JP2001033790A - Liquid crystal display device and its manufacture - Google Patents

Liquid crystal display device and its manufacture

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JP2001033790A
JP2001033790A JP20490299A JP20490299A JP2001033790A JP 2001033790 A JP2001033790 A JP 2001033790A JP 20490299 A JP20490299 A JP 20490299A JP 20490299 A JP20490299 A JP 20490299A JP 2001033790 A JP2001033790 A JP 2001033790A
Authority
JP
Japan
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liquid crystal
columnar spacer
display device
crystal display
photosensitive resin
Prior art date
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Application number
JP20490299A
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Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Hado
仁 羽藤
Norihiro Yoshida
典弘 吉田
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve display quality of a liquid crystal display device by reinforcing pressure resistance between both substrates with a post spacer, which uniformly maintains the gap between the array substrate and the counter substrate, and preventing local uneven cell thickness in a liquid crystal cell from being generated by pressure added when the liquid crystal cell is manufactured. SOLUTION: A post spacer 20 having a planar flat part on the top is formed on an array substrate by exposing a negative photoresist via a photomask 22 having about 3 μm×3 μm unexposed part 22b inside about 7 μm×15 μm exposed part 22a and subsequently developing it. Therefore the area of the post spacer 20 in contact with the counter substrate is enlarged so as to heighten pressure resistance, between the array and the counter substrates, to the pressure added in manufacturing the liquid crystal cell.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、対向配置される基
板間に液晶組成物を封入して成る液晶表示装置におい
て、感光性樹脂からなる柱状スペーサを用いて基板間の
間隙を一定に保持する液晶表示装置及び液晶表示装置の
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device in which a liquid crystal composition is sealed between substrates disposed opposite to each other, and the gap between the substrates is kept constant by using a columnar spacer made of a photosensitive resin. The present invention relates to a liquid crystal display device and a method for manufacturing a liquid crystal display device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、コンピューター等情報機器分野あ
るいはテレビ等の映像機器分野等において、薄型軽量且
つ高精細な液晶表示装置が開発されている。現在、一般
に用いられている液晶表示装置の多くは、電極を有する
2枚のガラス基板と、その間隙に封入された液晶組成物
から構成されている。具体的には例えばカラー型アクテ
ィブマトリクス型液晶表示装置においては、第1の基板
であるアレイ基板上にアモルフアスシリコン等を半導体
層とした薄膜トランジスタとそれに接続された画素電極
と信号線電極、ゲート電極、三原色の着色層からなるカ
ラーフィルタ等が形成されている。一方第2の基板であ
る対向基板上には対向電極が形成されている。そしてア
レイ基板と対向基板とを、スペーサにより一定の間隙を
保持して対向配置し、接着剤に囲繞される両基板の間隙
に液晶組成物を封入して成っている。
2. Description of the Related Art In recent years, thin, lightweight and high-definition liquid crystal display devices have been developed in the field of information equipment such as computers and the field of video equipment such as televisions. Currently, most of the liquid crystal display devices generally used are composed of two glass substrates having electrodes and a liquid crystal composition sealed in a gap between the two glass substrates. Specifically, for example, in a color active matrix type liquid crystal display device, a thin film transistor having a semiconductor layer of amorphous silicon or the like on a first substrate, an array substrate, and pixel electrodes, signal line electrodes, and gate electrodes connected thereto are provided. And a color filter composed of three primary color layers. On the other hand, a counter electrode is formed on a counter substrate which is a second substrate. The array substrate and the opposing substrate are opposed to each other while maintaining a certain gap by a spacer, and the liquid crystal composition is sealed in the gap between the two substrates surrounded by the adhesive.

【0003】この両基板の間隙を一定に保持するスペー
サとしては、基板に均一に散布して用いる粒径の均一な
プラスチックビーズに代わり、近年ではアレイ基板ある
いは対向基板のいずれかの非表示領域上に直接パターン
形成して成る柱状のスペーサが開発されている。
In recent years, instead of plastic beads having a uniform particle size used by being uniformly dispersed on the substrates, spacers for maintaining the gap between the two substrates constant have recently been used on a non-display area of either an array substrate or a counter substrate. A columnar spacer directly formed with a pattern has been developed.

【0004】このような柱状スペーサの材料として感光
性樹脂を用いる場合、例えばネガ型の感光性樹脂である
とすると、基板に塗布されたネガ型感光性樹脂をパター
ニングして柱状スペーサを形成する場合、従来は、柱状
スペーサの断面形状に対応する領域全面を露光領域とす
る紫外線露光用のフォトマスクを用いて露光した後現像
し、所定形状の柱状スペーサを得ていた。尚、ポジ型の
感光性樹脂をスペーサ材料とする場合には、柱状スペー
サの断面形成に対応する領域全面を非露光領域とする紫
外線露光用のフォトマスクを用いて露光した後現像して
いた。
In the case where a photosensitive resin is used as a material of such a columnar spacer, for example, if a negative photosensitive resin is used, the negative photosensitive resin applied to the substrate is patterned to form a columnar spacer. Conventionally, a columnar spacer having a predetermined shape has been obtained by exposing and developing using a photomask for ultraviolet exposure which makes the entire region corresponding to the cross-sectional shape of the columnar spacer an exposure region. When a positive type photosensitive resin is used as the spacer material, exposure and development are performed using a photomask for ultraviolet exposure which makes the entire area corresponding to the cross-section of the columnar spacer a non-exposed area.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のよ
うにネガ型感光性樹脂の柱状スペーサの断面形状に対応
する領域全面を露光したり、あるはポジ型感光性樹脂の
柱状スペーサの断面形状に対応する領域全面を非露光し
て柱状スペーサを形成すると、図16に示すようにネガ
型、ポジ型のいずれの感光性樹脂を使用しても、柱状ス
ペーサ40の断面形状は、概略半球状とされ、その頂上
は点状に形成されていた。このため、柱状スペーサ40
と対向する基板41との接触面積が少なく、柱状スペー
サ40は、もう一方の基板41を頂上の点で支持する状
態になり、このような柱状スペーサ40を介して2枚の
基板を対向配置し、液晶セルを作製した場合、液晶セル
作製時の各工程において両基板間に加えられる圧力に対
する耐圧性が弱く、液晶セルは局所的にセル厚ムラを生
じ、ひいては液晶表示装置の表示品位を低下するという
問題を有していた。
However, as in the prior art, the entire surface corresponding to the cross-sectional shape of the columnar spacer of the negative photosensitive resin is exposed, or the cross-sectional shape of the columnar spacer of the positive type photosensitive resin is exposed. When a columnar spacer is formed by exposing the entire surface of the region to be exposed, as shown in FIG. 16, the cross-sectional shape of the columnar spacer 40 is substantially hemispherical, regardless of whether a negative type or a positive type photosensitive resin is used. The top was formed in a dot shape. Therefore, the columnar spacer 40
The contact area with the opposing substrate 41 is small, and the columnar spacer 40 supports the other substrate 41 at the top point, and the two substrates are arranged facing each other via such a columnar spacer 40. When a liquid crystal cell is manufactured, the pressure resistance against the pressure applied between the two substrates in each step of manufacturing the liquid crystal cell is weak, and the liquid crystal cell locally generates cell thickness unevenness, and thus lowers the display quality of the liquid crystal display device. Had the problem of doing so.

