JP2002042476A - Static semiconductor memory - Google Patents

Static semiconductor memory

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JP2002042476A
JP2002042476A JP2000223944A JP2000223944A JP2002042476A JP 2002042476 A JP2002042476 A JP 2002042476A JP 2000223944 A JP2000223944 A JP 2000223944A JP 2000223944 A JP2000223944 A JP 2000223944A JP 2002042476 A JP2002042476 A JP 2002042476A
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memory cells
power supply
transistor
inverter
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Kiyotaka Akai
清恭 赤井
Nobuyuki Kokubo
信幸 小久保
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Mitsubishi Electric Corp
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Mitsubishi Electric Corp
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  • Static Random-Access Memory (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a static semiconductor memory in which a write-in margin can be taken. SOLUTION: The static semiconductor memory is provided with a voltage supply circuit 72. An internal power source line 6 is connected to a memory cell. An external power source line 5 is connected to a power source node 722 and external power source voltage is supplied to the power source node 72. An internal write-in signal WEi of a H level is inputted to the voltage supply circuit 72 at the time of write-in of data, voltage VCC-VTH is supplied to a memory cell by a N channel MOS transistor 721. Also, an internal write-in signal WEi of a L level is inputted to the voltage supply circuit 72 at the time of read-out of data, and voltage VCC is supplied to a memory cell by a P channel MOS transistor 720.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、スタティック型
半導体記憶装置に関し、特に、書込みマージンが大きい
スタティック型半導体記憶装置に関する。
The present invention relates to a static semiconductor memory device, and more particularly, to a static semiconductor memory device having a large write margin.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、低消費なSRAM(Static
Random Access Memory)におい
ては、図20に示すような高抵抗負荷型のメモリセル1
20が用いられていた。高抵抗負荷型のメモリセル12
0は、抵抗2a,2bと、チャネルMOSトランジスタ
3a,3b,4a,4bとを備える。抵抗2aは、Nチ
ャネルMOSトランジスタ4aと直列に接続される。抵
抗2bは、NチャネルMOSトランジスタ4bと直列に
接続される。抵抗2a,2bには、電源ノード1から外
部電源電圧が供給される。NチャネルMOSトランジス
タ4a,4bのドレイン端子は接地ノード8に接続され
る。NチャネルMOSトランジスタ3aは、抵抗2aと
NチャネルMOSトランジスタ4aとの接続点であるノ
ードN1とビット線BLとの間に配置される。また、N
チャネルMOSトランジスタ3bは、抵抗2bとNチャ
ネルMOSトランジスタ4bとの接続点であるノードN
2とビット線/BLとの間に配置される。
2. Description of the Related Art Conventionally, low power consumption SRAM (Static)
In the Random Access Memory, a high resistance load type memory cell 1 as shown in FIG.
20 were used. High resistance load type memory cell 12
0 includes resistors 2a, 2b and channel MOS transistors 3a, 3b, 4a, 4b. Resistance 2a is connected in series with N-channel MOS transistor 4a. Resistance 2b is connected in series with N-channel MOS transistor 4b. An external power supply voltage is supplied from power supply node 1 to resistors 2a and 2b. The drain terminals of N channel MOS transistors 4a and 4b are connected to ground node 8. N-channel MOS transistor 3a is arranged between node N1, which is a connection point between resistor 2a and N-channel MOS transistor 4a, and bit line BL. Also, N
The channel MOS transistor 3b is connected to a node N which is a connection point between the resistor 2b and the N-channel MOS transistor 4b.
2 and bit line / BL.

【0003】NチャネルMOSトランジスタ3a,3b
のゲート端子にはワード線Wが接続される。また、ノー
ドN1は、NチャネルMOSトランジスタ4bのゲート
端子に接続され、ノードN2は、NチャネルMOSトラ
ンジスタ4aのゲート端子に接続される。抵抗2a,2
bは1TΩ以上の高抵抗である。
[0003] N-channel MOS transistors 3a, 3b
Is connected to a word line W. Node N1 is connected to the gate terminal of N-channel MOS transistor 4b, and node N2 is connected to the gate terminal of N-channel MOS transistor 4a. Resistance 2a, 2
b is a high resistance of 1 TΩ or more.

【0004】メモリセル120からのデータの読出し時
には、NチャネルMOSトランジスタ3a,3bがオン
され、カラム電流が低電位側の記憶ノードへ流れ込む。
すなわち、負荷素子である抵抗2a,2bに並列に低イ
ンピーダンスの負荷が接続されたのと同じになり、高イ
ンピーダンスな負荷素子である抵抗2a,2bは存在し
ないのと同じになる。したがって、NチャネルMOSト
ランジスタ3a,3bを負荷として扱う必要がある。そ
の結果、NチャネルMOSトランジスタ3a,4aおよ
びNチャネルMOSトランジスタ3b,4bは、図21
に示すようなインバータ特性を示す。
At the time of reading data from memory cell 120, N-channel MOS transistors 3a and 3b are turned on, and a column current flows into a low potential side storage node.
That is, it is the same as when a low-impedance load is connected in parallel to the resistors 2a and 2b as load elements, and it is the same as the absence of the resistors 2a and 2b as high-impedance load elements. Therefore, it is necessary to treat N-channel MOS transistors 3a and 3b as loads. As a result, N channel MOS transistors 3a and 4a and N channel MOS transistors 3b and 4b
The inverter characteristics shown in FIG.

【0005】曲線k1は、NチャネルMOSトランジス
タ3a,4aのインバータ特性を示し、曲線k2は、N
チャネルMOSトランジスタ3b,4bのインバータ特
性を示す。曲線k1と曲線k2との関係は、一方の曲線
を傾き45度の線に対して対称移動させた関係である。
そうすると、一般に「セルの目」と呼ばれる曲線k1,
k2で囲まれた領域が形成される。曲線k1と曲線k2
との距離Lは、スタティックノイズマージンSNM(S
tatic Noise Margin)と呼ばれるも
のであり、スタティックノイズマージンSNMが大きい
ほど特性が安定していることを示す。
A curve k1 shows the inverter characteristics of the N-channel MOS transistors 3a and 4a, and a curve k2 shows the N-channel MOS transistors 3a and 4a.
6 shows inverter characteristics of the channel MOS transistors 3b and 4b. The relationship between the curves k1 and k2 is a relationship in which one of the curves is symmetrically moved with respect to a line having an inclination of 45 degrees.
Then, a curve k1, which is generally called a "cell eye",
A region surrounded by k2 is formed. Curve k1 and curve k2
Is a distance L from the static noise margin SNM (S
This is called “static noise margin”, and indicates that the larger the static noise margin SNM, the more stable the characteristics.

【0006】点S1,S2は、安定点であり、安定点S
1はデータ「0」を示し、安定点S2はデータ「1」を
示す。スタティックノイズマージンSNMを大きくする
には、NチャネルMOSトランジスタ3a(または3
b)のドレイン電流とNチャネルMOSトランジスタ4
a(または4b)のドレイン電流との比(「β比」とい
う。)を大きくする。そうすると、図21の曲線k3
(点線)で示すようにスタティックノイズマージンSN
Mが大きくなる。β比を大きくするには、NチャネルM
OSトランジスタ4a(または4b)に対してNチャネ
ルMOSトランジスタ3a(または3b)の長さを長く
し、NチャネルMOSトランジスタ3a(または3b)
に対してNチャネルMOSトランジスタ4a(または4
b)の幅を大きくすることが考えられるが、これではメ
モリセルの面積を増大させる。
The points S1 and S2 are stable points, and the stable points S
1 indicates data “0”, and stable point S2 indicates data “1”. To increase the static noise margin SNM, the N-channel MOS transistor 3a (or 3
b) Drain current and N-channel MOS transistor 4
The ratio of a (or 4b) to the drain current (referred to as “β ratio”) is increased. Then, the curve k3 in FIG.
As indicated by the dotted line, the static noise margin SN
M increases. To increase the β ratio, N channel M
The length of the N-channel MOS transistor 3a (or 3b) is made longer than that of the OS transistor 4a (or 4b), and the N-channel MOS transistor 3a (or 3b)
N channel MOS transistor 4a (or 4
It is conceivable to increase the width of b), but this increases the area of the memory cell.

【0007】そこで、図22に示すように、ノードN1
とNチャネルMOSトランジスタ3aとの間に抵抗R1
を、ノードN2とNチャネルMOSトランジスタ3bと
の間に抵抗R2を、それぞれ、挿入することによってβ
比を大きくしている。
[0007] Therefore, as shown in FIG.
Between the resistor and the N-channel MOS transistor 3a.
By inserting a resistor R2 between the node N2 and the N-channel MOS transistor 3b, respectively.
The ratio has been increased.

【0008】しかし、このような方法によってβ比を大
きくしても、メモリセルの動作電圧の下限は2.4〜
2.5V程度であり、近年の低電圧動作(2V程度)に
は対応できなかった。
However, even if the β ratio is increased by such a method, the lower limit of the operating voltage of the memory cell is 2.4 to
It is about 2.5 V, and could not cope with recent low-voltage operation (about 2 V).

【0009】かかる理由から、図23に示すフルCMO
S型のメモリセル121が用いられるようになった。メ
モリセル121は、高抵抗負荷型のメモリセル120の
抵抗2a,2bをPチャネルMOSトランジスタ7a,
7bに代えたものである。メモリセル121のインバー
タ特性も、NチャネルMOSトランジスタ3a(または
3b)とNチャネルMOSトランジスタ4a(または4
b)とのインバータ特性であるが、フルCMOS型のメ
モリセル121の場合には、負荷にPチャネルMOSト
ランジスタ7a,7bを用いているため、NチャネルM
OSトランジスタ3a(または3b)とNチャネルMO
Sトランジスタ4a(または4b)とのインバータ特性
にPチャネルMOSトランジスタ7a,7bの負荷も考
慮に入れる必要がある。その結果、図24に示すよう
に、PチャネルMOSトランジスタ7a,7bが負荷と
して追加されることによって、インバータ特性は外部電
源電圧Vccから始まる。これに対し、NチャネルMO
Sトランジスタ3a(または3b)とNチャネルMOS
トランジスタ4a(または4b)とのインバータ特性
は、Vcc−Vth(Vth:NチャネルMOSトラン
ジスタ3aまたは3bのしきい値)から始まる。
For this reason, the full CMO shown in FIG.
The S-type memory cell 121 has been used. The memory cell 121 uses the resistances 2a and 2b of the high resistance load type memory cell 120 as P channel MOS transistors 7a and
7b. The inverter characteristics of the memory cell 121 also depend on the N-channel MOS transistor 3a (or 3b) and the N-channel MOS transistor 4a (or 4
b) In the case of the full CMOS type memory cell 121, since the P-channel MOS transistors 7a and 7b are used as loads, the N-channel M
OS transistor 3a (or 3b) and N-channel MO
It is necessary to take into consideration the load of the P-channel MOS transistors 7a and 7b in the inverter characteristics with the S transistor 4a (or 4b). As a result, as shown in FIG. 24, the P-channel MOS transistors 7a and 7b are added as loads, so that the inverter characteristics start from the external power supply voltage Vcc. On the other hand, the N-channel MO
S transistor 3a (or 3b) and N-channel MOS
The inverter characteristic with the transistor 4a (or 4b) starts from Vcc-Vth (Vth: threshold value of the N-channel MOS transistor 3a or 3b).

【0010】また、インバータ特性の肩は、Nチャネル
MOSトランジスタ3a(または3b)とNチャネルM
OSトランジスタ4a(または4b)との場合、Nチャ
ネルMOSトランジスタ4a(または4b)のしきい値
によって決定されていたのに対し、PチャネルMOSト
ランジスタ7a,7bが負荷として追加されたときは、
PチャネルMOSトランジスタ7a,7bの負荷とNチ
ャネルMOSトランジスタ4a(または4b)のしきい
値との競合によって決定され、張り出しが大きくなる。
[0010] Inverter characteristics include an N-channel MOS transistor 3a (or 3b) and an N-channel M transistor.
In the case of the OS transistor 4a (or 4b), which is determined by the threshold value of the N-channel MOS transistor 4a (or 4b), when the P-channel MOS transistors 7a and 7b are added as loads,
The overhang is determined by the competition between the loads of the P-channel MOS transistors 7a and 7b and the threshold value of the N-channel MOS transistor 4a (or 4b).

【0011】これらの違いによって、フルCMOS型の
メモリセル121の場合は、β比を大きくしなくても高
抵抗負荷型のメモリセル120よりもスタティックノイ
ズマージンSNMが大きくなる。
Due to these differences, in the case of the full CMOS type memory cell 121, the static noise margin SNM becomes larger than that of the high resistance load type memory cell 120 without increasing the β ratio.

【0012】また、フルCMOS型のメモリセル121
においても、図25に示すようにノードN1とNチャネ
ルMOSトランジスタ3aとの間に抵抗R1を、ノード
N2とNチャネルMOSトランジスタ3bとの間に抵抗
R2を、それぞれ、挿入してβ比を大きくした場合に
も、図24の点線で示すように、さらにスタティックノ
イズマージンSNMを大きくできる。その結果、動作電
圧の下限が大きくなる。
Also, a full CMOS type memory cell 121 is provided.
Also, as shown in FIG. 25, a resistor R1 is inserted between node N1 and N-channel MOS transistor 3a, and a resistor R2 is inserted between node N2 and N-channel MOS transistor 3b to increase the β ratio. In this case, the static noise margin SNM can be further increased as shown by the dotted line in FIG. As a result, the lower limit of the operating voltage increases.

【0013】[0013]

【発明が解決しようとする課題】このようにフルCMO
S型のメモリセル121においては、スタティックノイ
ズマージンSNMが大きくなり、動作マージンが拡大さ
れるが、これに反して書込みマージンは小さくなる。書
込み易いということはスタティックノイズマージンSN
Mが小さいということであり、特に、2.5V以上の比
較的高い電圧においては、書込みマージンを十分に取ら
なければ書込みができないという問題がある。
SUMMARY OF THE INVENTION As described above, the full CMO
In the S-type memory cell 121, the static noise margin SNM increases and the operation margin increases, but the write margin decreases. Ease of writing means static noise margin SN
This means that M is small, and particularly at a relatively high voltage of 2.5 V or more, there is a problem that writing cannot be performed unless a sufficient writing margin is taken.

【0014】そこで、本発明は、かかる問題を解決する
ためになされたものであり、その目的は、大きなスタテ
ィックノイズマージンSNMを有するメモリセルにおい
て、書込みマージンを取ることができるスタティック型
半導体記憶装置を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a static semiconductor memory device capable of providing a write margin in a memory cell having a large static noise margin SNM. To provide.

【0015】[0015]

【課題を解決するための手段】この発明によるスタティ
ック型半導体記憶装置は、第1のスタティックノイズマ
ージンを有する第1のインバータ特性または第1のスタ
ティックノイズマージンよりも大きい第2のスタティッ
クノイズマージンを有する第2のインバータ特性に従っ
て駆動される複数のメモリセルと、複数のメモリセルの
各々にデータを書込むとき、第1のインバータ特性に従
って複数のメモリセルの各々を駆動させ、複数のメモリ
セルの各々からデータを読出すとき、第2のインバータ
特性に従って複数のメモリセルの各々を駆動させる駆動
回路とを備え、複数のメモリセルの各々は、第1の導電
型の第1の駆動用トランジスタおよび第2の導電型の第
1の負荷用トランジスタからなる第1のインバータなら
びに第1の導電型の第2の駆動用トランジスタおよび第
2の導電型の第2の負荷用トランジスタからなる第2の
インバータを有するフリップフロップ回路と、第1のイ
ンバータの出力ノードに接続される第1の導電型の第1
のアクセストランジスタと、第2のインバータの出力ノ
ードに接続される第1の導電型の第2のアクセストラン
ジスタとを含む。
The static semiconductor memory device according to the present invention has a first inverter characteristic having a first static noise margin or a second static noise margin larger than the first static noise margin. A plurality of memory cells driven according to the second inverter characteristic and, when data is written to each of the plurality of memory cells, each of the plurality of memory cells is driven according to the first inverter characteristic and each of the plurality of memory cells And a driving circuit for driving each of the plurality of memory cells in accordance with the second inverter characteristic when reading data from the memory cell, wherein each of the plurality of memory cells includes a first driving transistor of a first conductivity type and a first driving transistor. A first inverter comprising a first load transistor of a second conductivity type and a first conductivity type A flip-flop circuit having a second inverter including a second driving transistor and a second load transistor of a second conductivity type, and a first conductivity type first flip-flop circuit connected to an output node of the first inverter; 1
And an access transistor of the first conductivity type connected to the output node of the second inverter.

【0016】この発明によるスタティック型半導体記憶
装置においては、複数のメモリセルの各々は、データが
書き込まれるとき、小さいスタティックノイズマージン
を有する第1のインバータ特性に従って駆動され、デー
タが読出されるとき、大きいスタティックノイズマージ
ンを有する第2のインバータ特性に従って駆動される。
したがって、この発明によれば、データの読出し時は、
より安定な特性に従ってメモリセルを駆動でき、データ
の書込み時は、書込みマージンが大きい特性に従ってメ
モリセルを駆動できる。
In the static semiconductor memory device according to the present invention, each of a plurality of memory cells is driven according to a first inverter characteristic having a small static noise margin when data is written, and when data is read. It is driven according to a second inverter characteristic having a large static noise margin.
Therefore, according to the present invention, when reading data,
The memory cell can be driven according to more stable characteristics, and at the time of data writing, the memory cell can be driven according to a characteristic having a large write margin.

【0017】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路は、複数のメモリセルの各々にデータを書
込むとき、第1のインバータ特性に従って駆動させるた
めの第1の電圧を複数のメモリセルの各々に供給し、複
数のメモリセルの各々からデータを読出すとき、第2の
インバータ特性に従って駆動させるための第2の電圧を
複数のメモリセルの各々に供給する。
Preferably, the drive circuit of the static semiconductor memory device, when writing data into each of the plurality of memory cells, applies a first voltage for driving according to a first inverter characteristic to each of the plurality of memory cells. And when reading data from each of the plurality of memory cells, a second voltage for driving according to the second inverter characteristic is supplied to each of the plurality of memory cells.

【0018】駆動回路は、各メモリセルにデータを書込
むとき各メモリセルに第1の電圧を供給し、各メモリセ
ルからデータを読出すとき各メモリセルに第2の電圧を
供給する。そうすると、各メモリセルは、データの書込
み時、小さいスタティックノイズマージンを有する第1
のインバータ特性に従って駆動され、データの読出し
時、スタティックノイズマージンが大きい第2のインバ
ータ特性に従って駆動される。
The drive circuit supplies a first voltage to each memory cell when writing data to each memory cell, and supplies a second voltage to each memory cell when reading data from each memory cell. Then, at the time of data writing, each memory cell has a first static noise margin having a small static noise margin.
And at the time of data reading, in accordance with the second inverter characteristic having a large static noise margin.

【0019】したがって、この発明によれば、各メモリ
セルへ供給する電圧を変化させることによって、データ
の読出し時は、より安定な特性に従ってメモリセルを駆
動でき、データの書込み時は、書込みマージンが大きい
特性に従ってメモリセルを駆動できる。
Therefore, according to the present invention, by changing the voltage supplied to each memory cell, the memory cell can be driven in accordance with more stable characteristics when reading data, and the write margin can be increased when writing data. A memory cell can be driven according to large characteristics.

【0020】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路は、第1および第2の電圧を各メモリセル
の高電圧ノードへ供給する。
Preferably, the drive circuit of the static semiconductor memory device supplies the first and second voltages to the high voltage nodes of each memory cell.

【0021】駆動回路は、各メモリセルにデータを書込
むとき、各メモリセルの高電圧ノードへ第1の電圧を供
給し、各メモリセルからデータを読出すとき、各メモリ
セルの高電圧ノードへ第2の電圧を供給する。そうする
と、各メモリセルは、第1の電圧が供給されたとき、ス
タティックノイズマージンが小さいインバータ特性に従
って駆動され、第2の電圧が供給されたとき、スタティ
ックノイズマージンが大きいインバータ特性に従って駆
動される。
The drive circuit supplies a first voltage to a high voltage node of each memory cell when writing data to each memory cell, and supplies a high voltage node of each memory cell when reading data from each memory cell. Is supplied with a second voltage. Then, when the first voltage is supplied, each memory cell is driven according to the inverter characteristic having a small static noise margin, and when the second voltage is supplied, each memory cell is driven according to the inverter characteristic having a large static noise margin.

【0022】したがって、この発明によれば、各メモリ
セルの高電圧ノードへ供給する電圧を変化させることに
よって、データの読出し時は、より安定な特性に従って
メモリセルを駆動でき、データの書込み時は、書込みマ
ージンが大きい特性に従ってメモリセルを駆動できる。
Therefore, according to the present invention, by changing the voltage supplied to the high voltage node of each memory cell, the memory cell can be driven according to more stable characteristics at the time of data reading, and at the time of data writing. In addition, the memory cell can be driven according to the characteristic that the write margin is large.

【0023】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路は、書込み信号の活性化に伴って第1の活
性化信号を生成し、書込み信号の不活性化に伴って第2
の活性化信号を生成する活性化信号生成回路と、複数の
メモリセルの各々にデータを書込むとき、第1の活性化
信号に基づいて第1の電圧を複数のメモリセルの各々に
供給し、複数のメモリセルの各々からデータを読出すと
き、第2の活性化信号に基づいて第2の電圧を複数のメ
モリセルの各々に供給する電圧供給回路とを含み、電圧
供給回路は、外部電源電圧が供給される外部電源線と、
複数のメモリセルの各々の高電圧ノードに接続された内
部電源線と、外部電源線と内部電源線との間に接続さ
れ、第1の活性化信号を受けて第1の電圧を内部電源線
に供給する第1の導電型の第1の電圧供給用トランジス
タと、外部電源線と内部電源線との間に第1の電圧供給
用トランジスタと並列接続され、第2の活性化信号を受
けて第2の電圧を内部電源線に供給する第2の導電型の
第2の電圧供給用トランジスタとから成る。
Preferably, the drive circuit of the static semiconductor memory device generates a first activation signal in response to the activation of the write signal, and generates a second activation signal in response to the inactivation of the write signal.
An activation signal generating circuit for generating an activation signal of the type described above, and, when writing data to each of the plurality of memory cells, supplying a first voltage to each of the plurality of memory cells based on the first activation signal. And a voltage supply circuit for supplying a second voltage to each of the plurality of memory cells based on a second activation signal when data is read from each of the plurality of memory cells. An external power supply line to which a power supply voltage is supplied,
An internal power supply line connected to a high voltage node of each of the plurality of memory cells; and an internal power supply line connected between the external power supply line and the internal power supply line, receiving a first activation signal and applying a first voltage to the internal power supply line. A first voltage supply transistor of the first conductivity type to be supplied to the first power supply transistor, and a first voltage supply transistor connected between the external power supply line and the internal power supply line in parallel to receive the second activation signal A second voltage supply transistor of a second conductivity type for supplying a second voltage to the internal power supply line.

