JP2002035670A - Spinning device and spinning method - Google Patents

Spinning device and spinning method

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JP2002035670A
JP2002035670A JP2000225375A JP2000225375A JP2002035670A JP 2002035670 A JP2002035670 A JP 2002035670A JP 2000225375 A JP2000225375 A JP 2000225375A JP 2000225375 A JP2000225375 A JP 2000225375A JP 2002035670 A JP2002035670 A JP 2002035670A
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JP
Japan
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substrate
nozzle head
nozzle
processing liquid
processing
Prior art date
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Application number
JP2000225375A
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Japanese (ja)
Inventor
Yukinobu Nishibe
幸伸 西部
Akinori Iso
明典 磯
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Shibaura Mechatronics Corp
Original Assignee
Shibaura Mechatronics Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a spinning device capable of preventing a substrate from being soiled by the treating liquid stuck or remaining in a nozzle head at the time of drying. SOLUTION: The spinning device for rotating and treating the substrate is provided with a cup body 1, a rotary table 9 disposed in the cup body 1 and rotary-driven while holding the substrate, a 1st drive motor 8 for rotary- driving the rotary table, a nozzle head 41 having nozzle bodies 42 and 43 arranged to face the back surface center part of the substrate held by the rotary table and for jetting a treating liquid on the back surface, an axial member 31 having one end connected to the back surface of the nozzle head and another end led out from the bottom of the cup body to the outside and a 2nd drive motor 36 for rotary-driving the nozzle head with the axial member to remove the treating liquid stuck to the upper surface of the nozzle head.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は基板を回転テーブ
ルによって回転させながら処理するスピン処理装置及び
スピン処理方法に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a spin processing apparatus and a spin processing method for processing a substrate while rotating the substrate by a rotary table.

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば、半導体装置や液晶表示装置の
製造過程においては、基板としての半導体ウエハやガラ
ス基板に回路パタ−ンを形成するための成膜プロセスや
フォトプロセスがある。これらのプロセスでは、上記基
板に対して成膜処理と洗浄処理とが繰り返し行われる。
2. Description of the Related Art For example, in a manufacturing process of a semiconductor device or a liquid crystal display device, there are a film forming process and a photo process for forming a circuit pattern on a semiconductor wafer or a glass substrate as a substrate. In these processes, a film forming process and a cleaning process are repeatedly performed on the substrate.

【0003】上記基板の洗浄処理及び洗浄後の乾燥処理
を行うためにはスピン処理装置が用いられる。このスピ
ン処理装置はカップ体を有し、このカップ体内には回転
駆動される回転体が設けられている。この回転体には保
持機構が設けられ、この保持機構には基板が着脱可能に
保持される。
[0003] A spin processing apparatus is used to perform the above-described substrate cleaning processing and drying processing after cleaning. The spin processing device has a cup body, and a rotating body that is driven to rotate is provided in the cup body. The rotating body is provided with a holding mechanism, and the holding mechanism detachably holds the substrate.

【0004】上記保持機構に保持された基板には、回路
パターンが形成される上面に向けて上部処理液用ノズル
体から処理液が噴射される。また、基板は上面だけでな
く、下面の清浄度が要求されることもあるので、そのよ
うな場合には基板の下面に向けて処理液を噴射する下部
処理液用ノズル体が配置される。
The processing liquid is sprayed from the upper processing liquid nozzle toward the upper surface on which the circuit pattern is formed on the substrate held by the holding mechanism. In addition, the substrate may require not only the upper surface but also the lower surface to be clean. In such a case, a lower processing liquid nozzle body that sprays the processing liquid toward the lower surface of the substrate is disposed.

【0005】上記基板の下面側に下部処理液用ノズル体
を配置する場合、上記カップ体内の回転体に保持された
基板の下面と対向する部位にノズルヘッドを設け、この
ノズルヘッドに下部処理液用ノズル体や基板の下面を処
理した後に乾燥するための気体を噴射する下部気体用ノ
ズル体などを設けるようにしている。
When the lower processing liquid nozzle is disposed on the lower surface side of the substrate, a nozzle head is provided at a portion facing the lower surface of the substrate held by the rotating body in the cup body, and the lower processing liquid is provided on the nozzle head. And a lower gas nozzle for injecting a gas for drying after treating the lower surface of the substrate or the lower surface of the substrate.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このような構成による
と、基板の下面を処理するために下部処理液用ノズルか
ら噴射された処理液の一部は、基板の裏面で反射して上
記ノズルヘッドの上面に滴下する。ノズルヘッドの上面
に滴下した処理液は、基板を高速回転させて乾燥処理す
る際に、基板の回転により基板の下面側に生じる乱気流
によってミスト状となって飛散する。そのため、ミスと
状となって飛散した処理液が乾燥された基板の裏面に付
着して汚染の原因になるということがあった。
According to such a structure, a part of the processing liquid jetted from the lower processing liquid nozzle for processing the lower surface of the substrate is reflected on the back surface of the substrate and is reflected by the nozzle head. Drop on top of The processing liquid dropped on the upper surface of the nozzle head is mist-like and scattered by turbulence generated on the lower surface side of the substrate due to the rotation of the substrate when the substrate is rotated at a high speed to perform the drying process. For this reason, the processing liquid scattered in the form of a mistake sometimes adheres to the back surface of the dried substrate and causes contamination.

