JP2002001653A - Fine adjustment device - Google Patents

Fine adjustment device

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JP2002001653A
JP2002001653A JP2000184703A JP2000184703A JP2002001653A JP 2002001653 A JP2002001653 A JP 2002001653A JP 2000184703 A JP2000184703 A JP 2000184703A JP 2000184703 A JP2000184703 A JP 2000184703A JP 2002001653 A JP2002001653 A JP 2002001653A
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bolt
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grinding
force
fine adjustment
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Disco Abrasive Systems Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To highly accurately adjust a supporting condition, while maintaining rigidity of a supporting part of a region for holding a workpiece, in various processing apparatuses. SOLUTION: A fine adjustment device 50 is provided for finely adjusting relation of the position by being interposed between a first member and a second member, which is at least composed of a lever member 51 having a fulcrum 54, a point of application 55, and a force point 56, and a bolt member 53 for transferring force to the force point 56.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、2つの部材に介在
して位置関係を調整する微調整装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a fine adjustment device for adjusting a positional relationship between two members.

【0002】[0002]

【従来の技術】例えば図6に示す研削装置70は、起立
した壁部72にレール73が垂直方向に配設され、レー
ル73に沿ってスライド部74が上下動するのに伴って
スライド部74に取り付けられた研削手段75が上下動
するよう構成されている。また、基台カバー71aに
は、被加工物を保持するチャックテーブル76が配設さ
れている。
2. Description of the Related Art For example, in a grinding apparatus 70 shown in FIG. 6, a rail 73 is vertically disposed on an upright wall 72, and a slide 74 moves up and down along the rail 73. Is configured to move up and down. Further, a chuck table 76 for holding a workpiece is provided on the base cover 71a.

【0003】研削手段75においては、垂直方向の軸心
を有するスピンドル77の先端のマウンタ78に、下部
に研削砥石79を備えた研削ホイール80が装着されて
おり、研削ホイール80はスピンドル77の回転に伴っ
て回転する構成となっている。
In the grinding means 75, a grinding wheel 80 provided with a grinding wheel 79 at a lower portion is mounted on a mounter 78 at the tip of a spindle 77 having a vertical axis, and the grinding wheel 80 rotates the spindle 77. It rotates with this.

【0004】このような研削装置70を用いて例えば半
導体ウェーハの研削を行う際は、半導体ウェーハWをチ
ャックテーブル76において保持して研削手段75の直
下に位置付け、スピンドル77を回転させると共に、研
削手段75を下降させていく。そして、スピンドル77
の高速回転に伴って研削ホイール80が高速回転すると
共に、回転する研削砥石79が半導体ウェーハWに接触
して押圧力が加えられることにより、その表面が研削砥
石79によって研削される。
When grinding a semiconductor wafer, for example, using such a grinding apparatus 70, the semiconductor wafer W is held on a chuck table 76, positioned immediately below the grinding means 75, and the spindle 77 is rotated. 75 is lowered. And the spindle 77
As the grinding wheel 80 rotates at a high speed with the high-speed rotation of the semiconductor wafer W, the rotating grinding wheel 79 comes into contact with the semiconductor wafer W to apply a pressing force, whereby the surface thereof is ground by the grinding wheel 79.

【0005】従って、半導体ウェーハWの表面を研削し
て均一な厚さに仕上げるためには、研削砥石79の研削
面とチャックテーブル76のチャック面とが高精度に平
行な状態となっていなければならない。そこで、チャッ
クテーブル76の下部には、チャック面76aの傾きを
調整するための機構を有している。
Therefore, in order to grind the surface of the semiconductor wafer W to a uniform thickness, the grinding surface of the grinding wheel 79 and the chuck surface of the chuck table 76 must be in a state of being parallel with high precision. No. Therefore, a mechanism for adjusting the inclination of the chuck surface 76a is provided below the chuck table 76.

【0006】図7に示すように、表面がチャック面76
aとなっているチャックテーブル76は、テーブル支持
部81によって下方から支持され、テーブル支持部81
の内部の回転軸はモータ82に連結されており、モータ
82の駆動によりチャックテーブル76が回転する構成
となっている。
[0006] As shown in FIG.
The chuck table 76 a is supported from below by the table support 81, and the table support 81
Is connected to a motor 82, and the chuck table 76 is rotated by driving the motor 82.

【0007】また、テーブル支持部81の外周部にはフ
ランジ部83が形成され、フランジ部83を上下方向に
進退できるように1または2以上の調整ボルト84が基
台71bに配設されており、回転部85を回転させて調
整ボルト84を進退させることによってチャック面76
aの傾きを調整することができ、これによって研削砥石
79の研削面との位置関係を調整できるよう構成されて
いる。
A flange 83 is formed on the outer periphery of the table support 81, and one or more adjustment bolts 84 are arranged on the base 71b so that the flange 83 can move up and down in the vertical direction. By rotating the rotating part 85 to move the adjustment bolt 84 forward and backward, the chuck surface 76 is rotated.
The inclination of a can be adjusted, whereby the positional relationship between the grinding wheel 79 and the ground surface can be adjusted.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図7の
調整機構によると、調整ボルト84の進退が直接チャッ
ク面76aの表面精度として現れるため、調整ボルト8
4の加工精度が悪く雄ネジと雌ネジとの間にガタや遊び
が発生した場合には、チャック面76aの精度が安定し
ないことがある。また、ネジ面の加工精度により偏当た
りが起こった場合には剛性が低下するという問題もあ
る。更に、調整分解能はネジのピッチで決まってしまう
ため、分解能を高めるには限界があり、このためチャッ
ク面76aの傾きを微調整するのは困難である。
However, according to the adjustment mechanism shown in FIG. 7, since the advance and retreat of the adjustment bolt 84 directly appears as the surface accuracy of the chuck surface 76a, the adjustment bolt 8
If the machining accuracy of No. 4 is poor and backlash or play occurs between the male screw and the female screw, the accuracy of the chuck surface 76a may not be stable. In addition, there is a problem that rigidity is reduced when uneven contact occurs due to the processing accuracy of the screw surface. Furthermore, since the adjustment resolution is determined by the pitch of the screws, there is a limit in increasing the resolution, and it is difficult to finely adjust the inclination of the chuck surface 76a.

