JP2002043723A - Wiring board and electronic parts module using the same - Google Patents

Wiring board and electronic parts module using the same

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JP2002043723A
JP2002043723A JP2000223793A JP2000223793A JP2002043723A JP 2002043723 A JP2002043723 A JP 2002043723A JP 2000223793 A JP2000223793 A JP 2000223793A JP 2000223793 A JP2000223793 A JP 2000223793A JP 2002043723 A JP2002043723 A JP 2002043723A
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solder resist
resist layer
wiring
electronic component
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Kiminori Tada
公則 多田
Isamu Kirikihira
勇 桐木平
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    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
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    • H01L2924/1531Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
    • H01L2924/15311Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board and an electronic parts module using the wiring board excellent in thermal hysteresis, thermal fatigue resistance in a heat cycle test and moisture resistance in high acceleration test (HAST) when mounted on. SOLUTION: On a wiring board 4, a wiring conductive layer 2 is formed by adhering the wiring conductive layer 2 on the surface of an insulating board 1. A solder resist layer 3 is adhered with covering a part of the wiring conductive layer 2. The solder resist layer 3 is comprised of a lower layer part 3a which principal constituent is photosensitive resin and an upper layer part 3b which principal constituent is thermosetting resin. The infiltrating amount of the upper layer part 3b is 20 to 150 g/m2 when it is measured by a method regulated by JIS Z 0208. Therefore, the wiring conductive layer 2 does not corrode in a reliability test of a moisture shelf test and the like, and the solder resist layer 3 does not separate from the insulating board 1 when soldering, which prevents the wiring conductive layer from disconnecting. The value of resistance does not fall in a short period of time, or electric short circuit does not occur in a short period of time, even when a high acceleration test (HAST) is executed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ソルダーレジスト
層を有する配線基板およびこれを用いた電子部品モジュ
ールに関するものであり、特に、外部電気回路基板への
実装時の熱履歴や温度サイクル試験(TCT)に対する
耐熱疲労性および高加速度試験(HAST)に対する耐
湿性等に優れた配線基板およびこれを用いた電子部品モ
ジュールに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring board having a solder resist layer and an electronic component module using the same, and more particularly to a heat history and a temperature cycle test (TCT) at the time of mounting on an external electric circuit board. The present invention relates to a wiring board excellent in heat fatigue resistance against) and moisture resistance against a high acceleration test (HAST), and an electronic component module using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、半導体素子等の能動部品や容量素
子・抵抗器等の受動部品で所定の電子回路を構成して成
る混成集積回路装置等の電子部品モジュールは、通常、
酸化アルミニウム質焼結体等のセラミック材料から成る
絶縁基体の内部および表面にタングステン・モリブデン
等の高融点金属粉末から成る複数の配線導体層を形成し
て製作した配線基板の表面に、半導体素子や容量素子・
抵抗器等を搭載取着するとともにこれらの電極を各配線
導体層に電気的に接続することによって形成されてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, an electronic component module such as a hybrid integrated circuit device in which a predetermined electronic circuit is constituted by active components such as a semiconductor device and passive components such as a capacitance device and a resistor is usually used.
On the surface of a wiring board manufactured by forming a plurality of wiring conductor layers made of a refractory metal powder such as tungsten and molybdenum on the inside and the surface of an insulating base made of a ceramic material such as an aluminum oxide sintered body, a semiconductor element or the like is formed. Capacitive element
It is formed by mounting and mounting a resistor and the like and electrically connecting these electrodes to each wiring conductor layer.

【0003】しかしながら、このような配線基板は、最
近の電子部品モジュールが移動体通信機器に使用される
部品に代表されるように小型化・薄型化・軽量化が要求
されるようになってきているのに対して、酸化アルミニ
ウム質焼結体等のセラミック材料から成る絶縁基体にタ
ングステンやモリブデン等の高融点金属粉末から成る導
電ペーストをスクリーン印刷法等の厚膜手法を採用して
所定パターンに印刷塗布することにより配線導体層を形
成していることから、配線導体層の微細化が困難で配線
導体層を高密度に形成することができず、その結果、配
線基板を小型化・軽量化することが困難であるいう問題
点を有していた。また、タングステンやモリブデン等の
高融点金属粉末から成る配線導体層は高抵抗であること
から、電気信号を高速に処理することが困難であり、電
気信号の高速処理が要求される最近の半導体素子収納用
パッケージ等には適用が困難であるという問題点を有し
ていた。
However, such a wiring board has been required to be reduced in size, thickness, and weight, as represented by components used in mobile communication devices in recent electronic component modules. On the other hand, a conductive paste made of a refractory metal powder such as tungsten or molybdenum is applied to an insulating substrate made of a ceramic material such as an aluminum oxide sintered body into a predetermined pattern by using a thick film technique such as screen printing. Since the wiring conductor layer is formed by printing and applying, it is difficult to miniaturize the wiring conductor layer and it is not possible to form the wiring conductor layer at a high density. As a result, the wiring board is reduced in size and weight. There is a problem that it is difficult to do so. In addition, since the wiring conductor layer made of a high melting point metal powder such as tungsten or molybdenum has a high resistance, it is difficult to process electric signals at high speed, and recent semiconductor devices that require high-speed processing of electric signals are required. There is a problem that it is difficult to apply to a storage package or the like.

【0004】このような問題点を解決するために、最近
ではガラス織布やアラミド織布とエポキシ樹脂等の熱硬
化性樹脂とから成る絶縁基板の表面に薄膜形成法を採用
して低抵抗金属である銅・金等から成る配線導体層を形
成して成る、いわゆるプリント基板が、配線基板や半導
体素子を収容するパッケージ等に適用されている。
In order to solve such problems, recently, a low-resistance metal has been adopted by adopting a thin film forming method on the surface of an insulating substrate made of glass woven fabric or aramid woven fabric and a thermosetting resin such as epoxy resin. A so-called printed board formed by forming a wiring conductor layer made of copper, gold, or the like is applied to a package or the like that houses a wiring board or a semiconductor element.

【0005】このようなプリント基板は、絶縁基板表面
に、エッチング法や転写法・めっき法等を採用して配線
導体層を被着形成した後、配線導体層の酸化・腐食を防
止するとともに配線基板に電子部品を実装する際の熱か
ら絶縁基板を保護する目的で配線導体層を覆ってソルダ
ーレジスト層を被着形成し、しかる後、ソルダーレジス
ト層に露光・現像法等を採用して開口を形成するととも
に開口から露出する配線導体層にニッケル・金めっきを
施し、さらに、この配線導体層に半田等から成る導体バ
ンプを介して半導体素子等の電子部品の電極を接続する
ことにより半導体装置等の電子部品モジュールと成る。
[0005] In such a printed circuit board, after a wiring conductor layer is formed on the surface of an insulating substrate by employing an etching method, a transfer method, a plating method, or the like, oxidation and corrosion of the wiring conductor layer are prevented and wiring is performed. In order to protect the insulating substrate from heat when mounting electronic components on the board, a solder resist layer is formed by covering the wiring conductor layer, and then the solder resist layer is opened using an exposure and development method. And a nickel / gold plating on the wiring conductor layer exposed from the opening, and further connecting an electrode of an electronic component such as a semiconductor element to the wiring conductor layer via a conductor bump made of solder or the like. And the like.

【0006】なお、ソルダーレジスト層は、一般には、
配線導体層や絶縁基板との密着性が良好で、かつ可撓性
を有し温度サイクル試験等の信頼性試験において絶縁基
板との剥離やクラックを生じない感光性樹脂を用いて形
成されている。
Incidentally, the solder resist layer generally comprises
It is formed using a photosensitive resin that has good adhesion to the wiring conductor layer and the insulating substrate, has flexibility, and does not cause peeling or cracking from the insulating substrate in a reliability test such as a temperature cycle test. .

【0007】この配線基板は、配線導体層をエッチング
法や転写法・めっき法等の薄膜形成法を採用して形成し
たことから配線導体層の微細化が可能と成り、また、絶
縁基板をガラス織布やアラミド織布とエポキシ樹脂等の
熱硬化性樹脂とから形成したことから小型・軽量なもの
と成り、さらには配線導体層を銅・金等の低抵抗金属で
形成したことから電気信号の高速処理が可能なものと成
るというものである。
In this wiring board, the wiring conductor layer is formed by employing a thin film forming method such as an etching method, a transfer method or a plating method, so that the wiring conductor layer can be miniaturized. Since it is made of woven or aramid woven fabric and a thermosetting resin such as epoxy resin, it is small and lightweight, and since the wiring conductor layer is made of low-resistance metal such as copper and gold, electric signals It is possible to perform high-speed processing.

【0008】しかしながら、この配線基板は、ソルダー
レジスト層を形成する感光性樹脂が水酸基やカルボン酸
基等の吸湿性の高い成分を含有することから耐湿性に劣
り、高湿度の恒温槽中に配線基板を長時間放置する湿中
放置試験等の信頼性試験において水分を吸収し易く、そ
の結果、この水分が配線導体層を腐蝕させてしまい、配
線基板の電気的接続の信頼性を低下させてしまうという
問題点を有していた。
However, this wiring board is inferior in moisture resistance because the photosensitive resin forming the solder resist layer contains a highly hygroscopic component such as a hydroxyl group or a carboxylic acid group. In a reliability test such as a wet test in which the board is left for a long time, moisture is easily absorbed, and as a result, this moisture corrodes the wiring conductor layer and lowers the reliability of electrical connection of the wiring board. Had the problem that

【0009】また、この配線基板は、ソルダーレジスト
層に開口を形成した後にこの開口から露出する配線導体
層にニッケル・金めっきを施す際に、めっき液の強塩基
性溶液がソルダーレジスト層を膨潤させ絶縁基板からソ
ルダーレジスト層を剥離させてしまい、その結果、配線
導体層が絶縁基板から剥離して断線してしまうという問
題点を有していた。
Further, in this wiring board, when an opening is formed in the solder resist layer and a nickel / gold plating is applied to the wiring conductor layer exposed from the opening, a strong basic solution of a plating solution swells the solder resist layer. As a result, the solder resist layer is peeled off from the insulating substrate, and as a result, there is a problem that the wiring conductor layer is peeled off from the insulating substrate and disconnected.

【0010】このような問題点を解決するために、ソル
ダーレジスト層を構成する樹脂の架橋密度を高めたり、
ソルダーレジスト層にフィラーを高密度に充填してソル
ダーレジスト層の硬度を高めてめっき液によるソルダー
レジスト層の膨潤を防止する方法が提案されている。
[0010] In order to solve such problems, the crosslinking density of the resin constituting the solder resist layer is increased,
A method has been proposed in which a filler is densely filled in a solder resist layer to increase the hardness of the solder resist layer and prevent the solder resist layer from swelling due to a plating solution.

【0011】しかしながら、樹脂の架橋密度を高めた場
合には、ソルダーレジスト層の可撓性が低下し温度サイ
クル試験等の耐熱疲労性試験でソルダーレジスト層にク
ラックが発生してしまい、その結果、配線導体層に断線
が発生し配線基板の電気的接続の信頼性が低下してしま
うという問題点を有していた。また、ソルダーレジスト
層にフィラーを高密度に充填した場合には、フィラーを
高密度に充填し密度を高めた分ソルダーレジスト層中の
樹脂量が減少してソルダーレジスト層と絶縁基板との密
着性が低下してしまい、その結果、温度サイクル試験等
の耐熱疲労性試験で絶縁基板とソルダーレジスト層との
間で剥離が発生してしまい、その結果、配線導体層が絶
縁基板から剥離し配線基板の電気的接続の信頼性が低下
してしまうという問題点を有していた。
However, when the crosslinking density of the resin is increased, the flexibility of the solder resist layer is reduced, and cracks are generated in the solder resist layer in a heat fatigue resistance test such as a temperature cycle test. There has been a problem that disconnection occurs in the wiring conductor layer and the reliability of electrical connection of the wiring board is reduced. Also, when the solder resist layer is filled with the filler at a high density, the amount of resin in the solder resist layer is reduced by the high density of the filler, and the adhesion between the solder resist layer and the insulating substrate is reduced. As a result, peeling occurs between the insulating substrate and the solder resist layer in a thermal fatigue test such as a temperature cycle test, and as a result, the wiring conductor layer is peeled from the insulating substrate and the wiring substrate is peeled off. Has a problem in that the reliability of the electrical connection is reduced.