【0006】そこで本発明は上記課題を除去するもの
で、感光性樹脂をパターン形成してなる柱状スペーサを
用いた液晶セルの耐圧性を強化し、液晶セル作製時にか
かる圧力にかかわらず、液晶セル全面にわたりその間隙
を均一に保持し、セル厚ムラを生じる事無く良好な表示
品位を得る事が出来る液晶表示装置及び液晶表示装置の
製造方法を提供する事を目的とする。
In view of the above, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and has been made to enhance the pressure resistance of a liquid crystal cell using columnar spacers formed by patterning a photosensitive resin, so that the liquid crystal cell can be made irrespective of the pressure applied when the liquid crystal cell is manufactured. It is an object of the present invention to provide a liquid crystal display device and a method for manufacturing the liquid crystal display device, which can maintain the gap uniformly over the entire surface and obtain good display quality without causing cell thickness unevenness.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するための手段として、対向配置される2枚の基板の間
隙に液晶組成物を封入してなる液晶表示装置において、
前記基板の少なくとも何れか一方に形成され、頂上に平
坦部分を有し、前記間隙を均一に保持する感光性樹脂か
らなる柱状スペーサを設けるものである。
According to the present invention, as a means for solving the above problems, there is provided a liquid crystal display device comprising a liquid crystal composition sealed in a gap between two substrates disposed opposite to each other.
A columnar spacer made of a photosensitive resin is formed on at least one of the substrates, has a flat portion on the top, and keeps the gap uniform.

【0008】これにより本発明は、柱状スペーサが、頂
上においてもう一方の基板と面接触し、もう一方の基板
を広い接触面積で支持出来るので、液晶セル製造時の耐
圧性を強化出来、液晶セルのセル厚の均一化を図り、液
晶表示装置の表示品位向上を図るものである。
According to the present invention, the columnar spacer is in surface contact with the other substrate at the top and can support the other substrate with a wide contact area, so that the pressure resistance at the time of manufacturing the liquid crystal cell can be enhanced, The cell thickness of the liquid crystal display device is made uniform and the display quality of the liquid crystal display device is improved.

【0009】又本発明は上記課題を解決するための手段
として、対向配置される2枚の基板間の間隙をネガ型感
光性樹脂からなる柱状スペーサにより均一に保持し、前
記間隙に液晶組成物を封入してなる液晶表示装置の製造
方法において、前記基板の少なくとも何れか一方に前記
ネガ型感光性樹脂を塗布する工程と、前記柱状スペーサ
の形成領域に対応する露光部分の内部に未露光部分を設
けてなる露光マスクを介して前記ネガ型感光性樹脂を露
光する工程と、露光後の前記ネガ型感光性樹脂を現像す
る工程とを実施し、前記柱状スペーサの頂上に平坦部分
を形成するものである。
According to the present invention, as a means for solving the above-mentioned problems, a gap between two opposing substrates is uniformly held by a columnar spacer made of a negative photosensitive resin, and a liquid crystal composition is filled in the gap. In the method for manufacturing a liquid crystal display device encapsulating the substrate, a step of applying the negative photosensitive resin to at least one of the substrates, and an unexposed portion inside an exposed portion corresponding to the formation region of the columnar spacer. Performing a step of exposing the negative-type photosensitive resin through an exposure mask provided with the step of developing the negative-type photosensitive resin after the exposure to form a flat portion on the top of the columnar spacer. Things.

【0010】又本発明は上記課題を解決するための手段
として、対向配置される2枚の基板間の間隙をポジ型感
光性樹脂からなる柱状スペーサにより均一に保持し、前
記間隙に液晶組成物を封入してなる液晶表示装置の製造
方法において、前記基板の少なくとも何れか一方に前記
ポジ型感光性樹脂を塗布する工程と、前記柱状スペーサ
の形成領域に対応する未露光部分の内部に露光部分を設
けてなる露光マスクを介して前記ポジ型感光性樹脂を露
光する工程と、露光後の前記ポジ型感光性樹脂を現像す
る工程とを実施し、前記柱状スペーサの頂上に平坦部分
を形成するものである。
According to the present invention, as a means for solving the above-mentioned problems, a gap between two opposing substrates is uniformly held by a columnar spacer made of a positive photosensitive resin, and a liquid crystal composition is provided in the gap. In the method for manufacturing a liquid crystal display device, a step of applying the positive photosensitive resin to at least one of the substrates, and an exposed portion inside an unexposed portion corresponding to a region where the columnar spacer is formed. Performing a step of exposing the positive-type photosensitive resin through an exposure mask provided with a step of developing the positive-type photosensitive resin after exposure to form a flat portion on the top of the columnar spacer. Things.