【0009】このような問題点は、上記説明した研削装
置に限らず、部材間の位置関係を高精度に調整しなけれ
ばならないすべての装置において発生しうるものであ
り、かかる問題点を解決し、高剛性を維持しつつ高精度
な位置関係の調整を可能とすることに課題を有してい
る。
Such a problem can occur not only in the above-described grinding apparatus but also in any apparatus in which the positional relationship between members must be adjusted with high precision. Another problem is that it is possible to adjust the positional relationship with high accuracy while maintaining high rigidity.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の具体的手段として本発明は、第一の部材と第二の部材
とに介在して位置関係を微調整する微調整装置であっ
て、支点部と作用点部と力点部とを有する梃子部材と、
力点部に力を伝達するボルト部材とから少なくとも構成
される微調整装置を提供する。
SUMMARY OF THE INVENTION As a specific means for solving the above-mentioned problems, the present invention is a fine-adjustment device for finely adjusting a positional relationship between a first member and a second member. A lever member having a fulcrum, an action point, and a force point,
A fine adjustment device including at least a bolt member that transmits a force to a force point portion.

【0011】そしてこの微調整装置は、梃子部材を構成
する支点部と作用点部と力点部とはそれぞれ支持部と首
部とから構成され、ボルト部材は回転部と固定部と力伝
達部とから構成されること、第一の部材の所要位置には
梃子部材の支点支持部が固定され、第二の部材の所要位
置には梃子部材の作用点支持部が固定され、ボルト部材
の力伝達部が梃子部材の力点支持部に固定されると共に
ボルト部材の固定部は第一の部材の所要位置に固定され
ること、梃子部材の作用点支持部と第二の部材との間に
は粗調整部材が介在し、粗調整部材は、作用点支持部に
固定されるナット部と、ナット部に螺合する粗調整中空
ボルトと、粗調整中空ボルトに形成された中空部を貫通
し作用点支持部に螺合して第二の部材と作用点支持部と
を固定する固定ボルトとから構成されること、第一の部
材は加工装置を構成する基台であり、第二の部材は被加
工物を保持する保持部材の支持部であること、加工装置
は、被加工物の表面を研削する研削ホイールを備えた研
削手段と、被加工物を保持する保持部材であるチャック
テーブルと、チャックテーブルを支持する基台とから少
なくとも構成され、第一の部材は基台であり、第二の部
材はチャックテーブルを支持するテーブル支持部である
こと、チャックテーブルは基台に対して3箇所において
支持されており、少なくとも2箇所に配設されること、
ボルト部材を構成する回転部には駆動源が装着されるこ
とを付加的要件とする。
In this fine adjustment device, a fulcrum, an action point, and a power point constituting the lever member are each composed of a support part and a neck part, and the bolt member is composed of a rotating part, a fixed part, and a force transmission part. The fulcrum support portion of the lever member is fixed at a required position of the first member, the operation point support portion of the lever member is fixed at a required position of the second member, and a force transmitting portion of the bolt member is provided. Is fixed to the power point support portion of the lever member, and the fixing portion of the bolt member is fixed to a required position of the first member. The coarse adjustment is performed between the action point support portion of the lever member and the second member. The member is interposed, the coarse adjustment member penetrates the nut portion fixed to the operation point support portion, the coarse adjustment hollow bolt screwed to the nut portion, and the hollow portion formed in the coarse adjustment hollow bolt, and the operation point support is provided. Fixing screw which is screwed into the portion to fix the second member and the action point support portion. The first member is a base that constitutes a processing device, the second member is a support portion of a holding member that holds the workpiece, and the processing device is a workpiece. Grinding means provided with a grinding wheel for grinding the surface of, a chuck table which is a holding member for holding the workpiece, and a base supporting the chuck table, the first member is a base The second member is a table supporting portion for supporting the chuck table, the chuck table is supported at three positions with respect to the base, and is disposed at at least two positions;
It is an additional requirement that a driving source is mounted on the rotating part constituting the bolt member.

