JP2002047032A - Substrate with photocatalyst membrane and method of producing the same - Google Patents

Substrate with photocatalyst membrane and method of producing the same

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Toshiaki Anzaki
Daisuke Arai
Tetsuo Kawahara
Shigeki Obana
利明 安崎
茂樹 尾花
大介 新井
哲郎 河原
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Nippon Sheet Glass Co Ltd
日本板硝子株式会社
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate with a photocatalyst membrane easily produced on a large scale which has excellent durability and decomposing ability of contaminated materials.
SOLUTION: The method of producing a substrate with a photocatalyst membrane comprises the steps of spreading TiO2 microparticles (photoactive microparticles) 2 having anatase-type crystal structure and particle size of 5 to 10 nm by a spray-gun onto a glass substrate 1 to fix on the surface of the glass substrate 1, heat-treating and sputtering to form SiO2 membrane 3 (cover) covering the TiO2 microparticles 2 so that the TiO2 microparticles 2 and the SiO2 membrane 3 constitute a photocatalyst membrane 4 in which the ratio of TiO2/SiO2 is controlled to be within 20/80 to 70/30 on weight basis.
COPYRIGHT: (C)2002,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【発明の属する技術分野】本発明は光触媒膜付き基板及びその製造方法に関し、より詳しくは、窓ガラスや照明器具等の各種ガラス物品に使用される光触媒膜付き基板及び該光触媒膜付き基板の製造方法に関する。 The present invention relates to relates to a substrate and a manufacturing method thereof with a photocatalyst film, and more particularly, manufacture of the photocatalyst film-coated substrate and the photocatalytic film-coated substrate for use in various glass articles such as window glass and lighting fixtures a method for.

【0002】 [0002]

【従来の技術】従来より、窓ガラスや照明器具等のガラス物品においては、光触媒膜をガラス基板上に被着させることにより、光触媒の表面に付着している汚染物質を分解させ、これによりガラス物品の表面に汚れが付着するのを防止している。 BACKGROUND ART Conventionally, in a glass article such as a window glass and lighting fixtures, by a photocatalytic film deposited on a glass substrate, to decompose the contaminants adhering to the surface of the photocatalyst, thereby Glass It is prevented from adhering dirt to the surface of the article.

【0003】すなわち、この種の光触媒膜付き基板は、 [0003] In other words, the photocatalytic film-coated substrate of this kind,
光触媒の酸化作用(光触媒反応)によって前記表面に付着している汚染物質を分解させることができ、これにより所謂自己防汚性(セルフクリーニング機能)を発揮して基板表面の清浄性を保持することができる。 Oxidation action of a photocatalyst can be decomposed contaminants adhering to the surface by (photocatalysis), thereby exerting a so-called self antifouling property (self-cleaning function) to hold the cleanliness of the substrate surface that can.

【0004】そして、前記光触媒膜付き基板としては、 [0004] Then, as the photocatalytic film-coated substrate,
光触媒反応を起こす光活性物質として二酸化チタンの微粒子(TiO 2微粒子)を使用し、TiO 2 −SiO 2 Using the fine particles (TiO 2 particles) of titanium dioxide as the photoactive substance causing photocatalytic reaction, TiO 2 -SiO 2,
TiO 2 −SnO 2 、又はTiO 2 −Al 23の混成材料からなる光触媒膜をガラス基体上に形成した光触媒体が既に提案されている(特開平11−9994号公報)。 TiO 2 -SnO 2, or TiO 2 -Al 2 O 3 photocatalyst the photocatalyst film was formed on a glass substrate made of a composite material has been proposed (JP-A-11-9994).

【0005】該従来技術は、前記混成材料(二成分系材料)からなる光触媒膜がガラス基体の表面に形成されており、また、光触媒膜中には10wt%〜30wt%のTiO 2微粒子が含有されている。 [0005] The prior art, the has a photocatalyst film made of a composite material (two-component material) is formed on the surface of the glass substrate, and containing the 10 wt% 30 wt% of TiO 2 fine particles in the photocatalyst film It is.

【0006】また、該従来技術では、例えばTiO 2 Further, the in the prior art, for example, TiO 2 -
SiO 2の混成材料で光触媒膜を形成する場合、アルコキシチタン系化合物とアルコキシシラン系化合物との混合溶液を作製した後、TiO 2微粉末を前記混合溶液に分散・懸濁させて懸濁液を調製し、次いでガラス基板を前記懸濁液に浸漬・塗布し、その後焼成処理を行うことにより前記光触媒体を製造している。 When forming a photocatalyst film composite material of SiO 2, was prepared a mixed solution of alkoxy titanium compound and an alkoxysilane-based compound, the suspension is dispersed and suspended in TiO 2 fine powder to the mixed solution It prepared, then the glass substrate was immersed, applied to the suspension, and preparing the photocatalyst by performing subsequent baking process.

【0007】 [0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従来技術では、例えば、TiO 2 −SiO 2の混成材料で光触媒膜を形成した場合、光触媒膜中にはTiO 2微粒子とSiO 2とが混在しているため、TiO 2微粒子が膜表面近傍に存在したり膜表面に露出し、このため膜表面が傷付き易く、またTiO 2微粒子が膜表面から剥離し易い等、機械的強度が弱く耐久性に劣るという問題点があった。 [SUMMARY OF THE INVENTION However, in the conventional art, for example, in the case of forming the photocatalytic film composite material of the TiO 2 -SiO 2, in the photocatalyst film is TiO 2 particles and the SiO 2 are mixed are therefore, TiO 2 fine particles are exposed on the presence or membrane surface in the vicinity of the membrane surface, and therefore the film surface tends scratched and easily TiO 2 fine particles are peeled from the film surface or the like, the mechanical strength is weak durability there has been a problem of poor point.

【0008】また、上記従来技術では、ガラス基板を懸濁液に浸漬することによりガラス基体上に上記混成材料を塗布しているため、懸濁液を入れる器具の容量を考慮すると、照明器具のような比較的小形のガラス物品の製造には適していても、窓ガラスのような大形のガラス物品の製造には適さないという問題点があった。 [0008] In the above prior art, since the coating the composite material on a glass substrate by immersing the glass substrate in suspension, taking into account the capacity of the instrument to put suspension, luminaire be suitable for relatively small production of glass articles, such as, there is a problem that is not suitable for the production of large glass articles such as window glass.