【0007】この発明は、ノズルヘッドに付着した処理
液が、基板を乾燥処理する際に飛散して基板を汚染する
ことがないようにしたスピン処理装置及びスピン処理方
法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a spin processing apparatus and a spin processing method in which a processing liquid adhering to a nozzle head is not scattered at the time of drying processing of a substrate to contaminate the substrate.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、基板
を回転させて処理するスピン処理装置において、カップ
体と、このカップ体内に設けられ上記基板を保持した状
態で回転駆動される回転テーブルと、この回転テーブル
を回転駆動する第1の駆動手段と、上記回転テーブルに
保持される上記基板の下面中央部分に対向して設けられ
この基板の下面に処理液を噴射するノズル体を有するノ
ズルヘッドと、一端が上記ノズルヘッドの下面に連結さ
れ他端部が上記カップ体の底部から外部に導出された軸
状部材と、この軸状部材とともに上記ノズルヘッドを回
転駆動しこのノズルヘッドの上面に付着した処理液を除
去する第2の駆動手段とを具備したことを特徴とするス
ピン処理装置にある。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a spin processing apparatus for processing a substrate by rotating the substrate, a cup body, and a rotary member provided in the cup body and driven to rotate while holding the substrate. A table, first driving means for rotating and driving the rotary table, and a nozzle body provided opposite to a central portion of a lower surface of the substrate held by the rotary table and jetting a processing liquid to a lower surface of the substrate. A nozzle head, a shaft member having one end connected to the lower surface of the nozzle head and the other end led out of the bottom of the cup body to the outside, and the nozzle head is rotationally driven together with the shaft member to rotate the nozzle head. A second drive unit for removing the processing liquid attached to the upper surface.

【0009】請求項2の発明は、上記軸状部材は中空状
で、この内部には一端を上記ノズル体に接続したチュー
ブが挿通され、このチューブの他端は上記軸状部材の他
端に設けられた第1のカプラに接続さていて、上記第1
のカプラには第2のカプラが着脱可能に接続され、この
第2のカプラには上記チューブを介して上記ノズル体に
処理液を供給する供給チューブが連結されていることを
特徴とする請求項1記載のスピン処理装置にある。
According to a second aspect of the present invention, the shaft member is hollow, and a tube having one end connected to the nozzle body is inserted therein, and the other end of the tube is connected to the other end of the shaft member. Connected to the first coupler provided, and
A second coupler is detachably connected to said coupler, and a supply tube for supplying a processing liquid to said nozzle body via said tube is connected to said second coupler. 1 is a spin processing apparatus.

【0010】請求項3の発明は、基板を回転駆動し、こ
の基板の上面には上部ノズル体から処理液を噴射し、下
面にはノズルヘッドに設けられた下部ノズル体から処理
液を噴射することで、この基板の上面と下面とを処理す
るスピン処理方法において、上記基板を回転させてこの
基板の上面に上記上部ノズル体から処理液を噴射すると
ともに、下面に上記ノズルヘッドに設けられた上記下部
ノズル体から処理液を噴射して基板を処理する工程と、
処理液による基板の処理が終わった後、上記ノズルヘッ
ドを回転させてこのノズルヘッドに付着した処理液を除
去する工程と、処理液で処理された基板を回転させてこ
の基板に付着した処理液を除去して基板を乾燥する乾燥
工程とを具備したことを特徴とするスピン処理方法にあ
る。
According to a third aspect of the present invention, the substrate is rotationally driven, and the processing liquid is jetted from the upper nozzle body to the upper surface of the substrate, and the processing liquid is jetted from the lower nozzle body provided in the nozzle head to the lower surface. In the spin processing method for processing the upper surface and the lower surface of the substrate, the processing liquid is ejected from the upper nozzle body to the upper surface of the substrate by rotating the substrate, and the processing liquid is provided on the lower surface of the nozzle head. A step of processing the substrate by injecting a processing liquid from the lower nozzle body,
After the processing of the substrate with the processing liquid is completed, a step of rotating the nozzle head to remove the processing liquid attached to the nozzle head, and a step of rotating the substrate treated with the processing liquid to thereby remove the processing liquid attached to the substrate. And a drying step for drying the substrate.

【0011】請求項4の発明は、ノズルヘッドを回転さ
せる工程は、基板を乾燥させる工程の前に行なうことを
特徴とする請求項3記載のスピン処理方法にある。
The invention according to claim 4 is the spin processing method according to claim 3, wherein the step of rotating the nozzle head is performed before the step of drying the substrate.

【0012】請求項5の発明は、ノズルヘッドを回転さ
せる工程は、基板を乾燥させる工程と同時に行なうこと
を特徴とする請求項3記載のスピン処理方法にある。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the spin processing method according to the third aspect, wherein the step of rotating the nozzle head is performed simultaneously with the step of drying the substrate.