【0012】このように構成される微調整装置によれ
ば、従来のようにボルト部材のみによる調整ではなく、
ボルト部材と梃子部材とを組み合わせて調整を行うよう
にしたことにより、ボルト部材を回転させた場合の梃子
部材の力点における移動量に比べて作用点における移動
量が小さいため、ボルト部材に形成されたネジにガタや
遊びが生じている場合にもその影響が小さく、高精度な
調整が可能となると共に、ネジ面に偏当たりが生じてい
る場合でも剛性を維持することができる。
According to the fine adjustment device configured as described above, not only the adjustment using only the bolt member as in the related art,
Since the adjustment is performed by combining the bolt member and the lever member, the amount of movement of the lever member at the point of application is smaller than the amount of movement of the lever member at the point of force when the bolt member is rotated. Even when looseness or play occurs in the set screw, the influence thereof is small, high-precision adjustment is possible, and rigidity can be maintained even when uneven contact occurs on the screw surface.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明の実施の形態の一例とし
て、図1に示す研削装置10に搭載される微調整装置に
ついて説明する。研削装置10は、板状物、例えば半導
体ウェーハを平面状に研削する装置であり、研削しよう
とする半導体ウェーハWは、カセット11aに複数段に
重ねて収納され、搬出入手段12によって1枚ずつピッ
クアップされて中心合わせテーブル13に載置される。
そしてここで半導体ウェーハWが一定の位置に位置合わ
せされた後、第一の搬送手段14に吸着されてチャック
テーブル15に搬送されて保持される。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS As an example of an embodiment of the present invention, a fine adjustment device mounted on a grinding device 10 shown in FIG. 1 will be described. The grinding device 10 is a device for grinding a plate-like object, for example, a semiconductor wafer, into a planar shape. Semiconductor wafers W to be ground are stored in a plurality of stages in a cassette 11a, and are loaded one by one by a loading / unloading unit 12. It is picked up and placed on the centering table 13.
Then, after the semiconductor wafer W is positioned at a predetermined position, the semiconductor wafer W is sucked by the first transfer means 14 and transferred to the chuck table 15 and held.

【0014】次に、ターンテーブル16aが所要角度回
転することによって半導体ウェーハWが研削手段17a
の直下に位置付けられる。そして、研削手段17aの直
下に位置付けられた半導体ウェーハWは、研削手段17
aの作用を受けることにより上面が研削される。ここで
は例えば粗研削が行われる。
Next, as the turntable 16a rotates by a required angle, the semiconductor wafer W is removed by the grinding means 17a.
Is located directly below. Then, the semiconductor wafer W positioned immediately below the grinding means 17a is
The upper surface is ground by the action of a. Here, for example, rough grinding is performed.

【0015】粗研削の終了後は、チャックテーブル15
を支持する基台であるターンテーブル基台16bが所要
角度回転することによって、粗研削された半導体ウェー
ハWが研削手段17bの直下に位置付けられ、研削手段
17bの作用を受けることにより表面が研削される。こ
こでは例えば仕上げ研削が行われる。
After the completion of the rough grinding, the chuck table 15
When the turntable base 16b, which is a base for supporting the semiconductor wafer W, rotates by a required angle, the roughly ground semiconductor wafer W is positioned immediately below the grinding means 17b, and the surface is ground by the action of the grinding means 17b. You. Here, for example, finish grinding is performed.

【0016】研削手段17a、17bは、起立した壁部
18に対して上下動可能となっている。ここで、研削手
段17aと研削手段17bとは砥石の種類以外について
は同様に構成されるため、同一の符号を付して説明する
と、壁部18の内側の面には一対のレール19が垂直方
向に併設され、パルスモータ20に駆動されてレール1
9にガイドされてスライド部21が上下動するのに伴
い、スライド部21に固定された研削手段17a、17
bが上下動する構成となっている。
The grinding means 17a, 17b can move up and down with respect to the upright wall portion 18. Here, since the grinding means 17a and the grinding means 17b have the same configuration except for the type of the grindstone, the same reference numerals are used to describe the same. And are driven by a pulse motor 20 to
As the slide portion 21 moves up and down while being guided by the guide 9, the grinding means 17a and 17 fixed to the slide portion 21 are provided.
b is configured to move up and down.

【0017】研削手段17a、17bにおいては、回転
可能に支持されたスピンドル22にマウンタ23を介し
て研削ホイール24が装着されており、研削ホイール2
4の下部には研削砥石25a、25bが固着されてい
る。研削砥石25aとしては粗研削用の砥石、研削砥石
25bとしては仕上げ研削用の砥石が用いられる。
In the grinding means 17a and 17b, a grinding wheel 24 is mounted on a rotatably supported spindle 22 via a mounter 23.
Grinding stones 25a and 25b are fixed to the lower part of 4. A grinding wheel for rough grinding is used as the grinding wheel 25a, and a grinding wheel for finish grinding is used as the grinding wheel 25b.

【0018】仕上げ研削された半導体ウェーハWが載置
されたチャックテーブル15は、ターンテーブル基台1
6bの回転によって第二の搬送手段26の近傍に位置付
けられる。そして、研削済みの半導体ウェーハWは、第
二の搬送手段26によって洗浄手段27に搬送されて洗
浄された後、搬出入手段12によってピックアップされ
てカセット11bの内部に収納される。以上のようにし
て順次研削を行うと、最終的には研削された半導体ウェ
ーハWがすべてカセット11bに収納される。
The chuck table 15 on which the finish-ground semiconductor wafer W is mounted is mounted on the turntable base 1.
By the rotation of 6b, it is positioned near the second transport means 26. The ground semiconductor wafer W is transported to the cleaning unit 27 by the second transport unit 26 and washed, and then picked up by the loading / unloading unit 12 and stored in the cassette 11b. When the grinding is sequentially performed as described above, finally, all the ground semiconductor wafers W are stored in the cassette 11b.