【0009】本発明はこのような問題点に鑑みなされたものであって、良好な自己防汚性を有すると共に耐久性にも優れ、且つ容易に大量生産することのできる光触媒膜付き基板及びその製造方法を提供することを目的とする。 [0009] The present invention has been made in view of such problems, good excellent durability and having a self antifouling photocatalytic film-coated substrate and can be and easily mass produced and to provide a manufacturing method.

【0010】 [0010]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、光触媒膜の機械的強度を向上させるべく鋭意研究した結果、光活性微粒子を金属酸化物で被覆することにより、膜表面が損傷することもなく、耐剥離性も向上させることができ、これにより機械的強度に優れた光触媒膜付き基板を得ることができ、光触媒膜付き基板の耐久性を飛躍的に向上させることができるという知見を得た。 The present inventors have SUMMARY OF THE INVENTION The photocatalytic film results to the intensive study to improve the mechanical strength of, by the photoactive particles coated with metal oxides, also the film surface damage without peel resistance also can be improved, resulting thereby can be obtained photocatalytic film-coated substrate with excellent mechanical strength, a finding that the durability of the photocatalytic film-coated substrate can be dramatically improved It was.

【0011】本発明はこのような知見に基づきなされたものであって、本発明に係る光触媒膜付き基板は、光触媒作用を呈する光活性微粒子が透明基板上に撒布されると共に、前記光活性微粒子を覆うように金属酸化物からなる被膜が前記透明基板上に形成されていることを特徴としている。 [0011] The present invention was made based on this finding, the photocatalyst film formed substrate according to the present invention, together with the photoactive particles exhibiting a photocatalytic action is sprayed on a transparent substrate, said light active particulate is characterized in that coating of metal oxide is formed on the transparent substrate so as to cover.

【0012】また、上述した光触媒膜付き基板は、透過性に優れていることが要求されることから、前記金属酸化物は良好な透明性を有することが必要とされ、斯かる観点から金属酸化物としてはケイ素酸化物を使用するのが好ましい。 Furthermore, the photocatalytic film-coated substrate described above, since the to be excellent in transparency is required, the metal oxide is required to have good transparency, a metal oxide from such a viewpoint It preferred to use silicon oxide as a thing.

【0013】また、上記光触媒膜付き基板は、予め光活性微粒子を水等の溶剤中に懸濁させて懸濁液を作製しておき、該懸濁液をスプレーガン等でガラス基板上に撒布した後、熱処理を施して液を蒸発させることにより、光活性微粒子をガラス基板に固着させ、その後、所定の金属材料(例えば、ケイ素)をターゲット物質としてスパッタリング処理を施すことにより、容易に製造することができる。 Further, the photocatalyst film coated substrate in advance the light active particulate advance to prepare a suspension suspended in a solvent such as water, sprayed onto a glass substrate the suspension in a spray gun or the like after, by evaporating the liquid subjected to heat treatment, the light active particulate is adhered to the glass substrate, thereafter, a predetermined metal material (e.g., silicon) by performing sputtering as the target material, easily manufactured be able to.

【0014】すなわち、本発明に係る光触媒膜付き基板の製造方法は、光触媒作用を呈する光活性微粒子を透明基板上に撒布した後、熱処理を施し、その後、所定の金属材料をターゲットとしてスパッタリング処理を施し、 [0014] That is, the manufacturing method of the photocatalyst film formed substrate according to the present invention, after the light active particulate that exhibits photocatalytic activity was sprayed on a transparent substrate, heat treatment is performed thereafter, the sputtering a predetermined metal material as a target It applied,
前記光活性微粒子が撒布された透明基板上に金属酸化物からなる被膜を形成することを特徴とし、さらに前記光活性微粒子を所定の溶剤中に懸濁させて懸濁液を作製し、該懸濁液を前記透明基板上に撒布した後、前記熱処理を施して前記透明基板上の懸濁液を蒸発させ、前記光活性微粒子を前記透明基板上に固着させることを特徴としている。 Characterized by forming a coating film made of metal oxide to the photoactive particles sprayed by the transparent substrate, the suspension was prepared by further suspending the photoactive particles in a given solvent, 該懸after spraying on the transparent substrate Nigoeki, the thermal treatment to evaporate the suspension on the transparent substrate is subjected to, it is characterized in that to fix the light active particulate on the transparent substrate.

【0015】上記製造方法によれば、従来のように透明基板を懸濁液に浸漬することなく透明基板上に光活性微粒子を撒布し、その後スパッタリング処理を施しているので、窓ガラスのような大形のガラス物品として使用する場合であっても、容易に大量生産することが可能となる。 According to the above manufacturing method, and spraying the photoactive fine particles on the transparent substrate without immersion in a conventional suspension transparent substrate as in, since then are subjected to sputtering, such as a window glass even when used as a glass article of large, it is possible to easily mass-produced.

【0016】 [0016]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳説する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, will be described in detail based on the embodiment of the present invention with reference to the drawings.

【0017】図1は本発明に係る光触媒膜付き基板を模式的に示した断面図である。 [0017] FIG. 1 is a cross-sectional view of the photocatalytic film-coated substrate schematically showing the present invention.

【0018】同図において、1はソーダライム等からなるガラス基板であって、該ガラス基板1の表面には、アナターゼ形の結晶構造を有する粒径が5nm〜10nm [0018] In the figure, 1 is a glass substrate made of soda lime or the like, on the surface of the glass substrate 1, the particle size having the crystal structure of anatase 5nm~10nm
のTiO 2微粒子(光活性微粒子)2が撒布され、さらにガラス基板1上にはTiO 2微粒子2を覆うようにS S of the TiO 2 fine particles (photoactive particles) 2 is sprayed, as further on the glass substrate 1 to cover the TiO 2 fine particles 2
iO 2膜3(被膜)が形成され、TiO 2微粒子2とSi iO 2 film 3 (film) is formed, TiO 2 fine particles 2 and Si
2膜3とで光触媒膜4を構成している。 Constitute a photocatalyst film 4 by the O 2 film 3.

【0019】そして、上記光触媒膜4は、本実施の形態では、TiO 2とSiO 2の組成比が、重量%でTiO 2 [0019] Then, the photocatalyst film 4, in this embodiment, the composition ratio of TiO 2 and SiO 2 are, TiO weight% 2
/SiO 2 =20/80〜50/50となるように設定されている。 / Is set to be a SiO 2 = 20 / 80~50 / 50 .

