JP2001334217A - Method for cleaning substrate, cleaning device, method for manufacturing sherbet for cleaning substrate and device using this method - Google Patents
Method for cleaning substrate, cleaning device, method for manufacturing sherbet for cleaning substrate and device using this methodInfo
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- Cleaning In General (AREA)
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基板の洗浄方法及
び洗浄装置並びに基板を洗浄するためのシャーベットの
製造方法及び装置に係わり、特に半導体ウェハ、液晶デ
ィスプレイ用基板（LCD）、プラズマディスプレー用ガ
ラス基板（PDP）等に適用可能な基板の洗浄装置及び洗
浄方法並びに基板を洗浄するためのシャーベットの製造
方法及び装置に関する。The present invention relates to a method and an apparatus for cleaning a substrate and a method and an apparatus for manufacturing a sherbet for cleaning a substrate, and more particularly to a semiconductor wafer, a substrate for a liquid crystal display (LCD), and a glass for a plasma display. The present invention relates to a substrate cleaning apparatus and a cleaning method applicable to a substrate (PDP) and the like, and a method and an apparatus for manufacturing a sherbet for cleaning a substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】本出願人は、特開平11−151467号公報に
おいて、基板のスクラブ洗浄装置及び洗浄方法を提案し
た。この洗浄装置は、被洗浄物である基板を把持するた
めの把持手段と、基板を化学洗浄するための薬液と基板
を物理洗浄するための雪氷とを基板に供給するための供
給手段と、供給された薬液及び雪氷を基板の表面に向か
って押圧するための押圧手段と、押圧される薬液及び雪
氷を基板の表面に対して相対移動させるための相対移動
手段と、所定の粒径を有する雪氷を製造する雪氷製造装
置とから概略構成されている。この雪氷製造装置は、チ
ャンバ内の純水を冷却空気とともにサイクロン回転させ
ることにより、雪氷を製造するようにしてある。2. Description of the Related Art The present applicant has proposed, in Japanese Patent Application Laid-Open No. H11-151467, an apparatus and a method for scrubbing a substrate. The cleaning apparatus includes: a gripping unit configured to grip a substrate that is an object to be cleaned; a supply unit configured to supply a chemical solution for chemically cleaning the substrate and snow and ice for physically cleaning the substrate to the substrate; Pressing means for pressing the pressed chemical and snow and ice toward the surface of the substrate, relative moving means for moving the pressed chemical and snow and ice relatively to the surface of the substrate, and snow and ice having a predetermined particle size And a snow and ice manufacturing apparatus for manufacturing the same. This snow and ice manufacturing apparatus manufactures snow and ice by rotating cyclone of pure water in a chamber together with cooling air.
【０００３】このような従来の洗浄装置によれば、薬液
及び雪氷を含むシャーベットを基板に対して押圧しなが
ら、基板との間で相対移動させることにより、薬液が基
板の表面を化学洗浄する一方で、雪氷が基板の表面を擦
って（スクラブして）物理洗浄する結果、基板表面を傷
つけないようにしながら、基板の良好な洗浄を行うこと
ができる。According to such a conventional cleaning apparatus, the chemical solution chemically cleans the surface of the substrate by moving the sherbet containing the chemical solution and snow and ice relative to the substrate while pressing the same against the substrate. As a result, physical cleaning is performed by rubbing (scrubbing) the surface of the substrate with snow and ice, so that the substrate can be favorably cleaned while preventing the surface of the substrate from being damaged.
【０００４】しかしながら、以下に示すように、従来の
洗浄方法及び装置には、技術上の問題がある。第1に、
従来の洗浄方法によれば、パーティクルの基板への付着
の仕方によっては、基板の表面に悪影響を与えることで
ある。洗浄の際、除去すべきパーティクルは、基板の表
面に付着しており、特にCMP（機械的研磨）の後には、
基板の表面は純水に晒されている。この純水の表面張力
が、パーティクルの基板への付着力の主な原因となる。
このとき、この表面張力は、一般的にパーティクルを基
板に付着するに十分な大きさを有するため、基板の表面
をスクラブ（擦る）する力を増大させなくてはパーティ
クルを有効に除去するのが困難である。しかしながら、
たとえシャーベット中の雪氷の表面によるスクラブ作用
であっても、スクラブ力の大きさ或いは基板の種類によ
っては、基板の表面に傷等の悪影響が及ぼされることが
ある。[0004] However, as described below, the conventional cleaning method and apparatus have technical problems. First,
According to the conventional cleaning method, depending on how particles adhere to the substrate, the surface of the substrate is adversely affected. During cleaning, particles to be removed are attached to the surface of the substrate, especially after CMP (mechanical polishing).
The surface of the substrate is exposed to pure water. The surface tension of the pure water is a main cause of the adhesion of particles to the substrate.
At this time, since the surface tension is generally large enough to attach the particles to the substrate, it is necessary to effectively remove the particles without increasing the force for scrubbing (rubbing) the surface of the substrate. Have difficulty. However,
Even if the scrubbing action is caused by the surface of snow and ice in the sherbet, the surface of the substrate may be adversely affected by scratches or the like depending on the magnitude of the scrubbing force or the type of the substrate.
【０００５】第2に、所望性状のシャーベットを得るの
が困難な点である。即ち、基板の良好なスクラブ洗浄を
行うためには、基板の種類に応じて、雪氷の粒径を調整
する必要がある。より詳細には、基板の表面にある極微
細な凹凸は、基板の種類によって異なるところ、基板の
凹部内に存在するパーティクルを物理的に洗浄するため
には、雪氷の粒径を凹部の大きさより小さくする必要が
ある一方、粒径が小さすぎては、パーティクルを凹部か
ら有効に掻き出すことができない。[0005] Second, it is difficult to obtain a sherbet having desired properties. That is, in order to perform good scrub cleaning of a substrate, it is necessary to adjust the particle size of snow and ice according to the type of the substrate. More specifically, the microscopic irregularities on the surface of the substrate are different depending on the type of the substrate.In order to physically clean particles existing in the concave portion of the substrate, the particle size of snow and ice is determined by the size of the concave portion. On the other hand, if the particle size is too small, particles cannot be effectively scraped out of the concave portions.
【０００６】しかしながら、この装置によれば、前述の
通り、その場（基板上で）で薬液と雪氷とが混合されて
シャーベットとして完成するので、たとえ薬液と混合す
る前には、雪氷製造装置によって所定粒径の雪氷を得る
ことが可能であるとしても、薬液と混合した後の雪氷の
粒径を調整することにより、粒径により決定される所望
硬さのシャーベットを得ることは、ほとんど困難であ
る。However, according to this apparatus, as described above, the chemical solution and the snow and ice are mixed on the spot (on the substrate) to complete the sherbet. Therefore, even before mixing with the chemical solution, the snow and ice manufacturing device Even if it is possible to obtain snow and ice of a predetermined particle size, it is almost difficult to obtain a sherbet of a desired hardness determined by the particle size by adjusting the particle size of the snow and ice after being mixed with the chemical solution. is there.
【０００７】第３に、シャーベットの製造効率が悪い点
である。従来の雪氷装置によれば、サイクロンチャンバ
内で噴霧された純水と冷却ガスの熱交換は、純水が冷却
ガスに直接接触することによって、熱伝達の形態で行わ
れる。したがって、熱交換率は、純水と冷却ガスとの接
触時間及び接触面積に大きく依存する。Third, the sherbet manufacturing efficiency is poor. According to the conventional snow and ice apparatus, heat exchange between the pure water sprayed in the cyclone chamber and the cooling gas is performed in the form of heat transfer by direct contact of the pure water with the cooling gas. Therefore, the heat exchange rate greatly depends on the contact time and contact area between the pure water and the cooling gas.
【０００８】しかしながら、生成された雪氷がサイクロ
ンチャンバの内壁に付着しやすく、付着の多い個所から
氷の塊が成長し、熱交換のためのサイクロン運動を妨げ
ることがあった。このため、十分な接触時間及び接触面
積を確保することが困難なため、冷却ガスと純水との間
の熱交換率自体が不良であり、その結果雪氷自体の製造
効率が悪かった。加えて、この雪氷製造装置では、この
装置によって予め純水の雪氷を製造した後に、薬液及び
雪氷とを別々に基板に供給し、基板上で薬液と雪氷とを
混合することによって、その場でシャーベットを製造し
ていたため、シャーベット自体のの製造効率も悪かっ
た。[0008] However, the generated snow and ice tend to adhere to the inner wall of the cyclone chamber, and a mass of ice grows from a portion where the snow and ice adhere frequently, which may hinder the cyclone movement for heat exchange. For this reason, it is difficult to secure a sufficient contact time and contact area, and the heat exchange rate between the cooling gas and the pure water itself is poor, resulting in poor production efficiency of snow and ice itself. In addition, in this snow and ice manufacturing apparatus, after the snow and ice of pure water is manufactured in advance by this apparatus, the chemical solution and the snow and ice are separately supplied to the substrate, and the chemical solution and the snow and ice are mixed on the substrate, so that the snow and ice can be obtained on the spot Since sherbet was manufactured, the manufacturing efficiency of the sherbet itself was poor.
【０００９】一方、シャーベットの製造効率を上げるた
めに、純水のみを単にその凝固点以下に過冷却しても、
粒状の氷を得ることは略不可能である。特に、純水を入
れた容器を外側から冷却する場合には、容器の内壁のい
たるところから内部に向かって氷の微片がいっせいにで
き始めるため、時間経過とともにバルク状の氷の塊が作
られるに過ぎない。On the other hand, in order to increase the production efficiency of the sherbet, even if pure water alone is simply supercooled below its freezing point,
It is almost impossible to obtain granular ice. In particular, when cooling a container containing pure water from the outside, ice particles begin to form all at once from the inner wall of the container to the inside, so that a bulk ice mass is formed with the passage of time. It's just
【００１０】[0010]
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の目的
は、上記課題に鑑み、基板への悪影響を防止しつつ有効
に洗浄することができる、従来にない新たな基板の洗浄
方法を提供することにある。本発明の目的は、洗浄すべ
き基板に応じてシャーベットの製造効率を高めつつ、所
望性状のシャーベットを製造して、それを用いて基板を
洗浄することができる基板の洗浄装置及び洗浄方法を提
供することにある。本発明の目的は、基板に応じて適切
な洗浄方法が選択可能な基板の洗浄装置を提供すること
にある。本発明の目的は、洗浄すべき基板に応じてシャ
ーベットの製造効率を高めつつ、所望性状のシャーベッ
トを製造して、それを用いて基板を洗浄することができ
るシャーベットの製造装置及び製造方法を提供すること
にある。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above problems, an object of the present invention is to provide an unprecedented new method for cleaning a substrate, which can effectively clean the substrate while preventing adverse effects on the substrate. It is in. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a cleaning apparatus and a cleaning method of a substrate, which can manufacture a sherbet having a desired property and clean the substrate using the sherbet while increasing the manufacturing efficiency of the sherbet according to the substrate to be cleaned. Is to do. It is an object of the present invention to provide a substrate cleaning apparatus in which an appropriate cleaning method can be selected according to a substrate. An object of the present invention is to provide a sherbet manufacturing apparatus and a manufacturing method capable of manufacturing a sherbet having a desired property and increasing the efficiency of manufacturing a sherbet according to a substrate to be cleaned, and cleaning the substrate using the sherbet. Is to do.
【００１１】[0011]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく、
本発明の洗浄方法は、薬液と雪氷とを含むシャーベット
を用いて、被洗浄物である基板の表面からパーティクル
を除去することにより、基板を洗浄する洗浄方法におい
て、有機系薬液を含む所定粘度のシャーベットを基板に
対して基板の表面に略沿う方向に相対移動させることに
より、有機系薬液が基板の表面に作用して、パーティク
ルの基板の表面に対する付着力を低下させるとともに、
シャーベットが付着力の低下したパーティクルをせん断
除去する構成としてある。さらに、有機系薬液と、雪氷
のための純水とを所定混合比率で混合する段階と、有機
系薬液と純水との混合液を攪拌しながら、前記純水の凝
固点より低く且つ前記有機系薬液の凝固点より高い所定
温度に均一に過冷却する段階と、純水からなる雪氷と有
機系薬液とを含む所望粘度のシャーベットを製造する段
階とを有するのが好ましい。Means for Solving the Problems In order to solve the above problems,
The cleaning method of the present invention uses a sherbet containing a chemical solution and snow and ice to remove particles from the surface of the substrate to be cleaned, thereby cleaning the substrate. By moving the sherbet relative to the substrate in a direction substantially along the surface of the substrate, the organic chemical liquid acts on the surface of the substrate, reducing the adhesion of particles to the surface of the substrate,
The sherbet is configured to shear away particles having reduced adhesion. Mixing the organic chemical solution and pure water for snow and ice at a predetermined mixing ratio; and stirring the mixed solution of the organic chemical solution and pure water, while lowering the freezing point of the pure water and the organic system. It is preferable to have a step of uniformly supercooling to a predetermined temperature higher than the freezing point of the chemical solution, and a step of manufacturing a sherbet having a desired viscosity containing snow and ice made of pure water and an organic chemical solution.
