JP2002047425A - 透明性高分子材料及びその製造方法 - Google Patents
透明性高分子材料及びその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 無機微粒子を高濃度で含有する安定で成形加
工の可能な高分子材料を得ること。特に、透明で高屈折
率化が可能な眼鏡レンズ等の光学材料に好適に使用可能
な上記高分子材料を得ること。 【構成】 無機微粒子が有機高分子と結合してお
り、熱可塑性あるいは溶剤溶解性を有し、実質的に成形
加工が可能であることを特徴とする微粒子含有高分子材
料。 官能基を有し熱可塑性を有する高分子と、該高分子
の官能基と反応し結合を生成し得る官能基を有する表面
修飾半導体微粒子とを反応させることにより得られる、
熱可塑性あるいは溶剤溶解性を有し、実質的に成形加工
が可能であることを特徴とする微粒子含有高分子材料。
工の可能な高分子材料を得ること。特に、透明で高屈折
率化が可能な眼鏡レンズ等の光学材料に好適に使用可能
な上記高分子材料を得ること。 【構成】 無機微粒子が有機高分子と結合してお
り、熱可塑性あるいは溶剤溶解性を有し、実質的に成形
加工が可能であることを特徴とする微粒子含有高分子材
料。 官能基を有し熱可塑性を有する高分子と、該高分子
の官能基と反応し結合を生成し得る官能基を有する表面
修飾半導体微粒子とを反応させることにより得られる、
熱可塑性あるいは溶剤溶解性を有し、実質的に成形加工
が可能であることを特徴とする微粒子含有高分子材料。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は、高屈折率を有
する透明性高分子材料に関する。より詳細には、本発明
は無機微粒子を含有する高分子材料に関するものであ
り、なかでも透明性を保ったまま、高濃度で、かつ、均
一に微粒子が分散され、溶媒溶解性あるいは熱可塑性を
有し、成形加工が容易で特に光学材料として好適に使用
可能な無機微粒子含有高分子材料に関する。 本発明は、高屈折率を有する透明性高分子材料の製
造方法に関する。 本発明は、高屈折率を有する透明性高分子材料を含
んでなる光学成形体に関する。 本発明は、高屈折率を有する透明性高分子材料を含
んでなるレンズに関する。 本発明は、高屈折率を有する透明性高分子材料を含
んでなる眼鏡用レンズに関する。
する透明性高分子材料に関する。より詳細には、本発明
は無機微粒子を含有する高分子材料に関するものであ
り、なかでも透明性を保ったまま、高濃度で、かつ、均
一に微粒子が分散され、溶媒溶解性あるいは熱可塑性を
有し、成形加工が容易で特に光学材料として好適に使用
可能な無機微粒子含有高分子材料に関する。 本発明は、高屈折率を有する透明性高分子材料の製
造方法に関する。 本発明は、高屈折率を有する透明性高分子材料を含
んでなる光学成形体に関する。 本発明は、高屈折率を有する透明性高分子材料を含
んでなるレンズに関する。 本発明は、高屈折率を有する透明性高分子材料を含
んでなる眼鏡用レンズに関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、無機微粒子の作成法の進展により
各種の無機微粒子が作成されさまざまな用途に応用され
ている。このような用途の具体例としては、例えば、酸
化チタン微粒子の光触媒能や親水性を利用した防汚材
料、半導体微粒子を利用した非線型光学材料、シリカ等
の硬質微粒子を利用したハードコート材料等が挙げられ
る。特に光学材料の分野では、ハードコート、着色、反
射防止膜等で幅広く無機微粒子が利用されてきた。例え
ば、特開昭５６−９９２３６号、特開昭５７−１６８９
２２号、特開昭６０−２２１７０２号等には、主に熱硬
化シリコン樹脂中に酸化チタン、酸化アンチモン、シリ
カ等を分散した光学材料用のハードコート材料、導電性
コート材料が開示されている。
各種の無機微粒子が作成されさまざまな用途に応用され
ている。このような用途の具体例としては、例えば、酸
化チタン微粒子の光触媒能や親水性を利用した防汚材
料、半導体微粒子を利用した非線型光学材料、シリカ等
の硬質微粒子を利用したハードコート材料等が挙げられ
る。特に光学材料の分野では、ハードコート、着色、反
射防止膜等で幅広く無機微粒子が利用されてきた。例え
ば、特開昭５６−９９２３６号、特開昭５７−１６８９
２２号、特開昭６０−２２１７０２号等には、主に熱硬
化シリコン樹脂中に酸化チタン、酸化アンチモン、シリ
カ等を分散した光学材料用のハードコート材料、導電性
コート材料が開示されている。
【０００３】さらに、特開平３−１４５６０２号、特開
平８−２１７９９１号、特開平１１−３１１７０２号等
には、微粒子の分散性を良好にするために、微粒子を反
応性基（二重結合、エポキシ）含有カップリング材で処
理した後、硬化させてハードコートを作成する手法が開
示されている。また、特開昭６０−１５９０１３号に
は、熱硬化性樹脂中にシランカップリング材および無機
微粒子を添加し加熱重合させることによる通常より硬度
の高い眼鏡用プラスチックレンズの作成法か記載されて
いる。
平８−２１７９９１号、特開平１１−３１１７０２号等
には、微粒子の分散性を良好にするために、微粒子を反
応性基（二重結合、エポキシ）含有カップリング材で処
理した後、硬化させてハードコートを作成する手法が開
示されている。また、特開昭６０−１５９０１３号に
は、熱硬化性樹脂中にシランカップリング材および無機
微粒子を添加し加熱重合させることによる通常より硬度
の高い眼鏡用プラスチックレンズの作成法か記載されて
いる。
【０００４】これらの先行技術では、全て、熱又は紫外
線等の光により硬化する樹脂材料に無機微粒子を添加し
て、その材料を塗布したり、型に注入したりした後硬化
を行うことにより加工品を得ている。このような加工方
法では、例えば、射出成形のような方法と比べると操作
が煩雑で非常に時間がかかるという欠点がある。硬化後
の樹脂は架橋構造を有し不溶不融であるため、硬化後の
樹脂を用いて成形加工する方法も非常に限られてしま
う。
線等の光により硬化する樹脂材料に無機微粒子を添加し
て、その材料を塗布したり、型に注入したりした後硬化
を行うことにより加工品を得ている。このような加工方
法では、例えば、射出成形のような方法と比べると操作
が煩雑で非常に時間がかかるという欠点がある。硬化後
の樹脂は架橋構造を有し不溶不融であるため、硬化後の
樹脂を用いて成形加工する方法も非常に限られてしま
う。
【０００５】また、これらの方法では無機微粒子をその
ままで、あるいはシランカップリング剤等で表面を処理
したのみで樹脂と混合している。このような場合、樹脂
と微粒子の相溶性が不十分で、無機微粒子を高濃度で添
加すると微粒子どうしが凝集し大きな粒子を作るため透
明性が失われる。例えばプラスチック中に高屈折率の無
機微粒子を添加し高屈折率のプラスチックレンズを得よ
うとする場合は当然の事ながら透明性を保ったまま無機
微粒子の濃度を高める必要があり、これらの先行技術を
用いることは困難であった。
ままで、あるいはシランカップリング剤等で表面を処理
したのみで樹脂と混合している。このような場合、樹脂
と微粒子の相溶性が不十分で、無機微粒子を高濃度で添
加すると微粒子どうしが凝集し大きな粒子を作るため透
明性が失われる。例えばプラスチック中に高屈折率の無
機微粒子を添加し高屈折率のプラスチックレンズを得よ
うとする場合は当然の事ながら透明性を保ったまま無機
微粒子の濃度を高める必要があり、これらの先行技術を
用いることは困難であった。
【０００６】事実、前記特開昭６０−１５９０１３号に
おけるレンズ中でのシリカ微粒子の添加濃度は最高でも
１重量％である。熱硬化性樹脂以外の樹脂に無機微粒子
を高濃度で分散した例としては、特開昭６１−２９１６
５０号公報の実施例１にチタニア微粉末をポリメチルメ
タクリレートに３３％分散させた例が示されているが、
この場合微粒子の分散安定性が著しく低く、微粒子が凝
集しすぐに不透明化してしまうため実用化は不可能であ
った。
おけるレンズ中でのシリカ微粒子の添加濃度は最高でも
１重量％である。熱硬化性樹脂以外の樹脂に無機微粒子
を高濃度で分散した例としては、特開昭６１−２９１６
５０号公報の実施例１にチタニア微粉末をポリメチルメ
タクリレートに３３％分散させた例が示されているが、
この場合微粒子の分散安定性が著しく低く、微粒子が凝
集しすぐに不透明化してしまうため実用化は不可能であ
った。
【０００７】射出成形のような高能率の成形加工が可能
で、無機の微粒子を高濃度で含有し透明な高分子材料が
あれば、眼鏡レンズを始めとする光学材料やその他の無
機微粒子応用材料として非常に広い範囲への応用が可能
であるが、そのような高分子材料の有効な作成法はほと
んど知られていなかった。このような無機微粒子含有高
分子材料の構造としては、熱可塑性を有する非架橋の高
分子に無機微粒子が、結合したものが有効と考えられ
る。微粒子が高分子と結合していれば、微粒子どうしの
凝集を防ぐことができる。また、非架橋の高分子は熱可
塑性や溶剤溶解性があるため、それを利用した射出成形
等各種の効率的な成形法が利用可能になる。
で、無機の微粒子を高濃度で含有し透明な高分子材料が
あれば、眼鏡レンズを始めとする光学材料やその他の無
機微粒子応用材料として非常に広い範囲への応用が可能
であるが、そのような高分子材料の有効な作成法はほと
んど知られていなかった。このような無機微粒子含有高
分子材料の構造としては、熱可塑性を有する非架橋の高
分子に無機微粒子が、結合したものが有効と考えられ
る。微粒子が高分子と結合していれば、微粒子どうしの
凝集を防ぐことができる。また、非架橋の高分子は熱可
塑性や溶剤溶解性があるため、それを利用した射出成形
等各種の効率的な成形法が利用可能になる。
【０００８】このような微粒子結合高分子の作成法とし
て、特開平１１−３１０７３３号ではポリマーの末端に
シランカップリング性を有する基を導入し、この高分子
シランカップリング剤で無機微粒子の表面を修飾する方
法が述べられている。しかしながら、この技術の解決課
題は、本願発明の解決課題とは異なり、微粒子状の形状
を有する材料の安定性の向上を目指したものであり、こ
の技術により、一つの微粒子の周囲に多数の比較的低分
子量の高分子が結合した球状の分子形状を有する材料が
提供され得る。このような微粒子状の形状を有する材料
を成形したとしても、通常の直鎖状高分子とは異なり十
分な高分子鎖間のからみあいが存在せず強度が弱い成形
加工品しか得られず、この材料単独で成形品を得ること
は困難である。この技術の解決課題からも明らかなよう
に、当然のことながら、当該公報の中には得られた微粒
子状の形状を有する材料を成形加工する点については全
く触れられていない。
て、特開平１１−３１０７３３号ではポリマーの末端に
シランカップリング性を有する基を導入し、この高分子
シランカップリング剤で無機微粒子の表面を修飾する方
法が述べられている。しかしながら、この技術の解決課
題は、本願発明の解決課題とは異なり、微粒子状の形状
を有する材料の安定性の向上を目指したものであり、こ
の技術により、一つの微粒子の周囲に多数の比較的低分
子量の高分子が結合した球状の分子形状を有する材料が
提供され得る。このような微粒子状の形状を有する材料
を成形したとしても、通常の直鎖状高分子とは異なり十
分な高分子鎖間のからみあいが存在せず強度が弱い成形
加工品しか得られず、この材料単独で成形品を得ること
は困難である。この技術の解決課題からも明らかなよう
に、当然のことながら、当該公報の中には得られた微粒
子状の形状を有する材料を成形加工する点については全
く触れられていない。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題の一つは、上記した従来の技術の問題点に鑑
み、有機高分子（成分（Ｂ））中に、無機微粒子（成分
（Ａ））を、高密度で、かつ、均一に分散せしめること
により、熱可塑性、及び／又は、溶剤溶解性を有し、か
つ、数式（１）〜数式（３）の全てを満足する高屈折率
を有する透明性高分子材料を提供することである。 ［数２８］ ０［ｎｍ］ ＜ Ｒ［ｎｍ］ ≦ λ［ｎｍ］ （１） ［数２９］ １．５５ ≦ Ｋ （２） ［数３０］ ７５％ ≦ Ｔ％ ≦ １００％ （３） （数式（１）において、Ｒは、無機微粒子の平均直径で
あり、λは本請求項発明に係る高分子材料を透過する光
の波長である。数式（２）において、Ｋは、本請求項発
明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際
の屈折率である。数式（３）において、Ｔは、本請求項
