JP2001337041A - Defect-inspection apparatus and defect inspection method - Google Patents

Defect-inspection apparatus and defect inspection method

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JP2001337041A
JP2001337041A JP2000160895A JP2000160895A JP2001337041A JP 2001337041 A JP2001337041 A JP 2001337041A JP 2000160895 A JP2000160895 A JP 2000160895A JP 2000160895 A JP2000160895 A JP 2000160895A JP 2001337041 A JP2001337041 A JP 2001337041A
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慎太郎 田代
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a defect-inspection apparatus and a defect inspection method whereby the apparatus can be made compact and inspection can be sped up. SOLUTION: To this defect-inspection apparatus are set a line sensor 4 with sensor elements arranged for detecting a concentration level of an object 1 to be inspected, a moving device for moving the line sensor or the object in a direction intersecting a direction in which the sensor elements of the line sensor are arranged, a threshold storage device 8 for storing one threshold value for each pixel, a binarization circuit 6 for binarizing the concentration level with the use of threshold values, a run length device 7 for holding the concentration level only when binary data have a predetermined value and generating one-dimensional defect information from the held concentration level, and a link process device 9 for linking each of the one-dimensional defect information and generating two-dimensional defect information.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ラインセンサを用
いて検査対象物上に存在する欠陥を検出し、検出した欠
陥の大きさや濃度等から欠陥の種別を判定する欠陥検査
装置および欠陥検査方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a defect inspection apparatus and a defect inspection method for detecting a defect existing on an inspection object using a line sensor and determining the type of the defect based on the size and density of the detected defect. About.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来のラインセンサを用いた欠陥検査装
置で、濃度の異なる欠陥を区別して検出する場合には、
センサの出力を各画素毎に複数の閾値を用いて2値化し
ていた。
2. Description of the Related Art In a conventional defect inspection apparatus using a line sensor, when defects having different densities are detected separately,
The output of the sensor is binarized using a plurality of threshold values for each pixel.

【0003】また、検出した欠陥の濃度を測定するに
は、欠陥を検出する処理と同時に、欠陥を有する検査対
象物全体の画像をフレームメモリ等に記録し、検出され
た欠陥の位置情報をたよりにフレームメモリ等の内部を
検索し、検査対象物全体の画像中の該当箇所から欠陥の
濃度データを取得していた。
In order to measure the density of a detected defect, an image of the entire inspection object having the defect is recorded in a frame memory or the like at the same time as the process of detecting the defect, and position information of the detected defect is obtained. First, the inside of the frame memory or the like is searched, and the density data of the defect is obtained from a corresponding portion in the image of the entire inspection object.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来技
術では、濃度の異なる欠陥を区別するために各画素毎に
複数の閾値が必要になるので、これらの閾値を記憶する
記憶装置や、これらの閾値を用いて2値化を行う2値化
回路が大型化し、従って欠陥検査装置全体も大型化する
という問題がある。
However, in the above prior art, a plurality of thresholds are required for each pixel in order to distinguish defects having different densities. Therefore, a storage device for storing these thresholds, However, there is a problem that a binarization circuit for performing binarization using the threshold value becomes large, and thus the entire defect inspection apparatus also becomes large.

【0005】また、このように複数の閾値を用いると、
濃度の薄い大きな欠陥の中に、濃度の濃い小さな欠陥が
存在する場合に、それぞれが独立した欠陥として検出さ
てしまうという問題もある。
[0005] When a plurality of thresholds are used as described above,
There is also a problem that, when large defects having a low density include small defects having a high density, each of them is detected as an independent defect.

【0006】さらに、検出する欠陥の濃度を細かく分類
しようとすると、分類する数だけ閾値が必要となり、こ
れらの閾値を記憶する記憶装置や、これらの閾値を用い
て2値化を行う2値化回路がさらに大型化し、従って欠
陥検出装置全体もさらに大型化するという問題がある。
Further, in order to finely classify the density of defects to be detected, thresholds are required by the number of classifications, and a storage device for storing these thresholds, and a binarization for performing binarization using these thresholds. There is a problem that the size of the circuit is further increased, and thus the entire defect detection device is also increased in size.

【0007】また、検出された欠陥の濃度を測定するた
めに、欠陥の位置情報をたよりにフレームメモリ等の内
部を検索し、検査対象物全体の画像中の該当箇所を参照
すると、検査対象物全体の画像中から該当箇所を検索す
る処理に時間がかかり、その結果、この処理を含む検査
工程全体のスループットが上がらないという問題があ
る。
Further, in order to measure the density of a detected defect, the inside of a frame memory or the like is searched based on the position information of the defect, and when a corresponding portion in the image of the entire inspection object is referred to, the inspection object is inspected. There is a problem in that it takes time to search for a corresponding portion from the entire image, and as a result, the throughput of the entire inspection process including this process does not increase.

【0008】本発明は、上記の問題を解決するためにな
されたもので、装置を小型化でき、また検査を高速化で
きる欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供するもので
ある。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and it is an object of the present invention to provide a defect inspection apparatus and a defect inspection method capable of reducing the size of an apparatus and increasing the speed of inspection.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、検査対
象物上の各点の濃度レベルを検出するセンサエレメント
が一直線上に並べられ、前記検査対象物上の1ライン分
の領域における濃度レベルを検出し、出力するラインセ
ンサと、このラインセンサまたは前記検査対象物を、前
記ラインセンサのセンサエレメントが並べられた方向と
交差する方向に移動させる移動装置と、各画素毎に一つ
の閾値を記憶する閾値記憶装置と、この閾値記憶装置が
記憶する閾値を用いて、前記ラインセンサが出力する濃
度レベルを2値化し、2値データを出力する2値化回路
と、この2値化回路が出力する2値データが所定の値で
ある場合にのみ、前記ラインセンサが出力する濃度レベ
ルを保持し、保持した濃度レベルから、前記検査対象物
上の1ライン分の領域に存在する欠陥の情報である1次
元欠陥情報を生成するランレングス化装置と、このラン
レングス化装置が生成する各1次元欠陥情報を連結し、
前記検査対象物上の2次元方向に広がる欠陥の情報であ
る2次元欠陥情報を生成する連結処理装置とを有するこ
とを特徴とする欠陥検査装置である。
SUMMARY OF THE INVENTION The gist of the present invention is that sensor elements for detecting the density level of each point on an inspection object are arranged in a straight line, and the density in a region of one line on the inspection object is determined. A line sensor for detecting and outputting a level, a moving device for moving the line sensor or the inspection object in a direction intersecting the direction in which the sensor elements of the line sensor are arranged, and a threshold value for each pixel. , A binarization circuit for binarizing the density level output by the line sensor using the threshold value stored in the threshold storage unit, and outputting binary data, and a binarization circuit Only when the binary data output by the line sensor is a predetermined value, the density level output by the line sensor is held, and from the held density level, the density level of one line on the inspection object is held. And run length apparatus for generating a one-dimensional defect information which is information of a defect existing in the range, and connecting each one-dimensional defect information the run length of device generates,
A connection processing device that generates two-dimensional defect information that is information of a defect that spreads in a two-dimensional direction on the inspection object.