【００１２】前記攪拌段階は、混合液内に渦を発生さ
せ、この渦を成長させ、さらに成長した渦を混合液内で
拡散させる段階を含むのがよい。さらに、前記製造段階
は、前記所定混合比率及び／又は前記過冷却熱量を調節
することによって、前記純水に対する所望割合の前記雪
氷を生成して、所望粘度の前記シャーベットを製造する
のがよい。加えて、前記製造段階は、前記攪拌段階にお
ける前記混合液の攪拌トルクを検出することによって、
前記過冷却熱量を調節して、所望粘度のシャーベットを
製造してもよい。[0012] The stirring step may include a step of generating a vortex in the mixture, growing the vortex, and diffusing the grown vortex in the mixture. Further, in the manufacturing step, the sherbet having a desired viscosity may be manufactured by adjusting the predetermined mixing ratio and / or the amount of supercooling heat to generate the snow and ice in a desired ratio to the pure water. In addition, the manufacturing step includes detecting a stirring torque of the mixed solution in the stirring step,
The sherbet having a desired viscosity may be manufactured by adjusting the amount of supercooling heat.
【００１３】上記課題を解決するために、本発明の別の
洗浄方法は、薬液と雪氷とを含むシャーベットを被洗浄
物である基板の表面に押圧することによって、基板をス
クラブ洗浄する洗浄方法において、 薬液と、雪氷のた
めの純水とを所定混合比率で混合する段階と、 薬液と
純水との混合液を攪拌しながら、前記純水の凝固点より
低く且つ前記薬液の凝固点より高い所定温度に均一に過
冷却する段階と、 純水からなる雪氷と薬液とを含む所
望性状のシャーベットを製造する段階とを有し、このシ
ャーベットを基板の表面に押圧する構成としてある。In order to solve the above problem, another cleaning method according to the present invention is directed to a cleaning method for scrub-cleaning a substrate by pressing a sherbet containing a chemical solution and snow and ice against the surface of the substrate to be cleaned. Mixing the chemical solution and pure water for snow and ice at a predetermined mixing ratio; and stirring the mixture of the chemical solution and pure water at a predetermined temperature lower than the freezing point of the pure water and higher than the freezing point of the chemical solution. And a step of manufacturing a sherbet having a desired property including snow and ice made of pure water and a chemical solution, and pressing the sherbet against the surface of the substrate.
【００１４】また、前記製造段階は、前記所定混合比率
及び／又は前記所定温度を調節することによって、所望
粒径の前記雪氷を生成して、所望硬度の前記シャーベッ
トを製造するのが好ましい。In the manufacturing step, it is preferable to produce the snow and ice having a desired particle size by adjusting the predetermined mixing ratio and / or the predetermined temperature to manufacture the sherbet having a desired hardness.
【００１５】さらに、前記攪拌段階は、混合液内に渦を
発生させ、この渦を成長させ、さらに成長した渦を混合
液内で拡散させる段階を含むのがよい。Further, the stirring step may include a step of generating a vortex in the mixture, growing the vortex, and diffusing the grown vortex in the mixture.
【００１６】さらにまた、前記薬液は、有機系、アルカ
リ系及び及び酸系のいずれか、或いは任意の組み合わせ
からなるのがよい。Further, the chemical solution is preferably composed of any one of organic, alkaline, and acid systems, or any combination thereof.
【００１７】さらに、前記基板の洗浄中に、前記基板を
回転及び往復運動させる段階を有してもよい。The method may further include rotating and reciprocating the substrate while cleaning the substrate.
【００１８】上記課題を解決するために、本発明の基板
の洗浄装置は、被洗浄物である基板を把持するための把
持手段と、基板を洗浄するための薬液と雪氷とを含むシ
ャーベットを基板に供給するための供給手段と、供給さ
れるシャーベットを基板の表面に対して相対移動させる
ための相対移動手段と、薬液と雪氷とからなるシャーベ
ットを製造するためのシャーベット製造装置とを有し、
このシャーベット製造装置は、 薬液と、雪氷のための
純水とを所定混合比率で混合するための混合容器と、こ
の混合液を前記純水の凝固点より低く且つ前記薬液の凝
固点より高い所定温度に過冷却するための過冷却手段
と、前記混合液内の混合液を均一に攪拌するための、略
鉛直方向に延びる回転軸線を中心に回転する攪拌羽根と
を有し、この攪拌羽根は、攪拌中に前記混合容器の内壁
を擦らないように前記攪拌羽根の回転軸線との間で攪拌
半径を構成する外縁を有し、純水からなる雪氷と薬液と
を含む所望性状のシャーベットを用いて、基板の表面か
らパーティクルを除去することにより、基板を洗浄する
構成としてある。In order to solve the above problems, a substrate cleaning apparatus of the present invention comprises a holding means for holding a substrate to be cleaned, and a sherbet containing a chemical solution for cleaning the substrate and snow and ice. Supply means for supplying to the, a relative moving means for relatively moving the supplied sherbet with respect to the surface of the substrate, and a sherbet manufacturing apparatus for manufacturing a sherbet composed of a chemical solution and snow and ice,
This sherbet manufacturing apparatus comprises: a mixing container for mixing a chemical solution and pure water for snow and ice at a predetermined mixing ratio; and a step of bringing the mixed solution to a predetermined temperature lower than the freezing point of the pure water and higher than the freezing point of the chemical solution. A supercooling unit for supercooling, and a stirring blade rotating about a rotation axis extending in a substantially vertical direction for uniformly stirring the mixed liquid in the mixed liquid, the stirring blade includes a stirring blade. Using a sherbet of a desired property including snow and ice made of pure water and a chemical liquid, having an outer edge constituting a stirring radius between the rotation axis of the stirring blade so as not to rub the inner wall of the mixing container therein, The structure is such that the substrate is cleaned by removing particles from the surface of the substrate.
【００１９】また、前記外縁は、前記回転軸線を介して
一方の側に、前記回転軸線の方向に沿って延びる第1外
縁と、他方の側に前記回転軸線の方向に沿って延び、凹
凸状に形成された第２外縁とを有し、さらに、前記攪拌
羽根は、前記回転軸線と前記第1外縁との間に、前記回
転軸線の方向に延びる開口を有するのが好ましい。The outer edge has a first outer edge extending along the direction of the rotation axis on one side through the rotation axis, and an outer edge extending along the direction of the rotation axis on the other side. Preferably, the stirring blade further includes an opening extending in the direction of the rotation axis between the rotation axis and the first outer edge.
【００２０】さらに、前記攪拌羽根は、略平板からな
り、前記開口は、前記回転軸線の方向に整列した複数の
開口からなり、 前記第２外縁は、前記複数の開口の各
開口に相当するレベルに凸部が、前記回転軸線の方向に
隣合う開口の間に相当するレベルに凹部が形成されるの
がよい。Further, the stirring blade is formed of a substantially flat plate, the opening is formed of a plurality of openings aligned in the direction of the rotation axis, and the second outer edge is a level corresponding to each of the plurality of openings. It is preferable that a convex portion is formed at a level corresponding to a space between openings adjacent to each other in the direction of the rotation axis.
【００２１】上記課題を解決するために、本発明のシャ
ーベットの製造方法は、薬液と、雪氷のための純水とを
所定混合比率で混合する段階と、薬液と純水との混合液
を攪拌しながら、前記純水の凝固点より低く且つ前記薬
液の凝固点より高い所定温度に均一に過冷却する段階
と、純水からなる雪氷と薬液とを含む所望性状のシャー
ベットを製造する段階とを有する構成としてある。In order to solve the above problems, a method of manufacturing a sherbet according to the present invention comprises the steps of mixing a chemical solution and pure water for snow and ice at a predetermined mixing ratio, and stirring the mixed solution of the chemical solution and pure water. A step of uniformly supercooling to a predetermined temperature lower than the freezing point of the pure water and higher than the freezing point of the chemical solution; and a step of manufacturing a sherbet having a desired property including snow and ice made of pure water and a chemical solution. There is.
【００２２】また、前記製造段階は、前記所定混合比率
及び／又は前記過冷却熱量を調節することによって、所
望粒径の前記雪氷を生成して、所望硬度及び所望粘度の
前記シャーベットを製造する段階を含むのがよい。In the manufacturing step, the predetermined mixing ratio and / or the amount of supercooling heat may be adjusted to generate the snow and ice having a desired particle size to manufacture the sherbet having a desired hardness and a desired viscosity. Should be included.
【００２３】さらに、前記所望粒径は、略200ミクロン
以下であるのが好ましい。Further, the desired particle size is preferably not more than about 200 microns.
【００２４】さらにまた、前記攪拌段階は、混合液内に
渦を発生させ、この渦を成長させ、さらに成長した渦を
混合液内で拡散させる段階を含むのがよい。Further, the stirring step may include a step of generating a vortex in the mixture, growing the vortex, and diffusing the grown vortex in the mixture.
【００２５】加えて、前記薬液は、有機系、アルカリ系
及び酸系のいずれか、或いは任意の組み合わせからなる
のがよい。In addition, the chemical solution is preferably composed of any one of an organic system, an alkali system, and an acid system, or an arbitrary combination.
【００２６】上記課題を解決するために、本発明のシャ
ーベットの製造装置は、薬液と、雪氷のための純水とを
所定混合比率で混合するための混合容器と、この混合液
を前記純水の凝固点より低く且つ前記薬液の凝固点より
高い所定温度に過冷却するための過冷却手段と、前記混
合液内の混合液を均一に攪拌するための攪拌羽根とを有
し、この攪拌羽根は、攪拌中に前記混合容器の内壁を擦
らないように前記攪拌羽根の回転軸線との間で攪拌半径
を構成する外縁を有する、ことを特徴とする、基板の洗
浄に用いられる、純水からなる雪氷と薬液とを含む所望
性状のシャーベットを製造する構成としてある。In order to solve the above-mentioned problems, a sherbet manufacturing apparatus according to the present invention comprises: a mixing vessel for mixing a chemical solution and pure water for snow and ice at a predetermined mixing ratio; Having a supercooling means for supercooling to a predetermined temperature lower than the freezing point of the chemical solution and higher than the freezing point of the chemical solution, and a stirring blade for uniformly stirring the mixed solution in the mixed solution. Snow and ice made of pure water, used for cleaning a substrate, having an outer edge forming a stirring radius with the rotation axis of the stirring blade so as not to rub the inner wall of the mixing vessel during stirring. And a sherbet having a desired property including a chemical solution.
【００２７】また、前記外縁は、前記回転軸線を介して
一方の側に、前記回転軸線の方向に沿って延びる第1外
縁と、他方の側に前記回転軸線の方向に沿って延び、凹
凸状に形成された第２外縁とを有し、さらに、前記攪拌
羽根は、前記回転軸線と前記第1外縁との間に、前記回
転軸線の方向に延びる開口を有するのが好ましい。The outer edge has a first outer edge extending along the direction of the rotation axis on one side through the rotation axis, and an outer edge extending along the direction of the rotation axis on the other side. Preferably, the stirring blade further includes an opening extending in the direction of the rotation axis between the rotation axis and the first outer edge.
【００２８】加えて、前記攪拌羽根は、略平板からな
り、前記開口は、前記回転軸線の方向に整列した複数の
開口からなり、前記第２外縁は、前記複数の開口の各開
口に相当するレベルに凸部が、前記回転軸線の方向に隣
合う開口の間に相当するレベルに凹部が形成されるのが
よい。In addition, the stirring blade is formed of a substantially flat plate, the opening is formed of a plurality of openings aligned in the direction of the rotation axis, and the second outer edge corresponds to each of the plurality of openings. It is preferable that a convex portion is formed at a level, and a concave portion is formed at a level corresponding to a space between openings adjacent in the direction of the rotation axis.
【００２９】またさらに、前記第2外縁と前記内壁との
間隔は、前記第１外縁と前記内壁との間隔より大きいの
がよい。Further, it is preferable that a distance between the second outer edge and the inner wall is larger than a distance between the first outer edge and the inner wall.
【００３０】また、前記混合液の攪拌トルクを検出する
ことにより、前記過冷却熱量を調節して、前記シャーベ
ットの所望性状を調整するための攪拌トルク検出手段を
有するのがよい。Further, it is preferable to have a stirring torque detecting means for adjusting the supercooling heat amount by detecting the stirring torque of the mixed liquid to adjust the desired properties of the sherbet.