発明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する
際のフィルム厚さ１．０［ｍｍ］に換算したときの透過
する際の透過率％である。）
する課題の一つは、上記した従来の技術の問題点に鑑
み、有機高分子（成分（Ｂ））中に、無機微粒子（成分
（Ａ））を、高密度で、かつ、均一に分散せしめること
により、熱可塑性、及び／又は、溶剤溶解性を有し、か
つ、数式（１）〜数式（３）の全てを満足する高屈折率
を有する透明性高分子材料を提供することである。 ［数２８］ ０［ｎｍ］ ＜ Ｒ［ｎｍ］ ≦ λ［ｎｍ］ （１） ［数２９］ １．５５ ≦ Ｋ （２） ［数３０］ ７５％ ≦ Ｔ％ ≦ １００％ （３） （数式（１）において、Ｒは、無機微粒子の平均直径で
あり、λは本請求項発明に係る高分子材料を透過する光
の波長である。数式（２）において、Ｋは、本請求項発
明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際
の屈折率である。数式（３）において、Ｔは、本請求項
発明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する
際のフィルム厚さ１．０［ｍｍ］に換算したときの透過
する際の透過率％である。）
【００１０】また、本発明が解決しようとする課題の一
つは、上記した従来の技術の問題点に鑑み、射出成形の
ような高能率の成形加工が可能で、無機の微粒子を高濃
度で含有し、透明性と高屈折率を有する成形物を得るこ
とのできる、微粒子含有高分子材料を提供することであ
る。
つは、上記した従来の技術の問題点に鑑み、射出成形の
ような高能率の成形加工が可能で、無機の微粒子を高濃
度で含有し、透明性と高屈折率を有する成形物を得るこ
とのできる、微粒子含有高分子材料を提供することであ
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記した
従来の技術の問題点に鑑み、このような課題を解決する
ため鋭意研究を行ってきた。その成果の一つが、特開平
１１−４３５５６号に開示されている発明である。この
発明は、ＺｎＳ等の半導体微粒子を、アミノ基等の反応
性基を有する微粒子修飾剤で修飾し、ポリメチルメタア
クリレート（ＰＭＭＡ）等の透明性高分子と反応させる
ことにより半導体微粒子を含有する高分子材料を得る方
法である。この発明は一定の成果を上げており、極めて
有意義なものである。
従来の技術の問題点に鑑み、このような課題を解決する
ため鋭意研究を行ってきた。その成果の一つが、特開平
１１−４３５５６号に開示されている発明である。この
発明は、ＺｎＳ等の半導体微粒子を、アミノ基等の反応
性基を有する微粒子修飾剤で修飾し、ポリメチルメタア
クリレート（ＰＭＭＡ）等の透明性高分子と反応させる
ことにより半導体微粒子を含有する高分子材料を得る方
法である。この発明は一定の成果を上げており、極めて
有意義なものである。
【００１２】本発明者らは、この発明と比較して、使用
可能な高分子や微粒子の種類のレパートリーをさらに広
範囲なものとし、微粒子含有高分子の不溶化を抑制し、
成形加工性をより改善すべく、さらに検討を進めた。
可能な高分子や微粒子の種類のレパートリーをさらに広
範囲なものとし、微粒子含有高分子の不溶化を抑制し、
成形加工性をより改善すべく、さらに検討を進めた。
【００１３】本発明者らは、微粒子含有高分子材料の製
造を更に改良するため鋭意検討した結果、より応用範囲
が広い製造法を開発し、新規な成形加工が可能な微粒子
含有高分子材料を見出し本発明を完成させた。
造を更に改良するため鋭意検討した結果、より応用範囲
が広い製造法を開発し、新規な成形加工が可能な微粒子
含有高分子材料を見出し本発明を完成させた。
【００１４】すなわち、本発明は、以下の［１］〜［３
０］に記載した事項により特定される。
０］に記載した事項により特定される。
【００１５】［１］ 無機微粒子（成分（Ａ））が結合
した有機高分子（成分（Ｂ））を含有してなり、熱可塑
性、及び／又は、溶剤溶解性を有し、かつ、数式（１）
〜数式（３）の全てをを満足することを特徴とする高屈
折率を有する透明性高分子材料。 ［数３１］ ０［ｎｍ］ ＜ Ｒ［ｎｍ］ ≦ λ［ｎｍ］ （１） ［数３２］ １．５５ ≦ Ｋ （２） ［数３３］ ７５％ ≦ Ｔ％ ≦ １００％ （３） （数式（１）において、Ｒは、無機微粒子の平均直径で
あり、λは本請求項発明に係る高分子材料を透過する光
の波長である。数式（２）において、Ｋは、本請求項発
明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際
の屈折率である。数式（３）において、Ｔは、本請求項
発明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する
際のフィルム厚さ１．０［ｍｍ］に換算したときの透過
する際の透過率％である。）
した有機高分子（成分（Ｂ））を含有してなり、熱可塑
性、及び／又は、溶剤溶解性を有し、かつ、数式（１）
〜数式（３）の全てをを満足することを特徴とする高屈
折率を有する透明性高分子材料。 ［数３１］ ０［ｎｍ］ ＜ Ｒ［ｎｍ］ ≦ λ［ｎｍ］ （１） ［数３２］ １．５５ ≦ Ｋ （２） ［数３３］ ７５％ ≦ Ｔ％ ≦ １００％ （３） （数式（１）において、Ｒは、無機微粒子の平均直径で
あり、λは本請求項発明に係る高分子材料を透過する光
の波長である。数式（２）において、Ｋは、本請求項発
明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際
の屈折率である。数式（３）において、Ｔは、本請求項
発明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する
際のフィルム厚さ１．０［ｍｍ］に換算したときの透過
する際の透過率％である。）
【００１６】［２］ 無機微粒子（成分（Ａ））と有機
高分子（成分（Ｂ））を含有してなる高分子材料であっ
て、前記無機微粒子（成分（Ａ））が、有機高分子（成
分（Ｂ））と結合しており、前記有機高分子（成分
（Ｂ））が、熱可塑性、及び／又は、溶剤溶解性を有
し、かつ、数式（１）〜数式（３）を満足することを特
徴とする、高屈折率を有する透明性高分子材料。 ［数３４］ ０［ｎｍ］ ＜ Ｒ［ｎｍ］ ≦ λ［ｎｍ］ （１） ［数３５］ １．５５ ≦ Ｋ （２） ［数３６］ ７５％ ≦ Ｔ％ ≦ １００％ （３） （数式（１）において、Ｒは、無機微粒子の平均直径で
あり、λは本請求項発明に係る高分子材料を透過する光
の波長である。数式（２）において、Ｋは、本請求項発
明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際
の屈折率である。数式（３）において、Ｔは、本請求項
発明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する
際のフィルム厚さ１．０［ｍｍ］に換算したときの透過
する際の透過率％である。）
高分子（成分（Ｂ））を含有してなる高分子材料であっ
て、前記無機微粒子（成分（Ａ））が、有機高分子（成
分（Ｂ））と結合しており、前記有機高分子（成分
（Ｂ））が、熱可塑性、及び／又は、溶剤溶解性を有
し、かつ、数式（１）〜数式（３）を満足することを特
徴とする、高屈折率を有する透明性高分子材料。 ［数３４］ ０［ｎｍ］ ＜ Ｒ［ｎｍ］ ≦ λ［ｎｍ］ （１） ［数３５］ １．５５ ≦ Ｋ （２） ［数３６］ ７５％ ≦ Ｔ％ ≦ １００％ （３） （数式（１）において、Ｒは、無機微粒子の平均直径で
あり、λは本請求項発明に係る高分子材料を透過する光
の波長である。数式（２）において、Ｋは、本請求項発
明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際
の屈折率である。数式（３）において、Ｔは、本請求項
発明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する
際のフィルム厚さ１．０［ｍｍ］に換算したときの透過
する際の透過率％である。）
【００１７】［３］ 成形加工性を有することを特徴と
する［１］又は［２］に記載した、高屈折率を有する透
明性高分子材料。
する［１］又は［２］に記載した、高屈折率を有する透
明性高分子材料。
【００１８】［４］ 成形加工性が、溶融成形法、射出
成形法、押出成形法、及び、キャスト成形法からなる一
群の成形法から選択された少なくとも一つの成形法によ
り成形加工することが可能な性質であることを特徴とす
る、［３］に記載した高屈折率を有する透明性高分子材
料。
成形法、押出成形法、及び、キャスト成形法からなる一
群の成形法から選択された少なくとも一つの成形法によ
り成形加工することが可能な性質であることを特徴とす
る、［３］に記載した高屈折率を有する透明性高分子材
料。
【００１９】［５］ 数式（４）で表される屈折率差Δ
Ｋが、数式（５）を満足することを特徴とする［１］乃
至［４］の何れかに記載した高屈折率を有する透明性高
分子材料。 ［数３７］ ΔＫ ＝ Ｋ − Ｋ0 （４） ［数３８］ ΔＫ ≧ ０．０１５ （５） （数式（４）及び数式（５）において、ΔＫは、屈折率
差である。
Ｋが、数式（５）を満足することを特徴とする［１］乃
至［４］の何れかに記載した高屈折率を有する透明性高
分子材料。 ［数３７］ ΔＫ ＝ Ｋ − Ｋ0 （４） ［数３８］ ΔＫ ≧ ０．０１５ （５） （数式（４）及び数式（５）において、ΔＫは、屈折率
差である。
【００２０】数式（４）において、本請求項発明に係る
高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率
である。数式（４）において、Ｋ0は、無機微粒子（成
分（Ａ））を含まない有機高分子（成分（Ｂ））単独の
高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率
である。）
高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率
である。数式（４）において、Ｋ0は、無機微粒子（成
分（Ａ））を含まない有機高分子（成分（Ｂ））単独の
高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率
である。）
【００２１】［６］ 数式（４）で表される屈折率差Δ
Ｋが、数式（５’）を満足することを特徴とする［１］
乃至［４］の何れかに記載した高屈折率を有する透明性
高分子材料。 ［数３９］ ΔＫ ＝ Ｋ − Ｋ0 （４） ［数４０］ ΔＫ ≦ −０．０１５ （５’） （数式（４）及び数式（５’）において、ΔＫは、屈折
率差である。
Ｋが、数式（５’）を満足することを特徴とする［１］
乃至［４］の何れかに記載した高屈折率を有する透明性
高分子材料。 ［数３９］ ΔＫ ＝ Ｋ − Ｋ0 （４） ［数４０］ ΔＫ ≦ −０．０１５ （５’） （数式（４）及び数式（５’）において、ΔＫは、屈折
率差である。
【００２２】数式（４）において、Ｋは、本請求項発明
に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の
屈折率である。数式（４）において、Ｋ0は、無機微粒
子（成分（Ａ））を含まない有機高分子（成分（Ｂ））
単独の高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の
屈折率である。）
に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の
屈折率である。数式（４）において、Ｋ0は、無機微粒
子（成分（Ａ））を含まない有機高分子（成分（Ｂ））
単独の高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の
屈折率である。）
【００２３】［７］ 成形品としたときに、数式（６）
を満足する透明性を有することを特徴とする、［１］乃
至［６］の何れかに記載した高屈折率を有する透明性高
分子材料。 ［数４１］ ７５％ ≦ Ｔ’％ ≦ １００％ （６） （数式（６）においてＴ’は、成形品を波長λ［ｎｍ］
の光が透過する際の、フィルム厚さ１．０ｍｍに換算し
た透過率％である。）
を満足する透明性を有することを特徴とする、［１］乃
至［６］の何れかに記載した高屈折率を有する透明性高
分子材料。 ［数４１］ ７５％ ≦ Ｔ’％ ≦ １００％ （６） （数式（６）においてＴ’は、成形品を波長λ［ｎｍ］
の光が透過する際の、フィルム厚さ１．０ｍｍに換算し
た透過率％である。）
