thin film transistor 1
And 100 pixels vertically and horizontally with electrode wiring formed, total 10,000
It has a pixel, and the number of components of the thin film transistor 1, the coloring layers 3, 4, and 5 shown in FIG. 1 is different from the actual number.

【0011】ここで、本発明の概要を説明する。Here, the outline of the present invention will be described.

【0012】図2の(a)は、基板50上の額縁部にフ
ォトリソグラフィにて遮光層としての黒色レジスト額縁
部11が形成された状態を示すものである。黒色レジス
ト額縁部11の中には、露光が届かない深部に光反応開
始剤などの未反応物質52が残存する。なお、図は液晶
表示装置の一部であり、53は配向膜、54は液晶組成
物である。
FIG. 2A shows a state in which a black resist frame portion 11 as a light shielding layer is formed on the frame portion on the substrate 50 by photolithography. An unreacted substance 52 such as a photoreaction initiator remains in a deep part where the exposure does not reach in the black resist frame part 11. Note that the drawing is a part of the liquid crystal display device, 53 is an alignment film, and 54 is a liquid crystal composition.

【0013】図2の(b)に示すように、基板50の下
面から図示しないバックライトからの光が黒色レジスト
額縁部11に照射されると残存している未反応物質が光
分解を起こして分解物55が発生する。
As shown in FIG. 2B, when light from a backlight (not shown) is applied to the black resist frame 11 from the lower surface of the substrate 50, the remaining unreacted substances undergo photolysis. Decomposition products 55 are generated.

【0014】図2の(c)に示すように、これら分解物
55が液晶組成物54中に溶出して表示むらが発生す
る。
As shown in FIG. 2C, these decomposed products 55 are eluted in the liquid crystal composition 54 to cause display unevenness.

【0015】そこで、図2の(d)に示すように、黒色
レジスト額縁部11下の配線間に第2の額縁遮光層12
を設ける。なお、13は、Alからなる配線である。
Therefore, as shown in FIG. 2D, a second frame light-shielding layer 12 is provided between the wirings below the black resist frame 11.
Is provided. Reference numeral 13 denotes a wiring made of Al.

【0016】あるいは、図2の(e)に示すように、黒
色レジスト額縁部11下に着色層58を設ける。
Alternatively, as shown in FIG. 2E, a colored layer 58 is provided below the black resist frame 11.

【0017】これにより、残存している未反応物質の光
分解を大きく低減させることができ、信頼性試験を行っ
ても表示むらの発生が皆無な液晶表示装置が得られる。
As a result, it is possible to greatly reduce the photolysis of the remaining unreacted substance, and to obtain a liquid crystal display device having no display unevenness even when a reliability test is performed.

【0018】図3は、額縁部の開口率と不良の発生率を
示すものである。
FIG. 3 shows the opening ratio of the frame portion and the occurrence rate of defects.

【0019】実験によれば、配線13と第2の額縁遮光
層12とを合わせた開口率が30%を超えると表示むら
が発生し始める。また、配線間に配置する第2の額縁遮
光層を配線と同一層とする場合、開口率が5%を下回る
と配線と第2の額縁遮光層のショートにより動作不良が
発生し始める。また、着色層を黒色レジスト下に設ける
場合、残存未反応物を分解させる光波長をカットする層
を配置するのが効果的である。
According to an experiment, when the aperture ratio of the wiring 13 and the second frame light-shielding layer 12 exceeds 30%, display unevenness starts to occur. In the case where the second frame light-shielding layer disposed between the wirings is the same layer as the wiring, if the aperture ratio is less than 5%, an operation failure starts due to a short circuit between the wiring and the second frame light-shielding layer. When a colored layer is provided under a black resist, it is effective to provide a layer for cutting a light wavelength that decomposes the remaining unreacted substances.

【0020】次に、第1実施例の液晶表示装置20の構
成とその製造方法とを併せて図1、及び図4〜図8を参
照して説明する。
Next, the configuration of the liquid crystal display device 20 of the first embodiment and a method of manufacturing the same will be described with reference to FIG. 1 and FIGS.