【0013】この発明によれば、基板の下面に処理液を
噴射するノズル体を有するノズルヘッドを回転させるこ
とができるようにしたため、ノズルヘッドを回転させる
ことで、この表面に付着した処理液を除去できるから、
乾燥処理時に飛散して基板を汚染するのを防止できる。
According to the present invention, the nozzle head having the nozzle body for injecting the processing liquid onto the lower surface of the substrate can be rotated. Therefore, by rotating the nozzle head, the processing liquid adhered to the surface can be removed. Can be removed,
It is possible to prevent the substrate from being scattered during the drying process and contaminating the substrate.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施の形態を
図面を参照して説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0015】図1において1はカップ体を示す。このカ
ップ体1はベース板2上に設けられている。つまり、カ
ップ体1は中心部に向かって高く傾斜した底板3を有
し、この底板3の周辺部には周壁4が設けられている。
この周壁4には、図2に示すように周方向に等間隔で4
つの導入口部5が開口形成されている。
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a cup body. This cup body 1 is provided on a base plate 2. That is, the cup body 1 has a bottom plate 3 that is inclined high toward the center, and a peripheral wall 4 is provided around the bottom plate 3.
As shown in FIG. 2, the peripheral wall 4 is provided at regular intervals in the circumferential direction.
One inlet 5 is formed with an opening.

【0016】上記底板2の中心部分には通孔6が形成さ
れ、この通孔6には中空状の駆動軸7が挿通されてい
る。
A through hole 6 is formed at the center of the bottom plate 2, and a hollow drive shaft 7 is inserted through the through hole 6.

【0017】上記ベース板2の下面の中心部分には第1
の駆動手段を構成する第1の駆動モータ8が取り付けら
れている。この第1の駆動モータ8は、図3に示すよう
に中空状の固定子8a内に同じく筒状の回転子8bが回
転可能に設けられていて、この回転子8bの上端に上記
駆動軸7の下端が連結固定されている。上記回転子8b
は、固定子8aの下端面に設けられたリング状の保持部
材8cによって回転可能かつ回転子8b内から落下しな
いよう保持されている。
At the center of the lower surface of the base plate 2, a first
The first drive motor 8 constituting the drive means is mounted. As shown in FIG. 3, the first drive motor 8 includes a hollow stator 8a and a rotatable cylindrical rotor 8b provided rotatably. The drive shaft 7 is provided at the upper end of the rotor 8b. Are connected and fixed. Rotor 8b
Is rotatably held by a ring-shaped holding member 8c provided on the lower end surface of the stator 8a so as not to fall from the inside of the rotor 8b.

【0018】上記駆動軸7のカップ体1内に突出した上
端は平面形状がほぼ十字状の回転テーブル9に取り付け
られている。この回転テーブル9は、図2に示すように
上記駆動軸7の上端に連結固定された基部11と、この
基部11に周方向に所定間隔で一端部を連結した4本の
アーム12とから構成されていて、各アーム12の先端
部にはそれぞれ一対の係合ピン13が立設されている。
さらに、各アーム12の先端部と上記基部11とには、
それぞれ支持ピン14が立設されている。
The upper end of the drive shaft 7 protruding into the cup body 1 is mounted on a rotary table 9 having a substantially cross-shaped planar shape. As shown in FIG. 2, the turntable 9 includes a base 11 connected and fixed to the upper end of the drive shaft 7 and four arms 12 having one ends connected to the base 11 at predetermined intervals in a circumferential direction. Each of the arms 12 has a pair of engaging pins 13 erected at the distal end thereof.
Further, the distal end of each arm 12 and the base 11
Each support pin 14 is provided upright.

【0019】そして、上記回転テーブル9には、たとえ
ば液晶表示装置に用いられるガラス製の矩形状の基板1
5が角部を各アームの先端部に設けられた一対の係合ピ
ン13に係合させ、この角部の下面と中心部の下面とを
それぞれ上記支持ピン14に支持されて着脱可能に保持
される。
The rotary table 9 has a rectangular substrate 1 made of glass used for a liquid crystal display device, for example.
5 engages the corners with a pair of engagement pins 13 provided at the distal end of each arm, and the lower surface of the corner and the lower surface of the central portion are supported by the support pins 14 and detachably held. Is done.

【0020】したがって、上記第1の駆動モータ8が作
動すると、上記回転テーブル9は基板15を保持した状
態で図2に矢印Aで示す反時計方向に回転駆動されるよ
うになっている。
Therefore, when the first drive motor 8 operates, the rotary table 9 is driven to rotate counterclockwise as shown by an arrow A in FIG.

【0021】図1に示すように、上記カップ体1の周壁
4の上端には、リング状の反射防止部材16が設けられ
ている。この反射防止部材16は、上記周壁4に連結さ
れた外周端が内周端よりも低くなるよう傾斜して設けら
れた傾斜部16aと、この傾斜部16aの内周端に垂設
された垂直部16bとからなる。
As shown in FIG. 1, a ring-shaped anti-reflection member 16 is provided at the upper end of the peripheral wall 4 of the cup body 1. The anti-reflection member 16 includes an inclined portion 16a that is inclined so that an outer peripheral end connected to the peripheral wall 4 is lower than an inner peripheral end, and a vertical portion that is vertically provided at an inner peripheral end of the inclined portion 16a. 16b.