【0019】図2に示すように、チャックテーブル15
はモータ16cに駆動されて回転可能なターンテーブル
基台16bに支持されており、チャック面15aにはチ
ューブ16dを通じて吸引力が供給されている。また、
壁部18の裏側には垂直方向にボールネジ28が配設さ
れており、このボールネジ28は、パルスモータ20に
連結されると共に、壁部18を貫通して研削手段17
a、17bと連結された支持部29に備えたナットに螺
合しており、パルスモータ20の駆動によりボールネジ
28が回動するのに伴って支持部29及びこれに連結さ
れた研削手段17a、17bが上下動する構成となって
いる。
As shown in FIG. 2, the chuck table 15
Is supported by a turntable base 16b which can be driven and rotated by a motor 16c, and a suction force is supplied to the chuck surface 15a through a tube 16d. Also,
A ball screw 28 is disposed on the back side of the wall 18 in the vertical direction. The ball screw 28 is connected to the pulse motor 20 and penetrates through the wall 18 so that the grinding means 17
a, 17b, which is screwed into a nut provided on a supporting portion 29 connected to the supporting portion 29 and the grinding means 17a connected to the supporting portion 29 as the ball screw 28 is rotated by driving the pulse motor 20; 17b moves up and down.

【0020】パルスモータ20は、パルスモータドライ
バ30を介して制御部31に接続されており、制御部3
1による制御の下でボールネジ28を回動させることに
よって研削手段17a、17bを上下動させる。また、
支持部29の垂直方向の位置は、リニアスケール32に
よって計測され、その情報が制御部31に伝達されるこ
とによって研削手段17a、17bの上下動が精密に制
御される。
The pulse motor 20 is connected to a control unit 31 via a pulse motor driver 30.
By turning the ball screw 28 under the control of 1, the grinding means 17a and 17b are moved up and down. Also,
The vertical position of the support portion 29 is measured by the linear scale 32, and the information is transmitted to the control portion 31, whereby the vertical movement of the grinding means 17a, 17b is precisely controlled.

【0021】このように構成される研削装置10を用い
て半導体ウェーハWの表面を研削する場合において、表
面を高精度に仕上げるためには、半導体ウェーハWを保
持するチャックテーブル15のチャック面15aと研削
砥石25aまたは研削砥石25bの研削面とが高精度に
平行な状態となっている必要がある。
When the surface of the semiconductor wafer W is ground using the grinding apparatus 10 having the above-described configuration, the surface of the semiconductor wafer W can be finished with high accuracy by using the chuck surface 15a of the chuck table 15 for holding the semiconductor wafer W. It is necessary that the grinding surface of the grinding wheel 25a or 25b is in parallel with high precision.

【0022】そこで、チャック面15aと研削砥石25
aまたは研削砥石25bの研削面とが平行になっていな
い場合は、図3に示す本発明の微調整装置50を用いて
チャックテーブル15の角度を微調整することによって
両者を平行な状態とする。
Therefore, the chuck surface 15a and the grinding wheel 25
a or the grinding surface of the grinding wheel 25b is not parallel to each other by finely adjusting the angle of the chuck table 15 using the fine adjustment device 50 of the present invention shown in FIG. .

【0023】図3に示すように、チャック面15aを有
するチャックテーブル15はテーブル支持部40によっ
て下方から支持されており、テーブル支持部40の外周
部にはフランジ部42が形成され、テーブル支持部40
の内部を垂直方向に貫通する回転軸(図示せず)はモー
タ41に連結され、モータ41の駆動によりチャックテ
ーブル15が回転する構成となっている。
As shown in FIG. 3, the chuck table 15 having the chuck surface 15a is supported from below by a table support portion 40, and a flange portion 42 is formed on an outer peripheral portion of the table support portion 40. 40
A rotating shaft (not shown) penetrating vertically through the inside is connected to a motor 41, and the chuck table 15 is rotated by driving the motor 41.

【0024】また図4に示すように、フランジ42部に
は、被支持部43aを構成する貫通孔44a、被支持部
43bを構成する貫通孔44b、被支持部43cを構成
する貫通孔44cが120度間隔で配設されている。そ
して、被支持部43aを構成する貫通孔44aには図3
に示したボルト45が貫通し、ボルト45の先端部に形
成された雄ネジ部(図示せず)がターンテーブル基台1
6bに固定された被螺合部47に螺合することによっ
て、テーブル支持部40がターンテーブル基台16bに
固定支持されている。
As shown in FIG. 4, the flange 42 has a through hole 44a forming the supported portion 43a, a through hole 44b forming the supported portion 43b, and a through hole 44c forming the supported portion 43c. They are arranged at 120 degree intervals. The through-hole 44a forming the supported portion 43a is provided in FIG.
The bolt 45 shown in FIG. 1 penetrates, and a male screw portion (not shown) formed at the tip of the bolt 45 is
The table support 40 is fixedly supported by the turntable base 16b by being screwed into the threaded portion 47 fixed to 6b.