【0012】このような問題点を解決するために、ソル
ダーレジスト層の表層側の領域にはフィラーを50〜90重
量%と高密度で充填して硬度を高め、絶縁基板側の領域
にはフィラーの充填量を0〜30重量%と少なく充填して
硬度を表層側に較べて低くしたソルダーレジスト層が提
案されている(特開平2000−31628号公報)。このソル
ダーレジスト層によれば、表層側の領域はフィラーを高
密度に充填して硬度を高めたことから、めっき時にソル
ダーレジスト層が膨潤することはなく、絶縁基板からソ
ルダーレジスト層や配線導体層が剥離して配線導体層が
断線してしまうことを防止することができるというもの
である。また、このソルダーレジスト層は、絶縁基板側
の領域のフィラーの充填量を少なくして硬度を表層側に
較べて低くしたことから、ソルダーレジスト層の可撓性
が低下してクラックを生じたりソルダーレジスト層と絶
縁基板との密着性が低下して絶縁基板とソルダーレジス
ト層との間で剥離を生じることはなく、その結果、配線
導体層の断線を防止することができるというものであ
る。
In order to solve these problems, the surface of the solder resist layer is filled with a filler at a high density of 50 to 90% by weight to increase the hardness, and the region on the insulating substrate side is filled with the filler. (Japanese Patent Laid-Open Publication No. 2000-31628) has been proposed a solder resist layer in which the filling amount is as small as 0 to 30% by weight to lower the hardness as compared with the surface layer side. According to this solder resist layer, the surface layer side is filled with a high density of fillers to increase the hardness, so that the solder resist layer does not swell during plating, and the solder resist layer and the wiring conductor layer are removed from the insulating substrate. Can be prevented from being separated and the wiring conductor layer is disconnected. In addition, since the solder resist layer has a lower filler filling amount in the region on the insulating substrate side and has a lower hardness than the surface layer side, the flexibility of the solder resist layer is reduced and cracks or solder The adhesiveness between the resist layer and the insulating substrate is not reduced, so that peeling does not occur between the insulating substrate and the solder resist layer. As a result, disconnection of the wiring conductor layer can be prevented.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
ネットワークパソコンや宇宙開発用のスーパーコンピュ
ータ等に使用される高密度実装配線基板ではより高い信
頼性が要求されるようになってきており、従来の配線基
板に半導体素子等の電子部品を半田等の導体バンプを介
して実装して成る電子部品モジュールは、例えば、温度
が130℃で相対湿度が85%の高温高湿槽中で配線基板の
端子間に5.5Vの電圧を連続して印加する高加速度試験
(HAST)を行なうと、高温高湿度中で端子間に電圧
を印加することにより導体バンプの金属がイオン化して
イオンマイグレーションが発生し、隣接する導体バンプ
間の抵抗値が短時間で低下したり導体バンプ間で電気的
短絡が短時間に発生してしまい、その結果、配線基板の
電気的接続の信頼性が低下してしまうという問題点を有
していた。これは、フィラーと樹脂の界面に水分が溜ま
り易いとともにこの界面に沿って金属イオンが移動し易
く、フィラーを高密度で充填した表層側のソルダーレジ
スト層ではフィラーが導体バンプ間やソルダーレジスト
層の表裏面間を架橋してしまい、その結果、高加速度試
験(HAST)を行なうと金属イオンがフィラーと樹脂
の界面に沿って導体バンプ間を容易に移動してしまうこ
とによるためである。
However, in recent years,
Higher-density wiring boards used in network personal computers and supercomputers for space development are required to have higher reliability. Electronic components such as semiconductor elements are soldered to conventional wiring boards. An electronic component module mounted via conductive bumps is, for example, a high-temperature type in which a voltage of 5.5 V is continuously applied between terminals of a wiring board in a high-temperature and high-humidity chamber having a temperature of 130 ° C. and a relative humidity of 85%. When an acceleration test (HAST) is performed, by applying a voltage between terminals at high temperature and high humidity, the metal of the conductive bumps is ionized and ion migration occurs, and the resistance value between adjacent conductive bumps decreases in a short time. Or electrical short-circuiting occurs between the conductive bumps in a short time, and as a result, the reliability of the electrical connection of the wiring board is reduced. This is because moisture easily accumulates at the interface between the filler and the resin, and metal ions easily move along this interface.In the solder resist layer on the surface layer filled with filler at a high density, the filler may be located between the conductor bumps or the solder resist layer. This is because the front and back surfaces are cross-linked, and as a result, when a high acceleration test (HAST) is performed, metal ions easily move between the conductor bumps along the interface between the filler and the resin.

【0014】なお、このようなフィラーを高密度で充填
したソルダーレジスト層は、一般に、その透湿量がJIS
Z 0208に規定された方法により測定して200g/m2以
上の高い値となっている。
The solder resist layer filled with such a filler at a high density generally has a moisture permeability of JIS.
It has a high value of 200 g / m 2 or more as measured by the method specified in Z 0208.

【0015】本発明は、かかる従来技術の問題点に鑑み
案出されたものであり、その目的は外部電気回路基板へ
の実装時の熱履歴や温度サイクル試験に対する耐熱疲労
性および高加速度試験(HAST)に対する耐湿性等に
優れた配線基板およびこれを用いた電子部品モジュール
を提供することにある。
The present invention has been devised in view of the above-mentioned problems of the prior art, and has as its object the purpose of heat resistance at the time of mounting on an external electric circuit board, heat resistance to temperature cycle test, and high acceleration test ( An object of the present invention is to provide a wiring board excellent in moisture resistance against HAST) and an electronic component module using the same.

【0016】[0016]

【課題を解決するための手段】本発明の配線基板は、絶
縁基板の表面に、配線導体層を被着形成するとともに、
その配線導体層の一部を覆ってソルダーレジスト層を被
着して成る配線基板であって、ソルダーレジスト層は感
光性樹脂を主成分とする下層部と熱硬化性樹脂を主成分
とする上層部とから成り、かつ上層部の透湿量がJIS Z
0208に規定された方法により測定して20〜150g/m2
であることを特徴とするものである。
According to the present invention, there is provided a wiring board comprising: a wiring conductor layer formed on a surface of an insulating substrate;
A wiring board comprising a solder resist layer covering a part of the wiring conductor layer, wherein the solder resist layer is a lower layer mainly composed of a photosensitive resin and an upper layer mainly composed of a thermosetting resin. And the upper layer is JIS Z
20 to 150 g / m 2 measured by the method specified in 0208
It is characterized by being.

【0017】また、本発明の配線基板は、ソルダーレジ
スト層の下層部が感光性樹脂50〜80重量%、エラストマ
ー10〜40重量%および無機絶縁性フィラー5〜20重量%
から成り、かつ上層部が熱硬化性樹脂50〜80重量%、エ
ラストマー10〜40重量%および無機絶縁性フィラー5〜
20重量%から成ることを特徴とするものである。
Further, in the wiring board of the present invention, the lower part of the solder resist layer is composed of 50 to 80% by weight of a photosensitive resin, 10 to 40% by weight of an elastomer, and 5 to 20% by weight of an inorganic insulating filler.
And the upper layer is composed of 50 to 80% by weight of a thermosetting resin, 10 to 40% by weight of an elastomer, and 5 to 5 parts of an inorganic insulating filler.
It is characterized by comprising 20% by weight.

【0018】本発明の電子部品モジュールは、上記配線
基板に電子部品を実装して成る電子部品モジュールであ
って、ソルダーレジスト層に配線導体層を露出させる開
口を設けて、この開口内の配線導体層に導体バンプを介
して電子部品の電極を接続したことを特徴とするもので
ある。
An electronic component module according to the present invention is an electronic component module in which an electronic component is mounted on the wiring board, wherein an opening for exposing a wiring conductor layer is provided in a solder resist layer, and the wiring conductor in the opening is provided. An electrode of an electronic component is connected to the layer via a conductor bump.

【0019】また、本発明の電子部品モジュールは、上
記電子部品モジュールにおいて、ソルダーレジスト層の
上層部の開口径が下層部の開口径の50〜80%の大きさで
あることを特徴とするものである。
The electronic component module according to the present invention is characterized in that, in the electronic component module, the opening diameter of the upper layer of the solder resist layer is 50 to 80% of the opening diameter of the lower layer. It is.

【0020】本発明の配線基板によれば、配線導体層を
覆うソルダーレジスト層の下層部を感光性樹脂を主成分
とするものとしたことから、ソルダーレジスト層が絶縁
基板や配線導体層と良好な密着性を示し、温度サイクル
試験等の信頼性試験において絶縁基板との剥離やクラッ
クを生じることのない耐熱疲労性に優れた配線基板とす
ることができる。また、ソルダーレジスト層の上層部を
熱硬化性樹脂を主成分とするものとしたことから、架橋
密度を高めることができ良好な耐湿性を有するとともに
めっき時にソルダーレジスト層を膨潤のないものとする
ことができ、その結果、湿中放置試験等の信頼性試験に
おいて配線導体層が腐蝕したり、めっき時にソルダーレ
ジスト層が絶縁基板から剥離して配線導体層が断線した
りすることのない配線基板とすることができる。
According to the wiring board of the present invention, the lower part of the solder resist layer covering the wiring conductor layer is made mainly of a photosensitive resin, so that the solder resist layer is excellent in compatibility with the insulating substrate and the wiring conductor layer. A wiring board having excellent adhesion and exhibiting excellent thermal fatigue resistance without peeling or cracking from an insulating substrate in a reliability test such as a temperature cycle test can be obtained. In addition, since the upper layer portion of the solder resist layer is mainly composed of a thermosetting resin, the crosslink density can be increased and the solder resist layer has good moisture resistance and the solder resist layer does not swell during plating. As a result, the wiring substrate does not corrode in a reliability test such as a standing test in a wet condition, or the wiring conductor layer does not break due to peeling of the solder resist layer from the insulating substrate during plating. It can be.

【0021】また、本発明の配線基板によれば、ソルダ
ーレジスト層の上層部の透湿量がJIS Z 0208に規定され
た方法により測定して20〜150g/m2であることか
ら、配線基板のソルダーレジスト層に配線導体層を露出
させる開口を設けて、この開口内の配線導体層に導体バ
ンプを介して電子部品の電極を接続して成る電子部品モ
ジュールに、温度が130℃で相対湿度が85%の高温高湿
槽中で配線基板の端子間に5.5Vの電圧を連続して印加
する高加速度試験(HAST)を行ったとしても、隣接
する導体バンプ間の抵抗値が短時間で低下したり導体バ
ンプ間で電気的短絡が短時間に発生することはなく、良
好な耐湿性を有する配線基板とすることができる。
Further, according to the wiring board of the present invention, the moisture permeability of the upper layer portion of the solder resist layer is 20 to 150 g / m 2 as measured by the method specified in JIS Z 0208. An opening for exposing the wiring conductor layer is provided in the solder resist layer, and an electrode of the electronic component is connected to the wiring conductor layer in the opening via a conductor bump. Even if a high acceleration test (HAST), in which a voltage of 5.5 V is continuously applied between terminals of a wiring board in an 85% high-temperature and high-humidity chamber, is performed, the resistance value between adjacent conductor bumps decreases in a short time. An electrical short circuit does not occur in a short time between conductor bumps, and a wiring board having good moisture resistance can be obtained.

【0022】さらに、本発明の配線基板によれば、ソル
ダーレジスト層の上層部および下層部は、エラストマー
を10〜40重量%含有することから良好な可撓性を有し温
度サイクル試験等の信頼性試験において絶縁基板との剥
離やクラックを生じることがなく、耐熱疲労性に優れた
配線基板とすることができる。また、ソルダーレジスト
層の上層部は、無機絶縁性フィラーの含有量を5〜20重
量%と低いものとしたことから無機絶縁性フィラーがソ
ルダーレジスト層の表裏面間や隣接する導体バンプ間で
架橋することはなく、その結果、ソルダーレジスト層の
上層部の透湿量をJIS Z 0208に規定された方法により測
定して20〜150g/m2の値とすることができる。
Further, according to the wiring board of the present invention, since the upper and lower layers of the solder resist layer contain 10 to 40% by weight of the elastomer, they have good flexibility and can be reliably used in a temperature cycle test or the like. It is possible to obtain a wiring board excellent in heat fatigue resistance without causing peeling or cracking from the insulating substrate in the resistance test. The upper part of the solder resist layer has a low content of the inorganic insulating filler of 5 to 20% by weight, so that the inorganic insulating filler is cross-linked between the front and back surfaces of the solder resist layer and between adjacent conductor bumps. As a result, the moisture permeation amount of the upper layer portion of the solder resist layer can be measured to a value of 20 to 150 g / m 2 by the method specified in JIS Z 0208.

