JP2001345525A - Wiring board - Google Patents

Wiring board

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JP2001345525A
JP2001345525A JP2000161018A JP2000161018A JP2001345525A JP 2001345525 A JP2001345525 A JP 2001345525A JP 2000161018 A JP2000161018 A JP 2000161018A JP 2000161018 A JP2000161018 A JP 2000161018A JP 2001345525 A JP2001345525 A JP 2001345525A
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JP
Japan
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hole
hole conductor
conductors
conductor
wiring board
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2000161018A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Sugimoto
康宏 杉本
Tetsuya Kashiwagi
哲哉 柏木
Michihiro Matsushima
理浩 松島
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Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
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Publication date
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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wiring board which has a through-hole conductor of an inside and outside double structure where inductance of the whole inside of a through-hole can be reduced effectively and electrical characteristics can be improved, in an insulating board, and to provide the manufacturing method of the wiring board. SOLUTION: This wiring board 1 is provided with the insulating board 2 having a front 3 and a back 4, an outside through-hole conductor 6 which penetrates a part between the surface 3 and the back 4 of the insulating board 2, and an inside through-hole conductor 10 which is formed in the inside of the outside through-hole conductor 6 via an insulating material 8, and the sectional shape of the inside through hole conductor 10 is an ellipse shape having a long axis L and a short axis S. Since mutual inductance at the position of shortest distance x between the inside and the outside through-hole conductors 10, 6 becomes large, the inductance of the overall through-hole where the mutual inductance subtracted from the total value of self inductances of the conductors 10, 6 can be reduced to be as small as possible.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、絶縁基板の表面と
裏面にそれぞれ配線層を有し、且つかかる配線層同士が
互いに導通する配線基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring board having wiring layers on the front surface and the back surface of an insulating substrate, and the wiring layers are electrically connected to each other.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、配線基板に対する高密度化および
高性能化の要請に伴って、絶縁基板の表裏面上の複数層
の配線層を個別に導通させるため、上記基板を貫通する
スルーホール内に内外二重のスルーホール導体を同軸に
形成することが知られている。例えば図6(A),(B)に
示す多層配線基板50は、絶縁基板52の表裏両面に接
地回路用の内銅箔層54,55を形成し、上記基板52
を貫通するスルーホール53内に内銅箔層54,55と
導通するシールド導体56を形成している。また、内銅
箔層54,55上にはプリプレグ57を介して外銅箔層
58,59が形成され、且つこれらの上に互いに直角に
延びる信号パターン61,62が形成されている。上記
導体56の内側には、穴埋め樹脂63を介して係る導体
56と同軸のスルーホール導体64が貫通し、且つ外銅
箔層58,59および信号パターン61,62を個別に
導通している(特開平4−62894号公報参照)。
2. Description of the Related Art In recent years, in response to demands for higher density and higher performance of wiring boards, a plurality of wiring layers on the front and back surfaces of an insulating substrate are individually connected to each other. It is known to form inner and outer double through-hole conductors coaxially. For example, in the multilayer wiring board 50 shown in FIGS. 6A and 6B, inner copper foil layers 54 and 55 for a ground circuit are formed on both front and back surfaces of an insulating substrate 52, and
Is formed in a through hole 53 penetrating through the inner copper foil layers 54 and 55. Outer copper foil layers 58, 59 are formed on the inner copper foil layers 54, 55 via a prepreg 57, and signal patterns 61, 62 extending at right angles to each other are formed thereon. Inside the conductor 56, a through-hole conductor 64 coaxial with the conductor 56 penetrates through the filling resin 63, and electrically connects the outer copper foil layers 58, 59 and the signal patterns 61, 62 individually ( JP-A-4-62894).

【0003】以上のような配線基板50では、同軸に配
置したシールド導体56とスルーホール導体64間の距
離に応じた特性インピーダンスが得られるため、スルー
ホール53内における特性インピーダンスの不整合によ
る信号の反射をなくすことができる。このため、信号の
立ち上がり時間が短い場合でも、上記信号反射によって
生じるシステム内の誤動作を回避することが可能となる
(前記公報参照)。ところで一般に、2本の平行な導線に
同じ方向の電流を通電すると、各導線の自己インダクタ
ンスL,Lに両者の相互インダクタンス(2×M)が
加算されため、全体のインダクタンスLが大きくなる
ことが知られている。
In the wiring board 50 described above, a characteristic impedance corresponding to the distance between the shield conductor 56 and the through-hole conductor 64 arranged coaxially is obtained. The reflection can be eliminated. For this reason, even when the rise time of the signal is short, it is possible to avoid malfunction in the system caused by the signal reflection.
(See the above publication). Meanwhile general, when energized in the same direction of current to the parallel conductors of the two, because the addition both the mutual inductance (2 × M) is the self-inductance L 1, L 2 of each lead, large overall inductance L T Is known to be.

【0004】前記配線基板50の場合も、絶縁基板52
のスルーホール53内に同軸で内外二重に配置した一対
のスルーホール導体(56,64)のうち、特に、その一
方を電源に接続し、他方をグランド(接地)に接続させて
通電すると、各導体の自己インダクタンスL,L
共に両者に相互インダクタンスMが生じる。この場合、
電流が相互に逆方向に流れるため、全体のインダクタン
スLは、各導体の自己インダクタンスL,Lの合
計値から両者の相互インダクタンス(2×M)を減算した
値となる。このため、配線基板50では、シールド導体
56およびスルーホール導体64による全体のインダク
タンスLを抑制することが可能である。しかしなが
ら、互いに同軸にして配置した上記導体56,64で
は、全体のインダクタンスLを低減することが不十分
であるため、電気的特性の向上に寄与しにくく、例えば
同時スイッチングや放射ノイズの発生を効果的に防止す
ることができない、という問題があった。
In the case of the wiring substrate 50, the insulating substrate 52
In particular, when a pair of through-hole conductors (56, 64) coaxially arranged inside and outside in the through-hole 53 are connected to a power source and the other is connected to a ground (ground), power is supplied. Mutual inductance M occurs in both the conductors together with the self-inductances L 1 and L 2 . in this case,
A current flows in opposite directions to each other, the whole inductance L T is a value obtained by subtracting both the mutual inductance (2 × M) from the total value of the self-inductance L 1, L 2 of each conductor. Therefore, in the wiring board 50, it is possible to suppress the overall inductance L T by the shielding conductor 56 and through-hole conductors 64. However, in the conductor 56, 64 is arranged in the coaxially, because it is insufficient to reduce the overall inductance L T, hardly contribute to the improvement of electrical characteristics, for example, the occurrence of simultaneous switching and radiation noise There was a problem that it could not be prevented effectively.

【0005】[0005]

【発明が解決すべき課題】本発明は、以上に説明した従
来の技術における問題点を解決し、スルーホール内全体
のインダクタンスを効果的に低減でき、且つ電気的特性
の向上を図り得る内外二重構造のスルーホール導体を絶
縁基板内に有する、配線基板を提供することを課題とす
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the problems of the prior art described above, and can effectively reduce the entire inductance in the through hole and improve the electrical characteristics. An object of the present invention is to provide a wiring board having a double-layered through-hole conductor in an insulating substrate.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するため、内外二重のスルーホール導体の何れかを、
長軸と短軸とを有する断面形状とする、ことに着想して
成されたものである。即ち、本発明の配線基板は、表面
および裏面を有する絶縁基板と、この絶縁基板における
表面と裏面との間を貫通する外側スルーホール導体と、
この外側スルーホール導体の内側に絶縁材を介して形成
される内側スルーホール導体と、を備え、上記外側スル
ーホール導体および内側スルーホール導体の少なくとも
一方の断面形状が、長軸と短軸とを有する形状である、
ことを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides an inner / outer double through-hole conductor,
The present invention has been conceived to have a cross-sectional shape having a long axis and a short axis. That is, the wiring board of the present invention is an insulating substrate having a front surface and a back surface, and an outer through-hole conductor penetrating between the front surface and the back surface of the insulating substrate,
An inner through-hole conductor formed inside the outer through-hole conductor via an insulating material, wherein at least one of the cross-sectional shapes of the outer through-hole conductor and the inner through-hole conductor has a long axis and a short axis. Having a shape,
It is characterized by the following.

