JP2002049404A - Positioning control method and device therefor - Google Patents

Positioning control method and device therefor

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JP2002049404A
JP2002049404A JP2000233494A JP2000233494A JP2002049404A JP 2002049404 A JP2002049404 A JP 2002049404A JP 2000233494 A JP2000233494 A JP 2000233494A JP 2000233494 A JP2000233494 A JP 2000233494A JP 2002049404 A JP2002049404 A JP 2002049404A
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Japan
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positioning
driving means
wafer
data
carrier
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Isamu Nakato
勇 中塘
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Tokyo Electron Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positioning control method and device capable of selectively positioning the driving means of plural devices by one connector. SOLUTION: At the time of inputting data for positioning driving means to plural local controllers LCa-LCc for respectively controlling one or more driving means, one positioning terminal PT is connected to one connector 50 capable of performing branch communication which is connected to the plural local controllers LCa-LCc so that the local controllers LCa-LCc can be selected. Then, the data for positioning the driving means to be controlled by the selected local controllers LCa-LCc are set so that the driving means can be controlled based on the data.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、位置決め制御方
法及びその装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a positioning control method and apparatus.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、例えば半導体ウエハやLCD基
板等の被処理基板を洗浄処理する洗浄処理システムに
は、複数の被処理基板を収容する容器(キャリア)を搬
送すると共に、キャリアを所定位置にセットし、キャリ
アに対する被処理基板の授受、被処理基板の位置合せ及
び被処理基板の搬送手段への受け渡し等を行うバッファ
部(バッファ系)、及び被処理基板を搬送手段によって
処理部へ搬送する搬送部(搬送系)、処理部において適
宜薬液、リンス液等の洗浄液によって洗浄処理する洗浄
処理部(処理系)、処理後の被処理基板を乾燥処理する
乾燥処理部(処理系)とが備えられている。
2. Description of the Related Art In general, a cleaning system for cleaning a substrate to be processed such as a semiconductor wafer or an LCD substrate transports a container (carrier) accommodating a plurality of substrates to be processed and places the carrier at a predetermined position. A buffer unit (buffer system) for setting and transferring a substrate to be processed with respect to a carrier, aligning the substrate to be processed, and transferring the substrate to a transport unit, and transporting the substrate to the processing unit by the transport unit. A transport section (transport system), a cleaning section (processing system) for appropriately performing a cleaning process with a cleaning liquid such as a chemical solution or a rinsing liquid in the processing section, and a drying section (processing system) for drying the processed substrate to be processed are provided. Have been.

【0003】上記洗浄処理システムにおいて、例えば、
上記搬送手段例えば搬送チャックは、複数の被処理基板
を適宜間隔をおいて保持し得るように位置決めされると
共に、上記処理部に配設される処理槽や乾燥室等に被処
理基板を移送する移送手段例えばボートに被処理基板を
受け渡すために位置決めされる。
In the above-mentioned cleaning system, for example,
The transfer unit, for example, the transfer chuck is positioned so as to be able to hold a plurality of substrates to be processed at appropriate intervals, and transfers the substrates to a processing tank, a drying chamber, or the like provided in the processing unit. It is positioned for transferring a substrate to be transferred to a transfer means such as a boat.

【0004】また、上記バッファ部(バッファ系)、搬
送部(搬送系)及び洗浄処理部・乾燥処理部(処理系)
においては、上記キャリアや被処理基板を、水平のX,
Y方向、垂直のZ方向又は回転方向に移動する一つ又は
複数の駆動手段が備えられており、これら駆動手段はそ
れぞれローカル・コントローラによって制御されるよう
になっている。したがって、上記被処理基板を効率よく
洗浄処理するためには、上記バッファ部、搬送部及び処
理部における駆動手段を予め所定の位置へ移動するよう
に位置決めを行う必要がある。
The above-mentioned buffer section (buffer system), transport section (transport system), cleaning section / drying section (processing section)
In the above, the carrier and the substrate to be processed are
One or more drive means are provided which move in the Y direction, the vertical Z direction or the rotational direction, each of which is controlled by a local controller. Therefore, in order to efficiently perform the cleaning process on the substrate to be processed, it is necessary to perform positioning so that the driving units in the buffer unit, the transport unit, and the processing unit are moved to predetermined positions in advance.

【0005】そこで、従来では、図18に示すように、
バッファ系制御部A、搬送系制御部B及び処理系制御部
Cの駆動手段(図示せず)を制御する各ローカル・コン
トローラLCa〜LCcにケーブル1a〜1cを介して
接続する1対1の通信(例えば、RS−232C通信)
可能なコネクタ2a〜2cに、位置決めターミナルPT
を接続して、各ローカル・コントローラLCa〜LCc
に位置決め用データを入力し、このデータに基づいて駆
動手段を制御している。
Therefore, conventionally, as shown in FIG.
One-to-one communication connected via cables 1a to 1c to local controllers LCa to LCc that control driving means (not shown) of a buffer system control unit A, a transport system control unit B, and a processing system control unit C. (For example, RS-232C communication)
Possible terminals 2a to 2c have positioning terminals PT
To each of the local controllers LCa to LCc
The positioning data is input to the CPU, and the driving means is controlled based on the data.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
位置決め制御においては、位置決めターミナルPTと位
置決めを行うバッファ系制御部A、搬送系制御部B又は
処理系制御部Cのローカル・コントローラLCa〜LC
cの構成が1対1の通信形態となる。つまり、この構成
の通信形態では、バッファ系制御部A、搬送系制御部B
又は処理系制御部Cを位置決めする場合は、バッファ系
制御部A、搬送系制御部B又は処理系制御部Cのローカ
ル・コントローラLCa〜LCcに接続するコネクタ2
a〜2cの一つ、例えばバッファ系制御部Aのローカル
・コントローラLCaに接続するコネクタ2aに位置決
めターミナルPTを繋いで、位置決め用データを入力す
る必要がある。したがって、別の例えば搬送系制御部B
の位置決めを行う場合には、搬送系制御部Bのローカル
・コントローラLCbに接続するコネクタ2bに位置決
めターミナルPTを繋ぎ直さなければならない。
However, in the conventional positioning control, the local controllers LCa to LCa of the buffer system control unit A, the transfer system control unit B or the processing system control unit C for performing positioning with the positioning terminal PT.
The configuration of c is a one-to-one communication mode. That is, in the communication mode of this configuration, the buffer system control unit A and the transport system control unit B
Alternatively, when positioning the processing system control unit C, the connector 2 connected to the buffer system control unit A, the transport system control unit B, or the local controllers LCa to LCc of the processing system control unit C
It is necessary to input positioning data by connecting the positioning terminal PT to one of the connectors 2a to 2c, for example, the connector 2a connected to the local controller LCa of the buffer system controller A. Therefore, for example, another transport system controller B
When the positioning is performed, the positioning terminal PT must be reconnected to the connector 2b connected to the local controller LCb of the transport system controller B.