【0025】一方、図4に示した被支持部43b、43
cは、微調整装置50によって支持される。この微調整
装置50は、図3に示したように、第一の部材であるタ
ーンテーブル基台16bと第二の部材であるフランジ4
2とに介在しており、図3においては被支持部43cを
支持する微調整装置50のみを示している。
On the other hand, the supported portions 43b, 43 shown in FIG.
c is supported by the fine adjustment device 50. As shown in FIG. 3, the fine adjustment device 50 includes a turntable base 16b as a first member and a flange 4 as a second member.
2, only the fine adjustment device 50 that supports the supported portion 43c is shown in FIG.

【0026】図5に示すように、微調整装置50は、梃
子部材51と、粗調整部材52と、ボルト部材53とか
ら構成される。梃子部材51は、支点部54と作用点部
55と力点部56とを有し、力点部56に加えられる力
によって作用点部55に力が作用する構成となってお
り、支点部54には支点支持部54aが、作用点部55
には作用点支持部55aが、力点部56には力点支持部
56aがそれぞれネジ止めにより固定できるように形成
されている。
As shown in FIG. 5, the fine adjustment device 50 includes a lever member 51, a coarse adjustment member 52, and a bolt member 53. The lever member 51 has a fulcrum portion 54, an action point portion 55, and a force point portion 56, and is configured so that a force acts on the action point portion 55 by a force applied to the force point portion 56. The fulcrum support portion 54a is
Is formed so that the action point support portion 55a can be fixed to the power point portion 56 by screwing.

【0027】また、支点支持部54aの上部には支点首
部54bが形成され、作用点支持部55aの下部には作
用点首部55bが形成され、力点支持部56aの上部に
は力点首部56bが形成され、それぞれの首部は、梃子
部材51の動きによって若干撓む構造となっている。
A fulcrum neck 54b is formed above the fulcrum support 54a, a fulcrum neck 55b is formed below the fulcrum support 55a, and a fulcrum neck 56b is formed above the fulcrum support 56a. Each of the necks has a structure slightly bent by the movement of the lever member 51.

【0028】粗調整部材52は、作用点支持部55aに
固定され雌ネジ部58aを備えたナット部58と、ナッ
ト部58の雌ネジ部58aに螺合する雄ネジ部59a及
び中空部59bを備えた粗調整中空ボルト59と、中空
部59を貫通すると共に先端部に形成された雄ネジ部6
0aが作用点支持部55aに形成された雌ネジ部55c
に螺合することにより図3に示したようにフランジ42
を粗調整中空ボルト59とで挟持し固定する固定ボルト
60とから構成される。
The coarse adjustment member 52 includes a nut portion 58 fixed to the application point support portion 55a and having a female screw portion 58a, a male screw portion 59a screwed into the female screw portion 58a of the nut portion 58, and a hollow portion 59b. A coarse adjustment hollow bolt 59 provided and a male screw portion 6 penetrating through the hollow portion 59 and formed at the distal end portion
0a is a female screw portion 55c formed on the action point support portion 55a.
3 to form a flange 42 as shown in FIG.
And a fixing bolt 60 which is clamped and fixed by the coarse adjustment hollow bolt 59.

【0029】ボルト部材53は、図3及び図5に示すよ
うに、力点支持部56aに固定される力伝達部61と、
ターンテーブル基台16bの下面に固定される固定部6
2と、固定部62に対して回転可能な回転部63とから
なり、回転部63から上方に延びる軸部63aの先端に
雄ネジ部63bが形成されており、この雄ネジ部63b
が力伝達部61の内部に形成された雌ネジ部に螺合して
いる。
As shown in FIGS. 3 and 5, the bolt member 53 includes a force transmitting portion 61 fixed to the force point supporting portion 56a,
Fixed part 6 fixed to the lower surface of turntable base 16b
2 and a rotating part 63 rotatable with respect to the fixed part 62. A male screw part 63b is formed at the tip of a shaft part 63a extending upward from the rotating part 63.
Are screwed into a female screw portion formed inside the force transmitting portion 61.

【0030】チャックテーブル15のチャック面15a
と研削砥石25aまたは研削砥石25bの研削面との位
置関係を調整する際は、固定ボルト60を弛め、粗調整
中空ボルト59を回転させることによって大まかな位置
合わせを行い、更に固定ボルト60を締めてフランジ4
2を固定ボルト60と粗調整中空ボルト59とで挟持し
た後、ボルト部材53の回転部63を回転させて力伝達
部61を上下方向に進退させることにより、梃子部材5
1の力点部56に対して力を加える。例えば、回転部6
3を図3におけるL方向に回転させた場合は上向きの力
が力点部56に加わる。
The chuck surface 15a of the chuck table 15
When adjusting the positional relationship between the grinding wheel 25a or the grinding surface of the grinding wheel 25b, the fixing bolt 60 is loosened, and the coarse adjustment hollow bolt 59 is rotated to roughly adjust the position. Tighten flange 4
2 is clamped between the fixing bolt 60 and the coarse adjustment hollow bolt 59, and then the rotating part 63 of the bolt member 53 is rotated to move the force transmitting part 61 up and down, whereby the lever member 5 is moved.
A force is applied to one force point portion 56. For example, the rotating unit 6
3 is rotated in the L direction in FIG. 3, an upward force is applied to the power point portion 56.