【0007】これによれば、例えば内側スルーホール導
体の長軸の延長線上、または外側スルーホール導体の短
軸の延長線上の位置において、内・外側スルーホール導
体が他の部位よりも確実に接近し、上記位置での相互イ
ンダクタンス(2×M)が大きくなる。このため、かかる
相互インダクタンスを両者の自己インダクタンスL
の合計値から差し引いた全体のインダクタンスL
を可及的に低減することができる。従って、同時スイッ
チングノイズや放射ノイズが低減する等の電気的特性を
向上させた配線基板とすることができる。尚、上記長軸
と短軸とは、上記内/外側スルーホール導体の断面にお
いて、例えば断面が楕円形や長円形等の円形である場
合、最長の直径と最短の直径であって、両者が互いにほ
ぼ直交するものを指す。また、断面が長方形等の方形で
ある場合、対向する各辺間の垂直二等分線のうち、長い
ほうを長軸とし、且つ短い方を端軸とする。
[0007] According to this, the inner / outer through-hole conductor is more reliably approached than other parts at a position on the extension of the long axis of the inner through-hole conductor or the extension of the short axis of the outer through-hole conductor, for example. However, the mutual inductance (2 × M) at the above position increases. For this reason, such mutual inductance is used as the self-inductance L 1 ,
Total inductance L T subtracted from the total value of L 2
Can be reduced as much as possible. Therefore, a wiring board with improved electrical characteristics such as reduced simultaneous switching noise and radiation noise can be obtained. In the cross section of the inner / outer through-hole conductor, for example, when the cross section is a circle such as an ellipse or an oval, the long axis and the short axis are the longest diameter and the shortest diameter. Refers to things that are almost orthogonal to each other. When the cross section is a rectangle such as a rectangle, the longer one of the perpendicular bisectors between the opposing sides is the longer axis, and the shorter one is the end axis.

【0008】また、前記外側スルーホール導体および内
側スルーホール導体の少なくとも一方の断面形状が、楕
円形、長円形、または長方形の何れかである、配線基板
も含まれる。これによれば、前記長軸と短軸とを有する
断面形状のスルーホール導体を、容易且つ正確に設定で
きる。尚、本明細書では、長円形や長方形も長軸と短軸
および1つの中心軸を有するものとする。更に、前記外
側スルーホール導体の中心軸(z1)と内側スルーホール
導体の中心軸(z2)とがずれている、配線基板も含まれ
る。これによれば、内・外側スルーホール導体間におけ
る最接近する部位の距離を一層短くでき、スルーホール
内全体のインダクタンスを更に低減することができる。
尚、上記中心軸は、内/外側スルーホール導体の断面に
て、前記長軸と短軸とが交叉する位置をも含む。
[0008] The present invention also includes a wiring board in which at least one of the outer through-hole conductor and the inner through-hole conductor has a cross-sectional shape of one of an ellipse, an oval, and a rectangle. According to this, a through-hole conductor having a cross-sectional shape having the long axis and the short axis can be easily and accurately set. In this specification, an oval or a rectangle also has a major axis, a minor axis, and one central axis. Further, a wiring board in which the center axis (z1) of the outer through-hole conductor is shifted from the center axis (z2) of the inner through-hole conductor is also included. According to this, the distance of the closest part between the inner and outer through-hole conductors can be further reduced, and the entire inductance in the through-hole can be further reduced.
The center axis also includes the position where the long axis and the short axis intersect in the cross section of the inner / outer through-hole conductor.

【0009】また、前記外側スルーホール導体と内側ス
ルーホール導体との間における最短距離が、10μmで
ある、配線基板も含まれる。これによれば、内・外側ス
ルーホール導体間で互いに最も接近し合う部分に適正な
間隔が設けられるので、両導体間の相互インダクタンス
を効果的に大きくすることができる。尚、上記距離(x)
が10μm未満では互いに接近し過ぎ、かつ温度/湿度
/バイアス電圧加速テスト(HAST)上の観点から好ま
しくないため、即ち、マイグレーションによる絶縁の劣
化や不良が生じるため、この範囲を除外したものであ
る。上記距離(x)は、20μm以上とすると一層望まし
い。
[0009] The present invention also includes a wiring board in which the shortest distance between the outer through-hole conductor and the inner through-hole conductor is 10 μm. According to this, since a proper interval is provided in a portion where the inner and outer through-hole conductors are closest to each other, the mutual inductance between the two conductors can be effectively increased. The distance (x)
Is less than 10 μm, this range is excluded because they are too close to each other and unfavorable from the viewpoint of temperature / humidity / bias voltage acceleration test (HAST), that is, insulation degradation or failure due to migration occurs. . The distance (x) is more desirably 20 μm or more.

【0010】尚、絶縁基板における表面と裏面との間を
貫通する外側スルーホールを形成する工程と、このスル
ーホールの内周面に外側スルーホール導体を形成する工
程と、上記外側スルーホール導体中でその軸方向に沿っ
て貫通する中空部内に絶縁材を充填する工程と、この充
填された絶縁材中でその軸方向に沿って貫通する内側ス
ルーホールを形成する工程と、この内側スルーホールの
内周面に内側スルーホール導体を形成する工程と、を備
え、上記外側スルーホール導体および内側スルーホール
導体の少なくとも一方の断面形状が、長軸と短軸とを有
する形状である、ことを特徴とする配線基板の製造方法
も含まれ得る。これによる場合、前記断面形状を有し且
つ二重構造の内・外側スルーホール導体を有する配線基
板を確実に提供することができる。
A step of forming an outer through-hole penetrating between the front and back surfaces of the insulating substrate, a step of forming an outer through-hole conductor on the inner peripheral surface of the through-hole, A step of filling the hollow portion penetrating along the axial direction with an insulating material, a step of forming an inner through hole penetrating along the axial direction in the filled insulating material, and Forming an inner through-hole conductor on the inner peripheral surface, wherein the cross-sectional shape of at least one of the outer through-hole conductor and the inner through-hole conductor is a shape having a long axis and a short axis. The manufacturing method of the wiring board described above may also be included. In this case, it is possible to reliably provide a wiring board having the above-described cross-sectional shape and having inner / outer through-hole conductors having a double structure.

【0011】上記断面形状の内・外側スルーホール導体
は、絶縁基板または絶縁材にドリルやレーザ照射を用い
ることにより、内・外側スルーホール導体の外形形状と
ほぼ同じ断面形状のスルーホールを穿設し、かかるスル
ーホールの内周面に金属メッキを施すことにより形成さ
れる。上記レーザ照射には、COレーザによる長パル
スや、高出力レーザのサイクルモード法(巡回ショット)
による孔明け加工が、形状精度の良いスルーホールを形
成する上で好ましい。尚、バーストモード法(連続回数
ショット)やレーザスキャニングによるトレパニング(た
て孔くり抜き)を行って、断面形楕円形などのスルーホ
ールを形成しても良い。一方、ドリルで孔明けする場合
は、通常の孔加工を一方向に沿って繰り返し移動して行
うことにより、前記断面形状を形成することができる。
The inner and outer through-hole conductors having the above-mentioned cross-sectional shape are formed with a through-hole having substantially the same cross-sectional shape as the inner and outer through-hole conductors by using a drill or laser irradiation on an insulating substrate or an insulating material. The through hole is formed by plating the inner peripheral surface with metal. For the above laser irradiation, long pulse by CO 2 laser or cycle mode method of high power laser (circular shot)
Is preferable for forming a through hole with good shape accuracy. Note that a through-hole having a cross-sectional shape of an ellipse or the like may be formed by performing trepanning (boring a hole) by a burst mode method (continuous shots) or laser scanning. On the other hand, in the case of drilling with a drill, the cross-sectional shape can be formed by repeatedly performing normal drilling along one direction.

