JP2002050230A - Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel - Google Patents

Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel

Info

Publication number
JP2002050230A
JP2002050230A JP2000236007A JP2000236007A JP2002050230A JP 2002050230 A JP2002050230 A JP 2002050230A JP 2000236007 A JP2000236007 A JP 2000236007A JP 2000236007 A JP2000236007 A JP 2000236007A JP 2002050230 A JP2002050230 A JP 2002050230A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transparent conductive
film
conductive film
touch panel
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000236007A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4975897B2 (en
Inventor
Toshiyuki Otani
寿幸 大谷
Shunji Kurahara
俊次 倉原
Yasushi Aikawa
泰 相川
Katsuya Ito
勝也 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyobo Co Ltd
Original Assignee
Toyobo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to JP2000236007A priority Critical patent/JP4975897B2/en
Application filed by Toyobo Co Ltd filed Critical Toyobo Co Ltd
Priority to AT01107264T priority patent/ATE362843T1/en
Priority to DE60128508T priority patent/DE60128508D1/en
Priority to TW90106944A priority patent/TW525195B/en
Priority to EP20010107264 priority patent/EP1147882B1/en
Priority to US09/816,308 priority patent/US6603085B2/en
Priority to KR1020010016169A priority patent/KR100619547B1/en
Priority to CNB011099682A priority patent/CN1193378C/en
Publication of JP2002050230A publication Critical patent/JP2002050230A/en
Priority to HK02101817.7A priority patent/HK1040218B/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4975897B2 publication Critical patent/JP4975897B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Position Input By Displaying (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transparent conductive film or a transparent conductive sheet having excellent durability for pen-input when used for a touch panel and no damage even after 100,000-time sliding test under the load of 5.0 N by using a polyacetal pen, and a touch panel using the same. SOLUTION: The transparent conductive film is formed by laminating a cured material layer mainly containing a cured resin and a transparent conductive thin film in this sequence on a transparent plastic film substrate. The volume of volatile constituent contained in the transparent conductive film is 30 ppm or less. The transparent resin film is laminated with the medium of adhesive onto other surface of the transparent conductive thin film of the transparent conductive film. Furthermore, either are of the panel plates at least comprises the transparent conductive film or the transparent conductive sheet.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は透明プラスチックフ
ィルム基材上に硬化物層及び透明導電性薄膜をこの順に
積層した透明導電性フィルムまたは透明導電性シート、
及びこれらを用いたタッチパネルに関するものであり、
特にペン入力用タッチパネルに用いた際にペン摺動耐久
性に優れる透明導電性フィルムまたは透明導電性シー
ト、及びこれらを用いたタッチパネルに関するものであ
る。
The present invention relates to a transparent conductive film or transparent conductive sheet comprising a cured plastic layer and a transparent conductive thin film laminated in this order on a transparent plastic film substrate.
And a touch panel using them.
In particular, the present invention relates to a transparent conductive film or a transparent conductive sheet having excellent pen sliding durability when used for a pen input touch panel, and a touch panel using these.

【0002】[0002]

【従来の技術】透明プラスチックフィルム基材上に、透
明でかつ抵抗が小さい薄膜を積層した透明導電性フィル
ムは、その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディス
プレイやエレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレ
イなどのようなフラットパネルディスプレイや、タッチ
パネルの透明電極など、電気、電子分野の用途に広く使
用されている。
2. Description of the Related Art A transparent conductive film obtained by laminating a transparent and low-resistance thin film on a transparent plastic film substrate is used for applications utilizing its conductivity, such as liquid crystal displays and electroluminescent (EL) displays. Such flat panel displays and transparent electrodes of touch panels are widely used in applications in the electric and electronic fields.

【0003】近年、携帯情報端末やタッチパネル付きノ
ートパソコンの普及により、従来以上に耐ペン摺動性に
優れたタッチパネルが要求されるようになってきた。
In recent years, with the spread of portable information terminals and notebook personal computers with a touch panel, a touch panel having better pen sliding resistance than ever has been required.

【0004】タッチパネルにペン入力する際、固定電極
側の透明導電性薄膜と可動電極(フィルム電極)側の透
明導電性薄膜同士が接触するが、この際にペン荷重で透
明導電性薄膜にクラック、剥離などの破壊が生じない、
優れた耐ペン摺動性を有する透明導電性フィルムが必要
とされる。
When a pen is input to the touch panel, the transparent conductive thin film on the fixed electrode side and the transparent conductive thin film on the movable electrode (film electrode) come into contact with each other. No destruction such as peeling occurs
A transparent conductive film having excellent pen sliding resistance is required.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
透明導電性フィルムは次のような課題を有していた。
However, the conventional transparent conductive film has the following problems.

【0006】厚さが120μm以下の透明プラスチック
フィルム基材上に透明導電性薄膜を形成し、粘着剤層で
他の透明基体と貼りあわせた透明導電性フィルム(特開
平2−66809号公報)が提案されている。しかしな
がら、後述の摺動耐久試験に記載のポリアセタール製の
ペンを使用し、5.0Nの荷重で10万回の直線摺動試
験後には、透明導電性薄膜に剥離が生じ、ペン入力に対
する耐久性は不十分であった。そのため、この剥離部の
白化により、タッチパネル付きディスプレイ用に使用し
た際に表示品位が低下するという問題があった。
[0006] A transparent conductive thin film is formed on a transparent plastic film substrate having a thickness of 120 µm or less, and is adhered to another transparent substrate with an adhesive layer (JP-A-2-66809). Proposed. However, after using the polyacetal pen described in the sliding durability test described below and performing 100,000 times of linear sliding tests under a load of 5.0 N, the transparent conductive thin film peels off and has a durability against pen input. Was inadequate. For this reason, there is a problem that the display quality deteriorates when used for a display with a touch panel due to the whitening of the peeled portion.

【0007】また、透明プラスチックフィルム基材上
に、有機ケイ素化合物の加水分解により生成された層を
設け、さらに結晶質の透明導電性薄膜を積層した透明導
電性フィルムが、例えば特開昭60−131711号公
報、特開昭61−79647号公報、特開昭61−18
3809号公報、特開平2−194943号公報、特開
平2−276630号公報、特開平8−64034号公
報などに提案されている。
Further, a transparent conductive film in which a layer formed by hydrolysis of an organosilicon compound is provided on a transparent plastic film substrate and a crystalline transparent conductive thin film is further laminated is disclosed in, for example, JP-A-131171, JP-A-61-79647, JP-A-61-18
3809, JP-A-2-194943, JP-A-2-276630 and JP-A-8-64034.

【0008】しかしながら、これらの透明導電性フィル
ムは、結晶性の透明導電性薄膜であるため非常に脆く、
後述の摺動耐久試験に記載のポリアセタール製のペンを
使用し、5.0Nの荷重で10万回の直線摺動試験後に
は、透明導電性薄膜にクラックが発生する。また、透明
導電性薄膜をスパッタリングした後に190℃程度の熱
処理を必要とするため、加工コストが高くなるという欠
点がある。
[0008] However, these transparent conductive films are very brittle because they are crystalline transparent conductive thin films.
Using a polyacetal pen described in the sliding durability test described below, a crack occurs in the transparent conductive thin film after 100,000 linear sliding tests with a load of 5.0 N. In addition, since a heat treatment at about 190 ° C. is required after sputtering the transparent conductive thin film, there is a disadvantage that processing cost is increased.

【0009】また、特開平2−5308号公報、特開2
000−62074号公報において、硬化被膜層の上に
透明導電性薄膜を形成した導電性プラスチック積層体が
提案されている。しかしながら、この積層体は液晶ディ
スプレイの透明電極に用いるのには十分であるが、タッ
チパネルに用いた際の摺動耐久性が十分ではない。これ
は透明導電性薄膜を製膜中に硬化皮膜層から残留揮発成
分がガス化して発生して、透明導電性薄膜の膜質が低下
するためである。
Further, Japanese Patent Application Laid-Open Nos. Hei 2-5308 and
000-62074 proposes a conductive plastic laminate in which a transparent conductive thin film is formed on a cured film layer. However, this laminate is sufficient for use as a transparent electrode of a liquid crystal display, but has insufficient sliding durability when used for a touch panel. This is because the residual volatile components are gasified from the cured film layer during the formation of the transparent conductive thin film and are generated, thereby deteriorating the film quality of the transparent conductive thin film.

【0010】本発明の目的は、上記の従来の問題点に鑑
み、タッチパネルに用いた際のペン入力耐久性に優れ、
特に後述の摺動耐久試験に記載のポリアセタール製のペ
ンを使用し、5.0Nの荷重で10万回の摺動試験後で
も透明導電性薄膜の劣化がない、透明導電性フィルム、
透明導電性シート、及びこれらを用いたタッチパネルを
提供する。
In view of the above-mentioned conventional problems, an object of the present invention is to provide excellent pen input durability when used for a touch panel,
In particular, a transparent conductive film using a polyacetal pen described in the sliding durability test described below and having no deterioration of the transparent conductive thin film even after 100,000 times of sliding tests under a load of 5.0 N,
Provided are a transparent conductive sheet and a touch panel using the same.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記のような
状況に鑑みなされたものであって、上記の課題を解決す
ることができた透明導電性フィルム、透明導電性シート
およびタッチパネルとは、以下の通りである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above situation, and a transparent conductive film, a transparent conductive sheet, and a touch panel which can solve the above-mentioned problems are provided. It is as follows.

【0012】即ち、本発明の第1の発明は、透明プラス
チックフィルム基材上に、硬化型樹脂を主たる構成成分
とする硬化物層、及び透明導電性薄膜をこの順に積層し
た透明導電性フィルムであって、該透明導電性フィルム
に含有する揮発成分量が30ppm以下であることを特
徴する透明導電性フィルムである。
That is, the first invention of the present invention is a transparent conductive film comprising a cured plastic layer mainly composed of a curable resin and a transparent conductive thin film laminated in this order on a transparent plastic film substrate. The transparent conductive film is characterized in that the amount of volatile components contained in the transparent conductive film is 30 ppm or less.

【0013】第2の発明は、前記硬化物層が紫外線硬化
型樹脂を主成分とするであることを特徴とする第1の発
明に記載の透明導電性フィルムである。
A second invention is the transparent conductive film according to the first invention, wherein the cured product layer is mainly composed of an ultraviolet-curable resin.

【0014】第3の発明は、前記硬化型樹脂を主たる構
成成分とする硬化物層と前記透明導電性薄膜との付着力
が0.1N/15mm以上であることを特徴とする第1
または2の発明に記載の透明導電性フィルムである。
According to a third aspect of the present invention, the adhesive force between the cured conductive layer containing the curable resin as a main component and the transparent conductive thin film is 0.1 N / 15 mm or more.
Or the transparent conductive film according to the second aspect of the invention.

【0015】第4の発明は、前記透明導電性薄膜がイン
ジウム−スズ複合酸化物からなることを特徴とする第1
乃至3の発明に記載の透明導電性フィルムである。
According to a fourth aspect of the present invention, the transparent conductive thin film is made of an indium-tin composite oxide.
A transparent conductive film according to any one of the first to third aspects.

【0016】第5の発明は、前記透明導電性薄膜がスズ
−アンチモン複合酸化物からなることを特徴とする第1
乃至3の発明に記載の透明導電性フィルムである。
According to a fifth aspect of the present invention, the transparent conductive thin film is made of a tin-antimony composite oxide.
A transparent conductive film according to any one of the first to third aspects.

【0017】第6の発明は、前記透明導電性フィルムの
透明導電性薄膜面とは反対面に、ハードコート層を積層
することを特徴とする第1乃至5の発明に記載の透明導
電性フィルムである。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided the transparent conductive film according to any one of the first to fifth aspects, wherein a hard coat layer is laminated on the surface of the transparent conductive film opposite to the transparent conductive thin film surface. It is.

【0018】第7の発明は、前記ハードコート層が防眩
効果を有することを特徴とする第6の発明に記載の透明
導電性フィルムである。
A seventh invention is the transparent conductive film according to the sixth invention, wherein the hard coat layer has an antiglare effect.