【0011】これにより本発明は、柱状スペーサのパタ
ーン形成時にその頂上部分を除去して、頂上に平坦部分
を形成する事により、柱状スペーサの頂上におけるもう
一方の基板との接触面積を広く出来、液晶セル製造時の
耐圧性を強化して、液晶セルのセル厚の均一化を図り液
晶表示装置の表示品位向上を図るものである。
According to the present invention, the contact area of the top of the columnar spacer with the other substrate can be increased by removing the top of the columnar spacer at the time of pattern formation and forming a flat portion on the top. An object of the present invention is to improve the display quality of the liquid crystal display device by enhancing the pressure resistance during the production of the liquid crystal cell, making the cell thickness of the liquid crystal cell uniform.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】先ず本発明の原理について述べ
る。液晶表示装置において、対向配置される2枚の基板
間の間隙を均一に保持するスペーサとして、感光性レジ
ストを材料とする柱状スペーサをパターン形成する場
合、柱状スペーサの形状は、基板上に塗布された感光性
レジストを露光するフォトマスクの形状に応じて異な
る。そこで、表1に示す様な露光部、未露光部を有する
夫々形状の異なるフォトマスクA〜Dを用いてネガ型の
感光性レジストをパターン形成し柱状スペーサを実際に
作成したところ、夫々以下に示すような断面形状をえら
れた。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS First, the principle of the present invention will be described. In a liquid crystal display device, when a columnar spacer made of a photosensitive resist is pattern-formed as a spacer for uniformly maintaining a gap between two substrates disposed opposite to each other, the shape of the columnar spacer is applied onto the substrate. It depends on the shape of the photomask that exposes the exposed photosensitive resist. Therefore, a negative photosensitive resist was patterned using photomasks A to D having different shapes each having an exposed portion and an unexposed portion as shown in Table 1, and columnar spacers were actually created. The cross-sectional shape as shown was obtained.

【表1】 但し、柱状スペーサの作成は、図1に示すように基板1
に黒色のネガ型感光性レジスト2をスピンナーを用いて
約5.5μmの厚さで塗布し、90℃、10分の乾燥
後、表1に示す各種フォトマスク3を介して露光量30
0mJ/cmで露光後、pH=11.5のアルカリ性
水溶液で現像し、200℃、60分焼成したものであ
る。
[Table 1] However, as shown in FIG.
Is coated with a black negative photosensitive resist 2 to a thickness of about 5.5 μm using a spinner, dried at 90 ° C. for 10 minutes, and exposed through a photomask 3 shown in Table 1 to an exposure dose of 30 μm.
After exposure at 0 mJ / cm 2 , the film was developed with an alkaline aqueous solution having a pH of 11.5 and baked at 200 ° C. for 60 minutes.

【0013】(フォトマスクA)図2に示すように、内
部に未露光部分を全く有せず、15μm×15μmの露
光部分4aを有するフォトマスクAを介して黒色のネガ
型感光性レジスト2を露光後現像した所、図3に示すよ
うに断面が概略半球状で頂上がほぼ点状の柱状スペーサ
4を得られた。
(Photomask A) As shown in FIG. 2, a black negative photosensitive resist 2 is exposed through a photomask A having no exposed portion 4a and having an exposed portion 4a of 15 μm × 15 μm. After exposure and development, as shown in FIG. 3, a columnar spacer 4 having a substantially hemispherical cross section and a substantially pointed top was obtained.

【0014】(フォトマスクB)図4に示すように、1
5μm×15μmの露光部分6a内部に3μm×3μm
の未露光部分6bを有し、露光部分に対する未露光部分
の面積比が4%のフォトマスクBを介して黒色のネガ型
感光性レジスト2を露光後現像した所、図5に示すよう
に断面が概略半球状の頂上付近が平面状の平坦部分を有
する柱状スペーサ6を得られた。
(Photomask B) As shown in FIG.
3 μm × 3 μm inside 5 μm × 15 μm exposed portion 6 a
The black negative photosensitive resist 2 is exposed and developed through a photomask B having an unexposed portion 6b having an area ratio of the unexposed portion to the exposed portion of 4%. As shown in FIG. As a result, a columnar spacer 6 having a substantially hemispherical top having a flat flat portion near the top was obtained.

【0015】(フォトマスクC)図6に示すように、1
5μm×15μmの露光部分7a内部に10μm×10
μmの未露光部分7bを有し、露光部分に対する未露光
部分の面積比が44.4%のフォトマスクCを介して黒
色のネガ型感光性レジスト2を露光後現像した所、図7
に示すように断面が概略半球状の頂上付近に凹部が形成
され頂上にリング状の平坦部分を有する柱状スペーサ7
を得られた。
(Photomask C) As shown in FIG.
10 μm × 10 inside the exposed portion 7 a of 5 μm × 15 μm
FIG. 7 shows that the black negative photosensitive resist 2 is exposed and developed through a photomask C having an unexposed portion 7b of μm and an area ratio of the unexposed portion to the exposed portion of 44.4%.
As shown in FIG. 7, a columnar spacer 7 having a recess near the top of a substantially hemispherical cross section and having a ring-shaped flat portion on the top.
Was obtained.