【0012】更に、前記外側スルーホール導体または内
側スルーホール導体の長軸と短軸との比が、1超:1〜
2:1の範囲にある、配線基板とすることもできる。こ
れによれば、内・外側スルーホール導体の相互の位置お
よび両者間の最接近する部位の最短距離(x)を、精度良
く効果的に設定することが可能となる。尚、上記比が
2:1よりも大きくなると、内・外側スルーホール導体
間の最接短距離が過少となって接近し過ぎるため、これ
を除くことにしたものである。また、前記外側スルーホ
ール導体または内側スルーホール導体の何れか一方が電
源用回路に接続され、且つ他方がグランド(接地)用回路
に接続されている、配線基板とすることもできる。これ
によれば、特に同時スイッチングノイズや放射ノイズの
低減を効果的に図ることが可能となる。
Further, the ratio of the major axis to the minor axis of the outer through-hole conductor or the inner through-hole conductor is more than 1: 1.
The wiring board may be in the range of 2: 1. According to this, the mutual position of the inner and outer through-hole conductors and the shortest distance (x) of the closest part between the two can be accurately and effectively set. If the above ratio is larger than 2: 1, the shortest contact distance between the inner and outer through-hole conductors is too small and the conductors are too close to each other. Further, the wiring board may be configured such that one of the outer through-hole conductor and the inner through-hole conductor is connected to a power supply circuit, and the other is connected to a ground (ground) circuit. According to this, it is possible to particularly effectively reduce simultaneous switching noise and radiation noise.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】以下において本発明の実施に好適
な形態を図面と共に説明する。図1(A)は、本発明の配
線基板1における要部の断面を示す。図示のように、配
線基板1は、ビスマレイミド・トリアジン(BT)樹脂か
らなる厚さ約0.8mmの絶縁基板2と、その表面3上
と裏面4下とに対称に配置した複数のCu製の配線層1
2,14,20,21,28,29およびエポキシ系樹
脂からなる絶縁層16,17,22,23,26,27
とを有している。図1(A)において、最上層に位置する
絶縁層(ソルダーレジスト層)26には、これを貫通して
配線層28上から第1主面30上に突出するハンダ製で
複数のフリップチップバンプ(IC接続端子)32が突設
されている。各バンプ32には、第1主面30上に搭載
される図示しないICチップの端子が個別に接続され
る。
Preferred embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1A shows a cross section of a main part of a wiring board 1 of the present invention. As shown in the figure, a wiring board 1 is made of a bismaleimide-triazine (BT) resin having a thickness of about 0.8 mm, and a plurality of Cu substrates symmetrically arranged on the upper surface 3 and the lower surface 4 thereof. Wiring layer 1
2, 14, 20, 21, 28, 29 and an insulating layer 16, 17, 22, 23, 26, 27 made of an epoxy resin.
And In FIG. 1A, the uppermost insulating layer (solder resist layer) 26 has a plurality of flip-chip bumps made of solder projecting therefrom and projecting from the wiring layer 28 to the first main surface 30. (IC connection terminal) 32 protrudes. Each bump 32 is individually connected to a terminal of an IC chip (not shown) mounted on the first main surface 30.

【0014】また、最下層の絶縁層(ソルダーレジスト
層)27に設けた開口部31には、配線層29の一部で
ある接続端子33が第2主面34側に露出している。端
子33の表面には、Au・Niメッキ膜が被覆され且つ
図示しないマザーボードに接続される。尚、図1(A)で
配線層12,20,28はビア導体18,24を介し、
配線層14,21,29はビア導体19,25を介して
互いに導通されている。一方、図1(B)に示すように、
絶縁基板2には直径約0.35mmの外側スルーホール
5が、その表・裏面3,4間に貫通し、該スルーホール
5の内周面には円筒形で厚さ約15μmの外側スルーホ
ール導体6が形成されている。この導体6は、絶縁基板
2の表・裏面3,4上下の配線層12,14間を導通す
る。
In the opening 31 provided in the lowermost insulating layer (solder resist layer) 27, a connection terminal 33, which is a part of the wiring layer 29, is exposed on the second main surface 34 side. The surface of the terminal 33 is coated with an Au / Ni plating film and connected to a motherboard (not shown). In FIG. 1A, the wiring layers 12, 20, and 28 are connected via via conductors 18 and 24, respectively.
The wiring layers 14, 21, 29 are electrically connected to each other via via conductors 19, 25. On the other hand, as shown in FIG.
An outer through hole 5 having a diameter of about 0.35 mm penetrates between the front and back surfaces 3 and 4 of the insulating substrate 2, and an inner through surface of the through hole 5 has a cylindrical outer through hole having a thickness of about 15 μm. The conductor 6 is formed. The conductor 6 conducts between the wiring layers 12 and 14 above and below the front and back surfaces 3 and 4 of the insulating substrate 2.

【0015】また、外側スルーホール導体6の内側には
樹脂等の絶縁材8が充填されると共に、図1(B)に示す
ように、絶縁材8内には外側スルーホール6と同軸心の
位置に、長軸Lが約0.2mmで短軸Sが約0.1mm
である断面楕円形の内側スルーホール9が穿孔されてい
る。このホール9の内周面には、断面が楕円形で厚さ約
15μmの内側スルーホール導体10が形成されると共
に、この導体10の内側には楕円柱形で絶縁性または導
電性の充填樹脂11が形成されている。上記導体10の
上下端には配線層20,21の一部が形成されている。
尚、外側スルーホール導体6およびこれと導通する配線
層12,14は、例えばグランド(接地)用回路を形成す
ると共に、内側スルーホール導体10およびこれと導通
する配線層20,21等は、例えば電源用回路を形成す
る。
Further, the inside of the outer through-hole conductor 6 is filled with an insulating material 8 such as a resin, and as shown in FIG. In the position, the major axis L is about 0.2 mm and the minor axis S is about 0.1 mm
An inner through hole 9 having an elliptical cross section is formed. An inner through-hole conductor 10 having an elliptical cross section and a thickness of about 15 μm is formed on the inner peripheral surface of the hole 9, and an insulative or conductive filler resin having an elliptical column shape is formed inside the conductor 10. 11 are formed. At the upper and lower ends of the conductor 10, a part of the wiring layers 20, 21 is formed.
The outer through-hole conductor 6 and the wiring layers 12 and 14 conducting therewith form, for example, a ground (grounding) circuit, and the inner through-hole conductor 10 and the wiring layers 20 and 21 conducting therethrough, for example, A power supply circuit is formed.