【００２４】［８］ 数式（７）で表される無機微粒子
（成分（Ａ））の組成比ＲAが、数式（８）を満足する
ものであることを特徴とする、［１］乃至［７］の何れ
かに記載した高屈折率を有する透明性高分子材料。 ［数４２］ ＲA ＝ ＷA ÷ （ ＷA ＋ ＷB） × １００ （７） ［数４３］ １％ ≦ ＲA ≦ ９９％ （８） （数式（７）及び数式（８）において、ＲAは、無機微
粒子（成分（Ａ））の組成比［重量％］である。数式
（７）において、ＷAは、高分子材料中に含まれる無機
微粒子（成分（Ａ））の重量［ｇ］であり、ＷBは、高
分子材料中に含まれる有機高分子（成分（Ｂ））の重量
である。）
（成分（Ａ））の組成比ＲAが、数式（８）を満足する
ものであることを特徴とする、［１］乃至［７］の何れ
かに記載した高屈折率を有する透明性高分子材料。 ［数４２］ ＲA ＝ ＷA ÷ （ ＷA ＋ ＷB） × １００ （７） ［数４３］ １％ ≦ ＲA ≦ ９９％ （８） （数式（７）及び数式（８）において、ＲAは、無機微
粒子（成分（Ａ））の組成比［重量％］である。数式
（７）において、ＷAは、高分子材料中に含まれる無機
微粒子（成分（Ａ））の重量［ｇ］であり、ＷBは、高
分子材料中に含まれる有機高分子（成分（Ｂ））の重量
である。）
【００２５】［９］ 数式（７）で表される無機微粒子
（成分（Ａ））の組成比ＲAが、数式（８’）を満足す
るものであることを特徴とする、［１］乃至［７］の何
れかに記載した高屈折率を有する透明性高分子材料。 ［数４４］ ＲA ＝ ＷA ÷ （ ＷA ＋ ＷB） × １００ （７） ［数４５］ ５％ ≦ ＲA ≦ ９９％ （８’） （数式（７）及び数式（８’）において、ＲAは、無機
微粒子（成分（Ａ））の組成比［重量％］である。数式
（７）において、ＷAは、高分子材料中に含まれる無機
微粒子（成分（Ａ））の重量［ｇ］であり、ＷBは、高
分子材料中に含まれる有機高分子（成分（Ｂ））の重量
である。）
（成分（Ａ））の組成比ＲAが、数式（８’）を満足す
るものであることを特徴とする、［１］乃至［７］の何
れかに記載した高屈折率を有する透明性高分子材料。 ［数４４］ ＲA ＝ ＷA ÷ （ ＷA ＋ ＷB） × １００ （７） ［数４５］ ５％ ≦ ＲA ≦ ９９％ （８’） （数式（７）及び数式（８’）において、ＲAは、無機
微粒子（成分（Ａ））の組成比［重量％］である。数式
（７）において、ＷAは、高分子材料中に含まれる無機
微粒子（成分（Ａ））の重量［ｇ］であり、ＷBは、高
分子材料中に含まれる有機高分子（成分（Ｂ））の重量
である。）
【００２６】［１０］ 無機微粒子（成分（Ａ））が、
無機元素の酸化化合物、硫化化合物、セレン化化合物、
及び、テルル化化合物からなる化合物群から選択された
少なくとも一種の化合物を含んでなるものであることを
特徴とする、［１］乃至［９］の何れかに記載した高屈
折率を有する透明性高分子材料。
無機元素の酸化化合物、硫化化合物、セレン化化合物、
及び、テルル化化合物からなる化合物群から選択された
少なくとも一種の化合物を含んでなるものであることを
特徴とする、［１］乃至［９］の何れかに記載した高屈
折率を有する透明性高分子材料。
【００２７】［１１］ 無機元素が、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｐ
ｂ、及び、Ｓｂからなる群から選択された少なくとも一
種であることを特徴とする、［１０］に記載した高屈折
率を有する透明性高分子材料。
ｂ、及び、Ｓｂからなる群から選択された少なくとも一
種であることを特徴とする、［１０］に記載した高屈折
率を有する透明性高分子材料。
【００２８】［１２］ 有機高分子（成分（Ｂ））が、
ポリスチレン系高分子、ポリアクリレート系高分子、ポ
リメタクリレート系高分子、ポリカーボネート系高分
子、ポリスルフォン系高分子、ポリアミド系高分子、及
び、ポリヒドロキシエーテル系高分子からなる群から選
択された少なくとも一種であることを特徴とする、
［１］乃至［１１］の何れかに記載した高屈折率を有す
る透明性高分子材料。
ポリスチレン系高分子、ポリアクリレート系高分子、ポ
リメタクリレート系高分子、ポリカーボネート系高分
子、ポリスルフォン系高分子、ポリアミド系高分子、及
び、ポリヒドロキシエーテル系高分子からなる群から選
択された少なくとも一種であることを特徴とする、
［１］乃至［１１］の何れかに記載した高屈折率を有す
る透明性高分子材料。
【００２９】［１３］ 結合が、共有結合、イオン結
合、配位結合、水素結合、及び、ファンデルワールス結
合からなる結合様式群から選択された少なくとも一つで
あることを特徴とする、［１］乃至［１２］の何れかに
記載した高屈折率を有する透明性高分子材料。
合、配位結合、水素結合、及び、ファンデルワールス結
合からなる結合様式群から選択された少なくとも一つで
あることを特徴とする、［１］乃至［１２］の何れかに
記載した高屈折率を有する透明性高分子材料。
【００３０】［１４］ 屈折率Ｋが、数式（２’）で表
されることを特徴とする、［１］乃至［１３］の何れか
に記載した高屈折率を有する透明性高分子材料。 ［数４６］ １．６０ ≦ Ｋ （２’） （数式（２’）において、Ｋは、本請求項発明に係る高
分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率で
ある。）
されることを特徴とする、［１］乃至［１３］の何れか
に記載した高屈折率を有する透明性高分子材料。 ［数４６］ １．６０ ≦ Ｋ （２’） （数式（２’）において、Ｋは、本請求項発明に係る高
分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率で
ある。）
【００３１】［１５］ 無機微粒子（成分（Ａ））が共
有結合した有機高分子（成分（Ｂ））を含有してなり、
熱可塑性、及び／又は、溶剤溶解性を有し、かつ、数式
（１）〜数式（３）を満足することを特徴とする高屈折
率を有する透明性高分子材料の製造方法であって、未反
応有機高分子（Ｂ0）の有する官能基と反応性のある官
能基を有することを特徴とする未反応無機微粒子（Ａ
0）と、前記未反応無機微粒子（Ａ0）の有する官能基と
反応性のある官能基を有することを特徴とする未反応有
機高分子（Ｂ0）を反応させることを特徴とする、前記
した高屈折率を有する透明性高分子材料の製造方法。 ［数４７］ ０［ｎｍ］ ＜ Ｒ［ｎｍ］ ≦ λ［ｎｍ］ （１） ［数４８］ １．５５ ≦ Ｋ （２） ［数４９］ ７５％ ≦ Ｔ％ ≦ １００％ （３） （数式（１）において、Ｒは、無機微粒子の平均直径で
あり、λは本請求項発明に係る製造方法により得られる
高分子材料を透過する光の波長である。数式（２）にお
いて、Ｋは、本請求項発明に係る製造方法により得られ
る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折
率である。数式（３）において、Ｔは、本請求項発明に
係る製造方法により得られる高分子材料を波長λ［ｎ
ｍ］の光が透過する際の透過する際のフィルム厚さ１．
０［ｍｍ］に換算したときの透過率％である。）
有結合した有機高分子（成分（Ｂ））を含有してなり、
熱可塑性、及び／又は、溶剤溶解性を有し、かつ、数式
（１）〜数式（３）を満足することを特徴とする高屈折
率を有する透明性高分子材料の製造方法であって、未反
応有機高分子（Ｂ0）の有する官能基と反応性のある官
能基を有することを特徴とする未反応無機微粒子（Ａ
0）と、前記未反応無機微粒子（Ａ0）の有する官能基と
反応性のある官能基を有することを特徴とする未反応有
機高分子（Ｂ0）を反応させることを特徴とする、前記
した高屈折率を有する透明性高分子材料の製造方法。 ［数４７］ ０［ｎｍ］ ＜ Ｒ［ｎｍ］ ≦ λ［ｎｍ］ （１） ［数４８］ １．５５ ≦ Ｋ （２） ［数４９］ ７５％ ≦ Ｔ％ ≦ １００％ （３） （数式（１）において、Ｒは、無機微粒子の平均直径で
あり、λは本請求項発明に係る製造方法により得られる
高分子材料を透過する光の波長である。数式（２）にお
いて、Ｋは、本請求項発明に係る製造方法により得られ
る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折
率である。数式（３）において、Ｔは、本請求項発明に
係る製造方法により得られる高分子材料を波長λ［ｎ
ｍ］の光が透過する際の透過する際のフィルム厚さ１．
０［ｍｍ］に換算したときの透過率％である。）
【００３２】［１６］ 未反応有機高分子（Ｂ0）が、
表面化学修飾無機微粒子であることを特徴とする、［１
５］に記載した、高屈折率を有する透明性高分子材料の
製造方法。
表面化学修飾無機微粒子であることを特徴とする、［１
５］に記載した、高屈折率を有する透明性高分子材料の
製造方法。
【００３３】［１７］ 表面化学修飾無機微粒子が、ト
シル基、アミノ基、水酸基、チオール基、イソシアネー
ト基、及び、活性水素基からなる官能基群から選択され
た少なくとも一つの官能基を有するものであることを特
徴とする、［１６］に記載した、高屈折率を有する透明
性高分子材料の製造方法。
シル基、アミノ基、水酸基、チオール基、イソシアネー
ト基、及び、活性水素基からなる官能基群から選択され
た少なくとも一つの官能基を有するものであることを特
徴とする、［１６］に記載した、高屈折率を有する透明
性高分子材料の製造方法。
【００３４】［１８］ 未反応無機微粒子（Ａ0）の有
する官能基、及び、未反応有機高分子（Ｂ0）の有する
官能基が、一方の官能基が、イソシアネート基であり、
他方の官能基が、活性水素基であることを特徴とする、
［１５］乃至［１７］の何れかに記載した高屈折率を有
する透明性高分子材料の製造方法。
する官能基、及び、未反応有機高分子（Ｂ0）の有する
官能基が、一方の官能基が、イソシアネート基であり、
他方の官能基が、活性水素基であることを特徴とする、
［１５］乃至［１７］の何れかに記載した高屈折率を有
する透明性高分子材料の製造方法。
【００３５】［１９］ 未反応無機微粒子（Ａ0）の有
する官能基、及び、未反応有機高分子（Ｂ0）の有する
官能基が、一方の官能基が、トシル基であり、他方の官
能基が、アミノ基、水酸基、及び、チオール基からなる
官能基群から選択された少なくとも一つであることを特
徴とする、［１５］乃至［１７］の何れかに記載した高
屈折率を有する透明性高分子材料の製造方法。
する官能基、及び、未反応有機高分子（Ｂ0）の有する
官能基が、一方の官能基が、トシル基であり、他方の官
能基が、アミノ基、水酸基、及び、チオール基からなる
官能基群から選択された少なくとも一つであることを特
徴とする、［１５］乃至［１７］の何れかに記載した高
屈折率を有する透明性高分子材料の製造方法。
【００３６】［２０］ 数式（４’）で表される屈折率
差ΔＫが、数式（５）を満足することを特徴とする［１
５］乃至［１９］の何れかに記載した高屈折率を有する
透明性高分子材料の製造方法。 ［数５０］ ΔＫ ＝ Ｋ − Ｋ0 （４’） ［数５１］ ΔＫ ≧ ０．０１５ （５） （数式（４’）及び数式（５）において、ΔＫは、屈折
率差である。
差ΔＫが、数式（５）を満足することを特徴とする［１
５］乃至［１９］の何れかに記載した高屈折率を有する
透明性高分子材料の製造方法。 ［数５０］ ΔＫ ＝ Ｋ − Ｋ0 （４’） ［数５１］ ΔＫ ≧ ０．０１５ （５） （数式（４’）及び数式（５）において、ΔＫは、屈折
率差である。
【００３７】数式（４’）において、Ｋは、無機微粒子
（成分（Ａ））が共有結合した有機高分子（成分
（Ｂ））を含有してなる高分子材料を波長λ［ｎｍ］の
光が透過する際の屈折率である。数式（４）において、
Ｋ0は、未反応有機高分子（Ｂ0）単独の高分子材料を波
長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率である。）
（成分（Ａ））が共有結合した有機高分子（成分
（Ｂ））を含有してなる高分子材料を波長λ［ｎｍ］の
光が透過する際の屈折率である。数式（４）において、
Ｋ0は、未反応有機高分子（Ｂ0）単独の高分子材料を波
長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率である。）
【００３８】［２１］ 数式（４’）で表される屈折率
差ΔＫが、数式（５）を満足することを特徴とする［１
５］乃至［１９］の何れかに記載した高屈折率を有する
透明性高分子材料の製造方法。 ［数５２］ ΔＫ ＝ Ｋ − Ｋ0 （４’） ［数５３］ ΔＫ ≦ −０．０１５ （５’） （数式（４’）及び数式（５’）において、ΔＫは、屈
折率差である。
差ΔＫが、数式（５）を満足することを特徴とする［１
