JP2001515097A - 分離・ストリッピング装置および同装置の流動床接触分解への使用 - Google Patents
分離・ストリッピング装置および同装置の流動床接触分解への使用Info
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Abstract
Description
下降流反応器内での炭化水素接触分解方法への使用に関する。
て、触媒は、通常長い管の形状をしている反応器内で炭化水素仕込原料と接触さ
せられ、次いで、1つ以上の分離段階において炭化水素から少なくとも一部が分
離される。炭化水素は、できるだけ少量の触媒を伴っていて、反応帯域から排出
されて炭化水素分別区域に合流させられる。種々の分離段階から出た触媒は、そ
の細孔内にエントレインメントされた炭化水素の脱着を促進させるために、炭化
水素とは異なる窒素または蒸気といったガスと接触させられる。この段階は、通
常ストリッピングと呼ばれる。次いで、触媒は再生帯域へと排出され、この再生
帯域において、管状反応器内での反応の間に形成されたコークスと、ストリッピ
ング段階で脱着されなかった炭化水素とが、酸化性媒質中において燃焼させられ
る。
性を得るには、次のことが必要になる。 ・通常最も大きな付加価値を有している接触分解中間生成物が熱的損傷を受ける
のを避けるために、第1段階後に、炭化水素と触媒との接触帯域で生じたガス状
生成物を急速に排出させること。 ・触媒への炭化水素のエントレインメントを制限して、効果的なストリッピング
を得ること。
、接触分解のために開発されかつこれらの異なる操作を実行するのに多少なりと
も効果的な技術装置に富むものである。急速な分離または効果的なストリッピン
グを実行することは比較的簡単であるが、急速な分離と効果的なストリッピング
とを同時に実行することは困難である。
、通常当業者にライザー(riser)と呼ばれている上昇流型反応器に直接接続され たサイクロンを用いることによって達成し得る。これらのシステムにおいて、ラ
イザーに接続されたサイクロンは、通常サイクロンの第2段階がさらに収められ
た大きなサイズの容器内に維持される。第1段階で分離されたガスは、より入念
な塵埃除去を受けるためにサイクロンの第2段階に戻る。触媒は、ストリッピン
グ流動床の濃密相に向けられており、ここで、炭化水素を脱着するために蒸気が
触媒と向流に注入される。次いで、これらの炭化水素は、希薄相において反応器
から排出され、サイクロンの第2段階の高さにある分離システムに導入される。
第1段階のサイクロンが第1の分離を実行するライザーに接続され、第2段階の
サイクロンが通常第1段階のサイクロンのガス出口に接続されている2段階のサ
イクロンを有していると、まず、第2段階のサイクロンを囲む容器を非常に大き
な直径を有するものとする必要がある。この容器には、ストリッパー内での脱着
により生じたガス、または第1段階の個体出口(戻し脚(jambes de retour))に
おいて触媒がエントレインメントされたガスのみが流れる。第1のサイクロンが
正確に運転されるならば、ストリッパーの方を向いた第1のサイクロンの戻し脚
においてかなり少量の炭化水素しかエントレインメントされないため、ストリッ
ピング区域からのガスは、体系的にストリッパー内で長期間熱的劣化に曝される
。前記大容器の容積が大きく、また炭化水素およびストリッピング蒸気の量がか
なり少ないので、第1サイクロンの外部にある反応器の希薄相内のガスの表面速
度は、毎秒数センチメートルを超えないであろうし、また、ストリッピングされ
るか、あるいは触媒とともに戻し脚においてエントレインメントされる炭化水素
の排出時間は、必然的に1分〜数分程度となるであろう。
れた炭化水素をストリッピングの流動床に局所的に導入することである。流動床
は、半径方向の混合には劣っているが軸方向の混合には非常に優れているので、
ストリッピング帯域における効率の損失が生じるのは避けられない。ストリッピ
ングガスを固体出口に直接導入することによって、ストリッピングを改善するこ
とが可能である。しかしながら、これは、触媒がガスを同伴しないようにサイク
ロンの出口においてゆっくりと流れる場合にのみ効果的であって、第1サイクロ
ンの適切な運転を維持することが望まれる場合には実現不可能である。
炭化水素と触媒との接触を下降流型反応器内で行うことも考えられる。非常に急
速で均一なこのピストン型の接触は、通常ライザー型の装置内での接触よりも短
い接触時間によって特徴付けられ、より高温でより大きな触媒流通を伴って作用
することが可能になり、従って、LPGや、特にオレフィンおよびガソリンとい
った付加価値のある生成物の生成が促進される。これらの条件は、ライザーにお
けるよりもさらに短時間でかつ触媒ストリッピング段階と適切に一体化して、触
媒の大部分からの炭化水素の効果的な分離を必要とする。
一の誘引旋回室において実行されてもよい。この技術は、通常、英語で旋回分離
システム(vortex separation system)と呼ばれており、分離とストリッピングと
を同時に組み合わせる利点を有する。
いて、脱着された炭化水素とともに分離室の上方に排出されたストリッピングガ
スと接触させられる。あいにく、そのようなシステムを用いて十分な分離効果を
得るためには、粒子に作用する遠心力が十分に大きいものとなるように室のサイ
ズを制限しなければならない。このことは、分離後に下降する粒子の再エントレ
インメントを制限するためにストリッピングガスの上昇速度を低くすることと両
立しない。このように同じ容器内において分離とストリッピングとを組み合わせ
ることによってこれら2つの操作を適切に行うことは不可能である。ストリッピ
ングを犠牲にして分離を優先するか、あるいは分離を犠牲にしてストリッピング
を優先するかであり、このことは、炭化水素の十分な脱着とは両立しないもので