【0016】図1(B)に示すように、内側スルーホール
導体10は、外径にて互いに直交する長軸Lが約0.2
mmで短軸Sが約0.1mmの楕円形の断面を有するた
め、図示のように、長軸Lの上下の延長線上に、内・外
側スルーホール導体10,6間における最短距離x(約
60μm)が位置する。因みに、短軸Sの延長線上にお
ける導体10,6間の距離は約110μmで、最短距離
xの約2倍となる。上記最短距離xの位置では、従来の
内・外側スルーホール導体が同心円の場合に比べ、両導
体10,6間の相互インダクタンス(2×M)が大きくな
る。このため、電流を相互に逆方向に流した場合には、
両者の自己インダクタンスL,L の合計値から上記
相互インダクタンスを差し引いた全体のインダクタンス
を、可及的に小さくすることができる。例えば、内
・外側スルーホール9,5における全体のインダクタン
スLは、内・外側スルーホール導体10,6の自己イ
ンダクタンスをL,Lとした場合、下記数式1で表
される。因みに、図1(B)の内・外側スルーホール導体
10,6を有し、最短距離xを60μmとした場合、前
記図6(B)と同様に内・外側スルーホール導体(56,
64)を同心円に配置した場合に比べて、全体のインダ
クタンスLを約20%低減できることが確認された。
As shown in FIG. 1B, the inner through hole
The conductor 10 has a major axis L orthogonal to each other at an outer diameter of about 0.2.
mm and the minor axis S has an elliptical cross section of about 0.1 mm.
As shown in the figure, the inner and outer
Shortest distance x between the side through-hole conductors 10 and 6 (approximately
60 μm). By the way, on the extension of the short axis S
The distance between the conductors 10 and 6 is about 110 μm, the shortest distance
It is about twice x. At the position of the shortest distance x, the conventional
Compared to the case where the inner and outer through-hole conductors are concentric,
Mutual inductance (2 × M) between the bodies 10 and 6 becomes large.
You. Therefore, when currents flow in opposite directions,
Self inductance L of both1, L 2From the sum of
Overall inductance minus mutual inductance
LTCan be made as small as possible. For example, in
· Overall inductance in the outer through holes 9 and 5
LTIs the self-injection of the inner and outer through-hole conductors 10, 6.
L is the inductance2, L1Is expressed by the following equation 1.
Is done. Incidentally, the inner and outer through-hole conductors in FIG. 1 (B)
When the shortest distance x is set to 60 μm,
As in FIG. 6B, the inner and outer through-hole conductors (56,
64) is arranged in a concentric circle.
Lactance LTWas reduced by about 20%.

【0017】[0017]

【数1】L=(L+L)−2×ML T = (L 1 + L 2 ) −2 × M

【0018】また、図1(C)に示すように、内側スルー
ホール導体10の中心軸z2を、外側スルーホール導体
6の中心軸z1に対し、導体10の長軸Lに沿って数1
0μmずらすことにより、最短距離xを20〜30μm
に低減することができる。この場合、内・外スルーホー
ル導体10,6が接近し過ぎることにより、温度/湿度
/バイアス電圧加速テスト(HAST)で不都合となるの
を防ぐと共に、両導体10,6間の相互インダクタンス
(2×M)を効果的に大きくするため、最短距離xは、1
0μm未満にしないようにする。これにより、全体のイ
ンダクタンスL を一層低減することが可能となる。
尚、内側スルーホール導体10の長軸Lと短軸Sとの比
は、1超:1〜2:1の範囲とすることが望ましい。こ
れにより、内・外側スルーホール導体10,6間に最短
距離xを有する最接近部分を形成できると共に、最短距
離xが10μm未満になりにくくすることができる。
Also, as shown in FIG.
The center axis z2 of the hole conductor 10 is set to the outside through-hole conductor.
6 along the long axis L of the conductor 10 with respect to the central axis z1 of
By shifting the distance by 0 μm, the shortest distance x is 20 to 30 μm
Can be reduced. In this case, the inner and outer through hoes
Temperature / humidity due to too close
/ Bias voltage acceleration test (HAST) is inconvenient
And the mutual inductance between the conductors 10 and 6
In order to effectively increase (2 × M), the shortest distance x is 1
It should not be less than 0 μm. As a result,
Dactance L TCan be further reduced.
The ratio between the major axis L and the minor axis S of the inner through-hole conductor 10 is shown.
Is preferably in the range of more than 1: 1 to 2: 1. This
As a result, the shortest distance between the inner and outer through-hole conductors 10 and 6
The closest part having the distance x can be formed, and the shortest distance
The separation x can be less likely to be less than 10 μm.

【0019】図2〜図3は、前記配線基板1の主要な製
造工程に関する。図2(A)は、厚さ約0.8mmのBT
樹脂からなり且つ表・裏面3,4に銅箔(図示せず)を貼
り付けた絶縁基板2を示す。先ず、絶縁基板2の表・裏
面3,4間を貫通する直径約0.35mmの外側スルー
ホール5を図示しないドリルにより穿孔する。次に、こ
のホール5の内周面および基板2の表・裏面3,4にお
ける銅箔の上に無電解および電解銅メッキを施し、図2
(A)に示すように、厚さ約15μmmの外側スルーホー
ル導体6を含むメッキ層3a,4aを形成する。
FIGS. 2 to 3 relate to main manufacturing steps of the wiring board 1. FIG. 2A shows a BT having a thickness of about 0.8 mm.
1 shows an insulating substrate 2 made of resin and having a copper foil (not shown) adhered to front and rear surfaces 3 and 4. First, an outer through hole 5 having a diameter of about 0.35 mm penetrating between the front and back surfaces 3 and 4 of the insulating substrate 2 is drilled by a drill (not shown). Next, electroless and electrolytic copper plating was performed on the inner peripheral surface of the hole 5 and the copper foil on the front and back surfaces 3 and 4 of the substrate 2, as shown in FIG.
As shown in FIG. 1A, plating layers 3a and 4a including an outer through-hole conductor 6 having a thickness of about 15 μm are formed.

【0020】次いで、外側スルーホール導体6が形成さ
れた外側スルーホール5内に樹脂ペーストを印刷・充填
してこれを硬化した後、その上・下面を研磨にて平坦化
することにより、図2(B)に示すように、外側スルーホ
ール5内に絶縁材8を充填する。また、メッキ層3a,
4aの上下に所定パターンのエッチングレジストを形成
し、表・裏面3,4のメッキ層3a,4aのうち不要部
分をエッチングして除去することにより、図2(B)に示
すように、絶縁基板2の表・裏3,4面上に所定パター
ンの配線層12,14を形成する。
Next, a resin paste is printed and filled in the outer through-holes 5 in which the outer through-hole conductors 6 are formed, and the resin paste is hardened. As shown in (B), the insulating material 8 is filled in the outer through-hole 5. Further, the plating layers 3a,
As shown in FIG. 2B, an etching resist having a predetermined pattern is formed above and below 4a, and unnecessary portions of the plating layers 3a and 4a on the front and back surfaces 3 and 4 are removed by etching. The wiring layers 12 and 14 having a predetermined pattern are formed on the front and rear surfaces 3 and 4 of the second semiconductor device.

【0021】更に、図2(C)に示すように、配線層1
2,14の上下にエポキシ樹脂からなる絶縁層16,1
7を形成した後、絶縁層16,17および絶縁材8にお
ける所定の位置に対し、図示しない発射源からレーザY
を照射する。このうち、絶縁材8上でのレーザYには、
COレーザによる長パルスや、サイクルモード法によ
る高出力レーザが照射され、形状精度の良い内側スルー
ホール9が形成できる。また、レーザ加工により、図2
(D)に示すように、絶縁層16,17の所定の位置にビ
アホール13,13が穿設される。更に、絶縁層16,
17および絶縁材8を貫通する所定の位置に、図3(A)
に示すように、長軸Lが約0.2mmで且つ短軸Sが約
0.1mmで断面楕円形の内側スルーホール9が穿孔さ
れる。この内側スルーホール6は、図示のように、外側
スルーホール5の中心軸と同じ位置にその中心軸を有す
ると共に、その長軸Lと短軸Sの比は約2:1である。
Further, as shown in FIG.
Insulating layers 16, 1 made of epoxy resin on the upper and lower sides of 2, 14
7 is formed, a predetermined position in the insulating layers 16 and 17 and the insulating material 8 is applied to a laser Y from a not-shown emission source.
Is irradiated. Among them, the laser Y on the insulating material 8 includes:
A long pulse by a CO 2 laser or a high-power laser by a cycle mode method is applied, so that the inner through hole 9 with good shape accuracy can be formed. Also, by laser processing,
As shown in (D), via holes 13 are formed in predetermined positions of the insulating layers 16 and 17. Further, the insulating layer 16,
At a predetermined position penetrating the insulating material 17 and the insulating material 8, FIG.
As shown in FIG. 5, an inner through hole 9 having a major axis L of about 0.2 mm and a minor axis S of about 0.1 mm and an elliptical cross section is formed. As shown, the inner through-hole 6 has the central axis at the same position as the central axis of the outer through-hole 5, and the ratio of the major axis L to the minor axis S is about 2: 1.

