JP2002056585A

JP2002056585A - ディスク搬送装置

Info

Publication number: JP2002056585A
Application number: JP2000245224A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Kurihara; 広行栗原; Minoru Toki; 稔土城; Hiroyuki Hirano; 裕之平野; Shoji Nagasawa; 昭治長沢; Makoto Kikuchi; 誠菊地
Original assignee: Ulvac Inc
Current assignee: Ulvac Inc
Priority date: 2000-08-11
Filing date: 2000-08-11
Publication date: 2002-02-22
Anticipated expiration: 2020-08-11
Also published as: JP4468558B2

Abstract

(57)【要約】【課題】処理室間におけるディスクの搬送を高速化
し、また処理時にガス放出がなく、更には成膜処理時に
は、ディスクの外周部にも完全な成膜が可能で、搬送装
置には膜成分が付着しないディスク搬送装置を提供する
こと。【解決手段】真空下の処理室Ｒには、処理時にディス
クＤをチャックし固定するセンターチャック機構１１
と、処理の完了したディスクＤを処理室Ｒのセンターチ
ャック機構１１から隣接の処理室Ｓのセンターチャック
機構１１’へ搬送する搬送ロボット２１とが設置され
る。搬送ロボット２１はそのアームの先端のハンド２８
に設けられた比較的深いＶ字溝２９によってディスクＤ
の外周部を下側から支持し、センターチャック機構１１
はエアシリンダー１２とロッド１３とからなり、所定位
置へ搬送されてきたディスクＤのセンター部をロッド１
３で挟持して固定する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は情報の記録再生用の
記録担体の製造に際し、基板となるディスクに対して真
空下で成膜、加熱、冷却、洗浄、脱ガス、その他の処理
を行う処理室間でディスクを搬送するためのディスク搬
送装置に関するものであり、更に詳しくは、処理室間を
高速で搬送することができ、成膜等の処理時に搬送装置
からのガス放出がなく、また成膜時には搬送装置に膜成
分が付着せず、更にはディスクの外周部にも効果的に処
理することが可能なディスク搬送装置に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】図８は従来例のディスク搬送装置を示す
図であり、一列に並ぶ複数の真空下の処理室のうちの隣
接する処理室Ｐと処理室Ｑに設けられたディスク搬送装
置を示す。すなわち、ディスクＤはホルダー１０１の円
弧状の上端面１０２に設けられた溝に垂直な姿勢で落と
し込まれて保持されており、ホルダー１０１はトレイ１
０４上に載置されている。処理室Ｐで処理が完了する
と、ディスクＤはホルダー１０１、トレイ１０４と共に
搬送ローラ１０５によって処理室Ｐから、順次、下流側
の処理室へ搬送される。この時、ホルダー１０１とトレ
イ１０４はユニットとして搬送され、最終的にはディス
クＤがアンロードされて、大気下に取り出された後、再
度、真空下の処理室へ循環され再使用される。そして、
処理室Ｐがスパッタリングによる成膜処理室である場
合、ディスクＤはホルダー１０１、トレイ１０４と共に
アノードとされ、図示を省略したカソードのターゲット
から膜成分がスパッタリングされてディスクＤの面に成
膜が施される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記の従来例のディス
ク搬送装置には次のような問題点がある。ディスクＤはホルダー１０１、トレイ１０４によっ
て保持されて搬送され、処理室Ｐの所定の位置で停止さ
れて成膜されるが、ディスクＤの保持によって外周部に
は完全な成膜が得られない。従って不完全な成膜の面積
を小さくするべく、ホルダ１０１の支持溝は浅溝とされ
ているので、ディスクＤの保持が不安定であり、高速で
搬送することができない。ホルダー１０１、トレイ１０４は大気下に取り出さ
れた後、真空下の処理室に戻され再使用されるので、大
気下で吸着した水分等が処理室Ｐ、処理室Ｑで放出され
て処理に好ましくない影響を与えている。スパッタリングによる成膜処理時にはホルダー１０
１、トレイ１０４がディスクＤと共にアノードとなり膜
成分が付着するので、再使用に当っては付着物の洗浄・
再生作業を要し、製造コストを増大させている。