【0021】まず、図4に示すように、通常TFTを形
成するプロセスと同様に成膜とパターンニングを繰り返
し、薄膜トランジスタ1と電極配線を形成した縦横10
0画素、合計10000画素を有したTFTアレイ基板
2を形成する。このとき、後述する黒色レジスト額縁部
11を配置する部分のAlからなる配線13の隙間に同
じくAlで第2の額縁遮光層12を形成する。本実施例
では、このように第2の額縁遮光層12を形成したこと
が特徴である。なお、このときの額縁部の配線13と第
2の額縁遮光層12とを合わせた開口率は30%とす
る。
First, as shown in FIG. 4, film formation and patterning are repeated in the same manner as in a process for forming a normal TFT, and the vertical and horizontal directions in which the thin film transistor 1 and electrode wiring are formed are formed.
The TFT array substrate 2 having 0 pixels and 10,000 pixels in total is formed. At this time, the second frame light-shielding layer 12 is also formed of Al in the gap of the wiring 13 made of Al at the portion where the black resist frame 11 to be described later is arranged. The present embodiment is characterized in that the second frame light shielding layer 12 is formed as described above. At this time, the aperture ratio of the wiring 13 in the frame portion and the second frame light shielding layer 12 is 30%.

【0022】続いて、図5に示すように、赤色の顔料を
分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストをスピン
ナーにて全面塗布し、赤を着色したい部分に光が照射さ
れるようなフォトマスクを介し365nmの波長で10
0mJ/cm照射し、KOHの1%水溶液で10秒間
現像し、その部分に赤の着色層3を形成する。同様に緑
の着色層4、青の着色層5を形成する。
Subsequently, as shown in FIG. 5, an ultraviolet-curable acrylic resin resist in which a red pigment is dispersed is applied over the entire surface by a spinner, and a photomask is applied to irradiate a portion to be colored red with light. 10 at 365 nm wavelength
Irradiate with 0 mJ / cm 2 and develop with a 1% aqueous solution of KOH for 10 seconds to form a red colored layer 3 on that portion. Similarly, a green coloring layer 4 and a blue coloring layer 5 are formed.

【0023】その後、図6に示すように、透明電極6と
してITO膜を150nmスパッタ法にて成膜し、フォ
トリソ法によってパターニングする。
Thereafter, as shown in FIG. 6, an ITO film is formed as a transparent electrode 6 by a 150 nm sputtering method, and is patterned by a photolithography method.

【0024】その後、図7に示すように、感光性アクリ
ル性透明樹脂を黒色レジストとしてスピンナー塗布し、
90℃、10分の乾燥後、所定のパターン形状のフォト
マスクを用い365mmの波長で、300mJ/cm
の露光量で露光したあとpH11.5のアルカリ水溶液
にて現像し、200℃、60分の焼成にて高さ5.5μ
mの突起としてのスペーサ7と黒色レジスト額縁部11
を形成する。スペーサ7の配置は、走査線上の場所でT
FTや画素電極との重なり部を避けた場所とし、画面中
央部には、直径12μmの円形で±2μmのばらつきを
有するスペーサ7の集団を形成している。密度はいずれ
も1個/10画素とする。
Thereafter, as shown in FIG. 7, a photosensitive acrylic transparent resin is applied as a black resist by spinner coating,
After drying at 90 ° C. for 10 minutes, 300 mJ / cm 2 at a wavelength of 365 mm using a photomask having a predetermined pattern shape.
And then developed with an aqueous alkaline solution having a pH of 11.5, and baked at 200 ° C. for 60 minutes to obtain a height of 5.5 μm.
spacers 7 as m projections and black resist frame 11
To form The arrangement of the spacers 7 is such that T
A group of spacers 7 having a circular shape with a diameter of 12 μm and having a variation of ± 2 μm is formed at the center of the screen at a place where an overlapping portion with the FT and the pixel electrode is avoided. The density is 1/10 pixels.

【0025】その後、図8に示すように、配向膜材料と
してポリイシドを全面に50nm塗布し、ラビング処理
を行って配向膜14を形成する。
Thereafter, as shown in FIG. 8, a 50 nm thick polyisid is applied as an alignment film material, and a rubbing process is performed to form an alignment film 14.

