JP2001337301A - パルスレーザ発生装置及びパルスレーザ波形整形方法 - Google Patents
パルスレーザ発生装置及びパルスレーザ波形整形方法Info
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- JP2001337301A JP2001337301A JP2000158018A JP2000158018A JP2001337301A JP 2001337301 A JP2001337301 A JP 2001337301A JP 2000158018 A JP2000158018 A JP 2000158018A JP 2000158018 A JP2000158018 A JP 2000158018A JP 2001337301 A JP2001337301 A JP 2001337301A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザビームの利用効率が高く、かつ所望の
波形のパルスレーザビームを得ることが可能なパルスレ
ーザ発生装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光源が、パルスレーザビームを出
力する。第１のビーム分割手段が、レーザ光源から出力
されたパルスレーザビームを第１のビームと第２のビー
ムとに分割する。波形整形光学系が、第１のビームのパ
ルス波形を、外部から与えられる制御信号に基づいて整
形し、第３のビームを出力する。レーザ増幅器が、第３
のビームを増幅して第４のビームを出力する。第２のビ
ーム分割手段が、第４のビームを、第５のビームと第６
のビームとに分割する。制御手段が、第２のビームと第
６のビームとを分析し、分析結果に基づいて、波形整形
光学系に制御信号を送出する。
波形のパルスレーザビームを得ることが可能なパルスレ
ーザ発生装置を提供する。 【解決手段】 レーザ光源が、パルスレーザビームを出
力する。第１のビーム分割手段が、レーザ光源から出力
されたパルスレーザビームを第１のビームと第２のビー
ムとに分割する。波形整形光学系が、第１のビームのパ
ルス波形を、外部から与えられる制御信号に基づいて整
形し、第３のビームを出力する。レーザ増幅器が、第３
のビームを増幅して第４のビームを出力する。第２のビ
ーム分割手段が、第４のビームを、第５のビームと第６
のビームとに分割する。制御手段が、第２のビームと第
６のビームとを分析し、分析結果に基づいて、波形整形
光学系に制御信号を送出する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、パルスレーザ発生
装置及びパルスレーザの波形整形方法に関し、特にレー
ザ光源から出射されたパルスレーザビームを増幅し、所
望の波形のパルスレーザビームを得ることが可能なパル
スレーザ発生装置及びパルスレーザの波形整形方法に関
する。
装置及びパルスレーザの波形整形方法に関し、特にレー
ザ光源から出射されたパルスレーザビームを増幅し、所
望の波形のパルスレーザビームを得ることが可能なパル
スレーザ発生装置及びパルスレーザの波形整形方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】フォトカソードに短パルスレーザビーム
を照射し、放出された光電子を加速空洞で加速し、電子
ビームを生成する高周波電子銃（ＲＦガン）が知られて
いる。ＲＦガンを用いて電子ビームを効率よく発生させ
るために、高出力かつパルス幅がフェムト秒オーダの極
短パルスレーザビームを得ることが必要である。さら
に、パルス波形を所望の波形に整形することが好まし
い。例えば、三角波の短パルスビームを用いると、ガウ
ス分布型の短パルスビームを用いた場合に比べて、光電
子の発生効率が高まることが知られている。
を照射し、放出された光電子を加速空洞で加速し、電子
ビームを生成する高周波電子銃（ＲＦガン）が知られて
いる。ＲＦガンを用いて電子ビームを効率よく発生させ
るために、高出力かつパルス幅がフェムト秒オーダの極
短パルスレーザビームを得ることが必要である。さら
に、パルス波形を所望の波形に整形することが好まし
い。例えば、三角波の短パルスビームを用いると、ガウ
ス分布型の短パルスビームを用いた場合に比べて、光電
子の発生効率が高まることが知られている。
【０００３】フェムト秒オーダの極短パルスレーザビー
ムは、その高速性故に直接変調を加えることが困難であ
る。このため、回折格子対、レンズ対、及び空間光変調
器で構成された波形整形光学系により間接的に波形を制
御する方法を採用する必要がある。
ムは、その高速性故に直接変調を加えることが困難であ
る。このため、回折格子対、レンズ対、及び空間光変調
器で構成された波形整形光学系により間接的に波形を制
御する方法を採用する必要がある。
【０００４】図５に、この波形整形光学系の概略図を示
す。レーザ光源から出射されたパルスレーザビームが、
回折格子１１０で回折される。回折されたレーザビーム
が、レンズ１１１でコリメートされ、空間光変調器１１
２に入射する。これにより、パルスレーザビームのスペ
クトルが、空間光変調器１１２上に投影される。空間光
変調器１１２は、外部から与えられる制御信号ｓｉｇ0
に基づいて空間的な位置ごとにレーザビームの透過率及
び位相を変化させる。透過率の制御は、例えば液晶パネ
ル、及びこの液晶パネルを挟みクロスニコル配置された
一対の偏光板により行われる。位相の制御は、例えば液
晶パネルにより行われる。これにより、コリメートされ
たレーザビームを空間変調することができる。
す。レーザ光源から出射されたパルスレーザビームが、
回折格子１１０で回折される。回折されたレーザビーム
が、レンズ１１１でコリメートされ、空間光変調器１１
２に入射する。これにより、パルスレーザビームのスペ
クトルが、空間光変調器１１２上に投影される。空間光
変調器１１２は、外部から与えられる制御信号ｓｉｇ0
に基づいて空間的な位置ごとにレーザビームの透過率及
び位相を変化させる。透過率の制御は、例えば液晶パネ
ル、及びこの液晶パネルを挟みクロスニコル配置された
一対の偏光板により行われる。位相の制御は、例えば液
晶パネルにより行われる。これにより、コリメートされ
たレーザビームを空間変調することができる。
【０００５】空間変調されたレーザビームが、レンズ１
１３により回折格子１１４上に集光される。集光された
