JP2002047253A - Method for producing 2,2-bis(3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane - Google Patents

Method for producing 2,2-bis(3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane

Info

Publication number
JP2002047253A
JP2002047253A JP2000231288A JP2000231288A JP2002047253A JP 2002047253 A JP2002047253 A JP 2002047253A JP 2000231288 A JP2000231288 A JP 2000231288A JP 2000231288 A JP2000231288 A JP 2000231288A JP 2002047253 A JP2002047253 A JP 2002047253A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydroxyphenyl
bis
propane
nitro
monochlorobenzene
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000231288A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yukiko Yoshitomi
ゆきこ 吉冨
Masaru Wada
勝 和田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Chemicals Inc filed Critical Mitsui Chemicals Inc
Priority to JP2000231288A priority Critical patent/JP2002047253A/en
Publication of JP2002047253A publication Critical patent/JP2002047253A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable production of high-purity dinitro substance and reduce load to waste water by carrying out nitration reaction without using acetic acid. SOLUTION: Nitric acid is dropped into a solution of monochlorobenzene suspension of bisphenol A within the range of 0 deg.C to 20 deg.C and an organic layer is washed with an alkali within the range of 60 deg.C to 100 deg.C and successively washed with water and a poor solvent is charged thereinto to produce 2,2-bis(3- nitro-4-hydroxyphenyl)propane.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、2,2−ビス(3
−ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパンの製造方
法に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to a 2,2-bis (3
-Nitro-4-hydroxyphenyl) propane.

【0002】[0002]

【従来の技術】2,2−ビス(3−ニトロ−4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン(以下ジニトロ体と略す)は、
電材分野や耐熱性材料分野で使用されるポリヒドロキシ
アミドやポリベンゾキサゾールなどの原料である2,2
−ビス(3−アミノ−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン(以下ジアミン体と略す)を製造する際の中間体とし
て有用な化合物である。その製法としては、ビスフェノ
ールAを硝酸でニトロ化する方法が知られている。
2. Description of the Related Art 2,2-bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane (hereinafter abbreviated as dinitro compound) is
2,2 which are raw materials for polyhydroxyamide and polybenzoxazole used in the field of electric materials and heat-resistant materials
-Bis (3-amino-4-hydroxyphenyl) propane (hereinafter abbreviated as diamine) is a compound useful as an intermediate in the production. As a production method, a method of nitrating bisphenol A with nitric acid is known.

【0003】一般にニトロ化反応は、有機溶媒を使用せ
ず、硫酸及び硝酸中によるものが知られている。溶媒を
使用する方法として、アリザリンやp−トルエンスルホ
ン−o−トルイジン、アセナフテン等を酢酸、モノクロ
ロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等を使用してニト
ロ化する例も知られている。しかしながら、反応基質に
より、位置選択性や反応性等、検討する部分も多く、一
概に反応条件を決定することは容易ではない。
[0003] In general, it is known that a nitration reaction does not use an organic solvent and is carried out in sulfuric acid and nitric acid. As a method using a solvent, there is known an example in which alizarin, p-toluenesulfone-o-toluidine, acenaphthene, or the like is nitrated using acetic acid, monochlorobenzene, orthodichlorobenzene, or the like. However, depending on the reaction substrate, there are many parts to be examined, such as regioselectivity and reactivity, and it is not easy to determine reaction conditions in a straightforward manner.

【0004】例えば、モノクロロベンゼンを溶媒として
使用する場合、米国特許2,459,002号公報に記
載のp−トルエンスルホン−o−トルイジンをニトロ化
する方法を参考にして、反応物が均一溶液となるように
ニトロ化時の反応温度を50℃以上に保ち、ビスフェノ
ールAのニトロ化反応を行うと、目的物であるジニトロ
体の収率が低下する等である。
For example, when monochlorobenzene is used as a solvent, the reaction product is converted into a homogeneous solution by referring to the method for nitrating p-toluenesulfone-o-toluidine described in US Pat. No. 2,459,002. If the reaction temperature at the time of nitration is kept at 50 ° C. or higher so that the nitration reaction of bisphenol A is performed, the yield of the target dinitro compound decreases.

