JP2001524692A - 顕微鏡検査サンプルの温度制御装置及び方法 - Google Patents

顕微鏡検査サンプルの温度制御装置及び方法

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JP2001524692A
JP2001524692A JP2000522485A JP2000522485A JP2001524692A JP 2001524692 A JP2001524692 A JP 2001524692A JP 2000522485 A JP2000522485 A JP 2000522485A JP 2000522485 A JP2000522485 A JP 2000522485A JP 2001524692 A JP2001524692 A JP 2001524692A
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temperature
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gas
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ウィリアム、 アレン アーノルド、
ペリー マーテニー、
アンジェラ、 マリー マーセリィー、
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Goodyear Tire and Rubber Co
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    • GPHYSICS
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Abstract

(57)【要約】 温度制御ユニットは顕微鏡検査のサンプルを非常な高温および非常な低温の下で観察するための手段を提供する。この温度制御ユニットは、サンプルを周囲の温度から絶縁する一方、サンプルへの、またサンプルからの急速な熱の伝達をもたらすような高度に熱伝導性の基板をサンプルに対して設けるように作られている。乾燥したガスはサンプルの周りに大気圧より高い圧力をもたらし、サンプルと大気との接触を防いでいる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 本発明は顕微鏡検査のための温度制御に関する。
【0002】 (発明の背景) 材料技術の熟練者は大部分の物質は異なる温度では異なる特性を示すことを認
識している。異なる温度における物質の観察可能な特性を比較すれば、異なる温
度における製品の中の物質が如何に作用するかについて貴重な知識を得ることが
できる。本発明は、光学的顕微鏡検査のみならず、原子力顕微鏡検査(afm)
のような顕微鏡検査を用い、そのような物質を異なる温度で観察できるような装
置及び方法を目指している。
【0003】 (発明の要約) 顕微鏡検査のサンプルの温度を制御するための装置は、高熱絶縁性の材料から
なる外部ハウジングと、上記の外部ハウジングの中にあって高熱伝導性の材料か
らなり、顕微鏡検査の対象であるサンプルを保持するための内部ハウジングと、
これら外部及び内部のハウジングの中を通って温度制御用ガスを流す管路手段と
、温度制御用ガスの流れをサンプルの周辺に導くための手段とからなっている。
【0004】 サンプルの温度を測定するため、サンプルには熱電対が結合されている。また
、サンプルを加熱するためサンプルにはヒーターが結合され、かつ温度制御用ガ
スを加熱するため内部及び外部ハウジング内にヒーターが配置される。また、温
度制御用ガスの温度を下げるための冷却手段が設けられる。
【0005】 内部及び外部ハウジングは温度制御を最適化し、かつサンプルの温度の変動を
最小ならしめるように設計された特定の熱伝導特性を有する材料で作られる。外
部ハウジングは熱伝導率 0.00001-0.25 W/m-K(watt per meter Kelvin)の範囲を
有する物質及び構造物から作られ、そして内部ハウジングは熱伝導率20-2000 W/
m-K(watt per meter Kelvin)の範囲を有する物質から作られる。図示の実施例で
は、外部ハウジングはポリビニールクロライド(PVC)で作られ、内部ハウジン
グはアルミニュームで作られている。サンプルの温度は-270゜C-200゜Cに維持
することが出来る。
【0006】 サンプルは高度の熱伝導性物質で出来たサンプルホールダの上に搭載され、そ
して熱電対がサンプル及びサンプルホールダの近傍に搭載される。サンプルの温
度を監視し、温度を一定に維持するため、装置内で使用されるあらゆるヒータの
みならず温度制御用ガスの流れを制御するためにコンピュータの使用が可能であ
る。
【0007】 (発明の開示) 図1に関し、図示の本発明の可変温度制御装置は、サンプル支持部12、温度
制御センタ14及び流体源16を備えている。図2および3に関し、サンプル支