【0024】各メモリセルにデータを書込むとき、書込
み信号の活性化に伴って生成された第1の活性化信号に
よって第1の電圧供給用トランジスタが外部電源電圧に
基づいて第1の電圧を内部電源線へ供給する。また、各
メモリセルからデータを読出すとき、書込み信号の不活
性化に伴って生成された第2の活性化信号によって第2
の電圧供給用トランジスタが外部電源電圧に基づいて第
2の電圧を内部電源線へ供給する。
When data is written in each memory cell, the first voltage supply transistor generates a first voltage based on an external power supply voltage by a first activation signal generated in response to activation of a write signal. Supply to internal power line. When data is read from each memory cell, the second activation signal generated along with the inactivation of the write signal causes the second activation signal to be generated.
Supplies the second voltage to the internal power supply line based on the external power supply voltage.

【0025】したがって、この発明によれば、導電型が
異なる2つのトランジスタを選択的に活性化させること
によって第1の電圧と第2の電圧とを選択的に各メモリ
セルの高電圧ノードへ供給できる。その結果、データの
読出し時は、より安定な特性に従ってメモリセルを駆動
でき、データの書込み時は、書込みマージンが大きい特
性に従ってメモリセルを駆動できる。
Therefore, according to the present invention, the first voltage and the second voltage are selectively supplied to the high voltage node of each memory cell by selectively activating two transistors having different conductivity types. it can. As a result, at the time of data reading, the memory cell can be driven according to more stable characteristics, and at the time of data writing, the memory cell can be driven according to a characteristic having a large write margin.

【0026】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路は、第1および第2の電圧を各メモリセル
の低電圧ノードへ供給する。
Preferably, the drive circuit of the static semiconductor memory device supplies the first and second voltages to the low voltage nodes of each memory cell.

【0027】駆動回路は、各メモリセルにデータを書込
むとき、各メモリセルの低電圧ノードへ第1の電圧を供
給し、各メモリセルからデータを読出すとき、各メモリ
セルの低電圧ノードへ第2の電圧を供給する。そうする
と、各メモリセルは、第1の電圧が供給されたとき、ス
タティックノイズマージンが小さいインバータ特性に従
って駆動され、第2の電圧が供給されたとき、スタティ
ックノイズマージンが大きいインバータ特性に従って駆
動される。
The drive circuit supplies a first voltage to a low voltage node of each memory cell when writing data into each memory cell, and supplies a low voltage node to each memory cell when reading data from each memory cell. Is supplied with a second voltage. Then, when the first voltage is supplied, each memory cell is driven according to the inverter characteristic having a small static noise margin, and when the second voltage is supplied, each memory cell is driven according to the inverter characteristic having a large static noise margin.

【0028】したがって、この発明によれば、各メモリ
セルの低電圧ノードへ供給する電圧を変化させることに
よって、データの読出し時は、より安定な特性に従って
メモリセルを駆動でき、データの書込み時は、書込みマ
ージンが大きい特性に従ってメモリセルを駆動できる。
Therefore, according to the present invention, by changing the voltage supplied to the low voltage node of each memory cell, the memory cell can be driven according to more stable characteristics at the time of data reading, and at the time of data writing. In addition, the memory cell can be driven according to the characteristic that the write margin is large.

【0029】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路は、書込み信号の活性化に伴って第1の活
性化信号を生成し、書込み信号の不活性化に伴って第2
の活性化信号を生成する活性化信号生成回路と、複数の
メモリセルの各々にデータを書込むとき、第1の活性化
信号に基づいて第1の電圧を複数のメモリセルの各々に
供給し、複数のメモリセルの各々からデータを読出すと
き、第2の活性化信号に基づいて第2の電圧を複数のメ
モリセルの各々に供給する電圧供給回路とを含み、電圧
供給回路は、接地電圧が供給される接地ノードと、複数
のメモリセルの各々の低電圧ノードに接続された内部電
源線と、接地ノードと内部電源線との間に接続され、第
1の活性化信号を受けて第1の電圧を内部電源線に供給
する第2の導電型の第3の電圧供給用トランジスタと、
接地ノードと内部電源線との間に第3の電圧供給用トラ
ンジスタと並列接続され、第2の活性化信号を受けて第
2の電圧を内部電源線に供給する第1の導電型の第4の
電圧供給用トランジスタとから成る。
Preferably, the drive circuit of the static semiconductor memory device generates a first activation signal when the write signal is activated, and generates a second activation signal when the write signal is deactivated.
An activation signal generating circuit for generating an activation signal of the type described above, and, when writing data to each of the plurality of memory cells, supplying a first voltage to each of the plurality of memory cells based on the first activation signal. And a voltage supply circuit for supplying a second voltage to each of the plurality of memory cells based on a second activation signal when data is read from each of the plurality of memory cells. A ground node to which a voltage is supplied, an internal power supply line connected to each low voltage node of the plurality of memory cells, and a first activation signal connected between the ground node and the internal power supply line A third voltage supply transistor of a second conductivity type for supplying a first voltage to the internal power supply line;
A fourth transistor of the first conductivity type, connected in parallel with the third voltage supply transistor between the ground node and the internal power supply line, receiving the second activation signal and supplying the second voltage to the internal power supply line Voltage supply transistor.

【0030】各メモリセルにデータを書込むとき、書込
み信号の活性化に伴って生成された第1の活性化信号に
よって第3の電圧供給用トランジスタが接地電圧に基づ
いて第1の電圧を内部電源線へ供給する。また、各メモ
リセルからデータを読出すとき、書込み信号の不活性化
に伴って生成された第2の活性化信号によって第4の電
圧供給用トランジスタが接地電圧に基づいて第2の電圧
を内部電源線へ供給する。なお、この場合、第1の電圧
を内部電源線へ供給するトランジスタ、および第2の電
圧を内部電源線へ供給するトランジスタは、各メモリセ
ルの高電圧ノードへ第1および第2の電圧を供給する場
合と逆の導電型のトランジスタである。
When writing data into each memory cell, the third voltage supply transistor internally supplies the first voltage based on the ground voltage by the first activation signal generated in response to the activation of the write signal. Supply to power line. Further, when reading data from each memory cell, the fourth voltage supply transistor internally supplies the second voltage based on the ground voltage by the second activation signal generated in accordance with the inactivation of the write signal. Supply to power line. In this case, the transistor that supplies the first voltage to the internal power supply line and the transistor that supplies the second voltage to the internal power supply line supply the first and second voltages to the high voltage node of each memory cell. This is a transistor of the opposite conductivity type to that in the case of FIG.

【0031】したがって、この発明によれば、導電型が
異なる2つのトランジスタを選択的に活性化させること
によって第1の電圧と第2の電圧とを選択的に各メモリ
セルの低電圧ノードへ供給できる。その結果、データの
読出し時は、より安定な特性に従ってメモリセルを駆動
でき、データの書込み時は、書込みマージンが大きい特
性に従ってメモリセルを駆動できる。
Therefore, according to the present invention, the first voltage and the second voltage are selectively supplied to the low voltage node of each memory cell by selectively activating two transistors having different conductivity types. it can. As a result, at the time of data reading, the memory cell can be driven according to more stable characteristics, and at the time of data writing, the memory cell can be driven according to a characteristic having a large write margin.

【0032】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路は、複数のメモリセルの各々にデータを書
込むとき、各メモリセルの負荷を第1のインバータ特性
に従って駆動させるための第1の負荷に設定し、複数の
メモリセルの各々からデータを読出すとき、各メモリセ
ルの負荷を第2のインバータ特性に従って駆動させるた
めの第2の負荷に設定する。
Preferably, when writing data to each of the plurality of memory cells, the drive circuit of the static semiconductor memory device applies a first load for driving the load of each memory cell in accordance with the first inverter characteristic. When setting and reading data from each of the plurality of memory cells, the load of each memory cell is set to a second load for driving according to the second inverter characteristic.

【0033】駆動回路は、各メモリセルにデータを書込
むとき、大きな負荷を各メモリセルと直列に接続し、ス
タティックノイズマージンが小さい第1のインバータ特
性に従って各メモリセルを動作させる。また、駆動回路
は、各メモリセルからデータを読出すとき、小さな負荷
を各メモリセルと直列に接続し、スタティックノイズマ
ージンが大きい第2のインバータ特性に従って各メモリ
セルを動作させる。
When writing data into each memory cell, the drive circuit connects a large load in series with each memory cell and operates each memory cell according to the first inverter characteristic having a small static noise margin. When reading data from each memory cell, the drive circuit connects a small load in series with each memory cell and operates each memory cell in accordance with the second inverter characteristic having a large static noise margin.

【0034】したがって、この発明によれば、各メモリ
セルと直列に接続する負荷を変化させることによってス
タティックノイズマージンの小さい第1のインバータ特
性またはスタティックノイズマージンの大きな第2のイ
ンバータ特性に従って各メモリセルを動作させることが
できる。その結果、データの読出し時は、より安定な特
性に従ってメモリセルを駆動でき、データの書込み時
は、書込みマージンが大きい特性に従ってメモリセルを
駆動できる。
Therefore, according to the present invention, by changing the load connected in series with each memory cell, each memory cell can be changed according to the first inverter characteristic having a small static noise margin or the second inverter characteristic having a large static noise margin. Can be operated. As a result, at the time of data reading, the memory cell can be driven according to more stable characteristics, and at the time of data writing, the memory cell can be driven according to a characteristic having a large write margin.

【0035】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路は、書込み信号の活性化に伴って活性化信
号を生成し、書込み信号の不活性化に伴って不活性化信
号を生成する信号生成回路と、複数のメモリセルの各々
にデータを書込むとき、不活性化信号に基づいて第2の
電圧を供給して各メモリセルの負荷を第1の負荷に設定
し、複数のメモリセルの各々からデータを読出すとき、
活性化信号に基づいて第2の電圧を供給して各メモリセ
ルの負荷を第2の負荷に設定する電圧供給回路とを含
む。
Preferably, the drive circuit of the static type semiconductor memory device generates an activation signal in accordance with activation of the write signal, and generates an inactivation signal in accordance with inactivation of the write signal. And when writing data to each of the plurality of memory cells, supplying a second voltage based on the inactivation signal to set the load of each memory cell to the first load, When reading data from
A voltage supply circuit for supplying a second voltage based on the activation signal to set the load of each memory cell to the second load.

【0036】駆動回路は、書込み信号の活性化/不活性
化に同期して生成された活性化信号/不活性化信号によ
って、それぞれ、各メモリセルの負荷を第1の負荷、第
2の負荷に設定する。この場合、同じ第2の電圧が各メ
モリセルに供給される。
The drive circuit changes the load of each memory cell to a first load and a second load by using an activation signal / inactivation signal generated in synchronization with activation / inactivation of the write signal. Set to. In this case, the same second voltage is supplied to each memory cell.

【0037】したがって、この発明によれば、データの
書込み時はスタティックノイズマージンが小さい第1の
インバータ特性に従って各メモリセルを駆動でき、デー
タの読出し時はスタティックノイズマージンが大きい第
2のインバータ特性に従って各メモリセルを駆動でき
る。
Therefore, according to the present invention, each memory cell can be driven in accordance with the first inverter characteristic having a small static noise margin when writing data, and in accordance with the second inverter characteristic having a large static noise margin in reading data. Each memory cell can be driven.

【0038】また、この発明によれば、同じ電圧を供給
し、負荷を変化させることによって各メモリセルのイン
バータ特性を切替えることができる。
Further, according to the present invention, it is possible to switch the inverter characteristics of each memory cell by supplying the same voltage and changing the load.

【0039】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路に含まれる電圧供給回路は、外部電源電圧
が供給される外部電源線と、複数のメモリセルの各々の
高電圧ノードに接続された内部電源線と、外部電源線と
内部電源線との間に接続され、活性化信号を受けて内部
電源線に第2の電圧を供給し、各メモリセルの負荷を第
2の負荷に設定する第2の導電型の電圧供給用トランジ
スタと、外部電源線と内部電源線との間に電圧供給用ト
ランジスタと並列接続され、不活性化信号によって電圧
供給用トランジスタが不活性化されることに伴って内部
電源線に第2の電圧を供給し、各メモリセルの負荷を第
1の負荷に設定する抵抗とから成る。
Preferably, the voltage supply circuit included in the drive circuit of the static type semiconductor memory device includes an external power supply line to which an external power supply voltage is supplied, and an internal power supply connected to each high voltage node of the plurality of memory cells. And a second voltage connected between the external power supply line and the internal power supply line, for receiving the activation signal, supplying a second voltage to the internal power supply line, and setting the load of each memory cell to the second load. And a voltage supply transistor connected between the external power supply line and the internal power supply line in parallel with the voltage supply transistor of the conduction type. And a resistor for supplying a second voltage to the power supply line and setting the load of each memory cell to the first load.

【0040】電圧供給回路においては、活性化信号によ
って電圧供給用トランジスタが活性化されると、各メモ
リセルの負荷はスタティックノイズマージンが大きい第
2の負荷に設定され、不活性化信号によって電圧供給用
トランジスタが不活性化されると、各メモリセルの負荷
はスタティックノイズマージンの小さい第1の負荷に設
定される。
In the voltage supply circuit, when the voltage supply transistor is activated by the activation signal, the load of each memory cell is set to the second load having a large static noise margin, and the voltage supply is performed by the inactivation signal. When the use transistor is inactivated, the load of each memory cell is set to the first load having a small static noise margin.

【0041】したがって、この発明によれば、電圧供給
用トランジスタを選択的に活性化することによって各メ
モリセルのインバータ特性を切替えることができる。
Therefore, according to the present invention, the inverter characteristics of each memory cell can be switched by selectively activating the voltage supply transistor.

【0042】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路は、書込み信号の活性化に伴って第1の活
性化信号を生成し、書込み信号の不活性化に伴って第2
の活性化信号を生成する活性化信号生成回路と、複数の
メモリセルの各々にデータを書込むとき、第1の活性化
信号に基づいて第2の電圧を供給して各メモリセルの負
荷を第1の負荷に設定し、複数のメモリセルの各々から
データを読出すとき、第2の活性化信号に基づいて第2
の電圧を供給して各メモリセルの負荷を第2の負荷に設
定する電圧供給回路とを含む。
Preferably, the drive circuit of the static semiconductor memory device generates a first activation signal when the write signal is activated, and generates a second activation signal when the write signal is deactivated.
And an activation signal generating circuit for generating an activation signal for each of the plurality of memory cells. When writing data to each of the plurality of memory cells, a second voltage is supplied based on the first activation signal to reduce the load on each memory cell. When the first load is set and data is read from each of the plurality of memory cells, the second load is set based on the second activation signal.
And a voltage supply circuit for setting the load of each memory cell to the second load.

【0043】駆動回路は、書込み信号の活性化/不活性
化に同期して生成された第1の活性化信号/第2の活性
化信号によって、それぞれ、各メモリセルの負荷を第1
の負荷、第2の負荷に設定する。この場合、同じ第2の
電圧が各メモリセルに供給される。
The drive circuit applies a first activation signal / second activation signal generated in synchronization with activation / inactivation of the write signal to respectively load each memory cell into the first activation signal / second activation signal.
And the second load. In this case, the same second voltage is supplied to each memory cell.

【0044】したがって、この発明によれば、第1の活
性化信号によってスタティックノイズマージンが小さい
第1のインバータ特性に従って各メモリセルを駆動で
き、第2の活性化信号によってスタティックノイズマー
ジンが大きい第2のインバータ特性に従って各メモリセ
ルを駆動できる。
Therefore, according to the present invention, each memory cell can be driven in accordance with the first inverter characteristic having a small static noise margin by the first activation signal, and the second activation signal has a large static noise margin by the second activation signal. Each memory cell can be driven in accordance with the inverter characteristic of (1).

【0045】また、この発明によれば、同じ電圧を供給
し、負荷を変化させることによって各メモリセルのイン
バータ特性を切替えることができる。
Further, according to the present invention, it is possible to switch the inverter characteristics of each memory cell by supplying the same voltage and changing the load.

【0046】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路に含まれる電圧供給回路は、外部電源電圧
が供給される外部電源線と、複数のメモリセルの各々の
高電圧ノードに接続された内部電源線と、外部電源線と
内部電源線との間に接続され、第1の活性化信号を受け
て内部電源線に第2の電圧を供給し、各メモリセルの負
荷を第1の負荷に設定する第2の導電型の薄膜トランジ
スタと、外部電源線と内部電源線との間に薄膜トランジ
スタと並列接続され、第2の活性化信号を受けて内部電
源線に第2の電圧を供給し、各メモリセルの負荷を第2
の負荷に設定する第2の導電型の電圧供給用トランジス
タとから成る。
Preferably, the voltage supply circuit included in the drive circuit of the static semiconductor memory device includes an external power supply line to which an external power supply voltage is supplied, and an internal power supply connected to each high voltage node of the plurality of memory cells. Connected between the external power supply line and the internal power supply line, receiving the first activation signal, supplying a second voltage to the internal power supply line, and setting the load of each memory cell to the first load A second conductive type thin film transistor, and a thin film transistor connected in parallel between the external power supply line and the internal power supply line, and receiving a second activation signal to supply a second voltage to the internal power supply line; Cell load to 2nd
And a second conductivity type voltage supply transistor set to a load of

【0047】電圧供給回路においては、薄膜トランジス
タと電圧供給用トランジスタとを選択的に活性化させる
ことによって各メモリセルの負荷を第1の負荷または第
2の負荷に切替える。そうすると、各メモリセルは、第
1のインバータ特性または第2のインバータ特性に従っ
て駆動される。
In the voltage supply circuit, the load of each memory cell is switched to the first load or the second load by selectively activating the thin film transistor and the voltage supply transistor. Then, each memory cell is driven according to the first inverter characteristic or the second inverter characteristic.

【0048】したがって、この発明によれば、薄膜トラ
ンジスタをメモリセルの負荷を変化させる負荷として用
いることによってメモリセルのインバータ特性を切替え
ることができる。
Therefore, according to the present invention, the inverter characteristics of the memory cell can be switched by using the thin film transistor as a load for changing the load of the memory cell.

【0049】また、この発明によるスタティック型半導
体記憶装置は、第1のスタティックノイズマージンを有
する第1のインバータ特性または第1のスタティックノ
イズマージンよりも大きい第2のスタティックノイズマ
ージンを有する第2のインバータ特性に従って駆動され
る複数のメモリセルと、複数のメモリセルの各々にデー
タを書込むとき、供給される外部電源電圧に応じて第1
のインバータ特性または第2のインバータ特性に従って
複数のメモリセルの各々を駆動させる駆動回路とを備
え、複数のメモリセルの各々は、第1の導電型の第1の
駆動用トランジスタおよび第2の導電型の第1の負荷用
トランジスタからなる第1のインバータならびに第1の
導電型の第2の駆動用トランジスタおよび第2の導電型
の第2の負荷用トランジスタからなる第2のインバータ
を有するフリップフロップ回路と、第1のインバータの
出力ノードに接続される第1の導電型の第1のアクセス
トランジスタと、第2のインバータの出力ノードに接続
される第1の導電型の第2のアクセストランジスタとを
含む。
Further, the static semiconductor memory device according to the present invention has a first inverter characteristic having a first static noise margin or a second inverter having a second static noise margin larger than the first static noise margin. A plurality of memory cells driven in accordance with the characteristics, and when writing data to each of the plurality of memory cells, a first memory cell is supplied according to the supplied external power supply voltage.
And a driving circuit for driving each of the plurality of memory cells according to the inverter characteristic or the second inverter characteristic, wherein each of the plurality of memory cells includes a first driving transistor of the first conductivity type and a second conductive transistor. Inverter having a first load transistor of a first conductivity type and a second inverter having a second drive transistor of a first conductivity type and a second load transistor of a second conductivity type A circuit, a first access transistor of a first conductivity type connected to an output node of the first inverter, and a second access transistor of a first conductivity type connected to an output node of the second inverter; including.

【0050】この発明によるスタティック型半導体記憶
装置においては、各メモリセルに低い外部電源電圧が供
給されたとき、スタティックノイズマージンが大きいイ
ンバータ特性に従って各メモリセルが駆動され、高い外
部電源電圧が駆動されたときスタティックノイズマージ
ンが小さいインバータ特性に従って各メモリセルが駆動
される。
In the static semiconductor memory device according to the present invention, when a low external power supply voltage is supplied to each memory cell, each memory cell is driven according to an inverter characteristic having a large static noise margin, and a high external power supply voltage is driven. Then, each memory cell is driven according to the inverter characteristic having a small static noise margin.

【0051】したがって、この発明によれば、外部電源
電圧の低い領域においてはスタティックノイズマージン
が大きいためメモリセルからのデータの消失がなく、か
つ、データの書込みも容易に行なうことができる。ま
た、外部電源電圧の高い領域においてはスタティックノ
イズマージンが小さくなるため書込みマージンを十分に
取り、メモリセルからのデータの消失を防止できる。
Therefore, according to the present invention, the static noise margin is large in the region where the external power supply voltage is low, so that data is not lost from the memory cell and data can be written easily. Further, in a region where the external power supply voltage is high, the static noise margin becomes small, so that a sufficient write margin is provided, and loss of data from the memory cell can be prevented.