【0005】一方、酢酸を溶媒として使用した場合は、
50℃以上に昇温することなくビスフェノールAの均一
溶液を得ることができるため、従来知られている2,2
−ビス(3−ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ンの製法としては、酢酸若しくは酢酸とその他の有機溶
媒の混合液を溶媒として使用する方法がほとんどであ
る。
On the other hand, when acetic acid is used as a solvent,
Since a homogeneous solution of bisphenol A can be obtained without raising the temperature to 50 ° C. or more, the conventionally known 2,2
Most of the methods for producing -bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane use acetic acid or a mixture of acetic acid and another organic solvent as a solvent.

【0006】例えばPolymer Letters, vol. 7, 185-191
(1969)に、ビスフェノールAを酢酸とベンゼンの混合溶
液に溶かした溶液中に、0〜5℃の条件下で濃硝酸を滴
下する方法が記載されている。これと類似した方法で、
Macromolecules, vol. 27, 1147-1153(1994). には、ビ
スフェノールAを酢酸とトルエンの混合溶液に溶かした
溶液中に、氷冷下で濃硝酸を滴下してニトロ化する方法
が記載されている。また、ソビエト連邦特許第420617号
には、ビスフェノールAの酢酸溶液中に氷冷下で濃硝酸
を滴下し、析出したジニトロ体を取出す方法、特開平1
1−60545号公報にはビスフェノールAの酢酸溶液
に、まず21〜100℃の条件下で必要量以下の濃硝酸
を滴下し、次いで0〜20℃の条件下で残りの濃硝酸を
滴下して相当するジニトロ体を得る方法が記載されてい
る。しかしながらいずれの方法も得られる反応物中のジ
ニトロ体の純度が低く、工業化する場合、精製工程に負
荷かかるという問題点が残されていた。また、溶媒とし
て使用した酢酸を含んだ排水処理にも負荷がかかるとい
う問題があった。
For example, Polymer Letters, vol. 7, 185-191
(1969) describes a method of dropping concentrated nitric acid at 0 to 5 ° C. into a solution of bisphenol A dissolved in a mixed solution of acetic acid and benzene. In a similar way,
Macromolecules, vol. 27, 1147-1153 (1994). Describes a method in which bisphenol A is dissolved in a mixed solution of acetic acid and toluene, and nitric acid is added dropwise under ice-cooling. I have. Japanese Patent No. 420617 discloses a method in which concentrated nitric acid is dropped into an acetic acid solution of bisphenol A under ice-cooling to remove a deposited dinitro compound.
No. 1-60545 discloses that a required amount or less of concentrated nitric acid is dropped into an acetic acid solution of bisphenol A at 21 to 100 ° C., and then the remaining concentrated nitric acid is dropped at 0 to 20 ° C. Methods for obtaining the corresponding dinitro forms are described. However, in any of the methods, the purity of the dinitro compound in the obtained reaction product is low, and there is a problem that the purification step is burdensome when industrialized. In addition, there is a problem that a load is imposed on wastewater treatment containing acetic acid used as a solvent.

【0007】その他、酢酸を使用しない方法として特開
平1−299262号公報に支持体上にフェノール類を
担持させ、これをNOxを含む気体と接触させる方法が記
載されているが、この方法では原料のビスフェノールA
に対し目的物であるジニトロ体が0.5%程度しか生成
せず、工業的に製造する場合には不適当である。
In addition, as a method not using acetic acid, JP-A-1-299262 describes a method in which phenols are supported on a support and brought into contact with a gas containing NOx. Bisphenol A
On the other hand, only about 0.5% of the desired dinitro compound is produced, which is not suitable for industrial production.