レーザビームが回折格子１１４で回折され、時間軸上の
波形に戻される。
１３により回折格子１１４上に集光される。集光された
レーザビームが回折格子１１４で回折され、時間軸上の
波形に戻される。
【０００６】高出力のパルスレーザビームを得るため
に、レーザ光源から出射されたパルスレーザビームをレ
ーザ増幅器で増幅する。増幅されたパルスレーザビーム
を、図５に示した波形整形光学系で波形整形を行うと、
空間光変調器１１２が損傷を受ける。このため、波形整
形光学系は、レーザ増幅器の前に置くことが好ましい。
に、レーザ光源から出射されたパルスレーザビームをレ
ーザ増幅器で増幅する。増幅されたパルスレーザビーム
を、図５に示した波形整形光学系で波形整形を行うと、
空間光変調器１１２が損傷を受ける。このため、波形整
形光学系は、レーザ増幅器の前に置くことが好ましい。
【０００７】図６に、図５に示した波形整形光学系を用
いたパルスレーザ発生装置のブロック図を示す。レーザ
光源１００が、パルスレーザビームを出射する。波形整
形光学系１０１が、レーザ光源１００から出射されたレ
ーザビームのパルス波形を整形する。レーザ増幅器１０
２が、波形整形されたレーザビームを増幅する。部分反
射鏡１０３が、増幅されたレーザビームを２本のレーザ
ビームに分割する。部分反射鏡１０３で反射されたレー
ザビームがレーザビーム測定器１０４に入射する。
いたパルスレーザ発生装置のブロック図を示す。レーザ
光源１００が、パルスレーザビームを出射する。波形整
形光学系１０１が、レーザ光源１００から出射されたレ
ーザビームのパルス波形を整形する。レーザ増幅器１０
２が、波形整形されたレーザビームを増幅する。部分反
射鏡１０３が、増幅されたレーザビームを２本のレーザ
ビームに分割する。部分反射鏡１０３で反射されたレー
ザビームがレーザビーム測定器１０４に入射する。
【０００８】レーザビーム測定器１０４は、第２次高調
波信号またはプラズマブレイクダウン信号を測定し、そ
の信号強度が最大になるように波形整形光学系１０１に
制御信号ｓｉｇ0を送出する。このように、波形整形光
学系１０１、レーザ増幅器１０２及びレーザビーム測定
器１０４が、フィードバックループを構成している。こ
のフィードバック制御により、パルスレーザビームの最
適化が行われる。
波信号またはプラズマブレイクダウン信号を測定し、そ
の信号強度が最大になるように波形整形光学系１０１に
制御信号ｓｉｇ0を送出する。このように、波形整形光
学系１０１、レーザ増幅器１０２及びレーザビーム測定
器１０４が、フィードバックループを構成している。こ
のフィードバック制御により、パルスレーザビームの最
適化が行われる。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】図６に示したレーザビ
ーム測定器１０４の測定対象である第２次高調波信号あ
るいはプラズマブレイクダウン信号はレーザビーム強度
の自乗に比例する非線形現象である。従って、レーザ増
幅器１０２から出力されたパルスレーザビームのピーク
強度が最大になるときに、第２次高調波信号あるいはプ
ラズマブレイクダウン信号の強度が最大になる。このた
め、ピーク強度が強く、かつ時間幅の短いパルスレーザ
ビームを得る目的には使用できるが、パルス波形までを
細かく制御することはできない。
ーム測定器１０４の測定対象である第２次高調波信号あ
るいはプラズマブレイクダウン信号はレーザビーム強度
の自乗に比例する非線形現象である。従って、レーザ増
幅器１０２から出力されたパルスレーザビームのピーク
強度が最大になるときに、第２次高調波信号あるいはプ
ラズマブレイクダウン信号の強度が最大になる。このた
め、ピーク強度が強く、かつ時間幅の短いパルスレーザ
ビームを得る目的には使用できるが、パルス波形までを
細かく制御することはできない。
【００１０】また、十分な強さの第２次高調波信号ある
いはプラズマブレイクダウン信号を得るためには、高強
度のパルスレーザビームが必要である。このため、部分
透過鏡１０３で反射されるレーザビームの強度を大きく
する必要が生じ、レーザビームの利用効率が低下する。
いはプラズマブレイクダウン信号を得るためには、高強
度のパルスレーザビームが必要である。このため、部分
透過鏡１０３で反射されるレーザビームの強度を大きく
する必要が生じ、レーザビームの利用効率が低下する。
【００１１】本発明の目的は、レーザビームの利用効率
が高く、かつ所望の波形のパルスレーザビームを得るこ
とが可能なパルスレーザ発生装置及びパルスレーザ波形
整形方法を提供することである。
が高く、かつ所望の波形のパルスレーザビームを得るこ
とが可能なパルスレーザ発生装置及びパルスレーザ波形
整形方法を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の一観点による
と、パルスレーザビームを出力するレーザ光源と、前記
レーザ光源から出力されたパルスレーザビームを第１の
ビームと第２のビームとに分割する第１のビーム分割手
段と、前記第１のビームのパルス波形を、外部から与え
られる制御信号に基づいて整形し、第３のビームを出力
する波形整形光学系と、前記第３のビームを増幅して第
４のビームを出力するレーザ増幅器と、前記第４のビー
ムを、第５のビームと第６のビームとに分割する第２の
ビーム分割手段と、前記第２のビームと第６のビームと
が入力され、入力された２つのビームを分析し、分析結
果に基づいて、前記波形整形光学系に制御信号を送出す
る制御手段とを有するパルスレーザ発生装置が提供され
る。
と、パルスレーザビームを出力するレーザ光源と、前記
レーザ光源から出力されたパルスレーザビームを第１の
ビームと第２のビームとに分割する第１のビーム分割手
段と、前記第１のビームのパルス波形を、外部から与え
られる制御信号に基づいて整形し、第３のビームを出力
する波形整形光学系と、前記第３のビームを増幅して第
４のビームを出力するレーザ増幅器と、前記第４のビー
ムを、第５のビームと第６のビームとに分割する第２の
ビーム分割手段と、前記第２のビームと第６のビームと
が入力され、入力された２つのビームを分析し、分析結
果に基づいて、前記波形整形光学系に制御信号を送出す
る制御手段とを有するパルスレーザ発生装置が提供され
る。
【００１３】本発明の他の観点によると、レーザ光源か
らパルスレーザビームを出射する工程と、前記レーザ光
源から出射されたパルスレーザビームを、第１のビーム