【0010】また、本発明の要旨は、前記連結処理装置
が生成する2次元欠陥情報に基づいて、前記検査対象物
上に存在する欠陥の種別を判定する判定処理装置を有す
ることを特徴とする欠陥検査装置である。
Further, the gist of the present invention is characterized in that it has a judgment processing device for judging the type of a defect present on the inspection object based on the two-dimensional defect information generated by the connection processing device. It is a defect inspection device.

【0011】また、本発明の要旨は、前記ラインセンサ
は濃度レベルをアナログデータとして出力し、前記ライ
ンセンサと2値化回路との間に、前記ラインセンサが出
力するアナログデータを多値のデジタルデータに変換
し、変換したデジタルデータを前記2値化回路へ送るラ
インセンサインタフェースを有することを特徴とする欠
陥検査装置である。
Further, the gist of the present invention is that the line sensor outputs a density level as analog data, and the analog data output from the line sensor is converted into a multi-valued digital signal between the line sensor and a binarization circuit. A defect inspection apparatus having a line sensor interface for converting data into data and sending the converted digital data to the binarization circuit.

【0012】また、本発明の要旨は、前記検査対象物を
照明する照明装置を有することを特徴とする欠陥検査装
置である。
Further, the gist of the present invention is a defect inspection apparatus having an illumination device for illuminating the inspection object.

【0013】また、本発明の要旨は、前記ランレングス
化装置は、前記検査対象物上の1ライン分の領域に存在
する欠陥の始点位置を記憶する始点レジスタと、前記検
査対象物上の1ライン分の領域に存在する欠陥の終点位
置を記憶する終点レジスタと、前記検査対象物上の1ラ
イン分の領域に存在する欠陥領域の各画素の濃度レベル
の積算値を記憶する積算レジスタと、前記検査対象物上
の1ライン分の領域に存在する欠陥領域の各画素の濃度
レベルのピーク値を記憶するピークレジスタとを有し、
前記ランレングス化装置が生成する1次元欠陥情報は、
前記始点レジスタが記憶する欠陥の始点位置と、前記終
点レジスタが記憶する欠陥の終点位置と、前記積算レジ
スタが記憶する濃度レベルの積算値と、前記ピークレジ
スタが記憶する濃度レベルのピーク値とを含むことを特
徴とする欠陥検査装置である。
[0013] The gist of the present invention is that the run-length generating device includes: a start point register for storing a start point position of a defect existing in an area of one line on the inspection object; An end point register for storing an end point position of a defect existing in the line area, an integration register for storing an integrated value of the density level of each pixel of the defect area existing in the one line area on the inspection object, A peak register for storing a peak value of a density level of each pixel of a defective area existing in an area of one line on the inspection object;
The one-dimensional defect information generated by the run-length generating device is:
The start point position of the defect stored in the start point register, the end point position of the defect stored in the end point register, the integrated value of the density level stored in the integration register, and the peak value of the density level stored in the peak register A defect inspection apparatus characterized by including:

【0014】また、本発明の要旨は、前記連結処理装置
が生成する2次元欠陥情報は、前記検査対象物の2次元
方向に広がる各欠陥の位置、幅、高さおよび面積と、各
欠陥領域の各画素の濃度レベルの積算値およびピーク値
と、前記濃度レベルの積算値を欠陥の面積で割った各欠
陥における濃度レベルの平均値とを含むことを特徴とす
る欠陥検査装置である。
[0014] The gist of the present invention is that the two-dimensional defect information generated by the connection processing device includes a position, a width, a height, and an area of each defect extending in a two-dimensional direction of the inspection object, and each defect area. And an average value of the density level of each defect obtained by dividing the integrated value of the density level by the area of the defect.

【0015】また、本発明の要旨は、前記閾値記憶装置
は、前記検査対象物上の各点に対して個別に定められた
閾値を記憶することを特徴とする欠陥検査装置である。
Further, the gist of the present invention is the defect inspection apparatus, wherein the threshold storage device stores a threshold value individually determined for each point on the inspection object.

【0016】また、本発明の要旨は、検査対象物上の1
ライン分の領域における濃度レベルを検出し、検出を行
う領域を前記ラインと交差する方向に移動させ、各画素
毎に一つの閾値を用いて、前記濃度レベルを2値化して
2値データとし、この2値データが所定の値である場合
にのみ、前記濃度レベルを保持し、保持した濃度レベル
から、前記検査対象物上の1ライン分の領域に存在する
欠陥の情報である1次元欠陥情報を生成し、生成した各
1次元欠陥情報を連結し、前記検査対象物上の2次元方
向に広がる欠陥の情報である2次元欠陥情報を生成する
ことを特徴とする欠陥検査方法である。
Further, the gist of the present invention is to provide a method for detecting an object on an inspection object.
Detecting the density level in the area of the line, moving the area to be detected in the direction intersecting the line, using one threshold for each pixel, binarizing the density level into binary data, Only when the binary data is a predetermined value, the density level is held, and from the held density level, one-dimensional defect information which is information of a defect existing in an area of one line on the inspection object. Is generated, and the generated one-dimensional defect information is connected to generate two-dimensional defect information which is information of a defect extending in a two-dimensional direction on the inspection object.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態におけ
る欠陥検査装置の構成を図1を参照して説明する。符号
1は、本発明の欠陥検査装置によって欠陥が検査される
検査対象物である。検査対象物1の下には、この検査対
象物1を下側から照明する照明装置2が配置されてい
る。なお、本発明においては、本実施形態のように透過
光を用いる他、反射光、散乱光等を用いたものでもよ
い。また、複数個の照明装置を用いることもできる。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The configuration of a defect inspection apparatus according to an embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. Reference numeral 1 denotes an inspection object whose defect is inspected by the defect inspection apparatus of the present invention. A lighting device 2 for illuminating the inspection target 1 from below is disposed below the inspection target 1. In the present invention, in addition to using transmitted light as in the present embodiment, reflected light, scattered light, or the like may be used. Further, a plurality of lighting devices can be used.