ある。さらに、そしてこれはこのような技術の重要な問題であって、分離された
触媒は、優先的に壁を流れ、その為、室の流れの全断面に分配されるストリッピ
ングガスとは容易に接触されない。
とが困難であること、また、サイクロンのような公知の高性能の分離器による急
速な分離は必然的にストリッパーの性能の低下を意味することが認められる。
、脱着装置と組み合わされて、例えば75%を越える十分な分離効果が得られ、
アセンブリーが高度なコンパクト性を有していて、上昇流型または下降流型反応
器から反応帯域に連結された分別塔へ流れる全てのガスが分離およびストリッピ
ング帯域内において3秒未満の間滞留することを可能にし、分離室から生じた触
媒とストリッピングガスとの間に十分な接触をもたらし、また、設備の最適化さ
れたコンパクト性により脱着された炭化水素を急速に排出する技術の開発を探求
してきた。
る装置に関するものであって、この装置は、前記混合物から粒子を分離する容器
(50)と、分離容器(50)の下方に配置されて分離された粒子をストリッピングする
容器とを収容した反応外殻(51)を備えている。前記分離容器は、長い形状の中央
反応器(1)の一端の周囲に軸方向に配分され、かつガス混合物と粒子流とが内部 を流通する前記反応器の周囲に交互に配置される複数の分離室(2)および複数の 流通室(3)を備える。各分離室(2)は、その上部に、反応器と、上昇流型反応器(
ライザー)の場合には分離室の外側壁により一部が画定され、下降流型反応器(
ドロッパー)の場合には同反応器の底部の偏向板(デフレクタ)(21)により一部
が画定される回転(rollover)帯域とに通じている入口開口部(20)を有しており
、ほぼ垂直な面において混合ガスから粒子を分離するようになっている。各分離
室(2)は、流通室(3)の壁でもある2つのほぼ垂直な側壁(24)を有し、各分離室(2
)の垂直な側壁(24)のうちの少なくとも1つは、ライザーの場合には入口開口部 の下方に位置し、ドロッパーの場合には開口部(20)の上方に位置する第1の側方
出口開口部(5)を有していて、これにより混合ガスが隣接する流通室へと流通す るのを可能にしている。各分離室は、混合ガスの第1出口開口部(5)の下方に位 置するほぼ軸方向の粒子出口開口部(6)(6a)を側壁とともに画定する外壁(21)(12
1)および内壁を有し、粒子出口開口部(6)(6a)は、分離室の下方において少なく とも1つの主要ストリッピング手段(11)を含んでいるストリッピング室(8)(30) に通じている。さらに外殻(51)は、流出室から出るガス流出物と一部分の粒子と
を含む混合物を排出させる少なくとも1つの導管(14)と、前記排出導管(14)に接
続されてガス流出物から粒子を分離し、ガス流出物出口(19)および粒子出口(17)
を有する少なくとも1つの第2分離器(16)とを備えている。前記ストリッピング
室は、少なくとも流通室(3)を介して前記混合物排出導管(14)に通じている。
と遠心力の作用により混合ガスから粒子を分離する回転帯域とに通じる入口開口
部を有している。回転帯域は、混合ガスおよび粒子が垂直面内において最大36
0度の角度で回転するのに適合されている。各分離室は、流通室の壁でもある2
つのほぼ垂直な側壁を有し、各室の垂直な側壁のうちの少なくとも1つは、入口
開口部の下方に出口の第一側面開口部を有していて、混合ガスが隣接する流通室
に通じるのを可能にしている。
。これらの壁は、第1の混合ガス出口開口部の下方に位置するほぼ軸方向の第2
の粒子出口開口部を側壁とともに画定しており、第2の粒子出口開口部は、分離
室の下方においてストリッピング室に通じている。
粒子の偏向板(21)を有し、この偏向板により、反応器から分離室への流れを側方
に偏向し、かつ遠心力の作用によりガスから粒子を分離するためにほぼ垂直な面
内において流れの回転を起こさせるようになっている。
て画定される入口開口部(21)と、上部が偏向板(21)とともにガスおよび粒子の回
転帯域を形成している外壁(121)と、偏向板のほぼ延長線上に位置しかつガスか ら分離された粒子が分離室の下部に通じるのを可能にしている第1の出口開口部
(122)とを有する。
、各分離室(2)の側壁(24)のうち少なくとも1つは、大部分の粒子が除去された ガスが隣接する流通室に通じるのを可能にするために、偏向板(21)および第1の
開口部(122)の上方に位置する第2の側方出口開口部(5)を有する。
じ断面を有する開口部を備えている。
混合物の入口開口部の下方に、ドロッパーの場合には同上方に、反応器および分
離室の垂直な壁に連結される、例えばデフレクタのような、混合ガスの再流通を
防止する手段を備えている。これにより、反応器とガス出口との間の圧力損失が
軽減される。このデフレクタは、好ましくは、少なくとも30°の角度で回転し
、また、垂直面内において前記壁の側方開口部の形状の少なくとも一部に沿うも
のであってもよい。
、大部分の粒子から分離されたガスが流通室および排出導管を介して第2のガス
および粒子の分離器に逃れるのが可能になる。
域と、流れの再流通を防止するデフレクタとは、ほぼ同軸となる。
と、この第1のデフレクタの上方に位置し、流れの再流通を防止するデフレクタ
とは、ほぼ同軸となる。
を防止するために、第1の変形例として、分離室のアセンブリーを含む分離容器
が、分離室の外壁とは別個の外殻で囲まれるのが有利である。この外殻と分離室
の外側壁との間の環状空間は、装置内でのストリッピングガスの滞留時間を制限
するために、最小であることが好ましい。それから、外側の外殻は、流通室の外
壁である。
合、例えば混合物を第2サイクロンに排出する導管に、伸縮手段が設けられる。
てよい。得られたストリッピング流出物は、その後直ちに流通室を経て上方に排
出され、第2分離器内で処理される。
グ室は、外殻の下部に取り付けられてもよいし、あるいは変形例として、第2分
