JP2002047442A - Gas-barrier coating composition, its manufacturing method and gas-barrier coating film - Google Patents

Gas-barrier coating composition, its manufacturing method and gas-barrier coating film

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JP2002047442A JP2001153433A JP2001153433A JP2002047442A JP 2002047442 A JP2002047442 A JP 2002047442A JP 2001153433 A JP2001153433 A JP 2001153433A JP 2001153433 A JP2001153433 A JP 2001153433A JP 2002047442 A JP2002047442 A JP 2002047442A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a gas-barrier coating composition which is free from the deterioration of barrier properties to gases such as oxygen and a water vapor even under high-humidity conditions and is harmless to the human body, and a coating film made by using the composition and excellent in gas barrier properties. SOLUTION: The gas-barrier coating composition contains (a) a polyvinyl alcohol resin, (b) at least one compound selected from the group consisting of metal alcoholates represented by the formula: R1mM(OR2)n (wherein M is a metal atom; R1's may be the same or different and are each a 1-8C organic group; R2's may be the same or different and are each a 1-5C alkyl, a 1-6C acyl, or phenyl; and (m) and (n) are each an integer of 0 or greater, provided that m+n is the valence of M), hydrolyzates of the metal alcoholates, condensates of the metal alcoholates, chelate compounds of the metal alcoholates, hydrolyzates of the metal chelate compounds, condensates of the metal chelate compounds, metal acylates, hydrolyzates of the metal acylates, and condensates of the metal acylates, and (c) a boron compound. A gas-barrier coating film is prepared by using the composition.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、医薬品、食品、化
粧品、煙草、トイレタリー分野などの包装用途などに用
いられ、酸素、水蒸気、その他の内容物を変質させるガ
スの透過を阻止するのに有効なガスバリアコーティング
組成物、およびこれを用いたガスバリア性に優れたコー
ティングフィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention is used in packaging applications such as pharmaceuticals, foods, cosmetics, cigarettes, and toiletries, and is effective in preventing the permeation of oxygen, water vapor, and other gases that alter the contents. The present invention relates to a novel gas barrier coating composition and a coating film having excellent gas barrier properties using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、医薬品、食品、化粧品、煙草、ト
イレタリー分野などの包装用途などに用いられる包装材
料は、例えば食品用であれば蛋白質、油脂類の酸化など
の内容物の変質を防止し、味などの品質保持のために、
酸素、水蒸気、その他の内容物を変質させるガスを透過
させないガスバリア性を有する材料が用いられている。
このような従来の問題点に対応し、例えば特開平7−2
66485号公報には、高分子樹脂組成物からなる基材
上に、1種以上の金属アルコキシドあるいはその加水分
解物と、分子中に少なくとも2個以上のイソシアネート
基を有するイソシアネート化合物との混合溶液を主剤と
するコーティング剤を塗布し、加熱乾燥してなるガスバ
リア性被膜層を形成したガスバリア材が提案されてい
る。しかしながら、このガスバリア材には、イソシアネ
ート基を有するイソシアネート化合物、メラミン、ホル
ムアルデヒド、塩化スズなどが含有されており、特に医
療品、食品用途では人体へ間接的に経口する可能性があ
り、人体に有害であるという問題点を有している。一
方、特許第1,476,209号公報では、イソシアネ
ートなどを含まず、有害性の低いポリビニルアルコール
からなるコート材が提案されている。しかしながら、食
品用のレトルト包装などに使われる場合、レトルト処理
は120℃以上の高温多湿条件にて行われるため、高湿
度下での酸素バリア性が必要となる。ポリビニルアルコ
ールからなるコート材のガスバリア性は、湿度により著
しく影響を受け、高湿度下ではガスバリア性が大きく低
下するという問題点がある。
2. Description of the Related Art In recent years, packaging materials used for packaging applications in the fields of pharmaceuticals, foods, cosmetics, tobacco, toiletries, etc., for foods, for example, prevent deterioration of contents such as oxidation of proteins and fats and oils. To maintain the quality of taste, etc.
A material having a gas barrier property that does not allow oxygen, water vapor, and other gas that alters contents to pass therethrough is used.
In response to such a conventional problem, see, for example,
No. 66485 discloses a mixed solution of one or more metal alkoxides or hydrolysates thereof and an isocyanate compound having at least two or more isocyanate groups in a molecule on a substrate made of a polymer resin composition. There has been proposed a gas barrier material in which a gas barrier material layer formed by applying a coating agent as a main agent and drying by heating is formed. However, this gas barrier material contains an isocyanate compound having an isocyanate group, melamine, formaldehyde, tin chloride and the like. There is a problem that it is. On the other hand, Japanese Patent No. 1,476,209 proposes a coating material that does not contain isocyanate or the like and is made of polyvinyl alcohol having low harm. However, when used in food retort packaging, etc., retort treatment is performed under high-temperature and high-humidity conditions of 120 ° C. or higher, so that oxygen barrier properties under high humidity are required. The gas barrier property of a coating material made of polyvinyl alcohol is significantly affected by humidity, and there is a problem that the gas barrier property is greatly reduced under high humidity.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記従来の
技術的課題を背景になされたもので、多湿条件下でも酸
素や水蒸気などの気体に対するバリア性が低下すること
なく、またイソシアネート基を有するイソシアネート化
合物、メラミン、ホルムアルデヒド、有機スズなどの人
体への有害性が懸念される化合物を含まず、人体に無害
で、かつ貯蔵安定性に優れたガスバリアコーティング組
成物、およびこれを用いたガスバリア性に優れたコーテ
ィングフィルムを提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional technical problems, and does not reduce the barrier property against gases such as oxygen and water vapor even under humid conditions. A gas barrier coating composition containing no isocyanate compound, melamine, formaldehyde, organotin and other compounds that are harmful to the human body, and harmless to the human body and excellent in storage stability, and gas barrier properties using the same An object of the present invention is to provide an excellent coating film.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は、(a)ポリビ
ニルアルコール系樹脂(以下「(a)成分」ともい
う)、(b)一般式(1) (式中、Mは金属原子、R1は同一または異なり、炭素
数1〜8の有機基、R2は同一または異なり、炭素数1
〜5のアルキル基または炭素数1〜6のアシル基もしく
はフェニル基を示し、mおよびnはそれぞれ0以上の整
数であり、m+nはMの原子価である)で表される、金
属アルコレート、該金属アルコレートの加水分解物、該
金属アルコレートの縮合物、該金属アルコレートのキレ
ート化合物、該金属キレート化合物の加水分解物、該金
属キレート化合物の縮合物、金属アシレート、該金属ア
シレートの加水分解物、および該金属アシレートの縮合
物の群から選ばれた少なくとも1種(以下「(b)成
分」ともいう)、ならびに(c)ホウ素化合物を含有す
ることを特徴とする、ガスバリアコーティング組成物
(以下「コーティング組成物」ともいう)に関する。こ
こで、上記(a)ポリビニルアルコール系樹脂として
は、ポリビニルアルコールおよびエチレン・ビニルアル
コール共重合体の群から選ばれた少なくとも1種が挙げ
られる。また、本発明のコーティング組成物は、必要に
応じて(d)含窒素有機化合物(以下「(d)成分」と
もいう)を含有すると、さらにガスバリア性が向上する
場合がある。さらに、本発明のコーティング組成物は、
必要に応じてさらに(e)無機微粒子(以下「(e)成
分」ともいう)を含有すると、さらにガスバリア性が向
上する場合がある。次に、本発明は、上記(b)成分を
水または水と親水性有機溶媒を含む混合溶媒中で加水分
解したのち、上記(a)成分と混合することを特徴とす
る上記コーティング組成物の製造方法に関する。次に、
本発明は、基材樹脂フィルム上に、上記コーティング組
成物から形成される塗膜が積層されてなることを特徴と
するガスバリアコーティングフィルムに関する。また、
本発明は、基材樹脂フィルム上に、金属および/または
無機化合物の蒸着膜を設け、さらに上記コーティング組
成物から形成される硬化塗膜とが積層されてなることを
特徴とするガスバリアコーティングフィルムに関する。
上記蒸着膜としては、化学気相成長法および/または物
理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜が好ましい。
The present invention relates to (a) a polyvinyl alcohol-based resin (hereinafter also referred to as "component (a)"), (b) a general formula (1) (where M is a metal atom, R 1 is the same or different, an organic group having 1 to 8 carbon atoms, R 2 is the same or different,
An alkyl group of 1 to 5 or an acyl group or phenyl group of 1 to 6 carbon atoms, m and n are each an integer of 0 or more, and m + n is a valence of M. Hydrolyzate of the metal alcoholate, condensate of the metal alcoholate, chelate compound of the metal alcoholate, hydrolyzate of the metal chelate compound, condensate of the metal chelate compound, metal acylate, hydrolysis of the metal acylate A gas barrier coating composition comprising: a decomposition product; and at least one selected from the group consisting of a condensate of the metal acylate (hereinafter also referred to as “component (b)”) and (c) a boron compound. (Hereinafter also referred to as “coating composition”). Here, as the (a) polyvinyl alcohol-based resin, at least one selected from the group consisting of polyvinyl alcohol and an ethylene / vinyl alcohol copolymer is exemplified. Further, when the coating composition of the present invention contains (d) a nitrogen-containing organic compound (hereinafter also referred to as “component (d)”) as needed, the gas barrier properties may be further improved. Further, the coating composition of the present invention comprises
If necessary, when (e) inorganic fine particles (hereinafter also referred to as “component (e)”) are further contained, the gas barrier properties may be further improved. Next, the present invention provides the coating composition, wherein the component (b) is hydrolyzed in water or a mixed solvent containing water and a hydrophilic organic solvent, and then mixed with the component (a). It relates to a manufacturing method. next,
The present invention relates to a gas barrier coating film, wherein a coating film formed from the above coating composition is laminated on a base resin film. Also,
The present invention relates to a gas barrier coating film comprising a substrate resin film, a metal and / or inorganic compound vapor-deposited film provided thereon, and a cured coating film formed from the above-mentioned coating composition laminated thereon. .
As the deposited film, a deposited film of an inorganic oxide formed by a chemical vapor deposition method and / or a physical vapor deposition method is preferable.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】コーティング組成物 (a)成分;本発明に用いられる(a)成分であるポリ
ビニルアルコール系樹脂としては、ポリビニルアルコー
ルおよびエチレン・ビニルアルコール系共重合体の群か
ら選ばれた少なくとも1種が挙げられる。上記(a)成
分のうち、ポリビニルアルコールは、一般にポリ酢酸ビ
ニルをケン化して得られるものである。このポリビニル
アルコールとしては、酢酸基が数十%残存している部分
ケン化ポリビニルアルコールでも、もしくは酢酸基が残
存しない完全ケン化ポリビニルアルコールでも、あるい
はOH基が変性された変性ポリビニルアルコールでもよ
く、特に限定されるものではない。上記ポリビニルアル
コールの具体例としては、(株)クラレ製のRSポリマ
ーであるRS−110(ケン化度=99%、重合度=
1,000)、同社製のクラレポバールLM−20SO
(ケン化度=40%、重合度=2,000)、日本合成
化学工業(株)製のゴーセノールNM−14(ケン化度
=99%、重合度=1,400)などが挙げられる。ま
た、(a)成分のうち、エチレン・ビニルアルコール共
重合体は、エチレンと酢酸ビニルとの共重合体のケン化
物、すなわち、エチレン−酢酸ビニルランダム共重合体
をケン化して得られるものであり、酢酸基が数十モル%
残存している部分ケン化物から、酢酸基が数モル%しか
残存していないかまたは酢酸基が残存しない完全ケン化
物まで含み、特に限定されるものではないが、ガスバリ
ア性の観点から好ましいケン化度は80モル%以上、よ
り好ましくは90モル%以上、さらに好ましくは95モ
ル%以上である。エチレン・ビニルアルコール共重合体
中のエチレンに由来する繰り返し単位の含量(以下「エ
チレン含量」ともいう)は、通常、0〜50モル%、好
ましくは20〜45モル%である。上記エチレン・ビニ
ルアルコール共重合体の具体例としては、(株)クラレ
製、エバールEP−F101(エチレン含量;32モル
%)、日本合成化学工業(株)製、ソアノールD290
8、D2935(エチレン含量;29モル%)、D26
30(エチレン量26%)、A3245(エチレン量3
2%)などが挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The coating composition (a) component; the polyvinyl alcohol resin used as the component (a) used in the present invention is selected from the group consisting of polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymer. At least one kind is mentioned. Among the above components (a), polyvinyl alcohol is generally obtained by saponifying polyvinyl acetate. The polyvinyl alcohol may be a partially saponified polyvinyl alcohol in which acetic acid groups remain in several tens%, a completely saponified polyvinyl alcohol in which no acetic acid groups remain, or a modified polyvinyl alcohol in which an OH group is modified. It is not limited. Specific examples of the polyvinyl alcohol include RS-110, a RS polymer manufactured by Kuraray Co., Ltd. (degree of saponification = 99%, degree of polymerization =
1,000), Kuraray Poval LM-20SO manufactured by the company
(Degree of saponification = 40%, degree of polymerization = 2,000), and Gohsenol NM-14 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd. (degree of saponification = 99%, degree of polymerization = 1,400). In addition, among the component (a), the ethylene / vinyl alcohol copolymer is a saponified product of a copolymer of ethylene and vinyl acetate, that is, a copolymer obtained by saponifying an ethylene-vinyl acetate random copolymer. , Acetic acid group is several tens mol%
From the remaining partially saponified substances, only a few mol% of acetic acid groups remain or completely saponified substances in which acetic acid groups do not remain, and are not particularly limited, but are preferably saponified from the viewpoint of gas barrier properties. The degree is at least 80 mol%, more preferably at least 90 mol%, further preferably at least 95 mol%. The content of the repeating unit derived from ethylene in the ethylene / vinyl alcohol copolymer (hereinafter also referred to as “ethylene content”) is usually 0 to 50 mol%, preferably 20 to 45 mol%. Specific examples of the ethylene / vinyl alcohol copolymer include EVAL EP-F101 (ethylene content; 32 mol%) manufactured by Kuraray Co., Ltd., and Soarnol D290 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.
8, D2935 (ethylene content; 29 mol%), D26
30 (ethylene content 26%), A3245 (ethylene content 3
2%).

【0006】以上の(a)ポリビニルアルコール系樹脂
のメルトフローインデックスは、210℃、荷重21.
168N条件下で、1〜50g/10分、好ましくは5
〜45g/10分である。メルトフローインデックスが
1g/10分未満であると、ガスバリア性が著しく低下
する場合がある。一方、50g/10分を超えると、耐
溶剤性が低下する場合があり好ましくない。これらの
(a)ポリビニルアルコール系樹脂は、1種単独で使用
することも、あるいは2種以上を混合して用いることも
できる。
The melt flow index of the above-mentioned (a) polyvinyl alcohol resin is 210 ° C., load 21.
Under 168N conditions, 1 to 50 g / 10 min, preferably 5
4545 g / 10 min. If the melt flow index is less than 1 g / 10 minutes, the gas barrier properties may be significantly reduced. On the other hand, if it exceeds 50 g / 10 minutes, the solvent resistance may decrease, which is not preferable. These (a) polyvinyl alcohol-based resins can be used alone or in combination of two or more.

【0007】(a)成分を構成するポリビニルアルコー
ル系樹脂は、それ自体、ガスバリア性、耐候性、耐有機
溶剤性、透明性、熱処理後のガスバリア性などに優れ
る。加えて、(a)ポリビニルアルコール系樹脂は、本
発明の組成物から得られる塗膜を硬化させる際に、ポリ
ビニルアルコールに由来する繰り返し単位中に存在する
水酸基が、後記(b)成分、(e)成分、金属および/
または無機化合物の蒸着膜から選ばれる少なくとも1つ
と共縮合することにより、優れた塗膜性能、とりわけ高
湿度下および/または熱処理後のガスバリア性が特に優
れたコーティングフィルムを得ることができる。
The polyvinyl alcohol resin constituting the component (a) itself has excellent gas barrier properties, weather resistance, organic solvent resistance, transparency, gas barrier properties after heat treatment, and the like. In addition, when the (a) polyvinyl alcohol-based resin cures a coating film obtained from the composition of the present invention, a hydroxyl group present in a repeating unit derived from polyvinyl alcohol has a component (b) described below, ) Components, metals and / or
Alternatively, by co-condensing with at least one selected from a vapor-deposited film of an inorganic compound, it is possible to obtain a coating film having excellent coating properties, particularly excellent gas barrier properties under high humidity and / or after heat treatment.

【0008】本発明のコーティング組成物における
(a)成分の割合は、加水分解および/または縮合前の
(b)成分100重量部に対し、10〜10,000重
量部、好ましくは20〜5,000重量部、さらに好ま
しくは100〜1,000重量部である。10重量部未
満では、得られる塗膜にクラックが入りやすく、ガスバ
リア性が低下し、一方、10,000重量部を超える
と、得られる塗膜が高湿度下および/または熱処理後の
ガスバリア性が低下する場合がある。
The proportion of the component (a) in the coating composition of the present invention is 10 to 10,000 parts by weight, preferably 20 to 5,5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the component (b) before hydrolysis and / or condensation. 000 parts by weight, more preferably 100 to 1,000 parts by weight. If the amount is less than 10 parts by weight, cracks tend to occur in the obtained coating film, and the gas barrier property is lowered. May decrease.

【0009】(b)成分;本発明に用いられる(b)成
分は、上記一般式(1)で表される、金属アルコレー
ト、該金属アルコレートの加水分解物、該金属アルコレ
ートの縮合物、該金属アルコレートのキレート化合物
(以下「金属キレート化合物」ともいう)、該金属キレ
ート化合物の加水分解物、該金属キレート化合物の縮合
物、金属アシレート、該金属アシレートの加水分解物、
および該金属アシレートの縮合物の群から選ばれた少な
くとも1種である。すなわち、(b)成分は、これら9
種のうちの1種だけでもよいし、任意の2種以上の混合
物であってもよい。さらに、上記金属キレート化合物
は、金属アルコレートと、β−ジケトン類、β−ケトエ
ステル類、ヒドロキシカルボン酸、ヒドロキシカルボン
酸塩、ヒドロキシカルボン酸エステル、ケトアルコール
およびアミノアルコールから選ばれる少なくとも1種の
化合物(以下「キレート化剤」ともいう)との反応で得
られる。これらのキレート化剤の中でも、β−ジケトン
類またはβ−ケトエステル類を用いることが好ましく、
これらの具体例としては、アセチルアセトン、アセト酢
酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸−n−プロピ
ル、アセト酢酸−i−プロピル、アセト酢酸−n−ブチ
ル、アセト酢酸−sec−ブチル、アセト酢酸−t−ブ
チル、2,4−ヘキサン−ジオン、2,4−ヘプタン−
ジオン、3,5−ヘプタン−ジオン、2,4−オクタン
−ジオン、2,4−ノナン−ジオン、5−メチル−ヘキ
サン−ジオンなどを挙げることができる。ここで、上記
金属アルコレートの加水分解物、上記金属キレート化合
物の加水分解物、および上記金属アシレートの加水分解
物は、金属アルコレートに含まれるOR2基がすべて加
水分解されている必要はなく、例えば1個だけが加水分
解されているもの、2個以上が加水分解されているも
の、あるいはこれらの混合物であってもよい。また、上
記金属アルコレートの縮合物、上記金属キレート化合物
の縮合物、および上記金属アシレートの縮合物は、金属
アルコレート、金属キレート化合物、および金属アシレ
ートの加水分解物のM−OH基が縮合してM−O−M結
合を形成したものであるが、本発明では、M−OH基が
すべて縮合している必要はなく、僅かな一部のM−OH
基が縮合したもの、縮合の程度が異なっているもの、ま
た、M−OR基とM−OH基が混在している縮合物の混
合物などをも包含した概念である。また、(b)成分と
して縮合物を使用する場合は、上記金属アルコレート、
上記金属キレート化合物、および金属アシレートを予め
加水分解・縮合したものを使用しても良く、あるいは市
販されている縮合物を使用しても良い。また、金属アル
コレートの縮合物をそのまま使用しても良く、あるい
は、上記キレート化剤と反応させ、金属キレート化合物
の縮合物として使用しても良い。上記金属アルコレート
の縮合物の市販品としては、日本曹達(株)製のA−1
0、B−2、B−4、B−7、B−10などがある。
(b)成分は、(a)成分、(d)成分、金属および/
または無機化合物からなる蒸着膜成分から選ばれる少な
くともひとつとの共縮合体を形成する作用をなすものと
考えられる。
Component (b): Component (b) used in the present invention is a metal alcoholate, a hydrolyzate of the metal alcoholate, or a condensate of the metal alcoholate represented by the general formula (1). A chelate compound of the metal alcoholate (hereinafter also referred to as a “metal chelate compound”), a hydrolyzate of the metal chelate compound, a condensate of the metal chelate compound, a metal acylate, a hydrolyzate of the metal acylate,
And at least one selected from the group of condensates of the metal acylate. That is, the component (b)
Only one of the species may be used, or a mixture of any two or more species may be used. Further, the metal chelate compound is a metal alcoholate and at least one compound selected from β-diketones, β-ketoesters, hydroxycarboxylic acids, hydroxycarboxylates, hydroxycarboxylates, keto alcohols and amino alcohols (Hereinafter also referred to as "chelating agent"). Among these chelating agents, it is preferable to use β-diketones or β-ketoesters,
Specific examples of these include acetylacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, n-propyl acetoacetate, i-propyl acetoacetate, n-butyl acetoacetate, sec-butyl acetoacetate, and t-acetoacetate. Butyl, 2,4-hexane-dione, 2,4-heptane-
Examples thereof include dione, 3,5-heptane-dione, 2,4-octane-dione, 2,4-nonane-dione, and 5-methyl-hexane-dione. Here, the hydrolyzate of the metal alcoholate, a hydrolyzate of the metal chelate compound, and hydrolyzate of the metal acylate is not necessarily OR 2 group is all hydrolysed contained in the metal alcoholate For example, one in which only one is hydrolyzed, one in which two or more are hydrolyzed, or a mixture thereof may be used. The condensate of the metal alcoholate, the condensate of the metal chelate compound, and the condensate of the metal acylate are formed by condensing the metal alcoholate, the metal chelate compound, and the M-OH group of the hydrolyzate of the metal acylate. However, in the present invention, it is not necessary that all M-OH groups are condensed, and only a small part of M-OH
It is a concept that includes those in which groups are condensed, those having different degrees of condensation, and mixtures of condensates in which M-OR groups and M-OH groups are mixed. When a condensate is used as the component (b), the above-mentioned metal alcoholate,
The metal chelate compound and the metal acylate which have been hydrolyzed and condensed in advance may be used, or a commercially available condensate may be used. Further, a condensate of a metal alcoholate may be used as it is, or may be reacted with the above chelating agent and used as a condensate of a metal chelate compound. Commercially available condensates of the above metal alcoholates include A-1 manufactured by Nippon Soda Co., Ltd.
0, B-2, B-4, B-7, B-10 and the like.
The component (b) comprises the component (a), the component (d), a metal and / or
Alternatively, it is considered that the compound acts to form a co-condensate with at least one selected from the components of a vapor-deposited film made of an inorganic compound.

【0010】上記一般式(1)における、Mで表される
金属原子としては、ジルコニウム、チタンおよびアルミ
ニウムを好ましいものとして挙げることができ、特に好
ましくはチタンである。R1の炭素数1〜8の1価の有
機基は、一般式(1)で表される化合物が金属アルコレ
ートである場合と金属アシレートである場合とで異な
る。金属アルコレートである場合には、例えばメチル
基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−
ブチル基、i−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチ
ル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル
基、2−エチルヘキシル基などのアルキル基;アセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、ベンゾ
イル基、トリオイル基などのアシル基;ビニル基、アリ
ル基、シクロヘキシル基、フェニル基、グリシジル基、
(メタ)アクリルオキシ基、ウレイド基、アミド基、フ
ルオロアセトアミド基、イソシアナート基などのほか、
これらの基の置換誘導体などを挙げることができる。R
1の置換誘導体における置換基としては、例えばハロゲ
ン原子、置換もしくは非置換のアミノ基、水酸基、メル
カプト基、イソシアナート基、グリシドキシ基、3,4
−エポキシシクロヘキシル基、(メタ)アクリルオキシ
基、ウレイド基、アンモニウム塩基などを挙げることが
できる。ただし、これらの置換誘導体からなるR1の炭
素数は、置換基中の炭素原子を含めて8以下である。ま
た、金属アシレートである場合には、R1の炭素数1〜
8の1価の有機基としては、アセトキシル基、プロピオ
ニロキシル基、ブチリロキシル基、バレリロキシル基、
ベンゾイルオキシル基、トリオイルオキシル基などのア
シルオキシル基を挙げることができる。一般式(1)中
に、R1が2個存在するときは、相互に同一でも異なっ
てもよい。
As the metal atom represented by M in the general formula (1), zirconium, titanium and aluminum can be mentioned as preferred, and titanium is particularly preferred. The monovalent organic group having 1 to 8 carbon atoms of R 1 differs depending on whether the compound represented by the general formula (1) is a metal alcoholate or a metal acylate. When it is a metal alcoholate, for example, methyl, ethyl, n-propyl, i-propyl, n-
Alkyl groups such as butyl group, i-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group and 2-ethylhexyl group; acetyl group, propionyl group and butyryl group , Valeryl group, benzoyl group, acyl group such as trioil group; vinyl group, allyl group, cyclohexyl group, phenyl group, glycidyl group,
In addition to (meth) acryloxy, ureido, amide, fluoracetamide, and isocyanate groups,
Substituted derivatives of these groups can be mentioned. R
Examples of the substituent in the substituted derivative 1 include a halogen atom, a substituted or unsubstituted amino group, a hydroxyl group, a mercapto group, an isocyanate group, a glycidoxy group,
-An epoxycyclohexyl group, a (meth) acryloxy group, a ureido group, an ammonium base and the like. However, the carbon number of R 1 composed of these substituted derivatives is 8 or less including the carbon atom in the substituent. In the case of metal acylate, R 1 has 1 to 1 carbon atoms.
As the monovalent organic group of 8, an acetoxyl group, a propionyloxyl group, a butyryloxyl group, a valeryloxyl group,
An acyloxyl group such as a benzoyloxyl group and a trioyloxyl group can be exemplified. When two R 1 are present in the general formula (1), they may be the same or different from each other.

【0011】また、R2の炭素数1〜5のアルキル基と
しては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、
i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t
−ブチル基、n−ペンチル基などを挙げることができ、
炭素数1〜6のアシル基としては、例えばアセチル基、
プロピオニル基、ブチリル基、バレリル基、カプロイル
基などを挙げることができる。一般式(1)中に複数個
存在するR2は、相互に同一でも異なってもよい。
Examples of the alkyl group having 1 to 5 carbon atoms for R 2 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group,
i-propyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t
-Butyl group, n-pentyl group and the like,
Examples of the acyl group having 1 to 6 carbon atoms include an acetyl group,
Examples include a propionyl group, a butyryl group, a valeryl group, and a caproyl group. A plurality of R 2 in the general formula (1) may be mutually the same or different.