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、酢酸を
用いたニトロ化では、得られる反応物の純度を上げる為
の精製工程が煩雑になる、酢酸を含んだ廃水処理に負荷
がかかる、という従来技術の問題点に鑑み鋭意検討を進
めた結果、モノクロロベンゼンを使用し、反応温度を管
理することで、酢酸を使用せず、容易で且つ経済的に、
ジニトロ体を製造できることを見出し、本発明に達し
た。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventors have found that in nitration using acetic acid, the purification step for increasing the purity of the obtained reaction product becomes complicated, and a load is imposed on the treatment of wastewater containing acetic acid. As a result of intensive studies in view of the problem of the prior art, using monochlorobenzene and controlling the reaction temperature, acetic acid is not used easily and economically,
The inventors have found that a dinitro compound can be produced, and have reached the present invention.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、ビスフ
ェノールAのモノクロロベンゼン懸濁溶液中に、0℃か
ら20℃の温度範囲で硝酸を滴下しニトロ化反応をさ
せ、60℃から100℃の温度範囲で有機層をアルカリ
水洗浄、続いて水洗浄した後、貧溶媒を装入する2,2
−ビス(3−ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ンの製造方法に関する。
That is, the present invention provides a nitration reaction by dropping nitric acid in a suspension of bisphenol A in monochlorobenzene at a temperature in the range of 0 ° C to 20 ° C, and allowing the nitrating reaction to proceed. After the organic layer is washed with alkaline water and then with water in the temperature range described above, a poor solvent is charged.
-Bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明においてニトロ化反応は、ビスフェノールAのモ
ノクロロベンゼン懸濁溶液中に、硝酸を滴下しながら行
う。この時の反応温度は0℃から20℃、好ましくは1
0〜20℃が良い。この範囲内でおこなえば、特殊な冷
却装置を必要とせず、経済的であり、反応初期に硝酸が
滞留し、反応開始するまでの誘導期が長くなり反応の制
御が困難になる恐れが少ない。また、20℃以下であれ
ば目的物であるジニトロ体の収率が低下することが少な
い。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present invention, the nitration reaction is carried out while dropping nitric acid into a suspension of bisphenol A in monochlorobenzene. The reaction temperature at this time is from 0 ° C to 20 ° C, preferably 1 ° C.
0 to 20 ° C is good. If the reaction is carried out within this range, a special cooling device is not required, and it is economical. Nitric acid stays in the initial stage of the reaction, the induction period until the start of the reaction is lengthened, and there is little possibility that the control of the reaction becomes difficult. If the temperature is 20 ° C. or lower, the yield of the target dinitro compound is less likely to decrease.

【0010】使用するモノクロロベンゼンの量はビスフ
ェノールAに対し、通常1.5重量倍から6重量倍、反
応マスの流動性、経済性の両面から好ましくは2重量倍
から4重量倍が良い。
The amount of monochlorobenzene to be used is usually 1.5 to 6 times the weight of bisphenol A, and preferably 2 to 4 times the weight of the reaction mass from the viewpoint of fluidity and economy.

【0011】滴下する硝酸の濃度は通常40%以上が良
い。これより低い濃度でも構わないが、工業的に入手が
容易な98%、68%、65%が好ましい。特に、50
から70%が、得られるジニトロ体の収率が高く、着色
の少ない物が得られ好ましい。
The concentration of the nitric acid to be dropped is usually preferably 40% or more. Although a lower concentration may be used, 98%, 68% and 65%, which are industrially easily available, are preferred. In particular, 50
To 70% is preferable because the yield of the obtained dinitro compound is high and a less colored product is obtained.

【0012】滴下する硝酸の量は理論量、すなわちビス
フェノールAに対し通常2モル以上3モル以下、好まし
くは2〜2.5モルのモル比が良い。
The amount of nitric acid to be dropped is a theoretical amount, that is, a molar ratio of usually 2 to 3 mol, preferably 2 to 2.5 mol, based on bisphenol A.