【0007】ところで、装置の位置決めは安全面から装
置1台について一つの位置決めターミナルPTで行うの
が原則である。その理由は、同時に複数箇所の位置決め
を行うと、1箇所の位置決めを行っている作業者が他方
の位置決め箇所の装置の駆動手段の移動によって危険に
晒される恐れがあるためである。したがって、例えばバ
ッファ系制御部Aと搬送系制御部Bの駆動手段同士の位
置決めを行う場合、位置決めターミナルPTのメンテナ
ンス画面上で位置決めモードを一度抜け、位置決めター
ミナルPTとローカル・コントローラLCa〜LCcの
接続を変更した後、再度、位置決めターミナルPTのメ
ンテナンス画面上で位置決めモードへ入るという作業が
必要となり、作業性が極めて悪いという問題があった。
また、ハード的に2台以上の位置決めターミナルPTの
接続ができないようにするための保護が必要であった。
By the way, in principle, the positioning of the apparatus is performed by one positioning terminal PT per apparatus from the viewpoint of safety. The reason is that if a plurality of positions are positioned at the same time, an operator performing one position may be exposed to danger due to the movement of the driving means of the device at the other position. Therefore, for example, when positioning the drive means of the buffer system control unit A and the transfer system control unit B, the positioning mode is once exited on the maintenance screen of the positioning terminal PT, and the connection between the positioning terminal PT and the local controllers LCa to LCc is performed. After the change, the operation of entering the positioning mode on the maintenance screen of the positioning terminal PT is required again, and there is a problem that the workability is extremely poor.
Further, protection for preventing connection of two or more positioning terminals PT by hardware is required.

【0008】この発明は上記事情に鑑みてなされたもの
であり、複数の装置の駆動手段の位置決めを1箇所の接
続で選択して行えるようにした位置決め制御方法及びそ
の装置を提供することを目的としている。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a positioning control method and a positioning control method capable of selectively positioning driving means of a plurality of devices by connecting them at one place. And

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項1記載の位置決め制御方法は、それぞれ一つ
又は複数の駆動手段を制御する複数のローカル・コント
ローラに位置決め用データを入力するに当たって、 一
つの位置決めターミナルによって上記ローカル・コント
ローラを選択すると共に、選択されたローカル・コント
ローラにより制御される上記駆動手段の位置決め用デー
タを設定して、上記駆動手段を上記データに基づいて制
御可能にすることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a positioning control method for inputting positioning data to a plurality of local controllers for controlling one or a plurality of driving means. In this case, the local controller is selected by one positioning terminal, and positioning data of the driving unit controlled by the selected local controller is set, so that the driving unit can be controlled based on the data. It is characterized by doing.

【0010】この発明において、上記位置決めターミナ
ルの位置決め用データには、上記駆動手段自体における
水平のX、Y方向、垂直のZ方向又は回転方向のうちの
少なくとも一つの位置決めと、上記駆動手段同士間の位
置決めが含まれる(請求項2)。また、上記位置決めタ
ーミナルの位置決め用データをローカル・コントローラ
に記憶・保存させるようにする方が好ましい(請求項
3)。
In the present invention, the positioning data of the positioning terminal includes at least one of a horizontal X, Y direction, a vertical Z direction, or a rotation direction in the driving means itself, and the positioning data between the driving means. (Claim 2). It is preferable that the local controller stores and saves the positioning data of the positioning terminal.

【0011】請求項4記載の位置決め制御装置は、上記
請求項1記載の位置決め制御方法を具現化するもので、
それぞれ一つ又は複数の駆動手段を制御する複数のロー
カル・コントローラに位置決め用データを入力する位置
決め制御装置であって、 上記複数のローカル・コント
ローラに接続する分岐通信可能な一つのコネクタに、位
置決めターミナルを接続可能に形成し、 上記位置決め
ターミナルは、上記ローカル・コントローラを選択する
機能と、選択されたローカル・コントローラにより制御
される上記駆動手段の位置決め用データを設定する機能
とを具備することを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a positioning control apparatus embodying the positioning control method according to the first aspect.
What is claimed is: 1. A positioning control device for inputting positioning data to a plurality of local controllers each controlling one or a plurality of driving means, comprising: a branching communication-capable connector connected to said plurality of local controllers; Wherein the positioning terminal has a function of selecting the local controller and a function of setting positioning data of the driving means controlled by the selected local controller. And

【0012】この発明において、上記駆動手段は、被処
理基板を収容する容器を移動する容器移動手段と、上記
被処理基板を洗浄及び乾燥処理する処理系へ被処理基板
を搬送する搬送手段と、上記被処理基板を洗浄及び乾燥
処理する処理系で被処理基板を昇降する基板昇降手段と
を具備している(請求項5)。また、上記駆動手段とし
ては、水平のX、Y方向、垂直のZ方向又は回転方向の
うちの少なくとも一つの方向に移動可能に形成されてい
るものを含めることができる(請求項6)。また、上記
位置決めターミナルの上記位置決め用データを、ローカ
ル・コントローラが記憶及び保存可能に形成する方が好
ましい(請求項7)。
In the present invention, the driving means includes a container moving means for moving a container accommodating the substrate to be processed, a transport means for transporting the substrate to a processing system for cleaning and drying the substrate to be processed, There is provided a substrate elevating means for elevating the substrate to be processed in a processing system for cleaning and drying the substrate to be processed (claim 5). The driving means may include a driving means formed to be movable in at least one of the horizontal X and Y directions, the vertical Z direction and the rotation direction (claim 6). In addition, it is preferable that the positioning data of the positioning terminal is formed so that the local controller can store and store the data.

【0013】この発明によれば、一つの位置決めターミ
ナルによって駆動手段を制御するローカル・コントロー
ラの一つを選択し、選択されたローカル・コントローラ
により制御される上記駆動手段の位置決め用データを設
定して、上記駆動手段を上記データに基づいて制御する
ことができる。したがって、位置決めターミナルを各ブ
ロックの駆動手段を制御するローカル・コントローラに
繋ぎ直す必要がなく、一度の接続によって位置決めを簡
単かつ安全に行うことができる(請求項1,4,5)。
According to the present invention, one of the local controllers for controlling the driving means is selected by one positioning terminal, and the positioning data of the driving means controlled by the selected local controller is set. The driving means can be controlled based on the data. Therefore, there is no need to reconnect the positioning terminal to the local controller that controls the driving means of each block, and positioning can be performed simply and safely by a single connection.

【0014】また、駆動手段の水平のX、Y方向、垂直
のZ方向又は回転方向の位置決めを行うことができる
(請求項2,6)他、駆動手段同士間の位置決めを行う
ことができる(請求項2)。
In addition, the positioning of the driving means in the horizontal X and Y directions, the vertical Z direction or the rotating direction can be performed (claims 2 and 6), and the positioning between the driving means can be performed ( Claim 2).

【0015】加えて、位置決めターミナルの位置決め用
データを、ローカル・コントローラが記憶及び保存可能
に形成することにより、駆動手段の制御を確実に行うこ
とができ、装置の信頼性の向上を図ることができる(請
求項3,7)。
[0015] In addition, by forming the positioning data of the positioning terminal so that the local controller can store and save the data, the control of the driving means can be surely performed, and the reliability of the device can be improved. (Claims 3 and 7).

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では、この
発明に係る位置決め制御方法及びその装置を半導体ウエ
ハの洗浄処理システムに適用した場合について説明す
る。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In this embodiment, a case will be described in which the positioning control method and apparatus according to the present invention are applied to a semiconductor wafer cleaning processing system.