【０００４】本発明は上述の問題に鑑みてなされ、処理
室間におけるディスクの搬送を高速化することができ、
また処理時にガス放出がなく、更には、成膜処理時には
ディスクの外周部にも完全な成膜が可能で、搬送装置に
は膜成分が付着しないディスク搬送装置を提供すること
を課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記の課題は請求項１の
構成によって解決されるが、その解決手段を説明すれば
次の如くである。

【０００６】請求項１のディスク搬送装置は、隔壁で画
成された隣接する真空下の処理処理室間でディスクを搬
送するディスク搬送装置において、各処理室に、ディス
クのセンター部をチャックして処理時にディスクを固定
するセンターチャック機構と、アームによってディスク
の外周部を保持し上流側のセンターチャック機構から下
流側のセンターチャック機構へ搬送する搬送ロボット
と、隔壁の搬送用開口をディスクの搬送に同期して開閉
するシャッターとが設けられているものである。

【０００７】このようなディスク搬送装置は、処理時に
ディスクを固定するセンターチャック機構と、処理室間
でディスクを搬送する搬送ロボットとが役割分担して独
立に設けられているので、ディスクを安定に保持し高速
で搬送することができ、かつ処理時にはディスクの実使
用時における保持部であるセンター部を固定するので外
周部は完全に処理され処理面積を減少させない。また、
スパッタリングによる成膜処理時には、アノードとして
のディスクがセンターチャック機構によって固定され、
搬送ロボットはディスクとは離隔されることからは膜成
分が付着せず、搬送ロボットは洗浄・再生作業を必要と
しない。また搬送ロボットは通常的には大気と接触しな
いので、真空下でガスを放出せず処理に悪影響を与える
ことはない。

【０００８】請求項１に従属する請求項２のディスク搬
送装置は、搬送ロボットがアームの先端のハンドにディ
スクの外周部を下側から支持する比較的深い溝を備えた
ものである。このようなディスク搬送装置は、ディスク
を簡易に保持し取り外すことができ、かつディスクを安
定に保持して高速で搬送することができる。請求項１に
従属する請求項３のディスク搬送装置は、搬送ロボット
が、ディスクの処理時には、センターチャック機構とは
離れた設置場所に戻されて待機状態とされるものであ
る。このようなディスク搬送装置は、搬送ロボットに膜
成分が付着せず、付着物の洗浄・再生作業を必要としな
い。

【０００９】請求項１に従属する請求項４のディスク搬
送装置は、センターチャック機構が処理室のディスク面
にほぼ平行な対向する両壁面に設けられたエアシリンダ
ーのロッドによってディスクのセンター部を高い位置精
度で挟持するものである。このようなディスク搬送装置
は、搬送ロボットによって所定の位置に搬送されてくる
ディスクのセンター部をチャックし固定するので、ディ
スクを成膜処理する場合、ディスクの外周部は完全に成
膜され、外周部を保持する場合と比較して成膜面積を増
大させる。請求項１に従属する請求項５のディスク搬送
装置は、センターチャック機構がディスクと電気的に接
続されているものである。このようなディスク搬送装置
はセンターチャック機構と共にディスクをアノードと
し、別に設けるカソードのターゲットとの間でスパッタ
リングによる成膜を可能ならしめる。