【0052】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路は、第1の駆動用トランジスタと第1のア
クセストランジスタとのインバータ特性、または第2の
駆動用トランジスタと第2のアクセストランジスタとの
インバータ特性が消滅する下限電圧よりも高い外部電源
電圧が供給されたとき、複数のメモリセルの各々を第1
のインバータ特性に従って駆動し、下限電圧以下の外部
電源電圧が供給されたとき、複数のメモリセルの各々を
第2のインバータ特性に従って駆動する。
Preferably, the drive circuit of the static semiconductor memory device has an inverter characteristic between the first drive transistor and the first access transistor or an inverter characteristic between the second drive transistor and the second access transistor. When an external power supply voltage higher than the lower limit voltage at which the power supply disappears is supplied, each of the plurality of memory cells
And when an external power supply voltage equal to or lower than the lower limit voltage is supplied, each of the plurality of memory cells is driven according to the second inverter characteristic.

【0053】2つの同じ導電型のトランジスタによるイ
ンバータ特性が消滅する下限電圧を基準にして、外部電
源電圧が下限電圧以下の領域ではスタティックノイズマ
ージンの大きいインバータ特性に従って各メモリセルを
駆動させ、外部電源電圧が下限電圧よりも高い領域では
スタティックノイズマージンの小さいインバータ特性に
従って各メモリセルを駆動させる。
Based on the lower limit voltage at which the inverter characteristics of two transistors of the same conductivity type disappear, in the region where the external power supply voltage is lower than the lower limit voltage, each memory cell is driven in accordance with the inverter characteristics having a large static noise margin. In a region where the voltage is higher than the lower limit voltage, each memory cell is driven according to the inverter characteristic having a small static noise margin.

【0054】したがって、この発明によれば、メモリセ
ルの動作電圧が下限電圧を挟んで両方向にシフトしても
安定してデータの書込みおよび読出しを行なうことがで
きる。
Therefore, according to the present invention, data writing and reading can be performed stably even when the operating voltage of the memory cell shifts in both directions with the lower limit voltage therebetween.

【0055】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路は、書込み信号の活性化に伴って、下限電
圧よりも高い外部電源電圧が供給されたとき、複数のメ
モリセルの各々を第1のインバータ特性に従って駆動さ
せるための第1の電圧を出力し、下限電圧以下の外部電
源電圧が供給されたとき、複数のメモリセルの各々を第
2のインバータ特性に従って動作させるための第2の電
圧を出力する外部電源電圧制御回路を含む。
Preferably, the drive circuit of the static type semiconductor memory device, when an external power supply voltage higher than the lower limit voltage is supplied along with activation of the write signal, causes each of the plurality of memory cells to be connected to the first inverter. Outputting a first voltage for driving according to the characteristic, and outputting a second voltage for operating each of the plurality of memory cells according to the second inverter characteristic when an external power supply voltage equal to or lower than the lower limit voltage is supplied; External power supply voltage control circuit.

【0056】駆動回路の外部電源電圧制御回路は、書込
み信号が活性化されると、供給される外部電源電圧に応
じて異なる電圧を各メモリセルへ出力する。つまり、外
部電源電圧制御回路は、下限電圧よりも高い外部電源電
圧が供給されたとき第1の電圧を各メモリセルへ出力
し、下限電圧以下の外部電源電圧が供給されたとき第2
の電圧を各メモリセルへ出力する。そうすると、各メモ
リセルは、第1の電圧が供給されたときスタティックノ
イズマージンが小さい第1のインバータ特性に従って駆
動され、第2の電圧が供給されたときスタティックノイ
ズマージンが大きい第2のインバータ特性に従って駆動
される。また、下限電圧以下の外部電源電圧が供給され
たとき、第1の導電型の2つのトランジスタによるイン
バータ特性は消滅するが、第1の導電型の第1の駆動用
トランジスタと第2の導電型の第1の負荷用トランジス
タとのインバータ特性または第1の導電型の第2の駆動
用トランジスタと第2の導電型の第2の負荷用トランジ
スタとのインバータ特性は消滅しない。
When the write signal is activated, the external power supply voltage control circuit of the drive circuit outputs a different voltage to each memory cell according to the supplied external power supply voltage. That is, the external power supply voltage control circuit outputs the first voltage to each memory cell when the external power supply voltage higher than the lower limit voltage is supplied, and outputs the second voltage when the external power supply voltage equal to or lower than the lower limit voltage is supplied.
Is output to each memory cell. Then, each memory cell is driven according to the first inverter characteristic having a small static noise margin when the first voltage is supplied, and according to the second inverter characteristic having a large static noise margin when the second voltage is supplied. Driven. Also, when an external power supply voltage equal to or lower than the lower limit voltage is supplied, the inverter characteristics of the two transistors of the first conductivity type disappear, but the first driving transistor of the first conductivity type and the second driving type are not. The inverter characteristic of the first load transistor or the inverter characteristic of the first conductive type second driving transistor and the second conductive type second load transistor does not disappear.

【0057】したがって、この発明によれば、外部電源
電圧が低下し、動作電圧が低くなっても安定してデータ
の読出し、および書込みができる。
Therefore, according to the present invention, data can be read and written stably even when the external power supply voltage decreases and the operating voltage decreases.

【0058】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路は、書込み信号が活性化される期間よりも
短い期間、第1のインバータ特性に従って複数のメモリ
セルの各々を駆動させる。
Preferably, the drive circuit of the static semiconductor memory device drives each of the plurality of memory cells according to the first inverter characteristic during a period shorter than a period during which the write signal is activated.

【0059】駆動回路は、書込み信号が活性化されてい
る期間よりも短い期間、スタティックノイズマージンが
小さい第1のインバータ特性に従って各メモリセルを駆
動する。
The drive circuit drives each memory cell according to the first inverter characteristic having a small static noise margin during a period shorter than the period during which the write signal is activated.

【0060】したがって、この発明によれば、書込みマ
ージンの大きい低消費電力のスタティック型半導体記憶
装置を実現できる。
Therefore, according to the present invention, a low power consumption static semiconductor memory device having a large write margin can be realized.

【0061】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路は、書込み信号の活性化に伴ってデータが
メモリセルに書込まれる期間だけ、第1のインバータ特
性に従って複数のメモリセルの各々を駆動させる。
Preferably, the drive circuit of the static semiconductor memory device drives each of the plurality of memory cells according to the first inverter characteristic only during a period in which data is written to the memory cells in response to activation of the write signal. .

【0062】駆動回路は、書込み信号が活性化される期
間よりも短い実際にデータの書込み動作が行われる期間
のみ、スタティックノイズマージンが小さい第1のイン
バータ特性に従って各メモリセルを駆動する。
The drive circuit drives each memory cell according to the first inverter characteristic having a small static noise margin only during a period in which a data write operation is actually performed, which is shorter than a period during which a write signal is activated.

【0063】したがって、この発明によれば、書込みマ
ージンが大きく、かつ、さらに低消費電力のスタティッ
ク型半導体記憶装置を実現できる。
Therefore, according to the present invention, a static semiconductor memory device having a large write margin and lower power consumption can be realized.

【0064】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の複数のメモリセルは複数のブロックに分割され、駆
動回路は、複数のブロックに対応して設けられる。
Preferably, a plurality of memory cells of the static semiconductor memory device are divided into a plurality of blocks, and a driving circuit is provided corresponding to the plurality of blocks.

【0065】複数のメモリセルは、複数のブロックに分
割され、その分割された各ブロックに対応するよう駆動
回路が設けられる。そして、各駆動回路は、対応するブ
ロックに含まれる複数のメモリセルを、データの書込み
時は第1のインバータ特性に従って動作させ、データの
読出し時は第2のインバータ特性に従って動作させる。
The plurality of memory cells are divided into a plurality of blocks, and a driving circuit is provided corresponding to each of the divided blocks. Each drive circuit operates a plurality of memory cells included in the corresponding block according to the first inverter characteristic when writing data, and according to the second inverter characteristic when reading data.

【0066】したがって、この発明によれば、各ブロッ
クごとにデータの読出し、およびマージンの大きいデー
タの書込みを行なうことができる。
Therefore, according to the present invention, data can be read for each block and data with a large margin can be written.

【0067】好ましくは、スタティック型半導体記憶装
置の駆動回路は、対応するブロックを選択するブロック
選択信号の活性化に伴って第1の電圧を対応するブロッ
クに含まれる複数のメモリセルに供給する。
Preferably, the drive circuit of the static semiconductor memory device supplies the first voltage to a plurality of memory cells included in the corresponding block in response to activation of a block selection signal for selecting the corresponding block.

【0068】各ブロックに対応して設けられた各駆動回
路は、対応するブロックが選択されると、そのブロック
に第1の電圧を供給し、そのブロックに含まれる複数の
メモリセルを第1のインバータ特性に従って駆動する。
Each drive circuit provided corresponding to each block supplies a first voltage to the block when the corresponding block is selected, and a plurality of memory cells included in the block are supplied to the first circuit. Drive according to inverter characteristics.

【0069】したがって、この発明によれば、データの
書込み時、各ブロックに含まれる複数のメモリセルを正
確に第1のインバータ特性に従って駆動できる。
Therefore, according to the present invention, at the time of writing data, a plurality of memory cells included in each block can be accurately driven according to the first inverter characteristic.

【0070】[0070]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について図面
を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一または
相当部分には同一符号を付してその説明は繰返さない。
Embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding portions have the same reference characters allotted, and description thereof will not be repeated.

【0071】[実施の形態1]図1を参照して、この発
明の実施の形態1によるスタティック型半導体記憶装置
100は、外部電源線5と、内部電源線6と、行アドレ
スバッファ10と、列アドレスバッファ20と、行アド
レスデコーダ30と、列アドレスデコーダ40と、読出
/書込バッファ50と、ワード線ドライバ60と、駆動
回路70と、書込ドライバ80と、センスアンプ90
と、列選択スイッチ110と、メモリセル121〜12
4と、入出力バッファ130と、PチャネルMOSトラ
ンジスタ141〜144とを備える。また、駆動回路7
0は、インバータ71と、電圧供給回路72とを含む。
[First Embodiment] Referring to FIG. 1, a static semiconductor memory device 100 according to a first embodiment of the present invention includes an external power supply line 5, an internal power supply line 6, a row address buffer 10, Column address buffer 20, row address decoder 30, column address decoder 40, read / write buffer 50, word line driver 60, drive circuit 70, write driver 80, sense amplifier 90
, Column selection switch 110, and memory cells 121 to 12
4, an input / output buffer 130, and P-channel MOS transistors 141 to 144. The driving circuit 7
0 includes an inverter 71 and a voltage supply circuit 72.

【0072】外部電源線5は、入出力端子から入力され
た外部電源電圧を駆動回路70の電圧供給回路72へ供
給する。内部電源線6は、電圧供給回路72から出力さ
れた電圧をメモリセル121〜124へ供給する。
The external power supply line 5 supplies the external power supply voltage input from the input / output terminal to the voltage supply circuit 72 of the drive circuit 70. Internal power supply line 6 supplies the voltage output from voltage supply circuit 72 to memory cells 121-124.

【0073】行アドレスバッファ10は、入出力端子か
ら入力された行アドレス信号を行アドレスデコーダ30
へ出力する。列アドレスバッファ20は、入出力端子か
ら入力された列アドレス信号を列アドレスデコーダ40
へ出力する。
The row address buffer 10 converts a row address signal input from an input / output terminal into a row address decoder 30.
Output to The column address buffer 20 converts a column address signal input from an input / output terminal into a column address decoder 40.
Output to

【0074】行アドレスデコーダ30は、入力された行
アドレス信号をデコードし、ワード線ドライバ60へ出
力する。列アドレスデコーダ40は、入力された列アド
レス信号をデコードし、列選択スイッチ110へ出力す
る。
The row address decoder 30 decodes the input row address signal and outputs it to the word line driver 60. The column address decoder 40 decodes the input column address signal and outputs it to the column selection switch 110.

【0075】読出/書込バッファ50は、入出力端子か
ら入力された読出/書込制御信号を駆動回路70のイン
バータ71、書込ドライバ80、およびセンスアンプ9
0へ出力する。
The read / write buffer 50 receives the read / write control signal input from the input / output terminal to drive the inverter 71 of the drive circuit 70, the write driver 80, and the sense amplifier 9
Output to 0.

【0076】ワード線ドライバ60は、行アドレスデコ
ーダ30からの行アドレスに対応する行のワード線をH
レベルに引き上げる。インバータ71は、データの書込
み時、Lレベルの読出/書込制御信号/WEを反転した
内部書込信号WEiを電圧供給回路72へ出力する。電
圧供給回路72は、内部書込信号WEiに基づいて、後
述する方法により異なる電圧を内部電源線6へ出力す
る。
The word line driver 60 sets the word line of the row corresponding to the row address from the row address decoder 30 to H.
Raise to the level. Inverter 71 outputs an internal write signal WEi obtained by inverting L-level read / write control signal / WE to voltage supply circuit 72 when writing data. Voltage supply circuit 72 outputs a different voltage to internal power supply line 6 based on internal write signal WEi by a method described later.

【0077】書込ドライバ80は、読出/書込バッファ
50からのL(論理ロー)レベルの読出/書込制御信号
によって活性化され、列選択スイッチ110によって接
続されたビット線対BL1,/BL1、BL2,/BL
2、・・・へセンスアンプ90によって増幅されたデー
タを書込む。
Write driver 80 is activated by an L (logic low) level read / write control signal from read / write buffer 50, and a pair of bit lines BL1, / BL1 connected by column select switch 110. , BL2, / BL
Write the data amplified by the sense amplifier 90 to 2,.

【0078】センスアンプ90は、読出/書込バッファ
50からの読出/書込制御信号によって活性化される。
そして、センスアンプ90は、データの読出し時、列選
択スイッチ110によって接続されたビット線対BL
1,/BL1、BL2,/BL2、・・・上の出力信号
を増幅して入出力バッファ130へ出力する。また、セ
ンスアンプ90は、データの書込み時、入出力バッファ
130からのデータを増幅し、入出力バッファ130を
介して書込ドライバ80へ出力する。
Sense amplifier 90 is activated by a read / write control signal from read / write buffer 50.
When data is read, sense amplifier 90 connects bit line pair BL connected by column selection switch 110.
, And amplify the output signals on and output to the input / output buffer 130. When writing data, the sense amplifier 90 amplifies data from the input / output buffer 130 and outputs the amplified data to the write driver 80 via the input / output buffer 130.

【0079】列選択スイッチ110は、列アドレスデコ
ーダ40からの列アドレスに対応する列のビット線対B
L1,/BL1、BL2,/BL2、・・・を書込ドラ
イバ80またはセンスアンプ90と接続する。
The column selection switch 110 is connected to the bit line pair B of the column corresponding to the column address from the column address decoder 40.
, L1, / BL1, BL2, / BL2,... Are connected to the write driver 80 or the sense amplifier 90.

【0080】メモリセル121〜124は、記憶情報に
対応する論理値「0」または「1」が記憶される。入出
力バッファ130は、データの書込み時、入出力端子か
らのデータをセンスアンプ90へ出力し、センスアンプ
90で増幅されたデータを書込ドライバ80へ出力す
る。また、入出力バッファ130は、データの読出し
時、センスアンプ90で増幅されたデータを入出力端子
へ出力する。
The memory cells 121 to 124 store a logical value “0” or “1” corresponding to storage information. The input / output buffer 130 outputs data from an input / output terminal to the sense amplifier 90 when writing data, and outputs data amplified by the sense amplifier 90 to the write driver 80. When reading data, the input / output buffer 130 outputs the data amplified by the sense amplifier 90 to the input / output terminal.

【0081】PチャネルMOSトランジスタ141〜1
44は、常時オンにされ、対応するビット線対BL1,
/BL1、BL2,/BL2、・・・へ外部電源電圧を
供給する。
P channel MOS transistors 141-1
44 is always turned on and the corresponding bit line pair BL1,
/ BL1, BL2, / BL2,... Are supplied with an external power supply voltage.

【0082】図2を参照して、電圧供給回路72は、P
チャネルMOSトランジスタ720と、NチャネルMO
Sトランジスタ721と、電源電圧ノード722とを備
える。電源電圧ノード722は外部電源線5に接続され
る。PチャネルMOSトランジスタ720とNチャネル
MOSトランジスタ721とは、外部電源線と内部電源
線6との間に並列接続される。また、PチャネルMOS
トランジスタ720とNチャネルMOSトランジスタ7
21は、内部書込信号WEiをゲート端子に受ける。
Referring to FIG. 2, voltage supply circuit 72
Channel MOS transistor 720 and N-channel MO
An S transistor 721 and a power supply voltage node 722 are provided. Power supply voltage node 722 is connected to external power supply line 5. P-channel MOS transistor 720 and N-channel MOS transistor 721 are connected in parallel between an external power supply line and internal power supply line 6. Also, P-channel MOS
Transistor 720 and N-channel MOS transistor 7
21 receives internal write signal WEi at its gate terminal.

【0083】メモリセル121〜124へのデータの書
込み時、Lレベルの読出/書込制御信号/WEが読出/
書込バッファ50から駆動回路70のインバータ71へ
入力されると、インバータ71は、Lレベルの読出/書
込制御信号/WEを反転したH(論理ハイ)レベルの内
部書込信号WEiを出力する。そうすると、Pチャネル
MOSトランジスタ720およびNチャネルMOSトラ
ンジスタ721は、Hレベルの内部書込信号WEiをゲ
ート端子に受け、PチャネルMOSトランジスタ720
はオフされ、NチャネルMOSトランジスタ721はオ
ンされる。そして、NチャネルMOSトランジスタ72
1は、外部電源電圧VCCよりもNチャネルMOSトラ
ンジスタ721のしきい値VTH分だけ低い電圧VCC
−VTHを内部電源線6へ出力する。
When data is written to memory cells 121 to 124, read / write control signal / WE at L level is read /
When input from write buffer 50 to inverter 71 of drive circuit 70, inverter 71 outputs an internal write signal WEi at H (logical high) level obtained by inverting read / write control signal / WE at L level. . Then, P-channel MOS transistor 720 and N-channel MOS transistor 721 receive the internal write signal WEi at the H level at the gate terminal, and receive P-channel MOS transistor 720.
Is turned off, and N-channel MOS transistor 721 is turned on. Then, N-channel MOS transistor 72
1 is a voltage VCC lower than the external power supply voltage VCC by the threshold value VTH of the N-channel MOS transistor 721.
-VTH is output to the internal power supply line 6.

【0084】メモリセル121〜124は、図23に示
すフルCMOS型のメモリセルである。内部電源線6
は、フルCMOS型のメモリセルの電源ノード1と接続
されているため、内部電源線6へ出力された電圧VCC
−VTHは、メモリセル121〜124の電源ノード1
へ供給される。そうすると、負荷であるPチャネルMO
Sトランジスタ7a,7bに電圧VCC−VTHが供給
されるため、メモリセル121〜124は、図21に示
すインバータ特性に従って駆動される。
The memory cells 121 to 124 are full CMOS type memory cells shown in FIG. Internal power line 6
Is connected to the power supply node 1 of the full CMOS type memory cell, the voltage VCC output to the internal power supply line 6
-VTH is the power supply node 1 of the memory cells 121 to 124
Supplied to Then, the load, P-channel MO
Since the voltage VCC-VTH is supplied to the S transistors 7a and 7b, the memory cells 121 to 124 are driven according to the inverter characteristics shown in FIG.

【0085】一方、メモリセル121〜124からのデ
ータの読出し時、読出/書込バッファ50は、Hレベル
の読出/書込制御信号/WEを駆動回路70のインバー
タ71へ出力するため、インバータ71は、Lレベルの
内部書込信号WEiを出力する。そうすると、Pチャネ
ルMOSトランジスタ720およびNチャネルMOSト
ランジスタ721は、Lレベルの内部書込信号WEiを
ゲート端子に受け、PチャネルMOSトランジスタ72
0はオンされ、NチャネルMOSトランジスタ721は
オフされる。そして、PチャネルMOSトランジスタ7
20は、外部電源電圧VCCを内部電源線6へ出力す
る。
On the other hand, when reading data from memory cells 121 to 124, read / write buffer 50 outputs read / write control signal / WE at H level to inverter 71 of drive circuit 70. Outputs an L level internal write signal WEi. Then, P-channel MOS transistor 720 and N-channel MOS transistor 721 receive L-level internal write signal WEi at the gate terminal, and receive P-channel MOS transistor 72.
0 is turned on, and the N-channel MOS transistor 721 is turned off. Then, the P-channel MOS transistor 7
20 outputs the external power supply voltage VCC to the internal power supply line 6.

【0086】そして、メモリセル121〜124の電源
ノード1に外部電源電圧VCCが供給されるため、メモ
リセル121〜124は、図24に示すインバータ特性
に従って駆動される。
Since external power supply voltage VCC is supplied to power supply node 1 of memory cells 121 to 124, memory cells 121 to 124 are driven according to the inverter characteristics shown in FIG.

【0087】したがって、電圧供給回路72は、内部書
込信号WEiに基づいて、データの書込み時、電圧VC
C−VTHをメモリセル121〜124の電源ノード1
へ供給し、データの読出し時、外部電源電圧VCCを電
源ノード1へ供給する。そして、メモリセル121〜1
24は、電圧VCC−VTHに応じてスタティックノイ
ズマージンSNMが小さいインバータ特性に従って駆動
され、電圧VCCに応じてスタティックノイズマージン
SNMが大きいインバータ特性に従って駆動される。そ
の結果、データの書込み時は、スタティックノイズマー
ジンSNMが小さくなり、書込みマージンが大きくな
る。
Therefore, voltage supply circuit 72 supplies voltage VC when writing data based on internal write signal WEi.
C-VTH is the power supply node 1 of the memory cells 121 to 124
To supply the external power supply voltage VCC to the power supply node 1 when data is read. Then, the memory cells 121 to 1
24 is driven according to an inverter characteristic having a small static noise margin SNM according to the voltage VCC-VTH, and driven according to an inverter characteristic having a large static noise margin SNM according to the voltage VCC. As a result, at the time of writing data, the static noise margin SNM becomes smaller and the write margin becomes larger.

【0088】なお、駆動回路70のインバータ71は、
PチャネルMOSトランジスタ720とNチャネルMO
Sトランジスタ721とを選択的に活性化させるLレベ
ルの内部書込信号WEi、Hレベルの内部書込信号WE
iを生成するため、本発明において活性化信号生成回路
を構成する。
Note that the inverter 71 of the drive circuit 70
P channel MOS transistor 720 and N channel MO
L-level internal write signal WE for selectively activating S transistor 721 and H-level internal write signal WE
In order to generate i, an activation signal generation circuit is configured in the present invention.