【0018】検査対象物1の上側には、この検査対象物
1の画像を撮像するカメラ3が配置されている。カメラ
3の内部には、撮像された画像を画像信号に変換するラ
インセンサ4が内蔵されている。このラインセンサ4
は、画像の各画素における明るさ、すなわち濃度レベル
を検出するセンサエレメントを一直線上に並べたもので
ある。ラインセンサ4は、一回の撮像で検査対象物1上
の1ライン分の領域における濃度レベルを検出し、検出
結果を画像信号として出力する。このラインセンサ4が
出力する画像信号は、アナログ信号であるものとする。
なお、別の実施形態として、画像信号をデジタル信号の
形式で出力するラインセンサを用いてもよい。
A camera 3 for picking up an image of the inspection object 1 is arranged above the inspection object 1. A line sensor 4 that converts a captured image into an image signal is built in the camera 3. This line sensor 4
Is a linear arrangement of sensor elements for detecting the brightness of each pixel of the image, that is, the density level. The line sensor 4 detects the density level in an area of one line on the inspection target 1 by one imaging, and outputs a detection result as an image signal. The image signal output from the line sensor 4 is an analog signal.
As another embodiment, a line sensor that outputs an image signal in the form of a digital signal may be used.

【0019】検査対象物1は、図示しない移動装置によ
って、カメラ3内のラインセンサ4の長手方向、すなわ
ちセンサエレメントが並べられた方向と直交する方向に
移動可能となっている。この移動装置を用いて、検査対
象物1を移動させながら検査対象物1の撮像を1ライン
づつ行うことによって、検査対象物1の全面を撮像す
る。なお、本発明においては、検査対象物1に代えてカ
メラ3を移動するようにしてもよいし、双方を移動する
ようにしてもよい。
The inspection object 1 can be moved by a moving device (not shown) in the longitudinal direction of the line sensor 4 in the camera 3, that is, in the direction orthogonal to the direction in which the sensor elements are arranged. By using this moving device, the entire surface of the inspection object 1 is imaged by imaging the inspection object 1 line by line while moving the inspection object 1. In the present invention, the camera 3 may be moved instead of the inspection object 1, or both may be moved.

【0020】前記ラインセンサ4が出力する画像信号
は、ラインセンサインタフェース5に入力される。ライ
ンセンサインタフェース5は、ラインセンサ4から入力
されたアナログ信号である画像信号をA/D変換して多
値のデジタル信号である多値データに変換し、変換した
多値データを出力する。この多値データは、ラインセン
サ4の各センサエレメントから得られる、各画素におけ
る濃度レベル毎に出力される。ラインセンサインタフェ
ース5が出力する多値データは、2値化回路6およびラ
ンレングス化装置7に入力される。
An image signal output from the line sensor 4 is input to a line sensor interface 5. The line sensor interface 5 A / D converts an image signal, which is an analog signal, input from the line sensor 4, converts the image signal into multi-value data, which is a multi-value digital signal, and outputs the converted multi-value data. This multi-value data is output for each density level in each pixel obtained from each sensor element of the line sensor 4. The multi-value data output from the line sensor interface 5 is input to a binarization circuit 6 and a run-length conversion device 7.

【0021】閾値記憶装置8には、検査対象物1の検査
に先だって、各画素毎に予め定めた一つの閾値が記憶さ
れる。検査対象物1上の各画素のうち、この閾値を超え
る濃度データが得られる画素に相当する箇所は、欠陥と
認識される。閾値記憶装置8は、記憶された所定の閾値
を2値化回路6へ送る。
Prior to the inspection of the inspection object 1, one predetermined threshold is stored for each pixel in the threshold storage device 8. Among the pixels on the inspection object 1, a portion corresponding to a pixel from which density data exceeding this threshold is obtained is recognized as a defect. The threshold storage device 8 sends the stored predetermined threshold to the binarization circuit 6.

【0022】2値化回路6は、ラインセンサインタフェ
ース5から入力された、ラインセンサ4の各センサエレ
メントから得られる濃度データに基づく、各画素の多値
データを、閾値記憶装置8から送られた閾値と比較し、
各画素の多値データが閾値を超えていれば1を出力し、
各画素の多値データが閾値以下であれば0を出力するこ
とによって、ラインセンサインタフェース5から送られ
た多値データを2値データに変換する。ここで、閾値記
憶装置8から送られる閾値は、全画素に共通の一定値で
あっても、画素毎に異なる値であってもよい。また、2
値データは、多値データが閾値未満であれば1、閾値以
上であれば0としてもよい。
The binarization circuit 6 sends multi-value data of each pixel based on density data obtained from each sensor element of the line sensor 4 input from the line sensor interface 5 from the threshold storage device 8. Compare to the threshold,
If the multi-value data of each pixel exceeds the threshold, 1 is output,
If the multi-value data of each pixel is equal to or smaller than the threshold value, the multi-value data sent from the line sensor interface 5 is converted into binary data by outputting 0. Here, the threshold value sent from the threshold value storage device 8 may be a constant value common to all pixels or a different value for each pixel. Also, 2
The value data may be set to 1 if the multi-valued data is smaller than the threshold, and may be set to 0 if the multi-valued data is equal to or larger than the threshold.