【0023】本発明の電子部品モジュールによれば、上
記配線基板のソルダーレジスト層に配線導体層を露出さ
せる開口を設けて、この開口内の配線導体層に導体バン
プを介して電子部品の電極を接続したことから、耐熱疲
労性および高加速度試験(HAST)に対する耐湿性等
に優れた電子部品モジュールとすることができる。
According to the electronic component module of the present invention, an opening for exposing the wiring conductor layer is provided in the solder resist layer of the wiring board, and the electrode of the electronic component is connected to the wiring conductor layer in the opening via the conductor bump. Because of the connection, it is possible to provide an electronic component module that is excellent in heat fatigue resistance and moisture resistance against a high acceleration test (HAST).

【0024】また、本発明の電子部品モジュールによれ
ば、ソルダーレジスト層の上層部の開口径を下層部の開
口径の50〜80%の大きさとしたことから,感光性樹脂を
主成分とする下層部を架橋密度が高く良好な耐湿性を有
する熱硬化性樹脂を主成分とする上層部が良好に覆うこ
とができ、その結果、湿中放置試験や高加速度試験(H
AST)で良好な耐湿性を有する電子部品モジュールと
することができる。
Further, according to the electronic component module of the present invention, since the opening diameter of the upper layer of the solder resist layer is 50 to 80% of the opening diameter of the lower layer, the photosensitive resin is mainly used. The lower layer can be covered well with the upper layer mainly composed of a thermosetting resin having a high crosslinking density and good moisture resistance, and as a result, a wet storage test or a high acceleration test (H
AST) to provide an electronic component module having good moisture resistance.

【0025】[0025]

【発明の実施の形態】次に、本発明の配線基板およびこ
れを用いた電子部品モジュールを添付の図面に基づいて
詳細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, a wiring board according to the present invention and an electronic component module using the same will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0026】図1は、本発明の配線基板に半導体素子等
の電子部品を搭載して成る電子部品モジュールの実施の
形態の一例を示す要部断面図であり、図2は図1の要部
拡大断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an essential part showing an example of an embodiment of an electronic component module in which electronic parts such as semiconductor elements are mounted on a wiring board of the present invention, and FIG. It is an expanded sectional view.

【0027】これらの図において、1は絶縁基板、2は
配線導体層、3は下層部3aと上層部3bとから成るソ
ルダーレジスト層であり、主にこれらで本発明の配線基
板4が構成される。また、5は下層部3aの開口5aと
上層部3bの開口5bとから成る開口、6は導体バン
プ、7は電子部品であり、主に配線基板4と開口5・導
体バンプ6・電子部品7とで本発明の電子部品モジュー
ル8が構成される。
In these figures, 1 is an insulating substrate, 2 is a wiring conductor layer, and 3 is a solder resist layer composed of a lower layer 3a and an upper layer 3b, and these mainly constitute the wiring board 4 of the present invention. You. Reference numeral 5 denotes an opening composed of an opening 5a in the lower layer 3a and an opening 5b in the upper layer 3b, 6 denotes a conductor bump, and 7 denotes an electronic component. The wiring board 4 mainly includes the opening 5, the conductor bump 6, and the electronic component 7. Thus, the electronic component module 8 of the present invention is configured.

【0028】なお、本例では絶縁基板1の両面に被着形
成した配線導体層2を貫通孔9に形成した貫通導体10に
より電気的に接続した例を示している。
In this embodiment, an example is shown in which the wiring conductor layers 2 formed on both surfaces of the insulating substrate 1 are electrically connected by the through conductors 10 formed in the through holes 9.

【0029】絶縁基板1は、ガラスクロス−エポキシ樹
脂やガラスクロス−ビスマレイミドトリアジン樹脂・ガ
ラスクロス−ポリフェニレンエーテル樹脂・アラミド繊
維−エポキシ樹脂等の一般に配線基板に用いられる樹脂
材料から成り、配線導体層2とソルダーレジスト層3の
支持体として機能する。
The insulating substrate 1 is made of a resin material generally used for a wiring board such as glass cloth-epoxy resin, glass cloth-bismaleimide triazine resin, glass cloth-polyphenylene ether resin, aramid fiber-epoxy resin, and the like. 2 and a support for the solder resist layer 3.

【0030】絶縁基板1の表裏両面には、銅や金・ニッ
ケル・アルミニウム等の金属薄膜から成る配線導体層2
が被着形成されている。配線導体層2は、絶縁基板1に
搭載する半導体素子等の電子部品7の各電極を外部電気
回路基板(図示せず)に電気的に接続するための導電路
として機能する。
A wiring conductor layer 2 made of a thin metal film such as copper, gold, nickel, or aluminum is formed on both sides of the insulating substrate 1.
Are formed. The wiring conductor layer 2 functions as a conductive path for electrically connecting each electrode of the electronic component 7 such as a semiconductor element mounted on the insulating substrate 1 to an external electric circuit board (not shown).

【0031】配線導体層2の絶縁基板1の上面に露出し
た部位には、半導体素子等の電子部品7の各電極が金や
半田等から成る導体バンプ6を介してフリップチップ接
続により接続され、絶縁基板1の下面に露出した部位を
外部電気回路基板の配線導体層に半田を介して接続する
ことにより、半導体素子等の電子部品7が配線導体層2
を介して外部電気回路基板に電気的に接続される。
Each electrode of an electronic component 7 such as a semiconductor element is connected to a portion of the wiring conductor layer 2 exposed on the upper surface of the insulating substrate 1 by flip-chip connection via a conductor bump 6 made of gold, solder or the like. By connecting the portion exposed on the lower surface of the insulating substrate 1 to the wiring conductor layer of the external electric circuit board via solder, the electronic component 7 such as a semiconductor element can be connected to the wiring conductor layer 2.
Is electrically connected to an external electric circuit board via the

【0032】このような配線導体層2は、絶縁基板1の
表面に、銅箔等の金属箔を接着剤で接着した後これをエ
ッチングして配線導体層2を形成するエッチング法や配
線導体層2の形状に形成された銅箔等の金属箔を絶縁基
板1に転写する転写法、絶縁基板1の表面にめっきによ
って配線導体層2を形成するめっき法等を採用すること
により形成され、例えば、転写法を用いて配線導体層2
を形成する場合には、転写フィルムに接着剤を介して貼
り合わせた銅箔をあらかじめエッチングにより回路導体
層2の形状に形成し、しかる後、配線基板4となる絶縁
基板1に転写フィルムを重ね合わせ,4〜6MPaの圧
力を印加しながら60〜200℃の温度で30分〜24時間加熱
することにより、絶縁基板1の表面に被着形成される。
The wiring conductor layer 2 is formed by attaching a metal foil such as a copper foil to the surface of the insulating substrate 1 with an adhesive and etching the metal foil to form the wiring conductor layer 2. 2 is formed by adopting a transfer method of transferring a metal foil such as a copper foil formed in the shape of 2 to the insulating substrate 1, a plating method of forming the wiring conductor layer 2 on the surface of the insulating substrate 1 by plating, and the like. Wiring conductor layer 2 using a transfer method
Is formed, the copper foil bonded to the transfer film via an adhesive is formed in advance in the shape of the circuit conductor layer 2 by etching, and then the transfer film is overlaid on the insulating substrate 1 to be the wiring board 4. In addition, by heating at a temperature of 60 to 200 ° C. for 30 minutes to 24 hours while applying a pressure of 4 to 6 MPa, a coating is formed on the surface of the insulating substrate 1.

【0033】なお、配線導体層2は、その厚みが3〜50
μm程度であり、高速の電気信号を伝達させるという観
点からは3μm以上であることが好ましく、配線導体層
2を絶縁基板1に被着させる際に配線導体層2に大きな
応力を残留させず、配線導体層2が絶縁基板1から剥離
し難いものとするためには、50μm以下としておくこと
が好ましい。
The wiring conductor layer 2 has a thickness of 3 to 50.
μm, and preferably 3 μm or more from the viewpoint of transmitting a high-speed electric signal. When the wiring conductor layer 2 is applied to the insulating substrate 1, no large stress remains in the wiring conductor layer 2. In order to make it difficult for the wiring conductor layer 2 to peel off from the insulating substrate 1, the thickness is preferably set to 50 μm or less.

【0034】また、絶縁基板1の表面には、配線導体層
2の一部を覆って、ソルダーレジスト層3が被着形成さ
れている。ソルダーレジスト層3は、配線導体層2の酸
化・腐食を防止するとともに配線基板1に電子部品7を
実装する際の熱から絶縁基板1を保護する機能を有す
る。
Further, a solder resist layer 3 is formed on the surface of the insulating substrate 1 so as to cover a part of the wiring conductor layer 2. The solder resist layer 3 has a function of preventing oxidation and corrosion of the wiring conductor layer 2 and a function of protecting the insulating substrate 1 from heat when the electronic component 7 is mounted on the wiring substrate 1.

【0035】本発明の配線基板4では、ソルダーレジス
ト層3が感光性樹脂を主成分とする下層部3aと熱硬化
性樹脂を主成分とする上層部3bとから成るとともに、
上層部3bの透湿量がJIS Z 0208に規定された方法によ
り測定して20〜150g/m2であることが重要である。
In the wiring board 4 of the present invention, the solder resist layer 3 comprises a lower layer 3a mainly composed of a photosensitive resin and an upper layer 3b mainly composed of a thermosetting resin.
It is important that the moisture permeability of the upper layer portion 3b is 20 to 150 g / m 2 as measured by the method specified in JIS Z 0208.

【0036】なお、ここで透湿量とは、一定の膜厚のフ
ィルムを一定の時間、恒温恒湿槽中に放置した場合のフ
ィルムを透過する水分量で規定されるものでり、JIS Z
0208に規定される方法は、膜厚25μmのフィルムで所定
の耐湿性容器の開口部を覆い、この容器を温度が40℃で
相対湿度が90%の環境中に24時間放置し、容器の放置後
と放置前との重量差から透湿量を求めるものである。
Here, the amount of moisture permeability is defined as the amount of moisture permeating through a film when a film having a constant thickness is left in a constant temperature and humidity chamber for a certain period of time.
[0208] The method specified in the method is to cover the opening of a predetermined moisture-resistant container with a film having a thickness of 25 µm, leave the container in an environment at a temperature of 40 ° C and a relative humidity of 90% for 24 hours, and leave the container. The moisture permeability is determined from the weight difference between after and before standing.

【0037】本発明の配線基板4によれば、配線導体層
2を覆うソルダーレジスト層3の下層部3aを感光性樹
脂を主成分とするものとしたことから、ソルダーレジス
ト層3が絶縁基板1や配線導体層2と良好な密着性を示
し、温度サイクル試験等の信頼性試験において絶縁基板
1との剥離やクラックを生じることのない耐熱疲労性に
優れた配線基板4とすることができる。また、ソルダー
レジスト層3の上層部3bを熱硬化性樹脂を主成分とす
るものとしたことから、架橋密度を高めることができ良
好な耐湿性を有するとともにめっき時にソルダーレジス
ト層3を膨潤のないものとすることができ、その結果、
湿中放置試験等の信頼性試験において配線導体層2が腐
蝕したり、めっき時にソルダーレジスト層3が絶縁基板
1から剥離して配線導体層2が断線したりすることのな
い配線基板4とすることができる。
According to the wiring board 4 of the present invention, since the lower layer 3a of the solder resist layer 3 covering the wiring conductor layer 2 is made mainly of a photosensitive resin, the solder resist layer 3 is The wiring board 4 exhibits excellent adhesion to the wiring board 2 and the wiring conductor layer 2 and does not peel off or crack from the insulating substrate 1 in a reliability test such as a temperature cycle test. Further, since the upper layer portion 3b of the solder resist layer 3 is mainly composed of a thermosetting resin, the crosslink density can be increased, the moisture resistance is good, and the solder resist layer 3 does not swell during plating. And as a result,
The wiring board 4 does not corrode the wiring conductor layer 2 in a reliability test such as a wet standing test or the like, and the wiring conductor layer 2 does not break due to the solder resist layer 3 peeling off from the insulating substrate 1 during plating. be able to.