【0089】再び、図1を参照して、メモリセル121
〜124からのデータの読出し動作/へのデータの書込
み動作について説明する。読出し動作においては、半導
体記憶装置100に入出力端子を介して外部からアドレ
ス信号およびHレベルの読出/書込制御信号が入力され
る。行アドレスバッファ10は、入力された行アドレス
信号を行アドレスデコーダ30へ出力し、行アドレスデ
コーダ30は行アドレス信号をデコードしてワード線ド
ライバ60へ出力する。そして、ワード線ドライバ60
は、行アドレスに対応するワード線をHレベルに引き上
げる。
Referring again to FIG. 1, memory cell 121
The operation of reading / writing data from / to 124 will be described. In the read operation, an address signal and an H-level read / write control signal are externally input to semiconductor memory device 100 via input / output terminals. Row address buffer 10 outputs the input row address signal to row address decoder 30, and row address decoder 30 decodes the row address signal and outputs the decoded signal to word line driver 60. Then, the word line driver 60
Raises the word line corresponding to the row address to the H level.

【0090】列アドレスバッファ20は、入力された列
アドレス信号を列アドレスデコーダ40へ出力し、列ア
ドレスデコーダ40は列アドレス信号をデコードして列
選択スイッチ110へ出力する。そして、列選択スイッ
チ110は、列アドレスに対応するビット線対BL1,
/BL1、BL2,/BL2、・・・をセンスアンプ9
0と接続する。
The column address buffer 20 outputs the input column address signal to the column address decoder 40. The column address decoder 40 decodes the column address signal and outputs it to the column selection switch 110. Then, the column selection switch 110 controls the bit line pair BL1, BL1,
, / BL1, BL2, / BL2,.
Connect to 0.

【0091】一方、読出/書込バッファ50は、Hレベ
ルの読出/書込制御信号を駆動回路70のインバータ7
1へ出力し、インバータ71はLレベルの内部書込信号
WEiを電圧供給回路72へ出力する。そうすると、電
圧供給回路72は、上述した方法によって外部電源電圧
VCCを内部電源線6を介してメモリセル121〜12
4へ供給する。そして、メモリセル121〜124のう
ち、Hレベルに引き上げられたワード線と、列選択スイ
ッチ110によってセンスアンプ90に接続されたビッ
ト線対BL1,/BL1、BL2,/BL2、・・・と
につながったメモリセルは、スタティックノイズマージ
ンSNMの大きいインバータ特性に従って駆動され、記
憶されたデータに対応する出力信号を出力する。
On the other hand, read / write buffer 50 supplies an H level read / write control signal to inverter 7 of drive circuit 70.
1, and the inverter 71 outputs the L level internal write signal WEi to the voltage supply circuit 72. Then, voltage supply circuit 72 applies external power supply voltage VCC via internal power supply line 6 to memory cells 121 to 12 by the above-described method.
Supply to 4. Then, among the memory cells 121 to 124, the word line raised to the H level and the bit line pair BL1, / BL1, BL2, / BL2,... Connected to the sense amplifier 90 by the column selection switch 110 are connected. The connected memory cells are driven according to an inverter characteristic having a large static noise margin SNM, and output an output signal corresponding to stored data.

【0092】センスアンプ90は、出力された出力信号
を増幅して入出力バッファ130へ出力する。そして、
入出力バッファ130はデータを入出力端子を介して外
部へ出力する。
The sense amplifier 90 amplifies the output signal output and outputs the amplified output signal to the input / output buffer 130. And
The input / output buffer 130 outputs data to the outside via an input / output terminal.

【0093】書込み動作においては、半導体記憶装置1
00に入出力端子を介して外部からアドレス信号および
Lレベルの読出/書込制御信号が入力される。行アドレ
スバッファ10は、入力された行アドレス信号を行アド
レスデコーダ30へ出力し、行アドレスデコーダ30は
行アドレス信号をデコードしてワード線ドライバ60へ
出力する。そして、ワード線ドライバ60は、行アドレ
スに対応するワード線をHレベルに引き上げる。
In the write operation, the semiconductor memory device 1
At 00, an address signal and an L-level read / write control signal are externally input via an input / output terminal. Row address buffer 10 outputs the input row address signal to row address decoder 30, and row address decoder 30 decodes the row address signal and outputs the decoded signal to word line driver 60. Then, the word line driver 60 raises the word line corresponding to the row address to the H level.

【0094】列アドレスバッファ20は、入力された列
アドレス信号を列アドレスデコーダ40へ出力し、列ア
ドレスデコーダ40は列アドレス信号をデコードして列
選択スイッチ110へ出力する。そして、列選択スイッ
チ110は、列アドレスに対応するビット線対BL1,
/BL1、BL2,/BL2、・・・を書込ドライバ8
0と接続する。
Column address buffer 20 outputs the input column address signal to column address decoder 40, and column address decoder 40 decodes the column address signal and outputs it to column selection switch 110. Then, the column selection switch 110 controls the bit line pair BL1, BL1,
.. / BL1, BL2, / BL2,.
Connect to 0.

【0095】一方、読出/書込バッファ50は、Lレベ
ルの読出/書込制御信号を駆動回路70のインバータ7
1へ出力し、インバータ71はHレベルの内部書込信号
WEiを電圧供給回路72へ出力する。そうすると、電
圧供給回路72は、上述した方法によって外部電源電圧
VCC−VTHを内部電源線6を介してメモリセル12
1〜124へ供給する。そして、メモリセル121〜1
24のうち、Hレベルに引き上げられたワード線と、列
選択スイッチ110によって書込ドライバ80に接続さ
れたビット線対BL1,/BL1、BL2,/BL2、
・・・とにつながったメモリセルは、スタティックノイ
ズマージンSNMの小さいインバータ特性に従って駆動
される。
On the other hand, read / write buffer 50 supplies an L level read / write control signal to inverter 7 of drive circuit 70.
1, and the inverter 71 outputs the internal write signal WEi at the H level to the voltage supply circuit 72. Then, voltage supply circuit 72 applies external power supply voltage VCC-VTH to memory cell 12 via internal power supply line 6 by the method described above.
1 to 124. Then, the memory cells 121 to 1
24, the pair of bit lines BL1, / BL1, BL2, / BL2, connected to the write driver 80 by the column selection switch 110 and the word line raised to the H level.
Are driven according to the inverter characteristic having a small static noise margin SNM.

【0096】入出力バッファ130は、入出力端子を介
して入力したデータをセンスアンプ90へ出力し、増幅
されたデータをセンスアンプ90から受け取る。そし
て、入出力バッファ130は、増幅されたデータを書込
ドライバ80へ出力する。そうすると、書込ドライバ8
0は、入力したデータを列選択スイッチ110によって
接続されたビット線対BL1,/BL1、BL2,/B
L2、・・・へ書込む。そして、データが書込まれたビ
ット線対BL1,/BL1、BL2,/BL2、・・・
につながったメモリセルは、小さいスタティックノイズ
マージンSNMを有するインバータ特性に従って駆動さ
れているため、ビット線対BL1,/BL1、BL2,
/BL2、・・・上のデータはメモリセルに容易に書込
まれる。
The input / output buffer 130 outputs data input via the input / output terminal to the sense amplifier 90, and receives amplified data from the sense amplifier 90. Then, the input / output buffer 130 outputs the amplified data to the write driver 80. Then, the write driver 8
0 indicates that the input data is a bit line pair BL1, / BL1, BL2, / B connected by the column selection switch 110.
Write to L2, ... Then, the bit line pairs BL1, / BL1, BL2, / BL2,.
Are driven in accordance with the inverter characteristic having a small static noise margin SNM, the bit line pair BL1, / BL1, BL2
The data on / BL2,... Is easily written to the memory cells.

【0097】実施の形態1によれば、スタティック型半
導体記憶装置100は、データの書込み時、小さいスタ
ティックノイズマージンSNMを有するインバータ特性
に従ってメモリセルを駆動するための電圧VCC−VT
Hをメモリセルに供給し、データの読出し時、大きいス
タティックノイズマージンSNMを有するインバータ特
性に従ってメモリセルを駆動するための電圧VCCをメ
モリセルに供給するので、メモリセルを安定に駆動し、
かつ、データの書込みマージンを大きくできる。
According to the first embodiment, at the time of writing data, static semiconductor memory device 100 has a voltage VCC-VT for driving a memory cell according to an inverter characteristic having a small static noise margin SNM.
H is supplied to the memory cell, and at the time of data reading, the voltage VCC for driving the memory cell is supplied to the memory cell in accordance with the inverter characteristic having a large static noise margin SNM.
In addition, the data write margin can be increased.

【0098】[実施の形態2]実施の形態2によるスタ
ティック型半導体記憶装置200は、図1に示すスタテ
ィック型半導体記憶装置100の電圧供給回路72を電
圧供給回路73に代えたものであり、その他は実施の形
態1と同じである。
[Second Embodiment] A static semiconductor memory device 200 according to a second embodiment differs from the static semiconductor memory device 100 shown in FIG. 1 in that the voltage supply circuit 72 is replaced with a voltage supply circuit 73. Is the same as in the first embodiment.

【0099】図3を参照して、電圧供給回路73は、電
圧供給回路72のNチャネルMOSトランジスタ722
を高抵抗な抵抗731に代えたものである。抵抗731
はテラ(T)Ωオーダーの抵抗値を有する。
Referring to FIG. 3, voltage supply circuit 73 includes N-channel MOS transistor 722 of voltage supply circuit 72.
Is replaced by a high-resistance resistor 731. Resistance 731
Has a resistance value on the order of tera (T) Ω.

【0100】メモリセル121〜124へのデータの書
込み時、PチャネルMOSトランジスタ720はHレベ
ルの内部書込信号WEiをゲート端子に受けてオフされ
る。そうすると、抵抗731は、外部電源線5上の外部
電源電圧VCCを殆ど降圧せずに、電圧VCCを内部電
源線6へ出力する。そして、メモリセル121〜124
は、電圧VCCを電源ノード1に受ける。この場合、メ
モリセル121〜124は、図24に示す大きなスタテ
ィックノイズマージンSNMを有するインバータ特性で
はなく、図21に示す小さいスタティックノイズマージ
ンSNMを有するインバータ特性に従って駆動される。
電圧供給回路73が抵抗731によって電圧VCCをメ
モリセル121〜124へ供給するとき、メモリセル1
21〜124の負荷であるPチャネルMOSトランジス
タ7a,7bと抵抗731とは直列に接続されたことに
なり、メモリセル121〜124は、実質的には図20
に示す高抵抗負荷型のメモリセルと同じように駆動され
る。したがって、この場合、メモリセル121〜124
は、図21に示す小さいスタティックノイズマージンS
NMを有するインバータ特性に従って駆動される。
At the time of writing data to memory cells 121 to 124, P channel MOS transistor 720 receives an H level internal write signal WEi at its gate terminal and is turned off. Then, the resistor 731 outputs the voltage VCC to the internal power supply line 6 without substantially reducing the external power supply voltage VCC on the external power supply line 5. Then, the memory cells 121 to 124
Receives voltage VCC at power supply node 1. In this case, the memory cells 121 to 124 are driven according to the inverter characteristics having a small static noise margin SNM shown in FIG. 21 instead of the inverter characteristics having a large static noise margin SNM shown in FIG.
When the voltage supply circuit 73 supplies the voltage VCC to the memory cells 121 to 124 by the resistor 731, the memory cell 1
Since the P-channel MOS transistors 7a and 7b, which are loads of 21 to 124, and the resistor 731 are connected in series, the memory cells 121 to 124 substantially have the configuration shown in FIG.
Are driven in the same manner as the high resistance load type memory cell shown in FIG. Therefore, in this case, the memory cells 121 to 124
Is a small static noise margin S shown in FIG.
It is driven according to the inverter characteristics having NM.

【0101】一方、メモリセル121〜124からのデ
ータの読出し時、PチャネルMOSトランジスタ720
はLレベルの内部書込信号WEiをゲート端子に受けて
オンされる。そうすると、PチャネルMOSトランジス
タ720の抵抗は非常に小さいので、PチャネルMOS
トランジスタ720は電圧VCCを内部電源線6へ出力
する。そして、メモリセル121〜124は、電圧VC
Cを電源ノード1に受け、図24に示す大きなスタティ
ックノイズマージンSNMを有するインバータ特性に従
って駆動される。この場合、メモリセル121〜124
の負荷であるPチャネルMOSトランジスタ7a,7b
に直列に接続される抵抗は、電圧供給回路73のPチャ
ネルMOSトランジスタ720の非常に小さい抵抗であ
るため、メモリセル121〜124は、図24に示す大
きなスタティックノイズマージンSNMを有するインバ
ータ特性に従って駆動される。
In reading data from memory cells 121 to 124, on the other hand, P-channel MOS transistor 720
Is turned on in response to a low level internal write signal WEi received at the gate terminal. Then, since the resistance of P-channel MOS transistor 720 is very small,
Transistor 720 outputs voltage VCC to internal power supply line 6. The memory cells 121 to 124 are connected to the voltage VC
C is received by power supply node 1 and driven according to the inverter characteristics having a large static noise margin SNM shown in FIG. In this case, the memory cells 121 to 124
P-channel MOS transistors 7a and 7b which are loads of
Are connected in series with each other, the memory cells 121 to 124 are driven according to the inverter characteristic having a large static noise margin SNM shown in FIG. 24 since the resistance of the P-channel MOS transistor 720 of the voltage supply circuit 73 is very small. Is done.

【0102】このように実施の形態2においては、電圧
供給回路73からメモリセル121〜124へ同じ電圧
VCCが供給されるが、メモリセル121〜124は、
異なるインバータ特性に従って駆動される。つまり、デ
ータの書込み時、電圧供給回路73は、抵抗731をメ
モリセル121〜124と直列に接続してメモリセル1
21〜124の負荷を小さいスタティックノイズマージ
ンSNMを有するインバータ特性に従って駆動するため
の負荷に設定する。一方、データの読出し時、電圧供給
回路73は、抵抗が非常に小さいPチャネルMOSトラ
ンジスタ720をメモリセル121〜124と直列に接
続してメモリセル121〜124の負荷を大きいスタテ
ィックノイズマージンSNMを有するインバータ特性に
従って駆動するための負荷に設定する。
As described above, in the second embodiment, the same voltage VCC is supplied from voltage supply circuit 73 to memory cells 121 to 124.
Driven according to different inverter characteristics. That is, when writing data, the voltage supply circuit 73 connects the resistor 731 in series with the memory cells 121 to 124 to connect the memory cell 1 to the memory cell 1.
The loads 21 to 124 are set as loads for driving according to the inverter characteristics having a small static noise margin SNM. On the other hand, at the time of data reading, voltage supply circuit 73 has a static noise margin SNM in which the load on memory cells 121 to 124 is large by connecting P-channel MOS transistor 720 having a very small resistance in series with memory cells 121 to 124. Set the load to drive according to the inverter characteristics.

【0103】したがって、メモリセル121〜124と
直列に接続する負荷を変化させることによっても、メモ
リセル121〜124のインバータ特性を変化させるこ
とができる。その他は、実施の形態1と同じである。
Therefore, the inverter characteristics of the memory cells 121 to 124 can also be changed by changing the load connected in series with the memory cells 121 to 124. The rest is the same as the first embodiment.

【0104】実施の形態2によれば、スタティック型半
導体記憶装置200は、データの書込み時とデータの読
出し時とで、メモリセルの負荷を異なる負荷に設定し、
データの書込み時、スタティックノイズマージンSNM
の小さいインバータ特性に従ってメモリセルを駆動し、
データの読出し時、スタティックノイズマージンSNM
の大きいインバータ特性に従ってメモリセルを駆動する
ので、メモリセルを安定に駆動し、かつ、データの書込
みマージンを大きくできる。
According to the second embodiment, static semiconductor memory device 200 sets the load of the memory cell to a different load at the time of writing data and at the time of reading data.
When writing data, static noise margin SNM
Drive memory cells according to the small inverter characteristics of
When reading data, static noise margin SNM
Since the memory cell is driven according to the inverter characteristic having a large value, the memory cell can be driven stably and the data write margin can be increased.

【0105】[実施の形態3]実施の形態3によるスタ
ティック型半導体記憶装置300は、図1に示すスタテ
ィック型半導体記憶装置100の電圧供給回路72を電
圧供給回路74に代えたものであり、その他は実施の形
態1と同じである。
[Third Embodiment] A static semiconductor memory device 300 according to a third embodiment differs from the static semiconductor memory device 100 shown in FIG. 1 in that the voltage supply circuit 72 is replaced with a voltage supply circuit 74. Is the same as in the first embodiment.

【0106】図4を参照して、電圧供給回路74は、電
圧供給回路72のNチャネルMOSトランジスタ722
をPチャネル薄膜トランジスタ741に代えたものであ
る。Pチャネル薄膜トランジスタ741は、オン状態で
テラ(T)Ωオーダーの抵抗値を有する。
Referring to FIG. 4, voltage supply circuit 74 includes N-channel MOS transistor 722 of voltage supply circuit 72.
Is replaced by a P-channel thin film transistor 741. The P-channel thin film transistor 741 has a resistance value on the order of tera (T) Ω in the on state.

【0107】メモリセル121〜124へのデータの書
込み時、内部書込信号WEiはHレベルである。したが
って、PチャネルMOSトランジスタ720はHレベル
の内部書込信号WEiをゲート端子に受けてオフされ、
Pチャネル薄膜トランジスタ741は、Hレベルの内部
書込信号WEiがインバータ742によって反転された
Lレベルの信号をゲート端子に受けてオンされる。そう
すると、Pチャネル薄膜トランジスタ741は、外部電
源線5上の外部電源電圧VCCを殆ど降圧せずに、電圧
VCCを内部電源線6へ出力する。そして、メモリセル
121〜124は、電圧VCCを電源ノード1に受け
る。この場合、Pチャネル薄膜トランジスタ741は実
施の形態2の抵抗731と同じ機能を果たすため、メモ
リセル121〜124は、図21に示す小さいスタティ
ックノイズマージンSNMを有するインバータ特性に従
って駆動される。
When writing data to memory cells 121 to 124, internal write signal WEi is at the H level. Therefore, P-channel MOS transistor 720 receives H level internal write signal WEi at its gate terminal, and is turned off.
The P-channel thin-film transistor 741 is turned on by receiving the L-level signal obtained by inverting the H-level internal write signal WEi by the inverter 742 at the gate terminal. Then, P-channel thin-film transistor 741 outputs voltage VCC to internal power supply line 6 without substantially reducing external power supply voltage VCC on external power supply line 5. Then, memory cells 121 to 124 receive voltage VCC at power supply node 1. In this case, since the P-channel thin film transistor 741 performs the same function as the resistor 731 of the second embodiment, the memory cells 121 to 124 are driven according to the inverter characteristic having a small static noise margin SNM shown in FIG.

【0108】一方、メモリセル121〜124からのデ
ータの読出し時、PチャネルMOSトランジスタ720
はLレベルの内部書込信号WEiをゲート端子に受けて
オンされ、Pチャネル薄膜トランジスタ741はHレベ
ルの信号をゲート端子に受けてオフされる。そうする
と、実施の形態2で説明したのと同じように、メモリセ
ル121〜124は、電圧VCCを電源ノード1に受
け、図24に示す大きなスタティックノイズマージンS
NMを有するインバータ特性に従って駆動される。
On the other hand, at the time of reading data from memory cells 121 to 124, P-channel MOS transistor 720
Is turned on by receiving an L level internal write signal WEi at its gate terminal, and is turned off by receiving an H level signal at its gate terminal. Then, as described in the second embodiment, memory cells 121 to 124 receive voltage VCC at power supply node 1 and have a large static noise margin S shown in FIG.
It is driven according to the inverter characteristics having NM.

【0109】このように実施の形態3においても、電圧
供給回路73からメモリセル121〜124へ同じ電圧
VCCが供給されるが、メモリセル121〜124は、
異なるインバータ特性に従って駆動される。つまり、デ
ータの書込み時とデータの読出し時とで、PチャネルM
OSトランジスタ720とPチャネル薄膜トランジスタ
741とを選択的に活性化させ、メモリセル121〜1
24の負荷を異なる負荷に設定する。その他は、実施の
形態2と同じである。
As described above, also in the third embodiment, the same voltage VCC is supplied from voltage supply circuit 73 to memory cells 121 to 124.
Driven according to different inverter characteristics. That is, the P channel M is used for data writing and data reading.
The OS transistor 720 and the P-channel thin film transistor 741 are selectively activated, and the memory cells 121 to 1
Set 24 loads to different loads. The rest is the same as the second embodiment.

【0110】実施の形態3によれば、スタティック型半
導体記憶装置300は、データの書込み時とデータの読
出し時とで、メモリセルの負荷を異なる負荷に設定し、
データの書込み時、スタティックノイズマージンSNM
の小さいインバータ特性に従ってメモリセルを駆動し、
データの読出し時、スタティックノイズマージンSNM
の大きいインバータ特性に従ってメモリセルを駆動する
ので、メモリセルを安定に駆動し、かつ、データの書込
みマージンを大きくできる。
According to the third embodiment, the static semiconductor memory device 300 sets the load of the memory cell to be different between when writing data and when reading data,
When writing data, static noise margin SNM
Drive memory cells according to the small inverter characteristics of
When reading data, static noise margin SNM
Since the memory cell is driven according to the inverter characteristic having a large value, the memory cell can be driven stably and the data write margin can be increased.

【0111】[実施の形態4]実施の形態4によるスタ
ティック型半導体記憶装置400は、図1に示すスタテ
ィック型半導体記憶装置100の電圧供給回路72を電
圧供給回路75に代えたものである。その他は半導体記
憶装置100と同じである。
[Fourth Embodiment] A static semiconductor memory device 400 according to a fourth embodiment is obtained by replacing the voltage supply circuit 72 of the static semiconductor memory device 100 shown in FIG. The rest is the same as the semiconductor memory device 100.

