JP2001332803A - Method of manufacturing optical integrated module and manufacturing equipment - Google Patents

Method of manufacturing optical integrated module and manufacturing equipment

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JP2001332803A
JP2001332803A JP2000151103A JP2000151103A JP2001332803A JP 2001332803 A JP2001332803 A JP 2001332803A JP 2000151103 A JP2000151103 A JP 2000151103A JP 2000151103 A JP2000151103 A JP 2000151103A JP 2001332803 A JP2001332803 A JP 2001332803A
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Japan
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substrate
optical element
optical
manufacturing
holding means
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JP2000151103A
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Japanese (ja)
Inventor
Tsuyoshi Iwamoto
剛志 岩本
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Minolta Co Ltd
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Minolta Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the degree of coincidence of the height of corresponding positions of plural optical elements on a substrate of an optical integrated module. SOLUTION: The height of an element to be newly installed is determined by setting the upper surface of an element which has been formed on the substrate as reference. By using the determined height, the element is fixed on the substrate. A lower surface of the element to be newly installed is made to abut against with an upper surface of the element which has been installed. The element to be newly installed is made to descend from the abutting height by a regulating amount. In another case, a distance between the lower surface of the element to be newly installed and the upper surface of the element which has been installed is detected. From the height, the element to be newly installed is made to descend by the sum of the detected distance and the regulating amount.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、発光素子、光導波
路素子、受光素子等の種々の光素子を同一基板上に有す
る光集積モジュールの製造方法および製造装置に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and an apparatus for manufacturing an optical integrated module having various optical elements such as a light emitting element, an optical waveguide element and a light receiving element on the same substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、光通信の分野ではキーデバイスと
なる光送受信モジュールの製造効率の飛躍的な向上が求
められている。その中で、共通基板に光素子をハイブリ
ッドに配置する平面実装技術を用いたプレーナ光波路回
路(PLC:Planar LightwaveCircuit)光集積デバイ
スの量産化が注目されている。PLC光集積デバイス
は、石英や樹脂系材料で構成される光導波路素子をSi
等の基板上に形成し、同じ基板表面にレーザダイオード
やフォトダイオード等の能動素子、あるいは光ファイバ
を実装することにより、複数の機能をもたせた小型の光
集積モジュールである。
2. Description of the Related Art In recent years, in the field of optical communication, a dramatic improvement in the manufacturing efficiency of an optical transceiver module serving as a key device has been required. Among them, the mass production of a planar lightwave circuit (PLC) optical integrated device using a planar mounting technology in which optical elements are hybridly arranged on a common substrate has attracted attention. The PLC optical integrated device uses an optical waveguide element made of quartz or a resin-based material as Si.
A small-sized optical integrated module having a plurality of functions by forming active elements such as laser diodes and photodiodes or optical fibers on the same substrate surface.

【0003】光集積モジュールでは、光の損失をできる
だけ少なくするために、複数の光素子の対応部位(例え
ばレーザダイオードの出射部位と光導波路素子の入射部
位)を厳密に一致させる必要があり、基板の上面に光素
子を実装する際のアライメント技術がいくつか提案され
ている。なかでもマーカーを用いたアライメントが、精
度の高さから多用されている。
In an optical integrated module, in order to minimize the loss of light, the corresponding portions of a plurality of optical elements (for example, the emitting portion of a laser diode and the incident portion of an optical waveguide element) must be strictly matched. There have been proposed several alignment techniques for mounting an optical element on the upper surface of a semiconductor device. Above all, alignment using a marker is frequently used because of its high accuracy.