【0023】ランレングス化装置7は、2値化回路6か
ら送られる2値データに基づいて、この2値データが0
から1へ変化する位置、すなわち検査対象物1上の欠陥
の始点位置、および、2値データが1から0へ変化する
位置、すなわち検査対象物1上の欠陥の終点位置を検出
する。
Based on the binary data sent from the binarizing circuit 6, the run length converting device 7
Is detected, that is, the start point position of the defect on the inspection object 1 and the position where the binary data changes from 1 to 0, that is, the end point position of the defect on the inspection object 1 are detected.

【0024】これと同時に、ランレングス化装置7は、
2値データが1である間、すなわち欠陥が存在する位置
で、ラインセンサインタフェース5が出力する多値デー
タに基づいて、2値データが1である間の多値データの
ピーク値を検出し、また、2値データが1である間の多
値データの積算値を算出する。
At the same time, the run length converting device 7
While the binary data is 1, that is, at the position where the defect exists, the peak value of the multi-valued data while the binary data is 1 is detected based on the multi-valued data output by the line sensor interface 5, Further, an integrated value of the multi-value data while the binary data is 1 is calculated.

【0025】そして、ランレングス化装置7は、1つの
ライン上で、2値データが0から1へ変化する位置すな
わち欠陥の始点位置を記録する終点レジスタ、1から0
へ変化する位置すなわち欠陥の終点位置を記録する終点
レジスタ、欠陥内の多値データのピーク値を記録するピ
ークレジスタ、欠陥内の多値データの積算値を記録する
積算レジスタを含み、これら各データを含むランレング
スデータを出力する。このランレングスデータは、1ラ
イン分のデータを1単位とする。このとき、多値データ
から生成する最大値および積算値を、多値データと閾値
との差分の最大値および積算値としてもよい。ランレン
グス化装置7が出力するランレングスデータは、連結処
理装置9に入力される。
Then, the run-length conversion device 7 has an end point register for recording a position where the binary data changes from 0 to 1 on one line, that is, a defect start position, and 1 to 0.
The end point register records the position at which the defect changes, that is, the end point position of the defect, the peak register records the peak value of the multi-valued data in the defect, and the integration register records the integrated value of the multi-valued data in the defect. Output run-length data including. The run length data is one line of data for one line. At this time, the maximum value and the integrated value generated from the multi-value data may be used as the maximum value and the integrated value of the difference between the multi-value data and the threshold. The run length data output from the run length generating device 7 is input to the link processing device 9.

【0026】連結処理装置9は、ランレングス化装置7
が出力する各ランレングスデータ(1ライン分の欠陥デ
ータ)を入力し、入力した各ランレングスデータに基づ
いて、検査対象物1上に存在する欠陥が、ラインセンサ
4の長手方向と直交する方向に広がっているか否かを判
断し、広がっているのであれば、ランレングスデータど
うしを同一の欠陥に関する情報として連結し、検査対象
物1の2次元方向に広がる1つの欠陥に関する情報とし
て2次元欠陥情報を出力する。
The connection processing device 9 includes a run length converting device 7
Is input, and a defect existing on the inspection object 1 is detected in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the line sensor 4 based on the input run-length data. It is determined whether or not it has spread, and if it has spread, the run-length data are linked together as information relating to the same defect, and a two-dimensional defect as information relating to one defect extending in the two-dimensional direction of the inspection object 1 is determined. Output information.

【0027】すなわち、連結処理装置9は、検査対象物
1の2次元方向に広がる1つの欠陥に含まれる全画素の
多値データの総積算値を算出する。具体的には、各ラン
レングスデータに含まれる、1ライン毎の積算値を総合
計する。また、各ランレングスデータに含まれる多値デ
ータのピーク値どうしを比較し、ピーク値の最大値を抽
出し、2次元方向に広がる1つの欠陥に含まれる全画素
の濃度データのピーク値を抽出する。
That is, the connection processing device 9 calculates the total integrated value of the multi-value data of all the pixels included in one defect extending in the two-dimensional direction of the inspection object 1. Specifically, the integrated value for each line included in each run length data is totaled. Further, the peak values of the multi-value data included in each run-length data are compared with each other, the maximum value of the peak values is extracted, and the peak values of the density data of all the pixels included in one defect extending in the two-dimensional direction are extracted. I do.

【0028】また、連結処理装置9は、各ランレングス
データに含まれる欠陥の始点位置および終点位置から、
検査対象物1の2次元方向における欠陥の位置、幅、高
さおよび面積を算出する。ここで、欠陥の位置とは、1
つの欠陥の中心位置である。また、欠陥の幅とは、ライ
ンセンサ4の長手方向における、1つの欠陥の長さであ
る。また、欠陥の高さとは、ラインセンサ4の長手方向
と直交する方向における、1つの欠陥の長さである。
Further, the link processing device 9 calculates a defect starting point position and an end point position included in each run length data,
The position, width, height, and area of the defect in the two-dimensional direction of the inspection object 1 are calculated. Here, the position of the defect is 1
Center position of one defect. The width of a defect is the length of one defect in the longitudinal direction of the line sensor 4. The height of a defect is the length of one defect in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the line sensor 4.

【0029】また、連結処理装置9は、前記多値データ
の総積算値を欠陥の面積で割り、1つの欠陥における多
値データの平均値を算出する。そして、連結処理装置9
は、欠陥の位置、幅、高さ、面積および多値データの最
大値、積算値、平均値を含む2次元欠陥情報を出力す
る。
The link processing device 9 divides the total integrated value of the multi-value data by the area of the defect to calculate an average value of the multi-value data for one defect. And the connection processing device 9
Outputs two-dimensional defect information including the position, width, height, area of the defect and the maximum value, integrated value, and average value of the multi-valued data.

【0030】判定処理装置10は、前記連結処理装置9
が出力する2次元欠陥情報に含まれる個々の欠陥の大き
さおよび濃度から、個々の欠陥の種別を判定し、この判
定結果に基づいて適切な処理を行う。
The judgment processing device 10 includes the connection processing device 9
The type of each defect is determined based on the size and density of each defect included in the two-dimensional defect information output by, and appropriate processing is performed based on the determination result.