【0026】次に、対向基板9上に、透明電極15とし
てITO膜を150nmスパッタ法にて成膜し、その上
に配向膜14と同様の配向膜材料を形成した後ラビング
処理を行って配向膜16を形成する。この後、対向基板
9の配向膜16の周辺に沿って接着剤8を注入口以外に
印刷し、アクティブマトリクス基板2から対向電極に電
圧を印加するための電極転移材を接着剤8の周辺の電極
転移電極上に形成する。そして、配向膜14,16が対
向し、またそれぞれのラビング方向が90度となるよう
アクティブマトリクス基板2とITOを形成した対向基
板9を配置し、加熱して接着剤8を硬化させ貼り合わせ
る。
Next, an ITO film is formed as a transparent electrode 15 on the opposing substrate 9 by a sputtering method to a thickness of 150 nm, and an alignment film material similar to the alignment film 14 is formed thereon. A film 16 is formed. Thereafter, an adhesive 8 is printed along the periphery of the alignment film 16 of the counter substrate 9 except for the injection port, and an electrode transfer material for applying a voltage from the active matrix substrate 2 to the counter electrode is formed around the adhesive 8. It is formed on an electrode transfer electrode. Then, the active matrix substrate 2 and the counter substrate 9 on which ITO is formed are arranged so that the alignment films 14 and 16 face each other and the rubbing directions thereof are 90 degrees, and the adhesive 8 is cured by heating and bonded.

【0027】次に通常の方法により注入口より液晶組成
物10を注入し、この後注入口を紫外線硬化樹脂で封止
する。
Next, the liquid crystal composition 10 is injected from the injection port by a usual method, and thereafter the injection port is sealed with an ultraviolet curable resin.

【0028】こうして形成した図1に示すカラー表示型
のアクティブマトリクス液晶表示装置20は、セルのギ
ャップが5.1±0.2μmと非常に均一性が高く、黒
色レジスト額縁部11のODは3.5と実用上十分な黒
レベルが得られる。このアクティブマトリクス液晶表示
装置20を高温高湿度(50℃、80%)条件で100
0時間連続点灯試験を行ったが、表示むらの発生は皆無
で良好な表示品位が確保された。
The thus formed active matrix liquid crystal display device 20 of the color display type shown in FIG. 1 has a very uniform cell gap of 5.1 ± 0.2 μm and an OD of the black resist frame portion 11 of 3%. .5, which is a practically sufficient black level. The active matrix liquid crystal display device 20 is subjected to a high temperature and high humidity (50 ° C., 80%) condition of 100
A continuous lighting test was performed for 0 hours. As a result, no display unevenness occurred and good display quality was secured.

【0029】さらに、上述した第1実施例のアクティブ
マトリクス液晶表示装置20における額縁部の配線13
と第2の額縁遮光層12とを合わせた開口率30%を5
%にしたアクティブマトリクス液晶表示装置を作製し
た。このアクティブマトリクス液晶表示装置を第1実施
例と同様の試験を行ったところ、表示むらの発生は皆無
で良好な表示品位が確保された。
Further, the wiring 13 in the frame portion in the active matrix liquid crystal display device 20 of the first embodiment described above.
And the second frame light-shielding layer 12 together with an aperture ratio 30% of 5
% Of the active matrix liquid crystal display device. When a test similar to that of the first embodiment was performed on this active matrix liquid crystal display device, no display unevenness occurred, and good display quality was secured.

【0030】また、第1実施例のアクティブマトリクス
液晶表示装置20における上述の開口率30%を31%
にしたアクティブマトリクス液晶表示装置を作製した。
このアクティブマトリクス液晶表示装置を第1実施例と
同様の試験を行ったところ、00枚中1枚に極微の表示
むらが発生した。
Further, in the active matrix liquid crystal display device 20 of the first embodiment, the above-mentioned aperture ratio of 30% is reduced to 31%.
An active matrix liquid crystal display device was manufactured.
When a test similar to that of the first embodiment was performed on this active matrix liquid crystal display device, extremely minute display unevenness occurred on one of the 00 sheets.

【0031】また、第1実施例のアクティブマトリクス
液晶表示装置20における上述の開口率30%を4.9
%にしたアクティブマトリクス液晶表示装置を作製し
た。このアクティブマトリクス液晶表示装置を第1実施
例と同様の試験を行ったところ、150枚中1枚に配線
間に設けた第2の額縁遮光層と配線のショートに起因す
る動作不良が発生した。
The above-described aperture ratio of 30% in the active matrix liquid crystal display device 20 of the first embodiment is set to 4.9.
% Of the active matrix liquid crystal display device. When a test similar to that of the first embodiment was performed on this active matrix liquid crystal display device, an operation failure occurred due to a short circuit between the second frame light-shielding layer provided between the wirings on one of the 150 substrates and the wiring.

