JP2002037759A - Method for producing acrylic acid ester or methacrylic acid ester - Google Patents

Method for producing acrylic acid ester or methacrylic acid ester

Info

Publication number
JP2002037759A
JP2002037759A JP2000220965A JP2000220965A JP2002037759A JP 2002037759 A JP2002037759 A JP 2002037759A JP 2000220965 A JP2000220965 A JP 2000220965A JP 2000220965 A JP2000220965 A JP 2000220965A JP 2002037759 A JP2002037759 A JP 2002037759A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
acrylic acid
acid derivative
derivative
producing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2000220965A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Takeuchi
寛 竹内
Hideyuki Nishikawa
秀幸 西川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2000220965A priority Critical patent/JP2002037759A/en
Publication of JP2002037759A publication Critical patent/JP2002037759A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To a (meth)acrylic acid ester of a hydroxyalkyl group-containing benzoic acid derivative or cinnamic acid derivative, not using a large excess amount of (meth)acrylic acid, preventing the occurrence of a white insoluble matter in a treatment (distillation of acrylic acid used in an excess amount) after the reaction while reducing a by-product. SOLUTION: In this method for producing an acrylic acid ester or a methacrylic acid ester from acrylic acid or methacrylic acid and a corresponding hydroxyalkyl group-containing benzoic acid derivative or cinnamic acid derivative, acrylic acid or methacrylic acid is converted into a corresponding acid halide, the acid halide is not isolated and is reacted with the benzoic acid derivative or the cinnamic acid derivative.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は高分子液晶などの機
能性高分子の原料となる、芳香族環を含む(メタ)アク
リル酸エステルの製造方法に関する発明である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing a (meth) acrylate containing an aromatic ring, which is a raw material for a functional polymer such as a liquid crystal polymer.

【0002】[0002]

【従来の技術】分子中に安息香酸部および桂皮酸部を含
まない(メタ)アクリル酸エステル(アクリル酸エステ
ルまたはメタクリル酸エステル)の製造方法は、古くか
ら知られており、例えば特公昭60−42777号公報
には、酸触媒存在下で(メタ)アクリル酸とアルコール
を用いた(メタ)アクリル酸エステルの製造方法に関し
ての記載がある。この方法は、ヒドロキシアルキル基を
有する安息香酸誘導体および桂皮酸誘導体から対応する
(メタ)アクリル酸エステルを製造する方法にも応用さ
れており、例えば、M.Portugallらの研究報
告[Makromol.Chem.183巻、2311
頁(1982年)]やAhlheim Markusら
の研究報告[Makromol.Chem.193巻、
779頁(1992年)]に記載されている。水との共
沸溶媒であるクロロホルム共存下、過剰の(メタ)アク
リル酸を用いる方法により製造することができる。しか
し、この方法で用いられているクロロホルムは、毒性が
強いことが知られている。また、100℃以下の水との
共沸溶媒として一般的に用いられているベンゼンも、同
様に毒性が強い。それら毒性の強い溶媒に代えて、アク
リル酸またはメタクリル酸を溶媒として用いる方法が特
開平8−310996号に開示されている。しかしなが
ら、過剰量に用いているアクリル酸またはメタクリル酸
を減圧蒸留で除く際に、蒸留装置にアクリル酸またはメ
タクリル酸の重合体と思われる白色の不溶物が付着する
といった問題がある。
2. Description of the Related Art A process for producing a (meth) acrylate (acrylate or methacrylate) containing no benzoic acid or cinnamic acid in the molecule has been known for a long time. JP-A-42777 describes a method for producing a (meth) acrylate using (meth) acrylic acid and an alcohol in the presence of an acid catalyst. This method is also applied to a method for producing a corresponding (meth) acrylate from a benzoic acid derivative and a cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group. Research report by Portugall et al. [Makromol. Chem. 183, 2311
(1982)] and a research report by Ahlheim Markus et al. [Makromol. Chem. 193 volumes,
779 (1992)]. It can be produced by a method using an excess of (meth) acrylic acid in the presence of chloroform, which is an azeotropic solvent with water. However, chloroform used in this method is known to be highly toxic. Benzene, which is generally used as an azeotropic solvent with water at 100 ° C. or lower, is also highly toxic. A method in which acrylic acid or methacrylic acid is used as a solvent in place of these highly toxic solvents is disclosed in JP-A-8-310996. However, when acrylic acid or methacrylic acid used in an excessive amount is removed by distillation under reduced pressure, there is a problem that a white insoluble material, which is considered to be a polymer of acrylic acid or methacrylic acid, adheres to the distillation apparatus.

