JP2001339143A - Wiring board - Google Patents

Wiring board

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JP2001339143A
JP2001339143A JP2000158699A JP2000158699A JP2001339143A JP 2001339143 A JP2001339143 A JP 2001339143A JP 2000158699 A JP2000158699 A JP 2000158699A JP 2000158699 A JP2000158699 A JP 2000158699A JP 2001339143 A JP2001339143 A JP 2001339143A
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JP
Japan
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protective layer
wiring
wiring conductors
conductors
poly
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Application number
JP2000158699A
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Japanese (ja)
Inventor
Tetsuya Kakita
哲也 硴田
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a highly reliabile wiring board which can effectively prevent the migration of metals that form an interconnection conductor. SOLUTION: The wiring board is a substrate 1, the upper face of which is formed with a plurality of interconnection conductors 2 which contain silver, aluminum, or an alloy of these metals, and are arranged parallelly at an interval of 10 to 100 μm. The interconnection conductor 2 is covered by one and the same protective layer 3 which is chiefly made of epoxy resin. The protective layer 3 contains a poly 4-methly pentene resin filler 4 of the grain diameter 0.5 to 5.0 μm, by 12 to 30 wt.% for the regions between the adjacent wiring conductors 2, 2, and 6 to 18 wt.% for the regions above the wiring conductors 2.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、LEDアレイヘッ
ド等のヘッド基板を構成するのに使用される配線基板に
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a wiring board used for forming a head substrate such as an LED array head.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、LEDアレイヘッド等のヘッ
ド基板を構成するのに配線基板が用いられている。
2. Description of the Related Art Hitherto, a wiring substrate has been used to constitute a head substrate such as an LED array head.

【0003】かかる従来の配線基板は、例えば図2に示
す如く、ガラスやセラミック等から成る基板11の上面
に、複数個の配線導体12を所定パターンに被着させる
とともに、これら配線導体12を単一の保護層13で被
覆した構造を有している。
In such a conventional wiring board, as shown in FIG. 2, for example, a plurality of wiring conductors 12 are adhered in a predetermined pattern on an upper surface of a substrate 11 made of glass, ceramic or the like, and these wiring conductors 12 are simply formed. It has a structure covered with one protective layer 13.

【0004】前記配線導体12の材質としては銀(A
g)やアルミニウム(Al)等の金属を含む導電材料が
使用され、かかる配線導体12は例えば銀粉末に適当な
有機溶剤、溶媒を添加・混合して得た所定の導電ペース
トを従来周知のスクリーン印刷等によって基板11の上
面に所定パターンに印刷・塗布し、これを350℃〜8
00℃の温度で焼き付けることにより形成される。
The material of the wiring conductor 12 is silver (A).
g) or a conductive material containing a metal such as aluminum (Al) is used. Such a wiring conductor 12 is formed by adding a predetermined conductive paste obtained by adding and mixing a suitable organic solvent and a solvent to silver powder, for example. A predetermined pattern is printed and applied on the upper surface of the substrate 11 by printing or the like.
It is formed by baking at a temperature of 00 ° C.

