JP2001514591A - 高強度レーザーでリソグラフ印刷プレートをイメージングする方法 - Google Patents

高強度レーザーでリソグラフ印刷プレートをイメージングする方法

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    • B41C1/00Forme preparation
    • B41C1/10Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
    • B41C1/1041Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by modification of the lithographic properties without removal or addition of material, e.g. by the mere generation of a lithographic pattern

Abstract

(57)【要約】 支持体、好黒性層、及び架橋済コロイドを含む疎黒性層を、0.1mW/μ2よりも大きい強度を有するレーザービームに対して、約200ミリジュール/cm2以上の全露出とするのに十分な時間だけ露出することを備えた、リソグラフ印刷プレートの作製方法。良好な印刷工程ともちのよさが得られる。

Description

【発明の詳細な説明】 高強度レーザーでリソグラフ印刷プレートをイメージングする方法 本発明は好黒性(黒に対して親和性のある)(melonophilic)層、光熱変換 層、及び疎黒性(melonophobic)層でコートされた支持体を焦点の合ったレーザ ービームに露出することを具備するリソグラフ印刷プレート作製方法に関する。 リソグラフ印刷の技術は、油と水が混ざらないことを基礎とするものであ り、油性物質又はインクをイメージ領域に好ましく保持し、そして水又は噴水溶 液(fountain solution)を非イメージ領域に好ましく保持する。適切に調製し た表面を水で濡らし、次いでインクを載せると、バックグラウンド又は非イメー ジ領域が水を保持してインクをはじき、一方、画像領域はインクを受け入れて水 をはじく。画像領域のインクは、次いで画像が再生される材料、例えば紙や布な どの表面に転移される。一般にインクは、ブランケットと呼ばれる、画像が再生 される材料の表面にインクを転移する中間材料に転移される。 非常に広く使用されているリソグラフ印刷プレートは、アルミニウムの基 底支持体に適用された光感受性コーティングを有している。このコーティングは 、現像工程中に除去されるように可溶性になっている露出部分を有することによ って、光に反応することができる。このようなプレートはポジティブ作用性と呼 ばれる。逆に、露出したコーティング部が硬化する場合には、そのプレートはネ ガティブ作用性と呼ばれる。どちらの場合においても、残りの画像領域はインク 受容性若しくは親油性であり、また非画像領域若しくはバックグラウンドは水受 容性若しくは親水性である。画像と非画像との間の区別は、フィルムを吸引機で 十分にプレートに適用する露出工程で行なわれる。次いでこのプレートを光源に 露出するが、この一部は紫外線照射よりなる。ポジティブなプレートを使用する 場合、フィルム上の領域でプレート上の画像に対応するものは不透明であって、 光がプレートに当たらないようになっていて、一方、フィルム上の非画像領域に 対応する領域は透き通っていて、光がコーティングへと通じることを許容し、こ れ により更に可溶性となって除去される。ネガティブプレートの場合には、反対と なる。画像領域に対応するフィルム上の領域は透き通っていて、一方、非画像領 域は不透明である。フィルムの透き通った領域の下のコーティングは、光の作用 により硬化し、一方、光にあたらない領域は除去される。よってネガティブプレ ートの光硬化表面は、親油性でありインクを受容するが、一方、現像液の作用に よりコーティングか除去されている非画像領域は、感度が減じられて、よって親 水性である。 直接的書写光熱リソプレートは、コダック直接画像熱印刷プレート(Koda k Direct Image Thermal Printing Plate)として知られている。しかしながら 、これらはアルカリ溶液中での湿式処理が必要である。処理が一切不要の直接書 写光熱リソプレートが望まれる。 従来技術においては種々の手段により、このようなプレートの製造を試み てきた。これらのいずれも、いかなる処理をも行うことなく、高感度な書写性、 高品質の画像、巻き上げにくさ(short roll up)、及びもちのよさ(long run le ngth)を有するプレートには及ばない。 US-A-5,372,907は、レーザービームに露出して、加熱により架橋して露出 領域の現像を防止して、同時に非露出領域をより現像可能にし、またプレートを 通常のアルカリプレート現像溶液で現像する直接的書写リソプレートを記載して いる。これについての問題は、現像溶液とそれを含む容器が、メンテナンス、ク リーニング、及び定期的な現像液補充を必要とすることであるが、その全ては費 用がかさみ、また面倒であることである。 US-A-4,034,183は、現像の不要な直接的書写リソプレートであって、支持 体上でコートされたレーザー吸収性の親水性トップ層がレーザービームに露出さ れて、吸収体を燃焼させて、インクをはじく状態からインクを受容する状態へと 変換するものが記載されている。実施例及び教示事項の全ては、高出力のレーザ ーを必要としており、また得られるリソプレートのもちのよさは限られている。 US-A-3,832,948は、強い光によって疎水性の支持体から除去され得る親水 性層を有する印刷プレート、及び親水性支持体より除去され得る疎水性層を 有する印刷プレートの両方を記載している。もっとも、実例は全く記載されてい ない。 US-A-3,964,389は、担体フィルム(ドナー)からリソグラフ表面へと材料 をレーザー転移して作製される、ノープロセス印刷プレートを記載している。こ の方法の問題は、二層の間にトラップされた、小さい粒子の埃が、画像の退化を 生じる可能性があることである。また、調製する二つのシートは、かなり高価で ある。 US-A-4,054,094は、レーザービームを利用してポリエステルのベース上に あるポリケイ酸の薄いトップコーティングをエッチングして、これにより露出領 域をインクに対して受容性にすることによりリソプレートを作製する方法が記載 されている。もちのよさ、又は印刷品位についての詳細は記載されていないか、 ポリケイ酸等のような非架橋ポリマーが比較的すぐに剥がれ、受容プリントのも ちはよくない。 US-A-4,081,572は、基質を親水性ポリアミド酸でコートし、次いで画像に 関してストロボ又はレーザーからの熱により当該ポリアミド酸を、好黒性の(me lonophilic)ポリイミドへ変換することにより当該基質上にプリント原版を調製 する方法が記載されている。もちのよさ、画像品質、又はインク/水のバランス についての詳細は一切記載されていない。 US-A-4,731,317は、ポリマー性ジアゾ樹脂を、砂目をつけた(grained)、 陽極化アルミニウムリソプレート上にコーティングし、画像領域をYAGレーザ ーに露出し、ついで当該プレートをグラフィックアート用ラッカーで処理するこ とによりリソプレートを作製する方法が記載されている。ラッカー処理工程は不 便であり、高価である。 日本国特許公開公報、昭55-105560号は、好黒性(melonophilic)の支持 体上にコートされた親水性層(コロイド状のシリカ、コロイド状のアルミナ、カ ルボン酸又はカルボン酸の塩を含む)をレーザービームで除去することにより、 リソプレートを作製する方法が記載されている。