【0004】この方法は、光素子を形成した基板の上面
とその基板に実装する光素子の下面の双方にアライメン
ト用マークをパターニングしておき、両者のマークが重
なり合うように実装する光素子を配置することで、基板
の上面に沿う方向(水平方向)の両素子の相対位置を設
定するものである。基板の表面に垂直な高さ方向(垂直
方向)についての両素子の相対位置は、基板の上面に設
けた電極と実装する光素子の下面に設けた電極の接続を
兼ねて両者間に介装するバンプの厚さによって定める。
In this method, alignment marks are patterned on both the upper surface of a substrate on which an optical element is formed and the lower surface of an optical element mounted on the substrate, and the optical element to be mounted is arranged so that the two marks overlap. By doing so, the relative position of both elements in the direction (horizontal direction) along the upper surface of the substrate is set. The relative positions of the two elements in the height direction (vertical direction) perpendicular to the surface of the substrate are interposed between the electrodes so as to connect the electrodes provided on the upper surface of the substrate and the electrodes provided on the lower surface of the mounted optical element. It is determined by the thickness of the bump to be formed.

【0005】マーカーを用いて光導波路素子とレーザダ
イオード素子(LD)のアライメントを行う実装方法の
具体例について、図6を参照して説明する。まず、
(a)に示すように、光導波路素子20を形成した基板
10の上面の素子20以外の部位に、アライメント用の
1以上のマーク11と固定用の1以上のパッド12を形
成する。また、実装するLD30の下面に、基板10の
マーク11およびパッド12と鏡面対称になるように、
同数のマーク31と同数のパッド32を形成する。マー
ク11、31およびパッド12、32の形成は、Au等
の金属を材料として用い、蒸着法、スパッタ法等の成膜
方法とフォトリソグラフィ等のパターニング方法で行
う。パッド12、32のうちの少なくとも1組は、基板
10の上面に設けた配線パターンにLD30を電気的に
接続するためのものである。
A specific example of a mounting method for aligning an optical waveguide element and a laser diode element (LD) using a marker will be described with reference to FIG. First,
As shown in FIG. 1A, one or more alignment marks 11 and one or more fixing pads 12 are formed on a portion other than the device 20 on the upper surface of the substrate 10 on which the optical waveguide device 20 is formed. Also, on the lower surface of the LD 30 to be mounted, the mark 11 and the pad 12 of the substrate 10 are mirror-symmetrical with each other.
The same number of marks 31 and the same number of pads 32 are formed. The marks 11 and 31 and the pads 12 and 32 are formed using a metal such as Au as a material by a film forming method such as an evaporation method or a sputtering method and a patterning method such as photolithography. At least one set of the pads 12 and 32 is for electrically connecting the LD 30 to a wiring pattern provided on the upper surface of the substrate 10.

【0006】次いで、パッド12上にバンプ13を形成
する。具体的には、基板10の上面に比較的融点の低い
AuSn等の金属膜を蒸着法等でやや厚く成膜し、フォ
トリソグラフィによるパターニングまたはリフトオフパ
ターニングで、パッド12上に金属膜を残す。そして、
基板10を加熱して、パッド12上に残した金属膜をバ
ンプ形状とする。バンプ13の高さは、パッド32の下
面の設定すべき高さよりもやや高くしておく。
Next, bumps 13 are formed on the pads 12. Specifically, a metal film such as AuSn having a relatively low melting point is formed on the upper surface of the substrate 10 to be slightly thicker by an evaporation method or the like, and the metal film is left on the pad 12 by patterning by photolithography or lift-off patterning. And
The substrate 10 is heated so that the metal film left on the pads 12 has a bump shape. The height of the bump 13 is slightly higher than the height of the lower surface of the pad 32 to be set.

【0007】バンプ13を形成した後、光導波路素子2
0に対するLD30の位置を合わせて、LD30を基板
10に固定する。まず、赤外線拡大光学系等を用いて基
板10のマーク11とLD30のマーク31の双方を観
察しながら、LD30を水平方向に移動させて、(b)
に示すように、マーク31の中心とマーク11の中心の
水平方向の位置を一致させる。
After the bumps 13 are formed, the optical waveguide device 2
The LD 30 is fixed to the substrate 10 by aligning the position of the LD 30 with respect to 0. First, the LD 30 is moved in the horizontal direction while observing both the mark 11 of the substrate 10 and the mark 31 of the LD 30 using an infrared expanding optical system or the like, and (b)
As shown in (2), the horizontal position of the center of the mark 31 and the center of the mark 11 are matched.