【0019】第8の発明は、前記ハードコート層に低反
射処理を施したことを特徴とする第6または7の発明に
記載の透明導電性フィルムである。
An eighth invention is the transparent conductive film according to the sixth or seventh invention, wherein the hard coat layer is subjected to a low reflection treatment.

【0020】第9の発明は、第1乃至8の発明に記載の
透明導電性フィルムの透明導電性薄膜面とは反対面に、
粘着剤を介して透明樹脂シートを貼り合わせることを特
徴とする透明導電性シートである。
A ninth invention is directed to a transparent conductive film according to any one of the first to eighth inventions, which has a surface opposite to the transparent conductive thin film surface,
A transparent conductive sheet characterized by laminating a transparent resin sheet via an adhesive.

【0021】第10の発明は、前記透明導電性薄膜を有
する一対のパネル板を透明導電性薄膜が対向するように
スペーサーを介して配置してなるタッチパネルにおい
て、少なくとも一方のパネル板が第1乃至9の発明のい
ずれかに記載の透明導電性フィルムもしくは透明導電性
シートからなることを特徴とするタッチパネルである。
According to a tenth aspect of the present invention, there is provided a touch panel in which a pair of panel plates having the transparent conductive thin film are disposed via a spacer so that the transparent conductive thin films are opposed to each other, and at least one of the first to third panel plates is provided. A touch panel, comprising the transparent conductive film or the transparent conductive sheet according to any one of the nineteenth inventions.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】本発明で用いる透明プラスチック
フィルム基材とは、有機高分子を溶融押出し又は溶液押
出しをして、必要に応じ、長手方向及び/又は幅方向に
延伸、冷却、熱固定を施したフィルムであり、有機高分
子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン−2,6−ナフタレ
ート、ポリプロピレンテレフタレート、ナイロン6、ナ
イロン4、ナイロン66、ナイロン12、ポリイミド、
ポリアミドイミド、ポリエーテルサルファン、ポリエー
テルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレー
ト、セルロースプロピオネート、ポリ塩化ビニール、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエーテ
ルイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレン
オキサイド、ポリスチレン、シンジオタクチックポリス
チレン、ノルボルネン系ポリマーなどが挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The transparent plastic film substrate used in the present invention means that an organic polymer is melt-extruded or solution-extruded, and if necessary, stretched in the longitudinal and / or width directions, cooled, and heat-set. And organic polymers such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, polypropylene terephthalate, nylon 6, nylon 4, nylon 66, nylon 12, polyimide,
Polyamide imide, polyether sulfane, polyether ether ketone, polycarbonate, polyarylate, cellulose propionate, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyetherimide, polyphenylene sulfide, polyphenylene oxide, polystyrene, syndiotactic polystyrene And norbornene-based polymers.

【0023】これらの有機高分子のなかで、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポ
リエチレン−2,6−ナフタレート、シンジオタクチッ
クポリスチレン、ノルボルネン系ポリマー、ポリカーボ
ネート、ポリアリレートなどが好適である。また、これ
らの有機高分子は他の有機重合体の単量体を少量共重合
したり、他の有機高分子をブレンドしてもよい。
Among these organic polymers, polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polyethylene-2,6-naphthalate, syndiotactic polystyrene, norbornene-based polymer, polycarbonate, polyarylate and the like are preferable. Further, these organic polymers may be obtained by copolymerizing a small amount of a monomer of another organic polymer or blending another organic polymer.

【0024】本発明で用いる透明プラスチックフィルム
基材の厚みは、10μmを越え、300μm以下の範囲
であることが好ましく、70〜260μmの範囲が特に
好ましい。プラスチックフィルムの厚みが10μm以下
では機械的強度が不足し、特にタッチパネルに用いた際
のペン入力に対する変形が大きくなり過ぎ、耐久性が不
十分となる。一方、厚みが300μmを越えると、タッ
チパネルに用いた際に、フィルムを変形させるためのペ
ン荷重が大きくなり、好ましくない。
The thickness of the transparent plastic film substrate used in the present invention is preferably in the range of more than 10 μm and 300 μm or less, particularly preferably in the range of 70 to 260 μm. If the thickness of the plastic film is 10 μm or less, the mechanical strength is insufficient, and particularly, the deformation due to pen input when used for a touch panel becomes too large, resulting in insufficient durability. On the other hand, when the thickness exceeds 300 μm, when used for a touch panel, the pen load for deforming the film becomes large, which is not preferable.

【0025】本発明で用いる透明プラスチックフィルム
基材は、本発明の目的を損なわない範囲で、前記フィル
ムをコロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外
線照射処理、電子線照射処理、オゾン処理などの表面活
性化処理を施してもよい。
The transparent plastic film substrate used in the present invention may be a corona discharge treatment, a glow discharge treatment, a flame treatment, an ultraviolet irradiation treatment, an electron beam irradiation treatment, an ozone treatment or the like, as long as the object of the present invention is not impaired. May be applied.

【0026】また、本発明で用いる硬化型樹脂は、加
熱、紫外線照射、電子線照射などのエネルギー印加によ
り硬化する樹脂であれば特に制限はないが、生産性の観
点から紫外線硬化型樹脂を主成分とすることが好まし
い。このような紫外線硬化型樹脂としては、例えば、多
価アルコールのアクリル酸又はメタクリル酸エステルの
ような多官能性のアクリレート樹脂、ジイソシアネー
ト、多価アルコール及びアクリル酸又はメタクリル酸の
ヒドロキシアルキルエステルなどから合成されるような
多官能性のウレタンアクリレート樹脂などを挙げること
ができる。必要に応じてこれらの多官能性の樹脂に単官
能性の単量体、例えば、ビニルピロリドン、メチルメタ
クリレート、スチレンなどを加えて共重合させることが
できる。
The curable resin used in the present invention is not particularly limited as long as it is a resin that can be cured by application of energy such as heating, ultraviolet irradiation, or electron beam irradiation. Preferably, it is a component. Examples of such an ultraviolet-curable resin include, for example, polyfunctional acrylate resins such as acrylic acid or methacrylic acid ester of polyhydric alcohol, diisocyanate, polyhydric alcohol and hydroxyalkyl ester of acrylic acid or methacrylic acid. And a polyfunctional urethane acrylate resin. If necessary, a monofunctional monomer such as vinylpyrrolidone, methyl methacrylate, styrene or the like can be added to these polyfunctional resins and copolymerized.

【0027】紫外線硬化型樹脂は、通常、光重合開始剤
を添加して使用される。光重合開始剤としては、紫外線
を吸収してラジカルを発生する公知の化合物を特に制限
なく使用することができ、このような光重合開始剤とし
ては、例えば、各種ベンゾイン類、フェニルケトン類、
ベンゾフェノン類などを挙げることができる。光重合開
始剤の添加量は、紫外線硬化型樹脂100重量部当たり
通常1〜5重量部である。
The UV-curable resin is usually used after adding a photopolymerization initiator. As the photopolymerization initiator, a known compound that absorbs ultraviolet rays to generate a radical can be used without particular limitation. Examples of such a photopolymerization initiator include various benzoins, phenyl ketones,
Benzophenones and the like can be mentioned. The addition amount of the photopolymerization initiator is usually 1 to 5 parts by weight per 100 parts by weight of the ultraviolet curable resin.

【0028】また、本発明で使用する硬化物層は、主た
る構成成分である硬化型樹脂のほかに、硬化型樹脂に非
相溶な樹脂を併用することが好ましい。マトリックスの
硬化型樹脂に非相溶な樹脂を少量併用することで、硬化
型樹脂中で相分離が起こり非相溶樹脂を粒子状に分散さ
せることができる。この非相溶樹脂の分散粒子により、
硬化物表面に凹凸を形成させることができる。
In the cured product layer used in the present invention, it is preferable to use a resin incompatible with the curable resin in addition to the curable resin as a main component. By using a small amount of an incompatible resin in combination with the curable resin of the matrix, phase separation occurs in the curable resin and the incompatible resin can be dispersed in particles. By the dispersed particles of the incompatible resin,
Irregularities can be formed on the surface of the cured product.

【0029】硬化型樹脂が前記の紫外線硬化型樹脂の場
合、非相溶樹脂としてはポリエステル樹脂、ポリオレフ
ィン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリアミド樹脂などが例
示される。
When the curable resin is the above-mentioned ultraviolet curable resin, examples of the incompatible resin include polyester resin, polyolefin resin, polystyrene resin and polyamide resin.

【0030】前記ポリエステル樹脂は、重量平均分子量
で5,000〜50,000と高分子量であることが好ま
しく、特に好ましくは8,000〜30,000である。
ポリエステル樹脂の重量平均分子量が5,000未満で
あると、ポリエステル樹脂が硬化物層中で適切な大きさ
の粒子となって分散することが困難となる傾向があり好
ましくない。一方、ポリエステル樹脂の重量平均分子量
が50,000を超えると、塗布液を調整する際、溶剤
に対する溶解性が低下するので好ましくない。
The polyester resin preferably has a high molecular weight of 5,000 to 50,000 in weight average molecular weight, and particularly preferably 8,000 to 30,000.
If the weight average molecular weight of the polyester resin is less than 5,000, it tends to be difficult to disperse the polyester resin into particles of an appropriate size in the cured product layer, which is not preferable. On the other hand, when the weight average molecular weight of the polyester resin exceeds 50,000, the solubility in a solvent is reduced when preparing a coating solution, which is not preferable.

【0031】前記の高分子量のポリエステル樹脂は、二
価アルコールと二価カルボン酸を重合することにより得
られる非結晶性の飽和ポリエステル樹脂であり、上記の
紫外線硬化型樹脂と共通の溶媒に溶解することができる
ものである。
The high molecular weight polyester resin is a non-crystalline saturated polyester resin obtained by polymerizing a dihydric alcohol and a dihydric carboxylic acid, and is dissolved in a common solvent with the above-mentioned ultraviolet-curable resin. Is what you can do.

【0032】前記の二価アルコールとしては、例えば、
エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3−
ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘ
キサンジオール、ジエチレングリコール、ネオペンチル
グリコール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、水
素化ビスフェノールAなどを挙げることができる。
As the dihydric alcohol, for example,
Ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-
Examples thereof include butanediol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, diethylene glycol, neopentyl glycol, 1,4-cyclohexanedimethanol, and hydrogenated bisphenol A.

【0033】また、前記の二価カルボン酸としては、例
えば、イソフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、無水
フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無
水フタル酸などを挙げることができる。
Examples of the divalent carboxylic acid include isophthalic acid, terephthalic acid, adipic acid, phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride and the like.

【0034】溶媒に対する溶解性が不十分とならない範
囲で、トリメチロールプロパンやペンタエリスリトール
のような三価以上のアルコール、及び、無水トリメリッ
ト酸や無水ピロメリット酸のような三価以上のカルボン
酸を共重合することができる。
As long as the solubility in the solvent is not insufficient, a trivalent or higher alcohol such as trimethylolpropane or pentaerythritol and a trivalent or higher carboxylic acid such as trimellitic anhydride or pyromellitic anhydride are used. Can be copolymerized.