【0016】(フォトマスクD)図8に示すように、1
5μm×15μmの露光部分8a内部に14μm×14
μmの未露光部分8bを有し、露光部分に対する未露光
部分の面積比が87.1%のフォトマスクDを介して黒
色のネガ型感光性レジスト2を露光後現像した所、図9
に示すように中央部分が全く除去され、残った部分の高
さが約3μmのリング状の柱状スペーサ8を得られたこ
れら柱状スペーサ4〜8を用いて液晶セルを形成し、セ
ル厚を調べたところ、フォトマスクB、Cを介して露光
してなる柱状スペーサ6、7を用いたものは、局所的な
セル厚ムラが見られず、全域にわたり均一な間隙を得ら
れることが判明した。これは、夫々露光部分6a、7a
内部に未露光部分6b、7bを設けることにより、柱状
スペーサ6、7の頂上付近を除去して平坦部分を形成す
る事により、柱状スペーサ6、7が、対向する基板を夫
々点ではなく平面状あるいはリング状の面で支持する事
により、耐圧性が強化された事による。尚、フォトマス
クDを用いてパターン形成した柱状スペーサ8は、頂上
がリング状の平坦部分を有するものの、未露光による除
去部分が大き過ぎて、所要の高さを確保できず不適当で
あった。さらにフォトマスクAを用いてパターン形成し
た柱状スペーサ4は、頂上付近の断面形状が概略半球状
となり、その頂点にて対向する基板を点で支持する事か
ら耐圧性が低く不適当であった。
(Photomask D) As shown in FIG.
14 μm × 14 inside the exposed portion 8 a of 5 μm × 15 μm
FIG. 9 shows a black negative photosensitive resist 2 having a non-exposed portion 8b of μm and a black negative photosensitive resist 2 developed through a photomask D having an area ratio of the unexposed portion to the exposed portion of 87.1%.
As shown in (1), a liquid crystal cell was formed using the columnar spacers 4 to 8 in which the central portion was completely removed and the remaining portion was a ring-shaped columnar spacer 8 having a height of about 3 μm, and the cell thickness was examined. As a result, it was found that in the case of using the columnar spacers 6 and 7 exposed through the photomasks B and C, no local cell thickness unevenness was observed and a uniform gap was obtained over the entire area. This corresponds to the exposed portions 6a, 7a, respectively.
By providing the unexposed portions 6b and 7b inside, the vicinity of the tops of the columnar spacers 6 and 7 are removed to form a flat portion, so that the columnar spacers 6 and 7 form a flat surface, not a point, respectively. Alternatively, by supporting with a ring-shaped surface, the pressure resistance is enhanced. Although the columnar spacer 8 formed by patterning using the photomask D had a ring-shaped flat portion at the top, the unexposed portion to be removed was too large, and the required height could not be secured. . Further, the columnar spacer 4 formed by patterning using the photomask A has a substantially hemispherical cross-sectional shape near the top, and the opposing substrate is supported at the apex by a point, so that the columnar spacer 4 is unsuitable for low pressure resistance.

【0017】そこで本発明は、上記原理に基づき成され
たものである。以下、本発明の第1の実施の形態を図1
0乃至図12を参照して説明する。図10は本発明によ
るカラー液晶表示装置10の主要部を表す概略断面図で
ある。カラー液晶表示装置10は、いわゆる透過型の液
晶表示装置であり、アレイ基板11とそれに対向して配
置された対向基板12とを黒色の柱状スペーサ20を介
してその間隙を均一に保持するよう対向配置し、間隙に
液晶組成物13を封入して成っている。
The present invention has been made based on the above principle. Hereinafter, a first embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
This will be described with reference to FIGS. FIG. 10 is a schematic sectional view showing a main part of the color liquid crystal display device 10 according to the present invention. The color liquid crystal display device 10 is a so-called transmissive liquid crystal display device, and opposes an array substrate 11 and an opposing substrate 12 disposed so as to uniformly maintain a gap therebetween via a black columnar spacer 20. The liquid crystal composition 13 is disposed in the gap, and the gap is filled with the liquid crystal composition 13.

【0018】アレイ基板11の第1のガラス基板14上
には、スパッタリングにより0.3μm厚のモリブデン
(Mo)を成膜後、フォトリソグラフィにより所定の形
状にパターン形成したゲート電極(図示せず)上に、酸
化シリコン(SiOx)あるいは窒化シリコン(SiN
x)からなるゲート絶縁膜(図示せず)を0.15μm
成膜後、その上にa−Siからなる半導体層(図示せ
ず)を設けてなる薄膜トランジスタ(以下TFTと略称
する。)16が形成されている。
A gate electrode (not shown) in which a 0.3 μm thick molybdenum (Mo) film is formed on the first glass substrate 14 of the array substrate 11 by sputtering and then patterned in a predetermined shape by photolithography. Silicon oxide (SiOx) or silicon nitride (SiN)
x) of a gate insulating film (not shown) of 0.15 μm
After the film formation, a thin film transistor (hereinafter abbreviated as TFT) 16 provided with a semiconductor layer (not shown) made of a-Si is formed thereon.

【0019】さらにTFT16上方には、図示しない層
間絶縁膜を介し、赤色の顔料を分散させたネガ型感光性
レジストをスピンナーにて全面塗布し、90℃、10分
の乾燥後、コンタクトホールエリア17aを除き赤色の
着色層を形成する部分のみに紫外線を照射するフォトマ
スクを介し、露光量が200mJ/cmとなるよう露
光後、水酸化カリウム(KOH)lwt%水溶液で20
秒間現像を行い、200℃で60分焼成してなる赤色の
着色層17が形成されている。
Further, a negative photosensitive resist in which a red pigment is dispersed is applied over the entire surface of the TFT 16 through an interlayer insulating film (not shown) by a spinner, and dried at 90 ° C. for 10 minutes. Except through a photomask that irradiates only the portion where the red colored layer is formed with ultraviolet light except for the above, the exposure amount is set to 200 mJ / cm 2, and then exposed to a 20% aqueous solution of potassium hydroxide (KOH) 1 wt%.
A red colored layer 17 formed by developing for 200 seconds and baking at 200 ° C. for 60 minutes is formed.

【0020】同様にフォトリソグラフィ技術により緑色
(G)の顔料を分散させた感光性レジスト及び、青色
(B)の顔料を分散させた感光性レジストを層間絶縁膜
上に配列し、膜厚が1.5μmの赤(R)、緑(G)、
青(B)の各着色層が配列されてなるカラーフィルタ層
18を形成する。
Similarly, a photosensitive resist in which a green (G) pigment is dispersed and a photosensitive resist in which a blue (B) pigment is dispersed are arranged on an interlayer insulating film by a photolithography technique. 0.5 μm red (R), green (G),
The color filter layer 18 in which the blue (B) colored layers are arranged is formed.