５］乃至［１９］の何れかに記載した高屈折率を有する
透明性高分子材料の製造方法。 ［数５２］ ΔＫ ＝ Ｋ − Ｋ0 （４’） ［数５３］ ΔＫ ≦ −０．０１５ （５’） （数式（４’）及び数式（５’）において、ΔＫは、屈
折率差である。
【００３９】数式（４’）において、Ｋは、無機微粒子
（成分（Ａ））が共有結合した有機高分子（成分
（Ｂ））を含有してなる高分子材料を波長λ［ｎｍ］の
光が透過する際の屈折率である。数式（４’）におい
て、Ｋ0は、未反応有機高分子（Ｂ0）単独の高分子材料
を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率である。）
（成分（Ａ））が共有結合した有機高分子（成分
（Ｂ））を含有してなる高分子材料を波長λ［ｎｍ］の
光が透過する際の屈折率である。数式（４’）におい
て、Ｋ0は、未反応有機高分子（Ｂ0）単独の高分子材料
を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率である。）
【００４０】［２２］ 数式（７’）で表される無機微
粒子（成分（Ａ））の組成比ＲAが、数式（８''）を満
足するものであることを特徴とする、［１５］乃至［２
１］の何れかに記載した高屈折率を有する透明性高分子
材料の製造方法。 ［数５４］ ＲA ＝ ＷA ÷ （ ＷA ＋ ＷB） × １００ （７’） ［数５５］ １％ ≦ ＲA ≦ ９９％ （８''） （数式（７’）及び数式（８''）において、ＲAは、無
機微粒子（成分（Ａ））の組成比［重量％］である。数
式（７’）において、ＷAは、未反応無機微粒子（Ａ0）
の重量［ｇ］であり、ＷBは、未反応有機高分子（Ｂ0）
の重量である。） ［２３］ 数式（７’）で表される無機微粒子（成分
（Ａ））の組成比ＲAが、数式（８'''）を満足するもの
であることを特徴とする、［１５］乃至［２１］の何れ
かに記載した高屈折率を有する透明性高分子材料の製造
方法。 ［数５６］ ＲA ＝ ＷA ÷ （ ＷA ＋ ＷB） × １００ （７’） ［数５７］ ５％ ≦ ＲA ≦ ９９％ （８'''） （数式（７’）及び数式（８'''）において、ＲAは、無
機微粒子（成分（Ａ））の組成比［重量％］である。数
式（７’）において、ＷAは、未反応無機微粒子（Ａ0）
の重量［ｇ］であり、ＷBは、未反応有機高分子（Ｂ0）
の重量である。）
粒子（成分（Ａ））の組成比ＲAが、数式（８''）を満
足するものであることを特徴とする、［１５］乃至［２
１］の何れかに記載した高屈折率を有する透明性高分子
材料の製造方法。 ［数５４］ ＲA ＝ ＷA ÷ （ ＷA ＋ ＷB） × １００ （７’） ［数５５］ １％ ≦ ＲA ≦ ９９％ （８''） （数式（７’）及び数式（８''）において、ＲAは、無
機微粒子（成分（Ａ））の組成比［重量％］である。数
式（７’）において、ＷAは、未反応無機微粒子（Ａ0）
の重量［ｇ］であり、ＷBは、未反応有機高分子（Ｂ0）
の重量である。） ［２３］ 数式（７’）で表される無機微粒子（成分
（Ａ））の組成比ＲAが、数式（８'''）を満足するもの
であることを特徴とする、［１５］乃至［２１］の何れ
かに記載した高屈折率を有する透明性高分子材料の製造
方法。 ［数５６］ ＲA ＝ ＷA ÷ （ ＷA ＋ ＷB） × １００ （７’） ［数５７］ ５％ ≦ ＲA ≦ ９９％ （８'''） （数式（７’）及び数式（８'''）において、ＲAは、無
機微粒子（成分（Ａ））の組成比［重量％］である。数
式（７’）において、ＷAは、未反応無機微粒子（Ａ0）
の重量［ｇ］であり、ＷBは、未反応有機高分子（Ｂ0）
の重量である。）
【００４１】［２４］ 無機微粒子（成分（Ａ））が、
無機元素の酸化化合物、硫化化合物、セレン化化合物、
及び、テルル化化合物からなる化合物群から選択された
少なくとも一種の化合物を含んでなるものであることを
特徴とする、［１５］乃至［２３］の何れかに記載した
高屈折率を有する透明性高分子材料の製造方法。
無機元素の酸化化合物、硫化化合物、セレン化化合物、
及び、テルル化化合物からなる化合物群から選択された
少なくとも一種の化合物を含んでなるものであることを
特徴とする、［１５］乃至［２３］の何れかに記載した
高屈折率を有する透明性高分子材料の製造方法。
【００４２】［２５］ 無機元素が、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｐ
ｂ、及び、Ｓｂからなる群から選択された少なくとも一
種であることを特徴とする、［２４］に記載した高屈折
率を有する透明性高分子材料の製造方法。
ｂ、及び、Ｓｂからなる群から選択された少なくとも一
種であることを特徴とする、［２４］に記載した高屈折
率を有する透明性高分子材料の製造方法。
【００４３】［２６］ 有機高分子（成分（Ｂ））が、
ポリスチレン系高分子、ポリアクリレート系高分子、ポ
リメタクリレート系高分子、ポリカーボネート系高分
子、ポリスルフォン系高分子、ポリアミド系高分子、及
び、ポリヒドロキシエーテル系高分子からなる群から選
択された少なくとも一種であることを特徴とする、［１
５］乃至［２５］の何れかに記載した高屈折率を有する
透明性高分子材料の製造方法。
ポリスチレン系高分子、ポリアクリレート系高分子、ポ
リメタクリレート系高分子、ポリカーボネート系高分
子、ポリスルフォン系高分子、ポリアミド系高分子、及
び、ポリヒドロキシエーテル系高分子からなる群から選
択された少なくとも一種であることを特徴とする、［１
５］乃至［２５］の何れかに記載した高屈折率を有する
透明性高分子材料の製造方法。
【００４４】［２７］ ［１５］乃至［２６］の何れか
に記載した製造方法により得られた、無機微粒子（成分
（Ａ））が共有結合した有機高分子（成分（Ｂ））を含
有してなり、熱可塑性、及び／又は、溶剤溶解性を有す
ることを特徴とする高屈折率を有する透明性高分子材
料。
に記載した製造方法により得られた、無機微粒子（成分
（Ａ））が共有結合した有機高分子（成分（Ｂ））を含
有してなり、熱可塑性、及び／又は、溶剤溶解性を有す
ることを特徴とする高屈折率を有する透明性高分子材
料。
【００４５】［２８］ ［１］乃至［１４］の何れか、
又は、［２７］に記載した高屈折率を有する透明性高分
子材料を含んでなる光学成形体。
又は、［２７］に記載した高屈折率を有する透明性高分
子材料を含んでなる光学成形体。
【００４６】［２９］ ［１］乃至［１４］の何れか、
又は、［２７］に記載した高屈折率を有する透明性高分
子材料を含んでなるレンズ。
又は、［２７］に記載した高屈折率を有する透明性高分
子材料を含んでなるレンズ。
【００４７】［３０］ ［１］乃至［１４］］の何れ
か、又は、［２７］に記載した高屈折率を有する透明性
高分子材料を含んでなる眼鏡用レンズ。
か、又は、［２７］に記載した高屈折率を有する透明性
高分子材料を含んでなる眼鏡用レンズ。
【００４８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態の詳細
につき説明する。
につき説明する。
【００４９】［語『微粒子』の概念］本出願明細書にお
いて使用する『微粒子』なる語の概念は、本発明に係る
微粒子含有高分子材料を、成形加工して光学素子（例え
ば、光学成形体やレンズ等）として使用する際に、その
光学素子を透過する光の少なくとも一部（好ましくは透
過率５０〜１００％）を散乱させずに直行させるに十分
なほどの粒径（粒子直径）を有する粒子を包含する。例
えば、本発明に係る微粒子含有高分子材料を、成形加工
して光学素子（例えば、光学成形体やレンズ等）として
使用する際に、その光学素子を透過する光の波長以下の
粒径（粒子直径）を有する粒子を包含する。
いて使用する『微粒子』なる語の概念は、本発明に係る
微粒子含有高分子材料を、成形加工して光学素子（例え
ば、光学成形体やレンズ等）として使用する際に、その
光学素子を透過する光の少なくとも一部（好ましくは透
過率５０〜１００％）を散乱させずに直行させるに十分
なほどの粒径（粒子直径）を有する粒子を包含する。例
えば、本発明に係る微粒子含有高分子材料を、成形加工
して光学素子（例えば、光学成形体やレンズ等）として
使用する際に、その光学素子を透過する光の波長以下の
粒径（粒子直径）を有する粒子を包含する。
【００５０】［微粒子の粒径］微粒子の粒径（粒子直
径）の最大限度は、本発明に係る微粒子含有高分子材料
を、成形加工して光学素子（例えば、光学成形体やレン
ズ等）として使用する際に、その光学素子を透過する光
の透明性（好ましくは透過率５０〜１００％）を担保で
きる限り制限はない。微粒子の粒径（粒子直径）の最大
限度は、例えば、平均粒径が１０００ｎｍ以下、好まし
くは３００ｎｍ以下、さらに好ましくは１００ｎｍ以下
であることが好ましい。また、特定の波長でこの材料を
用いる場合には、微粒子の平均粒径（平均粒子直径）は
少なくとも、好ましくはその波長の１００％以下、より
好ましくはその波長の８０％以下、さらに好ましくはそ
の波長の６０％以下、さらに好ましくはその波長の５０
％以下であることが望ましい。微粒子の粒径（粒子直
径）の最低限度は、高屈折性等利用する微粒子の特性が
保てる限り特に制限はないが、通常は平均粒径（平均粒
子直径）は０．１ｎｍ以上、好ましくは１ｎｍ以上であ
る。微粒子が有機物により修飾されている場合には、こ
こでいう微粒子の粒径とは有機成分を除いた無機部分の
みの粒径（粒子直径）を意味する。粒径（粒子直径）の
分布にも最終的な材料の透明性を保てる限り特に制限は
ない。下記に示すような官能基導入微粒子の作成法を用
いた場合には、ほとんどの場合粒径分布は十分小さく問
題を生じない。
径）の最大限度は、本発明に係る微粒子含有高分子材料
を、成形加工して光学素子（例えば、光学成形体やレン
ズ等）として使用する際に、その光学素子を透過する光
の透明性（好ましくは透過率５０〜１００％）を担保で
きる限り制限はない。微粒子の粒径（粒子直径）の最大
限度は、例えば、平均粒径が１０００ｎｍ以下、好まし
くは３００ｎｍ以下、さらに好ましくは１００ｎｍ以下
であることが好ましい。また、特定の波長でこの材料を
用いる場合には、微粒子の平均粒径（平均粒子直径）は
少なくとも、好ましくはその波長の１００％以下、より
好ましくはその波長の８０％以下、さらに好ましくはそ
の波長の６０％以下、さらに好ましくはその波長の５０
％以下であることが望ましい。微粒子の粒径（粒子直
径）の最低限度は、高屈折性等利用する微粒子の特性が
保てる限り特に制限はないが、通常は平均粒径（平均粒
子直径）は０．１ｎｍ以上、好ましくは１ｎｍ以上であ
る。微粒子が有機物により修飾されている場合には、こ
こでいう微粒子の粒径とは有機成分を除いた無機部分の
みの粒径（粒子直径）を意味する。粒径（粒子直径）の
分布にも最終的な材料の透明性を保てる限り特に制限は
ない。下記に示すような官能基導入微粒子の作成法を用
いた場合には、ほとんどの場合粒径分布は十分小さく問
題を生じない。
【００５１】［微粒子と高分子の結合］本発明の最大の
特徴は、無機微粒子と高分子が結合している点にある。
この結合により微粒子の凝集を防ぐことが可能になる。
さらに、一部の先行技術のように、架橋性樹脂と微粒子
を混合し、硬化と同時に微粒子と樹脂を結合させた溶媒
溶解性、成形加工性の無い架橋高分子ではなく、微粒子
と高分子が結合した状態でも溶媒溶解性、成形加工性を
有する点に特徴がある。ここでいう結合は、微粒子の凝
集を防ぐために十分なとは強度を持ち、実際の使用条件
で十分な安定性を持つ結合であれば特に制限はないが、
結合の強度、安定性の点からは物理的結合よりは、共有
結合、イオン結合、配位結合等の化学結合が望ましく、
特に共有結合が最も望ましい。
特徴は、無機微粒子と高分子が結合している点にある。
この結合により微粒子の凝集を防ぐことが可能になる。
さらに、一部の先行技術のように、架橋性樹脂と微粒子
を混合し、硬化と同時に微粒子と樹脂を結合させた溶媒
溶解性、成形加工性の無い架橋高分子ではなく、微粒子
と高分子が結合した状態でも溶媒溶解性、成形加工性を
有する点に特徴がある。ここでいう結合は、微粒子の凝
集を防ぐために十分なとは強度を持ち、実際の使用条件
で十分な安定性を持つ結合であれば特に制限はないが、
結合の強度、安定性の点からは物理的結合よりは、共有
結合、イオン結合、配位結合等の化学結合が望ましく、
特に共有結合が最も望ましい。
【００５２】［微粒子の材料］本発明に用いられる無機
微粒子の種類としては、安定な固体状無機物質であれば
特に制限はないが、例を挙げればシリコン、ゲルマニウ
ム微粒子等の４族元素微粒子、ＴｉＯ2やＺｎＯ、Ｃｄ