【0031】力点部56に加えられた力は支点部54を
支点として作用点55に伝わる。例えば力点部56に上
向きの力が加えられたときは、作用点部55においても
上向きの力が働く。
The force applied to the force point portion 56 is transmitted to the action point 55 using the fulcrum portion 54 as a fulcrum. For example, when an upward force is applied to the power point portion 56, an upward force also acts on the action point portion 55.

【0032】ここで、作用点部55は支点部54と力点
部56との間に位置しているため、回転部63を回転さ
せることによって力点部56に加えられた力がそのまま
作用点部55に働くのではなく、大きな力となって働く
ことになる。即ち、作用点部55における梃子部材51
の垂直方向の移動量は力点部56における垂直方向の移
動量より小さく、高精度な微調整が可能となる。例え
ば、支点部54と作用点部55との距離が1、作用点部
55と力点部56との距離が5である場合、作用点部5
5の分解能はボルト部53の分解能の5倍になり、微調
整の精度が5倍になる。
Here, since the action point portion 55 is located between the fulcrum portion 54 and the force point portion 56, the force applied to the force point portion 56 by rotating the rotating portion 63 is directly applied to the action point portion 55. Instead of working at the same time, it will work with great power. That is, the lever member 51 at the action point 55
Is smaller than the vertical movement amount of the force point portion 56, and fine adjustment with high precision is possible. For example, when the distance between the fulcrum portion 54 and the application point portion 55 is 1 and the distance between the application point portion 55 and the force application portion 56 is 5, the application point portion 5
The resolution of 5 is five times the resolution of the bolt 53, and the precision of the fine adjustment is five times.

【0033】また、力点部56に力が加わったときは、
首部54b、首部55bまたは首部56bが若干撓むこ
とにより梃子部材51の傾斜を吸収することができる。
従って、高精度な微調整を無理なく行うことが可能とな
る。
When a force is applied to the power point portion 56,
The inclination of the lever member 51 can be absorbed by slightly bending the neck 54b, the neck 55b, or the neck 56b.
Therefore, it is possible to perform fine adjustment with high accuracy without difficulty.

【0034】更に、雄ネジ部63bとこれに螺合する雌
ネジ部との間にガタや遊びが発生した場合でも、分解能
が高いことから調整精度に及ぼす影響が少なく、精度の
高さを維持することができる。また、雄ネジ部63bと
これに螺合する雌ネジ部のネジ面の加工精度が低く偏当
たりが起こったとしても、力点部56に加わる力が比較
的小さく、梃子部材51の力点部56における垂直方向
の移動量に比べて作用点部55における垂直方向の移動
量は小さいため、垂直方向の剛性を維持することができ
る。
Further, even if play or play occurs between the male screw portion 63b and the female screw portion to be screwed with the male screw portion 63b, the high resolution has little effect on the adjustment accuracy, and the high accuracy is maintained. can do. Further, even if the processing accuracy of the screw surface of the male screw portion 63b and the female screw portion to be screwed thereto is low and the uneven contact occurs, the force applied to the power point portion 56 is relatively small, and the force at the power point portion 56 of the lever member 51 is small. Since the vertical movement amount at the action point portion 55 is smaller than the vertical movement amount, the rigidity in the vertical direction can be maintained.

【0035】なお、梃子部材51の力点部56における
垂直方向の移動量と作用点部55における垂直方向の移
動量とは、力点及び作用点から支点までの距離の割合に
依存するため、必要に応じて支点、作用点、力点の位置
が異なる梃子部材を用意し、その中から適宜選択して使
用することによって所望の分解能を構成することができ
る。
The vertical movement amount of the lever member 51 in the force point portion 56 and the vertical movement amount in the application point portion 55 depend on the force point and the ratio of the distance from the application point to the fulcrum. A desired resolution can be configured by preparing a lever member having different positions of the fulcrum, the action point, and the force point according to the need, and appropriately selecting and using the lever member.

【0036】また、ボルト部材53の回転部63にパル
スモータ等の駆動源を連結させておけば、手動ではなく
自動で回転部63を回転させることができるため、調整
を容易に行うことができる。
If a driving source such as a pulse motor is connected to the rotating portion 63 of the bolt member 53, the rotating portion 63 can be rotated automatically instead of manually, so that adjustment can be easily performed. .

【0037】このようにして適宜回転部63をいずれか
の方向に回転させることで作用点部55に力が働くと、
その力に応じてテーブル支持部40が傾斜し、これに対
応してチャック面15aが傾斜するため、研削砥石の研
削面との位置関係を微調整することができる。
As described above, when a force acts on the action point portion 55 by appropriately rotating the rotating portion 63 in either direction,
The table support portion 40 is inclined according to the force, and the chuck surface 15a is correspondingly inclined, so that the positional relationship between the grinding wheel and the grinding surface can be finely adjusted.