【００３１】[0031]
【作用】本発明の洗浄方法によれば、有機系薬液を含む
所定粘度のシャーベットを基板に対して基板の表面に略
沿う方向に相対移動させることにより、有機系薬液がパ
ーティクルが付着した基板の表面に作用する結果、パー
ティクルの基板の表面に対する付着力の原因となる基板
上の液体（たとえばCMPの後にあっては純水）が有機系
薬液と置換される結果、パーティクルの付着力をなく
し、或いは低下させることができる。次いで、シャーベ
ットを基板の表面に対して直接押圧させ、表面をスクラ
ブする必要なしに、所定粘度のシャーベットによって付
着力の低下したパーティクルをせん断除去することが可
能となる。本方法によれば、シャーベット中の雪氷が基
板の表面上を直接擦る（スクラブする)ことによって、
基板上のパーティクルを除去するスクラブ洗浄と異な
り、事前にパーティクルと基板の表面との付着を弱めた
うえで、シャーベット全体としての粘性を利用すること
によって、基板表面へのスクラブ力そのものに頼ること
なく、パーティクルをせん断除去することができるの
で、基板の表面への悪影響を回避することができる。According to the cleaning method of the present invention, by moving a sherbet having a predetermined viscosity containing an organic chemical liquid relative to the substrate in a direction substantially along the surface of the substrate, the organic chemical liquid can be removed from the substrate to which the particles adhere. As a result of acting on the surface, the liquid on the substrate (for example, pure water after CMP), which causes adhesion of particles to the surface of the substrate, is replaced with an organic chemical solution, thereby eliminating the adhesion of particles, Alternatively, it can be reduced. Next, the sherbet is pressed directly against the surface of the substrate, and the sherbet having a predetermined viscosity can be used to shear away particles having reduced adhesion without the need to scrub the surface. According to this method, snow and ice in the sherbet directly rub (scrub) on the surface of the substrate,
Unlike scrub cleaning, which removes particles on the substrate, the adhesion between the particles and the substrate surface is weakened in advance, and the viscosity of the sherbet as a whole is used, without relying on the scrubbing force itself on the substrate surface. Since the particles can be removed by shearing, adverse effects on the surface of the substrate can be avoided.
【００３２】本発明の別の洗浄方法によれば、いわゆる
溶液の凝固点降下の性質に基づき、一般に純水の凝固点
の方が薬液のそれより高いことを利用して、純水と薬液
とを混合した混合液を攪拌しながら過冷却することによ
り、純水から先に凝固させながら、薬液を凝固させない
ようにすることを通じて、純水を過冷却しつつバルク状
の氷ができないようにすることによって、単なる冷却に
比して、純水だけの雪氷、特に所望粒径の雪氷と液状の
薬液とから構成された所望硬度のシャーベットの製造効
率を高めることが可能となり、それを用いて基板の表面
を押圧することにより、効果的に基板を洗浄することが
できる。According to another cleaning method of the present invention, based on the so-called lowering of the freezing point of a solution, the fact that the freezing point of pure water is generally higher than that of a chemical solution is used to mix pure water and a chemical solution. By supercooling the mixed solution with stirring, solidifying first from pure water and preventing solidification of the chemical solution, by supercooling the pure water and preventing the formation of bulk ice Compared to simple cooling, it is possible to increase the production efficiency of snow and ice made of pure water only, particularly, a sherbet having a desired hardness composed of snow and ice having a desired particle size and a liquid chemical, and using the same, the surface of the substrate can be improved. By pressing, the substrate can be effectively cleaned.
【００３３】本発明の洗浄装置によれば、薬液を適当に
選択して、純水との間で所望性状のシャーベットを製造
して、基板に応じた洗浄方法に対処可能な装置を提供す
ることができる。その際、基板に応じて洗浄方法を変更
する際、洗浄水を用いて攪拌羽根により混合容器内で攪
拌させ、さらにこの洗浄水を利用して洗浄部も洗浄する
ことにより、別途混合容器等を洗浄することなく、極め
て簡便かつ短時間でシャーベット製造装置自体を洗浄す
ることができるので、次の基板の洗浄に機敏に対応する
ことが可能である。According to the cleaning apparatus of the present invention, there is provided an apparatus capable of appropriately selecting a chemical solution, manufacturing a sherbet having desired properties with pure water, and coping with a cleaning method corresponding to a substrate. Can be. At that time, when changing the washing method according to the substrate, the washing blade is used to stir the inside of the mixing vessel with the stirring blade, and the washing section is further washed by using the washing water to separately prepare the mixing vessel and the like. Since the sherbet manufacturing apparatus itself can be washed very simply and in a short time without washing, it is possible to quickly respond to the next washing of the substrate.
【００３４】本発明のシャーベット製造装置及び製造方
法によれば、純水と薬液とを混合した混合液を攪拌しな
がら過冷却することにより、いわゆる溶液の凝固点降下
の性質から一般に純水の凝固点の方が薬液のそれより高
いことを利用して、純水から先に凝固させながら、一方
で薬液を凝固させないようにして、それにより純水を過
冷却しつつバルク状の氷ができないようにすることが可
能となる。これによって、単に純水をその凝固点で冷却
する場合に比して、純水だけの雪氷の製造効率を高める
のみならず、このような雪氷と液状の薬液とから構成さ
れたゲル状のシャーベットの製造効率を高めることが可
能となる。According to the sherbet manufacturing apparatus and the manufacturing method of the present invention, by supercooling a mixed liquid obtained by mixing pure water and a chemical solution while stirring, the freezing point of pure water is generally reduced due to the so-called lowering of the freezing point of the solution. Utilizing the fact that it is higher than that of the chemical solution, solidifying the pure water first, while preventing the chemical solution from coagulating, thereby supercooling the pure water and preventing the formation of bulk ice It becomes possible. This not only enhances the production efficiency of snow and ice using pure water alone, as compared to the case where pure water is simply cooled at its freezing point, but also provides a gel-type sherbet composed of such snow and ice and a liquid chemical. Manufacturing efficiency can be increased.
【００３５】特に、混合比率及び過冷却熱量を調節する
ことにより、所望粒径の雪氷と未凝固の薬液とからなる
ゲル状のシャーベットを製造することが可能となり、そ
の結果洗浄すべき基板に応じて所望性状のシャーベット
を完成した状態で基板に供給することができる。In particular, by adjusting the mixing ratio and the amount of supercooling heat, it becomes possible to manufacture a gel-like sherbet composed of snow and ice having a desired particle size and an unsolidified chemical solution. Thus, a sherbet having desired properties can be supplied to the substrate in a completed state.
【００３６】[0036]
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を、図１乃至
図１１を参照しながら、以下に詳細に説明する。以下
で、「パーティクル」という用語は、基板、特にその表面
に付着する一般的な異物であって、基板の洗浄によって
除去されるべきものとして広義の意味で用いる。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below in detail with reference to FIGS. In the following, the term “particle” is used in a broad sense as a general foreign matter adhering to a substrate, especially its surface, which should be removed by cleaning the substrate.
【００３７】本発明の第１の実施の形態を以下に説明す
る。図１は、本発明の実施の形態に係わる洗浄装置の概
観図である。図２は、本発明の実施の形態に係わる洗浄
装置のシャーベット製造ユニットを示す概略図である。
図３は、図１の方向IIから見た、図１と同様な図であ
る。図４は、本発明の第１の実施の形態に係わる洗浄装
置の洗浄ユニットを示す概略図である。図５は、本発明
の実施の形態に係わるシャーベット製造ユニットの攪拌
羽根の作用を示す平面図であり、渦Ｖの発生状態を示
す。図６は、本発明の実施の形態に係わるシャーベット
製造ユニットの攪拌羽根の作用を示す平面図であり、渦
Ｖの成長状態を示す。図７は、本発明の実施の形態に係
わるシャーベット製造ユニットの攪拌羽根の作用を示す
平面図であり、渦Ｖの拡散状態を示す。図８は、本発明
の第1の実施の形態に係わる洗浄方法の作用を説明する
概略図である。The first embodiment of the present invention will be described below. FIG. 1 is a schematic view of a cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a schematic diagram showing a sherbet manufacturing unit of the cleaning device according to the embodiment of the present invention.
FIG. 3 is a view similar to FIG. 1 as seen from the direction II in FIG. FIG. 4 is a schematic diagram showing a cleaning unit of the cleaning device according to the first embodiment of the present invention. FIG. 5 is a plan view showing the operation of the stirring blade of the sherbet manufacturing unit according to the embodiment of the present invention, and shows a state in which a vortex V is generated. FIG. 6 is a plan view showing the operation of the stirring blade of the sherbet manufacturing unit according to the embodiment of the present invention, and shows a growth state of the vortex V. FIG. 7 is a plan view showing the operation of the stirring blade of the sherbet manufacturing unit according to the embodiment of the present invention, and shows a state in which the vortex V is diffused. FIG. 8 is a schematic diagram illustrating the operation of the cleaning method according to the first embodiment of the present invention.
【００３８】以下、基板である半導体ウェハを化学的及
び機械的研磨後（CMP）及びアッシング後に洗浄する場
合を例として、基板の洗浄装置を説明する。基板の洗浄
装置１は、図１に示すように、シャーベット製造部を内
蔵するシャーベット製造ユニット１０と、基板の洗浄部
を内蔵する洗浄ユニット１１とからなるワンユニットと
して形成され、洗浄部の上方に位置決めされたシャーベ
ット製造ユニット１０によって製造されたシャーベット
を重力自然落下を利用して供給ライン１３を介して洗浄
ユニット１１に送出し、基板の洗浄に用いるようにして
いる。Hereinafter, an apparatus for cleaning a substrate will be described by taking, as an example, a case where a semiconductor wafer as a substrate is cleaned after chemical and mechanical polishing (CMP) and after ashing. As shown in FIG. 1, the substrate cleaning apparatus 1 is formed as a single unit including a sherbet manufacturing unit 10 including a sherbet manufacturing unit and a cleaning unit 11 including a substrate cleaning unit. The sherbet manufactured by the positioned sherbet manufacturing unit 10 is sent out to the cleaning unit 11 via the supply line 13 using gravity gravity fall, and is used for cleaning the substrate.
【００３９】図２及び図３に示すように、シャーベット
製造ユニット１０は、 薬液と、雪氷のための純水とを
所定混合比率で混合するための混合容器１２と、この混
合液Ａを純水の凝固点より低く且つ薬液の凝固点より高
い所定温度に混合容器１２の外側から過冷却するための
過冷却手段１４と、混合容器１２内の混合液Ａを均一に
攪拌するための攪拌羽根１６とから概略構成されてい
る。As shown in FIGS. 2 and 3, a sherbet manufacturing unit 10 includes a mixing vessel 12 for mixing a chemical solution and pure water for snow and ice at a predetermined mixing ratio, and A supercooling means 14 for supercooling from outside the mixing vessel 12 to a predetermined temperature lower than the freezing point of the chemical solution and higher than the freezing point of the chemical solution; It is schematically configured.
【００４０】洗浄対象となる基板としては、半導体ウェ
ハ、液晶ディスプレー用ガラス基板（LCD）、及びプラ
ズマディスプレー用ガラス基板（PDP）等多種に及ぶ。
薬液は、有機系、アルカリ系及び及び酸系のいずれか、
或いは任意の組み合わせからなる。There are various types of substrates to be cleaned, such as a semiconductor wafer, a glass substrate for liquid crystal display (LCD), and a glass substrate for plasma display (PDP).
Chemical solution is any of organic, alkaline and acid based,
Or it consists of arbitrary combinations.
【００４１】有機系薬液は、パーティクルの基板の表面
への付着原因である、水分等の液体による分子間力或い
は表面張力を減少させる化学洗浄機能を果たすために用
いられ、アルコール、特にイソプロピルアルコールが好
ましい。The organic chemical liquid is used to perform a chemical cleaning function of reducing intermolecular force or surface tension due to liquid such as water, which is a cause of adhesion of particles to the surface of the substrate. preferable.
【００４２】アルカリ系薬液は、ゼータポテンシャルを
調整することによって、パーティクルの再付着を防止す
る化学洗浄機能を果たすために用いられ、アンモニア水
が好ましい。たとえばCMPプロセス後の基板に希NH4OHを
作用させると、酸化膜上にはSiO2のコロイダルシリカが
多く含まれているので、希NH4OHは、酸化膜及びスラリ
ーをいずれも電気的に同極とし、それにより生じる電気
的反発力によりスラリの再付着を防止する機能を有す
る。この意味で、アルカリ系薬液は、特に異物のうち、
酸化膜上のスラリに対して有効である。The alkaline chemical solution is used for adjusting the zeta potential to perform a chemical cleaning function for preventing particles from re-adhering, and is preferably ammonia water. For example, when dilute NH 4 OH is applied to the substrate after the CMP process, a large amount of SiO 2 colloidal silica is contained on the oxide film, so that the dilute NH 4 OH electrically converts both the oxide film and the slurry. It has the same polarity and has a function of preventing re-adhesion of the slurry due to the electric repulsion generated thereby. In this sense, alkaline chemicals are particularly
Effective for slurry on oxide film.
【００４３】酸系薬液は、いわゆるキレート効果によ
り、パーティクル、金属イオン等の付着を防止する化学
洗浄機能を果たすために用いられ、有機酸、特にシュウ
酸、クエン酸及び酢酸が好ましい。The acid-based chemical is used to perform a chemical cleaning function for preventing adhesion of particles, metal ions and the like by a so-called chelating effect, and organic acids, particularly oxalic acid, citric acid and acetic acid are preferable.