【0020】このようにTiO 2とSiO 2の組成比を重量%でTiO 2 /SiO 2 =20/80〜50/50としたのは、以下の理由による。 [0020] Thus was a TiO 2 / SiO 2 = 20 / 80~50 / 50 The composition ratio of TiO 2 and SiO 2 by weight% for the following reason.

【0021】TiO 2のSiO 2に対する割合が20wt [0021] The ratio of SiO 2 of the TiO 2 is 20wt
%未満の場合は、SiO 2含有量が80%以上となるためSiO 2膜の膜厚が厚くなり、したがって膜自体の機械的強度は優れたものとなるが、光触媒膜4中のTiO For less than%, the film thickness of the SiO 2 film since the SiO 2 content is 80% or more is thick, therefore the mechanical strength of the film itself is becomes excellent, TiO photocatalytic film 4
2微粒子2の含有率が少ないため、所望の光触媒反応を促進することができず、その結果膜表面上の汚染物質を十分に分解することができず、所望の自己防汚性を確保することができない。 Because the content of 2 fine particles 2 is small, it is impossible to promote the desired photocatalytic reaction, can not be sufficiently decompose the contaminants on the result film surface, to ensure the desired self antifouling can not.

【0022】一方、TiO 2のSiO 2に対する割合が5 [0022] On the other hand, the ratio of SiO 2 TiO 2 is 5
0wt%を超えた場合は、光触媒膜4中のTiO 2微粒子2の含有率が50wt%以上に増加するため自己防汚性については優れたものとなるが、膜中のSiO 2含有量が少なくなるためSiO 2膜3の膜厚も薄くなり、このため膜表面に傷が付き易くなったり耐剥離性が低下し、機械的強度が悪化する。 If it exceeds 0 wt%, but the content of TiO 2 fine particles 2 of the photocatalytic film 4 is excellent for self antifouling property for increases above 50 wt%, less SiO 2 content in the film made for thinner the film thickness of the SiO 2 film 3, and therefore scratches peel resistance may become liable attached drops to the film surface, the mechanical strength is deteriorated.

【0023】そこで、本実施の形態ではTiO 2とSi [0023] Therefore, TiO 2 and Si in this embodiment
2の組成比を重量%でTiO 2 /SiO 2 =20/80 TiO the composition ratio of O 2 in weight% 2 / SiO 2 = 20/ 80
〜50/50とした。 It was 50/50.

【0024】次に、上記光触媒膜付き基板の製造方法について説明する。 Next, a method for manufacturing the above-mentioned photocatalyst film coated substrate.

【0025】図2は上記光触媒膜付き基板の製造工程を示す製造工程図である。 [0025] Figure 2 is a manufacturing process diagram showing the manufacturing process of the photocatalyst film formed substrate.

【0026】すなわち、ソーダライム等からなる所定形状のガラス基板1を用意し、次いで撒布工程5でTiO [0026] That is, providing a glass substrate 1 having a predetermined shape made of soda lime or the like, followed by spraying step 5 TiO
2微粒子2を懸濁させた懸濁液をガラス基板1に撒布する。 The suspension of 2 particle 2 sprayed on the glass substrate 1. 具体的には、まず、アナターゼ形の結晶構造を有する粒径が5nm〜10nmのTiO 2微粒子2を水溶液中に懸濁させると共にバインダ(例えば、リン系物質) Specifically, first, a binder with a particle size having a crystal structure of anatase is suspended in an aqueous solution of TiO 2 fine particles 2 of 5 nm to 10 nm (e.g., phosphorus-based material)
を該水溶液に混入し、これによりTiO 2微粒子2が5 By mixing the aqueous solution, thereby TiO 2 fine particles 2 5
wt%の懸濁液を作製する。 Preparing a suspension of wt%. そして該懸濁液を希釈した後、該希釈された懸濁液をガラス基板1上に撒布する。 And after diluting the suspension is sprayed a suspension which is the diluted on the glass substrate 1.

【0027】尚、上記懸濁液としては、光触媒液として既に市販されているものを使用するのが生産効率の点からも好ましく、例えば、テイカ社製のTKC−304を使用することができる。 [0027] As the above suspension, preferably in terms of production efficiency to use those already on the market as a photocatalyst solution, for example, it can be used TKC-304 of Tayca Corporation.

【0028】次いで、熱処理工程6に進み、温度150 [0028] Then, the process proceeds to a heat treatment step 6, a temperature of 150
℃〜300℃程度で30分〜60分程度、ガラス基板1 ° C. at approximately to 300 ° C. 30 to 60 minutes approximately, the glass substrate 1
を加熱してガラス基板1上に付着している懸濁液を蒸発させる。 Heating the suspension are deposited on the glass substrate 1 and evaporated.

【0029】次に、スパッタリング工程7に進み、Si [0029] Next, the process proceeds to a sputtering process 7, Si
をターゲット物質とし、ArとO 2の混合ガスをスパッタリングガスとして所定の減圧下、スパッタリング処理を施し、TiO 2微粒子2を含むガラス基板1の表面上にSiO 2膜3を形成し、その後必要に応じて焼成処理を行う。 Was a target material, a predetermined reduced pressure, a mixed gas as a sputtering gas of Ar and O 2, subjected to sputtering, the SiO 2 film 3 formed on the surface of the glass substrate 1 including the TiO 2 fine particles 2, then needs depending carry out the firing process. すなわち、必要に応じて焼成工程8に進み、2 That is, the process proceeds to the firing step 8 if necessary, 2
00℃〜500℃の温度条件下で焼成処理を施すことにより、被膜の密着性向上等を図ることができる。 By applying a baking treatment at a temperature of 00 ° C. to 500 ° C., it is possible to adhesion of the coating improvement. そして、このようにしてガラス基板1には所望の光触媒膜4 Then, a desired photocatalyst film 4 on the glass substrate 1 in this manner to
が形成され、光触媒膜付き基板が得られる。 There is formed, the photocatalytic film-coated substrate obtained.

【0030】図3は上記製造方法の詳細を示す図であって、本実施の形態ではこの図3に示すように、一連の製造工程が連続的に行われ、これにより所望の光触媒膜付き基板を容易に大量生産することができる。 FIG. 3 is a diagram showing details of the manufacturing method, as in the present embodiment shown in FIG. 3, a series of manufacturing steps are continuously performed, thereby the desired photocatalytic film-coated substrate it can be easily mass-produced.