【0017】上記洗浄処理システムは、図1及び図2に
示すように、複数例えば25枚の未処理の被処理体例え
ば半導体ウエハW(以下にウエハWという)を収容した
容器であるキャリア10を図示しない搬送ロボットによ
って搬入する搬入部11と、この搬入部11に搬入され
たキャリア10内からウエハWを取り出すローダ(駆動
手段){図示せず}やキャリア10から取り出された複
数のウエハWを揃えると共に位置決めする位置決め機構
(図示せず)等を具備するインターフェース部12A
と、このインターフェース部12Aにおいて複数のウエ
ハWを受け取る搬送チャック20(駆動手段)及びこの
搬送チャック20が直線移動可能な搬送路20Aを具備
する搬送部20Bと、この搬送路20Aに沿って区画さ
れ、ウエハWに処理液例えばアンモニア過水、フッ酸等
の薬液やリンス液(純水)を接触させて適宜処理を施す
処理ユニット30,31,32と、ウエハWの乾燥処理
を行う乾燥ユニット33及び搬送チャック20の洗浄・
乾燥ユニット34を具備する処理部35と、上記処理部
35の乾燥ユニット33において処理が施された複数の
ウエハWを揃えると共に位置決めする位置決め機構(図
示せず)や処理済みのウエハWを空のキャリア10内に
搬入するアンローダ(図示せず)等を具備するインター
フェース部12Bと、処理済みのウエハWを収容したキ
ャリア10を載置し、図示しない搬送ロボットに受け渡
す搬出部13と、を備えている。また、洗浄処理システ
ムの上部には、インターフェース部12Aにおいてウエ
ハWが取り出された空のキャリア10をストックすると
共に、搬出部13に搬送する搬送機構を具備するキャリ
アストック部40が設けられている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the cleaning system includes a carrier 10 which is a container containing a plurality of, for example, 25 unprocessed objects, for example, semiconductor wafers W (hereinafter, referred to as wafers W). A loading section 11 loaded by a transport robot (not shown) and a loader (drive unit) {not shown} for removing wafers W from the carrier 10 loaded into the loading section 11 and a plurality of wafers W taken out of the carrier 10 are loaded. Interface unit 12A including a positioning mechanism (not shown) for aligning and positioning
A transfer chuck 20 (drive means) for receiving a plurality of wafers W in the interface section 12A, and a transfer section 20B having a transfer path 20A in which the transfer chuck 20 can move linearly, and partitioned along the transfer path 20A. Processing units 30, 31, and 32 for appropriately treating the wafer W by contacting the wafer W with a processing liquid, for example, a chemical solution such as aqueous hydrogen peroxide or hydrofluoric acid, or a rinsing liquid (pure water); And cleaning of the transport chuck 20
A processing unit 35 having a drying unit 34; a positioning mechanism (not shown) for aligning and positioning a plurality of wafers W processed in the drying unit 33 of the processing unit 35; An interface unit 12 </ b> B including an unloader (not shown) that carries the wafer 10 into the carrier 10, and an unloading unit 13 that mounts the carrier 10 containing the processed wafer W and transfers it to a transfer robot (not shown). ing. At the top of the cleaning system, a carrier stock unit 40 is provided which has a transfer mechanism for stocking the empty carrier 10 from which the wafer W has been taken out at the interface unit 12A and transferring it to the unloading unit 13.

【0018】上記のように構成される洗浄処理システム
は、大別すると、搬入部11、インターフェース部12
A,12B、搬出部13及びキャリアストック部40と
からなるバッファ系制御部Aと、搬送部22からなる搬
送系制御部Bと、処理部35{具体的には、洗浄処理
部、乾燥処理部}からなる処理系制御部Cとに分類され
る(図3参照)。このように分類されるバッファ系制御
部Aにおいては、キャリア10の移動位置、キャリア1
0に対するウエハWの搬出あるいは搬入動作、ウエハW
の位置決め等を、また、搬送系制御部Bにおいては、搬
送チャック20によるウエハWの保持のための位置決め
を、また、処理系制御部Cにおいても例えば搬送チャッ
ク20からウエハWを受け取り、あるいは、搬送チャッ
ク20にウエハWを受け渡す搬送アーム(図示せず)の
位置決め等を、キャリア10やウエハWを、水平のX,
Y方向、垂直のZ方向又は回転方向に移動する一つ又は
複数の駆動手段例えばモータ(図示せず)によって行う
ため、モータを制御手段、例えばバッファ系制御部Aの
モータ等を制御するローカル・コントローラLCa、搬
送系制御部Bの搬送チャック20のモータ等を制御する
ローカル・コントローラLCb、又は処理系制御部Cの
モータ等を制御するローカル・コントローラLCcによ
って制御している。したがって、処理を行う前に、予め
ローカル・コントローラLCa〜LCcに位置決め用デ
ータを入力して、駆動手段をデータに基づいて制御する
必要がある。なお、ローカル・コントローラLCa〜L
Ccは、例えば中央演算処理装置(CPU)にて形成さ
れており、位置決めターミナルPTの位置決め用のデー
タを記憶及び保存可能に形成されている。更に、オペレ
ータの指示によってローカル・コントローラLCa〜L
Ccの位置決め用のデータはメイン・コントローラMC
の内部にも記憶及び保存される。
The cleaning system configured as described above can be roughly classified into a carry-in section 11 and an interface section 12.
A, 12B, a buffer system control unit A including the unloading unit 13 and the carrier stock unit 40, a transfer system control unit B including the transfer unit 22, and a processing unit 35. Specifically, a cleaning processing unit, a drying processing unit } (See FIG. 3). In the buffer system control unit A classified as described above, the moving position of the carrier 10, the carrier 1
Unloading or loading operation of wafer W with respect to wafer W
In the transfer system control unit B, the positioning for holding the wafer W by the transfer chuck 20 is performed, and in the processing system control unit C, the wafer W is received from the transfer chuck 20, for example. The position of a transfer arm (not shown) for transferring the wafer W to the transfer chuck 20 is determined by moving the carrier 10 and the wafer W to horizontal X and X directions.
One or a plurality of driving means such as a motor (not shown) moving in the Y direction, the vertical Z direction, or the rotating direction is used. The control is performed by a controller LCa, a local controller LCb for controlling a motor of the transfer chuck 20 of the transfer system control unit B, or a local controller LCc for controlling a motor of the processing system control unit C. Therefore, it is necessary to input positioning data to the local controllers LCa to LCc beforehand and control the driving means based on the data before performing the processing. Note that the local controllers LCa to LCa-L
Cc is formed, for example, by a central processing unit (CPU), and is formed so that data for positioning of the positioning terminal PT can be stored and stored. Further, the local controllers LCa to LCa-L
The positioning data for Cc is stored in the main controller MC.
Is also stored and stored inside.

【0019】そこで、この発明では、図3に示すよう
に、複数の上記ローカル・コントローラLCa〜LCc
に接続する分岐通信(例えば、RS−422又はRS−
485通信)可能な一つのコネクタ50に、位置決めタ
ーミナルPTを接続可能に形成し、位置決めターミナル
PTに具備されたローカル・コントローラLCa〜LC
cを選択する機能と、選択されたローカル・コントロー
ラLCa〜LCcにより制御される駆動手段の位置決め
用データを設定する機能とによって駆動手段の位置制御
を行えるようにしている。つまり、一つの位置決めター
ミナルPTによってローカル・コントローラLCa〜L
Ccの一つを選択すると共に、選択されたローカル・コ
ントローラLCa〜LCcにより制御される駆動手段の
位置決め用データを設定して、駆動手段を上記データに
基づいて制御可能にしている。
Therefore, according to the present invention, as shown in FIG. 3, a plurality of local controllers LCa to LCc are provided.
Branch communication (for example, RS-422 or RS-
485 communication), the positioning terminal PT is formed so as to be connectable to one connector 50 capable of being connected, and the local controllers LCa to LC provided in the positioning terminal PT are provided.
The position of the driving means can be controlled by the function of selecting c and the function of setting the positioning data of the driving means controlled by the selected local controllers LCa to LCc. That is, the local controllers LCa to LCa-L are controlled by one positioning terminal PT.
One of Cc is selected, and positioning data of the driving means controlled by the selected local controllers LCa to LCc is set, so that the driving means can be controlled based on the data.