【0038】なお、本実施の形態においては、加工装置
の一例である研削装置における研削砥石の研削面とチャ
ックテーブルのチャック面とを平行にするための微調整
について説明したが、対象となる装置は研削装置には限
られず、また、調整の対象となる位置関係も平行には限
られない。
In this embodiment, the fine adjustment for making the grinding surface of the grinding wheel and the chuck surface of the chuck table parallel in the grinding device which is an example of the processing device has been described. Is not limited to a grinding device, and the positional relationship to be adjusted is not limited to parallel.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る微調
整装置によれば、従来のようにボルト部材のみによる調
整ではなく、ボルト部材と梃子部材とを組み合わせて調
整を行うようにしたことにより、ボルト部材を回転させ
た場合の梃子部材の力点における移動量に比べて作用点
における移動量が小さいため、高い分解能での位置調整
ができると共に、ボルト部材に形成されたネジにガタや
遊びが生じている場合にもその影響が小さく、高精度な
調整が可能となり、更に、ネジ面に偏当たりが生じてい
る場合でも剛性を維持することができる。従って、加工
の精度が高まり、被加工物を高精度に仕上げることがで
きる。
As described above, according to the fine adjustment device of the present invention, the adjustment is performed not only by the conventional bolt member but also by the combination of the bolt member and the lever member. Therefore, the amount of movement of the lever member at the point of force is smaller than the amount of movement of the lever member at the point of force when the bolt member is rotated, so that the position can be adjusted with high resolution, and the screw formed on the bolt member has play or play. The influence is small even when the thread is generated, the adjustment can be performed with high accuracy, and the rigidity can be maintained even when the screw surface is unevenly contacted. Therefore, the processing accuracy is improved, and the workpiece can be finished with high precision.

【0040】また、梃子部材の力点部における垂直方向
の移動量と作用点部における垂直方向の移動量とは力点
及び作用点から支点までの距離の割合に依存するため、
必要に応じて支点、作用点、力点の位置が異なる梃子部
材を用意し、その中から適宜選択して使用することによ
って所望の分解能を構成することができる。従って、要
求される調整精度に応じて柔軟に対応することができ
る。
Further, the vertical movement amount at the force point portion of the lever member and the vertical movement amount at the application point portion depend on the ratio of the force point and the distance from the application point to the fulcrum.
A desired resolution can be configured by preparing a lever member having different positions of a fulcrum, a point of action, and a point of force as needed, and appropriately selecting and using the member. Therefore, it is possible to flexibly cope with the required adjustment accuracy.

【0041】更に、支点部、作用点部、力点部のそれぞ
れには首部を備え、梃子部材の傾斜に追随して各首部が
撓むため、首部によって梃子部材の傾斜を吸収すること
ができ、位置関係の調整を無理なく行うことができる。
Further, each of the fulcrum, the action point, and the power point has a neck, and each neck bends following the inclination of the lever member. Therefore, the inclination of the lever member can be absorbed by the neck. The positional relationship can be adjusted without difficulty.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る微調整装置が搭載される装置の一
例である研削装置を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing a grinding device as an example of a device on which a fine adjustment device according to the present invention is mounted.

【図2】同研削装置の構成を示す説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram showing a configuration of the grinding device.

【図3】同研削装置に搭載された微調整装置を示す斜視
図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a fine adjustment device mounted on the grinding device.

【図4】同研削装置を構成するチャックテーブルの下部
に配設されたフランジ部を示す平面図である。
FIG. 4 is a plan view showing a flange portion provided at a lower portion of a chuck table constituting the grinding device.

【図5】本発明に係る微調整装置を示す分解斜視図であ
る。
FIG. 5 is an exploded perspective view showing a fine adjustment device according to the present invention.

【図6】研削装置を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing a grinding device.

【図7】従来の調整機構を示す斜視図である。FIG. 7 is a perspective view showing a conventional adjustment mechanism.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…研削装置 11a、11b…カセット 12…搬出入 13…中心合わせテーブル 14…第一の搬送手段 15…チャックテーブル 16a…ターンテーブル 16b…ターンテーブル基台 16c…モータ 16d…チューブ 17a、17b…研削手段 18…壁部 19…レール 20…パルスモータ 21…スライド部 22…スピンドル 23…マウンタ 24…研削ホイール 25a、25b…研削砥石 26…第二の搬送手段 27…洗浄手段 28…ボールネジ 29…支持部 30…パルスモータドライバ 31…制御部 32…リニアスケール 40…テーブル支持部 41…モータ 42…フランジ部 43a、43b、43c…被支持部 44a、44b、44c…貫通孔 45…ボルト 50…微調整装置 51…梃子部材 52…粗調整部材 53…ボルト部材 54…支点部 54a…支点支持部 55…作用点部 55a…作用点支持部 56…力点部 56a…力点支持部 58…ナット部 58a…雌ネジ部 59…粗調整中空ボルト 59a…雄ネジ部 59b…雌ネジ部 60…固定ボルト 61…力伝達部 62…固定部 63…回転部 63a…軸部 63b…雄ネジ部 70…研削装置 71a…基台カバー 71b…基台 72…壁部73…レール 74…スライド部 75…研削手段 76…チャックテーブル 76a…チャック面 77…スピンドル 78…マウンタ 79…研削砥石 80…研削ホイール 81…テーブル支持部 82…モータ 83…フランジ部 84…調整ボルト 85…回転部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Grinding apparatus 11a, 11b ... Cassette 12 ... Carry-in / out 13 ... Centering table 14 ... 1st conveyance means 15 ... Chuck table 16a ... Turntable 16b ... Turntable base 16c ... Motor 16d ... Tube 17a, 17b ... Grinding Means 18 ... Wall 19 ... Rail 20 ... Pulse motor 21 ... Slide 22 ... Spindle 23 ... Mounter 24 ... Grinding wheel 25a, 25b ... Grinding wheel 26 ... Second conveying means 27 ... Cleaning means 28 ... Ball screw 29 ... Support part DESCRIPTION OF SYMBOLS 30 ... Pulse motor driver 31 ... Control part 32 ... Linear scale 40 ... Table support part 41 ... Motor 42 ... Flange part 43a, 43b, 43c ... Supported part 44a, 44b, 44c ... Through hole 45 ... Bolt 50 ... Fine adjustment device 51 ... Leverage member 52 ... Coarse adjustment member 53 ... Bo G member 54: fulcrum 54a: fulcrum support 55: application point 55a: application point support 56: power fulcrum 56a: power fulcrum support 58: nut 58a: female screw 59: coarse adjustment hollow bolt 59a: male screw Part 59b Female screw part 60 Fixing bolt 61 Force transmitting part 62 Fixed part 63 Rotating part 63a Shaft part 63b Male screw part 70 Grinding device 71a Base cover 71b Base 72 ... Rail 74 ... Sliding part 75 ... Grinding means 76 ... Chuck table 76a ... Chuck surface 77 ... Spindle 78 ... Mounter 79 ... Grinding wheel 80 ... Grinding wheel 81 ... Table support part 82 ... Motor 83 ... Flange part 84 ... Adjustment bolt 85 ... Rotating part