唯一の実施例では、コロイド状 のアルミナのみ、又は酢酸亜鉛のみを使用していて、架橋剤や追加のものはない 。インク/水のバランス、又は限定されたもちのよさについての詳細は記載され て いない。 WO 92/09934は、フォトアシッド(photoacid)発生物、及び酸に対して不 安定なテトラヒドロピラニル基を含むすべての感光性組成物を記載し、またこれ らについて広く請求している。これは、疎水性/親水性のスイッチング性のリソ グラフプレートを含むであろう。しかしながら、このようなポリマー性のスイッ チは、印刷工程中にインクと水の間を十分には区別しないと知られている。 EP 0 562 952 A1は、リソグラフ用支持体上にコートされたポリマー性ア ジ化物を有し、当該ポリマー性アジ化物がレーザービームへの露出により除去さ れる、印刷プレートが記載されている。印刷機の実例は全く記載されていない。 WO 94/18005は、レーザーに露出すると除去される、架橋済親水性層を有 する支持体上にコートされたレーザー吸収層を有する印刷プレートが記載されて いる。実施例は全て、加水分解したテトラエチルオルトケイ酸塩で架橋したポリ ビニルアルコール層を教示している。 US-A-5,460,918は、オキサゾリンポリマーを有するドナーからケイ酸塩表 面受取体へと、リソプレートを作製する熱的転移法が記載されている。このよう な二シート系では、埃による画像品質の問題及び二枚のシートを作製することの 費用の問題の影響を受ける。 処理を一切不要とする、高感度な書写性、高品質画像、巻き上げにくさ、 もちのよさを有するリソプレートを作製できることが望ましい。従来技術の例は 、いずれもこれを十分には行えない。 本発明は、支持体網状構造物が、インク受容性レーザー吸収層でコートさ れ、ついでこれが表面に酸化金属群を有する、架橋済親水性層で更にコートされ ているリソグラフプレートを形成する方法である。このプレートを高強度のレー ザービームへ露出して、次いで印刷機にマウントすると、化学処理が不要の、非 常によい刷り上がりとなる。 本発明におけるリソグラフ印刷プレートは、 a)以下を有する支持体網状構造物と、 b)以下を有する好黒性(melonophilic)の、共示量性の (coextensive)光熱変換層と、 c)ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、ケイ素、ガドリニウム、 ケルマニウム、ヒ素、インジウム、スズ、アンチモン、テルル、鉛、ビスマス、 及び遷移金属酸化物、並びにこれらの組み合わせのコロイドを含む群の構成員を 含んだ架橋済のポリマー性マトリックスを具備する、共示量性の疎黒性(melono phobic)層 を具備するリソグラフ印刷プレートであって、全露出が200mJ/cm2以上と なるのに十分な時間、0.1mW/μ2よりも大きい強度を有するレーザービーム に向くものである。 本発明用の支持体は、ポリマー、金属、若しくは紙のホイル、又はこれら 三つの積層物とすることができる。支持体の厚みは、印刷機の摩滅に耐えられ、 且つ印刷の型を包むのに十分なうすさを有するかぎり変化させることができる。 好ましい態様においては、100乃至200ミクロンの厚みのポリエチレンテレ フタレートを使用している。別の好ましい態様においては、100乃至500ミ クロンの厚みのアルミニウムを使用している。支持体は、カラー印刷記録がフル カラーの画像で行なわれるように、引き延ばしに対して耐性を有する必要がある 。支持体は、一又はそれ以上の「ゼラチンの下塗り(subbing)」層でコートされ て、最終的な集合体の付着性を改善してもよい。支持体の裏側は、帯電防止剤及 び/又は滑り層又はつや消し層でコートして、リソプレートの操作性と感触を改 善してもよい。 ”好黒性(黒に対して親和性のある)(melonophilic)”という用語は、イ ンクを好むという意味のギリシャ語である。最も一般的な印刷インクは、亜麻仁 油ベースであるので、好黒性(melonophilic)であるとは通常は親油性と一致す る。 光熱変換層は、レーザー照射を吸収してそれを熱に変換する。フォトンを フォノンへ変換する。これを行うには、非発光性吸収剤を含む必要がある。この ような吸収剤は染料、顔料、金属、又はその屈折率と厚みによる吸収性を有する 物質の二色性スタックであってもよい。吸収剤は、親水性層又は熱的にその親水 性層に近いものの中に存在してもよい。これにより、吸収剤により生成される熱 の大部分が、当該親水性層の温度を、好黒性(melonophilic)の状態にスイッチ ングするレベルにまで上昇させる。吸収剤として有益な染料の例としては、近赤 外のダイオードレーザービームが、US-A-4,973,572に記載されている。有益な顔 料としては炭素が挙げられる。 染料又は顔料を光熱変換層内に保持するのに使用されるバインダーは、多 様なリストの膜形成ポリマー群より選択してもよい。有益なポリマーは、ポリカ ーボネート、ポリエステル、及びポリアクリレートの類に見られる。化学修飾し たセルロースバインダーは特に有益であり、例えばニトロセルロース、酢酸プロ ピオン酸セルロース、酢酸セルロース等がある。代表的なポリマーは、US-A-4,6 95,286、US-A-4,470,797、US-A-4,775,657及びUS-A-4,962,081に見られる。 光熱変換層には、界面活性剤を加えて均一なコーティングを行いやすくし てもよい。溶媒コートポリマー層用に特に有益な界面活性剤は、ミシガン州ミッ ドランドのDow Corning社が販売するシリコーンオイルであるDC510である。 疎黒性(melonophobic)、又は親水性の層は、リソグラフ印刷工程において 水性の噴水溶液により効果的に濡らすためのものであり、濡れると、インクをは じくものである。更に親水性層が幾分多孔性であって、濡らすことがより効果的 である場合にはより有益である。親水性層は、印刷のもちをよくするには、架橋 しておくことが必要であるが、これは非架橋層がすぐに摩滅するからである。数 多くの架橋済親水性層が入手可能である。ジ、トリ、若しくはテトラ アルコキ シシラン又はチタン酸塩、ジルコン酸鉛、及びアルミン酸塩に由来するものが特 に本発明においては有益である。ヒドロキシシリコン、ヒドロキシアルミニウム 、ヒドロキシチタン、ヒドロキシジルコニウム、のコロイドが例として挙げられ る。これらのコロイドは、US-A-2,244,325、US-A-2,574,902及びUS-A-2,597,872 に十分に記載される方法により形成される。このようなコロイドの安定な分散物 は通常、デラウェア州ウィルミントンのDuPont社などの会社より購入することが 可能である。メチル基やアルキル基等の疎水性基が最小量で含まれる場合に、親 水性層は最も効果的である。親水性層は好ましくは5重量%未満の炭化水素基を 含むべきである。本発明の好ましい態様では、アミノプロピル トリエトキシシランを架橋性且つポリマー形成性の層として使用していて、コロ イド状のシリカを添加して多孔性を層に付加している。架橋性且つポリマー形成 性の層の厚みは、.05乃至1ミクロンであり、最も好ましくは.1乃至.3ミク ロンの厚みである。当該層へ添加するシリカの量は、架橋剤の100乃至500 0%でもよく、最も好ましくは架橋剤の500%乃至1500%である。書写イ メージを可視化するのに有益な界面活性剤、染料、レーザー吸収剤、着色剤、更 には他の追加物を、親水性の層へ加えてもよいが、当該層が水を保持し、インク をはじく能力を顕著に阻害することがない程度に低レベルである必要がある。 本発明のリソプレートを露出するのに使用するレーザーは、好ましくはダ イオードレーザーであるが、これは信頼性があり、またダイオードレーザーシス テムはメンテナンス頻度が低いためであるが、ガス又は固体状態のレーザー等の 他のレーザーも使用することが可能である。 