【0035】本発明において硬化物層の主たる構成成分
である紫外線硬化型樹脂と高分子量のポリエステル樹脂
との配合割合は、紫外線硬化型樹脂100重量部当たり
ポリエステル樹脂0.1〜20重量部であることが好ま
しく、さらに好ましくは0.2〜10重量部、特に好ま
しくは0.5〜5重量部である。前記ポリエステル樹脂
の配合量が紫外線硬化型樹脂100重量部当たり0.1
重量部未満であると、硬化物層表面に形成される突起数
が少なくなり好ましくない。一方、前記ポリエステル樹
脂の配合量が紫外線硬化型樹脂100重量部当たり20
重量部を超えると、この硬化物層の強度が低下しやすく
なる。さらに、ポリエステル樹脂は紫外線硬化型樹脂と
屈折率に差異があるため、硬化物層のヘーズ値が上昇し
透明性を悪化させる傾向があるので好ましくない。しか
しながら、高分子量のポリエステル樹脂の分散粒子によ
る透明性の悪化を積極的に利用し、ヘーズ値の高いフィ
ルムを防眩フイルムとして使用することができる。
In the present invention, the blending ratio of the UV-curable resin and the high-molecular-weight polyester resin, which are the main components of the cured layer, is 0.1 to 20 parts by weight of the polyester resin per 100 parts by weight of the UV-curable resin. Preferably, the amount is 0.2 to 10 parts by weight, particularly preferably 0.5 to 5 parts by weight. The blending amount of the polyester resin is 0.1 per 100 parts by weight of the ultraviolet curable resin.
When the amount is less than the weight part, the number of projections formed on the surface of the cured product layer is undesirably reduced. On the other hand, the blending amount of the polyester resin is 20 per 100 parts by weight of the ultraviolet curable resin.
If the amount exceeds the weight part, the strength of the cured product layer tends to decrease. Further, since the polyester resin has a difference in the refractive index from the ultraviolet curable resin, the haze value of the cured product layer tends to increase and the transparency tends to deteriorate, which is not preferable. However, a film having a high haze value can be used as an anti-glare film by positively utilizing the deterioration of transparency due to dispersed particles of a high molecular weight polyester resin.

【0036】前記の紫外線硬化型樹脂、光重合開始剤及
び高分子量のポリエステル樹脂は、それぞれに共通の溶
剤に溶解して塗布液を調製する。使用する溶剤には特に
制限はなく、例えば、エチルアルコール、イソプロピル
アルコールなどのようなアルコール系溶剤、酢酸エチ
ル、酢酸ブチルなどのようなエステル系溶剤、ジブチル
エーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなど
のようなエーテル系溶剤、メチルイソブチルケトン、シ
クロヘキサノンなどのようなケトン系溶剤、トルエン、
キシレン、ソルベントナフサなどのような芳香族炭化水
素系溶剤などを単独に、あるいは混合して使用すること
ができる。塗布液中の樹脂成分の濃度は、コーティング
法に応じた粘度などを考慮して適切に選択することがで
きるが、通常は、塗布液中に紫外線硬化型樹脂、光重合
開始剤及び高分子量のポリエステル樹脂の合計量が占め
る割合は20〜80重量%である。また、この塗布液に
は、必要に応じてその他の公知の添加剤、例えば、シリ
コーン系レベリング剤などを添加することができる。
The above-mentioned ultraviolet curable resin, photopolymerization initiator and high molecular weight polyester resin are dissolved in a common solvent to prepare a coating solution. There is no particular limitation on the solvent used, for example, ethyl alcohol, alcohol solvents such as isopropyl alcohol, ethyl acetate, ester solvents such as butyl acetate, dibutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether and the like. Ether solvents, methyl isobutyl ketone, ketone solvents such as cyclohexanone, toluene,
Aromatic hydrocarbon solvents such as xylene and solvent naphtha can be used alone or as a mixture. The concentration of the resin component in the coating solution can be appropriately selected in consideration of the viscosity and the like according to the coating method, but usually, the UV curable resin, the photopolymerization initiator and the high molecular weight The proportion occupied by the total amount of the polyester resin is 20 to 80% by weight. Further, if necessary, other known additives, for example, a silicone-based leveling agent, can be added to the coating liquid.

【0037】本発明において、調製された塗布液は透明
プラスチックフイルム基材上にコーティングされる。コ
ーティング法には特に制限はなく、バーコート法、グラ
ビアコート法、リバースコート法などの従来から知られ
ている方法を使用することができる。コーティングされ
た塗布液は、次の乾燥工程で溶剤が蒸発除去される。こ
の工程で、塗布液中で均一に溶解していた高分子量のポ
リエステル樹脂は微粒子となって紫外線硬化型樹脂中に
析出する。塗膜が乾燥した後、プラスチックフイルムに
は、さらに紫外線が照射され、紫外線硬化型樹脂が架橋
・硬化して硬化物層を形成する。この硬化の工程で、高
分子量のポリエステル樹脂の微粒子はハードコート層中
に固定され、また、硬化物層の表面に突起を形成する。
In the present invention, the prepared coating solution is coated on a transparent plastic film substrate. The coating method is not particularly limited, and a conventionally known method such as a bar coating method, a gravure coating method, and a reverse coating method can be used. The solvent of the coated application liquid is removed by evaporation in the next drying step. In this step, the high molecular weight polyester resin uniformly dissolved in the coating liquid becomes fine particles and precipitates in the ultraviolet curable resin. After the coating film is dried, the plastic film is further irradiated with ultraviolet rays, and the ultraviolet curable resin is crosslinked and cured to form a cured product layer. In this curing step, the fine particles of the high molecular weight polyester resin are fixed in the hard coat layer and also form projections on the surface of the cured product layer.

【0038】また、硬化物層の厚みは0.1〜15μm
の範囲であることが好ましく、より好ましくは0.5〜
10μmの範囲であり、特に好ましくは1〜8μmの範
囲である。硬化物層の厚みが0.1μmよりも薄い場合
には、後述する突起が十分に形成されず、一方15μm
よりも厚い場合には生産性の観点から好ましくない。
The thickness of the cured product layer is 0.1 to 15 μm
It is preferably in the range of, more preferably 0.5 to
It is in the range of 10 μm, particularly preferably in the range of 1 to 8 μm. When the thickness of the cured product layer is less than 0.1 μm, the protrusions described later are not sufficiently formed.
If it is thicker, it is not preferable from the viewpoint of productivity.

【0039】このようにして形成した硬化物層上に透明
導電性薄膜をスパッタリングなどの真空プロセスにより
成膜するが、硬化物層中および/またはプラスチックフ
ィルム中に揮発成分を含んでいると、真空プロセスに悪
影響を与える。
A transparent conductive thin film is formed on the cured material layer thus formed by a vacuum process such as sputtering. If a volatile component is contained in the cured material layer and / or the plastic film, a vacuum is formed. Affects the process.

【0040】例えば、スパッタリング法でインジウム−
スズ複合酸化物薄膜を形成する場合、スパッタリングさ
れたインジウム原子と硬化物層から揮発したガスが気相
中で衝突して、インジウム原子のエネルギーが低下し、
この結果として硬化物層上に形成される透明導電性薄膜
の膜質が良好でなくなることがある。
[0040] For example, indium-
When forming a tin composite oxide thin film, the sputtered indium atoms and the gas volatilized from the cured layer collide in the gas phase, the energy of the indium atoms decreases,
As a result, the quality of the transparent conductive thin film formed on the cured product layer may be poor.

【0041】また、硬化物層から揮発したガス成分が薄
膜中に不純物として取り込まれ、やはり膜質の良くない
透明導電性薄膜が形成される。このような膜質の良くな
い透明導電性薄膜が積層された透明導電性フィルムをタ
ッチパネルに用いると、5.0Nの荷重で10万回の直
線摺動試験後に透明導電性薄膜が摩耗劣化し好ましくな
い。
Further, gas components volatilized from the cured product layer are taken in as impurities in the thin film, and a transparent conductive thin film having poor film quality is formed. When a transparent conductive film on which such a transparent conductive thin film having poor film quality is laminated is used for a touch panel, the transparent conductive thin film is deteriorated by abrasion after 100,000 times of linear sliding tests under a load of 5.0 N, which is not preferable. .

【0042】例えば、硬化物層中に存在する揮発成分と
しては、前述した硬化物層の塗工にもちいた塗工液の溶
剤や紫外線硬化反応に寄与しなかった残留の光重合開始
剤およびこの副生成物などがあげられる。
For example, as a volatile component present in the cured product layer, the solvent of the coating solution used for coating the cured product layer, the residual photopolymerization initiator which did not contribute to the ultraviolet curing reaction, and And by-products.

【0043】これらの揮発成分を減少させるためには、
紫外線照射による架橋反応の後に加熱処理を施すのが好
適である。このときの温度は100〜200℃の範囲で
あることが好ましい。100℃未満では揮発成分を減少
させる効果が不十分であり、200℃を越える温度で
は、フィルムの平面性を保つのが難しく好ましくない。
In order to reduce these volatile components,
It is preferable to perform a heat treatment after the crosslinking reaction by ultraviolet irradiation. The temperature at this time is preferably in the range of 100 to 200 ° C. If the temperature is lower than 100 ° C., the effect of reducing volatile components is insufficient. If the temperature exceeds 200 ° C., it is difficult to maintain the flatness of the film, which is not preferable.

【0044】また、スパッタリング等を行う真空チェン
バーの中でフィルムを真空暴露することで揮発成分を減
少させることも有効な手段である。この際に接触するロ
ール温度を上げておいたり、赤外線ヒーターをもちいて
フィルム加熱を併用することで揮発成分をより減少させ
ることが可能となる。
It is also an effective means to reduce the volatile components by exposing the film to vacuum in a vacuum chamber for performing sputtering or the like. At this time, it is possible to further reduce the volatile component by increasing the temperature of the roll that comes into contact with the film or by using film heating together with an infrared heater.

【0045】本発明で用いる透明導電性薄膜としては、
透明性及び導電性をあわせもつ材料であれば特に制限は
ないが、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、インジ
ウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、
亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合
酸化物、銀および銀合金、銅および銅合金、金等が単層
もしくは2層以上の積層構造したものが挙げられる。こ
れらのうち、環境安定性や回路加工性の観点からインジ
ウム−スズ複合酸化物もしくはスズ−アンチモン複合酸
化物が好適である。
The transparent conductive thin film used in the present invention includes:
There is no particular limitation as long as the material has both transparency and conductivity, but indium oxide, tin oxide, zinc oxide, indium-tin composite oxide, tin-antimony composite oxide,
Zinc-aluminum composite oxides, indium-zinc composite oxides, silver and silver alloys, copper and copper alloys, gold, and the like have a single layer or a stacked structure of two or more layers. Among them, indium-tin composite oxide or tin-antimony composite oxide is preferable from the viewpoint of environmental stability and circuit workability.

【0046】透明導電性薄膜の膜厚は4〜800nmの
範囲が好ましく、特に好ましくは5〜500nmであ
る。透明導電性薄膜の膜厚が4nmよりも薄い場合、連
続した薄膜になりにくく良好な導電性を示しにくくな
る。また、800nmよりも厚い場合、透明性が低下し
やすくなる。
The thickness of the transparent conductive thin film is preferably in the range of 4 to 800 nm, particularly preferably 5 to 500 nm. When the thickness of the transparent conductive thin film is less than 4 nm, it is difficult to form a continuous thin film and to exhibit good conductivity. If the thickness is larger than 800 nm, the transparency tends to decrease.

【0047】本発明における透明導電性薄膜の成膜方法
としては、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、
イオンプレーティング法、スプレー法などが知られてお
り、必要とする膜厚に応じて、前記の方法を適宜用いる
ことが出来る。
The method for forming the transparent conductive thin film in the present invention includes a vacuum deposition method, a sputtering method, a CVD method,
An ion plating method, a spray method, and the like are known, and the above method can be appropriately used depending on a required film thickness.

【0048】例えば、スパッタリング法の場合、酸化物
ターゲットを用いた通常のスパッタリング法、あるい
は、金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法等
が用いられる。この時、反応性ガスとして、酸素、窒
素、水蒸気等を導入したり、オゾン添加、プラズマ照
射、イオンアシスト等の手段を併用してもよい。また、
本発明の目的を損なわない範囲で、基板に直流、交流、
高周波などのバイアスを印加してもよい。
For example, in the case of a sputtering method, a normal sputtering method using an oxide target, a reactive sputtering method using a metal target, or the like is used. At this time, oxygen, nitrogen, water vapor, or the like may be introduced as a reactive gas, or means such as ozone addition, plasma irradiation, or ion assist may be used in combination. Also,
As long as the object of the present invention is not impaired, DC, AC,
A bias such as a high frequency may be applied.