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第一の部材と第二の部材とに介在して位
置関係を微調整する微調整装置であって、 支点部と作用点部と力点部とを有する梃子部材と、該力
点部に力を伝達するボルト部材とから少なくとも構成さ
れる微調整装置。
1. A fine adjustment device that finely adjusts a positional relationship between a first member and a second member, comprising: a lever member having a fulcrum portion, an action point portion, and a power point portion; And a bolt member for transmitting a force to the part.
【請求項2】 梃子部材を構成する支点部と作用点部と
力点部とはそれぞれ支持部と首部とから構成され、ボル
ト部材は回転部と固定部と力伝達部とから構成される請
求項1に記載の微調整装置。
2. A fulcrum, an action point, and a power point constituting a lever member are each composed of a support part and a neck part, and the bolt member is composed of a rotating part, a fixed part, and a force transmission part. 2. The fine adjustment device according to 1.
【請求項3】 第一の部材の所要位置には梃子部材の支
点支持部が固定され、第二の部材の所要位置には該梃子
部材の作用点支持部が固定され、ボルト部材の力伝達部
が該梃子部材の力点支持部に固定されると共に該ボルト
部材の固定部は該第一の部材の所要位置に固定される請
求項2に記載の微調整装置。
3. A fulcrum support portion of the lever member is fixed at a required position of the first member, and an action point support portion of the lever member is fixed at a required position of the second member. The fine adjustment device according to claim 2, wherein a portion is fixed to a force point support portion of the lever member, and a fixing portion of the bolt member is fixed to a required position of the first member.
【請求項4】 梃子部材の作用点支持部と第二の部材と
の間には粗調整部材が介在し、 該粗調整部材は、該作用点支持部に固定されるナット部
と、該ナット部に螺合する粗調整中空ボルトと、該粗調
整中空ボルトに形成された中空部を貫通し該作用点支持
部に螺合して該第二の部材と該作用点支持部とを固定す
る固定ボルトとから構成される請求項3に記載の微調整
装置。
4. A coarse adjustment member is interposed between the operation point support portion of the lever member and the second member, the coarse adjustment member includes a nut portion fixed to the operation point support portion, and the nut A coarse adjustment hollow bolt screwed into the portion, and a hollow portion formed in the coarse adjustment hollow bolt is penetrated and screwed into the operation point support to fix the second member and the operation point support. The fine adjustment device according to claim 3, comprising a fixing bolt.
【請求項5】 第一の部材は加工装置を構成する基台で
あり、第二の部材は被加工物を保持する保持部材の支持
部である請求項1乃至4に記載の微調整装置。
5. The fine-adjustment device according to claim 1, wherein the first member is a base constituting the processing device, and the second member is a support portion of a holding member for holding the workpiece.
【請求項6】 加工装置は、被加工物の表面を研削する
研削ホイールを備えた研削手段と、被加工物を保持する
保持部材であるチャックテーブルと、該チャックテーブ
ルを支持する基台とから少なくとも構成され、 第一の部材は該基台であり、第二の部材は該チャックテ
ーブルを支持するテーブル支持部である請求項5に記載
の微調整装置。
6. A processing apparatus includes: a grinding unit having a grinding wheel for grinding a surface of a workpiece; a chuck table serving as a holding member for holding the workpiece; and a base supporting the chuck table. The fine adjustment device according to claim 5, wherein at least the first member is the base, and the second member is a table supporting portion that supports the chuck table.
【請求項7】 チャックテーブルは基台に対して3箇所
において支持されており、少なくとも2箇所に配設され
る請求項6に記載の微調整装置。
7. The fine adjustment device according to claim 6, wherein the chuck table is supported at three positions with respect to the base, and is disposed at at least two positions.
【請求項8】 ボルト部材を構成する回転部には駆動源
が装着される請求項2乃至7に記載の微調整装置。
8. The fine-adjustment device according to claim 2, wherein a driving source is mounted on the rotating part constituting the bolt member.
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