【0022】上記カップ体1の周壁の外側には、各導入
口部5と対応する部分にカバー体22が設けられてい
る。各カバー体22は、上記導入口部5側に位置する一
端から上記回転テーブル9の回転方向に沿う他端部にゆ
くにつれてカップ体1の外周面との間隔が漸次大きくな
る導入路23を、上記カップ体1の周方向に沿って形成
している。つまり、導入路23は、一端から他端に行く
につれて断面積が漸次大きくなるよう形成されている。
Outside the peripheral wall of the cup body 1, a cover body 22 is provided at a portion corresponding to each inlet port 5. Each cover body 22 has an introduction path 23 in which the distance from the outer peripheral surface of the cup body 1 gradually increases from one end located on the introduction port 5 side to the other end along the rotation direction of the rotary table 9, It is formed along the circumferential direction of the cup body 1. That is, the introduction path 23 is formed such that the cross-sectional area gradually increases from one end to the other end.

【0023】上記導入路23の末端は閉塞されていて、
この閉塞端部には排出部としての排出口24が形成され
ている。この排出口24には図1に示すように同じく排
出部としての排出管25の一端が接続され、この排出管
25の他端には気液分離器26を介して排気ポンプ27
が接続されている。この排気ポンプ27の吸引力は、上
記排出口24及び導入路23を介して上記導入口部5に
作用するようになっている。
The end of the introduction path 23 is closed,
A discharge port 24 as a discharge portion is formed at the closed end. As shown in FIG. 1, one end of a discharge pipe 25 also serving as a discharge section is connected to the discharge port 24, and the other end of the discharge pipe 25 is connected to an exhaust pump 27 through a gas-liquid separator 26.
Is connected. The suction force of the exhaust pump 27 acts on the inlet 5 through the outlet 24 and the inlet 23.

【0024】上記カップ体1内に設けられた回転テーブ
ル9が回転駆動されると、その回転によって気流が生じ
る。この気流は回転テーブル9の回転方向、つまり図2
に矢印Bで示す反時計方向で、かつ回転テーブル9の回
転の外周に対して接線方向に沿って生じる。
When the rotary table 9 provided in the cup body 1 is driven to rotate, an air flow is generated by the rotation. This air flow is in the direction of rotation of the turntable 9, ie, in FIG.
Occurs counterclockwise as indicated by arrow B and tangentially to the outer circumference of the rotation of the turntable 9.

【0025】回転テーブル9の回転によって生じる気流
Bは、回転テーブル9の回転による遠心力と、導入口部
5に作用する排気ポンプ27の吸引力とによってカップ
体1の周壁に形成された導入口部5からカバー体22に
よって形成された導入路23へ流入する。
The airflow B generated by the rotation of the rotary table 9 is formed on the peripheral wall of the cup body 1 by the centrifugal force generated by the rotation of the rotary table 9 and the suction force of the exhaust pump 27 acting on the inlet 5. It flows into the introduction path 23 formed by the cover body 22 from the part 5.

【0026】導入路23に流入した気流Bは、この導入
路23の一端から他端へと流れ、この他端部に形成され
た排出口24を通じて排出管25へ吸引され、気液分離
器26で液体と気体とに分離される。
The gas flow B flowing into the introduction passage 23 flows from one end of the introduction passage 23 to the other end, and is sucked into the discharge pipe 25 through the discharge port 24 formed at the other end, and the gas-liquid separator 26 Is separated into liquid and gas.

【0027】上記駆動モータ8の回転子8b内には管状
の軸状部材31が挿通されている。この軸状部材の下端
部は第1の駆動モータ8の下端に設けられた保持部材8
cから下方へ突出し、この突出部は上記保持部材8cに
取り付けられた軸受体32に内蔵された軸受33によっ
て回転自在に支持されている。
A tubular shaft member 31 is inserted into the rotor 8b of the drive motor 8. The lower end of the shaft-like member is provided with a holding member 8 provided at the lower end of the first drive motor 8.
c, and protrudes downward, and this protruding portion is rotatably supported by a bearing 33 built in a bearing body 32 attached to the holding member 8c.

【0028】上記軸状部材31の下端部は、上記軸受体
32の下端面から突出し、この下端部には従動プーリ3
4が嵌着されている。さらに、軸状部材31の下端面に
は第1のカプラ35が取り付けられている。
The lower end of the shaft-like member 31 protrudes from the lower end surface of the bearing body 32.
4 is fitted. Further, a first coupler 35 is attached to a lower end surface of the shaft-shaped member 31.

【0029】上記軸状部材31の下端部近傍には第2の
駆動手段を構成する第2の駆動モータ36が配置されて
いる。この第2の駆動モータ36の回転軸37には駆動
プーリ38が嵌着されている。
In the vicinity of the lower end of the shaft member 31, a second drive motor 36 constituting a second drive means is disposed. A drive pulley 38 is fitted on the rotation shaft 37 of the second drive motor 36.

【0030】そして、この駆動プーリ38と上記従動プ
ーリ34とにはベルト39が張設されている。したがっ
て、上記第2の駆動モータ36が作動して回転軸37が
回転駆動されれば、その回転がベルト39を介して上記
軸状部材31に伝達されることになる。つまり、軸状部
材31は第2の駆動モータ36によって回転駆動され
る。
A belt 39 is stretched between the driving pulley 38 and the driven pulley 34. Therefore, when the second drive motor 36 operates to rotate the rotation shaft 37, the rotation is transmitted to the shaft member 31 via the belt 39. That is, the shaft member 31 is driven to rotate by the second drive motor 36.