【0049】また、透明プラスチックフィルムに透明導
電性薄膜を成膜する際の温度は、150℃以下とするこ
とが好ましい。成膜時の温度が150℃を越えるように
するためには、プラスチックフィルムの送り速度を極端
に遅くする必要があり、生産性が低下し工業的に好まし
くない。
The temperature at which the transparent conductive thin film is formed on the transparent plastic film is preferably set to 150 ° C. or less. In order for the temperature at the time of film formation to exceed 150 ° C., it is necessary to extremely reduce the feed speed of the plastic film, which lowers productivity and is industrially undesirable.

【0050】また、スパッタリングを行う際の真空度
は、0.01〜10Paの範囲で行うのが好ましい。真
空度が0.01Paよりも高真空では、安定な放電が出
来ないため、スパッタリングが安定しない。また、10
Paよりも低い真空度でも、やはり安定な放電が出来な
いため、スパッタリングが安定しない。また、蒸着法、
CVD法などの他の方法においても同様である。
The degree of vacuum at the time of sputtering is preferably in the range of 0.01 to 10 Pa. If the degree of vacuum is higher than 0.01 Pa, stable discharge cannot be performed, so that sputtering is not stable. Also, 10
Even if the degree of vacuum is lower than Pa, stable discharge cannot be performed, so that sputtering is not stable. Also, evaporation method,
The same applies to other methods such as the CVD method.

【0051】これらの成膜プロセスにおいて、成膜直前
に少なからずとも、硬化物層を積層したプラスチックフ
ィルムは真空中に保持されることになる。この真空暴露
により、揮発成分量を更に少なくすることが可能とな
る。以上のような揮発成分除去プロセスを経ることで揮
発成分量が30ppm以下となった透明導電性フィルム
は、透明導電性薄膜の膜質が優れているため、タッチパ
ネルに用いると、ポリアセタール製ペン(先端形状:
0.8mmR)を用いて5.0Nの荷重で10万回の直
線摺動試験を行った後でも透明導電性薄膜の劣化が見ら
れない。
In these film forming processes, the plastic film on which the cured product layer is laminated is kept in a vacuum at least immediately before film formation. This vacuum exposure makes it possible to further reduce the amount of volatile components. The transparent conductive film whose volatile component amount is reduced to 30 ppm or less through the above volatile component removal process has excellent film quality of the transparent conductive thin film. Therefore, when used for a touch panel, a polyacetal pen (tip shape) :
No deterioration of the transparent conductive thin film is observed even after 100,000 linear sliding tests are performed with a load of 5.0 N using a load of 0.8 mmR).

【0052】透明導電性薄膜と硬化物層の付着力を向上
するために、硬化物層を表面処理することが有効であ
る。具体的な手法としては、カルボニル基、カルボキシ
ル基、水酸基を増加するためにグローまたはコロナ放電
を照射する放電処理法、アミノ基、水酸基、カルボニル
基などの極性基を増加させるために酸またはアルカリで
処理する化学薬品処理法などが挙げられる。
In order to improve the adhesion between the transparent conductive thin film and the cured product layer, it is effective to subject the cured product layer to surface treatment. As a specific method, a carbonyl group, a carboxyl group, a discharge treatment method of irradiating a glow or corona discharge to increase a hydroxyl group, an amino group, a hydroxyl group, an acid or an alkali to increase a polar group such as a carbonyl group. For example, a chemical treatment method for the treatment may be used.

【0053】また、タッチパネルとした際の最外層(ペ
ン入力面)の耐擦傷性をさらに向上させるために、透明
プラスチックフィルムの透明導電性薄膜を形成させた表
面とは反対面(タッチパネルとした際の最外層のペン入
力面)に、ハードコート層を設けることが好ましい。前
記ハードコート層の硬度は、鉛筆硬度で2H以上である
ことが好ましい。2Hよりも低い硬度では、透明導電性
フィルムのハードコート層としては耐擦傷性の点で不十
分である。
In order to further improve the abrasion resistance of the outermost layer (pen input surface) when a touch panel is formed, the surface opposite to the surface on which the transparent conductive thin film of the transparent plastic film is formed (when the touch panel is formed). It is preferable to provide a hard coat layer on the outermost pen input surface). The hardness of the hard coat layer is preferably 2H or more in pencil hardness. If the hardness is lower than 2H, the hard coat layer of the transparent conductive film is insufficient in abrasion resistance.

【0054】前記ハードコート層の厚みは0.5〜10
μmであることが好ましい。厚みが0.5μm未満で
は、耐擦傷性が不十分となりやすく、10μmよりも厚
い場合には生産性の観点から好ましくない。
The thickness of the hard coat layer is 0.5 to 10
μm is preferred. When the thickness is less than 0.5 μm, the scratch resistance tends to be insufficient, and when the thickness is more than 10 μm, it is not preferable from the viewpoint of productivity.

【0055】前記ハードコート層に用いられる硬化型樹
脂組成物の皮膜形成成分は、好ましくは、アクリレート
系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポ
リエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エ
ポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロア
セタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリ
エン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の(メタ)
アクリート等のオリゴマーまたはプレポリマー、及び反
応性希釈剤として、エチル(メタ)アクリート、エチル
ヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチ
レン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに
多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ
(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アク
リレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリ
レート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、
1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等を比較
的多量に含有するものが使用できる。
The film-forming component of the curable resin composition used in the hard coat layer preferably has an acrylate-based functional group, for example, a polyester resin, a polyether resin, an acrylic resin having a relatively low molecular weight, (Meth) of polyfunctional compounds such as epoxy resin, urethane resin, alkyd resin, spiro acetal resin, polybutadiene resin, polythiol polyene resin and polyhydric alcohol
Oligomers or prepolymers such as acrylates, and monofunctional monomers and polyfunctional monomers such as ethyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methylstyrene, N-vinylpyrrolidone and the like as reactive diluents, for example, trimethylol Propane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate,
Dipentaerythritol hexa (meth) acrylate,
Those containing relatively large amounts of 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate and the like can be used.

【0056】ポリエステルアクリレートとポリウレタン
アクリレートの混合物が特に好適である。その理由は、
ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬くてハード
コート層として適しているためである。しかしながら、
ポリエステルアクリレート単独の塗膜では耐衝撃性が低
く脆くなりやすいので、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与
えるために、ポリウレタンアクリレートを併用する。ポ
リエステルアクリレート100重量部に対するポリウレ
タンアクリレートの配合割合は30重量部以下とするの
が好ましい。この配合割合が30重量部を超えると、塗
膜が柔らかくなりすぎて耐衝撃性が不十分となる傾向が
ある。
Mixtures of polyester acrylate and polyurethane acrylate are particularly preferred. The reason is,
This is because polyester acrylate has a very hard coating film and is suitable as a hard coat layer. However,
Polyester acrylate alone has low impact resistance and tends to be brittle, so polyurethane acrylate is used in combination to impart impact resistance and flexibility to the coating. The mixing ratio of polyurethane acrylate to 100 parts by weight of polyester acrylate is preferably 30 parts by weight or less. If this compounding ratio exceeds 30 parts by weight, the coating film tends to be too soft and the impact resistance tends to be insufficient.

【0057】前記の硬化型樹脂組成物の硬化方法は、通
常の硬化方法、即ち、加熱、電子線または紫外線の照射
によって硬化する方法を用いることができる。例えば、
電子線硬化の場合は、コックロフトワルトン型、ハンデ
グラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダ
イナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放
出される50〜1000keV、好ましくは100〜3
00keVのエネルギーを有する電子線等が使用され
る。また、紫外線硬化の場合には、超高圧水銀灯、高圧
水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアー
ク、メタルハイライドランプ等の光線から発する紫外線
等が利用できる。
As the method of curing the curable resin composition, a usual curing method, that is, a method of curing by heating, irradiation with an electron beam or ultraviolet rays can be used. For example,
In the case of electron beam curing, 50 to 1000 keV, preferably emitted from various electron beam accelerators such as Cockloft-Walton type, Handie graph type, Resonant transformation type, Insulating core transformer type, Linear type, Dynamitron type, High frequency type, etc. Is 100-3
An electron beam having an energy of 00 keV is used. In the case of ultraviolet curing, ultraviolet rays emitted from light rays such as an ultrahigh-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, and a metal halide lamp can be used.

【0058】さらに、電離放射線硬化の場合には、前記
の硬化型樹脂組成物中に光重合開始剤として、アセトフ
ェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベン
ゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチ
ウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感
剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−
n−ブチルホスフィン等を混合することが好ましい。本
発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モ
ノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)ア
クリレート等を混合することが特に好ましい。
Further, in the case of ionizing radiation curing, acetophenones, benzophenones, Michler benzoyl benzoate, α-amyloxime ester, tetramethylthiuram monosulfide may be used as a photopolymerization initiator in the curable resin composition. , Thioxanthones, n-butylamine, triethylamine, tri-
It is preferable to mix n-butylphosphine and the like. In the present invention, it is particularly preferable to mix urethane acrylate as an oligomer and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate as a monomer.

【0059】ハードコート層に防眩性を付与するために
は、硬化型樹脂中にCaCO3やSiO2などの無機粒子
を分散させたり、ハードコート層の表面に凹凸形状を形
成させることが有効である。例えば、凹凸を形成するた
めには、硬化型樹脂組成物を含む塗液を塗工後、表面に
凸形状を有する賦形フィルムをラミネートし、この賦形
フィルム上から紫外線を照射し硬化型樹脂を硬化させた
後に、賦形フィルムのみを剥離することにより得られ
る。
In order to impart an antiglare property to the hard coat layer, it is effective to disperse inorganic particles such as CaCO 3 or SiO 2 in the curable resin or to form an uneven shape on the surface of the hard coat layer. It is. For example, in order to form irregularities, a coating liquid containing a curable resin composition is applied, a shaped film having a convex shape on its surface is laminated, and ultraviolet light is irradiated from above the shaped film to form a curable resin. After curing, the resin is obtained by peeling off only the shaped film.

【0060】前記の賦型フィルムには、離型性を有する
ポリエチレンテレフタレート(以後、PETと略す)等
の基材フィルム上に所望の凸形状を設けたもの、或い
は、PET等の基材フィルム上に繊細な凸層を形成した
もの等を用いることができる。その凸層の形成は、例え
ば、無機粒子とバインダー樹脂からなる樹脂組成物を用
いて基材フィルム上に塗工することにより得ることがで
きる。前記バインダー樹脂は、例えば、ポリイソシアネ
ートで架橋されたアクリルポリオールを用い、無機粒子
としては、CaCO3やSiO2などを用いることができ
る。また、この他にPET製造時にSiO2等の無機粒
子を練込んだマットタイプのPETも用いることができ
る。
The above-mentioned imprinting film may be a film obtained by providing a desired convex shape on a base film such as polyethylene terephthalate (hereinafter abbreviated as PET) having releasability, or a base film such as PET. And a delicate convex layer may be used. The formation of the convex layer can be obtained by, for example, applying a resin composition comprising inorganic particles and a binder resin on a base film. As the binder resin, for example, an acrylic polyol crosslinked with a polyisocyanate is used, and as the inorganic particles, CaCO 3 , SiO 2, or the like can be used. In addition, a mat type PET in which inorganic particles such as SiO 2 are kneaded during the production of PET can also be used.

【0061】この賦型フィルムを紫外線硬化型樹脂の塗
膜にラミネートした後紫外線を照射して塗膜を硬化する
場合、賦型フィルムがPETを基材としたフィルムの場
合、該フィルムに紫外線の短波長側が吸収され、紫外線
硬化型樹脂の硬化が不足するという欠点がある。したが
って、紫外線硬化型樹脂の塗膜にラミネートする賦型フ
ィルムの透過率が20%以上のものを使用することが必
要である。
When this molding film is laminated on a coating film of an ultraviolet-curable resin and then irradiated with ultraviolet light to cure the coating film, when the molding film is a PET-based film, the film is exposed to ultraviolet light. There is a disadvantage that the short wavelength side is absorbed and curing of the ultraviolet curable resin is insufficient. Therefore, it is necessary to use a molding film having a transmittance of 20% or more for laminating the coating film of the ultraviolet curable resin.