【0112】図5を参照して、電圧供給回路75は、N
チャネルMOSトランジスタ751と、PチャネルMO
Sトランジスタ752と、インバータ753とを備え
る。NチャネルMOSトランジスタ751、およびPチ
ャネルMOSトランジスタ752は、接地ノード750
と内部電源線6との間に並列接続される。インバータ7
53は、内部書込信号WEiを反転してNチャネルMO
Sトランジスタ751のゲート端子およびPチャネルM
OSトランジスタ752のゲート端子に与える。内部電
源線6は、図23の接地ノード8に接続される。
Referring to FIG. 5, voltage supply circuit 75 includes N
Channel MOS transistor 751 and P-channel MO
An S transistor 752 and an inverter 753 are provided. N channel MOS transistor 751 and P channel MOS transistor 752 are connected to ground node 750
And the internal power supply line 6 are connected in parallel. Inverter 7
53 inverts the internal write signal WEi and outputs
Gate terminal of S transistor 751 and P channel M
This is supplied to the gate terminal of the OS transistor 752. Internal power supply line 6 is connected to ground node 8 in FIG.

【0113】メモリセル121〜124へのデータの書
込み時、電圧供給回路75のインバータ753はHレベ
ルの内部書込信号WEiが入力される。そうすると、イ
ンバータ753は、Lレベルの信号をNチャネルMOS
トランジスタ751のゲート端子およびPチャネルMO
Sトランジスタ752のゲート端子に与え、Nチャネル
MOSトランジスタ751はオフされ、PチャネルMO
Sトランジスタ752はオンされる。
At the time of writing data to memory cells 121 to 124, H level internal write signal WEi is input to inverter 753 of voltage supply circuit 75. Then, inverter 753 outputs an L-level signal to N-channel MOS.
Gate terminal of transistor 751 and P-channel MO
This is applied to the gate terminal of S transistor 752, N channel MOS transistor 751 is turned off, and P channel
S transistor 752 is turned on.

【0114】そして、PチャネルMOSトランジスタ7
52は、接地電圧GNDよりもPチャネルMOSトラン
ジスタ752のしきい値VTH分だけ高い電圧GND+
VTHを内部電源線6へ出力する。メモリセル121〜
124は、電圧GND+VTHを接地ノード8に受け、
図6の点線で示すインバータ特性に従って駆動される。
この場合、メモリセル121〜124は、接地ノード8
が電位GND+VTHに上昇されるため、駆動用トラン
ジスタであるNチャネルMOSトランジスタ4aのゲー
ト端子に高い電圧が供給される領域でのノードN2の電
位はVTH分上昇する。その結果、図6の点線で示すイ
ンバータ特性になり、スタティックノイズマージンSN
Mは小さくなる。
Then, P-channel MOS transistor 7
52 is a voltage GND + higher than the ground voltage GND by the threshold value VTH of the P-channel MOS transistor 752.
VTH is output to the internal power supply line 6. Memory cells 121-
124 receives the voltage GND + VTH at the ground node 8,
It is driven according to the inverter characteristics shown by the dotted line in FIG.
In this case, memory cells 121 to 124 are connected to ground node 8
Is raised to the potential GND + VTH, the potential of the node N2 in a region where a high voltage is supplied to the gate terminal of the N-channel MOS transistor 4a as the driving transistor rises by VTH. As a result, the inverter characteristic shown by the dotted line in FIG. 6 is obtained, and the static noise margin SN
M becomes smaller.

【0115】一方、メモリセル121〜124へのデー
タの書込み時、電圧供給回路75は、Lレベルの内部書
込信号WEiが入力される。そうすると、インバータ7
53は、Hレベルの信号をNチャネルMOSトランジス
タ751のゲート端子とPチャネルMOSトランジスタ
752のゲート端子とに与え、NチャネルMOSトラン
ジスタ751はオンされ、PチャネルMOSトランジス
タ752はオフされる。
On the other hand, when writing data to memory cells 121 to 124, voltage supply circuit 75 receives an internal write signal WEi at L level. Then, the inverter 7
53 supplies an H-level signal to the gate terminal of N-channel MOS transistor 751 and the gate terminal of P-channel MOS transistor 752, so that N-channel MOS transistor 751 is turned on and P-channel MOS transistor 752 is turned off.

【0116】そして、NチャネルMOSトランジスタ7
51は、接地電圧GNDを内部電源線6へ出力する。メ
モリセル121〜124は、接地電圧GNDを接地ノー
ド8に受け、図24に示すインバータ特性に従って駆動
され、スタティックノイズマージンSNMは大きくな
る。
Then, N-channel MOS transistor 7
51 outputs the ground voltage GND to the internal power supply line 6. Memory cells 121 to 124 receive ground voltage GND at ground node 8 and are driven according to the inverter characteristics shown in FIG. 24, and static noise margin SNM increases.

【0117】このように実施の形態4においては、デー
タの書込み時、メモリセル121〜124の接地ノード
8へ電圧GND+VTHを供給することによってスタテ
ィックノイズマージンが小さいインバータ特性に従って
メモリセル121〜124を駆動させ、データの読出し
時、メモリセル121〜124の接地ノード8へ電圧G
NDを供給することによってスタティックノイズマージ
ンが大きいインバータ特性に従ってメモリセル121〜
124を駆動させる。その他は、実施の形態1と同じで
ある。
As described above, in the fourth embodiment, at the time of data writing, voltage GND + VTH is supplied to ground node 8 of memory cells 121 to 124 to drive memory cells 121 to 124 according to the inverter characteristic having a small static noise margin. When data is read, voltage G is applied to ground node 8 of memory cells 121-124.
By supplying ND, the memory cells 121 to 121 have a large static noise margin according to the inverter characteristics.
124 is driven. The rest is the same as the first embodiment.

【0118】なお、PチャネルMOSトランジスタとN
チャネルMOSトランジスタとを選択的に活性化させて
異なる電圧をメモリセルに供給し、異なるスタティック
ノイズマージンSNMを有するインバータ特性に従って
メモリセルを駆動させる点では、実施の形態1と同じで
あるが、大きいスタティックノイズマージンSNMを有
するインバータ特性に従ってメモリセルを駆動させるた
めの電圧と、小さいスタティックノイズマージンSNM
を有するインバータ特性に従ってメモリセルを駆動させ
るための電圧とを、メモリセルへ供給するトランジスタ
の導電型が実施の形態1とは逆である。
Note that a P-channel MOS transistor and N
The same as in the first embodiment, except that the channel MOS transistor is selectively activated to supply different voltages to the memory cells and drive the memory cells according to inverter characteristics having different static noise margins SNM. A voltage for driving a memory cell according to an inverter characteristic having a static noise margin SNM, and a small static noise margin SNM;
A transistor for supplying a voltage for driving a memory cell in accordance with the inverter characteristic having the above-mentioned characteristics to the memory cell is of a conductivity type opposite to that of the first embodiment.

【0119】実施の形態4によれば、スタティック型半
導体記憶装置400は、データの書込み時とデータの読
出し時とで、メモリセルの接地ノードへ異なる電圧を供
給し、データの書込み時、スタティックノイズマージン
SNMの小さいインバータ特性に従ってメモリセルを駆
動し、データの読出し時、スタティックノイズマージン
SNMの大きいインバータ特性に従ってメモリセルを駆
動するので、メモリセルを安定に駆動し、かつ、データ
の書込みマージンを大きくできる。
According to the fourth embodiment, static semiconductor memory device 400 supplies different voltages to the ground node of the memory cell at the time of data writing and at the time of data reading. Since the memory cell is driven according to the inverter characteristic having a small margin SNM, and the memory cell is driven according to the inverter characteristic having a large static noise margin SNM during data reading, the memory cell is driven stably and the data write margin is increased. it can.

【0120】[実施の形態5]図7を参照して、メモリ
セル121〜124は、アレイ状に並べられている。そ
して、メモリセル121にデータを書込むときは、行デ
コーダ30でデコードされた行アドレスに対応するワー
ド線W1がワード線ドライバ(図7においては図示せ
ず)によってHレベルに引き上げられ、列デコーダ20
でデコードされた列アドレスに対応するビット線対BL
1,/BL1にデータを書込むためにカラム選択線15
が立ち上げられる。そして、NチャネルMOSトランジ
スタ13a,13bがオンされてI/O線14a上の書
込みデータがビット線対BL1,/BL1へ伝達されて
メモリセル121にデータが書込まれる。
[Fifth Embodiment] Referring to FIG. 7, memory cells 121 to 124 are arranged in an array. When writing data to memory cell 121, word line W1 corresponding to the row address decoded by row decoder 30 is pulled up to H level by a word line driver (not shown in FIG. 7), and column decoder 20
Bit line pair BL corresponding to the column address decoded by
1, column select line 15 for writing data to / BL1
Is launched. Then, N-channel MOS transistors 13a and 13b are turned on, write data on I / O line 14a is transmitted to bit line pair BL1 and / BL1, and data is written into memory cell 121.

【0121】この場合、メモリセル121と同じワード
線W1につながった隣接するメモリセル123は、自動
的に読出し状態になる。メモリセル121〜124へ供
給される電源電圧が2.2V以下と非常に低い場合、メ
モリセル121〜124のNチャネルMOSトランジス
タ3a(または3b)とNチャネルMOSトランジスタ
4a(または4b)とのインバータ特性が消滅してしま
うため、選択されたメモリセル121と同じワード線W
1に接続されたメモリセル123は、ワード線W1がH
レベルに引き上げられたときにスタティックノイズマー
ジンSNMがなく、書込まれたデータが消失してしまう
という問題がある。このため、実施の形態1〜4で説明
した電圧供給回路72〜75を用いたのでは、電源電圧
が2.2以下に下がったとき、データの書込みを行って
いるメモリセル以外のメモリセルにおけるデータ消失を
防止することができない。
In this case, the adjacent memory cell 123 connected to the same word line W1 as the memory cell 121 automatically enters the read state. When the power supply voltage supplied to the memory cells 121 to 124 is extremely low at 2.2 V or less, the inverter of the N-channel MOS transistor 3a (or 3b) and the N-channel MOS transistor 4a (or 4b) of the memory cells 121 to 124 Since the characteristics disappear, the same word line W as that of the selected memory cell 121 is used.
1 is connected to the word line W1 of H.
When the level is raised to the level, there is no static noise margin SNM, and there is a problem that written data is lost. For this reason, when the voltage supply circuits 72 to 75 described in the first to fourth embodiments are used, when the power supply voltage falls to 2.2 or less, the memory cells other than the memory cell into which data is being written are not stored. Data loss cannot be prevented.

【0122】そこで、この実施の形態5によるスタティ
ック型半導体記憶装置500は、図1に示す電圧供給回
路72に代えて図8に示す電圧供給回路76を用いる。
Therefore, static semiconductor memory device 500 according to the fifth embodiment uses voltage supply circuit 76 shown in FIG. 8 instead of voltage supply circuit 72 shown in FIG.

【0123】図8を参照して、電圧供給回路76は、P
チャネルMOSトランジスタ720,763と、外部電
源電圧制御回路761と、インバータ762と、Nチャ
ネルMOSトランジスタ764とを備える。並列接続さ
れたPチャネルMOSトランジスタ763およびNチャ
ネルMOSトランジスタ764は、外部電源電圧制御回
路761に直列に接続される。そして、外部電源電圧制
御回路761は、電源ノード722に接続され、並列接
続されたPチャネルMOSトランジスタ763およびN
チャネルMOSトランジスタ764は、内部電源線6に
接続される。また、PチャネルMOSトランジスタ72
0は、電源ノード722と内部電源線6との間に配置さ
れ、外部電源電圧制御回路761と、PチャネルMOS
トランジスタ763およびNチャネルMOSトランジス
タ764とに対して並列に接続される。
Referring to FIG. 8, the voltage supply circuit 76
It includes channel MOS transistors 720 and 763, an external power supply voltage control circuit 761, an inverter 762, and an N-channel MOS transistor 764. P-channel MOS transistor 763 and N-channel MOS transistor 764 connected in parallel are connected in series to external power supply voltage control circuit 761. External power supply voltage control circuit 761 is connected to power supply node 722, and has P-channel MOS transistors 763 and N connected in parallel.
Channel MOS transistor 764 is connected to internal power supply line 6. Also, a P-channel MOS transistor 72
0 is arranged between the power supply node 722 and the internal power supply line 6, and is connected to the external power supply voltage control circuit 761 and the P-channel MOS
Transistor 763 and N-channel MOS transistor 764 are connected in parallel.

【0124】PチャネルMOSトランジスタ720およ
びNチャネルMOSトランジスタ764は、内部書込信
号WEiをゲート端子に受け、オン・オフされる。Pチ
ャネルMOSトランジスタ763は、内部書込信号WE
iがインバータ762で反転された信号をゲート端子に
受け、オン・オフされる。
P channel MOS transistor 720 and N channel MOS transistor 764 receive internal write signal WEi at the gate terminal, and are turned on / off. P channel MOS transistor 763 receives internal write signal WE
i receives the signal inverted by the inverter 762 at the gate terminal and is turned on / off.

【0125】メモリセル121〜124へデータを書込
むとき、すなわち、Hレベルの内部書込信号WEiが電
圧供給回路76へ入力されたとき、PチャネルMOSト
ランジスタ720はオフされ、PチャネルMOSトラン
ジスタ763およびNチャネルMOSトランジスタ76
4がオンされる。そして、外部電源電圧制御回路761
は、後述する方法により外部電源電圧VCCのレベルに
応じた電圧を内部電源線6へ出力する。
When data is written to memory cells 121 to 124, that is, when H-level internal write signal WEi is input to voltage supply circuit 76, P-channel MOS transistor 720 is turned off, and P-channel MOS transistor 763 is turned off. And N channel MOS transistor 76
4 is turned on. Then, the external power supply voltage control circuit 761
Outputs a voltage corresponding to the level of external power supply voltage VCC to internal power supply line 6 by a method described later.

【0126】また、メモリセル121〜124からデー
タを読出すとき、すなわち、Lレベルの内部書込信号W
Eiが電圧供給回路76へ入力されるとき、Pチャネル
MOSトランジスタ720はオンされ、PチャネルMO
Sトランジスタ763およびNチャネルMOSトランジ
スタ764がオフされる。そして、PチャネルMOSト
ランジスタ720は電圧VCCを内部電源線6へ出力す
る。
When data is read from memory cells 121-124, that is, L level internal write signal W
When Ei is input to voltage supply circuit 76, P channel MOS transistor 720 is turned on, and P channel MO transistor 720 is turned on.
S transistor 763 and N channel MOS transistor 764 are turned off. Then, P-channel MOS transistor 720 outputs voltage VCC to internal power supply line 6.

【0127】図9を参照して、外部電源電圧制御回路7
61は、抵抗765,767と、PチャネルMOSトラ
ンジスタ768,769と、NチャネルMOSトランジ
スタ770とを備える。抵抗765は、電源ノード72
2と接地ノード766との間に3個直列に接続され、電
源ノード722に供給された外部電源電圧VCCを分圧
する。
Referring to FIG. 9, external power supply voltage control circuit 7
61 includes resistors 765 and 767, P-channel MOS transistors 768 and 769, and an N-channel MOS transistor 770. The resistor 765 is connected to the power supply node 72.
3 and a ground node 766 are connected in series, and divide the external power supply voltage VCC supplied to the power supply node 722.

【0128】PチャネルMOSトランジスタ768は、
電源ノード722と接地ノード766との間に抵抗76
7,767と直列に接続される。また、PチャネルMO
Sトランジスタ768は、ノード772上の電圧をゲー
ト端子に受け、図21のインバータ特性が消滅する下限
電圧Vgnよりも高い電圧がゲート端子に入力されると
オフされる。
P channel MOS transistor 768 is
A resistor 76 is connected between power supply node 722 and ground node 766.
7,767 in series. In addition, P-channel MO
S transistor 768 receives the voltage on node 772 at its gate terminal, and is turned off when a voltage higher than lower limit voltage Vgn at which the inverter characteristics in FIG. 21 disappears is input to the gate terminal.

【0129】PチャネルMOSトランジスタ769とN
チャネルMOSトランジスタ770とは、電源ノード7
22とノード771との間に並列に接続される。また、
PチャネルMOSトランジスタ769は、ノード763
上の電圧をゲート端子に受け、下限電圧Vgnよりも高
い電圧がゲート端子に入力されるとオフされる。Nチャ
ネルMOSトランジスタ770は、常時、オンされてい
る。
P channel MOS transistor 769 and N
Channel MOS transistor 770 is connected to power supply node 7
22 and a node 771 are connected in parallel. Also,
P-channel MOS transistor 769 is connected to node 763
The upper voltage is received at the gate terminal, and is turned off when a voltage higher than the lower limit voltage Vgn is input to the gate terminal. N-channel MOS transistor 770 is always on.

【0130】下限電圧Vgn以下の外部電源電圧VCC
が電源ノード722に供給されると、ノード772上の
電圧は低いためPチャネルMOSトランジスタ768が
オンされ、ノード763には外部電源電圧VCCが供給
され、PチャネルMOSトランジスタ769は、外部電
源電圧VCCをゲート端子に受ける。しかし、外部電源
電圧VCCが下限電圧Vgnよりも低いため、Pチャネ
ルMOSトランジスタ769はオンし、ノード771に
外部電源電圧VCCを出力する。この場合、Nチャネル
MOSトランジスタ770もオンされているが、Nチャ
ネルMOSトランジスタ770は、電圧VCC−VTH
(VTHはNチャネルMOSトランジスタ770のしき
い値)をノード771に出力するため、ノード771上
の電圧は電圧VTHとなる。
External power supply voltage VCC lower than lower limit voltage Vgn
Is supplied to power supply node 722, P-channel MOS transistor 768 is turned on because the voltage on node 772 is low, external power supply voltage VCC is supplied to node 763, and P-channel MOS transistor 769 receives external power supply voltage VCC. To the gate terminal. However, since external power supply voltage VCC is lower than lower limit voltage Vgn, P-channel MOS transistor 769 turns on and outputs external power supply voltage VCC to node 771. In this case, the N-channel MOS transistor 770 is also turned on, but the N-channel MOS transistor 770 has the voltage VCC-VTH
(VTH is the threshold value of the N-channel MOS transistor 770) is output to the node 771, and the voltage on the node 771 becomes the voltage VTH.

【0131】下限電圧Vgn以上の外部電源電圧VCC
が電源ノード722へ供給されると、ノード772は下
限電圧Vgnよりも低い電圧をPチャネルMOSトラン
ジスタ768へ印加するため、PチャネルMOSトラン
ジスタ768はオンされ、ノード763は、外部電源電
圧VCCになる。そうすると、ノード763は、外部電
源電圧VCCをPチャネルMOSトランジスタ769の
ゲート端子に与えるため、PチャネルOSトランジスタ
769はオフされる。そして、NチャネルMOSトラン
ジスタ770は、電圧VCC−VTHをノード771へ
出力する。
External power supply voltage VCC not lower than lower limit voltage Vgn
Is supplied to power supply node 722, node 772 applies a voltage lower than lower limit voltage Vgn to P-channel MOS transistor 768, so that P-channel MOS transistor 768 is turned on and node 763 attains external power supply voltage VCC. . Then, node 763 applies external power supply voltage VCC to the gate terminal of P-channel MOS transistor 769, so that P-channel OS transistor 769 is turned off. Then, N-channel MOS transistor 770 outputs voltage VCC-VTH to node 771.

【0132】したがって、外部電源電圧制御回路761
は、図10に示すように外部電源電圧VCCが下限電圧
Vgn以下のときPチャネルMOSトランジスタ769
によって外部電源電圧VCCをノード771へ出力し、
外部電源電圧VCCが下限電圧Vgnよりも高くなる
と、電圧VCC−VTHをノード771へ出力する。
Therefore, external power supply voltage control circuit 761
Indicates that when external power supply voltage VCC is lower than or equal to lower limit voltage Vgn, as shown in FIG.
Outputs external power supply voltage VCC to node 771,
When external power supply voltage VCC becomes higher than lower limit voltage Vgn, voltage VCC-VTH is output to node 771.

【0133】そうすると、再び図8を参照して、メモリ
セル121〜124へのデータの書込み時、外部電源電
圧制御回路761から内部電源線6へ電圧が出力される
が、外部電源電圧VCCが下限電圧Vgn以下のときは
外部電源電圧VCCが内部電源線6へ出力され、外部電
源電圧VCCが下限電圧Vgnよりも高いときは電圧V
CC−VTHが内部電源線6へ出力される。そして、内
部電源線6に出力された電圧VCCまたはVCC−VT
Hは、メモリセル121〜124の電源ノード1へ供給
される。
Then, referring to FIG. 8 again, when data is written to memory cells 121 to 124, a voltage is output from external power supply voltage control circuit 761 to internal power supply line 6, but external power supply voltage VCC is lower than the lower limit. External power supply voltage VCC is output to internal power supply line 6 when voltage is lower than voltage Vgn, and voltage V when external power supply voltage VCC is higher than lower limit voltage Vgn.
CC-VTH is output to internal power supply line 6. Then, the voltage VCC or VCC-VT output to the internal power line 6
H is supplied to the power supply node 1 of the memory cells 121 to 124.

【0134】その結果、メモリセル121〜124は、
外部電源電圧VCCが下限電圧Vgn以下のときは、図
24に示すインバータ特性に従って駆動され、外部電源
電圧VCCが下限電圧Vgnよりも高くなると、図21
に示すインバータ特性に従って駆動される。外部電源電
圧VCCが下限電圧Vgn以下のとき、メモリセル12
1〜124のNチャネルMOSトランジスタ3a(また
は3b)とNチャネルMOSトランジスタ4a(または
4b)とのインバータ特性は消滅するが、NチャネルM
OSトランジスタ4a(または4b)とPチャネルMO
Sトランジスタ7a(または7b)とのインバータ特性
は消滅しないため、メモリセル121〜124は、図2
4に示すインバータ特性に従って駆動される。
As a result, the memory cells 121 to 124
When external power supply voltage VCC is lower than or equal to lower limit voltage Vgn, driving is performed according to the inverter characteristics shown in FIG. 24, and when external power supply voltage VCC becomes higher than lower limit voltage Vgn, FIG.
Are driven according to the inverter characteristics shown in FIG. When the external power supply voltage VCC is lower than the lower limit voltage Vgn, the memory cell 12
Although the inverter characteristics of the N-channel MOS transistors 3a (or 3b) and the N-channel MOS transistors 4a (or 4b) disappear, the N-channel M
OS transistor 4a (or 4b) and P-channel MO
Since the inverter characteristics with the S transistor 7a (or 7b) do not disappear, the memory cells 121 to 124
4 is driven according to the inverter characteristics shown in FIG.