と第２のビームとに分割する工程と、外部から与えられ
た制御信号に基づいてパルス波形を整形する波形整形光
学系を用い、前記第１のビームのパルス波形を整形し、
第３のビームを出力する工程と、前記第３のビームを増
幅して、第４のビームを出力する工程と、前記第４のビ
ームを、第５のビームと第６のビームとに分割する工程
と、前記第２のビームと第６のビームとを分析し、分析
結果に基づいて、前記波形整形光学系に制御信号を送出
する工程とを有するパルスレーザの波形整形方法が提供
される。
らパルスレーザビームを出射する工程と、前記レーザ光
源から出射されたパルスレーザビームを、第１のビーム
と第２のビームとに分割する工程と、外部から与えられ
た制御信号に基づいてパルス波形を整形する波形整形光
学系を用い、前記第１のビームのパルス波形を整形し、
第３のビームを出力する工程と、前記第３のビームを増
幅して、第４のビームを出力する工程と、前記第４のビ
ームを、第５のビームと第６のビームとに分割する工程
と、前記第２のビームと第６のビームとを分析し、分析
結果に基づいて、前記波形整形光学系に制御信号を送出
する工程とを有するパルスレーザの波形整形方法が提供
される。
【００１４】第２のビームと第６のビームとを分析する
ことにより、両者の位相差スペクトルや強度比スペクト
ルを求めることができる。位相差スペクトルや強度比ス
ペクトルが、所望の形状になるように波形整形光学系を
制御することにより、第５のビームのパルス波形を所望
の波形に近づけることができる。
ことにより、両者の位相差スペクトルや強度比スペクト
ルを求めることができる。位相差スペクトルや強度比ス
ペクトルが、所望の形状になるように波形整形光学系を
制御することにより、第５のビームのパルス波形を所望
の波形に近づけることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】図１〜図４を参照して、本発明の
実施例によるパルスレーザビーム発生装置について説明
する。
実施例によるパルスレーザビーム発生装置について説明
する。
【００１６】図１は、実施例によるパルスレーザビーム
発生装置のブロック図を示す。レーザ光源１が、パルス
レーザビームＰＬ0を出射する。パルスレーザビームＰ
Ｌ0の周波数軸上の強度分布（強度スペクトル）をＡｉ
とし、周波数軸上の位相分布（位相スペクトル）をＰｉ
とする。レーザ光源１は、例えばレーザ媒質としてＴｉ
含有サファイアを用いたモードロックレーザ装置であ
る。部分透過鏡２が、パルスレーザビームＰＬ0を２本
のビームに分割する。部分透過鏡２を透過したパルスレ
ーザビームＰＬ1が、波形整形光学系３に入射する。波
形整形光学系３は、図５に示した波形整形光学系と同一
のものである。その構成及び変調原理については既に説
明したので、ここでは説明を省略する。波形整形光学系
３の周波数に依存した強度変調度をＭｓａとし、位相特
性をＭｓｐとする。
発生装置のブロック図を示す。レーザ光源１が、パルス
レーザビームＰＬ0を出射する。パルスレーザビームＰ
Ｌ0の周波数軸上の強度分布（強度スペクトル）をＡｉ
とし、周波数軸上の位相分布（位相スペクトル）をＰｉ
とする。レーザ光源１は、例えばレーザ媒質としてＴｉ
含有サファイアを用いたモードロックレーザ装置であ
る。部分透過鏡２が、パルスレーザビームＰＬ0を２本
のビームに分割する。部分透過鏡２を透過したパルスレ
ーザビームＰＬ1が、波形整形光学系３に入射する。波
形整形光学系３は、図５に示した波形整形光学系と同一
のものである。その構成及び変調原理については既に説
明したので、ここでは説明を省略する。波形整形光学系
３の周波数に依存した強度変調度をＭｓａとし、位相特
性をＭｓｐとする。
【００１７】波形整形光学系３から出射したパルスレー
ザビームＰＬ3が、レーザ増幅器４に入射する。レーザ
増幅器４は、パルスレーザビームＰＬ3を増幅してパル
スレーザビームＰＬ4を出射する。レーザ増幅器４の増
幅度をＭａａとし、位相特性をＭａｐとする。部分反射
鏡５が、パルスレーザビームＰＬ4を２本のビームに分
割する。
ザビームＰＬ3が、レーザ増幅器４に入射する。レーザ
増幅器４は、パルスレーザビームＰＬ3を増幅してパル
スレーザビームＰＬ4を出射する。レーザ増幅器４の増
幅度をＭａａとし、位相特性をＭａｐとする。部分反射
鏡５が、パルスレーザビームＰＬ4を２本のビームに分
割する。
【００１８】部分反射鏡５を透過したパルスレーザビー
ムＰＬ5が、例えばＲＦガンに入射する。部分反射鏡２
で反射したパルスレーザビームＰＬ2及び部分反射鏡５
で反射したパルスレーザビームＰＬ6が、パルスレーザ
分析器（制御装置）６に入射する。パルスレーザビーム
ＰＬ6の強度スペクトルをＡｏとし、位相スペクトルを
Ｐｏとする。パルスレーザ分析器６は、パルスレーザビ
ームＰＬ2及びＰＬ6を分析し、パルスレーザビームＰＬ
5及びＰＬ6が所望の波形になるように、波形整形光学系
３に制御信号ｓｉｇ0を送出する。なお、所望の波形の
強度スペクトルＡｔ及び位相差スペクトル（Ｐｔ−Ｐ
ｉ）が、記憶手段７に記憶されている。位相スペクトル
Ｐｔは、パルスレーザビームＰＬ6の所望の位相スペク
トルである。
ムＰＬ5が、例えばＲＦガンに入射する。部分反射鏡２
で反射したパルスレーザビームＰＬ2及び部分反射鏡５
で反射したパルスレーザビームＰＬ6が、パルスレーザ
分析器（制御装置）６に入射する。パルスレーザビーム
ＰＬ6の強度スペクトルをＡｏとし、位相スペクトルを
Ｐｏとする。パルスレーザ分析器６は、パルスレーザビ
ームＰＬ2及びＰＬ6を分析し、パルスレーザビームＰＬ
5及びＰＬ6が所望の波形になるように、波形整形光学系
３に制御信号ｓｉｇ0を送出する。なお、所望の波形の
強度スペクトルＡｔ及び位相差スペクトル（Ｐｔ−Ｐ
ｉ）が、記憶手段７に記憶されている。位相スペクトル
Ｐｔは、パルスレーザビームＰＬ6の所望の位相スペク
トルである。
【００１９】図２を参照して、図１に示したパルスレー
ザ分析器６の動作原理について説明する。
ザ分析器６の動作原理について説明する。
【００２０】図２（Ａ）に示すように、パルスレーザ分
析器６に入射したパルスレーザビームＰＬ2及びＰＬ
6が、時間軸上で遅延時間Ｔｗだけ離れて分光器１０に
入射する。遅延時間Ｔｗが分光器１０の分解能で決まる
間隔以下であれば、遅延時間Ｔｗ及びパルスレーザビー
ムＰＬ2とＰＬ6との位相差に対応した干渉波形が得られ