【0032】本実施例において、第2の額縁遮光層は、
Alとしたが、その他の材料、例えば、TFTを構成す
る他の金属膜により形成することもできる。
In the present embodiment, the second frame light-shielding layer
Although Al was used, it may be formed of another material, for example, another metal film forming the TFT.

【0033】次に、第2実施例について説明する。Next, a second embodiment will be described.

【0034】図9は、この発明の液晶表示装置に係る第
2実施例のアクティブマトリクス液晶表示装置における
概略断面の構成を示すものである。なお、第1実施例と
同一箇所には同一符号を付して説明を省略する。
FIG. 9 shows a schematic sectional configuration of an active matrix liquid crystal display device according to a second embodiment of the liquid crystal display device of the present invention. The same portions as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0035】第2実施例のアクティブマトリクス液晶表
示装置30は、第1実施例のアクティブマトリクス液晶
表示装置20における第2の額縁遮光層12の代わりに
緑の着色層17を黒色レジスト額縁部18とアクティブ
マトリクス基板2との間に形成したものである。この第
2実施例のアクティブマトリクス液晶表示装置30を第
1実施例と同様の試験を行ったところ、表示むらの発生
は皆無で良好な表示品位が確保された。
The active matrix liquid crystal display device 30 of the second embodiment is different from the active matrix liquid crystal display device 20 of the first embodiment in that the green colored layer 17 is replaced with the black resist frame portion 18 instead of the second frame light shielding layer 12. It is formed between the active matrix substrate 2. When a test similar to that of the first embodiment was performed on the active matrix liquid crystal display device 30 of the second embodiment, no display unevenness occurred and good display quality was secured.

【0036】また、アクティブマトリクス液晶表示装置
30における緑の着色層17の代わりに赤の着色層を設
けて作製した。このアクティブマトリクス液晶表示装置
を第1実施例と同様の試験を行ったところ、表示むらの
発生は皆無で良好な表示品位が確保された。
The active matrix liquid crystal display device 30 was prepared by providing a red coloring layer instead of the green coloring layer 17. When a test similar to that of the first embodiment was performed on this active matrix liquid crystal display device, no display unevenness occurred, and good display quality was secured.

【0037】以上説明したように上記発明の実施の形態
によれば、表示性能が良く、信頼性の高い液晶表示装置
を安価に得られる。
As described above, according to the embodiment of the present invention, a liquid crystal display device having good display performance and high reliability can be obtained at low cost.

【0038】なお、本願発明は、上記各実施例に限定さ
れるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない
範囲で種々に変形することが可能である。また、各実施
例は可能な限り適宜組み合わせて実施してもよく、その
場合組み合わせた効果が得られる。さらに、上記実施例
には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数
の構成要件における適宜な組み合わせにより種々の発明
が抽出され得る。
It should be noted that the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made at the stage of implementation without departing from the scope of the invention. In addition, the embodiments may be implemented in appropriate combinations as much as possible, in which case the combined effects can be obtained. Further, the above embodiments include inventions at various stages, and various inventions can be extracted by appropriately combining a plurality of disclosed constituent elements.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上詳述したようにこの発明によれば、
表示むらの発生を防いで表示性能に対する信頼性を向上
させた液晶表示装置を提供することができる。
As described in detail above, according to the present invention,
It is possible to provide a liquid crystal display device in which display unevenness is prevented and display performance is improved in reliability.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の液晶表示装置の第1実施例に係るア
クティブマトリクス液晶表示装置の断面図。
FIG. 1 is a sectional view of an active matrix liquid crystal display device according to a first embodiment of the liquid crystal display device of the present invention.

【図2】本発明の概要を説明するための図。FIG. 2 is a diagram for explaining an outline of the present invention.

【図3】額縁部の開口率と不良の発生率を示す図。FIG. 3 is a diagram showing an opening ratio of a frame portion and a defect occurrence rate.

【図4】第1実施例に係るアクティブマトリクス液晶表
示装置の構成を説明するための図。
FIG. 4 is a diagram for explaining the configuration of the active matrix liquid crystal display device according to the first embodiment.