【0031】すなわち、撒布工程5では上述した懸濁液をスプレーガン9に供給し、コンベア10上を矢印A方向に移動しているガラス基板1にスプレーガン9から懸濁液を撒布し、これによりTiO 2微粒子2は懸濁液中のバインダを介してガラス基板1に固着される。 [0031] That is, by supplying the suspension described above in spraying step 5 to the spray gun 9, and sprayed the suspension from the spray gun 9 to glass substrate 1 which is moving the conveyor 10 upward in the direction of arrow A, which TiO 2 fine particles 2 is fixed to the glass substrate 1 via the binder in the suspension by. 次いで、熱処理工程6では、ヒータ11によりガラス基板1 Then, the heat treatment step 6, the glass substrate 1 by the heater 11
を30分〜60分、150℃〜300℃で加熱し、ガラス基板1上に付着している水分を蒸発させる。 30 min to 60 min, heated at 0.99 ° C. to 300 ° C., to evaporate the moisture attached on the glass substrate 1.

【0032】次いで、スパッタリング工程7に進み、スパッタリング装置12を使用して所定のスパッタリング処理を行う。 [0032] Then, the program proceeds to a sputtering process 7, performs a predetermined sputtering using a sputtering apparatus 12.

【0033】スパッタリング装置12は、具体的には、 The sputtering device 12, specifically,
スパッタリングガスが導入されるガス導入口13と、装置内部を減圧状態にするための真空排気口14と、被成膜物としてのガラス基板1の供給・排出を行う開閉バルブ15a、15bとを有している。 Yes a gas inlet 13 for sputtering gas is introduced, a vacuum exhaust port 14 to an internal device in a reduced pressure state, the opening and closing valve 15a for supplying and discharging of the glass substrate 1 as a deposition material, and 15b doing. そして、装置上部には直流電源により負電圧が印加される2個のカソード(第1及び第2のカソード16a、16b)が配設され、また、装置下部には加熱ヒータ17が配設されている。 Then, the two cathodes (first and second cathode 16a, 16b) in the device upper part a negative voltage is applied by the DC power supply is provided, also in a lower portion of the apparatus is disposed is a heater 17 there.

【0034】そして、該スパッタリング装置12では、 [0034] Then, in the sputtering device 12,
第1及び第2のカソード16a、16bの下面にターゲット物質18としてケイ素が貼り付けられ、所定のスパッタリング条件下、スパッタリングガスをガス導入口1 The first and second cathode 16a, the silicon is bonded as the target material 18 to the lower surface of the 16b, the predetermined sputtering conditions, a sputtering gas gas inlet 1
3から供給し、加速されたスパッタリングガスイオンをターゲット物質18に照射して弾き飛ばす。 3 is supplied from, flick accelerated sputtering gas ions by irradiating target material 18. 一方、ガラス基板1は、加熱ヒータ17により100℃〜350℃ On the other hand, the glass substrate 1, 100 ° C. to 350 ° C. by the heater 17
に加熱されてコンベヤ10上を矢印B方向に搬送され、 Is heated is conveyed conveyor 10 over the arrow B direction,
前記第1及び第2のカソード16a、16bから弾き飛ばされたスパッタリングガスイオンがガラス基板1の表面に堆積し、ガラス基板1上にはSiO 2膜3が形成される。 It said first and second cathode 16a, sputtering gas ions sprung from 16b is deposited on the surface of the glass substrate 1, on the glass substrate 1 is SiO 2 film 3 is formed. 尚、本スパッタリング工程7では2個のカソード16a、16bを使用してスパッタリング処理を行っているが、成膜されるSiO 2膜の膜厚に応じて適宜1個又は2個のカソードを使用してスパッタリング処理は行われる。 In the present sputtering step 7 two cathodes 16a, but using 16b is performing sputtering process, using one or two cathode appropriately in accordance with the film thickness of the SiO 2 film deposited sputtering processing is performed Te.

【0035】そして、上記スパッタリング処理が終了した後、被膜の密着性向上等を図るために、必要に応じて200℃〜500℃の温度条件下、焼成処理を施してもよい。 [0035] After the sputtering process is completed, in order to like improve adhesion of the coating, a temperature of 200 ° C. to 500 ° C. If necessary, it may be subjected to firing treatment.

【0036】このように本実施の形態では、スプレーガン9で懸濁液をガラス基板1上に撒布した後、熱処理を施し、その後、第1及び第2のカソード16a、16b [0036] Thus, in the present embodiment, after the suspension was sprayed on the glass substrate 1 with a spray gun 9 is subjected to heat treatment, then, the first and second cathode 16a, 16b
を使用してスパッタリング処理を行っているので、ガラス基板1上にはTiO 2微粒子2を覆う形で所望の膜厚を有するSiO 2膜3が容易に形成される。 Since performing sputtering using, on the glass substrate 1 has a SiO 2 film 3 having a desired film thickness so as to cover the TiO 2 fine particles 2 are easily formed. しかも、ガラス基板1を懸濁液に浸漬することなく、懸濁液をガラス基板1上に撒布してTiO 2微粒子2を該ガラス基板1上に固着させているので、ガラス基板1が大判の場合であっても、容易に大量生産することが可能となる。 Moreover, without immersing the glass substrate 1 to the suspension, the suspension since the TiO 2 fine particles 2 was sprayed on the glass substrate 1 is made to fixed onto the glass substrate 1, a glass substrate 1 is large-sized even if it is possible to easily mass-produced.

【0037】尚、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。 [0037] The present invention is not limited to the above embodiment.

【0038】上記実施の形態では、光活性微粒子としてアナターゼ形の結晶構造を有するTiO 2微粒子2を使用し、斯かるアナターゼ形のTiO 2微粒子2を懸濁させた市販の懸濁液としてテイカ社製のTKC−304を例示したが、光活性微粒子をガラス基板上に撒布・固着させることができるのであれば、他の市販の懸濁液を使用することができるのはいうまでもない。 [0038] In the above embodiment, by using the TiO 2 fine particles 2 having a crystal structure of anatase as the light active particulate, Tayca Corporation under the commercial suspension of TiO 2 fine particles 2 of such anatase It has been exemplified manufacturing of TKC-304, if the light active particulate as it can be sprayed and fixed on a glass substrate, can be used other commercially available suspension of course.

【0039】また、上記実施の形態では、被膜をSiO [0039] In the above embodiment, SiO coatings
2膜3で形成した場合を示しているが、被膜をSiO 2 It shows a case of forming a two layer 3 but, SiO coatings 2 -
Al 23 、或いはSiO 2 −TiO 2の混成膜で形成するようにするのも好ましい。 Al 2 O 3, or even preferred to be formed in the composite film of SiO 2 -TiO 2.