【0062】また、タッチパネルに用いた際に可視光線
の透過率をさらに向上させるためにハードコート層上
に、低反射処理を施してもよい。この低反射処理は、ハ
ードコート層の屈折率とは異なる屈折率を有する材料を
単層もしくは2層以上に積層することが好ましい。単層
構造の場合、ハードコート層よりも小さな屈折率を有す
る材料を用いるのが好ましい。また、2層以上の多層構
造とする場合は、ハードコート層と隣接する層は、ハー
ドコート層よりも大きな屈折率を有する材料を用い、こ
の上の層にはこれよりも小さな屈折率を有する材料を選
ぶのがよい。このような低反射処理を構成する材料とし
ては、有機材料でも無機材料でも上記の屈折率の関係を
満足すれば特に限定されない。例えば、CaF2、Mg
2、NaAlF4、SiO2、ThF4、ZrO2、Nd2
3、SnO2、TiO2、CeO2、ZnS、In23
などの誘電体を用いるのが好ましい。
Further, in order to further improve the transmittance of visible light when used in a touch panel, a low reflection treatment may be applied to the hard coat layer. In the low reflection treatment, it is preferable that a material having a refractive index different from the refractive index of the hard coat layer is laminated as a single layer or two or more layers. In the case of a single-layer structure, it is preferable to use a material having a smaller refractive index than the hard coat layer. In the case of a multilayer structure of two or more layers, a layer having a refractive index larger than that of the hard coat layer is used for a layer adjacent to the hard coat layer, and a layer above the hard coat layer has a smaller refractive index. It is good to choose the material. The material constituting such a low reflection treatment is not particularly limited, as long as it satisfies the above-described relationship of the refractive index, whether it is an organic material or an inorganic material. For example, CaF 2 , Mg
F 2 , NaAlF 4 , SiO 2 , ThF 4 , ZrO 2 , Nd 2
O 3 , SnO 2 , TiO 2 , CeO 2 , ZnS, In 2 O 3 ,
It is preferable to use a dielectric such as.

【0063】この低反射処理は、真空蒸着法、スパッタ
リング法、CVD法、イオンプレーティング法などのド
ライコーティングプロセスでも、グラビア方式、リバー
ス方式、ダイ方式などのウェットコーティングプロセス
でもよい。
The low reflection treatment may be a dry coating process such as a vacuum evaporation method, a sputtering method, a CVD method, or an ion plating method, or a wet coating process such as a gravure method, a reverse method, or a die method.

【0064】さらに、この低反射処理層の積層に先立っ
て、前処理として、コロナ放電処理、プラズマ処理、ス
パッタエッチング処理、電子線照射処理、紫外線照射処
理、プライマ処理、易接着処理などの公知の表面処理を
ハードコート層に施してもよい。
Further, prior to lamination of the low-reflection treatment layer, known treatments such as a corona discharge treatment, a plasma treatment, a sputter etching treatment, an electron beam irradiation treatment, an ultraviolet irradiation treatment, a primer treatment, and an easy adhesion treatment are performed as pretreatments. Surface treatment may be applied to the hard coat layer.

【0065】本発明の透明導電性フィルムを用い、透明
導電性薄膜を形成していない面と粘着剤を介して透明樹
脂シートと積層することで、タッチパネルの固定電極に
用いる透明導電性積層シートが得られる。すなわち、固
定電極をガラスから樹脂製にすることで、軽量かつ割れ
にくいタッチパネルを作製することができる。
By using the transparent conductive film of the present invention and laminating a transparent resin sheet via a pressure-sensitive adhesive and a surface on which a transparent conductive thin film is not formed, a transparent conductive laminated sheet used for a fixed electrode of a touch panel is obtained. can get. That is, by making the fixed electrode made of resin from glass, a lightweight and hard-to-break touch panel can be manufactured.

【0066】前記粘着剤は透明性を有するものであれば
特に制限はないが、例えばアクリル系粘着剤、シリコー
ン系粘着剤、ゴム系粘着剤などが好適である。この粘着
剤の厚さは特に制限はないが、通常1〜100μmの範
囲に設定するのが望ましい。粘着剤の厚みが1μm未満
の厚さの場合、実用上問題のない接着性を得るのが難し
く、100μmを越える厚さでは生産性の観点から好ま
しくない。
The pressure-sensitive adhesive is not particularly limited as long as it has transparency. For example, acrylic pressure-sensitive adhesives, silicone-based pressure-sensitive adhesives, and rubber-based pressure-sensitive adhesives are suitable. Although the thickness of the pressure-sensitive adhesive is not particularly limited, it is usually desirable to set the thickness in the range of 1 to 100 μm. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive is less than 1 μm, it is difficult to obtain practically no problematic adhesion, and when the thickness exceeds 100 μm, it is not preferable from the viewpoint of productivity.

【0067】この粘着剤を介して貼合わせる透明樹脂シ
ートは、ガラスと同等の機械的強度を付与するために使
用するものであり、厚さは0.05〜5mmの範囲が好
ましい。前記透明樹脂シートの厚みが0.05mm未満
では、機械的強度がガラスに比べ不足する。一方、厚さ
が5mmを越える場合には、厚すぎてタッチパネルに用
いるには不適当である。また、この透明樹脂シートの材
質は、前記の透明プラスチックフィルムと同様のものを
使用することができる。
The transparent resin sheet to be bonded through the pressure-sensitive adhesive is used for imparting the same mechanical strength as glass, and the thickness is preferably in the range of 0.05 to 5 mm. When the thickness of the transparent resin sheet is less than 0.05 mm, the mechanical strength is insufficient compared with glass. On the other hand, when the thickness exceeds 5 mm, it is too thick and is not suitable for use in a touch panel. The material of the transparent resin sheet may be the same as the transparent plastic film described above.

【0068】図9に、本発明の透明導電性フィルムを用
いた、タッチパネルの例を示す。これは、透明導電性薄
膜を有する一対のパネル板を、透明導電性薄膜が対向す
るようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネル
において、一方のパネル板に本発明の透明導電性フィル
ムを用いたものである。
FIG. 9 shows an example of a touch panel using the transparent conductive film of the present invention. This is a touch panel in which a pair of panel plates having a transparent conductive thin film are arranged via a spacer so that the transparent conductive thin films face each other, and the transparent conductive film of the present invention is used for one panel plate. Things.

【0069】このタッチパネルは、ペンにより文字を入
力した時に、ペンからの押圧により、対向した透明導電
性薄膜同士が接触し、電気的にONの状態になり、タッ
チパネル上でのペンの位置を検出することができる。こ
のペン位置を連続的かつ正確に検出することで、ペンの
軌跡から文字を認識することができる。この際、ペン接
触側の可動電極が本発明の透明導電性フィルムを用いる
と、ペン入力耐久性に優れるため、長期にわたって安定
なタッチパネルとすることができる。
In this touch panel, when characters are input with the pen, the transparent conductive thin films facing each other come into contact with each other due to pressing from the pen, and are electrically turned on, and the position of the pen on the touch panel is detected. can do. By continuously and accurately detecting the pen position, characters can be recognized from the locus of the pen. In this case, if the transparent conductive film of the present invention is used for the movable electrode on the pen contact side, the pen touch durability is excellent, so that a stable touch panel can be provided for a long time.

【0070】なお、本発明の透明導電性フィルム及び透
明導電性シートを使用して得た、ガラス基板を用いない
プラスチック製のタッチパネルの断面図を図10に示し
た。このプラスチック製のタッチパネルは、ガラスを用
いていないため、非常に軽量であり、かつ、衝撃により
割れたりすることがない。
FIG. 10 is a sectional view of a plastic touch panel without using a glass substrate, obtained by using the transparent conductive film and the transparent conductive sheet of the present invention. Since this plastic touch panel does not use glass, it is extremely lightweight and does not break due to impact.

【0071】[0071]

【実施例】以下に実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例によりなんら限定さ
れるものではない。なお、透明導電性フィルムの性能お
よびタッチパネルのペン入力耐久性試験は、下記の方法
により測定した。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following Examples, which should not be construed as limiting the present invention. The performance of the transparent conductive film and the pen input durability test of the touch panel were measured by the following methods.

【0072】<光線透過率及びヘイズ>JIS−K71
05に準拠し、日本電色工業(株)製NDH−1001
DPを用いて、光線透過率及びヘイズを測定した。
<Light Transmittance and Haze> JIS-K71
NDH-1001 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
Light transmittance and haze were measured using DP.

【0073】<表面抵抗率>JIS−K7194に準拠
し、4端子法にて測定した。測定機は、三菱油化(株)
製 Lotest AMCP−T400を用いた。
<Surface resistivity> Measured by a four-terminal method according to JIS-K7194. The measuring machine is Mitsubishi Yuka Co., Ltd.
Manufactured by Lotest AMCP-T400.

【0074】<揮発成分量>透明導電性フィルム3gを
3cm×0.5cmに短冊状に切断し、固体パージ・ア
ンド・トラップ装置(日本分析工業製、JHS−10
0)によりHe中100℃で15分間加熱脱離させる。
脱離成分を吸着材(石英ウール)に液体窒素でコールド
トラップし、急速加熱によりGC−MS装置(ヒュレッ
トパッカード社製、 HP6890およびHP597
3)に導入し、透明導電性フィルム中の揮発成分量を定
量した。
<Amount of Volatile Components> 3 g of the transparent conductive film was cut into strips having a size of 3 cm × 0.5 cm, and a solid purge and trap device (manufactured by Nippon Kagaku Kogyo, JHS-10)
Heat desorption in He at 100 ° C. for 15 minutes according to 0).
The desorbed components are cold-trapped to the adsorbent (quartz wool) with liquid nitrogen, and rapidly heated to a GC-MS device (HP6890 and HP597, manufactured by Hulett Packard).
Introduced in 3), the amount of volatile components in the transparent conductive film was quantified.

【0075】<ペン入力耐久性試験>ポリアセタール製
のペン(先端の形状:0.8mmR)に5.0Nの荷重
をかけ、10万回(往復5万回)の摺動試験をタッチパ
ネルに行った。この時の摺動距離は30mm、摺動速度
は60mm/秒とした。この摺動耐久試験後に、まず、
摺動部が白化しているかを目視によって観察した。さら
に、ペン荷重0.5Nで上記の摺動部にかかるように2
0mmφの記号○印を筆記し、タッチパネルがこれを正
確に読みとれるかを評価した。さらに、ペン荷重0.5
Nで摺動部を押さえた際の、ON抵抗(可動電極(フィ
ルム電極)と固定電極とが接触した時の抵抗値)を測定
した。
<Pen input durability test> A 5.0 N load was applied to a polyacetal pen (tip shape: 0.8 mmR), and a sliding test of 100,000 times (50,000 reciprocations) was performed on the touch panel. . The sliding distance at this time was 30 mm, and the sliding speed was 60 mm / sec. After this sliding durability test,
It was visually observed whether the sliding portion was whitened. In addition, a pen load 0.5N
A mark of 0 mmφ was written and evaluated whether the touch panel could read it accurately. In addition, pen load 0.5
The ON resistance (resistance value when the movable electrode (film electrode) and the fixed electrode contacted each other) when the sliding portion was pressed with N was measured.

【0076】<付着力測定>40μm厚のアイオノマー
フィルムをポリエステル系接着剤を用いて、厚さ75μ
mのポリエチレンテレフタレートフィルムにラミネート
し、付着力測定用積層体を作製した。この付着力測定用
積層体のアイオノマー面と透明導電性フィルムの透明導
電性薄膜面を対向させ、130℃でヒートシールした。
この積層体を付着力測定用積層体と透明導電性フィルム
とを180度剥離法で剥離し、この剥離力を付着力とし
た。この時の剥離速度は1000mm/分とした。
<Measurement of Adhesive Force> An ionomer film having a thickness of 40 μm was coated with a polyester adhesive to a thickness of 75 μm.
m of a polyethylene terephthalate film to prepare a laminate for measuring adhesive force. The ionomer surface of the laminate for measuring adhesive force was opposed to the transparent conductive thin film surface of the transparent conductive film, and heat-sealed at 130 ° C.
The laminate was separated from the laminate for measuring adhesive force and the transparent conductive film by a 180 ° peeling method, and the peeling force was defined as the adhesive force. The peeling speed at this time was 1000 mm / min.