【0038】また、本発明の配線基板4によれば、ソル
ダーレジスト層3の上層部3bを透湿量がJIS Z 0208に
規定された方法により測定して20〜150g/m2である
ものとしたことから、配線基板4のソルダーレジスト層
3に配線導体層2を露出させる開口5を設けて、この開
口5内の配線導体層2に導体バンプ6を介して電子部品
7の電極を接続して成る電子部品モジュール8に、温度
が130℃で相対湿度が85%の高温高湿槽中で配線基板4
の端子間に5.5Vの電圧を連続して印加する高加速度試
験(HAST)を行ったとしても、隣接する導体バンプ
6間の抵抗値が短時間で低下したり導体バンプ6間で電
気的短絡が短時間に発生することはなく、良好な耐湿性
を有する配線基板4とすることができる。ソルダーレジ
スト層3の上層部3bの透湿量が20g/m2未満の場合
には、上層部3bの架橋密度が高いものとなり温度サイ
クル試験等の信頼性試験において上層部3bにクラック
を生じ易くなる傾向があり、また、150g/m2を超え
ると高加速度試験(HAST)を行なった際に隣接する
導体バンプ6間の抵抗値が短時間で低下したり導体バン
プ6間で電気的短絡が短時間に発生してしまう傾向があ
る。従って、ソルダーレジスト層3の上層部3bの透湿
量はJIS Z 0208に規定された方法により測定して20〜15
0g/m2の範囲とすることが好ましい。
According to the wiring board 4 of the present invention, the upper layer portion 3b of the solder resist layer 3 has a moisture permeability of 20 to 150 g / m 2 as measured by a method specified in JIS Z 0208. Therefore, an opening 5 for exposing the wiring conductor layer 2 is provided in the solder resist layer 3 of the wiring board 4, and the electrode of the electronic component 7 is connected to the wiring conductor layer 2 in the opening 5 via the conductor bump 6. The electronic component module 8 is mounted on the wiring board 4 in a high-temperature and high-humidity chamber having a temperature of 130 ° C. and a relative humidity of 85%.
Even if a high acceleration test (HAST) in which a voltage of 5.5 V is continuously applied between the terminals of the conductive bumps 6 is performed, the resistance value between the adjacent conductive bumps 6 decreases in a short time, or an electrical short circuit occurs between the conductive bumps 6. Does not occur in a short time, and the wiring board 4 having good moisture resistance can be obtained. When the moisture permeability of the upper layer portion 3b of the solder resist layer 3 is less than 20 g / m 2, the upper layer portion 3b has a high crosslinking density, and cracks easily occur in the upper layer portion 3b in a reliability test such as a temperature cycle test. If it exceeds 150 g / m 2, the resistance value between adjacent conductor bumps 6 decreases in a short time when a high acceleration test (HAST) is performed, or an electrical short circuit between the conductor bumps 6 occurs in a short time. Tend to occur. Therefore, the moisture permeability of the upper layer portion 3b of the solder resist layer 3 is 20 to 15 as measured by the method specified in JIS Z 0208.
It is preferable to be in the range of 0 g / m2.

【0039】ソルダーレジスト層3の下層部3aは、感
光性樹脂50〜80重量%、エラストマー10〜40重量%およ
び無機絶縁フィラー5〜20重量%で構成されている。感
光性樹脂は、ソルダーレジスト層3の下層部3aと絶縁
基板1や配線導体層2との密着性を良好とし、温度サイ
クル試験等の信頼性試験において絶縁基板1との剥離や
クラックの発生を防止する機能を有する。このような感
光性樹脂としては、エポキシアクリレートや変性ポリブ
タジエン・エポキシ樹脂・ビスマレイミドトリアジン樹
脂等の樹脂が用いられる。感光性樹脂の量が50重量%未
満の場合には、ソルダーレジスト層3の下層部3aの架
橋密度が低くなり耐熱疲労性が低下する傾向があり、ま
た、80重量%を超えると可撓性が低下して温度サイクル
試験でクラックを生じ易くなる傾向がある。従って、感
光性樹脂の含有量は50〜80重量%の範囲であることが好
ましい。
The lower part 3a of the solder resist layer 3 is composed of 50 to 80% by weight of a photosensitive resin, 10 to 40% by weight of an elastomer, and 5 to 20% by weight of an inorganic insulating filler. The photosensitive resin improves the adhesion between the lower layer portion 3a of the solder resist layer 3 and the insulating substrate 1 or the wiring conductor layer 2, and prevents peeling or cracking from the insulating substrate 1 in a reliability test such as a temperature cycle test. Has a function to prevent. As such a photosensitive resin, a resin such as epoxy acrylate or modified polybutadiene / epoxy resin / bismaleimide triazine resin is used. When the amount of the photosensitive resin is less than 50% by weight, the crosslinking density of the lower layer 3a of the solder resist layer 3 tends to decrease, and the thermal fatigue resistance tends to decrease. And the temperature cycle test tends to cause cracks. Therefore, the content of the photosensitive resin is preferably in the range of 50 to 80% by weight.

【0040】また、エラストマーは、ソルダーレジスト
層3の下層部3aに可撓性を付与し、配線基板4に電子
部品7を実装する際や温度サイクル試験を行なう際に発
生する熱応力を吸収し下層部3aにクラックが発生する
ことを防止する機能を有する。このようなエラストマー
としては、アクリルゴムやアクリロニトリル−ブタジエ
ンゴム・スチレン−ブタジエン−スチレントリブロック
エラストマー・スチレン−イソプレン−スチレントリブ
ロックエラストマー等が用いられる。エラストマーの量
が10重量%未満の場合には、下層部3aの可撓性が低下
して温度サイクル試験等の信頼性試験でクラックを生じ
易くなる傾向があり、また、40重量%を超えると下層部
3aの架橋密度が低下して、耐湿性・耐めっき性が低下
する傾向にある。従って、エラストマーの含有量は10〜
40重量%の範囲であることが好ましい。
The elastomer imparts flexibility to the lower layer portion 3a of the solder resist layer 3 and absorbs thermal stress generated when the electronic component 7 is mounted on the wiring board 4 or when a temperature cycle test is performed. It has a function of preventing the occurrence of cracks in the lower layer portion 3a. As such an elastomer, acrylic rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, styrene-butadiene-styrene triblock elastomer, styrene-isoprene-styrene triblock elastomer, or the like is used. When the amount of the elastomer is less than 10% by weight, the flexibility of the lower layer portion 3a is reduced, and cracks tend to easily occur in a reliability test such as a temperature cycle test. The crosslinking density of the lower layer portion 3a tends to decrease, and the moisture resistance and plating resistance tend to decrease. Therefore, the content of the elastomer is 10 to
Preferably it is in the range of 40% by weight.

【0041】さらに、無機絶縁性フィラーは、ソルダー
レジスト層3の下層部3aの強度を高めるとともに下層
部3aの熱膨張係数と絶縁基板1や配線導体層2の熱膨
張係数とを整合させる機能を有する。このような無機絶
縁性フィラーとしては、酸化ケイ素や酸化アルミニウム
・窒化アルミニウム・炭化珪素・チタン酸カルシウム等
の無機絶縁粉末が用いられる。機絶縁性フィラーの量が
5重量%未満の場合には、下層部3aの平坦性が悪くな
る傾向があり、また、20重量%を超えると開口5aの穿
設等の下層部3aの加工性が悪くなる傾向がある。従っ
て、無機絶縁性フィラーの含有量は5〜20重量%の範囲
であることが好ましい。なお、無機絶縁性フィラーは、
下層部3aの成型性の観点からは平均粒径が5μm以下
が好ましく、無機絶縁性フィラーの充填性の観点からは
平均粒径が2μm以下の略球状のものが好ましい。
Further, the inorganic insulating filler has a function of increasing the strength of the lower layer 3a of the solder resist layer 3 and matching the thermal expansion coefficient of the lower layer 3a with the thermal expansion coefficients of the insulating substrate 1 and the wiring conductor layer 2. Have. As such an inorganic insulating filler, an inorganic insulating powder such as silicon oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, silicon carbide, and calcium titanate is used. If the amount of the mechanical insulating filler is less than 5% by weight, the flatness of the lower layer portion 3a tends to be poor, and if it exceeds 20% by weight, the workability of the lower layer portion 3a such as the opening of the opening 5a is increased. Tend to be worse. Therefore, the content of the inorganic insulating filler is preferably in the range of 5 to 20% by weight. In addition, the inorganic insulating filler,
The average particle diameter is preferably 5 μm or less from the viewpoint of the moldability of the lower layer portion 3a, and a substantially spherical particle having an average particle diameter of 2 μm or less is preferable from the viewpoint of the filling property of the inorganic insulating filler.

【0042】ソルダーレジスト層3の上層部3bは、熱
硬化性樹脂50〜80重量%、エラストマー10〜40重量%お
よび無機絶縁フィラー5〜20重量%で構成されている。
The upper layer portion 3b of the solder resist layer 3 is composed of 50 to 80% by weight of a thermosetting resin, 10 to 40% by weight of an elastomer, and 5 to 20% by weight of an inorganic insulating filler.

【0043】熱硬化性樹脂は、ソルダーレジスト層3の
上層部3bの架橋密度を高くし、上層部3bへの水分の
浸入およびめっき時の上層部3bの膨潤を防止する機能
を有する。このような熱硬化性樹脂としては、エポキシ
樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂・ポリフェニレン
エーテル・変性ポリエチレン・ノルボルネン系樹脂等の
樹脂が用いられる。熱硬化性樹脂の量が50重量%未満の
場合には、ソルダーレジスト層3の上層部3bの架橋密
度が低くなり上層部3bの耐湿性が低下する傾向があ
り、また、80重量%を超えると上層部3bの可撓性が低
下して、温度サイクル試験等の信頼性試験でクラックを
生じ易くなる傾向がある。従って、熱硬化性樹脂の含有
量は50〜80重量%の範囲とすることが好ましい。
The thermosetting resin has a function of increasing the crosslink density of the upper layer 3b of the solder resist layer 3 and preventing moisture from penetrating into the upper layer 3b and swelling of the upper layer 3b during plating. As such a thermosetting resin, a resin such as an epoxy resin, a bismaleimide triazine resin, a polyphenylene ether, a modified polyethylene, or a norbornene resin is used. When the amount of the thermosetting resin is less than 50% by weight, the crosslink density of the upper layer 3b of the solder resist layer 3 tends to decrease, and the moisture resistance of the upper layer 3b tends to decrease, and more than 80% by weight. In addition, the flexibility of the upper layer portion 3b is reduced, and cracks tend to easily occur in a reliability test such as a temperature cycle test. Therefore, the content of the thermosetting resin is preferably in the range of 50 to 80% by weight.

【0044】また、エラストマーは、ソルダーレジスト
層3の上層部3bに可撓性を付与し、配線基板4に電子
部品7を実装する際や温度サイクル試験を行なう際に発
生する熱応力を吸収し上層部3bにクラックが発生する
ことを防止する機能を有する。このようなエラストマー
としては、アクリルゴムやアクリロニトリル−ブタジエ
ンゴム・スチレン−ブタジエン−スチレントリブロック
エラストマー・スチレン−イソプレン−スチレントリブ
ロックエラストマー等が用いられる。エラストマーの量
が10重量%未満の場合には、上層部3bの可撓性が低下
して温度サイクル試験等の信頼性試験でクラックを生じ
易くなる傾向があり、また、40重量%を超えると上層部
3aの架橋密度が低下して、耐湿性・耐めっき性が低下
する傾向にある。従って、エラストマーの含有量は10〜
40重量%の範囲であることが好ましい。
The elastomer imparts flexibility to the upper layer portion 3b of the solder resist layer 3 and absorbs thermal stress generated when the electronic component 7 is mounted on the wiring board 4 or when a temperature cycle test is performed. It has a function of preventing the occurrence of cracks in the upper layer portion 3b. As such an elastomer, acrylic rubber, acrylonitrile-butadiene rubber, styrene-butadiene-styrene triblock elastomer, styrene-isoprene-styrene triblock elastomer, or the like is used. When the amount of the elastomer is less than 10% by weight, the flexibility of the upper layer portion 3b is reduced, and cracks tend to be easily generated in a reliability test such as a temperature cycle test. The crosslinking density of the upper layer portion 3a tends to decrease, and the moisture resistance and plating resistance tend to decrease. Therefore, the content of the elastomer is 10 to
Preferably it is in the range of 40% by weight.