Ｏ、ＰｂＯ、ＳｉＯ2、Ｓｂ2Ｏ5等の酸化物微粒子、Ｃ
ｄＳ、ＣｄＳｅ、ＺｎＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、Ｈｇ
Ｓ、ＨｇＳｅ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ等の硫化物、セレン化
物、テルル化物微粒子、窒化チタン、窒化シリコン等の
窒化物、ＣａＦ2等のフッ素化物、Ａｇ、Ｃｕ等の金属
微粒子等が挙げられる。このうち、透明性が必要な用途
においては、透明性を有し無色の酸化物、硫化物等の微
粒子が好ましい。特に好ましい微粒子の例はＴｉＯ2、
ＺｎＳ、ＰｂＯ、Ｓｂ2Ｏ5等である。
微粒子の種類としては、安定な固体状無機物質であれば
特に制限はないが、例を挙げればシリコン、ゲルマニウ
ム微粒子等の４族元素微粒子、ＴｉＯ2やＺｎＯ、Ｃｄ
Ｏ、ＰｂＯ、ＳｉＯ2、Ｓｂ2Ｏ5等の酸化物微粒子、Ｃ
ｄＳ、ＣｄＳｅ、ＺｎＳｅ、ＣｄＴｅ、ＺｎＳ、Ｈｇ
Ｓ、ＨｇＳｅ、ＰｂＳ、ＰｂＳｅ等の硫化物、セレン化
物、テルル化物微粒子、窒化チタン、窒化シリコン等の
窒化物、ＣａＦ2等のフッ素化物、Ａｇ、Ｃｕ等の金属
微粒子等が挙げられる。このうち、透明性が必要な用途
においては、透明性を有し無色の酸化物、硫化物等の微
粒子が好ましい。特に好ましい微粒子の例はＴｉＯ2、
ＺｎＳ、ＰｂＯ、Ｓｂ2Ｏ5等である。
【００５３】［官能基導入表面化学修飾微粒子の作成
法］本発明で用いられる無機微粒子は、表面に官能基を
導入する必要がある。また、微粒子どうしの凝集を防ぐ
ためには表面が有機物で修飾されていることが望まし
い。微粒子に官能基を導入する方法としては、特開平１
１−４３５５６号に記載されている官能基を有する表面
修飾剤の存在下で微粒子を作成する方法、微粒子分散溶
液に官能基を有するシランカップリング剤、チタンカッ
プリング剤等のカップリング剤例えばγグリシジルプロ
ピルトリメトキシシランを加えて表面修飾する方法等既
知の方法が使用可能である。この中で、微粒子の粒径お
よびその分布の制御、導入する表面修飾剤と官能基の量
の制御等が容易なため、特開平１１−４３５５６号に記
載されている官能基を有する表面修飾剤の存在下で微粒
子を作成する方法が好ましい。微粒子への官能基の導入
量は、最終的に得られる高分子の微粒子による架橋を防
ぐため必要最小限にする必要がある。これは、官能基を
有する修飾剤、カップリング剤と官能基を持たない修飾
剤、カップリング剤との比率を調節することにより制御
可能である。この比率は高分子との反応における官能基
の反応性によっても変化するが、官能基を有する修飾剤
等のモル比の上限はは通常５０％以下、好ましくは３０
％以下であるさらに好ましくは１０％以下である。ま
た、下限は通常０．０１％以上好ましくは０．１％以上
である。
法］本発明で用いられる無機微粒子は、表面に官能基を
導入する必要がある。また、微粒子どうしの凝集を防ぐ
ためには表面が有機物で修飾されていることが望まし
い。微粒子に官能基を導入する方法としては、特開平１
１−４３５５６号に記載されている官能基を有する表面
修飾剤の存在下で微粒子を作成する方法、微粒子分散溶
液に官能基を有するシランカップリング剤、チタンカッ
プリング剤等のカップリング剤例えばγグリシジルプロ
ピルトリメトキシシランを加えて表面修飾する方法等既
知の方法が使用可能である。この中で、微粒子の粒径お
よびその分布の制御、導入する表面修飾剤と官能基の量
の制御等が容易なため、特開平１１−４３５５６号に記
載されている官能基を有する表面修飾剤の存在下で微粒
子を作成する方法が好ましい。微粒子への官能基の導入
量は、最終的に得られる高分子の微粒子による架橋を防
ぐため必要最小限にする必要がある。これは、官能基を
有する修飾剤、カップリング剤と官能基を持たない修飾
剤、カップリング剤との比率を調節することにより制御
可能である。この比率は高分子との反応における官能基
の反応性によっても変化するが、官能基を有する修飾剤
等のモル比の上限はは通常５０％以下、好ましくは３０
％以下であるさらに好ましくは１０％以下である。ま
た、下限は通常０．０１％以上好ましくは０．１％以上
である。
【００５４】［使用する高分子の種類］本発明におい
て、微粒子と高分子を反応させて微粒子含有高分子を作
成する場合に使用可能な高分子材料は、熱可塑性を有し
成形可能で、反応性官能基を有する無機微粒子と反応す
る官能基を有するものであればどのようなものでも使用
可能である。但し、無機微粒子と反応させる必要がある
ため溶剤に可溶なものが望ましい。基本的な高分子の骨
格としては、ビニル系重合体として、ポリエチレン、ポ
リプロピレン等のオレフィン系重合体、ポリブタジエ
ン、ポリイソプレン等ジエン重合体、ポリスチレンおよ
びその誘導体、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エ
ステル等アクリル系重合体、ポリメタクリル酸およびポ
リメタクリル酸エステル等メタクリル系重合体、ポリ酢
酸ビニル等ポリビニルエステルおよびその誘導体、ポリ
ビニルアルコールおよびポリビニルブチラール等ポリビ
ニルアルコールの誘導体、ポリアクリロニトリル等が挙
げられる。また、縮合系高分子としては、ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、
ナイロン等のポリアミド、ポリイミドやその前駆体のポ
リアミック酸、ポリヒドロキシエーテル、ポリエーテル
等が挙げられる。これらの中では、透明性や強度の点か
らポリスチレン誘導体（ポリスチレン系高分子）、アク
リル系重合体（ポリアクリレート系高分子）、メタクリ
ル系重合体（ＰＭＭＡのようなポリメタクリレート系高
分子）、ポリカーボネート系高分子、ポリスルフォン系
高分子、ポリアミド系高分子、ポリヒドロキシエーテル
系高分子等が望ましいまた、セルロースおよびその誘導
体等天然高分子も使用可能である。高分子の分子量は、
良好な成形性を有し、材料としての十分な強度を有すれ
ば特に制限はない。分子量が低すぎると材料としての強
度が低下し、分子量が高すぎると成形加工が困難になる
傾向がある。好適な分子量の範囲は高分子の種類、微粒
子の含有量によって当然変化するが、例えば、重量平均
分子量（ＭW）として、一般的には、１，０００〜１
０，０００，０００、より好ましくは５，０００〜５，
０００，０００程度である。
て、微粒子と高分子を反応させて微粒子含有高分子を作
成する場合に使用可能な高分子材料は、熱可塑性を有し
成形可能で、反応性官能基を有する無機微粒子と反応す
る官能基を有するものであればどのようなものでも使用
可能である。但し、無機微粒子と反応させる必要がある
ため溶剤に可溶なものが望ましい。基本的な高分子の骨
格としては、ビニル系重合体として、ポリエチレン、ポ
リプロピレン等のオレフィン系重合体、ポリブタジエ
ン、ポリイソプレン等ジエン重合体、ポリスチレンおよ
びその誘導体、ポリアクリル酸およびポリアクリル酸エ
ステル等アクリル系重合体、ポリメタクリル酸およびポ
リメタクリル酸エステル等メタクリル系重合体、ポリ酢
酸ビニル等ポリビニルエステルおよびその誘導体、ポリ
ビニルアルコールおよびポリビニルブチラール等ポリビ
ニルアルコールの誘導体、ポリアクリロニトリル等が挙
げられる。また、縮合系高分子としては、ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、
ナイロン等のポリアミド、ポリイミドやその前駆体のポ
リアミック酸、ポリヒドロキシエーテル、ポリエーテル
等が挙げられる。これらの中では、透明性や強度の点か
らポリスチレン誘導体（ポリスチレン系高分子）、アク
リル系重合体（ポリアクリレート系高分子）、メタクリ
ル系重合体（ＰＭＭＡのようなポリメタクリレート系高
分子）、ポリカーボネート系高分子、ポリスルフォン系
高分子、ポリアミド系高分子、ポリヒドロキシエーテル
系高分子等が望ましいまた、セルロースおよびその誘導
体等天然高分子も使用可能である。高分子の分子量は、
良好な成形性を有し、材料としての十分な強度を有すれ
ば特に制限はない。分子量が低すぎると材料としての強
度が低下し、分子量が高すぎると成形加工が困難になる
傾向がある。好適な分子量の範囲は高分子の種類、微粒
子の含有量によって当然変化するが、例えば、重量平均
分子量（ＭW）として、一般的には、１，０００〜１
０，０００，０００、より好ましくは５，０００〜５，
０００，０００程度である。
【００５５】[高分子中の反応性官能基の種類、量]高分
子中に微粒子と反応させるために必要な官能基が存在し
ない場合は、高分子中に官能基を導入する必要がある。
その方法としては、例えばヒドロキシ化等の後処理を行
い高分子を変成する方法、高分子の合成時にグリシジル
メタクリレートや、イソシアナート基を含有するメタク
リレート等高反応性の官能基を有するモノマーを共重合
させる方法等各種の既知の方法を用いれば良い。高分子
中に導入する官能基の量は、官能基の反応性と微粒子中
の官能基の数にもよるが、反応性の高い官能基をあまり
多く導入すると微粒子との反応の際に架橋を起こしてし
まうため必要最小限にする必要がある。例えば、ビニル
系共重合体の場合官能基を有するモノマーの比率は５０
モル％以下、好ましくは２０％以下である。但し、一つ
の微粒子上の官能基数が十分小さい場合、例えば平均２
個以下程度であれば架橋の可能性は十分小さくなるので
官能基を有するモノマーの比率が１００％近い場合でも
使用可能である。
子中に微粒子と反応させるために必要な官能基が存在し
ない場合は、高分子中に官能基を導入する必要がある。
その方法としては、例えばヒドロキシ化等の後処理を行
い高分子を変成する方法、高分子の合成時にグリシジル
メタクリレートや、イソシアナート基を含有するメタク
リレート等高反応性の官能基を有するモノマーを共重合
させる方法等各種の既知の方法を用いれば良い。高分子
中に導入する官能基の量は、官能基の反応性と微粒子中
の官能基の数にもよるが、反応性の高い官能基をあまり
多く導入すると微粒子との反応の際に架橋を起こしてし
まうため必要最小限にする必要がある。例えば、ビニル
系共重合体の場合官能基を有するモノマーの比率は５０
モル％以下、好ましくは２０％以下である。但し、一つ
の微粒子上の官能基数が十分小さい場合、例えば平均２
個以下程度であれば架橋の可能性は十分小さくなるので
官能基を有するモノマーの比率が１００％近い場合でも
使用可能である。
【００５６】［微粒子と高分子中の官能基］微粒子と高
分子を反応させる場合の官能基の組み合わせとしては、
アミノ基、ヒドロキシ基等活性水素化合物とイソシアナ
ート基、トシル基、酸クロライド基、カルボキシル基等
活性水素化合物と反応する官能基の組み合わせ、エポキ
シ基とそれと反応するアミノ基、カルボキシル基との組
み合わせ等各種のものが使用可能である。無機微粒子は
酸や熱に対して不安定な場合もあるため、強酸や強アル
カリの使用、高温での反応等はあまり好ましくない。こ
のような点から、活性水素化合物とトシル基、イソシア
ナート基の反応や、エポキシ基とアミノ基の反応等が好
ましい。
分子を反応させる場合の官能基の組み合わせとしては、
アミノ基、ヒドロキシ基等活性水素化合物とイソシアナ
ート基、トシル基、酸クロライド基、カルボキシル基等
活性水素化合物と反応する官能基の組み合わせ、エポキ
シ基とそれと反応するアミノ基、カルボキシル基との組
み合わせ等各種のものが使用可能である。無機微粒子は
酸や熱に対して不安定な場合もあるため、強酸や強アル
カリの使用、高温での反応等はあまり好ましくない。こ
のような点から、活性水素化合物とトシル基、イソシア
ナート基の反応や、エポキシ基とアミノ基の反応等が好
ましい。
【００５７】［反応方法］このようにして合成した官能
基を有する高分子と、官能基を有する無機微粒子を反応
させることにより、無機微粒子が高分子に結合した微粒
子含有高分子材料を得ることができる。反応方法は、無
機微粒子、高分子の変質を起こさず、実用的な条件で反
応させることができれば特に制限はないが、適切な溶媒
中で、場合によっては加熱・冷却を行い、攪拌しながら
反応させることが好ましい。
基を有する高分子と、官能基を有する無機微粒子を反応
させることにより、無機微粒子が高分子に結合した微粒
子含有高分子材料を得ることができる。反応方法は、無
機微粒子、高分子の変質を起こさず、実用的な条件で反
応させることができれば特に制限はないが、適切な溶媒
中で、場合によっては加熱・冷却を行い、攪拌しながら
反応させることが好ましい。
【００５８】［無機微粒子の含有量］無機微粒子の材料
中への含有量には特に制限はないが、無機微粒子の性質