る。図２（Ｂ）に、分光器１０で得られる干渉波形の一
例を示す。図２（Ｂ）の横軸は周波数を表し、縦軸は強
度を表す。図２（Ｂ）に示した干渉波形をフーリエ変換
する。
析器６に入射したパルスレーザビームＰＬ2及びＰＬ
6が、時間軸上で遅延時間Ｔｗだけ離れて分光器１０に
入射する。遅延時間Ｔｗが分光器１０の分解能で決まる
間隔以下であれば、遅延時間Ｔｗ及びパルスレーザビー
ムＰＬ2とＰＬ6との位相差に対応した干渉波形が得られ
る。図２（Ｂ）に、分光器１０で得られる干渉波形の一
例を示す。図２（Ｂ）の横軸は周波数を表し、縦軸は強
度を表す。図２（Ｂ）に示した干渉波形をフーリエ変換
する。
【００２１】図２（Ｃ）の上図に、フーリエ変換された
波形を示す。原点に大きなピークｐｋ0が現れ、その両
脇に小さなピークｐｋ1及びｐｋ2が現れる。原点の両脇
のピークｐｋ1及びｐｋ2は、パルスレーザビームＰＬ2
に含まれる周波数成分と、パルスレーザビームＰＬ6に
含まれる対応する周波数成分との位相差に対応した波形
になる。ピークｐｋ0及びｐｋ2を除き、ピークｐｋ1を
原点の位置までシフトさせる。シフトして得られたピー
クｐｋ1’を逆フーリエ変換する。
波形を示す。原点に大きなピークｐｋ0が現れ、その両
脇に小さなピークｐｋ1及びｐｋ2が現れる。原点の両脇
のピークｐｋ1及びｐｋ2は、パルスレーザビームＰＬ2
に含まれる周波数成分と、パルスレーザビームＰＬ6に
含まれる対応する周波数成分との位相差に対応した波形
になる。ピークｐｋ0及びｐｋ2を除き、ピークｐｋ1を
原点の位置までシフトさせる。シフトして得られたピー
クｐｋ1’を逆フーリエ変換する。
【００２２】図２（Ｄ）に、ピークｐｋ1’を逆フーリ
エ変換したものの位相特性波形を示す。図２（Ｄ）に示
す波形は、パルスレーザビームＰＬ2とＰＬ6との周波数
軸上における相対位相差の分布（位相差スペクトル）に
対応する。
エ変換したものの位相特性波形を示す。図２（Ｄ）に示
す波形は、パルスレーザビームＰＬ2とＰＬ6との周波数
軸上における相対位相差の分布（位相差スペクトル）に
対応する。
【００２３】以下、式を示しながら再度説明する。パル
スレーザビームＰＬ2とＰＬ6との周波数電場を、それぞ
れ
スレーザビームＰＬ2とＰＬ6との周波数電場を、それぞ
れ
【００２４】
【数１】 ＥPL2（ω）＝（ＩPL2（ω））1/2×ｃｏｓφPL2（ω） ＥPL6（ω）＝（ＩPL6（ω））1/2×ｃｏｓφPL6（ω） とし、パルスレーザビームＰＬ6に対するパルスレーザ
ビームＰＬ2の遅延時間をτとすると、周波数干渉縞強
度ＩSI（ω）は、
ビームＰＬ2の遅延時間をτとすると、周波数干渉縞強
度ＩSI（ω）は、
【００２５】
【数２】ＩSI（ω）＝ＩPL6（ω）＋ＩPL2（ω）＋（Ｉ
PL6（ω））1/2（ＩPL2（ω））1/2×ｃｏｓ〔φ
PL6（ω）−φPL2（ω）−ωτ〕 と表される。
PL6（ω））1/2（ＩPL2（ω））1/2×ｃｏｓ〔φ
PL6（ω）−φPL2（ω）−ωτ〕 と表される。
【００２６】上式をフーリエ変換すると、次の２つの部
分に分けることができる。
分に分けることができる。
【００２７】
【数３】ＦＴ｛ＩPL6（ω）＋ＩPL2（ω）｝＋ＦＴ
｛（ＩPL6（ω））1/2（ＩPL2（ω））1/2 ×ｃｏｓ〔φ
PL6（ω）−φPL2（ω）−ωτ〕｝ 上式の第１項は、図２（Ｃ）に示したピークｐｋ0に対
応する項であり、相対位相差には無関係の項である。第
２項は、図２（Ｃ）に示したピークｐｋ1及びｐｋ2に対
応する項である。ピークｐｋ1とｐｋ2とは、横軸上のτ
と−τの位置に現れている。両者は位相共役の関係にあ
り、２つのピークの情報量は同じである。
｛（ＩPL6（ω））1/2（ＩPL2（ω））1/2 ×ｃｏｓ〔φ
PL6（ω）−φPL2（ω）−ωτ〕｝ 上式の第１項は、図２（Ｃ）に示したピークｐｋ0に対
応する項であり、相対位相差には無関係の項である。第
２項は、図２（Ｃ）に示したピークｐｋ1及びｐｋ2に対
応する項である。ピークｐｋ1とｐｋ2とは、横軸上のτ
と−τの位置に現れている。両者は位相共役の関係にあ
り、２つのピークの情報量は同じである。
【００２８】このフーリエ変換したものにフィルタリン
グをかけることにより、位置τの部分に現れたピークｐ
ｋ1のみを取り出すことが可能になる。ピークｐｋ1のみ
を取り出した後、遅延部分に相当するωτの成分を取り
除くために、ピークｐｋ1の中心をτから０に移動さ
せ、ピークｐｋ1’を得る。
グをかけることにより、位置τの部分に現れたピークｐ
ｋ1のみを取り出すことが可能になる。ピークｐｋ1のみ
を取り出した後、遅延部分に相当するωτの成分を取り
除くために、ピークｐｋ1の中心をτから０に移動さ
せ、ピークｐｋ1’を得る。
【００２９】得られた波形を逆フーリエ変換し、その位
相特性を計算することによって、相対位相差を求めるこ
とができる。
相特性を計算することによって、相対位相差を求めるこ
とができる。
【００３０】このように、パルスレーザビームＰＬ2と
ＰＬ6との間で相対位相差が生ずるのは、レーザ増幅器
４内の屈折率分散、結晶の非線形特性等に起因する。
ＰＬ6との間で相対位相差が生ずるのは、レーザ増幅器
４内の屈折率分散、結晶の非線形特性等に起因する。
【００３１】また、パルスレーザビームＰＬ2及びＰＬ6
の各々を分光することにより、周波数軸上の強度分布
（強度スペクトル）を得ることができる。両者の強度ス
ペクトルから、周波数軸上におけるパルスレーザビーム
ＰＬ2とＰＬ6との強度比の分布を得ることができる。こ
の強度スペクトルは通常一定にはならない。これは、レ
ーザ増幅器４の増幅率が周波数に依存することによる。
の各々を分光することにより、周波数軸上の強度分布
（強度スペクトル）を得ることができる。両者の強度ス
ペクトルから、周波数軸上におけるパルスレーザビーム
ＰＬ2とＰＬ6との強度比の分布を得ることができる。こ
の強度スペクトルは通常一定にはならない。これは、レ
ーザ増幅器４の増幅率が周波数に依存することによる。
【００３２】レーザ増幅器４から出力されたパルスレー
ザビームＰＬ6の所望の時間軸上の波形及び位相スペク
トルを規定すれば、パルスレーザビームＰＬ6の強度ス
ペクトル及び位相スペクトルが一意に決まる。パルスレ
ーザビームＰＬ6の所望の時間軸上の波形及び位相スペ
クトルから求められた強度スペクトルＡｔ及び位相スペ
クトルＰｔが、記憶手段７に記憶されている。なお、実
際には、位相差スペクトル（Ｐｔ−Ｐｉ）が記憶されて