【0005】またこれら配線導体12を被覆する保護層
13は、大気中に含まれている水分等の接触によって配
線導体12が酸化腐食されるのを防止するためのもので
あり、その材質としては、取り扱い易さや耐湿性等の点
からエポキシ樹脂が好適に使用されていた。
The protective layer 13 for covering the wiring conductors 12 is for preventing the wiring conductors 12 from being oxidized and corroded by contact with moisture or the like contained in the air. Epoxy resins have been suitably used from the viewpoints of ease of handling and moisture resistance.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の配線基板においては、保護層13を形成するエポキ
シ樹脂の比誘電率が4〜7と比較的高いことから、複数
個の配線導体12を間に10μm〜100μm程度の間
隔を空けて高密度に並設した場合、配線基板の使用にあ
たり複数個の配線導体12の各々に電力を選択的に印加
すると、隣接する配線導体12,12間に大きな電位差
を生じることがあり、その場合、配線導体12を形成す
る銀やアルミニウム等がマイグレーションを起こして、
隣り合う配線導体同士を電気的に短絡させる欠点を有し
ていた。
However, in this conventional wiring board, since the relative permittivity of the epoxy resin forming the protective layer 13 is relatively high at 4 to 7, the plurality of wiring conductors 12 are interposed. When a plurality of wiring conductors 12 are selectively applied to each of a plurality of wiring conductors 12 in use of a wiring board at a high density at intervals of about 10 μm to 100 μm, a large amount of power is applied between adjacent wiring conductors 12. A potential difference may occur, in which case, silver, aluminum, etc. forming the wiring conductor 12 cause migration,
There is a disadvantage that adjacent wiring conductors are electrically short-circuited.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は上記欠点に鑑み
案出されたもので、本発明の配線基板は、基板の上面
に、銀、アルミニウム或いはこれらの金属の合金を含む
複数個の配線導体を間に10μm〜100μmの間隔を
空けて並設するとともに、これら配線導体をエポキシ樹
脂を主成分とする保護層で共通に被覆してなる配線基板
において、前記保護層中に、粒径0.5μm〜5.0μ
mのポリ4-メチルペンテン樹脂フィラーを、隣接する配
線導体間の領域で12wt%〜30wt%、配線導体上
の領域で6wt%〜18wt%含有させることを特徴と
するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks, and a wiring board according to the present invention has a plurality of wirings containing silver, aluminum, or an alloy of these metals on the upper surface of the substrate. In a wiring board in which conductors are juxtaposed at intervals of 10 μm to 100 μm and these wiring conductors are commonly covered with a protective layer mainly composed of epoxy resin, the protective layer has a particle size of 0 μm. 0.5 μm to 5.0 μ
m, wherein the poly (4-methylpentene) resin filler is contained at 12 wt% to 30 wt% in a region between adjacent wiring conductors and 6 wt% to 18 wt% in a region on the wiring conductor.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】以下、本発明を添付図面に基づい
て詳細に説明する。図1は本発明の一形態に係る配線基
板を模式的に示す断面図であり、1は基板、2は配線導
体、3は保護層、4はポリ4-メチルペンテン樹脂フィラ
ーである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a wiring board according to one embodiment of the present invention, wherein 1 is a substrate, 2 is a wiring conductor, 3 is a protective layer, and 4 is a poly-4-methylpentene resin filler.

【0009】前記基板1は、アルミナセラミックス、ム
ライト、窒化アルミニウム、ガラスセラミックス、石
英、アルカリガラス、無アルカリガラス等の電気絶縁性
材料から成り、その上面で複数個の配線導体2や保護層
3等を支持するための支持母材として機能するものであ
る。
The substrate 1 is made of an electrically insulating material such as alumina ceramics, mullite, aluminum nitride, glass ceramics, quartz, alkali glass, alkali-free glass, etc., and has a plurality of wiring conductors 2 and a protective layer 3 on its upper surface. It functions as a supporting base material for supporting.

【0010】尚、前記基板1は、例えばアルミナセラミ
ックスから成る場合、アルミナ、シリカ、マグネシア等
のセラミックス原料粉末に適当な有機溶剤、溶媒を添加
・混合して泥漿状になすとともに、これを従来周知のド
クターブレード法やカレンダーロール法等を採用するこ
とによってセラミックグリーンシート(セラミック生シ
ート)を得、しかる後、該グリーンシートを所定形状に
打ち抜いた上、高温(約1600℃)で焼成することに
より製作される。
When the substrate 1 is made of, for example, alumina ceramics, an appropriate organic solvent and a solvent are added to and mixed with a ceramic raw material powder of alumina, silica, magnesia or the like to form a slurry. A ceramic green sheet (ceramic green sheet) is obtained by employing a doctor blade method, a calendar roll method, or the like, and thereafter, the green sheet is punched into a predetermined shape and fired at a high temperature (about 1600 ° C.). Be produced.

【0011】また前記基板1の上面には複数個の配線導
体2が被着・形成される。前記配線導体2は、銀(A
g)、アルミニウム(Al)或いはこれらの金属の合金
を例えば85wt%以上含んだ導電材料から成り、隣接
する配線導体間に10μm〜100μmの間隔を空ける
ようにして基板1の上面に高密度に並設される。
A plurality of wiring conductors 2 are attached and formed on the upper surface of the substrate 1. The wiring conductor 2 is made of silver (A
g), a conductive material containing, for example, 85 wt% or more of aluminum (Al) or an alloy of these metals, and is arranged at a high density on the upper surface of the substrate 1 with a space of 10 μm to 100 μm between adjacent wiring conductors. Is established.

【0012】これらの配線導体2には、配線基板の使用
時、図示しないスイッチングトランジスタ等によって5
mW〜15mWの電力が個々に選択的に印加されるよう
になっている。
When a wiring board is used, these wiring conductors 2 are connected to the wiring conductors 2 by a switching transistor (not shown) or the like.
The power of mW to 15 mW is selectively applied individually.