【００４４】純水は、それ自体のパーティクルの含有率
が一定以下のものである必要がある。たとえば、脱イオ
ン水、或いは２５℃で１５ＭΩ・ｃｍ以上の抵抗値を有
するのが好ましい。また、超純水でもよい。Pure water must have a particle content of less than a certain level. For example, it is preferable to have a resistance value of 15 MΩ · cm or more at 25 ° C. in deionized water. Further, ultrapure water may be used.
【００４５】混合容器１２は、蓋１８と底板２０とを備
えた二重容器の構成であり、特に内壁２２から混合液Ａ
に異物が混入しないような材質である。蓋１８には、後
に説明する純水及び薬液供給ライン２６、２８と、後に
説明する攪拌羽根１６に連結されたプロペラ回転軸３０
が設けられている。純水及び薬液供給ライン２６、２８
はそれぞれ、流量制御装置３２、３４、流量開閉弁３
６、３８、熱交換器４０及びフィルタ４２、４４を経て
混合容器１２に接続されている。この流量制御装置３
２、３４により、純水と薬液の流量を制御したうえで、
フィルタ４２、４４によりそれぞれの液体内に存在する
異物を除去した後に、純水と薬液とを所定の混合比率で
混合容器１２内で混合させるようにしている。熱交換器
４０は、洗浄廃液の熱を利用して、純水及び薬液とを冷
却するようにしている。より具体的には、本装置１０に
よって製造したシャーベットを用いて基板を洗浄する
と、シャーベット自体はほとんど液体となるが、依然と
して低温（少なくとも零度以下）であるので、この熱を
利用するために、この廃液と純水或いは薬液との間で熱
交換するようにしている。The mixing container 12 is a double container having a lid 18 and a bottom plate 20.
It is made of a material that does not allow foreign matter to enter. The lid 18 has pure water and chemical liquid supply lines 26 and 28 described later, and a propeller rotating shaft 30 connected to the stirring blade 16 described later.
Is provided. Pure water and chemical supply lines 26, 28
Are flow control devices 32 and 34, respectively,
6, 38, the heat exchanger 40 and the filters 42, 44 are connected to the mixing vessel 12. This flow control device 3
After controlling the flow rates of pure water and the chemical solution by 2, 34,
After removing foreign substances present in the respective liquids by the filters 42 and 44, the pure water and the chemical liquid are mixed in the mixing container 12 at a predetermined mixing ratio. The heat exchanger 40 cools the pure water and the chemical using the heat of the cleaning waste liquid. More specifically, when the substrate is washed using the sherbet manufactured by the present apparatus 10, the sherbet itself becomes almost liquid, but still has a low temperature (at least zero degrees or less). Heat is exchanged between the waste liquid and the pure water or the chemical liquid.
【００４６】図３に示すように、プロペラ回転軸３０
は、サーボモータ４６に連結され、さらにこのサーボモ
ータ４６は、トルク検出を行うサーボモータドライバ及
びコントローラ４８に連結されており、サーボモータ４
６の回転により、混合容器１２内で攪拌羽根１６を回転
させ、さらにそのとき発生する攪拌トルクを検出するよ
うにしてある。即ち、サーボモータドライバ及びコント
ローラ４８は、混合液Ａの攪拌トルクを検出することに
より、過冷却熱量を調節して、シャーベットの所望の性
状、たとえば雪氷の粒径により主に決定される硬度、或
いは固相と液相との割合によって主に決定される粘度を
調整する攪拌トルク制御機能を有する。これらの制御に
当たり、所望性状のシャーベットを製造できるようにす
るために、従来からのコンピュータ制御技術を用いるの
が好ましい。As shown in FIG. 3, the propeller rotating shaft 30
Is connected to a servomotor 46, which is further connected to a servomotor driver and a controller 48 for detecting torque.
By the rotation of 6, the stirring blade 16 is rotated in the mixing vessel 12, and the stirring torque generated at that time is detected. That is, the servo motor driver and controller 48 adjusts the amount of supercooling heat by detecting the stirring torque of the mixed solution A, and determines the desired properties of the sherbet, for example, the hardness mainly determined by the particle size of snow and ice, or It has a stirring torque control function for adjusting the viscosity mainly determined by the ratio between the solid phase and the liquid phase. In performing these controls, it is preferable to use a conventional computer control technique so that a sherbet having desired properties can be manufactured.
【００４７】また、図２に示すように、混合容器１２内
の混合液Ａの液面高さを検出するために、光学センサ５
０が設置されている。一方、底板２０には、混合容器１
２内の混合液Ａ或いは完成したシャーベットを下方に位
置する洗浄ユニット１１に送出するための流出バルブ５
２が設けられている。この流出バルブ５２は、供給ライ
ン１３に接続している。As shown in FIG. 2, the optical sensor 5 is used to detect the liquid level of the mixed solution A in the mixing vessel 12.
0 is set. On the other hand, the mixing container 1
Outflow valve 5 for sending out the mixed solution A or the completed sherbet in the washing unit 11 located below.
2 are provided. The outflow valve 52 is connected to the supply line 13.
【００４８】攪拌羽根１６について説明すれば、攪拌羽
根１６は、図２に明瞭に示すように、略平板からなり、
攪拌中に混合容器１２の内壁２２を擦らないように攪拌
羽根１６の回転軸線Ｘとの間で攪拌半径を構成する外縁
５４、５６を有する。攪拌羽根１６の材質は、ＳＵＳ系
金属であるが、攪拌中に混合液Ａ内に異物が混入せず、
且つ必要攪拌トルクに耐える材質である限り、その他の
材質でもよい。容器内壁２２との間隔は、攪拌動作によ
って内壁からの氷の成長を防止する観点から、混合容器
の内壁を擦らない限度で極力内壁２２に近接するのが好
ましい。また、攪拌の回転数は、所望の性状のシャーベ
ットを製造する観点から適宜定められる。The stirring blade 16 will be described. The stirring blade 16 is made of a substantially flat plate as clearly shown in FIG.
The outer edges 54 and 56 have a stirring radius with the rotation axis X of the stirring blade 16 so as not to rub the inner wall 22 of the mixing vessel 12 during stirring. The material of the stirring blade 16 is a SUS-based metal, but no foreign matter enters the mixed solution A during stirring.
Other materials may be used as long as the materials can withstand the required stirring torque. From the viewpoint of preventing the growth of ice from the inner wall by the stirring operation, the interval with the inner wall 22 of the container is preferably as close as possible to the inner wall 22 as long as the inner wall of the mixing container is not rubbed. The rotation speed of the stirring is appropriately determined from the viewpoint of producing a sherbet having a desired property.
【００４９】より詳細には、図３に明瞭に示すように、
外縁５４、５６は、回転軸線Ｘを介して一方の側に、回
転軸線Ｘの方向に沿って延びる第1外縁５４と、他方の
側に回転軸線Ｘの方向に沿って延び、凹凸状に形成され
た第２外縁５６とを有する。第２外縁５６と内壁２２と
の間隔である第２間隔６１は、第１外縁５６と内壁２２
との間隔である第1間隔５９より大きくしてある。第1間
隔５９は、特に0.5ｍｍないし2.0ｍｍが好ましい。さら
に、攪拌羽根１６は、回転軸線Ｘと第1外縁５４との間
に、回転軸線Ｘの方向に延びる開口５８を有するととも
に、第1外縁５４から開口５８までの回転軸線Ｘの方向
に延びる部分５７が形成される。この開口５８及び部分
５７は、攪拌の際、開口５８が混合液Ａを攪拌しないよ
うにしつつ、部分５７が反対に攪拌することで、後に説
明する渦の発生を促進する機能を果たすようにしてい
る。More specifically, as clearly shown in FIG.
The outer edges 54, 56 extend on one side through the rotation axis X along the direction of the rotation axis X, and extend along the direction of the rotation axis X on the other side, and are formed in an uneven shape. A second outer edge 56. The second interval 61, which is the interval between the second outer edge 56 and the inner wall 22, is different from the first outer edge 56 and the inner wall 22.
Is larger than the first interval 59, which is the interval between them. The first interval 59 is particularly preferably 0.5 mm to 2.0 mm. Further, the stirring blade 16 has an opening 58 extending in the direction of the rotation axis X between the rotation axis X and the first outer edge 54, and a portion extending in the direction of the rotation axis X from the first outer edge 54 to the opening 58. 57 are formed. The opening 58 and the portion 57 perform a function of promoting the generation of a vortex, which will be described later, by preventing the opening 58 from stirring the mixed solution A during stirring and by stirring the portion 57 in the opposite direction. I have.
【００５０】特に開口は、回転軸線Ｘの方向に整列した
３つの矩形開口５８からなり、第２外縁５６は、複数の
開口５８の各開口５８に相当するレベルに凸部６０が、
回転軸線Ｘの方向に隣合う開口５８の間に相当するレベ
ルに凹部６２が形成されている。すなわち、図３から明
らかなように、開口数に合わせて凸部６０が３つ、一方
凹部６２は２つ設けられている。第2間隔６１は、凹部
６２の横幅の略二分の一に設定するのが好ましい。これ
により、第2間隔６１が、攪拌の際、後に説明する混合
液Ａ内の渦の拡散機能を良好に果たすことができる。In particular, the opening is composed of three rectangular openings 58 aligned in the direction of the rotation axis X. The second outer edge 56 has a convex portion 60 at a level corresponding to each of the plurality of openings 58.
The concave portion 62 is formed at a level corresponding to a position between the openings 58 adjacent to each other in the direction of the rotation axis X. That is, as is apparent from FIG. 3, three convex portions 60 and two concave portions 62 are provided in accordance with the numerical aperture. It is preferable that the second interval 61 be set to approximately one half of the width of the concave portion 62. Thus, the second interval 61 can favorably perform the function of diffusing vortices in the mixed liquid A, which will be described later, during stirring.
【００５１】過冷却手段１４は、外容器と内容器との間
に冷媒、たとえばフロンを冷媒入り口６３から流入し、
冷媒出口６４から流出させることにより、混合容器１２
の外部から混合液Ａを冷却するようにしている。この手
段は、混合液Ａ内の薬液及び純水を、純水の凝固点以下
であるが、薬液のそれ以上である温度に冷却するに十分
な冷却能力を具備する必要がある。さらに、製造するシ
ャーベットを所望性状とするために、冷却熱量が調整可
能なようにしてある。具体的には、冷媒の流量を制御可
能にしている。一方、混合液Ａの温度をモニターするた
めに、温度センサー６６を底板２０に設けている。The supercooling means 14 flows a refrigerant, for example, chlorofluorocarbon, between the outer container and the inner container through the refrigerant inlet 63,
By causing the refrigerant to flow out from the refrigerant outlet 64, the mixing vessel 12
The mixture A is cooled from outside. This means needs to have a sufficient cooling capacity to cool the chemical solution and the pure water in the mixed solution A to a temperature below the freezing point of the pure water but higher than that of the chemical solution. Further, in order to make the sherbet to be manufactured into desired properties, the amount of cooling heat can be adjusted. Specifically, the flow rate of the refrigerant can be controlled. On the other hand, a temperature sensor 66 is provided on the bottom plate 20 to monitor the temperature of the mixed solution A.
【００５２】次に、図４を参照しながら、洗浄ユニット
１１について説明する。洗浄ユニット１１は、上述のシ
ャーベット製造ユニット１０の真下に配置され、被洗浄
物である基板を把持するための把持手段８０と、基板を
化学洗浄するための薬液と基板を物理洗浄するための雪
氷とを基板に供給するための供給手段８２と、供給され
た薬液及び雪氷を基板の表面に向かって押圧するための
押圧手段８４と、押圧される薬液及び雪氷を基板の表面
に対して相対移動させるための相対移動手段とから概略
構成され、薬液及び雪氷を基板の表面に押圧することに
より、基板を洗浄するようにしている。Next, the cleaning unit 11 will be described with reference to FIG. The cleaning unit 11 is disposed immediately below the sherbet manufacturing unit 10 and includes a gripping unit 80 for gripping a substrate to be cleaned, a chemical for chemically cleaning the substrate, and snow and ice for physically cleaning the substrate. , A pressing means 84 for pressing the supplied chemical and snow and ice toward the surface of the substrate, and a relative movement of the pressed chemical and snow and ice relative to the surface of the substrate. And a relative moving means for causing the substrate to be cleaned by pressing a chemical solution and snow and ice against the surface of the substrate.
【００５３】把持手段８０は、基板を載せて、略水平に
保持するための保持板８０からなり、この保持板８０は
その外周縁部に、シャーベットをせき止める環状リム９
２を有し、このリムには、シャーベットの一部を外部に
流出させる孔９３が穿設されている。The holding means 80 comprises a holding plate 80 for holding the substrate and holding it substantially horizontally. The holding plate 80 has an annular rim 9 on its outer peripheral edge for damping the sherbet.
The rim has a hole 93 through which a part of the sherbet flows out.