【0045】さらに、無機絶縁性フィラーは、ソルダー
レジスト層3の上層部3bの強度を高めるとともに上層
部3bの熱膨張係数と絶縁基板1や配線導体層2の熱膨
張係数とを整合させる機能を有する。このような無機絶
縁性フィラーとしては、酸化ケイ素や酸化アルミニウム
・窒化アルミニウム・炭化珪素・チタン酸カルシウム等
の無機絶縁粉末が用いられる。無機絶縁性フィラーの量
が5重量%未満の場合には、上層部3bの平坦性が悪く
なる傾向があり、また、20重量%を超えると後述する開
口5bの穿設等の上層部3bの加工性が悪くなる傾向が
ある。従って、無機絶縁性フィラーの含有量は5〜20重
量%の範囲であることが好ましい。なお、無機絶縁性フ
ィラーは、上層部3bの成型性の観点からは平均粒径が
5μm以下が好ましく、無機絶縁性フィラーの充填性の
観点からは平均粒径が2μm以下の略球状のものが好ま
しい。
Furthermore, the inorganic insulating filler has a function of increasing the strength of the upper layer 3b of the solder resist layer 3 and matching the thermal expansion coefficient of the upper layer 3b with the thermal expansion coefficients of the insulating substrate 1 and the wiring conductor layer 2. Have. As such an inorganic insulating filler, an inorganic insulating powder such as silicon oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, silicon carbide, and calcium titanate is used. When the amount of the inorganic insulating filler is less than 5% by weight, the flatness of the upper layer portion 3b tends to deteriorate, and when it exceeds 20% by weight, the upper layer portion 3b such as a hole 5b to be described later is formed. Workability tends to be poor. Therefore, the content of the inorganic insulating filler is preferably in the range of 5 to 20% by weight. The inorganic insulating filler preferably has an average particle size of 5 μm or less from the viewpoint of moldability of the upper layer portion 3b, and has a substantially spherical shape with an average particle size of 2 μm or less from the viewpoint of filling the inorganic insulating filler. preferable.

【0046】なお、本発明の配線基板4は、ソルダーレ
ジスト層3の上層部3bの無機絶縁性フィラーの含有量
を5〜20重量%と低いものとしたことから、無機絶縁性
フィラーが上層部3bの表裏面間や隣接する導体バンプ
6間で架橋することはなく、その結果、ソルダーレジス
ト層の上層部の透湿量をJIS Z 0208に規定された方法に
より測定して20〜150g/m2の値とすることができ
る。
In the wiring board 4 of the present invention, since the content of the inorganic insulating filler in the upper layer portion 3b of the solder resist layer 3 is as low as 5 to 20% by weight, the inorganic insulating filler is in the upper layer portion. No cross-linking occurs between the front and back surfaces of 3b and between the adjacent conductor bumps 6, and as a result, the moisture permeability of the upper layer portion of the solder resist layer is measured by a method specified in JIS Z 0208 to 20 to 150 g / m 2. Value.

【0047】このようなソルダーレジスト層3の下層部
3a・上層部3bの絶縁基板1への被着形成は次に述べ
る方法により行なわれ。
The lower layer 3a and the upper layer 3b of the solder resist layer 3 are formed on the insulating substrate 1 by the following method.

【0048】まず、絶縁基板1および配線導体層2上
に、感光性樹脂・エラストマー・無機絶縁性フィラーに
適当な溶剤・可塑剤・分散剤等を添加して得た液状ワニ
スを、スクリーン印刷法またはロールコート法を採用し
て硬化後の厚みが10〜25μmの厚みとなるように均一に
塗布し、60〜80℃の温度で10〜100分間乾燥して溶剤を
除去した後、1〜3J/cmの強度でUV照射処理およ
び150〜180℃の温度で1〜3時間硬化処理することによ
り下層部3aが形成される。次に、下部層3a上に、熱
硬化性樹脂・エラストマー・無機絶縁性フィラーに適当
な溶剤・可塑剤・分散剤等を添加して得た液状ワニス
を、スクリーン印刷法またはロールコート法を採用して
硬化後の厚みが10〜40μmの厚みに均一に塗布し、60〜
80℃の温度で10〜100分間乾燥して溶剤を除去した後、1
50〜180℃の温度で1〜3時間硬化処理をすることによ
り上層部3bが形成される。
First, a liquid varnish obtained by adding a suitable solvent, plasticizer, dispersant, etc. to a photosensitive resin, an elastomer, and an inorganic insulating filler is applied onto the insulating substrate 1 and the wiring conductor layer 2 by a screen printing method. Or apply uniformly so that the thickness after curing adopts a roll coating method to a thickness of 10 to 25 μm, and after drying at a temperature of 60 to 80 ° C. for 10 to 100 minutes to remove the solvent, 1 to 3 J The lower layer portion 3a is formed by performing a UV irradiation treatment at an intensity of / cm and a curing treatment at a temperature of 150 to 180 ° C for 1 to 3 hours. Next, on the lower layer 3a, a liquid varnish obtained by adding a suitable solvent, plasticizer, dispersant, etc. to a thermosetting resin, an elastomer, an inorganic insulating filler, etc. is employed by a screen printing method or a roll coating method. The thickness after curing is uniformly applied to a thickness of 10 to 40 μm,
After drying at a temperature of 80 ° C for 10-100 minutes to remove the solvent, 1
The upper layer 3b is formed by performing a curing treatment at a temperature of 50 to 180C for 1 to 3 hours.

【0049】なお、液状ワニスをスクリーン印刷法また
はロールコート法を採用して絶縁基板1上に均一に塗布
する代わりに、あらかじめシート状の下層部3a・上層
部3bを製作して、真空ラミネータを用いてシート状の
下層部3a・上層部3bを絶縁基板1に被着形成しても
よい。
Instead of applying the liquid varnish uniformly on the insulating substrate 1 by using a screen printing method or a roll coating method, a sheet-like lower layer 3a and an upper layer 3b are manufactured in advance, and a vacuum laminator is used. The sheet-like lower layer portion 3a and upper layer portion 3b may be formed on the insulating substrate 1 by using them.

【0050】また、ソルダーレジスト層3の下層部3a
の厚みは、加工性と耐湿性の観点からは10〜25μmの厚
みの範囲が好ましい。下層部3aの厚みが10μm未満の
場合、温度サイクル試験等の信頼性試験での耐熱疲労性
が劣る傾向があり、また、25μmを超えると後述する露
光・現像により開口5aを形成する際に、開口5a底部
に樹脂が多く残り配線導体層2と導体バンプ6との電気
的接続の信頼性が低下してしまう傾向がある。したがっ
て、ソルダーレジスト層3の下層部3aの厚みは10〜25
μmの範囲が好ましい。
The lower part 3a of the solder resist layer 3
Is preferably in the range of 10 to 25 μm from the viewpoint of workability and moisture resistance. When the thickness of the lower layer portion 3a is less than 10 μm, the thermal fatigue resistance in a reliability test such as a temperature cycle test tends to be inferior. When the thickness exceeds 25 μm, when forming the opening 5a by exposure and development described below, A large amount of resin remains at the bottom of the opening 5a, and the reliability of the electrical connection between the wiring conductor layer 2 and the conductor bump 6 tends to decrease. Therefore, the thickness of the lower layer portion 3a of the solder resist layer 3 is 10 to 25.
The range of μm is preferred.

【0051】さらに、ソルダーレジスト層3の上層部3
bの厚みは、加工性と耐湿性の観点からは10〜40μmの
厚みの範囲が好ましい。上層部3bの厚みが10μm未満
の場合、湿中放置試験での耐湿性が低下してしまう傾向
があり、また、40μmを超えると後述する上層部3bに
レーザで開口5bを形成する際に、開口5b底部に樹脂
が多く残り配線導体層2と導体バンプ6との電気的接続
の信頼性が低下してしまう傾向がある。したがって、ソ
ルダーレジスト層3の上層部3bの厚みは10〜40μmの
範囲が好ましい。
Further, the upper layer 3 of the solder resist layer 3
The thickness b is preferably in the range of 10 to 40 μm from the viewpoint of workability and moisture resistance. When the thickness of the upper layer portion 3b is less than 10 μm, the moisture resistance in the wet storage test tends to decrease, and when it exceeds 40 μm, when forming the opening 5b with the laser in the upper layer portion 3b described later, A large amount of resin remains at the bottom of the opening 5b, and the reliability of the electrical connection between the wiring conductor layer 2 and the conductor bump 6 tends to decrease. Therefore, the thickness of the upper layer portion 3b of the solder resist layer 3 is preferably in the range of 10 to 40 μm.

【0052】なお、ソルダーレジスト層3の下層部3a
および上層部3bの厚みの比を50:50〜80:20の範囲の
値としておくと、電気的接続の信頼性や耐湿性・加工性
をより良好なものとすることができる。
The lower layer 3a of the solder resist layer 3
If the ratio of the thickness of the upper layer portion 3b is set to a value in the range of 50:50 to 80:20, the reliability of electrical connection, moisture resistance, and workability can be further improved.

【0053】かくして本発明の配線基板4によれば、絶
縁基板1の表面に、配線導体層2を被着形成するととも
に、この配線導体層2の一部を覆って、熱硬化性樹脂を
主成分とするとともに透湿量がJIS Z 0208に規定された
方法により測定して20〜150g/m2の上層部3bと感
光性樹脂を主成分とする下層部3aとから成るソルダー
レジスト層3を被着形成したことから、ソルダーレジス
ト層3が配線基板1に電子部品7を実装する際の熱から
絶縁基板1を保護するとともに配線導体層2を湿気によ
る酸化や腐蝕から保護することができ、耐熱性・耐湿性
に優れた配線基板4とすることができる。
Thus, according to the wiring board 4 of the present invention, the wiring conductor layer 2 is formed on the surface of the insulating substrate 1 and a part of the wiring conductor layer 2 is covered with a thermosetting resin. The solder resist layer 3 comprising an upper layer 3b of 20 to 150 g / m2 and a lower layer 3a mainly composed of a photosensitive resin is coated with a component as well as a moisture permeability measured by a method specified in JIS Z 0208. The solder resist layer 3 protects the insulating substrate 1 from heat when the electronic component 7 is mounted on the wiring board 1 and protects the wiring conductor layer 2 from oxidation and corrosion due to moisture. The wiring board 4 having excellent properties and moisture resistance can be obtained.

【0054】また、本発明の電子部品モジュール8は、
ソルダーレジスト層3に配線導体層2を露出させる開口
5を設けて、開口5内の配線導体層2に導体バンプ6を
介して電子部品7の各電極を接続することによって形成
される。
Further, the electronic component module 8 of the present invention
An opening 5 for exposing the wiring conductor layer 2 is provided in the solder resist layer 3, and each electrode of the electronic component 7 is connected to the wiring conductor layer 2 in the opening 5 via a conductor bump 6.

【0055】開口5は、ソルダーレジスト層3の下層部
3aに設けられた開口5aと上層部3bに設けられた開
口5bから形成されている。
The opening 5 is formed by an opening 5a provided in the lower layer 3a of the solder resist layer 3 and an opening 5b provided in the upper layer 3b.