【0135】したがって、外部電源電圧VCCが下限電
圧Vgn以下のときは、動作電圧が低いためメモリセル
1231〜124へデータを容易に書込むことができ、
スタティックノイズマージンSNMが大きいためデータ
は消失されない。また、外部電源電圧VCCが下限電圧
Vgnよりも高いときは、動作電圧が高いためデータが
消失されることがなく、スタティックノイズマージンS
NMが小さいため書込みマージンが大きくなる。
Therefore, when external power supply voltage VCC is lower than or equal to lower limit voltage Vgn, data can be easily written to memory cells 1231 to 124 because the operating voltage is low.
Data is not lost because the static noise margin SNM is large. When the external power supply voltage VCC is higher than the lower limit voltage Vgn, the operating voltage is high, so that no data is lost and the static noise margin S
Since NM is small, the write margin is large.

【0136】また、データの読出し時は、PチャネルM
OSトランジスタ720によって電圧VCCがメモリセ
ル121〜124へ供給されるため、メモリセル121
〜124は、大きなスタティックノイズマージンSNM
を有するインバータ特性に従って駆動される。
When data is read, P channel M
Since the voltage VCC is supplied to the memory cells 121 to 124 by the OS transistor 720, the memory cell 121
To 124 are large static noise margins SNM
Driven according to the inverter characteristics having the following.

【0137】その他は、実施の形態1の説明と同じであ
る。実施の形態5によれば、スタティック型半導体記憶
装置500においては、データの書込み時、供給される
外部電源電圧VCCのレベルに応じてスタティックノイ
ズマージンSNMの大きいインバータ特性またはスタテ
ィックノイズマージンSNMの小さいインバータ特性に
従ってメモリセルが駆動され、データの読出し時、スタ
ティックノイズマージンSNMの大きいインバータ特性
に従ってメモリセルが駆動されるので、外部電源電圧V
CCが変動しても、安定してデータの書込みおよび読出
しを行なうことができる。
The other points are the same as those described in the first embodiment. According to the fifth embodiment, in the static semiconductor memory device 500, at the time of data writing, an inverter characteristic having a large static noise margin SNM or an inverter having a small static noise margin SNM according to the level of the supplied external power supply voltage VCC. Since the memory cell is driven according to the characteristics and the memory cell is driven according to the inverter characteristic having a large static noise margin SNM at the time of data reading, the external power supply voltage V
Even if CC fluctuates, data can be written and read stably.

【0138】[実施の形態6]図11を参照して、実施
の形態6によるスタティック型半導体記憶装置600
は、図1に示すスタティック型半導体記憶装置100の
駆動回路70を駆動回路70Aに代え、信号生成回路1
50を追加したものである。駆動回路70Aは、インバ
ータ71と電圧供給回路78とを含む。
[Sixth Embodiment] Referring to FIG. 11, a static semiconductor memory device 600 according to a sixth embodiment will be described.
Replaces the drive circuit 70 of the static semiconductor memory device 100 shown in FIG.
50 is added. Drive circuit 70A includes an inverter 71 and a voltage supply circuit 78.

【0139】信号生成回路150は、読出/書込バッフ
ァ50からの読出/書込制御信号/WEに基づいて、後
述する方法により内部書込信号WLiを生成し、駆動回
路70Aの電圧供給回路78およびワード線ドライバ6
0へ出力する。
Signal generation circuit 150 generates an internal write signal WLi based on a read / write control signal / WE from read / write buffer 50 by a method described later, and supplies voltage supply circuit 78 of drive circuit 70A. And word line driver 6
Output to 0.

【0140】図12を参照して、信号生成回路150
は、ワンショットマルチ151,152からなる。ワン
ショットマルチ151と、ワンショットマルチ152と
は、出力信号をHレベルに保持する期間が異なる。
Referring to FIG. 12, signal generation circuit 150
Consists of one-shot multis 151 and 152. The one-shot multi 151 and the one-shot multi 152 have different periods during which the output signal is held at the H level.

【0141】図12,14を参照して、信号生成回路1
50における内部書込信号WLiの生成について生成す
る。アドレス信号とともに、そのアドレス信号によって
指定されるメモリセルにデータを書込むための期間、L
レベルを保持した読出/書込制御信号/WEが入力され
る。そして、読出/書込バッファ50は、Lレベルを保
持した読出/書込制御信号/WEを信号生成回路150
へ出力する。そうすると、ワンショットマルチ151
は、読出/書込制御信号/WEの立下りに同期してHレ
ベルに立ち上がる信号WEMを生成し、ワンショットマ
ルチ152へ出力する。そして、ワンショットマルチ1
52は、信号WEMの立下りに同期してHレベルに立ち
上がる内部書込信号WLiを生成する。内部書込信号W
Liは、読出/書込制御信号/WEがLレベルを保持し
ている期間よりも短い期間、Hレベルを保持する。
Referring to FIGS. 12 and 14, signal generation circuit 1
The generation of the internal write signal WLi at 50 is generated. A period for writing data to a memory cell specified by the address signal together with the address signal, L
Read / write control signal / WE holding the level is input. Then, read / write buffer 50 outputs read / write control signal / WE holding L level to signal generation circuit 150.
Output to Then, one shot multi 151
Generates a signal WEM that rises to the H level in synchronization with the fall of the read / write control signal / WE, and outputs it to the one-shot multi 152. And one shot multi 1
52 generates an internal write signal WLi which rises to the H level in synchronization with the fall of the signal WEM. Internal write signal W
Li holds the H level for a period shorter than the period in which read / write control signal / WE holds the L level.

【0142】図13を参照して、電圧供給回路78は、
図2に示す電圧供給回路72にNAND781とインバ
ータ782とを追加したものである。NAND781
は、内部書込信号WEi,WLiを入力し、その2つの
信号の論理を取る。そして、インバータ782は、NA
ND781の出力信号を反転してPチャネルMOSトラ
ンジスタ720のゲート端子とNチャネルMOSトラン
ジスタ721のゲート端子とに与える。つまり、電圧供
給回路78は、内部書込信号WEiと内部書込信号WL
iとが共にHレベルのときNチャネルMOSトランジス
タ721をオンさせてメモリセル121〜124へ電圧
VCC−VTHを供給する。
Referring to FIG. 13, voltage supply circuit 78 includes:
This is obtained by adding a NAND 781 and an inverter 782 to the voltage supply circuit 72 shown in FIG. NAND 781
Inputs the internal write signals WEi and WLi and takes the logic of the two signals. And, the inverter 782
The output signal of ND781 is inverted and applied to the gate terminal of P-channel MOS transistor 720 and the gate terminal of N-channel MOS transistor 721. That is, the voltage supply circuit 78 outputs the internal write signal WEi and the internal write signal WL.
When i and H are both at the H level, the N-channel MOS transistor 721 is turned on to supply the voltage VCC-VTH to the memory cells 121 to 124.

【0143】また、データの読出しモードに移行した場
合、読出/書込制御信号/WEはHレベルを保持するた
め、信号生成回路150はHレベルの内部書込信号WL
iを出力する。そうすると、NAND781は、Lレベ
ルの内部書込信号WEiおよびHレベルの内部書込信号
WLiを入力し、Hレベルの信号を出力し、インバータ
721は、Lレベルの信号を出力する。そうすると、N
チャネルMOSトランジスタ721はオフされ、Pチャ
ネルMOSトランジスタ720はオンされて内部電源線
6に電圧VCCが出力される。
When the mode shifts to the data read mode, read / write control signal / WE is maintained at H level, so that signal generation circuit 150 sets internal write signal WL at H level.
Output i. Then, NAND 781 receives L level internal write signal WEi and H level internal write signal WLi, outputs an H level signal, and inverter 721 outputs an L level signal. Then, N
Channel MOS transistor 721 is turned off, P channel MOS transistor 720 is turned on, and voltage VCC is output to internal power supply line 6.

【0144】したがって、電圧供給回路78は、データ
をメモリセル121〜124へ書込むとき、読出/書込
制御信号/WEがLレベルを保持する期間よりも短い期
間だけ、電圧VCC−VTHをメモリセル121〜12
4の電源ノード1へ供給し、小さいスタティックノイズ
マージンSNMを有するインバータ特性に従ってメモリ
セル121〜124を駆動させ、データをメモリセル1
21〜124から読出すときは、電圧VCCをメモリセ
ル121〜124の電源ノード1へ供給し、大きいスタ
ティックノイズマージンSNMを有するインバータ特性
に従ってメモリセル121〜124を駆動させる。
Therefore, when writing data to memory cells 121 to 124, voltage supply circuit 78 applies voltage VCC-VTH to memory cell for a period shorter than the period during which read / write control signal / WE holds L level. Cells 121 to 12
4 and drives the memory cells 121 to 124 in accordance with the inverter characteristics having a small static noise margin SNM, and stores data in the memory cell 1.
When reading from memory cells 21 to 124, voltage VCC is supplied to power supply node 1 of memory cells 121 to 124, and memory cells 121 to 124 are driven in accordance with inverter characteristics having a large static noise margin SNM.

【0145】再び、図11を参照して、スタティック型
半導体記憶装置600におけるデータの読出し動作およ
び書込み動作について説明する。読出し動作において
は、半導体記憶装置600に入出力端子を介して外部か
らアドレス信号およびHレベルの読出/書込制御信号/
WEが入力される。行アドレスバッファ10は、入力さ
れた行アドレス信号を行アドレスデコーダ30へ出力
し、行アドレスデコーダ30は行アドレス信号をデコー
ドしてワード線ドライバ60へ出力する。
Referring to FIG. 11 again, data read operation and write operation in static semiconductor memory device 600 will be described. In the read operation, an address signal and an H level read / write control signal /
WE is input. Row address buffer 10 outputs the input row address signal to row address decoder 30, and row address decoder 30 decodes the row address signal and outputs the decoded signal to word line driver 60.

【0146】一方、信号生成回路150は、Hレベルの
読出/書込制御信号/WEに基づいてHレベルの内部書
込信号WLiを駆動回路70Aの電圧供給回路78およ
びワード線ドライバ60へ出力する。そうすると、ワー
ド線ドライバ60は、Hレベルに保持された内部書込信
号WLiを受けて、行アドレスに対応するワード線をH
レベルに引き上げる。
On the other hand, signal generation circuit 150 outputs H level internal write signal WLi to voltage supply circuit 78 of drive circuit 70 A and word line driver 60 based on H level read / write control signal / WE. . Then, word line driver 60 receives internal write signal WLi held at the H level, and sets the word line corresponding to the row address to H level.
Raise to the level.

【0147】列アドレスバッファ20は、入力された列
アドレス信号を列アドレスデコーダ40へ出力し、列ア
ドレスデコーダ40は列アドレス信号をデコードして列
選択スイッチ110へ出力する。そして、列選択スイッ
チ110は、列アドレスに対応するビット線対BL1,
/BL1、BL2,/BL2、・・・をセンスアンプ9
0と接続する。
Column address buffer 20 outputs the input column address signal to column address decoder 40, and column address decoder 40 decodes the column address signal and outputs it to column selection switch 110. Then, the column selection switch 110 controls the bit line pair BL1, BL1,
, / BL1, BL2, / BL2,.
Connect to 0.

【0148】一方、読出/書込バッファ50は、Hレベ
ルの読出/書込制御信号/WEを駆動回路70Aのイン
バータ71へ出力し、インバータ71はLレベルの内部
書込信号WEiを電圧供給回路78へ出力する。そうす
ると、電圧供給回路78は、Hレベルの内部書込信号W
LiとLレベルの内部書込信号WEiとに基づいて、上
述したように電圧VCCを内部電源線6を介してメモリ
セル121〜124へ供給する。そして、メモリセル1
21〜124のうち、Hレベルに引き上げられたワード
線と、列選択スイッチ110によってセンスアンプ90
に接続されたビット線対BL1,/BL1、BL2,/
BL2、・・・とにつながったメモリセルは、スタティ
ックノイズマージンSNMの大きいインバータ特性に従
って駆動され、記憶されたデータに対応する出力信号を
出力する。
On the other hand, read / write buffer 50 outputs read / write control signal / WE at H level to inverter 71 of drive circuit 70A, and inverter 71 supplies internal write signal WEi at L level to the voltage supply circuit. 78. Then, voltage supply circuit 78 outputs internal write signal W of H level.
Based on Li and the L level internal write signal WEi, the voltage VCC is supplied to the memory cells 121 to 124 via the internal power supply line 6 as described above. And memory cell 1
Of the word lines 21 to 124, the word line raised to the H level and the column selection switch 110
Bit lines BL1, / BL1, BL2, /
The memory cells connected to BL2,... Are driven according to the inverter characteristic having a large static noise margin SNM, and output an output signal corresponding to the stored data.

【0149】センスアンプ90は、出力された出力信号
を増幅して入出力バッファ130へ出力する。そして、
入出力バッファ130はデータを入出力端子を介して外
部へ出力する。
Sense amplifier 90 amplifies the output signal thus output and outputs it to input / output buffer 130. And
The input / output buffer 130 outputs data to the outside via an input / output terminal.

【0150】書込み動作においては、半導体記憶装置6
00に入出力端子を介して外部からアドレス信号および
Lレベルの読出/書込制御信号/WEが入力される。行
アドレスバッファ10は、入力された行アドレス信号を
行アドレスデコーダ30へ出力し、行アドレスデコーダ
30は行アドレス信号をデコードしてワード線ドライバ
60へ出力する。
In the write operation, the semiconductor memory device 6
00, an address signal and an L-level read / write control signal / WE are input from the outside via an input / output terminal. Row address buffer 10 outputs the input row address signal to row address decoder 30, and row address decoder 30 decodes the row address signal and outputs the decoded signal to word line driver 60.

【0151】一方、信号生成回路150は、上述したよ
うにLレベルの読出/書込制御信号/WEに基づいて、
読出/書込制御信号/WEがLレベルを保持する期間よ
りも短い期間、Hレベルを保持する内部書込信号WLi
を駆動回路70Aの電圧供給回路78およびワード線ド
ライバ60へ出力する。そうすると、ワード線ドライバ
60は、Hレベルに保持された内部書込信号WLiを受
けて、内部書込信号WLiがHレベルを保持する期間の
み行アドレスに対応するワード線をHレベルに引き上げ
る。
On the other hand, as described above, the signal generation circuit 150 generates a signal based on the read / write control signal / WE at L level.
Internal write signal WLi holding H level for a period shorter than read / write control signal / WE holding L level
To the voltage supply circuit 78 of the drive circuit 70A and the word line driver 60. Then, word line driver 60 receives internal write signal WLi held at the H level, and raises the word line corresponding to the row address to the H level only while internal write signal WLi holds the H level.

【0152】列アドレスバッファ20は、入力された列
アドレス信号を列アドレスデコーダ40へ出力し、列ア
ドレスデコーダ40は列アドレス信号をデコードして列
選択スイッチ110へ出力する。そして、列選択スイッ
チ110は、列アドレスに対応するビット線対BL1,
/BL1、BL2,/BL2、・・・を書込ドライバ8
0と接続する。
Column address buffer 20 outputs the input column address signal to column address decoder 40, and column address decoder 40 decodes the column address signal and outputs it to column selection switch 110. Then, the column selection switch 110 controls the bit line pair BL1, BL1,
.. / BL1, BL2, / BL2,.
Connect to 0.

【0153】一方、読出/書込バッファ50は、Lレベ
ルの読出/書込制御信号/WEを駆動回路70Aのイン
バータ71へ出力し、インバータ71はHレベルの内部
書込信号WEiを電圧供給回路78へ出力する。そうす
ると、電圧供給回路78は、上述した方法によって内部
書込信号WLiがHレベルを保持する期間のみ、外部電
源電圧VCC−VTHを内部電源線6を介してメモリセ
ル121〜124へ供給する。そして、メモリセル12
1〜124のうち、Hレベルに引き上げられたワード線
と、列選択スイッチ110によって書込ドライバ80に
接続されたビット線対BL1,/BL1、BL2,/B
L2、・・・とにつながったメモリセルは、スタティッ
クノイズマージンSNMの小さいインバータ特性に従っ
て駆動される。
On the other hand, read / write buffer 50 outputs an L level read / write control signal / WE to inverter 71 of drive circuit 70A, and inverter 71 supplies an H level internal write signal WEi to a voltage supply circuit. 78. Then, voltage supply circuit 78 supplies external power supply voltage VCC-VTH to memory cells 121 to 124 via internal power supply line 6 only during the period in which internal write signal WLi holds the H level by the method described above. Then, the memory cell 12
Among the word lines 1 to 124, the word line raised to the H level and the bit line pair BL1, / BL1, BL2, / B connected to the write driver 80 by the column selection switch 110
The memory cells connected to L2,... Are driven according to the inverter characteristic having a small static noise margin SNM.

【0154】入出力バッファ130は、入出力端子を介
して入力したデータをセンスアンプ90へ出力し、増幅
されたデータをセンスアンプ90から受け取る。そし
て、入出力バッファ130は、増幅されたデータを書込
ドライバ80へ出力する。そうすると、書込ドライバ8
0は、入力したデータを列選択スイッチ110によって
接続されたビット線対BL1,/BL1、BL2,/B
L2、・・・へ書込む。そして、データが書込まれたビ
ット線対BL1,/BL1、BL2,/BL2、・・・
につながったメモリセルは、小さいスタティックノイズ
マージンSNMを有するインバータ特性に従って駆動さ
れているため、ビット線対BL1,/BL1、BL2,
/BL2、・・・上のデータはメモリセルに容易に書込
まれる。この場合、メモリセル121〜124が小さい
スタティックノイズマージンSNMを有するインバータ
特性に従って駆動される期間と、ワード線がHレベルに
引き上げられる期間とは一致する。
The input / output buffer 130 outputs data input via the input / output terminal to the sense amplifier 90, and receives amplified data from the sense amplifier 90. Then, the input / output buffer 130 outputs the amplified data to the write driver 80. Then, the write driver 8
0 indicates that the input data is a bit line pair BL1, / BL1, BL2, / B connected by the column selection switch 110.
Write to L2, ... Then, the bit line pairs BL1, / BL1, BL2, / BL2,.
Are driven in accordance with the inverter characteristic having a small static noise margin SNM, the bit line pair BL1, / BL1, BL2
The data on / BL2,... Is easily written to the memory cells. In this case, the period during which the memory cells 121 to 124 are driven according to the inverter characteristics having a small static noise margin SNM coincides with the period during which the word line is raised to the H level.

【0155】上記においては、実施の形態1における電
圧供給回路72を用いた例について説明したが、実施の
形態6においては、これに限らず、電圧供給回路72に
代えて実施の形態2における電圧供給回路73、実施の
形態3における電圧供給回路74、実施の形態4におけ
る電圧供給回路75、および実施の形態5における電圧
供給回路76を用いて電圧供給回路78を構成しても良
い。
In the above description, the example using the voltage supply circuit 72 in the first embodiment has been described. However, the sixth embodiment is not limited to this, and the voltage supply circuit 72 is replaced with the voltage supply circuit 72 in the second embodiment. A voltage supply circuit 78 may be configured using the supply circuit 73, the voltage supply circuit 74 in the third embodiment, the voltage supply circuit 75 in the fourth embodiment, and the voltage supply circuit 76 in the fifth embodiment.

【0156】これらの電圧供給回路72〜76を用いて
電圧供給回路78を構成した場合にも内部書込信号WL
iがHレベルを保持する期間のみ、小さいスタティック
ノイズマージンSNMを有するインバータ特性に従って
メモリセルを駆動できる。
When voltage supply circuit 78 is formed using these voltage supply circuits 72 to 76, internal write signal WL
Only during the period when i holds the H level, the memory cell can be driven according to the inverter characteristics having a small static noise margin SNM.

【0157】実施の形態6によれば、スタティック型半
導体記憶装置600は、データの書込みモード期間を示
す読出/書込制御信号/WEがLレベルを保持する期間
よりも短い期間のみ、小さいスタティックノイズマージ
ンSNMを有するインバータ特性に従ってメモリセルを
駆動するので、書込みマージンを大きくできるとともに
半導体記憶装置の低消費化を図ることができる。
According to the sixth embodiment, static semiconductor memory device 600 has a small static noise only during a period shorter than a period in which read / write control signal / WE indicating a data write mode period holds L level. Since the memory cells are driven according to the inverter characteristics having the margin SNM, the write margin can be increased and the consumption of the semiconductor memory device can be reduced.

【0158】[実施の形態7]図15を参照して、実施
の形態7によるスタティック型半導体記憶装置700
は、図11に示すスタティック型半導体記憶装置600
の信号生成回路150を信号生成回路150Aに代えた
ものであり、その他は半導体記憶装置600と同じであ
る。
[Seventh Embodiment] Referring to FIG. 15, a static semiconductor memory device 700 according to a seventh embodiment will be described.
Is a static semiconductor memory device 600 shown in FIG.
Is replaced by a signal generation circuit 150A, and the rest is the same as the semiconductor memory device 600.

【0159】信号生成回路150Aは、読出/書込制御
信号/WEに基づいて内部書込信号WLi,WLSiを
生成し、内部書込信号WLiをワード線ドライバ60へ
出力し、内部書込信号WLSiを駆動回路70Aの電圧
供給回路78へ出力する。その他は、半導体記憶装置6
00と同じである。
Signal generation circuit 150A generates internal write signals WLi and WLSi based on read / write control signal / WE, outputs internal write signal WLi to word line driver 60, and outputs internal write signal WLSi. To the voltage supply circuit 78 of the drive circuit 70A. Other than that, the semiconductor memory device 6
Same as 00.

【0160】図16を参照して、信号生成回路150A
は、ワンショットマルチ151,152,153から成
る。ワンショットマルチ151,152については、実
施の形態6の説明と同じである。ワンショットマルチ1
53は、ワンショットマルチ151,152とは異なる
期間、出力信号をHレベルに保持する。
Referring to FIG. 16, signal generation circuit 150A
Consists of one-shot multis 151, 152, 153. The one-shot multis 151 and 152 are the same as those described in the sixth embodiment. One Shot Multi 1
53 holds the output signal at the H level during a period different from those of the one-shot multis 151 and 152.