【0013】ニトロ化の反応後は反応物にアルカリ水を
装入し、60℃から100℃、好ましくは70℃から9
0℃で残存している硝酸及び硝酸の分解物を中和し、同
時に反応途中で生成したビスフェノールAまたはジニト
ロ体の分解物を水層に抽出した後分液、引き続いて有機
層を60℃から100℃、好ましくは70℃から90℃
で水洗し、ジニトロ体のモノクロロベンゼン溶液を得
る。その際60℃以上でおこなえば、目的物のジニトロ
体が析出したり、有機層と水層の分液が悪くなることが
起こりにくい。また、アルカリ水洗浄を行わず水洗浄の
み行った場合は、硝酸根が残存したり、反応中に生成し
たビスフェノールAまたはジニトロ体の分解物の抽出が
不十分であったりと、ジニトロ体の品質に悪影響を与え
ることがある。
After the nitration reaction, alkaline water is charged into the reaction product, and the reaction is carried out at 60 to 100 ° C, preferably 70 to 9 ° C.
At 0 ° C., the remaining nitric acid and the decomposition product of nitric acid are neutralized, and at the same time, the decomposition product of bisphenol A or dinitro compound generated during the reaction is extracted into the aqueous layer, followed by liquid separation. 100 ° C, preferably 70 ° C to 90 ° C
To obtain a solution of the dinitro compound in monochlorobenzene. If the reaction is carried out at 60 ° C. or higher, it is unlikely that the dinitro compound as the target substance is precipitated or the liquid separation between the organic layer and the aqueous layer is deteriorated. In addition, when only water washing is performed without alkaline water washing, the quality of the dinitro compound may be deteriorated due to remaining nitrate groups or insufficient extraction of the decomposition product of bisphenol A or dinitro compound generated during the reaction. May be adversely affected.

【0014】本発明でいう硝酸根とは、微量の硝酸由来
の不純物のことであり、硝酸、硝酸の分解物である窒素
酸化物等のことである。
The term "nitrate" as used in the present invention refers to a trace amount of impurities derived from nitric acid, such as nitric acid and nitrogen oxides which are decomposition products of nitric acid.

【0015】本発明においてアルカリ水洗浄に使用する
アルカリとしては、例として水酸化ナトリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基等が挙げら
れるが、洗浄中の水層のpHを7.0から8.5に調節
できればこの限りではない。中でも炭酸水素ナトリウム
が好ましい。水層のpHが8.5を超えても得られるジ
ニトロ体の品質に問題はないが、水層へロスするジニト
ロ体の量が増加するためあまり好ましくない。一方水層
のpHが7.0を下回る場合は得られるジニトロ体の純
度が下がる傾向にある為あまり好ましくない。
In the present invention, examples of the alkali used for washing with alkaline water include inorganic bases such as sodium hydroxide, sodium carbonate, and sodium hydrogencarbonate. This is not the case if it can be adjusted to 8.5. Among them, sodium bicarbonate is preferred. There is no problem in the quality of the obtained dinitro compound even if the pH of the aqueous layer exceeds 8.5, but it is not preferable because the amount of the dinitro compound lost to the aqueous layer increases. On the other hand, when the pH of the aqueous layer is lower than 7.0, the purity of the obtained dinitro compound tends to decrease, which is not preferable.