【0077】実施例1 光重合開始剤含有アクリル系樹脂(大日精化工業(株)
製、セイカビームEXF−01J)を、トルエン/ME
K(8/2;重量比)の混合溶媒を用いて、固形分濃度
が50重量%になるように加え、撹拌して均一に溶解し
塗布液を調製した。両面に易接着層を有する二軸配向ポ
リエチレンテレフタレートフイルム(東洋紡績(株)
製、A4340、厚み188μm)に、塗膜の厚みが5
μmになるように、調製した塗布液をマイヤーバーを用
いて塗布し、80℃で1分間乾燥を行った後、紫外線照
射装置(アイグラフィックス(株)製、UB042−5
AM−W型)を用いて紫外線を照射(光量:300mJ
/cm2)し、塗膜を硬化させた。次いで、180℃で
1分間の加熱処理を施して、揮発成分の低減を行なっ
た。
Example 1 Acrylic resin containing photopolymerization initiator (Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.)
Manufactured by Seika Beam EXF-01J) in toluene / ME
A mixed solvent of K (8/2; weight ratio) was added so that the solid content concentration became 50% by weight, and the mixture was stirred and uniformly dissolved to prepare a coating solution. Biaxially oriented polyethylene terephthalate film having an easily adhesive layer on both sides (Toyobo Co., Ltd.
A4340, thickness 188 μm) and a coating film thickness of 5
The prepared coating solution was applied to a thickness of μm using a Meyer bar, dried at 80 ° C. for 1 minute, and then irradiated with an ultraviolet irradiation device (UB042-5, manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.).
UV irradiation using AM-W type (light quantity: 300 mJ)
/ Cm 2 ) to cure the coating. Next, heat treatment was performed at 180 ° C. for 1 minute to reduce volatile components.

【0078】次に、この硬化物層上にスズ−アンチモン
複合酸化物からなる透明導電性薄膜を成膜した。このと
き、ターゲットには酸化アンチモン5重量%含有した酸
化スズをターゲット(三井金属鉱業(株)製、密度5.
7g/cm3)として用いて、2W/cm2のDC電力を
印加した。また、Arガスを130sccm、O2ガス
を15sccmの流速で流し、0.4Paの雰囲気下で
DCマグネトロンスパッタリング法で成膜した。ただ
し、通常のDCではなく、アーク放電を防止するため
に、日本イーエヌアイ製RPG−100を用いて3μs
幅のパルスを50kHz周期で印加した。
Next, a transparent conductive thin film made of a tin-antimony composite oxide was formed on the cured product layer. At this time, the target was tin oxide containing 5% by weight of antimony oxide (manufactured by Mitsui Kinzoku Mining Co., Ltd., density 5.
7 g / cm 3 ), and a DC power of 2 W / cm 2 was applied. Further, a film was formed by a DC magnetron sputtering method under an atmosphere of 0.4 Pa while flowing Ar gas at a flow rate of 130 sccm and O 2 gas at a flow rate of 15 sccm. However, instead of a normal DC, in order to prevent arc discharge, a 3 μs
A pulse having a width of 50 kHz was applied.

【0079】また、センターロールの温度を20℃と
し、スパッタリングを行った。また、雰囲気の酸素分圧
をスパッタプロセスモニター(伯東(株)製、SPM2
00)にて常時観測しながら、スズ−アンチモン複合酸
化物薄膜中の酸化度が一定になるように酸素ガスの流量
計およびDC電源にフィートバックした。以上のように
して、厚さ27nmのスズ−アンチモン複合酸化物から
なる透明導電性薄膜を堆積した。
The temperature of the center roll was set to 20 ° C., and sputtering was performed. Also, the oxygen partial pressure of the atmosphere is measured by a sputter process monitor (manufactured by Hakuto Co., Ltd., SPM2).
At 00), the sample was fed back to an oxygen gas flow meter and a DC power source so that the degree of oxidation in the tin-antimony composite oxide thin film was kept constant. As described above, a transparent conductive thin film made of a tin-antimony composite oxide having a thickness of 27 nm was deposited.

【0080】さらに、この透明導電性フィルムを一方の
パネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基
板上にプラズマCVD法で厚みが20nmのインジウム
ースズ複合酸化物薄膜(酸化スズ:10重量%)からな
る透明導電性薄膜(日本曹達製:S500)を用いた。
この2枚のパネル板を透明導電性薄膜が対向するよう
に、直径30μmのエポキシビーズを介して、配置しタ
ッチパネルを作製した。
Further, this transparent conductive film was used as one panel plate, and as the other panel plate, a 20 nm thick indium oxide composite oxide thin film (tin oxide: 10% by weight) was formed on a glass substrate by plasma CVD. A transparent conductive thin film (manufactured by Nippon Soda: S500) was used.
The two panel plates were arranged via epoxy beads having a diameter of 30 μm so that the transparent conductive thin films faced each other, to produce a touch panel.

【0081】実施例2 光重合開始剤含有アクリル系樹脂(大日精化工業(株)
製、セイカビームEXF−01J)100重量部に、共
重合ポリエステル樹脂(東洋紡績(株)製、バイロン2
00、重量平均分子量18,000)を3重量部配合
し、溶剤としてトルエン/MEK(8/2;重量比)の
混合溶媒を、固形分濃度が50重量%になるように加
え、撹拌して均一に溶解し塗布液を調製した。二軸配向
ポリエチレンテレフタレートフイルム(東洋紡績(株)
製、A4340、厚み188μm)に、塗膜の厚みが5
μmになるように、調製した塗布液をマイヤーバーを用
いて塗布した。80℃で1分間乾燥を行った後、紫外線
照射装置(アイグラフィックス(株)製、UB042−
5AM−W型)を用いて紫外線を照射(光量:300m
J/cm2)し、塗膜を硬化させた。次いで、180℃
で1分間の加熱処理を施して、揮発成分の低減を行なっ
た。
Example 2 Acrylic resin containing photopolymerization initiator (Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.)
100 parts by weight of Seika Beam EXF-01J (manufactured by Toyobo Co., Ltd., Byron 2)
00, weight average molecular weight 18,000), and a mixed solvent of toluene / MEK (8/2; weight ratio) was added thereto as a solvent so that the solid content concentration became 50% by weight, followed by stirring. The solution was uniformly dissolved to prepare a coating solution. Biaxially oriented polyethylene terephthalate film (Toyobo Co., Ltd.
A4340, thickness 188 μm) and a coating film thickness of 5
The prepared coating solution was applied to a thickness of μm using a Meyer bar. After drying at 80 ° C. for 1 minute, an ultraviolet irradiation device (UB042- manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.)
UV irradiation using 5 AM-W type (light quantity: 300m)
J / cm 2 ) to cure the coating. Then, at 180 ° C
For 1 minute to reduce volatile components.

【0082】また、この硬化物層を積層したプラスチッ
クフィルムを真空暴露するために、真空チェンバー中で
巻き返し処理を行なった。このときの圧力は0.002
Paであり、暴露時間は10分とした。また、センター
ロールの温度は40℃とした。
Further, in order to expose the plastic film on which the cured product layer was laminated to vacuum exposure, a rewinding process was performed in a vacuum chamber. The pressure at this time is 0.002
Pa and the exposure time was 10 minutes. The temperature of the center roll was 40 ° C.

【0083】次に、この硬化物層上にインジウム−スズ
複合酸化物からなる透明導電性薄膜を成膜した。このと
き、ターゲットとして酸化スズを5重量%含有した酸化
インジウム(三井金属鉱業(株)製、密度7.1g/c
3)に用いて、2W/cm2のDC電力を印加した。ま
た、Arガスを130sccm、O2ガスを10scc
mの流速で流し、0.4Paの雰囲気下でDCマグネト
ロンスパッタリング法で成膜した。ただし、通常のDC
ではなく、アーク放電を防止するために、日本イーエヌ
アイ製RPG−100を用いて5μs幅のパルスを50
kHz周期で印加した。また、センターロール温度は4
0℃として、スパッタリングを行った。
Next, a transparent conductive thin film made of an indium-tin composite oxide was formed on the cured product layer. At this time, indium oxide containing 5% by weight of tin oxide (manufactured by Mitsui Kinzoku Mining Co., Ltd., density 7.1 g / c
m 3 ), and a DC power of 2 W / cm 2 was applied. Also, 130 sccm of Ar gas and 10 sccc of O 2 gas
m, and a film was formed by DC magnetron sputtering under an atmosphere of 0.4 Pa. However, normal DC
Instead, in order to prevent arc discharge, a pulse of 5 μs width was applied to 50 pulses using RPG-100 manufactured by NI Japan.
The voltage was applied at a frequency of kHz. The center roll temperature is 4
At 0 ° C., sputtering was performed.

【0084】また、雰囲気の酸素分圧をスパッタプロセ
スモニター(伯東(株)製、SPM200)にて常時観
測しながら、インジウム−スズ複合酸化物薄膜中の酸化
度が一定になるように酸素ガスの流量計およびDC電源
にフィートバックした。以上のようにして、厚さ22n
mのインジウム−スズ複合酸化物からなる透明導電性薄
膜を堆積した。さらに、この透明導電性フィルムを用い
て、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
Further, while constantly monitoring the oxygen partial pressure of the atmosphere with a sputter process monitor (SPM200, manufactured by Hakuto Co., Ltd.), the oxygen gas was controlled so that the degree of oxidation in the indium-tin composite oxide thin film was constant. Foot back to flow meter and DC power supply. As described above, the thickness 22n
A transparent conductive thin film made of m indium-tin composite oxide was deposited. Further, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1 using this transparent conductive film.

【0085】実施例3 実施例2の透明プラスチックフィルム基材/硬化物層か
らなる積層体の、硬化物層面とは反対面にハードコート
層樹脂としてポリエステルアクリレートとポリウレタン
アクリレートとの混合物からなる紫外線硬化型樹脂(大
日精化工業(株)製、EXG)を乾燥後の膜厚が5μm
になるようにグラビアリバース法により塗布し、溶剤を
乾燥させた。この後、160Wの紫外線照射装置の下を
10m/分の速度で通過させ、紫外線硬化型樹脂を硬化
させ、ハードコート層を形成させた。次いで、180℃
で1分間の加熱処理をおこない、揮発成分の低減を行っ
た。
Example 3 The laminate of the transparent plastic film substrate / cured material layer of Example 2 was cured on the surface opposite to the surface of the cured material layer by ultraviolet curing comprising a mixture of polyester acrylate and polyurethane acrylate as a hard coat layer resin. Mold resin (EXN, manufactured by Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.) has a thickness of 5 μm after drying.
Was applied by a gravure reverse method, and the solvent was dried. Thereafter, the resin was passed under a 160 W ultraviolet irradiation device at a speed of 10 m / min to cure the ultraviolet curable resin, thereby forming a hard coat layer. Then, at 180 ° C
For 1 minute to reduce volatile components.

【0086】このハードコート層/透明プラスチックフ
ィルム基材/硬化物層からなる積層体の硬化物層上に、
実施例2と同様にしてインジウム−スズ複合酸化物薄膜
を成膜した。さらに、この透明導電性フィルムを用い
て、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
On the cured product layer of the laminate consisting of the hard coat layer / transparent plastic film substrate / cured product layer,
In the same manner as in Example 2, an indium-tin composite oxide thin film was formed. Further, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1 using this transparent conductive film.