を発現するためには高濃度であることが望ましく、通常
は１重量％以上、好ましくは５重量％以上さらに好まし
くは１０重量％以上である。また、本方法を用いれば、
３５重量％以上無機微粒子を混合させることも可能であ
る。一方、無機微粒子の濃度をあまり高くすると成形加
工性や材料強度の低下、透明性の低下等が起きる可能性
がある。従って無機微粒子の含有量は通常８０重量％以
下、好ましくは７０重量％以下である。
中への含有量には特に制限はないが、無機微粒子の性質
を発現するためには高濃度であることが望ましく、通常
は１重量％以上、好ましくは５重量％以上さらに好まし
くは１０重量％以上である。また、本方法を用いれば、
３５重量％以上無機微粒子を混合させることも可能であ
る。一方、無機微粒子の濃度をあまり高くすると成形加
工性や材料強度の低下、透明性の低下等が起きる可能性
がある。従って無機微粒子の含有量は通常８０重量％以
下、好ましくは７０重量％以下である。
【００５９】［結合の確認方法］無機微粒子と高分子が
結合していることを確認すること自体は必ずしも本発明
に必須ではないが、必要に応じて例えば以下の〜よ
うな各種の方法で確認することができる。 反応により生成する化学結合を核磁気共鳴（ＮＭ
Ｒ）、赤外分光（ＩＲ）等の分析方法により検出する方
法。 溶解性の変化を確認する方法。例えば、反応により
合成された無機微粒子を含有する高分子材料が、原料の
無機微粒子が溶解しない溶媒に可溶化することにより確
認する方法。 抽出による方法。例えば原料の無機微粒子を溶解
し、原料の高分子を溶解しない溶媒でソックスレー法等
により抽出を行い、抽出後の無機微粒子含有高分子材料
中の無機微粒子の存在を確認する方法。
結合していることを確認すること自体は必ずしも本発明
に必須ではないが、必要に応じて例えば以下の〜よ
うな各種の方法で確認することができる。 反応により生成する化学結合を核磁気共鳴（ＮＭ
Ｒ）、赤外分光（ＩＲ）等の分析方法により検出する方
法。 溶解性の変化を確認する方法。例えば、反応により
合成された無機微粒子を含有する高分子材料が、原料の
無機微粒子が溶解しない溶媒に可溶化することにより確
認する方法。 抽出による方法。例えば原料の無機微粒子を溶解
し、原料の高分子を溶解しない溶媒でソックスレー法等
により抽出を行い、抽出後の無機微粒子含有高分子材料
中の無機微粒子の存在を確認する方法。
【００６０】［成形加工法］得られた高分子材料はその
熱可塑性を利用し、射出成形法、プレス成形法、キャス
ト成形法、等用途に応じた方法で成形加工が可能であ
る。また、溶媒溶解性を利用して溶液からのフィルム等
の成形も可能である。 ［透明性］得られた材料を眼鏡レンズ等のレンズに使用
する場合には、無色で可視光領域で透明であることが望
ましい。例えば、１ｍｍの厚さに換算したときの光線透
過率が、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％
以上、さらに好ましくは９０％以上、さらに好ましくは
９５％以上である。
熱可塑性を利用し、射出成形法、プレス成形法、キャス
ト成形法、等用途に応じた方法で成形加工が可能であ
る。また、溶媒溶解性を利用して溶液からのフィルム等
の成形も可能である。 ［透明性］得られた材料を眼鏡レンズ等のレンズに使用
する場合には、無色で可視光領域で透明であることが望
ましい。例えば、１ｍｍの厚さに換算したときの光線透
過率が、好ましくは７０％以上、より好ましくは８０％
以上、さらに好ましくは９０％以上、さらに好ましくは
９５％以上である。
【００６１】［屈折率］得られた材料を眼鏡レンズ等の
レンズに使用する場合には、屈折率が高いことが必要で
ある。屈折率は、好ましくは１．５５以上、より好まし
くは１．６以上、さらに好ましくは１．６５以上であ
る。
レンズに使用する場合には、屈折率が高いことが必要で
ある。屈折率は、好ましくは１．５５以上、より好まし
くは１．６以上、さらに好ましくは１．６５以上であ
る。
【００６２】
【実施例】以下、本発明の実施例について具体的に説明
するが、本発明の実施の態様はこれにより限定されるも
のではない。
するが、本発明の実施の態様はこれにより限定されるも
のではない。
【００６３】［実施例１］過塩素酸亜鉛６水和物１．０
×１０-2ｍｏｌ、チオフェノール２．７４×１０-2ｍｏ
ｌ、アミノチオフェノール０．３０×１０-2ｍｏｌを溶
解したアセトニトリルーメタノール（１：１）混合溶液
４００ｍｌをフラスコに入れ、スターラーチップで溶液
を攪拌しながらアルゴンガスで置換した後、組成が５容
量％の硫化水素／ヘリウム混合ガスを流量２７０ｍｌ／
ｍｉｎで溶液中に２分間供給することにより反応を進行
させた。得られた半導体超微粒子含んだコロイド溶液を
濃縮し、トルエンと混ぜ、半導体超微粒子を沈殿させ
た。沈殿物を取り出し、再度メタノールに溶解させ後ト
ルエンを混合することによって半導体超微粒子を沈殿さ
せ未反応物を除去する精製をおこなった。この操作は５
回繰り返しおこなった。最後に沈殿物を取り出し、乾燥
させることにより、目的とする表面修飾半導体超微粒子
を得た。生成したこの表面修飾半導体超微粒子は、水、
メタノール、エタノール、ジメチルホルムアミド等の極
性溶媒に可溶であり、見かけ上散乱のない黄色透明な溶
液であった。この溶液を取り出し透過型電子顕微鏡（Ｔ
ＥＭ）により観察したところ、粒子直径が約３ｎｍであ
るＺｎＳ微粒子が確認された。また、得られた表面修飾
半導体超微粒子をＫＢｒと混合し、錠剤にして赤外吸収
スペクトルを測定したところ、芳香族アミンに特徴的
な、Ｃ−Ｎ伸縮（１３４０〜１２５０ｃｍ-1）、芳香族
Ｃ−Ｈ伸縮に重なってＮＨ3+に起因する幅広い吸収（３
０００〜２８００ｃｍ-1）、残存ＳＨ基の伸縮の吸収
（２６００〜２５５０ｃｍ-1）が観測されるのが特徴的
であり、ＣｄＳ半導体超微粒子表面にアミノ基の存在が
確認された。続いて、製造した表面化学修飾ＺｎＳ半導
体超微粒子０．０５ｇを脱水したジメチルホルムアミド
２ｍｌに溶かし、スチレン（９５％）とイソシアナート
基含有メタクリルエステルであるカレンズＢＯＭ（５
％）の共重合体０．５ｇを加え、３時間攪拌し、メタノ
ール中に沈殿させ乾燥した。その結果、白色の粉末が得
られた。この反応物は、ジメチルホルムアミドに可溶で
あった。反応物をジメチルホルムアミド／メタノールで
再沈殿を行い精製した後乾燥させ、赤外吸収スペクトル
の測定をおこなった結果、ウレア結合の存在が示唆さ
れ、高分子中のイソシアナート基と微粒子のアミノ機が
反応し結合していることが示唆された。得られた微粒子
結合高分子材料は熱可塑性を有し、１００℃でヒートプ
レスを行うことにより透明なフィルムを成形することが
できた。このフィルムの屈折率をエリプソメーターで測
定したところ１．６３と微粒子と反応させる前のポリマ
ーの屈折率である１．５９に比べて０．０４増加してお
り、この高分子が光学用の高屈折材料として好適である
ことが確認された。また、この材料の１ｍｍの厚さでの
可視光線透過率は８５％で光学材料として十分な透明性
を有していた。さらに、このフィルムの光線透過率は室
温で１週間放置後も変化せず、無機微粒子の凝集も観察
されなかった。
×１０-2ｍｏｌ、チオフェノール２．７４×１０-2ｍｏ
ｌ、アミノチオフェノール０．３０×１０-2ｍｏｌを溶
解したアセトニトリルーメタノール（１：１）混合溶液
４００ｍｌをフラスコに入れ、スターラーチップで溶液
を攪拌しながらアルゴンガスで置換した後、組成が５容
量％の硫化水素／ヘリウム混合ガスを流量２７０ｍｌ／
ｍｉｎで溶液中に２分間供給することにより反応を進行
させた。得られた半導体超微粒子含んだコロイド溶液を
濃縮し、トルエンと混ぜ、半導体超微粒子を沈殿させ
た。沈殿物を取り出し、再度メタノールに溶解させ後ト
ルエンを混合することによって半導体超微粒子を沈殿さ
せ未反応物を除去する精製をおこなった。この操作は５
回繰り返しおこなった。最後に沈殿物を取り出し、乾燥
させることにより、目的とする表面修飾半導体超微粒子
を得た。生成したこの表面修飾半導体超微粒子は、水、
メタノール、エタノール、ジメチルホルムアミド等の極
性溶媒に可溶であり、見かけ上散乱のない黄色透明な溶
液であった。この溶液を取り出し透過型電子顕微鏡（Ｔ
ＥＭ）により観察したところ、粒子直径が約３ｎｍであ
るＺｎＳ微粒子が確認された。また、得られた表面修飾
半導体超微粒子をＫＢｒと混合し、錠剤にして赤外吸収
スペクトルを測定したところ、芳香族アミンに特徴的
な、Ｃ−Ｎ伸縮（１３４０〜１２５０ｃｍ-1）、芳香族
Ｃ−Ｈ伸縮に重なってＮＨ3+に起因する幅広い吸収（３
０００〜２８００ｃｍ-1）、残存ＳＨ基の伸縮の吸収
（２６００〜２５５０ｃｍ-1）が観測されるのが特徴的
であり、ＣｄＳ半導体超微粒子表面にアミノ基の存在が
確認された。続いて、製造した表面化学修飾ＺｎＳ半導
体超微粒子０．０５ｇを脱水したジメチルホルムアミド
２ｍｌに溶かし、スチレン（９５％）とイソシアナート
基含有メタクリルエステルであるカレンズＢＯＭ（５
％）の共重合体０．５ｇを加え、３時間攪拌し、メタノ
ール中に沈殿させ乾燥した。その結果、白色の粉末が得
られた。この反応物は、ジメチルホルムアミドに可溶で
あった。反応物をジメチルホルムアミド／メタノールで
再沈殿を行い精製した後乾燥させ、赤外吸収スペクトル
の測定をおこなった結果、ウレア結合の存在が示唆さ
れ、高分子中のイソシアナート基と微粒子のアミノ機が
反応し結合していることが示唆された。得られた微粒子
結合高分子材料は熱可塑性を有し、１００℃でヒートプ
レスを行うことにより透明なフィルムを成形することが
できた。このフィルムの屈折率をエリプソメーターで測
定したところ１．６３と微粒子と反応させる前のポリマ
ーの屈折率である１．５９に比べて０．０４増加してお
り、この高分子が光学用の高屈折材料として好適である
ことが確認された。また、この材料の１ｍｍの厚さでの
可視光線透過率は８５％で光学材料として十分な透明性
を有していた。さらに、このフィルムの光線透過率は室
温で１週間放置後も変化せず、無機微粒子の凝集も観察
されなかった。
【００６４】［実施例２］Ｊａｐａｎｅｓｅ Ｊｏｕｒ
ｎａｌ ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ， ３７巻
（１９９８年），４６０３〜４６０８頁に記載の方法に
よりＴｉＯＣｌ2の９．２ｍｏｌ／ｌ水溶液を調製し
た。得られたＴｉＯＣｌ2溶液２ｍｌをイオン交換水１
７．４ｍｌに溶解した。この溶液１０ｍｌを、トリデカ
ン酸０．９６ｇと１２アミノドデカン酸０．１１ｇをエ
タノール１５０ｍｌとイオン交換水１００ｍｌに溶解し
６０℃に加熱した溶液中に加え３０分間攪拌した。生成
したゲル状の沈殿物を遠心分離（４０００ｒｐｍ、２分
間）により取り出し、酢酸エチル１５ｍｌを加え攪拌し
再度遠心分離（４０００ｒｐｍ、２分間）により表面ア
ミノ修飾ＴｉＯ2微粒子の約７重量％の分散物が得られ
た。Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，４４巻(１９９２年)，１７５
１〜１７５７頁に記載の方法に従い、ビスフェノールＡ
とグリシジルアルコールから重合したポリヒドロキシエ
ーテルのＯＨ基の９０％を常法によりトシル化した。ト
シル化の確認は13Ｃ−ＮＭＲにより行った。このポリマ
ー１．５ｇをジメチルスルホキシド５ｍｌに溶解し、上
記７重量％ＴｉＯ2分散物１５ｇをジメチルスルホキシ
ド４５ｍｌに分散させた溶液を加え１３０℃で４０時間
攪拌する。溶液は最初は濁っているが３０分程度で透明
になった。ポリマーを微量のＮａＯＨを添加したメタノ
ール中に沈殿させ、遠心分離により粉末を取り出すこと
によりＴｉＯ2微粒子４０重量％が結合した高分子が得
られた。13Ｃ−ＮＭＲにより、原料高分子のトシル基の
１６％がアミノ基で置換されていることが確認され、Ｔ
ｉＯ2微粒子が高分子と結合していることが確認され
た。また、得られたポリマーはジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）に可溶であり、１００℃に加熱すると軟化す
ることが確認されたので、各種の成形加工が可能であ
る。得られたポリマーを極微量のＨＣｌを含むＤＭＦに
溶解しスピンコートにより石英基板状に８０ｎｍのフィ
ルムを作成した。このフィルムを分光エリプソメーター
により測定したところ６３３ｎｍで１．６９という眼鏡
レンズとしての使用に好適な高い屈折率が得られた。こ
の屈折率は原料であるポリヒドロキシエーテルのトシル
化物の１．５８から０．１１増加しており、ＴｉＯ2を
高濃度で分散した効果が現れていた。また、同時に測定
した吸光係数から可視光の光線透過率も８０％以上であ