【0008】次いで、(c)に示すように、LD30を
降下させて、LD30のパッド32をバンプ13に軽く
当接させる。LD30のパッド32とバンプ13の当接
は、LD30を保持する保持具に設けられたロードセル
等のセンサによる。そして、基板10とLD30を加熱
してバンプ13を溶解させ、LD30をバンプ13に当
接した位置から規定量だけさらに降下させて、基板10
とLD30を冷却してバンプ13を固化させる。
Next, as shown in FIG. 1C, the LD 30 is lowered, and the pad 32 of the LD 30 is lightly brought into contact with the bump 13. The contact between the pad 32 of the LD 30 and the bump 13 is determined by a sensor such as a load cell provided on a holder for holding the LD 30. Then, the substrate 10 and the LD 30 are heated to melt the bumps 13, and the LD 30 is further lowered by a predetermined amount from the position where the LDs 30 are in contact with the bumps 13, so that the substrate 10
Then, the LD 13 is cooled to solidify the bump 13.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】マーカーを用いるアラ
イメント法では、基板上の2つの光素子の水平方向の相
対位置を厳密に定めることができる。したがって、2つ
の光素子の対応部位の位置ずれは、水平方向については
ほとんどない。
According to the alignment method using a marker, the relative position in the horizontal direction of two optical elements on a substrate can be strictly determined. Therefore, there is almost no displacement of the corresponding portions of the two optical elements in the horizontal direction.

【0010】しかしながら、基板上の2つの光素子の垂
直方向の相対位置を厳密に定めることは難しい。上記の
ように、垂直方向の相対位置は、実装する光素子がバン
プに当接した位置を基準として定められ、バンプの高さ
にはばらつきが生じ易いからである。
However, it is difficult to precisely determine the relative position of the two optical elements on the substrate in the vertical direction. As described above, the relative position in the vertical direction is determined based on the position at which the mounted optical element abuts on the bump, and the height of the bump is likely to vary.

【0011】また、たとえバンプの高さを一定にするこ
とができても、2つの光素子の対応部位を垂直方向に厳
密に一致させることは容易ではない。パッドや素子内の
層の厚さの誤差が累積されて、対応部位の高さの誤差と
なるからである。前述の例では、バンプ13のほか、パ
ッド32、パッド12、光導波路素子20の導波路であ
るコア21およびその下に設ける下部クラッド層22が
誤差要因となる。
Further, even if the height of the bump can be made constant, it is not easy to make the corresponding portions of the two optical elements exactly coincide with each other in the vertical direction. This is because errors in the thicknesses of the pads and layers in the element are accumulated and result in errors in the height of the corresponding portions. In the above-described example, in addition to the bump 13, the pad 32, the pad 12, the core 21 which is the waveguide of the optical waveguide element 20, and the lower cladding layer 22 provided thereunder cause errors.

【0012】本発明は、このような問題点に鑑みてなさ
れたもので、複数の光素子の対応部位の高さの一致度が
高い光集積モジュールの製造方法および製造装置を提供
することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method and an apparatus for manufacturing an optical integrated module in which the heights of corresponding portions of a plurality of optical elements are high. And

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、同一の基板上に複数の光素子を有する
光集積モジュールの製造方法において、基板上に既に設
けられている第1の光素子の上面を基準として第2の光
素子の下面の高さを定め、定めた高さで第2の光素子を
基板上に固定するものとする。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing an optical integrated module having a plurality of optical elements on the same substrate. The height of the lower surface of the second optical element is determined with reference to the upper surface of the optical element, and the second optical element is fixed on the substrate at the determined height.