【0040】すなわち、Al 23 、或いはTiO 2はS [0040] That is, Al 2 O 3, or TiO 2 is S
iO 2に比べて屈折率が高いため、前記ガラス基板1の表面から離間するに従い前記SiO 2の含有量が傾斜的に増加するような組成勾配を有するように被膜を形成することによりガラス基板1側から膜表面にかけて徐々に屈折率が小さくなり、これによりガラス基板1からの反射率を低下させることができる。 Since the refractive index as compared with iO 2 is high, a glass substrate by the content of the SiO 2 in accordance with away from the surface of the glass substrate 1 to form a coating film to have a composition gradient as increasing inclination to 1 gradually refractive index decreases toward the film surface from the side, thereby reducing the reflectance from the glass substrate 1. しかも、SiO 2は親水性に優れているため、SiO 2を膜表面側に形成することにより、水洗等により汚染物質の除去を容易に行うことができる。 Moreover, SiO 2 is excellent in hydrophilicity, by forming a SiO 2 membrane surface, the removal of contaminants can be easily performed by washing with water or the like.

【0041】この場合、例えば、SiO 2 −TiO 2の混成膜をガラス基板1に形成するときは、図3の第1のカソード16aにはターゲット物質としてチタンをセットし、第2のカソード16bにはターゲット物質としてケイ素をセットし、TiO 2微粒子2が固着されたガラス基板1を矢印B方向に移動させながら所定のスパッタリング条件でスパッタリング処理を施すことにより、膜表面近傍でのSiO 2成分が増加するような組成勾配を有する混成膜を形成することができる。 [0041] In this case, for example, when forming a mixed film of SiO 2 -TiO 2 glass substrate 1 sets the titanium as a target material in the first cathode 16a in FIG. 3, the second cathode 16b sets the silicon as the target material, by performing a sputtering with a predetermined sputtering conditions while moving the glass substrate 1 which TiO 2 fine particles 2 is fixed in the direction of arrow B, increased SiO 2 component in the film near the surface mixed film having a composition gradient such that can be formed.

【0042】特に、この場合、第1のカソード16aと第2のカソード16bの間隔を狭くすることにより、所望の組成勾配を有する光触媒膜を円滑に得ることができる。 [0042] Particularly, in this case, by narrowing the interval between the first cathode 16a and the second cathode 16b, it can be obtained smoothly photocatalytic film having a desired composition gradient.

【0043】また、上記懸濁液にFe(鉄)、Al(アルミニウム)、Ni(ニッケル)、V(バナジウム)の中から選択された少なくとも1種以上の元素を微量(例えば、0.1wt%)添加するようにするのも好ましい。 [0043] Further, Fe (iron) to the suspension, Al (aluminum), Ni (nickel), V (vanadium) traces at least one element selected from among (e.g., 0.1 wt% ) is also preferred to be added. 具体的には、例えばFeを含有させる場合は、Fe Specifically, for example, if the inclusion of Fe is, Fe
の鉱石を硫酸で溶解させたもの、或いはFeのアセチルアセトナト錯体やFeのエチレンジアミン四錯酸塩(F That the ore is dissolved in sulfuric acid, or Fe acetylacetonato complexes and Fe ethylenediaminetetraacetic 錯酸 salt (F
e−EDTA)等のキレート化合物を懸濁液に混入したものを使用する。 To use those obtained by mixing e-EDTA) chelate compounds such suspension. そして、このように膜中に微量のF Then, F traces in this way membrane
e、Al、Ni、V等を添加させることにより、被膜の光透過スペクトルにおける光吸収端が5nm以上長波長側にシフトさせることができ、したがって、撒布されているTiO 2微粒子2の光吸収特性と相俟って、より広い波長範囲での光吸収が可能となり、より大きな触媒活性を得ることが可能となる。 e, Al, Ni, by adding V, etc., can be light absorption edge in the light transmission spectrum of the film is shifted to 5nm or more longer wavelength side, thus, the light absorption properties of the TiO 2 fine particles 2 that are sprayed What coupled with a enables light absorption in a wider wavelength range, it is possible to obtain a greater catalytic activity.

【0044】 [0044]

【実施例】次に、本発明の実施例を具体的に説明する。 EXAMPLES Next, an example of the present invention in detail.

【0045】本発明者等は、本発明範囲内となる試験片(実施例1〜実施例3)と本発明範囲外となる試験片(比較例1〜比較例2)とを夫々作製し、各々膜特性を評価した。 [0045] The present inventors have specimen to be within the scope of the present invention (Examples 1 to 3) and the present invention range become specimen and (Comparative Examples 1 2) respectively produced, They were evaluated each film properties.

【0046】〔実施例1〕まず、下記の液特性を有するテイカ社製のTKC−304を1/10に希釈し、アナターゼ形結晶構造を有するTiO 2微粒子が懸濁したスプレー液(懸濁液)を用意した。 [0046] Example 1 First, a Tayca Corp. TKC-304 with liquid following characteristics was diluted 1/10, spray liquid TiO 2 fine particles are suspended with anatase crystal structure (suspension ) was prepared.

【0047】〔TKC−304の液特性〕 溶剤:水 水素イオン濃度:中性(pH=7) TiO 2濃度:5wt% Ti形状:アナターゼ結晶 バインダ:リン系 そして、該懸濁液をスプレーガン9を使用してガラス基板1上に撒布し、次いで、該ガラス基板1を30分間、 [0047] [TKC-304 liquid Characteristics] Solvent: aqueous hydrogen ion concentration: neutral (pH = 7) TiO 2 concentration: 5 wt% Ti shape: anatase crystal Binder: phosphorus-based and the spray gun 9 the suspension the use and sprayed on the glass substrate 1, then the glass substrate 1 for 30 minutes,
200℃の温度で加熱してガラス基板1上の水分を蒸発させ、TiO 2微粒子2をガラス基板1上に固着させた。 Heated at a temperature of 200 ° C. The water content on the glass substrate 1 was evaporated, and the TiO 2 fine particles 2 is fixed on the glass substrate 1. 次いで、ターゲット物質18として微量のB(ホウ素)を含有したSiを使用すると共に、スパッタリングガスとしてArとO 2との混合ガス(Ar/O 2 =40/ Then, with using the Si containing a trace amount of B (boron) as the target material 18, a gas mixture of Ar and O 2 as the sputtering gas (Ar / O 2 = 40 /
60)を使用し、ガス圧を0.4Paに調製してスパッタリング処理を施した。 60) was used to subjected to sputtering to prepare the gas pressure to 0.4 Pa. そして、これによりTiO 2微粒子2を覆うようにしてガラス基板1上にSiO 2膜3 Then, SiO 2 film 3 on the glass substrate 1 thereby to cover the TiO 2 fine particles 2
を形成し、実施例1の試験片を作製した。 Forming a, to prepare a test piece of Example 1.