【0012】これらの(b)成分のうち、金属アルコレ
ートおよび金属アルコレートのキレート化合物の具体例
としては、(イ)テトラ−n−ブトキシジルコニウム、
トリ−n−ブトキシ・エチルアセトアセテートジルコニ
ウム、ジ−n−ブトキシ・ビス(エチルアセトアセテー
ト)ジルコニウム、n−ブトキシ・トリス(エチルアセ
トアセテート)ジルコニウム、テトラキス(n−プロピ
ルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(アセ
チルアセトアセテート)ジルコニウム、テトラキス(エ
チルアセトアセテート)ジルコニウムなどのジルコニウ
ム化合物;
Specific examples of the metal alcoholate and the chelate compound of the metal alcoholate among the components (b) include (a) tetra-n-butoxyzirconium,
Zirconium tri-n-butoxyethylacetoacetate, zirconium di-n-butoxybis (ethylacetoacetate), zirconium zirconium n-butoxytris (ethylacetoacetate), zirconium tetrakis (n-propylacetoacetate), tetrakis (acetyl) Zirconium compounds such as acetoacetate) zirconium and tetrakis (ethylacetoacetate) zirconium;

【0013】(ロ)テトラ−i−プロポキシチタニウ
ム、テトラ−n−ブトキシチタニウム、テトラ−t−ブ
トキシチタニウム、ジ−i−プロポキシ・ビス(エチル
アセトアセテート)チタニウム、ジ−i−プロポキシ・
ビス(アセチルアセテート)チタニウム、ジ−i−プロ
ポキシ・ビス(アセチルアセトナート)チタニウム、ジ
−n−ブトキシ・ビス(トリエタノールアミナート)チ
タニウム、ジヒドロキシ・ビスラクテタートチタニウ
ム、ジヒドロキシチタンラクテート、テトラキス(2−
エチルヘキシルオキシ)チタニウムなどのチタン化合
物;
(B) Tetra-i-propoxytitanium, tetra-n-butoxytitanium, tetra-t-butoxytitanium, di-i-propoxybis (ethylacetoacetate) titanium, di-i-propoxy.
Bis (acetylacetate) titanium, di-i-propoxybis (acetylacetonato) titanium, di-n-butoxybis (triethanolaminate) titanium, dihydroxybislactatetitanium, dihydroxytitanium lactate, tetrakis (2 −
Titanium compounds such as ethylhexyloxy) titanium;

【0014】(ハ)トリ−i−プロポキシアルミニウ
ム、ジ−i−プロポキシ・エチルアセトアセテートアル
ミニウム、ジ−i−プロポキシ・アセチルアセトナート
アルミニウム、i−プロポキシ・ビス(エチルアセトア
セテート)アルミニウム、i−プロポキシ・ビス(アセ
チルアセトナート)アルミニウム、トリス(エチルアセ
トアセテート)アルミニウム、トリス(アセチルアセト
ナート)アルミニウム、モノアセチルアセトナート・ビ
ス(エチルアセトアセテート)アルミニウムなどのアル
ミニウム化合物;などを挙げることができる。これらの
金属アルコレートおよび金属アルコレートのキレート化
合物のうち好ましいものとしては、トリ−n−ブトキシ
・エチルアセトアセテートジルコニウム、ジ−i−プロ
ポキシ・ビス(アセチルアセトナート)チタニウム、ジ
−n−ブトキシ・ビス(トリエタノールアミナート)チ
タニウム、ジヒドロキシ・ビスラクテタートチタニウ
ム、ジ−i−プロポキシ・エチルアセトアセテートアル
ミニウムおよびトリス(エチルアセトアセテート)アル
ミニウムを挙げることができ、特に好ましい化合物はジ
−i−プロポキシ・ビス(アセチルアセトナート)チタ
ニウム、ジ−n−ブトキシ・ビス(トリエタノールアミ
ナート)チタニウム、ジヒドロキシ・ビスラクテタート
チタニウムなどのチタン化合物である。
(C) Aluminum tri-i-propoxy, aluminum di-i-propoxy ethyl acetoacetate, aluminum di-i-propoxy acetylacetonate, aluminum i-propoxy bis (ethyl acetoacetate), i-propoxy Aluminum compounds such as bis (acetylacetonate) aluminum, tris (ethylacetoacetate) aluminum, tris (acetylacetonate) aluminum, and monoacetylacetonate bis (ethylacetoacetate) aluminum; Among these metal alcoholates and chelate compounds of metal alcoholates, preferred are tri-n-butoxyethylacetoacetate zirconium, di-i-propoxybis (acetylacetonato) titanium, di-n-butoxy. Bis (triethanolaminato) titanium, dihydroxybislactatetitanium, di-i-propoxyethylacetoacetate aluminum and tris (ethylacetoacetate) aluminum can be mentioned, and particularly preferred compounds are di-i-propoxy. And titanium compounds such as bis (acetylacetonato) titanium, di-n-butoxybis (triethanolaminate) titanium, and dihydroxybislactatetotitanium.

【0015】また、金属アシレートの具体例としては、
ジヒドロキシ・チタンジブチレート、ジ−i−プロポキ
シ・チタンジアセテート、ジ−i−プロポキシ・チタン
ジプロピオネート、ジ−i−プロポキシ・チタンジマロ
ニエート、ジ−i−プロポキシ・チタンジベンゾイレー
ト、ジ−n−ブトキシ・ジルコニウムジアセテート、ジ
−i−プロピルアルミニウムモノマロニエートなどを挙
げることができ、特に好ましい化合物はジヒドロキシ・
チタンジブチレート、ジ−i−プロポキシ・チタンジア
セテートなどのチタン化合物である。これらの(b)成
分は、1種単独あるいは2種以上混合して用いられる。
Further, specific examples of the metal acylate include:
Dihydroxy titanium dibutyrate, di-i-propoxy titanium diacetate, di-i-propoxy titanium dipropionate, di-i-propoxy titanium dimallonate, di-i-propoxy titanium dibenzoylate, di -N-butoxy-zirconium diacetate, di-i-propylaluminum monomalonate, etc., and particularly preferred compounds are dihydroxy.
Titanium compounds such as titanium dibutyrate and di-i-propoxy titanium diacetate. These components (b) are used alone or in combination of two or more.

【0016】(b)成分としては、コーティング液の粘
度経時変化がなく、扱いやすくなるため、後述の親水性
溶媒中に記載されている水または水と親水性有機溶媒を
含む混合溶媒中で加水分解処理を施したものを用いるこ
とが好ましい。(a)成分と混合する前に、このような
加水分解処理を行うことによって、加水分解していない
(b)成分、一部加水分解した(b)成分、一部縮合し
た(b)成分の混合物となり、組成物調製時に(a)成
分と混合した際に発生するショックなどによる急激な粘
度上昇や、経時的な粘度上昇が抑制される。この場合、
水の使用量は、R1 mM(OR2n1モルに対し、0.1
〜1,000モル、好ましくは0.5〜500モルであ
る。また、混合溶媒の場合、水と親水性有機溶媒の配合
割合は、水/親水性有機溶媒=10〜90/90〜10
(重量比)、好ましくは20〜80/80〜20、さら
に好ましくは30〜70/70〜30である。(b)成
分として、特に好ましいのは、ジ−i−プロポキシ・ビ
ス(アセチルアセトナート)チタニウム、ジ−n−ブト
キシ・ビス(トリエタノールアミナート)チタニウム、
ジヒドロキシ・ビスラクテタートチタニウムなどのチタ
ン化合物を上記混合溶媒で加水分解処理したものであ
る。
As the component (b), since the viscosity of the coating solution does not change with time and is easy to handle, the component (b) is hydrolyzed in water or a mixed solvent containing water and a hydrophilic organic solvent described in a hydrophilic solvent described below. It is preferable to use those subjected to a decomposition treatment. By performing such a hydrolysis treatment before mixing with the component (a), the unhydrolyzed component (b), partially hydrolyzed component (b), and partially condensed component (b) The mixture becomes a mixture, and a sharp increase in viscosity due to a shock or the like generated when the composition is mixed with the component (a) during preparation of the composition, and an increase in viscosity over time are suppressed. in this case,
The amount of water used is 0.1 mol per mol of R 1 mM (OR 2 ) n.
1,1,000 mol, preferably 0.5-500 mol. In the case of a mixed solvent, the mixing ratio of water and the hydrophilic organic solvent is such that water / hydrophilic organic solvent = 10-90 / 90-10
(Weight ratio), preferably 20-80 / 80-20, more preferably 30-70 / 70-30. As the component (b), particularly preferred are di-i-propoxybis (acetylacetonato) titanium, di-n-butoxybis (triethanolaminate) titanium,
It is obtained by hydrolyzing a titanium compound such as dihydroxybislactate to titanium with the above-mentioned mixed solvent.

【0017】(c)成分;本発明で使用するガスバリア
コーティング組成物は、コーティング組成物の貯蔵安定
性、および硬化性を向上させる目的で、(c)ホウ素化
合物が添加される。(c)ホウ素化合物としては、ホウ
酸、酸化ホウ素、ホウ砂などが挙げられる。これらの
(e)ホウ素化合物としては、特にホウ酸が好ましい。
Component (c): The gas barrier coating composition used in the present invention is added with a boron compound (c) for the purpose of improving the storage stability and curability of the coating composition. (C) Examples of the boron compound include boric acid, boron oxide, and borax. As the boron compound (e), boric acid is particularly preferable.

【0018】(c)成分の本発明の組成物中の割合は、
(a)〜(f)成分の合計量100重量部に対し、好ま
しくは0.05〜30重量部、特に好ましくは0.1〜
20重量部である。0.05重量部未満では、低温での
貯蔵安定性が不良となり速やかに白濁する場合がある。
一方、30重量部を超えると、得られる塗膜が白化する
可能性があり好ましくない。
The proportion of the component (c) in the composition of the present invention is as follows:
Based on 100 parts by weight of the total of components (a) to (f), preferably 0.05 to 30 parts by weight, particularly preferably 0.1 to 30 parts by weight.
20 parts by weight. If the amount is less than 0.05 parts by weight, the storage stability at low temperatures becomes poor, and the white turbidity may occur quickly.
On the other hand, if it exceeds 30 parts by weight, the resulting coating film may be whitened, which is not preferred.

【0019】(d)成分;本発明のコーティング組成物
は、必要に応じて(d)成分である含窒素化合物を含有
することが好ましい。(d)成分の含窒素化合物として
は、例えば、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−
ジメチルホルムアミド、γ−ブチロラクトン、N−メチ
ルピロリドン、ピリジンなどの親水性含窒素有機溶媒;
チミン、グリシン、シトシン、グアニンなどの核酸塩基
類;ポリビニルピロリドン、ポリアクリルアミド、ポリ
メタクリルアミドなどの親水性含窒素ポリマーおよびこ
れらの成分が共重合された共重合体などが挙げられる。
これらの中で、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N
−ジメチルホルムアミドおよびポリビニルピロリドンが
好ましい。(d)成分を混合することにより、薄膜での
コーティングにおいて外観がより透明で良好な塗膜が得
られるとともに、無機粒子および/または無機の積層体
と縮合する際の触媒効果を発揮する。上記含窒素化合物
の使用割合は、溶媒全量中に、通常、70重量%以下、
好ましくは50重量%以下である。
Component (d): The coating composition of the present invention preferably contains a nitrogen-containing compound as component (d), if necessary. As the nitrogen-containing compound of the component (d), for example, N, N-dimethylacetamide, N, N-
Hydrophilic nitrogen-containing organic solvents such as dimethylformamide, γ-butyrolactone, N-methylpyrrolidone and pyridine;
Nucleic acid bases such as thymine, glycine, cytosine, and guanine; hydrophilic nitrogen-containing polymers such as polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide, and polymethacrylamide; and copolymers obtained by copolymerizing these components.
Among these, N, N-dimethylacetamide, N, N
-Dimethylformamide and polyvinylpyrrolidone are preferred. By mixing the component (d), a coating film having better transparency and good appearance can be obtained in coating with a thin film, and also exhibits a catalytic effect when condensing with inorganic particles and / or an inorganic laminate. The use ratio of the nitrogen-containing compound is usually 70% by weight or less in the total amount of the solvent,
It is preferably at most 50% by weight.

【0020】(e)成分;本発明のコーティング組成物
は、必要に応じて(e)成分である無機微粒子を含有す
ることが好ましい。上記無機微粒子は、平均粒子径が
0.2μm以下の実質的に炭素原子を含まない粒子状無
機物質であり、金属またはケイ素酸化物、金属またはケ
イ素窒化物、金属ホウ化物が挙げられる。無機微粒子の
製造方法は、例えば酸化ケイ素を得るには四塩化ケイ素
を酸素と水素の炎中での加水分解により得る気相法、ケ
イ酸ソーダのイオン交換により得る液相法、シリカゲル
のミルなどによる粉砕より得る固相法などの製造方法が
挙げられるが、これらの方法に限定されるものではな
い。
Component (e): The coating composition of the present invention preferably contains, if necessary, inorganic fine particles as component (e). The inorganic fine particles are a particulate inorganic substance having an average particle diameter of 0.2 μm or less and containing substantially no carbon atoms, and include metals or silicon oxides, metals or silicon nitrides, and metal borides. Methods for producing inorganic fine particles include, for example, a gas phase method in which silicon tetrachloride is obtained by hydrolysis of oxygen and hydrogen in a flame to obtain silicon oxide, a liquid phase method in which sodium silicate is ion-exchanged, a silica gel mill, and the like. Production methods such as a solid-phase method obtained by pulverization by a method described above, but are not limited to these methods.

【0021】具体的な化合物例としては、SiO2、A
23、TiO2、WO3、Fe23、ZnO、NiO、
RuO2、CdO、SnO2、Bi23、3Al23・2
SiO2、Sn−In23、Sb−In23、CoFe
xなどの酸化物、Si34、Fe4N、AlN、Ti
N、ZrN、TaNなどの窒化物、Ti2B、ZrB2
TaB2、W2Bなどのホウ化物が挙げられる。また、無
機微粒子の形態は、粉体、水または有機溶剤に分散した
コロイドもしくはゾルが挙げられるが、これらは限定さ
れるものではない。これらの中で、(a)成分および/
または(b)成分と共縮合することで優れた塗膜性能を
得るために、好ましくは、コロイダルシリカ、コロイダ
ルアルミナ、アルミナゾル、スズゾル、ジルコニウムゾ
ル、五酸化アンチモンゾル、酸化セリウムゾル、酸化亜
鉛ゾル、酸化チタンゾルなどの粒子表面に水酸基が存在
するコロイド状酸化物が用いられる。無機微粒子の平均
粒子径は、0.2μm以下、好ましくは0.1μm以下
であり、平均粒径が0.2μmを超えると、膜の緻密性
の観点からガスバリア性が劣る場合がある。
Specific examples of compounds include SiO 2 , A
l 2 O 3 , TiO 2 , WO 3 , Fe 2 O 3 , ZnO, NiO,
RuO 2 , CdO, SnO 2 , Bi 2 O 3 , 3Al 2 O 3 .2
SiO 2, Sn-In 2 O 3, Sb-In 2 O 3, CoFe
Oxides such as O x , Si 3 N 4 , Fe 4 N, AlN, Ti
Nitrides such as N, ZrN, TaN, Ti 2 B, ZrB 2 ,
Borides such as TaB 2 and W 2 B are mentioned. Examples of the form of the inorganic fine particles include powder, colloid or sol dispersed in water or an organic solvent, but these are not limited. Among them, component (a) and / or
Or colloidal silica, colloidal alumina, alumina sol, tin sol, zirconium sol, antimony pentoxide sol, cerium oxide sol, zinc oxide sol, oxide A colloidal oxide having a hydroxyl group on the surface of a particle such as a titanium sol is used. The average particle diameter of the inorganic fine particles is 0.2 μm or less, preferably 0.1 μm or less. When the average particle diameter exceeds 0.2 μm, gas barrier properties may be poor from the viewpoint of the denseness of the film.

【0022】(e)成分の本発明の組成物中の割合は、
(a)成分および(b)成分の合計量100重量部に対
し、好ましくは、900重量部以下、特に好ましくは4
00重量部以下である。900重量部を超えると、得ら
れる塗膜のガスバリア性が低下する場合がある。
The proportion of the component (e) in the composition of the present invention is as follows:
900 parts by weight or less, particularly preferably 4 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total of components (a) and (b).
Not more than 00 parts by weight. If the amount exceeds 900 parts by weight, the gas barrier properties of the obtained coating film may decrease.

【0023】任意成分;本発明の組成物をより速く硬化
させる目的と、(a)成分と(b)成分との共縮合体を
形成させ易くする目的で、(f)硬化促進剤を使用して
もよく、比較的低い温度での硬化と、より緻密な塗膜を
得るためにこの(f)硬化促進剤を併用する方が効果的
である。
Optional component: (f) a curing accelerator is used for the purpose of curing the composition of the present invention faster and for the purpose of facilitating the formation of a co-condensate of the components (a) and (b). It is more effective to use this curing accelerator (f) in combination to cure at a relatively low temperature and obtain a denser coating film.

【0024】この(f)硬化促進剤としては、塩酸など
の無機酸;ナフテン酸、オクチル酸、亜硝酸、亜硫酸、
アルミン酸、炭酸などのアルカリ金属塩;水酸化ナトリ
ウム、水酸化カリウムなどのアルカリ性化合物;アルキ
ルチタン酸、リン酸、メタンスルホン酸、p−トルエン
スルホン酸、フタル酸、コハク酸、グルタル酸、シュウ
酸、マロン酸などの酸性化合物;エチレンジアミン、ヘ
キサンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレン
テトラミン、テトラエチレンペンタミン、ピペリジン、
ピペラジン、メタフェニレンジアミン、エタノールアミ
ン、トリエチルアミン、エポキシ樹脂の硬化剤として用
いられる各種変性アミン、γ−アミノプロピルトリエト
キシシラン、γ−(2−アミノエチル)−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチル)−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アニリノプ
ロピルトリメトキシシランなどのアミン系化合物などが
使用される。これらの(f)硬化促進剤の組成物中にお
ける割合は、本発明の組成物の固形分100重量部に対
して、通常、50重量部以下、好ましくは30重量部以
下の量で用いられる。
As the (f) curing accelerator, inorganic acids such as hydrochloric acid; naphthenic acid, octylic acid, nitrous acid, sulfurous acid,
Alkali metal salts such as aluminate and carbonic acid; alkaline compounds such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkyltitanic acid, phosphoric acid, methanesulfonic acid, p-toluenesulfonic acid, phthalic acid, succinic acid, glutaric acid, oxalic acid , Acidic compounds such as malonic acid; ethylenediamine, hexanediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, piperidine,
Piperazine, metaphenylenediamine, ethanolamine, triethylamine, various modified amines used as curing agents for epoxy resins, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) -aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2 Amine-based compounds such as -aminoethyl) -aminopropylmethyldimethoxysilane and γ-anilinopropyltrimethoxysilane. The proportion of the (f) curing accelerator in the composition is usually 50 parts by weight or less, preferably 30 parts by weight or less, based on 100 parts by weight of the solid content of the composition of the present invention.

【0025】さらに、本発明の組成物には、安定性向上
剤として、先に挙げたβ−ジケトン類および/またはβ
−ケトエステル類を添加することができる。すなわち、
上記(b)成分として組成物中に存在する上記金属アル
コレート中の金属原子に配位することにより、(a)成
分と(b)成分との縮合反応をコントロールする作用を
し、得られる組成物の保存安定性を向上させる作用をな
すものと考えられる。β−ジケトン類および/またはβ
−ケトエステル類の使用量は、上記(b)成分における
金属原子1モルに対し、好ましくは2モル以上、さらに
好ましくは3〜20モルである。
The composition of the present invention may further comprise, as a stability improver, β-diketones and / or β-diketones described above.
-Ketoesters can be added. That is,
By coordinating to a metal atom in the metal alcoholate present in the composition as the component (b), the component (a) acts to control the condensation reaction between the component (a) and the component (b) to obtain a composition obtained. It is considered that they act to improve the storage stability of the product. β-diketones and / or β
The amount of the ketoester to be used is preferably 2 mol or more, more preferably 3 to 20 mol, per 1 mol of the metal atom in the component (b).

【0026】本発明のコーティング組成物は、通常、上
記(a)〜(b)成分および場合により上記任意成分
を、水および/または親水性有機溶媒中で溶解、分散す
ることによって得られる。ここで、親水性有機溶媒の具
体例としては、メタノール、エタノール、n−プロパノ
ール、i−プロパノール、n−ブチルアルコール、se
c−ブチルアルコール、tert−ブチルアルコール、
ジアセトンアルコール、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコールなどの炭素数1
〜8の飽和脂肪族の1価アルコールまたは2価アルコー
ル;エチレングリコールモノブチルエーテル、酢酸エチ
レングリコールモノエチルエーテルなどの炭素数1〜8
の飽和脂肪族のエーテル化合物;エチレングリコールモ
ノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ
エチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブ
チルエーテルアセテートなどの炭素数1〜8の飽和脂肪
族の2価アルコールのエステル化合物;ジメチルスルホ
キシドなどの含硫黄化合物;乳酸、乳酸メチル、乳酸エ
チル、サリチル酸、サリチル酸メチルなどのヒドロキシ
カルボン酸またはヒドロキシカルボン酸エステルなどを
挙げることができる。これらのうち、好ましいものとし
ては、メタノール、エタノール、n−プロパノール、i
−プロパノール、n−ブチルアルコール、sec−ブチ
ルアルコール、tert−ブチルアルコールなどの炭素
数1〜8の飽和脂肪族の1価アルコールを挙げることが
できる。また、(d)成分として例示した親水性含窒素
有機溶媒を、親水性有機溶媒の一部または全部として用
いても良い。
The coating composition of the present invention is usually obtained by dissolving and dispersing the above components (a) and (b) and optionally the above optional components in water and / or a hydrophilic organic solvent. Here, specific examples of the hydrophilic organic solvent include methanol, ethanol, n-propanol, i-propanol, n-butyl alcohol, and se.
c-butyl alcohol, tert-butyl alcohol,
1 carbon atoms such as diacetone alcohol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, etc.
Saturated aliphatic monohydric alcohol or dihydric alcohol having 8 to 8 carbon atoms, such as ethylene glycol monobutyl ether and ethylene glycol monoethyl ether acetate;
Saturated aliphatic ether compounds; ester compounds of saturated aliphatic dihydric alcohols having 1 to 8 carbon atoms such as ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether acetate, and ethylene glycol monobutyl ether acetate; and dimethyl sulfoxide and the like. Sulfur compounds; examples include hydroxycarboxylic acids or hydroxycarboxylic esters such as lactic acid, methyl lactate, ethyl lactate, salicylic acid, and methyl salicylate. Of these, preferred are methanol, ethanol, n-propanol, i
-Saturated aliphatic monohydric alcohols having 1 to 8 carbon atoms such as -propanol, n-butyl alcohol, sec-butyl alcohol and tert-butyl alcohol. Further, the hydrophilic nitrogen-containing organic solvent exemplified as the component (d) may be used as part or all of the hydrophilic organic solvent.

【0027】これらの水および/または親水性有機溶媒
は、水と親水性有機溶媒とを混合して用いられることが
より好ましい。
These water and / or hydrophilic organic solvent are more preferably used by mixing water and a hydrophilic organic solvent.

【0028】水および/または親水性有機溶媒の使用量
は、組成物の全固形分濃度が好ましくは60重量%以下
となるように用いられる。例えば、薄膜形成を目的に用
いられる場合には、通常、1〜40重量%、好ましくは
2〜30重量%であり、また厚膜形成を目的に使用する
場合には、通常、5〜50重量%、好ましくは10〜4
0重量%である。組成物の全固形分濃度が60重量%を
超えると、組成物の保存安定性が低下する傾向にある。
The amount of water and / or hydrophilic organic solvent used is such that the total solid content of the composition is preferably 60% by weight or less. For example, when it is used for forming a thin film, it is usually 1 to 40% by weight, preferably 2 to 30% by weight. When it is used for forming a thick film, it is usually 5 to 50% by weight. %, Preferably 10-4
0% by weight. If the total solid content of the composition exceeds 60% by weight, the storage stability of the composition tends to decrease.

【0029】なお、有機溶媒としては、上記の水および
/または親水性有機溶媒が好ましいが、親水性有機溶媒
以外に、例えばベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳
香族炭化水素類、テトラヒドロフラン、ジオキサンなど
のエーテル類、アセトン、メチルエチルケトンなどのケ
トン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類など
も使用できる。
As the organic solvent, the above-mentioned water and / or hydrophilic organic solvent is preferable. Ethers, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, and esters such as ethyl acetate and butyl acetate can also be used.

【0030】このように、本発明のコーティング組成物
は、上記(a)〜(c)成分および場合により上記任意
(d)〜(f)成分を、水および/または親水性有機溶
媒中で混合することによって得られ、好ましくは上記
(a)〜(c)成分、必要に応じて(d)〜(f)成分
を加えて、水および/または親水性有機溶媒中で、
(b)成分を加水分解および/または(共)縮合するこ
とによって得られる。この際、反応条件は、温度は5〜
100℃、好ましくは20〜90℃、時間は0.005
〜20時間、好ましくは0.1〜10時間である。
As described above, the coating composition of the present invention is obtained by mixing the above components (a) to (c) and optionally the above optional components (d) to (f) in water and / or a hydrophilic organic solvent. Preferably, the above components (a) to (c), and if necessary, components (d) to (f) are added, and the mixture is added to water and / or a hydrophilic organic solvent.
It is obtained by hydrolysis and / or (co) condensation of the component (b). At this time, the reaction conditions are as follows.
100 ° C, preferably 20-90 ° C, time 0.005
-20 hours, preferably 0.1-10 hours.