【００５４】押圧手段は、洗浄の際、基板の表面に近接
するように配置されたスクリュウ手段８５からなり、ス
クリュウ手段８５は、基板の略表面全体を覆う渦巻き形
状を有する。スクリュウ手段８５は、その回転数が制御
可能である。The pressing means comprises a screw means 85 arranged close to the surface of the substrate during cleaning, and the screw means 85 has a spiral shape covering substantially the entire surface of the substrate. The number of rotations of the screw means 85 can be controlled.
【００５５】供給手段８２は、シャーベット製造ユニッ
ト１０の流出バルブ５２に供給ライン１３を介して連通
し、シャーベットを調整バルブ８６を介して渦巻きの略
中心から供給する。さらに、保持板８０をスクリュウ手
段８５に対して略鉛直方向に遠近移動させるための保持
板移動手段を有し、この保持板移動手段により、洗浄前
には基板を保持板８０にセットするために、保持板８０
とスクリュウ手段との間の間隔を広げ（図４（ａ）参
照）、洗浄中には、この間隔を所定間隔までに狭め（図
４（ｂ）参照）、さらに洗浄後には基板を取り出すため
に再びこの間隔を広げるようにしている。The supply means 82 communicates with the outflow valve 52 of the sherbet manufacturing unit 10 via the supply line 13 and supplies the sherbet through the adjustment valve 86 from substantially the center of the spiral. Further, there is provided a holding plate moving means for moving the holding plate 80 in a direction substantially perpendicular to the screw means 85. The holding plate moving means allows the substrate to be set on the holding plate 80 before cleaning. , Holding plate 80
The distance between the screw and the screw means is increased (see FIG. 4 (a)). During cleaning, the distance is reduced to a predetermined distance (see FIG. 4 (b)). I try to widen this interval again.
【００５６】粒径は、洗浄すべき基板の種類、パーティ
クルの付着の仕方等によって異なるが、通常約10ないし
200ミクロンであるのが好ましい。The particle size varies depending on the type of the substrate to be cleaned, the manner of adhering particles, and the like.
Preferably it is 200 microns.
【００５７】以上の構成を有する基板の洗浄装置の作用
を、シャーベットの製造工程と基板の洗浄工程とに大別
して以下に説明する。The operation of the apparatus for cleaning a substrate having the above configuration will be described below roughly divided into a process of manufacturing a sherbet and a process of cleaning a substrate.
【００５８】まず、シャーベットの製造工程を説明す
る。最初に、被洗浄物である基板の種類及びパーティク
ルの付着の程度に応じて、選択すべき洗浄方法を選択
し、そのうえでシャーベットに要求される具体的性状、
即ち目標硬度或いは目標粘度を設定する。たとえば、CM
P後の基板を洗浄する場合には、パーティクルの付着の
程度が高いので、薬液としてイソプロピルアルコールを
選択するとともに、所望粘度のシャーベットを得るため
に、イソプロピルアルコールと純水との混合比率、攪拌
速度及び冷却熱量を調整する。粒径は、洗浄すべき基板
の種類、パーティクルの付着の仕方等によって異なる
が、通常約200ミクロン以下であるのが好ましい。First, the manufacturing process of the sherbet will be described. First, depending on the type of the substrate to be cleaned and the degree of adhesion of particles, select a cleaning method to be selected, and then specific properties required for the sherbet,
That is, a target hardness or a target viscosity is set. For example, CM
When cleaning the substrate after P, the degree of particle adhesion is high, so that isopropyl alcohol is selected as a chemical solution, and a mixing ratio of isopropyl alcohol and pure water and a stirring speed are used to obtain a sherbet having a desired viscosity. And the amount of cooling heat is adjusted. The particle size varies depending on the type of the substrate to be cleaned, the manner of adhering particles, and the like, but is usually preferably about 200 microns or less.
【００５９】次に、イソプロピルアルコール薬液と、雪
氷のための純水とをそれぞれの供給ライン２６、２８か
ら流量制御装置３２、３４によって制御しつつ、フィル
タ４２、４４により異物を除去した後に、混合容器１２
内に充填し、所定混合比率で混合する。Next, while the isopropyl alcohol chemical and pure water for snow and ice are controlled by the flow controllers 32 and 34 from the respective supply lines 26 and 28, foreign substances are removed by the filters 42 and 44, and then mixed. Container 12
And mixed at a predetermined mixing ratio.
【００６０】次に、プロペラ回転軸３０を駆動するサー
ボモータ４６によって、攪拌羽根１６を混合液Ａ内で回
転軸線Ｘを中心として回転させ、それによって薬液と純
水との混合液Ａを攪拌する。それと同時に、冷却手段１
４によって混合容器１２の外側から混合液Ａを冷却す
る。この際、純水の凝固点より低く且つ薬液の凝固点よ
り高い所定温度に均一に過冷却する。純水の凝固点は、
０℃であるのに対し、イソプロピルアルコール薬液のそ
れは、−89.5℃であるから、たとえば−50℃に設定す
る。Next, the stirring blade 16 is rotated about the rotation axis X in the mixed liquid A by the servomotor 46 for driving the propeller rotary shaft 30, whereby the mixed liquid A of the chemical liquid and the pure water is stirred. . At the same time, cooling means 1
The mixed liquid A is cooled from the outside of the mixing container 12 by 4. At this time, it is supercooled uniformly to a predetermined temperature lower than the freezing point of pure water and higher than the freezing point of the chemical solution. The freezing point of pure water is
Since the temperature of the isopropyl alcohol chemical is −89.5 ° C. while the temperature is 0 ° C., it is set to, for example, −50 ° C.
【００６１】攪拌の際、混合液Ａ内に渦を発生させ、こ
の渦を成長させ、さらに成長した渦を混合液Ａ内で拡散
させることにより、混合液Ａ内に乱流を生じさせる。At the time of stirring, a vortex is generated in the mixed solution A, the vortex is grown, and the grown vortex is diffused in the mixed solution A, thereby generating a turbulent flow in the mixed solution A.
【００６２】この点について、図５ないし図７を参照し
ながら、さらに詳細に説明する。図５に示すように、攪
拌羽根１６の回転により、第1外縁５４から開口５８ま
での回転軸線Ｘ方向に延びる部分５７が混合容器１２内
の混合液Ａを攪拌するとともに、開口５８が混合液Ａを
通過することによって、混合液Ａ内に一定方向の旋回流
が生じる結果、渦Ｖが形成される。さらに、図６及び図
７に示すように、攪拌羽根１６の第２外縁５６側の凹凸
部６０が発生した渦Ｖを拡散させる。より具体的には、
開口５８レベルに位置する凸部６０によって、発生した
渦Ｖは案内されつつ、第2間隔６１および凹部６２を通
って渦Ｖが成長、拡散する。これにより、混合容器１２
の内壁２２から氷の結晶が成長するのを防止しつつ、混
合液Ａ内全体に亘って均一に冷却されることが可能とな
り、その結果、純水は、液相から固相へと相変化して雪
氷化する一方で、薬液は、液相を維持するので、効率的
なシャーベットの製造が可能となる。This point will be described in more detail with reference to FIGS. As shown in FIG. 5, by the rotation of the stirring blade 16, a portion 57 extending in the rotation axis X direction from the first outer edge 54 to the opening 58 stirs the mixed liquid A in the mixing container 12, and the opening 58 By passing through A, a swirl flow in a certain direction is generated in the mixed liquid A, so that a vortex V is formed. Further, as shown in FIGS. 6 and 7, the vortex V generated by the uneven portion 60 on the second outer edge 56 side of the stirring blade 16 is diffused. More specifically,
The generated vortex V is guided and guided by the convex portion 60 located at the level of the opening 58, and grows and diffuses through the second space 61 and the concave portion 62. Thereby, the mixing container 12
It is possible to uniformly cool the entire mixed solution A while preventing the growth of ice crystals from the inner wall 22 of the liquid crystal. As a result, the pure water undergoes a phase change from a liquid phase to a solid phase. In the meantime, since the chemical solution maintains a liquid phase while snow and ice is formed, efficient production of sherbet can be achieved.
【００６３】攪拌の際の攪拌トルクは、サーボモータド
ライブ４８によりモータ軸トルクとして検出する。攪拌
トルクは、混合容器１２内の混合液Ａの量に応じて、変
化するため、シャーベットの製造のたびごとに、光学セ
ンサー５０によって、混合容器１２内の混合液Ａの量を
把握して、それにより冷媒の供給源である冷凍機の運転
を調整して、過冷却熱量を制御することにより、完成す
るシャーベットの性状を一定に保持するようにしてい
る。特に、所望硬度のシャーベットを製造する場合に
は、過冷却総熱量とともに、時間当たりの過冷却熱量も
重要なファクターである。The stirring torque at the time of stirring is detected by the servo motor drive 48 as a motor shaft torque. Since the stirring torque changes according to the amount of the mixed solution A in the mixing container 12, the amount of the mixed solution A in the mixing container 12 is grasped by the optical sensor 50 every time the sherbet is manufactured. Thereby, the operation of the refrigerator, which is the supply source of the refrigerant, is adjusted to control the amount of supercooling heat, so that the properties of the completed sherbet are kept constant. In particular, when manufacturing a sherbet having a desired hardness, the amount of supercooling heat per hour is an important factor as well as the total amount of supercooling heat.
【００６４】また、シャーベットの製造中においても、
薬液は液相のままである一方で、混合容器１２内の純水
は、時間経過とともに相変化して雪氷化するから、雪氷
と薬液の割合が刻々変化し、それによってシャーベット
の占める割合が増え、それに応じて攪拌トルクが時間変
化する。したがって、このようなトルクの時間変化を考
慮して、所望性状のシャーベットを調整することが重要
である。During the production of the sherbet,
While the chemical solution remains in the liquid phase, the pure water in the mixing vessel 12 changes its phase with time and changes to snow and ice, so that the ratio of snow and ice to the chemical solution changes every moment, thereby increasing the proportion of the sherbet. Accordingly, the stirring torque changes with time. Therefore, it is important to adjust the sherbet of desired properties in consideration of such a temporal change of the torque.
【００６５】このような混合液Aの攪拌により、渦Ｖに
近い開口５８まわりから純水の相変化が生じる。より詳
細には、混合容器１２の外周部では混合液Aが液相のま
ま過冷却状態なっている一方で、開口５８、特にその回
転軸線Xに近い部分から、過冷却状態が解除されて、液
相から固相への相変化が生じる。その結果、容器の内壁
２２からの氷の成長によって冷却熱が潜熱として奪われ
て、冷却効率、即ちシャーベットの製造効率が低下する
のを確実に防止することが可能となる。以上の工程によ
り、所望性状のシャーベットが効率的に製造される。By the stirring of the mixed liquid A, a phase change of the pure water occurs around the opening 58 near the vortex V. More specifically, while the mixed liquid A is in a supercooled state in a liquid phase at the outer peripheral portion of the mixing container 12, the supercooled state is released from the opening 58, particularly a portion near the rotation axis X thereof, A phase change from a liquid phase to a solid phase occurs. As a result, it is possible to reliably prevent the cooling heat from being taken as latent heat due to the growth of ice from the inner wall 22 of the container, and the cooling efficiency, that is, the production efficiency of the sherbet, from lowering. Through the above steps, a sherbet having desired properties is efficiently manufactured.
【００６６】次に、以上の工程によって製造されたシャ
ーベットＤを用いた洗浄工程を説明する。まず、製造さ
れたシャーベットＤを、重力により流出バルブ５２、供
給ライン１３を経て自然落下させて、洗浄ユニット１１
に送出する。なお、洗浄ユニット１１には、事前に洗浄
すべき基板Ｃをセットしておく。Next, a cleaning process using the sherbet D manufactured by the above process will be described. First, the manufactured sherbet D is naturally dropped by the gravity through the outflow valve 52 and the supply line 13, and the cleaning unit 11 is dropped.
To send to. The substrate C to be cleaned is set in the cleaning unit 11 in advance.
【００６７】次いで、スクラブ洗浄の場合には、従来と
同様に、供給されたシャーベットＤは、スクリュウ手段
によって基板Ｃの表面に押圧されつつ、基板Ｃとシャー
ベットＤ間の相対移動を通じて、被洗浄物である基板Ｃ
を化学洗浄するための薬液と、基板Ｃを物理洗浄するた
めの雪氷とを基板Ｃの表面に押圧することによって、基
板Ｃが洗浄される。Next, in the case of scrub cleaning, the supplied sherbet D is pressed against the surface of the substrate C by the screw means while the relative movement between the substrate C and the sherbet D is carried out. Substrate C
The substrate C is cleaned by pressing a chemical solution for chemically cleaning the substrate C and snow and ice for physically cleaning the substrate C against the surface of the substrate C.