【００１０】請求項１に従属する請求項６のディスク搬
送装置は、ディスクが磁気ディスク、光ディスク、光磁
気ディスクを含む情報の記録再生用の記録担体を製造す
るための、センター部でチャッキング可能とされた円板
状基板の搬送装置である。このようなディスク搬送装置
は、上記各種の記録担体の製造プロセスに適用されて、
ディスク外周部の処理面積を増大させ、かつ搬送が高速
化される等によって処理効率を高める。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明のディスク搬送装置は、剛
性を有する磁気ディスク（ＨＤ）、コンパクトディスク
（ＣＤ）、デジタルバ−サタイルディスク（ＤＶＤ）等
の光ディスク、ミニディスク（ＭＤ）を含む光磁気ディ
スク、その他、情報の記録再生用の記録担体の製造に際
し、円板状基板としてのディスクに施される各種の処理
の間にディスクを搬送する装置である。本発明のディス
ク搬送装置は、上述したように、隔壁で画成された隣接
する処理室間でディスクを搬送するディスク搬送装置に
おいて、各処理室に、ディスクのセンター部をチャック
して処理時にディスクを固定するセンターチャック機構
と、アームによってディスクの外周部を保持し上流側の
センターチャック機構から下流側のセンターチャック機
構へ搬送する搬送ロボットと、隣接する処理室間のディ
スクの搬送に同期して隔壁の搬送用開口を開閉するシャ
ッターとが設けられているものである。

【００１２】本発明のディスク搬送装置は、一列に並べ
られた複数の処理室を順次搬送してディスクに成膜、加
熱、冷却、洗浄、脱ガス等の処理を行うために、各処理
室に設けられディスク搬送装置に関するものであり、処
理の種類は問わない。また、並べられる処理室は２処理
室であってもよく、また１０処理室以上であってもよ
く、処理室の数は問わない。

【００１３】ディスクを搬送する搬送ロボットは、ディ
スクをどのように保持するものであってもよいが、ディ
スクの保持、取外しを簡易に行うことができるものであ
ることが好ましい。そして、ディスクの処理時には、セ
ンターチャック機構によってディスクのセンター部を挟
持するので、ディスクの円滑な受渡しのためには搬送時
にはディスクの外周部を支持するものであることが好ま
しい。そのために、搬送ロボットはアームの先端のハン
ドに垂直な姿勢のディスクを落とし込む溝を設けたもの
であることが望ましい。また、その溝は比較的深いもの
として、ディスクを安定に保持し、高速での搬送に耐え
るものとすることが望ましい。

【００１４】更には、搬送ロボットは、ディスクの処理
時にはディスクから離隔されるが、この時に処理の影響
を避けるために、処理が行われるセンターチャック機構
からは離れた位置に設置されていることが望ましい。ま
た、搬送ロボットは、それ自身が設置されている処理室
から隣接する下流側の処理室へディスクを送り込むもの
であってもよく、また上流側の処理室からそれ自身が設
置されている処理室へディスクを引き込むものであって
もよい。

【００１５】処理時にディスクを固定するセンターチャ
ック機構は、ディスクから製造される記録担体の実使用
時における保持部であるセンター部を固定するものであ
れば、ディスクをどのように固定するものであってもよ
いが、処理室のディスク面にほぼ平行な対向する両壁面
にそれぞれ設けられたエアシリンダーのロッドに挟持さ
せることによりディスクを最も簡易に固定し得る。ま
た、センターチャック機構をディスクと電気的に接続
し、センターチャック機構と共にディスクをアノードと
することにより、別に設けるカソードのターゲットによ
るスパッタ成膜を簡易な機構で施し得る。

【００１６】

【実施例】次に、本発明のディスク搬送装置を実施例に
よって、図面を参照し、具体的に説明する。

【００１７】（実施例）図１から図３までは実施例のデ
ィスク処理室におけるディスク搬送装置の構成要素と搬
送のステップを示す斜視図である。すなわち、ディスク
搬送装置は真空下の処理室Ｒ、処理室Ｓを含む連接され
た複数の処理室内にそれぞれ同様な搬送装置が設けられ
ており、ディスクＤは処理室Ｒから処理室Ｓの方向へ搬
送される。処理室Ｒのディスク搬送装置１と処理室Ｓの
ディスク搬送装置１’は全く同様であるので、以下、処
理室Ｒのディスク搬送装置１による処理室Ｒから処理室
ＳへのディスクＤの搬送を主体的に説明する。なお、処
理室Ｒと処理室Ｓとの間には隔壁６が設けられており、
隔壁６にはディスクＤを通過させる開口７が形成されて
いる。そして、隔壁６に沿ってスライドし、ディスクＤ
の通過に同期して開口７を開閉するシャッター８がその
図示を省略したエアシリンダーのロッド９と共に設けら
れている。