【0031】なお、本発明のコーティング組成物には、
得られる塗膜の着色、厚膜化、下地への紫外線透過防
止、防蝕性の付与、耐熱性などの諸特性を発現させるた
めに、別途、充填材を添加・分散させることも可能であ
る。ただし、充填材は、上記(e)〜(f)成分を除
く。充填材としては、例えば有機顔料、無機顔料などの
非水溶性の顔料または顔料以外の、粒子状、繊維状もし
くは鱗片状の金属および合金ならびにこれらの酸化物、
水酸化物、炭化物、窒化物、硫化物などが挙げられる。
この充填材の具体例としては、粒子状、繊維状もしくは
鱗片状の、鉄、銅、アルミニウム、ニッケル、銀、亜
鉛、フェライト、カーボンブラック、ステンレス鋼、二
酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化クロ
ム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化コ
バルト、合成ムライト、水酸化アルミニウム、水酸化
鉄、炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、クレー、ケ
イソウ土、消石灰、石膏、タルク、炭酸バリウム、炭酸
カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウム、ベント
ナイト、雲母、亜鉛緑、クロム緑、コバルト緑、ビリジ
アン、ギネー緑、コバルトクロム緑、シェーレ緑、緑
土、マンガン緑、ピグメントグリーン、群青、紺青、ピ
グメントグリーン、岩群青、コバルト青、セルリアンブ
ルー、ホウ酸銅、モリブデン青、硫化銅、コバルト紫、
マルス紫、マンガン紫、ピグメントバイオレット、亜酸
化鉛、鉛酸カルシウム、ジンクエロー、硫化鉛、クロム
黄、黄土、カドミウム黄、ストロンチウム黄、チタン
黄、リサージ、ピグメントイエロー、亜酸化銅、カドミ
ウム赤、セレン赤、クロムバーミリオン、ベンガラ、亜
鉛白、アンチモン白、塩基性硫酸鉛、チタン白、リトポ
ン、ケイ酸鉛、酸化ジルコン、タングステン白、鉛亜鉛
華、バンチソン白、フタル酸鉛、マンガン白、硫酸鉛、
黒鉛、ボーン黒、ダイヤモンドブラック、サーマトミッ
ク黒、植物性黒、チタン酸カリウムウィスカー、二硫化
モリブデンなどが挙げられる。
The coating composition of the present invention includes:
A filler may be separately added and dispersed in order to exhibit various properties such as coloring, thickening of the obtained coating film, prevention of ultraviolet transmission to the base, imparting corrosion resistance, and heat resistance. However, the filler excludes the components (e) to (f). As the filler, for example, organic pigments, other than water-insoluble pigments or pigments such as inorganic pigments, particulate, fibrous or flaky metals and alloys and oxides thereof,
Hydroxide, carbide, nitride, sulfide and the like.
Specific examples of the filler include particles, fibrous or scaly, iron, copper, aluminum, nickel, silver, zinc, ferrite, carbon black, stainless steel, silicon dioxide, titanium oxide, aluminum oxide, and chromium oxide. , Manganese oxide, iron oxide, zirconium oxide, cobalt oxide, synthetic mullite, aluminum hydroxide, iron hydroxide, silicon carbide, silicon nitride, boron nitride, clay, diatomaceous earth, slaked lime, gypsum, talc, barium carbonate, calcium carbonate, Magnesium carbonate, barium sulfate, bentonite, mica, zinc green, chrome green, cobalt green, viridian, guinea green, cobalt chrome green, shale green, green earth, manganese green, pigment green, ultramarine, navy blue, pigment green, rock ultramarine, Cobalt blue, cerulean blue, copper borate, molybdenum Down blue, copper sulfide, cobalt violet,
Mars purple, manganese purple, pigment violet, lead oxide, calcium lead, calcium zincate, lead sulfide, chrome yellow, loess, cadmium yellow, strontium yellow, titanium yellow, litharge, pigment yellow, cuprous oxide, cadmium red, selenium red , Chrome vermillion, red iron, zinc white, antimony white, basic lead sulfate, titanium white, lithopone, lead silicate, zircon oxide, tungsten white, lead zinc white, bunchesone white, lead phthalate, manganese white, lead sulfate,
Graphite, bone black, diamond black, thermatomic black, vegetable black, potassium titanate whisker, molybdenum disulfide and the like can be mentioned.

【0032】これらの充填材の平均粒径または平均長さ
は、通常、50〜50,000nm、好ましくは100
〜5,000nmである。充填材の組成物中の割合は、
充填材以外の成分の全固形分100重量部に対し、好ま
しくは0〜300重量部、さらに好ましくは0〜200
重量部である。
The average particle size or average length of these fillers is usually 50 to 50,000 nm, preferably 100 to 50,000 nm.
5,5,000 nm. The proportion of the filler in the composition is
Preferably 0 to 300 parts by weight, more preferably 0 to 200 parts by weight, based on 100 parts by weight of the total solid content of the components other than the filler.
Parts by weight.

【0033】なお、本発明のコーティング組成物には、
そのほかオルトギ酸メチル、オルト酢酸メチル、テトラ
エトキシシランなどの公知の脱水剤、各種界面活性剤、
上記以外の、シランカップリング剤、チタンカップリン
グ剤、染料、分散剤、増粘剤、レベリング剤などの添加
剤を配合することもできる。
The coating composition of the present invention includes:
Other known dehydrating agents such as methyl orthoformate, methyl orthoacetate, tetraethoxysilane, various surfactants,
Additives other than those described above, such as a silane coupling agent, a titanium coupling agent, a dye, a dispersant, a thickener, and a leveling agent can also be blended.

【0034】本発明のコーティング組成物を調製するに
際しては、上記(a)〜(c)成分、もしくは(a)〜
(d)成分、もしくは(a)〜(c)と(e)成分、も
しくは(a)〜(e)成分を含有する組成物を調製すれ
ばよいが、好ましくは、上記(b)成分を水または水と
親水性有機溶媒を含む混合溶媒中で加水分解処理を施し
たのち、(a)成分と混合する。このようにすると、コ
ーティング組成物の経時的な粘度変化がなく、取り扱い
性に優れたコーティング組成物が得られる。
In preparing the coating composition of the present invention, the above components (a) to (c) or (a) to (c)
Component (d), or a composition containing components (a) to (c) and component (e), or components (a) to (e) may be prepared. Alternatively, after a hydrolysis treatment is performed in a mixed solvent containing water and a hydrophilic organic solvent, the mixture is mixed with the component (a). In this case, there is no change in viscosity of the coating composition over time, and a coating composition excellent in handleability can be obtained.

【0035】(e)成分を用いる場合の本発明のコーテ
ィング組成物の調製方法の具体例としては、例えば下記
〜が挙げられる。これらの調製方法において、
(b)成分としては、水または水と親水性有機溶媒を含
む混合溶媒中であらかじめ加水分解処理を施したものを
用いてもよい。 水および/または親水性有機溶剤に溶解させた(a)
および(c)成分に(e)成分を添加したのち、(b)
成分を添加する方法。 水および/または親水性有機溶剤に溶解させた(a)
および(c)成分に(e)成分を添加したのち、(b)
成分を添加し、加水分解および/または縮合する方法。 水および/または親水性有機溶剤に溶解させた(b)
成分に、(e)成分を添加し、加水分解および/または
縮合を行ない、そののちに(a)および(c)成分を添
加する方法。 水および/または親水性有機溶剤に(a)〜(e)成
分を一括添加し、溶解・分散する方法。または、そのの
ちに加水分解および/または縮合を行う方法。なお、
(c)成分の添加の時期・方法は、特に限定されずいず
れの時期・方法でもよい。
Specific examples of the method for preparing the coating composition of the present invention when the component (e) is used include the following. In these preparation methods,
As the component (b), a component which has been subjected to hydrolysis treatment in advance in water or a mixed solvent containing water and a hydrophilic organic solvent may be used. (A) dissolved in water and / or a hydrophilic organic solvent
And after adding the component (e) to the component (c),
How to add components. (A) dissolved in water and / or a hydrophilic organic solvent
And after adding the component (e) to the component (c),
A method in which components are added, and hydrolysis and / or condensation are performed. (B) dissolved in water and / or a hydrophilic organic solvent
A method in which the component (e) is added to the components, hydrolysis and / or condensation is performed, and then the components (a) and (c) are added. A method in which the components (a) to (e) are added all at once to water and / or a hydrophilic organic solvent and dissolved and dispersed. Alternatively, a method of performing hydrolysis and / or condensation after that. In addition,
The timing and method of adding the component (c) are not particularly limited, and any timing and method may be used.

【0036】また、(e)成分を用いる場合の本発明の
コーティング組成物の調製方法の具体例としては、あら
かじめ水および/または親水性有機溶剤を含む混合溶媒
中に分散させた(e)成分を、水および/または親水性
有機溶剤を含む混合溶媒中に溶解させた(a)および
(c)成分中に加えるか、あるいは(a)〜(c)、ま
たは(a)〜(d)のコーティング組成物を調製したの
ち、水および/または親水性有機溶剤を含む混合溶媒中
に分散させた(e)成分を加える方法が一般的である
が、これに限定されるものではない。
As a specific example of the method for preparing the coating composition of the present invention when the component (e) is used, the component (e) previously dispersed in a mixed solvent containing water and / or a hydrophilic organic solvent is used. Is added to the components (a) and (c) dissolved in a mixed solvent containing water and / or a hydrophilic organic solvent, or (a) to (c), or (a) to (d) After the coating composition is prepared, a method of adding the component (e) dispersed in a mixed solvent containing water and / or a hydrophilic organic solvent is generally used, but the method is not limited thereto.

【0037】コーティングフィルム 本発明のコーティング組成物は、特に、ガスバリア性コ
ート材に有用である。すなわち、基材樹脂フィルム上
に、本発明のコーティング組成物からなる硬化塗膜を、
あるいは、無機酸化物の蒸着膜と本発明のコーティング
組成物からなる硬化塗膜を積層することにより、ガスバ
リア性に優れたコーティングフィルムが得られる。
Coating Film The coating composition of the present invention is particularly useful for a gas barrier coating material. That is, on a base resin film, a cured coating film comprising the coating composition of the present invention,
Alternatively, a coating film having excellent gas barrier properties can be obtained by laminating a deposited film of an inorganic oxide and a cured coating film comprising the coating composition of the present invention.

【0038】本発明にかかるガスバリアコーティングフ
ィルムを構成する基材フィルムとしては、例えば、ポリ
エチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹
脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタ
レートなどのポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、
ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビ
ニルアルコール、エチレン−酢酸ビニル共重合体のケン
化部などのポリビニルアルコール系樹脂、ポリアクリロ
ニトリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリビニルア
セタール系樹脂、ポリビニルブチラール系樹脂、フッ素
系樹脂、その他各種の樹脂フィルム、シートを使用する
ことができる。本発明において、上記樹脂フィルム、シ
ートの形成方法としては、例えば、上記樹脂の1種ない
しそれ以上を使用し、インフレーション法、Tダイ法、
その他製膜化法を用いて、上記の樹脂を単独で製膜化す
る方法、あるいは、2種以上の異なる樹脂を使用して多
層共押し出し製膜化する方法、さらには、2種以上の樹
脂を使用し、製膜化する前に混合して製膜化する方法な
どにより、樹脂のフィルム、シートを製造し、さらに、
例えば、テンター方式、あるいは、チューブラー方式な
どを利用して1軸ないし2軸方向に延伸してなる樹脂の
フィルム、シートを形成することができる。本発明にお
いて、基材フィルムの膜厚としては、好ましくは5〜2
00μm位、より好ましくは10〜50μm位である。
なお、上記において、樹脂の製膜化に際して、例えば、
フィルムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法
安定性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ
性、電気的特性、その他を改良、改質する目的で、種々
のプラスチック配合剤や添加剤を添加することができ
る。その添加量としては、ごく微量から数十%まで、そ
の目的に応じて、任意に添加することができる。また、
上記において、一般的な添加剤としては、例えば、滑
剤、架橋剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、充填剤、強化
剤、補強剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防
カビ剤、顔料、その他を使用することができ、さらに
は、改質用樹脂なども使用することができる。
The base film constituting the gas barrier coating film according to the present invention includes, for example, polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyamide resins;
Polycarbonate resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol, polyvinyl alcohol resin such as saponified portion of ethylene-vinyl acetate copolymer, polyacrylonitrile resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, Fluorinated resins and other various resin films and sheets can be used. In the present invention, as a method for forming the resin film or sheet, for example, one or more of the above resins are used, and an inflation method, a T-die method,
Other methods of forming the above resin alone using a film forming method, or a method of forming a multilayer co-extrusion film using two or more different resins, and further, a method of forming two or more resins Using a method of mixing and forming a film before forming a film, a resin film or sheet is manufactured, and further,
For example, a resin film or sheet stretched in a uniaxial or biaxial direction using a tenter method or a tubular method can be formed. In the present invention, the thickness of the substrate film is preferably 5 to 2
It is about 00 μm, more preferably about 10 to 50 μm.
In the above, when forming a resin film, for example,
The purpose of improving and modifying the film's processability, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, slip properties, mold release properties, flame retardancy, mold resistance, electrical properties, etc. Thus, various plastic compounding agents and additives can be added. The addition amount can be arbitrarily added from a very small amount to several tens% depending on the purpose. Also,
In the above, common additives include, for example, lubricants, crosslinking agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, fillers, reinforcing agents, reinforcing agents, antistatic agents, flame retardants, flame retardants, foaming agents, mold inhibitors Agents, pigments, and the like can be used, and further, a modifying resin and the like can be used.

【0039】また、本発明において、基材フィルムは、
必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、
酸素ガスまたはチッ素ガスなどを用いて低温プラズマ処
理、グロー放電処理、化学薬品などを用いて処理する酸
化処理、その他の前処理を任意に施すことができる。上
記の表面前処理は、無機酸化物の蒸着膜を形成する前に
別工程で実施してもよく、また、例えば、低温プラズマ
処理やグロー放電処理などによる表面処理の場合は、上
記の無機酸化物の蒸着膜を形成する前処理としてインラ
イン処理により前処理で行うことができ、このような場
合は、その製造コストを低減することができるという利
点がある。上記の表面前処理は、基材フィルムと無機酸
化物の蒸着膜との密着性を改善するための方法として実
施するものであるが、上記の密着性を改善する方法とし
て、その他、例えば、基材フィルムの表面に、あらかじ
め、プライマーコート剤層、アンダーコート剤層、ある
いは、蒸着アンカーコート剤層などを任意に形成するこ
ともできる。上記の前処理のコート剤層として、例え
ば、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、その他
をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用することが
できる。また、上記において、コート剤層の形成法とし
て、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン
型などのコート剤を使用し、ロールコート法、グラビア
ロールコート法、キスコート法、その他コート法を用い
てコートすることができ、そのコート時期としては、基
材フィルムの2軸延伸処理後の後工程として、あるい
は、2軸延伸処理のインライン処理などで実施すること
ができる。なお、本発明において、基材フィルムとして
は、具体的には、2軸延伸ポリプロピレンフィルム、2
軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム、または、
2軸延伸ナイロンフィルムを使用することが好ましい。
In the present invention, the base film is
If necessary, for example, corona discharge treatment, ozone treatment,
A low-temperature plasma treatment using an oxygen gas or a nitrogen gas, a glow discharge treatment, an oxidation treatment using a chemical, or the like, and other pretreatments can be arbitrarily performed. The above-mentioned surface pretreatment may be performed in a separate step before forming an inorganic oxide vapor-deposited film.For example, in the case of a surface treatment such as a low-temperature plasma treatment or a glow discharge treatment, the above-mentioned inorganic oxidation treatment is performed. As a pre-process for forming a deposited film of an object, the pre-process can be performed by an in-line process, and in such a case, there is an advantage that the manufacturing cost can be reduced. The above-mentioned surface pretreatment is performed as a method for improving the adhesion between the base film and the deposited film of the inorganic oxide. However, as a method for improving the adhesion, other methods such as, for example, On the surface of the material film, a primer coating agent layer, an undercoating agent layer, a vapor-deposited anchor coating agent layer, or the like can be arbitrarily formed in advance. As the coating agent layer for the pretreatment, for example, a resin composition containing a polyester-based resin, a polyurethane-based resin, or the like as a main component of the vehicle can be used. Further, in the above, as a method of forming a coating agent layer, for example, using a coating agent such as a solvent type, an aqueous type, or an emulsion type, using a roll coating method, a gravure roll coating method, a kiss coating method, and other coating methods The coating can be performed as a post-step after the biaxial stretching of the base film, or in-line processing of the biaxial stretching. In the present invention, as the substrate film, specifically, a biaxially stretched polypropylene film,
Axially stretched polyethylene terephthalate film, or
It is preferable to use a biaxially stretched nylon film.

【0040】また、この際、基材あるいは本発明の塗膜
上に、金属および/または無機化合物の蒸着膜(以下
「蒸着膜」ともいう)を積層することも可能である。こ
の蒸着膜を設けることによって、さらにガスバリア性が
良好となる。上記蒸着膜が存在すると、蒸着層と上記
(b)成分が、加水分解・共縮合反応による化学結合、
水素結合、あるいは、配位結合などを形成し、蒸着層と
ガスバリアコーティング層との密着性が向上する。上記
蒸着膜としては、化学気相成長法および/または物理気
相成長法による無機酸化物の蒸着膜が好ましい。
At this time, it is also possible to laminate a deposited film of a metal and / or an inorganic compound (hereinafter also referred to as a “deposited film”) on the substrate or the coating film of the present invention. By providing this deposited film, the gas barrier properties are further improved. When the vapor-deposited film is present, the vapor-deposited layer and the component (b) are chemically bonded by hydrolysis / co-condensation reaction,
A hydrogen bond or a coordination bond is formed, and the adhesion between the deposited layer and the gas barrier coating layer is improved. As the deposited film, a deposited film of an inorganic oxide formed by a chemical vapor deposition method and / or a physical vapor deposition method is preferable.

【0041】ここで、本発明のガスバリアコーティング
フィルムを構成する化学気相成長法による無機酸化物の
蒸着膜について説明する。この化学気相成長法による無
機酸化物の蒸着膜としては、例えば、プラズマ化学気相
成長法、熱化学気相成長法、光化学気相成長法などの化
学気相成長法(Chemical Vapor Dep
osition法、CVD法)などを用いて無機酸化物
の蒸着膜を形成することができる。本発明においては、
具体的には、基材フィルムの一方の面に、有機ケイ素化
合物などの蒸着用モノマーガスを原料とし、キャリヤー
ガスとして、アルゴンガス、ヘリウムガスなどの不活性
ガスを使用し、さらに、酸素供給ガスとして、酸素ガス
などを使用し、低温プラズマ発生装置などを利用するプ
ラズマ化学気相成長法(CVD法)を用いて酸化ケイ素
などの無機酸化物の蒸着膜を形成する方法により製造す
ることができる。上記において低温プラズマ発生装置と
しては、例えば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、
マイクロ波プラズマなどの発生装置を使用することがで
き、本発明においては、高活性の安定したプラズマを得
るために、高周波プラズマ方式による発生装置を使用す
ることが望ましい。
Here, the vapor-deposited inorganic oxide film formed by the chemical vapor deposition method which constitutes the gas barrier coating film of the present invention will be described. Examples of the deposited film of the inorganic oxide by the chemical vapor deposition method include a chemical vapor deposition method such as a plasma chemical vapor deposition method, a thermal chemical vapor deposition method, and a photochemical vapor deposition method.
An inorganic oxide deposited film can be formed by an oxidation method, an oxidation method, or the like. In the present invention,
Specifically, on one surface of the base film, a monomer gas for vapor deposition such as an organosilicon compound is used as a raw material, and an inert gas such as an argon gas or a helium gas is used as a carrier gas. Can be manufactured by a method of forming a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide by a plasma enhanced chemical vapor deposition (CVD) method using an oxygen gas or the like and a low-temperature plasma generator or the like. . In the above, as the low-temperature plasma generator, for example, high-frequency plasma, pulse wave plasma,
A generator such as a microwave plasma can be used. In the present invention, it is desirable to use a generator using a high-frequency plasma method in order to obtain highly active and stable plasma.

【0042】具体的に、上記の低温プラズマ化学気相成
長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法について、その
一例を例示して説明する。図1は、上記のプラズマ化学
気相成長法による無機酸化物の蒸着膜の形成法につい
て、その概要を示す低温プラズマ化学気相成長装置の概
略的構成図である。上記の図1に示すように、本発明に
おいては、プラズマ化学気相成長装置11の真空チャン
バー12内に配置された巻出しロール13から基材フィ
ルム2を繰り出し、さらに、該基材フィルム2を、補助
ロール14を介して所定の速度で、冷却・電極ドラム1
5周面に搬送する。かくて、本発明においては、ガス供
給装置16,17および原料揮発供給装置18などか
ら、酸素ガス、不活性ガス、有機ケイ素化合物などの蒸
着用モノマーガス、その他などを供給し、それらからな
る蒸着用混合ガス組成物を調製しながら、原料供給ノズ
ル19を通して、チャンバー12内に該蒸着用混合ガス
組成物を導入する。そして、上記の冷却・電極ドラム1
5周面上に搬送された基材フィルム2の上に、グロー放
電プラズマ20によってプラズマを発生させ、これを照
射して、酸化ケイ素などの無機酸化物の連続膜を形成
し、製膜化する。本発明においては、その際に、冷却・
電極ドラム15は、チャンバー外に配置されている電源
21から所定の電力が印加されており、また、冷却・電
極ドラム15の近傍には、マグネット22を配置してプ
ラズマの発生が促進されるようになっている。次いで、
上記で酸化ケイ素などの無機酸化物の連続膜を形成した
基材フィルム2は、補助ロール23を介して、巻き取り
ロール24に巻き取ることによって、本発明の化学気相
成長法による無機酸化物の蒸着膜を形成することができ
る。なお、図中、25は、真空ポンプを示す。上記の例
示は、その一例を例示するものであり、これによって本
発明は限定されるものではないことはいうまでもない。
また、図示しないが、本発明においては、無機酸化物の
蒸着膜としては、無機酸化物の連続膜の1層だけではな
く、2層あるいはそれ以上を積層した複合蒸着膜の状態
でもよく、また、使用する材料も、1種または2種以上
の混合物で使用し、さらに、異種の材質を混合した無機
酸化物の蒸着膜を構成することもできる。
Specifically, a method of forming a deposited film of an inorganic oxide by the low-temperature plasma chemical vapor deposition method will be described with reference to an example. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a low-temperature plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus showing an outline of a method of forming a vapor-deposited film of an inorganic oxide by the plasma chemical vapor deposition method. As shown in FIG. 1 described above, in the present invention, the base film 2 is unwound from an unwind roll 13 disposed in a vacuum chamber 12 of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus 11, and the base film 2 is further removed. The cooling / electrode drum 1 at a predetermined speed via the auxiliary roll 14
It is conveyed to 5 peripheral surfaces. Thus, in the present invention, an oxygen gas, an inert gas, a monomer gas for vapor deposition such as an organosilicon compound, and the like are supplied from the gas supply devices 16 and 17 and the raw material volatilization supply device 18 and the like, and the vapor deposition composed of them While preparing the mixed gas composition for vapor deposition, the mixed gas composition for vapor deposition is introduced into the chamber 12 through the raw material supply nozzle 19. And the above-mentioned cooling / electrode drum 1
Plasma is generated by the glow discharge plasma 20 on the base film 2 conveyed on the five peripheral surfaces, and the plasma is irradiated to form a continuous film of an inorganic oxide such as silicon oxide, thereby forming a film. . In the present invention, at that time,
A predetermined power is applied to the electrode drum 15 from a power source 21 disposed outside the chamber, and a magnet 22 is disposed near the cooling / electrode drum 15 so that the generation of plasma is promoted. It has become. Then
The base film 2 on which the continuous film of the inorganic oxide such as silicon oxide is formed as described above is wound on a winding roll 24 via an auxiliary roll 23, thereby forming the inorganic oxide by the chemical vapor deposition method of the present invention. Can be formed. In the figure, reference numeral 25 denotes a vacuum pump. The above exemplification is merely an example, and it goes without saying that the present invention is not limited thereby.
Although not shown, in the present invention, the inorganic oxide deposited film is not limited to one layer of a continuous inorganic oxide film, but may be a composite deposited film in which two or more layers are stacked. The material used may be one kind or a mixture of two or more kinds, and a vapor deposition film of an inorganic oxide in which different kinds of materials are mixed may be formed.

【0043】上記において、真空チャンバー12内を真
空ポンプ25により減圧し、真空度1×10-1〜1×1
-8Torr程度、好ましくは、真空度1×10-3〜1
-7Torr程度に調整することが望ましい。また、原
料揮発供給装置18においては、原料である有機ケイ素
化合物を揮発させ、ガス供給装置16,17から供給さ
れる酸素ガス、不活性ガスなどと混合させ、この混合ガ
スを原料供給ノズル19を介してチャンバー12内に導
入される。この場合、混合ガス中に有機ケイ素化合物の
含有量は1〜40モル%程度、酸素ガスの含有量は10
〜70モル%程度、不活性ガスの含有量は10〜60モ
ル%程度の範囲とすることができ、また、有機ケイ素化
合物と酸素ガスと不活性ガスとの混合比をモル比で1:
6:5〜1:17:14程度とすることができる。一
方、冷却・電極ドラム15には、電源21から所定の電
圧が印加されているため、チャンバー12内の原料供給
ノズル19の開口部と冷却・電極ドラム15との近傍で
グロー放電プラズマ20が生成され、このグロー放電プ
ラズマ20は、混合ガス中の1つ以上のガス成分から導
出されるものである。この状態において、基材フィルム
2を一定速度で搬送させ、グロー放電プラズマ20によ
って、冷却・電極ドラム15周面上の基材フィルム2の
上に、酸化ケイ素などの無機酸化物の蒸着膜を形成する
ことができる。なお、このときの真空チャンバー12内
の真空度は、1×10-1〜10-4Torr程度、好まし
くは、真空度1×10-1〜10-2Torr程度に調整す
ることが望ましく、また、基材フィルム2の搬送速度
は、10〜300m/分程度、好ましくは、50〜15
0m/分程度に調整することが望ましい。
In the above, the pressure inside the vacuum chamber 12 is reduced by the vacuum pump 25, and the degree of vacuum is 1 × 10 -1 to 1 × 1.
About 0 -8 Torr, preferably a degree of vacuum of 1 × 10 -3 to 1
It is desirable to adjust to about 0 -7 Torr. Further, in the raw material volatilizing and supplying device 18, the organic silicon compound as the raw material is volatilized and mixed with oxygen gas, an inert gas or the like supplied from the gas supplying devices 16 and 17. It is introduced into the chamber 12 through. In this case, the content of the organic silicon compound in the mixed gas is about 1 to 40 mol%, and the content of the oxygen gas is 10%.
The content of the inert gas can be in the range of about 10 to 60 mol%, and the mixing ratio of the organosilicon compound, the oxygen gas, and the inert gas is 1: 1:
6: 5 to 1:17:14. On the other hand, since a predetermined voltage is applied to the cooling / electrode drum 15 from the power supply 21, a glow discharge plasma 20 is generated in the vicinity of the opening of the raw material supply nozzle 19 in the chamber 12 and the cooling / electrode drum 15. The glow discharge plasma 20 is derived from one or more gas components in the mixed gas. In this state, the base film 2 is transported at a constant speed, and a glow discharge plasma 20 forms a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide on the base film 2 on the cooling / electrode drum 15 peripheral surface. can do. At this time, the degree of vacuum in the vacuum chamber 12 is preferably adjusted to about 1 × 10 −1 to 10 −4 Torr, more preferably, to about 1 × 10 −1 to 10 −2 Torr. The transport speed of the base film 2 is about 10 to 300 m / min, preferably 50 to 15 m / min.
It is desirable to adjust to about 0 m / min.