【0013】尚、前記配線導体2は、従来周知の厚膜手
法を採用することによって基板1の上面に所定パターン
に被着・形成される。即ち、前記配線導体2は、例えば
銀粉末に適当な有機溶媒・溶剤を添加・混合して得た所
定の導電ペーストを基板1の上面に従来周知のスクリー
ン印刷等によって所定パターンに印刷・塗布し、これを
高温(350℃〜800℃)で焼き付けることによって
例えば2μm〜30μmの厚みに形成される。
The wiring conductor 2 is attached and formed in a predetermined pattern on the upper surface of the substrate 1 by employing a conventionally known thick film method. That is, the wiring conductor 2 is formed by printing and applying a predetermined conductive paste obtained by adding and mixing an appropriate organic solvent and a solvent to, for example, silver powder on the upper surface of the substrate 1 by a conventionally known screen printing or the like. This is baked at a high temperature (350 ° C. to 800 ° C.) to form a thickness of, for example, 2 μm to 30 μm.

【0014】更に前記複数個の配線導体2は単一の保護
層3によって共通に被覆される。前記保護層3は、吸湿
率0.01%未満のエポキシ樹脂から成り、その厚み
は、例えば配線導体2の厚みが2μm〜30μmの場
合、10μm〜50μmに設定される。
Further, the plurality of wiring conductors 2 are commonly covered by a single protective layer 3. The protective layer 3 is made of an epoxy resin having a moisture absorption of less than 0.01%, and its thickness is set to 10 μm to 50 μm, for example, when the thickness of the wiring conductor 2 is 2 μm to 30 μm.

【0015】そして前記保護層3中には、粒径0.5μ
m〜5.0μmのポリ4-メチルペンテン樹脂フィラー4
が、隣接する配線導体間2−2の領域で12wt%〜3
0wt%、配線導体2上の領域で6wt%〜18wt%
含有されている。
The protective layer 3 has a particle size of 0.5 μm.
m-5.0 μm poly 4-methylpentene resin filler 4
Is 12 wt% to 3% in the area of 2-2 between adjacent wiring conductors.
0 wt%, 6 wt% to 18 wt% in the region on the wiring conductor 2
It is contained.

【0016】前記ポリ4-メチルペンテン樹脂フィラー4
は保護層3の誘電率を有効に低下させるためのものであ
り、該フィラー4の含有率を隣接する配線導体間2−2
の領域で12wt%〜30wt%に設定することによ
り、該領域における保護層3の比誘電率を2.5〜3.
8と低くなすことができる。これにより、10μm〜1
00μmの間隔を空けて並設されている配線導体2,2
の各々に電力を選択的に印加しても、隣接する配線導体
2,2間に大きな電位差が生じることはなく、配線導体
2中に含まれる銀やアルミニウム等のマイグレーション
を有効に防止することができるようになる。
The above poly 4-methylpentene resin filler 4
Is for effectively lowering the dielectric constant of the protective layer 3, and the content of the filler 4 is reduced between adjacent wiring conductors 2-2.
Is set to 12 wt% to 30 wt% in the region, the relative dielectric constant of the protective layer 3 in the region is set to 2.5 to 3 wt%.
It can be as low as 8. Thereby, 10 μm to 1 μm
Wiring conductors 2, 2 juxtaposed at an interval of 00 μm
Even when electric power is selectively applied to each of the wiring conductors 2, a large potential difference does not occur between the adjacent wiring conductors 2 and 2, and migration of silver, aluminum, and the like contained in the wiring conductor 2 can be effectively prevented. become able to.

【0017】尚、隣接する配線導体間2−2の領域にお
けるポリ4-メチルペンテン樹脂フィラー4の含有率が1
2wt%未満になると、保護層3の誘電率が比較的高く
なって隣接する配線導体間2−2の電位差を十分に小さ
く抑えることができなくなり、また含有率が30wt%
を超えると、配線導体間2−2に位置する保護層3の表
面にフィラー4の外形に応じた大きな凹凸が形成される
ため、この部分の保護層3の表面粗度が大となって大気
と接する面積が広がることにより大気中の水分が保護層
3中に多量に浸入してマイグレーションを起こし易い環
境をつくる恐れがある。
The content of the poly-4-methylpentene resin filler 4 in the region 2-2 between adjacent wiring conductors is 1
If the content is less than 2 wt%, the dielectric constant of the protective layer 3 becomes relatively high, so that the potential difference between the adjacent wiring conductors 2-2 cannot be sufficiently suppressed, and the content is 30 wt%.
Is greater than the maximum value, large irregularities corresponding to the outer shape of the filler 4 are formed on the surface of the protective layer 3 located between the wiring conductors 2-2. When the area in contact with the protective layer 3 is increased, a large amount of moisture in the air may enter the protective layer 3 to create an environment where migration is likely to occur.