【００１８】図１のＡ、Ｂに示すように、処理室Ｒに
は、搬送装置１として、処理時にディスクＤのセンター
をチャックして固定するセンターチャック機構１１と、
処理の完了したディスクＤを処理室Ｒのセンターチャッ
ク機構１１から処理室Ｓのセンターチャック機構１１’
へ搬送する三関節型の搬送ロボット２１とが設けられて
いる。なお、この搬送装置１においては、ディスクＤは
垂直な姿勢として搬送される。そして、センターチャッ
ク機構１１は処理室ＲのディスクＤの面に平行な対向す
る両側の壁面にそれぞれ設けられたエアシリンダー１２
のロッド１３によってディスクＤのセンター部を高い位
置精度で挟持するものであるが、図１から図３までにお
いては、搬送ロボット２１の搬送ステップを簡明に示す
ために、エアシリンダー１２は図示を省略されており、
２本のロッド１３のうちの一方のロッド１３はディスク
Ｄに隠れていることが多い。なお、エアシリンダー１２
とロッド１３は後述の図７において完全に図示されてい
る。

【００１９】搬送ロボット２１は旋回軸２３に第１アー
ム２４、第２アーム２６、および円弧状の上端面を有す
るハンド２８が屈伸可能に取り付けられている。すなわ
ち、旋回軸２３に一端側が取り付けられた第１アーム２
４の他端側に回転軸２５を介して第２アーム２６の一端
側が取り付けられ、第２アーム２６の他端側に回転軸２
７を介してハンド２８が取り付けられており、ハンド２
８はディスクＤを常に下側から支持するように制御され
ている。そして、図４はディスクＤを保持するハンド２
８の斜視図であり、ハンド２８の上端面に設けられた比
較的深いＶ字溝２９によってディスクＤの外周部が下側
から支持されている。図４に示すようにディスクＤは中
心部に開口ｈを有しており、ロッド１３は開口ｈの周縁
部を保持する。なお、図５はハンド２８のＶ字溝２９に
よるディスクＤの保持を示す断面図である。また、図６
は従来例のトレイ１０１の溝１０３によるディスクＤの
保持を示す断面図であり、従来例のトレイ１０１と比較
して、本ディスク搬送装置１１のハンド２８は深いＶ字
溝２９によってディスクＤを安定に保持するので、ディ
スクＤの搬送速度を向上させることができる。

【００２０】図７はスパッタリングによる成膜処理が行
われる処理室Ｒの搬送方向から見た断面図である。すな
わち、図７のＡは搬送ロボット２１の一点鎖線で示すハ
ンド２８によってディスクＤが所定の位置へ搬送されて
きた状態を示し、図７のＢはディスクＤがセンターチャ
ック機構１１によってセンター部を挟持され、搬送ロボ
ット２１が離隔された状態を示す。すなわち、図７にお
いて、処理室Ｒの対向する側壁２の外側に、後述のカソ
ード３１とターゲット３２を介して、センターチャック
機構１１としてのエアシリンダー１２が取付け板３と共
に取り付けられており、そのエアシリンダー１２のロッ
ド１３によってディスクＤが挟持されている状態を示
す。

【００２１】カソード３１は処理室Ｒの側壁２と取付け
板３との間にそれぞれ電気絶縁体５、６を介在させて固
定されており、カソード３１の内面側にターゲット３２
が取り付けられている。そして、カソード３１は図示を
省略した電源に接続されている。なお、上述したエアシ
リンダー１２のロッド１３はカソード３１およびターゲ
ット３２に形成された穴を遊貫して設けられている。そ
して、処理室Ｒ内を圧力１０^-1〜１０^-2Ｐａ程度のアル
ゴンガス雰囲気として、ディスクＤをアース電位とし、
膜成分のターゲット３２に（−）１ｋＶ前後の電圧を印
加することにより、ターゲット３２とディスクＤとの間
に放電プラズマが形成され、ディスクＤの両面にスパッ
タリングによる成膜が施される。