ることが確認された。
ｎａｌ ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｈｙｓｉｃｓ， ３７巻
（１９９８年），４６０３〜４６０８頁に記載の方法に
よりＴｉＯＣｌ2の９．２ｍｏｌ／ｌ水溶液を調製し
た。得られたＴｉＯＣｌ2溶液２ｍｌをイオン交換水１
７．４ｍｌに溶解した。この溶液１０ｍｌを、トリデカ
ン酸０．９６ｇと１２アミノドデカン酸０．１１ｇをエ
タノール１５０ｍｌとイオン交換水１００ｍｌに溶解し
６０℃に加熱した溶液中に加え３０分間攪拌した。生成
したゲル状の沈殿物を遠心分離（４０００ｒｐｍ、２分
間）により取り出し、酢酸エチル１５ｍｌを加え攪拌し
再度遠心分離（４０００ｒｐｍ、２分間）により表面ア
ミノ修飾ＴｉＯ2微粒子の約７重量％の分散物が得られ
た。Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｐｐｌｉｅｄ Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ，４４巻(１９９２年)，１７５
１〜１７５７頁に記載の方法に従い、ビスフェノールＡ
とグリシジルアルコールから重合したポリヒドロキシエ
ーテルのＯＨ基の９０％を常法によりトシル化した。ト
シル化の確認は13Ｃ−ＮＭＲにより行った。このポリマ
ー１．５ｇをジメチルスルホキシド５ｍｌに溶解し、上
記７重量％ＴｉＯ2分散物１５ｇをジメチルスルホキシ
ド４５ｍｌに分散させた溶液を加え１３０℃で４０時間
攪拌する。溶液は最初は濁っているが３０分程度で透明
になった。ポリマーを微量のＮａＯＨを添加したメタノ
ール中に沈殿させ、遠心分離により粉末を取り出すこと
によりＴｉＯ2微粒子４０重量％が結合した高分子が得
られた。13Ｃ−ＮＭＲにより、原料高分子のトシル基の
１６％がアミノ基で置換されていることが確認され、Ｔ
ｉＯ2微粒子が高分子と結合していることが確認され
た。また、得られたポリマーはジメチルホルムアミド
（ＤＭＦ）に可溶であり、１００℃に加熱すると軟化す
ることが確認されたので、各種の成形加工が可能であ
る。得られたポリマーを極微量のＨＣｌを含むＤＭＦに
溶解しスピンコートにより石英基板状に８０ｎｍのフィ
ルムを作成した。このフィルムを分光エリプソメーター
により測定したところ６３３ｎｍで１．６９という眼鏡
レンズとしての使用に好適な高い屈折率が得られた。こ
の屈折率は原料であるポリヒドロキシエーテルのトシル
化物の１．５８から０．１１増加しており、ＴｉＯ2を
高濃度で分散した効果が現れていた。また、同時に測定
した吸光係数から可視光の光線透過率も８０％以上であ
ることが確認された。
【００６５】［比較例］特開昭６１−２９１６５０号公
報の実施例１に記載の方法でチタニア微粉末をポリメチ
ルメタクリレートに３３％分散させた高分子を作成し
た。この高分子から作成したフィルム中でのチタニア微
粒子の安定性は非常に低く、フィルム作成後すぐにチタ
ニア微粒子が凝集して白色に濁って不透明化してしまっ
た。
報の実施例１に記載の方法でチタニア微粉末をポリメチ
ルメタクリレートに３３％分散させた高分子を作成し
た。この高分子から作成したフィルム中でのチタニア微
粒子の安定性は非常に低く、フィルム作成後すぐにチタ
ニア微粒子が凝集して白色に濁って不透明化してしまっ
た。
【００６６】
【発明の効果】このように、本発明に従えば無機微粒子
を高濃度で含有する安定で成形加工の可能な高分子材料
が得られる。さらに、この高分子は透明で高光屈折率化
が可能なため眼鏡レンズ等の光学材料に好適に使用可能
である。
を高濃度で含有する安定で成形加工の可能な高分子材料
が得られる。さらに、この高分子は透明で高光屈折率化
が可能なため眼鏡レンズ等の光学材料に好適に使用可能
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｃ 7/02 Ｇ０２Ｃ 7/02 (72)発明者 中山 徳夫 千葉県袖ヶ浦市長浦字拓二号580番32 三 井化学株式会社内 Ｆターム(参考） 4F071 AA22 AA33 AA50 AA54 AA64 AB17 AB23 AF30 BB01 4J002 BC031 BG031 CG001 CH001 CL001 CN031 CP01 DB006 DE106 DE126 DE136 DE156 DG026 FB266
Claims (30)
- 【請求項１】 無機微粒子（成分（Ａ））が結合した有
機高分子（成分（Ｂ））を含有してなり、熱可塑性、及
び／又は、溶剤溶解性を有し、かつ、数式（１）〜数式
（３）の全てを満足することを特徴とする高屈折率を有
する透明性高分子材料。 ［数１］ ０［ｎｍ］ ＜ Ｒ［ｎｍ］ ≦ λ［ｎｍ］ （１） ［数２］ １．５５ ≦ Ｋ （２） ［数３］ ７５％ ≦ Ｔ％ ≦ １００％ （３） （数式（１）において、Ｒは、無機微粒子の平均直径で
あり、λは本請求項発明に係る高分子材料を透過する光
の波長である。数式（２）において、Ｋは、本請求項発
明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際
の屈折率である。数式（３）において、Ｔは、本請求項
発明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する
際のフィルム厚さ１．０［ｍｍ］に換算したときの透過
する際の透過率％である。） - 【請求項２】 無機微粒子（成分（Ａ））と有機高分子
（成分（Ｂ））を含有してなる高分子材料であって、前
記無機微粒子（成分（Ａ））が、有機高分子（成分
（Ｂ））と結合しており、前記有機高分子（成分
（Ｂ））が、熱可塑性、及び／又は、溶剤溶解性を有
し、かつ、数式（１）〜数式（３）の全てを満足するこ
とを特徴とする、高屈折率を有する透明性高分子材料。 ［数４］ ０［ｎｍ］ ＜ Ｒ［ｎｍ］ ≦ λ［ｎｍ］ （１） ［数５］ １．５５ ≦ Ｋ （２） ［数６］ ７５％ ≦ Ｔ％ ≦ １００％ （３） （数式（１）において、Ｒは、無機微粒子の平均直径で
あり、λは本請求項発明に係る高分子材料を透過する光
の波長である。数式（２）において、Ｋは、本請求項発
明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際
の屈折率である。数式（３）において、Ｔは、本請求項
発明に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する
際のフィルム厚さ１．０［ｍｍ］に換算したときの透過
する際の透過率％である。） - 【請求項３】 成形加工性を有することを特徴とする請
求項１又は２に記載した、高屈折率を有する透明性高分
子材料。 - 【請求項４】 成形加工性が、溶融成形法、射出成形
法、押出成形法、及び、キャスト成形法からなる一群の
成形法から選択された少なくとも一つの成形法により成
形加工することが可能な性質であることを特徴とする、
請求項３に記載した高屈折率を有する透明性高分子材
料。 - 【請求項５】 数式（４）で表される屈折率差ΔＫが、
数式（５）を満足することを特徴とする請求項１乃至４
の何れかに記載した高屈折率を有する透明性高分子材
料。 ［数７］ ΔＫ ＝ Ｋ − Ｋ0 （４） ［数８］ ΔＫ ≧ ０．０１５ （５） （数式（４）及び数式（５）において、ΔＫは、屈折率
差である。数式（４）において、本請求項発明に係る高
分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率で
ある。数式（４）において、Ｋ0は、無機微粒子（成分
（Ａ））を含まない有機高分子（成分（Ｂ））単独の高
分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率で
ある。） - 【請求項６】 数式（４）で表される屈折率差ΔＫが、
数式（５’）を満足することを特徴とする請求項１乃至
４の何れかに記載した高屈折率を有する透明性高分子材
料。 ［数９］ ΔＫ ＝ Ｋ − Ｋ0 （４） ［数１０］ ΔＫ ≦ −０．０１５ （５’） （数式（４）及び数式（５’）において、ΔＫは、屈折
率差である。数式（４）において、Ｋは、本請求項発明
に係る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の
屈折率である。数式（４）において、Ｋ0は、無機微粒
子（成分（Ａ））を含まない有機高分子（成分（Ｂ））
単独の高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の
屈折率である。） - 【請求項７】 成形品としたときに、数式（６）を満足
する透明性を有することを特徴とする、請求項１乃至６
の何れかに記載した高屈折率を有する透明性高分子材
料。 ［数１１］ ７５％ ≦ Ｔ’％ ≦ １００％ （６） （数式（６）においてＴ’は、成形品を波長λ［ｎｍ］
の光が透過する際の、フィルム厚さ１．０ｍｍに換算し
た透過率％である。） - 【請求項８】 数式（７）で表される無機微粒子（成分
（Ａ））の組成比ＲAが、数式（８）を満足するもので
あることを特徴とする、請求項１乃至７の何れかに記載
した高屈折率を有する透明性高分子材料。 ［数１２］ ＲA ＝ ＷA ÷ （ ＷA ＋ ＷB） × １００ （７） ［数１３］ １％ ≦ ＲA ≦ ９９％ （８） （数式（７）及び数式（８）において、ＲAは、無機微
粒子（成分（Ａ））の組成比［重量％］である。数式
（７）において、ＷAは、高分子材料中に含まれる無機
微粒子（成分（Ａ））の重量［ｇ］であり、ＷBは、高
分子材料中に含まれる有機高分子（成分（Ｂ））の重量
である。） - 【請求項９】 数式（７）で表される無機微粒子（成分
（Ａ））の組成比ＲAが、数式（８’）を満足するもの
であることを特徴とする、請求項１乃至７の何れかに記
載した高屈折率を有する透明性高分子材料。 ［数１４］ ＲA ＝ ＷA ÷ （ ＷA ＋ ＷB） × １００ （７） ［数１５］ ５％ ≦ ＲA ≦ ９９％ （８’） （数式（７）及び数式（８’）において、ＲAは、無機
微粒子（成分（Ａ））の組成比［重量％］である。数式
（７）において、ＷAは、高分子材料中に含まれる無機
微粒子（成分（Ａ））の重量［ｇ］であり、ＷBは、高
分子材料中に含まれる有機高分子（成分（Ｂ））の重量
である。） - 【請求項１０】 無機微粒子（成分（Ａ））が、無機元
素の酸化化合物、硫化化合物、セレン化化合物、及び、
テルル化化合物からなる化合物群から選択された少なく
とも一種の化合物を含んでなるものであることを特徴と
する、請求項１乃至９の何れかに記載した高屈折率を有
する透明性高分子材料。 - 【請求項１１】 無機元素が、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｐｂ、及
び、Ｓｂからなる群から選択された少なくとも一種であ
ることを特徴とする、請求項１０に記載した高屈折率を
有する透明性高分子材料。 - 【請求項１２】 有機高分子（成分（Ｂ））が、ポリス
チレン系高分子、ポリアクリレート系高分子、ポリメタ
クリレート系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリ
スルフォン系高分子、ポリアミド系高分子、及び、ポリ
ヒドロキシエーテル系高分子からなる群から選択された
少なくとも一種であることを特徴とする、請求項１乃至
１１の何れかに記載した高屈折率を有する透明性高分子
材料。 - 【請求項１３】 結合が、共有結合、イオン結合、配位
結合、水素結合、及び、ファンデルワールス結合からな
る結合様式群から選択された少なくとも一つであること
を特徴とする、請求項１乃至１２の何れかに記載した高
屈折率を有する透明性高分子材料。 - 【請求項１４】 屈折率Ｋが、数式（２’）で表される
ことを特徴とする、請求項１乃至１３の何れかに記載し
た高屈折率を有する透明性高分子材料。 ［数１６］ １．６０ ≦ Ｋ （２’） （数式（２’）において、Ｋは、本請求項発明に係る高
分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率で
ある。） - 【請求項１５】 無機微粒子（成分（Ａ））が共有結合
した有機高分子（成分（Ｂ））を含有してなり、熱可塑
性、及び／又は、溶剤溶解性を有し、かつ、数式（１）
〜数式（３）の全てを満足することを特徴とする高屈折
率を有する透明性高分子材料の製造方法であって、 未反応有機高分子（Ｂ0）の有する官能基と反応性のあ
る官能基を有することを特徴とする未反応無機微粒子
（Ａ0）と、 前記未反応無機微粒子（Ａ0）の有する官能基と反応性