【0021】次に、カラーフィルタ層18上に形成され
る黒色の柱状スペーサ20について詳述する。カラーフ
ィルタ層18形成後、図11(a)に示すように黒色の
ネガ型感光性レジスト21をスピンナーを用いて約5.
5μmの膜厚で塗布し、90℃、10分の乾燥する。次
に図11(b)に示すように7μm×15μmの露光部
分22a内部に3μm×3μmの未露光部分22bを有
し露光部分に対する未露光部分の面積比が、8.4%の
フォトマスク22を介して、露光量300mJ/cm
でネガ型感光性レジスト21を露光する。その後図11
(c)に示すようにネガ型感光性レジスト21をpH=
11.5のアルカリ性水溶液で現像し、200℃、60
分焼成して、頂上に平面状の平坦部分を有する高さ5.
2μmの柱状スペーサ20を形成する。
Next, the black columnar spacer 20 formed on the color filter layer 18 will be described in detail. After the color filter layer 18 is formed, as shown in FIG.
It is applied in a thickness of 5 μm and dried at 90 ° C. for 10 minutes. Next, as shown in FIG. 11B, a photomask 22 having a 3 μm × 3 μm unexposed portion 22 b inside the 7 μm × 15 μm exposed portion 22 a and having an area ratio of the unexposed portion to the exposed portion of 8.4%. Exposure dose of 300 mJ / cm 2
Exposes the negative photosensitive resist 21. Then Figure 11
As shown in (c), the negative photosensitive resist 21 is adjusted to pH =
Develop with alkaline aqueous solution of 11.5, 200 ℃, 60
4. Baking for a minute, a height having a flat flat portion on the top
A 2 μm columnar spacer 20 is formed.

【0022】その後スパッタリングによりインジウム錫
酸化物(ITO)を膜厚約0.1μm成膜し、フォトリ
ソグラフィにより所定の形状にパターン形成して、コン
タクトホールエリア17aを介しTFT16と接続する
画素電極24を形成する。
After that, indium tin oxide (ITO) is deposited to a thickness of about 0.1 μm by sputtering, patterned in a predetermined shape by photolithography, and the pixel electrode 24 connected to the TFT 16 via the contact hole area 17a is formed. Form.

【0023】このようにしてなるアレイ基板11と、第
2のガラス基板25上に共通電極26を有する対向基板
12に、ポリイミド溶剤を均一に塗布し夫々に配向膜2
7a、27bを形成後、ラビング処理する。この後アレ
イ基板11及び対向基板12を柱状スペーサ20を介し
て対向配置し、エポキシ系の熱硬化樹脂から成る接着剤
を用いて貼合わせ、柱状スペーサ20により均一に保持
される両基板11、12間の間隙に液晶組成物13を注
入し、注入口を紫外線硬化樹脂で封止する。さらにアレ
イ基板11及び対向基板12の外側に偏光板28a、2
8bを貼り付け、カラー液晶表示装置10を完成する。
A polyimide solvent is uniformly applied to the array substrate 11 and the opposite substrate 12 having the common electrode 26 on the second glass substrate 25, and the alignment film 2 is
After forming 7a and 27b, a rubbing process is performed. Thereafter, the array substrate 11 and the opposing substrate 12 are arranged to face each other via the columnar spacer 20 and are bonded together using an adhesive made of an epoxy-based thermosetting resin. The liquid crystal composition 13 is injected into the gap therebetween, and the injection port is sealed with an ultraviolet curable resin. Further, polarizers 28a, 2b are provided outside the array substrate 11 and the counter substrate 12.
8b is attached, and the color liquid crystal display device 10 is completed.

【0024】このカラー液晶表示装置10の表示を行っ
たところ、局所的なセル厚ムラによる表示不良を生じる
事が無く、高い表示品位を得られた。
When the color liquid crystal display device 10 performed display, high display quality was obtained without causing display defects due to local uneven cell thickness.

【0025】このように構成すれば、柱状スペーサ20
のパターン形成時、その頂上付近を露光しないことによ
り、柱状スペーサは、頂上に平板状の平坦部分を形成さ
れる。これによりアレイ基板11及び対向基板12の対
向配置時、柱状スペーサ20の対向基板12との接触面
積が拡大され、液晶セル作製時にアレイ基板11及び対
向基板12間に加わる圧力に対する耐圧性が高められ
る。従って液晶セルは作製時の加圧にかかわらずアレイ
基板11及び対向基板12間の間隙を全面にわたり均一
に保持出来、液晶表示装置の局所的なセル厚ムラを原因
とする表示不良を防止して表示品位を向上出来る。
With this configuration, the columnar spacer 20
When the pattern is formed, the vicinity of the top is not exposed, so that the columnar spacer forms a flat flat portion on the top. Thereby, when the array substrate 11 and the opposing substrate 12 are arranged to oppose each other, the contact area of the columnar spacer 20 with the opposing substrate 12 is increased, and the pressure resistance against the pressure applied between the array substrate 11 and the opposing substrate 12 at the time of manufacturing the liquid crystal cell is increased. . Therefore, the liquid crystal cell can maintain the gap between the array substrate 11 and the counter substrate 12 uniformly over the entire surface irrespective of the pressurization at the time of manufacturing, and can prevent display defects due to local uneven cell thickness of the liquid crystal display device. The display quality can be improved.

【0026】次に本発明の第2の実施の形態を図13乃
至図15を参照して説明する。本実施の形態は、黒色の
柱状スペーサをポジ型感光性レジストを用いて形成する
事から、第1の実施の形態に用いたフォトマスクと露光
部分及び未露光部分の構成が逆のフォトマスクを用いて
柱状スペーサをパターン形成するものであり、他は第1
の実施の形態と同一である事から同一部分については同
一符号を付しその説明を省略する。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. In this embodiment, since a black columnar spacer is formed using a positive photosensitive resist, the photomask used in the first embodiment has a configuration in which exposed and unexposed portions are reversed. Is used to pattern the columnar spacers.
Since the present embodiment is the same as the above-described embodiment, the same portions are denoted by the same reference numerals and description thereof will be omitted.