持部12は、熱伝導率が 0.00001−0.25、望ましくは O.02−0.15 W/m-K(watt p
er meter Kelvin)を有する高度に熱絶縁性の材料から出来た外部ハウジング20
と、熱伝導率が 20−2000、望ましくは50−400 W/m-Kを有する低熱絶縁性の材料
で出来た内部ハウジング22と、サンプルホールダ24とを有する。
【0008】 外部ハウジング20に用いられる高度に熱絶縁性の物質の例は、ポリビニール
クロライド(PVC)、セルロイド、パーティクルボード、コルク、および発泡ポ
リウレタンである。内部ハウジングに用いる低熱絶縁性の材料の例は、アルミニ
ューム、銅,炭素鋼、熱分解黒鉛、金および真鍮である。
【0009】 外部ハウジング20に用いる高度に熱絶縁性の材料は、外部ハウジング20か
ら周辺に熱が伝達しないようにし,エネルギを節約し、外部ハウジング20内の
温度を殆ど変動させず一定温度に保つのを助けるために用いられる。内部ハウジ
ング22に用いられる低熱絶縁性の材料(即ち高度に熱伝導性の材料)は、サンプ
ルから熱を速やかに引き出し、またはサンプルに熱を速やかに伝達されるのを助
け、それにより温度制御センタ14に配置された温度制御装置を用い、概ね一定
のサンプル温度が速やかに達成され、かつ維持されることが可能に成る。
【0010】 外部ハウジング20の構造はハウジングに用いられる材料の絶縁効果を高める
ことが出来る。例えば、もし熱伝導性が上記の範囲外にある材料が用いられ、か
つその材料が二重壁を有する外部ハウジングを作るのに用いられれば,たとえそ
の使用された材料が前述の範囲外の特性であっても、その外部ハウジングの実効
的な絶縁性は上述の範囲内にあることが出来る。
【0011】 顕微鏡試験中にサンプルが維持される温度もまた本発明の温度制御装置を製造
するために選択される材料と若干の関係がある。例えばもしサンプルが200゜
Cに維持されればPVCは柔らかくなり、分解される。そしてコーティングされ
たコルクやパーティクルボードが外部ハウジングを用いるには適している。他の
材料の選択につぃては当業者には明らかであろう。
【0012】 図示の実施例では、温度制御は平衡型の温度上昇および下降装置を用いて達成
される。低温度が望まれるときは、窒素ガスのような流体16aが冷凍手段26 内の冷却手段26aに通される。冷却手段26aは、窒素、二酸化炭素、ヘリウム
、またはアルゴンのような液化または固体化されるガスが使用できれば好都合で
ある。当業者は、特に緩やかな冷却だけが求められるときは、冷却手段26aには 機械的な冷却が使用できることを認めるであろう。高温度が求められるときは、
温度制御流体の温度を上げるためヒータ30,34、36が用いることができる
【0013】 温度制御流体16aとして加圧ガスが使用されるときは、ガスの流れは圧力制 御バルブ56、流れ調整用ソレノイドバルブ50、および流れ緩衝器48によっ
て制御される。流れ緩衝器48は、ソレノイドバルブ50が単にガスを流したり
止めたりするだけなのに対し、ガスの圧縮と膨張のための溜りを提供してガスの
流れを平滑にする。システムにおける温度制御用ガスの圧力は5〜30プサイ(
psi,ポンド/平方インチ)が好ましく、この範囲の最も低い圧力が望ましい。
【0014】 制御されたガスの流れはつぎに冷凍手段26を通過する。もし冷却が必要なと
きは、ガスは冷却手段26aを通り、冷凍手段26を出て管路28aを通る。又、
ヒータ34を冷凍手段26の下流において管路28aの近傍に配置し、そして熱
電対32bを管路28a内で、ヒータ34の近傍に置いてもよい。
【0015】 追加として、例えば熱電対32aを外部ハウジング20の、温度制御用流体1 6aの流路に、必要に応じて設けてもよい。
【0016】 流体16aの温度は、冷却手段26aの選択と、流体16aが冷却手段26a 中で費やす時間量により、ある程度制御することが可能であり、なお、この時間
は流体16aの流速と、冷却手段26aが通過する管路28aの量に依存する。
温度制御センタ14、外部ハウジング20、および内部ハウジング22内のヒー
タ30,34,36は冷却手段26aと共同して、流体16の温度を厳密に調整
するために用いられる。流体16aの温度は熱電対32,32a、32bによっ
て監視される。ヒータ30,34,36および流体調整装置50は、熱電対32
,32a、32bおよびフローメータ46からの入力に応じて、コンピュータ4
2と、必要に応じ他のコンピュータにより制御される。
【0017】 もし装置の異なる部分で異なる熱電対が使用されるときは、各熱電対から集め
られる情報を処理するために別個のコンピュータが必要になることもある。図示
された実施例では、オメガ エンジニアリング Inc.(Omega Engineering,
Inc,Stamford,Conn.)から入手できるANSI 型 T超小型熱電対が使用されている 。
【0018】 図示された実施例では、熱制御用流体16aとして窒素が使用され、窒素ガス がタンク16から管路28を通り、冷凍手段26を通過する管路28aに入る。