のある官能基を有することを特徴とする未反応有機高分
子（Ｂ0）を反応させることを特徴とする、前記した高
屈折率を有する透明性高分子材料の製造方法。 ［数１７］ ０［ｎｍ］ ＜ Ｒ［ｎｍ］ ≦ λ［ｎｍ］ （１） ［数１８］ １．５５ ≦ Ｋ （２） ［数１９］ ７５％ ≦ Ｔ％ ≦ １００％ （３） （数式（１）において、Ｒは、無機微粒子の平均直径で
あり、λは本請求項発明に係る製造方法により得られる
高分子材料を透過する光の波長である。数式（２）にお
いて、Ｋは、本請求項発明に係る製造方法により得られ
る高分子材料を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折
率である。数式（３）において、Ｔは、本請求項発明に
係る製造方法により得られる高分子材料を波長λ［ｎ
ｍ］の光が透過する際の透過する際のフィルム厚さ１．
０［ｍｍ］に換算したときの透過率％である。） - 【請求項１６】 未反応有機高分子（Ｂ0）が、 表面化学修飾無機微粒子であることを特徴とする、請求
項１４に記載した、高屈折率を有する透明性高分子材料
の製造方法。 - 【請求項１７】 表面化学修飾無機微粒子が、 トシル基、アミノ基、水酸基、チオール基、イソシアネ
ート基、及び、活性水素基からなる官能基群から選択さ
れた少なくとも一つの官能基を有するものであることを
特徴とする、請求項１６に記載した、高屈折率を有する
透明性高分子材料の製造方法。 - 【請求項１８】 未反応無機微粒子（Ａ0）の有する官
能基、及び、未反応有機高分子（Ｂ0）の有する官能基
が、 一方の官能基が、イソシアネート基であり、 他方の官能基が、活性水素基であることを特徴とする、
請求項１５乃至１７の何れかに記載した高屈折率を有す
る透明性高分子材料の製造方法。 - 【請求項１９】 未反応無機微粒子（Ａ0）の有する官
能基、及び、未反応有機高分子（Ｂ0）の有する官能基
が、 一方の官能基が、トシル基であり、 他方の官能基が、アミノ基、水酸基、及び、チオール基
からなる官能基群から選択された少なくとも一つである
ことを特徴とする、請求項１５乃至１７の何れかに記載
した高屈折率を有する透明性高分子材料の製造方法。 - 【請求項２０】 数式（４’）で表される屈折率差ΔＫ
が、数式（５）を満足することを特徴とする請求項１５
乃至１９の何れかに記載した高屈折率を有する透明性高
分子材料の製造方法。 ［数２０］ ΔＫ ＝ Ｋ − Ｋ0 （４’） ［数２１］ ΔＫ ≧ ０．０１５ （５） （数式（４’）及び数式（５）において、ΔＫは、屈折
率差である。数式（４’）において、Ｋは、無機微粒子
（成分（Ａ））が共有結合した有機高分子（成分
（Ｂ））を含有してなる高分子材料を波長λ［ｎｍ］の
光が透過する際の屈折率である。数式（４）において、
Ｋ0は、未反応有機高分子（Ｂ0）単独の高分子材料を波
長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率である。） - 【請求項２１】 数式（４’）で表される屈折率差ΔＫ
が、数式（５）を満足することを特徴とする請求項１５
乃至１９の何れかに記載した高屈折率を有する透明性高
分子材料の製造方法。 ［数２２］ ΔＫ ＝ Ｋ − Ｋ0 （４’） ［数２３］ ΔＫ ≦ −０．０１５ （５’） （数式（４’）及び数式（５’）において、ΔＫは、屈
折率差である。数式（４’）において、Ｋは、無機微粒
子（成分（Ａ））が共有結合した有機高分子（成分
（Ｂ））を含有してなる高分子材料を波長λ［ｎｍ］の
光が透過する際の屈折率である。数式（４’）におい
て、Ｋ0は、未反応有機高分子（Ｂ0）単独の高分子材料
を波長λ［ｎｍ］の光が透過する際の屈折率である。） - 【請求項２２】 数式（７’）で表される無機微粒子
（成分（Ａ））の組成比ＲAが、数式（８''）を満足す
るものであることを特徴とする、請求項１５乃至２１の
何れかに記載した高屈折率を有する透明性高分子材料の
製造方法。 ［数２４］ ＲA ＝ ＷA ÷ （ ＷA ＋ ＷB） × １００ （７’） ［数２５］ １％ ≦ ＲA ≦ ９９％ （８''） （数式（７’）及び数式（８''）において、ＲAは、無
機微粒子（成分（Ａ））の組成比［重量％］である。数
式（７’）において、ＷAは、未反応無機微粒子（Ａ0）
の重量［ｇ］であり、ＷBは、未反応有機高分子（Ｂ0）
の重量である。） - 【請求項２３】 数式（７’）で表される無機微粒子
（成分（Ａ））の組成比ＲAが、数式（８'''）を満足す
るものであることを特徴とする、請求項１５乃至２１の
何れかに記載した高屈折率を有する透明性高分子材料の
製造方法。 ［数２６］ ＲA ＝ ＷA ÷ （ ＷA ＋ ＷB） × １００ （７’） ［数２７］ ５％ ≦ ＲA ≦ ９９％ （８'''） （数式（７’）及び数式（８'''）において、ＲAは、無
機微粒子（成分（Ａ））の組成比［重量％］である。数
式（７’）において、ＷAは、未反応無機微粒子（Ａ0）
の重量［ｇ］であり、ＷBは、未反応有機高分子（Ｂ0）
の重量である。） - 【請求項２４】 無機微粒子（成分（Ａ））が、無機元
素の酸化化合物、硫化化合物、セレン化化合物、及び、
テルル化化合物からなる化合物群から選択された少なく
とも一種の化合物を含んでなるものであることを特徴と
する、請求項１５乃至２３の何れかに記載した高屈折率
を有する透明性高分子材料の製造方法。 - 【請求項２５】 無機元素が、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｐｂ、及
び、Ｓｂからなる群から選択された少なくとも一種であ
ることを特徴とする、請求項２４に記載した高屈折率を
有する透明性高分子材料の製造方法。 - 【請求項２６】 有機高分子（成分（Ｂ））が、ポリス
チレン系高分子、ポリアクリレート系高分子、ポリメタ
クリレート系高分子、ポリカーボネート系高分子、ポリ
スルフォン系高分子、ポリアミド系高分子、及び、ポリ
ヒドロキシエーテル系高分子からなる群から選択された
少なくとも一種であることを特徴とする、請求項１５乃
至２５の何れかに記載した高屈折率を有する透明性高分
子材料の製造方法。 - 【請求項２７】 請求項１５乃至２６の何れかに記載し
た製造方法により得られた、無機微粒子（成分（Ａ））
が共有結合した有機高分子（成分（Ｂ））を含有してな
り、熱可塑性、及び／又は、溶剤溶解性を有することを
特徴とする高屈折率を有する透明性高分子材料。 - 【請求項２８】 請求項１乃至１４の何れか、又は、請
求項２７に記載した高屈折率を有する透明性高分子材料
を含んでなる光学成形体。 - 【請求項２９】 請求項１乃至１４の何れか、又は、請
求項２７に記載した高屈折率を有する透明性高分子材料
を含んでなるレンズ。 - 【請求項３０】 請求項１乃至１４の何れか、又は、請
求項２７に記載した高屈折率を有する透明性高分子材料
を含んでなる眼鏡用レンズ。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000234288A JP2002047425A (ja) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | 透明性高分子材料及びその製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP2000234288A JP2002047425A (ja) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | 透明性高分子材料及びその製造方法 |
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|---|---|
| JP2002047425A true JP2002047425A (ja) | 2002-02-12 |
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|---|---|---|---|
| JP2000234288A Pending JP2002047425A (ja) | 2000-08-02 | 2000-08-02 | 透明性高分子材料及びその製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP2002047425A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004015007A1 (ja) * | 2002-08-09 | 2004-02-19 | Nagoya Industrial Science Research Institute | 樹脂組成物 |
| WO2005006322A1 (ja) * | 2003-07-11 | 2005-01-20 | Konica Minolta Opto, Inc. | 光ピックアップ装置、光ピックアップ装置に用いられる光学素子、及び光学素子の製造方法 |
| JP2007126636A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-05-24 | Canon Inc | 光学用複合材料及び光学素子 |
| JP2008501851A (ja) * | 2004-06-07 | 2008-01-24 | バッテル メモリアル インスティテュート | 非水性高分子溶液中ナノ粒子の合成及び生成物 |
| WO2009025275A1 (en) * | 2007-08-17 | 2009-02-26 | Fujifilm Corporation | Optical lens, optical system unit and optical device |
| US8367757B2 (en) | 2008-01-17 | 2013-02-05 | National Institute Of Advanced Industrial Science Technology | Polymer composite material, optical material including the same, and thermoplastic aromatic polymer |
-
2000
- 2000-08-02 JP JP2000234288A patent/JP2002047425A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004015007A1 (ja) * | 2002-08-09 | 2004-02-19 | Nagoya Industrial Science Research Institute | 樹脂組成物 |
| WO2005006322A1 (ja) * | 2003-07-11 | 2005-01-20 | Konica Minolta Opto, Inc. | 光ピックアップ装置、光ピックアップ装置に用いられる光学素子、及び光学素子の製造方法 |
| US7545724B2 (en) | 2003-07-11 | 2009-06-09 | Konica Minolta Opto, Inc. | Optical pickup apparatus, optical element for optical pickup apparatus and producing method of optical element |
| JP2008501851A (ja) * | 2004-06-07 | 2008-01-24 | バッテル メモリアル インスティテュート | 非水性高分子溶液中ナノ粒子の合成及び生成物 |
| JP2007126636A (ja) * | 2005-10-03 | 2007-05-24 | Canon Inc | 光学用複合材料及び光学素子 |
| WO2009025275A1 (en) * | 2007-08-17 | 2009-02-26 | Fujifilm Corporation | Optical lens, optical system unit and optical device |
| US8367757B2 (en) | 2008-01-17 | 2013-02-05 | National Institute Of Advanced Industrial Science Technology | Polymer composite material, optical material including the same, and thermoplastic aromatic polymer |
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