【0031】上記軸状部材31の上端は、上記回転テー
ブル9の基部11に形成された通孔11aに対向位置し
ている。この軸状部材31の上端には、上記基部11の
通孔11aを覆う状態で、しかも基部11に対して非接
触でノズルヘッド41が取り付けられている。つまり、
ノズルヘッド41は回転テーブル9に保持された基板1
5の下面中央部分に対向して設けられている。
The upper end of the shaft-like member 31 is opposed to a through hole 11 a formed in the base 11 of the turntable 9. A nozzle head 41 is attached to the upper end of the shaft-shaped member 31 so as to cover the through-hole 11a of the base 11 and not to contact the base 11. That is,
The nozzle head 41 is mounted on the substrate 1 held on the turntable 9.
5 is provided so as to face the center of the lower surface.

【0032】上記ノズルヘッド41には図2と図3に示
すように、下部ノズル体として一対の第1の処理液用ノ
ズル体42、一対の第2の処理液用ノズル体43及び1
つの気体用ノズル体44とが設けられている。各ノズル
体42〜44の下端部はノズルヘッド41の下面から軸
状部材31の上端部内に突出し、各突出端にはそれぞれ
チューブ45の一端が接続されている。
As shown in FIGS. 2 and 3, the nozzle head 41 has a pair of first processing liquid nozzles 42 and a pair of second processing liquid nozzles 43 and 1 as lower nozzles.
And two gas nozzle bodies 44. The lower end of each of the nozzle bodies 42 to 44 protrudes from the lower surface of the nozzle head 41 into the upper end of the shaft-shaped member 31, and one end of a tube 45 is connected to each of the protruding ends.

【0033】各チューブ42〜44の他端は上記第1の
カプラ35に接続されている。この第1のカプラ35に
は第2のカプラ46が着脱可能に連結されている。第2
のカプラ46には外装チューブ47が接続され、この外
装チューブ47内には、第2のカプラ46を第1のカプ
ラ35に連結することで、上記各チューブ45にそれぞ
れ連通する5本の供給チューブ48が設けられている。
The other ends of the tubes 42 to 44 are connected to the first coupler 35. A second coupler 46 is detachably connected to the first coupler 35. Second
An outer tube 47 is connected to the coupler 46 of the first embodiment. In the outer tube 47, five supply tubes communicating with the tubes 45 by connecting the second coupler 46 to the first coupler 35 are provided. 48 are provided.

【0034】各供給チューブ48は、第1の処理液用ノ
ズル体42に薬液を供給し、第2の処理液用ノズル体4
3に純水などのリンス液を供給し、気体用ノズル44に
は清浄空気や不活性ガスなどの気体を供給するようにな
っている。
Each supply tube 48 supplies a chemical solution to the first processing liquid nozzle body 42, and supplies the chemical liquid to the second processing liquid nozzle body 4.
A rinsing liquid such as pure water is supplied to 3, and a gas such as clean air or an inert gas is supplied to the gas nozzle 44.

【0035】さらに、回転テーブル9の上方には、図3
に示すように基板15の上面に処理液を噴射する上部ノ
ズル体51が配設されている。この上部ノズル体51か
らは薬液とリンス液とを選択的に基板15の上面に噴射
できるようになっている。
Further, above the turntable 9, FIG.
As shown in the figure, an upper nozzle body 51 for spraying the processing liquid on the upper surface of the substrate 15 is provided. From the upper nozzle body 51, a chemical solution and a rinsing liquid can be selectively jetted onto the upper surface of the substrate 15.

【0036】なお、図3に示すように、上記駆動軸7は
支持部材49に設けられた軸受50によって回転自在に
支持されている。それによって、駆動軸7は回転駆動さ
れたときに横振れするのが規制されている。
As shown in FIG. 3, the drive shaft 7 is rotatably supported by a bearing 50 provided on a support member 49. This restricts lateral vibration of the drive shaft 7 when it is driven to rotate.

【0037】つぎに、上記構成のスピン処理装置によっ
て基板15を処理する場合について説明する。基板15
は所定の薬液によって処理された後、リンス液でリンス
処理されてから乾燥処理される。
Next, a case where the substrate 15 is processed by the spin processing apparatus having the above configuration will be described. Substrate 15
Is treated with a predetermined chemical solution, rinsed with a rinse solution, and then dried.

【0038】薬液による処理を行なう場合には、まず、
第1の駆動モータ8を作動させて回転テーブル9を所定
の速度で回転させたならば、上部ノズル体51と、ノズ
ルヘッド41に設けられた第1の処理液用ノズル体42
とから基板15の上面と下面とにたとえばオゾン水など
の薬液を噴射させる。それによって、基板15の上面と
下面とは薬液によって処理されることになる。
When performing treatment with a chemical solution, first,
When the rotary table 9 is rotated at a predetermined speed by operating the first drive motor 8, the upper nozzle body 51 and the first processing liquid nozzle body 42 provided on the nozzle head 41 are provided.
Then, a chemical such as ozone water is sprayed onto the upper and lower surfaces of the substrate 15. Thereby, the upper surface and the lower surface of the substrate 15 are processed by the chemical.