【0020】この場合、上記位置決めターミナルPT
は、制御対象や制御操作等を表示する画面61と、ON
/OFFスイッチ,制御対象を選択するセレクトスイッ
チあるいはモード切替スイッチ等のスイッチ類62を具
備している。また、位置決めターミナルPTには、以下
のような動作モードが備えられている。
In this case, the positioning terminal PT
Is a screen 61 for displaying a control target, a control operation, etc.
Switches 62 such as an / OFF switch, a select switch for selecting a control target, and a mode changeover switch are provided. The positioning terminal PT has the following operation modes.

【0021】(1)Initモード 位置決めターミナルPTをコネクタ50に接続した直後
の、位置決めターミナルPT自身の初期化処理を行うモ
ード。初期化が正常終了した場合には、自動的にIdl
eモードに移行する。異常終了した場合には、その時点
で動作を中止する。
(1) Init mode A mode in which the positioning terminal PT itself is initialized immediately after the positioning terminal PT is connected to the connector 50. When initialization is completed normally, Idl
Shift to e-mode. If the operation ends abnormally, the operation is stopped at that point.

【0022】(2)Idleモード 位置決めターミナルPT開始操作が行われているローカ
ルモードから位置決め(ティーチング)作業の対象とな
るローカルモードを選択するモード。ティーチング作業
の対象となるローカルモード選択後、モード切替スイッ
チの状態によりJogモードへ移行する。
(2) Idle mode A mode for selecting a local mode to be subjected to positioning (teaching) work from the local mode in which the positioning terminal PT start operation is performed. After selecting the local mode to be taught, the mode shifts to the Jog mode depending on the state of the mode switch.

【0023】(3)Jogモード(調整動作) ティーチング対象軸(駆動手段)の調整動作及びティー
チング非対象軸(駆動手段)の定位置間動作が行える。
(3) Jog mode (adjustment operation) The adjustment operation of the teaching target axis (drive means) and the inter-position operation of the non-teaching target axis (drive means) can be performed.

【0024】(4)Originモード(初期化) 単軸(駆動手段)又は全軸(複数軸){駆動手段}の初
期化動作が行える。
(4) Origin mode (initialization) Initialization of a single axis (drive means) or all axes (multiple axes) {drive means} can be performed.

【0025】(5)Autoモード(確認動作) ティーチング対象軸(駆動手段)及びティーチング非対
象軸(駆動手段)の定位置間動作が行える。
(5) Auto mode (confirmation operation) The teaching target axis (driving means) and the non-teaching target axis (driving means) can be operated between fixed positions.

【0026】(6)Memoryモード(プリセット) 選択されている定位置のティーチング・データ(位置決
め用データ)のプリセット操作(位置決めデータの保
存)が行える。
(6) Memory mode (preset) A preset operation (storing of positioning data) of teaching data (positioning data) at a selected fixed position can be performed.

【0027】以下に、バッファ系制御部A、搬送系制御
部B及び処理系制御部Cの位置制御について、図4〜図
16を参照して詳細に説明する。
Hereinafter, the position control of the buffer system controller A, the transport system controller B, and the processing system controller C will be described in detail with reference to FIGS.

【0028】図4は、バッファ系制御部Aの搬入部11
とインターフェース部12Aにおけるキャリア10の搬
送機構を示す概略斜視図、図5は、上記搬送機構による
キャリア10の位置決め動作を説明する概略斜視図であ
る。図4及び図5において、符号70は、適宜間隔をお
いて4つのステージP1,P2,P3,P4を有する載置
台、符号71は、ウエハWを収容したキャリア10を載
置台70の各ステージP1,P2,P3,P4に搬送する駆
動手段例えばスライド・アームで、水平のY方向及び垂
直のZ方向に移動可能に、かつ、θ方向に回転移動可能
になっている。また、符号72は、キャリア10内のウ
エハWを受け取るウエハ・ハンドである。
FIG. 4 shows the loading section 11 of the buffer system control section A.
FIG. 5 is a schematic perspective view illustrating a transport mechanism of the carrier 10 in the interface unit 12A, and FIG. 5 is a schematic perspective view illustrating a positioning operation of the carrier 10 by the transport mechanism. 4 and 5, reference numeral 70 denotes a mounting table having four stages P1, P2, P3, and P4 at appropriate intervals, and reference numeral 71 denotes a stage P1 of the mounting table 70 in which the carrier 10 accommodating the wafer W is mounted. , P2, P3, P4, by a driving means such as a slide arm, can be moved in the horizontal Y direction and the vertical Z direction, and can be rotated in the θ direction. Reference numeral 72 denotes a wafer hand for receiving the wafer W in the carrier 10.

【0029】キャリア10を載置台70のステージP
1,P2,P3,P4に正常に搬送するために、キャリア1
0をそれぞれのステージP1,P2,P3,P4に受け渡す
位置を決める必要がある。この位置決めは、例えば、載
置台70のステージP1からステージP3へ搬送されるキ
ャリア10の動作について説明すると、図5(a)に示
すように、キャリア10はステージP1でスライド・ア
ーム71が上昇(Z方向)してキャリア10が持ち上げ
られる。この状態で、スライド・アーム71がステージ
P2へ移動(Y方向)した後、180度回転(θ方向)
する(図5(b)参照)。そして、スライド・アーム7
1が180度回転終了後、再度スライド・アーム71が
ステージP2からステージP3へ移動(Y方向)し、その
後、スライド・アーム71が下降(Z方向)し、キャリ
ア10をステージP3を載置して搬送が終了する(図5
(c)参照)。なお、キャリア10を搬送した後、スラ
イド・アーム71はステージP1へ戻る。なお、ステー
ジP2上のキャリア10は、上記と同様の動作によって
ステージP4に搬送される。これらの一連の位置決め
は、位置決めターミナルPTの操作によりバッファ系制
御部Aのスライド・アーム71を制御するローカル・コ
ントローラLCaを選択して行われる。
The carrier 10 is placed on the stage P of the mounting table 70.
1, Carrier 1 for normal conveyance to P2, P3, P4
It is necessary to determine the position where 0 is transferred to each of the stages P1, P2, P3, P4. This positioning is described, for example, with respect to the operation of the carrier 10 transported from the stage P1 of the mounting table 70 to the stage P3. As shown in FIG. The carrier 10 is lifted up in the Z direction). In this state, after the slide arm 71 moves to the stage P2 (Y direction), it rotates 180 degrees (θ direction).
(See FIG. 5B). And the slide arm 7
After the rotation of 1 by 180 degrees, the slide arm 71 moves from the stage P2 to the stage P3 again (Y direction), and then the slide arm 71 descends (Z direction) to place the carrier 10 on the stage P3. Transport is completed (see FIG. 5).
(C)). After transporting the carrier 10, the slide arm 71 returns to the stage P1. The carrier 10 on the stage P2 is transported to the stage P4 by the same operation as described above. These series of positioning operations are performed by selecting a local controller LCa that controls the slide arm 71 of the buffer system control unit A by operating the positioning terminal PT.