【0087】実施例4 実施例2と同様にして、透明プラスチックフィルム基材
/硬化物層からなる積層体を作製した。この積層体の硬
化物層面とは反対面に、ハードコート層樹脂としてポリ
エステルアクリレートとポリウレタンアクリレートとの
混合物からなる紫外線硬化型樹脂(大日精化工業(株)
製、EXG)を乾燥後の膜厚が5μmになるようにグラ
ビアリバース法により塗布し、溶剤を乾燥した。その
後、表面に微細な凸形状が形成されたポリエチレンテレ
フタレートフィルムのマット賦形フィルム(東レ(株)
製、X)をマット面が紫外線硬化型樹脂と接するように
ラミネートした。このマット賦形フィルムの表面形状
は、平均表面粗さ0.40μm、山の平均間隔160μ
m、最大表面粗さ25μmである。
Example 4 In the same manner as in Example 2, a laminate composed of a transparent plastic film substrate / cured material layer was produced. On the surface of the laminate opposite to the surface of the cured product layer, an ultraviolet-curable resin comprising a mixture of polyester acrylate and polyurethane acrylate as a hard coat layer resin (Dainichi Seika Kogyo Co., Ltd.)
EXG) was applied by a gravure reverse method so that the film thickness after drying was 5 μm, and the solvent was dried. Then, a mat-shaped film of polyethylene terephthalate film with a fine convex shape formed on the surface (Toray Industries, Inc.)
X) was laminated so that the mat surface was in contact with the ultraviolet curable resin. The surface shape of the mat-shaped film has an average surface roughness of 0.40 μm and an average interval of peaks of 160 μm.
m, and the maximum surface roughness is 25 μm.

【0088】このようにラミネートしたフィルムを16
0Wの紫外線照射装置の下を10m/分の速度で通過さ
せ、紫外線硬化型樹脂を硬化させた。次いで、マット賦
形フィルムを剥離して、表面に凹形状加工が施され防眩
効果のあるハードコート層を形成させた。次いで、18
0℃で1分間の加熱処理をおこない、揮発成分の低減を
行った。
The film laminated in this way is
The resin was passed under a 0 W ultraviolet irradiation device at a speed of 10 m / min to cure the ultraviolet curable resin. Next, the mat-shaped film was peeled off to form a hard coat layer having an anti-glare effect by performing concave processing on the surface. Then, 18
Heat treatment was performed at 0 ° C. for 1 minute to reduce volatile components.

【0089】この防眩性ハードコート層/透明プラスチ
ックフィルム基材/硬化物層からなる積層体の硬化物層
上に、実施例2と同様にしてインジウムースズ複合酸化
物薄膜を透明導電性薄膜として成膜した。さらに、この
透明導電性フィルムを一方のパネル板として用い、実施
例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
On the cured product layer of the laminate consisting of the antiglare hard coat layer / transparent plastic film substrate / cured product layer, an indium oxide composite oxide thin film was formed as a transparent conductive thin film in the same manner as in Example 2. Filmed. Further, using this transparent conductive film as one panel plate, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1.

【0090】実施例5 実施例4と同様にして防眩性ハードコート層/透明プラ
スチックフィルム基材/硬化物層/透明導電性薄膜層か
らなる積層体を作製し、次いで、この防眩性ハードコー
ト層上に順次TiO2(屈折率:2.30、膜厚15n
m)、SiO2(屈折率:1.46、膜厚29nm)、
TiO2(屈折率:2.30、膜厚109nm)、Si
2(屈折率:1.46、膜厚87nm)を積層するこ
とで反射防止処理層を形成した。TiO2薄膜を形成す
るには、チタンをターゲットに用いて、直流マグネトロ
ンスパッタリング法で、真空度を0.27Paとし、ガ
スとしてArガスを500sccm、O2ガスを80s
ccmの流速で流した。また、基板の背面には0℃の冷
却ロールを設けて、透明プラスチックフィルムを冷却し
た。このときのターゲットには7.8W/cm2の電力
を供給し、ダイナミックレートは23nm・m/分であ
った。
Example 5 A laminate composed of an antiglare hard coat layer / transparent plastic film substrate / cured material layer / transparent conductive thin film layer was prepared in the same manner as in Example 4. TiO 2 (refractive index: 2.30, film thickness 15 n)
m), SiO 2 (refractive index: 1.46, film thickness 29 nm),
TiO 2 (refractive index: 2.30, film thickness 109 nm), Si
O 2 (refractive index: 1.46, film thickness 87 nm) was laminated to form an antireflection treatment layer. In order to form a TiO 2 thin film, the degree of vacuum is set to 0.27 Pa by a direct current magnetron sputtering method using titanium as a target, Ar gas is 500 sccm, and O 2 gas is 80 s.
The flow was at a flow rate of ccm. Further, a cooling roll at 0 ° C. was provided on the back surface of the substrate to cool the transparent plastic film. At this time, a power of 7.8 W / cm 2 was supplied to the target, and the dynamic rate was 23 nm · m / min.

【0091】SiO2薄膜を形成するには、シリコンを
ターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング
法で、真空度を0.27Pa、ガスとしてArガスを5
00sccm、O2ガスを80sccmの流速で流し
た。また、基板の背面には0℃の冷却ロールを設けて、
透明プラスチックフィルムを冷却した。このときのター
ゲットには7.8W/cm2の電力を供給し、ダイナミ
ックレートは23nm・m/分であった。さらに、この
透明導電性フィルムを一方のパネル板として用い、実施
例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
In order to form an SiO 2 thin film, silicon is used as a target, the degree of vacuum is set to 0.27 Pa, and Ar gas is set to 5 by DC magnetron sputtering.
00 sccm and O 2 gas were flowed at a flow rate of 80 sccm. In addition, a cooling roll of 0 ° C. is provided on the back of the substrate,
The clear plastic film was cooled. At this time, a power of 7.8 W / cm 2 was supplied to the target, and the dynamic rate was 23 nm · m / min. Further, using this transparent conductive film as one panel plate, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1.

【0092】実施例6 実施例2と同様にして作製した透明導電性フィルムをア
クリル系粘着剤を介して、厚みが1.0mmのポリカー
ボネート製のシートに貼り付けて、透明導電性積層シー
トを作製した。この透明導電性積層シートを固定電極と
して用い、実施例6の透明導電性フィルムを可動電極に
用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製し
た。
Example 6 A transparent conductive film produced in the same manner as in Example 2 was attached to a 1.0 mm-thick polycarbonate sheet via an acrylic pressure-sensitive adhesive to produce a transparent conductive laminated sheet. did. Using this transparent conductive laminated sheet as a fixed electrode, and using the transparent conductive film of Example 6 as a movable electrode, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1.

【0093】比較例1 180℃で1分間の揮発成分低減のプロセスを行わなか
った以外は、実施例1と同様にして透明導電性フィルム
を作製した。さらに、この透明導電性フィルムを用い
て、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
Comparative Example 1 A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 1 except that the process of reducing volatile components at 180 ° C. for 1 minute was not performed. Further, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1 using this transparent conductive film.

【0094】比較例2 180℃で1分間の加熱処理及び10分間の真空暴露処
理の揮発成分低減のプロセスを行わなかった以外は、実
施例2と同様にして透明導電性フィルムを作製した。さ
らに、この透明導電性フィルムを用いて、実施例1と同
様にしてタッチパネルを作製した。
Comparative Example 2 A transparent conductive film was produced in the same manner as in Example 2, except that the heat treatment at 180 ° C. for 1 minute and the process of exposure to vacuum for 10 minutes were not performed to reduce volatile components. Further, a touch panel was produced in the same manner as in Example 1 using this transparent conductive film.

【0095】以上の実施例及び比較例の測定結果を表1
及び図1〜8に示す。
Table 1 shows the measurement results of the above Examples and Comparative Examples.
And FIGS.

【0096】表1の結果より、実施例1〜6記載の透明
導電性フィルムは、揮発成分量が少なく良好な膜質を有
する透明導電性薄膜が得られた。この透明導電性フィル
ムを用いたタッチパネルは、ポリアセタール製ペン(先
端形状:0.8mmR)に5.0Nの荷重をかけ10万
回の摺動試験を行った後でも白化もなく、ON抵抗にも
異常がなかった。また、入力した記号○印も正確に認識
していた。
From the results shown in Table 1, it was found that the transparent conductive films of Examples 1 to 6 had a small amount of volatile components and had good film quality. The touch panel using this transparent conductive film has no whitening even after performing a sliding test 100,000 times by applying a load of 5.0N to a polyacetal pen (tip shape: 0.8 mmR), and has a low ON resistance. There was no abnormality. Also, the input symbol ○ was correctly recognized.

【0097】これに対して、比較例1及び2は揮発成分
量が多く、膜質も良好でないため、タッチパネルに用い
た際に、ポリアセタール製ペン(先端形状:0.8mm
R)に5.0Nの荷重をかけ10万回の摺動試験を行っ
た後に摺動部が白化し、ON抵抗も上昇した。また、入
力した記号○印も摺動部で正確に認識していなかった。
On the other hand, Comparative Examples 1 and 2 had a large amount of volatile components and poor film quality. Therefore, when used for a touch panel, a polyacetal pen (tip shape: 0.8 mm
After applying a load of 5.0 N to R) and performing the sliding test 100,000 times, the sliding portion became white and the ON resistance also increased. Also, the input symbol 印 was not recognized accurately by the sliding portion.

【0098】[0098]

【表1】 [Table 1]

【0099】[0099]

【発明の効果】本発明の透明導電性フィルムはは、透明
プラスチックフィルム基材上に、硬化型樹脂を主たる構
成成分とする硬化物層、及び透明導電性薄膜をこの順に
積層し、このフィルム中の揮発成分量が30ppm以下
であるため、良好な膜質である透明導電性薄膜を成膜す
ることができる。このため、前記透明導電性フィルムを
用いたペン入力用タッチパネルは、ペンの押圧で対向の
透明導電性薄同士が接触しても、剥離、クラック等を生
じることがないなどペン入力耐久性に優れており、かつ
位置検出精度や表示品位にも優れている。したがって、
ペン入力タッチパネルとして好適である。
The transparent conductive film of the present invention is obtained by laminating a cured product layer mainly composed of a curable resin and a transparent conductive thin film on a transparent plastic film substrate in this order. Is 30 ppm or less, a transparent conductive thin film having good film quality can be formed. For this reason, the pen input touch panel using the transparent conductive film has excellent pen input durability such that peeling, cracking, and the like do not occur even when opposing transparent conductive thin films come into contact with each other by pressing the pen. It also has excellent position detection accuracy and display quality. Therefore,
It is suitable as a pen input touch panel.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施例1のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating an output shape from a touch panel according to a first embodiment.

【図2】実施例2のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram illustrating an output shape from a touch panel according to a second embodiment.

【図3】実施例3のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram illustrating an output shape from a touch panel according to a third embodiment.

【図4】実施例4のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram illustrating an output shape from a touch panel according to a fourth embodiment.

【図5】実施例5のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram illustrating an output shape from a touch panel according to a fifth embodiment.

【図6】実施例6のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 6 is an explanatory diagram illustrating an output shape from a touch panel according to a sixth embodiment.

【図7】比較例1のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing an output shape from a touch panel of Comparative Example 1.

【図8】比較例2のタッチパネルからの出力形状を示し
た説明図である。
FIG. 8 is an explanatory diagram showing an output shape from a touch panel of Comparative Example 2.

【図9】本発明の透明導電性フィルムを使用して得たタ
ッチパネルの断面図である。
FIG. 9 is a cross-sectional view of a touch panel obtained by using the transparent conductive film of the present invention.