【0044】また、上記のプラズマ化学気相成長装置1
1において、酸化ケイ素などの無機酸化物の連続膜の形
成は、基材フィルム2の上に、プラズマ化した原料ガス
を酸素ガスで酸化しながらSiOxの形で薄膜状に形成
されるので、この形成される酸化ケイ素などの無機酸化
物の蒸着膜は、緻密で、隙間の少ない、可撓性に富む連
続層となる。したがって、酸化ケイ素などの無機酸化物
の蒸着膜のガスバリア性は、従来の真空蒸着法などによ
って形成される酸化ケイ素などの無機酸化物の蒸着膜と
比較してはるかに高いものとなり、薄い膜厚で充分なガ
スバリア性を得ることができるものである。また、本発
明においては、SiOxプラズマにより、基材フィルム
2の表面が清浄化され、基材フィルム2の表面に、極性
基やフリーラジカルなどが発生するので、形成される酸
化ケイ素などの無機酸化物の蒸着膜と基材フィルムとの
密着性が高いものとなるという利点を有する。さらに、
上記のように、酸化ケイ素などの無機酸化物の蒸着膜の
形成時の真空度は、1×10-1〜1×10-4Torr程
度、好ましくは、1×10-1〜1×10-2Torr程度
に調整する。このため、従来の真空蒸着法により酸化ケ
イ素などの無機酸化物の蒸着膜を形成する際の真空度、
1×10-4〜1×10-5Torr程度に比較して低真空
度であり、基材フィルム2の原反交換時の真空状態設定
時間を短くすることができ、真空度が安定しやすく、製
膜プロセスが安定化するものである。
Further, the above-mentioned plasma chemical vapor deposition apparatus 1
In (1), a continuous film of an inorganic oxide such as silicon oxide is formed on the base film 2 in the form of SiO x in the form of a thin film while oxidizing a plasma-converted raw material gas with oxygen gas. The formed deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide is a continuous layer that is dense, has few gaps, and is highly flexible. Therefore, the gas barrier property of a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide is much higher than that of a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide formed by a conventional vacuum deposition method or the like, and the thin film thickness is small. And a sufficient gas barrier property can be obtained. Further, in the present invention, the surface of the base film 2 is cleaned by the SiOx plasma, and a polar group or a free radical is generated on the surface of the base film 2. This has the advantage that the adhesion between the deposited film of the substance and the substrate film is high. further,
As described above, the degree of vacuum at the time of forming a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide is about 1 × 10 −1 to 1 × 10 −4 Torr, preferably, 1 × 10 −1 to 1 × 10 −. Adjust to about 2 Torr. Therefore, the degree of vacuum when forming a deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide by a conventional vacuum deposition method,
The degree of vacuum is lower than about 1 × 10 −4 to 1 × 10 −5 Torr, and the vacuum state setting time at the time of exchanging the base film of the base film 2 can be shortened, and the degree of vacuum is easily stabilized. This stabilizes the film forming process.

【0045】本発明において、有機ケイ素化合物などの
蒸着モノマーガスを使用して形成される酸化ケイ素の蒸
着膜は、有機ケイ素化合物などの蒸着モノマーガスと酸
素ガスなどとが化学反応し、その反応生成物が、基材フ
ィルムの一方の面に密着し、緻密な柔軟性に富む薄膜を
形成するものであり、通常、一般式SiOx(ただし、
Xは、0〜2の数を示す)で表される酸化ケイ素を主体
とする連続状の薄膜である。上記の酸化ケイ素の蒸着膜
は、透明性、ガスバリア性などの点から、一般式SiO
x(ただし、Xは、1.3〜1.9の数を示す)で表さ
れる酸化ケイ素の連続膜を主体とする薄膜であることが
好ましい。上記において、Xの値は、蒸着モノマーガス
と酸素ガスのモル比、プラズマのエネルギーなどにより
変化するが、一般的に、Xの値が小さくなればガス透過
度は小さくなるが、膜自身が黄色性を帯び、透明性が悪
くなる。
In the present invention, a deposited silicon oxide film formed using a vaporized monomer gas such as an organosilicon compound chemically reacts with a vaporized monomer gas such as an organosilicon compound and oxygen gas to form a reaction product. The substance adheres to one surface of the base film to form a dense and flexible thin film.
X is a number from 0 to 2), and is a continuous thin film mainly composed of silicon oxide. The above silicon oxide vapor-deposited film has a general formula of SiO from the viewpoints of transparency, gas barrier properties, and the like.
The thin film is preferably a thin film mainly composed of a continuous silicon oxide film represented by x (where X represents a number of 1.3 to 1.9). In the above, the value of X changes depending on the molar ratio of the vaporized monomer gas to the oxygen gas, the energy of the plasma, and the like. Generally, as the value of X decreases, the gas permeability decreases, but the film itself becomes yellow. Tinged with transparency.

【0046】また、上記の酸化ケイ素の蒸着膜は、酸化
ケイ素を主体とし、これに、さらに炭素、水素、ケイ素
または酸素の1種類、または、その2種類以上の元素か
らなる化合物を少なくとも1種類を化学結合などにより
含有する連続膜からなることを特徴とするものである。
例えば、C−H結合を有する化合物、Si−H結合を有
する化合物、または、炭素単位がグラファイト状、ダイ
ヤモンド状、フラーレン状などになっている場合、さら
に、原料の有機ケイ素化合物やそれらの誘導体を化学結
合などによって含有する場合がある。具体例を挙げる
と、CH部位を持つハイドロカーボン、SiH3
リル、SiH2シリレンなどのハイドロシリカ、SiH2
OHシラノールなどの水酸基誘導体などを挙げることが
できる。上記以外にも、蒸着過程の条件などを変化させ
ることにより、酸化ケイ素の蒸着膜中に含有される化合
物の種類、量などを変化させることができる。上記の化
合物の酸化ケイ素の蒸着膜中に含有する含有量は、0.
1〜50モル%程度、好ましくは、5〜20モル%程度
が望ましい。0.1モル%未満では、酸化ケイ素の蒸着
膜の耐衝撃性、延展性、柔軟性などが不充分となり、曲
げなどにより、擦り傷、クラックなどが発生しやすく、
高いガスバリア性を安定して維持することが困難とな
る。一方、50モル%を超えると、ガスバリア性が低下
して好ましくない。また、本発明においては、酸化ケイ
素の蒸着膜において、上記の化合物の含有量が、酸化ケ
イ素の蒸着膜の表面から深さ方向に向かって減少させる
ことが好ましい。これにより、酸化ケイ素の蒸着膜の表
面においては、上記の化合物などにより耐衝撃性が高め
られ、他方、基材フィルムとの界面においては、上記の
化合物の含有量が少ないため、基材フィルムと酸化ケイ
素の蒸着膜との密着性が強固なものになるという利点を
有する。
The silicon oxide vapor-deposited film is mainly composed of silicon oxide, and further contains at least one compound of one or more of carbon, hydrogen, silicon and oxygen, or two or more thereof. , By a chemical bond or the like.
For example, when the compound having a C—H bond, the compound having a Si—H bond, or the carbon unit is in a graphite shape, a diamond shape, a fullerene shape, or the like, an organic silicon compound or a derivative thereof as a raw material is further added. May be contained due to chemical bonding. Specific examples include hydrocarbon having a CH 3 site, hydrosilica such as SiH 3 silyl and SiH 2 silylene, SiH 2
Examples include a hydroxyl group derivative such as OH silanol. In addition to the above, the kind and amount of the compound contained in the deposited silicon oxide film can be changed by changing the conditions of the deposition process and the like. The content of the above compound contained in the deposited silicon oxide film is 0.1%.
About 1 to 50 mol%, preferably about 5 to 20 mol% is desirable. If it is less than 0.1 mol%, the impact resistance, spreadability, flexibility, etc. of the deposited silicon oxide film become insufficient, and scratches, cracks, etc. are easily generated by bending and the like,
It is difficult to stably maintain high gas barrier properties. On the other hand, if it exceeds 50 mol%, the gas barrier properties are undesirably reduced. Further, in the present invention, it is preferable that the content of the above compound is reduced in the depth direction from the surface of the deposited silicon oxide film in the deposited silicon oxide film. Thereby, on the surface of the silicon oxide vapor-deposited film, the impact resistance is enhanced by the above-mentioned compound and the like, while, at the interface with the base film, the content of the above-mentioned compound is small, so that the base film and This has the advantage that the adhesion to the deposited silicon oxide film becomes strong.

【0047】本発明において、上記の酸化ケイ素の蒸着
膜について、例えば、X線光電子分光装置(Xray
Photoelectron Spectroscop
y、XPS)、二次イオン質量分析装置(Second
ary Ion MassSpectroscopy、
SIMS)などの表面分析装置を用い、深さ方向にイオ
ンエッチングするなどして分析する方法を利用して、酸
化ケイ素の蒸着膜の元素分析を行なうことにより、上記
のような物性を確認することができる。また、本発明に
おいて、上記の酸化ケイ素の蒸着膜の膜厚は、好ましく
は5〜400nm程度、さらに好ましくは10〜100
nm程度である。膜厚が10nm、さらには、5nm未
満では、ガスバリア性の効果を奏することが困難となり
好ましくない。一方、膜厚が100nm、さらには、4
00nmより厚くなると、その膜にクラックなどが発生
しやすくなるので好ましくない。上記において、膜厚
は、例えば、(株)理学製の蛍光X線分析装置(機種
名;RIX2000型)を用いて、ファンダメンタルパ
ラメーター法で測定することができる。また、上記にお
いて、酸化ケイ素の蒸着膜の膜厚を変更する手段として
は、蒸着膜の体積速度を大きくすること、すなわち、モ
ノマーガスと酸素ガス量を多くする方法や、蒸着する速
度を遅くする方法などによって行なうことができる。
In the present invention, the above-mentioned deposited film of silicon oxide is, for example, an X-ray photoelectron spectrometer (Xray).
Photoelectron Spectroscope
y, XPS), secondary ion mass spectrometer (Second
ary Ion Mass Spectroscopy,
Confirming the physical properties as described above by performing elemental analysis of the deposited silicon oxide film using a method of performing ion etching in the depth direction or the like using a surface analyzer such as SIMS. Can be. Further, in the present invention, the thickness of the silicon oxide deposited film is preferably about 5 to 400 nm, more preferably 10 to 100 nm.
nm. If the film thickness is 10 nm or less than 5 nm, it is difficult to achieve the gas barrier effect, which is not preferable. On the other hand, when the film thickness is 100 nm,
When the thickness is larger than 00 nm, cracks and the like are easily generated in the film, which is not preferable. In the above description, the film thickness can be measured by a fundamental parameter method using, for example, a fluorescent X-ray analyzer (model name: RIX2000 type) manufactured by Rigaku Corporation. Further, in the above, as means for changing the thickness of the deposited film of silicon oxide, increasing the volume velocity of the deposited film, that is, a method of increasing the amount of monomer gas and oxygen gas, or reducing the deposition rate It can be performed by a method or the like.

【0048】上記において、酸化ケイ素などの無機酸化
物の蒸着膜を形成する有機ケイ素化合物などの蒸着用モ
ノマーガスとしては、例えば、1,1,3,3−テトラ
メチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニ
ルトリメチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサ
メチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリ
メチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェ
ニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメ
トキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシ
シラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエト
キシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサンなど
を使用することができる。本発明において、上記の有機
ケイ素化合物のうちでも、1,1,3,3−テトラメチ
ルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサンを
原料として使用することが、その取り扱い性、形成され
た連続膜の特性などから、特に、好ましい原料である。
また、上記において、不活性ガスとしては、例えば、ア
ルゴンガス、ヘリウムガスなどを使用することができ
る。
In the above description, examples of the monomer gas for vapor deposition such as an organic silicon compound for forming a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide include 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane and hexamethyldisiloxane. , Vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, phenyltrisilane Methoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, and the like can be used. In the present invention, among the above-mentioned organosilicon compounds, the use of 1,1,3,3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material can improve the handling property and the formed continuous film. From the viewpoint of properties and the like, it is a particularly preferable raw material.
In the above, for example, an argon gas, a helium gas, or the like can be used as the inert gas.

【0049】次に、本発明のガスバリアコーティングフ
ィルムを構成する物理気相成長法による無機酸化物の蒸
着膜としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング
法、イオンプレーティング法などの物理気相成長法(P
hysical VaporDeposition法、
PVD法)を用いて形成することができる。具体的に
は、金属の酸化物を原料とし、これを加熱して基材フィ
ルムの上に蒸着する真空蒸着法、原料として金属または
金属酸化物を使用し、酸素を導入して酸化させて基材フ
ィルムの上に蒸着する酸化反応蒸着法、酸化反応をプラ
ズマで助成するプラズマ助成式の酸化反応蒸着法などを
用いて蒸着膜を形成することができる。
Next, as the vapor-deposited inorganic oxide film formed by the physical vapor deposition method to constitute the gas barrier coating film of the present invention, for example, a physical vapor deposition method such as a vacuum vapor deposition method, a sputtering method and an ion plating method. (P
physical VaporDeposition method,
(PVD method). Specifically, a vacuum deposition method in which a metal oxide is used as a raw material, which is heated and vapor-deposited on a substrate film, a metal or a metal oxide is used as a raw material, and oxygen is introduced and oxidized to form a base. The deposited film can be formed by using an oxidation reaction deposition method of depositing on a material film, a plasma-assisted oxidation reaction deposition method of assisting an oxidation reaction by plasma, or the like.

【0050】本発明の物理気相成長法による無機酸化物
の蒸着膜を形成する方法の1例を図示して説明する。図
2は、巻き取り式真空蒸着装置の概略的構成図である。
図2に示すように、巻き取り式真空蒸着装置51の真空
チャンバー52の中で、巻き出しロール53から繰り出
す化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜を有する基
材フィルム2は、ガイドロール54,55を介して、冷
却したコーティングドラム56に案内される。上記冷却
したコーティングドラム56上に案内された化学気相成
長法による無機酸化物の蒸着膜を有する基材フィルム2
の無機酸化物の蒸着膜の上に、るつぼ57で熱せられた
蒸着源58、例えば、金属アルミニウム、酸化アルミニ
ウムなどを蒸発させ、必要に応じて酸素ガス吹出口59
より酸素ガスなどを噴出し、これを供給しながら、マス
ク60,60を介して、酸化アルミニウムなどの無機酸
化物の蒸着膜を成膜化し、次いで、酸化アルミニウムな
どの無機酸化物の蒸着膜を、上記化学気相成長法による
無機酸化物の蒸着膜の上に形成した基材フィルム2をガ
イドロール55′,54′を介して送り出し、巻き取り
ロール61に巻き取ることによって、本発明の物理気相
成長法による無機酸化物の蒸着膜を形成することができ
る。
An example of a method for forming a deposited film of an inorganic oxide by physical vapor deposition according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a take-up type vacuum evaporation apparatus.
As shown in FIG. 2, in a vacuum chamber 52 of a take-up type vacuum evaporation apparatus 51, a base film 2 having a vapor-deposited inorganic oxide film formed by a chemical vapor deposition method unwound from an unwind roll 53 is formed by a guide roll. It is guided to the cooled coating drum 56 via 54 and 55. The base film 2 having a vapor-deposited inorganic oxide film formed by chemical vapor deposition guided on the cooled coating drum 56
The vapor deposition source 58 heated by the crucible 57, for example, metal aluminum, aluminum oxide, or the like is evaporated on the inorganic oxide vapor deposition film, and an oxygen gas outlet 59 is provided as necessary.
While supplying oxygen gas and the like, a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as aluminum oxide is formed through the masks 60 and 60 while supplying the gas, and then a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as aluminum oxide is formed. The base film 2 formed on the inorganic oxide vapor-deposited film by the chemical vapor deposition method is fed through guide rolls 55 ′ and 54 ′ and wound up by a take-up roll 61, whereby the physical properties of the present invention are obtained. An inorganic oxide deposited film can be formed by a vapor deposition method.

【0051】上記無機酸化物の蒸着膜としては、金属酸
化物を蒸着した薄膜であればどのようなものでもよく、
例えば、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)、マグ
ネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、カリウム
(K)、スズ(Sn)、ナトリウム(Na)、ホウ素
(B)、チタン(Ti)、鉛(Pb)、ジルコニウム
(Zr)、イットリウム(Y)などの金属酸化物の蒸着
膜を使用することができる。包装用材料に適するものと
しては、ケイ素(Si)、アルミニウム(Al)などの
金属酸化物を挙げることができる。上記金属酸化物の蒸
着膜は、ケイ素酸化物、アルミニウム酸化物、マグネシ
ウム酸化物のように、金属酸化物として呼ぶことがで
き、その標記は、SiOX、AlOX、MgOXなどのよ
うにMOX(ただし、Mは、金属元素を表し、Xの値は
金属元素によりそれぞれ範囲が異なる。)で表される。
また、上記Xの値の範囲としては、ケイ素(Si)は0
〜2、アルミニウム(Al)は0〜1.5、マグネシウ
ム(Mg)は0〜1、カルシウム(Ca)は0〜1、カ
リウム(K)は0〜0.5、スズ(Sn)は0〜2、ナ
トリウム(Na)は0〜0.5、ホウ素(B)は0〜
1.5、チタン(Ti)は0〜2、鉛(Pb)は0〜
1、ジルコニウム(Zr)は0〜2、イットリウム
(Y)は0〜1.5の範囲の値をとることができる。上
記において、X=1の場合、完全な金属であり、透明で
はなく全く使用することができない。また、Xの範囲の
上限は、完全に酸化した値である。本発明において、包
装用材料として、一般的に、ケイ素(Si)、アルミニ
ウム(Al)以外は使用される例に乏しい。ケイ素(S
i)は1.0〜2.0、アルミニウム(Al)は0.5
〜1.5の範囲のものを、好ましく使用することができ
る。本発明において、上記無機酸化物の薄膜の膜厚は、
使用する金属、金属酸化物の種類などにより異なるが、
例えば、5〜200nm、好ましくは、10〜100n
mの範囲内で任意に選択して形成することが望ましい。
また、本発明の無機酸化物の蒸着膜としては、無機酸化
物の蒸着膜の1層だけではなく、2層またはそれ以上を
積層した積層体の状態でもよい。また、使用する金属,
金属酸化物は、1種または2種以上の混合物で使用し、
異種の材質で混合した無機酸化物の薄膜を構成すること
もできる。
The inorganic oxide deposited film may be any thin film on which a metal oxide is deposited.
For example, silicon (Si), aluminum (Al), magnesium (Mg), calcium (Ca), potassium (K), tin (Sn), sodium (Na), boron (B), titanium (Ti), lead (Pb) ), Zirconium (Zr), yttrium (Y), and other metal oxide deposited films. Suitable materials for the packaging material include metal oxides such as silicon (Si) and aluminum (Al). Deposited film of the metal oxide include silicon oxide, aluminum oxide, as magnesium oxide, can be called as a metal oxide, the title is SiO X, AlO X, MO such as MgO X X (where M represents a metal element, and the value of X varies depending on the metal element).
Further, as a range of the value of X, silicon (Si) is 0%.
2, aluminum (Al) is 0 to 1.5, magnesium (Mg) is 0 to 1, calcium (Ca) is 0 to 1, potassium (K) is 0 to 0.5, and tin (Sn) is 0 to 1. 2, sodium (Na) is 0-0.5, boron (B) is 0-0.5
1.5, 0 for titanium (Ti), 0 for lead (Pb)
1, zirconium (Zr) can take a value of 0-2, and yttrium (Y) can take a value of 0-1.5. In the above, when X = 1, it is a perfect metal, is not transparent and cannot be used at all. Further, the upper limit of the range of X is a value that is completely oxidized. In the present invention, examples other than silicon (Si) and aluminum (Al) are generally rarely used as packaging materials. Silicon (S
i) is 1.0 to 2.0, aluminum (Al) is 0.5
Those having a range of ~ 1.5 can be preferably used. In the present invention, the thickness of the inorganic oxide thin film,
It depends on the type of metal and metal oxide used,
For example, 5 to 200 nm, preferably 10 to 100 n
It is desirable to arbitrarily select and form within the range of m.
Further, the deposited film of the inorganic oxide of the present invention may be not only one layer of the deposited film of the inorganic oxide but also a laminated body in which two or more layers are laminated. Also, the metal used,
The metal oxide is used in one kind or a mixture of two or more kinds,
It is also possible to form a thin film of an inorganic oxide mixed with different materials.

【0052】本発明のコーティング組成物を用いて、本
発明のコーティングフィルムを形成する方法の具体例と
しては、下記の方法が挙げられる。 基材表面上に、本発明の塗膜を形成させる方法。な
お、必要に応じて、基材表面上に、上記のように、プラ
イマーをあらかじめ塗布して本発明の塗膜を形成させて
もよい。 基材表面上に、化学気相成長法および/または物理気
相成長法による無機酸化物の蒸着膜を設け、その蒸着膜
表面上に、本発明の塗膜を形成させる方法。なお、基材
表面上に蒸着膜を形成させるとき、必要に応じて、基材
表面上にあらかじめプライマーを塗布してもよい。 上記の本発明の塗膜表面上に、化学気相成長法およ
び/または物理気相成長法により蒸着膜を形成させる方
法。 上記の本発明の塗膜表面上に、化学気相成長法およ
び/または物理気相成長法により蒸着膜を形成させる方
法。 上記の蒸着膜表面上に、さらに本発明の塗膜を形成
させる方法。 上記の蒸着膜表面上に、さらに本発明の塗膜を形成
させる方法。 上記〜の基材の表面が、片面あるいは両面である
〜の方法。
Specific examples of the method for forming the coating film of the present invention using the coating composition of the present invention include the following methods. A method for forming a coating film of the present invention on a substrate surface. If necessary, the primer of the present invention may be applied on the surface of the base material in advance to form the coating film of the present invention. A method of forming a coating film of the present invention on a surface of a base material, on which a deposited film of an inorganic oxide is formed by a chemical vapor deposition method and / or a physical vapor deposition method. In addition, when forming a vapor deposition film on a base material surface, you may apply a primer in advance on a base material surface as needed. A method of forming a vapor-deposited film on the surface of the coating film of the present invention by a chemical vapor deposition method and / or a physical vapor deposition method. A method of forming a vapor-deposited film on the surface of the coating film of the present invention by a chemical vapor deposition method and / or a physical vapor deposition method. A method for further forming a coating film of the present invention on the surface of the above-mentioned deposited film. A method for further forming a coating film of the present invention on the surface of the above-mentioned deposited film. The method of the above-mentioned, wherein the surface of the substrate is one or both sides.

【0053】合成樹脂フィルムなどの基材(上記蒸着膜
が積層された基材を含む)上に、本発明のガスバリアコ
ーティング組成物から形成される硬化塗膜(以下「本発
明の塗膜」ともいう)を積層するには、基材の表面に、
グラビアコーターなどのロールコート、スプレーコー
ト、スピンコート、ディッピング、刷毛、バーコード、
アプリケータなどの塗装手段により、1回あるいは複数
回の塗装で、乾燥膜厚が0.01〜30μm、好ましく
は0.1〜10μmの本発明の塗膜を形成することがで
き、通常の環境下、50〜300℃、好ましくは70〜
200℃の温度で、0.005〜60分間、好ましくは
0.01〜10分間、加熱・乾燥することにより、縮合
が行われ、本発明の塗膜を形成することができる。ま
た、必要ならば、本発明のガスバリアコーティングフィ
ルム上に、印刷絵柄層を設け、さらに必要ならば、この
印刷絵柄層上に、ヒートシール性樹脂層を形成させるこ
とができる。
On a substrate such as a synthetic resin film (including a substrate on which the above-mentioned vapor-deposited film is laminated), a cured coating film formed from the gas barrier coating composition of the present invention (hereinafter also referred to as “the coating film of the present invention”) To laminate), on the surface of the substrate,
Roll coat such as gravure coater, spray coat, spin coat, dipping, brush, bar code,
The coating film of the present invention having a dry film thickness of 0.01 to 30 μm, preferably 0.1 to 10 μm can be formed by one or more coatings by a coating means such as an applicator. Below, 50-300 ° C, preferably 70-
By heating and drying at a temperature of 200 ° C. for 0.005 to 60 minutes, preferably 0.01 to 10 minutes, condensation is carried out and the coating film of the present invention can be formed. If necessary, a printed pattern layer may be provided on the gas barrier coating film of the present invention, and if necessary, a heat-sealing resin layer may be formed on the printed pattern layer.

【0054】上記の印刷絵柄層としては、例えば、上記
のコーティング硬化膜の上に、通常のグラビアインキ組
成物、オフセットインキ組成物、凸版インキ組成物、ス
クリーンインキ組成物、その他のインキ組成物を使用
し、例えば、グラビア印刷方式、オフセット印刷方式、
凸版印刷方式、シルクスクリーン印刷方式、その他の印
刷方式を使用し、例えば、文字、図形、絵柄、記号、そ
の他からなる所望の印刷絵柄を形成することにより構成
することができる。上記インキ組成物について、インキ
組成物を構成するビヒクルとしては、例えば、ポリエチ
レン系樹脂、塩素化ポリプロピレン系樹脂などのポリオ
レフィン系樹脂、ポリ(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩
化ビニル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、塩化ビニル−
酢酸ビニル共重合体、ポリスチレン系樹脂、スチレン−
ブタジエン共重合体、フッ化ビニリデン系樹脂、ポリビ
ニルアルコール系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、
ポリビニルブチラール系樹脂、ポリブタジエン系樹脂、
ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、アルキッド系
樹脂、エポキシ系樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、熱
硬化型ポリ(メタ)アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、
尿素系樹脂、ポリウレタン系樹脂、フェノール系樹脂、
キシレン系樹脂、マレイン酸樹脂、ニトロセルロース、
エチルセルロース、アセチルブチルセルロース、エチル
オキシエチルセルロースなどの繊維素系樹脂、塩化ゴ
ム、環化ゴムなどのゴム系樹脂、石油系樹脂、ロジン、
カゼインなどの天然樹脂、アマニ油、大豆油などの油脂
類、その他の樹脂の1種ないし2種以上の混合物を使用
することができる。本発明において、上記のようなビヒ
クルの1種ないし2種以上を主成分とし、これに、染料
・顔料などの着色剤の1種ないし2種以上を加え、更
に、必要ならば、充填剤、安定剤、可塑剤、酸化防止
剤、紫外線吸収剤などの光安定剤、分散剤、増粘剤、乾
燥剤、滑剤、帯電防止剤、架橋剤、その他の添加剤を任
意に添加し、溶剤、希釈剤などで充分に混練してなる各
種の形態からなるインキ組成物を使用することができ
る。
As the print pattern layer, for example, a usual gravure ink composition, offset ink composition, letterpress ink composition, screen ink composition, and other ink compositions can be coated on the above-mentioned cured coating film. Use, for example, gravure printing method, offset printing method,
It can be configured by using a letterpress printing method, a silk screen printing method, or another printing method, and forming a desired printing pattern composed of, for example, characters, figures, pictures, symbols, and the like. In the above ink composition, as a vehicle constituting the ink composition, for example, a polyolefin resin such as a polyethylene resin, a chlorinated polypropylene resin, a poly (meth) acrylic resin, a polyvinyl chloride resin, a polyvinyl acetate Resin, vinyl chloride
Vinyl acetate copolymer, polystyrene resin, styrene
Butadiene copolymer, vinylidene fluoride resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl acetal resin,
Polyvinyl butyral resin, polybutadiene resin,
Polyester resin, polyamide resin, alkyd resin, epoxy resin, unsaturated polyester resin, thermosetting poly (meth) acrylic resin, melamine resin,
Urea resin, polyurethane resin, phenolic resin,
Xylene resin, maleic resin, nitrocellulose,
Cellulose resins such as ethylcellulose, acetylbutylcellulose and ethyloxyethylcellulose, rubber resins such as chlorinated rubber and cyclized rubber, petroleum resins, rosin,
Mixtures of one or more of natural resins such as casein, oils and fats such as linseed oil and soybean oil, and other resins can be used. In the present invention, one or more kinds of the above-mentioned vehicles are used as a main component, and one or more kinds of coloring agents such as dyes and pigments are added thereto. Stabilizers, plasticizers, antioxidants, light stabilizers such as ultraviolet absorbers, dispersants, thickeners, desiccants, lubricants, antistatic agents, crosslinking agents, and other optional additives, solvents, Ink compositions of various forms which are sufficiently kneaded with a diluent or the like can be used.