【0161】図16,17を参照して、信号生成回路1
50Aにおける内部書込信号WLi,WLSiの生成に
ついて説明する。アドレス信号とともに、そのアドレス
信号によって指定されるメモリセルにデータを書込むた
めの期間、Lレベルを保持した読出/書込制御信号/W
Eが入力される。そして、読出/書込バッファ50は、
Lレベルを保持した読出/書込制御信号/WEを信号生
成回路150へ出力する。そうすると、ワンショットマ
ルチ151は、読出/書込制御信号/WEの立下りに同
期してHレベルに立ち上がる信号WEMを生成し、ワン
ショットマルチ152,153へ出力する。そして、ワ
ンショットマルチ152は、信号WEMの立下りに同期
してHレベルに立ち上がる内部書込信号WLiを生成す
る。また、ワンショットマルチ153は、信号WEMの
立下りに同期してHレベルに立ち上がる内部書込信号W
LSiを生成する。内部書込信号WLiは、読出/書込
制御信号/WEがLレベルを保持している期間よりも短
い期間、Hレベルを保持する。また、内部書込信号WL
Siは、読出/書込制御信号/WEがLレベルを保持し
ている期間よりも短く、かつ、データをメモリセル12
1〜124へ実際に書込む期間、Hレベルを保持する。
Referring to FIGS. 16 and 17, signal generation circuit 1
The generation of the internal write signals WLi and WLSi at 50A will be described. Along with the address signal, a read / write control signal / W holding L level during a period for writing data to a memory cell designated by the address signal.
E is input. Then, the read / write buffer 50
The read / write control signal / WE holding the L level is output to the signal generation circuit 150. Then, one-shot multi 151 generates signal WEM which rises to H level in synchronization with the fall of read / write control signal / WE and outputs it to one-shot multis 152 and 153. Then, one-shot multi 152 generates internal write signal WLi which rises to H level in synchronization with the fall of signal WEM. The one-shot multi 153 outputs the internal write signal W which rises to the H level in synchronization with the fall of the signal WEM.
Generate LSi. Internal write signal WLi holds H level for a shorter period than read / write control signal / WE holds L level. Also, the internal write signal WL
Si is shorter than the period in which read / write control signal / WE holds L level, and stores data in memory cell 12.
The H level is maintained during the period of actually writing data to 1 to 124.

【0162】一方、データの読出し時、信号生成回路1
50Aは、Hレベルの読出/書込制御信号/WEが入力
される。そうすると、ワンショットマルチ151は、H
レベルの信号WEMを出力する。そして、ワンショット
マルチ152,153もHレベルの内部書込信号WL
i,WLSiを出力する。
On the other hand, when data is read, signal generation circuit 1
50A receives an H level read / write control signal / WE. Then, the one-shot multi 151 is H
The level signal WEM is output. Then, one-shot multis 152 and 153 also have internal write signal WL at H level.
i, WLSi.

【0163】そうすると、メモリセル121〜124へ
のデータの書込み時、電圧供給回路78は、Hレベルの
内部書込信号WEiと、Hレベルの内部書込信号WLS
iとが入力され、ワード線ドライバ60は、Hレベルの
内部書込信号WLiが入力される。そして、電圧供給回
路78は、Hレベルの内部書込信号WEiと、Hレベル
の内部書込信号WLSiとに基づいて、実際にデータを
書込む期間のみ、NチャネルMOSトランジスタ721
によって電圧VCC−VTHをメモリセル121〜12
4の電源ノード1へ供給する。また、ワード線ドライバ
60は、内部書込信号WLiがHレベルの期間のみ、行
アドレスに対応するワード線をHレベルに引き上げる。
これによって、実際にメモリセル121〜124にデー
タが書込まれる期間のみメモリセル121〜124をス
タティックノイズマージンSNMが小さいインバータ特
性に従って駆動できる。
Then, at the time of writing data to memory cells 121 to 124, voltage supply circuit 78 supplies H level internal write signal WEi and H level internal write signal WLS.
i is input, and the word line driver 60 receives the internal write signal WLi at the H level. Voltage supply circuit 78 receives N-channel MOS transistor 721 only during a period of actually writing data based on H-level internal write signal WEi and H-level internal write signal WLSi.
The voltage VCC-VTH is applied to the memory cells 121 to 12
4 to the power supply node 1. The word line driver 60 raises the word line corresponding to the row address to the H level only while the internal write signal WLi is at the H level.
Thus, the memory cells 121 to 124 can be driven according to the inverter characteristics with a small static noise margin SNM only during the period when data is actually written to the memory cells 121 to 124.

【0164】一方、メモリセル121〜124からのデ
ータの読出し時、電圧供給回路78は、Lレベルの内部
書込信号WEiと、Hレベルの内部書込信号WLSiと
が入力され、ワード線ドライバ60は、Hレベルの内部
書込信号WLiが入力される。そして、電圧供給回路7
8は、Lレベルの内部書込信号WEiと、Hレベルの内
部書込信号WLSiとに基づいて、PチャネルMOSト
ランジスタ720によって電圧VCCをメモリセル12
1〜124の電源ノード1へ供給する。また、ワード線
ドライバ60は、内部書込信号WLiがHレベルの期間
のみ、行アドレスに対応するワード線をHレベルに引き
上げる。これによって、メモリセル121〜124から
データが読出される期間、メモリセル121〜124を
スタティックノイズマージンSNMが大きいインバータ
特性に従って駆動できる。
On the other hand, when data is read from memory cells 121 to 124, voltage supply circuit 78 receives an internal write signal WEi at L level and an internal write signal WLSi at H level, and Receives an H level internal write signal WLi. And the voltage supply circuit 7
8, a voltage VCC is applied to the memory cell 12 by the P-channel MOS transistor 720 based on the L level internal write signal WEi and the H level internal write signal WLSi.
The power is supplied to the power supply nodes 1 to 124. The word line driver 60 raises the word line corresponding to the row address to the H level only while the internal write signal WLi is at the H level. Thus, during a period in which data is read from memory cells 121 to 124, memory cells 121 to 124 can be driven according to the inverter characteristic having a large static noise margin SNM.

【0165】スタティック型半導体記憶装置700にお
けるデータの読出動作および書込動作は実施の形態6と
同じである。
Data reading and writing operations in static semiconductor memory device 700 are the same as those in the sixth embodiment.

【0166】上記においては、実施の形態1における電
圧供給回路72を用いた例について説明したが、実施の
形態7においては、これに限らず、電圧供給回路72に
代えて実施の形態2における電圧供給回路73、実施の
形態3における電圧供給回路74、実施の形態4におけ
る電圧供給回路75、および実施の形態5における電圧
供給回路76を用いて電圧供給回路78を構成しても良
い。
In the above description, the example using the voltage supply circuit 72 in the first embodiment has been described. However, the seventh embodiment is not limited to this, and the voltage supply circuit 72 in the second embodiment is used instead of the voltage supply circuit 72. A voltage supply circuit 78 may be configured using the supply circuit 73, the voltage supply circuit 74 in the third embodiment, the voltage supply circuit 75 in the fourth embodiment, and the voltage supply circuit 76 in the fifth embodiment.

【0167】これらの電圧供給回路72〜76を用いて
電圧供給回路78を構成した場合にも内部書込信号WL
SiがHレベルを保持する期間のみ、小さいスタティッ
クノイズマージンSNMを有するインバータ特性に従っ
てメモリセルを駆動できる。
When voltage supply circuit 78 is formed using these voltage supply circuits 72 to 76, internal write signal WL
The memory cell can be driven according to the inverter characteristic having a small static noise margin SNM only during the period when Si holds the H level.

【0168】実施の形態7によれば、スタティック型半
導体記憶装置600は、データの書込みモード期間を示
す読出/書込制御信号/WEがLレベルを保持する期間
よりも短い、実際にデータを書込む期間のみ、小さいス
タティックノイズマージンSNMを有するインバータ特
性に従ってメモリセルを駆動するので、書込みマージン
を大きくできるとともに半導体記憶装置のさらに低消費
化を図ることができる。
According to the seventh embodiment, static type semiconductor memory device 600 actually writes data shorter than the period in which read / write control signal / WE indicating the data write mode period is at L level. Since the memory cells are driven in accordance with the inverter characteristics having a small static noise margin SNM only during the period of writing, the write margin can be increased, and the power consumption of the semiconductor memory device can be further reduced.

【0169】[実施の形態8]最近、スタティック型半
導体記憶装置の大容量化が進み、セルアレイが複数存在
する。そこで、図18に示すように複数のメモリセルを
複数のブロックBLK1,BLK2,・・・,BLKn
に分割し、各ブロックBLK1,BLK2,・・・,B
LKnに対応するように駆動回路901,902,・・
・,90nを設ける。各駆動回路901,902,・・
・,90nは、外部電源線5と接続されており、外部電
源電圧VCCが供給される。
[Eighth Embodiment] Recently, the capacity of a static semiconductor memory device has been increased, and a plurality of cell arrays exist. Therefore, as shown in FIG. 18, a plurality of memory cells are divided into a plurality of blocks BLK1, BLK2,..., BLKn.
, And each block BLK1, BLK2,.
Drive circuits 901, 902,... Corresponding to LKn
・, 90n are provided. Each drive circuit 901, 902,...
, 90n are connected to the external power supply line 5 and supplied with the external power supply voltage VCC.

【0170】各駆動回路901,902,・・・,90
nは、実施の形態1〜実施の形態5までに示した電圧供
給回路72〜76を含む。各駆動回路901,902,
・・・,90nが実施の形態1〜3,5に示した電圧供
給回路72〜74,76を含む場合、外部電源線5を介
して外部電源電圧VCCが供給される。そして、各駆動
回路901,902,・・・,90nの電圧供給回路7
2〜74,76の各々は、メモリセルの電源ノード1へ
電圧VCCまたはVCC−VTHを供給し、スタティッ
クノイズマージンSNMが小さいインバータ特性または
スタティックノイズマージンが大きいインバータ特性に
従って対応するブロックに含まれるメモリセルを駆動す
る。
Each driving circuit 901, 902,..., 90
n includes the voltage supply circuits 72 to 76 described in the first to fifth embodiments. Each drive circuit 901, 902,
, 90n include the voltage supply circuits 72 to 74, 76 described in the first to third and fifth embodiments, the external power supply voltage VCC is supplied via the external power supply line 5. The voltage supply circuit 7 of each of the driving circuits 901, 902,.
Each of memory cells 2 to 74 and 76 supplies voltage VCC or VCC-VTH to power supply node 1 of the memory cell, and includes a memory included in a corresponding block according to an inverter characteristic having a small static noise margin SNM or an inverter characteristic having a large static noise margin. Drive the cell.

【0171】また、各駆動回路901,902,・・
・,90nが実施の形態4に示した電圧供給回路75を
含む場合、外部電源線5を介して接地電圧GNDが供給
される。そして、各駆動回路901,902,・・・,
90nの電圧供給回路75は、メモリセルの接地ノード
8へ電圧GNDまたはGND+VTHを供給し、スタテ
ィックノイズマージンSNMが小さいインバータ特性ま
たはスタティックノイズマージンが大きいインバータ特
性に従って対応するブロックに含まれるメモリセルを駆
動する。
The driving circuits 901, 902,...
., 90n include the voltage supply circuit 75 shown in the fourth embodiment, the ground voltage GND is supplied via the external power supply line 5. Each of the driving circuits 901, 902,.
90n voltage supply circuit 75 supplies voltage GND or GND + VTH to ground node 8 of the memory cell, and drives a memory cell included in a corresponding block according to an inverter characteristic having a small static noise margin SNM or an inverter characteristic having a large static noise margin. I do.

【0172】また、各駆動回路901,902,・・
・,90nは、ブロック選択信号BLS1〜BLSnに
よって対応するブロックBLK1〜BLKnが選択され
たことに伴って、対応するブロックBLK1〜BLKn
に含まれるメモリセルを異なるインバータ特性に従って
駆動する。
The driving circuits 901, 902,...
, 90n correspond to the selection of the corresponding blocks BLK1 to BLKn by the block selection signals BLS1 to BLSn, and the corresponding blocks BLK1 to BLKn
Are driven according to different inverter characteristics.

【0173】図19を参照して、たとえば、各駆動回路
901,902,・・・,90nが実施の形態1におけ
る電圧供給回路72を含む場合、各駆動回路901,9
02,・・・,90nは電圧供給回路72と、NAND
801と、インバータ802とを備える。NAND80
1は、内部書込信号WEiとブロック選択信号BLS1
〜BLSnとを入力する。そして、データの書込み時、
Hレベルの内部書込信号WEiと、対応するブロックB
LK1〜BLKnが選択されたことを示すHレベルのブ
ロック選択信号とが入力されると、NAND801は、
Lレベルの信号を出力し、インバータ802はHレベル
の信号を出力する。したがって、電圧供給回路72はN
チャネルMOSトランジスタ721によって電圧VCC
−VTHを内部電源線6へ出力する。そうすると、対応
するブロックBLK1〜BLKnに含まれるメモリセル
は、スタティックノイズマージンSNMが小さいインバ
ータ特性に従って駆動され、書込みマージンが大きくな
る。
Referring to FIG. 19, for example, when each drive circuit 901, 902,..., 90n includes the voltage supply circuit 72 in the first embodiment, each drive circuit 901, 9
, 90n are a voltage supply circuit 72 and a NAND
801 and an inverter 802. NAND80
1 is the internal write signal WEi and the block select signal BLS1
To BLSn. When writing data,
H level internal write signal WEi and corresponding block B
When an H-level block selection signal indicating that LK1 to BLKn has been selected is input, NAND 801
An L-level signal is output, and inverter 802 outputs an H-level signal. Therefore, the voltage supply circuit 72
The voltage VCC is set by the channel MOS transistor 721.
-VTH is output to the internal power supply line 6. Then, the memory cells included in corresponding blocks BLK1 to BLKn are driven according to the inverter characteristic having a small static noise margin SNM, and the write margin is increased.

【0174】また、対応するブロックBLK1〜BLK
nが選択されていないとき、NAND801はLレベル
のブロック選択信号BLS1〜BLKnが入力されるた
め、Hレベルの信号を出力し、インバータ802はLレ
ベルの信号を出力する。その結果、電圧供給回路72
は、PチャネルMOSトランジスタ720によって電圧
VCCを内部電源線6へ出力する。そうすると、対応す
るブロックBLK1〜BLKnに含まれるメモリセルに
は、外部電源電圧VCCが供給される。したがって、そ
のブロックに含まれるメモリセルはデータを消失するこ
とがなく、安定している。
The corresponding blocks BLK1 to BLK
When n is not selected, the NAND 801 outputs an L level signal because the L level block selection signals BLS1 to BLKn are input, and the inverter 802 outputs an L level signal. As a result, the voltage supply circuit 72
Outputs voltage VCC to internal power supply line 6 by P-channel MOS transistor 720. Then, the external power supply voltage VCC is supplied to the memory cells included in the corresponding blocks BLK1 to BLKn. Therefore, the memory cells included in the block are stable without losing data.

【0175】データの読出し時、NADN801は、L
レベルの内部書込信号WEiが入力されるため、対応す
るブロックBLK1〜BLKnが選択されているか否か
に拘わらず、すなわち、ブロック選択信号BLS1〜B
LSnがHレベルかLレベルかに拘わらず、Hレベルの
信号を出力し、インバータ802はLレベルの信号を出
力する。そうすると、上述したように電圧供給回路72
は、PチャネルMOSトランジスタ720によって電圧
VCCを内部電源線6へ出力する。そして、対応するブ
ロックBLK1〜BLKnに含まれるメモリセルには、
外部電源電圧VCCが供給される。したがって、対応す
るブロックがデータの読出しにおいて選択されていると
きは、そのブロックに含まれるメモリセルは、スタティ
ックノイズマージンSNMが大きいインバータ特性に従
って駆動されてデータの読出しが行われる。データの読
出しモードにおいて、対応するブロックが選択されてい
ないときは、そのブロックに含まれるメモリセルはデー
タを消失することがなく、安定している。
At the time of data reading, NADN 801 outputs L
Since the internal write signal WEi of the level is input, regardless of whether the corresponding blocks BLK1 to BLKn are selected, that is, the block selection signals BLS1 to BLSB
Regardless of whether LSn is at H level or L level, an H level signal is output, and the inverter 802 outputs an L level signal. Then, as described above, the voltage supply circuit 72
Outputs voltage VCC to internal power supply line 6 by P-channel MOS transistor 720. The memory cells included in the corresponding blocks BLK1 to BLKn include:
An external power supply voltage VCC is supplied. Therefore, when a corresponding block is selected for data reading, memory cells included in the block are driven according to the inverter characteristic having a large static noise margin SNM to read data. In the data read mode, when the corresponding block is not selected, the memory cells included in the block are stable without data loss.

【0176】他の電圧供給回路73〜76を用いた場合
も同様である。したがって、電圧供給回路72〜76に
よる対応するブロックに含まれるメモリセルへの電圧の
供給をブロック選択信号と関連させることによって、対
応するブロックに含まれるメモリセルをデータの書込み
またはデータの読出しに適したインバータ特性に従って
正確に駆動することができる。
The same applies when other voltage supply circuits 73 to 76 are used. Therefore, the voltage supply to the memory cells included in the corresponding block by voltage supply circuits 72 to 76 is associated with the block selection signal, so that the memory cells included in the corresponding block are suitable for writing data or reading data. It can be driven accurately according to the inverter characteristics.

【0177】実施の形態8によれば、各ブロックに対応
して設けられた各駆動回路は、対応するブロックが選択
されると、そのブロックに含まれるメモリセルをスタテ
ィックノイズマージンが小さいインバータ特性またはス
タティックノイズマージンが大きいインバータ特性に従
って駆動するので、データの書込み時、およびデータの
読出しを正確に行なうことできる。
According to the eighth embodiment, when a corresponding block is selected, each drive circuit provided corresponding to each block can change a memory cell included in the block to an inverter characteristic or a static noise margin having a small static noise margin. Since driving is performed in accordance with the inverter characteristic having a large static noise margin, data can be written and data can be read accurately.

【0178】今回開示された実施の形態はすべての点で
例示であって制限的なものではないと考えられるべきで
ある。本発明の範囲は、上記した実施の形態の説明では
なくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲
と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる
ことが意図される。
The embodiments disclosed this time are to be considered in all respects as illustrative and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description of the embodiments, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

【0179】[0179]

【発明の効果】本発明によれば、スタティック型半導体
記憶装置は、データの書込み時、小さいスタティックノ
イズマージンSNMを有するインバータ特性に従ってメ
モリセルを駆動するための電圧VCC−VTHをメモリ
セルに供給し、データの読出し時、大きいスタティック
ノイズマージンSNMを有するインバータ特性に従って
メモリセルを駆動するための電圧VCCをメモリセルに
供給するので、メモリセルを安定に駆動し、かつ、デー
タの書込みマージンを大きくできる。
According to the present invention, a static semiconductor memory device supplies a voltage VCC-VTH for driving a memory cell according to an inverter characteristic having a small static noise margin SNM to a memory cell at the time of writing data. When data is read, voltage VCC for driving the memory cell is supplied to the memory cell in accordance with the inverter characteristic having a large static noise margin SNM, so that the memory cell can be driven stably and the data write margin can be increased. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 実施の形態1によるスタティック型半導体記
憶装置の概略ブロック図である。
FIG. 1 is a schematic block diagram of a static semiconductor memory device according to a first embodiment.

【図2】 図1に示す半導体記憶装置における電圧供給
回路の回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram of a voltage supply circuit in the semiconductor memory device shown in FIG.

【図3】 実施の形態2によるスタティック型半導体記
憶装置の電圧供給回路の回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram of a voltage supply circuit of a static semiconductor memory device according to a second embodiment;

【図4】 実施の形態3によるスタティック型半導体記
憶装置の電圧供給回路の回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram of a voltage supply circuit of a static semiconductor memory device according to a third embodiment.

【図5】 実施の形態4によるスタティック型半導体記
憶装置の電圧供給回路の回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram of a voltage supply circuit of a static semiconductor memory device according to a fourth embodiment.

【図6】 図5に示す電圧供給回路により電圧が供給さ
れたときのメモリセルのインバータ特性図である。。
6 is an inverter characteristic diagram of a memory cell when a voltage is supplied by the voltage supply circuit shown in FIG. 5; .

【図7】 スタティック型半導体記憶装置の概略ブロッ
ク図である。
FIG. 7 is a schematic block diagram of a static semiconductor memory device.

【図8】 実施の形態5によるスタティック型半導体記
憶装置の電圧供給回路の回路図である。
FIG. 8 is a circuit diagram of a voltage supply circuit of a static semiconductor memory device according to a fifth embodiment.

【図9】 図8の電圧供給回路に含まれる外部電源電圧
制御回路の回路図である。
9 is a circuit diagram of an external power supply voltage control circuit included in the voltage supply circuit of FIG.

【図10】 図8の電圧供給回路に含まれる外部電源電
圧制御回路が出力する電圧の特性図である。
FIG. 10 is a characteristic diagram of a voltage output by an external power supply voltage control circuit included in the voltage supply circuit of FIG. 8;

【図11】 実施の形態6によるスタティック型半導体
記憶装置の概略ブロック図である。
FIG. 11 is a schematic block diagram of a static semiconductor memory device according to a sixth embodiment.

【図12】 図11に示すスタティック型半導体記憶装
置の信号生成回路のブロック図である。
12 is a block diagram of a signal generation circuit of the static semiconductor memory device shown in FIG.

【図13】 図11に示すスタティック型半導体記憶装
置の電圧供給回路の回路図である。
13 is a circuit diagram of a voltage supply circuit of the static semiconductor memory device shown in FIG.

【図14】 図11に示すスタティック型半導体記憶装
置における信号のタイミングチャート図である。
14 is a timing chart of signals in the static semiconductor memory device shown in FIG. 11;

【図15】 実施の形態7によるスタティック型半導体
記憶装置の概略ブロック図である。
FIG. 15 is a schematic block diagram of a static semiconductor memory device according to a seventh embodiment.

【図16】 図15に示すスタティック型半導体記憶装
置における信号生成回路のブロック図である。
16 is a block diagram of a signal generation circuit in the static semiconductor memory device shown in FIG.

【図17】 図15に示すスタティック型半導体記憶装
置における信号のタイミングチャート図である。
17 is a timing chart of signals in the static semiconductor memory device shown in FIG.

【図18】 実施の形態8によるスタティック型半導体
記憶装置のブロック構成図である。
FIG. 18 is a block diagram of a static semiconductor memory device according to an eighth embodiment.