【0056】このような開口5a・5bは、絶縁基板1
の表面にソルダーレジスト層3の下層部3a・上層部3
bを被着形成する際に同時に形成される。下層部3aの
開口5aは、感光性樹脂等から成る液状ワニスを絶縁基
板1の表面に塗布し、60〜80℃の温度で10〜100分間乾
燥して溶剤を除去した後、下層部3aにガラスマスクを
通して400〜600mJ/cmの強度で露光を行い、次に約
1%炭酸ナトリウム水溶液で現像することにより形成さ
れる。また、上層部3bの開口5bは、下層部3aを1
〜3J/cmの強度でUV照射処理および150〜180℃の
温度で1〜3時間硬化処理した後、熱硬化性樹脂等から
成る液状ワニスを下部層3a上に塗布し、60〜80℃の温
度で10〜100分間乾燥して溶剤を除去し、さらに150〜18
0℃の温度で1〜3時間硬化処理を行なった後、炭酸ガ
スレーザの出力を5〜7A、パルス幅を50〜100μsに
設定し、レーザ光を所定の径のマスクを通して下層部3
aの開口5a上の上層部3bに2〜5回/孔照射するこ
とより形成される。
The openings 5a and 5b are formed in the insulating substrate 1
Lower layer 3a and upper layer 3 on the surface of the solder resist layer 3
It is formed at the same time as b is formed. The opening 5a of the lower layer 3a is formed by applying a liquid varnish made of a photosensitive resin or the like to the surface of the insulating substrate 1 and drying it at a temperature of 60 to 80 ° C. for 10 to 100 minutes to remove the solvent. It is formed by exposing with an intensity of 400 to 600 mJ / cm through a glass mask and then developing with an aqueous solution of about 1% sodium carbonate. The opening 5b of the upper layer 3b is connected to the lower layer 3a by one.
After UV irradiation treatment at a strength of ~ 3 J / cm and curing treatment at a temperature of 150-180 ° C for 1-3 hours, a liquid varnish made of a thermosetting resin or the like is applied on the lower layer 3a, Dry at temperature for 10-100 minutes to remove the solvent, then 150-18 more
After performing a hardening treatment at a temperature of 0 ° C. for 1 to 3 hours, the output of the carbon dioxide gas laser is set to 5 to 7 A, the pulse width is set to 50 to 100 μs, and the laser light is passed through a mask having a predetermined diameter.
The upper layer portion 3b on the opening 5a of FIG.

【0057】このような開口5a・5bは、それらの径
が通常30〜300μmであり、径が300μmより大きいと配
線導体層2のピッチが大きなものとなり配線基板4が大
きなものとなる傾向があり、また、30μmより小さいと
電気的接続の信頼性が低下する傾向がある。従って、開
口5a・5bの径は30〜300μmの範囲とすることが好
ましい。
The openings 5a and 5b have a diameter of usually 30 to 300 μm. If the diameter is larger than 300 μm, the pitch of the wiring conductor layer 2 becomes large and the wiring board 4 tends to become large. If it is smaller than 30 μm, the reliability of electrical connection tends to decrease. Therefore, the diameter of the openings 5a and 5b is preferably in the range of 30 to 300 μm.

【0058】また、上層部3bの開口5b径を下層部3
aの開口5a径の50〜80%の大きさとすると、上層部3
bが下層部3aを良好に覆うことができ、配線基板4に
半導体素子等の電子部品7を半田等の導体バンプ6を介
して実装して電子部品モジュール8と成した場合、高加
速度試験(HAST)において隣接する導体バンプ6間
の抵抗値が短時間で低下したり電気的短絡を短時間に発
生させてしまうことはなく、電気的接続の信頼性の良好
な電子部品モジュール8とすることができる。なお、上
層部3bの開口5b径が下層部3aの開口5a径の50%
未満であると、上層部3bの開口5bの面積が極端に小
さなものとなり配線導体層2と導体バンプ6との良好な
接続が困難となる傾向があり、また、80%を超えると上
層部3bの開口5bと下層部3aの開口5aの位置バラ
ツキにより、下層部3aを覆う上層部3bの厚みが極端
に薄くなってしまう箇所が発生して、耐湿性や耐高加速
度試験性の信頼性が低下してしまう傾向がある。従っ
て、上層部3bの開口5b径を下層部3aの開口5a径
の50〜80%の大きさの範囲とすることが好ましい。
The diameter of the opening 5b of the upper layer 3b is
If the opening 5a is 50 to 80% of the diameter, the upper layer 3
b can cover the lower layer portion 3a satisfactorily, and when the electronic component 7 such as a semiconductor element is mounted on the wiring board 4 via the conductive bumps 6 such as solder, the electronic component module 8 is formed. In the HAST), the electronic component module 8 has good electrical connection reliability without reducing the resistance value between the adjacent conductor bumps 6 in a short time or causing an electric short circuit in a short time. Can be. The diameter of the opening 5b of the upper layer 3b is 50% of the diameter of the opening 5a of the lower layer 3a.
If it is less than 3 mm, the area of the opening 5 b of the upper layer portion 3 b will be extremely small, and it will be difficult to make a good connection between the wiring conductor layer 2 and the conductor bumps 6. The position of the opening 5b of the lower layer 3a and the position of the opening 5a of the lower layer 3a may cause a location where the thickness of the upper layer 3b covering the lower layer 3a becomes extremely thin. It tends to decrease. Therefore, it is preferable that the diameter of the opening 5b of the upper layer portion 3b be in a range of 50 to 80% of the diameter of the opening 5a of the lower layer portion 3a.

【0059】なお、通常であれば、開口5に露出する配
線導体層2には、配線導体層2の酸化腐蝕の防止と導体
バンプ6との接続を良好にするためにその露出する表面
にニッケル・金等の良導電性で耐蝕性に優れた金属をめ
っき法により1〜20μmの厚みに被着することが好まし
い。
Normally, the wiring conductor layer 2 exposed in the opening 5 is provided with nickel on its exposed surface in order to prevent oxidation corrosion of the wiring conductor layer 2 and to improve the connection with the conductor bump 6. It is preferable to apply a metal having good conductivity and excellent corrosion resistance, such as gold, to a thickness of 1 to 20 μm by plating.

【0060】また、開口5内の配線導体層2の露出する
表面には、導体バンプ6が固着形成されている。導体バ
ンプ6は、配線導体層2と電子部品7とを電気的および
機械的に接続する機能を有する。
A conductive bump 6 is fixedly formed on the exposed surface of the wiring conductor layer 2 in the opening 5. The conductor bump 6 has a function of electrically and mechanically connecting the wiring conductor layer 2 and the electronic component 7.

【0061】このような導体バンプ6は、金や鉛−錫・
錫−亜鉛・錫−銀−ビスマス等の導電性材料から成り、
例えば、導電性材料が鉛−錫から成る場合、このぺース
トを開口5内にスクリーン印刷法で印刷あるいは鉛−錫
から成る金属ボールを開口5内に載置した後、リフロー
炉を通すことにより開口5内に半円状に固着形成され
る。
Such a conductive bump 6 is made of gold or lead-tin.
It is made of a conductive material such as tin-zinc, tin-silver-bismuth,
For example, when the conductive material is made of lead-tin, this paste is printed in the opening 5 by screen printing or a metal ball made of lead-tin is placed in the opening 5 and then passed through a reflow furnace. It is formed in the opening 5 in a semicircular shape.

【0062】さらに、電子部品7を導体バンプ6上に載
置し、リフロー炉を通し配線導体層2と電子部品7の各
電極とを電気的に接続することにより、本発明の電子部
品モジュール8となる。なお、導体バンプ6の保護およ
び電子部品7と配線基板4とを強固に固着するために、
電子部品7と配線基板4との間に熱硬化性樹脂とフィラ
ーとから成るアンダーフィル材を注入してもよい。
Further, the electronic component 7 is mounted on the conductor bumps 6 and the wiring conductor layer 2 and the respective electrodes of the electronic component 7 are electrically connected through a reflow furnace, whereby the electronic component module 8 of the present invention is provided. Becomes In order to protect the conductor bumps 6 and firmly fix the electronic component 7 and the wiring board 4,
An underfill material composed of a thermosetting resin and a filler may be injected between the electronic component 7 and the wiring board 4.

【0063】かくして、本発明の電子部品モジュール8
によれば、配線基板4表面の感光性樹脂を主成分とする
下層部3aと熱硬化性樹脂を主成分とするとともに透湿
量がJIS Z 0208に規定された方法により測定して20〜15
0g/m2の上層部3bとから成るソルダーレジスト層
3に配線導体層2を露出させる開口5を設けて、この開
口5内の配線導体層2に導体バンプ6を介して電子部品
7の各電極を接続したことから、耐熱疲労性および高加
速度試験(HAST)に対する耐湿性等に優れた電子部
品モジュール8とすることができる。
Thus, the electronic component module 8 of the present invention
According to the method, the lower layer portion 3a mainly composed of a photosensitive resin on the surface of the wiring board 4 and the thermosetting resin as a main component, and the amount of moisture permeation is 20 to 15 measured by a method specified in JIS Z 0208.
An opening 5 for exposing the wiring conductor layer 2 is provided in the solder resist layer 3 composed of the upper layer portion 3b and the upper part 3b of the electronic component 7 via the conductor bumps 6 in the opening 5. Is connected, it is possible to obtain the electronic component module 8 having excellent heat resistance fatigue resistance and moisture resistance against a high acceleration test (HAST).

【0064】なお、本発明の配線基板および電子部品モ
ジュールは、上述の実施例に限定されるものではなく、
本発明の要旨を逸脱しない範囲であれば種々の変更は可
能である。例えば、配線基板として絶縁基板上に配線導
体層と絶縁層とを交互に積層して成るビルドアップ基板
を用いてもよい。
The wiring board and the electronic component module according to the present invention are not limited to the above-described embodiment.
Various changes can be made without departing from the scope of the present invention. For example, a build-up substrate formed by alternately laminating a wiring conductor layer and an insulating layer on an insulating substrate may be used as the wiring substrate.

【0065】図3はこのようなビルドアップ基板に電子
部品を搭載して成る電子部品モジュールの実施の形態の
一例を示す要部断面図であり、この図において11は絶縁
基板、12はスルーホール、13はスルーホール導体、14は
絶縁層、15は配線導体層、16は貫通孔、17は貫通導体、
18は下層部18aと上層部18bとから成るソルダーレジス
ト層であり、主にこれらで配線基板19が構成されてい
る。さらに、20は開口、21は導体バンプ、22は電子部品
であり、主に配線基板19と開口20・導体バンプ21・電子
部品22とで電子部品モジュール23が構成されている。
FIG. 3 is a sectional view of an essential part showing an example of an embodiment of an electronic component module in which electronic components are mounted on such a build-up board. In this figure, 11 is an insulating substrate, and 12 is a through hole. , 13 is a through-hole conductor, 14 is an insulating layer, 15 is a wiring conductor layer, 16 is a through hole, 17 is a through conductor,
Reference numeral 18 denotes a solder resist layer composed of a lower layer portion 18a and an upper layer portion 18b, and these mainly constitute a wiring board 19. Reference numeral 20 denotes an opening, reference numeral 21 denotes a conductor bump, and reference numeral 22 denotes an electronic component. The electronic component module 23 mainly includes the wiring board 19 and the opening 20, the conductor bump 21, and the electronic component 22.

【0066】この例では、配線基板19は、絶縁基板11の
表裏両面に配線導体層15と絶縁層14とを交互に積層し、
さらに、ソルダーレジスト層18を被着形成することによ
り構成されている。
In this example, the wiring board 19 has a structure in which the wiring conductor layers 15 and the insulating layers 14 are alternately laminated on both the front and back surfaces of the insulating substrate 11,
Further, it is constituted by forming a solder resist layer 18 by applying.

【0067】なお、上述の例では、電子部品モジュール
に搭載される電子部品として半導体素子の例を示した
が、抵抗器・キャパシタ・圧電素子等の電子部品を搭載
してもよい。さらに、電子部品の作動時に発生する熱を
放散するためにスティフナー等の放熱板を配線基板に被
着してもよい。
In the above-described example, a semiconductor element is shown as an example of an electronic component mounted on the electronic component module. However, an electronic component such as a resistor, a capacitor, or a piezoelectric element may be mounted. Further, a heat radiating plate such as a stiffener may be attached to the wiring board in order to dissipate heat generated when the electronic component operates.

【0068】[0068]

【実施例】本発明の配線基板とこれを用いた電子部品モ
ジュールの特性を評価するために、以下のような電子部
品モジュールを作製した。
EXAMPLE In order to evaluate the characteristics of the wiring board of the present invention and the electronic component module using the same, the following electronic component module was manufactured.