【0018】従って、隣接する配線導体間2−2の領域
におけるポリ4-メチルペンテン樹脂フィラー4の含有率
は12wt%〜30wt%に設定することが重要であ
る。
Therefore, it is important that the content of the poly (4-methylpentene) resin filler 4 in the region between adjacent wiring conductors 2-2 is set to 12 wt% to 30 wt%.

【0019】一方、配線導体2上の領域におけるポリ4-
メチルペンテン樹脂フィラー4の含有率が6wt%未満
になると、配線導体間2−2の領域と配線導体2上の領
域とで保護層3の熱膨張係数が大きく相違することとな
るため、配線基板の使用等に伴って保護層3に熱が印加
されると前述した2つの領域の境界付近で熱応力に起因
したクラックを生じる恐れがあり、また含有率が18w
t%を超えると、配線導体2上に位置する保護層3の表
面にフィラー4の外形に応じた大きな凹凸が形成される
ため、この部分の保護層3の表面粗度が大となって大気
と接する面積が広がることにより大気中の水分が保護層
3中に多量に浸入し、該浸入した水分との接触によって
配線導体2が比較的短時間で酸化腐食されてしまう恐れ
がある。
On the other hand, the poly 4-
If the content of the methylpentene resin filler 4 is less than 6 wt%, the thermal expansion coefficient of the protective layer 3 is largely different between the region between the wiring conductors 2-2 and the region on the wiring conductor 2, and thus the wiring substrate When heat is applied to the protective layer 3 in accordance with the use of, for example, cracks due to thermal stress may occur near the boundary between the two regions described above, and the content is 18 watts.
If it exceeds t%, large irregularities corresponding to the outer shape of the filler 4 are formed on the surface of the protective layer 3 located on the wiring conductor 2, so that the surface roughness of the protective layer 3 in this portion becomes large, and When the area in contact with the moisture increases, a large amount of moisture in the air infiltrates into the protective layer 3, and the wiring conductor 2 may be oxidized and corroded in a relatively short time due to contact with the infiltrated moisture.

【0020】従って、配線導体2上の領域におけるポリ
4-メチルペンテン樹脂フィラー4の含有率は6wt%〜
18wt%に設定することが重要である。
Therefore, the poly in the region on the wiring conductor 2
The content of 4-methylpentene resin filler 4 is from 6 wt%
It is important to set it to 18 wt%.

【0021】尚、前記保護層3は、例えば、液状になし
たエポキシ樹脂の前駆体中に粒径0.5μm〜1.5μ
mのポリ4-メチルペンテン樹脂フィラー4を12wt%
〜30wt%添加した第1のワニスと、前記前駆体中に
粒径0.5μm〜1.5μmのポリ4-メチルペンテン樹
脂フィラー4を6wt%〜18wt%添加した第2のワ
ニスとを準備し、前記第1のワニスを隣接する配線導体
間2−2の領域に、また前記第2のワニスを配線導体2
上の領域に従来周知のスクリーン印刷等によってそれぞ
れ印刷・塗布し、これを60℃〜200℃の温度で加熱
して前駆体を熱硬化させることにより形成される。この
場合、エポキシ樹脂の前駆体中に含有させておくポリ4-
メチルペンテン樹脂フィラー4の含有率を12wt%〜
18wtの範囲内に設定しておけば、これを第1のワニ
ス、第2のワニスのいずれのワニスとしても使用可能と
なるため、一度の印刷工程にて隣接する配線導体間2−
2の領域、配線導体上の領域の双方の領域にワニスを塗
布することができ、これによって配線基板の生産性を向
上される利点がある。従って、エポキシ樹脂の前駆体中
に含有させておくポリ4-メチルペンテン樹脂フィラー4
の含有率は12wt%〜18wtの範囲内に設定してお
くことが好ましい。
The protective layer 3 has a particle size of, for example, 0.5 μm to 1.5 μm in a liquid epoxy resin precursor.
12 wt% of poly 4-methylpentene resin filler 4
A first varnish to which 〜30 wt% is added, and a second varnish to which 6 wt% to 18 wt% of a poly-4-methylpentene resin filler 4 having a particle size of 0.5 μm to 1.5 μm are added in the precursor are prepared. , The first varnish is placed in the area between adjacent wiring conductors 2-2, and the second varnish is placed in the wiring conductor 2
The upper region is formed by printing and applying each by conventionally known screen printing or the like, and heating and heating the precursor at a temperature of 60 ° C. to 200 ° C. to thermally cure the precursor. In this case, the poly 4- to be contained in the precursor of the epoxy resin
The content of the methylpentene resin filler 4 is 12 wt% or more.
If it is set within the range of 18 wt, it can be used as any one of the first varnish and the second varnish.
The varnish can be applied to both the region 2 and the region on the wiring conductor, which has the advantage of improving the productivity of the wiring board. Therefore, poly 4-methylpentene resin filler 4 contained in the precursor of epoxy resin
Is preferably set in the range of 12 wt% to 18 wt%.