離器のアセンブリー、分離容器とその外殻、ストリッピング室および反応器の上
端部を収容するのに十分な大きさであって断熱性を有する主要室の下部に含まれ
ていてもよい。この場合、主要室が、例えば第2分離器の上流にある混合ガスお
よび粒子を排出する導管に、第2分離器の上流に配置される少なくとも1つのオ
リフィスを経て第2分離器に通じているのが有利である。
を形成しており、ここでは第2サイクロン分離器が外殻の外部にあってよい。
室内に配置される。
の上部、例えば補足的ストリッピング手段の下方に配置される。
するために開口している。流動床の上方にある流通室の前記開口部は、有利には
、該下方開口部の上方に位置する希薄相において下方開口部の下方の側方出口開
口部から来るガスの流通の可能性を制限する効果をもたらす円錐形断面を有する
部分の底部に配置される。下方開口部を経て入り、流通室の頂部の後に向かった
後に第2サイクロンに向かう流動床触媒のエントレインメントを制限するために
、これらの開口部を流動床表面の上方約1〜10m、好ましくは2〜5mに配置
するのが有利である。さらに、設備設置の組立を簡単にするために、流通室の円
錐形断面は、好ましくは分離室の円錐形断面と同じ傾斜を有している。
に、装置の主要ストリッピング帯域に導入される。この帯域は流動床からなり、
この流動床のレベルは、好ましくは、流通室の開口部と分離室の開口部との間に
あり、通常、分離室の開口部の1〜2m上方であって、流通室の開口部の少なく
とも2m下方である。このストリッピング帯域は、通常、流動床接触帯域からな
り、この帯域において、固体が、下降運動に応じて向流でストリッピングガス、
例えば、水蒸気、窒素またはアンモニアと接触させられる。この帯域における触
媒の平均質量流量は、通常約10〜300kg/秒/m2、好ましくは30〜1
50kg/秒/m2である。ストリッピングガスの平均上昇速度は、通常0.1
〜1m/秒である。
.2〜10m/秒、好ましくは0.5〜5m/秒である。その結果、分離室から
側方オリフィスを経て来る分離ガスは、流通室の容積内に制限される。
。 ・図1は、上昇流型反応器の出口における分離およびストリッピング容器の斜視
図を示す。 ・図2は、ガス状分解流出物から粒子を分離する室のレベルでの縦断面、並びに
粒子と分解およびストリッピング流出物全体とを分解する外側の第2分離器の存
在を示す。 ・図3は、図1のCC’レベルで、分解およびストリッピング流出物全体を分離
する室と流通室との交互の配置の横断面を示す。 ・図4は、外殻内の分離容器と、内側の第2分離器と、ストリッピング室とを含
む主要室を備えた装置全体の縦断面を示す。 ・図5は、下降流型反応器の出口における粒子の分離室のレベルでの縦断面を表
す。 ・図6は、前記分離室に隣接するガス流通室のレベルでの縦断面を示す。該分離
室は、分離およびストリッピング容器の内側にあるサイクロンに接続される。 図面において、同じ参照記号は、同じ手段を示す。
てガス状流体相を固体相と接触させる反応器からの出口であって、ほぼ垂直な管
状の出口において、ガス相から分離しかつストリッピングするシステムに関する
。本発明は、特に接触分解反応器の出口における流出物の分離を目的とする。該
接触分解反応器において、ガス相と液相とは、炭化水素および水の混合物を含み
、また固体は、一般に、ゼオライトを少なくとも15%含む、例えばシリカ・ア
ルミナをベースとする触媒である。本発明により、ガス・固体混合物(場合によ
って固体は、細孔内に液体フラクションを含む混合物)から、一方では固体を2
5%以下と、入口に導入されるガス相の大部分とを含むガス・固体相を得ること
が可能になり、他方では入口に導入される固体の少なくとも75%を得ることが
可能になる。次いで後者(固体の75%)は、固体の細孔内に含まれる液体・蒸
気混合物を少なくとも一部脱着するために適切に選ばれたガス(例えば水蒸気)
との少なくとも1つの接触段階を受ける。
周囲に軸方向に配分される、互いに通じている分離室(2)と流通室(3)とを交互に
区分する配置により得られる。提案される設備設置は、流出物のN個の分離室お
よびN個の流通室で構成される。Nは2〜10、好ましくは2〜6である。外殻
(51)は、分離容器(50)を包囲する。この分離容器には、これらの分離室(2)およ び流通室(3)の一式が含まれる。
に接続される。各室(2)の開口部(20)は、全て同じ流れ断面(section de passag
e)を有する。分離室の上部は、遠心分離および慣性の作用によるガス相および固
体相の分離を引き起こすことを意図するものである。この遠心分離および慣性の
作用は、分離室の上部を通過する際の流れ方向の変更によって固体に作用する。
本発明は、このように、反応器の出口における流れの成形のために流れ断面の変
更を伴うかまたは伴わないで、反応器の軸を含む面内における流れ方向の変更を
引き起こすために使用されるあらゆる手段に関する。使用される手段の一例が、
図1に示されている。開口部(20)は、反応器の軸の周囲に軸方向に配分される室
に開口しており、その上部は、接合点において反応器に対してほぼ水平であって
、次いでほぼ垂直な壁(22)になるように下方に曲げられる壁(21)で構成されてよ
い。また、曲げられた部分を明らかな角のある繋ぎ部に置き換えて、例えばライ
ザーの軸に対して接線状をなす入口を得るために、反応器に接続される壁(21)を
鉛直線に対して10°から90°の角度で上方に傾斜させ、かつ壁(22)を鉛直線
に対して約70°傾斜させることも可能である。この壁(22)は、外殻(51)とは別
個のものとなされて、最小の環状空間を画定する。
は、ガス相および開口部(20)を経て各分離室に入った個体の25%以下の排出を