【００６８】一方、新たな洗浄方法の場合を図８を参照
しながら、詳細に説明する。図８に示すように、シャー
ベットＤを基板Ｃの表面に略沿って基板Ｃに略平行に移
動させることにより、シャーベットＤ中のIPA薬液が基
板Ｃの表面に作用して、基板Ｃ上の純水ＷがIPA薬液に
よって置換される。特に、CMP後には、基板Ｃの表面に
は多量の純水が残存している。ここに、一般的に、純水
の表面張力は、略0.008Kgf/ｍであり、異一方IPAのそれ
は、略0.002Kgf/ｍと純水の1/3以下であるから、このよ
うな置換により、純水の表面張力が原因で基板Ｃ表面に
付着するパーティクルＰは、その付着力がなくなり、基
板Ｃの表面から解放されるか、或いは付着力が低下し
て、基板Ｃの表面から脱離しやすい状態が形成される。
このような状態で、全体として所望粘度を有するシャー
ベットＤが、矢印で示すように、基板Ｃに略平行に移動
することにより、解放された、或いは付着力が低下した
パーティクルＰは、基板Ｃの表面の低い粘性側からシャ
ーベットＤの高い粘性側に引き込まれ、引き込まれたパ
ーティクルＰは、シャーベットＤによってせん断除去さ
れる。このように、本方法によれば、シャーベットＤを
基板Ｃの表面に向かって押圧させつつ、基板Ｃの表面上
を擦らせる必要なしに、基板Ｃの付着力自体を一旦化学
的に弱めたうえで、パーティクルＰを除去することが可
能であるので、従来のスクラブ洗浄に比べて、基板Ｃの
表面に対する影響をより一層少なくすることができる。
なお、基板Ｃの洗浄中に、基板Ｃを回転及び往復運動さ
せてもよい。On the other hand, the case of a new cleaning method will be described in detail with reference to FIG. As shown in FIG. 8, by moving the sherbet D substantially along the surface of the substrate C and substantially parallel to the substrate C, the IPA chemical solution in the sherbet D acts on the surface of the substrate C, Water W is replaced by the IPA chemical. In particular, a large amount of pure water remains on the surface of the substrate C after the CMP. Here, in general, the surface tension of pure water is approximately 0.008 kgf / m, whereas that of IPA is approximately 0.002 kgf / m, which is less than 1/3 of pure water. Particles P that adhere to the surface of the substrate C due to the surface tension of the pure water lose their adhesion and are released from the surface of the substrate C, or are separated from the surface of the substrate C due to a decrease in the adhesive force. An easy state is formed.
In such a state, the sherbet D having a desired viscosity as a whole moves substantially parallel to the substrate C, as indicated by an arrow, so that the released particles P or the particles P having reduced adhesive force are attached to the substrate C. The particles P drawn from the low viscosity side of the surface to the high viscosity side of the sherbet D are sheared off by the sherbet D. Thus, according to the present method, the adhesive force of the substrate C itself is once weakened chemically without having to rub the surface of the substrate C while pressing the sherbet D against the surface of the substrate C. Thus, since the particles P can be removed, the influence on the surface of the substrate C can be further reduced as compared with the conventional scrub cleaning.
During the cleaning of the substrate C, the substrate C may be rotated and reciprocated.
【００６９】以上の工程により、基板Ｃの洗浄が終了す
る。上記二種類の洗浄方法について、スクリュー手段に
よるシャーベットＤの押圧力に応じて、どちらの洗浄方
法が支配的であるかが定まる。即ち、押圧力が大きい場
合には、スクラブ洗浄の割合が増え、一方押圧力が小さ
い場合には、新たな洗浄方法が主となる。With the above steps, the cleaning of the substrate C is completed. Which of the two cleaning methods is dominant is determined according to the pressing force of the sherbet D by the screw means. That is, when the pressing force is large, the ratio of scrub cleaning increases, while when the pressing force is small, a new cleaning method is mainly used.
【００７０】なお、洗浄すべき基板Ｃが変更される等に
より、洗浄に用いるシャーベットＤを変更する必要があ
る場合には、洗浄用の純水を用意して、薬液及び純水ラ
インを経て混合容器内に供給し、さらに混合容器内でこ
の純水を凝固させることなしに攪拌させて、流出開口か
ら排出させて、洗浄ユニット１１に送ることにより、薬
液及び純水ライン２６、２８、混合容器１２、攪拌羽根
１６及び洗浄ユニットへの供給ライン１３等を別途手作
業で洗浄することなく、簡便かつ効率的にシャーベット
製造ユニット１０自体を洗浄して、新たな洗浄に備える
ことが可能となる。When it is necessary to change the sherbet D used for cleaning due to a change in the substrate C to be cleaned, etc., pure water for cleaning is prepared and mixed through a chemical solution and a pure water line. The pure water is stirred into the mixing vessel without being coagulated, discharged from the outflow opening, and sent to the cleaning unit 11, so that the chemical and pure water lines 26 and 28, the mixing vessel It is possible to simply and efficiently wash the sherbet manufacturing unit 10 itself and prepare for new washing without separately manually washing the stirring blade 16, the supply line 13 to the washing unit, and the like.
【００７１】以下に本発明の第２の実施の形態を説明す
る。以下の実施の形態においては、第1の実施の形態と
同様な部分には、同様な参照番号を付すことにより、そ
の説明は省略し、特徴的な部分について詳細に説明す
る。なお、以下の実施の形態の洗浄装置はいずれも、シ
ャーベット製造ユニット自体は第1の実施の形態のそれ
と共通であり、さらに第1の実施の形態と同様に、従来
のスクラブ洗浄或いは有機系薬液による新たな洗浄方法
のいずれにも適用可能である。図９は、本発明の第２の
実施の形態に係わる洗浄装置の洗浄ユニットを示す概略
図である。Hereinafter, a second embodiment of the present invention will be described. In the following embodiments, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. The characteristic parts will be described in detail. Note that, in each of the cleaning apparatuses of the following embodiments, the sherbet manufacturing unit itself is common to that of the first embodiment, and, similarly to the first embodiment, a conventional scrub cleaning or organic chemical solution. To any of the new cleaning methods. FIG. 9 is a schematic diagram showing a cleaning unit of a cleaning device according to the second embodiment of the present invention.
【００７２】本実施の形態の洗浄ユニットの特徴は、基
板Ｃの両面を一度に洗浄するために、基板Ｃを略鉛直に
配置したうえで、供給手段を工夫した点にある。The feature of the cleaning unit of the present embodiment is that the substrate C is arranged substantially vertically and the supply means is devised in order to clean both surfaces of the substrate C at one time.
【００７３】具体的には、供給手段は、シャーベットＤ
を溜める供給容器１００からなる。この供給容器１００
は、基板Ｃの両面に向かってシャーベットＤを押圧しつ
つ供給するように、２つの分岐管１０２を有する。２つ
の分岐管１０２の各々は、最下レベルとなるように位置
決めされた流出開口１０４と、この流出開口１０４近傍
に回転軸線Ｙが基板Ｃと所定角度で交差するように配置
された螺旋羽根１０６とを有する。所定角度αは、螺旋
羽根１０６によるシャーベットＤの供給量等により決定
されるが、0乃至45度の範囲が好ましい。流出開口１０
４同士は、所定間隔を隔てている。２つの分岐管１０２
は、その間に、流出開口１０４同士の間の空間に通じ
る、基板Ｃを挿入するための挿入空間１０８を形成し、
さらに、矢印で示すように、略鉛直に配置された基板Ｃ
をこの挿入空間１０８内で鉛直方向に往復移動させるた
めの基板往復移動手段（図示せず）を有し、流出開口１
０４を基板Ｃに近接させながら、螺旋羽根１０６を矢印
で示すように回転させることにより、供給容器１００内
のシャーベットＤを基板Ｃに向かって押圧しつつ供給す
る。Specifically, the supply means is a sherbet D
And a supply container 100 for storing. This supply container 100
Has two branch pipes 102 so as to supply the sherbet D while pressing it toward both surfaces of the substrate C. Each of the two branch pipes 102 has an outflow opening 104 positioned at the lowest level, and a spiral blade 106 arranged near the outflow opening 104 such that the rotation axis Y intersects the substrate C at a predetermined angle. And The predetermined angle α is determined by the supply amount of the sherbet D by the spiral blade 106 and the like, and is preferably in a range of 0 to 45 degrees. Outflow opening 10
4 are separated by a predetermined interval. Two branch pipes 102
Forms an insertion space 108 for inserting the substrate C therebetween, which leads to a space between the outflow openings 104,
Further, as shown by the arrow, the substrate C is disposed substantially vertically.
Substrate reciprocating means (not shown) for vertically reciprocating the inside of the insertion space 108.
By rotating the spiral blade 106 as indicated by the arrow while bringing the substrate 04 close to the substrate C, the sherbet D in the supply container 100 is supplied while being pressed toward the substrate C.
【００７４】本実施の形態の洗浄装置によれば、螺旋羽
根１０６が容器１００内に溜まったシャーベットＤを流
出開口１０４を経て、基板Ｃの各表面に向かって供給し
つつ押圧することができるので、効率的に基板Ｃの洗浄
を行うことができる。According to the cleaning apparatus of the present embodiment, the spiral blade 106 can press the sherbet D collected in the container 100 while supplying the sherbet D to each surface of the substrate C through the outflow opening 104. Thus, the substrate C can be efficiently cleaned.
【００７５】以下に本発明の第３の実施の形態を説明す
る。図１０は、本発明の第３の実施の形態に係わる洗浄
装置の洗浄ユニットを示す概略図である。Hereinafter, a third embodiment of the present invention will be described. FIG. 10 is a schematic diagram showing a cleaning unit of a cleaning device according to the third embodiment of the present invention.
【００７６】本実施の形態の洗浄ユニットの特徴は、第
2の実施の形態と同様に、基板Ｃの両面を同時に洗浄す
るために、基板Ｃを略鉛直に配置したうえで、回転ロー
ルを用いて供給されるシャーベットＤを基板Ｃに向かっ
て押し込むようにした点にある。The feature of the cleaning unit of this embodiment is that
As in the second embodiment, in order to simultaneously clean both surfaces of the substrate C, the substrate C is disposed substantially vertically, and the sherbet D supplied by using a rotating roll is pushed toward the substrate C. It is in the point which did.
【００７７】具体的には、押圧手段は、略鉛直に配置さ
れた基板Ｃの表面の各面からそれぞれ所定間隔２０１を
隔てて、基板Ｃに略平行に配置された回転ロール２００
からなる。この所定間隔２０１は、基板Ｃの種類、選択
する洗浄方法或いはシャーベットＤの供給量等に応じて
定められる。さらに、基板Ｃを把持し、且つ基板Ｃを移
動させるチャック手段２０２を基板の周囲に亘って略等
間隔に4基有する。このチャック手段２０２はそれぞ
れ、基板Ｃの洗浄中に、矢印で示すように、基板Ｃを略
水平方向に延びる回転軸線を中心に回転運動させるよう
にしている。供給手段２０２は、この回転ロール２００
の上方からこの回転ロール２００と基板Ｃの表面の各面
との間に、流出開口２０６からシャーベットＤを供給す
る。一対の回転ロール２００はそれぞれ、回転ロール２
００の上方から供給されるシャーベットＤを基板Ｃの表
面に向かって押し込む向きに回転する。More specifically, the pressing means is provided at a predetermined distance 201 from each surface of the surface of the substrate C disposed substantially vertically, and the rotating roll 200 disposed substantially parallel to the substrate C.
Consists of The predetermined interval 201 is determined according to the type of the substrate C, the selected cleaning method, the supply amount of the sherbet D, and the like. Further, four chuck means 202 for holding the substrate C and moving the substrate C are provided at substantially equal intervals around the periphery of the substrate. Each of the chuck means 202 rotates the substrate C about a rotation axis extending in a substantially horizontal direction as indicated by an arrow during cleaning of the substrate C. The supply means 202 includes the rotating roll 200
The sherbet D is supplied from the outflow opening 206 between the rotary roll 200 and each surface of the substrate C from above. Each of the pair of rotating rolls 200 is a rotating roll 2
The sherbet D supplied from above is rotated in a direction to push the sherbet D toward the surface of the substrate C.
【００７８】本実施の形態の洗浄ユニットによれば、一
度に基板Ｃの両面を洗浄することができるとともに、回
転ロール２００が外部に配置されているので、その保守
メンテナンスが容易である利点を有する。According to the cleaning unit of the present embodiment, it is possible to clean both surfaces of the substrate C at one time, and since the rotating roll 200 is disposed outside, there is an advantage that the maintenance is easy. .
【００７９】以下に、本発明の第４の実施の形態を説明
する。図１１は、 本発明の第４の実施の形態に係わる
洗浄装置の洗浄ユニットを示す概略図である。Hereinafter, a fourth embodiment of the present invention will be described. FIG. 11 is a schematic diagram showing a cleaning unit of a cleaning device according to the fourth embodiment of the present invention.
【００８０】本実施の形態の洗浄ユニットの特徴は、第
1の実施の形態と同様に、基板Ｃを略水平に配置したう
えで、一対の回転ロールを用いて、シャーベットＤを基
板Ｃに向かって押し込むようにした点にある。The feature of the cleaning unit of this embodiment is that
As in the first embodiment, after the substrate C is arranged substantially horizontally, the sherbet D is pushed toward the substrate C using a pair of rotating rolls.