【００２２】図１のＡから図３のＢまでは、搬送ロボッ
ト２１の構成要素の作用をステップ的に示す。すなわ
ち、図１のＡは、ディスクＤがセンターチャック機構１
１の２本のロッド１３によってセンター部を挟持されて
いる状態にあり、搬送ロボット２１は待機状態から第１
アーム２４、第２アーム２６が矢印で示すように上流側
へ回転され伸長されつつある状態を示す。この時、シャ
ッター８は開口７を閉じた状態にある。そして、処理室
ＲにおけるディスクＤと搬送ロボット２１のこのような
状態は、下流側の処理室ＳにおけるディスクＤ’と搬送
ロボット２１’についても同様であり、図示が省略され
ている処理室Ｒの上流側の処理室、および処理室Ｓの下
流側の処理室においても同様である。すなわち、連接さ
れた処理室Ｒ、処理室Ｓを含む各処理室のセンターチャ
ック機構、搬送ロボット、およびシャッターは同期して
作動される。続く図１のＢは、図１のＡの状態から第１
アーム２４が矢印で示す方向へ回転されてハンド２８が
ディスクＤを保持した後、センターチャック機構１１の
ロッド１３が離間されてディスクＤの保持が開放される
と共に、シャッター８の駆動軸９が引き込まれて開口７
が現れた状態を示す。

【００２３】図２のＡは、第１アーム２４、第２アーム
２６が旋回軸２３、回転軸２５の回りにそれぞれ下流側
へ回転されることにより、ハンド２８に保持されたディ
スクＤが開口７を通過しつつある状態を示す。この時、
ハンド２８は、ディスクＤを下側から支持するように、
回転軸２７の回りに回転される。また、図２のＢは、第
１アーム２４、第２アーム２６が図２のＡから更に回転
を進められて、第２アーム２６とハンド２８が処理室Ｓ
内へ送り込まれ、ディスクＤを処理室Ｓの所定の位置へ
搬送した後、処理室Ｓのセンターチャック機構１１’が
作動されて、ディスクＤのセンター部がロッド１３’に
よって挟持された状態を示す。

【００２４】図３のＡは図２のＢの状態から搬送ロボッ
ト２１のハンド２８がディスクＤから外されると共に、
第１アーム２４、第２アーム２６が引き戻されている状
態を示し、図３のＢは、第１アーム２４、第２アーム２
６が、一旦、一点鎖線の位置へ戻され重ねられた後、矢
印で示すように旋回軸２３の回りに旋回されて待機状態
とされると共に、開口７がシャッター８によって閉じら
れた状態を示す。この状態において、処理室Ｓではディ
スクＤに成膜が施され、処理室Ｒでは上流側の処理室か
ら搬送されて来ているディスクＤ”への成膜が施され
る。そして、ディスクＤ、Ｄ”への成膜が完了すると、
搬送ロボット２１の作動が再開されて図１のＡへ戻る。

【００２５】上述したように、成膜時にはディスクＤは
製造される記録担体の実使用時における保持部であるセ
ンター部で固定されるので、外周部は完全に成膜される
ことから成膜面積が増大される。また、搬送ロボット２
１はセンターチャック機構１１とは離れた場所に設置さ
れていることから、成膜時に設置場所で待機状態にある
搬送ロボット２１には膜成分が付着せず、洗浄・再生作
業を必要としない。更には、搬送ロボット２１は処理室
Ｒ内に固定的に設置されており、通常的には大気に接触
することはないので、真空下において吸着水分を放出す
るようなことはない。

【００２６】本発明の実施例によるディスク搬送装置は
以上のように構成され作用するが、勿論、本発明はこれ
に限られることなく、本発明の技術的思想に基づいて種
々の変形が可能である。