【0030】上記のようにして載置台70のステージP
3,P4に搬送されたキャリア10内からウエハWを取り
出すには、図6に示すように、キャリア10を載置して
垂直のZ方向に移動可能なベース73を有するローダ7
4が用いられる。このローダ74には、キャリア10や
搬送アーム(図示せず)との受け渡し位置を決定するア
ライナ75、ウエハWの枚数を数えるウエハ・カウンタ
76及びキャリア10内のウエハWの飛出しを検出する
センサ77等が備えられている。キャリア10内からウ
エハWを取り出すには、まず、図7(a)に示すよう
に、ベース73がZ方向に下降してウエハWの飛出しを
確認する。ウエハWの飛出しを確認した後、更にベース
73が下降する。次に、アライナ75が手前のウエハW
に近づいて2個のキャリア10内に収容されていたウエ
ハWを揃える(ウエハ・カウンタ76動作位置)。次
に、ウエハ・カウンタ76が手前と奥とを往復して、ウ
エハWの枚数を確認する(図7(b)参照)。ウエハW
の枚数を確認した後、更にアライナ75が手前のウエハ
・ハンド72に近づき、搬送アーム(図示せず)受け渡
し位置で停止し、ウエハ搬送を待機する(図7(c)参
照)。これらの一連の位置決めも、位置決めターミナル
PTの操作によりバッファ系制御部Aのベース73、ロ
ーダ74、アライナ75及びウエハ・カウンタ76を制
御するローカル・コントローラLCaを選択して行われ
る。
The stage P of the mounting table 70 as described above
In order to take out the wafer W from the inside of the carrier 10 transported to P3 and P4, as shown in FIG. 6, a loader 7 having a base 73 which is placed on the carrier 10 and movable in the vertical Z direction is provided.
4 is used. The loader 74 includes an aligner 75 for determining a transfer position with respect to the carrier 10 and a transfer arm (not shown), a wafer counter 76 for counting the number of wafers W, and a sensor for detecting jumping out of the wafers W in the carrier 10. 77 etc. are provided. In order to take out the wafer W from the carrier 10, first, as shown in FIG. 7A, the base 73 descends in the Z direction and confirms that the wafer W has jumped out. After confirming that the wafer W has jumped out, the base 73 is further lowered. Next, the aligner 75 moves the front wafer W
And align the wafers W contained in the two carriers 10 (the operation position of the wafer counter 76). Next, the wafer counter 76 reciprocates between the near side and the far side to check the number of wafers W (see FIG. 7B). Wafer W
After checking the number of wafers, the aligner 75 further approaches the front wafer hand 72, stops at the transfer position of the transfer arm (not shown), and waits for wafer transfer (see FIG. 7C). These series of positioning operations are also performed by selecting a local controller LCa for controlling the base 73, the loader 74, the aligner 75, and the wafer counter 76 of the buffer system controller A by operating the positioning terminal PT.

【0031】ウエハWが取り出された空のキャリア10
は、図8に示すように、リフタ78によって洗浄処理シ
ステムの上部側に搬送された後、スライダ79に搬送さ
れ、後述するライナ80によって搬出部13側の図示し
ないキャリア・ストッカに搬送される。この場合、リフ
タ78は、図8に示すように、垂直のZ方向及び水平の
X方向に移動可能に形成されると共に、キャリア10を
掴む一対の保持軸78aが接離方向(F方向)に移動可
能に形成されている。キャリア10を搬出部13側のキ
ャリア・ストッカに搬送するには、まず、リフタ78が
キャリア10を掴んだ状態で水平のX方向に移動し、上
昇状態(Z方向上昇)で待機するスライダ79上にキャ
リア10を移動した後、保持軸78aが開かれ(F方
向)、リフタ78からキャリア10を受け取る。次に、
スライダ79が前方のライナ80側に移動(Y方向に移
動)してキャリア10を搬送する(図9(a)参照)。
スライダ79がライナ80との受け渡し位置まで移動
(Y方向に移動)すると、スライダ79が下降(Z方
向)し、キャリア10をライナ80に受け渡す(図9
(b)参照)。キャリア10をライナ80に受け渡した
スライダ79が後方に戻りスライダ79の動作が終了す
る。これらの一連の位置決めも、位置決めターミナルP
Tの操作によりバッファ系制御部Aのリフタ78、スラ
イダ79及びライナ80を制御するローカル・コントロ
ーラLCaを選択して行われる。
Empty carrier 10 from which wafer W has been taken out
As shown in FIG. 8, is transported by a lifter 78 to the upper side of the cleaning system, then transported to a slider 79, and transported to a carrier stocker (not shown) on the unloading section 13 side by a liner 80 described later. In this case, as shown in FIG. 8, the lifter 78 is formed so as to be movable in the vertical Z direction and the horizontal X direction, and the pair of holding shafts 78a that grip the carrier 10 are moved in the contact and separation directions (F direction). It is formed so as to be movable. In order to transport the carrier 10 to the carrier stocker on the unloading unit 13 side, first, the lifter 78 moves in the horizontal X direction while holding the carrier 10, and then moves on the slider 79 which stands by in the ascending state (ascending in the Z direction). After moving the carrier 10, the holding shaft 78 a is opened (F direction), and the carrier 10 is received from the lifter 78. next,
The slider 79 moves to the front liner 80 side (moves in the Y direction) to convey the carrier 10 (see FIG. 9A).
When the slider 79 moves to the transfer position with the liner 80 (moves in the Y direction), the slider 79 descends (Z direction) and transfers the carrier 10 to the liner 80 (FIG. 9).
(B)). The slider 79 that has transferred the carrier 10 to the liner 80 returns to the rear, and the operation of the slider 79 ends. Positioning terminal P
The operation is performed by selecting the local controller LCa that controls the lifter 78, the slider 79, and the liner 80 of the buffer system control unit A by operating the T.

【0032】次に、搬送系制御部B及び処理系制御部C
の位置決めについて、搬送部22に配設されてインター
フェース部12A,12Bとの間及び処理部35に配設
されるウエハボート90(基板昇降手段)との間でウエ
ハWの受け渡しを行う搬送チャック20と、処理部35
の処理ユニット30,31,32内に配設される図示し
ない洗浄処理槽や乾燥室内に対してウエハWを移送(昇
降)するウエハボート90を参照して説明する。
Next, the transport system controller B and the processing system controller C
The transfer chuck 20 that transfers the wafer W between the interface unit 12A and the interface unit 12B provided in the transfer unit 22 and the wafer boat 90 (substrate elevating means) provided in the processing unit 35. And the processing unit 35
A description will be given with reference to a wafer boat 90 for transferring (elevating) a wafer W into a cleaning chamber and a drying chamber (not shown) provided in the processing units 30, 31, and 32.

【0033】上記搬送チャック20は、図10及び図1
1に示すように、図示しないチャック駆動部に水平に取
り付けられる一対のアーム基部21aの両端部から垂下
される一対の垂下片21bとからなる下部側が開閉可能
に揺動する一対のアーム21と、これらアーム21の垂
下片21bの下端部間に架設されて、ウエハWの下部両
側を保持する複数の下部保持溝22aを列設した2本の
下部保持棒22と、下部保持棒22の上部側の垂下片2
1b間に架設されて、ウエハWの両側のやや下部側を保
持する複数の側部保持溝23aを列設した2本の側部保
持棒23とを具備している。
The transfer chuck 20 is shown in FIGS.
As shown in FIG. 1, a pair of arms 21 swinging openably and closably at a lower side comprising a pair of hanging pieces 21 b hanging from both ends of a pair of arm bases 21 a horizontally attached to a chuck driving unit (not shown), Two lower holding rods 22 provided between the lower ends of the hanging pieces 21b of the arms 21 and holding a plurality of lower holding grooves 22a for holding both lower sides of the wafer W, and an upper side of the lower holding rod 22 Hanging piece 2
1b, two side holding rods 23 in which a plurality of side holding grooves 23a for holding slightly lower sides on both sides of the wafer W are arranged.