【0039】薬液による処理が終了したならば、上部ノ
ズル体51と、ノズルヘッド41に設けられた第2の処
理液用ノズル体43から基板15の上面と下面とに向け
てリンス液を噴射する。それによって、薬液で処理され
た基板15の上下面がリンス処理されることになる。
When the processing with the chemical liquid is completed, the rinsing liquid is sprayed from the upper nozzle body 51 and the second processing liquid nozzle body 43 provided on the nozzle head 41 toward the upper surface and the lower surface of the substrate 15. . Thereby, the upper and lower surfaces of the substrate 15 treated with the chemical solution are rinsed.

【0040】リンス処理が終了したならば、軸状部材3
1の下端の第1のカプラ35から第2のカプラ46を取
り外す。その状態で第2の駆動モータ36を作動させて
上記軸状部材31を回転させる。軸状部材31を回転さ
せれば、軸状部材31とともにノズルヘッド41が回転
する。
When the rinsing process is completed, the shaft member 3
The second coupler 46 is removed from the first coupler 35 at the lower end of the first coupler. In this state, the second drive motor 36 is operated to rotate the shaft member 31. When the shaft member 31 is rotated, the nozzle head 41 rotates together with the shaft member 31.

【0041】それによって、ノズルヘッド41の表面、
とくに上面にはリンス処理時のリンス液が付着残留した
リンス液を除去することができる。
Thus, the surface of the nozzle head 41,
In particular, the rinsing liquid adhering to the rinsing liquid during the rinsing process can be removed from the upper surface.

【0042】軸状部材31を回転させる際、第2のカプ
ラ46を第1のカプラ35から外すため、第2のカプラ
46に接続された外装チューブ47が上記軸状部材31
の回転によって捩じられることがない。つまり、ノズル
ヘッド41に設けられた各ノズル体42〜44にチュー
ブ45,48を通じて流体を供給する構成であっても、
上記軸状部材31を回転させることが可能となる。
When the shaft member 31 is rotated, the outer tube 47 connected to the second coupler 46 is detached from the first coupler 35 in order to disconnect the second coupler 46 from the first coupler 35.
It is not twisted by the rotation of. That is, even if the fluid is supplied to the nozzle bodies 42 to 44 provided in the nozzle head 41 through the tubes 45 and 48,
The shaft member 31 can be rotated.

【0043】ノズルヘッド41を所定時間回転させたな
らば、第1の駆動モータ8の回転数を上昇させ、基板1
5を薬液やリンス液で処理する場合に比べて高速で回転
する。それによって、基板15の上面と下面とに付着残
留したリンス液が飛散するから、この基板15が乾燥処
理されることになる。
After the nozzle head 41 has been rotated for a predetermined time, the rotation speed of the first drive motor 8 is increased to
5 rotates at a higher speed than in the case of treating with a chemical solution or a rinsing solution. As a result, the rinse liquid adhering and remaining on the upper surface and the lower surface of the substrate 15 is scattered, so that the substrate 15 is dried.

【0044】基板15の乾燥処理時に、ノズルヘッド4
1の表面にリンス液が付着残留していると、そのリンス
液は、回転テーブル9の回転によって基板15の下面側
に生じる空気流によってミスト状になって舞い上がり、
基板15の下面や上面に付着して基板15の汚染原因と
なる。
At the time of drying the substrate 15, the nozzle head 4
If the rinsing liquid remains on the surface of the substrate 1, the rinsing liquid flies in the form of a mist due to the air flow generated on the lower surface side of the substrate 15 by the rotation of the turntable 9,
It adheres to the lower and upper surfaces of the substrate 15 and causes contamination of the substrate 15.

【0045】しかしながら、上述したように、基板15
を乾燥処理する前に、ノズルヘッド41を回転させてそ
の表面に付着したリンス液を除去しているので、乾燥処
理時にノズルヘッド41に付着したリンス液によって基
板15が汚染されるのを防止することができる。
However, as described above, the substrate 15
Before the drying process, the nozzle head 41 is rotated to remove the rinsing liquid adhering to the surface thereof, so that the substrate 15 is prevented from being contaminated by the rinsing liquid adhering to the nozzle head 41 during the drying process. be able to.

【0046】ノズルヘッド41を回転させるタイミング
は、基板を乾燥処理する前だけでなく、乾燥処理の開始
と同時に行なうようにしてもよい。その場合、基板15
に付着したリンス液の除去と同時に、ノズルヘッド41
の表面に付着したリンス液の除去が行なわれる。
The timing of rotating the nozzle head 41 may be performed not only before the substrate is dried but also simultaneously with the start of the drying. In that case, the substrate 15
At the same time as removing the rinsing liquid attached to the nozzle head 41,
The rinsing liquid attached to the surface is removed.

【0047】そのため、この場合も、乾燥処理された基
板15にノズルヘッド41からリンス液が飛散して付着
するのを防止できる。しかも、ノズルヘッド41に付着
したリンス液の除去と、基板15の乾燥処理とを同時に
行なえるため、全体の処理時間が余計にかかることもな
い。
Therefore, also in this case, the rinsing liquid can be prevented from being scattered from the nozzle head 41 and adhered to the dried substrate 15. Moreover, since the rinsing liquid attached to the nozzle head 41 can be removed and the substrate 15 can be dried at the same time, the entire processing time does not need to be increased.