【図10】本発明の透明導電性フィルム及び透明導電性
シートを使用して得た、ガラス基板を用いないプラスチ
ック製のタッチパネルの断面図である。
FIG. 10 is a cross-sectional view of a plastic touch panel without using a glass substrate, obtained by using the transparent conductive film and the transparent conductive sheet of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 摺動試験部 2 タッチパネル出力形状 10 透明導電性フィルム 11 透明プラスチックフィルム基材 12 硬化物層 13 透明導電性薄膜 14 ハードコート層 20 ビーズ 30 ガラス板 40 透明導電性シート 41 粘着剤 42 透明樹脂シート DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Sliding test part 2 Touch panel output form 10 Transparent conductive film 11 Transparent plastic film base material 12 Cured material layer 13 Transparent conductive thin film 14 Hard coat layer 20 Bead 30 Glass plate 40 Transparent conductive sheet 41 Adhesive 42 Transparent resin sheet

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C23C 14/35 C23C 14/35 Z 5G307 16/40 16/40 16/50 16/50 G06F 3/03 310 G06F 3/03 310C 320 320G 3/033 360 3/033 360H (72)発明者 伊藤 勝也 滋賀県大津市堅田二丁目1番1号 東洋紡 績株式会社総合研究所内 Fターム(参考) 4F100 AA33C AK01A AK01B AK25 AK42 AR00D AT00 AT00A BA04 BA07 BA10A BA10D EH66 EJ08B GB41 JB12B JB14B JG01C JK01 JL05 JM02C JN01A JN01C JN06D 4K029 AA11 BA45 BA47 BA50 BB02 BC09 BD01 CA05 DC39 FA07 4K030 BA42 BB12 CA06 5B068 AA01 AA33 BC07 BC10 BC13 5B087 AA04 AC09 CC14 CC16 CC18 5G307 FA02 FB01 FC01 FC02 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C23C 14/35 C23C 14/35 Z 5G307 16/40 16/40 16/50 16/50 G06F 3/03 310 G06F 3/03 310C 320 320G 3/033 360 3/033 360H (72) Inventor Katsuya Ito 2-1-1 Katada, Otsu-shi, Shiga F-term in Toyobo Co., Ltd. Research Laboratory F-term (reference) 4F100 AA33C AK01A AK01B AK25 AK42 AR00D AT00 AT00A BA04 BA07 BA10A BA10D EH66 EJ08B GB41 JB12B JB14B JG01C JK01 JL05 JM02C JN01A JN01C JN06D 4K029 AA11 BA45 BA47 BA50 BB02 BC09 BD01 CA05 DC39 FA07 4K06 ABA13 BC13 ABC13A13 BC12A01 FC01 FC02

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明プラスチックフィルム基材上に、硬
化型樹脂を主たる構成成分とする硬化物層、及び透明導
電性薄膜をこの順に積層した透明導電性フィルムであっ
て、前記透明導電性フィルムに含有する揮発成分量が3
0ppm以下であることを特徴する透明導電性フィル
ム。
1. A transparent conductive film in which a cured product layer mainly comprising a curable resin and a transparent conductive thin film are laminated in this order on a transparent plastic film substrate, wherein the transparent conductive film is Contains 3 volatile components
A transparent conductive film having a content of 0 ppm or less.
【請求項2】 前記硬化物層が紫外線硬化型樹脂を主成
分とすることを特徴とする請求項1記載の透明導電性フ
ィルム。
2. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the cured product layer contains an ultraviolet-curable resin as a main component.
【請求項3】 前記硬化型樹脂を主たる構成成分とする
硬化物層と前記透明導電性薄膜との付着力が0.1N/
15mm以上であることを特徴とする請求項1または2
記載の透明導電性フィルム。
3. An adhesive force between the cured conductive layer mainly composed of the curable resin and the transparent conductive thin film is 0.1 N /.
3. The device according to claim 1, wherein the length is 15 mm or more.
The transparent conductive film according to the above.
【請求項4】 前記透明導電性薄膜がインジウム−スズ
複合酸化物からなることを特徴とする請求項1乃至3記
載の透明導電性フィルム。
4. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the transparent conductive thin film is made of an indium-tin composite oxide.
【請求項5】 前記透明導電性薄膜がスズ−アンチモン
複合酸化物からなることを特徴とする請求項1乃至3記
載の透明導電性フィルム。
5. The transparent conductive film according to claim 1, wherein the transparent conductive thin film is made of a tin-antimony composite oxide.
【請求項6】 前記透明導電性フィルムの透明導電性薄
膜面とは反対面に、ハードコート層を積層することを特
徴とする請求項1乃至5記載の透明導電性フィルム。
6. The transparent conductive film according to claim 1, wherein a hard coat layer is laminated on a surface of the transparent conductive film opposite to a surface of the transparent conductive thin film.
【請求項7】 前記ハードコート層が防眩効果を有する
ことを特徴とする請求項6記載の透明導電性フィルム。
7. The transparent conductive film according to claim 6, wherein the hard coat layer has an antiglare effect.
【請求項8】 前記ハードコート層に低反射処理を施し
たことを特徴とする請求項6または7記載の透明導電性
フィルム。
8. The transparent conductive film according to claim 6, wherein a low reflection treatment is applied to the hard coat layer.
【請求項9】 請求項1乃至8記載の透明導電性フィル
ムの透明導電性薄膜面とは反対面に、粘着剤を介して透
明樹脂シートを貼り合わせることを特徴とする透明導電
性シート。
9. A transparent conductive sheet, characterized in that a transparent resin sheet is adhered to the surface of the transparent conductive film according to claim 1 through an adhesive.
【請求項10】 前記透明導電性薄膜を有する一対のパ
ネル板を透明導電性薄膜が対向するようにスペーサーを
介して配置してなるタッチパネルにおいて、少なくとも
一方のパネル板が請求項1乃至9のいずれかに記載の透
明導電性フィルムもしくは透明導電性シートからなるこ
とを特徴とするタッチパネル。
10. A touch panel in which a pair of panel boards having the transparent conductive thin film are arranged via a spacer so that the transparent conductive thin films face each other, at least one of the panel boards is any one of claims 1 to 9. A touch panel comprising the transparent conductive film or the transparent conductive sheet according to any one of the above.
JP2000236007A 2000-03-28 2000-08-03 Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel Expired - Lifetime JP4975897B2 (en)

Priority Applications (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000236007A JP4975897B2 (en) 2000-08-03 2000-08-03 Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel
DE60128508T DE60128508D1 (en) 2000-03-28 2001-03-23 Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch-sensitive panel
TW90106944A TW525195B (en) 2000-03-28 2001-03-23 Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel
EP20010107264 EP1147882B1 (en) 2000-03-28 2001-03-23 Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touchpanel
AT01107264T ATE362843T1 (en) 2000-03-28 2001-03-23 TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM, TRANSPARENT CONDUCTIVE SHEET AND TOUCH SENSITIVE BOARD
US09/816,308 US6603085B2 (en) 2000-03-28 2001-03-26 Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touchpanel
KR1020010016169A KR100619547B1 (en) 2000-03-28 2001-03-28 Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touchpanel
CNB011099682A CN1193378C (en) 2000-03-28 2001-03-28 Transparent electrically conductive diaphragm and transparent electrically conductive plate and touch screen
HK02101817.7A HK1040218B (en) 2000-03-28 2002-03-09 Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touchpanel

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000236007A JP4975897B2 (en) 2000-08-03 2000-08-03 Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011000414A Division JP2011129527A (en) 2011-01-05 2011-01-05 Method of manufacturing transparent conductive film

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2002050230A true JP2002050230A (en) 2002-02-15
JP4975897B2 JP4975897B2 (en) 2012-07-11

Family

ID=18728123

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000236007A Expired - Lifetime JP4975897B2 (en) 2000-03-28 2000-08-03 Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4975897B2 (en)

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004046728A (en) * 2002-07-15 2004-02-12 Fuji Photo Film Co Ltd Touch panel and display device with touch panel
WO2007034944A1 (en) * 2005-09-26 2007-03-29 Asahi Kasei Chemicals Corporation Zinc oxide transparent conductive multilayer body
JP2008225980A (en) * 2007-03-14 2008-09-25 Young Fast Optoelectronics Co Ltd Composite touch sensor
JP2013232389A (en) * 2011-06-30 2013-11-14 Rohm & Haas Electronic Materials Llc Transparent conductive article
WO2014030382A1 (en) * 2012-08-24 2014-02-27 株式会社アルバック Film formation method
US10494710B1 (en) 2018-08-28 2019-12-03 Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha Film-forming method, production method for product with ceramic film, and product with ceramic film
WO2021200709A1 (en) * 2020-03-31 2021-10-07 東洋紡株式会社 Transparent conductive film
WO2022004228A1 (en) * 2020-06-30 2022-01-06 東洋紡株式会社 Transparent electroconductive film
WO2022049898A1 (en) * 2020-09-03 2022-03-10 東洋紡株式会社 Transparent conductive film
WO2022070609A1 (en) * 2020-09-29 2022-04-07 東洋紡株式会社 Transparent conductive film
WO2022070610A1 (en) * 2020-09-29 2022-04-07 東洋紡株式会社 Transparent conductive film

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000112663A (en) * 1997-11-27 2000-04-21 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Transparent touch panel and liquid crystal cell with transparent touch panel

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000112663A (en) * 1997-11-27 2000-04-21 Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd Transparent touch panel and liquid crystal cell with transparent touch panel

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004046728A (en) * 2002-07-15 2004-02-12 Fuji Photo Film Co Ltd Touch panel and display device with touch panel
WO2007034944A1 (en) * 2005-09-26 2007-03-29 Asahi Kasei Chemicals Corporation Zinc oxide transparent conductive multilayer body
JP2008225980A (en) * 2007-03-14 2008-09-25 Young Fast Optoelectronics Co Ltd Composite touch sensor
JP2013232389A (en) * 2011-06-30 2013-11-14 Rohm & Haas Electronic Materials Llc Transparent conductive article
WO2014030382A1 (en) * 2012-08-24 2014-02-27 株式会社アルバック Film formation method
JPWO2014030382A1 (en) * 2012-08-24 2016-07-28 株式会社アルバック Deposition method
US10494710B1 (en) 2018-08-28 2019-12-03 Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha Film-forming method, production method for product with ceramic film, and product with ceramic film
WO2021200709A1 (en) * 2020-03-31 2021-10-07 東洋紡株式会社 Transparent conductive film
JP7017187B1 (en) * 2020-03-31 2022-02-08 東洋紡株式会社 Transparent conductive film
WO2022004228A1 (en) * 2020-06-30 2022-01-06 東洋紡株式会社 Transparent electroconductive film
WO2022049898A1 (en) * 2020-09-03 2022-03-10 東洋紡株式会社 Transparent conductive film
WO2022070609A1 (en) * 2020-09-29 2022-04-07 東洋紡株式会社 Transparent conductive film
WO2022070610A1 (en) * 2020-09-29 2022-04-07 東洋紡株式会社 Transparent conductive film

Also Published As

Publication number Publication date
JP4975897B2 (en) 2012-07-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100619547B1 (en) Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touchpanel
TWI449058B (en) Transparent conductive film and touch panel
JP2007059360A (en) Transparent conductive film, transparent conductive sheet, and touch panel
JP4697450B2 (en) Transparent conductive film or transparent conductive sheet, and touch panel using the same
JP5481992B2 (en) Transparent conductive film
JP2002050230A (en) Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel
TW550598B (en) Transparent conductive films and method for produce the same, transparent conductive sheets, and touch panels
JP2010080290A (en) Transparent conductive film
JP3855307B2 (en) Transparent conductive film and method for producing the same
WO2022004228A1 (en) Transparent electroconductive film
JP3526048B2 (en) Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel
TWI397926B (en) Transparent electrically conductive film and touch panel using the same
JP4517255B2 (en) Transparent conductive film for touch panel, transparent conductive sheet for touch panel, and touch panel
JP4296462B2 (en) Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel
JP2011129527A (en) Method of manufacturing transparent conductive film
JP2002313141A (en) Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel
JP2002163933A (en) Transparent electrically conductive film, transparent electrically conductive sheet and touch panel
JP4135079B2 (en) Transparent conductive film, method for producing transparent conductive sheet, and touch panel
JP3627864B2 (en) Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel
JP5509683B2 (en) Transparent conductive film
JP2004213990A (en) Transparent conductive film and touch panel
JP4543292B2 (en) Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel
JP2002157928A (en) Manufacturing method for transparent conductive film or transparent conductive sheet and touch panel
JP2001014951A (en) Transparent conductive film and touch panel
JP3627865B2 (en) Transparent conductive film, transparent conductive sheet and touch panel

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070731

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100318

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100701

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100722

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20101005

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110105

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20110302

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20110325

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20110715

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120316

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120412

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150420

Year of fee payment: 3