当該層は、例えばスピンコーティング、ナイフコーティング、グラビアコ ーティング、ディップコーティング、又は押し出しホッパーコーティング等の既 知のどのようなコーティング方法によっても、支持体へコートされる。得られる リソグラフプレートを使用する方法は、1)当該プレートを、印刷画像において インクが必要な領域内に焦点を合わせたレーザービームに露出させる工程と、2 )当該プレートを印刷機上で使用する工程とを具備している。印刷操作前には、 いかなる加熱、処理、又はクリーニングをも必要としない。真空クリーニング埃 回収機は、焦点レンズを清浄に保っため、レーザー露出工程中において有益であ るかもしれない。このような回収機は、US-A-5,574,493において十分に記載され ている。レーザーのパワー、強度、及び露出レベルは、上記の相互参照される、 ともに係続中の出願内に十分に記載されている。 上記したリソグラフ印刷プレートを作製する方法において、これらの要素 について、0.1mW/μ2よりも大きい強度を有する焦点の合ったレーザービー ムを、約200ミリジュール/cm2以上の全露出となるのに十分な時間だけ露出 することにより、操作の効率性が改善されて、低レーザー露出エネルギーでのよ りよい印刷工程が達成される。良好な印刷工程は、1.0以上の均一な光学密度 を有するものであると定義される。この効率の改善は予期しないものであるが、 そ れは一般にネガティブフィルムからのリソグラフ印刷プレートの露出においては 、同じ露出レベル、即ち同じ量の、ジュール/平方センチメートルが、露出ラン プの強度にかかわらず要求されることが発見されたためである。 以下の実施例により、本発明を例示する。 実施例1 400gのメチルエチルケトン中の10gの炭素(Cabot Black Pearls 70 0)、21gのニトロセルロースを有する400gのメチルイソブチルケトンの混 合物を、直径が1mmの酸化ジルコニウムビーズとともに24時間攪拌した(ビ ーズの量は容器の半分を占めた)。ゼーズをフィルターで除去して懸濁液を3. 0cc/ft2のウェットレイダウン(wet laydown)でポリエチレンテレフタレ ートにコートした。乾燥すると、当該網状構造は、280gの水、2gのアミノ プロピルトリエトキシシラン、及び.1gのZonyl FSN界面活性剤と混合したアン モニアで安定化した120gのコロイド状シリカ(Nalco 2326)の溶液で保護膜 形成したが、当該混合物は、16cc/m2のウェットレイダウンでコートした 。コートは、118℃で3分間乾燥した。このコートを次いで、US-A-5,446,477 に記載されるのと同じ装置を使用して、830nmに焦点を合わせたダイオード レーザービームに露出した。露出レベルは、約600mJ/cm2であり、また ビームの強度は約3mW/μ2であった。レーザービームを変調してハーフトー ンのドット画像を作りだした。露出後、プレートをABDickプレスにマウントし、 数千回の良好な刷りを行った。 実施例2 プロパノール中のテトラブチルチタン酸塩の混合物に、全量で5%の水を 、プロパノール中10%の水として加えながら攪拌した。テトラブチルチタン酸 塩の量は、プロパノール中の水を添加した後に全濃度が0.5%になるように選 択した。2時間後、混合物はわずかにかすんだ外観となった。次いで混合物を2 1.5cc/m2で、ポリエチレンテレフタレート支持体へコートし、118℃で 3分間乾燥した。コーティングを次いで、米国特許第5,446,477号に記載され るものと同じ装置で、830nmの波長に焦点を合わせたダイオードレーザービ ームに露出した。露出レベルは、約600mJ/cm2であり、ビームの強度は 約3mW/μ2であった。レーザービームを変調してハーフトーンのドット画像 を作りだした。露出後、プレートをABDickプレスにマウントして、数回の適切な 刷りを行った。 実施例3 .5%の加水分解済テトラエチルオルトケイ酸塩を含む5%のコロイド状 アルミナ(Dispal 18N4-20)の混合物(22gのテトラエチルオルトケイ酸塩、 44gの水、及び300mgの濃縮塩酸を含む44gのエタノールを一緒に10 分間攪拌して調製)、及び水中の0.5%zonyl FSN界面活性剤を、21.5c c/m2でポリエチレンテレフタレート支持体にコートし、118℃で3分間乾 燥した。次いでコーティングを100℃で1時間保持した。次いでコーティング を、US-A-5,446,477に記載されるものと同じ装置で、830nmの波長に焦点を 合わせたダイオードレーザービームに露出した。露出レベルは、約600mJ/ cm2であり、ビームの強度は、約3mW/μ2であった。レーザービームを変調 してハーフトーンのドット画像を作り出した。露出後、プレートをABDickプレス にマウントし、数千回の良好な刷りを行った。 実施例4 22gのテトラエチルオルトケイ酸塩、44gの水、及び300mgの濃 縮済塩酸を含む44gのエタノールの混合物を、4.4リットルの水で希釈し、 水中で.5%のzonyl FSN界面活性剤を添加した。この混合物を21.5cc/ m2で、実施例1の炭素−ニトロセルロース被覆支持体にコートし、118℃で 3分間乾燥した。次いでコーティングを100℃で1時間保持した。次いでコー ティングを、US-A-5,446,477に記載されるものと同じ装置で、830nmに焦点 を合わせたダイオードレーザービームに露出した。露出レベルは約600mJ/ cm2、ビーム強度は約3mW/μ2であった。レーザービームを変調して、ハー フトーンのドット画像を作りだした。露出後、プレートをABDickプ レスにマウントし、数回の良好な刷りを行った。 実施例5 4gのニトロセルロース、及びメチルイソブチルケトンとエタノールの7 0:30の混合物の200cc中の2gの2-{2-{2-クロロ-3-{(1,3-ジヒドロ -1,1,3-トリメチル-2H-ベンズ{e}インドール-2-イリデン)エチリデン}-1-シク ロヘキセン-1イル}−エテニル}-1,1,3-トリメチル-1H-ベンズ{e}インドリウム 4-メチルベンゼンスルホナート(sufonate)の溶液を、ポリエチレンテレフタレ ート支持体へ、32.69cc/m2でコートした。乾燥したら、280gの水、 2gのアミノプロピルトリエトキシシラン、及び.1gのzonyl FSN界面活性 剤と混合したアルミナで安定化した120gのコロイド状シリカ(Nalco 2326) 溶液で、網状構造物を被覆したが、当該混合物は、16cc/m2のウェットレ イダウンで被覆した。コーティングを118℃で3分間乾燥した。次いでコーテ ィングを、US-A-5,446,477に記載されるものと同じ装置で、830nmに焦点を 合わせたダイオードレーザービームに露出した。露出レベルは約600mJ/c m2であり、ビーム強度は約3mW/μ2であった。レーザービームを変調して、 ハーフトーンのドット画像を作りだした。露出後、プレートをABDickプレスにマ ウントして、数千回の良好な刷りを行った。 実施例6 ニトロセルロースを酢酸プロピオン酸セルロースで置き換えて、混合物を 18.88g/m2でコートする以外は実施例5と同じにした。 実施例7 酢酸プロピオン酸セルロースをポリ酢酸ビニルで置き換える以外は実施例 6と同じにした。 実施例8 酢酸プロピオン酸セルロースをノボラックで置き換える以外は実施例6 と同じにした。 実施例9 酢酸プロピオン酸セルロースをα-シアノアクリレートで置き換え、溶媒 をアセトニトリルにした以外は実施例6と同じにした。 実施例10 プロパノール中の3%ジルコニウムブトキシド混合物へ、全量で5%の水 を、プロパノール中の10%の水として徐々に加えながら攪拌した。