【0022】また前記ワニス中に添加されるポリ4-メチ
ルペンテン樹脂フィラー4は、まず下記化1に示す如
く、ポリ4-メチルペンテン樹脂のモノマーを所定の温度
で重合させることによってポリ4-メチルペンテン樹脂の
塊を形成し、しかる後、これを所定の粒径(0.5μm
〜1.5μm)に粉砕することによって得られる。
The poly-4-methylpentene resin filler 4 added to the varnish is first prepared by polymerizing a monomer of the poly4-methylpentene resin at a predetermined temperature as shown in the following formula 1. A lump of pentene resin is formed, and then a lump having a predetermined particle size (0.5 μm
1.51.5 μm).

【0023】[0023]

【化1】 Embedded image

【0024】尚、本発明は上述の形態に限定されるもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において種々
の変更、改良等が可能である。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various changes and improvements can be made without departing from the spirit of the present invention.

【0025】例えば上述の形態において保護層3上に更
に配線導体や保護層を積層して多層配線基板を構成する
場合にも本発明は適用可能である。
For example, the present invention can be applied to a case where a wiring conductor or a protective layer is further laminated on the protective layer 3 in the above-described embodiment to form a multilayer wiring board.

【0026】[0026]

【実験例】次に本発明の作用効果について実験例に基づ
き説明する。まず、アルミナセラミックス製の基板上
に、銀を85wt%含有する複数個の配線導体を間に5
0μmの間隔を空けて並設させるとともに、これら配線
導体2を、隣接する配線導体間の領域におけるポリ4-メ
チルペンテン樹脂フィラーの含有率を異ならせた8種類
のエポキシ樹脂製保護層で被覆した8種類の配線基板サ
ンプル(サンプルNo.1〜No.8)を準備した。
尚、各配線基板サンプルの保護層中に存在するポリ4-メ
チルペンテン樹脂フィラーの直径は全て0.5μm〜
5.0μmの範囲内にあることを測長器付金属顕微鏡に
より確認した。
[Experimental Example] Next, the operation and effect of the present invention will be described based on an experimental example. First, a plurality of wiring conductors containing 85% by weight of silver were placed on a substrate made of alumina ceramics.
The wiring conductors 2 were juxtaposed at an interval of 0 μm, and these wiring conductors 2 were covered with eight kinds of epoxy resin protective layers having different contents of the poly4-methylpentene resin filler in the region between the adjacent wiring conductors. Eight types of wiring board samples (sample Nos. 1 to 8) were prepared.
The diameter of the poly-4-methylpentene resin filler present in the protective layer of each wiring board sample was 0.5 μm or more.
It was confirmed by a metal microscope equipped with a length measuring device that it was within the range of 5.0 μm.

【0027】そして、これらの各サンプルを85℃、8
5%Rhの恒温恒湿槽の中に入れ、隣接する配線導体の
うち一方を5Vの電位に、他方を接地(GND)電位に
それぞれ接続したまま500時間保持し、マイグレーシ
ョンの発生の有無を確認した。また各サンプルについ
て、隣接する配線導体間のインピーダンスをオシロスコ
ープを用いて測定した。これらの結果を表1に示す。
Then, each of these samples was heated at 85 ° C. for 8 hours.
It is placed in a constant temperature and humidity chamber of 5% Rh, and one of the adjacent wiring conductors is maintained at a potential of 5 V and the other is connected to a ground (GND) potential for 500 hours to check whether or not migration has occurred. did. Further, for each sample, the impedance between adjacent wiring conductors was measured using an oscilloscope. Table 1 shows the results.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】この表1によれば、保護層中のポリ4-メチ
ルペンテン樹脂フィラーの含有率が12wt%未満であ
るサンプルNo.1,No.2では隣接する配線導体間
でのマイグレーションの発生が確認され、いずれの配線
基板サンプルにおいても配線導体間のインピーダンスが
2.3×102Ω以下と小さく、電気的に短絡してしま
っている。
According to Table 1, Sample No. 1 in which the content of the poly-4-methylpentene resin filler in the protective layer is less than 12 wt%. 1, No. In No. 2, the occurrence of migration between the adjacent wiring conductors was confirmed, and the impedance between the wiring conductors was as small as 2.3 × 10 2 Ω or less in any of the wiring board samples, resulting in an electrical short circuit.