可能にする開口部(5)が配置される。この開口部は、好ましくは円弧形であるが 、他の形状(長方形および台形)も考えられる。開口部(5)の最も高い箇所は、 一般に開口部(20)の最も低い箇所の下方に位置する。開口部(5)の最も低い箇所 は、固体の大部分の排出に役立つ開口部(6)の上方に位置しかつ分離室(2)の下部
に位置する。
分な分離効果を得るために、入口帯域(20)から出口(5)を隔離するのが好ましい 。従って、フランス特許出願FR97/00327に記載されているように、有
利にはデフレクタ(4)を使用してよく、このデフレクタは、好ましくは反応器の 軸の周囲に軸線方向に対称であってかつ好ましくは垂直面内において開口部(5) の形状に沿う。開口部の幅は、分離室の幅に完全に一致するものである。このデ
フレクタは、有利には開口部(5)において出るガス・固体混合物に対して、該開 口部(5)により提供される流れ断面の少なくとも10%、好ましくは50%に等 しい流れ断面を与えるものである。該デフレクタは、回転帯域とほぼ同軸状に少
なくとも30°の角度で曲がる。
および液体とをエントレインメントしうるものであり、かつほぼ壁(22)に沿って
流れ、ついで反応器の軸に対してほぼ垂直でかつ開口部(5)に対してほぼ垂直な 面内において開口部(5)よりも下方に位置する開口部(6)を経て各分離室から排出
される。開口部(6)において固体と共にエントレインメントされるガスの量を制 限するために、この開口部の流れ断面を限定することが適切である。これを行う
ためには、壁(22)を、ライザーに向けて再入する、鉛直線に対して5°から45
°、好ましくは10°から30°の角度に直接傾斜させればよい。あるいは、こ
の壁(22)が、ライザーに向けて再入する、鉛直線に対して5°から45°、好ま
しくは10°から30°の角度に傾斜した壁に対してほぼ垂直である場合、該壁
(22)を延長させて、図2に示すように、円錐形の繋ぎ帯域(18)と、ライザーによ
り画定される帯域(7)と、分離室の上部における流れ断面に対して制限された流 れ断面を有するほぼ垂直な壁(27)とを形成してもよい。また、壁(22)を分離室(2
)の底部まで垂直に延長し、かつ、帯域(2)に対して帯域(7)での流れの制限を生 じさせるために、壁(22)および(27)を完全に一直線上に維持しながら、出口帯域
内の反応器の周囲に例えば耐火物のような物質からなる固形ブロックを挿入する
ことも可能である。
に位置し、流通室から分離室を画定する2つのほぼ垂直な側壁(24)とを備えてい
る。各壁(24)には、分離室と流通室とを通じさせる開口部(5)が配置される。容 積に関する問題を制限するために、流通室(3)の上部が、反応器の軸に対して分 離室(2)とほぼ同じ半径を有することが好ましい。しかしながら、この条件は、 装置の十分な運転において必須ではない。流通帯域(8)の下部は、流通室(3)の直
径よりも大きな直径を有してよい。この場合、流通帯域の下部は分離室(2)の下 部全体を含み、その外壁(9)は反応器(1)の軸の周囲360°の範囲に及ぶであろ
う。
を形成する頭部(13)を形成するために縮小される。
口(7)において適用されるならば帯域(8)のレベルで、また、分離帯域の出口(7) が流れ断面の制限を有しないならば開口部(6)の下方において互いに通じる。
通帯域を限定してもよい。これらの手段は、例えば蒸留塔内で使用されるような
充填物を積み重ねたもの、互いに交差した管を上下に配列したもの、または固体
の半径方向の移動を促進させるために所定の混乱(enchevetrement)を形成する傾
斜板である。触媒粒子の細孔内に含まれる液体またはガス炭化水素を脱着しかつ
それらを直ちに流通室を介して排出するのを促進するために、窒素、蒸気または
アンモニアのようなガスを導入する手段(10)を、これら充填物の下方および分離
帯域からの出口(6)の下方に配置してよい。
0)に導入される。このストリッピング帯域は、一般に流動床接触帯域であり、こ
こで、固体は、リング(11)を通じて導入される蒸気、窒素、アンモニアといった
ストリッピングガスと、少なくとも1回、下降運動に従って向流で接触させられ
る。
運転は、図2および図4に示され、ユニットの寸法を決定するための異なる技術
を使用した2つの特に適当な例において記載されている。
物の排出導管(14)に配置されてよい。ガス・固体(細孔内にガスおよび液体のフ
ラクションを含む固体)流出物は、図1に示す開口部(20)から、図面では一部の
みが表されている本発明の装置に入る。固体およびガスは、主として分離室(2) の上部において分離され、固体の25%以下を同伴するガスは、開口部(5)を通 じて流通室(3)に入る。それから、この流れは、流通室(13)の上部に排出され、 次いで、全ての分解・ストリッピング流出物を集める導管(14)に排出される。導
管(14)は、該導管(14)の壁から側方に開口し、流出物を外側にある例えばサイク
ロン(16)のようなガス・固体の第2分離器の入口に運ぶ導管(15)に接続される。
第2分離器の数は、分離室およびストリッピング室の下流においてガスとともに
エントレインメントされる固体の分離を完了するために、一般に分離室の数に近
似する。一般に固体粒子の0.02重量%以下を含むガスが、サイクロンの出口
(19)を経て排出され、かつ、接触分解方法の場合には、一般に種々の炭化水素の
留分に分別する塔に慣用手段によって直接搬送される。上記実施例では、N個の
流通室が、M個のサイクロン(16)に、M個の導管(15)によってサイクロンに接続
された単一の導管(14)を介して連結されている。MとNとが同数である場合には
、各流通室を、固有の導管を介して分離器に直接連結するのが有利である。分離
室(2)においてガスにエントレインメントされなかった固体は、開口部(6)を経て
分離室を出て、次いで、場合によっては手段(10)を経て出口開口部(6)の下方に 導入されるストリッピングガスとの第1の接触を受け、流れを一様化する手段(1