【0055】次にまた、上記のヒートシール性樹脂層を
形成するヒートシール性樹脂としては、熱によって溶融
し相互に融着し得るものであればよく、例えば、低密度
ポリエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレ
ン、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹
脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−
アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合
体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポ
リマー、ポリエチレンやポリプロピレンなどのポリオレ
フィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイン
酸、無水マレイン酸、フマール酸、イタコン酸、その他
の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィン系
樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、その他の樹脂の1種ないしそれ以上
からなる樹脂を使用することができる。本発明におい
て、ヒートシール性樹脂層としては、上記のような樹脂
の1種ないしそれ以上を使用し、例えば、インフレーシ
ョン法、Tダイ法、その他の方法で製膜化してなる樹脂
のフィルム、シート、あるいは、上記のような樹脂の1
種ないしそれ以上をビヒクルの主成分として含む樹脂組
成物によるコーティング膜などの状態で使用することが
できる。その膜厚としては、5〜100μm位、好まし
くは、10〜50μm位が望ましい。
The heat-sealable resin forming the heat-sealable resin layer may be any heat-sealable resin that can be melted by heat and fused to each other. For example, low-density polyethylene, medium-density polyethylene, High density polyethylene, linear (linear) low density polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene-
Acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-propylene copolymer, methylpentene polymer, polyolefin resin such as polyethylene and polypropylene, acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, fumaric acid, It is possible to use a resin composed of one or more of itaconic acid, another acid-modified polyolefin resin modified with an unsaturated carboxylic acid, a polyvinyl acetate resin, a polyester resin, a polystyrene resin, and other resins. . In the present invention, as the heat-sealable resin layer, one or more of the above resins are used, and for example, a resin film or sheet formed into a film by an inflation method, a T-die method, or another method. Or one of the above resins
It can be used in the form of a coating film or the like made of a resin composition containing a seed or more as a main component of the vehicle. The thickness is about 5 to 100 μm, preferably about 10 to 50 μm.

【0056】本発明においては、上記のような樹脂の中
でも、特に、線状(直鎖状)低密度ポリエチレンを使用
することが好ましい。上記線状低密度ポリエチレンは、
粘着性を有することから破断の伝搬が少なく耐衝撃性を
向上させるという利点があるものであり、また、内層は
常時内容物に接触していることから、耐環境ストレスク
ラッキング性の劣化を防止するためにも有効なものであ
る。また、本発明においては、線状低密度ポリエチレン
に、他の樹脂をブレンドすることもでき、例えば、エチ
レン−ブテン共重合体などをブレンドすることにより、
若干、耐熱性に劣り高温環境下ではシール安定性が劣化
する傾向があるものの、引き裂き性が向上し、易開封性
に寄与するという利点がある。上記のようなヒートシー
ル性樹脂としての線状低密度ポリエチレンとしては、具
体的には、メタロセン触媒を用いて重合したエチレン−
α・オレフィン共重合体を使用することができる。具体
的には、三菱化学株式会社製の商品名「カーネル」、三
井石油化学工業株式会社製の商品名「エボリュー」、米
国、エクソン・ケミカル(EXXON CHEMICA
L)社製の商品名「エクザクト(EXACT)」、米
国、ダウ・ケミカル(DOW CHEMICAL)社製
の商品名「アフィニティー(AFFINITY)」、商
品名「エンゲージ(ENGAGE)」などのメタロセン
触媒を用いて重合したエチレン−α・オレフィン共重合
体を使用することができる。上記のメタロセン触媒を用
いて重合したエチレン−α・オレフィン共重合体を使用
する場合には、袋体を製造するときに、低温ヒートシー
ル性が可能であるという利点を有する。
In the present invention, among the above resins, it is particularly preferable to use linear (linear) low-density polyethylene. The linear low density polyethylene,
Adhesiveness has the advantage of reducing the propagation of fracture and improving impact resistance. In addition, since the inner layer is in constant contact with the contents, deterioration of environmental stress cracking resistance is prevented. It is also effective for Further, in the present invention, other resins can be blended with the linear low-density polyethylene, for example, by blending an ethylene-butene copolymer or the like.
Although the heat resistance is slightly inferior and the seal stability tends to deteriorate in a high temperature environment, there is an advantage that the tearing property is improved and the easy opening property is contributed. As the linear low-density polyethylene as the heat sealable resin as described above, specifically, ethylene-polymerized using a metallocene catalyst
α-Olefin copolymer can be used. Specifically, the product name "Kernel" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, the product name "Evolu" manufactured by Mitsui Petrochemical Industry Co., Ltd., Exxon Chemical (USA)
L), a metallocene catalyst such as "AFFINITY", a product name "AFFINITY", a product name, "ENGAGE", a product name, manufactured by DOW CHEMICAL, USA A polymerized ethylene-α-olefin copolymer can be used. The use of the ethylene-α-olefin copolymer polymerized using the above-mentioned metallocene catalyst has an advantage that low-temperature heat sealability is possible when a bag is manufactured.

【0057】本発明のガスバリアコーティングフィルム
を用いた積層材においては、通常、包装用容器は、物理
的にも化学的にも過酷な条件におかれることから、包装
用容器を構成する積層材には、厳しい包装適性、すなわ
ち、変形防止強度、落下衝撃強度、耐ピンホール性、耐
熱性、密封性、品質保全性、作業性、衛生性、その他の
種々の条件が要求される。このために、本発明において
は、上記のような諸条件を充足する材料を任意に選択
し、積層材を構成する材料に加えて、所望の積層材を構
成することができる。例えば、低密度ポリエチレン、中
密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポ
リエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共
重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマー
樹脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン
−アクリル酸またはメタクリル酸共重合体、メチルペン
テンポリマー、ポリブテン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹
脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹
脂、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、ポリ(メ
タ)アクリル系樹脂、ポリアクリロニトリル系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合
体(AS系樹脂)、アクリロニトリル−ブタジエン−ス
チレン共重合体(ABS系樹脂)、ポリエステル系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ
ビニルアルコール系樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合
体のケン化物、フッ素系樹脂、ジエン系樹脂、ポリアセ
タール系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ニトロセルロー
ス、その他などの公知の樹脂のフィルムないしシートか
ら任意に選択して使用することができる。その他、例え
ば、セロハンなどのフィルム、合成紙なども使用するこ
とができる。本発明において、上記のフィルムないしシ
ートは、未延伸、一軸ないし二軸方向に延伸されたもの
などのいずれのものでも使用することができる。また、
その厚さは、任意であるが、数μmから300μm位の
範囲から選択して使用することができる。上記フィルム
ないしシートとしては、押し出し成膜、インフレーショ
ン成膜、コーティング膜などのいずれの性状の膜でもよ
い。
In the laminated material using the gas barrier coating film of the present invention, since the packaging container is usually subjected to severe physical and chemical conditions, the packaging material is used for the laminated material constituting the packaging container. The strict requirements for packaging suitability, that is, deformation prevention strength, drop impact strength, pinhole resistance, heat resistance, sealing property, quality maintenance, workability, hygiene, and other various conditions are required. For this reason, in the present invention, a material that satisfies the above-described conditions can be arbitrarily selected, and a desired laminated material can be formed in addition to the material that forms the laminated material. For example, low density polyethylene, medium density polyethylene, high density polyethylene, linear low density polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-ethyl acrylate copolymer, ethylene -Acrylic acid or methacrylic acid copolymer, methylpentene polymer, polybutene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene chloride resin, vinyl chloride-vinylidene chloride copolymer, poly (meth) acrylic Resin, polyacrylonitrile resin, polystyrene resin, acrylonitrile-styrene copolymer (AS resin), acrylonitrile-butadiene-styrene copolymer (ABS resin), polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin , Arbitrarily selected from known resin films or sheets such as polyvinyl alcohol resin, saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, fluorine resin, diene resin, polyacetal resin, polyurethane resin, nitrocellulose, etc. Can be used. In addition, for example, a film such as cellophane, synthetic paper, or the like can be used. In the present invention, any of the above-mentioned films or sheets, such as unstretched or uniaxially or biaxially stretched, can be used. Also,
Although the thickness is arbitrary, it can be selected from a range of several μm to about 300 μm. The film or sheet may be a film having any property such as extrusion film formation, inflation film formation, and coating film.

【0058】本発明において、本発明にかかるバリア性
フィルム、印刷絵柄層、ヒートシール性樹脂層、その他
の材料などを使用して、本発明にかかる積層材を製造す
る方法としては、例えば、ラミネート用接着剤によるラ
ミネート用接着剤層を介して積層するドライラミネーシ
ョン法、あるいは、溶融押し出し接着性樹脂による溶融
押し出し樹脂層を介して積層する押し出しラミネーショ
ン法などで行うことができる。上記において、ラミネー
ト用接着剤としては、例えば、1液、あるいは2液型の
硬化ないし非硬化タイプのビニル系、(メタ)アクリル
系、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリエーテル系、
ポリウレタン系、エポキシ系、ゴム系、その他などの溶
剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型などのラミネ
ート用接着剤を使用することができる。上記ラミネート
用接着剤のコーティング法としては、例えば、ダイレク
トグラビアロールコート法、グラビアロールコート法、
キスコート法、リバースロールコート法、フォンテン
法、トランスファーロールコート法、その他の方法で塗
布することができる。そのコーティング量としては、好
ましくは0.1〜10g/m2(乾燥状態)位、より好
ましくは1〜5g/m2(乾燥状態)位である。なお、
上記ラミネート用接着剤には、例えば、シランカップリ
ング剤などの接着促進剤を任意に添加することができ
る。また、上記において、溶融押し出し接着性樹脂とし
ては、上記ヒートシール性樹脂層を形成するヒートシー
ル性樹脂を同様に使用することができ、低密度ポリエチ
レン、特に線状低密度ポリエチレン、酸変性ポリエチレ
ンを使用することが好ましい。上記溶融押し出し接着性
樹脂による溶融押し出し樹脂層の膜厚は、好ましくは5
〜100μm位、さらに好ましくは10〜50μm位で
ある。なお、本発明において、上記積層を行う際に、よ
り強固な接着強度を得る必要がある場合には、アンカー
コート剤などの接着改良剤などをコートすることもでき
る。上記アンカーコート剤としては、例えば、アルキル
チタネートなどの有機チタン系アンカーコート剤、イソ
シアネート系アンカーコート剤、ポリエチレンイミン系
アンカーコート剤、ポリブタジエン系アンカーコート
剤、その他の水性または油性の各種のアンカーコート剤
を使用することができる。本発明においては、上記アン
カーコート剤を、ロールコート、グラビアコート、ナイ
フコート、ディップコート、スプレイコート、その他の
コーティング法でコーティングし、溶剤、希釈剤などを
乾燥して、アンカーコート剤層を形成することができ
る。上記アンカーコート剤の塗布量としては、0.1〜
5g/m2(乾燥状態)位が好ましい。
In the present invention, the method for producing the laminate according to the present invention using the barrier film, the printed picture layer, the heat-sealing resin layer, and other materials according to the present invention includes, for example, lamination. It can be performed by a dry lamination method in which the layers are laminated via an adhesive layer for lamination with a bonding adhesive, or an extrusion lamination method in which the layers are laminated via a melt-extruded resin layer with a melt-extruded adhesive resin. In the above, as the laminating adhesive, for example, one-component or two-component curing or non-curing type vinyl, (meth) acrylic, polyamide, polyester, polyether,
Adhesives for lamination such as solvent type, aqueous type, and emulsion type such as polyurethane type, epoxy type, rubber type and the like can be used. As a coating method of the laminating adhesive, for example, direct gravure roll coating method, gravure roll coating method,
It can be applied by a kiss coat method, a reverse roll coat method, a Fonten method, a transfer roll coat method, or other methods. The coating amount is preferably about 0.1 to 10 g / m 2 (dry state), more preferably about 1 to 5 g / m 2 (dry state). In addition,
An adhesion promoter such as a silane coupling agent can be optionally added to the laminating adhesive. Further, in the above, as the melt-extruded adhesive resin, the heat-sealable resin forming the heat-sealable resin layer can be similarly used, and low-density polyethylene, particularly linear low-density polyethylene, acid-modified polyethylene may be used. It is preferred to use. The thickness of the melt-extruded resin layer made of the melt-extruded adhesive resin is preferably 5
About 100 μm, more preferably about 10 to 50 μm. In the present invention, when it is necessary to obtain a stronger adhesive strength when performing the lamination, an adhesive improving agent such as an anchor coat agent may be coated. Examples of the anchor coating agent include, for example, organic titanium-based anchor coating agents such as alkyl titanates, isocyanate-based anchor coating agents, polyethyleneimine-based anchor coating agents, polybutadiene-based anchor coating agents, and various other aqueous or oil-based anchor coating agents. Can be used. In the present invention, the anchor coating agent is coated by roll coating, gravure coating, knife coating, dip coating, spray coating, or another coating method, and the solvent, diluent, etc. are dried to form an anchor coating agent layer. can do. The coating amount of the anchor coating agent is 0.1 to
It is preferably about 5 g / m 2 (dry state).

【0059】上記の化学気相成長法と物理気相成長法の
うち、化学気相成長法で蒸着した場合は、物理気相成長
法で蒸着した場合に比べて、有機成分および水酸基など
の官能基をより多く含有しガスバリアコーティング層と
蒸着膜との密着性がより高くなる。
Of the chemical vapor deposition method and physical vapor deposition method described above, when vapor deposition is performed by chemical vapor deposition method, functionalities such as organic components and hydroxyl groups are larger than when vapor deposition is performed by physical vapor deposition method. It contains more groups and the adhesion between the gas barrier coating layer and the deposited film becomes higher.

【0060】上記のように製造した本発明のガスバリア
コーティングフィルムの酸素透過度は、温度23℃、相
対湿度90%RHにおいて、1.5cm3/m2・atm
・24hr以下である。上記酸素透過度の測定は、例え
ば、米国、モコン(MOCON)社製の酸素透過度測定
機〔機種名、オクストラン(OX−TRAN)2/2
0〕を用い、23℃、90%RHの条件で測定すること
ができる。
The oxygen permeability of the gas barrier coating film of the present invention produced as described above is 1.5 cm 3 / m 2 · atm at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 90% RH.
・ It is 24 hours or less. The measurement of the oxygen permeability is carried out, for example, using an oxygen permeability measuring instrument [model name, OX-TRAN 2/2, manufactured by MOCON, USA]
0] can be measured at 23 ° C. and 90% RH.

【0061】本発明のガスバリアコーティングフィルム
およびその積層材は、これを使用して製袋、製函して、
種々の形態の物品を充填包装するに適した包装用容器の
製造を可能とする。本発明のガスバリアコーティングフ
ィルムを使用して得られる包装用容器は、酸素、水蒸気
などに対するガスバリア性、透明性、耐熱性、耐衝撃性
などに優れ、ラミネート加工、印刷加工、製袋、製函加
工などの後加工適性を有し、例えば、飲食品、医薬品、
洗剤、シャンプー、オイル、歯磨き、接着剤、粘着剤な
どの化学品、化粧品、その他種々の物品の充填包装適
性、保存適性などに優れているものである。上記製袋、
製函する方法について説明すると、例えば、軟包装袋の
場合、上記ガスバリアコーティングフィルムの積層材を
使用し、その内層のヒートシール性樹脂層の面を対向さ
せて、それを折り重ねるか、またはその2枚を重ね合わ
せ、さらにその周辺端部をヒートシールしてシール部を
設けて袋体を構成することができる。その製袋方法とし
ては、上記積層材をその内層面を対向させて折り曲げる
か、またはその2枚を重ね合わせ、さらにその外周の周
辺端部を、側面シール型、二方シール型、三方シール
型、四方シール型、封筒貼りシール型、合掌貼りシール
型(ピローシール型)、ひだ付きシール型、平底シール
型、角底シール型、その他のヒートシール形態によりヒ
ートシールして、種々の包装用容器を製造する。また、
上記積層材は、自立性包装袋(スタンダップパウチ)、
チューブ容器なども製造することが可能である。上記ヒ
ートシールの方法としては、バーシール、回転ロールシ
ール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シー
ル、超音波シールなどの公知の方法で行うことができ
る。さらに、上記包装用容器には、例えばワンピースタ
イプ、ツーピースタイプ、その他の注出口、開閉用ジッ
パーなどを任意に取り付けることができる。
The gas barrier coating film of the present invention and the laminated material thereof are formed into a bag and a box by using the film.
It is possible to manufacture a packaging container suitable for filling and packaging various forms of articles. The packaging container obtained by using the gas barrier coating film of the present invention is excellent in gas barrier properties against oxygen, water vapor, etc., transparency, heat resistance, impact resistance, etc., lamination processing, printing processing, bag making, box making processing. Has post-processing suitability, such as food and drink, pharmaceuticals,
It has excellent suitability for packing, preservation, etc. of chemicals such as detergents, shampoos, oils, toothpastes, adhesives and adhesives, cosmetics, and various other articles. The above bag making,
To explain the method of making a box, for example, in the case of a soft packaging bag, using a laminated material of the gas barrier coating film, facing the surface of the heat-sealing resin layer of the inner layer, or fold it or A bag body can be formed by superposing two sheets and heat sealing the peripheral end thereof to provide a seal portion. As the bag making method, the above-mentioned laminated material is bent with its inner layer surface opposed, or two of them are overlapped, and the peripheral edge of the outer periphery is further sealed with a side seal type, a two-side seal type, a three-side seal type. Various types of packaging containers that are heat-sealed, including four-sided seal type, envelope-attached seal type, gasket-attached seal type (pillow seal type), pleated seal type, flat bottom seal type, square bottom seal type, and other heat seal forms. To manufacture. Also,
The laminated material is a self-supporting packaging bag (stand-up pouch),
Tube containers and the like can also be manufactured. The heat sealing can be performed by a known method such as a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, and an ultrasonic seal. Furthermore, for example, a one-piece type, a two-piece type, another spout, an opening / closing zipper, and the like can be arbitrarily attached to the packaging container.

【0062】また、紙基材を含む包装用容器を製造する
場合には、紙基材を積層した積層材を製造し、この積層
材から所望の紙容器を製造するブランク板を製造し、上
記ブランク板を使用して、胴部、底部、頭部などを製函
して、ブリックタイプ、フラットタイプ、ゲーベルトッ
プタイプなどの液体用紙容器を製造することができる。
またその形状は、角形容器、丸形などの円筒状の紙缶な
ど、どのようなものでも製造できる。上記のようにして
製造した包装用容器は、各種飲食品、接着剤、粘着剤な
どの化学品、化粧品、医薬品、雑貨品、その他の種々の
物品の充填包装に使用できる。このようにして得られる
本発明のガスバリアコーティングフィルムは、多湿条件
下でもガスバリア性に優れるため、食品、煙草、トイレ
タリー分野などの包装材料に有用であるばかりか、太陽
電池、保護膜、防湿フィルムなどの用途に用いられる。
In the case of manufacturing a packaging container including a paper base, a laminated material in which paper bases are laminated is manufactured, and a blank plate for manufacturing a desired paper container is manufactured from the laminated material. Using a blank plate, a body, a bottom, a head, and the like can be manufactured to produce a liquid paper container of a brick type, a flat type, a goebel top type, and the like.
In addition, any shape can be manufactured, such as a rectangular container or a round or other cylindrical paper can. The packaging container manufactured as described above can be used for filling and packaging of various foods and drinks, chemicals such as adhesives and adhesives, cosmetics, pharmaceuticals, miscellaneous goods, and other various articles. The gas barrier coating film of the present invention thus obtained is excellent in gas barrier properties even under humid conditions, so that it is useful not only for food, tobacco, and packaging materials in the toiletry field, but also for solar cells, protective films, moisture-proof films, and the like. Used for applications.

【0063】[0063]

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明は、以下の実施例に限定されるも
のではない。なお、実施例中、部および%は、特に断ら
ないかぎり、重量基準である。また、実施例中の各評価
項目は、下記に従って測定した。
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to the following examples. In the examples, parts and% are based on weight unless otherwise specified. Each evaluation item in the examples was measured as follows.

【0064】塗膜外観 目視により、塗膜外観を評価した。コーティング液の粘度 B型粘度計にて液温25℃での粘度を測定した。粘度測
定は、コーティング組成物作製直後および24時間後に
行った。酸素透過度 モダンコントロール社製、MOCON OXTRAN2
/20を用い、温度25℃、湿度90RH%雰囲気下で
測定した。
The appearance of the coating film was visually evaluated. Viscosity of coating liquid The viscosity at a liquid temperature of 25 ° C. was measured by a B-type viscometer. The viscosity measurement was performed immediately after the preparation of the coating composition and 24 hours later. MOCON OXTRAN2 made by Oxygen Permeability Modern Control
/ 20 was measured in an atmosphere at a temperature of 25 ° C. and a humidity of 90 RH%.

【0065】参考例1(チタンキレート化合物の調製) 還流冷却器、攪拌機を備えた反応器に、テトラ−i−プ
ロポキシチタン100部、アセチルアセトン70部を加
え、60℃で30分間攪拌し、チタンキレート化合物
(b−1)を得た。この反応生成物の純度は75%であ
った。
Reference Example 1 (Preparation of Titanium Chelate Compound) To a reactor equipped with a reflux condenser and a stirrer, 100 parts of tetra-i-propoxytitanium and 70 parts of acetylacetone were added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 30 minutes. Compound (b-1) was obtained. The purity of the reaction product was 75%.

【0066】参考例2(ジルコニウムキレート化合物の
調製) 還流冷却器、攪拌機を備えた反応器に、テトラ−n−ブ
トキシジルコニウム(純度100%)100部、アセト
酢酸エチル68部を加え、60℃で30分間攪拌し、ジ
ルコニウムキレート化合物(b−2)を得た。この反応
生成物の純度は77%であった。
Reference Example 2 (Preparation of zirconium chelate compound) 100 parts of tetra-n-butoxyzirconium (purity 100%) and 68 parts of ethyl acetoacetate were added to a reactor equipped with a reflux condenser and a stirrer. The mixture was stirred for 30 minutes to obtain a zirconium chelate compound (b-2). The purity of the reaction product was 77%.

【0067】実施例1 (a)成分としてエチレン・ビニルアルコール共重合体
〔日本合成化学(株)製、ソアノールD2630、ケン
化度;98%以上、エチレン含量;26モル%、メルト
フローインデックス;30g/10分〕の15%水/n
−プロピルアルコール溶液(水/n−プロピルアルコー
ル重量比=6/4)100部に、(c)成分としてホウ
酸10部を加えて溶解させたのち、(b)成分として参
考例1で調製したチタンキレート化合物(b−1)10
部を混合し、本発明のコーティング組成物(A)を得
た。
Example 1 As the component (a), an ethylene / vinyl alcohol copolymer [Soarnol D2630, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., saponification degree: 98% or more, ethylene content: 26 mol%, melt flow index: 30 g / 10 min] 15% water / n
In 100 parts of a -propyl alcohol solution (water / n-propyl alcohol weight ratio = 6/4), 10 parts of boric acid was added as a component (c) and dissolved, and then prepared as a component (b) in Reference Example 1. Titanium chelate compound (b-1) 10
Were mixed to obtain a coating composition (A) of the present invention.

【0068】実施例2 (a)成分としてエチレン・ビニルアルコール共重合体
〔日本合成化学(株)製、ソアノールD2630、ケン
化度;98%以上、エチレン含量;26モル%、メルト
フローインデックス;30g/10分〕の15%水/n
−プロピルアルコール/N,N−ジメチルホルムアミド
溶液(水/n−プロピルアルコール/N,N−ジメチル
ホルムアミド重量比=6/3/1)100部、および
(c)成分としてホウ酸5部を加えて溶解させたのち、
(b)成分として参考例1で調製したチタンキレート化
合物(b−1)10部を混合し、本発明のコーティング
組成物(B)を得た。
Example 2 As the component (a), an ethylene / vinyl alcohol copolymer [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., Soarnol D2630, degree of saponification: 98% or more, ethylene content: 26 mol%, melt flow index: 30 g / 10 min] 15% water / n
100 parts of -propyl alcohol / N, N-dimethylformamide solution (water / n-propyl alcohol / N, N-dimethylformamide weight ratio = 6/3/1) and 5 parts of boric acid as the component (c) were added. After dissolving,
As the component (b), 10 parts of the titanium chelate compound (b-1) prepared in Reference Example 1 was mixed to obtain a coating composition (B) of the present invention.