管路28には、ゴムまたはポリプロピレンのような重合体又は、銅などの金属を
用いることができるが、管路28aは、冷凍手段の中で遭遇する可能性のある極
低温に耐えることが出来る材料、すなわち銅のような金属であることが望ましい
【0019】 冷凍手段26は当該技術で知られる機械的冷却手段でも良く、あるいはたんに
、液化ガスあるいは固体化されたガスまたは液体を収容できるデューァびんとし
て知られる絶縁二重壁容器でも良い。この実施例では、流体16aの温度制御用
の冷凍手段2bとしてデューァびんの中で液体窒素が使用されている。
【0020】 温度制御装置14から温度制御用流体16aは外部ハウジング20内に向け、
図示の実施例では導管38を通り、ヒータ36に沿ってチャンバ44の内部に流
れる。チャンバ44は、温度制御用ガスのある量を望まれる温度で集めることに
より、サンプルの周囲の温度を一定にする。ヒータ30はサンプルホールダ24
の直近の位置に配置される。
【0021】 極めて低い温度での顕微鏡検査のときは、大気はサンプルから隔離し、大気の
水分によりサンプルが氷結するのを避けなければならない。サンプルの周りに乾
燥したガスの層を維持するため、サンプルの上部に空間を作る手段を設け、また
はサンプルの上端に追加の乾燥ガスを送るフローチューブ40を設けることもで
きる。
【0022】 図示の実施例では、サンプルホールダ24(内部ハウジング22の一部)にある
通気孔26が、温度制御用流体16aがサンプル周辺のチャンバ44から流れ出
ることを可能にし、サンプルの温度を制御し、サンプルを乾燥したガスで包み、
大気気中の水分をサンプルから遠ざけることを可能にしている。
【0023】 次に、本発明の望ましい実施例における図4および5に関連し、ハウジング1
2aは、図2で述べられたものとほとんど同じ内部ハウジング22を有する、図
2で述べたものと類似の外部ハウジング20aを有する。ハウジング12aはま
た絶縁されたリング53の内部に含まれたデフレクタ52を有する。デフレクタ
52はサンプルホールダ24の上に支持され、サンプルの周辺に、サンプルの大
気への露出を減少させる防護領域を作り出している。
【0024】 図4に示された実施例では、通気孔26は、そらせ板54がデフレクタ52の
上方に位置してガスの流れをサンプル55から遠ざけるように制御するときは、
サンプルから湿気を充分に遠ざけることが分かった。図示の実施例では、そらせ
板54は平坦な半円形の、例えばポリカーボネートのようなプラスチック片から
なり、それらは絶縁リング53の上部に円を取り囲むように設計されている。サ
ンプルは原子力顕微鏡その他の顕微鏡のヘッドにより、半円形の片によって形成
された円の中心を通って接近可能であり、温度制御用流体は円の中心を通って流
出し、サンプル上に大気圧に比し正の圧力を創出し、大気の水分がデフレクタか
ら入り、サンプルに到達することを防止する。
【0025】 当業者は湿気をサンプルから遠ざけるために用いられる他の手段を知っている
であろう。
【0026】 熱電対32はサンプルの温度を監視するため、サンプルの近傍に置かれる。
【0027】 コンピュータ42およびその他のコンピュータは、装置内で使用される各種の
熱電対からの入力を受けるために配置され、集められたデータを、各種のヒータ
、温度制御流体16aの流速、および冷凍手段26を制御し、温度を自動的に制
御するために使用される。 図示される実施例では、冷凍手段26内の冷却手段26aで使用される液体窒素
は-196゜Cの沸騰点を有し、PVCの外部ハウジング20とアルミニューム の内部ハウジング22が使用される時は-100゜C±0.4゜Cが達成された 。更に低い温度が達成可能と思われるが、これは、(本実験で使用の)afm顕微
鏡のヘッドの低温における耐久性能がこの時点で不明だったため更なる実験に委
ねられた。この試験ではヒータ30,34,36を使用しなくても温度の維持が
可能であることが分かったが、ヒータ30、34,36は他の応用では有用と思
われる。
【0028】 本発明ははっきり限定して示され、記述されているが、当業者は本発明はその
精神から離脱すること無しに種々に修正されまた実施されることを知るであろう
。本発明は特許請求の範囲によってのみ限定される。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の温度制御装置の一実施例を示す。
【図2】 本発明の温度制御装置のハウジングの側面図を示す。
【図3】 図2に示すハウジングの上面図である。
【図4】 サンプルの温度制御用ハウジングの望ましい実施例を示す。
【図5】 図4のハウジングのサンプルホルダの上面図である。
【手続補正書】特許協力条約第34条補正の翻訳文提出書
【提出日】平成11年9月15日(1999.9.15)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0003
【補正方法】変更
【補正内容】
【0003】 (発明の要約) 顕微鏡検査のサンプルの温度を制御するための装置10は、高熱絶縁性の材料