【0016】ジニトロ体は、ジニトロ体のモノクロロベ
ンゼン溶液に、貧溶媒を装入し、析出したジニトロ体を
遠心分離する、または濾過するなどの周知の方法により
取出すことが可能である。本発明でいう貧溶媒とはモノ
クロロベンゼンとは溶解しあうが、ジニトロ体はほとん
ど溶解しない溶媒のことである。ジニトロ体のモノクロ
ロベンゼン溶液から溶媒を濃縮し乾固する方法や濃縮後
冷却する方法でもジニトロ体の取出しは可能であるが、
ジニトロ体が着色する、収率が下がる等の問題点があ
る。
The dinitro compound can be taken out by a well-known method such as charging a poor solvent into a solution of the dinitro compound in monochlorobenzene, and centrifuging or filtering the precipitated dinitro compound. The poor solvent referred to in the present invention is a solvent that dissolves in monochlorobenzene but hardly dissolves the dinitro compound. The dinitro compound can be removed from the monochlorobenzene solution of the dinitro compound by concentrating the solvent to dryness or by cooling after concentration.
There are problems such as coloring of the dinitro compound and reduction of the yield.

【0017】本発明における貧溶媒の使用量はモノクロ
ロベンゼンに対し通常2重量倍から10重量倍である。
貧溶媒の使用量が2重量倍よりも少ない場合は濾液中に
ロスするジニトロ体の量が多くなる傾向にある。一方、
貧溶媒を10重量倍以上使用しても問題は無いが、釜効
率が下がる等あまり経済的でない。
The amount of the poor solvent used in the present invention is usually 2 to 10 times the weight of monochlorobenzene.
When the amount of the poor solvent used is less than 2 times by weight, the amount of the dinitro compound lost in the filtrate tends to increase. on the other hand,
There is no problem even if the poor solvent is used 10 times by weight or more, but it is not very economical, for example, the kettle efficiency is lowered.

【0018】本発明で使用する貧溶媒としては例として
ペンタン、ヘキサンなどの脂肪族炭化水素類や炭素数1
から5のアルコール類、例えば、メタノール、エタノー
ル、n−プロパノール、イソプロパノール、n−ブタノ
ール、t−ブタノール、アミルアルコール等が挙げられ
る。中でもアルコール類が好ましくイソプロピルアルコ
ールが更に好ましい。
Examples of the poor solvent used in the present invention include aliphatic hydrocarbons such as pentane and hexane and those having 1 carbon atom.
To 5 alcohols, for example, methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-butanol, t-butanol, amyl alcohol and the like. Among them, alcohols are preferred, and isopropyl alcohol is more preferred.

【0019】貧溶媒を装入する際、ジニトロ体のモノク
ロロベンゼン溶液にそのまま装入しても構わないが、予
め該溶液を濃縮し、モノクロロベンゼンの量を減らして
おいても良い。その際回収されるモノクロロベンゼンは
再びニトロ化の反応に用いても何ら問題は無く、リサイ
クル可能である。また、予め装入しておいた貧溶媒にジ
ニトロ体のモノクロロベンゼン溶液を滴下しても良い。
その後は析出したジニトロ体を濾過、遠心分離などの公
知の方法により取出すことができる。
When the poor solvent is charged, the dinitro compound may be directly charged into the monochlorobenzene solution, but the solution may be concentrated in advance to reduce the amount of monochlorobenzene. The monochlorobenzene recovered at that time can be recycled without any problem even if it is used again for the nitration reaction. Further, a monochlorobenzene solution of a dinitro compound may be dropped into a poor solvent previously charged.
Thereafter, the precipitated dinitro compound can be removed by a known method such as filtration or centrifugation.

【0020】上記に示す方法によって得られた反応物を
乾燥することで、硝酸根が残っていない、高純度のジニ
トロ体の黄色い結晶が得られる。また、該反応物は乾燥
することなく次の水素化還元工程に用いても何ら問題は
無い。
By drying the reaction product obtained by the method described above, high purity dinitro-form yellow crystals free of nitrate groups are obtained. In addition, there is no problem if the reaction product is used in the next hydrogenation reduction step without drying.