【0003】また別の方法として、例えば、D.J.B
roerらの研究報告[Makromol.Chem.
190巻、2255頁(1989年)]やKoch T
omasらの研究報告[Makromol.Chem.
190巻、1369頁(1989年)]に記載されてい
る(メタ)アクリル酸クロライドを用いる方法が知られ
ている。(メタ)アクリル酸クロリドを大過剰使わなく
ても反応が速やかに進行するので、反応後の操作で不溶
性の重合物が生成しないという利点を有している。しか
し、この方法では(メタ)アクリル酸クロライドが催涙
性が強く、その取扱いには十分な注意が必要である。ま
た(メタ)アクリル酸クロライドは、試薬で入手できる
ものの大量に入手することは困難であり、対応するアク
リル酸エステルを製造する際に障害となっていた。さら
にヒドロキシアルキル基を有する安息香酸誘導体から
(メタ)アクリル酸エステルを製造する際に(メタ)ア
クリル酸クロライドを用いた場合には、副生成物が生成
する点が問題となっていた。我々が主な副生成物を解析
した結果、反応中に発生するハロゲン化水素がアクリル
酸部位に付加した副生成物であることがわかった。
[0003] As another method, for example, D.I. J. B
Roer et al. [Makromol. Chem.
190, 2255 (1989)] and Koch T
Omas et al. [Makromol. Chem.
190, p. 1369 (1989)], and a method using (meth) acrylic acid chloride is known. Since the reaction proceeds rapidly without using a large excess of (meth) acrylic acid chloride, there is an advantage that an insoluble polymer is not generated by an operation after the reaction. However, in this method, (meth) acrylic acid chloride has a strong tearing property, and its handling requires careful attention. Further, (meth) acrylic acid chloride can be obtained as a reagent, but it is difficult to obtain it in large quantities, which has been an obstacle in producing the corresponding acrylate. Furthermore, when (meth) acrylic acid chloride is used when producing (meth) acrylic acid ester from a benzoic acid derivative having a hydroxyalkyl group, there is a problem in that by-products are generated. We analyzed the main by-products and found that hydrogen halide generated during the reaction was a by-product added to the acrylic acid site.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、ヒド
ロキシアルキル基を有する安息香酸誘導体または桂皮酸
誘導体の(メタ)アクリル酸エステルを製造する場合
に、大過剰の(メタ)アクリル酸を使用しないで、かつ
反応後の処理(大過剰に用いたアクリル酸の蒸留)時に
白色の不溶物が生じず、かつ、副生成物が少ない製造方
法を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to use a large excess of (meth) acrylic acid when producing a (meth) acrylic ester of a benzoic acid derivative or a cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group. An object of the present invention is to provide a production method which does not produce white insolubles during the post-reaction treatment (distillation of acrylic acid used in a large excess) without producing by-products.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記の
製造方法により達成できた。 (1)アクリル酸またはメタクリル酸とヒドロキシアル
キル基を有する安息香酸誘導体または桂皮酸誘導体から
対応するアクリル酸またはメタクリル酸エステルを製造
する方法において、アクリル酸またはメタクリル酸を対
応する酸ハロゲン化物に変換し、該酸ハロゲン化物を単
離せずに該安息香酸誘導体または該桂皮酸誘導体と反応
させることを特徴とするアクリル酸エステルまたはメタ
クリル酸エステルの製造方法。 (2)アクリル酸またはメタクリル酸の酸ハロゲン化物
とヒドロキシアルキル基を有する安息香酸誘導体または
桂皮酸誘導体から対応するアクリル酸またはメタクリル
酸エステルを製造する方法において、反応終了後に、反
応生成物に共役酸のpKaが6以上である塩基を加えて
攪拌することを特徴とするアクリル酸エステルまたはメ
タクリル酸エステルの製造方法。 (3)アクリル酸またはメタクリル酸の酸ハロゲン化物
とヒドロキシアルキル基を有する安息香酸誘導体または
桂皮酸誘導体から対応するアクリル酸またはメタクリル
酸エステルを製造する方法において、反応終了後に、反
応生成物に共役酸のpKaが6以上である塩基を加えて
攪拌する(1)に記載のアクリル酸エステルまたはメタ
クリル酸エステルの製造方法。 (4)ヒドロキシアルキル基を有する安息香酸誘導体お
よび桂皮酸誘導体が下記式(I)で表される(1)に記
載の合成方法:式(I)
The object of the present invention has been achieved by the following production method. (1) In a method for producing a corresponding acrylic acid or methacrylic acid ester from a benzoic acid derivative or a cinnamic acid derivative having acrylic acid or methacrylic acid and a hydroxyalkyl group, acrylic acid or methacrylic acid is converted to a corresponding acid halide. And reacting the benzoic acid derivative or the cinnamic acid derivative without isolating the acid halide. (2) In a method for producing a corresponding acrylic acid or methacrylic acid ester from an acid halide of acrylic acid or methacrylic acid and a benzoic acid derivative or a cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group, a conjugate acid is added to the reaction product after completion of the reaction. A method for producing an acrylic ester or a methacrylic ester, wherein a base having a pKa of 6 or more is added and stirred. (3) In a method for producing a corresponding acrylic acid or methacrylic acid ester from an acid halide of acrylic acid or methacrylic acid and a benzoic acid derivative or a cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group, a conjugate acid is added to the reaction product after completion of the reaction. The method according to (1), wherein a base having a pKa of 6 or more is added and stirred. (4) A synthesis method according to (1), wherein the benzoic acid derivative and the cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group are represented by the following formula (I): Formula (I)

【0006】[0006]

【化4】 Embedded image

【0007】[式(I)において、Rはアルキレン基を
表し、Xは酸素原子、硫黄原子を表し、nは0または1
の整数を表す]。 (5)ヒドロキシアルキル基を有する安息香酸誘導体お
よび桂皮酸誘導体が上記式(I)で表される(2)に記
載の合成方法。 (6)ヒドロキシアルキル基を有する安息香酸誘導体お
よび桂皮酸誘導体が上記式(I)で表される(3)に記
載の合成方法。
[In the formula (I), R represents an alkylene group, X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and n represents 0 or 1
Represents an integer of. (5) The synthesis method according to (2), wherein the benzoic acid derivative and the cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group are represented by the above formula (I). (6) The synthesis method according to (3), wherein the benzoic acid derivative and the cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group are represented by the above formula (I).

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】製造方法は、少なくとも3つの工
程を有する。すなわち、(1)(メタ)アクリル酸から
対応する酸ハライドを生成する工程、次に(2)酸ハラ
イドとヒドロキシアルキル基を有する安息香酸または桂
皮酸誘導体を反応させて対応する(メタ)アクリル酸エ
ステルを生成する工程、そして、(3)反応生成物を塩
基で処理して不純物を減らす工程である。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The manufacturing method has at least three steps. That is, (1) a step of producing a corresponding acid halide from (meth) acrylic acid, and then (2) reacting the acid halide with a benzoic acid or cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group to form a corresponding (meth) acrylic acid. (3) a step of treating the reaction product with a base to reduce impurities.

【0009】(1)の(メタ)アクリル酸から対応する
酸ハライドを生成する工程では、(メタ)アクリル酸の
使用量は、ヒドロキシアルキル基を有する安息香酸また
は桂皮酸誘導体の仕込みモル量に対し0.8倍から10
倍が好ましく、モル比で0.8倍から5倍がより好まし
く、さらに好ましくは0.9倍から3倍である。反応溶
媒としては、非プロトン性溶媒が好ましい。非プロトン
性溶媒の例には、テトラヒドロフラン、1,4−ジオキ
ソラン、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメ
チルアセトアミド、N−メチルピロリドン、テトラメチ
ル尿素、アセトニトリル、酢酸エチル、酢酸ブチル、ア
セトン、ジクロロメタン、クロロホルムおよびヘキサン
が含まれる。
In the step (1) of producing a corresponding acid halide from (meth) acrylic acid, the amount of (meth) acrylic acid used is based on the molar amount of benzoic acid or cinnamic acid derivative having hydroxyalkyl group charged. 0.8 times to 10
The molar ratio is preferably 0.8 to 5 times, and more preferably 0.9 to 3 times. The reaction solvent is preferably an aprotic solvent. Examples of aprotic solvents include tetrahydrofuran, 1,4-dioxolane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, N-methylpyrrolidone, tetramethylurea, acetonitrile, ethyl acetate, butyl acetate, acetone, Includes dichloromethane, chloroform and hexane.