【0069】実施例3 (a)成分としてエチレン・ビニルアルコール共重合体
〔日本合成化学(株)製、ソアノールD2908、ケン
化度;98%以上、エチレン含量;29モル%、メルト
フローインデックス;8g/10分〕の15%水/n−
プロピルアルコール/N,N−ジメチルホルムアミド溶
液(水/n−プロピルアルコール/N,N−ジメチルホ
ルムアミド重量比=6/3/1)100部に、(c)成
分としてホウ酸10部を加えて溶解したのち、あらかじ
め(b)成分として参考例1で調製したチタンキレート
化合物(b−1)10部と水10部を混合し室温で1時
間攪拌したものを混合し、本発明のコーティング組成物
(C)を得た。
Example 3 Ethylene / vinyl alcohol copolymer (Soarnol D2908, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., saponification degree: 98% or more, ethylene content: 29 mol%, melt flow index: 8 g) / 10 min] of 15% water / n-
In 100 parts of propyl alcohol / N, N-dimethylformamide solution (water / n-propyl alcohol / N, N-dimethylformamide weight ratio = 6/3/1), 10 parts of boric acid is added as a component (c) and dissolved. After that, 10 parts of the titanium chelate compound (b-1) prepared in Reference Example 1 previously prepared as the component (b) and 10 parts of water were mixed, and the mixture was stirred at room temperature for 1 hour, and then mixed. C) was obtained.

【0070】実施例4 実施例1において、さらに(d)成分としてコロイダル
シリカ〔日産化学工業(株)製、スノーテックスIPA
−ST、分散媒;イソプロピルアルコール、平均粒子
径;10nm、固形分濃度;30%〕50部を添加した
以外は、実施例1と同様にして、本発明のコーティング
組成物(D)を得た。
Example 4 In Example 1, colloidal silica [Nissan Chemical Industry Co., Ltd., Snowtex IPA] was added as a component (d).
-ST, dispersion medium; isopropyl alcohol, average particle diameter: 10 nm, solid content: 30%] A coating composition (D) of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1 except for adding 50 parts. .

【0071】実施例5 実施例1において、(b)成分として参考例2で調製し
たジルコニウムキレート化合物(b−2)10部を用い
た以外は、実施例1と同様にして、本発明のコーティン
グ組成物(E)を得た。
Example 5 A coating of the present invention was prepared in the same manner as in Example 1 except that 10 parts of the zirconium chelate compound (b-2) prepared in Reference Example 2 was used as the component (b). A composition (E) was obtained.

【0072】実施例6 (a)成分としてエチレン・ビニルアルコール共重合体
〔日本合成化学(株)製、ソアノールA3245、ケン
化度;98%以上、エチレン含量;32モル%、メルト
フローインデックス;45g/10分〕の15%水/n
−プロピルアルコール(水/n−プロピルアルコール重
量比=3/7)100部および(c)成分としてホウ酸
5部を加えて溶解させたのち、(b)成分として参考例
1で調製したチタンキレート化合物(b−1)10部を
混合し、本発明のコーティング組成物(F)を得た。
Example 6 As the component (a), an ethylene / vinyl alcohol copolymer [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., Soarnol A3245, degree of saponification: 98% or more, ethylene content: 32 mol%, melt flow index: 45 g / 10 min] 15% water / n
100 parts of -propyl alcohol (water / n-propyl alcohol weight ratio = 3/7) and 5 parts of boric acid as the component (c) were added and dissolved, and then the titanium chelate prepared in Reference Example 1 was used as the component (b). 10 parts of the compound (b-1) was mixed to obtain a coating composition (F) of the present invention.

【0073】実施例7 (a)成分としてエチレン・ビニルアルコール共重合体
〔日本合成化学(株)製、ソアノールD2935、ケン
化度;98%以上、エチレン含量;29モル%、メルト
フローインデックス;35g/10分〕の5%水/n−
プロピルアルコール/i−プロピルアルコール溶液(水
/n−プロピルアルコール/i−プロピルアルコール重
量比=38/41/21)100部、参考例1で調製し
たチタンキレート化合物(b−1)2部とn−プロピル
アルコール6.6部、i−プロピルアルコール3.3
部、水6部、(d)成分としてN,N−ジメチルホルム
アミド12.1部を混合して室温で30分間加水分解し
た(b)成分、および(c)成分として5%のホウ酸水
溶液10部を室温で混合して本発明のコーティング組成
物(G)を得た。
Example 7 As the component (a), an ethylene / vinyl alcohol copolymer [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., Soarnol D2935, degree of saponification: 98% or more, ethylene content: 29 mol%, melt flow index: 35 g / 10 min] 5% water / n-
100 parts of a propyl alcohol / i-propyl alcohol solution (water / n-propyl alcohol / i-propyl alcohol weight ratio = 38/41/21), 2 parts of the titanium chelate compound (b-1) prepared in Reference Example 1, and n 6.6 parts of propyl alcohol, 3.3 parts of i-propyl alcohol
Part, 6 parts of water, 12.1 parts of N, N-dimethylformamide as a component (d), and the mixture was hydrolyzed at room temperature for 30 minutes, and a 5% aqueous solution of boric acid 10 as a component (c) Parts were mixed at room temperature to obtain a coating composition (G) of the present invention.

【0074】実施例8 (c)成分としてホウ酸を2%含むエチレン・ビニルア
ルコール共重合体〔(a)成分〕〔日本合成化学(株)
製、ソアノールD2935、ケン化度;98%以上、エ
チレン含量;29モル%、メルトフローインデックス;
35g/10分〕の5%水/n−プロピルアルコール/
i−プロピルアルコール溶液(水/n−プロピルアルコ
ール/i−プロピルアルコール重量比=38/41/2
1)100部、参考例1で調製したチタンキレート化合
物(b−1)2部とn−プロピルアルコール18.7
部、i−プロピルアルコール3.3部、および水6部を
混合して室温で30分間加水分解した(b)成分とを室
温で混合して本発明のコーティング組成物(H)を得
た。
Example 8 An ethylene / vinyl alcohol copolymer containing 2% boric acid as the component (c) [component (a)] [Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.
Manufactured by Soarnol D2935, degree of saponification: 98% or more, ethylene content: 29 mol%, melt flow index;
35 g / 10 min] of 5% water / n-propyl alcohol /
i-propyl alcohol solution (water / n-propyl alcohol / i-propyl alcohol weight ratio = 38/41/2)
1) 100 parts, 2 parts of the titanium chelate compound (b-1) prepared in Reference Example 1, and 18.7 of n-propyl alcohol
Part, 3.3 parts of i-propyl alcohol and 6 parts of water were mixed and hydrolyzed at room temperature for 30 minutes, and the component (b) was mixed at room temperature to obtain a coating composition (H) of the present invention.

【0075】実施例9 (c)成分としてホウ酸を5%含むエチレン・ビニルア
ルコール共重合体〔(a)成分〕〔日本合成化学(株)
製、ソアノールD2935、ケン化度;98%以上、エ
チレン含量;29モル%、メルトフローインデックス;
35g/10分〕の5%水/n−プロピルアルコール/
i−プロピルアルコール溶液(水/n−プロピルアルコ
ール/i−プロピルアルコール重量比=38/41/2
1)100部、参考例1で調製したチタンキレート化合
物(b−1)2部とn−プロピルアルコール12.5
部、i−プロピルアルコール1.3部、および水4部を
混合して室温で30分間加水分解した(b)を室温で混
合して本発明のコーティング組成物(I)を得た。
Example 9 An ethylene / vinyl alcohol copolymer containing 5% boric acid as the component (c) [component (a)] [Nippon Gohsei Chemical Co., Ltd.
Manufactured by Soarnol D2935, degree of saponification: 98% or more, ethylene content: 29 mol%, melt flow index;
35 g / 10 min] of 5% water / n-propyl alcohol /
i-propyl alcohol solution (water / n-propyl alcohol / i-propyl alcohol weight ratio = 38/41/2)
1) 100 parts, 2 parts of the titanium chelate compound (b-1) prepared in Reference Example 1 and n-propyl alcohol 12.5
(B), which was mixed with 1.3 parts of i-propyl alcohol and 4 parts of water and hydrolyzed at room temperature for 30 minutes, was mixed at room temperature to obtain a coating composition (I) of the present invention.

【0076】実施例10 (c)成分としてホウ酸5%を含むエチレン・ビニルア
ルコール共重合体〔(a)成分〕〔日本合成化学(株)
製、ソアノールD2935、ケン化度;98%以上、エ
チレン含量;29モル%、メルトフローインデックス;
35g/10分〕の5%水/n−プロピルアルコール/
i−プロピルアルコール溶液(水/n−プロピルアルコ
ール/i−プロピルアルコール重量比=38/41/2
1)100部、参考例1で調製したチタンキレート化合
物(b−1)0.7部とn−プロピルアルコール6.4
部、i−プロピルアルコール1.1部、水2部を混合し
て室温で30分間加水分解した(b)成分、および
(d)成分としてN,N−ジメチルホルムアミド12.
1部を室温で混合して本発明のコーティング組成物
(J)を得た。
Example 10 An ethylene / vinyl alcohol copolymer containing 5% boric acid as the component (c) [component (a)] [Nippon Gohsei Chemical Co., Ltd.
Manufactured by Soarnol D2935, degree of saponification: 98% or more, ethylene content: 29 mol%, melt flow index;
35 g / 10 min] of 5% water / n-propyl alcohol /
i-propyl alcohol solution (water / n-propyl alcohol / i-propyl alcohol weight ratio = 38/41/2)
1) 100 parts, 0.7 part of the titanium chelate compound (b-1) prepared in Reference Example 1, and n-propyl alcohol 6.4
Part, i-propyl alcohol and 1.1 parts of water and 2 parts of water were mixed and hydrolyzed at room temperature for 30 minutes. Component (b) and component (d) were N, N-dimethylformamide.
One part was mixed at room temperature to obtain a coating composition (J) of the present invention.

【0077】実施例11 (c)成分としてホウ酸5%を含むエチレン・ビニルア
ルコール共重合体〔(a)成分〕〔日本合成化学(株)
製、ソアノールD2935、ケン化度;98%以上、エ
チレン含量;29モル%、メルトフローインデックス;
35g/10分〕、(d)成分としてポリビニルピロリ
ドン〔和光純薬(株)製、Mw=25,000〕をそれ
ぞれ5%含む水/n−プロピルアルコール/i−プロピ
ルアルコール溶液(水/n−プロピルアルコール/i−
プロピルアルコール重量比=38/41/21)100
部、参考例1で調製したチタンキレート化合物(b−
1)2部とn−プロピルアルコール18.7部、i−プ
ロピルアルコール3.3部、および水6部を混合して室
温で30分間加水分解した(b)成分とを室温で混合し
て本発明のコーティング組成物(K)を得た。
Example 11 An ethylene / vinyl alcohol copolymer containing 5% boric acid as the component (c) [component (a)] [Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.
Manufactured by Soarnol D2935, degree of saponification: 98% or more, ethylene content: 29 mol%, melt flow index;
Water / n-propyl alcohol / i-propyl alcohol solution (water / n-35 g) containing 5% each of polyvinylpyrrolidone (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd., Mw = 25,000) as a component (d). Propyl alcohol / i-
Propyl alcohol weight ratio = 38/41/21) 100
Part of the titanium chelate compound (b-
1) 2 parts, 18.7 parts of n-propyl alcohol, 3.3 parts of i-propyl alcohol, and 6 parts of water were mixed and hydrolyzed at room temperature for 30 minutes. An inventive coating composition (K) was obtained.

【0078】実施例12 (c)成分としてホウ酸を10%含むエチレン・ビニル
アルコール共重合体〔(a)成分〕〔日本合成化学
(株)製、ソアノールD2935、ケン化度;98%以
上、エチレン含量;29モル%、メルトフローインデッ
クス;35g/10分〕の5%水/n−プロピルアルコ
ール溶液(水/n−プロピルアルコール重量比40/6
0)100部、参考例1で調製したチタンキレート化合
物(b−1)2部とn−プロピルアルコール16.8
部、および水11.2部を混合して55℃で4時間加水
分解した(b)を40℃で混合して2時間攪拌し本発明
のコーティング組成物(L)を得た。
Example 12 Ethylene / vinyl alcohol copolymer containing 10% boric acid as the component (c) [Component (a)] [manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd., Soarnol D2935, degree of saponification: 98% or more; Ethylene content: 29 mol%, melt flow index: 35 g / 10 min] in 5% water / n-propyl alcohol solution (water / n-propyl alcohol weight ratio 40/6)
0) 100 parts, 2 parts of the titanium chelate compound (b-1) prepared in Reference Example 1 and n-propyl alcohol 16.8
(B) hydrolyzed at 55 ° C. for 4 hours by mixing and then mixing at 40 ° C. and stirring for 2 hours to obtain a coating composition (L) of the present invention.

【0079】実施例13 (c)成分としてホウ酸5%を含むエチレン・ビニルア
ルコール共重合体〔(a)成分〕〔日本合成化学(株)
製、ソアノールD2935、ケン化度;98%以上、エ
チレン含量;29モル%、メルトフローインデックス;
35g/10分〕の5%水/n−プロピルアルコール溶
液(水/n−プロピルアルコール重量比40/60)1
00部、参考例1で調製したチタンキレート化合物(b
−1)2部とn−プロピルアルコール16.8部、水1
1.2部を混合して55℃で4時間加水分解した(b)
成分、および(d)成分としてN,N−ジメチルホルム
アミド12.1部を40℃で混合して2時間攪拌し、本
発明のコーティング組成物(M)を得た。
Example 13 Ethylene / vinyl alcohol copolymer containing 5% of boric acid as the component (c) [Component (a)] [Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.
Manufactured by Soarnol D2935, degree of saponification: 98% or more, ethylene content: 29 mol%, melt flow index;
35 g / 10 min] 5% water / n-propyl alcohol solution (water / n-propyl alcohol weight ratio 40/60) 1
00 parts of the titanium chelate compound (b) prepared in Reference Example 1.
-1) 2 parts, n-propyl alcohol 16.8 parts, water 1
1.2 parts were mixed and hydrolyzed at 55 ° C. for 4 hours (b)
The component and 12.1 parts of N, N-dimethylformamide as the component (d) were mixed at 40 ° C. and stirred for 2 hours to obtain a coating composition (M) of the present invention.

【0080】実施例14 実施例12において、(a)成分として、ポリビニルア
ルコール〔(株)クラレ製、RSポリマーRS−110
(ケン化度=99%、重合度=1,000)〕を使用し
た以外は、上記実施例12と同様にして、ガスバリアコ
ーティング組成物(N)を得た。
Example 14 In Example 12, as the component (a), polyvinyl alcohol [RS polymer RS-110 manufactured by Kuraray Co., Ltd.] was used.
(Saponification degree = 99%, polymerization degree = 1,000)], except that the gas barrier coating composition (N) was obtained in the same manner as in Example 12 above.

【0081】比較例1 実施例1で用いたエチレン−ビニルアルコール共重合体
の15%水/n−プロピルアルコール溶液(水/n−プ
ロピルアルコール重量比=6/4)を、比較用のコーテ
ィング組成物(α)とした。
Comparative Example 1 A 15% water / n-propyl alcohol solution (water / n-propyl alcohol weight ratio = 6/4) of the ethylene-vinyl alcohol copolymer used in Example 1 was used as a coating composition for comparison. (Α).

【0082】比較例2 実施例1において、(a)成分の代わりにエチレンを共
重合していないポリビニルアルコール重合体〔日本合成
化学(株)製、ゴーセノールNL−05〕の15%水溶
液100部を用いた以外は、実施例1と同様にして、比
較用のコーティング組成物(β)を得た。
Comparative Example 2 In Example 1, 100 parts of a 15% aqueous solution of a polyvinyl alcohol polymer [Gosenol NL-05 manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.] in which ethylene was not copolymerized was used in place of the component (a). Except for using, a coating composition (β) for comparison was obtained in the same manner as in Example 1.

【0083】比較例3 実施例1において、(c)成分を加えない以外は、実施
例1と同様にして、比較用のコーティング組成物(γ)
を得た。
Comparative Example 3 A comparative coating composition (γ) was prepared in the same manner as in Example 1 except that the component (c) was not added.
I got

【0084】評価例1〜13、比較評価例1〜3 実施例1〜13、比較例1〜3で得られた組成物の初期
および24時間後の粘度の測定、コロナ放電処理した膜
厚12μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フ
ィルム上に、バーコーターにより塗布し、熱風乾燥機に
より120℃で1分間乾燥させて膜厚1μmの塗膜を形
成し、ガスバリア性コート材(コーティングフィルム)
を得た。得られたガスバリア性コート材のガスバリア性
を、酸素透過度測定装置(モダンコントロール社製、M
OCON OXTRAN2/20)を用い、室温で、湿
度90%条件にて測定した。また、目視観察により塗膜
の透明性について評価した。これらの結果を表1〜2に
示す。
Evaluation Examples 1 to 13, Comparative Evaluation Examples 1 to 3 Measurements of the viscosity of the compositions obtained in Examples 1 to 13 and Comparative Examples 1 to 3 at the initial stage and after 24 hours, and a film thickness of 12 μm subjected to corona discharge treatment Is coated on a polyethylene terephthalate (PET) film by a bar coater and dried at 120 ° C. for 1 minute with a hot air drier to form a 1 μm-thick coating film. A gas barrier coating material (coating film)
I got The gas barrier property of the obtained gas barrier coating material was measured using an oxygen permeability measuring device (M Modern Control Co., Ltd., M
OCON OXTRAN 2/20) at room temperature under a 90% humidity condition. The transparency of the coating film was evaluated by visual observation. Tables 1 and 2 show these results.

【0085】[0085]

【表1】 [Table 1]

【0086】[0086]

【表2】 [Table 2]

【0087】*1)粘度の単位は、mPa・s *2)酸素透過度の単位は、cc/m2・atm・24
hr
* 1) The unit of viscosity is mPa · s * 2) The unit of oxygen permeability is cc / m 2 · atm · 24
hr

【0088】実施例15 (1)基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを使用し、これをプラズマ化
学気相成長装置の送り出しロールに装着し、下記の条件
で厚さ0.012μmの酸化ケイ素の蒸着膜を上記2軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の面に
形成した。(蒸着条件)反応ガス混合比:ヘキサメチル
ジシロキサン:酸素ガス:ヘリウム=1:10:10
(単位:slm) 真空チャンバー内の真空度:5.5×10-6mbar 蒸着チャンバー内の真空度:6.5×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:18kW フィルムの搬送速度:80m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2)次に、上記で酸化ケイ素の蒸着膜を形成した2軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの酸化ケイ素
の蒸着膜面に、下記条件でコロナ処理を施した。その結
果、酸化ケイ素の蒸着膜表面の表面張力は、35dyn
から62dynに向上した。 出力:10kW 処理速度:100m/min (3)次に、上記でコロナ処理した酸化ケイ素の蒸着膜
を形成した2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィル
ムを使用し、その酸化ケイ素の蒸着膜のコロナ処理面
に、グラビア印刷機を使用し、その第1色目にグラビア
コート用ロールを配置し、実施例12により得られたガ
スバリアコーティング組成物(L)を使用し、これをグ
ラビアロールコート法によりコーティングして、厚さ
0.5g/m 2(乾燥状態)のコーティング膜を形成し
た。次いで、120℃で2分、加熱処理してコーティン
グ硬化膜を形成して、本発明のガスバリアコーティング
フィルムを製造した。次に、上記ガスバリアコーティン
グフィルムのコーティング硬化膜の上に、引き続き上記
グラビア印刷機を用い、グラビアインキ組成物を使用し
て、所望の多色印刷絵柄層を形成した。 (4)次いで、上記で印刷絵柄面を形成した2軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルムをドライラミネート
機の第1送り出しロールに装着し、その印刷絵柄層面
に、グラビアロールコート法を用いて2液硬化型のポリ
ウレタン系ラミネート用接着剤を4.5g/m2(乾燥
状態)の割合で塗工して、ラミネート用接着剤層を形成
した。次いで、上記ラミネート用接着剤層面に、厚さ7
0μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネー
トして、積層材を製造した。この積層材の酸素透過率
は、0.2cm3/m2・atm・24hrであった。
Example 15 (1) As a substrate, a biaxially stretched polyethylene having a thickness of 12 μm was used.
Use of terephthalate film and turn it into plasma
Attached to the delivery roll of the chemical vapor deposition equipment, the following conditions
A silicon oxide deposited film having a thickness of 0.012 μm
On one side of stretched polyethylene terephthalate film
Formed. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyl
Disiloxane: oxygen gas: helium = 1: 10: 10
(Unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.5 × 10-6mbar Degree of vacuum in the deposition chamber: 6.5 × 10-2mbar Cooling / electrode drum supply power: 18 kW Film transport speed: 80 m / min Evaporation surface: Corona treated surface (2) Next, the above-described biaxial silicon oxide evaporated film was formed
Silicon oxide in stretched polyethylene terephthalate film
Was subjected to a corona treatment under the following conditions. The result
As a result, the surface tension of the silicon oxide deposited film surface is 35 dyn
To 62 dyn. Output: 10 kW Processing speed: 100 m / min (3) Next, the above-mentioned corona-treated silicon oxide vapor-deposited film
-Formed biaxially stretched polyethylene terephthalate fill
Corona treated surface of the deposited silicon oxide film
, Using a gravure printing machine, the first color gravure
A coating roll was placed, and the coating obtained in Example 12 was removed.
Using a barrier coating composition (L),
Coated by lab roll coat method, thickness
0.5g / m Two(Dry state) to form a coating film
Was. Next, heat-treat at 120 ° C for 2 minutes to coat
Gas barrier coating of the present invention by forming a cured film
A film was produced. Next, the gas barrier coating
On the cured film of the film
Using a gravure printing machine, using a gravure ink composition
Thus, a desired multicolor printed pattern layer was formed. (4) Next, the biaxially stretched po
Dry lamination of polyethylene terephthalate film
Attached to the first delivery roll of the machine, and its printed pattern layer surface
And two-part curable poly using the gravure roll coating method
4.5 g / m of urethane-based laminating adhesiveTwo(Dry
State) to form an adhesive layer for lamination
did. Next, a thickness of 7
Dry laminating 0μm low density polyethylene film
To produce a laminated material. Oxygen permeability of this laminate
Is 0.2cmThree/ MTwoAtm · 24 hr.

【0089】実施例16 (1)基材として、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロピ
レンフィルム(二村化学工業株式会社製、商品名、GH
−I、片面コロナ処理品)を使用し、これをプラズマ化
学気相成長装置の送り出しロールに装着し、下記の条件
で厚さ0.015μmの酸化ケイ素の蒸着膜を上記2軸
延伸ポリプロピレンフィルムの一方の面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:11 :10(単位:slm) 真空チャンバー内の真空度:5.2×10-6mbar 蒸着チャンバー内の真空度:5.1×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:18kW フィルムの搬送速度:70m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2)次に、上記で酸化ケイ素の蒸着膜を形成した2軸
延伸ポリプロピレンフィルムの酸化ケイ素の蒸着膜面
に、下記条件でコロナ処理を施した。その結果、酸化ケ
イ素の蒸着膜表面の表面張力は、42dynから65d
ynに向上した。 出力:10kW 処理速度:100m/min (3)次に、上記でコロナ処理した酸化ケイ素の蒸着膜
を形成した2軸延伸ポリプロピレンフィルムを使用し、
その酸化ケイ素の蒸着膜のコロナ処理面に、グラビア印
刷機を使用し、その第1色目にグラビアコート用ロール
を配置し、実施例8により得られたガスバリアコーティ
ング組成物(H)を使用し、これをグラビアロールコー
ト法によりコーティングして、厚さ0.9g/m2(乾
燥状態)のコーティング膜を形成した。次いで、100
℃で3分、加熱処理してコーティング硬化膜を形成し
て、本発明のガスバリアコーティングフィルムを製造し
た。次に、上記ガスバリアコーティングフィルムのコー
ティング硬化膜の上に、引き続き上記グラビア印刷機を
用い、グラビアインキ組成物を使用して、所望の多色印
刷絵柄層を形成した。 (4)次いで、上記で印刷絵柄面を形成した2軸延伸ポ
リプロピレンフィルムをドライラミネート機の第1送り
出しロールに装着し、その印刷絵柄層面に、グラビアロ
ールコート法を用いて2液硬化型のポリウレタン系ラミ
ネート用接着剤を4.5g/m2(乾燥状態)の割合で
塗工して、ラミネート用接着剤層を形成した。次いで、
上記ラミネート用接着剤層面に、厚さ70μmの無延伸
ポリプロピレンフィルムをドライラミネートして、積層
材を製造した。この積層材の酸素透過率は、0.6cm
3/m2・atm・24hrであった。
Example 16 (1) As a substrate, a biaxially oriented polypropylene film having a thickness of 20 μm (trade name, GH, manufactured by Nimura Chemical Industry Co., Ltd.)
-I, a single-sided corona-treated product), which was mounted on a delivery roll of a plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus, and a silicon oxide deposited film having a thickness of 0.015 μm was formed on the biaxially stretched polypropylene film under the following conditions. Formed on one side. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 11: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.2 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber : 5.1 × 10 -2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 18 kW Film transport speed: 70 m / min Evaporation surface: Corona treated surface (2) Next, biaxial stretching on which a silicon oxide evaporation film was formed as described above A corona treatment was applied to the surface of the silicon oxide vapor-deposited film of the polypropylene film under the following conditions. As a result, the surface tension of the silicon oxide deposited film surface was changed from 42 dyn to 65 d.
yn. Output: 10 kW Processing speed: 100 m / min (3) Next, using a biaxially stretched polypropylene film on which a corona-treated silicon oxide vapor-deposited film was formed,
On the corona-treated surface of the deposited silicon oxide film, using a gravure printing machine, arranging a gravure coating roll for the first color, using the gas barrier coating composition (H) obtained in Example 8, This was coated by a gravure roll coating method to form a coating film having a thickness of 0.9 g / m 2 (dry state). Then 100
The coating was cured by heating at a temperature of 3 ° C. for 3 minutes to produce a gas barrier coating film of the present invention. Next, a desired multicolor printed picture layer was formed on the cured coating of the gas barrier coating film using the gravure printing machine and the gravure ink composition. (4) Next, the biaxially stretched polypropylene film having the printed pattern surface formed thereon is mounted on a first delivery roll of a dry laminating machine, and a two-component curing type polyurethane is applied to the printed pattern layer surface using a gravure roll coating method. An adhesive for system lamination was applied at a rate of 4.5 g / m 2 (dry state) to form an adhesive layer for lamination. Then
A 70 μm-thick unstretched polypropylene film was dry-laminated on the laminating adhesive layer surface to produce a laminated material. The oxygen transmission rate of this laminated material is 0.6 cm
3 / m 2 · atm · 24 hr.