【0069】(実施例1)まず、熱硬化性樹脂としてエ
ポキシ樹脂60重量%と、エラストマーとしてスチレン−
ブタジエン−スチレントリブロックエラストマー30重量
%と、無機絶縁性フィラーとして酸化珪素10重量%と、
溶剤等とから成る混合物を混練して得た液状ワニスを、
離型フィルム上にスクリーン印刷法を用いて硬化後の厚
みが25μmとなるように均一に印刷・塗布し、80℃の温
度で30分間乾燥して溶剤を除去した後、150℃の温度で
2時間硬化処理を行ない、しかる後、離型フィルムを剥
離することによりフィルム状の熱硬化性樹脂を主成分と
するソルダーレジスト層3bを得た。この時のソルダー
レジスト層3bの透湿量は、JIS Z 0208の規定に従って
測定した結果、50g/m2であった。
Example 1 First, 60% by weight of an epoxy resin was used as a thermosetting resin, and styrene was used as an elastomer.
30% by weight of butadiene-styrene triblock elastomer, 10% by weight of silicon oxide as an inorganic insulating filler,
A liquid varnish obtained by kneading a mixture comprising a solvent and the like,
Using a screen printing method, uniformly apply and print on the release film so that the cured thickness becomes 25 μm, dry at 80 ° C. for 30 minutes to remove the solvent, and remove the solvent at 150 ° C. A time-curing treatment was performed, and then the release film was peeled off to obtain a solder resist layer 3b mainly composed of a film-like thermosetting resin. At this time, the amount of moisture permeation of the solder resist layer 3b was 50 g / m2 as a result of measurement according to JIS Z 0208.

【0070】次に、表面に配線導体層2を被着形成した
絶縁基板1を準備し、絶縁基板1および配線導体層2上
に、まず、エポキシアクリレート50重量%とエポキシ樹
脂50重量%とから成る感光性樹脂60重量%と、エラスト
マーとしてスチレン−ブタジエン−スチレントリブロッ
クエラストマー30重量%と、無機絶縁性フィラーとして
酸化珪素10重量%と、溶剤等とから成る混合物を混練し
て得た液状ワニスを、スクリーン印刷法を採用して硬化
後の厚みが10μmとなるように均一に印刷・塗布するこ
とによりソルダーレジスト層3の下層部3aを形成し
た。
Next, an insulating substrate 1 having a wiring conductor layer 2 formed on the surface thereof is prepared. On the insulating substrate 1 and the wiring conductor layer 2, first, 50% by weight of epoxy acrylate and 50% by weight of epoxy resin are formed. Liquid varnish obtained by kneading a mixture of 60% by weight of a photosensitive resin, 30% by weight of a styrene-butadiene-styrene triblock elastomer as an elastomer, 10% by weight of silicon oxide as an inorganic insulating filler, and a solvent. The lower layer 3a of the solder resist layer 3 was formed by applying a uniform printing and coating so that the thickness after curing was 10 μm by employing a screen printing method.

【0071】さらに、この層を80℃の温度で30分間乾燥
して溶剤を除去した後、ガラスマスクを通して500mJ
/cmの強度で露光を行い、次に約1%炭酸ナトリウム
水溶液で現像することにより径が100μmの開口5aを
形成した。また、開口5aを形成後、ソルダーレジスト
層3の下層部3aとなる層を、1J/cmの強度でUV
照射処理および150℃の温度で1時間熱処理を行うこと
により硬化した。しかる後、下層部3a上に、上記組成
のソルダーレジスト層3bをスクリーン印刷法を用いて
硬化後の厚みが30μmとなるように均一に形成した。次
に、この層を80℃の温度で40分間乾燥して溶剤を除去し
た後、170℃の温度で1時間硬化処理をすることにより
硬化した。さらに、炭酸ガスレーザの出力を5A、パル
ス幅を100μsに設定し、レーザ光を所定の径のマスク
を通して下層部3aの開口5a上の上層部3bに3回/
孔照射することより径が70μmの開口5bを形成した。
Further, after this layer was dried at a temperature of 80 ° C. for 30 minutes to remove the solvent, 500 mJ was passed through a glass mask.
Exposure was performed at an intensity of 5 cm / cm, followed by development with an approximately 1% aqueous sodium carbonate solution to form an opening 5a having a diameter of 100 µm. After the opening 5a is formed, the layer to be the lower layer portion 3a of the solder resist layer 3 is UV-cured at an intensity of 1 J / cm.
The resin was cured by irradiation treatment and heat treatment at a temperature of 150 ° C. for 1 hour. Thereafter, the solder resist layer 3b having the above composition was uniformly formed on the lower layer portion 3a by screen printing so that the thickness after curing became 30 μm. Next, this layer was dried at a temperature of 80 ° C. for 40 minutes to remove the solvent, and then cured by performing a curing treatment at a temperature of 170 ° C. for 1 hour. Further, the output of the carbon dioxide laser is set to 5 A, the pulse width is set to 100 μs, and the laser beam is applied to the upper layer 3b on the opening 5a of the lower layer 3a three times through a mask having a predetermined diameter.
The opening 5b having a diameter of 70 μm was formed by irradiating the hole.

【0072】さらに、開口5b内の配線導体層2の露出
する表面にニッケル・金めっきを順次施し、その後、こ
の部分に鉛−錫から成る半田ペーストを印刷し、リフロ
ー炉を通すことにより導体バンプ6を形成した。またさ
らに、電子部品7を導体バンプ6上に載置し、リフロー
炉を通し配線導体層2と電子部品7の各電極とを電気的
に接続し、しかる後、電子部品7とソルダーレジスト層
3の隙間にアンダーフィル注入して信頼性評価用モジュ
ールAを作成した。
Further, nickel / gold plating is sequentially applied to the exposed surface of the wiring conductor layer 2 in the opening 5b, and thereafter, a solder paste made of lead-tin is printed on this portion, and the conductor bump is formed by passing through a reflow furnace. 6 was formed. Further, the electronic component 7 is placed on the conductor bump 6 and the wiring conductor layer 2 and each electrode of the electronic component 7 are electrically connected through a reflow furnace. The underfill was injected into the gap of No. 1 to produce a reliability evaluation module A.

【0073】信頼性試験項目は、温度サイクル試験(T
CT)および高加速度試験(HAST)で、TCTでは
クラックや剥れ等の外観と抵抗値変化率を、HASTで
はマイグレーションと絶縁抵抗値を評価した。
The reliability test items include a temperature cycle test (T
CT) and a high acceleration test (HAST), the TCT evaluated the appearance such as cracks and peeling and the rate of change in resistance, and the HAST evaluated the migration and insulation resistance.

【0074】TCTは気相冷熱試験機を用い、信頼性評
価用モジュールAを温度が−55℃および125℃の気相中
に各30分間放置し、これを1サイクルとして2000サイク
ルの条件で行い、抵抗値変化率は試験前後の抵抗値を測
定して計算により算出した。
In the TCT, a module for reliability evaluation A was allowed to stand in a gas phase at temperatures of -55 ° C. and 125 ° C. for 30 minutes for each of 30 minutes using a gas phase cooling / heating tester. The resistance change rate was calculated by measuring the resistance before and after the test.

【0075】HASTは高加速度試験器を用い、信頼性
評価用モジュールAを温度が130℃で相対湿度が85%の
雰囲気中、5.5Vの電圧を300時間印加後に、導体バンプ
6のイオンマイグレーションと絶縁抵抗値を測定した。
In the HAST, a high acceleration tester was used. After applying a voltage of 5.5 V for 300 hours in an atmosphere at a temperature of 130 ° C. and a relative humidity of 85%, ion migration of the conductive bumps 6 was performed. The insulation resistance was measured.

【0076】本発明の信頼性評価用モジュールAは、T
CT2000サイクル後でもクラックが発生せず、抵抗値変
化率も8%と低い値を示した。また、HAST300時間
後でも、イオンマイグレーションは発生せず、絶縁抵抗
値も1010Ω以上と高い値であった。
The module A for reliability evaluation of the present invention
No cracks occurred even after 2000 cycles of CT, and the rate of change in resistance was as low as 8%. Even after 300 hours of HAST, ion migration did not occur, and the insulation resistance was a high value of 1010Ω or more.

【0077】(実施例2)まず、熱硬化性樹脂としてビ
スマレイミドトリアジン樹脂60重量%と、エラストマー
としてスチレン−ブタジエン−スチレントリブロックエ
ラストマー25重量%と、無機絶縁性フィラーとして酸化
珪素15重量%と、溶剤等とから成る混合物を混練して得
た液状ワニス用い、実施例1と同様の方法を採用するこ
とにより厚みが25μmのフィルム状の熱硬化性樹脂を主
成分とするソルダーレジスト層3bを得た。この時のソ
ルダーレジスト層3bの透湿量は、JIS Z 0208の規定に
従って測定した結果、45g/m2であった。
Example 2 First, 60% by weight of a bismaleimide triazine resin as a thermosetting resin, 25% by weight of a styrene-butadiene-styrene triblock elastomer as an elastomer, and 15% by weight of silicon oxide as an inorganic insulating filler. , A liquid varnish obtained by kneading a mixture comprising a solvent and the like, and employing the same method as in Example 1 to form a solder resist layer 3b having a film-shaped thermosetting resin having a thickness of 25 μm as a main component. Obtained. At this time, the amount of moisture permeation of the solder resist layer 3b was 45 g / m 2 as a result of measurement according to JIS Z 0208.

【0078】次に、表面に配線導体層2を被着形成した
絶縁基板1を準備し、絶縁基板1および配線導体層2上
に、まず、エポキシアクリレート55重量%とエポキシ樹
脂45重量%とから成る感光性樹脂60重量%と、エラスト
マーとしてスチレン−ブタジエン−スチレントリブロッ
クエラストマー25重量%と、無機絶縁性フィラーとして
酸化珪素15重量%と、溶剤等とから成る混合物を混練し
て得た液状ワニスを、スクリーン印刷法を採用して硬化
後の厚みが15μmとなるように均一に印刷・塗布するこ
とによりソルダーレジスト層3の下層部3aを形成し
た。
Next, the insulating substrate 1 having the wiring conductor layer 2 formed on the surface thereof is prepared. On the insulating substrate 1 and the wiring conductor layer 2, first, 55% by weight of epoxy acrylate and 45% by weight of epoxy resin are mixed. A liquid varnish obtained by kneading a mixture comprising 60% by weight of a photosensitive resin, 25% by weight of a styrene-butadiene-styrene triblock elastomer as an elastomer, 15% by weight of silicon oxide as an inorganic insulating filler, and a solvent. The lower layer 3a of the solder resist layer 3 was formed by uniformly printing and applying so that the thickness after curing was 15 μm by employing a screen printing method.

【0079】次に、実施例1と同様な方法を用いて径が
100μmの開口5aを形成するとともに、下層部3aを
硬化後その上に上記組成のソルダーレジスト層3bをス
クリーン印刷法を用いて硬化後の厚みが25μmとなるよ
うに均一に形成した。さらに、この層を乾燥・硬化後、
実施例1と同様な方法を用いて径が80μmの開口5bを
形成した。さらに、実施例1と同様な方法により電子部
品7を搭載・接続し、信頼性評価用モジュールBを作成
した。
Next, using the same method as in the first embodiment,
An opening 5a having a thickness of 100 μm was formed, and after curing the lower layer portion 3a, a solder resist layer 3b having the above composition was uniformly formed thereon by screen printing so that the thickness after curing was 25 μm. After drying and curing this layer,
An opening 5b having a diameter of 80 μm was formed in the same manner as in Example 1. Further, the electronic components 7 were mounted and connected in the same manner as in Example 1, and a reliability evaluation module B was created.

【0080】この信頼性評価用モジュールBを用いて、
実施例1と同じ信頼性試験・評価を行なった結果、信頼
性評価用モジュールBはTCT2000サイクル後でもクラ
ックが発生せず、抵抗値変化率も8%と低い値を示し
た。また、HAST300時間後でも、イオンマイグレー
ションは発生せず、絶縁抵抗も1010Ω以上と高い値であ
った。
Using this reliability evaluation module B,
As a result of performing the same reliability test and evaluation as in Example 1, no crack occurred in the reliability evaluation module B even after 2000 cycles of TCT, and the resistance value change rate was as low as 8%. Even after 300 hours of HAST, ion migration did not occur, and the insulation resistance was as high as 1010Ω or more.