からなる外部ハウジング20と、上記の外部ハウジングの中にあって高熱伝導性
の材料からなり、顕微鏡検査の対象であるサンプルを保持するための内部ハウジ
ング22と、これら外部及び内部のハウジングの中を通って温度制御用ガス16
aを流す管路手段28、28aと、温度制御用ガス16aの流れをサンプルの周
辺に導くための空気抜き孔26bを有するチャンバ手段44とからなっている。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0004
【補正方法】変更
【補正内容】
【0004】 サンプルの温度を測定するため、サンプルには熱電対32が結合されている。
また、サンプルを加熱するためサンプルにはヒーター36が結合され、かつ温度
制御用ガスを加熱するため内部及び外部ハウジング内にヒーター30、34が配
置される。また、温度制御用ガス16aの温度を下げるための冷却手段26が設
けられる。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0005
【補正方法】変更
【補正内容】
【0005】 内部及び外部ハウジングは温度制御を最適化し、かつサンプルの温度の変動を
最小ならしめるように設計された特定の熱伝導特性を有する材料で作られる。外
部ハウジングは熱伝導率 0.00001-0.25 W/m-K(watt per meter Kelvin)の範囲を
有する物質及び構造物から作られ、そして内部ハウジングは熱伝導率20-2000 W/
m-K(watt per meter Kelvin)の範囲を有する物質から作られる。図示の実施例で
は、外部ハウジング20はポリビニールクロライド(PVC)で作られ、内部ハウ
ジング22はアルミニュームで作られている。サンプルの温度は-270゜C-200゜
Cに維持することが出来る。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0006
【補正方法】変更
【補正内容】
【0006】 サンプルは高度の熱伝導性物質で出来たサンプルホールダ24の上に搭載され
、そして熱電対32がサンプル及びサンプルホールダ24の近傍に搭載される。
サンプルの温度を監視し、温度を一定に維持するため、装置内で使用されるあら
ゆるヒータのみならず温度制御用ガスの流れを制御するためにコンピュータの使
用が可能である。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0022
【補正方法】変更
【補正内容】
【0022】 図示の実施例では、サンプルホールダ24(内部ハウジング22の一部)にある
通気孔26bが、温度制御用流体16aがサンプル周辺のチャンバ44から流れ
出ることを可能にし、サンプルの温度を制御し、サンプルを乾燥したガスで包み
、大気気中の水分をサンプルから遠ざけることを可能にしている。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0024
【補正方法】変更
【補正内容】
【0024】 図4に示された実施例では、通気孔26bは、そらせ板54がデフレクタ52
の上方に位置してガスの流れをサンプル55から遠ざけるように制御するときは
、サンプルから湿気を充分に遠ざけることが分かった。図示の実施例では、そら
せ板54は平坦な半円形の、例えばポリカーボネートのようなプラスチック片か
らなり、それらは絶縁リング53の上部に円を取り囲むように設計されている。
サンプルは原子力顕微鏡その他の顕微鏡のヘッドにより、半円形の片によって形
成された円の中心を通って接近可能であり、温度制御用流体は円の中心を通って
流出し、サンプル上に大気圧に比し正の圧力を創出し、大気の水分がデフレクタ
から入り、サンプルに到達することを防止する。
【手続補正8】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図1
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
【手続補正9】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】
【手続補正10】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図5
【補正方法】変更
【補正内容】