【0030】また一方、保護層中のポリ4-メチルペンテ
ン樹脂フィラーの含有率が30wt%よりも大きな値に
設定されているサンプルNo.7,No.8でも隣接す
る配線導体間でのマイグレーションの発生が確認され、
これらの配線基板サンプルにおいても配線導体間のイン
ピーダンスが3.8×105Ω以下と小さく、電気的に
短絡してしまっている。
On the other hand, in Sample No. 1 in which the content of the poly-4-methylpentene resin filler in the protective layer was set to a value larger than 30 wt%. 7, No. 8, migration between adjacent wiring conductors was confirmed.
Also in these wiring board samples, the impedance between the wiring conductors is as small as 3.8 × 10 5 Ω or less, and they are electrically short-circuited.

【0031】これに対し、保護層中のポリ4-メチルペン
テン樹脂フィラー含有率が12wt%〜30wt%に設
定されているサンプルNo.3〜No.6では、隣接す
る配線導体間でマイグレーションを発生したものは一切
なく、またこれらの配線基板サンプルのインピーダンス
はいずれも2.6×106Ω〜9.25.3×109Ωの
範囲内の比較的大きな値であり、隣接する配線導体間の
電気的短絡は起こっていない。
On the other hand, in Sample No. 1 in which the content of the poly-4-methylpentene resin filler in the protective layer was set to 12 wt% to 30 wt%. 3-No. In No. 6 , no migration occurred between adjacent wiring conductors, and the impedance of each of these wiring board samples was in the range of 2.6 × 10 6 Ω to 9.25.3 × 10 9 Ω. This is a relatively large value, and no electrical short circuit occurs between adjacent wiring conductors.

【0032】従って、これらの実験結果によれば、50
μmの間隔を空けて並設される配線導体間にマイグレー
ションを発生させることなく、そのインピーダンスを高
く保つためには、保護層中に存在するポリ4-メチルペン
テン樹脂フィラーの含有率を12wt%〜30wt%に
設定しなければならないことが判る。
Therefore, according to the results of these experiments, 50
In order to keep the impedance high without causing migration between the wiring conductors arranged in parallel at intervals of μm, the content of the poly-4-methylpentene resin filler present in the protective layer must be 12 wt% or less. It turns out that it must be set to 30 wt%.

【0033】尚、以上の実験においては、隣接する配線
導体間の間隔を50μmに設定したサンプルを用いて作
用効果を確認したが、隣接する配線導体間の間隔を10
μmに設定したサンプルを用いる場合と、100μmに
設定したサンプルを用いる場合においても、上述の実験
と略同様の結果が得られることを他の実験により確認し
た。
In the above experiment, the effect was confirmed using a sample in which the distance between adjacent wiring conductors was set to 50 μm.
It was confirmed by other experiments that the same result as the above-mentioned experiment was obtained when the sample set to μm and the sample set to 100 μm were used.

【0034】次に、アルミナセラミックス製の基板上
に、銀を85wt%含有する複数個の配線導体2を間に
50μmの間隔を空けて並設させるとともに、各配線導
体2上の領域におけるポリ4-メチルペンテン樹脂フィラ
ーの含有率を異ならせた8種類のエポキシ樹脂製保護層
で被覆した8種類の配線基板サンプル(サンプルNo.
9〜No.16)を準備した。尚、各配線基板サンプル
の保護層中に存在するポリ4-メチルペンテン樹脂フィラ
ーの直径は全て0.5μm〜5.0μmの範囲内にある
ことを測長器付金属顕微鏡により確認した。
Next, a plurality of wiring conductors 2 containing 85% by weight of silver are arranged side by side at intervals of 50 μm on a substrate made of alumina ceramics, and poly 4 in the region on each wiring conductor 2 is formed. -Eight types of wiring board samples covered with eight types of epoxy resin protective layers with different contents of -methylpentene resin filler (Sample No.
9-No. 16) was prepared. In addition, it was confirmed with a metal microscope equipped with a length measuring device that the diameters of the poly-4-methylpentene resin fillers present in the protective layer of each wiring board sample were all within the range of 0.5 μm to 5.0 μm.

【0035】そして、これらのサンプルを熱衝撃試験器
に投入して、(25℃)−(85℃)−(25℃)−
(−25℃)の温度サイクルを100サイクル経た後、
保護層中のクラックの発生状況を金属顕微鏡により確認
した。
Then, these samples were put into a thermal shock tester, and (25 ° C.) − (85 ° C.) − (25 ° C.) −
After 100 cycles of (−25 ° C.) temperature cycle,
The occurrence of cracks in the protective layer was confirmed with a metallographic microscope.