2)によってストリッピング室により提供される流れ断面の全体に配分され、次い
で、図1および図2に示す手段(11)によって手段(12)の下方に導入されるストリ
ッピングガスとの第2の接触を受けてよい。固体は、これらが装置の寸法決定に
おいて使用される場合には、好ましくは半径方向の均一化手段(12)の上方に配置
された戻し脚(17)を経てサイクロン(16)から再循環される固体と混合される。次
いで固体は、周知の従来技術であるストリッピングガスの他の導入手段を含む帯
域(30)の底部を流れてよく、次いで、出口(32)を経て接触分解方法の再生帯域に
排出されてよい。出口(32)の位置は、例えば水平線に対し底部に向かって少なく
とも30°傾斜した、帯域(30)の側方であってよい。帯域(30)において使用され
る種々の手段および場合によって使用される手段(10)により導入されるストリッ
ピングガスと、触媒の細孔から脱着されるガスおよび液体とは、これらが、分離
室で直接分離されかつ開口部(5)を通じて排出されたガスと再び合流する流通室(
3)を通って、サイクロン(16)に排出される。
)は、半径方向であって、分解流出物を流通室(3)が通じるのを可能にする開口部
(5)を備えている。
体)流出物は、図1に示す開口部(20)から、図面上に一部のみが表された本発明
の装置に入る。固体およびガスは、主として分離室(2)の上部において分離され 、固体の25%以下を同伴するガスは、開口部(5)から流通室に入る(図1およ び図2)。この流れは、次いで、流通室(13)の上部に排出され、全ての流出物が
集まる導管(14)に排出される。
れた内側のサイクロン(16)のような従来のガス・固体の第2分離器の入口に運ぶ
導管(15)に接続されている。第2分離室の数は、分離室およびストリッピング室
の下流においてガスにエントレインメントされた固体の分離を完了するために、
一般に分離室およびストリッピング室の数に近似する。一般に0.02重量%以
下の固体粒子を含むガスは、次いで、サイクロンの出口(19)を経て排出され、か
つ、接触分解方法の場合には、一般に慣用手段により種々の炭化水素の留分に分
別する塔に搬送される。上記実施例では、N個のストリッピング室が、M個の分
離器(サイクロン)に、M個の導管(15)によってサイクロンに接続された単一の
導管(14)を介して連結される。MとNとが同数である場合には、各流通室を、固
有の導管を介して分離器に直接連結するのが有利である。分離室(2)においてガ スにエントレインメントされなかった固体は、開口部(6)を経て分離室を離れ、 次いで、場合によっては図1および図2に示す手段(10)を経て開口部(6)の下方 に導入されるストリッピングガスとの第1の接触を受け、手段(12)によって連結
されたストリッピング室または流通室により提供される流れ断面の全体に配分さ
れ、次いで、図1および図2に示す手段(11)によって手段(12)の下方に導入され
るストリッピングガスとの第2の接触を受けてよい。戻し脚(17)を経てサイクロ
ン(16)から再循環された固体は、外殻(51)によって隔離された流通室の外部にお
いて、好ましくはサイクロンと、本発明の対象である分離・流通容器と、ストリ
ッピング室(30)とを同時に含む主要容器(40)内に通じる外殻の開口部の上方にお
いて、固体と混合される。次いで固体は、周知の従来技術である他のストリッピ
ングガス導入手段(31)を含む室(30)内を底部に向けて流れてよく、かつ出口(32)
を経て接触分解方法の再生帯域に排出されてよい。出口(32)の位置は、例えば水
平線に対して底部方向に少なくとも30°傾斜した、室(30)の側方であってよい
。帯域(30)において使用される種々の手段により導入されるストリッピングガス
は、主として分離室(2)および流通室(3)の外側にある容器(40)内のサイクロンに
排出され、かつ、導管(14)または導管(15)の開口部(35)によって、分離・ストリ
ッピング装置により分離されたガスと混合される。使用された手段(10)(11)(31)
を経て導入されるストリッピングガス、並びに触媒の細孔から脱着されたガスお
よび液体は、これらが、分離室で直接分離されかつ開口部(5)を通じて排出され たガスと再び合流する流通室(3)を通って、サイクロン(16)に排出される。
されるストリッピングガスとを、流通室(3)を通じてサイクロン(16)に排出させ るのが有利である。
ての開口部(35)が取り除かれ、停滞する炭化水素の存在に関連するコークスの形
成を避けるために、不活性ガス(例えば蒸気)による容器(40)のガス掃気が行わ
れる。
分解反応器である反応器に連結される分離・ストリッピング装置が示されている
。
口における流出物の分離を目的としており、該出口において、ガス相および液相
は、炭化水素および水の混合物からなり、また固体は、一般にゼオライトを少な
くとも15%を含むシリカ・アルミナをベースとする触媒である。本発明により
、ガス・固体(固体は、場合によってはその細孔内に液体フラクションを含む)
混合物から、一方では入口に導入される固体の25%以下およびガス相の大部分
を含むガス・固体相を、他方では入口に導入される固体の少なくとも75%を得
ることが可能となり、後者は、さらに固体の細孔内に含まれる液体・蒸気混合物
の少なくとも一部を脱着するために、適切に選ばれたガス(例えば蒸気)との接
触段階を受ける。
分されかつ互いに通じる分離室およびガス流通室の仕切られた配置によって得ら
れる。提案される装置は、N個の分離室およびN個の流通室で構成され、Nは1
〜10、好ましくは2〜6である。これらの断面は、少なくとも一部が円弧形ま
たは円形の壁を伴う三角形である。外殻(51)は、分離室(2)と流通室(3)とを備え
る。この外殻は、好ましくは反応器(1)の軸と同じ軸の周囲でほぼ軸対称となっ ている。