【0031】[0031]

【実施例】本発明の実施例を図2を参照して説明する。
検査対象物1は、照明装置2によって照明される。カメ
ラ3は、検査対象物1の画像を撮像する。カメラ3内の
ラインセンサ4は、50MHzで駆動される。すなわ
ち、ラインセンサ4は、50MHzの周波数でラインセ
ンサ4中の各センサエレメントの検出値(アナログ値)
を順次出力する。これらの検出値の列が画像信号であ
る。
An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
The inspection object 1 is illuminated by the illumination device 2. The camera 3 captures an image of the inspection target 1. The line sensor 4 in the camera 3 is driven at 50 MHz. That is, the line sensor 4 detects the value (analog value) of each sensor element in the line sensor 4 at a frequency of 50 MHz.
Are sequentially output. A sequence of these detection values is an image signal.

【0032】検査対象物1は、移動装置によって、カメ
ラ3内のラインセンサ4の長手方向と直交する方向に移
動され、カメラ3によって1ラインづつの画像が撮像さ
れる。これにより、カメラ3内のラインセンサ4は、検
査対象物1の全面の画像を撮像する。
The inspection object 1 is moved by the moving device in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the line sensor 4 in the camera 3, and the camera 3 captures an image for each line. Thereby, the line sensor 4 in the camera 3 captures an image of the entire surface of the inspection target 1.

【0033】ラインセンサ4が出力するアナログ信号で
ある画像信号は、A/D変換器5aへ送られ、ここでラ
インセンサ4の駆動周波数である50MHzに同期して
A/D変換され、1画素当たり8ビットの多値データと
される。
The image signal, which is an analog signal output from the line sensor 4, is sent to an A / D converter 5a, where it is A / D converted in synchronization with the driving frequency of the line sensor 4 of 50 MHz, and is converted into one pixel. The data is 8-bit multivalued data.

【0034】2値化回路6も、ラインセンサ4の駆動周
波数である50MHzに同期して、各画素の多値データ
を、あらかじめ閾値メモリ8aに記憶されていた各画素
の閾値と比較し、多値データが閾値を超えていれば1を
出力し、多値データが閾値以下であれば0を出力するこ
とによって、多値データを2値データに変換する。
The binarizing circuit 6 also compares the multi-value data of each pixel with the threshold value of each pixel stored in advance in the threshold value memory 8a in synchronization with the driving frequency of the line sensor 4 of 50 MHz. By outputting 1 when the value data exceeds the threshold and outputting 0 when the multi-value data is equal to or less than the threshold, the multi-value data is converted into binary data.

【0035】閾値メモリ8aは、各画素毎に一つの閾値
を記憶している。この閾値は、検査に先立って、各画素
毎にあらかじめ定められ、閾値メモリ8aに記憶され
る。閾値メモリ8aに記憶される閾値は、1ライン中の
各画素に共通の一定値であっても、各画素毎に異なる値
であってもよい。
The threshold memory 8a stores one threshold for each pixel. This threshold is determined in advance for each pixel and stored in the threshold memory 8a prior to the inspection. The threshold value stored in the threshold value memory 8a may be a constant value common to each pixel in one line or a different value for each pixel.

【0036】ランレングス化装置7は、AND回路7a
と、ランレングス化回路7bとを内蔵している。AND
回路7aは、A/D変換器5aが出力する多値データ
と、2値化回路6が出力する2値データとの論理積をと
り、2値データを用いて多値データをマスクする。すな
わち、AND回路7aが出力するマスクデータ内には、
2値化回路6で閾値を超えると判定された画素の多値デ
ータのみが残っており、閾値以下と判定された画素の多
値データは0とされる。すなわち、欠陥が検出された画
素の多値データのみが残り、欠陥が検出されなかった画
素の多値データは廃棄される。AND回路7aが出力す
るマスクデータは、前記ランレングス化回路7bに入力
される。
The run-length generating device 7 includes an AND circuit 7a
And a run length conversion circuit 7b. AND
The circuit 7a calculates the logical product of the multi-level data output from the A / D converter 5a and the binary data output from the binarization circuit 6, and masks the multi-level data using the binary data. That is, in the mask data output by the AND circuit 7a,
Only the multi-value data of the pixel determined to exceed the threshold by the binarization circuit 6 remains, and the multi-value data of the pixel determined to be equal to or less than the threshold is set to 0. That is, only the multi-value data of the pixel where the defect is detected remains, and the multi-value data of the pixel where the defect is not detected is discarded. The mask data output from the AND circuit 7a is input to the run-length conversion circuit 7b.

【0037】ランレングス化回路7bは、図示していな
い画素カウンタ、始点レジスタ、積算レジスタ、ピーク
レジスタを内蔵している。
The run-length generating circuit 7b has a built-in pixel counter, starting point register, integrating register, and peak register (not shown).

【0038】画素カウンタは、16ビットのアップカウ
ンタであり、処理中の画素位置を特定するためのもので
ある。この画素カウンタの値は、検査対象物1の走査開
始時に1に初期化され、ラインセンサ4の駆動周波数で
ある50MHzをクロックとして1づつカウントアップ
される。
The pixel counter is a 16-bit up counter for specifying a pixel position being processed. The value of this pixel counter is initialized to 1 at the start of scanning of the inspection object 1, and is counted up one by one with a clock of 50 MHz, which is the driving frequency of the line sensor 4.

【0039】始点レジスタは、16ビットのレジスタで
あり、1つの欠陥の先頭画素位置より一つ前の画素の画
素カウンタ値を保持する。この始点レジスタ値は、マス
クデータが0であれば、その時点での画素カウンタの値
に更新され、マスクデータが0でなければ、以前から保
持していた値のままとされる。
The start point register is a 16-bit register, and holds a pixel counter value of a pixel immediately before the head pixel position of one defect. If the mask data is 0, the starting point register value is updated to the value of the pixel counter at that time, and if the mask data is not 0, the value held before is kept as it is.