【0048】尚、スパッタリングガスのガス供給量は、 [0048] In addition, the gas supply amount of the sputtering gas,
SiO 2に対するTiO 2の比、すなわちTiO 2 /Si TiO 2 ratio with respect to SiO 2, ie TiO 2 / Si
2が、TiO 2 /SiO 2 =40/60となるように調製し、成膜されたSiO 2膜3の膜厚は300nmであった。 O 2 is prepared such that the TiO 2 / SiO 2 = 40/ 60, the thickness of the SiO 2 film 3 formed was 300 nm.

【0049】〔実施例2〕上記TKC−304にFe− [0049] Example 2 above TKC-304 Fe-
EDTAを0.5wt%含有させた溶液を1/10に希釈してスプレー液を作製し、該スプレー液をスプレーガン9でガラス基板1上に撒布し、次いで、該ガラス基板1を30分間、200℃の温度で加熱してガラス基板1 Solution containing 0.5 wt% of the EDTA was diluted 1/10 to prepare a spray liquid, the spray liquid was sprayed on the glass substrate 1 with a spray gun 9, then the glass substrate 1 for 30 minutes, heated at a temperature of 200 ° C. glass substrate 1
に付着している水分を蒸発させ、TiO 2微粒子2をガラス基板1上に固着させた。 Water is evaporated attached to, and the TiO 2 fine particles 2 is fixed on the glass substrate 1. 次いで、ターゲット物質1 Subsequently, the target material 1
8としてSi−Al合金(Si:90wt%、Al:1 Si-Al alloy as the 8 (Si: 90wt%, Al: 1
0wt%)を使用し、実施例1と略同様の方法でスパッタリング処理を施した。 Using the 0 wt%), it was subjected to sputtering in substantially the same manner as in Example 1. そして、このようにしてガラス基板1上にSiO 2膜3を成膜した後、温度500℃で焼成処理を施し、実施例2の試験片を作製した。 Then, after forming a SiO 2 film 3 this manner on the glass substrate 1, a baking treatment performed at a temperature 500 ° C., to produce a test piece of Example 2.

【0050】尚、本実施例2では、スパッタリングガスのガス供給量は、TiO 2 /SiO 2が、TiO 2 /Si [0050] In the second embodiment, the gas supply amount of the sputtering gas, TiO 2 / SiO 2 is, TiO 2 / Si
2 =30/70となるように調製し、成膜されたSi O 2 = 30/70 become so prepared were deposited Si
2膜3の膜厚は500nmであった。 Thickness of the O 2 film 3 was 500 nm.

【0051】〔実施例3〕上記TKC−304にAl− [0051] in Example 3 above TKC-304 Al-
EDTAを0.1wt%含有させた溶液を1/10に希釈してスプレー液を作製し、該スプレー液をスプレーガン9でガラス基板1上に撒布し、次いで実施例1と同様の熱処理及びスパッタリング処理を施してガラス基板1 Solution containing 0.1 wt% of the EDTA was diluted 1/10 to prepare a spray liquid, the spray liquid was sprayed on the glass substrate 1 with a spray gun 9, and then the same heat treatment and sputtering as in Example 1 glass substrate 1 is subjected to processing
上にSiO 2膜3を形成し、その後、温度500℃で焼成処理を施し、実施例3の試験片を作製した。 The SiO 2 film 3 is formed on the upper, then the calcination process performed at a temperature 500 ° C., to produce a test piece of Example 3.

【0052】尚、本実施例3では、スパッタリングガスのガス供給量は、TiO 2 /SiO 2が、TiO 2 /Si [0052] In the third embodiment, the gas supply amount of the sputtering gas, TiO 2 / SiO 2 is, TiO 2 / Si
2 =50/50となるように調製し、成膜されたSi O 2 = 50/50 become so prepared were deposited Si
2膜3の膜厚は400nmであった。 Thickness of the O 2 film 3 was 400 nm.

【0053】〔比較例1〕次に、本発明者等は、SiO [0053] Comparative Example 1 Next, the present inventors have, SiO
2膜3を形成することなくTiO 2微粒子2をガラス基板1上に露出させた試験片を作製した。 The TiO 2 particles 2 without forming the 2 film 3 to produce a test piece was exposed on the glass substrate 1.

【0054】すなわち、TKC−304を1/10に希釈した溶液をスプレー液とし、該スプレー液をスプレーガン9でガラス基板1上に撒布し、次いで、該ガラス基板1を60分間、200℃の温度で加熱してガラス基板1に付着している水分を完全に蒸発させ、比較例1の試験片を作製した。 [0054] That is, a solution obtained by diluting the TKC-304 1/10 spray liquid, the spray liquid was sprayed on the glass substrate 1 with a spray gun 9, then the glass substrate 1 for 60 minutes, the 200 ° C. It was heated at a temperature completely evaporate moisture adhered to the glass substrate 1, thereby manufacturing a test piece of Comparative example 1.

【0055】〔比較例2〕次に、本発明者等は、TiO [0055] Comparative Example 2 Next, the present inventors have, TiO
2膜をガラス基板上にスパッタリング処理積層した試験片を作製した。 2 films were prepared test pieces sputtering laminated on a glass substrate.

【0056】すなわち、ターゲット物質18としてTi [0056] In other words, Ti as a target material 18
金属を使用し、スパッタリングガスとしてArとO 2の混合ガス(Ar/O 2 =50/50)を使用し、ガス圧を0.4Paに調製してスパッタリング処理を施し、これによりガラス基板1上にTiO 2膜を積層し、比較例2の試験片を作製した。 Using a metal, using a mixed gas of Ar and O 2 as the sputtering gas (Ar / O 2 = 50/ 50), subjected to sputtering to prepare the gas pressure to 0.4 Pa, thereby the glass substrate 1 the TiO 2 film is laminated, thereby manufacturing a test piece of Comparative example 2.