ジルコニウ ムブトキシドの量は、プロパノール中の水の添加後に全濃度が1%となるように 選択した。2時間後、混合物はわずかにかすんだ外観となった。混合物を次いで 、ポリエチレンテレフタレート支持体へ、21.5cc/m2でコートし、118 ℃で3分間乾燥した。次いで層を、50:50のプロパノール:水において1. 5%としたアミノプロピルトリエトキシシラン溶液で被覆し、118℃で3分間 乾燥した。コーティングを次いで、US-A-5,446,477に記載されるものと同じ装置 で、830nmに焦点を合わせたダイオードレーザービームに露出した。露出レ ベルは約600mJ/cm2であり、ビーム強度は約3mW/μ2であった。レー ザービームを変調して、ハーフトーンのドット画像を作りだした。露出後、プレ ートをABDickプレスにマウントして、数回の適切な刷りを行った。 実施例11 使用した硬化剤がジメチルジメトキシシラン及びメチルトリメトキシシラ ンの混合物であって、Dow Corning社からZ-6070として販売されているもの を使用した以外は、実施例1と同じにした。数百回の良好な刷りを行った。 実施例12 使用した硬化剤をグリシドキシプロピルトリメトキシシランにした以外は 、実施例11と同じにした。数百回の良好な刷りを行った。 実施例13 400gのメチルエチルケトン中の10gの炭素(Cabot Black Pearls 70 0)、及び21gのニトロセルロースを有する400gのメチルイソブチルケトン の混合物を、直径が1mmのジルコニウム酸化物のビーズで24時間攪拌した( ビーズの量は容器の半分を満たした)。ビーズをフィルターで除去し、その懸濁 液を3.0cc/ft2のウェットレイダウンでポリエチレンテレフタレートへコ ートした。乾燥したら、網状構造物を、280gの水、2gのアミノプロピルエ トキシシラン、及び.1gのZonyl FSN界面活性剤と混合した、アンモニアで安 定化したコロイド状のシリカ(Nalco 2326)の溶液で被覆したが、当該混 合物は16cc/m2のウェッツトレイダウンで被覆した。コーティングは118 ℃で3分間乾燥した。ついでコーティングを、US-A-5,446,477に記載されるもの と同じ装置で、焦点を830nmにあわせたダイオードレーザービームに露出し た。レーザー強度は、それぞれの段階で最大から全出力の6/256ずつ落とし なから、40段階で段階的に変調させた。露出は4つの異なるドラム回転スピー ドで行った。ステップウェッジ(step Wedge)露出の結果のセットにより、異な る時間の異なる強度露出の組が提供される。露出後、当該プレートをABDickプレ スにマウントし、1000回の刷りを行った。500回目の刷りを選択して、そ れぞれのrpmに対して最後の(もっとも低出力の)全密度ステップを測定した 。それそれのステップのレーザー強度は、レーザースポットの領域で、そのステ ップのレーザー出力を割ると得られる。レーザースポットの領域は、レーザービ ーム側面計で測定したが、1/e2ポイントで25×12ミクロンであった。もっと も低い全密度ステップのそれぞれに対して、露出と強度を計算したが、これを表 1に示す。 表1のデータは、高強度レーザビームがより効果的で、また良好な印刷工 程を達成するのにより少量の全露出エネルギーしか要求しないことを示している 対照例1 水中の5%コロイド状アルミナ(Dispal 18N4-20)の溶液を、21.5c c/m2で、実施例1で使用したのと同じ炭素被覆支持体にコートし、118℃ で3分間乾燥した。次いでコーティングをUS-A-5,446,477に記載されるものと同 じ装置で、830nmに焦点を合わせたダイオードレーザービームに露出した。 露出レベルは約600mJ/cm2であり、ビーム強度は約3mW/μ2であった 。レーザービームを変調して、ハーフトーンのドット画像を作りだした。露出後 、プレートをABDickプレスにマウントして、刷りを行った。約20回の刷りの後 、バックグラウンドがぼけはじめた。100回の刷りの後では、画像は醜く、ま た不安定であった。このことは、架橋剤が良好な印刷の出来栄えにとって必須で あることを示している。 対照例2 アミノプロピルトリエトキシシランを抜いた以外は全て実施例1と同じに した。露出後、プレートをABDickプレスにマウントし、刷りを行った。バックグ ラウンドが完全に白色になることは全くなかったが、二、三の刷りにおいては微 かな、低コントラストの画像が見られた。約20回の刷りの後では、バックグラ ウンドが暗く、画像が本質的に見えなくなってしまった。この対照例は、架橋剤 が、良好な印刷の出来栄えに必須であることを示している。 対照例3 1.76%の二酸化チタン、3.4%のポリ(ビニルアルコール)(Scienti fic Products、96%加水分解済)、1.69%の加水分解済テトラエチルオルト ケイ酸塩(22gのテトラエチルオルトケイ酸塩、44gの水、44gのエタノ ール、30mgの濃縮塩酸とともに10分間攪拌して調製)、0.2 2%のノニルフェノキシポリグリシドール(界面活性剤)の混合物を、ポリエチ レンテレフタレート支持体に、21.5cc/m2でコートし、118℃で3分間 乾燥した。コーティングを100℃で1時間保持した。コーティングを次いでUS -A-5,446,477に記載されるものと同じ装置で、830nmに焦点を合わせたダイ オードレーザービームに露出した。露出レベルば約600mJ/cm2であり、 ビーム強度は約3mW/μ2であった。レーザービームを変調して、ハーフトー ンのドット画像を作りだした。露出後、プレートをABDickプレスにマウントして 、刷りを行った。最初の三、四回の刷りでは、微かだが確認できる画像が得られ た。10回目の刷りまでには、完全なインク強度が達成されたが、バックグラウ ンドはぼやけて、画像が認識できなくなった。この対照例は、WO94/18005に記載 の方法及び要素は、本発明に比べてかなり劣っていることを示している。 対照例4 1.5%の水中アミノプロピルトリエトキシシラン混合物を、実施例1の 炭素含有層へコートした。乾燥後、コーティングを実施例1の様にして露出し、 印刷機にマウントした。プレートは至る所でインクに染まり、良好な画像は全く 得られなかった。これは、硬化剤及びコロイド状の酸化物(例えばシリカ)の両 方が、良好な印刷の出来栄えに必要であることを示している。
【手続補正書】特許法第184条の8第1項 【提出日】平成11年5月5日(1999.5.5) 【補正内容】 明細書 高強度レーザーでリソグラフ印刷プレートをイメージングする方法 本発明は好黒性(黒に対して親和性のある)層、光熱変換層、及び疎黒性 層でコートされた支持体を焦点の合ったレーザービームに露出することを具備す るリソグラフ印刷プレート作製方法に関する。 リソグラフ印刷の技術は、油と水が混ざらないことを基礎とするものであ り、油性物質又はインクをイメージ領域に好ましく保持し、そして水又は噴水溶 液(fountain solution)を非イメージ領域に好ましく保持する。適切に調製し た表面を水で濡らし、次いでインクを載せると、バックグラウンド又は非イメー ジ領域が水を保持してインクをはじき、一方、画像領域はインクを受け入れて水 をはじく。画像領域のインクは、次いで画像が再生される材料、例えば紙や布な どの表面に転移される。一般にインクは、ブランケットと呼ばれる、画像が再生 される材料の表面にインクを転移する中間材料に転移される。 非常に広く使用されているリソグラフ印刷プレートは、アルミニウムの基 底支持体に適用された光感受性コーティングを有している。このコーティングは 、現像工程中に除去されるように可溶性になっている露出部分を有することによ って、光に反応することができる。