【0010】酸ハライドを発生させる試薬については、
新実験化学講座第14巻有機化合物の合成と反応II、
1106〜1112頁に記載がある。そのような試薬の
例には、塩化チオニル、蓚酸ジクロリド、オキシ塩化リ
ン(塩化ホスホリル)、三塩化リン、五塩化リン、ホス
ゲン(およびその等価体)が含まれる。塩化チオニルお
よび蓚酸ジクロリドが好ましい。酸ハライドを発生させ
る試薬の使用量は、アクリル酸の仕込みモルに対し0.
8倍から3倍が好ましく、0.9倍から2.5倍がさら
に好ましく、0.9倍から2倍が最も好ましい。酸ハラ
イドを発生させるために触媒を用いても良い。そのよう
な触媒については、新実験化学講座第14巻有機化合物
の合成と反応II、1106〜1112頁に記載があ
る。触媒の例には、塩化亜鉛、ピリジン、トリエチルア
ミン、沃素およびN,N−ジメチルホルムアミドが含ま
れる。N,N−ジメチルホルムアミドが好ましい。
Regarding the reagent for generating an acid halide,
New Experimental Chemistry, Vol. 14, Synthesis and Reaction of Organic Compounds II,
It is described on pages 1106-1112. Examples of such reagents include thionyl chloride, oxalic acid dichloride, phosphorus oxychloride (phosphoryl chloride), phosphorus trichloride, phosphorus pentachloride, phosgene (and equivalents thereof). Thionyl chloride and oxalic acid dichloride are preferred. The amount of the reagent for generating an acid halide is 0.1 to the charged mole of acrylic acid.
It is preferably from 8 to 3 times, more preferably from 0.9 to 2.5 times, most preferably from 0.9 to 2 times. A catalyst may be used to generate an acid halide. Such catalysts are described in New Experimental Chemistry Course, Vol. 14, Synthesis and Reaction II of Organic Compounds, pp. 1106-1112. Examples of catalysts include zinc chloride, pyridine, triethylamine, iodine and N, N-dimethylformamide. N, N-dimethylformamide is preferred.

【0011】(2)の酸ハライドとヒドロキシアルキル
基を有する安息香酸または桂皮酸誘導体を反応させて対
応する(メタ)アクリル酸エステルを生成する工程で
は、酸ハライドを含む溶液にヒドロキシアルキル基を有
する安息香酸または桂皮酸誘導体を含む溶液を加えても
よく、また、その逆にヒドロキシアルキル基を有する安
息香酸または桂皮酸誘導体を含む溶液に酸ハライドを含
む溶液を加えてもよい。酸ハライドとの反応の際は塩基
を用いてもよい。ただし、用いる塩基の塩基性が強い場
合には安息香酸(または桂皮酸)部位が解離することに
よって副生成物が生じてしまう。用いる塩基の塩基性と
しては、対応する共役酸の酸解離定数の対数値(pK
a)が6以下のものが好ましい。塩基の例は、N,N−
ジメチルアニリン、ピリジンおよび2,6−ルチジンが
含まれる。N,N−ジメチルアニリンが好ましい。
In the step (2) of reacting an acid halide with a benzoic acid or cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group to produce a corresponding (meth) acrylic acid ester, the solution containing an acid halide has a hydroxyalkyl group. A solution containing a benzoic acid or a cinnamic acid derivative may be added, and conversely, a solution containing an acid halide may be added to a solution containing a benzoic acid or a cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group. In the reaction with an acid halide, a base may be used. However, if the basicity of the base used is strong, benzoic acid (or cinnamic acid) is dissociated to generate a by-product. As the basicity of the base used, the logarithmic value of the acid dissociation constant of the corresponding conjugate acid (pK
Those having a) of 6 or less are preferred. Examples of bases are N, N-
Includes dimethylaniline, pyridine and 2,6-lutidine. N, N-dimethylaniline is preferred.

【0012】最後に、(3)の工程で、反応生成物を塩
基で処理して不純物を減らす。酸ハロゲン化物とヒドロ
キシアルキル基を有する安息香酸または桂皮酸誘導体と
反応させる際に、塩基を用いない場合または弱い塩基を
用いた場合、反応の進行と共に発生するハロゲン化水素
の濃度が上がってしまう。その結果、新たに目的物のア
クリル酸部位にハロゲン化水素が付加した化合物が副生
してしまうことが判った。この副生成物は目的物と分離
しにくく、再結晶を繰り返してもなかなか除けなかっ
た。
Finally, in step (3), the reaction product is treated with a base to reduce impurities. When an acid halide is reacted with a benzoic acid or a cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group, when a base is not used or when a weak base is used, the concentration of hydrogen halide generated increases as the reaction proceeds. As a result, it was found that a compound in which hydrogen halide was newly added to the acrylic acid site of the target product was by-produced. This by-product was difficult to separate from the target substance, and could not be easily removed even when recrystallization was repeated.

【0013】本発明者の研究の結果、反応終了後の反応
液または反応終了後に処理して得られた粗結晶を、塩基
共存下に攪拌するハロゲン化水素が付加した副生成物が
脱ハロゲン化水素反応を起こし、目的物に変換されるこ
とが判明した。この際に用いる塩基としては脱ハロゲン
化水素反応を促進するために十分な塩基性を有している
ことが好ましく、塩基の共役酸のpKaとして6より大
きい塩基が好ましい。塩基の例には、トリエチルアミ
ン、イソプロピルジエチルアミンおよびN−メチルピペ
リジンが含まれる。
As a result of the study by the present inventors, the reaction solution after the reaction or the crude crystals obtained by the treatment after the reaction is stirred is stirred in the presence of a base, and the by-product to which hydrogen halide is added is dehalogenated. It turned out that a hydrogen reaction occurred and it was converted to the target product. The base used at this time preferably has a sufficient basicity to promote the dehydrohalogenation reaction, and a base having a pKa of the conjugate acid of the base of more than 6 is preferable. Examples of the base include triethylamine, isopropyldiethylamine and N-methylpiperidine.