【0014】第2の光素子の基板への固定は、例えば、
前述のバンプのように初め柔らかく後に固化する固定用
部材を、基板と第2の光素子との間に介装して行えばよ
い。この方法では、固定用部材の厚さが第2の光素子の
高さに影響するのを避けることができるから、第1の光
素子と第2の光素子の対応部位の高さの一致度は高い。
また、第1の光素子と第2の光素子の対応部位の高さの
誤差要因は、第1の光素子においては対応部位から上の
厚さのみであるから、第1の光素子が対応部位よりも下
に多数の層を有する構造であっても、それらの層の厚さ
をあまり厳密に設定する必要がない。したがって、第1
の光素子の製造が容易になる。なお、第1の光素子は、
基板上に直接形成したものでもよいし、独立に製造して
基板に固定したものでもよい。
For fixing the second optical element to the substrate, for example,
What is necessary is just to interpose a fixing member which is soft and solidifies later like the above-mentioned bumps between the substrate and the second optical element. In this method, it is possible to avoid the thickness of the fixing member from affecting the height of the second optical element. Therefore, the degree of coincidence of the heights of the corresponding portions of the first optical element and the second optical element Is expensive.
In addition, the error factor of the height of the corresponding part between the first optical element and the second optical element is only the thickness above the corresponding part in the first optical element. Even in a structure having a number of layers below the site, it is not necessary to set the thicknesses of those layers very strictly. Therefore, the first
This facilitates the manufacture of the optical element. Note that the first optical element is
It may be formed directly on the substrate, or may be independently manufactured and fixed to the substrate.

【0015】具体的には、第1の光素子の上面に第2の
光素子の下面を当接させ、第1の光素子の上面と第2の
光素子の下面の高低差が所定値となるように第2の光素
子を基板に対して相対的に移動させて、移動後の位置で
第2の光素子を基板上に固定する。
Specifically, the lower surface of the second optical element is brought into contact with the upper surface of the first optical element, and the height difference between the upper surface of the first optical element and the lower surface of the second optical element is equal to a predetermined value. The second optical element is moved relative to the substrate so that the second optical element is fixed on the substrate at the position after the movement.

【0016】あるいは、第1の光素子の上面と第2の光
素子の下面の高低差を検出し、第1の光素子の上面と第
2の光素子の下面の高低差が所定値となるように第2の
光素子を基板に対して相対的に移動させて、移動後の位
置で第2の光素子を基板上に固定する。
Alternatively, the height difference between the upper surface of the first optical element and the lower surface of the second optical element is detected, and the height difference between the upper surface of the first optical element and the lower surface of the second optical element becomes a predetermined value. As described above, the second optical element is moved relative to the substrate, and the second optical element is fixed on the substrate at the position after the movement.

【0017】これらの方法は、第1の光素子の上面に当
接した位置または第1の光素子の上面との高低差を測定
した位置からの第2の光素子の上下方向の移動量を厳密
に制御するだけで、容易に実現することができる。
In these methods, the amount of vertical movement of the second optical element from a position in contact with the upper surface of the first optical element or a position where the height difference from the upper surface of the first optical element is measured is determined. It can be easily realized only by strict control.

【0018】光導波路素子を第1の光素子、発光素子を
第2の光素子として、第1の光素子の光入射部位に第2
の光素子の光出射部位を対向させるとよい。発光素子が
発する光を効率よく利用し得る光集積モジュールが得ら
れる。
The optical waveguide device is a first optical device, and the light emitting device is a second optical device.
It is preferable that the light emitting portions of the optical elements are opposed to each other. An optical integrated module that can efficiently use light emitted from the light emitting element can be obtained.