【００２７】例えば本実施例においてはスパッタリング
によって連続的に成膜を施す場合のディスク搬送装置を
例示したが、スパッタリング膜以外に蒸着膜やＣＶＤ
（化学的気相折出）膜を連続的に形成させる場合のディ
スクの搬送にも同様に適用される。また本実施例におい
ては、搬送ロボットとして三関節型搬送ロボットを示し
たが、ディスクの外周部を安定に保持して隣接する処理
室間を搬送することができ、ディスクの処理時には使用
されずセンターチャック機構から離隔されるものである
限りにおいて、これ以外の如何なる種類の搬送ロボット
を使用してもよい。

【００２８】また本実施例においては、処理時にディス
クのセンター部をチャックして固定するセンターチャッ
ク機構として、ディスクのセンター部の両面をエアシリ
ンダーのロッドで挟持するものを例示したが、ディスク
のセンター部を保持するものである限りにおいてエアシ
リンダー以外によるものであってもよく、例えば電磁石
によって往復動するロッドで挟持するようにしてもよ
い。また、ディスクの片面側でセンター部の開口の周縁
部を真空によって吸着してチャックするようなセンター
チャック機構としてもよい。また本実施例においては搬
送ロボット２１のハンド２８にＶ字溝２９を設けたが、
Ｕ字溝であってもよく、溝の断面形状は限定されない。
また本実施例においては、一列に並べられた複数の処理
室をディスクが一方向へ搬送される場合を示したが往復
して搬送するようにしてもよい。

【００２９】また、本実施例においては、処理室間の隔
壁の開口を開閉するシャッター８としてエアシリンダー
のロッド９で駆動されるものを例示したが、搬送ロボッ
ト２１の作動に支障とならないものである限りにおい
て、シャッターは如何なるものであってもよい。また本
実施例においては、ディスク搬送装置として、ディスク
を垂直な姿勢で搬送する搬送ロボットとセンターチャッ
ク機構を示したが、ディスクを水平な姿勢で搬送する搬
送ロボットとセンターチャック機構とからなるディスク
搬送装置としてもよい。

【００３０】

【発明の効果】本発明は以上に説明したような形態で実
施され、次ぎに記載するような効果を奏する。

【００３１】請求項１のディスク搬送装置によれば、隣
接する処理室へディスクを搬送する搬送ロボット、処理
時にディスクを固定するセンターチャック機構とが独立
して設けられているので、例えば成膜処理においては搬
送ロボットに膜成分が付着せず、搬送ロボットの洗浄・
再生する作業が不要でありコストを低下させる。また、
ディスクの搬送時には成膜面積の減少を考慮することな
く安定に保持することができ、処理室間を高速で搬送し
得るのでディスクの処理効率を大幅に向上させる。ま
た、そのことによってディスクの外周部も完全に処理さ
れ処理面積が増大される。また、搬送ロボットは処理室
内に設置され、通常的には大気と接触して水分を吸着す
ることはないので、処理室内でガスを放出することはな
く処理に悪影響を及ぼすことはない。

【００３２】請求項２のディスク搬送装置によれば、搬
送ロボットのアームの先端ハンドに設けた比較的深い溝
によってディスクの外周部を常に下側から支持するので
ディスクが安定に保持されると共にディスクが簡易に着
脱され、処理の前後においてディスクを高速で搬送する
ことができる。請求項３のディスク搬送装置によれば、
搬送ロボットが処理時にディスクを固定するセンターチ
ャック機構から離れた設置場所に戻されて待機状態とさ
れるので、例えば成膜処理において搬送ロボットに膜成
分が付着することはない。

【００３３】請求項４のディスク搬送装置によれば、搬
送ロボットによって所定の位置に搬送されてくるディス
クを両面側からエアシリンダーのロッドによって高い位
置精度でチャックし固定するので、例えば成膜処理の場
合にはディスクの外周部は完全に成膜されて成膜面積を
増大させ、例えば磁気記録のハードデスクを製造する場
合に記録領域を増大させる。請求項５のディスク搬送装
置によれば、センターチャック機構がディスクと電気的
に接続されているので、スパッタリングによる成膜処理
を行う場合に、センターチャック機構をアース電位とす
ることにより、アノードのディスクとカソードのターゲ
ットとによる成膜機構を容易に組み立てることができ
る。