【0040】積算レジスタは、24ビットのレジスタで
あり、1つの欠陥内の多値データを順次加算した積算値
を保持する。この積算レジスタ値は、マスクデータが0
であれば0とされ、マスクデータが0でなければ、その
時点での積算値にマスクデータの値を加算した値とされ
る。
The accumulation register is a 24-bit register and holds an accumulation value obtained by sequentially adding multi-value data in one defect. This integration register value is such that the mask data is 0
If the mask data is not 0, the value is obtained by adding the value of the mask data to the integrated value at that time.

【0041】ピークレジスタは、8ビットのレジスタで
あり、1つの欠陥内の多値データのピーク値を保持す
る。このピークレジスタ値は、マスクデータが0であれ
ば0とされ、マスクデータが0でなければ、その時点で
のピークレジスタ値とマスクデータ値とが比較され、そ
の時点でのピークレジスタ値がマスクデータ値未満であ
れば、マスクデータの値に更新され、その時点でのピー
クレジスタ値がマスクデータ値以上であれば、以前から
保持していた値のままとされる。
The peak register is an 8-bit register and holds a peak value of multi-value data in one defect. If the mask data is 0, the peak register value is set to 0. If the mask data is not 0, the peak register value at that time is compared with the mask data value, and the peak register value at that time is masked. If the value is less than the data value, the value is updated to the value of the mask data. If the peak register value at that time is equal to or more than the mask data value, the value held previously is retained.

【0042】ランレングス化回路7bは、マスクデータ
が0ではない状態から0へ変化したとき、すなわち欠陥
の終点位置で、マスクデータが0へ変化した直後の画素
カウンタ値(欠陥の終点位置)と、マスクデータが0へ
変化する直前の始点レジスタ値、積算レジスタ値、ピー
クレジスタの値とを、ランレングスデータとして出力す
る。画素カウンタは16ビット、始点レジスタは16ビ
ット、積算レジスタは24ビット、ピークレジスタは8
ビットなので、ランレングスデータは合計で64ビット
となる。
When the mask data changes from non-zero to zero, that is, at the end point of the defect, the run-length conversion circuit 7b determines the pixel counter value immediately after the mask data has changed to zero (the end point of the defect) and , The start register value, the integration register value, and the peak register value immediately before the mask data changes to 0 are output as run-length data. The pixel counter is 16 bits, the starting point register is 16 bits, the accumulation register is 24 bits, and the peak register is 8 bits.
Since the bits are bits, the run length data is 64 bits in total.

【0043】図3に、ランレングスデータ生成の一例を
示す。この場合、ランレングス化回路7bは、画素カウ
ンタ値が7になったとき、ランレングスデータを出力す
る。このランレングスデータにおける画素カウンタ値は
7、始点レジスタ値は3、積算レジスタ値は353、ピ
ークレジスタ値は132である。
FIG. 3 shows an example of run length data generation. In this case, when the pixel counter value reaches 7, the run-length generating circuit 7b outputs run-length data. In this run-length data, the pixel counter value is 7, the starting point register value is 3, the integration register value is 353, and the peak register value is 132.

【0044】連結処理装置9は、各ランレングスデータ
に含まれる、欠陥の始点位置および終点位置に関する情
報を基に、欠陥が、ラインセンサ4の長手方向と直交す
る方向に続いているか否かを判断する。そして、2次元
方向に連続する1つの欠陥の情報を1つの2次元欠陥情
報として出力する。この2次元欠陥情報は、欠陥の位
置、幅、高さ、面積、欠陥に含まれる画素の濃度レベル
の積算値、平均値、最大値を含む。ここで、欠陥の位置
とは、ラインセンサ4の長手方向および長手方と直交す
る方向における、1つの欠陥の中心位置である。また、
欠陥の幅とは、ラインセンサ4の長手方向における、1
つの欠陥の長さである。また、欠陥の高さとは、ライン
センサ4の長手方向と直交する方向における、1つの欠
陥の長さである。
The link processing device 9 determines whether or not the defect continues in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the line sensor 4 based on the information on the start point position and the end point position of the defect included in each run length data. to decide. Then, information on one defect continuous in the two-dimensional direction is output as one two-dimensional defect information. The two-dimensional defect information includes the position, width, height, area of the defect, and the integrated value, average value, and maximum value of the density levels of the pixels included in the defect. Here, the position of the defect is a central position of one defect in the longitudinal direction of the line sensor 4 and a direction orthogonal to the longitudinal direction. Also,
The width of the defect is 1 in the longitudinal direction of the line sensor 4.
Is the length of one defect. The height of a defect is the length of one defect in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the line sensor 4.

【0045】図4に、連結処理装置9が出力する2次元
欠陥情報の一例を示す。x軸方向位置とは、1つの欠陥
の、ラインセンサ4の長手方向での中心位置、すなわち
連結された個々のランレングスデータにおける、欠陥の
始点位置(始点座標)の最小値(始点レジスタ値の最小
値)と終点位置(終点座標)の最大値(画素カウンタ値
の最大値)との中間である。y軸方向位置とは、1つの
欠陥の、ラインセンサ4の長手方向と直交する方向での
中心位置、すなわちランレングスデータが出力されるラ
インの中心位置である。
FIG. 4 shows an example of the two-dimensional defect information output by the connection processing device 9. The position in the x-axis direction refers to the central position of one defect in the longitudinal direction of the line sensor 4, that is, the minimum value of the defect start point position (start point coordinate value) (in the start point register value) in each connected individual run-length data. It is intermediate between the minimum value) and the maximum value (maximum pixel counter value) of the end point position (end point coordinates). The y-axis direction position is a center position of one defect in a direction orthogonal to the longitudinal direction of the line sensor 4, that is, a center position of a line from which run-length data is output.