【図5】第1実施例に係るアクティブマトリクス液晶表
示装置の構成を説明するための図。
FIG. 5 is a diagram for explaining the configuration of the active matrix liquid crystal display device according to the first embodiment.

【図6】第1実施例に係るアクティブマトリクス液晶表
示装置の構成を説明するための図。
FIG. 6 is a diagram for explaining the configuration of the active matrix liquid crystal display device according to the first embodiment.

【図7】第1実施例に係るアクティブマトリクス液晶表
示装置の構成を説明するための図。
FIG. 7 is a diagram for explaining the configuration of the active matrix liquid crystal display device according to the first embodiment.

【図8】第1実施例に係るアクティブマトリクス液晶表
示装置の構成を説明するための図。
FIG. 8 is a diagram for explaining the configuration of the active matrix liquid crystal display device according to the first embodiment.

【図9】この発明の液晶表示装置の第2実施例に係るア
クティブマトリクス液晶表示装置の断面図。
FIG. 9 is a sectional view of an active matrix liquid crystal display device according to a second embodiment of the liquid crystal display device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…薄膜トランジスタ 2…アクティブマトリクス基板 3…着色層(赤) 4…着色層(緑) 5…着色層(青) 6…透明電極 7…スペーサ 8…接着剤 9…対向基板 10…液晶組成物 11,18…黒色レジスト額縁部 12…第2の額縁遮光層 13…配線 14,16…配向膜 17…緑の着色層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Thin film transistor 2 ... Active matrix substrate 3 ... Coloring layer (red) 4 ... Coloring layer (green) 5 ... Coloring layer (blue) 6 ... Transparent electrode 7 ... Spacer 8 ... Adhesive 9 ... Counter substrate 10 ... Liquid crystal composition 11 , 18: black resist frame portion 12: second frame light shielding layer 13: wiring 14, 16, alignment film 17: green coloring layer

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/30 349 G09F 9/30 349B (72)発明者 磨矢 奈津子 埼玉県深谷市幡羅町一丁目9番地2号 株 式会社東芝深谷工場内 Fターム(参考) 2H042 AA09 AA15 AA26 2H048 BA02 BA16 BA17 BB02 BB10 BB22 BB44 2H091 FA02Y FA35Y FA41Z FB04 GA06 GA08 GA13 GA17 LA30 5C094 AA03 AA31 BA03 BA43 CA19 DA07 EA04 EA05 EB02 EC03 ED02 ED15 HA08 Continuation of the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat II (Reference) G09F 9/30 349 G09F 9/30 349B (72) Inventor Natsuko Maya 1-9-9 Hararacho, Fukaya City, Saitama Prefecture F-term in Toshiba Fukaya Factory (reference)

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の基板と、 前記一対の基板間に配置された液晶組成物と、 前記一対の基板の少なくとも一方に形成され、額縁部を
遮光する感光性レジストからなる第1の遮光層と、 前記第1の遮光層と前記一方の基板間に形成され、前記
額縁部よりも内部の表示領域内に接続された配線と、 前記第1の遮光層と前記一方の基板間に形成され、前記
配線とは異なる第2の遮光層と、 を有することを特徴とする液晶表示装置。
A first light-shielding layer formed of a pair of substrates, a liquid crystal composition disposed between the pair of substrates, and a photosensitive resist formed on at least one of the pair of substrates and shielding a frame portion from light. And a wiring formed between the first light-shielding layer and the one substrate and connected to a display area inside the frame portion, and formed between the first light-shielding layer and the one substrate. And a second light-blocking layer different from the wiring.
【請求項2】 前記第2の遮光層は、前記配線と同一材
料で形成されていることを特徴とする請求項1記載の液
晶表示装置。
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the second light-shielding layer is formed of the same material as the wiring.
【請求項3】 前記額縁部における前記配線と前記第2
の遮光層との開口率は5〜30%であることを特徴とす
る請求項1記載の液晶表示装置。
3. The wiring in the frame portion and the second wiring.
2. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the aperture ratio with respect to the light shielding layer is 5 to 30%.
【請求項4】 前記第2の遮光層は、着色された樹脂か
らなることを特徴とする請求項1記載の液晶表示装置。
4. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein said second light shielding layer is made of a colored resin.
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