【0014】本発明に用いられる化合物としたは、式
(I)に示されるものが好ましい。 式(I)
The compounds used in the present invention are preferably those represented by the formula (I). Formula (I)

【0015】[0015]

【化5】 Embedded image

【0016】式中、Rはアルキレン基を表し、Xは酸素
原子、硫黄原子を表し、nは0または1の整数を表す。
以下、式(I)について、さらに詳しく説明する。Rで
表されるアルキレン基は、無置換でも置換されていても
良く、炭素数2から30、好ましくは炭素数2から20
のものであり、例えば無置換アルキレン基(例えば、エ
チレン、トリメチレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシ
レン、2−エチルブチレン、3−エチルブチレン)、置
換アルキレン(置換基としては例えば、アシルアミノ
基、アルコキシ基、ビニル基、フェニル基、アシルオキ
シ基、アルキルチオ基、アルコキシカルボニル基、アシ
ル基、ハロゲン原子(フッ素原子、塩素原子、臭素原
子)、シアノ基が挙げられる。これらの中でアシルアミ
ノ基、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカル
ボニル基、アシル基の炭素数1から20のものが好まし
く、炭素数1から10が好ましい。具体的には、3−メ
トキシブチレン、2−アセトキシプロピレン、2−メチ
ルチオブチレン、4−メトキシカルボニルヘキシレン、
3−アセチルブチレン、5−クロロヘキシレン)が挙げ
られる。また、アルキレン基の炭素原子は他の原子で置
き換わっても良く、例えば酸素原子、硫黄原子が挙げら
れ、具体的には2−エチレンオキシエチレン、2−エチ
レンチオエチレンが挙げられる。Xは酸素原子、硫黄原
子を表すが芳香環のどの位置に置換していても良く、芳
香環はXのほかに置換基が置換していても良く置換基と
しては、ハロゲン原子、アセチル基、ホルミル基、シア
ノ基、トリフルオロメチル基、ジフルオロメチル基、メ
チル基、エチル基が挙げられる。
In the formula, R represents an alkylene group, X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and n represents an integer of 0 or 1.
Hereinafter, the formula (I) will be described in more detail. The alkylene group represented by R may be unsubstituted or substituted, and has 2 to 30 carbon atoms, preferably 2 to 20 carbon atoms.
For example, an unsubstituted alkylene group (eg, ethylene, trimethylene, butylene, pentylene, hexylene, 2-ethylbutylene, 3-ethylbutylene), a substituted alkylene (for example, an acylamino group, an alkoxy group, a vinyl Groups, a phenyl group, an acyloxy group, an alkylthio group, an alkoxycarbonyl group, an acyl group, a halogen atom (a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom), and a cyano group, among which an acylamino group, an alkoxy group, an acyloxy group, The alkoxycarbonyl group and the acyl group preferably have 1 to 20 carbon atoms, and more preferably 1 to 10. Specific examples include 3-methoxybutylene, 2-acetoxypropylene, 2-methylthiobutylene, and 4-methoxycarbonyl. Xylene,
3-acetylbutylene, 5-chlorohexylene). Further, the carbon atom of the alkylene group may be replaced by another atom, for example, an oxygen atom and a sulfur atom, specifically, 2-ethyleneoxyethylene and 2-ethylenethioethylene. X represents an oxygen atom or a sulfur atom, but may be substituted at any position of the aromatic ring, and the aromatic ring may be substituted with a substituent other than X, and the substituent may be a halogen atom, an acetyl group, Examples include a formyl group, a cyano group, a trifluoromethyl group, a difluoromethyl group, a methyl group, and an ethyl group.

【0017】以下に本発明によって製造される(メタ)
アクリル酸エステルおよび原料として使用されるアルコ
ール誘導体の具体例を示す。
Hereinafter, the (meth) produced according to the present invention will be described.
Specific examples of the acrylate and the alcohol derivative used as a raw material are shown.

【0018】[0018]

【化6】 Embedded image

【0019】 ──────────────────────────────────── n X Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 2 O 101 201 301 3 O 102 202 302 4 O 103 203 303 6 O 104 204 304 8 O 105 205 305 10 O 106 206 306 2 S 107 207 307 3 S 108 208 308 4 S 109 209 309 6 S 110 210 310 8 S 111 211 311 10 S 112 212 312 ────────────────────────────────────N n X Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: Methacryloyl # 2 O 101 201 301 3 O 102 202 302 4 O 103 203 3036 O 104 204 304 8 O 105 205 305 10 O 106 206 306 2 S 107 207 307 3 S 108 208 308 4 S 109 209 309 6 S 110 210 310 8 S 111 211 311 10 S 112 112 212 312 ─────────────────────────────────

【0020】[0020]

【化7】 Embedded image

【0021】 ──────────────────────────────────── n X Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 0 O 113 213 313 1 O 114 214 314 2 O 115 215 315 0 O 116 216 316 ────────────────────────────────────N n X Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: Methacryloyl 0 0 O 113 213 313 1 O 114 214 214 314 2 O 115 215 315 0 O 116 216 316

【0022】[0022]

【化8】 Embedded image

【0023】 ──────────────────────────────────── n X Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 2 O 117 217 317 3 O 118 218 318 4 O 119 219 319 5 O 120 220 320 6 O 121 221 321 7 O 122 222 322 8 O 123 223 323 9 O 124 224 324 10 O 125 225 325 2 S 126 226 326 3 S 127 227 327 4 S 128 228 328 6 S 129 229 329 8 S 130 230 330 10 S 131 231 331 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── n X Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: Methacryloyl ──────────────────────────────────── 2 O 117 217 317 3 O 118 218 318 4 O 119 219 319 5 O 120 220 320 6 O 121 221 321 7 O 122 222 322 8 O 123 223 323 9 O 124 224 324 10 O 125 225 325 2 S 126 226 326 3 S 127 227 327 428 29 128 228 229 329 8 S 130 230 330 10 10 S 131 231 331

【0024】[0024]

【化9】 Embedded image

【0025】 ──────────────────────────────────── n X Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 2 O 132 232 332 4 O 133 233 333 6 O 134 234 334 8 O 135 235 335 4 S 136 236 336 6 S 137 237 337 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── n X Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: Methacryloyl ──────────────────────────────────── 2 O 132 232 332 4 O 133 233 333 336 O 134 234 334 8 O 135 235 335 4 S 136 236 336 6S 137 237 337 ───