【0036】更にその後、上記サンプルを85℃、85
%Rhの恒温恒湿槽の中に入れたまま500時間保持
し、しかる後、各サンプルの配線導体の抵抗率をデジタ
ルマルチメーターにて測定した。これらの結果を表2に
示す。
Thereafter, the above sample was heated at 85 ° C. and 85 ° C.
The sample was kept in a constant temperature / humidity bath of 500% Rh for 500 hours, and thereafter, the resistivity of the wiring conductor of each sample was measured by a digital multimeter. Table 2 shows the results.

【0037】[0037]

【表2】 [Table 2]

【0038】この表2によれば、保護層中のポリ4-メチ
ルペンテン樹脂フィラーの含有率が6wt%未満である
サンプルNo.9,No.10では、クラックの発生が
確認され、いずれの抵抗率も2.1×10-3Ω・cm以
上の大きな値であった。このように抵抗率が大きくなっ
たのは、恒温恒湿槽内の水分がクラックを介して配線導
体に接触し、配線導体を短時間で著しく酸化腐食させた
ことが主な原因と考えられる。
According to Table 2, the content of the poly-4-methylpentene resin filler in the protective layer was less than 6 wt%. 9, No. In No. 10, the occurrence of cracks was confirmed, and each resistivity was a large value of 2.1 × 10 −3 Ω · cm or more. It is considered that the increase in the resistivity is mainly caused by the fact that the moisture in the thermo-hygrostat contacts the wiring conductor through the cracks and causes the wiring conductor to be significantly oxidized and corroded in a short time.

【0039】また一方、保護層中のポリ4-メチルペンテ
ン樹脂フィラーの含有率が18wt%よりも大きな値に
設定されているサンプルNo.15,No.16では、
クラックの発生は確認されなかったものの、いずれの抵
抗率も4.8×10-4Ω・cm以上の大きな値であっ
た。このように抵抗率が大きくなったのは、多量のポリ
4-メチルペンテン樹脂フィラーが含有されて大きな凹凸
が多数形成されている保護層の表面から恒温恒湿槽内の
水分が多量に浸入し、これが配線導体と接触して配線導
体を短時間で酸化腐食させたことが主な原因と考えられ
る。
On the other hand, in Sample No. 1 in which the content of the poly-4-methylpentene resin filler in the protective layer was set to a value larger than 18 wt%. 15, No. In 16,
Although no generation of cracks was confirmed, each resistivity was a large value of 4.8 × 10 −4 Ω · cm or more. This increase in resistivity is due to the large amount of poly.
A large amount of moisture in the thermo-hygrostat penetrates from the surface of the protective layer, which contains a 4-methylpentene resin filler and has many large irregularities, which contacts the wiring conductor and oxidizes the wiring conductor in a short time. The main cause is considered to be corrosion.

【0040】これに対し、保護層中のポリ4-メチルペン
テン樹脂フィラー含有率が6wt%〜18wt%に設定
されているサンプルNo.11〜No.14では、保護
層中にクラックが確認されたものは一切なく、またこれ
らの配線基板サンプルの抵抗率はいずれも3.7×10
-6Ω・cm〜6.3×10-6Ω・cmの比較的小さな値
であった。
On the other hand, in Sample No. 3 in which the content of the poly-4-methylpentene resin filler in the protective layer was set to 6 wt% to 18 wt%. 11-No. In No. 14, no crack was found in the protective layer, and the resistivity of each of these wiring board samples was 3.7 × 10
-6 Ω · cm to 6.3 × 10 -6 Ω · cm was a relatively small value.

【0041】従って、これらの実験結果によれば、配線
導体の酸化腐食、並びに保護層のクラック発生を有効に
防止するには、保護層中に存在するポリ4-メチルペンテ
ン樹脂フィラーの含有率を6wt%〜18wt%に設定
しなければならないことが判る。
Therefore, according to these experimental results, in order to effectively prevent the oxidative corrosion of the wiring conductor and the occurrence of cracks in the protective layer, the content of the poly-4-methylpentene resin filler present in the protective layer must be reduced. It turns out that it is necessary to set to 6 wt%-18 wt%.