このようなプレートはポジティブ作用性と呼 ばれる。逆に、露出したコーティング部が硬化する場合には、そのプレートはネ ガティブ作用性と呼ばれる。どちらの場合においても、残りの画像領域はインク 受容性若しくは親油性であり、また非画像領域若しくはバックグラウンドは水受 容性若しくは親水性である。画像と非画像との間の区別は、フィルムを吸引機で 十分にプレートに適用する露出工程で行なわれる。次いでこのプレートを光源に 露出するが、この一部は紫外線照射よりなる。ポジティブなプレートを使用する 場合、フィルム上の領域でプレート上の画像に対応するものは不透明であって、 光がプレートに当たらないようになっていて、一方、フィルム上の非画像領域に 対応する領域は透き通っていて、光がコーティングへと通じることを許容し、こ れにより更に可溶性となって除去される。ネガティブプレートの場合には、反対 と なる。画像領域に対応するフィルム上の領域は透き通っていて、一方、非画像領 域は不透明である。フィルムの透き通った領域の下のコーティングは、光の作用 により硬化し、一方、光にあたらない領域は除去される。よってネガティブプレ ートの光硬化表面は、親油性でありインクを受容するが、一方、現像液の作用に よりコーティングが除去されている非画像領域は、感度が減じられて、よって親 水性である。 直接的書写光熱リソプレートは、コダック直接画像熱印刷プレート(Koda k Direct Image Thermal Printing Plate)として知られている。しかしながら 、これらはアルカリ溶液中での湿式処理が必要である。処理が一切不要の直接書 写光熱リソプレートが望まれる。 従来技術においては種々の手段により、このようなプレートの製造を試み てきた。これらのいずれも、いかなる処理をも行うことなく、高感度な書写性、 高品質の画像、巻き上げにくさ(short rollup)、及びもちのよさ(long run len gth)を有するプレートには及ばない。 US-A-5,372,907は、レーザービームに露出して、加熱により架橋して露出 領域の現像を防止して、同時に非露出領域をより現像可能にし、またプレートを 通常のアルカリプレート現像溶液で現像する直接的書写リソプレートを記載して いる。これについての問題は、現像溶液とそれを含む容器が、メンテナンス、ク リーニング、及び定期的な現像液補充を必要とすることであるが、その全ては費 用がかさみ、また面倒であることである。 US-A-4,034,183は、現像の不要な直接的書写リソプレートであって、支持 体上でコートされたレーザー吸収性の親水性トップ層がレーザービームに露出さ れて、吸収体を燃焼させて、インクをはじく状態からインクを受容する状態へと 変換するものが記載されている。実施例及び教示事項の全ては、高出力のレーザ ーを必要としており、また得られるリソプレートのもちのよさは限られている。 US-A-3,832,948は、強い光によって疎水性の支持体から除去され得る親水 性層を有する印刷プレート、及び親水性支持体より除去され得る疎水性層を有す る印刷プレートの両方を記載している。もっとも、実例は全く記載されてい ない。 US-A-3,964,389は、担体フィルム(ドナー)からリソグラフ表面へと材料 をレーザー転移して作製される、ノープロセス印刷プレートを記載している。こ の方法の問題は、二層の間にトラップされた、小さい粒子の埃が、画像の退化を 生じる可能性があることである。また、調製する二つのシートは、かなり高価で ある。 US-A-4,054,094は、レーザービームを利用してポリエステルのベース上に あるポリケイ酸の薄いトップコーティングをエッチングして、これにより露出領 域をインクに対して受容性にすることによりリソプレートを作製する方法が記載 されている。もちのよさ、又は印刷品位についての詳細は記載されていないが、 ポリケイ酸等のような非架橋ポリマーが比較的すぐに剥がれ、受容プリントのも ちはよくない。 US-A-4,081,572は、基質を親水性ポリアミド酸でコートし、次いで画像に 関してストロボ又はレーザーからの熱により当該ポリアミド酸を、好黒性のポリ イミドへ変換することにより当該基質上にプリント原版を調製する方法が記載さ れている。もちのよさ、画像品質、又はインク/水のバランスについての詳細は 一切記載されていない。 US-A-4,731,317は、ポリマー性ジアゾ樹脂を、砂目をつけた(grained)、 陽極化アルミニウムリソプレート上にコーティングし、画像領域をYAGレーザ ーに露出し、ついで当該プレートをグラフィックアート用ラッカーで処理するこ とによりリソプレートを作製する方法が記載されている。ラッカー処理工程は不 便であり、高価である。 日本国特許公開公報、昭55-105560号は、好黒性の支持体上にコートされ た親水性層(コロイド状のシリカ、コロイド状のアルミナ、カルボン酸又はカル ボン酸の塩を含む)をレーザービームで除去することにより、リソプレートを作 製する方法が記載されている。唯一の実施例では、コロイド状のアルミナのみ、 又は酢酸亜鉛のみを使用していて、架橋剤や追加のものはない。インク/水のバ ランス、又は限定されたもちのよさについての詳細は記載されていない。 WO 92/09934は、フォトアシッド(photoacid)発生物、及び酸に対 して不安定なテトラヒドロピラニル基を含むすべての感光性組成物を記載し、ま たこれらについて広く請求している。これは、疎水性/親水性のスイッチング性 のリソグラフプレートを含むであろう。しかしながら、このようなポリマー性の スイッチは、印刷工程中にインクと水の間を十分には区別しないと知られている 。 EP 0 562 952 A1は、リソグラフ用支持体上にコートされたポリマー性ア ジ化物を有し、当該ポリマー性アジ化物がレーザービームへの露出により除去さ れる、印刷プレートが記載されている。印刷機の実例は全く記載されていない。 WO 94/18005は、レーザーに露出すると除去される、架橋済親水性層を有 する支持体上にコートされたレーザー吸収層を有する印刷プレートが記載されて いる。実施例は全て、加水分解したテトラエチルオルトケイ酸塩で架橋したポリ ビニルアルコール層を教示している。 US-A-5,460,918は、オキサゾリンポリマーを有するドナーからケイ酸塩表 面受取体へと、リソプレートを作製する熱的転移法が記載されている。このよう な二シート系では、埃による画像品質の問題及び二枚のシートを作製することの 費用の問題の影響を受ける。 処理を一切不要とする、高感度な書写性、高品質画像、巻き上げにくさ、 もちのよさを有するリソプレートを作製できることが望ましい。従来技術の例は 、いずれもこれを十分には行えない。 本発明は、支持体網状構造物が、インク受容性レーザー吸収層でコートさ れ、ついでこれが表面に酸化金属群を有する、架橋済親水性層で更にコートされ ているリソグラフプレートを形成する方法である。このプレートを高強度のレー ザービームへ露出して、次いで印刷機にマウントすると、化学処理が不要の、非 常によい刷り上がりとなる。 本発明におけるリソグラフ印刷プレートは、 a)以下を有する支持体網状構造物と、 b)以下を有する好黒性の、共示量性の(coextensive)光熱変換層と、 c)べリリウム、マグネシウム、アルミニウム、ケイ素、ガドリニウム、 ゲルマニウム、ヒ素、インジウム、スズ、アンチモン、テルル、鉛、ビスマス、 及び遷移金属酸化物、並びにこれらの組み合わせのコロイドを含む群の構成員を 含んだ架橋済のポリマー性マトリックスを具備する、共示量性の疎黒性層を具備 するリソグラフ印刷プレートであって、全露出が200mJ/cm2以上となるの に十分な時間、0.1mW/μm2(mW/μ2)よりも大きい強度を有するレー ザービームに向くものである。 