【0046】幅とは、1つの欠陥のx軸方向での長さ、
すなわち連結された個々のランレングスデータにおけ
る、欠陥の終点位置(画素カウンタ値)の最大値と始点
位置(始点レジスタ値)の最小値との差から1を引いた
値である。高さとは、1つの欠陥のy軸方向での長さ、
すなわち連続してランレングスデータが出力されるライ
ン数である。
The width is the length of one defect in the x-axis direction,
That is, it is a value obtained by subtracting 1 from the difference between the maximum value of the defect end point position (pixel counter value) and the minimum value of the start point position (start point register value) in each linked run-length data. Height is the length of one defect in the y-axis direction,
That is, the number of lines from which run-length data is output continuously.

【0047】面積とは、1つの欠陥の面積、すなわち連
結された個々のランレングスデータにおける、欠陥の終
点位置(画素カウンタ値)と始点位置(始点レジスタ
値)との差から1を引いた値を積算した値である。
The area is the area of one defect, that is, the value obtained by subtracting 1 from the difference between the end point position (pixel counter value) and the start point position (start point register value) of each connected run-length data. Is the integrated value of

【0048】濃度レベルの積算値とは、1つの欠陥に含
まれる全画素の多値データを積算した値である。具体的
には、各ラインにおけるランレングスデータに含まれる
積算レジスタ値を総合計した値である。濃度レベルの平
均値とは、濃度レベルの積算値を欠陥の面積、すなわち
1つの欠陥に含まれる全画素数で割った値である。濃度
レベルの最大値とは、一つの欠陥に含まれる全画素のな
かでの最大の多値データである。具体的には、各ライン
におけるランレングスデータのピーク値の中で最も大き
いものである。このような連結処理装置9から出力され
る2次元欠陥情報に基づいて、判定処理装置によって個
々の欠陥の種別を判定する。
The integrated value of the density level is a value obtained by integrating multi-value data of all pixels included in one defect. Specifically, it is a value obtained by totalizing the integration register values included in the run length data in each line. The average value of the density levels is a value obtained by dividing the integrated value of the density levels by the area of the defect, that is, the total number of pixels included in one defect. The maximum value of the density level is the maximum multilevel data among all the pixels included in one defect. Specifically, it is the largest of the peak values of the run length data in each line. Based on the two-dimensional defect information output from the link processing device 9, the type of each defect is determined by the determination processing device.

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明によれば、各画素に対して1つの
閾値のみを用いて2値化を行うので、閾値を記憶する記
憶装置や、閾値を用いて2値化を行う2値化回路を小型
化することができ、従って欠陥検査装置全体を小型化す
ることができる。
According to the present invention, since binarization is performed for each pixel using only one threshold value, a storage device for storing the threshold value, and binarization for performing binarization using the threshold value. The circuit can be miniaturized, and therefore the entire defect inspection apparatus can be miniaturized.

【0050】また、本発明によれば、検出された欠陥の
濃度を測定する際に、欠陥部のみの濃度データ中から該
当箇所を検索すればよいので、該当箇所を高速で検索す
ることができ、その結果、この検索処理を含む検査工程
全体を高速化することができる。
Further, according to the present invention, when measuring the density of a detected defect, it is only necessary to search for the corresponding portion from the density data of only the defective portion, so that the corresponding portion can be searched at high speed. As a result, it is possible to speed up the entire inspection process including this search process.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の一実施形態における欠陥検査装置の
構成図。
FIG. 1 is a configuration diagram of a defect inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】 本発明の実施例における欠陥検査装置の構成
図。
FIG. 2 is a configuration diagram of a defect inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図3】 ランレングスデータ生成の一例を示す図。FIG. 3 is a diagram showing an example of run length data generation.

【図4】 連結処理装置9が出力する2次元欠陥情報の
一例を示す図。
FIG. 4 is a diagram showing an example of two-dimensional defect information output by the connection processing device 9;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 検査対象物 2 照明装置 3 カメラ 4 ラインセンサ 5 ラインセンサイン
タフェース 5a A/D変換器 6 2値化回路 7 ランレングス化装置 7a AND回路 7b ランレングス化回路 8 閾値記憶装置 8a 閾値メモリ 9 連結処理装置 10 判定処理装置
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Inspection object 2 Illumination device 3 Camera 4 Line sensor 5 Line sensor interface 5a A / D converter 6 Binarization circuit 7 Run-length conversion device 7a AND circuit 7b Run-length conversion circuit 8 Threshold storage device 8a Threshold memory 9 Connection processing Apparatus 10 Judgment processing device

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 門澤 文夫 愛知県豊橋市牛川通4丁目1番地の2 三 菱レイヨン株式会社豊橋事業所内 Fターム(参考) 2G051 AA31 AB07 CA03 CB01 CB02 CB05 DA06 EA11 EB01 EC01 ED09 5B057 BA02 CA08 CA12 CB06 CB12 CC01 CE12 CG04 CH11 DA08 DB02 DB05 DB09  ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Fumio Kadozawa 4-1-1 Ushikawa-dori, Toyohashi-shi, Aichi F-term (reference) 2M051 AA31 AB07 CA03 CB01 CB02 CB05 DA06 EA11 EB01 EC01 ED09 5B057 BA02 CA08 CA12 CB06 CB12 CC01 CE12 CG04 CH11 DA08 DB02 DB05 DB09