【図19】 図18に示すスタティック型半導体記憶装
置の駆動回路の回路図である。
19 is a circuit diagram of a drive circuit of the static semiconductor memory device shown in FIG.

【図20】 高抵抗負荷型のメモリセルの回路図であ
る。
FIG. 20 is a circuit diagram of a high resistance load type memory cell.

【図21】 図20に示すメモリセルのインバータ特性
図である。
21 is an inverter characteristic diagram of the memory cell shown in FIG.

【図22】 高抵抗負荷型のメモリセルの他の回路図で
ある。
FIG. 22 is another circuit diagram of a high resistance load type memory cell.

【図23】 フルCMOS型のメモリセルの回路図であ
る。
FIG. 23 is a circuit diagram of a full CMOS type memory cell.

【図24】 図23に示すメモリセルのインバータ特性
図である。
24 is an inverter characteristic diagram of the memory cell shown in FIG.

【図25】 フルCMOS型のメモリセルの他の回路図
である。
FIG. 25 is another circuit diagram of a full CMOS type memory cell.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,722 電源ノード、2a,2b,731,76
5,767 抵抗、5外部電源線、6 内部電源線、1
0 行アドレスバッファ、3a,3b,4a,4b,1
3a,13b,141〜144,721,751,76
4,770 NチャネルMOSトランジスタ、7a,7
b,720,752,763,768,769 Pチャ
ネルMOSトランジスタ、8,750,766 接地ノ
ード、14a I/O線、20 列アドレスバッファ、
30 行アドレスデコーダ、40列アドレスデコーダ、
50 読出/書込バッファ、60 ワード線ドライバ、
70,70A,901〜90n 駆動回路、71,74
2,753,762,782,802 インバータ、7
2,73,74,75,76,78 電圧供給回路、8
0 書込ドライバ、90 センスアンプ、100〜60
0 半導体記憶装置、110 列選択スイッチ、120
〜124 メモリセル、130 入出力バッファ、15
0,150A 信号生成回路、151〜153 ワンシ
ョットマルチ、741 Pチャネル薄膜トランジスタ、
761 外部電源電圧制御回路、763,771,77
2 ノード、781,801 NAND。
1,722 power supply nodes, 2a, 2b, 731, 76
5,767 resistance, 5 external power line, 6 internal power line, 1
0 row address buffer, 3a, 3b, 4a, 4b, 1
3a, 13b, 141 to 144, 721, 751, 76
4,770 N-channel MOS transistors, 7a, 7
b, 720,752,763,768,769 P-channel MOS transistor, 8,750,766 Ground node, 14a I / O line, 20 column address buffer,
30 row address decoder, 40 column address decoder,
50 read / write buffers, 60 word line drivers,
70, 70A, 901 to 90n drive circuit, 71, 74
2,753,762,782,802 Inverter, 7
2, 73, 74, 75, 76, 78 Voltage supply circuit, 8
0 Write driver, 90 sense amplifier, 100-60
0 semiconductor memory device, 110 column selection switch, 120
~ 124 memory cells, 130 I / O buffers, 15
0,150A signal generation circuit, 151-153 one-shot multi, 741 P-channel thin film transistor,
761 external power supply voltage control circuit, 763, 771, 77
2 nodes, 781, 801 NAND.

Claims (18)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1のスタティックノイズマージンを有
する第1のインバータ特性または前記第1のスタティッ
クノイズマージンよりも大きい第2のスタティックノイ
ズマージンを有する第2のインバータ特性に従って駆動
される複数のメモリセルと、 前記複数のメモリセルの各々にデータを書込むとき、前
記第1のインバータ特性に従って前記複数のメモリセル
の各々を駆動させ、前記複数のメモリセルの各々からデ
ータを読出すとき、前記第2のインバータ特性に従って
前記複数のメモリセルの各々を駆動させる駆動回路とを
備え、 前記複数のメモリセルの各々は、 第1の導電型の第1の駆動用トランジスタおよび第2の
導電型の第1の負荷用トランジスタからなる第1のイン
バータならびに第1の導電型の第2の駆動用トランジス
タおよび第2の導電型の第2の負荷用トランジスタから
なる第2のインバータを有するフリップフロップ回路
と、 前記第1のインバータの出力ノードに接続される第1の
導電型の第1のアクセストランジスタと、 前記第2のインバータの出力ノードに接続される第1の
導電型の第2のアクセストランジスタとを含む、スタテ
ィック型半導体記憶装置。
1. A plurality of memory cells driven according to a first inverter characteristic having a first static noise margin or a second inverter characteristic having a second static noise margin larger than the first static noise margin. When writing data to each of the plurality of memory cells, driving each of the plurality of memory cells according to the first inverter characteristic, and reading data from each of the plurality of memory cells, A driving circuit for driving each of the plurality of memory cells according to the inverter characteristics of the first and second inverters, wherein each of the plurality of memory cells includes a first driving transistor of a first conductivity type and a second driving transistor of a second conductivity type. A first inverter comprising a load transistor and a second drive transistor of a first conductivity type; And a flip-flop circuit having a second inverter including a second load transistor of a second conductivity type and a first access transistor of a first conductivity type connected to an output node of the first inverter. And a second access transistor of a first conductivity type connected to an output node of the second inverter.
【請求項2】 前記駆動回路は、前記複数のメモリセル
の各々にデータを書込むとき、前記第1のインバータ特
性に従って駆動させるための第1の電圧を前記複数のメ
モリセルの各々に供給し、前記複数のメモリセルの各々
からデータを読出すとき、前記第2のインバータ特性に
従って駆動させるための第2の電圧を前記複数のメモリ
セルの各々に供給する、請求項1に記載のスタティック
型半導体記憶装置。
2. The method according to claim 1, wherein when writing data to each of the plurality of memory cells, the drive circuit supplies a first voltage for driving the plurality of memory cells to each of the plurality of memory cells. 2. The static type according to claim 1, wherein when data is read from each of said plurality of memory cells, a second voltage for driving according to said second inverter characteristic is supplied to each of said plurality of memory cells. Semiconductor storage device.
【請求項3】 前記駆動回路は、前記第1および第2の
電圧を前記各メモリセルの高電圧ノードへ供給する、請
求項2に記載のスタティック型半導体記憶装置。
3. The static semiconductor memory device according to claim 2, wherein said drive circuit supplies said first and second voltages to a high voltage node of each of said memory cells.
【請求項4】 前記駆動回路は、 書込み信号の活性化に伴って第1の活性化信号を生成
し、前記書込み信号の不活性化に伴って第2の活性化信
号を生成する活性化信号生成回路と、 前記複数のメモリセルの各々にデータを書込むとき、前
記第1の活性化信号に基づいて前記第1の電圧を前記複
数のメモリセルの各々に供給し、前記複数のメモリセル
の各々からデータを読出すとき、前記第2の活性化信号
に基づいて前記第2の電圧を前記複数のメモリセルの各
々に供給する電圧供給回路とを含み、 前記電圧供給回路は、 外部電源電圧が供給される外部電源線と、 前記複数のメモリセルの各々の高電圧ノードに接続され
た内部電源線と、 前記外部電源線と前記内部電源線との間に接続され、前
記第1の活性化信号を受けて前記第1の電圧を前記内部
電源線に供給する第1の導電型の第1の電圧供給用トラ
ンジスタと、 前記外部電源線と前記内部電源線との間に前記第1の電
圧供給用トランジスタと並列接続され、前記第2の活性
化信号を受けて前記第2の電圧を前記内部電源線に供給
する第2の導電型の第2の電圧供給用トランジスタとか
ら成る、請求項3に記載のスタティック型半導体記憶装
置。
4. An activation signal for generating a first activation signal in response to activation of a write signal, and for generating a second activation signal in response to inactivation of the write signal. A generation circuit, when writing data to each of the plurality of memory cells, supplying the first voltage to each of the plurality of memory cells based on the first activation signal; And a voltage supply circuit for supplying the second voltage to each of the plurality of memory cells based on the second activation signal when reading data from each of the plurality of memory cells. An external power supply line to which a voltage is supplied; an internal power supply line connected to a high voltage node of each of the plurality of memory cells; a first power supply line connected between the external power supply line and the internal power supply line; In response to the activation signal, the first voltage is increased. A first voltage supply transistor of a first conductivity type to be supplied to the internal power supply line, and the first voltage supply transistor connected between the external power supply line and the internal power supply line in parallel with the first voltage supply transistor; 4. The static semiconductor memory device according to claim 3, further comprising a second voltage supply transistor of a second conductivity type that receives the second activation signal and supplies the second voltage to the internal power supply line.
【請求項5】 前記駆動回路は、前記第1および第2の
電圧を前記各メモリセルの低電圧ノードへ供給する、請
求項2に記載のスタティック型半導体記憶装置。
5. The static semiconductor memory device according to claim 2, wherein said drive circuit supplies said first and second voltages to a low voltage node of each of said memory cells.
【請求項6】 前記駆動回路は、 書込み信号の活性化に伴って第1の活性化信号を生成
し、前記書込み信号の不活性化に伴って第2の活性化信
号を生成する活性化信号生成回路と、 前記複数のメモリセルの各々にデータを書込むとき、前
記第1の活性化信号に基づいて前記第1の電圧を前記複
数のメモリセルの各々に供給し、前記複数のメモリセル
の各々からデータを読出すとき、前記第2の活性化信号
に基づいて前記第2の電圧を前記複数のメモリセルの各
々に供給する電圧供給回路とを含み、 前記電圧供給回路は、 接地電圧が供給される接地ノードと、 前記複数のメモリセルの各々の低電圧ノードに接続され
た内部電源線と、 前記接地ノードと前記内部電源線との間に接続され、前
記第1の活性化信号を受けて前記第1の電圧を前記内部
電源線に供給する第2の導電型の第3の電圧供給用トラ
ンジスタと、 前記接地ノードと前記内部電源線との間に前記第3の電
圧供給用トランジスタと並列接続され、前記第2の活性
化信号を受けて前記第2の電圧を前記内部電源線に供給
する第1の導電型の第4の電圧供給用トランジスタとか
ら成る、請求項6に記載のスタティック型半導体記憶装
置。
6. An activation signal for generating a first activation signal in response to activation of a write signal, and for generating a second activation signal in response to inactivation of the write signal. A generation circuit, when writing data to each of the plurality of memory cells, supplying the first voltage to each of the plurality of memory cells based on the first activation signal; And a voltage supply circuit for supplying the second voltage to each of the plurality of memory cells based on the second activation signal when reading data from each of the plurality of memory cells. A first activation signal connected between the ground node and the internal power supply line, the first activation signal being connected between the ground node and the internal power supply line. Receiving the first voltage and A third voltage supply transistor of a second conductivity type to be supplied to the internal power supply line, and a third voltage supply transistor connected in parallel with the third voltage supply transistor between the ground node and the internal power supply line; 7. The static semiconductor memory device according to claim 6, further comprising a fourth voltage supply transistor of a first conductivity type for receiving said activation signal and supplying said second voltage to said internal power supply line.
【請求項7】 前記駆動回路は、 前記複数のメモリセルの各々にデータを書込むとき、前
記各メモリセルの負荷を前記第1のインバータ特性に従
って駆動させるための第1の負荷に設定し、前記複数の
メモリセルの各々からデータを読出すとき、前記各メモ
リセルの負荷を前記第2のインバータ特性に従って駆動
させるための第2の負荷に設定する、請求項1に記載の
スタティック型半導体記憶装置。
7. The drive circuit, when writing data to each of the plurality of memory cells, sets a load of each of the memory cells to a first load for driving according to the first inverter characteristic, 2. The static semiconductor memory according to claim 1, wherein when reading data from each of said plurality of memory cells, a load of each of said memory cells is set to a second load for driving according to said second inverter characteristic. apparatus.
【請求項8】 前記駆動回路は、 書込み信号の活性化に伴って活性化信号を生成し、書込
み信号の不活性化に伴って不活性化信号を生成する信号
生成回路と、 前記複数のメモリセルの各々にデータを書込むとき、前
記不活性化信号に基づいて前記第2の電圧を供給して前
記各メモリセルの負荷を前記第1の負荷に設定し、前記
複数のメモリセルの各々からデータを読出すとき、前記
活性化信号に基づいて前記第2の電圧を供給して前記各
メモリセルの負荷を前記第2の負荷に設定する電圧供給
回路とを含む、請求項7に記載のスタティック型半導体
記憶装置。
8. A signal generation circuit for generating an activation signal in accordance with activation of a write signal, and generating an inactivation signal in accordance with inactivation of the write signal; When writing data to each of the cells, the second voltage is supplied based on the inactivation signal to set the load of each of the memory cells to the first load. And a voltage supply circuit for supplying the second voltage based on the activation signal and setting a load of each of the memory cells to the second load when reading data from the memory cell. Static semiconductor memory device.
【請求項9】 前記電圧供給回路は、 外部電源電圧が供給される外部電源線と、 前記複数のメモリセルの各々の高電圧ノードに接続され
た内部電源線と、 前記外部電源線と前記内部電源線との間に接続され、前
記活性化信号を受けて前記内部電源線に前記第2の電圧
を供給し、前記各メモリセルの負荷を前記第2の負荷に
設定する第2の導電型の電圧供給用トランジスタと、 前記外部電源線と前記内部電源線との間に前記電圧供給
用トランジスタと並列接続され、前記不活性化信号によ
って前記電圧供給用トランジスタが不活性化されること
に伴って前記内部電源線に前記第2の電圧を供給し、前
記各メモリセルの負荷を前記第1の負荷に設定する抵抗
とから成る、請求項8に記載のスタティック型半導体記
憶装置。
9. The external power supply line to which an external power supply voltage is supplied, an internal power supply line connected to a high voltage node of each of the plurality of memory cells, the external power supply line and the internal power supply line. A second conductive type connected between the power supply line and the power supply line, receiving the activation signal, supplying the second voltage to the internal power supply line, and setting the load of each memory cell to the second load; The voltage supply transistor is connected in parallel with the voltage supply transistor between the external power supply line and the internal power supply line, and the voltage supply transistor is inactivated by the inactivation signal. 9. The static semiconductor memory device according to claim 8, further comprising: a resistor that supplies the second voltage to the internal power supply line and sets a load of each of the memory cells to the first load.
【請求項10】 前記駆動回路は、 書込み信号の活性化に伴って第1の活性化信号を生成
し、書込み信号の不活性化に伴って第2の活性化信号を
生成する活性化信号生成回路と、 前記複数のメモリセルの各々にデータを書込むとき、前
記第1の活性化信号に基づいて前記第2の電圧を供給し
て前記各メモリセルの負荷を前記第1の負荷に設定し、
前記複数のメモリセルの各々からデータを読出すとき、
前記第2の活性化信号に基づいて前記第2の電圧を供給
して前記各メモリセルの負荷を前記第2の負荷に設定す
る電圧供給回路とを含む、請求項7に記載のスタティッ
ク型半導体記憶装置。
10. An activation signal generator for generating a first activation signal when a write signal is activated and for generating a second activation signal when a write signal is deactivated. A circuit, when writing data to each of the plurality of memory cells, supplying the second voltage based on the first activation signal to set the load of each memory cell to the first load And
When reading data from each of the plurality of memory cells,
8. The static semiconductor according to claim 7, further comprising: a voltage supply circuit configured to supply the second voltage based on the second activation signal to set a load of each of the memory cells to the second load. Storage device.
【請求項11】 前記電圧供給回路は、 外部電源電圧が供給される外部電源線と、 前記複数のメモリセルの各々の高電圧ノードに接続され
た内部電源線と、 前記外部電源線と前記内部電源線との間に接続され、前
記第1の活性化信号を受けて前記内部電源線に前記第2
の電圧を供給し、前記各メモリセルの負荷を前記第1の
負荷に設定する第2の導電型の薄膜トランジスタと、 前記外部電源線と前記内部電源線との間に前記薄膜トラ
ンジスタと並列接続され、前記第2の活性化信号を受け
て前記内部電源線に前記第2の電圧を供給し、前記各メ
モリセルの負荷を前記第2の負荷に設定する第2の導電
型の電圧供給用トランジスタとから成る、請求項10に
記載のスタティック型半導体記憶装置。
11. The voltage supply circuit includes: an external power supply line to which an external power supply voltage is supplied; an internal power supply line connected to a high voltage node of each of the plurality of memory cells; And a second power supply line connected to the internal power supply line in response to the first activation signal.
And a second conductive type thin film transistor for setting the load of each memory cell to the first load, and the thin film transistor is connected in parallel with the thin film transistor between the external power supply line and the internal power supply line, A second conductivity type voltage supply transistor for receiving the second activation signal, supplying the second voltage to the internal power supply line, and setting the load of each of the memory cells to the second load; 11. The static semiconductor memory device according to claim 10, comprising:
【請求項12】 第1のスタティックノイズマージンを
有する第1のインバータ特性または前記第1のスタティ
ックノイズマージンよりも大きい第2のスタティックノ
イズマージンを有する第2のインバータ特性に従って駆
動される複数のメモリセルと、 前記複数のメモリセルの各々にデータを書込むとき、供
給される外部電源電圧に応じて前記第1のインバータ特
性または前記第2のインバータ特性に従って前記複数の
メモリセルの各々を駆動させる駆動回路とを備え、 前記複数のメモリセルの各々は、 第1の導電型の第1の駆動用トランジスタおよび第2の
導電型の第1の負荷用トランジスタからなる第1のイン
バータならびに第1の導電型の第2の駆動用トランジス
タおよび第2の導電型の第2の負荷用トランジスタから
なる第2のインバータを有するフリップフロップ回路
と、 前記第1のインバータの出力ノードに接続される第1の
導電型の第1のアクセストランジスタと、 前記第2のインバータの出力ノードに接続される第1の
導電型の第2のアクセストランジスタとを含む、スタテ
ィック型半導体記憶装置。
12. A plurality of memory cells driven according to a first inverter characteristic having a first static noise margin or a second inverter characteristic having a second static noise margin larger than the first static noise margin. And when driving data in each of the plurality of memory cells, driving each of the plurality of memory cells according to the first inverter characteristic or the second inverter characteristic according to a supplied external power supply voltage. A first inverter comprising a first drive transistor of a first conductivity type and a first load transistor of a second conductivity type, and a first conductivity type. A second driving transistor of the second conductivity type and a second load transistor of the second conductivity type. A flip-flop circuit having an inverter, a first access transistor of a first conductivity type connected to an output node of the first inverter, and a first conductivity type connected to an output node of the second inverter. And a second access transistor.
【請求項13】 前記駆動回路は、前記第1の駆動用ト
ランジスタと前記第1のアクセストランジスタとのイン
バータ特性、または前記第2の駆動用トランジスタと前
記第2のアクセストランジスタとのインバータ特性が消
滅する下限電圧よりも高い外部電源電圧が供給されたと
き、前記複数のメモリセルの各々を前記第1のインバー
タ特性に従って駆動し、前記下限電圧以下の外部電源電
圧が供給されたとき、前記複数のメモリセルの各々を前
記第2のインバータ特性に従って駆動する、請求項12
に記載のスタティック型半導体記憶装置。
13. The drive circuit according to claim 1, wherein an inverter characteristic between the first drive transistor and the first access transistor or an inverter characteristic between the second drive transistor and the second access transistor disappears. When an external power supply voltage higher than the lower limit voltage is supplied, each of the plurality of memory cells is driven according to the first inverter characteristic, and when the external power supply voltage equal to or lower than the lower limit voltage is supplied, the plurality of memory cells are driven. 13. The method according to claim 12, wherein each of the memory cells is driven according to the second inverter characteristic.
3. The static semiconductor memory device according to 1.
【請求項14】 前記駆動回路は、 書込み信号の活性化に伴って、 前記下限電圧よりも高い外部電源電圧が供給されたと
き、前記複数のメモリセルの各々を前記第1のインバー
タ特性に従って駆動させるための第1の電圧を出力し、
前記下限電圧以下の外部電源電圧が供給されたとき、前
記複数のメモリセルの各々を前記第2のインバータ特性
に従って動作させるための第2の電圧を出力する外部電
源電圧制御回路を含む、請求項13に記載のスタティッ
ク型半導体記憶装置。
14. The drive circuit, when an external power supply voltage higher than the lower limit voltage is supplied along with activation of a write signal, drives each of the plurality of memory cells according to the first inverter characteristic. Outputting a first voltage for causing
11. An external power supply voltage control circuit that outputs a second voltage for operating each of the plurality of memory cells according to the second inverter characteristic when an external power supply voltage equal to or lower than the lower limit voltage is supplied. 14. The static semiconductor memory device according to item 13.
【請求項15】 前記駆動回路は、書込み信号が活性化
される期間よりも短い期間、前記第1のインバータ特性
に従って前記複数のメモリセルの各々を駆動させる、請
求項1または請求項12に記載のスタティック型半導体
記憶装置。
15. The drive circuit according to claim 1, wherein the drive circuit drives each of the plurality of memory cells according to the first inverter characteristic for a period shorter than a period during which a write signal is activated. Static semiconductor memory device.
【請求項16】 前記駆動回路は、書込み信号の活性化
に伴ってデータがメモリセルに書込まれる期間だけ、前
記第1のインバータ特性に従って前記複数のメモリセル
の各々を駆動させる、請求項1または請求項12に記載
のスタティック型半導体記憶装置。
16. The drive circuit according to claim 1, wherein the drive circuit drives each of the plurality of memory cells according to the first inverter characteristic only during a period in which data is written to the memory cells in response to activation of a write signal. 13. The static semiconductor memory device according to claim 12.
【請求項17】 前記複数のメモリセルは複数のブロッ
クに分割され、 前記駆動回路は、前記複数のブロックに対応して設けら
れる、請求項1または請求項12に記載のスタティック
型半導体記憶装置。
17. The static semiconductor memory device according to claim 1, wherein said plurality of memory cells are divided into a plurality of blocks, and said driving circuit is provided corresponding to said plurality of blocks.
【請求項18】 前記駆動回路は、対応するブロックを
選択するブロック選択信号の活性化に伴って前記第1の
電圧を対応するブロックに含まれる複数のメモリセルに
供給する、請求項17に記載のスタティック型半導体記
憶装置。
18. The drive circuit according to claim 17, wherein the drive circuit supplies the first voltage to a plurality of memory cells included in the corresponding block in response to activation of a block selection signal for selecting the corresponding block. Static semiconductor memory device.
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