【0019】前記目的を達成するために、本発明ではま
た、同一の基板上に複数の光素子を有する光集積モジュ
ールの製造装置において、基板を保持する基板保持手段
と、基板上に固定する光素子を保持し、基板保持手段に
対して相対的に上下方向、左右方向および前後方向に移
動する素子保持手段と、基板保持手段に保持された基板
上の光素子の上面と素子保持手段に保持された光素子の
下面の当接を検出する当接検出手段と、基板保持手段に
対する素子保持手段の相対的な上下方向の移動量を検出
する移動量検出手段とを備えるものとする。
According to another aspect of the present invention, there is provided an apparatus for manufacturing an optical integrated module having a plurality of optical elements on the same substrate, comprising: substrate holding means for holding the substrate; An element holding means for holding the element and moving vertically, horizontally, and back and forth relative to the substrate holding means, and holding the upper surface of the optical element on the substrate held by the substrate holding means and the element holding means It is provided with contact detecting means for detecting the contact of the lower surface of the optical element and moving amount detecting means for detecting the amount of vertical movement of the element holding means relative to the substrate holding means.

【0020】本発明ではさらに、同一の基板上に複数の
光素子を有する光集積モジュールの製造装置において、
基板を保持する基板保持手段と、基板上に固定する光素
子を保持し、基板保持手段に対して相対的に上下方向、
左右方向および前後方向に移動する素子保持手段と、基
板保持手段に保持された基板上の光素子の上面と素子保
持手段に保持された光素子の下面の高低差を検出する高
低差検出手段と、基板保持手段に対する素子保持手段の
相対的な上下方向の移動量を検出する移動量検出手段と
を備えるものとする。
The present invention further provides an optical integrated module manufacturing apparatus having a plurality of optical elements on the same substrate.
Substrate holding means for holding the substrate, holding the optical element fixed on the substrate, the vertical direction relative to the substrate holding means,
An element holding means that moves in the left-right direction and the front-back direction; a height difference detection means for detecting a height difference between an upper surface of the optical element on the substrate held by the substrate holding means and a lower surface of the optical element held by the element holding means; And a moving amount detecting means for detecting a vertical moving amount of the element holding means relative to the substrate holding means.

【0021】これらの装置では、基板に固定すべき光素
子の下面を基板上の光素子の上面に当接させた後、ある
いは、基板に固定すべき光素子の下面と基板上の光素子
の上面の高低差を検出した後、素子保持手段の上下方向
の移動量を監視しながら素子保持手段を移動させること
で、固定すべき光素子の下面の高さを基板上の光素子の
上面を基準として定めることが可能であり、上述の製造
方法を実施することができる。
In these apparatuses, after the lower surface of the optical element to be fixed to the substrate is brought into contact with the upper surface of the optical element on the substrate, or the lower surface of the optical element to be fixed to the substrate and the optical element on the substrate, After detecting the height difference of the upper surface, the height of the lower surface of the optical element to be fixed can be adjusted by moving the element holding means while monitoring the amount of vertical movement of the element holding means. It can be set as a reference, and the above-described manufacturing method can be performed.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、本発明の光集積モジュール
の製造方法および製造装置の実施形態について、図面を
参照しながら説明する。ここでは、光導波路素子を形成
した基板上にレーザダイオード素子を実装した光集積モ
ジュールを製造する場合を例にとる。製造された光集積
モジュール3の要部の上面および側面を図1の(a)、
(b)にそれぞれ示す。図1においては、モジュール3
の一部を透視して表している。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiments of a method and apparatus for manufacturing an optical integrated module according to the present invention will be described below with reference to the drawings. Here, a case of manufacturing an optical integrated module in which a laser diode element is mounted on a substrate on which an optical waveguide element is formed will be described as an example. The upper and side surfaces of the main part of the manufactured optical integrated module 3 are shown in FIG.
(B) shows each. In FIG. 1, module 3
Are shown in perspective.

【0023】光集積モジュール3は、基板10と光導波
路素子20とレーザダイオード素子(LD)30を有す
る。光導波路素子20は基板10上に直接形成されてお
り、LD30は光導波路素子20とは独立に製造され
て、基板10上に固定されている。光導波路素子20お
よびLD30は本技術分野では周知の方法で製造されて
おり、それらの製造方法は本発明に直接関係しないので
説明を省略する。
The optical integrated module 3 has a substrate 10, an optical waveguide element 20, and a laser diode element (LD) 30. The optical waveguide element 20 is formed directly on the substrate 10, and the LD 30 is manufactured independently of the optical waveguide element 20 and fixed on the substrate 10. The optical waveguide element 20 and the LD 30 are manufactured by a method well known in the art, and the manufacturing method is not directly related to the present invention, and thus the description is omitted.