【0021】本発明において、得られたジニトロ体は通
常知られている還元反応により電材分野や耐熱性材料分
野で有用なジアミン体に変換される。例えば極性溶媒と
ともに反応機に仕込み、Pd触媒の存在下水素化還元反応
を行う等の方法である。特にN,N−ジメチルホルムア
ミドを溶媒とし、Pd/Alを使用すると、釜効
率が上がり好ましい。
In the present invention, the obtained dinitro compound is converted to a diamine compound useful in the field of electric materials and heat-resistant materials by a generally known reduction reaction. For example, it is a method of charging a reactor together with a polar solvent and performing a hydrogenation reduction reaction in the presence of a Pd catalyst. In particular N, N- dimethylformamide was used as a solvent, the use of Pd / Al 2 O 3, raise the pot efficiency preferable.

【0022】[0022]

【実施例】以下実施例を示すが、本発明はこれに限定さ
れるものではない。
The present invention is not limited to the following examples.

【0023】実施例1 攪拌機、温度計及び滴下ロートを備えた500mlの4
つ口底抜きコック付フラスコにビスフェノールA13
0.9g(0.57mol)およびモノクロロベンゼン
382.3gを装入して攪拌し、氷水浴で内温を15℃
迄下げた。これに65%硝酸113.0g(1.17m
ol)を1時間かけて滴下し、その後氷水浴を外し室温
で1時間攪拌を続けた。次いで5%炭酸水素ナトリウム
水溶液382.3gを装入後80℃に昇温し、1時間攪
拌した後静置分液して得た有機層に更に温水382.3
gを装入し、80℃で1時間攪拌後静置分液した。得ら
れた有機層を減圧下80℃で濃縮し300gのモノクロ
ロベンゼンを回収した後、イソプロピルアルコール76
5gを30分かけて滴下装入した。その後室温まで冷却
し、析出した黄色い固体を濾過し、70℃の通風乾燥機
にて恒量に達するまで乾燥し、2,2−ビス(3−ニト
ロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパン144.3g
(収率79.1%)を得た。HPLC分析による純度は
98.7Area%だった。
Example 1 500 ml of 4 equipped with a stirrer, thermometer and dropping funnel
Bisphenol A13 in a flask with a bottom opening cock
0.9 g (0.57 mol) and 382.3 g of monochlorobenzene were charged and stirred, and the internal temperature was reduced to 15 ° C. in an ice water bath.
I lowered it. 113.0 g of 65% nitric acid (1.17 m
ol) was added dropwise over 1 hour, then the ice-water bath was removed and stirring was continued at room temperature for 1 hour. Next, 382.3 g of a 5% aqueous solution of sodium hydrogencarbonate was charged, the temperature was raised to 80 ° C., and the mixture was stirred for 1 hour.
g, and the mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour and allowed to stand still for liquid separation. The obtained organic layer was concentrated at 80 ° C. under reduced pressure to recover 300 g of monochlorobenzene.
5 g was charged dropwise over 30 minutes. Thereafter, the mixture was cooled to room temperature, and the precipitated yellow solid was filtered, dried with a ventilation dryer at 70 ° C. until a constant weight was reached, and 144.3 g of 2,2-bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane was obtained.
(79.1% yield). The purity by HPLC analysis was 98.7 Area%.

【0024】比較例1 ニトロ化時の反応温度を50℃にした他は実施例1と同
様の操作にて2,2−ビス(3−ニトロ−4−ヒドロキ
シフェニル)プロパン110.0g(収率60.3%)
を得た。HPLC分析による純度は96.0Area%
だった。
Comparative Example 1 110.0 g of 2,2-bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane was obtained in the same manner as in Example 1 except that the reaction temperature during nitration was changed to 50 ° C. 60.3%)
I got The purity by HPLC analysis is 96.0 Area%.
was.