接続される。各室(2)の開口部(20)は、全て同じ流れ断面を提供する。曲線形の 壁を有し反応器の底部に配置されたデフレクタ(21)により、分離室の開口部(20)
に向かう流れの側方への偏向が可能になり、かつ分離室の上部においてガスおよ
び粒子の流れの回転が開始され、こうして入口(20)から直ちに相の分離が促進さ
れる。分離室は、少なくとも2つの出口で構成され、一方(122)は、固体粒子を 排出するために、反応器(1)の軸にほぼ直交する面におけるデフレクタ(21)の延 長線上に配置され、他方は、流通室の側壁でもある分離室の側壁に配置された開
口部(5)を介して隣接する流通室にほとんど粒子を含まないガス相を排出させる ために、入口(20)の上方に配置されている。流れを一定方向に向けかつガスの回
転を促進させるためのデフレクタ(4)が、有利には各室の入口(20)の延長線上に 組み入れられてよい。このデフレクタは、反応器の軸に対して数度〜180°、
好ましくは45°〜90°の角度を形成して、ガス出口により形成される曲線に
沿って延長される。
って固体に及ぼされる遠心分離および慣性の作用により、ガス相および固体相の
分離を行うことを目的とする。このように本発明は、反応器の軸を含む面内にお
いて、反応器の出口における流れの成形のために流れ断面の変更を伴うかまたは
伴わずに、流れ方向の変更を引き起こすために使用されるあらゆる手段に関する
。使用される手段の一例が、図5に示されている。開口部(20)は、反応器の軸の
周囲に軸方向に配分される室に開口し、その上部は、反応器(1)の下端部に接続 されたデフレクタで構成されていて、流れの回転を可能にするとともに、反応器
の軸から分離室までの90°の曲線状の偏向を形成している。また、デフレクタ
(21)の一部を、例えば反応器(1)の軸に対してほぼ軸対称である反応器の底部の 平坦な底を使用して、尖った繋ぎ部に置き換えることも可能である。
分離室(2)を画定する2つのほぼ垂直な側壁(24)を備えている。各壁(24)には、 開口部(20)を経て各分離室に入ったガス相および固体の25%以下を排出させる
開口部(5)が配置されている。この開口部は、好ましくは円形であるが、他の形 状(長方形、台形等)であってもよい。開口部(5)の最上点は、開口部(20)の最 下点の上方に位置する。開口部(5)の最下点は、固体の大部分をストリッピング 室(8)(30)の上方にある分離室の底に排出するための開口部(122)の上方またはこ
れと同じレベルに位置する。
面内において開口部(5)の形状に沿うデフレクタ(4)が使用される。このデフレク
タ(4)は、数度〜180°、好ましくは45°〜90°の角度を形成して、ガス 出口の突出部の周囲に巻かれる。このデフレクタは、オリフィス(5)を経て排出 されるガス・固体混合物に対して、開口部(5)により提供される流れ断面の少な くとも10%、好ましくは50%に等しい流れ断面を残すものである。
よび液体とをエントレインメントしうるものであって、開口部(122)の下方に位 置する壁(22)にほぼ沿って流れ、次いで、反応器の軸に対してほぼ垂直でかつ開
口部(5)に対して垂直である面内において開口部(5)よりも下方に位置する開口部
(6a)を経て各分離室から排出される。開口部(6a)において固体とともにエントレ
インメントされたガスの量を制限するために、この開口部の流れ断面を限定する
のが適切である。これを行うために、外側壁(22)を、鉛直線に対して数度〜45
°、好ましくは10°〜30°の角度であって反応器の軸に向かう再入角で直接
傾斜させてよいし、あるいは壁(22)が、垂直線に対して数度〜45°、好ましく
は10°〜30°の角度であって反応器に向かう再入角で傾斜させた壁に対して
ほぼ垂直である場合、該壁を延長させて、図5に示すように、壁(18a)によって 画定される円錐形の繋ぎ帯域と、分離室の上部における流れ断面に対して制限さ
れた流れ断面を有するほぼ垂直な壁(27)、および開口部(122)の下方において全 てが反応器(1)の軸にほぼ一致する部分に収束する側壁(24)によって画定される 帯域(7)とを形成してもよい。また、壁(22)を分離室(2)の底部まで垂直に延長し
、かつ、帯域(2)に対して帯域(7)での流れの制限を生じさせるために、壁(22)お
よび(27)を完全に一直線上に維持しながら、壁(22)に沿ってまたは出口帯域内の
分離室の側壁間に、例えば耐火物のような物質からなる固形ブロックを挿入する
ことも可能である。
使用されてもよい。
せるために、各壁(24)に開口部(5)が配置される。容量の問題を制限するために 、流通室(3)の上部は、好ましくは反応器の軸に対して分離室(2)と同じ半径を有
する。しかしながら、この条件は、装置の適切な運転において必須ではない。ス
トリッピング帯域(8)の上部の直径は、部分(3)の直径よりも大きい。この場合、
ストリッピング帯域の上部は、全ての分離室(7)の下部を含み、その外壁(30)は 、反応器(1)の軸の周囲に360°の範囲に及ぶ。
出口を形成する絞り部(13)を形成するために縮小される。
るために、好ましくは開口している。流動床の上方にある流通室からの開口部(6
b)を、円錐形断面部分(18b)の底部に配置するのが有利である。この円錐形状断 面形態部分は、開口部(6b)の上方に位置する希薄相内で該開口部の下方にある開
口部(5)から来るガスの流通の可能性を制限する効果を有する。開口部(6b)から 入って流通室の頂部、さらに第2のサイクロン(16)へと向かう流動床触媒のエン
トレインメントを制限するために、これらの開口部を流動床表面の上方約1〜1
0m、好ましくは2〜5mに配置するのが有利である。さらに、装置の組立を単
純化するために、円錐形断面(18b)は、好ましくは分離室の円錐形断面(18a)と同
じ傾斜を有する。
域の出口(7)から来た触媒を配分するために、手段(12)を流量断面全体に配分し て、流れを一様化しかつ再流通帯域を制限するようにしてもよい。これらの手段