本発明用の支持体は、ポリマー、金属、若しくは紙のホイル、又はこれら 三つの積層物とすることができる。支持体の厚みは、印刷機の摩滅に耐えられ、 且つ印刷の型を包むのに十分なうすさを有するかぎり変化させることができる。 好ましい態様においては、100乃至200μm(ミクロン)の厚みのポリエチ レンテレフタレートを使用している。別の好ましい態様においては、100乃至 500μm(ミクロン)の厚みのアルミニウムを使用している。支持体は、カラ ー印刷記録がフルカラーの画像で行なわれるように、引き延ばしに対して耐性を 有する必要がある。支持体は、一又はそれ以上の「ゼラチンの下塗り(subbing)」 層でコートされて、最終的な集合体の付着性を改善してもよい。支持体の裏側は 、帯電防止剤及び/又は滑り層又はつや消し層でコートして、リソプレートの操 作性と感触を改善してもよい。 ”好黒性(黒に対して親和性のある)”という用語は、インクを好むという 意味のギリシャ語である。最も一般的な印刷インクは、亜麻仁油ベースであるの で、好黒性であるとは通常は親油性と一致する。 光熱変換層は、レーザー照射を吸収してそれを熱に変換する。フォトンを フォノンへ変換する。これを行うには、非発光性吸収剤を含む必要がある。この ような吸収剤は染料、顔料、金属、又はその屈折率と厚みによる吸収性を有する 物質の二色性スタックであってもよい。吸収剤は、親水性層又は熱的にその親水 性層に近いものの中に存在してもよい。これにより、吸収剤により生成される熱 の大部分が、当該親水性層の温度を、好黒性の状態にスイッチングするレベルに まで上昇させる。吸収剤として有益な染料の例としては、近赤外のダイオードレ ーザービームが、US-A-4,973,572に記載されている。有益な顔料としては炭素が 挙げられる。 染料又は顔料を光熱変換層内に保持するのに使用されるバインダーは、多 様なリストの膜形成ポリマー群より選択してもよい。有益なポリマーは、ポリカ ーボネート、ポリエステル、及びポリアクリレートの類に見られる。化学修飾し たセルロースバインダーは特に有益であり、例えばニトロセルロース、酢酸プロ ピオン酸セルロース、酢酸セルロース等がある。代表的なポリマーは、US-A-4,6 95,286、US-A-4,470,797、US-A-4,775,657及びUS-A-4,962,081に見られる。 光熱変換層には、界面活性剤を加えて均一なコーティングを行いやすくし てもよい。溶媒コートポリマー層用に特に有益な界面活性剤は、ミシガン州ミッ ドランドのDow Corning社が販売するシリコーンオイルであるDC510である。 疎黒性、又は親水性の層は、リソグラフ印刷工程において水性の噴水溶液 により効果的に濡らすためのものであり、濡れると、インクをはじくものである 。更に親水性層が幾分多孔性であって、濡らすことがより効果的である場合には より有益である。親水性層は、印刷のもちをよくするには、架橋しておくことが 必要であるが、これは非架橋層がすぐに摩滅するからである。数多くの架橋済親 水性層が入手可能である。ジ、トリ、若しくはテトラ アルコキシシラン又はチ タン酸塩、ジルコン酸鉛、及びアルミン酸塩に由来するものが特に本発明におい ては有益である。ヒドロキシシリコン、ヒドロキシアルミニウム、ヒドロキシチ タン、ヒドロキシジルコニウム、のコロイドが例として挙げられる。これらのコ ロイドは、US-A-2,244,325、US-A-2,574,902及びUS-A-2,597,872に十分に記載さ れる方法により形成される。このようなコロイドの安定な分散物は通常、デラウ ェア州ウィルミントンのDuPont社などの会社より購入することが可能である。メ チル基やアルキル基等の疎水性基が最小量で含まれる場合に、親水性層は最も効 果的である。親水性層は好ましくは5重量%未満の炭化水素基を含むべきである 。本発明の好ましい態様では、アミノプロピルトリエトキシシランを架橋性且つ ポリマー形成性の層として使用していて、コロイド状のシリカを添加して多孔性 を層に付加している。架橋性且つポリマー形成性の層の厚みは、.05乃至1μ m(ミクロン)であり、最も好ましくは.1乃至.3μm(ミクロン)の厚みであ る。当該層へ添加するシリカの量は、架橋剤の100乃至5000%でもよく、 最も好ましくは架橋剤の500%乃至1500%である。書写イメージ を可視化するのに有益な界面活性剤、染料、レーザー吸収剤、着色剤、更には他 の追加物を、親水性の層へ加えてもよいが、当該層が水を保持し、インクをはじ く能力を顕著に阻害することがない程度に低レベルである必要がある。 本発明のリソプレートを露出するのに使用するレーザーは、好ましくはダ イオードレーザーであるが、これは信頼性があり、またダイオードレーザーシス テムはメンテナンス頻度が低いためであるが、ガス又は固体状態のレーザー等の 他のレーザーも使用することが可能である。 当該層は、例えばスピンコーティング、ナイフコーティング、グラビアコ ーティング、ディップコーティング、又は押し出しホッパーコーティング等の既 知のどのようなコーティング方法によっても、支持体へコートされる。得られる リソグラフプレートを使用する方法は、1)当該プレートを、印刷画像において インクが必要な領域内に焦点を合わせたレーザービームに露出させる工程と、2 )当該プレートを印刷機上で使用する工程とを具備している。印刷操作前には、 いかなる加熱、処理、又はクリーニングをも必要としない。真空クリーニング埃 回収機は、焦点レンズを清浄に保っため、レーザー露出工程中において有益であ るかもしれない。このような回収機は、US-A-5,574,493において十分に記載され ている。レーザーのパワー、強度、及び露出レベルは、上記の相互参照される、 ともに係続中の出願内に十分に記載されている。 上記したリソグラフ印刷プレートを作製する方法において、これらの要素 について、0.1mW/μm2(mW/μ2)よりも大きい強度を有する焦点の合 ったレーザービームを、約200ミリジュール/cm2以上の全露出となるのに十 分な時間だけ露出することにより、操作の効率性が改善されて、低レーザー露出 エネルギーでのよりよい印刷工程が達成される。良好な印刷工程は、1.0以上 の均一な光学密度を有するものであると定義される。この効率の改善は予期しな いものであるが、それは一般にネガティブフィルムからのリソグラフ印刷プレー トの露出においては、同じ露出レベル、即ち同じ量の、ジュール/平方センチメ ートルが、露出ランプの強度にかかわらず要求されることが発見されたためであ る。 以下の実施例により、本発明を例示する。 実施例1 400gのメチルエチルケトン中の10gの炭素(Cabot Black Pearls 70 0)、21gのニトロセルロースを有する400gのメチルイソブチルケトンの混 合物を、直径が1mmの酸化ジルコニウムビーズとともに24時間攪拌した(ビ ーズの量は容器の半分を占めた)。ビーズをフィルターで除去して懸濁液を32. 29mL/m2(3.0cc/ft2)のウェットレイダウン(wet 1aydown)でポ リエチレンテレフタレートにコートした。乾燥すると、当該網状構造は、280 gの水、2gのアミノプロピルトリエトキシシラン、及び.1gのZonyl FSN界面 活性剤と混合したアンモニアで安定化した120gのコロイド状シリカ(Nalco 2326)の溶液で保護膜形成したが、当該混合物は、16mL/m2(cc/m2) のウェットレイダウンでコートした。コートは、118℃で3分間乾燥した。こ のコートを次いで、US-A-5,446,477に記載されるのと同じ装置を使用して、83 0nmに焦点を合わせたダイオードレーザービームに露出した。露出レベルは、 約600mJ/cm2であり、またビームの強度は約3mW/μm2(mW/μ2 )であった。