【0022】次いで、内側スルーホール9の内周面、絶
縁層16,17の上下、および、各ビアホール13内に
無電解および電解銅メッキを施す。これに用いるメッキ
液の条件は、Cu:濃度18g/リットル、HSO:18
0g/リットル、Clイオン:48g/リットル、レベラ(抑制
剤):0.3g/リットル、電流密度:1A/dmである。こ
の結果、図3(B)に示すように、厚さ約15μmmで長
軸約0.2mmで短軸約0.1mmの内側スルーホール
導体10を含むメッキ層15が上記各所に形成される。
各ビアホール13内のメッキ層15はビア導体18,1
9となる。更に、内側スルーホール導体10が形成され
た内側スルーホール9内に、このホール9の断面形状に
応じた穴埋め用の開口部を有するメタルマスク(図示せ
ず)を介して樹脂ペーストを印刷・充填する。このペー
ストには、ビスフェノール型エポキシ樹脂に無機フィラ
ーおよびイミダソール系硬化剤を添加して混合したもの
を用いる。充填した樹脂ペーストは加熱して半硬化さ
せ、その上下部を研磨して平坦化した後、再加熱して硬
化させる。
Next, electroless and electrolytic copper plating is applied to the inner peripheral surface of the inner through hole 9, the upper and lower portions of the insulating layers 16 and 17, and the inside of each via hole 13. The conditions of the plating solution used for this were Cu: concentration 18 g / liter, H 2 SO 4 : 18.
0 g / liter, Cl - ion: 48 g / liter, leveler (inhibitor): 0.3 g / liter, current density: 1 A / dm 2 . As a result, as shown in FIG. 3B, plating layers 15 including the inner through-hole conductors 10 having a thickness of about 15 μm, a major axis of about 0.2 mm, and a minor axis of about 0.1 mm are formed at the above-described locations.
The plating layer 15 in each via hole 13 is a via conductor 18, 1.
It becomes 9. Further, a resin paste is printed and filled into the inside through-hole 9 in which the inside through-hole conductor 10 is formed via a metal mask (not shown) having an opening for filling a hole according to the cross-sectional shape of the hole 9. I do. As the paste, a mixture obtained by adding an inorganic filler and an imidazole-based curing agent to a bisphenol-type epoxy resin and mixing them is used. The filled resin paste is semi-cured by heating, the upper and lower portions are polished and flattened, and then re-heated and cured.

【0023】これにより、図3(C)に示すように、内側
スルーホール導体10内に絶縁性で楕円柱形の充填樹脂
11が形成される。尚、多量の金属粉末を混練した樹脂
ペーストを充填することにより、導電性の充填樹脂11
を形成することもできる。更に、図3(B)における表裏
両面のメッキ層15上に、所定パターンのエッチングレ
ジスト(図示せず)を形成し、上記メッキ層15のうち不
要部分をエッチングで除去することにより、図3(C)に
示すように、絶縁層16,17上に所定パターンの配線
層20,21とビア導体18,19とを形成する。この
際、内側スルーホール導体10の上下端には、配線層2
0,21の一部が形成される。この結果、配線層20,
21は内側スルーホール導体10を介して互いに導通す
る。
As a result, as shown in FIG. 3 (C), an insulative elliptic column-shaped filling resin 11 is formed in the inner through-hole conductor 10. In addition, by filling a resin paste in which a large amount of metal powder is kneaded, the conductive filler resin 11 is filled.
Can also be formed. Further, an etching resist (not shown) having a predetermined pattern is formed on the plating layers 15 on both the front and back sides in FIG. 3B, and unnecessary portions of the plating layer 15 are removed by etching, thereby obtaining FIG. As shown in (C), wiring layers 20 and 21 having predetermined patterns and via conductors 18 and 19 are formed on the insulating layers 16 and 17. At this time, the upper and lower ends of the inner through-hole conductor 10 are
Part of 0,21 is formed. As a result, the wiring layers 20,
21 are electrically connected to each other via the inner through-hole conductor 10.

【0024】かかる絶縁層16,17および配線層2
0,21の上下に、公知のビルドアップ法によって、前
記絶縁層22,23,26,27、配線層28,29、
ビア導体24,25、および、フリップチップバンプ3
2等を形成する。これにより、前記図1(A),(B)に示
した配線基板1を得ることができる。以上の図2(A)〜
図3(C)に示した配線基板1の製造方法によれば、通常
の製造工程に加えて、内側スルーホール9を形成するた
め、レーザYの照射方法を僅かに変更するのみで、楕円
形断面の内側スルーホール導体10が形成でき、且つ内
・外側スルーホール導体10,6との間において、前記
最短距離xの部位を容易且つ確実に形成することができ
る。
The insulating layers 16 and 17 and the wiring layer 2
The insulating layers 22, 23, 26, 27, the wiring layers 28, 29,
Via conductors 24 and 25 and flip chip bump 3
Form 2 and so on. Thus, the wiring board 1 shown in FIGS. 1A and 1B can be obtained. FIG. 2A to FIG.
According to the method of manufacturing the wiring board 1 shown in FIG. 3C, the inner through hole 9 is formed in addition to the normal manufacturing process. The inner through-hole conductor 10 having a cross section can be formed, and the portion having the shortest distance x can be easily and reliably formed between the inner and outer through-hole conductors 10 and 6.

【0025】図4(A)は、前記図1(B)と同様な断面図
で、絶縁基板2に断面楕円形の外側スルーホール5a
と、その内周面に沿って相似形で且つ長軸Lと短軸Sと
を有する断面楕円形の外側スルーホール導体36とを、
絶縁基板2の表・裏面3,4間に貫通して形成した状態
を示す。外側スルーホール導体36の内側には、絶縁材
8を介して、その中心軸と同心で断面円形の内側スルー
ホール9aと、その内周面に沿った断面円形の内側スル
ーホール導体38とが形成され、且つ内側スルーホール
導体38の内側には、充填樹脂11が形成されている。
尚、外側スルーホール36は、ドリルまたはCOレー
ザ(Y)のトレパニングにより形成される。
FIG. 4A is a cross-sectional view similar to FIG. 1B, in which the insulating substrate 2 has an outer through hole 5a having an elliptical cross section.
And an outer through-hole conductor 36 having a similar shape along its inner peripheral surface and having an elliptical cross section having a major axis L and a minor axis S,
3 shows a state in which the insulating substrate 2 is formed so as to penetrate between the front and back surfaces 3 and 4. Inside the outer through-hole conductor 36, through the insulating material 8, an inner through-hole 9a concentric with the center axis and having a circular cross section and an inner through-hole conductor 38 having a circular cross section along the inner peripheral surface are formed. The filling resin 11 is formed inside the inside through-hole conductor 38.
The outer through hole 36 is formed by drilling or trepanning of a CO 2 laser (Y).