【0057】次に、上記各試験片について膜特性(自己防汚性、機械的強度、親水性)を評価した。 Next, to evaluate the film properties for each specimen (self antifouling, mechanical strength, hydrophilicity).

【0058】尚、自己防汚性は、各試験片を屋外に1ヶ月放置し、その汚れ状況をガラス基板単体と比較して評価した。 [0058] In addition, the self-antifouling properties, each test piece was allowed to stand for one month in the outdoors, it was evaluated by comparing the dirt situation and glass substrate itself. また、機械的強度は、JIS R3221. In addition, mechanical strength, JIS R3221.
6.4. 6.4. に準拠したテ−バ摩耗試験(荷重100g/c Te conforming to - bar abrasion test (load 100 g / c
2 )を行い、表面の損傷の有無等で評価した。 m 2) was performed to evaluate the presence or absence of surface damage like. さらに、親水性は、上記各試験片に水を撒布し、水の弾き具合を目視で確認することにより評価した。 Furthermore, the hydrophilic property was evaluated by the above-mentioned test pieces were sprayed with water, to check the play condition of water visually.

【0059】表1は各試験片についての膜特性を示している。 [0059] Table 1 shows the film properties of each test piece.

【0060】 [0060]

【表1】 [Table 1]

【0061】表1中、自己防汚性については、◎印はガラス基板単体と比較して明確な効果があった場合を示し、〇印はガラス基板単体と比較して多少の効果があった場合を示し、また×印はガラス基板単体と比較して効果が見られなかった場合を示している。 [0061] In Table 1, for the self antifouling, ◎ mark indicates a case where there is a clear effect compared to glass substrates alone, .smallcircle had some effect compared to the glass substrate alone when indicates, also × marks indicate the case did not show a effect compared to the glass substrate itself. 機械的強度については、◎印は良、〇印は可、×印は不可を示している。 For mechanical strength, ◎ mark is good, .smallcircle is variable, × marks indicate the impossible. 親水性については、〇印は水が膜面上に60%以上の面積を占めて広がった場合を示し、×印は水が膜面上に30%未満の面積しか占めなかっ場合を示している。 The hydrophilic, .smallcircle shows the case where water is spread accounted for 60% of the area on the film surface, × mark water shows a case not only occupy the area of ​​less than 30% on the membrane surface .
尚、本実施例及び比較例では水が膜面上で30〜60% In the Examples and Comparative Examples 30% to 60% on a water film plane
の面積を占めたものは得られなかった。 What accounted for the area could not be obtained.

【0062】この表1から明らかなように、比較例1はTiO 2微粒子2がガラス基板1上に固着されているため、光照射によりTiO 2微粒子が触媒反応を起こして表面の汚染物質が分解され、したがってTiO 2微粒子2が固着されていないガラス基板単体に比べると、自己防汚性は良好であるが、TiO 2微粒子がSiO 2膜で被覆されていないためTiO 2微粒子のガラス基板からの剥離が生じて機械的強度に劣り、また、TiO 2はSi [0062] The As is clear from Table 1, Comparative Example 1, since the TiO 2 fine particles 2 is fixed on the glass substrate 1, surface contaminants TiO 2 fine particles undergo a catalytic reaction decomposed by light irradiation it is, therefore compared to the glass substrate itself which TiO 2 fine particles 2 are not fixed, but self antifouling properties is good, TiO 2 fine particles from the glass substrate of TiO 2 fine particles because they are not covered by the SiO 2 film peeling inferior in mechanical strength occurs, also, TiO 2 is Si
2のように水に対する親和性を有さないため親水性にも劣ることが確認された。 Because O 2 of no affinity for water so that the inferior in hydrophilicity was confirmed.

【0063】比較例2はガラス基板上にTiO 2膜を形成したに過ぎないため、機械的強度には優れているが、 [0063] For Comparative Example 2 is merely to form the TiO 2 film on a glass substrate, it is excellent in mechanical strength,
自己防汚性についてはガラス基板単体の場合と同程度の汚れが残存し、また親水性に関しても劣ることが確認された。 For self antifouling is residual contamination comparable to the case of the glass substrate itself, also to be inferior with regard hydrophilicity was confirmed.

【0064】これに対して実施例1〜実施例3はガラス基板1上にTiO 2微粒子2が固着され、さらに該Ti [0064] Examples 1 to 3 whereas the TiO 2 fine particles 2 is fixed on the glass substrate 1, further the Ti
2微粒子2を覆うようにガラス基板1上にSiO 2膜3 O 2 SiO 2 film 3 on the glass substrate 1 so as to cover the fine particles 2
が形成されているので、光照射されるとTiO 2微粒子2による光触媒反応が促進されて自己防汚性が改善され、しかもTiO 2微粒子2がSiO 2膜3により被覆されることにより機械的強度が大幅に改善されて表面に傷が付いたり、或いは光触媒膜4(TiO 2微粒子2及びSiO 2膜3)がガラス基板1から剥離するのが回避され、さらに被膜を形成するSiO 2膜3は水に対して親和性を有しているので親水性についても良好な結果を得ることができる。 Mechanical strength because There are formed, when the light irradiation is promoted photocatalytic reaction by TiO 2 fine particles 2 are improved self antifouling properties, yet by TiO 2 fine particles 2 is covered by a SiO 2 film 3 or scratched greatly improved the surface, or the photocatalyst film 4 (TiO 2 fine particles 2 and the SiO 2 film 3) is avoided that peeled from the glass substrate 1, SiO 2 film 3 is further formed a coating since it has an affinity for water can also hydrophilic obtain good results.

【0065】 [0065]

【発明の効果】以上詳述したように本発明に係る光触媒膜付き基板は、光触媒作用を呈する光活性微粒子が透明基板上に撒布されると共に、前記透明基板上には前記光活性微粒子を覆うように金属酸化物(ケイ素酸化物)からなる被膜が形成されているので、光活性微粒子の有する光触媒作用を損なうことなく、したがって、良好な自己防汚性を有し、しかも耐久性にも優れた光触媒膜付き基板を得ることができる。 Photocatalytic film-coated substrate according to the present invention as described in detail above, according to the present invention, together with the photoactive particles exhibiting a photocatalytic action is sprayed on a transparent substrate, covering the light active particulate is on the transparent substrate since the film made of a metal oxide (silicon oxide) is formed so as to, without impairing the photocatalytic action having the light active particulate, therefore, have good self antifouling property, yet durability superior photocatalytic film-coated substrate was able to be obtained.