【0027】即ち本実施の形態のカラー液晶表示装置3
0では、アレイ基板31上に、第1の実施の形態と同じ
TFT16、カラーフィルタ層18を形成後、図13
(a)に示すように黒色のポジ型感光性レジスト32を
スピンナーを用いて約5.5μmの膜厚で塗布し、90
℃、10分の乾燥する。次に図13(b)に示すように
7μm×15μmの未露光部分33a内部に3μm×3
μmの露光部分33bを有し未露光部分に対する露光部
分の面積比が、8.4%のフォトマスク33を介して、
露光量300mJ/cmでポジ型感光性レジスト32
を露光する。その後図13(c)に示すようにポジ型感
光性レジスト32をpH=11.5のアルカリ性水溶液
で現像し、200℃、60分焼成して、頂上に平面状の
平坦部分を有する高さ5.2μmの柱状スペーサ34を
形成する。
That is, the color liquid crystal display device 3 of the present embodiment
In FIG. 13, after forming the same TFT 16 and color filter layer 18 on the array substrate 31 as in the first embodiment, FIG.
As shown in (a), a black positive photosensitive resist 32 is applied to a thickness of about 5.5 μm using a spinner,
C. Dry for 10 minutes. Next, as shown in FIG. 13B, 3 μm × 3 μm is formed inside the unexposed portion 33 a of 7 μm × 15 μm.
Through a photomask 33 having an exposed portion 33b of μm and an area ratio of an exposed portion to an unexposed portion, which is 8.4%,
Positive photosensitive resist 32 at an exposure dose of 300 mJ / cm 2
Is exposed. Thereafter, as shown in FIG. 13 (c), the positive photosensitive resist 32 is developed with an alkaline aqueous solution having a pH of 11.5, and baked at 200 ° C. for 60 minutes to have a height 5 having a flat flat portion on the top. 2 .mu.m columnar spacers 34 are formed.

【0028】この後、第1の実施の形態と同じ画素電極
24を形成後配向膜27aを塗布してアレイ基板31を
形成する。さらにアレイ基板34及び対向基板12を柱
状スペーサ34を介して対向配置して液晶セル形成後、
両基板31、12間の間隙に液晶組成物を封入し更に偏
光板28a、28bを貼り付け、カラー液晶表示装置3
0を完成する。
Thereafter, after forming the same pixel electrode 24 as in the first embodiment, an alignment film 27a is applied to form an array substrate 31. Further, after forming the liquid crystal cell by arranging the array substrate 34 and the opposing substrate 12 with the columnar spacer 34 interposed therebetween,
The liquid crystal composition is sealed in the gap between the two substrates 31 and 12, and the polarizing plates 28a and 28b are further adhered.
Complete 0.

【0029】このように構成すれば、第1の実施の形態
と同様柱状スペーサ34は、頂上に形成された平坦部分
により対向基板12との接触面積が拡大され、液晶セル
形成時にアレイ基板31及び対向基板12間に加わる圧
力に対する耐圧性が高められ、液晶セル作製時の加圧に
かかわらず、両基板11、12間の間隙を全面にわたり
均一に保持出来、局所的なセル厚ムラを原因とする表示
不良を防止し、表示品位を向上出来る。
According to this structure, as in the first embodiment, the contact area between the columnar spacer 34 and the opposing substrate 12 is increased by the flat portion formed on the top, so that the array substrate 31 and the The pressure resistance against the pressure applied between the opposing substrates 12 is increased, and the gap between the substrates 11 and 12 can be uniformly maintained over the entire surface regardless of the pressure applied during the liquid crystal cell production. Display defects can be prevented, and display quality can be improved.

【0030】尚本発明は上記実施の形態に限られるもの
ではなく、その主旨を変えない範囲での変更は可能であ
って、例えば柱状スペーサは、アレイ基板あるいは対向
基板のいずれに形成しても良い。また柱状スペーサを形
成する場合、フォトマスクの露光部分及び未露光部分の
大きさや形状は柱状スペーサのサイズや形状に応じて任
意であるが、例えば柱状スペーサをネガ型の感光性樹脂
で形成する場合、露光部分及びその内部の未露光部分の
サイズは、未露光部分の幅が23μm以下であり、その
周囲の露光部分の幅が2μm以上である事が好ましく、
その露光部分に対する未露光部分の面積比も75%以下
である事が好ましい。さらにフォトマスクを介し感光性
樹脂を露光する際の光量等も限定されないし、液晶表示
装置やTFTの構造も任意である
The present invention is not limited to the above embodiment, but may be modified without departing from the spirit of the invention. For example, the columnar spacer may be formed on either the array substrate or the counter substrate. good. When forming the columnar spacer, the size and shape of the exposed portion and the unexposed portion of the photomask are arbitrary depending on the size and shape of the columnar spacer.For example, when the columnar spacer is formed of a negative photosensitive resin. The size of the exposed portion and the unexposed portion inside thereof is preferably such that the width of the unexposed portion is 23 μm or less, and the width of the exposed portion around the portion is 2 μm or more,
It is preferable that the area ratio of the unexposed portion to the exposed portion is also 75% or less. Further, the amount of light when exposing the photosensitive resin through the photomask is not limited, and the structures of the liquid crystal display device and the TFT are arbitrary.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、感
光性樹脂からなる柱状スペーサをパターン形成する時
に、柱状スペーサの頂上付近を除去する様形成されるフ
ォトマスクを介して感光性樹脂を露光する事により、柱
状スペーサの頂上に平坦部分を形成する事から、柱状ス
ペーサ頂上は、対向する基板との接触面積が拡大され
る。従って柱状スペーサを介して2枚の基板を貼り合わ
せて液晶セルを作製する時に、両基板間に加わる圧力に
対する両基板の耐圧性が高められ、液晶セルは局所的な
セル厚ムラを生じることなく均等な間隙を保持出来、ひ
いてはセル厚ムラを原因とする表示ムラのない、表示品
位の高い液晶表示装置を得ることができる。
As described above, according to the present invention, when patterning a columnar spacer made of a photosensitive resin, the photosensitive resin is removed through a photomask formed so as to remove the vicinity of the top of the columnar spacer. Since the exposure forms a flat portion on the top of the columnar spacer, the contact area between the top of the columnar spacer and the opposing substrate is increased. Therefore, when two substrates are bonded to each other via a columnar spacer to produce a liquid crystal cell, the pressure resistance of both substrates against the pressure applied between the two substrates is increased, and the liquid crystal cell does not cause local uneven cell thickness. It is possible to obtain a liquid crystal display device that can maintain a uniform gap and that is free from display unevenness due to cell thickness unevenness and has high display quality.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の原理における柱状スペーサのパターン
形成を示す概略説明図である。
FIG. 1 is a schematic explanatory view showing pattern formation of a columnar spacer according to the principle of the present invention.