レーザービームを変調してハーフトーンのドット画像を作りだした 。露出後、プレートをABDickプレスにマウントし、数千回の良好な刷りを行った 。 実施例2 プロパノール中のテトラブチルチタン酸塩の混合物に、全量で5%の水を 、プロパノール中10%の水として加えながら攪拌した。テトラブチルチタン酸 塩の量は、プロパノール中の水を添加した後に全濃度が0.5%になるように選 択した。2時間後、混合物はわずかにかすんだ外観となった。次いで混合物を2 1.5mL/m2(cc/m2)で、ポリエチレンテレフタレート支持体ヘコート し、118℃で3分間乾燥した。コーティングを次いで、米国特許第5,446,477 号に記載されるものと同じ装置で、830nmの波長に焦点を合わせたダイオー ドレーザービームに露出した。露出レベルは、約600mJ/cm2であり、ビ ームの強度は約3mW/μm2(mW/μ2)であった。レーザービームを変調し てハーフトーンのドット画像を作りだした。露出後、プレートをABDickプレスに マウントして、数回の適切な刷りを行った。 実施例3 .5%の加水分解済テトラエチルオルトケイ酸塩を含む5%のコロイド状 アルミナ(Dispal 18N4-20)の混合物(22gのテトラエチルオルトケイ酸塩、4 4gの水、及び300mgの濃縮塩酸を含む44gのエタノールを一緒に10分 間攪拌して調製)、及び水中の0.5%zonyl FSN界面活性剤を、21.5mL /m2(cc/m2)でポリエチレンテレフタレート支持体にコートし、118℃ で3分間乾燥した。次いでコーティングを100℃で1時間保持した。次いでコ ーテイングを、US-A-5,446,477に記載されるものと同じ装置で、830nmの波 長に焦点を合わせたダイオードレーザービームに露出した。露出レベルは、約6 00mJ/cm2であり、ビームの強度は、約3mW/μm2(mW/μ2)であ った。レーザービームを変調してハーフトーンのドット画像を作り出した。露出 後、プレートをABDickプレスにマウントし、数千回の良好な刷りを行った。 実施例4 22gのテトラエチルオルトケイ酸塩、44gの水、及び300mgの濃 縮済塩酸を含む44gのエタノールの混合物を、4.4リットルの水で希釈し、 水中で.5%のzonyl FSN界面活性剤を添加した。この混合物を21.5mL /m2(cc/m2)で、実施例1の炭素−ニトロセルロース被覆支持体にコート し、118℃で3分間乾燥した。次いでコーティングを100℃で1時間保持し た。次いでコーティングを、US-A-5,446,477に記載されるものと同じ装置で、8 30nmに焦点を合わせたダイオードレーザービームに露出した。露出レベルは 約600mJ/cm2、ビーム強度は約3mW/μm2(mW/μ2)であった。 レーザービームを変調して、ハーフトーンのドット画像を作りだした。露出後、 プレートをABDickプレスにマウントし、数回の良好な刷りを行った。 実施例5 4gのニトロセルロース、及びメチルイソブチルケトンとエタノールの7 0:30の混合物の200cc中の2gの2-{2-{2-クロロ-3-{(1,3-ジヒドロ -1,1,3-トリメチル-2H-ベンズ{e}インドール-2-イリデン)エチリデン}-1-シク ロヘキセン-1イル}−エテニル}-1,1,3-トリメチル-1H-ベンズ{e}インドリウム 4-メチルベンゼンスルホナート(sufonate)の溶液を、ポリエチレンテレフタレ ート支持体へ、32.69mL/m2(cc/m2)でコートした。乾燥したら、 280gの水、2gのアミノプロピルトリエトキシシラン、及び.1gのzonyl FSN界面活性剤と混合したアルミナで安定化した120gのコロイド状シリカ (Nalco 2326)溶液で、網状構造物を被覆したが、当該混合物は、16cc/m2 のウェッエツトレイダウンで被覆した。コーティングを118℃で3分間乾燥 した。次いでコーティングを、US-A-5,446,477に記載されるものと同じ装置で、 830nmに焦点を合わせたダイオードレーザービームに露出した。露出レベル は約600mJ/cm2であり、ビーム強度は約3mW/μm2(mW/μ2)で あった。レーザービームを変調して、ハーフトーンのドット画像を作りだした。 露出後、プレートをABDickプレスにマウントして、数千回の良好な刷りを行った 。 実施例6 ニトロセルロースを酢酸プロピオン酸セルロースで置き換えて、混合物を 18.88g/m2でコートする以外は実施例5と同じにした。 実施例7 酢酸プロピオン酸セルロースをポリ酢酸ビニルで置き換える以外は実施例 6と同じにした。 実施例8 酢酸プロピオン酸セルロースをノボラックで置き換える以外は実施例6と 同じにした。 実施例9 酢酸プロピオン酸セルロースをα-シアノアクリレートで置き換え、溶媒 をアセトニトリルにした以外は実施例6と同じにした。 実施例10 プロパノール中の3%ジルコニウムブトキシド混合物へ、全量で5%の水 を、プロパノール中の10%の水として徐々に加えながら攪拌した。ジルコニウ ムブトキシドの量は、プロパノール中の水の添加後に全濃度が1%となるように 選択した。2時間後、混合物はわずかにかすんだ外観となった。混合物を次いで 、ポリエチレンテレフタレート支持体へ、21.5mL/m2(cc/m2)でコ ートし、118℃で3分間乾燥した。次いで層を、50:50のプロパノール: 水において1.5%としたアミノプロピルトリエトキシシラン溶液で被覆し、1 18℃で3分間乾燥した。コーティングを次いで、US-A-5,446,477に記載される ものと同じ装置で、830nmに焦点を合わせたダイオードレーザービームに露 出した。露出レベルは約600mJ/cm2であり、ビーム強度は約3mW/μ m2(mW/μ2)であった。レーザービームを変調して、ハーフトーンのドット 画像を作りだした。露出後、プレートをABDickプレスにマウントして、数回の適 切な刷りを行った。 実施例11 使用した硬化剤がジメチルジメトキシシラン及びメチルトリメトキシシラ ンの混合物であって、Dow Corning社からZ-6070として販売されているもの を使用した以外は、実施例1と同じにした。数百回の良好な刷りを行った。 実施例12 使用した硬化剤をグリシドキシプロピルトリメトキシシランにした以外は 、実施例11と同じにした。数百回の良好な刷りを行った。 実施例13 400gのメチルエチルケトン中の10gの炭素(Cabot Black Pearis 70 0)、及び21gのニトロセルロースを有する400gのメチルイソブチルケトン の混合物を、直径が1mmのジルコニウム酸化物のビーズで24時間攪拌した( ビーズの量は容器の半分を満たした)。ビーズをフィルターで除去し、その懸濁 液を32.29mL/m2(3.0cc/ft2)のウェットレイダウンでポリエチレ ンテレフタレートへコートした。乾燥したら、網状構造物を、280gの水、2 gのアミノプロピルエトキシシラン、及び.1gのZonyl FSN界面活性剤と混合 した、アンモニアで安定化したコロイド状のシリカ(Nalco 2326)の溶液 で被覆したが、当該混合物は16cc/m2のウェットレイダウンで被覆した。コ ーティングは118℃で3分間乾燥した。ついでコーティングを、US-A-5,446,4 77に記載されるものと同じ装置で、焦点を830nmにあわせたダイオードレー ザービームに露出した。レーザー強度は、それぞれの段階で最大から全出力の6 /256ずつ落としながら、40段階で段階的に変調させた。露出は4つの異な るドラム回転スピードで行った。ステップウェッジ(step wedge)露出の結果 のセットにより、異なる時間の異なる強度露出の組が提供される。露出後、当該 プレートをABDickプレスにマウントし、1000回の刷りを行った。