【００８１】具体的には、押圧手段は、略水平に配置さ
れた基板Ｃの表面から所定間隔を隔てて、基板Ｃに略平
行に互いに所定間隔３０３を隔てて配置された一対の回
転ロール３００からなる。この所定間隔３０３は、第3
の実施の形態における間隔２０１と同様に、基板Ｃの種
類、選択する洗浄方法或いはシャーベットＤの供給量等
に応じて定められる。相対移動手段３０１は、矢印で示
すように、基板Ｃを略鉛直方向に延びる回転軸線を中心
に回転させる回転手段からなり、供給手段３０２は、こ
の一対の回転ロール３００の間から基板Ｃの表面に向か
ってシャーベットＤを供給し、一対の回転ロール３００
は、矢印で示すように、一対の回転ロール３００の間か
ら供給されるシャーベットＤを基板Ｃの表面に向かって
押し込む向きに回転する。一対の回転ロール３００は、
基板Ｃの中心部に未洗浄部を残さないようにするため
に、基板Ｃの回転中心に対してオフセット配置されてい
る。Specifically, the pressing means comprises a pair of rotating rolls 300 arranged at a predetermined distance from the surface of the substrate C disposed substantially horizontally and at a predetermined distance 303 from each other substantially in parallel with the substrate C. Consists of This predetermined interval 303 is the third
As in the case of the interval 201 in this embodiment, the distance is determined according to the type of the substrate C, the selected cleaning method, the supply amount of the sherbet D, and the like. The relative moving means 301 is composed of a rotating means for rotating the substrate C about a rotation axis extending in a substantially vertical direction as shown by an arrow. And a pair of rotating rolls 300 are supplied.
Rotates in a direction to push the sherbet D supplied from between the pair of rotating rolls 300 toward the surface of the substrate C as indicated by an arrow. The pair of rotating rolls 300
In order not to leave an uncleaned portion at the center of the substrate C, the substrate C is offset from the center of rotation of the substrate C.
【００８２】本実施の形態の洗浄装置によれば、外部に
配置された一対の回転ロール３００を用いて、シャーベ
ットＤの供給量を調整可能としたので、その保守メンテ
ナンスが容易であるとともに、一対の回転ロール３００
の間隔を調整するだけで、基板Ｃに対する洗浄力を調整
することが可能になる。According to the cleaning device of the present embodiment, the supply amount of the sherbet D can be adjusted by using the pair of rotating rolls 300 arranged outside, so that the maintenance and maintenance thereof are easy and Rotating roll 300
It is possible to adjust the detergency of the substrate C only by adjusting the distance between the substrates C.
【００８３】本発明の実施の形態を詳細に説明したが、
請求の範囲に記載された本発明の範囲内で種々の変更、
修正が可能である。例えば、本実施の形態では、一種類
の薬液を雪氷と混合させて、シャーベットを製造した
が、それに限定されることなく、基板の種類或いは汚れ
等に応じて、アルカリ系と酸系薬液とを混合しない限
り、複数の薬液を適宜混合させて雪氷とシャーベットを
製造してもよい。それにより、従来のスクラブ洗浄方法
に加えて、新たな洗浄方法を複合させた洗浄方法が実現
可能である。Although the embodiment of the present invention has been described in detail,
Various modifications within the scope of the invention described in the claims,
Modifications are possible. For example, in the present embodiment, a sherbet is manufactured by mixing one type of chemical solution with snow and ice, but the present invention is not limited to this. As long as they are not mixed, a plurality of chemicals may be appropriately mixed to produce snow and ice and sherbet. Thus, a cleaning method combining a new cleaning method in addition to the conventional scrub cleaning method can be realized.
【００８４】また、本実施の形態では、攪拌羽根１８の
第1外縁５４側に設けた開口５８の数は、３つである
が、それに限定されることなく、適宜その数、開口面
積、開口形状、回転軸線方向の長さ等を選択すればよ
い。一方、攪拌羽根１８の第２外縁５６側に設けた凹凸
部６０の形状は、本実施の形態では矩形であるが、攪拌
羽根１８の加工しやすさ等から、混合液内に発生する渦
の拡散機能を果たす限りにおいて曲線形状のものでもよ
い。In the present embodiment, the number of openings 58 provided on the first outer edge 54 side of the stirring blade 18 is three, but is not limited thereto, and the number, the opening area, and the opening What is necessary is just to select a shape, a length in the rotation axis direction, and the like. On the other hand, the shape of the concavo-convex portion 60 provided on the second outer edge 56 side of the stirring blade 18 is rectangular in the present embodiment, but due to the ease of processing of the stirring blade 18, the shape of the vortex generated in the mixed liquid is reduced. Curved shapes may be used as long as they perform the diffusion function.
【００８５】さらに、本実施の形態では、シャーベット
製造工程と基板の洗浄工程とをバッチ処理するものとし
て説明した。すなわち、洗浄すべき基板の枚数に応じ
て、一旦洗浄に必要なシャーベットをまとめて製造した
後に、製造されたシャーベットを用いて基板の洗浄を行
った。しかしながら、オンライン処理も可能である。つ
まり、基板ごとに必要量のシャーベットを製造しなが
ら、連続的に基板を洗浄することも可能である。Further, in the present embodiment, it has been described that the sherbet manufacturing process and the substrate cleaning process are performed by batch processing. That is, once the sherbet required for cleaning is once manufactured according to the number of substrates to be cleaned, the substrate is cleaned using the manufactured sherbet. However, online processing is also possible. That is, it is possible to continuously clean the substrate while manufacturing a required amount of sherbet for each substrate.
【００８６】[0086]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の洗
浄方法によれば、従来にない新たな洗浄方法を提供する
ことができる。As described above in detail, according to the cleaning method of the present invention, it is possible to provide a new cleaning method which has not been available.
【００８７】本発明の洗浄方法及び洗浄装置によれば、
洗浄すべき基板に応じてシャーベットの製造効率を高め
つつ、所望性状のシャーベットを製造して、それを用い
て基板をスクラブ洗浄することができる。According to the cleaning method and the cleaning apparatus of the present invention,
It is possible to manufacture a sherbet having a desired property while increasing the manufacturing efficiency of the sherbet according to the substrate to be cleaned, and scrub-clean the substrate using the sherbet.
【００８８】本発明の洗浄装置によれば、基板に応じて
適切な洗浄方法を選択することができる。According to the cleaning apparatus of the present invention, an appropriate cleaning method can be selected according to the substrate.
【００８９】本発明のシャーベットの製造方法及び装置
によれば、洗浄すべき基板に応じてシャーベットの製造
効率を高め間つつ、所望性状のシャーベットを製造し
て、それを用いて基板を洗浄することができる。According to the method and apparatus for manufacturing a sherbet of the present invention, it is possible to manufacture a sherbet having a desired property while cleaning the substrate using the sherbet while increasing the manufacturing efficiency of the sherbet according to the substrate to be cleaned. Can be.
【図１】本発明の第1の実施の形態に係わる洗浄装置の
外観図であり、図1（a）は、側面図、図1（b）は、正面
図である。FIG. 1 is an external view of a cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention, FIG. 1 (a) is a side view, and FIG. 1 (b) is a front view.
【図２】本発明の第1の実施の形態に係わる洗浄装置の
シャーベット製造ユニットを示す概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram showing a sherbet manufacturing unit of the cleaning device according to the first embodiment of the present invention.
【図３】図１の方向IIから見た、図１と同様な図であ
る。FIG. 3 is a view similar to FIG. 1, viewed from the direction II of FIG. 1;
【図４】本発明の第１の実施の形態に係わる洗浄装置の
洗浄ユニットを示す概略図であり、図1（a）は、洗浄前
後における側面図、図1（b）は、洗浄中における側面
図、図1（c）は、図1（a）の方向IV−IVからみた平面図
である。FIGS. 4A and 4B are schematic views showing a cleaning unit of the cleaning apparatus according to the first embodiment of the present invention, FIG. 1A is a side view before and after cleaning, and FIG. FIG. 1 (c) is a side view and FIG. 1 (c) is a plan view as seen from the direction IV-IV in FIG. 1 (a).
【図５】本発明の第1の実施の形態に係わるシャーベッ
ト製造ユニットの攪拌羽根の作用を示す平面図であり、
渦Ｖの発生状態を示す。FIG. 5 is a plan view showing the operation of the stirring blade of the sherbet manufacturing unit according to the first embodiment of the present invention,
The generation state of the vortex V is shown.
【図６】本発明の第1の実施の形態に係わるシャーベッ
ト製造ユニットの攪拌羽根の作用を示す平面図であり、
渦Ｖの成長状態を示す。FIG. 6 is a plan view showing the operation of the stirring blade of the sherbet manufacturing unit according to the first embodiment of the present invention,
The growth state of the vortex V is shown.
【図７】本発明の第1の実施の形態に係わるシャーベッ
ト製造ユニットの攪拌羽根の作用を示す平面図であり、
渦Ｖの拡散状態を示す。FIG. 7 is a plan view showing the operation of the stirring blade of the sherbet manufacturing unit according to the first embodiment of the present invention,
The state of diffusion of the vortex V is shown.
【図８】本発明の第1の実施の形態に係わる洗浄方法の
作用を説明する概略図である。FIG. 8 is a schematic diagram illustrating the operation of the cleaning method according to the first embodiment of the present invention.
【図９】本発明の第２の実施の形態に係わる洗浄装置の
洗浄ユニットを示す概略図である。FIG. 9 is a schematic diagram showing a cleaning unit of a cleaning device according to a second embodiment of the present invention.
【図１０】本発明の第３の実施の形態に係わる洗浄装置
の洗浄ユニットを示す概略図であり、図1０（a）は、側
面図、図1０（b）は、正面図である。FIG. 10 is a schematic view showing a cleaning unit of a cleaning apparatus according to a third embodiment of the present invention, wherein FIG. 10 (a) is a side view and FIG. 10 (b) is a front view.
【図１１】本発明の第４の実施の形態に係わる洗浄装置
の洗浄ユニットを示す概略図であり、図1１（a）は、正
面図、図1１（b）は、側面図である。FIG. 11 is a schematic view showing a cleaning unit of a cleaning apparatus according to a fourth embodiment of the present invention. FIG. 11 (a) is a front view, and FIG. 11 (b) is a side view.
Ａ 混合液 Ｃ 基板 Ｄ シャーベット Ｐ パーティクル Ｘ 回転軸線 Ｖ 渦 １ 基板の洗浄装置 １０ シャーベットの製造ユニット １１ 基板の洗浄ユニット １２ 混合容器 １４ 過冷却手段 １６ 攪拌羽根 １８ 蓋 ２０ 底板 ２２ 内壁 ２６ 純水供給ライン ２８ 薬液供給ライン ３０ プロペラ回転軸 ３２ 純水用流量制御装置 ３４ 薬液用流量制御装置 ４０ 熱交換器 ４２ 純水用フィルタ ４４ 薬液用フィルタ ４６ サーボモータ ４８ サーボモータドライバ及びコントローラ ５０ 光学センサ ５４ 第1外縁 ５６ 第２外縁 ５７ 部分 ５８ 開口 ５９ 第１間隔 ６０ 凸部 ６１ 第２間隔 ６２ 凹部 ６３ 冷媒入口 ６４ 冷媒出口 ６６ 温度センサ A Mixed liquid C Substrate D Sherbet P Particle X Rotation axis V Vortex 1 Substrate cleaning device 10 Sherbet manufacturing unit 11 Substrate cleaning unit 12 Mixing container 14 Supercooling means 16 Stirrer blade 18 Cover 20 Bottom plate 22 Inner wall 26 Pure water supply line 28 Chemical solution supply line 30 Propeller rotation axis 32 Pure water flow control device 34 Chemical solution flow control device 40 Heat exchanger 42 Pure water filter 44 Chemical solution filter 46 Servo motor 48 Servo motor driver and controller 50 Optical sensor 54 First outer edge 56 second outer edge 57 portion 58 opening 59 first interval 60 convex portion 61 second interval 62 concave portion 63 refrigerant inlet 64 refrigerant outlet 66 temperature sensor
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４７ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４７Ａ ６４８ ６４８Ｚ (72)発明者 条谷 聡 神奈川県川崎市多摩区宿河原２丁目28番18 号 株式会社スプラウト内 Ｆターム(参考） 3B116 AA03 AB01 BA03 BA13 3B201 AA03 AB01 BA03 BA13 BB92 BB93 BB96 CB01 4H003 BA12 DA15 DC01 EA21 EB07 ED02 ED28 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01L 21/304 647 H01L 21/304 647A 648 648Z (72) Inventor Satoshi Joriya No. 2-28-18 F-term in Sprout Corporation (reference) 3B116 AA03 AB01 BA03 BA13 3B201 AA03 AB01 BA03 BA13 BB92 BB93 BB96 CB01 4H003 BA12 DA15 DC01 EA21 EB07 ED02 ED28
Claims (23)
て、被洗浄物である基板の表面からパーティクルを除去
することにより、基板を洗浄する洗浄方法において、 有機系薬液を含む所定粘度のシャーベットを基板に対し
て基板の表面に略沿う方向に相対移動させることによ
り、有機系薬液が基板の表面に作用して、パーティクル
の基板の表面に対する付着力を低下させるとともに、シ
ャーベットが付着力の低下したパーティクルをせん断除
去することを特徴とする基板の洗浄方法。In a cleaning method of cleaning a substrate by removing particles from the surface of a substrate to be cleaned using a sherbet containing a chemical and snow and ice, a sherbet having a predetermined viscosity containing an organic chemical is used. By relatively moving the substrate relative to the substrate in a direction substantially along the surface of the substrate, the organic chemical liquid acts on the surface of the substrate, reducing the adhesion of the particles to the surface of the substrate, and reducing the adhesion of the sherbet. A method for cleaning a substrate, comprising removing particles by shearing.