【0026】このため、上記短軸Sに沿った内・外側ス
ルーホール導体38,36間に、上下一対の最短距離x
を有する接近する部位を形成でき、かかる位置において
両導体38,36間の相互インダクタンス(2×M)が大
きくなる。これにより、上記導体38,36に電流が相
互に逆方向に流れた場合、両者の自己インダクタンスL
,Lの合計値から上記相互インダクタンスを差し引
いた全体のインダクタンスLを、可及的に小さくする
ことができる。図4(B)に示すように、外側スルーホー
ル導体36の中心軸z1に対し、内側スルーホール導体
38の中心軸zを、短軸Sに沿って図示で上寄りにずら
すことにより、上方の内・外側スルーホール導体38,
36間に最接近する部位を形成でき、最短距離xを更に
小さくできる。これにより、導体38,36に電流が相
互に逆方向に流れた場合、内・外側スルーホール導体3
8,36全体のインダクタンスLを一層低減すること
ができる。
For this reason, a pair of upper and lower shortest distances x between the inner and outer through-hole conductors 38, 36 along the short axis S.
And a mutual inductance (2 × M) between the conductors 38 and 36 increases at such a position. Thus, when currents flow in the conductors 38 and 36 in opposite directions, the self-inductance L of the two conductors 38 and 36 is reduced.
1, the overall inductance L T from the total value obtained by subtracting the mutual inductance L 2, can be reduced as much as possible. As shown in FIG. 4B, the center axis z of the inner through-hole conductor 38 is shifted upward along the short axis S with respect to the center axis z1 of the outer Inner and outer through-hole conductors 38,
36, the closest part can be formed, and the shortest distance x can be further reduced. Thus, when currents flow in the conductors 38 and 36 in opposite directions, the inner and outer through-hole conductors 3
8,36 the overall inductance L T can be further reduced.

【0027】図4(C)も、前記図1(B)と同様な断面図
で、絶縁基板2に断面楕円形の外側スルーホール5a
と、その内周面に沿って相似形で且つ長軸Lと短軸Sと
を有する外側スルーホール導体36とを、絶縁基板2の
表・裏面3,4間に貫通して形成している。外側スルー
ホール導体36の内側には、絶縁材8を介して、その中
心軸と同心で断面楕円形の内側スルーホール9と、その
内周面に沿った断面楕円形で且つ長軸Lと短軸Sとを有
する内側スルーホール導体10とが形成されている。そ
して、かかる導体36,10の長軸L同士および短軸S
同士を、互いに直交させた状態で形成したものである。
内側スルーホール導体10の内側には、充填樹脂11が
形成されている。
FIG. 4C is a cross-sectional view similar to FIG. 1B, in which the insulating substrate 2 has an outer through hole 5a having an elliptical cross section.
And an outer through-hole conductor 36 having a similar shape along the inner peripheral surface and having a long axis L and a short axis S are formed so as to penetrate between the front and back surfaces 3 and 4 of the insulating substrate 2. . Inside the outer through-hole conductor 36, via an insulating material 8, an inner through-hole 9 having an elliptical cross-section concentric with the center axis thereof, and having an elliptical cross-section along the inner peripheral surface and having a short axis L and a short axis L An inner through-hole conductor 10 having an axis S is formed. The major axes L of the conductors 36 and 10 and the minor axis S
Are formed so as to be orthogonal to each other.
Filled resin 11 is formed inside the inside through-hole conductor 10.

【0028】このため、図4(C)で左右方向の外側スル
ーホール導体36の短軸Sと内側スルーホール導体10
の長軸Lとに沿って、内・外側スルーホール導体10,
36間に、左右一対の最短距離xを有する最接近する部
位を形成できる。かかる部位にて、両導体10,36間
の相互インダクタンスが大きくなるため、導体10,3
6に電流が相互に逆方向に流れた場合、両者の自己イン
ダクタンスL,Lの合計値から上記相互インダクタ
ンスを差し引いた全体のインダクタンスLを、可及的
に小さくすることができる。図4(D)に示すように、外
側スルーホール導体36の中心軸z1に対し、内側スル
ーホール導体10の中心軸z2を図示で上方にずらす。
これにより、内・外側スルーホール導体38,36間に
左右対称の位置に最接近する部位を形成でき、最短距離
xを一層小さくできる。このため、導体38,36に電
流が相互に逆方向に流れた場合、内・外側スルーホール
導体38,36全体のインダクタンスLを小さくする
ことができる。
Therefore, in FIG. 4C, the short axis S of the outer through-hole conductor 36 and the inner through-hole conductor 10
Along the long axis L of the inner and outer through-hole conductors 10,
Between 36, a closest part having a pair of shortest distances x can be formed. At such a portion, the mutual inductance between the two conductors 10 and 36 increases, so that the conductors 10 and 3
If 6 current flows in opposite directions, both self-inductance L 1, from the sum of L 2 of the total minus the mutual inductance inductance L T, it can be as small as possible. As shown in FIG. 4D, the center axis z2 of the inner through-hole conductor 10 is shifted upward in the figure with respect to the center axis z1 of the outer through-hole conductor 36.
As a result, a portion closest to the left-right symmetric position can be formed between the inner and outer through-hole conductors 38 and 36, and the shortest distance x can be further reduced. Therefore, if the current conductors 38 and 36 flows in opposite directions, it is possible to reduce the inductance L T of the entire inner and outer through-hole conductors 38, 36.

【0029】図5(A)は、絶縁基板2に断面円形の外側
スルーホール5と、その内周面に沿った外側スルーホー
ル導体6とを、絶縁基板2の表・裏面3,4間に貫通し
た状態を示している。図5(A)に示すように、外側スル
ーホール導体6の内側には、絶縁材8を介して導体6の
中心軸と同心で断面長円形の内側スルーホール40と、
その内周面に沿った長軸Lと短軸Sとを有する断面長円
形の内側スルーホール導体42とを形成している。かか
る内側スルーホール導体42の内側には、充填樹脂11
が形成されている。このため、図5(A)で左右方向の内
側スルーホール導体42の長軸Lに沿って、内・外側ス
ルーホール導体42,6間に、左右一対の最短距離xを
有する最接近する部位を形成できる。尚、断面長円形の
内側スルーホール40は、前記COレーザYをトレパ
ニングすることで形成される。
FIG. 5A shows an insulating substrate 2 in which an outer through-hole 5 having a circular cross section and an outer through-hole conductor 6 along the inner peripheral surface thereof are provided between the front and back surfaces 3 and 4 of the insulating substrate 2. This shows a penetrated state. As shown in FIG. 5A, inside the outer through-hole conductor 6, an inner through-hole 40 having an oval cross-section and concentric with the center axis of the conductor 6 via an insulating material 8.
An inner through-hole conductor 42 having an oblong cross section having a major axis L and a minor axis S along its inner peripheral surface is formed. The inside of the inside through-hole conductor 42 has a filling resin 11
Are formed. For this reason, in FIG. 5 (A), along the long axis L of the inner through-hole conductor 42 in the left-right direction, a pair of shortest distances x between the inner and outer through-hole conductors 42, 6 having the shortest distance x on the left and right sides. Can be formed. The inner through hole 40 having an oval cross section is formed by trepanning the CO 2 laser Y.

【0030】かかる位置において上記導体42,6間の
相互インダクタンスが大きくなるため、導体42,6に
電流が相互に逆方向に流れた場合、両者の自己インダク
タンスL,Lの合計値から上記相互インダクタンス
を差し引いた全体のインダクタンスLを可及的に小さ
くすることができる。図5(B)に示すように、外側スル
ーホール導体6の中心軸z1に対し、内側スルーホール
導体42の中心軸z2を、その長軸Lに沿って図示で右
寄りにずらすことにより、右方の内・外側スルーホール
導体42,6間に最接近する部位を形成でき、最短距離
xを更に小さくできる。これにより、導体42,6電流
が相互に逆方向に流れた場合、内・外側スルーホール導
体42,6全体のインダクタンスLを一層低減するこ
とができる。
At such a position, the mutual inductance between the conductors 42 and 6 becomes large. Therefore, when currents flow in the conductors 42 and 6 in opposite directions to each other, the above-mentioned values are obtained from the sum of the self inductances L 1 and L 2 of the two. it is possible to reduce the overall inductance L T by subtracting the mutual inductance as possible. As shown in FIG. 5B, the center axis z2 of the inner through-hole conductor 42 is shifted rightward in the drawing along the long axis L thereof with respect to the center axis z1 of the outer Can be formed between the inner and outer through-hole conductors 42, 6 so that the shortest distance x can be further reduced. Thus, if the conductor 42,6 current flows in opposite directions, the inductance L T of the entire inner and outer through-hole conductors 42,6 can be further reduced.