【0034】この場合、側部保持棒23に形成される側
部保持溝23aは、図12(a)に示すように断面略Y
字状に形成されて、ウエハWが面方向へ傾いて隣接する
ウエハWに接触するのを抑制している。また、側部保持
棒23は、図13(a)に示すように、保持棒基部23
bに対して側部保持溝23aは両側をカットして可及的
に小さな断面形状に形成されている。このように側部保
持溝23aを可及的に小さな断面形状にすることによっ
て、例えば搬送チャック20を処理ユニット30,3
1,32の洗浄処理槽内に貯留された薬液内から引き上
げる際に、側部保持溝23aとウエハWとの間に溜まる
残留薬液を少なくすることができる。したがって、残留
薬液が乾燥して生じるパーティクルを減少することがで
きると共に、エッチング均一性の向上を図ることができ
る。
In this case, the side holding groove 23a formed in the side holding rod 23 has a substantially Y-section as shown in FIG.
It is formed in the shape of a letter, and suppresses the wafer W from inclining in the plane direction and coming into contact with the adjacent wafer W. Further, as shown in FIG. 13A, the side holding rod 23 has a holding rod base 23.
The side holding groove 23a is formed to have a cross section as small as possible by cutting both sides. By making the side holding groove 23a as small as possible in cross section as described above, for example, the transport chuck 20 can be moved to the processing units 30 and 3.
When pulling up from the chemical solution stored in the cleaning tanks 1 and 32, the residual chemical solution that accumulates between the side holding groove 23a and the wafer W can be reduced. Therefore, it is possible to reduce particles generated by drying of the residual chemical solution, and to improve etching uniformity.

【0035】また、下部保持棒22に形成される下部保
持溝22aは、図12(b)に示すように、断面略V字
状に形成されて、ウエハWを保持している。また、下部
保持棒22は、図13(b)に示すように、下端部にエ
ッジ部22bが形成されており、このエッジ部22bに
よって下部保持棒22に付着する薬液やリンス液等の液
切れを良好に行えるようにしている。
The lower holding groove 22a formed in the lower holding rod 22 is formed in a substantially V-shaped cross section to hold the wafer W, as shown in FIG. As shown in FIG. 13B, the lower holding rod 22 has an edge portion 22b formed at a lower end thereof, and the edge portion 22b runs out of a liquid such as a chemical solution or a rinsing liquid that adheres to the lower holding rod 22. Can be performed well.

【0036】上記のように形成される搬送チャック20
と、この搬送チャック20と同様に複数の保持溝90a
を列設したウエハボート90のそれぞれの溝位置にウエ
ハWを合わせる必要がある。この位置調整を行うため
に、従来では搬送チャック20とウエハボート90上に
ウエハWを立てて、それぞれの溝位置が合うように目視
にて行っていた。そのため、搬送チャック20とウエハ
ボート90の位置決めに熟練を要すると共に、細心の注
意が必要であった。この問題を解決するために、この発
明においては、以下に説明する調整治具100を用いて
搬送チャック20とウエハボート90の位置決めを行っ
ている。
The transport chuck 20 formed as described above
And a plurality of holding grooves 90a like the transport chuck 20.
It is necessary to align the wafer W with each groove position of the wafer boat 90 in which the wafers W are arranged. Conventionally, in order to perform this position adjustment, the wafer W is erected on the transfer chuck 20 and the wafer boat 90 and visually checked so that the respective groove positions are aligned. For this reason, the positioning of the transfer chuck 20 and the wafer boat 90 requires skill and also requires careful attention. In order to solve this problem, in the present invention, the positioning of the transfer chuck 20 and the wafer boat 90 is performed using an adjustment jig 100 described below.

【0037】上記調整治具100は、図14に示すよう
に、ウエハボート90の保持溝90aに係合する凹凸溝
101を下部に設けた略舟形の治具本体102と、この
治具本体102の上部平坦面103上の左右2箇所に載
置される測定子104を有するダイヤルゲージ105
と、調整治具100の水平度を調節すべく治具本体10
2の上部に取り付けられる水準器106とを具備してな
る。この調整治具100を用いて搬送チャック20とウ
エハボート90の位置決めを行うには、まず、図14に
示すように、調整治具100を、校正治具200に、水
準器106によって水平状態となるように載置すると共
に、測定子104を校正治具200の垂直基準面201
に当接し、後方から押圧ボルト202で押し付けてダイ
ヤルゲージ105の目盛を“0”点に合わせる。そし
て、図15〜図17に示すように、調整治具100をウ
エハボート90に、水準器106によって水平状態とな
るように載置する一方、搬送チャック20の下部保持溝
23aに凹凸溝301を係合させた状態でチャック搭載
治具300を、搬送チャック20にて掴持する。なお、
チャック搭載治具300の上部に水準器303が取り付
けられており、チャック搭載治具300が搬送チャック
20に掴持される際、水平度が調節されるようになって
いる。この状態で、チャック搭載治具300の垂直基準
面302に測定子104を当接し、ダイヤルゲージ10
5の目盛が“0”点になるようにして位置決めを行う。
As shown in FIG. 14, the adjusting jig 100 has a substantially boat-shaped jig main body 102 provided with a concave / convex groove 101 which is engaged with the holding groove 90a of the wafer boat 90, and a jig main body 102. Gauge 105 having a tracing stylus 104 mounted at two places on the left and right sides of the upper flat surface 103
And a jig body 10 for adjusting the level of the adjustment jig 100.
And a level 106 attached to the upper part of the two. In order to position the transfer chuck 20 and the wafer boat 90 using the adjustment jig 100, first, as shown in FIG. And the tracing stylus 104 is attached to the vertical reference plane 201 of the calibration jig 200.
, And pressed from behind by a pressing bolt 202 to adjust the scale of the dial gauge 105 to the “0” point. Then, as shown in FIGS. 15 to 17, the adjustment jig 100 is placed on the wafer boat 90 so as to be in a horizontal state by the level 106, and the uneven groove 301 is formed in the lower holding groove 23 a of the transport chuck 20. The chuck mounting jig 300 is gripped by the transport chuck 20 in the engaged state. In addition,
The level 303 is attached to the upper part of the chuck mounting jig 300, and when the chuck mounting jig 300 is gripped by the transport chuck 20, the level is adjusted. In this state, the tracing stylus 104 abuts on the vertical reference plane 302 of the chuck mounting jig 300, and the dial gauge 10
Positioning is performed so that the scale of 5 becomes the "0" point.

【0038】上記のようにして搬送チャック20とウエ
ハボート90との位置決めが行われる。この位置決め
は、位置決めターミナルPTの操作により搬送系制御部
Bの搬送チャック20を制御するローカル・コントロー
ラLCbと処理系制御部Cのウエハボート90を制御す
るローカル・コントローラLCcを選択して行われる。
The positioning between the transport chuck 20 and the wafer boat 90 is performed as described above. This positioning is performed by selecting a local controller LCb for controlling the transport chuck 20 of the transport system controller B and a local controller LCc for controlling the wafer boat 90 of the processing system controller C by operating the positioning terminal PT.