水とを所定混合比率で混合する段階と、 有機系薬液と純水との混合液を攪拌しながら、前記純水
の凝固点より低く且つ前記有機系薬液の凝固点より高い
所定温度に均一に過冷却する段階と、 純水からなる雪氷と有機系薬液とを含む所望粘度のシャ
ーベットを製造する段階とを有する請求項１に記載の基
板の洗浄方法。2. The method according to claim 1, further comprising the step of mixing the organic chemical solution and pure water for snow and ice at a predetermined mixing ratio, and stirring the mixed solution of the organic chemical solution and pure water from the freezing point of the pure water. The method according to claim 1, further comprising the steps of uniformly supercooling to a predetermined temperature that is low and higher than the freezing point of the organic chemical liquid, and producing a sherbet having a desired viscosity including snow and ice made of pure water and an organic chemical liquid. Substrate cleaning method.
せ、この渦を成長させ、さらに成長した渦を混合液内で
拡散させる段階を含む請求項２に記載の方法。3. The method of claim 2, wherein said agitating step includes the step of generating a vortex in the mixture, growing the vortex, and diffusing the grown vortex in the mixture.
／又は前記過冷却熱量を調節することによって、前記純
水に対する所望割合の前記雪氷を生成して、所望粘度の
前記シャーベットを製造する段階を含む請求項２または
請求項３に記載の基板の洗浄方法。4. The step of producing the sherbet having a desired viscosity by adjusting the predetermined mixing ratio and / or the amount of supercooling heat to generate a desired ratio of the snow and ice to the pure water. 4. The method for cleaning a substrate according to claim 2, comprising:
前記混合液の攪拌トルクを検出することによって、前記
過冷却熱量を調節して、所望粘度のシャーベットを製造
する請求項４に記載の基板の洗浄方法。5. The substrate according to claim 4, wherein in the manufacturing step, the supercooling heat amount is adjusted by detecting a stirring torque of the mixed liquid in the stirring step to manufacture a sherbet having a desired viscosity. Cleaning method.
浄物である基板の表面に押圧することによって、基板を
スクラブ洗浄する洗浄方法において、 薬液と、雪氷のための純水とを所定混合比率で混合する
段階と、 薬液と純水との混合液を攪拌しながら、前記純水の凝固
点より低く且つ前記薬液の凝固点より高い所定温度に均
一に過冷却する段階と、 純水からなる雪氷と薬液とを含む所望硬度のシャーベッ
トを製造する段階とを有し、このシャーベットを基板の
表面に押圧することを特徴とする基板の洗浄方法。6. A cleaning method for scrub-cleaning a substrate by pressing a sherbet containing a chemical solution and snow and ice against the surface of a substrate to be cleaned, comprising: Mixing, and, while stirring the mixed solution of the chemical solution and the pure water, uniformly cooling the solid solution to a predetermined temperature lower than the freezing point of the pure water and higher than the freezing point of the chemical solution. Producing a sherbet having a desired hardness containing a chemical solution, and pressing the sherbet against the surface of the substrate.
／又は前記過冷却熱量を調節することによって、所望粒
径の前記雪氷を生成して、所望硬度の前記シャーベット
を製造する段階を含む請求項６に記載の基板の洗浄方
法。7. The step of producing the sherbet having a desired hardness by generating the snow and ice having a desired particle size by adjusting the predetermined mixing ratio and / or the amount of supercooling heat. Item 7. A method for cleaning a substrate according to Item 6.
せ、この渦を成長させ、さらに成長した渦を混合液内で
拡散させる段階を含む請求項６に記載の方法。8. The method of claim 6, wherein said agitating step comprises the step of generating a vortex in the mixture, growing the vortex, and diffusing the grown vortex in the mixture.
び酸系のいずれか、或いは任意の組み合わせからなる請
求項６に記載の方法。9. The method according to claim 6, wherein the chemical solution is composed of any one of an organic, an alkaline, and an acid, or any combination thereof.
板を回転及び往復運動させる段階を有する請求項６に記
載の方法。10. The method of claim 6, further comprising rotating and reciprocating the substrate while cleaning the substrate.
把持手段と、 基板を洗浄するための薬液と雪氷とを含むシャーベット
を基板に供給するための供給手段と、 供給されるシャーベットを基板の表面に対して相対移動
させるための相対移動手段と、 薬液と雪氷とからなるシャーベットを製造するためのシ
ャーベット製造装置とを有し、このシャーベット製造装
置は、 薬液と、雪氷のための純水とを所定混合比率で混合する
ための混合容器と、この混合液を前記純水の凝固点より
低く且つ前記薬液の凝固点より高い所定温度に過冷却す
るための過冷却手段と、 前記混合液内の混合液を均一に攪拌するための、略鉛直
方向に延びる回転軸線を中心に回転する攪拌羽根とを有
し、 この攪拌羽根は、攪拌中に前記混合容器の内壁を擦らな
いように前記回転軸線との間で攪拌半径を構成する外縁
を有し、 純水からなる雪氷と薬液とを含む所望性状のシャーベッ
トを用いて、基板の表面からパーティクルを除去するこ
とにより、基板を洗浄することを特徴とする基板の洗浄
装置。11. A gripping means for gripping a substrate which is an object to be cleaned, a supply means for supplying a sherbet containing a chemical solution for cleaning the substrate and snow and ice to the substrate, Relative movement means for relative movement with respect to the surface of the device, and a sherbet manufacturing device for manufacturing a sherbet composed of a chemical solution and snow and ice. The sherbet manufacturing device comprises a chemical solution and pure water for snow and ice. And a mixing vessel for mixing the mixed solution at a predetermined mixing ratio, a supercooling unit for supercooling the mixed solution to a predetermined temperature lower than the freezing point of the pure water and higher than the freezing point of the chemical solution, and A stirring blade that rotates about a rotation axis extending in a substantially vertical direction for uniformly stirring the mixed solution, and the stirring blade does not rub the inner wall of the mixing container during stirring. The substrate is cleaned by removing particles from the surface of the substrate using a sherbet having a desired property including snow and ice made of pure water and a chemical solution, having an outer edge constituting a stirring radius with the rotation axis. An apparatus for cleaning a substrate, comprising:
方の側に、前記回転軸線の方向に沿って延びる第1外縁
と、他方の側に前記回転軸線の方向に沿って延び、凹凸
状に形成された第２外縁とを有し、 さらに、前記攪拌羽根は、前記回転軸線と前記第1外縁
との間に、前記回転軸線の方向に延びる開口を有する請
求項１１に記載の洗浄装置。12. The outer edge has a first outer edge extending along the direction of the rotation axis on one side through the rotation axis, and an outer edge extending along the direction of the rotation axis on the other side. The washing apparatus according to claim 11, further comprising: a second outer edge formed in the cleaning blade; and the stirring blade further includes an opening extending in a direction of the rotation axis between the rotation axis and the first outer edge. .
からなり、 前記第２外縁は、前記複数の開口の各開口に相当するレ
ベルに凸部が、前記回転軸線の方向に隣合う開口の間に
相当するレベルに凹部が形成される請求項１２に記載の
洗浄装置。13. The stirring blade comprises a substantially flat plate, the opening comprises a plurality of openings aligned in the direction of the rotation axis, and the second outer edge has a level corresponding to each of the plurality of openings. 13. The cleaning apparatus according to claim 12, wherein a convex portion is formed at a level corresponding to a level between openings adjacent to each other in the direction of the rotation axis.
合比率で混合する段階と、 薬液と純水との混合液を攪拌しながら、前記純水の凝固
点より低く且つ前記薬液の凝固点より高い所定温度に均
一に過冷却する段階と、 純水からなる雪氷と薬液とを含む所望性状のシャーベッ
トを製造する段階とを有することを特徴とする、基板を
洗浄するためのシャーベットの製造方法。14. A step of mixing a chemical solution and pure water for snow and ice at a predetermined mixing ratio; and stirring the mixture of the chemical solution and pure water while lowering the freezing point of the pure water and the freezing point of the chemical solution. A method for manufacturing a sherbet for cleaning a substrate, comprising: a step of uniformly supercooling to a higher predetermined temperature; and a step of manufacturing a sherbet having a desired property including snow and ice made of pure water and a chemical solution. .
び／又は前記過冷却熱量を調節することによって、所望
粒径の前記雪氷を生成して、所望硬度及び所望粘度の前
記シャーベットを製造する段階を含む請求項14に記載の
製造方法。15. The manufacturing step of manufacturing the sherbet having a desired hardness and a desired viscosity by generating the snow and ice having a desired particle size by adjusting the predetermined mixing ratio and / or the amount of supercooling heat. 15. The production method according to claim 14, comprising:
である請求項15に記載の製造装置。16. The manufacturing apparatus according to claim 15, wherein the desired particle size is approximately 200 microns or less.
させ、この渦を成長させ、さらに成長した渦を混合液内
で拡散させる段階を含む請求項14に記載の製造方法。17. The method according to claim 14, wherein the stirring includes generating a vortex in the mixture, growing the vortex, and diffusing the grown vortex in the mixture.
酸系のいずれか、或いは任意の組み合わせからなる請求
項14に記載の製造方法。18. The production method according to claim 14, wherein the chemical solution is composed of any one of an organic system, an alkali system, and an acid system, or an arbitrary combination.
合比率で混合するための混合容器と、 この混合液を前記純水の凝固点より低く且つ前記薬液の
凝固点より高い所定温度に過冷却するための過冷却手段
と、 前記混合液内の混合液を均一に攪拌するための攪拌羽根
とを有し、 この攪拌羽根は、攪拌中に前記混合容器の内壁を擦らな
いように前記攪拌羽根の回転軸線との間で攪拌半径を構
成する外縁を有する、 ことを特徴とする、基板の洗浄に用いられる、純水から
なる雪氷と薬液とを含む所望性状のシャーベットを製造
するためのシャーベット製造装置。19. A mixing vessel for mixing a chemical solution and pure water for snow and ice at a predetermined mixing ratio, and the mixing solution is heated to a predetermined temperature lower than the freezing point of the pure water and higher than the freezing point of the chemical solution. A supercooling unit for cooling; and a stirring blade for uniformly stirring the mixed liquid in the mixed liquid. The stirring blade is configured to perform the stirring so as not to rub the inner wall of the mixing container during stirring. An outer edge that forms a stirring radius with the rotation axis of the blade; and a sherbet for manufacturing a sherbet having a desired property containing snow and ice made of pure water and a chemical used for cleaning a substrate. manufacturing device.
方の側に、前記回転軸線の方向に沿って延びる第1外縁
と、他方の側に前記回転軸線の方向に沿って延び、凹凸
状に形成された第２外縁とを有し、 さらに、前記攪拌羽根は、前記回転軸線と前記第1外縁
との間に、前記回転軸線の方向に延びる開口を有する請
求項19に記載の製造装置。20. The outer edge has a first outer edge extending along the direction of the rotation axis on one side through the rotation axis, and an outer edge extending along the direction of the rotation axis on the other side. 20. The manufacturing apparatus according to claim 19, further comprising: a second outer edge formed in the rotating blade; and the stirring blade has an opening extending in a direction of the rotating axis between the rotating axis and the first outer edge. .
からなり、 前記第２外縁は、前記複数の開口の各開口に相当するレ
ベルに凸部が、前記回転軸線の方向に隣合う開口の間に
相当するレベルに凹部が形成される請求項20に記載の製
造装置。21. The stirring blade is formed of a substantially flat plate, the opening is formed of a plurality of openings aligned in the direction of the rotation axis, and the second outer edge is at a level corresponding to each opening of the plurality of openings. 21. The manufacturing apparatus according to claim 20, wherein a convex portion is formed, and a concave portion is formed at a level corresponding to a distance between openings adjacent in the direction of the rotation axis.
前記第１外縁と前記内壁との間隔より大きい請求項21に
記載の製造装置。22. A distance between the second outer edge and the inner wall,
22. The manufacturing apparatus according to claim 21, wherein the distance between the first outer edge and the inner wall is larger than the distance between the first outer edge and the inner wall.
出することにより、前記過冷却熱量を調節して、前記シ
ャーベットの所望性状を調整するための攪拌トルク検出
手段を有する請求項19に記載の製造装置。23. The apparatus according to claim 19, further comprising a stirring torque detecting means for adjusting the supercooling heat amount by detecting the stirring torque of the mixed liquid to adjust a desired property of the sherbet. manufacturing device.
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