【0026】[0026]

【化10】 Embedded image

【0027】 ──────────────────────────────────── n X Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 0 O 138 238 338 1 O 139 239 339 2 O 140 240 340 0 S 141 241 341 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── n X Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: Methacryloyl # 0 O 138 238 338 1 O 139 239 339 2 O 140 240 340 0 S 141 241 341 ────────────────────────────────────

【0028】[0028]

【化11】 Embedded image

【0029】 ──────────────────────────────────── n X Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 0 O 142 242 342 1 O 143 243 343 2 O 144 244 344 0 S 145 245 345 ────────────────────────────────────N n X Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: Methacryloyl ──────────────────────────────────── 0 O 142 242 342 1 O 143 243 343 343 2 O 144 244 344 0 S 145 245 345

【0030】[0030]

【化12】 Embedded image

【0031】 ──────────────────────────────────── Z Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── −CH3 146 246 346 −C25 147 247 347 −OCH3 148 248 348 −OC25 149 249 349 −CO2CH3 150 250 350 −COCH3 151 251 351 −CF3 152 252 352 −F 153 253 353 −Cl 154 254 354 −Br 155 255 355 −I 156 256 356 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Z Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: methacryloyl ──────────────────────────────────── -CH 3 146 246 346 -C 2 H 5 147 247 347 -OCH 3 148 248 348 -OC 2 H 5 149 249 349 -CO 2 CH 3 150 250 350 -COCH 3 151 251 351 -CF 3 152 252 352 -F 153 253 353 -Cl 154 254 354 -Br 155 255 355 I 156 256 356 ────────────────────────────────────

【0032】[0032]

【化13】 Embedded image

【0033】 ──────────────────────────────────── Z Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── −OCH3 157 257 357 −OC25 158 258 358 −OCOCH3 159 259 359 −CH=CH2 160 260 360 フェニル 161 261 361 −CO−CH3 162 262 362 −SCH3 163 263 363 −CO2CH3 164 264 364 −NHCOCH3 165 265 365 −Br 166 266 366 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Z Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: methacryloyl ────────────────────────────────────-OCH 3 157 257 357 -OC 2 H 5 158 258 358 -OCOCH 3 159 259 359 -CH = CH 2 160 260 360 Phenyl 161 261 361 -CO-CH 3 162 262 362 362 -SCH 3 163 263 363 -CO 2 CH 3 164 264 364 -NHCOCH 3 165 265 365 -Br 166 66 366 ────────────────────────────────────

【0034】[0034]

【化14】 Embedded image

【0035】 ──────────────────────────────────── Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 167 267 367 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: methacryloyl ─ ─────────────────────────────────── 167 267 367 ──────────── ────────────────────────

【0036】[0036]

【化15】 Embedded image

【0037】 ──────────────────────────────────── Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 168 268 368 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: methacryloyl ─ ─────────────────────────────────── 168 268 368 ──────────── ────────────────────────

【化16】 Embedded image

【0038】 ──────────────────────────────────── Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 169 269 369 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: methacryloyl ─ 16 169 269 369 ──────────── ────────────────────────

【0039】[0039]

【化17】 Embedded image

【0040】 ──────────────────────────────────── Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 170 270 370 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: methacryloyl ─ ─────────────────────────────────── 170 270 370 ──────────── ────────────────────────

【0041】[0041]

【化18】 Embedded image

【0042】 ──────────────────────────────────── Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 171 271 371 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: methacryloyl ─────────────────────────────────── 171 271 371 ──────────── ────────────────────────

【0043】[0043]

【化19】 Embedded image

【0044】 ──────────────────────────────────── Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 172 272 372 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: methacryloyl 17 172 272 372 ──────────── ────────────────────────

【0045】[0045]

【化20】 Embedded image

【0046】 ──────────────────────────────────── Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 173 273 373 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: methacryloyl ─────────────────────────────────── 173 273 373 ──────────── ────────────────────────

【0047】[0047]

【化21】 Embedded image

【0048】 ──────────────────────────────────── Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 174 274 374 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: methacryloyl ─ 17 174 274 374 ──────────── ────────────────────────

【0049】[0049]

【化22】 Embedded image

【0050】 ──────────────────────────────────── n X Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 2 O 401 501 601 3 O 402 502 602 4 O 403 503 603 5 O 404 504 604 6 O 405 505 605 7 O 406 506 606 8 O 407 507 607 9 O 408 508 608 10 O 409 509 609 2 S 410 510 610 4 S 411 511 611 ────────────────────────────────────N n X Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: Methacryloyl ──────────────────────────────────── 2 O 401 501 601 3 O 402 502 602 4 O 403 503 603 5 O 404 504 604 6 O 405 505 605 607 7 O 406 506 606 8 O 407 507 607 9 O 408 508 608 10 O 409 509 609 2 S 410 510 610 410 S 411 511 611 511 ────────────────────────────

【0051】[0051]

【化23】 Embedded image

【0052】 ──────────────────────────────────── n X Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 0 O 412 512 612 1 O 413 513 613 2 O 414 514 614 0 S 415 515 615 ────────────────────────────────────Nn X Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: Methacryloyl 0 0 O 412 512 612 1 O 413 513 613 613 2 O 414 514 614 0 S 415 515 615 ────────────────────────────────────

【0053】[0053]

【化24】 Embedded image

【0054】 ──────────────────────────────────── n X Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 2 O 416 516 616 3 O 417 517 617 4 O 418 518 618 6 O 419 519 619 8 O 420 520 620 10 O 421 521 621 2 S 422 522 622 4 S 423 523 623 ────────────────────────────────────N n X Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: Methacryloyl ──────────────────────────────────── 2 O 416 516 616 3 O 417 517 617 417 O 418 518 618 6 O 419 519 519 8 O 420 520 620 10 O 421 521 621 2S 422 522 622 4 S 423 523 623 ─────────────

【0055】[0055]

【化25】 Embedded image

【0056】 ──────────────────────────────────── n X Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── 2 O 424 524 624 3 O 425 525 625 4 O 426 526 626 6 O 427 527 627 8 O 428 528 628 2 S 429 529 629 3 S 430 530 630 4 S 431 531 631 ────────────────────────────────────N n X Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: Methacryloyl ──────────────────────────────────── 2 O 424 524 624 3 O 425 525 625 4 O 426 526 626 6 O 427 527 627 8 O 428 528 628 2 S 429 529 629 3 S 430 530 630 4 4 S 431 531 631 ─────────────