【0039】なお、バッファ系制御部Aのインターフェ
ース部12Bと搬出部13におけるウエハWのキャリア
10内への搬入は、上記搬出部13とインターフェース
部12AにおけるウエハWの取り出し動作と逆の動作に
よって行われ、それぞれ位置決めが行われる。また、搬
出部13における空のキャリア10の搬送は、上記搬入
部11における空のキャリア10の搬送と逆の動作によ
って行われ、それぞれ位置決めが行われる。ここでは、
ウエハボート90は処理槽に固定されているが、上下に
移動(昇降)する駆動手段に連結してウエハボート90
を昇降可能にして、搬送チャック20との間でウエハW
の受け渡しを行うようにしてもよい。
The loading of the wafer W into the carrier 10 at the interface unit 12B and the unloading unit 13 of the buffer system control unit A is performed by the reverse operation of the unloading operation of the wafer W at the unloading unit 13 and the interface unit 12A. The positioning is performed respectively. The transport of the empty carrier 10 in the unloading section 13 is performed by the reverse operation of the transport of the empty carrier 10 in the loading section 11, and positioning is performed. here,
Although the wafer boat 90 is fixed to the processing tank, the wafer boat 90 is connected to driving means for moving up and down (elevating and lowering).
Can be moved up and down so that the wafer W
May be passed.

【0040】次に、この発明の位置決め制御の手順につ
いて説明する。まず、位置決めターミナルPTをコネク
タ50に接続する。次に、位置決めターミナルPTのス
イッチをONにし、位置決めする対象であるバッファ系
制御部A、搬送系制御部B又は処理系制御部Cを選択す
ると共に、位置決めする駆動手段例えばスライド・アー
ム71、搬送チャック20又はウエハボート90を制御
するローカル・コントローラLCa〜LCcを選択す
る。そして、上述したように、位置決めを行い、その位
置決め用データをローカル・コントローラLCa〜LC
cに入力する。このとき、位置決め用データはローカル
・コントローラLCa〜LCcに記憶されると共に、保
存される。
Next, the procedure of the positioning control of the present invention will be described. First, the positioning terminal PT is connected to the connector 50. Next, the switch of the positioning terminal PT is turned ON, and the buffer system control unit A, the transfer system control unit B or the processing system control unit C to be positioned is selected, and the driving means for positioning, for example, the slide arm 71, the transfer unit The local controllers LCa to LCc that control the chuck 20 or the wafer boat 90 are selected. Then, as described above, positioning is performed, and the positioning data is transferred to the local controllers LCa to LCa.
Enter c. At this time, the positioning data is stored and stored in the local controllers LCa to LCc.

【0041】上記のように、一つの位置決めターミナル
PTによって複数のローカル・コントローラLCa〜L
Ccを逐次選択すると共に、選択されたローカル・コン
トローラLCa〜LCcにより制御される駆動手段の位
置決め用データを設定して、駆動手段を位置決め用デー
タに基づいて制御することができる。したがって、複数
の装置の駆動手段の位置決めを1箇所の接続で選択して
行えるので、位置決め作業を安全かつ容易に行うことが
できる。
As described above, a plurality of local controllers LCa-L are controlled by one positioning terminal PT.
It is possible to sequentially select Cc, set the positioning data of the driving means controlled by the selected local controllers LCa to LCc, and control the driving means based on the positioning data. Therefore, since the positioning of the driving means of a plurality of devices can be selected and selected by one connection, the positioning operation can be performed safely and easily.

【0042】なお、上記実施形態では、この発明に係る
位置決め制御方法及び位置決め制御装置を半導体ウエハ
の洗浄処理システムに適用した場合について説明した
が、その他の処理システムやウエハ以外の例えばLCD
基板等の洗浄あるいはその他の処理システムにも適用で
きることは勿論である。
In the above embodiment, the case where the positioning control method and the positioning control device according to the present invention are applied to a semiconductor wafer cleaning processing system has been described.
Of course, the present invention can be applied to cleaning of a substrate or the like or other processing systems.

【0043】[0043]

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、上記のように構成されているので、以下のような優
れた効果が得られる。
As described above, according to the present invention, because of the above-described configuration, the following excellent effects can be obtained.

【0044】(1)請求項1、4又は5記載の発明によ
れば、一つの位置決めターミナルによって駆動手段を制
御するローカル・コントローラの一つを選択し、選択さ
れたローカル・コントローラにより制御される上記駆動
手段の位置決め用データを設定して、上記駆動手段を上
記データに基づいて制御することができるので、位置決
めターミナルを各ブロックの駆動手段を制御するローカ
ル・コントローラに繋ぎ直す必要がなく、一度の接続に
よって位置決めを簡単かつ安全に行うことができる。
(1) According to the first, fourth or fifth aspect of the present invention, one of the local controllers for controlling the driving means is selected by one positioning terminal, and is controlled by the selected local controller. Since the driving means can be controlled based on the data by setting the positioning data of the driving means, there is no need to reconnect the positioning terminal to the local controller controlling the driving means of each block. Positioning can be performed easily and safely by the connection.

【0045】(2)請求項2又は6記載の発明によれ
ば、駆動手段の水平のX、Y方向、垂直のZ方向又は回
転方向の位置決めを行うことができる他、駆動手段同士
間の位置決めを行うことができる。
(2) According to the second or sixth aspect of the present invention, the driving means can be positioned in the horizontal X and Y directions, the vertical Z direction or the rotation direction, and can be positioned between the driving means. It can be performed.

【0046】(3)請求項3又は7記載の発明によれ
ば、位置決めターミナルを、位置決め用データを記憶及
び保存可能に形成することにより、駆動手段の制御を確
実に行うことができ、装置の信頼性の向上を図ることが
できる。
(3) According to the third or seventh aspect of the invention, the positioning terminal is formed so that the positioning data can be stored and stored, so that the control of the driving means can be performed reliably, and Reliability can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明に係る位置決め制御方法(装置)を適
用した半導体ウエハの洗浄処理システムを示す斜視図あ
る。
FIG. 1 is a perspective view showing a semiconductor wafer cleaning processing system to which a positioning control method (apparatus) according to the present invention is applied.

【図2】上記洗浄処理システムの概略平面図である。FIG. 2 is a schematic plan view of the cleaning system.

【図3】この発明に係る位置決め制御装置を示す概略構
成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram showing a positioning control device according to the present invention.

【図4】上記洗浄処理システムにおける搬入部のキャリ
アの位置決め部を示す概略斜視図である。
FIG. 4 is a schematic perspective view showing a carrier positioning part of a carry-in part in the cleaning processing system.

【図5】上記キャリアの位置決めを示す概略斜視図であ
る。
FIG. 5 is a schematic perspective view showing the positioning of the carrier.

【図6】上記洗浄処理システムにおけるインターフェー
ス部のウエハの位置決め部を示す概略斜視図である。
FIG. 6 is a schematic perspective view showing a wafer positioning unit of an interface unit in the cleaning processing system.

【図7】上記キャリアからウエハを取り出す場合の位置
決めを示す概略斜視図である。
FIG. 7 is a schematic perspective view showing positioning when taking out a wafer from the carrier.

【図8】上記洗浄処理システムにおける空のキャリアの
搬送機構を示す概略斜視図である。
FIG. 8 is a schematic perspective view showing an empty carrier transport mechanism in the cleaning processing system.

【図9】上記空のキャリア10の搬送部の位置決めを示
す概略斜視図である。
FIG. 9 is a schematic perspective view showing the positioning of the transport section of the empty carrier 10;

【図10】上記洗浄処理システムにおける搬送チャック
の要部を示す斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view showing a main part of a transport chuck in the cleaning processing system.