は、例えば、蒸留塔内で使用されるような装填物を積み重ねたもの、管を上下に
交差状に配列したもの、または固体の半径方向の移動を促進させるために所定の
混乱(enchevetrement)を形成する傾斜板からなる。場合によっては、触媒粒子の
細孔内に含まれる液体またはガス炭化水素の脱着を促進するために、窒素、蒸気
またはアンモニアのようなガスを導入する手段(10,11)を、これら充填物の下方 および分離帯域からの出口(6)の下方に配置してもよい。
次いで、流動床で構成された、ユニットの主要ストリッピング帯域に導入される
。この流動床のレベルは、好ましくは開口部(6b)と開口部(6a)の間にあり、一般
に(6a)の1〜2m上方で(6b)の少なくとも2m下方にある。主要ストリッピング
帯域は、一般には流動床接触帯域であり、ここで、下降する固体が、蒸気、窒素
またはアンモニアといったストリッピングガスと向流で接触させられる。この帯
域における触媒の平均質量流量は、一般に約10〜300kg/秒/m2、好ま
しくは30〜150kg/秒/m2である。ストリッピングガスの平均上昇速度
は、一般に0.1〜1m/秒である。
通常0.2〜10m/秒、好ましくは0.5〜5m/秒である。従って、オリフ
ィス(5)から来る分離ガスは、流通室の容積内に制限される。
5および図6に示された、ユニットの寸法を決定するための異なる技術を使用し
た2つの特に適当な例において記載されている。
を含む固体)流出物は、開口部(20)を経て図面上に一部のみが表された本発明の
装置に入る。固体およびガスは、その大部分が分離室(2)の上部において分離さ れ、固体の25%以下を同伴するガスは、開口部(5)を経て流通室に入る。この 流れは、次いで、流通室(13)の上部、さらには全ての流出物が集まる導管(14)へ
と排出される。
ような従来のガス・固体分離器の入口に運ぶ導管(15)に接続されている。分離器
の数は、分離室およびストリッピング室の下流においてガスとともにエントレイ
ンメントされた固体の分離を完了するために、一般に分離室およびストリッピン
グ室の数に近似する。一般に0.02重量%以下の固体粒子を含むガスが、サイ
クロンの出口(19および19b)から排出され、かつ、接触分解方法の場合には、一 般に手段により種々の炭化水素の留分に分別する塔に直接送られる。上記実施例
では、N個の流通室が、M個の分離機(サイクロン)に、M個の導管(15)によっ
てサイクロンに連結された単一の導管(14)により連結されている。MおよびNが
等しい場合、各流通室を、固有の導管によりサイクロンに直接連結するのが有利
である。分離室(2)においてガスによりエントレインメントされなかった固体は 、そこから開口部(6a)を経て排出され、次いで、場合によっては図5および図6
に示す手段(10)により開口部(6a)の下方に導入されるストリッピングガスとの第
1の接触を受けてもよく、手段(12)によって、結合されたストリッピング帯域に
より提供される流れ断面全体に配分され、次いで、適当な手段(11)を経て手段(1
2)の下方に導入されるストリッピングガスとの第2の接触を受けてもよい。固体
は、均一化手段(12)が装置の寸法決定において使用される場合、好ましくは半径
方向の均一化手段(12)の上方に、ストリッピング容器(8)内の戻し脚(17)を経て サイクロン(16)から再循環された固体と混合される。固体は、次いで、従来技術
において周知であるストリッピングガスの他の導入手段を含む帯域(30)内を下向
きに流れ、出口(32)を経て接触分解方法の再生帯域に排出される。この出口(32)
の位置は、例えば水平線に対して下方に少なくとも30°傾斜した、帯域(30)の
側方であってよい。帯域(30)で使用される種々の手段および場合によって使用さ
れる手段(10)および(11)により導入されるストリッピングガス、並びに触媒の細
孔から脱着されたガスおよび液体は、これらが、分離室で直接分離されかつ開口
部(5)を経て排出されたガスと再び合流する流通室(3)を通って、サイクロンに排
出される。
(22)(18a)および(18b)とは区別されている。第2分離装置は、これら2つの容器
の間の空間内に配置されている。
ている点において主として先行例とは異なるものである。第2分離装置(16)は、
これら2つの容器の外側にある外部空間内に配置される。
図を示す。
粒子と分解およびストリッピング流出物全体とを分解する外側の第2分離器の存
在を示す。
する室と流通室との交互の配置の横断面を示す。
む主要室を備えた装置全体の縦断面を示す。
す。
室は、分離およびストリッピング容器の内側にあるサイクロンに接続される。
、接触分解のために開発されかつこれらの異なる操作を実行するのに多少なりと
も効果的な技術装置に富むものである。急速な分離または効果的なストリッピン
グを実行することは比較的簡単であるが、急速な分離と効果的なストリッピング
とを同時に実行することは困難である。 先行技術は、米国特許第4664888号により説明される。この特許には、
分解ガスおよび触媒の分離装置が記載されている。これらのガスは、分離されて
、反応器の希薄相に戻される。従って、反応器が、大きな容積を有するので、ク
ラッキング反応器の出口と第2サイクロンの入口との間をガスにより通過される
時間に相当するガスの滞留時間は、必然的に延長される。
Claims (14)
- 【請求項1】 混合ガスおよび粒子流を分離しかつストリッピングする装置
であって、混合ガスから粒子を分離する容器(50)および分離容器(50)の下方に配
置されて分離された粒子をストリッピングする容器を内部に有する反応外殻(env
elope)(51)を備えており、前記容器は、長い形状を有する中央反応器(1)の一端 の周囲に軸方向に配分されかつ混合ガスと粒子流とが内部を流通する前記反応器