【0025】比較例2 攪拌機、温度計及び滴下ロートを備えた500mlの4
つ口フラスコに、ビスフェノールA20.64g(0.
086mol)および氷酢酸100mlを装入して攪拌
し、湯浴で内温を50℃迄上げた。これに濃硝酸2ml
(0.026mol)を1時間かけて滴下し、その後氷
冷して内温を13℃迄下げ、更に濃硝酸13.3ml
(0.149mol)を1時間かけて滴下した。その後
3時間攪拌を続け、析出した黄色結晶を濾過し、氷酢酸
40ml及び水80mlで順次洗浄し、減圧乾燥して、
2,2−ビス(3−ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)
プロパン12.8g(収率46.5%)を得た。HPL
C分析による純度は45.2Area%で、モノニトロ
体23.2Area%、トリニトロ体29.4%を含ん
でいた。更に濾洗液から10.2g(収率37.1%)
を回収したが、HPLC分析による純度は37.8Ar
ea%で、モノニトロ体5.1Area%、トリニトロ
体47.8%を含んでいた。
Comparative Example 2 500 ml of 4 equipped with a stirrer, thermometer and dropping funnel
20.64 g of bisphenol A (0.
(086 mol) and 100 ml of glacial acetic acid, and the mixture was stirred, and the internal temperature was raised to 50 ° C. in a hot water bath. 2 ml of concentrated nitric acid
(0.026 mol) was added dropwise over 1 hour, and then cooled with ice to lower the internal temperature to 13 ° C., and 13.3 ml of concentrated nitric acid was further added.
(0.149 mol) was added dropwise over 1 hour. Thereafter, stirring was continued for 3 hours, and the precipitated yellow crystals were filtered, washed sequentially with 40 ml of glacial acetic acid and 80 ml of water, and dried under reduced pressure.
2,2-bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl)
12.8 g (yield 46.5%) of propane were obtained. HPL
The purity by C analysis was 45.2 Area%, and contained 23.2% of mononitro compound and 29.4% of trinitro compound. 10.2 g (37.1% yield) from the filtrate
Was recovered, and the purity by HPLC analysis was 37.8 Ar
In ea%, the mononitro compound was 5.1 Area% and the trinitro compound was 47.8%.

【0026】[0026]

【発明の効果】本発明によれば、酢酸を使用せずニトロ
化することで高純度のジニトロ体を製造することが可能
であり、精製工程が簡素化され、更に、廃水への負荷が
軽減された。
According to the present invention, a high-purity dinitro compound can be produced by nitration without using acetic acid, the purification process is simplified, and the load on wastewater is reduced. Was done.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ビスフェノールAのモノクロロベンゼン
懸濁溶液中に、0℃から20℃の温度範囲で硝酸を滴下
し、ニトロ化することを特徴とする2,2−ビス(3−
ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパンの製造方
法。
1. A 2,2-bis (3-nitric acid solution, wherein nitric acid is added dropwise to a suspension of bisphenol A in monochlorobenzene in a temperature range of 0 ° C. to 20 ° C. and nitrated.
A method for producing (nitro-4-hydroxyphenyl) propane.
【請求項2】 ビスフェノールAのモノクロロベンゼン
懸濁溶液中に、0℃から20℃の温度範囲で硝酸を滴下
しニトロ化反応をさせた後、60℃から100℃の温度
範囲で有機層をアルカリ水洗浄、続いて水洗浄した後、
該ジニトロ体を取得することを特徴とする2,2−ビス
(3−ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパンの製
造方法。
2. Nitric acid is added dropwise to a suspension of bisphenol A in monochlorobenzene at a temperature of 0 ° C. to 20 ° C. to cause a nitration reaction, and then the organic layer is alkalized at a temperature of 60 ° C. to 100 ° C. After a water wash followed by a water wash,
A method for producing 2,2-bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane, which comprises obtaining the dinitro compound.
【請求項3】 ビスフェノールAのモノクロロベンゼン
懸濁溶液中に、0℃から20℃の温度範囲で硝酸を滴下
しニトロ化反応をさせた後、60℃から100℃の温度
範囲で有機層をアルカリ水洗浄、続いて水洗浄した後、
貧溶媒を装入して2,2−ビス(3−ニトロ−4−ヒド
ロキシフェニル)プロパンのモノクロロベンゼン溶液か
ら該ジニトロ体を取得することを特徴とする2,2−ビ
ス(3−ニトロ−4−ヒドロキシフェニル)プロパンの
製造方法。
3. Nitric acid is added dropwise to a suspension of bisphenol A in monochlorobenzene at a temperature in the range of 0 ° C. to 20 ° C. to cause a nitration reaction. Then, the organic layer is alkalized at a temperature in the range of 60 ° C. to 100 ° C. After a water wash followed by a water wash,
2,2-bis (3-nitro-4) characterized in that the dinitro compound is obtained from a monochlorobenzene solution of 2,2-bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane by charging a poor solvent. -Hydroxyphenyl) propane.
【請求項4】 貧溶媒がアルコール類である請求項3記
載の2,2−ビス(3−ニトロ−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロパンの製造方法。
4. The method for producing 2,2-bis (3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane according to claim 3, wherein the poor solvent is an alcohol.
JP2000231288A 2000-07-31 2000-07-31 Method for producing 2,2-bis(3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane Withdrawn JP2002047253A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000231288A JP2002047253A (en) 2000-07-31 2000-07-31 Method for producing 2,2-bis(3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000231288A JP2002047253A (en) 2000-07-31 2000-07-31 Method for producing 2,2-bis(3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002047253A true JP2002047253A (en) 2002-02-12