【図5】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S D,SZ,UG,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG ,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM,AT ,AU,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA, CH,CN,CU,CZ,DE,DK,EE,ES,F I,GB,GE,HU,IL,IS,JP,KE,KG ,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,LT, LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX,N O,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG ,SI,SK,TJ,TM,TR,TT,UA,UG, US,UZ,VN (71)出願人 1144 East Market Stre et,Akron,Ohio 44316− 0001,U.S.A. (72)発明者 マーテニー、 ペリー アメリカ合衆国 44224 オハイオ州 ス トー トリーサイド ドライヴ 850 (72)発明者 マーセリィー、 アンジェラ、 マリー アメリカ合衆国 44720 オハイオ州 ノ ース カントン クーンス ロード 1842 Fターム(参考) 2F063 AA43 EA16 2H052 AD23 AD24

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 高度に熱絶縁性の物質で作られた外部ハウジングと、前記外
    部ハウジングの内部に設けられ、高度に熱伝導性の物質で作られ、顕微鏡試験の
    対象であるサンプルを保持するための内部ハウジングと、前記外部および内部ハ
    ウジングを通る温度制御用ガスの流れのための導管手段と、前記温度制御用ガス
    の流れを前記サンプルの周辺に導く手段とからなる顕微検査サンプルの温度制御
    装置。
  2. 【請求項2】 サンプルの温度を測定するための、前記サンプルと組み合わ
    された熱電対をさらに有する請求項1に記載の温度制御装置。
  3. 【請求項3】 サンプルを加熱するための、前記サンプルと組み合わされた
    ヒータをさらに有する請求項2に記載の温度制御装置。
  4. 【請求項4】 前記温度制御用ガスを加熱するための、外部および内部ハウ
    ジング内に設けられたヒータをさらに有する請求項3に記載の温度制御装置。
  5. 【請求項5】 温度制御用ガスの温度を下げるための冷却手段をさらに有す
    る請求項1に記載の温度制御装置。
  6. 【請求項6】 外部ハウジングがポリビニールクロライド(PVC)から作ら
    れる請求項1に記載の温度制御装置。
  7. 【請求項7】 内部ハウジングがアルミニュームから作られる請求項1に記
    載の温度制御装置。
  8. 【請求項8】 サンプルの温度が−270゜Cから200゜Cの範囲内に維
    持される請求項1に記載の温度制御装置。
  9. 【請求項9】 サンプルが高度に熱伝導性の物質から作られたサンプルホー
    ルダに搭載され、熱電対が前記サンプルと前記サンプルホールダの間に搭載され
    る請求項2に記載の温度制御装置。
  10. 【請求項10】 サンプルの温度を監視し、かつ温度を一定のレベルに維持
    するため温度制御用ガスの流れを制御するコンピュータをさらに有する請求項1
    に記載の温度制御装置。
  11. 【請求項11】 サンプルの温度を監視し、温度を一定のレベルに維持する
    ため温度制御用のガスの流れおよびヒータ出力を制御するコンピュータをさらに
    有する請求項4に記載の温度制御装置。
  12. 【請求項12】 外部ハウジングが熱伝導度が0.00001−0.25W
    /m−Kである請求項1に記載の温度制御装置。
  13. 【請求項13】 外部ハウジングが、ポリビニクロライド,セルロイド、コ
    ルク、パーティクルボードおよび発泡ポリウレタンからなるグループから選択さ
    れたれた物質からなる請求項1に記載の温度制御装置。
  14. 【請求項14】 内部ハウジングが20−2000W/m−Kの熱伝導率を
    有する請求項1の温度制御装置。
  15. 【請求項15】 内部ハウジングがアルミニューム、炭素鋼、熱分解黒鉛、
    金および真鍮からなるグループから選択された物質からなる請求項1に記載の温
    度制御装置。
  16. 【請求項16】 冷却手段が液化また固体化された窒素、二酸化炭素、ヘリ
    ウム、アルゴンからなる請求項1に記載の温度制御装置。
  17. 【請求項17】 サンプルホールダがサンプルを部分的に取り囲む手段を有
    する請求項1に記載の温度制御装置。
  18. 【請求項18】 サンプルの周りに大気圧を越す圧力を維持する手段を有す
    る請求項1記載の温度制御装置。
  19. 【請求項19】 (a)水分をほとんどまたは全く含まないガスを供給する
    工程 (b)前記ガスの温度を顕微鏡検査に求められる温度に調節する工程 (c)前記ガスを前記サンプル周りに必要とされる温度で流す手段を提供する
    工程、および (d)前記ガスを使用して、前記サンプル周りを大気圧を越える圧力に維持す
    る手段を提供する工程からなる制御された温度における顕微鏡検査の方法。
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