【００３４】請求項６のディスク搬送装置は、磁気ディ
スク、光ディスク、光磁気ディスクを含む情報の記録再
生用の記録担体を製造するための円板状基板としてのデ
ィスクの搬送に際し、センター部をチャックして搬送す
るので、ディスク外周部まで隈なく処理されて処理面積
を増大させ、かつ搬送の高速化、その他によって生産性
を向上させる。

【図面の簡単な説明】

【図１】処理室内のディスク搬送装置を示す内部斜視図
であり、Ａ、Ｂは後述の図２、図３と共に、ディスク搬
送装置による搬送のステップを示す。

【図２】図１に続くディスク搬送装置の搬送ステップを
示す斜視図であり、Ａ、Ｂはそのステップを示す。

【図３】図２に続くディスク搬送装置の搬送ステップを
示す斜視図であり、Ａ、Ｂはそのステップを示す。

【図４】搬送ロボットのアームの先端のハンドにおける
ディスクの保持を示す斜視図である。

【図５】同ハンドの比較的深い溝によるディスクの保持
を示す断面図である。

【図６】従来例のトレイの浅い溝によるディスクの保持
を示す断面図である。

【図７】ディスクの成膜処理室の断面図である。

【図８】従来例のディスク搬送装置を概略的に示す側面
図である。

【符号の説明】

１ディスク搬送装置２側壁４電気絶縁体５電気絶縁体７開口８シャッター１１センターチャック機構１２エアシリンダー１３ロッド２１搬送ロボット２４第１アーム２６大２アーム２８ハンド２９Ｖ字溝３１カソード３２ターゲットＰ、Ｑ、Ｒ、Ｓ処理室Ｄディスク

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者平野裕之神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技術株式会社内 (72)発明者長沢昭治神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技術株式会社内 (72)発明者菊地誠神奈川県茅ヶ崎市萩園2500番地日本真空技術株式会社内Ｆターム(参考） 5D121 AA01 AA03 EE01 JJ03 JJ09 5F031 CA01 FA05 GA12 GA15 MA23 MA28

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】隔壁で画成された隣接する真空下の処理
室間でディスクを搬送するディスク搬送装置において、各処理室に、ディスクのセンター部をチャックして処理
時にディスクを固定するセンターチャック機構と、アー
ムによってディスクの外周部を保持し上流側の前記セン
ターチャック機構から下流側の前記センターチャック機
構へ搬送する搬送ロボットと、前記隔壁の搬送用開口を
ディスクの搬送に同期して開閉するシャッターとが設け
られていることを特徴とするディスク搬送装置。
【請求項２】前記搬送ロボットが前記アームの先端の
ハンドにディスクの外周部を下側から支持する比較的深
い溝を備えたものである請求項１に記載のディスク搬送
装置。
【請求項３】前記搬送ロボットが、ディスクの処理時
には、前記センターチャック機構とは離れた設置場所に
戻されて待機状態とされる請求項１または請求項２に記
載のディスク搬送装置。
【請求項４】前記センターチャック機構が前記処理室
のディスク面にほぼ平行な対向する両壁面に設けられた
エアシリンダーのロッドによってディスクのセンター部
を高い位置精度で挟持するものである請求項１から請求
項３までの何れかに記載のディスク搬送装置。
【請求項５】前記センターチャック機構がディスクと
電気的に接続されている請求項１から請求項４までの何
れかに記載のディスク搬送装置。
【請求項６】前記ディスクが磁気ディスク、光ディス
ク、光磁気ディスクを含む情報の記録再生用の記録担体
を製造するための、センター部でチャッキング可能とさ
れた円板状基板である請求項１から請求項５までの何れ
かに記載のディスク搬送装置。