【0048】なお、ノズルヘッド41は、基板15の乾
燥処理が終了するまで回転させてもよいが、乾燥処理が
終了する前に回転を停止させてもよい。
The nozzle head 41 may be rotated until the drying process of the substrate 15 is completed, but may be stopped before the drying process is completed.

【0049】一方、基板15を保持した回転テーブル9
を高速度で回転させると、その回転によって気流Bが生
じる。この気流Bは回転する基板15の回転方向、つま
り回転の接線方向に生じる。
On the other hand, the rotary table 9 holding the substrate 15
Is rotated at high speed, an airflow B is generated by the rotation. The airflow B is generated in the rotation direction of the rotating substrate 15, that is, in the tangential direction of the rotation.

【0050】回転テーブル9の回転方向に生じた気流B
は、カップ体1の周壁4に形成された導入口部5から導
入路23へ流入し、この導入路23の末端部に形成され
た排出口24から排出管25へ吸引排出される。
Airflow B generated in the direction of rotation of the rotary table 9
Flows into the introduction path 23 from the introduction port 5 formed in the peripheral wall 4 of the cup body 1, and is sucked and discharged to the discharge pipe 25 from the discharge port 24 formed at the end of the introduction path 23.

【0051】回転テーブル9の回転によって生じる気流
Bには、基板15から飛散した洗浄液が含まれるから、
気液分離器26では気体と液体とが分離され、それぞれ
が別々に排出される。
Since the air flow B generated by the rotation of the rotary table 9 contains the cleaning liquid scattered from the substrate 15,
In the gas-liquid separator 26, gas and liquid are separated, and each is separately discharged.

【0052】回転テーブル9の回転によって生じる気流
Bは、カップ体1の周壁4に周方向に沿って所定間隔で
形成された複数の導入口部5から導入路23へ流入し、
気液分離器26へ排出されるから、カップ体1の内周面
に沿う流れを少なくして導入口部5へ流入させることが
できる。
The air flow B generated by the rotation of the rotary table 9 flows into the introduction passage 23 from a plurality of introduction ports 5 formed at predetermined intervals along the circumferential direction on the peripheral wall 4 of the cup body 1.
Since the gas is discharged to the gas-liquid separator 26, the flow along the inner peripheral surface of the cup body 1 can be reduced and can flow into the inlet 5.

【0053】そのため、回転テーブル9の回転によって
生じる気流Bは、ほとんどがカップ体1内で流れに乱れ
が生じて渦流や上昇気流となる前にそれぞれの導入口部
5へ流入することになるから、気流Bに含まれるミスト
がカップ体1内で浮遊して基板15に再付着するのを防
止することができる。したがって、そのことによって
も、基板15が汚染されにくくなる。
For this reason, most of the airflow B generated by the rotation of the rotary table 9 flows into the respective inlets 5 before the airflow B is disturbed in the cup body 1 and becomes a vortex or ascending airflow. In addition, it is possible to prevent the mist contained in the airflow B from floating in the cup body 1 and re-adhering to the substrate 15. Therefore, this also makes it difficult for the substrate 15 to be contaminated.

【0054】[0054]

【発明の効果】この発明は、基板の下面に処理液を噴射
するためのノズル体が設けられたノズルヘッドを回転さ
せることができるようにした。
According to the present invention, it is possible to rotate a nozzle head provided with a nozzle body for jetting a processing liquid onto the lower surface of a substrate.

【0055】そのため、ノズルヘッドを回転させること
で、この表面に付着した処理液を除去できるから、基板
の乾燥処理時にノズルヘッドに付着した処理液が基板の
回転によって生じる気流で飛散し、基板に付着して汚染
の原因になるのを防止することができる。
Therefore, by rotating the nozzle head, the processing liquid adhering to the surface can be removed, so that the processing liquid adhering to the nozzle head during the drying process of the substrate is scattered by an air current generated by the rotation of the substrate, and is applied to the substrate. It is possible to prevent adhesion and cause of contamination.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施の形態を示すスピン処理装置
の概略的構成の縦断面図。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a schematic configuration of a spin processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1のX−X線に沿う横断面図。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line XX of FIG.

【図3】上端にノズルヘッドが取り付けられた軸状部材
を回転駆動する構造を示す断面図。
FIG. 3 is a sectional view showing a structure for rotating and driving a shaft-shaped member having a nozzle head attached to an upper end.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…カップ体 8…第1の駆動モータ(第1の駆動手段) 9…回転テーブル 15…基板 31…軸上部材 35…第1のカプラ 36…第2の駆動モータ(第2の駆動手段) 41…ノズルヘッド 45…チューブ 46…第2のカプラ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Cup body 8 ... 1st drive motor (1st drive means) 9 ... Rotary table 15 ... Board | substrate 31 ... On-axis member 35 ... 1st coupler 36 ... 2nd drive motor (2nd drive means) 41 ... Nozzle head 45 ... Tube 46 ... Second coupler