【0057】[0057]

【化26】 Embedded image

【0058】 ──────────────────────────────────── Z Q:水素原子 Q:アクリロイル Q:メタクリロイル ──────────────────────────────────── −CH3 432 532 632 −C25 433 533 633 −OCH3 434 534 634 −OC25 435 535 635 −CO2CH3 436 536 636 −COCH3 437 537 637 −CF3 438 538 638 −F 439 539 639 −Cl 440 540 640 −Br 441 541 641 −I 442 542 642 ──────────────────────────────────────────────────────────────────────── Z Q: hydrogen atom Q: acryloyl Q: methacryloyl ────────────────────────────────────—CH 3 432 532 632 -C 2 H 5 433 533 633 —OCH 3 434 534 634 —OC 2 H 5 435 535 635 —CO 2 CH 3 436 536 636 —COCH 3 437 537 637 —CF 3 438 538 638 —F 439 539 639 —Cl 440 540 640 −Br 441 441 441 I 442 542 642 ────────────────────────────────────

【0059】[0059]

【実施例】[実施例1] (503の合成)300ml三口フラスコに、テトラヒ
ドロフラン(以下THFと記す)80ml、アクリル酸
8ml(0.116モル)と、N,N−ジメチルホルム
アミド(以下DMFと記す)0.4mlを加えて攪拌す
る。そこに蓚酸ジクロリド10ml(0.116モル)
を滴下し、滴下後、加熱して40℃にて1時間攪拌す
る。次ぎに403(23g、0.1モル)とN,N−ジ
メチルアセトアミド(以下DMAcと記す)の溶液を滴
下する。滴下後、60℃にて1.5時間加熱攪拌する。
次に反応液を冷却して反応液に水100ml加える。得
られた溶液を濃塩酸32mlを含む水700mlに添加
して攪拌する。生じた固体を減圧濾過にて濾過し、乾燥
して粗結晶を26g得た。高速液体クロマトグラフィー
(以下HPLC)にて分析した結果、目的物のほかに塩
化水素付加物が32%含まれていたが、その他に1%以
上含まれる副生成物は検出されなかった。
Example 1 (Synthesis of 503) In a 300 ml three-necked flask, 80 ml of tetrahydrofuran (hereinafter referred to as THF), 8 ml (0.116 mol) of acrylic acid, and N, N-dimethylformamide (hereinafter referred to as DMF). ) Add 0.4 ml and stir. There oxalic acid dichloride 10 ml (0.116 mol)
, And the mixture is heated and stirred at 40 ° C. for 1 hour. Next, a solution of 403 (23 g, 0.1 mol) and N, N-dimethylacetamide (hereinafter referred to as DMAc) is added dropwise. After the addition, the mixture is heated and stirred at 60 ° C. for 1.5 hours.
Next, the reaction solution is cooled and 100 ml of water is added to the reaction solution. The obtained solution is added to 700 ml of water containing 32 ml of concentrated hydrochloric acid and stirred. The resulting solid was filtered by vacuum filtration and dried to obtain 26 g of crude crystals. As a result of analysis by high performance liquid chromatography (hereinafter referred to as HPLC), 32% of hydrogen chloride adduct was contained in addition to the target substance, but no other by-product was contained in 1% or more.

【0060】[実施例2] (503の粗結晶の塩基処理)実施例1で得られた粗結
晶25gをDMAc130mlに溶解し、トリエチルア
ミン10mlを加えて60℃にて1時間攪拌した。反応
液を濃塩酸32mlを含む700mlに添加して攪拌す
る。生じた固体を減圧濾過にて濾過し、乾燥して粗結晶
を22g得た。HPLCにて分析した結果、塩化水素付
加物は検出されず、目的物503が99.5%含まれて
いることが判った。目的物は1H−NMRおよび元素分
析によって同定した。
Example 2 (Base treatment of crude crystals of 503) 25 g of crude crystals obtained in Example 1 were dissolved in 130 ml of DMAc, 10 ml of triethylamine was added, and the mixture was stirred at 60 ° C. for 1 hour. The reaction solution is added to 700 ml containing 32 ml of concentrated hydrochloric acid and stirred. The resulting solid was filtered under reduced pressure and dried to obtain 22 g of crude crystals. As a result of analysis by HPLC, no hydrogen chloride adduct was detected, and it was found that the target product 503 contained 99.5%. The target compound was identified by 1H-NMR and elemental analysis.

【0061】[実施例3] (反応液を塩基処理する方法)300ml三口フラスコ
に、THF80ml、アクリル酸8ml(0.116モ
ル)と、DMF0.4mlを加えて攪拌する。そこに蓚
酸ジクロリド10ml(0.116モル)を滴下し、滴
下後、加熱して40℃にて1時間攪拌する。次ぎに40
3(23g、0.1モル)とDMAcの溶液を滴下す
る。滴下後、60℃にて1.5時間加熱攪拌する。次に
反応液にトリエチルアミン40ml(0.29モル)を
加えて60℃にて1.5時間加熱攪拌した。反応後、冷
却して反応液に水100ml加えた。得られた溶液を濃
塩酸32mlを含む水700mlに添加して攪拌し、生
じた固体を減圧濾過にて濾過し、乾燥して粗結晶を25
g(85%)得た。HPLCにて分析した結果、塩化水
素付加物は検出されず、目的物503が99.5%含ま
れていることが判った。
Example 3 (Method of Base Treatment of Reaction Solution) In a 300 ml three-necked flask, 80 ml of THF, 8 ml (0.116 mol) of acrylic acid, and 0.4 ml of DMF were added and stirred. Thereto, 10 ml (0.116 mol) of oxalic acid dichloride was added dropwise, and after the addition, the mixture was heated and stirred at 40 ° C. for 1 hour. Next 40
A solution of 3 (23 g, 0.1 mol) and DMAc is added dropwise. After the addition, the mixture is heated and stirred at 60 ° C. for 1.5 hours. Next, 40 ml (0.29 mol) of triethylamine was added to the reaction solution, and the mixture was heated and stirred at 60 ° C. for 1.5 hours. After the reaction, the reaction solution was cooled and 100 ml of water was added to the reaction solution. The obtained solution was added to 700 ml of water containing 32 ml of concentrated hydrochloric acid and stirred, and the resulting solid was filtered by filtration under reduced pressure and dried to obtain crude crystals.
g (85%). As a result of analysis by HPLC, no hydrogen chloride adduct was detected, and it was found that the target product 503 contained 99.5%.