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 検査対象物上の各点の濃度レベルを検出
するセンサエレメントが一直線上に並べられ、前記検査
対象物上の1ライン分の領域における濃度レベルを検出
し、出力するラインセンサと、 このラインセンサまたは前記検査対象物を、前記ライン
センサのセンサエレメントが並べられた方向と交差する
方向に移動させる移動装置と、 各画素毎に一つの閾値を記憶する閾値記憶装置と、 この閾値記憶装置が記憶する閾値を用いて、前記ライン
センサが出力する濃度レベルを2値化し、2値データを
出力する2値化回路と、 この2値化回路が出力する2値データが所定の値である
場合にのみ、前記ラインセンサが出力する濃度レベルを
保持し、保持した濃度レベルから、前記検査対象物上の
1ライン分の領域に存在する欠陥の情報である1次元欠
陥情報を生成するランレングス化装置と、 このランレングス化装置が生成する各1次元欠陥情報を
連結し、前記検査対象物上の2次元方向に広がる欠陥の
情報である2次元欠陥情報を生成する連結処理装置とを
有することを特徴とする欠陥検査装置。
1. A line sensor for detecting a density level at each point on an inspection target in a straight line, detecting and outputting a density level in an area of one line on the inspection target. A movement device for moving the line sensor or the inspection object in a direction intersecting the direction in which the sensor elements of the line sensor are arranged; a threshold storage device for storing one threshold for each pixel; A binarization circuit that binarizes the density level output by the line sensor using a threshold value stored in the storage device and outputs binary data; and a binary data output by the binarization circuit is a predetermined value. Only when is the density level output from the line sensor is held, and from the held density level, the information on the defect existing in the area of one line on the inspection object is obtained. A run-length generating device that generates one-dimensional defect information; and two-dimensional defect information that is information of a defect that extends in a two-dimensional direction on the inspection object by connecting each one-dimensional defect information generated by the run-length generating device. And a consolidation processing device for generating a defect.
【請求項2】 前記連結処理装置が生成する2次元欠陥
情報に基づいて、前記検査対象物上に存在する欠陥の種
別を判定する判定処理装置を有することを特徴とする請
求項1に記載の欠陥検査装置。
2. The apparatus according to claim 1, further comprising a determination processing device that determines a type of a defect existing on the inspection target based on two-dimensional defect information generated by the connection processing device. Defect inspection equipment.
【請求項3】 前記ラインセンサは濃度レベルをアナロ
グデータとして出力し、 前記ラインセンサと2値化回路との間に、前記ラインセ
ンサが出力するアナログデータを多値のデジタルデータ
に変換し、変換したデジタルデータを前記2値化回路へ
送るラインセンサインタフェースを有することを特徴と
する請求項1に記載の欠陥検査装置。
3. The line sensor outputs a density level as analog data, and converts the analog data output by the line sensor into multi-value digital data between the line sensor and a binarization circuit. The defect inspection apparatus according to claim 1, further comprising a line sensor interface for sending the digital data obtained to the binarization circuit.
【請求項4】 前記検査対象物を照明する照明装置を有
することを特徴とする請求項1に記載の欠陥検査装置。
4. The defect inspection apparatus according to claim 1, further comprising an illumination device that illuminates the inspection object.
【請求項5】 前記ランレングス化装置は、 前記検査対象物上の1ライン分の領域に存在する欠陥の
始点位置を記憶する始点レジスタと、 前記検査対象物上の1ライン分の領域に存在する欠陥の
終点位置を記憶する終点レジスタと、 前記検査対象物上の1ライン分の領域に存在する欠陥領
域の各画素の濃度レベルの積算値を記憶する積算レジス
タと、 前記検査対象物上の1ライン分の領域に存在する欠陥領
域の各画素の濃度レベルのピーク値を記憶するピークレ
ジスタとを有し、 前記ランレングス化装置が生成する1次元欠陥情報は、
前記始点レジスタが記憶する欠陥の始点位置と、前記終
点レジスタが記憶する欠陥の終点位置と、前記積算レジ
スタが記憶する濃度レベルの積算値と、前記ピークレジ
スタが記憶する濃度レベルのピーク値とを含むことを特
徴とする請求項1に記載の欠陥検査装置。
5. A run-length generating apparatus, comprising: a start-point register for storing a start-point position of a defect existing in an area of one line on the inspection object; An end point register for storing an end point position of a defect to be inspected; an integration register for storing an integrated value of a density level of each pixel in a defective area existing in an area of one line on the inspection object; A peak register for storing a peak value of a density level of each pixel in a defect area existing in an area of one line, wherein the one-dimensional defect information generated by the run-length generating apparatus includes:
The start point position of the defect stored in the start point register, the end point position of the defect stored in the end point register, the integrated value of the density level stored in the integration register, and the peak value of the density level stored in the peak register The defect inspection apparatus according to claim 1, further comprising:
【請求項6】 前記連結処理装置が生成する2次元欠陥
情報は、前記検査対象物の2次元方向に広がる各欠陥の
位置、幅、高さおよび面積と、各欠陥領域の各画素の濃
度レベルの積算値およびピーク値と、前記濃度レベルの
積算値を欠陥の面積で割った各欠陥における濃度レベル
の平均値とを含むことを特徴とする請求項5に記載の欠
陥検査装置。
6. The two-dimensional defect information generated by the connection processing device includes a position, a width, a height, and an area of each defect extending in a two-dimensional direction of the inspection object, and a density level of each pixel in each defect area. The defect inspection apparatus according to claim 5, further comprising: an integrated value and a peak value, and an average value of density levels of each defect obtained by dividing the integrated value of the density level by an area of the defect.
【請求項7】 前記閾値記憶装置は、前記検査対象物上
の各点に対して個別に定められた閾値を記憶することを
特徴とする請求項1に記載の欠陥検査装置。
7. The defect inspection apparatus according to claim 1, wherein the threshold storage device stores a threshold value individually determined for each point on the inspection object.
【請求項8】 検査対象物上の1ライン分の領域におけ
る濃度レベルを検出し、 検出を行う領域を前記ラインと交差する方向に移動さ
せ、 各画素毎に一つの閾値を用いて、前記濃度レベルを2値
化して2値データとし、 この2値データが所定の値である場合にのみ、前記濃度
レベルを保持し、保持した濃度レベルから、前記検査対
象物上の1ライン分の領域に存在する欠陥の情報である
1次元欠陥情報を生成し、 生成した各1次元欠陥情報を連結し、前記検査対象物上
の2次元方向に広がる欠陥の情報である2次元欠陥情報
を生成することを特徴とする欠陥検査方法。
8. A method for detecting a density level in an area of one line on an inspection object, moving an area to be detected in a direction intersecting with the line, and using one threshold for each pixel, The level is binarized into binary data. Only when the binary data is a predetermined value, the density level is held, and from the held density level, an area for one line on the inspection object is stored. Generating one-dimensional defect information that is information on existing defects, linking each of the generated one-dimensional defect information, and generating two-dimensional defect information that is information on a defect extending in a two-dimensional direction on the inspection object. A defect inspection method characterized by the above-mentioned.
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