Family

ID=18724149

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000231288A Withdrawn JP2002047253A (en) 2000-07-31 2000-07-31 Method for producing 2,2-bis(3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002047253A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5312916A (en) Process for preparing 3-amino-9,13b-dihydro-1H-dibenz(c,f)imidazo(1,5-a)azepine-hydrochloride
DK1377544T4 (en) Purification of 2-Nitro-4-Methylsulfonylbenzoic acid
JP2001512722A (en) Method for producing L-ascorbic acid
CN114716382B (en) Continuous flow synthesis process of Ensifelvir intermediate of anti-new crown drug
JP2904038B2 (en) Process for producing 4,6-diaminoresorcinol and its precursor
JP2002047253A (en) Method for producing 2,2-bis(3-nitro-4-hydroxyphenyl) propane
US7659398B2 (en) Imiquimod production process
CA1115719A (en) Process for the preparation of 4-hydroxycarbazole
US7476760B2 (en) Purification and production methods of 1-aminocyclopropanecarboxylic acid
US4288620A (en) Process for the production of 4-acylamido-2-nitro-1-alkoxybenzenes
CN114163392B (en) Preparation method of clofentezine
JPH11310558A (en) Production of 2-amino-4,5,3',4'-tetramethoxybenzophenone
EA010569B1 (en) Process for the preparation of chirally-pure crystalline modification of nateglinide
JPS6125713B2 (en)
US20070043235A1 (en) Process for preparing 3-nitro-4-alkoxybenzoic acid
JP4085199B2 (en) Method for producing O, O-dimethyl-O- (p-cyanophenyl) phosphorothioate
JPH09216854A (en) Production of 3-chloro-3'-nitro-4'-methoxybenzophenone
JP2000239279A (en) Production process for hexahydro-2-oxo-1h-thieno[3,4- d]imidazole-4-pentanoic acid
RU2009121C1 (en) Method for producing 2-methyl-6-nitrophenol
WO2022126388A1 (en) Method for synthesizing 5-bromo-1h-3-amino-1,2,4-triazole
SU1442519A1 (en) Method of producing 2-nitro-6(5n)-phenantridinon
JP3244622B2 (en) Benzanthrone bromination method
KR800001550B1 (en) Preparing process for 5-(4-hyroxy phenyl)hydantoins
JPH1149732A (en) Production of 4,6-diaminoresorcin
JPH07278120A (en) Production of 5-formylaminopyrimidine

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060616

A761 Written withdrawal of application

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761

Effective date: 20060922