【0042】尚、以上の実験においては、隣接する配線
導体間の間隔を50μmに設定したサンプルを用いて作
用効果を確認したが、隣接する配線導体間の間隔を10
μmに設定したサンプルを用いる場合と、100μmに
設定したサンプルを用いる場合においても、上述の実験
と略同様の結果が得られることを他の実験により確認し
た。
In the above experiment, the effect was confirmed using a sample in which the distance between adjacent wiring conductors was set to 50 μm.
It was confirmed by other experiments that the same result as the above-mentioned experiment was obtained when the sample set to μm and the sample set to 100 μm were used.

【0043】[0043]

【発明の効果】本発明によれば、基板の上面に、銀、ア
ルミニウム或いはこれらの金属の合金を含む複数個の配
線導体を間に10μm〜100μmの間隔を空けて並設
し、これら配線導体を樹脂製の保護層で共通に被覆した
配線基板において、前記保護層中に、粒径0.5μm〜
5.0μmのポリ4-メチルペンテン樹脂フィラーを、隣
接する配線導体間の領域で12wt%〜30wt%含有
させておくことにより、この領域における保護層の誘電
率を有効に低下させるとともに、配線導体間に位置する
保護層への水分の浸入を少なくして、配線導体を形成す
る銀やアルミニウム等のマイグレーションを有効に防止
することができる。
According to the present invention, a plurality of wiring conductors containing silver, aluminum, or an alloy of these metals are juxtaposed on the upper surface of a substrate with an interval of 10 μm to 100 μm therebetween. Is commonly coated with a protective layer made of resin, the protective layer has a particle size of 0.5 μm
By containing a 5.0 μm poly 4-methylpentene resin filler in an area between adjacent wiring conductors of 12 wt% to 30 wt%, the dielectric constant of the protective layer in this area can be effectively reduced, and the wiring conductor can be reduced. It is possible to reduce the intrusion of moisture into the protective layer located therebetween, thereby effectively preventing the migration of silver, aluminum, or the like forming the wiring conductor.

【0044】また本発明によれば、前記保護層中に、粒
径0.5μm〜5.0μmのポリ4-メチルペンテン樹脂
フィラーを、配線導体上の領域で6wt%〜18wt%
含有させておくことにより、配線導体上に位置する保護
層への水分の浸入を少なくして配線導体を腐食の少ない
良好な状態に維持するとともに保護層内部の熱応力を良
好に緩和して保護層中にクラックが形成されるのを有効
に防止することができる。
According to the present invention, a poly-4-methylpentene resin filler having a particle size of 0.5 μm to 5.0 μm is provided in the protective layer in an area of 6 wt% to 18 wt% in a region on the wiring conductor.
By containing it, the penetration of moisture into the protective layer located on the wiring conductor is reduced, the wiring conductor is maintained in a good state with little corrosion, and the thermal stress inside the protective layer is well relaxed and protected. The formation of cracks in the layer can be effectively prevented.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一形態に係る配線基板を模式的に示す
断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically illustrating a wiring board according to one embodiment of the present invention.

【図2】従来の配線基板の断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view of a conventional wiring board.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・基板、2・・・配線導体、3・・・保護層、4
・・・ポリ4-メチルペンテン樹脂フィラー
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate, 2 ... Wiring conductor, 3 ... Protective layer, 4
... Poly-4-methylpentene resin filler

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板の上面に、銀、アルミニウム或いはこ
れらの金属の合金を含む複数個の配線導体を間に10μ
m〜100μmの間隔を空けて並設するとともに、これ
ら配線導体をエポキシ樹脂を主成分とする保護層で共通
に被覆してなる配線基板において、 前記保護層中に、粒径0.5μm〜5.0μmのポリ4-
メチルペンテン樹脂フィラーを、隣接する配線導体間の
領域で12wt%〜30wt%、配線導体上の領域で6
wt%〜18wt%含有させることを特徴とする配線基
板。
A plurality of wiring conductors containing silver, aluminum, or an alloy of these metals are interposed between a plurality of wiring conductors having a thickness of 10 μm on an upper surface of a substrate.
A wiring board in which these wiring conductors are commonly covered with a protective layer containing epoxy resin as a main component while being juxtaposed at intervals of m to 100 μm, wherein the protective layer has a particle size of 0.5 μm to 5 μm. 0.0 μm poly 4-
Methylpentene resin filler is added in an amount of 12 wt% to 30 wt% in an area between adjacent wiring conductors, and
A wiring board, characterized in that the content is from 18 wt% to 18 wt%.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2004081972A2 (en) * 2003-03-10 2004-09-23 Osram Opto Semiconductors Gmbh Housing body, optoelectronic component with a housing body of this type, and plastic housing material
WO2004081972A3 (en) * 2003-03-10 2005-04-28 Osram Opto Semiconductors Gmbh Housing body, optoelectronic component with a housing body of this type, and plastic housing material

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