いる。
ザビームＰＬ6の所望の時間軸上の波形及び位相スペク
トルを規定すれば、パルスレーザビームＰＬ6の強度ス
ペクトル及び位相スペクトルが一意に決まる。パルスレ
ーザビームＰＬ6の所望の時間軸上の波形及び位相スペ
クトルから求められた強度スペクトルＡｔ及び位相スペ
クトルＰｔが、記憶手段７に記憶されている。なお、実
際には、位相差スペクトル（Ｐｔ−Ｐｉ）が記憶されて
いる。
【００３３】次に、図３を参照して、所望の波形を得る
方法について説明する。ステップｓ１において、波形整
形光学系３の強度変調度ＭｓａがＡｔ／Ａｉに等しくな
るように、パルスレーザ分析器６が波形整形光学系３に
制御信号ｓｉｇ0を送出する。
方法について説明する。ステップｓ１において、波形整
形光学系３の強度変調度ＭｓａがＡｔ／Ａｉに等しくな
るように、パルスレーザ分析器６が波形整形光学系３に
制御信号ｓｉｇ0を送出する。
【００３４】以下の計算は、各周波数成分に対して行わ
れるため、並列あるいは直列の計算方法が考えられる
が、パルスの繰り返し間隔、例えば１ｍｓ（周波数１ｋ
Ｈｚに相当）以内に演算及び制御信号の送出が完了すれ
ば、いずれの計算方法を採用してもよい。しかし、演算
及び制御信号の送出に、パルスの繰り返し間隔以上の時
間を要する場合は、並列処理が望ましい。なお、いずれ
の計算方法を採用するかは、図４を参照して後述する位
相スペクトルの整形方法の場合も同様である。
れるため、並列あるいは直列の計算方法が考えられる
が、パルスの繰り返し間隔、例えば１ｍｓ（周波数１ｋ
Ｈｚに相当）以内に演算及び制御信号の送出が完了すれ
ば、いずれの計算方法を採用してもよい。しかし、演算
及び制御信号の送出に、パルスの繰り返し間隔以上の時
間を要する場合は、並列処理が望ましい。なお、いずれ
の計算方法を採用するかは、図４を参照して後述する位
相スペクトルの整形方法の場合も同様である。
【００３５】レーザ増幅器４から出力されるパルスレー
ザビームＰＬ6の強度スペクトルＡｏが、Ａｉ×Ｍｓａ
×Ｍａａ、すなわち、Ａｔ×Ｍａａになる。
ザビームＰＬ6の強度スペクトルＡｏが、Ａｉ×Ｍｓａ
×Ｍａａ、すなわち、Ａｔ×Ｍａａになる。
【００３６】ステップｓ２に進み、レーザ増幅器４から
出射したパルスレーザビームＰＬ6の強度スペクトルを
測定する。
出射したパルスレーザビームＰＬ6の強度スペクトルを
測定する。
【００３７】ステップｓ３に進み、パルスレーザビーム
ＰＬ6の強度スペクトルＡｏと、所望の強度スペクトル
Ａｔとを比較する。なお、この比較は、周波数軸上のあ
る範囲内の複数の点において行う。
ＰＬ6の強度スペクトルＡｏと、所望の強度スペクトル
Ａｔとを比較する。なお、この比較は、周波数軸上のあ
る範囲内の複数の点において行う。
【００３８】ステップｓ４に進み、比較結果を判定す
る。比較された全ての点において、両者の差が基準値以
下であれば制御を終了し、現状の強度変調度Ｍｓａを維
持する。両者の差が基準値以上となる点がある場合に
は、ステップｓ５に進む。
る。比較された全ての点において、両者の差が基準値以
下であれば制御を終了し、現状の強度変調度Ｍｓａを維
持する。両者の差が基準値以上となる点がある場合に
は、ステップｓ５に進む。
【００３９】ステップｓ５において、Ｍｓａ×（Ａｔ／
Ａｏ）を新たにＭｓａとする。パルスレーザ分析器６
は、波形整形光学系の強度変調度Ｍｓａがステップｓ５
で求められた新たなＭｓａになるように制御信号ｓｉｇ
0を送出する。ステップｓ２に戻り、制御を続ける。
Ａｏ）を新たにＭｓａとする。パルスレーザ分析器６
は、波形整形光学系の強度変調度Ｍｓａがステップｓ５
で求められた新たなＭｓａになるように制御信号ｓｉｇ
0を送出する。ステップｓ２に戻り、制御を続ける。
【００４０】このとき、増幅度Ｍａａが変化しなけれ
ば、パルスレーザビームＰＬ6の強度スペクトルがＡｔ
になる。ところが、実際には、レーザ増幅器４に入射す
るパルスレーザビームＰＬ3が変化しているため、増幅
度Ｍａａも変動する。このため、得られたパルスレーザ
ビームＰＬ6の強度スペクトルＡｏは、所望のＡｔに近
づくが、完全には一致しない。ステップｓ２からｓ５ま
でを繰り返すことにより、パルスレーザビームＰＬ6の
強度スペクトルＡｏを所望の強度スペクトルＡｔに近づ
けることができる。
ば、パルスレーザビームＰＬ6の強度スペクトルがＡｔ
になる。ところが、実際には、レーザ増幅器４に入射す
るパルスレーザビームＰＬ3が変化しているため、増幅
度Ｍａａも変動する。このため、得られたパルスレーザ
ビームＰＬ6の強度スペクトルＡｏは、所望のＡｔに近
づくが、完全には一致しない。ステップｓ２からｓ５ま
でを繰り返すことにより、パルスレーザビームＰＬ6の
強度スペクトルＡｏを所望の強度スペクトルＡｔに近づ
けることができる。
【００４１】次に、図４を参照して、位相スペクトルの
整形方法について説明する。ステップｕ１において、波
形整形光学系３の位相特性Ｍｓｐが（Ｐｔ−Ｐｉ）にな
るように、パルスレーザ分析器６が制御信号ｓｉｇ0を
送出する。このとき、パルスレーザビームＰＬ2とＰＬ6
との位相差スペクトル（Ｐｏ−Ｐｉ）は、（Ｐｉ＋Ｍｓ
ｐ＋Ｍａｐ−Ｐｉ）、すなわち、（Ｐｔ＋Ｍａｐ−Ｐ
ｉ）となる。
整形方法について説明する。ステップｕ１において、波
形整形光学系３の位相特性Ｍｓｐが（Ｐｔ−Ｐｉ）にな
るように、パルスレーザ分析器６が制御信号ｓｉｇ0を
送出する。このとき、パルスレーザビームＰＬ2とＰＬ6
との位相差スペクトル（Ｐｏ−Ｐｉ）は、（Ｐｉ＋Ｍｓ
ｐ＋Ｍａｐ−Ｐｉ）、すなわち、（Ｐｔ＋Ｍａｐ−Ｐ
ｉ）となる。
【００４２】ステップｕ２に進み、パルスレーザビーム
ＰＬ2とＰＬ6との位相差スペクトル（Ｐｏ−Ｐｉ）を測
定する。この位相差スペクトルは、図２（Ｄ）に示した
周波数軸上の相対位相差の分布に相当する。
ＰＬ2とＰＬ6との位相差スペクトル（Ｐｏ−Ｐｉ）を測
定する。この位相差スペクトルは、図２（Ｄ）に示した
周波数軸上の相対位相差の分布に相当する。
【００４３】ステップｕ３に進み、位相スペクトルＰｏ
とＰｔとを比較する。なお、実際には、（Ｐｏ−Ｐｉ）
と（Ｐｔ−Ｐｉ）とが比較されるが、これは、位相スペ
クトルＰｏとＰｔとを比較することと同等である。この
比較は、周波数軸上のある範囲内の複数の点について行
われる。
とＰｔとを比較する。なお、実際には、（Ｐｏ−Ｐｉ）
と（Ｐｔ−Ｐｉ）とが比較されるが、これは、位相スペ