【図11】上記搬送チャックの概略断面図である。FIG. 11 is a schematic sectional view of the transfer chuck.

【図12】図11のI−I線に沿う拡大断面図(a)及
び図11のII−II線に沿う拡大断面図(b)であ
る。
12 is an enlarged sectional view (a) along the line II of FIG. 11 and an enlarged sectional view (b) along the line II-II of FIG. 11;

【図13】上記搬送チャックの側部保持棒及び下部保持
棒の拡大断面図である。
FIG. 13 is an enlarged sectional view of a side holding rod and a lower holding rod of the transport chuck.

【図14】上記洗浄処理システムにおける搬送チャック
とウエハボートの位置決めに使用される調整治具と校正
治具を示す平面図(a)、正面図(b)及び側面図
(c)である。
FIG. 14 is a plan view (a), a front view (b), and a side view (c) showing an adjustment jig and a calibration jig used for positioning the transfer chuck and the wafer boat in the cleaning processing system.

【図15】上記調整治具を用いて搬送チャックとウエハ
ボートの位置決めを行う状態を示す断面図である。
FIG. 15 is a cross-sectional view showing a state in which the transfer chuck and the wafer boat are positioned using the adjustment jig.

【図16】上記調整治具を用いて搬送チャックとウエハ
ボートの位置決めを行う状態を示す平面図である。
FIG. 16 is a plan view showing a state in which the transfer chuck and the wafer boat are positioned using the adjustment jig.

【図17】図16の側面図である。FIG. 17 is a side view of FIG. 16;

【図18】従来の位置決め制御装置を示す概略構成図で
ある。
FIG. 18 is a schematic configuration diagram showing a conventional positioning control device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

A バッファ系制御部 B 搬送系制御部 C 処理系制御部 LCa〜LCc ローカル・コントローラ PT 位置決めターミナル W 半導体ウエハ 10 キャリア 11 搬入部 12A,12B インターフェース部 13 搬出部 20 搬送チャック(駆動手段) 20B 搬送部 30,31,32 処理ユニット 33 乾燥処理ユニット 34 チャック洗浄・乾燥ユニット 35 処理部 50 コネクタ 71 スライド・アーム(駆動手段) 72 ウエハ・ハンド(駆動手段) 73 ベース(駆動手段) 74 ローダ(駆動手段) 75 アライナ(駆動手段) 76 ウエハ・カウンタ(駆動手段) 78 リフタ(駆動手段) 79 スライダ(駆動手段) 80 ライナ(駆動手段) 90 ウエハボート(基板昇降手段;駆動手段) Reference Signs List A buffer system control unit B transfer system control unit C processing system control unit LCa to LCc local controller PT positioning terminal W semiconductor wafer 10 carrier 11 carry-in unit 12A, 12B interface unit 13 carry-out unit 20 carry chuck (drive unit) 20B carry unit 30, 31, 32 processing unit 33 drying processing unit 34 chuck cleaning / drying unit 35 processing unit 50 connector 71 slide arm (driving means) 72 wafer hand (driving means) 73 base (driving means) 74 loader (driving means) 75 aligner (driving means) 76 wafer counter (driving means) 78 lifter (driving means) 79 slider (driving means) 80 liner (driving means) 90 wafer boat (substrate lifting / lowering means; driving means)

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 それぞれ一つ又は複数の駆動手段を制御
する複数のローカル・コントローラに位置決め用データ
を入力するに当たって、 一つの位置決めターミナルによって上記ローカル・コン
トローラを選択すると共に、選択されたローカル・コン
トローラにより制御される上記駆動手段の位置決め用デ
ータを設定して、上記駆動手段を上記データに基づいて
制御可能にすることを特徴とする位置決め制御方法。
When inputting positioning data to a plurality of local controllers each controlling one or a plurality of driving means, the local controller is selected by one positioning terminal, and the selected local controller is selected. A positioning control method comprising: setting positioning data of the driving unit controlled by the control unit; and allowing the driving unit to be controlled based on the data.
【請求項2】 請求項1記載の位置決め制御方法におい
て、 上記位置決めターミナルの位置決め用データが、上記駆
動手段自体における水平のX、Y方向、垂直のZ方向又
は回転方向のうちの少なくとも一つの位置決めと、上記
駆動手段同士間の位置決めを含むことを特徴とする位置
決め制御方法。
2. The positioning control method according to claim 1, wherein the positioning data of the positioning terminal is at least one of a horizontal X, Y direction, a vertical Z direction, or a rotation direction in the driving means itself. And positioning between the driving means.
【請求項3】 請求項1又は2記載の位置決め制御方法
において、 上記位置決めターミナルの位置決め用データをローカル
・コントローラに記憶・保存させるようにしたことを特
徴とする位置決め制御方法。
3. The positioning control method according to claim 1, wherein positioning data of said positioning terminal is stored and stored in a local controller.
【請求項4】 それぞれ一つ又は複数の駆動手段を制御
する複数のローカル・コントローラに位置決め用データ
を入力する位置決め制御装置であって、 上記複数のローカル・コントローラに接続する分岐通信
可能な一つのコネクタに、位置決めターミナルを接続可
能に形成し、 上記位置決めターミナルは、上記ローカル・コントロー
ラを選択する機能と、選択されたローカル・コントロー
ラにより制御される上記駆動手段の位置決め用データを
設定する機能とを具備することを特徴とする位置決め制
御装置。
4. A positioning control device for inputting positioning data to a plurality of local controllers each controlling one or a plurality of driving means, wherein one of said plurality of local controllers capable of branch communication is connected to said plurality of local controllers. A positioning terminal is formed to be connectable to the connector. The positioning terminal has a function of selecting the local controller and a function of setting positioning data of the driving means controlled by the selected local controller. A positioning control device, comprising:
【請求項5】 請求項4記載の位置決め制御装置におい
て、 上記駆動手段は、被処理基板を収容する容器を移動する
容器移動手段と、上記被処理基板を洗浄及び乾燥処理す
る処理系へ被処理基板を搬送する搬送手段と、上記被処
理基板を洗浄及び乾燥処理する処理系で被処理基板を昇
降する基板昇降手段とを具備することを特徴とする位置
決め制御装置。
5. The positioning control device according to claim 4, wherein the driving means is a container moving means for moving a container accommodating the substrate to be processed, and a processing system for cleaning and drying the substrate to be processed. A positioning control device comprising: transport means for transporting a substrate; and substrate lifting means for lifting and lowering the substrate to be processed in a processing system for cleaning and drying the substrate to be processed.
【請求項6】 請求項4又は5記載の位置決め制御装置
において、 上記駆動手段は、水平のX、Y方向、垂直のZ方向又は
回転方向のうちの少なくとも一つの方向に移動可能に形
成されていることを特徴とする位置決め制御装置。
6. The positioning control device according to claim 4, wherein the driving unit is formed so as to be movable in at least one of a horizontal X, Y direction, a vertical Z direction, or a rotation direction. A positioning control device.
【請求項7】 請求項4ないし6のいずれかに記載の位
置決め制御装置において、 上記位置決めターミナルの上記位置決め用データを、ロ
ーカル・コントローラが記憶及び保存可能に形成してな
ることを特徴とする位置決め制御装置。
7. The positioning control device according to claim 4, wherein said positioning data of said positioning terminal is formed so as to be stored and stored by a local controller. Control device.
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