【0081】(比較例)まず、エポキシアクリレート50
重量%とエポキシ樹脂50重量%とから成る感光性樹脂60
重量%と、無機絶縁性フィラーとして酸化珪素40重量%
と、溶剤等とから成る混合物を混練して得た液状ワニス
を用い、実施例1と同様の方法を採用することにより厚
みが25μmの比較用のソルダーレジスト層を得た。この
時のソルダーレジスト層の透湿量は、JIS Z 0208の規定
に従って測定した結果、250g/m2であった。
(Comparative Example) First, epoxy acrylate 50
Photosensitive resin 60% by weight and 50% by weight of epoxy resin
% By weight and 40% by weight of silicon oxide as an inorganic insulating filler
Using a liquid varnish obtained by kneading a mixture consisting of a solvent and a solvent, a similar solder resist layer having a thickness of 25 μm was obtained by employing the same method as in Example 1. At this time, the moisture permeation amount of the solder resist layer was 250 g / m2 as a result of measurement according to JIS Z 0208.

【0082】次に、表面に配線導体層を被着形成した絶
縁基板を準備し、絶縁基板および配線導体層上に、上記
組成のソルダーレジスト層を硬化後の厚みが40μmとな
るように均一に形成した。さらに、露光・現像法を採用
することにより径が80μmの開口を形成した。また、開
口を形成後、ソルダーレジスト層を、1J/cmの強度
でUV照射処理および150℃の温度で1時間熱処理を行
うことにより硬化した。さらにまた、実施例1と同様な
方法により電子部品を搭載・接続し、比較用モジュール
Cを作成した。
Next, an insulating substrate having a wiring conductor layer formed on the surface thereof is prepared, and a solder resist layer having the above composition is uniformly formed on the insulating substrate and the wiring conductor layer so that the cured thickness becomes 40 μm. Formed. Further, an opening having a diameter of 80 μm was formed by employing the exposure and development method. After the opening was formed, the solder resist layer was cured by performing a UV irradiation treatment at an intensity of 1 J / cm and a heat treatment at a temperature of 150 ° C. for one hour. Furthermore, electronic components were mounted and connected in the same manner as in Example 1 to prepare a comparative module C.

【0083】この比較用モジュールCを用いて、実施例
1と同じ信頼性試験・評価を行なった結果、比較用モジ
ュールCは、TCT1500サイクル後でクラックが発生
し、抵抗値変化率も50%に増加した。また、HAST25
0時間後で、イオンマイグレーションが発生し、絶縁抵
抗も3×107Ωに低下した。
Using this comparative module C, the same reliability test and evaluation as in Example 1 were carried out. As a result, the comparative module C had cracks after 1500 TCT cycles, and the rate of change in resistance value was reduced to 50%. Increased. Also, HAST25
After 0 hour, ion migration occurred, and the insulation resistance also dropped to 3 × 107Ω.

【0084】[0084]

【発明の効果】本発明の配線基板によれば、配線導体層
を覆うソルダーレジスト層の上層部を熱硬化性樹脂を主
成分とするものとしたことから、架橋密度を高めること
ができ良好な耐湿性を有するとともにめっき時にソルダ
ーレジスト層を膨潤のないものとすることができ、その
結果、湿中放置試験等の信頼性試験において配線導体層
が腐蝕したり、めっき時にソルダーレジスト層が絶縁基
板から剥離して配線導体層が断線したりすることのない
配線基板とすることができる。また、ソルダーレジスト
層の下層部を感光性樹脂を主成分とするものとしたこと
から、温度サイクル試験等の信頼性試験において絶縁基
板との剥離やクラックを生じることのない耐熱疲労性に
優れた配線基板とすることができる。
According to the wiring board of the present invention, since the upper layer portion of the solder resist layer covering the wiring conductor layer is made mainly of a thermosetting resin, the crosslink density can be increased and good. It has moisture resistance and can prevent the solder resist layer from swelling during plating.As a result, the wiring conductor layer corrodes in reliability tests such as a wet test, and the solder resist layer becomes The wiring substrate can be prevented from being peeled off from the wiring conductor layer and being disconnected. In addition, since the lower layer portion of the solder resist layer is made mainly of a photosensitive resin, it has excellent thermal fatigue resistance without peeling or cracking from the insulating substrate in a reliability test such as a temperature cycle test. It can be a wiring board.

【0085】また、本発明の配線基板によれば、ソルダ
ーレジスト層の上層部の透湿量がJIS Z 0208に規定され
た方法により測定して20〜150g/m2であることか
ら、配線基板のソルダーレジスト層に配線導体層を露出
させる開口を設けて、この開口内の配線導体層に導体バ
ンプを介して電子部品の電極を接続して成る電子部品モ
ジュールに、温度が130℃で相対湿度が85%の高温高湿
槽中で配線基板の端子間に5.5Vの電圧を連続して印加
する高加速度試験(HAST)を行ったとしても、隣接
する導体バンプ間の抵抗値が短時間で低下したり導体バ
ンプ間で電気的短絡が短時間に発生することはなく、良
好な耐湿性を有する配線基板とすることができる。
According to the wiring board of the present invention, the moisture permeability of the upper layer portion of the solder resist layer is 20 to 150 g / m 2 as measured by the method specified in JIS Z 0208. An opening for exposing the wiring conductor layer is provided in the solder resist layer, and an electrode of the electronic component is connected to the wiring conductor layer in the opening via a conductor bump. Even if a high acceleration test (HAST), in which a voltage of 5.5 V is continuously applied between terminals of a wiring board in an 85% high-temperature and high-humidity chamber, is performed, the resistance value between adjacent conductor bumps decreases in a short time. An electrical short circuit does not occur in a short time between conductor bumps, and a wiring board having good moisture resistance can be obtained.

【0086】さらに、本発明の配線基板によれば、ソル
ダーレジスト層の上層部および下層部は、エラストマー
を10〜40重量%含有することから良好な可撓性を有し温
度サイクル試験等の信頼性試験において絶縁基板との剥
離やクラックを生じることがなく、耐熱疲労性に優れた
配線基板とすることができる。また、ソルダーレジスト
層の上層部は、無機絶縁性フィラーの含有量を5〜20重
量%と低いものとしたことから無機絶縁性フィラーがソ
ルダーレジスト層の表裏面間や隣接する導体バンプ間で
架橋することはなく、その結果、ソルダーレジスト層の
上層部の透湿量をJIS Z 0208に規定された方法により測
定して20〜150g/m2の値とすることができる。
Further, according to the wiring board of the present invention, since the upper and lower layers of the solder resist layer contain 10 to 40% by weight of the elastomer, they have good flexibility and can be reliably used in a temperature cycle test or the like. It is possible to obtain a wiring board excellent in heat fatigue resistance without causing peeling or cracking from the insulating substrate in the resistance test. The upper part of the solder resist layer has a low content of the inorganic insulating filler of 5 to 20% by weight, so that the inorganic insulating filler is cross-linked between the front and back surfaces of the solder resist layer and between adjacent conductor bumps. As a result, the moisture permeation amount of the upper layer portion of the solder resist layer can be measured to a value of 20 to 150 g / m 2 by the method specified in JIS Z 0208.

【0087】本発明の電子部品モジュールによれば、上
記配線基板のソルダーレジスト層に配線導体層を露出さ
せる開口を設けて、この開口内の配線導体層に導体バン
プを介して電子部品の電極を接続したことから、耐熱疲
労性および高加速度試験(HAST)に対する耐湿性等
に優れた電子部品モジュールとすることができる。
According to the electronic component module of the present invention, an opening for exposing the wiring conductor layer is provided in the solder resist layer of the wiring board, and the electrode of the electronic component is connected to the wiring conductor layer in this opening via the conductor bump. Because of the connection, it is possible to provide an electronic component module that is excellent in heat fatigue resistance and moisture resistance against a high acceleration test (HAST).

【0088】また、本発明の電子部品モジュールによれ
ば、ソルダーレジスト層の上層部の開口径を下層部の開
口径の50〜80%の大きさとしたことから,感光性樹脂を
主成分とする下層部を架橋密度が高く良好な耐湿性を有
する熱硬化性樹脂を主成分とする上層部が良好に覆うこ
とができ、その結果、湿中放置試験や高加速度試験(H
AST)で良好な耐湿性を有する電子部品モジュールと
することができる。
According to the electronic component module of the present invention, since the opening diameter of the upper layer of the solder resist layer is 50 to 80% of the opening diameter of the lower layer, the photosensitive resin is mainly used. The lower layer can be covered well with the upper layer mainly composed of a thermosetting resin having a high crosslinking density and good moisture resistance, and as a result, a wet storage test or a high acceleration test (H
AST) to provide an electronic component module having good moisture resistance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の配線基板に電子部品を搭載して成る電
子部品モジュールの実施の形態の一例を示す要部断面図
である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of an essential part showing an example of an embodiment of an electronic component module in which an electronic component is mounted on a wiring board according to the present invention.

【図2】図1に示す電子部品モジュールの要部拡大断面
図である。
FIG. 2 is an enlarged sectional view of a main part of the electronic component module shown in FIG.

【図3】本発明の電子部品モジュールの実施の形態の他
の例を示す要部断面図である。
FIG. 3 is a sectional view of a main part showing another example of the embodiment of the electronic component module of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・・・・・・・・絶縁基板 2・・・・・・・・・・配線導体層 3・・・・・・・・・・ソルダーレジスト層 3a・・・・・・・・・・ソルダーレジスト層の下層部 3b・・・・・・・・・・ソルダーレジスト層の上層部 4・・・・・・・・・・配線基板 5・・・・・・・・・・開口 5a・・・・・・・・・・下層部の開口 5b・・・・・・・・・・上層部の開口 6・・・・・・・・・・導体バンプ 7・・・・・・・・・・電子部品 8・・・・・・・・・・電子部品モジュール 1 Insulating substrate 2 Wiring conductor layer 3 Solder resist layer 3a ..Lower layer portion 3b of the solder resist layer 3b Upper layer portion of the solder resist layer 4 Wiring board 5 Opening 5a Opening in lower layer 5b Opening in upper layer 6 Conductor bump 7 .... Electronic components 8 ... Electronic component modules

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁基板の表面に、配線導体層を被着形
成するとともに、該配線導体層の一部を覆ってソルダー
レジスト層を被着して成る配線基板であって、前記ソル
ダーレジスト層は感光性樹脂を主成分とする下層部と熱
硬化性樹脂を主成分とする上層部とから成り、かつ該上
層部の透湿量がJIS Z 0208に規定された方法
により測定して20〜150g/m2であることを特徴
とする配線基板。
1. A wiring board comprising: a wiring conductor layer formed on a surface of an insulating substrate; and a solder resist layer covering a part of the wiring conductor layer. Is composed of a lower layer mainly composed of a photosensitive resin and an upper layer mainly composed of a thermosetting resin, and the amount of moisture permeation of the upper layer is 20 to 20 measured by a method specified in JIS Z 0208. A wiring substrate having a weight of 150 g / m2.
【請求項2】 前記ソルダーレジスト層の前記下層部は
感光性樹脂50〜80重量%、エラストマー10〜40
重量%および無機絶縁性フィラー5〜20重量%から成
り、かつ前記上層部は熱硬化性樹脂50〜80重量%、
エラストマー10〜40重量%および無機絶縁性フィラ
ー5〜20重量%から成ることを特徴とする請求項1記
載の配線基板。
2. The method according to claim 1, wherein the lower layer portion of the solder resist layer comprises 50 to 80% by weight of a photosensitive resin and 10 to 40% by weight of an elastomer.
% By weight and 5 to 20% by weight of an inorganic insulating filler, and the upper layer portion is 50 to 80% by weight of a thermosetting resin,
2. The wiring board according to claim 1, comprising 10 to 40% by weight of an elastomer and 5 to 20% by weight of an inorganic insulating filler.
【請求項3】 請求項1または請求項2記載の配線基板
に電子部品を実装して成る電子部品モジュールであっ
て、前記ソルダーレジスト層に前記配線導体層を露出さ
せる開口を設けて、該開口内の配線導体層に導体バンプ
を介して前記電子部品の電極を接続したことを特徴とす
る電子部品モジュール。
3. An electronic component module comprising an electronic component mounted on the wiring board according to claim 1 or 2, wherein an opening for exposing the wiring conductor layer is provided in the solder resist layer. An electronic component module, wherein an electrode of the electronic component is connected to a wiring conductor layer inside via a conductor bump.
【請求項4】 請求項3記載の電子部品モジュールにお
いて、前記ソルダーレジスト層の前記上層部の開口径が
前記下層部の開口径の50〜80%の大きさであること
を特徴とする電子部品モジュール。
4. The electronic component according to claim 3, wherein an opening diameter of the upper layer portion of the solder resist layer is 50 to 80% of an opening diameter of the lower layer portion. module.
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