クトルＰｏとＰｔとを比較することと同等である。この
比較は、周波数軸上のある範囲内の複数の点について行
われる。
【００４４】ステップｕ４に進み、比較結果を分析す
る。両者の位相ずれが基準値以下であれば、制御を終了
し、現状の位相特性Ｍｓｐを維持する。基準値以上の位
相ずれとなった点がある場合には、ステップｕ５に進
む。
る。両者の位相ずれが基準値以下であれば、制御を終了
し、現状の位相特性Ｍｓｐを維持する。基準値以上の位
相ずれとなった点がある場合には、ステップｕ５に進
む。
【００４５】ステップｕ５において、（Ｍｓｐ＋Ｐｔ−
Ｐｏ）を新たなＭｓｐとする。パルスレーザ分析器６
は、波形整形光学系３の位相特性が新たな位相特性Ｍｓ
ｐになるように、制御信号ｓｉｇ0を送出する。ステッ
プｕ２に戻り制御を続ける。
Ｐｏ）を新たなＭｓｐとする。パルスレーザ分析器６
は、波形整形光学系３の位相特性が新たな位相特性Ｍｓ
ｐになるように、制御信号ｓｉｇ0を送出する。ステッ
プｕ２に戻り制御を続ける。
【００４６】このとき、レーザ増幅器４の位相特性Ｍａ
ｐが変化しなければ、パルスレーザビームＰＬ6の位相
スペクトルＰｏが所望の位相スペクトルＰｔに一致す
る。しかし、レーザ増幅器４に入射するパルスレーザビ
ームＰＬ3が変化しているため、レーザ増幅器４の位相
特性Ｍａｐも変化している。このため、パルスレーザビ
ームＰＬ6の位相スペクトルＰｏは、所望の位相スペク
トルＰｔに近づくが、厳密には一致しない。ステップｕ
２からｕ５までを繰り返すことにより、パルスレーザビ
ームＰＬ6の位相スペクトルＰｏを所望の位相スペクト
ルＰｔに近づけることができる。
ｐが変化しなければ、パルスレーザビームＰＬ6の位相
スペクトルＰｏが所望の位相スペクトルＰｔに一致す
る。しかし、レーザ増幅器４に入射するパルスレーザビ
ームＰＬ3が変化しているため、レーザ増幅器４の位相
特性Ｍａｐも変化している。このため、パルスレーザビ
ームＰＬ6の位相スペクトルＰｏは、所望の位相スペク
トルＰｔに近づくが、厳密には一致しない。ステップｕ
２からｕ５までを繰り返すことにより、パルスレーザビ
ームＰＬ6の位相スペクトルＰｏを所望の位相スペクト
ルＰｔに近づけることができる。
【００４７】パルスレーザビームＰＬ6の強度スペクト
ル及び位相スペクトルを、所望の形状に近づけることに
より、時間軸上のパルス波形が所望の波形に近づく。パ
ルスレーザビームＰＬ6とＰＬ5とは、強度が相違するの
みであり、両者の強度スペクトルは相似形である。ま
た、両者の位相スペクトルは同一である。このため、パ
ルスレーザビームＰＬ5のパルス波形を所望の波形に近
づけることができる。
ル及び位相スペクトルを、所望の形状に近づけることに
より、時間軸上のパルス波形が所望の波形に近づく。パ
ルスレーザビームＰＬ6とＰＬ5とは、強度が相違するの
みであり、両者の強度スペクトルは相似形である。ま
た、両者の位相スペクトルは同一である。このため、パ
ルスレーザビームＰＬ5のパルス波形を所望の波形に近
づけることができる。
【００４８】上記実施例による方法では、レーザ光源１
の出射ビームから分割して得られたパルスレーザビーム
ＰＬ2とレーザ増幅器４の出射ビームから分割して得ら
れたパルスレーザビームＰＬ6との位相差スペクトルを
分析することにより、フィードバック制御を行う。この
ため、図６の非線形現象を利用したレーザビーム測定器
１０４を用いる場合に比べて、弱いパルスレーザビーム
でも十分なフィードバック制御を行うことができる。こ
れにより、レーザビームの利用効率を高めることが可能
になる。
の出射ビームから分割して得られたパルスレーザビーム
ＰＬ2とレーザ増幅器４の出射ビームから分割して得ら
れたパルスレーザビームＰＬ6との位相差スペクトルを
分析することにより、フィードバック制御を行う。この
ため、図６の非線形現象を利用したレーザビーム測定器
１０４を用いる場合に比べて、弱いパルスレーザビーム
でも十分なフィードバック制御を行うことができる。こ
れにより、レーザビームの利用効率を高めることが可能
になる。
【００４９】パルス波形を制御されたパルスレーザビー
ムをＲＦガンのフォトカソードに照射することにより、
光電子の発生効率を高めることができる。また、強度及
び波形の制御されたパルスレーザビームを、化学反応の
励起エネルギ源として用いることもできる。このような
パルスレーザビームを用いることにより、複数の反応経
路のうち特定の一つを選択して化学反応を起こすことが
可能になる。
ムをＲＦガンのフォトカソードに照射することにより、
光電子の発生効率を高めることができる。また、強度及
び波形の制御されたパルスレーザビームを、化学反応の
励起エネルギ源として用いることもできる。このような
パルスレーザビームを用いることにより、複数の反応経
路のうち特定の一つを選択して化学反応を起こすことが
可能になる。
【００５０】以上実施例に沿って本発明を説明したが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種
々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に
自明であろう。
【００５１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
波形整形光学系、レーザ増幅器、及び制御手段によりフ
ィードバックループが構成される。レーザ光源から出射
されたパルスレーザビームと、レーザ増幅器で増幅され
たパルスレーザビームとを分析し、分析結果に基づいて
波形整形光学系を制御することにより、増幅されたパル
スレーザビームのパルス波形を制御することができる。
波形整形光学系、レーザ増幅器、及び制御手段によりフ
ィードバックループが構成される。レーザ光源から出射
されたパルスレーザビームと、レーザ増幅器で増幅され
たパルスレーザビームとを分析し、分析結果に基づいて
波形整形光学系を制御することにより、増幅されたパル
スレーザビームのパルス波形を制御することができる。
【図１】本発明の実施例によるパルスレーザビーム発生
装置のブロック図である。
装置のブロック図である。
【図２】実施例によるパルスレーザビーム発生装置で用
いられるパルスレーザ分析器の動作原理を説明するため
のグラフである。
いられるパルスレーザ分析器の動作原理を説明するため
のグラフである。
【図３】実施例によるパルスレーザビーム発生装置で、
出力ビームの強度スペクトルを整形する方法を説明する