【0062】[実施例4] (安息香酸誘導体の合成例)実施例3で用いた403の
かわりに103を用いて同様に反応を行った。その結
果、203を24g(87%)得た。生成物の構造は1
H−NMR、元素分析より決定した。
Example 4 (Synthesis Example of Benzoic Acid Derivative) The same reaction was carried out using 103 instead of 403 used in Example 3. As a result, 24 g (87%) of 203 was obtained. The structure of the product is 1
It was determined by H-NMR and elemental analysis.

【0063】[実施例5] (塩化チオニルを用いる合成例)実施例3において、T
HFのかわりにDMAcを用い、蓚酸ジクロリドのかわ
りに塩化チオニルを用いて同様に反応を行った。その結
果、503を27g(93%)得た。
[Example 5] (Synthesis example using thionyl chloride)
The same reaction was carried out using DMAc instead of HF and using thionyl chloride instead of oxalic acid dichloride. As a result, 27 g (93%) of 503 was obtained.

【0064】[実施例6] (205の合成)実施例3において、403のかわりに
105を用いて同様に反応を行った。その結果、目的物
205を27g(96%)得た。
Example 6 (Synthesis of 205) The reaction was carried out in the same manner as in Example 3 except that 105 was used instead of 403. As a result, 27 g (96%) of the target product 205 was obtained.

【0065】[実施例7] (254の合成)実施例5において、403のかわりに
154を用いて同様に反応を行った。その結果、目的物
254を31g得た。
Example 7 (Synthesis of 254) A reaction was carried out in the same manner as in Example 5 except that 154 was used instead of 403. As a result, 31 g of target product 254 was obtained.

【0066】[実施例8] (603の合成)実施例5において、アクリル酸のかわ
りにメタクリル酸を用いて同様に反応を行った。その結
果、目的物603を26g得た。
Example 8 (Synthesis of 603) The reaction was carried out in the same manner as in Example 5, except that methacrylic acid was used instead of acrylic acid. As a result, 26 g of target product 603 was obtained.

【0067】[比較例1] (過剰のアクリル酸を用いる方法)特開平8−3109
96の実施例2に記載の方法にしたがってアクリル酸と
本発明に記載の化合物103の反応を行った。反応後、
過剰のアクリル酸を70℃にて減圧下で除いたところ、
反応容器の上部に白色の不溶物が付着した。アセトンな
どの有機溶媒では除去できなかった。なお、目的物20
3は25g(95%)得られた。
Comparative Example 1 (Method Using Excess Acrylic Acid) JP-A-8-3109
According to the method described in Example 2 of 96, acrylic acid was reacted with the compound 103 described in the present invention. After the reaction,
When excess acrylic acid was removed under reduced pressure at 70 ° C,
A white insoluble matter adhered to the upper part of the reaction vessel. It could not be removed with an organic solvent such as acetone. Note that the object 20
3 was obtained in an amount of 25 g (95%).

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 アクリル酸またはメタクリル酸とヒドロ
キシアルキル基を有する安息香酸誘導体または桂皮酸誘
導体から対応するアクリル酸またはメタクリル酸エステ
ルを製造する方法において、アクリル酸またはメタクリ
ル酸を対応する酸ハロゲン化物に変換し、該酸ハロゲン
化物を単離せずに該安息香酸誘導体または該桂皮酸誘導
体と反応させることを特徴とするアクリル酸エステルま
たはメタクリル酸エステルの製造方法。
1. A method for producing a corresponding acrylic acid or methacrylic acid ester from a benzoic acid derivative or a cinnamic acid derivative having acrylic acid or methacrylic acid and a hydroxyalkyl group, wherein acrylic acid or methacrylic acid is converted to a corresponding acid halide. Converting a benzoic acid derivative or a cinnamic acid derivative without isolating the acid halide, and producing the acrylate or methacrylate.
【請求項2】 アクリル酸またはメタクリル酸の酸ハロ
ゲン化物とヒドロキシアルキル基を有する安息香酸誘導
体または桂皮酸誘導体から対応するアクリル酸またはメ
タクリル酸エステルを製造する方法において、反応終了
後に、反応生成物に共役酸のpKaが6以上である塩基
を加えて攪拌することを特徴とするアクリル酸エステル
またはメタクリル酸エステルの製造方法。
2. A method for producing a corresponding acrylic acid or methacrylic acid ester from an acid halide of acrylic acid or methacrylic acid and a benzoic acid derivative or a cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group, the reaction product comprising: A method for producing an acrylate or methacrylate, comprising adding a base having a pKa of a conjugate acid of 6 or more and stirring the mixture.
【請求項3】 アクリル酸またはメタクリル酸の酸ハロ
ゲン化物とヒドロキシアルキル基を有する安息香酸誘導
体または桂皮酸誘導体から対応するアクリル酸またはメ
タクリル酸エステルを製造する方法において、反応終了
後に、反応生成物に共役酸のpKaが6以上である塩基
を加えて攪拌する請求項1に記載のアクリル酸エステル
またはメタクリル酸エステルの製造方法。
3. A method for producing a corresponding acrylic acid or methacrylic acid ester from an acid halide of acrylic acid or methacrylic acid and a benzoic acid derivative or a cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group, the method comprising the steps of: The method for producing an acrylate or methacrylate according to claim 1, wherein a base having a pKa of the conjugate acid of 6 or more is added and stirred.
【請求項4】 ヒドロキシアルキル基を有する安息香酸
誘導体または桂皮酸誘導体が下記式(I)で表される請
求項1に記載の合成方法:式(I) 【化1】 [式(I)において、Rはアルキレン基を表し、Xは酸
素原子、硫黄原子を表し、nは0または1の整数を表
す]。
4. The method according to claim 1, wherein the benzoic acid derivative or cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group is represented by the following formula (I): [In the formula (I), R represents an alkylene group, X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and n represents an integer of 0 or 1.]
【請求項5】 ヒドロキシアルキル基を有する安息香酸
誘導体または桂皮酸誘導体が下記式(I)で表される請
求項2に記載の合成方法:式(I) 【化2】 [式(I)において、Rはアルキレン基を表し、Xは酸
素原子、硫黄原子を表し、nは0または1の整数を表
す]。
5. The method according to claim 2, wherein the benzoic acid derivative or cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group is represented by the following formula (I): [In the formula (I), R represents an alkylene group, X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and n represents an integer of 0 or 1.]
【請求項6】 ヒドロキシアルキル基を有する安息香酸
誘導体および桂皮酸誘導体が下記式(I)で表される請
求項3に記載の合成方法:式(I) 【化3】 [式(I)において、Rはアルキレン基を表し、Xは酸
素原子、硫黄原子を表し、nは0または1の整数を表
す]。
6. The method according to claim 3, wherein the benzoic acid derivative and the cinnamic acid derivative having a hydroxyalkyl group are represented by the following formula (I): [In the formula (I), R represents an alkylene group, X represents an oxygen atom or a sulfur atom, and n represents an integer of 0 or 1.]
JP2000220965A 2000-07-21 2000-07-21 Method for producing acrylic acid ester or methacrylic acid ester Withdrawn JP2002037759A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000220965A JP2002037759A (en) 2000-07-21 2000-07-21 Method for producing acrylic acid ester or methacrylic acid ester