【0024】光導波路素子20は、光を導くコア21
と、コア21の下に位置する下部クラッド層22と、コ
ア21の上に位置する上部クラッド層23より成る。上
部クラッド層23の上面は平坦であり、この面が光導波
路素子20の上面20aとなっている。
The optical waveguide element 20 has a core 21 for guiding light.
And a lower cladding layer 22 located below the core 21 and an upper cladding layer 23 located above the core 21. The upper surface of the upper cladding layer 23 is flat, and this surface is the upper surface 20 a of the optical waveguide device 20.

【0025】LD30は、活性層内に設けられた帯状の
発光領域(不図示)の端面が光導波路素子20のコア2
1の端面に近接し、かつ、発光領域の中心軸Adがコア
21の中心軸Agに一致するように、位置を定められて
基板10に固定されている。LD30と光導波路素子2
0の位置合わせは、水平方向については前述のマーカー
を用いる方法で行い、垂直方向については光導波路素子
20の上面20aを基準として行う。
The LD 30 has a band-shaped light emitting region (not shown) provided in the active layer, and an end face of which is formed in the core 2 of the optical waveguide element 20.
1 and is fixed to the substrate 10 so as to be positioned so that the central axis Ad of the light emitting region coincides with the central axis Ag of the core 21. LD30 and optical waveguide element 2
The alignment of 0 is performed in the horizontal direction by the method using the above-described marker, and in the vertical direction, the upper surface 20a of the optical waveguide element 20 is used as a reference.

【0026】光集積モジュール3の第1の製造方法につ
いて説明する。まず、基板10の上面10aにアライメ
ント用の1以上のマーク11と固定用の1以上のパッド
12を形成し、LD30の下面30aにも、基板10の
マーク11およびパッド12と鏡面対称になるように、
同数のマーク31と同数のパッド32を形成する。この
とき、マーク11の中心からコア21の中心軸Agまで
の水平方向の距離と、マーク31の中心から発光領域の
中心軸Adまでの水平方向の距離が等しくなるようにす
る。
A first method for manufacturing the optical integrated module 3 will be described. First, at least one alignment mark 11 and at least one pad 12 are formed on the upper surface 10a of the substrate 10 so that the lower surface 30a of the LD 30 is mirror-symmetrical to the mark 11 and the pad 12 of the substrate 10. To
The same number of marks 31 and the same number of pads 32 are formed. At this time, the horizontal distance from the center of the mark 11 to the central axis Ag of the core 21 is made equal to the horizontal distance from the center of the mark 31 to the central axis Ad of the light emitting region.

【0027】マーク11、31およびパッド12、32
の形成は、Au等の金属を材料として用い、蒸着法、ス
パッタ法等の成膜方法とフォトリソグラフィ等のパター
ニング方法で行う。パッド12、32のうちの少なくと
も1組は、基板10の上面10aに設けた配線パターン
(不図示)にLD30を電気的に接続するためのもので
ある。パッド32の下面32a(図2参照)はLD30
の下面30aの一部となる。
Marks 11, 31 and pads 12, 32
Is formed using a metal such as Au as a material and by a film forming method such as an evaporation method or a sputtering method and a patterning method such as photolithography. At least one set of the pads 12 and 32 is for electrically connecting the LD 30 to a wiring pattern (not shown) provided on the upper surface 10 a of the substrate 10. The lower surface 32a of the pad 32 (see FIG. 2) is an LD 30
Of the lower surface 30a.