ためのフローチャートである。
出力ビームの強度スペクトルを整形する方法を説明する
ためのフローチャートである。
【図４】実施例によるパルスレーザビーム発生装置で、
出力ビームの位相スペクトルを整形する方法を説明する
ためのフローチャートである。
出力ビームの位相スペクトルを整形する方法を説明する
ためのフローチャートである。
【図５】波形整形光学系の概略図である。
【図６】第２次高調波信号等を用いてフィードバックを
行うパルスレーザビーム発生装置のブロック図である。
行うパルスレーザビーム発生装置のブロック図である。
１ レーザ光源 ２、５ 部分反射鏡 ３ 波形整形光学系 ４ レーザ増幅器 ６ パルスレーザ分析器 ７ 記憶手段 １１０、１１４ 回折格子 １１１、１１３ レンズ １１２ 空間光変調器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H041 AA23 AZ06 2H079 BA01 BA03 CA02 FA01 KA01 KA08 KA18 KA19 5F072 AB20 HH09 KK15 KK30 SS06
Claims (4)
- 【請求項１】 パルスレーザビームを出力するレーザ光
源と、 前記レーザ光源から出力されたパルスレーザビームを第
１のビームと第２のビームとに分割する第１のビーム分
割手段と、 前記第１のビームのパルス波形を、外部から与えられる
制御信号に基づいて整形し、第３のビームを出力する波
形整形光学系と、 前記第３のビームを増幅して第４のビームを出力するレ
ーザ増幅器と、 前記第４のビームを、第５のビームと第６のビームとに
分割する第２のビーム分割手段と、 前記第２のビームと第６のビームとが入力され、入力さ
れた２つのビームを分析し、分析結果に基づいて、前記
波形整形光学系に制御信号を送出する制御手段とを有す
るパルスレーザ発生装置。 - 【請求項２】 前記制御手段が、前記第２のビームと第
６のビームとの位相差スペクトルを求め、求められた位
相差スペクトルに基づいて、前記波形整形光学系に制御
信号を送出する請求項１に記載のパルスレーザ発生装
置。 - 【請求項３】 レーザ光源からパルスレーザビームを出
射する工程と、 前記レーザ光源から出射されたパルスレーザビームを、
第１のビームと第２のビームとに分割する工程と、 外部から与えられた制御信号に基づいてパルス波形を整
形する波形整形光学系を用い、前記第１のビームのパル
ス波形を整形し、第３のビームを出力する工程と、 前記第３のビームを増幅して、第４のビームを出力する
工程と、 前記第４のビームを、第５のビームと第６のビームとに
分割する工程と、 前記第２のビームと第６のビームとを分析し、分析結果
に基づいて、前記波形整形光学系に制御信号を送出する
工程とを有するパルスレーザの波形整形方法。 - 【請求項４】 前記制御信号を送出する工程が、 前記第２のビームと第６のビームとの位相差スペクトル
を求める工程と、 前記位相差スペクトルに基づいて、前記波形整形光学系
に前記制御信号を送出する工程とを含む請求項３に記載
のパルスレーザの波形整形方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000158018A JP2001337301A (ja) | 2000-05-29 | 2000-05-29 | パルスレーザ発生装置及びパルスレーザ波形整形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000158018A JP2001337301A (ja) | 2000-05-29 | 2000-05-29 | パルスレーザ発生装置及びパルスレーザ波形整形方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001337301A true JP2001337301A (ja) | 2001-12-07 |
Family
ID=18662554
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000158018A Pending JP2001337301A (ja) | 2000-05-29 | 2000-05-29 | パルスレーザ発生装置及びパルスレーザ波形整形方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001337301A (ja) |
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006023662A (ja) * | 2004-07-09 | 2006-01-26 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 光電場波形制御方法および制御装置 |
| WO2006104250A1 (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-05 | National Institute Of Information And Communications Technology, Incorporated Administrative Agency | 光信号処理装置 |
| KR100804425B1 (ko) | 2006-10-02 | 2008-02-20 | (주)미래컴퍼니 | 레이저 펄스 조절장치 및 방법 |
| JP2009500856A (ja) * | 2005-07-08 | 2009-01-08 | ボード オブ トラスティーズ オブ ミシガン ステイト ユニバーシティ | 超高速レーザーのための制御システム及び装置 |
| US8208505B2 (en) | 2001-01-30 | 2012-06-26 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Laser system employing harmonic generation |
| US8208504B2 (en) | 2001-01-30 | 2012-06-26 | Board Of Trustees Operation Michigan State University | Laser pulse shaping system |