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000220965A JP2002037759A (en) 2000-07-21 2000-07-21 Method for producing acrylic acid ester or methacrylic acid ester

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002037759A true JP2002037759A (en) 2002-02-06

Family

ID=18715473

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000220965A Withdrawn JP2002037759A (en) 2000-07-21 2000-07-21 Method for producing acrylic acid ester or methacrylic acid ester

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002037759A (en)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004123547A (en) * 2002-09-30 2004-04-22 Ube Ind Ltd Aryl alkoxyacrylate derivative and method for producing the same
JP2004123546A (en) * 2002-09-30 2004-04-22 Ube Ind Ltd Method for producing dihydroxycoumarin derivative
WO2005030696A1 (en) * 2003-09-26 2005-04-07 Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh Process for the production of acrylic acid esters containing carboxyl groups
CN103261272A (en) * 2010-12-23 2013-08-21 罗利克有限公司 Photoactive polymer materials
WO2017150622A1 (en) * 2016-03-01 2017-09-08 日本ゼオン株式会社 Method for producing liquid composition containing monoetherate, liquid composition, and method for producing polymerizable compound

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004123547A (en) * 2002-09-30 2004-04-22 Ube Ind Ltd Aryl alkoxyacrylate derivative and method for producing the same
JP2004123546A (en) * 2002-09-30 2004-04-22 Ube Ind Ltd Method for producing dihydroxycoumarin derivative
WO2005030696A1 (en) * 2003-09-26 2005-04-07 Huntsman Advanced Materials (Switzerland) Gmbh Process for the production of acrylic acid esters containing carboxyl groups
CN105504273A (en) * 2010-12-23 2016-04-20 罗利克有限公司 Photoactive polymer materials
EP3235852A1 (en) * 2010-12-23 2017-10-25 Rolic AG Photoactive polymer materials
AU2011347387A9 (en) * 2010-12-23 2015-04-23 Rolic Ag Photoactive polymer materials
AU2011347387B2 (en) * 2010-12-23 2015-04-23 Rolic Ag Photoactive polymer materials
AU2011347387C1 (en) * 2010-12-23 2015-08-27 Rolic Ag Photoactive polymer materials
CN103261272A (en) * 2010-12-23 2013-08-21 罗利克有限公司 Photoactive polymer materials
US11261377B2 (en) 2010-12-23 2022-03-01 Rolic Ag Photoactive polymer materials
EP2655478A1 (en) 2010-12-23 2013-10-30 Rolic AG Photoactive polymer materials
US10465116B2 (en) 2010-12-23 2019-11-05 Rolic Ag Photoactive polymer materials
JPWO2017150622A1 (en) * 2016-03-01 2019-01-10 日本ゼオン株式会社 Method for producing solution composition containing monoetherified product, solution composition, and method for producing polymerizable compound
CN108698966A (en) * 2016-03-01 2018-10-23 日本瑞翁株式会社 Include the manufacturing method of the manufacturing method of the liquid composite of monoether compound, liquid composite and polymerizable compound
US10633319B2 (en) 2016-03-01 2020-04-28 Zeon Corporation Method of producing solution composition containing monoetherified product, solution composition, and method of producing polymerizable compound
WO2017150622A1 (en) * 2016-03-01 2017-09-08 日本ゼオン株式会社 Method for producing liquid composition containing monoetherate, liquid composition, and method for producing polymerizable compound
CN108698966B (en) * 2016-03-01 2022-03-22 日本瑞翁株式会社 Method for producing solution composition containing monoether compound, solution composition, and method for producing polymerizable compound

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2801330B2 (en) Method for producing organosilane containing methacryloxy or acryloxy group
JP6092513B2 (en) Fluorene compound
US8450520B2 (en) Process for preparation of 2-fluoroacrylic esters
JP2002037759A (en) Method for producing acrylic acid ester or methacrylic acid ester
JP4736474B2 (en) Process for producing fluorine-containing alkylsulfonylaminoethyl α-substituted acrylates
JP4397550B2 (en) Method for producing aromatic carboxylic acid
CN108191647B (en) Synthesis method of 2, 2-difluoro dicarboxylic acid dialkyl ester
JPH0827132A (en) Production of 5-oxazolones
JPH0812658A (en) Production of sydnones
JPH0395192A (en) Azo compound
JPH0616615A (en) Production of fluorinated phthalonitrile derivative
JPH06192170A (en) Production of 4-bromomethylbiphenyl compound
JP2004010591A (en) New unsaturated acid ester and method for producing the same
WO2023048244A1 (en) Method for producing tetrafluorosulfanyl group-containing aryl compound
JPH04108793A (en) Esterification of penicillins
JPH0789924A (en) Production of carbamate compounds
JPH09124569A (en) Production of benzamide derivative
JPH08143559A (en) Production of 5-imino-2(5h)-furanones
EP1174411A2 (en) Process for the preparation of aromatic carboxylic acid
KR20210001971A (en) Method for producing ester compound
CN109293508A (en) A kind of preparation method of entecavir midbodies
JP2021147370A (en) Method for producing (meth)acrylate compound containing hydroxyl group and method for producing (meth)acrylate compound containing phosphoric acid group
JPH07215942A (en) Production of isocyanides
JPH0235750B2 (en)
JPH06247946A (en) Production of 4-oxo-1,3-benzoxazine compounds

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20071002