の周囲に交互に配置される複数の分離室(2)および複数の流通室(3)を有し、各分
離室(2)は、ほぼ垂直な面において混合ガスから粒子を分離するために、その上 部に、反応器に通じているとともに、上昇流型反応器(ライザー)の場合には分 離室の外側壁により一部が画定され、下降流型反応器(ドロッパー)の場合には
同反応器の底部のデフレクタ(21)により一部が画定される回転(rollover)帯域に
通じている入口開口部(20)を有しており、各分離室(2)は、流通室(3)の壁でもあ
る2つのほぼ垂直な側壁(24)を有し、各分離室(2)の垂直な壁(24)のうち少なく とも1つは、ライザーの場合には入口開口部の下方に位置し、ドロッパーの場合
には同開口部(20)の上方に位置する第1の側方出口開口部(5)を有していて、混 合ガスが隣接する流通室に通じるのを可能にしており、各分離室は、混合ガスの
第1出口開口部(5)の下方に位置するほぼ軸方向の粒子出口開口部(6)(6a)を側壁
とともに画定する外壁(21)(121)および内壁を有し、粒子出口開口部(6)(6a)は、
分離室の下方において少なくとも1つの主要ストリッピング手段(11)を含んでい
るストリッピング室(8)(30)に通じており、外殻(51)は、流出室から出るガス流 出物と一部分の粒子との混合物を排出させる少なくとも1つの導管(14)と、前記
排出導管(14)に接続されてガス流出物から粒子を分離し、ガス流出物出口(19)お
よび粒子出口(17)を有する少なくとも1つの第2分離器(16)とを備え、前記スト
リッピング室は、少なくとも流通室(3)を介して前記混合物排出導管(14)に通じ ている、装置。 - 【請求項2】 反応器が上昇流型(ライザー)であり、各分離室が、その上
部に、反応器および遠心力の作用により混合ガスから粒子を分離する回転帯域(2
1)に通じる入口開口部を有しており、回転帯域は、混合ガスおよび粒子が垂直面
内において最大360度の角度で回転するのに適合されており、各分離室(2)は 、流通室(3)の壁でもある2つのほぼ垂直な側壁(24)を有し、各分離室(2)の垂直
な側壁(24)のうち少なくとも1つは、入口開口部(20)の下方に第1の側方出口開
口部(5)を有していて、混合ガスが隣接する流通室に流通するのを可能にしてお り、各分離室は、回転帯域を画定する外壁(21,22)と、外壁と向かい合う内壁と を備え、これらの壁は、第1の混合ガス出口開口部(5)の下方に位置するほぼ軸 方向の第2の粒子出口開口部(6)(6a)を側壁とともに画定しており、第2の粒子 出口開口部(6)(6a)は、分離室の下方においてストリッピング室(8)(30)に通じて
いる、請求項1に記載の装置。 - 【請求項3】 各分離室(2)が、入口開口部の下方に、反応器に接続された 、混合ガスの再流通を防止する手段(4)を備えている、請求項2に記載の装置。
- 【請求項4】 混合ガスの再流通を防止する手段の少なくとも上部が、その
垂直面において、壁(24)の側方開口部(5)の形状に沿っている、請求項3に記載 の装置。 - 【請求項5】 反応器の少なくとも出口部が下降流型(ドロッパー)であり
、反応器がその下端部にガスおよび粒子のデフレクタ(21)を備えていて、このデ
フレクタにより、反応器から分離室への流れを側方に偏向するとともに、遠心力
の作用によりガスから粒子を分離するために垂直面内において流れの回転を起こ
させるようになっており、各分離室は、その上部に、反応器に通じかつ前記デフ
レクタ(21)および反応器によって画定される入口開口部(20)と、上部が偏向板(2
1)とともにガスおよび粒子の回転帯域を形成している外壁(121)と、偏向板のほ ぼ延長線上に位置しかつガスから分離された粒子が分離室の下部に通じるのを可
能にしている第1の出口開口部(122)とを有し、各分離室(2)は、さらに、流通室
(3)の壁でもある2つのほぼ垂直な側壁(24)を有し、各分離室(2)の垂直な側壁(2
4)のうち少なくとも1つは、大部分の粒子が除去されたガスが流通室に流じるの
を可能にするために、デフレクタ(21)および第1の開口部(122)の上方に位置す る第2の側方出口開口部(5)を有している、請求項1に記載の装置。 - 【請求項6】 各分離室(2)が、入口開口部の下方に、反応器に接続された 、混合ガスの再流通を防止する手段(4)を備えている、請求項5に記載の装置。
- 【請求項7】 混合ガスの再流通を防止する手段の少なくとも下部が、その
垂直面内において、壁(24)の側方開口部(5)の形状に沿っている、請求項6に記 載の装置。 - 【請求項8】 外壁(22)が、容器の外殻(51)とは別個のものであって、前記
外殻とともに環状空間を画定している、請求項1〜7のいずれか1つに記載の装
置。 - 【請求項9】 第2分離器が外殻(51)の外にある、請求項1〜8のいずれか
1つに記載の装置。 - 【請求項10】 第2分離器が外殻(51)の内部にある、請求項1〜9のいず
れか1つに記載の装置。 - 【請求項11】 分離室(2)および流通室(3)の下部に、上方に開口した円錐
台形の部分(18a,18b)を有している、請求項1〜9のいずれか1つに記載の装置 。 - 【請求項12】 分離室(2)および流通室(3)の外壁が垂直であり、分離室(2
)および流通室(3)の下部に流れ制御手段を有している、請求項1〜9のいずれか
1つに記載の装置。 - 【請求項13】 流通室が、ストリッピング容器の内部にある流動床の表面
の上方1〜10m、好ましくは2〜5mの高さに下方開口部(6b)を有している、
請求項1〜12のいずれか1つに記載の装置。 - 【請求項14】 分離室からの開口部が、ストリッピング室の内部にある流
動床中に浸されている、請求項1〜3のいずれか1つに記載の装置。
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