500回目 の刷りを選択して、それぞれのrpmに対して最後の(もっとも低出力の)全密 度ステップを測定した。それそれのステップのレーザー強度は、レーザースポッ トの領域で、そのステップのレーザー出力を割ると得られる。レーザースポット の領域は、レーザービーム側面計で測定したが、1/e2ポイントで25×12μm (ミクロン)であった。もっとも低い全密度ステップのそれぞれに対して、露出 と強度を計算したが、これを表1に示す。 表1のデータは、高強度レーザビームがより効果的で、また良好な印刷工 程を達成するのにより少量の全露出エネルギーしか要求しないことを示している 。 対照例1 水中の5%コロイド状アルミナ(Dispal 18N4-20)の溶液を、21.5m L/m2(cc/m2)で、実施例1で使用したのと同じ炭素被覆支持体にコート し、118℃で3分間乾燥した。次いでコーティングをUS-A-5,446,477に記載さ れるものと同じ装置で、830nmに焦点を合わせたダイオードレーザービーム に露出した。露出レベルは約600mJ/cm2であり、ビーム強度は約3mW /μm2(mW/μ2)であった。レーザービームを変調して、ハーフトーンのド ット画像を作りだした。露出後、プレートをABDickプレスにマウントして、刷り を行った。約20回の刷りの後、バックグラウンドがぼけはじめた。100回の 刷りの後では、画像は醜く、また不安定であった。このことは、架橋剤が良好な 印刷の出来栄えにとって必須であることを示している。 対照例2 アミノプロピルトリエトキシシランを抜いた以外は全て実施例1と同じに した。露出後、プレートをABDickプレスにマウントし、刷りを行った。バックグ ラウンドが完全に白色になることは全くなかったが、二、三の刷りにおいては微 かな、低コントラストの画像が見られた。約20回の刷りの後では、バックグラ ウンドが暗く、画像が本質的に見えなくなってしまった。この対照例は、架橋剤 が、良好な印刷の出来栄えに必須であることを示している。 対照例3 1.76%の二酸化チタン、3.4%のポリ(ビニルアルコール)(Scienti fic Products、96%加水分解済)、1.69%の加水分解済テトラエチルオルト ケイ酸塩(22gのテトラエチルオルトケイ酸塩、44gの水、44gのエタノ ール、30mgの濃縮塩酸とともに10分間攪拌して調製)、0.22%のノニル フェノキシポリグリシドール(界面活性剤)の混合物を、ポリエチ レンテレフタレート支持体に、21.5mL/m2(cc/m2)でコートし、1 18℃で3分間乾燥した。コーティングを100℃で1時間保持した。コーティ ングを次いでUS-A-5,446,477に記載されるものと同じ装置で、830nmに焦点 を合わせたダイオードレーザービームに露出した。露出レベルは約600mJ/ cm2であり、ビーム強度は約3mW/μm2(mW/m2)であった。レーザー ビームを変調して、ハーフトーンのドット画像を作りだした。露出後、プレート をABDickプレスにマウントして、刷りを行った。最初の三、四回の刷りでは、微 かだが確認できる画像が得られた。10回目の刷りまでには、完全なインク強度 が達成されたが、バックグラウンドはぼやけて、画像が認識できなくなった。こ の対照例は、WO94/18005に記載の方法及び要素は、本発明に比べてかなり劣って いることを示している。 対照例4 1.5%の水中アミノプロピルトリエトキシシラン混合物を、実施例1の 炭素含有層へコートした。乾燥後、コーティングを実施例1の様にして露出し、 印刷機にマウントした。プレートは至る所でインクに染まり、良好な画像は全く 得られなかった。これは、硬化剤及びコロイド状の酸化物(例えばシリカ)の両 方が、良好な印刷の出来栄えに必要であることを示している。 請求の範囲 1.a)支持体網状構造物、 b)当該網状構造物上にコートされた、共示量性の好黒性光熱変換層、及 び c)ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、ケイ素、ガドリニウム、 ゲルマニウム、ヒ素、インジウム、スズ、アンチモン、テルル、鉛、ビスマス、 若しくは遷移金属の酸化物又は水酸化物の、コロイドを含む架橋済ポリマー性マ トリックスを具備する、共示量性の疎黒性層 を具備する要素を、0.1mW/μm2(mW/μ2)よりも大きい強度を有するレ ーザービームに対して、全露出が200mJ/cm2以上となるように露出するこ とを備えた、リソグラフ印刷プレートの作製方法。 2. 前記の露出時間が、センチメートル平方当り0.1乃至1秒である 請求項1の方法。 3. 前記の支持体が、ポリエステルフィルムである請求項1の方法。 4. 前記の光熱変換層が、セルロースバインダー中に分散された炭素を 具備している請求項1の方法。 5. 前記の疎黒性層の厚みが、0.05乃至1μm(ミクロン)である 請求項1の方法。 6. 前記のコロイドが、ヒドロキシシリコンである請求項1の方法。 7. 前記のコロイドが、ヒドロキシアルミニウムである請求項1の方法 。 8. 前記のコロイドが、ヒドロキシチタンである請求項1の方法。 9. 前記のコロイドが、ヒドロキシジルコニウムである請求項1の方法 。 10. 前記のコロイドが、シリカである請求項1の方法。 11. 前記の架橋剤が、ジ、トリ、テトラ アルコキシ シランである 請求項1の方法。 12. 前記の架橋剤が、アミノプロピルトリエトキシシランである請求 項1の方法。 13. 前記の架橋剤が、ジメチルジメトキシシラン及びメチルトリメト キシシランの混合物である請求項1の方法。 14. 前記の架橋剤が、グリシドキシプロピルトリメトキシシランであ る請求項1の方法。 15. 前記の架橋剤が、テトラエチルオルトケイ酸塩である請求項1の 方法。 16. 前記の架橋剤が、テトラブチルチタン酸塩である請求項1の方法 17. 前記の架橋剤が、ジルコニウムブトキシドである請求項1の方法 18. 前記の共示量性の疎黒性層が、架橋済ポリマー性マトリックスの 重量に対して100乃至5000%のコロイドを含んでいる請求項1の方法。 19. 前記の要素を露出して1よりも大きい均一な光学密度を有する良 好な印刷工程を提供するために必要な全露出が、レーザービームの強度が増大す るにつれて減少する請求項1の方法。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.a)支持体網状構造物、 b)当該網状構造物上にコートされた、共示量性の好黒性光熱変換層、及 び c)ベリリウム、マグネシウム、アルミニウム、ケイ素、ガドリニウム、 ゲルマニウム、ヒ素、インジウム、スズ、アンチモン、テルル、鉛、ビスマス、 若しくは遷移金属の酸化物又は水酸化物の、コロイドを含む架橋済ポリマー性マ トリックスを具備する、共示量性の疎黒性層 を具備する要素を、0.1mW/μm2(mW/μ2)よりも大きい強度を有するレ ーザービームに対して、全露出が200mJ/cm2以上となるように露出するこ とを備えた、リソグラフ印刷プレートの作製方法。 2. 前記の露出時間が、センチメートル平方当り0.1乃至1秒である 請求項1の方法。 3. 前記の支持体が、ポリエステルフィルムである請求項1の方法。 4. 前記の光熱変換層が、セルロースバインダー中に分散された炭素を 具備している請求項1の方法。 5. 前記の疎黒性層の厚みが、0.05乃至1ミクロンである請求項1 の方法。 6. 前記のコロイドが、ヒドロキシシリコンである請求項1の方法。 7. 前記のコロイドが、ヒドロキシアルミニウムである請求項1の方法 。 8. 前記のコロイドが、ヒドロキシチタンである請求項1の方法。 9. 前記のコロイドが、ヒドロキシジルコニウムである請求項1の方法 。
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