【0090】実施例17 (1)基材として、厚さ15μmの2軸延伸ナイロンフ
ィルムを使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の送
り出しロールに装着し、下記の条件で厚さ0.015μ
mの酸化ケイ素の蒸着膜を上記2軸延伸ナイロンフィル
ムの一方の面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:11:10(単位:slm) 真空チャンバー内の真空度:5.2×10-6mbar 蒸着チャンバー内の真空度:5.1×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:18kW フィルムの搬送速度:70m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2)次に、上記で酸化ケイ素の蒸着膜を形成した2軸
延伸ナイロンフィルムの酸化ケイ素の蒸着膜面に、下記
条件でコロナ処理を施した。その結果、酸化ケイ素の蒸
着膜表面の表面張力は、42dynから65dynに向
上した。出力:10kW 処理速度:100m/min (3)次に、上記でコロナ処理した酸化ケイ素の蒸着膜
を形成した2軸延伸ナイロンフィルムを使用し、その酸
化ケイ素の蒸着膜のコロナ処理面に、グラビア印刷機を
使用し、その第1色目にグラビアコート用ロールを配置
し、実施例13により得られたガスバリアコーティング
組成物(M)を使用し、これをグラビアロールコート法
によりコーティングして、厚さ0.5g/m2(乾燥状
態)のコーティング膜を形成した。次いで、120℃で
1分、加熱処理してコーティング硬化膜を形成して、本
発明のガスバリアコーティングフィルムを製造した。次
に、上記ガスバリアコーティングフィルムのコーティン
グ硬化膜の上に、引き続き上記グラビア印刷機を用い、
グラビアインキ組成物を使用して、所望の多色印刷絵柄
層を形成した。 (4)次いで、上記で印刷絵柄面を形成した2軸延伸ナ
イロンフィルムをドライラミネート機の第1送り出しロ
ールに装着し、その印刷絵柄層面に、グラビアロールコ
ート法を用いて2液硬化型のポリウレタン系ラミネート
用接着剤を4.5g/m2(乾燥状態)の割合で塗工し
て、ラミネート用接着剤層を形成した。次いで、上記ラ
ミネート用接着剤層面に、厚さ70μmの無延伸ポリプ
ロピレンフィルムをドライラミネートして、積層材を製
造した。この積層材の酸素透過率は、0.5cm3/m2
・atm・24hrであった。
Example 17 (1) A 15 μm-thick biaxially stretched nylon film was used as a base material, and was mounted on a delivery roll of a plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus.
m of silicon oxide was formed on one surface of the biaxially stretched nylon film. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 11: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.2 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber : 5.1 × 10 -2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 18 kW Film transport speed: 70 m / min Evaporation surface: Corona treated surface (2) Next, biaxial stretching on which a silicon oxide evaporation film was formed as described above A corona treatment was performed on the surface of the nylon film on which the silicon oxide was deposited, under the following conditions. As a result, the surface tension of the surface of the deposited silicon oxide film was improved from 42 dyn to 65 dyn. Output: 10 kW Processing speed: 100 m / min (3) Next, using a biaxially stretched nylon film on which a corona-treated silicon oxide vapor-deposited film was formed, a gravure was applied to the corona-treated surface of the silicon oxide vapor-deposited film. Using a printing machine, a gravure coating roll was placed in the first color, and the gas barrier coating composition (M) obtained in Example 13 was used. A coating film of 0.5 g / m 2 (dry state) was formed. Subsequently, the coating was cured by heating at 120 ° C. for 1 minute to form a gas barrier coating film of the present invention. Next, on the coating cured film of the gas barrier coating film, subsequently using the gravure printing machine,
The gravure ink composition was used to form the desired multicolor printed picture layer. (4) Next, the biaxially stretched nylon film having the printed pattern surface formed thereon is mounted on a first delivery roll of a dry laminating machine, and the two-component curing type polyurethane is coated on the printed pattern layer surface using a gravure roll coating method. An adhesive for system lamination was applied at a rate of 4.5 g / m 2 (dry state) to form an adhesive layer for lamination. Next, a 70 μm-thick unstretched polypropylene film was dry-laminated on the surface of the laminating adhesive layer to produce a laminated material. The oxygen transmission rate of this laminated material is 0.5 cm 3 / m 2
Atm · 24 hr.

【0091】実施例18 上記実施例15の(4)において、印刷絵柄層を形成し
た2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの印刷
絵柄層面に、ラミネート用接着剤層を介して、厚さ70
μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネート
して積層材を製造する代わりに、印刷絵柄層を形成した
2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを押し出
しラミネート機の第1送り出しロールに装着し、その印
刷絵柄層面に、溶融押し出し用低密度ポリエチレンを使
用し、厚さ20μmにこれを溶融押し出ししながら、厚
さ70μm低密度ポリエチレンフィルムを押し出しラミ
ネートし、それ以外は、上記実施例15と全く同様にし
て、積層材を製造した。この積層材の酸素透過率は、
0.3cm3/m2・atm・24hrであった。
Example 18 In (4) of Example 15 described above, the thickness of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which the print pattern layer was formed was set to a thickness of 70 through a laminating adhesive layer.
Instead of dry laminating a low-density polyethylene film of μm to produce a laminated material, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a printed pattern layer is mounted on a first delivery roll of an extrusion laminating machine, and the printed pattern layer surface is Using a low-density polyethylene for melt extrusion, a 70 μm-thick low-density polyethylene film was extruded and laminated while being melt-extruded to a thickness of 20 μm. Manufactured. The oxygen permeability of this laminate is
0.3 cm 3 / m 2 · atm · 24 hr.

【0092】実施例19 上記実施例16の(4)において、印刷絵柄層を形成し
た2軸延伸ポリプロピレンフィルムの印刷絵柄層面に、
ラミネート用接着剤層を介して、厚さ70μmの無延伸
ポリプロピレンフィルムをドライラミネートして積層材
を製造する代わりに、印刷絵柄層を形成した2軸延伸ポ
リプロピレンフィルムを押し出しラミネート機の第1送
り出しロールに装着し、その印刷絵柄層面に、溶融押し
出し用低密度ポリエチレンを使用し、厚さ20μmにこ
れを溶融押し出ししながら、厚さ70μm低密度ポリエ
チレンフィルムを押し出しラミネートし、それ以外は、
上記実施例16と全く同様にして、積層材を製造した。
この積層材の酸素透過率は、0.8cm3/m2・atm
・24hrであった。
Example 19 In (4) of Example 16 described above, the biaxially stretched polypropylene film on which the print pattern layer was formed,
Instead of dry laminating an unstretched polypropylene film having a thickness of 70 μm via a laminating adhesive layer to produce a laminated material, a biaxially stretched polypropylene film having a printed picture layer formed thereon is extruded into a first delivery roll of a laminating machine. , The printed pattern layer surface, using a low-density polyethylene for melt extrusion, while extruding this to a thickness of 20μm, extruding a 70μm-thick low-density polyethylene film, laminating, otherwise,
A laminated material was manufactured in exactly the same manner as in Example 16 above.
The oxygen transmission rate of this laminated material is 0.8 cm 3 / m 2 · atm.
-It was 24 hours.

【0093】実施例20 上記実施例17の(4)において、印刷絵柄層を形成し
た2軸延伸ナイロンフィルムの印刷絵柄層面に、ラミネ
ート用接着剤層を介して、厚さ70μmの無延伸ポリプ
ロピレンフィルムをドライラミネートして積層材を製造
する代わりに、印刷絵柄層を形成した2軸延伸ナイロン
フィルムを押し出しラミネート機の第1送り出しロール
に装着し、その印刷絵柄層面に、溶融押し出し用低密度
ポリエチレンを使用し、厚さ20μmにこれを溶融押し
出ししながら、厚さ70μm低密度ポリエチレンフィル
ムを押し出しラミネートし、それ以外は、上記実施例1
7と全く同様にして、積層材を製造した。この積層材の
酸素透過率は、0.6cm 3/m2・atm・24hrで
あった。
Example 20 In Example 17 (4), a printed pattern layer was formed.
Laminate is applied to the printed pattern layer of the biaxially stretched nylon film.
Non-stretched polyp with a thickness of 70 μm via the adhesive layer
Produce laminated material by dry laminating propylene film
Biaxially stretched nylon with printed pattern layer
The first delivery roll of a laminating machine that extrudes a film
On the surface of the printed picture layer, low density for melt extrusion
Using polyethylene, melt-press this to a thickness of 20μm
70μm thick low density polyethylene fill
Extruded and laminated, and otherwise the above Example 1
In the same manner as in 7, a laminated material was produced. Of this laminate
Oxygen permeability is 0.6cm Three/ MTwo・ Atm ・ 24hr
there were.

【0094】実施例21 (1)基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを使用し、これを巻き取り式
真空蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、上記
フィルムをコーティングドラムの上に繰り出して、アル
ミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しながら、エ
レクトロンビーム(EB)加熱方式による酸化反応真空
蒸着法により、上記2軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トフィルムの上に、膜厚0.02μmの酸化アルミニウ
ムの蒸着膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバー内の真空度:5.2×10-6mbar 蒸着チャンバー内の真空度:1.1×10-6mbar EB出力:40kW フィルムの搬送速度:600m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2)次に、上記で酸化アルミニウムの蒸着膜を形成し
た2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの酸化
アルミニウムの蒸着膜面に、下記条件でコロナ処理を施
した。その結果、酸化アルミニウムの蒸着膜表面の表面
張力は、45dynから60dynに向上した。 出力:10kW 処理速度:100m/min (3)次に、上記でコロナ処理した酸化アルミニウムの
蒸着膜を形成した2軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルムを使用し、その酸化アルミニウムの蒸着膜のコ
ロナ処理面に、グラビア印刷機を使用し、その第1色目
にグラビアコート用ロールを配置し、実施例12により
得られたガスバリアコーティング組成物(L)を使用
し、これをグラビアロールコート法によりコーティング
して、厚さ0.9g/m2(乾燥状態)のコーティング
膜を形成した。次いで、120℃で1分、加熱処理して
コーティング硬化膜を形成して、本発明のガスバリアコ
ーティングフィルムを製造した。次に、上記ガスバリア
コーティングフィルムのコーティング硬化膜の上に、引
き続き上記グラビア印刷機を用い、グラビアインキ組成
物を使用して、所望の多色印刷絵柄層を形成した。 (4)次いで、上記で印刷絵柄層を形成した2軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルムをドライラミネート
機の第1送り出しロールに装着し、その印刷絵柄層面
に、グラビアロールコート法を用いて2液硬化型のポリ
ウレタン系ラミネート用接着剤を4.5g/m2(乾燥
状態)の割合で塗工して、ラミネート用接着剤層を形成
した。次いで、上記ラミネート用接着剤層面に、厚さ7
0μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネー
トして、積層材を製造した。この積層材の酸素透過率
は、0.2cm3/m2・atm・24hrであった。
Example 21 (1) A 12 μm-thick biaxially stretched polyethylene terephthalate film was used as a base material, and was mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus. The aluminum film was fed out, and while supplying oxygen gas, an oxidation reaction vacuum evaporation method using an electron beam (EB) heating method was used to deposit a film having a thickness of 0.02 μm on the biaxially stretched polyethylene terephthalate film. Of aluminum oxide was formed. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.2 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 1.1 × 10 −6 mbar EB output: 40 kW Film transport speed: 600 m / min Vapor deposition surface: Corona treated surface (2) Next, the aluminum oxide deposited film surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film having the aluminum oxide deposited film formed thereon was subjected to corona treatment under the following conditions. As a result, the surface tension of the surface of the deposited aluminum oxide film was improved from 45 dyn to 60 dyn. Output: 10 kW Processing speed: 100 m / min (3) Next, using a biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which a vapor-deposited aluminum oxide film subjected to the above-described corona treatment was formed, the corona-treated surface of the vapor-deposited aluminum oxide film was A gravure printing machine is used, a gravure coating roll is arranged on the first color, and the gas barrier coating composition (L) obtained in Example 12 is used. A coating film having a thickness of 0.9 g / m 2 (dry state) was formed. Subsequently, the coating was cured by heating at 120 ° C. for 1 minute to form a gas barrier coating film of the present invention. Next, a desired multicolor printed picture layer was formed on the cured coating of the gas barrier coating film using the gravure printing machine and the gravure ink composition. (4) Next, the biaxially stretched polyethylene terephthalate film having the printed pattern layer formed thereon is mounted on a first delivery roll of a dry laminating machine, and the printed pattern layer surface is cured by a two-component curing method using a gravure roll coating method. The polyurethane-based laminating adhesive was applied at a rate of 4.5 g / m 2 (dry state) to form a laminating adhesive layer. Next, a thickness of 7
A low-density polyethylene film of 0 μm was dry-laminated to produce a laminated material. The oxygen transmission rate of this laminated material was 0.2 cm 3 / m 2 · atm · 24 hr.

【0095】実施例22 (1)基材として、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロピ
レンフィルム(二村化学工業株式会社製、商品名、GH
−I、片面コロナ処理品)を使用し、これを巻き取り式
真空蒸着装置の送り出しロールに装着し、次いで、上記
フィルムをコーティングドラムの上に繰り出して、アル
ミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しながら、エ
レクトロンビーム(EB)加熱方式による酸化反応真空
蒸着法により、上記2軸延伸ポリプロピレンフィルムの
上に、膜厚0.02μmの酸化アルミニウムの蒸着膜を
形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバー内の真空度:8.2×10-6mbar 蒸着チャンバー内の真空度:1.0×10-6mbar EB出力:40kW フィルムの搬送速度:500m/分 (2)次に、上記で酸化アルミニウムの蒸着膜を形成し
た2軸延伸ポリプロピレンフィルムの酸化アルミニウム
の蒸着膜面に、下記条件でコロナ処理を施した。その結
果、酸化アルミニウムの蒸着膜表面の表面張力は、47
dynから62dynに向上した。 出力:10kW 処理速度:100m/min (3)次に、上記でコロナ処理した酸化アルミニウムの
蒸着膜を形成した2軸延伸ポリプロピレンフィルムを使
用し、その酸化アルミニウムの蒸着膜のコロナ処理面
に、グラビア印刷機を使用し、その第1色目にグラビア
コート用ロールを配置し、実施例13により得られたガ
スバリアコーティング組成物(M)を使用し、これをグ
ラビアロールコート法によりコーティングして、厚さ
0.5g/m 2(乾燥状態)のコーティング膜を形成し
た。次いで、100℃で3分、加熱処理してコーティン
グ硬化膜を形成して、本発明のガスバリアコーティング
フィルムを製造した。次に、上記ガスバリアコーティン
グフィルムのコーティング硬化膜の上に、引き続き上記
グラビア印刷機を用い、グラビアインキ組成物を使用し
て、所望の多色印刷絵柄層を形成した。 (4)次いで、上記で印刷絵柄層を形成した2軸延伸ポ
リプロピレンフィルムをドライラミネート機の第1送り
出しロールに装着し、その印刷絵柄層面に、グラビアロ
ールコート法を用いて2液硬化型のポリウレタン系ラミ
ネート用接着剤を4.5g/m2(乾燥状態)の割合で
塗工して、ラミネート用接着剤層を形成した。次いで、
上記ラミネート用接着剤層面に、厚さ70μmの無延伸
ポリプロピレンフィルムをドライラミネートして、積層
材を製造した。この積層材の酸素透過率は、0.6cm
3/m2・atm・24hrであった。
Example 22 (1) As a substrate, a biaxially stretched polypropylene having a thickness of 20 μm was used.
Renfilm (made by Nimura Chemical Co., Ltd., trade name, GH
-I, single-sided corona treated product) and take-up type
Attached to the delivery roll of the vacuum evaporation device, then
Unwind the film onto the coating drum and
Using minium as the deposition source, while supplying oxygen gas,
Oxidation reaction vacuum by lectron beam (EB) heating method
By the vapor deposition method, the biaxially stretched polypropylene film
On top, a deposited film of aluminum oxide with a thickness of 0.02 μm
Formed. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Vacuum degree in vacuum chamber: 8.2 × 10-6mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 1.0 × 10-6mbar EB output: 40 kW Film transport speed: 500 m / min (2) Next, a vapor-deposited film of aluminum oxide was formed as described above.
Aluminum oxide of biaxially oriented polypropylene film
Was subjected to a corona treatment under the following conditions. The result
As a result, the surface tension of the evaporated aluminum oxide film surface is 47
dyn was improved to 62 dyn. Output: 10 kW Processing speed: 100 m / min (3) Next, the above-mentioned corona-treated aluminum oxide
Use a biaxially stretched polypropylene film with a deposited film
Corona treated surface of the deposited aluminum oxide film
, Using a gravure printing machine, the first color gravure
A coating roll was placed, and the coating obtained in Example 13 was removed.
Using the barrier coating composition (M),
Coated by lab roll coat method, thickness
0.5g / m Two(Dry state) to form a coating film
Was. Next, heat-treat at 100 ° C for 3 minutes to coat
Gas barrier coating of the present invention by forming a cured film
A film was produced. Next, the gas barrier coating
On the cured film of the film
Using a gravure printing machine, using a gravure ink composition
Thus, a desired multicolor printed pattern layer was formed. (4) Next, the biaxially stretched po
First feed of propylene film to dry laminating machine
Gravure roll on the print pattern layer
Two-component curing type polyurethane laminating
4.5 g / m of adhesive for nateTwo(Dry) ratio
Coating was performed to form an adhesive layer for lamination. Then
On the laminating adhesive layer surface, non-stretched with a thickness of 70 μm
Dry lamination of polypropylene film and lamination
Lumber was manufactured. The oxygen transmission rate of this laminated material is 0.6 cm
Three/ MTwoAtm · 24 hr.

【0096】実施例23 (1)基材として、厚さ15μmの2軸延伸ナイロンフ
ィルムを使用し、これを巻き取り式真空蒸着装置の送り
出しロールに装着し、次いで、上記フィルムをコーティ
ングドラムの上に繰り出して、アルミニウムを蒸着源に
用い、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム
(EB)加熱方式による酸化反応真空蒸着法により、上
記2軸延伸ナイロンフィルムの上に、膜厚0.02μm
の酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。 (蒸着条件) 蒸着源:アルミニウム 真空チャンバー内の真空度:7.2×10-6mbar 蒸着チャンバー内の真空度:1.0×10-6mbar EB出力:40kW フィルムの搬送速度:500m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2)次に、上記で酸化アルミニウムの蒸着膜を形成し
た2軸延伸ナイロンフィルムの酸化アルミニウムの蒸着
膜面に、下記条件でコロナ処理を施した。その結果、酸
化アルミニウムの蒸着膜表面の表面張力は、45dyn
から60dynに向上した。 出力:10kW 処理速度:100m/min (3)次に、上記でコロナ処理した酸化アルミニウムの
蒸着膜を形成した2軸延伸ナイロンフィルムを使用し、
その酸化アルミニウムの蒸着膜のコロナ処理面に、グラ
ビア印刷機を使用し、その第1色目にグラビアコート用
ロールを配置し、実施例8により得られたガスバリアコ
ーティング組成物(H)を使用し、これをグラビアロー
ルコート法によりコーティングして、厚さ1.2g/m
2(乾燥状態)のコーティング膜を形成した。次いで、
120℃で2分、加熱処理してコーティング硬化膜を形
成して、本発明のガスバリアコーティングフィルムを製
造した。次に、上記ガスバリアコーティングフィルムの
コーティング硬化膜の上に、引き続き上記グラビア印刷
機を用い、グラビアインキ組成物を使用して、所望の多
色印刷絵柄層を形成した。 (4)次いで、上記で印刷絵柄層を形成した2軸延伸ナ
イロンフィルムをドライラミネート機の第1送り出しロ
ールに装着し、その印刷絵柄層面に、グラビアロールコ
ート法を用いて2液硬化型のポリウレタン系ラミネート
用接着剤を4.5g/m2(乾燥状態)の割合で塗工し
て、ラミネート用接着剤層を形成した。次いで、上記ラ
ミネート用接着剤層面に、厚さ70μmの無延伸ポリプ
ロピレンフィルムをドライラミネートして、積層材を製
造した。この積層材の酸素透過率は、0.5cm3/m2
・atm・24hrであった。
Example 23 (1) A biaxially stretched nylon film having a thickness of 15 μm was used as a base material, and this was mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus. Using an aluminum as a vapor deposition source and supplying oxygen gas, an oxidation reaction vacuum vapor deposition method using an electron beam (EB) heating method is used to form a film having a thickness of 0.02 μm on the biaxially stretched nylon film.
Of aluminum oxide was formed. (Evaporation conditions) Evaporation source: Aluminum Degree of vacuum in vacuum chamber: 7.2 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber: 1.0 × 10 −6 mbar EB output: 40 kW Film transport speed: 500 m / min Vapor deposition surface: Corona treated surface (2) Next, the aluminum oxide deposited film surface of the biaxially stretched nylon film on which the aluminum oxide deposited film was formed was subjected to corona treatment under the following conditions. As a result, the surface tension of the aluminum oxide deposited film surface was 45 dyn.
To 60 dyn. Output: 10 kW Processing speed: 100 m / min (3) Next, using a biaxially stretched nylon film on which a vapor-deposited film of aluminum oxide subjected to the above corona treatment was formed,
Using a gravure printing machine, a gravure coating roll for the first color is placed on the corona-treated surface of the aluminum oxide deposited film, and the gas barrier coating composition (H) obtained in Example 8 is used. This is coated by the gravure roll coating method, and the thickness is 1.2 g / m.
2 (dry state) of the coating film was formed. Then
The coating was cured by heating at 120 ° C. for 2 minutes to form a gas barrier coating film of the present invention. Next, a desired multicolor printed picture layer was formed on the cured coating of the gas barrier coating film using the gravure printing machine and the gravure ink composition. (4) Next, the biaxially stretched nylon film having the printed pattern layer formed thereon is mounted on a first delivery roll of a dry laminator, and a two-component curable polyurethane is applied to the printed pattern layer surface using a gravure roll coating method. An adhesive for system lamination was applied at a rate of 4.5 g / m 2 (dry state) to form an adhesive layer for lamination. Next, a 70 μm-thick unstretched polypropylene film was dry-laminated on the surface of the adhesive layer for lamination to produce a laminated material. The oxygen transmission rate of this laminated material is 0.5 cm 3 / m 2
Atm · 24 hr.

【0097】実施例24 上記実施例21の(4)において、印刷絵柄層を形成し
た2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの印刷
絵柄層面に、ラミネート用接着剤層を介して、厚さ70
μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネート
して積層材を製造する代わりに、印刷絵柄層を形成した
2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを押し出
しラミネート機の第1送り出しロールに装着し、その印
刷絵柄層面に、溶融押し出し用低密度ポリエチレンを使
用し、厚さ20μmにこれを溶融押し出ししながら、厚
さ70μm低密度ポリエチレンフィルムを押し出しラミ
ネートし、それ以外は、上記実施例21と全く同様にし
て、積層材を製造した。この積層材の酸素透過率は、
0.3cm3/m2・atm・24hrであった。
Example 24 In Example 21 (4), the thickness of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which the print pattern layer was formed was set to a thickness of 70 through a laminating adhesive layer.
Instead of dry laminating a low-density polyethylene film of μm to produce a laminated material, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which a printed picture layer is formed is mounted on a first delivery roll of an extrusion laminating machine, and the printed picture layer is Using a low-density polyethylene for melt extrusion, a 70 μm-thick low-density polyethylene film was extruded and laminated while being melt-extruded to a thickness of 20 μm. Manufactured. The oxygen permeability of this laminate is
0.3 cm 3 / m 2 · atm · 24 hr.

【0098】実施例25 上記実施例22の(4)において、印刷絵柄層を形成し
た2軸延伸ポリプロピレンフィルムの印刷絵柄層面に、
ラミネート用接着剤層を介して、厚さ70μmの無延伸
ポリプロピレンフィルムをドライラミネートして積層材
を製造する代わりに、印刷絵柄層を形成した2軸延伸ポ
リプロピレンフィルムを押し出しラミネート機の第1送
り出しロールに装着し、その印刷絵柄層面に、溶融押し
出し用低密度ポリエチレンを使用し、厚さ20μmにこ
れを溶融押し出ししながら、厚さ70μm低密度ポリエ
チレンフィルムを押し出しラミネートし、それ以外は、
上記実施例22と全く同様にして、積層材を製造した。
この積層材の酸素透過率は、0.8cm3/m2・atm
・24hrであった。
Example 25 In (4) of Example 22, a biaxially stretched polypropylene film having a print pattern layer formed thereon was printed on the print pattern layer surface.
Instead of dry laminating an unstretched polypropylene film having a thickness of 70 μm via a laminating adhesive layer to produce a laminated material, a biaxially stretched polypropylene film having a printed picture layer formed thereon is extruded into a first delivery roll of a laminating machine. , The printed pattern layer surface, using a low-density polyethylene for melt extrusion, while extruding this to a thickness of 20μm, extruding a 70μm-thick low-density polyethylene film, laminating, otherwise,
A laminated material was manufactured in exactly the same manner as in Example 22 above.
The oxygen transmission rate of this laminated material is 0.8 cm 3 / m 2 · atm.
-It was 24 hours.

【0099】実施例26 上記実施例23の(4)において、印刷絵柄層を形成し
た2軸延伸ナイロンフィルムの印刷絵柄層面に、ラミネ
ート用接着剤層を介して、厚さ70μmの無延伸ポリプ
ロピレンフィルムをドライラミネートして積層材を製造
する代わりに、印刷絵柄層を形成した2軸延伸ナイロン
フィルムを押し出しラミネート機の第1送り出しロール
に装着し、その印刷絵柄層面に、溶融押し出し用低密度
ポリエチレンを使用し、厚さ20μmにこれを溶融押し
出ししながら、厚さ70μm低密度ポリエチレンフィル
ムを押し出しラミネートし、それ以外は、上記実施例2
3と全く同様にして、積層材を製造した。この積層材の
酸素透過率は、0.6cm 3/m2・atm・24hrで
あった。
Example 26 In (4) of Example 23, a printed pattern layer was formed.
Laminate is applied to the printed pattern layer of a biaxially stretched nylon film
Non-stretched polyp with a thickness of 70 μm via the adhesive layer
Produce laminated material by dry laminating propylene film
Biaxially stretched nylon with printed pattern layer
The first delivery roll of a laminating machine that extrudes a film
On the surface of the printed picture layer, low density for melt extrusion
Using polyethylene, melt-press this to a thickness of 20μm
70μm thick low density polyethylene fill
Extruded and laminated, and otherwise the above Example 2
In the same manner as in Example 3, a laminated material was produced. Of this laminate
Oxygen permeability is 0.6cm Three/ MTwo・ Atm ・ 24hr
there were.