【0031】図5(C)は、絶縁基板2に断面長円形の外
側スルーホール44と、その内周面に沿って相似形で且
つ長軸Lと短軸Sとを有する断面長円形の外側スルーホ
ール導体46とを、絶縁基板2の表・裏面3,4間に貫
通して形成した状態を示す。尚、断面長円形の外側スル
ーホール44は、極細のドリルまたは前記レーザYのス
キャニングにより形成される。図5(C)に示すように、
外側スルーホール導体46の内側には、絶縁材8を介し
て、その中心軸と同心で断面円形の内側スルーホール9
aと、その内周面に沿った断面円形の内側スルーホール
導体38とが形成され、且つこの導体38の内側には、
充填樹脂11が形成されている。
FIG. 5 (C) shows an outer through-hole 44 having an oblong cross section in the insulating substrate 2 and an outer through hole 44 having a similar shape along the inner peripheral surface and having a long axis L and a short axis S. The through hole conductor 46 is shown penetrating between the front and back surfaces 3 and 4 of the insulating substrate 2. The outer through-hole 44 having an elliptical cross section is formed by an extremely fine drill or the laser Y scanning. As shown in FIG.
Inside the outer through-hole conductor 46, an insulating material 8 is interposed, and an inner through-hole 9 having a circular cross section concentric with the center axis thereof is provided.
a and an inner through-hole conductor 38 having a circular cross section along the inner peripheral surface thereof, and inside the conductor 38,
The filling resin 11 is formed.

【0032】このため、上記短軸Sに沿って、内・外側
スルーホール導体38,46間に、上下一対の最短距離
xを有する接近する部位を形成できる。かかる部位にて
導体38,46間の相互インダクタンスが大きくなる。
これにより、導体38,46に電流が相互に逆方向に流
れた場合、両者の自己インダクタンスL,Lの合計
値から上記相互インダクタンスを差し引いた全体のイン
ダクタンスLを可及的に小さくすることができる。図
5(D)に示すように、外側スルーホール導体46の中心
軸z1に対し、内側スルーホール導体38の中心軸z2
を、上記短軸Sに沿って図示で下寄りにずらすことによ
り、下方の内・外側スルーホール導体38,46間に最
接近する部位を形成でき、最短距離xを更に小さくでき
る。これにより、導体38,46に電流が相互に逆方向
に流れた場合、内・外側スルーホール導体38,46全
体のインダクタンスLを一層低減することができる。
For this reason, an approaching portion having a pair of upper and lower shortest distances x can be formed between the inner and outer through-hole conductors 38, 46 along the short axis S. At such a portion, the mutual inductance between the conductors 38 and 46 increases.
Thus, current conductors 38, 46 may flow in opposite directions to each other, to both the self-inductance L 1, from the sum of L 2 of the total minus the mutual inductance inductance L T as small as possible be able to. As shown in FIG. 5D, the center axis z2 of the inner through-hole conductor 38 is equal to the center axis z2 of the outer through-hole conductor 46.
Is shifted downward along the short axis S in the figure, a portion closest to the lower and inner through-hole conductors 38 and 46 can be formed, and the shortest distance x can be further reduced. Thus, if the current conductors 38, 46 are reversed to each other, the inductance L T of the entire inner and outer through-hole conductors 38, 46 can be further reduced.

【0033】本発明は以上において説明した各形態に限
定されるものではない。前記外側スルーホール導体を電
源用回路に接続し、内側スルーホール導体をグランド用
回路に接続しても良い。また、外側スルーホール導体を
グランド用回路に接続し、且つ内側スルーホール導体を
信号用回路の配線としても、両者中を流れる電流が相互
に逆向きの場合には、内・外側スルーホール導体の全体
におけるインダクタンスを低減することができる。更
に、前記内・外側スルーホール導体10,6等は、絶縁
基板2における所定の位置に、任意の数が前記各形態の
何れかにして形成される。また、絶縁基板2等の材質
は、前記BT樹脂の他、ガラス−エポキシ樹脂複合材
料、同様の耐熱性、機械強度、可撓性、加工容易性等を
有するガラス織布や、ガラス織布等のガラス繊維とエポ
キシ樹脂、ポリイミド樹脂、またはBT樹脂等の樹脂と
の複合材料であるガラス繊維−樹脂材料を用いても良
い。或いは、ポリイミド繊維等の有機繊維と樹脂との複
合材料や、連続気孔を有するPTFE等3次元網目構造
のフッ素系樹脂にエポキシ樹脂等の樹脂を含浸させた樹
脂−樹脂複合材料等を用いることも可能である。
The present invention is not limited to the embodiments described above. The outer through-hole conductor may be connected to a power supply circuit, and the inner through-hole conductor may be connected to a ground circuit. Also, when the outer through-hole conductor is connected to the ground circuit and the inner through-hole conductor is used as the signal circuit wiring, if the currents flowing in both directions are opposite to each other, the inner and outer through-hole conductors The overall inductance can be reduced. Further, an arbitrary number of the inner / outer through-hole conductors 10, 6 and the like are formed at predetermined positions on the insulating substrate 2 in any of the above-described embodiments. The material of the insulating substrate 2 and the like is, in addition to the BT resin, a glass-epoxy resin composite material, a glass woven fabric having the same heat resistance, mechanical strength, flexibility, workability, and the like, a glass woven fabric, and the like. A glass fiber-resin material which is a composite material of the above glass fiber and a resin such as an epoxy resin, a polyimide resin, or a BT resin may be used. Alternatively, a composite material of an organic fiber and a resin such as a polyimide fiber or a resin-resin composite material in which a resin such as an epoxy resin is impregnated with a fluorine resin having a three-dimensional network structure such as PTFE having continuous pores may be used. It is possible.

【0034】更に、前記内・外側スルーホール導体1
0,6等や配線層12,14等の材質は、前記Cuの
他、Niや、Ni−Au等にしても良く、或いは、かか
る金属のメッキ膜を用いず、導電性樹脂を塗布する等の
方法により形成しても良い。また、前記ビア導体18等
は、ビアホール13に倣った円錐形状の形態に限らず、
ビアホール13内を埋め尽くす形態のフィルドビアとし
ても良い。更に、絶縁層16,17等の材質は、前記エ
ポキシ樹脂を主成分とするものの他、同様の耐熱性、パ
ターン成形性等を有するポリイミド樹脂、BT樹脂、P
PE樹脂、或いは、連続気孔を有するPTFE等3次元
網目構造のフッ素系樹脂にエポキシ樹脂等の樹脂を含浸
させた樹脂−樹脂複合材料等を用いることもできる。且
つ絶縁層の形成には、液状樹脂をロールコータにより塗
布する方法の他、絶縁性のフィルムを熱圧着する方法を
用いることもできる。
Further, the inner and outer through-hole conductors 1
The material such as 0, 6 or the wiring layers 12, 14 may be Ni, Ni-Au, or the like in addition to Cu, or a conductive resin may be applied without using such a metal plating film. May be formed by the above method. Further, the via conductor 18 and the like are not limited to a conical shape following the via hole 13,
A filled via that fills the via hole 13 may be used. Further, the material of the insulating layers 16 and 17 is not limited to the epoxy resin as a main component, but also polyimide resin, BT resin, P
A resin-resin composite material in which a resin such as an epoxy resin is impregnated with a fluorine resin having a three-dimensional network structure such as PE resin or PTFE having continuous pores can also be used. For the formation of the insulating layer, a method of thermocompression bonding of an insulating film can be used in addition to a method of applying a liquid resin by a roll coater.