【図2】本発明の原理におけるフォトマスクAを示す概
略平面図である。
FIG. 2 is a schematic plan view showing a photomask A according to the principle of the present invention.

【図3】本発明の原理におけるフォトマスクAを用いて
形成される柱状スペーサの断面形状を示す概略説明図で
ある。
FIG. 3 is a schematic explanatory view showing a cross-sectional shape of a columnar spacer formed using a photomask A according to the principle of the present invention.

【図4】本発明の原理におけるフォトマスクBを示す概
略平面図である。
FIG. 4 is a schematic plan view showing a photomask B according to the principle of the present invention.

【図5】本発明の原理におけるフォトマスクBを用いて
形成される柱状スペーサの断面形状を示す概略説明図で
ある。
FIG. 5 is a schematic explanatory view showing a sectional shape of a columnar spacer formed using a photomask B according to the principle of the present invention.

【図6】本発明の原理におけるフォトマスクCを示す概
略平面図である。
FIG. 6 is a schematic plan view showing a photomask C according to the principle of the present invention.

【図7】本発明の原理におけるフォトマスクCを用いて
形成される柱状スペーサの断面形状を示す概略説明図で
ある。
FIG. 7 is a schematic explanatory view showing a sectional shape of a columnar spacer formed using a photomask C according to the principle of the present invention.

【図8】本発明の原理におけるフォトマスクDを示す概
略平面図である。
FIG. 8 is a schematic plan view showing a photomask D according to the principle of the present invention.

【図9】本発明の原理におけるフォトマスクDを用いて
形成される柱状スペーサの断面形状を示す概略説明図で
ある。
FIG. 9 is a schematic explanatory view showing a cross-sectional shape of a columnar spacer formed using a photomask D according to the principle of the present invention.

【図10】本発明の第1の実施の形態の液晶表示装置を
示す一部概略断面図である。
FIG. 10 is a partial schematic cross-sectional view showing the liquid crystal display device according to the first embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第1の実施の形態の柱状スペーサの
製造工程を示し(a)はそのネガ型感光性レジスト塗布
時、(b)はそのネガ型感光性レジスト露光時、(c)
はそのネガ型感光性レジスト現像時を示す概略説明図で
ある。
11A and 11B show a manufacturing process of the columnar spacer according to the first embodiment of the present invention, wherein FIG. 11A shows the process at the time of applying the negative photosensitive resist, FIG. 11B shows the process at the time of exposing the negative photosensitive resist, and FIG.
FIG. 4 is a schematic explanatory view showing the state at the time of developing the negative photosensitive resist.

【図12】本発明の第1の実施の形態のフォトマスクを
示す概略平面図である。
FIG. 12 is a schematic plan view showing a photomask according to the first embodiment of the present invention.

【図13】本発明の第2の実施の形態の液晶表示装置を
示す一部概略断面図である。
FIG. 13 is a partial schematic cross-sectional view illustrating a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第2の実施の形態の柱状スペーサの
製造工程を示し(a)はそのネガ型感光性レジスト塗布
時、(b)はそのネガ型感光性レジスト露光時、(c)
はそのネガ型感光性レジスト現像時を示す概略説明図で
ある。
14A and 14B show a manufacturing process of the columnar spacer according to the second embodiment of the present invention, wherein FIG. 14A shows the process at the time of applying the negative photosensitive resist, FIG. 14B shows the process at the time of exposing the negative photosensitive resist, and FIG.
FIG. 4 is a schematic explanatory view showing the state at the time of developing the negative photosensitive resist.

【図15】本発明の第2の実施の形態のフォトマスクを
示す概略平面図である。
FIG. 15 is a schematic plan view illustrating a photomask according to a second embodiment of the present invention.

【図16】従来の柱状スペーサの断面形状を示す概略説
明図である。
FIG. 16 is a schematic explanatory view showing a cross-sectional shape of a conventional columnar spacer.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…カラー液晶表示装置 11…アレイ基板 12…対向基板 13…液晶組成物 14…第1のガラス基板 16…薄膜トランジスタ 18…カラーフィルタ層 20…柱状スペーサ 21…ネガ型感光性レジスト 22…フォトマスク 24…画素電極 27a、27b…配向膜 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Color liquid crystal display device 11 ... Array substrate 12 ... Counter substrate 13 ... Liquid crystal composition 14 ... First glass substrate 16 ... Thin film transistor 18 ... Color filter layer 20 ... Columnar spacer 21 ... Negative photosensitive resist 22 ... Photo mask 24 ... Pixel electrodes 27a, 27b ... Alignment film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H089 HA10 LA04 LA09 MA04X NA05 NA14 PA06 QA04 QA14 TA09 TA12 TA13 5C094 AA03 AA36 AA43 AA47 AA48 AA55 BA43 DA12 DA13 EB03 EC03 FA01 FA02 FB01 FB15 GB01 GB10 JA01 JA08  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F term (reference) 2H089 HA10 LA04 LA09 MA04X NA05 NA14 PA06 QA04 QA14 TA09 TA12 TA13 5C094 AA03 AA36 AA43 AA47 AA48 AA55 BA43 DA12 DA13 EB03 EC03 FA01 FA02 FB01 FB15 GB01 GB10 JA01 JA08