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/306 J Fターム(参考) 4D075 AC64 AC84 BB65Z CA48 DA08 DB14 DC22 EA45 4F042 AA07 CC07 CC08 EB17 EB23 5F043 AA40 BB27 EE07 EE08 5F046 JA02 JA03 JA15 LA02 LA03 LA04 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI Theme coat II (Reference) H01L 21/306 JF term (Reference) 4D075 AC64 AC84 BB65Z CA48 DA08 DB14 DC22 EA45 4F042 AA07 CC07 CC08 EB17 EB23 5F043 AA40 BB27 EE07 EE08 5F046 JA02 JA03 JA15 LA02 LA03 LA04

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板を回転させて処理するスピン処理装
置において、 カップ体と、 このカップ体内に設けられ上記基板を保持した状態で回
転駆動される回転テーブルと、 この回転テーブルを回転駆動する第1の駆動手段と、 上記回転テーブルに保持される上記基板の下面中央部分
に対向して設けられこの基板の下面に処理液を噴射する
ノズル体を有するノズルヘッドと、 一端が上記ノズルヘッドの下面に連結され他端部が上記
カップ体の底部から外部に導出された軸状部材と、 この軸状部材とともに上記ノズルヘッドを回転駆動しこ
のノズルヘッドの上面に付着した処理液を除去する第2
の駆動手段とを具備したことを特徴とするスピン処理装
置。
1. A spin processing apparatus for processing a substrate by rotating the substrate, comprising: a cup body; a rotary table provided in the cup body and driven to rotate while holding the substrate; A driving unit, a nozzle head provided opposite to a central portion of the lower surface of the substrate held by the rotary table, the nozzle head having a nozzle body for injecting a processing liquid onto the lower surface of the substrate, one end of the lower surface of the nozzle head A shaft member whose other end is led out from the bottom of the cup body to the outside, and a second member for rotating and driving the nozzle head together with the shaft member to remove a processing liquid attached to an upper surface of the nozzle head.
A spin processing device comprising:
【請求項2】 上記軸状部材は中空状で、この内部には
一端を上記ノズル体に接続したチューブが挿通され、こ
のチューブの他端は上記軸状部材の他端に設けられた第
1のカプラに接続さていて、 上記第1のカプラには第2のカプラが着脱可能に接続さ
れ、この第2のカプラには上記チューブを介して上記ノ
ズル体に処理液を供給する供給チューブが連結されてい
ることを特徴とする請求項1記載のスピン処理装置。
2. The shaft-shaped member is hollow, and a tube having one end connected to the nozzle body is inserted therein, and the other end of the tube is provided at a first end provided at the other end of the shaft-shaped member. And a second coupler is detachably connected to the first coupler, and a supply tube for supplying a processing liquid to the nozzle body via the tube is connected to the second coupler. 2. The spin processing device according to claim 1, wherein the spin processing device is connected.
【請求項3】 基板を回転駆動し、この基板の上面には
上部ノズル体から処理液を噴射し、下面にはノズルヘッ
ドに設けられた下部ノズル体から処理液を噴射すること
で、この基板の上面と下面とを処理するスピン処理方法
において、 上記基板を回転させてこの基板の上面に上記上部ノズル
体から処理液を噴射するとともに、下面に上記ノズルヘ
ッドに設けられた上記下部ノズル体から処理液を噴射し
て基板を処理する工程と、 処理液による基板の処理が終わった後、上記ノズルヘッ
ドを回転させてこのノズルヘッドに付着した処理液を除
去する工程と、 処理液で処理された基板を回転させてこの基板に付着し
た処理液を除去して基板を乾燥する乾燥工程とを具備し
たことを特徴とするスピン処理方法。
3. A substrate is rotated by injecting a processing liquid from an upper nozzle body on an upper surface of the substrate and a processing liquid from a lower nozzle body provided in a nozzle head on the lower surface. A spin processing method for processing the upper surface and the lower surface of the substrate, wherein the substrate is rotated to eject the processing liquid from the upper nozzle body to the upper surface of the substrate, and the lower nozzle body provided to the nozzle head on the lower surface. A step of spraying the processing liquid to process the substrate; a step of rotating the nozzle head after the processing of the substrate with the processing liquid to remove the processing liquid attached to the nozzle head; Drying the substrate by rotating the substrate to remove the processing liquid attached to the substrate and drying the substrate.
【請求項4】 ノズルヘッドを回転させる工程は、基板
を乾燥させる工程の前に行なうことを特徴とする請求項
3記載のスピン処理方法。
4. The spin processing method according to claim 3, wherein the step of rotating the nozzle head is performed before the step of drying the substrate.
【請求項5】 ノズルヘッドを回転させる工程は、基板
を乾燥させる工程と同時に行なうことを特徴とする請求
項3記載のスピン処理方法。
5. The spin processing method according to claim 3, wherein the step of rotating the nozzle head is performed simultaneously with the step of drying the substrate.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR101017889B1 (en) 2009-01-05 2011-03-04 (주) 예스티 A wafer shaker

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009076918A (en) * 2007-09-19 2009-04-09 Semes Co Ltd Substrate machining method, spin unit, and substrate machining device using the spin unit
JP2012033961A (en) * 2007-09-19 2012-02-16 Semes Co Ltd Substrate processing device
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