| US8265110B2 (en) | 2001-01-30 | 2012-09-11 | Board Of Trustees Operating Michigan State University | Laser and environmental monitoring method |
| US8618470B2 (en) | 2005-11-30 | 2013-12-31 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Laser based identification of molecular characteristics |
| US8630322B2 (en) | 2010-03-01 | 2014-01-14 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Laser system for output manipulation |
| US8633437B2 (en) | 2005-02-14 | 2014-01-21 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Ultra-fast laser system |
| US8675699B2 (en) | 2009-01-23 | 2014-03-18 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Laser pulse synthesis system |
| US8861075B2 (en) | 2009-03-05 | 2014-10-14 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Laser amplification system |
| CN115051226A (zh) * | 2022-06-17 | 2022-09-13 | 山东大学 | 一种平滑超快激光光谱装置 |
-
2000
- 2000-05-29 JP JP2000158018A patent/JP2001337301A/ja active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8300669B2 (en) | 2001-01-30 | 2012-10-30 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Control system and apparatus for use with ultra-fast laser |
| US8208505B2 (en) | 2001-01-30 | 2012-06-26 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Laser system employing harmonic generation |
| US8208504B2 (en) | 2001-01-30 | 2012-06-26 | Board Of Trustees Operation Michigan State University | Laser pulse shaping system |
| US8265110B2 (en) | 2001-01-30 | 2012-09-11 | Board Of Trustees Operating Michigan State University | Laser and environmental monitoring method |
| JP2006023662A (ja) * | 2004-07-09 | 2006-01-26 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | 光電場波形制御方法および制御装置 |
| US8633437B2 (en) | 2005-02-14 | 2014-01-21 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Ultra-fast laser system |
| WO2006104250A1 (ja) * | 2005-03-29 | 2006-10-05 | National Institute Of Information And Communications Technology, Incorporated Administrative Agency | 光信号処理装置 |
| JP2009500856A (ja) * | 2005-07-08 | 2009-01-08 | ボード オブ トラスティーズ オブ ミシガン ステイト ユニバーシティ | 超高速レーザーのための制御システム及び装置 |
| US8618470B2 (en) | 2005-11-30 | 2013-12-31 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Laser based identification of molecular characteristics |
| KR100804425B1 (ko) | 2006-10-02 | 2008-02-20 | (주)미래컴퍼니 | 레이저 펄스 조절장치 및 방법 |
| US8675699B2 (en) | 2009-01-23 | 2014-03-18 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Laser pulse synthesis system |
| US8861075B2 (en) | 2009-03-05 | 2014-10-14 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Laser amplification system |
| US8630322B2 (en) | 2010-03-01 | 2014-01-14 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Laser system for output manipulation |
| CN115051226A (zh) * | 2022-06-17 | 2022-09-13 | 山东大学 | 一种平滑超快激光光谱装置 |
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