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対向配置される2枚の基板の間隙に液晶
組成物を封入してなる液晶表示装置において、 前記基板の少なくとも何れか一方に形成され、頂上に平
坦部分を有し、前記間隙を均一に保持する感光性樹脂か
らなる柱状スペーサを具備する事を特徴とする液晶表示
装置。
1. A liquid crystal display device in which a liquid crystal composition is sealed in a gap between two substrates arranged opposite to each other, the liquid crystal display device being formed on at least one of the substrates, having a flat portion on the top, and A liquid crystal display device comprising a columnar spacer made of a photosensitive resin that uniformly holds the liquid crystal.
【請求項2】 柱状スペーサが、前記柱状スペーサの形
成領域を露光する事によりパターン形成されてなるネガ
型感光性樹脂からなり、 前記柱状スペーサの頂上付近を露光しない事により前記
頂上に平坦部分を形成する事を特徴とする請求項1に記
載の液晶表示装置。
2. A columnar spacer is made of a negative photosensitive resin formed by patterning by exposing a region where the columnar spacer is formed, and a flat portion is formed on the columnar top by not exposing the vicinity of the columnar top. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is formed.
【請求項3】 柱状スペーサが、前記柱状スペーサの形
成領域を露光しない事によりパターン形成されてなるポ
ジ型感光性樹脂からなり、 前記柱状スペーサの頂上付近を露光する事により前記頂
上に平坦部分を形成する事を特徴とする請求項1に記載
の液晶表示装置。
3. The columnar spacer is made of a positive photosensitive resin that is patterned by not exposing a region where the columnar spacer is formed, and a flat portion is formed on the top by exposing the vicinity of the top of the columnar spacer. The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is formed.
【請求項4】 対向配置される2枚の基板間の間隙をネ
ガ型感光性樹脂からなる柱状スペーサにより均一に保持
し、前記間隙に液晶組成物を封入してなる液晶表示装置
の製造方法において、 前記基板の少なくとも何れか一方に前記ネガ型感光性樹
脂を塗布する工程と、前記柱状スペーサの形成領域に対
応する露光部分の内部に未露光部分を設けてなる露光マ
スクを介して前記ネガ型感光性樹脂を露光する工程と、
露光後の前記ネガ型感光性樹脂を現像する工程とを具備
し、前記柱状スペーサの頂上に平坦部分を形成する事を
特徴とする液晶表示装置の製造方法。
4. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a gap between two substrates disposed opposite to each other, uniformly held by a columnar spacer made of a negative photosensitive resin, and a liquid crystal composition sealed in the gap. A step of applying the negative photosensitive resin to at least one of the substrates, and the negative mold through an exposure mask provided with an unexposed portion inside an exposed portion corresponding to the formation region of the columnar spacer. Exposing the photosensitive resin,
Developing the negative photosensitive resin after the exposure, and forming a flat portion on the top of the columnar spacer.
【請求項5】 露光マスクの未露光部分の面積を露光部
分の面積の75%以下にすることを特徴とする請求項4
に記載の液晶表示装置の製造方法。
5. An exposure mask according to claim 4, wherein the area of the unexposed portion is not more than 75% of the area of the exposed portion.
3. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to item 1.
【請求項6】 露光マスクの未露光部分の幅を23μm
以下とし、前記未露光部分周囲の露光部分の幅を2μm
以上とすることを特徴とする請求項4又は請求項5のい
ずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
6. The width of an unexposed portion of an exposure mask is 23 μm.
The width of the exposed portion around the unexposed portion is 2 μm
The method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 4, wherein:
【請求項7】 対向配置される2枚の基板間の間隙をポ
ジ型感光性樹脂からなる柱状スペーサにより均一に保持
し、前記間隙に液晶組成物を封入してなる液晶表示装置
の製造方法において、 前記基板の少なくとも何れか一方に前記ポジ型感光性樹
脂を塗布する工程と、前記柱状スペーサの形成領域に対
応する未露光部分の内部に露光部分を設けてなる露光マ
スクを介して前記ポジ型感光性樹脂を露光する工程と、
露光後の前記ポジ型感光性樹脂を現像する工程とを具備
し、前記柱状スペーサの頂上に平坦部分を形成する事を
特徴とする液晶表示装置の製造方法。
7. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: a gap between two substrates disposed opposite to each other, uniformly held by a columnar spacer made of a positive photosensitive resin, and a liquid crystal composition sealed in the gap. A step of applying the positive-type photosensitive resin to at least one of the substrates, and the positive-type photosensitive resin through an exposure mask provided with an exposed portion inside an unexposed portion corresponding to a formation region of the columnar spacer. Exposing the photosensitive resin,
Developing the positive-type photosensitive resin after exposure, and forming a flat portion on the top of the columnar spacer.
【請求項8】 露光マスクの露光部分の面積を未露光部
分の面積の75%以下にすることを特徴とする請求項7
に記載の液晶表示装置の製造方法。
8. The exposure mask according to claim 7, wherein the area of the exposed portion of the exposure mask is 75% or less of the area of the unexposed portion.
3. The method for manufacturing a liquid crystal display device according to item 1.
【請求項9】 露光マスクの露光部分の幅を23μm以
下とし、前記露光部分周囲の未露光部分の幅を2μm以
上とすることを特徴とする請求項7又は請求項8のいず
れかに記載の液晶表示装置の製造方法。
9. The exposure mask according to claim 7, wherein the width of the exposed portion of the exposure mask is 23 μm or less, and the width of the unexposed portion around the exposed portion is 2 μm or more. A method for manufacturing a liquid crystal display device.
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