【0066】また、本発明に係る光触媒膜付き基板の製造方法は、光触媒作用を呈する光活性微粒子を透明基板上に撒布した後、熱処理を施し、その後、所定の金属材料(ケイ素)をターゲット物質としてスパッタリング処理を施し、前記光活性微粒子が撒布された透明基板上に金属酸化物からなる被膜を形成し、また、前記光活性微粒子を所定の溶剤中に懸濁させて懸濁液を作製し、該懸濁液を前記透明基板上に撒布した後、前記熱処理を施して前記透明基板上の懸濁液を蒸発させ、前記光活性微粒子を前記透明基板上に固着させているので、従来のように透明基板を懸濁液に浸漬することなく透明基板上に光活性微粒子を撒布することにより、種々のガラス物品に対応可能な光触媒膜付き基板を容易に大量生産することができる。 [0066] The manufacturing method of the photocatalyst film formed substrate according to the present invention, after the light active particulate that exhibits photocatalytic activity was sprayed on a transparent substrate, heat treatment is performed thereafter, a predetermined metal material (silicon) target material as subjected to sputtering, the the light active particulate to form a film of metal oxide on the transparent substrate spraying, also suspensions to prepare the light active particulate suspended in a given solvent after spraying the suspension on the transparent substrate, the thermal treatment to evaporate the suspension on the transparent substrate by performing, since the light active particulate which is fixed on the transparent substrate, the conventional by spraying the photoactive particles transparent substrate on the transparent substrate without immersion in a suspension manner, it is possible to easily mass-produce the photocatalyst film-coated substrate capable of supporting a variety of glass articles.

【0067】さらに、本発明では、光活性微粒子を屈折率の小さい金属酸化物からなる被膜中に埋設させることができるので、反射色が目立たないようにすることができる。 [0067] Further, in the present invention, since it is possible to embed the light active particulate in the coating during consisting small metal oxide having a refractive index can be made to the reflection color is inconspicuous.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明に係る光触媒膜付き基板を模式的に示した断面図である。 A photocatalytic film-coated substrate according to the invention, FIG is a cross-sectional view schematically showing.

【図2】本発明に係る光触媒膜付き基板の製造方法を示す製造工程図である。 Is a manufacturing process diagram showing the manufacturing method of the photocatalyst film formed substrate according to the present invention; FIG.

【図3】上記光触媒膜付き基板の製造方法の詳細を示す図である。 3 is a diagram showing details of a method for producing the photocatalyst film coated substrate.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 ガラス基板(透明基板) 2 TiO 2微粒子(光活性微粒子) 3 SiO 2膜(被膜) 1 a glass substrate (transparent substrate) 2 TiO 2 fine particles (photoactive particles) 3 SiO 2 film (coating)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河原 哲郎 大阪府大阪市中央区道修町3丁目5番11号 日本板硝子株式会社内 (72)発明者 新井 大介 大阪府大阪市中央区道修町3丁目5番11号 日本板硝子株式会社内 Fターム(参考) 4G059 AA01 AA07 AB01 AB09 AB11 AC22 EA04 EA05 EA18 EB04 EB06 GA01 GA05 GA12 4G069 AA03 AA08 AA11 BA02A BA02B BA04A BA04B BA48A BB04A BB04B BD05A BD05B CA01 DA06 EA07 EC22Y FB24 FB58 4K029 AA09 BA46 BD00 CA06 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (72) inventor Tetsuro Kawahara Chuo-ku, Osaka-shi, Doshomachi 3-chome, No. 5, No. 11, Nippon Sheet Glass Co., Ltd. in the (72) inventor Daisuke Arai, Chuo-ku, Osaka-shi Doshomachi 3-chome No. 5, No. 11, Nippon Sheet Glass Co., Ltd. in the F-term (reference) 4G059 AA01 AA07 AB01 AB09 AB11 AC22 EA04 EA05 EA18 EB04 EB06 GA01 GA05 GA12 4G069 AA03 AA08 AA11 BA02A BA02B BA04A BA04B BA48A BB04A BB04B BD05A BD05B CA01 DA06 EA07 EC22Y FB24 FB58 4K029 AA09 BA46 BD00 CA06

Claims (5)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 光触媒作用を呈する光活性微粒子が透明基板上に撒布されると共に、前記光活性微粒子を覆うように金属酸化物からなる被膜が前記透明基板上に形成されていることを特徴とする光触媒膜付き基板。 1. A with photoactive particles exhibiting a photocatalytic action is sprayed on a transparent substrate, and characterized in that the coating of metal oxide so as to cover the light active particulate is formed on the transparent substrate photocatalyst film coated substrate to.
  2. 【請求項2】 前記金属酸化物は、ケイ素酸化物であることを特徴とする請求項1記載の光触媒膜付き基板。 Wherein said metal oxide is a photocatalytic film-coated substrate according to claim 1, characterized in that a silicon oxide.
  3. 【請求項3】 光触媒作用を呈する光活性微粒子を透明基板上に撒布した後、熱処理を施し、次いで、所定の金属材料をターゲット物質としてスパッタリング処理を施し、前記光活性微粒子が撒布された透明基板上に金属酸化物からなる被膜を形成することを特徴とする光触媒膜付き基板の製造方法。 3. After the photoactive particles exhibiting photocatalysis was sprayed on a transparent substrate, heat-treated, then the sputtering process subjected to a predetermined metal material as a target material, a transparent substrate on which the light active particulate is sprayed photocatalyst film with a manufacturing method of a substrate, which comprises forming a film comprising a metal oxide thereon.
  4. 【請求項4】 前記所定の金属材料はケイ素であることを特徴とする請求項3記載の光触媒膜付き基板の製造方法。 Wherein said predetermined metal material according to claim 3 photocatalyst film with a manufacturing method of a substrate, wherein the silicon.
  5. 【請求項5】 前記光活性微粒子を所定の溶剤中に懸濁させて懸濁液を作製し、該懸濁液を前記透明基板上に撒布した後、前記熱処理を施して前記透明基板上の懸濁液を蒸発させ、前記光活性微粒子を前記透明基板上に固着させることを特徴とする請求項3又は請求項4記載の光触媒膜付き基板の製造方法。 5. prepare a suspension by suspending said light active particulate in a given solvent, after spraying the suspension on the transparent substrate, on the transparent substrate subjected to the heat treatment the suspension is evaporated, claim 3 or claim 4 photocatalyst film with a manufacturing method of a substrate according to, characterized in that to fix the light active particulate on the transparent substrate.
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