【0035】[0035]

【発明の効果】以上において説明した本発明の配線基板
によれば、例えば内側スルーホール導体の長軸の延長線
上、または外側スルーホール導体の短軸の延長線上の位
置において、内・外側スルーホール導体が他の部位より
も確実に接近し、当該位置における相互インダクタンス
が大きくなる。このため、かかる相互インダクタンスを
両者の自己インダクタンスの合計値から差し引いた全体
のインダクタンスを可及的に低減することができる。従
って、同時スイッチングノイズや放射ノイズが低減する
等の電気的特性を向上させた配線基板とすることができ
る。また、請求項3の配線基板によれば、内・外側スル
ーホール導体間における最接近部分の距離を一層短くで
き、スルーホール内全体のインダクタンスを更に低減す
ることができる。更に、請求項4の配線基板によれば、
内・外側スルーホール導体間で最接近する位置の距離を
適正に設定できるので、上記両導体間の相互インダクタ
ンスを効果的に大きくし、且つ全体のインダクタンスを
最小に近付けられる。
According to the wiring board of the present invention described above, for example, the inner and outer through-holes are positioned on the extension of the major axis of the inner through-hole conductor or on the extension of the minor axis of the outer through-hole conductor. The conductor is more reliably approached than other parts, and the mutual inductance at the position is increased. Therefore, the total inductance obtained by subtracting the mutual inductance from the total value of the self-inductances of the two can be reduced as much as possible. Therefore, a wiring board with improved electrical characteristics such as reduced simultaneous switching noise and radiation noise can be obtained. According to the wiring board of the third aspect, the distance of the closest part between the inner and outer through-hole conductors can be further reduced, and the inductance of the entire through-hole can be further reduced. Furthermore, according to the wiring board of claim 4,
Since the closest distance between the inner and outer through-hole conductors can be appropriately set, the mutual inductance between the two conductors can be effectively increased, and the overall inductance can be minimized.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】(A)は本発明の配線基板の要部を示す断面図、
(B)は(A)中のB−B線に沿った断面図、(C)は(B)の
変形形態を示す断面図。
FIG. 1A is a sectional view showing a main part of a wiring board of the present invention,
(B) is a sectional view taken along line BB in (A), and (C) is a sectional view showing a modification of (B).

【図2】(A)〜(D)は図1(A)の配線基板を得るための
各製造工程を示す断面図。
2 (A) to 2 (D) are cross-sectional views showing respective manufacturing steps for obtaining the wiring board of FIG. 1 (A).

【図3】(A)は図2(D)中のA−A線に沿った断面図、
(B),(C)はその後の各製造工程を示す断面図。
FIG. 3A is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 2D.
(B), (C) is sectional drawing which shows each subsequent manufacturing process.

【図4】(A)は異なる形態の外側スルーホール導体を含
む図1(B)と同様な位置における断面図、(B)は(A)の
変形形態を示す断面図、(C)は異なる形態の内・外側ス
ルーホール導体を含む同様な断面図、(D)は(C)の変形
形態を示す断面図。
4A is a cross-sectional view at a position similar to FIG. 1B including an outer through-hole conductor having a different form, FIG. 4B is a cross-sectional view showing a modified form of FIG. 1A, and FIG. FIG. 9D is a similar cross-sectional view including inner and outer through-hole conductors of the embodiment, and FIG.

【図5】(A)は更に異なる形態の内側スルーホール導体
を含む図1(B)と同様な位置における断面図、(B)は
(A)の変形形態を示す断面図、(C)は更に異なる形態の
外側スルーホール導体を含む同様な断面図、(D)は(C)
の変形形態を示す断面図。
FIG. 5A is a cross-sectional view at a position similar to FIG. 1B including an inner through-hole conductor having a further different form, and FIG.
(A) is a cross-sectional view showing a modified embodiment, (C) is a similar cross-sectional view including a different form of an outer through-hole conductor, (D) is (C)
Sectional drawing which shows the modification of FIG.

【図6】(A)は従来の配線基板の要部を示す断面図、
(B)は(A)中のB−B線に沿った断面図。
FIG. 6A is a cross-sectional view illustrating a main part of a conventional wiring board.
(B) is a sectional view taken along line BB in (A).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…………………配線基板 2…………………絶縁基板 3…………………表面 4…………………裏面 5,5a,44……外側スルーホール 6,36,46……外側スルーホール導体 8…………………絶縁材 9,9a,40……内側スルーホール 10,38,42…内側スルーホール導体 L…………………長軸 S…………………短軸 z1,z2………中心軸 x…………………最短距離 1 Wiring substrate 2 Insulating substrate 3 Front surface 4 Back surface 5, 5a, 44 Outside through hole 6, 36, 46 ... outside through-hole conductor 8 ... insulation material 9, 9a, 40 ... inside through-hole 10, 38, 42 ... inside through-hole conductor L ... long-axis S ... short axis z1, z2 ... central axis x ... shortest distance

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松島 理浩 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 日 本特殊陶業株式会社内 Fターム(参考) 5E317 AA24 AA25 BB01 BB11 CC31 CD21 CD23 CD25 CD27 CD32 GG11 5E346 AA02 AA06 AA41 BB01 BB16 CC09 CC31 CC40 DD01 DD22 EE31 FF15 GG15 GG17 HH06 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Ritsuhiro Matsushima 14-18 Takatsuji-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi F-term in Japan Special Ceramics Co., Ltd. 5E317 AA24 AA25 BB01 BB11 CC31 CD21 CD23 CD25 CD27 CD32 GG11 5E346 AA02 AA06 AA41 BB01 BB16 CC09 CC31 CC40 DD01 DD22 EE31 FF15 GG15 GG17 HH06

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】表面および裏面を有する絶縁基板と、 上記絶縁基板における表面と裏面との間を貫通する外側
スルーホール導体と、 上記外側スルーホール導体の内側に絶縁材を介して形成
される内側スルーホール導体と、を備え、 上記外側スルーホール導体および内側スルーホール導体
の少なくとも一方の断面形状が、長軸と短軸とを有する
形状である、ことを特徴とする配線基板。
1. An insulating substrate having a front surface and a back surface, an outer through-hole conductor penetrating between the front surface and the back surface of the insulating substrate, and an inner surface formed inside the outer through-hole conductor through an insulating material. And a through hole conductor, wherein a cross-sectional shape of at least one of the outer through hole conductor and the inner through hole conductor is a shape having a major axis and a minor axis.
【請求項2】前記外側スルーホール導体および内側スル
ーホール導体の少なくとも一方の断面形状が、楕円形、
長円形、または長方形の何れかである、 ことを特徴とする請求項1に記載の配線基板。
2. A sectional shape of at least one of said outer through-hole conductor and said inner through-hole conductor is elliptical.
The wiring board according to claim 1, wherein the wiring board is one of an oval and a rectangle.
【請求項3】前記外側スルーホール導体の中心軸と内側
スルーホール導体の中心軸とがずれている、 ことを特徴とする請求項1または2に記載の配線基板。
3. The wiring board according to claim 1, wherein a center axis of the outer through-hole conductor is shifted from a center axis of the inner through-hole conductor.
【請求項4】前記外側スルーホール導体と内側スルーホ
ール導体との間における最短距離が、10μmである、 ことを特徴とする請求項1乃至3の何れかに記載の配線
基板。
4. The wiring board according to claim 1, wherein a shortest distance between the outer through-hole conductor and the inner through-hole conductor is 10 μm.
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