【0100】実施例27 (1)基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを使用し、これをプラズマ化
学気相成長装置の送り出しロールに装着し、下記の条件
で厚さ0.012μmの酸化ケイ素の蒸着膜を上記2軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの一方の面に
形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバー内の真空度:5.5×10-6mbar 蒸着チャンバー内の真空度:6.5×10-2mbar 冷却・電極ドラムの供給電力:18kW フィルムの搬送速度:80m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2)次に、上記で酸化ケイ素の蒸着膜を形成した2軸
延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用し、こ
れを巻き取り式真空蒸着装置の送り出しロールに装着
し、これをコーティングドラムの上に繰り出して、アル
ミニウムを蒸着源に用い、酸素ガスを供給しながら、エ
レクトロンビーム(EB)加熱方式による反応真空蒸着
法により、上記酸化ケイ素の蒸着膜を形成した2軸延伸
ポリエチレンテレフタレートフィルムの酸化ケイ素の蒸
着膜の上に、膜厚0.02μmの酸化アルミニウムの蒸
着膜を形成した。さらに、上記酸化アルミニウムの蒸着
膜面に、下記条件でコロナ処理を施した。その結果、酸
化アルミニウムの蒸着膜表面の表面張力は、40dyn
から65dynに向上した。 出力:10kW 処理速度:100m/min (3)次に、上記で酸化アルミニウムの蒸着膜と酸化ケ
イ素の蒸着膜を形成した2軸延伸ポリエチレンテレフタ
レートフィルムを使用し、その酸化アルミニウムの蒸着
膜の面に、グラビア印刷機を使用し、その第1色目にグ
ラビアコート用ロールを配置し、その第1色目に実施例
12により得られたガスバリアコーティング組成物
(L)を使用し、これをグラビアロールコート法により
コーティングして、厚さ1.0g/m2(乾燥状態)の
コーティング膜を形成した。次いで、120℃で1分、
加熱処理してコーティング硬化膜を形成して、本発明の
ガスバリアコーティングフィルムを製造した。次に、上
記ガスバリアコーティングフィルムのコーティング硬化
膜の上に、引き続き上記グラビア印刷機を用い、グラビ
アインキ組成物を使用して、所望の多色印刷絵柄層を形
成した。 (4)次いで、上記で印刷絵柄層を形成した2軸延伸ポ
リエチレンテレフタレートフィルムをドライラミネート
機の第1送り出しロールに装着し、その印刷絵柄層面
に、グラビアロールコート法を用いて2液硬化型のポリ
ウレタン系ラミネート用接着剤を4.5g/m2(乾燥
状態)の割合で塗工して、ラミネート用接着剤層を形成
した。次いで、上記ラミネート用接着剤層面に、厚さ7
0μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネー
トして、積層材を製造した。この積層材の酸素透過率
は、0.2cm3/m2・atm・24hrであった。
Example 27 (1) A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used as a base material, and was mounted on a delivery roll of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus. A 012 μm deposited silicon oxide film was formed on one surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film. (Deposition conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 10: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.5 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in deposition chamber : 6.5 × 10 -2 mbar Cooling / supply power of the electrode drum: 18 kW Film transport speed: 80 m / min Evaporation surface: Corona treated surface (2) Next, the above-described biaxial film on which a silicon oxide evaporation film was formed Using a stretched polyethylene terephthalate film, this is mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and is fed out onto a coating drum. Using an aluminum as an evaporation source and supplying oxygen gas, an electron beam ( EB) Biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which a silicon oxide vapor-deposited film was formed by a reactive vacuum vapor deposition method using a heating method. An aluminum oxide deposited film having a thickness of 0.02 μm was formed on the deposited silicon oxide film of the film. Further, a corona treatment was performed on the surface of the deposited aluminum oxide film under the following conditions. As a result, the surface tension of the surface of the deposited aluminum oxide film was 40 dyn.
To 65 dyn. Output: 10 kW Processing speed: 100 m / min (3) Next, using a biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which a deposited film of aluminum oxide and a deposited film of silicon oxide were formed as described above, the surface of the deposited film of aluminum oxide was used. A gravure printing machine is used, a gravure coating roll is arranged in the first color, and the gas barrier coating composition (L) obtained in Example 12 is used in the first color, and the gravure roll coating method is used. To form a coating film having a thickness of 1.0 g / m 2 (dry state). Then at 120 ° C for 1 minute,
The coating was cured by heating to form a gas barrier coating film of the present invention. Next, a desired multicolor printed picture layer was formed on the cured coating of the gas barrier coating film using the gravure printing machine and the gravure ink composition. (4) Next, the biaxially stretched polyethylene terephthalate film having the printed pattern layer formed thereon is mounted on a first delivery roll of a dry laminating machine, and the printed pattern layer surface is cured by a two-component curing method using a gravure roll coating method. The polyurethane-based laminating adhesive was applied at a rate of 4.5 g / m 2 (dry state) to form a laminating adhesive layer. Next, a thickness of 7
A low-density polyethylene film of 0 μm was dry-laminated to produce a laminated material. The oxygen transmission rate of this laminated material was 0.2 cm 3 / m 2 · atm · 24 hr.

【0101】実施例28 (1)基材として、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロピ
レンフィルム(二村化学工業株式会社製、商品名、GH
−I、片面コロナ処理品)を使用し、これをプラズマ化
学気相成長装置の送り出しロールに装着し、下記の条件
で厚さ0.015μmの酸化ケイ素の蒸着膜を上記2軸
延伸ポリプロピレンフィルムの一方の面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:11:10(単位:slm) 真空チャンバー内の真空度:5.2×10-6mbar 蒸着チャンバー内の真空度:5.1×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:18kW フィルムの搬送速度:70m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2)次に、上記で酸化ケイ素の蒸着膜を形成した2軸
延伸ポリプロピレンフィルムを使用し、これを巻き取り
式真空蒸着装置の送り出しロールに装着し、これをコー
ティングドラムの上に繰り出して、アルミニウムを蒸着
源に用い、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビー
ム(EB)加熱方式による反応真空蒸着法により、上記
酸化ケイ素の蒸着膜を形成した2軸延伸ポリプロピレン
フィルムの酸化ケイ素の蒸着膜の上に、膜厚0.02μ
mの酸化アルミニウムの蒸着膜を形成した。さらに、上
記酸化アルミニウムの蒸着膜面に、下記条件でコロナ処
理を施した。その結果、酸化アルミニウムの蒸着膜表面
の表面張力は、42dynから65dynに向上した。 出力:10kW 処理速度:100m/min (3)次に、上記で酸化アルミニウムの蒸着膜と酸化ケ
イ素の蒸着膜を形成した2軸延伸ポリプロピレンフィル
ムを使用し、その酸化アルミニウムの蒸着膜の面に、グ
ラビア印刷機を使用し、その第1色目にグラビアコート
用ロールを配置し、実施例7により得られたガスバリア
コーティング組成物(G)を使用し、これをグラビアロ
ールコート法によりコーティングして、厚さ0.8g/
2(乾燥状態)のコーティング膜を形成した。次い
で、120℃で1分、加熱処理してコーティング硬化膜
を形成して、本発明のガスバリアコーティングフィルム
を製造した。次に、上記ガスバリアコーティングフィル
ムのコーティング硬化膜の上に、引き続き上記グラビア
印刷機を用いて、グラビアインキ組成物を使用し、所望
の多色印刷絵柄層を形成した。 (4)次いで、上記で印刷絵柄層を形成した2軸延伸ポ
リプロピレンフィルムをドライラミネート機の第1送り
出しロールに装着し、その印刷絵柄層面に、グラビアロ
ールコート法を用いて2液硬化型のポリウレタン系ラミ
ネート用接着剤を4.5g/m2(乾燥状態)の割合で
塗工して、ラミネート用接着剤層を形成した。次いで、
上記ラミネート用接着剤層面に、厚さ70μmの無延伸
ポリプロピレンフィルムをドライラミネートして、積層
材を製造した。この積層材の酸素透過率は、0.5cm
3/m2・atm・24hrであった。
Example 28 (1) As a substrate, a biaxially oriented polypropylene film having a thickness of 20 μm (trade name, GH, manufactured by Nimura Chemical Industry Co., Ltd.)
-I, a single-sided corona-treated product), attached to a delivery roll of a plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus, and deposited a 0.015 μm-thick silicon oxide vapor-deposited film of the biaxially stretched polypropylene film under the following conditions. Formed on one side. (Evaporation conditions) Mixing ratio of reaction gas: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 11: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.2 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber : 5.1 × 10 -2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 18 kW Film transport speed: 70 m / min Evaporation surface: Corona treated surface (2) Next, biaxial stretching on which a silicon oxide evaporation film was formed as described above Using a polypropylene film, this is mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and is fed out onto a coating drum. While using aluminum as an evaporation source and supplying oxygen gas, an electron beam (EB) is used. Silicon oxide deposited film of a biaxially stretched polypropylene film formed with the above silicon oxide deposited film by a reactive vacuum deposition method using a heating method. A thickness of 0.02μ
m of aluminum oxide was deposited. Further, a corona treatment was performed on the surface of the deposited aluminum oxide film under the following conditions. As a result, the surface tension of the surface of the deposited aluminum oxide film was improved from 42 dyn to 65 dyn. Output: 10 kW Processing speed: 100 m / min (3) Next, using a biaxially stretched polypropylene film on which a deposited film of aluminum oxide and a deposited film of silicon oxide were formed as described above, A gravure printing machine is used, a gravure coating roll is arranged in the first color, and the gas barrier coating composition (G) obtained in Example 7 is used. 0.8g /
An m 2 (dry state) coating film was formed. Subsequently, the coating was cured by heating at 120 ° C. for 1 minute to form a gas barrier coating film of the present invention. Next, on the cured coating film of the gas barrier coating film, using the gravure printing machine, a gravure ink composition was used to form a desired multicolor printing pattern layer. (4) Next, the biaxially stretched polypropylene film on which the print pattern layer is formed is mounted on a first delivery roll of a dry laminator, and a two-component curing type polyurethane is applied to the print pattern layer surface by using a gravure roll coat method. An adhesive for system lamination was applied at a rate of 4.5 g / m 2 (dry state) to form an adhesive layer for lamination. Then
An unstretched polypropylene film having a thickness of 70 μm was dry-laminated on the surface of the adhesive layer for lamination to produce a laminated material. The oxygen transmission rate of this laminated material is 0.5 cm
3 / m 2 · atm · 24 hr.

【0102】実施例29 (1)基材として、厚さ15μmの2軸延伸ナイロンフ
ィルムを使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の送
り出しロールに装着し、下記の条件で厚さ0.015μ
mの酸化ケイ素の蒸着膜を上記2軸延伸ナイロンフィル
ムの一方の面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:11:10(単位:slm) 真空チャンバー内の真空度:5.2×10-6mbar 蒸着チャンバー内の真空度:5.1×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:18kW フィルムの搬送速度:70m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2)次に、上記で酸化ケイ素の蒸着膜を形成した2軸
延伸ナイロンフィルムを使用し、これを巻き取り式真空
蒸着装置の送り出しロールに装着し、これをコーティン
グドラムの上に繰り出して、アルミニウムを蒸着源に用
い、酸素ガスを供給しながら、エレクトロンビーム(E
B)加熱方式による反応真空蒸着法により、上記酸化ケ
イ素の蒸着膜を形成した2軸延伸ナイロンフィルムの酸
化ケイ素の蒸着膜の上に、膜厚0.02μmの酸化アル
ミニウムの蒸着膜を形成した。さらに、上記酸化アルミ
ニウムの蒸着膜面に、下記条件でコロナ処理を施した。
その結果、酸化アルミニウムの蒸着膜表面の表面張力
は、45dynから65dynに向上した。 出力:10kW 処理速度:100m/min (3)次に、上記で酸化アルミニウムの蒸着膜と酸化ケ
イ素の蒸着膜を形成した2軸延伸ナイロンフィルムを使
用し、その酸化アルミニウムの蒸着膜の面に、グラビア
印刷機を使用し、その第1色目にグラビアコート用ロー
ルを配置し、実施例12により得られたガスバリアコー
ティング組成物(L)を使用し、これをグラビアロール
コート法によりコーティングして、厚さ1.2g/m2
(乾燥状態)のコーティング膜を形成した。次いで、1
20℃で2分、加熱処理してコーティング硬化膜を形成
して、本発明のガスバリアコーティングフィルムを製造
した。次に、上記ガスバリアコーティングフィルムのコ
ーティング硬化膜の上に、引き続き上記グラビア印刷機
を用いて、グラビアインキ組成物を使用して、所望の多
色印刷絵柄層を形成した。 (4)次いで、上記で印刷絵柄層を形成した2軸延伸ナ
イロンフィルムをドライラミネート機の第1送り出しロ
ールに装着し、その印刷絵柄層面に、グラビアロールコ
ート法を用いて2液硬化型のポリウレタン系ラミネート
用接着剤を4.5g/m2(乾燥状態)の割合で塗工し
て、ラミネート用接着剤層を形成した。次いで、上記ラ
ミネート用接着剤層面に、厚さ70μmの無延伸ポリプ
ロピレンフィルムをドライラミネートして、積層材を製
造した。この積層材の酸素透過率は、0.4cm3/m2
・atm・24hrであった。
Example 29 (1) A 15 μm-thick biaxially stretched nylon film was used as a base material, and this was mounted on a delivery roll of a plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus.
m of silicon oxide was formed on one surface of the biaxially stretched nylon film. (Evaporation conditions) Mixing ratio of reaction gas: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 11: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.2 × 10 −6 mbar Degree of vacuum in evaporation chamber : 5.1 × 10 -2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 18 kW Film transport speed: 70 m / min Evaporation surface: Corona treated surface (2) Next, biaxial stretching on which a silicon oxide evaporation film was formed as described above Using a nylon film, it is mounted on a delivery roll of a take-up type vacuum evaporation apparatus, and is fed out onto a coating drum. While using aluminum as an evaporation source and supplying oxygen gas, an electron beam (E) is used.
B) A 0.02 μm-thick aluminum oxide vapor-deposited film was formed on the silicon oxide vapor-deposited film of the biaxially stretched nylon film on which the silicon oxide vapor-deposited film was formed by a reactive vacuum vapor deposition method using a heating method. Further, a corona treatment was performed on the surface of the deposited aluminum oxide film under the following conditions.
As a result, the surface tension of the surface of the deposited aluminum oxide film was improved from 45 dyn to 65 dyn. Output: 10 kW Processing speed: 100 m / min (3) Next, using a biaxially stretched nylon film on which a deposited film of aluminum oxide and a deposited film of silicon oxide were formed as described above, A gravure printing machine is used, a gravure coating roll is arranged in the first color, and the gas barrier coating composition (L) obtained in Example 12 is used. 1.2 g / m 2
A (dry) coating film was formed. Then 1
A coating cured film was formed by heat treatment at 20 ° C. for 2 minutes to produce a gas barrier coating film of the present invention. Next, a desired multicolor printing pattern layer was formed on the cured coating film of the gas barrier coating film by using the gravure ink composition using the gravure printing machine. (4) Next, the biaxially stretched nylon film having the printed pattern layer formed thereon is mounted on a first delivery roll of a dry laminator, and a two-component curable polyurethane is applied to the printed pattern layer surface using a gravure roll coating method. An adhesive for system lamination was applied at a rate of 4.5 g / m 2 (dry state) to form an adhesive layer for lamination. Next, a 70 μm-thick unstretched polypropylene film was dry-laminated on the surface of the adhesive layer for lamination to produce a laminated material. The oxygen transmission rate of this laminated material is 0.4 cm 3 / m 2
Atm · 24 hr.

【0103】実施例30 上記実施例27の(4)において、印刷絵柄層を形成し
た2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの印刷
絵柄層面に、ラミネート用接着剤層を介して、厚さ70
μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネート
して積層材を製造する代わりに、印刷絵柄層を形成した
2軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを押し出
しラミネート機の第1送り出しロールに装着し、その印
刷絵柄層面に、溶融押し出し用低密度ポリエチレンを使
用し、厚さ20μmにこれを溶融押し出ししながら、厚
さ70μm低密度ポリエチレンフィルムを押し出しラミ
ネートし、それ以外は、上記実施例27と全く同様にし
て、積層材を製造した。この積層材の酸素透過率は、
0.2cm3/m2・atm・24hrであった。
Example 30 In the above (27) of Example 27, the thickness of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film having the printed pattern layer formed on the surface of the printed pattern layer was increased by 70% through a laminating adhesive layer.
Instead of dry laminating a low-density polyethylene film of μm to produce a laminated material, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which a printed picture layer is formed is mounted on a first delivery roll of an extrusion laminating machine, and the printed picture layer is Using a low-density polyethylene for melt extrusion, a 70 μm-thick low-density polyethylene film was extruded and laminated while being melt-extruded to a thickness of 20 μm. Manufactured. The oxygen permeability of this laminate is
0.2 cm 3 / m 2 · atm · 24 hr.

【0104】実施例31 上記実施例28の(4)において、印刷絵柄層を形成し
た2軸延伸ポリプロピレンフィルムの印刷絵柄層面に、
ラミネート用接着剤層を介して、厚さ70μmの無延伸
ポリプロピレンフィルムをドライラミネートして積層材
を製造する代わりに、印刷絵柄層を形成した2軸延伸ポ
リプロピレンフィルムを押し出しラミネート機の第1送
り出しロールに装着し、その印刷絵柄層面に、溶融押し
出し用低密度ポリエチレンを使用し、厚さ20μmにこ
れを溶融押し出ししながら、厚さ70μm低密度ポリエ
チレンフィルムを押し出しラミネートし、それ以外は、
上記実施例28と全く同様にして、積層材を製造した。
この積層材の酸素透過率は、0.6cm3/m2・atm
・24hrであった。
Example 31 In (4) of Example 28, the biaxially stretched polypropylene film on which the print pattern layer was formed,
Instead of dry laminating an unstretched polypropylene film having a thickness of 70 μm via a laminating adhesive layer to produce a laminated material, a biaxially stretched polypropylene film having a printed picture layer formed thereon is extruded into a first delivery roll of a laminating machine. , The printed pattern layer surface, using a low-density polyethylene for melt extrusion, while extruding this to a thickness of 20μm, extruding a 70μm-thick low-density polyethylene film, laminating, otherwise,
A laminated material was manufactured in exactly the same manner as in Example 28.
The oxygen transmission rate of this laminated material is 0.6 cm 3 / m 2 · atm.
-It was 24 hours.

【0105】実施例32 上記実施例29の(4)において、印刷絵柄層を形成し
た2軸延伸ナイロンフィルムの印刷絵柄層面に、ラミネ
ート用接着剤層を介して、厚さ70μmの無延伸ポリプ
ロピレンフィルムをドライラミネートして積層材を製造
する代わりに、印刷絵柄層を形成した2軸延伸ナイロン
フィルムを押し出しラミネート機の第1送り出しロール
に装着し、その印刷絵柄層面に、溶融押し出し用低密度
ポリエチレンを使用し、厚さ20μmにこれを溶融押し
出ししながら、厚さ70μm低密度ポリエチレンフィル
ムを押し出しラミネートし、それ以外は、上記実施例2
9と全く同様にして、積層材を製造した。この積層材の
酸素透過率は、0.5cm 3/m2・atm・24hrで
あった。
Example 32 In (4) of Example 29, a printed pattern layer was formed.
Laminate is applied to the printed pattern layer of a biaxially stretched nylon film
Non-stretched polyp with a thickness of 70 μm via the adhesive layer
Produce laminated material by dry laminating propylene film
Biaxially stretched nylon with printed pattern layer
The first delivery roll of a laminating machine that extrudes a film
On the surface of the printed picture layer, low density for melt extrusion
Using polyethylene, melt-press this to a thickness of 20μm
70μm thick low density polyethylene fill
Extruded and laminated, and otherwise the above Example 2
A laminate was produced in exactly the same manner as in No. 9. Of this laminate
Oxygen permeability is 0.5cm Three/ MTwo・ Atm ・ 24hr
there were.

【0106】実施例33 実施例28の(3)において、ガスバリアコーティング
組成物(N)を使用した以外は、上記実施例28と同様
にして、積層材を製造した。この積層材の酸素透過率
は、0.4cm3/m2・atm・24hrであった。
Example 33 A laminated material was manufactured in the same manner as in Example 28 except that the gas barrier coating composition (N) was used in (3) of Example 28. The oxygen transmission rate of this laminated material was 0.4 cm 3 / m 2 · atm · 24 hr.

【0107】[0107]

【発明の効果】本発明によれば、高湿度下においても酸
素透過度が極めて小さく、また人体に無害なガスバリア
性コーティング組成物が得られ、合成樹脂フィルム、金
属および/または無機化合物の蒸着膜を設けた合成樹脂
フィルム上にコーティングすることでさらに優れたガス
バリア性を示すコート材が得られる。
According to the present invention, a gas barrier coating composition having an extremely low oxygen permeability even under high humidity and harmless to the human body can be obtained. By coating on a synthetic resin film provided with, a coating material having more excellent gas barrier properties can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】プラズマ化学気相成長装置の概略的構成図であ
る。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus.

【図2】巻き取り式真空蒸着装置の概略的構成図であ
る。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a take-up type vacuum evaporation apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2: 基材フィルム 11:プラズマ化学気相成長装置 15:冷却・電極ドラム 20:グロー放電プラズマ 51:巻き取り式真空蒸着装置 56:コーティングドラム 58:蒸着源 2: Base film 11: Plasma chemical vapor deposition apparatus 15: Cooling / electrode drum 20: Glow discharge plasma 51: Winding vacuum evaporation apparatus 56: Coating drum 58: Evaporation source

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // C08L 23:00 C08L 23:00 (72)発明者 志保 浩司 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 (72)発明者 山本 浩 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 山崎 拓也 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 井沢 秀樹 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 4F006 AA12 AB20 AB64 AB73 BA05 CA07 DA04 4F100 AA01B AA01C AA17C AA20 AA31B AB01C AH03B AH08B AK01A AK21B AK42 AK68 AL05B BA02 BA03 BA07 BA10A BA10C CC00B DE01B EH462 EH66C EH662 EJ08B EJ082 GB15 GB23 GB66 JD02B JL00 4J038 CE021 CE031 CG172 CK032 DM002 HA216 HA446 HA476 JB12 JB26 KA08 MA07 NA08 PB03 PB04 PC08 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme court ゛ (Reference) // C08L 23:00 C08L 23:00 (72) Inventor Koji Shibo 2- 11-24 Tsukiji, Chuo-ku, Tokyo No. within JSR Co., Ltd. (72) Inventor Hiroshi Yamamoto 1-1-1, Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Within Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Takuya Yamazaki 1-1, Ichigaga-cho, Shinjuku-ku, Tokyo No. 1 Inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. (72) Inventor Hideki Izawa 1-1-1 Ichigaya Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo F-term inside Dai Nippon Printing Co., Ltd. 4F006 AA12 AB20 AB64 AB73 BA05 CA07 DA04 4F100 AA01B AA01C AA17C AA20 AA31B AB01C AH03B AH08B AK01A AK21B AK42 AK68 AL05B BA02 BA03 BA07 BA10A BA10C CC00B DE01B EH462 EH66C EH662 EJ08B EJ082 GB15 GB23 GB66 JD02B JL00 4J038 CE021 CE031 CG172 CK032 DM002 HA216 HA446 HA476 JB12 JB26 KA08 MA07 NA08 PB03 PB04 PC08

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a)ポリビニルアルコール系樹脂、 (b)一般式(1) R1 m M(OR2n ・・・・・(1) (式中、Mは金属原子、R1は同一または異なり、炭素
数1〜8の有機基、R2は同一または異なり、炭素数1
〜5のアルキル基または炭素数1〜6のアシル基もしく
はフェニル基を示し、mおよびnはそれぞれ0以上の整
数であり、m+nはMの原子価である)で表される、金
属アルコレート、該金属アルコレートの加水分解物、該
金属アルコレートの縮合物、該金属アルコレートのキレ
ート化合物、該金属キレート化合物の加水分解物、該金
属キレート化合物の縮合物、金属アシレート、該金属ア
シレートの加水分解物、および該金属アシレートの縮合
物の群から選ばれた少なくとも1種、ならびに(c)ホ
ウ素化合物を含有することを特徴とするガスバリアコー
ティング組成物。
(A) a polyvinyl alcohol-based resin, (b) a general formula (1) R 1 mM (OR 2 ) n (1) wherein M is a metal atom and R 1 is The same or different, an organic group having 1 to 8 carbon atoms, R 2 is the same or different and has 1 carbon atom
An alkyl group of 1 to 5 or an acyl group or phenyl group of 1 to 6 carbon atoms, m and n are each an integer of 0 or more, and m + n is a valence of M. Hydrolyzate of the metal alcoholate, condensate of the metal alcoholate, chelate compound of the metal alcoholate, hydrolyzate of the metal chelate compound, condensate of the metal chelate compound, metal acylate, hydrolysis of the metal acylate A gas barrier coating composition comprising: a decomposition product; and at least one selected from the group consisting of a condensate of the metal acylate; and (c) a boron compound.
【請求項2】 (a)ポリビニルアルコール系樹脂が、
ポリビニルアルコールおよびエチレン・ビニルアルコー
ル共重合体の群から選ばれた少なくとも1種である請求
項1記載のガスバリアコーティング組成物。
2. The method according to claim 1, wherein (a) the polyvinyl alcohol resin is
The gas barrier coating composition according to claim 1, which is at least one member selected from the group consisting of polyvinyl alcohol and an ethylene / vinyl alcohol copolymer.
【請求項3】 さらに(d)含窒素有機化合物を含有す
る請求項1または2記載のガスバリアコーティング組成
物。
3. The gas barrier coating composition according to claim 1, further comprising (d) a nitrogen-containing organic compound.
【請求項4】 さらに(e)無機微粒子を含有する請求
項1〜3いずれか1項記載のガスバリアコーティング組
成物。
4. The gas barrier coating composition according to claim 1, further comprising (e) inorganic fine particles.
【請求項5】 請求項1記載の、(b)成分を水または
水と親水性有機溶媒を含む混合溶媒中で加水分解したの
ち、(a)成分と混合することを特徴とする、請求項1
〜4いずれか1項記載のガスバリアコーティング組成物
の製造方法。
5. The method according to claim 1, wherein the component (b) is hydrolyzed in water or a mixed solvent containing water and a hydrophilic organic solvent, and then mixed with the component (a). 1
A method for producing a gas barrier coating composition according to any one of claims 1 to 4.
【請求項6】 基材樹脂フィルム上に、請求項1〜4い
ずれか1項記載のガスバリアコーティング組成物から形
成される硬化塗膜が積層されてなることを特徴とする、
ガスバリアコーティングフィルム。
6. A cured resin film formed from the gas barrier coating composition according to any one of claims 1 to 4, which is laminated on a base resin film,
Gas barrier coating film.
【請求項7】 基材樹脂フィルム上に、金属および/ま
たは無機化合物の蒸着膜を設け、請求項1〜4いずれか
1項記載のガスバリアコーティング組成物から形成され
る硬化塗膜とが積層されてなることを特徴とする、ガス
バリアコーティングフィルム。
7. A base material resin film is provided with a metal and / or inorganic compound vapor-deposited film, and a cured coating film formed from the gas barrier coating composition according to claim 1 is laminated. A gas barrier coating film comprising:
【請求項8】 上記蒸着膜が、化学気相成長法および/
または物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜である
請求項7記載のガスバリアコーティングフィルム。
8. The method according to claim 1, wherein the deposited film is formed by a chemical vapor deposition method and / or
8. The gas barrier coating film according to claim 7, which is a deposited film of an inorganic oxide formed by a physical vapor deposition method.
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