【0028】次いで、パッド12上にバンプ13を形成
する。具体的には、基板10の上面に比較的融点の低い
AuSn等の金属膜を蒸着法等でやや厚く成膜し、フォ
トリソグラフィによるパターニングまたはリフトオフパ
ターニングで、パッド12上に金属膜を残す。そして、
基板10を加熱して、パッド12上に残した金属膜をバ
ンプ形状とする。バンプ13の高さはLD30のパッド
32の下面32aの設定すべき高さよりもやや高くして
おくが、バンプ13の上端を位置合わせの基準に用いる
ことはしないので、バンプ13の高さを厳密に調整する
必要はない。
Next, bumps 13 are formed on the pads 12. Specifically, a metal film such as AuSn having a relatively low melting point is formed on the upper surface of the substrate 10 to be slightly thicker by an evaporation method or the like, and the metal film is left on the pad 12 by patterning by photolithography or lift-off patterning. And
The substrate 10 is heated so that the metal film left on the pads 12 is formed into a bump shape. Although the height of the bump 13 is slightly higher than the height to be set on the lower surface 32a of the pad 32 of the LD 30, the upper end of the bump 13 is not used as a reference for alignment. There is no need to adjust.

【0029】バンプ13の形成後、光導波路素子20に
対するLD30の位置を合わせながら、LD30を基板
10に固定する。この工程を図2に示す。図2におい
て、(a)、(b)、(d)は側面図であり、(c)は
平面図である。まず、(a)に示すように、LD30を
光導波路素子20の上方からゆっくりと降下させて、L
D30のパッド32の下面32aを光導波路素子20の
上面20aに軽く当接させる。次いで、(b)に示すよ
うに、LD30を図面左方に移動させて、マーク31が
マーク11の上方におおよそ位置するようにする。そし
て、基板10のマーク11とLD30のマーク31の双
方を観察しながらLD30の水平方向の位置を調節し
て、(c)に示すように、マーク31の中心とマーク1
1の中心の位置を一致させる。
After the formation of the bumps 13, the LD 30 is fixed to the substrate 10 while adjusting the position of the LD 30 with respect to the optical waveguide device 20. This step is shown in FIG. 2, (a), (b) and (d) are side views, and (c) is a plan view. First, as shown in (a), the LD 30 is slowly lowered from above the optical waveguide element 20, and
The lower surface 32a of the pad 32 of D30 is lightly brought into contact with the upper surface 20a of the optical waveguide element 20. Next, as shown in (b), the LD 30 is moved to the left in the drawing so that the mark 31 is located approximately above the mark 11. Then, the position of the LD 30 in the horizontal direction is adjusted while observing both the mark 11 of the substrate 10 and the mark 31 of the LD 30, and as shown in FIG.
The position of the center of 1 is matched.

【0030】水平方向の位置を調節した後、(d)に示
すように、LD30をゆっくりと降下させて、LD30
のパッド32をバンプ13に軽く当接させる。この状態
で、LD30と基板10を加熱してバンプ13を溶解さ
せ、パッド32の下面32aが光導波路素子20の上面
20aに当接したときからの降下量が規定量Lになるま
で、LD30をさらに降下させる。そして、LD30と
基板10を冷却してバンプ13を固化させる。これで、
LD30の基板10への固定が完了する。
After adjusting the horizontal position, the LD 30 is slowly lowered as shown in FIG.
The pad 32 is lightly brought into contact with the bump 13. In this state, the LD 30 and the substrate 10 are heated to melt the bumps 13, and the LD 30 is moved until the lowering amount from when the lower surface 32 a of the pad 32 contacts the upper surface 20 a of the optical waveguide element 20 reaches the specified amount L. Lower further. Then, the LD 30 and the substrate 10 are cooled to solidify the bumps 13. with this,
The fixing of the LD 30 to the substrate 10 is completed.

【0031】LD30を降下させる規定量Lは、光導波
路素子20のコア21の中心軸Agから上面20aまで
の距離、LD30の下面30aから発光領域の中心軸A
dまでの距離、およびパッド32の厚さの和とする。す
なわち、コア21の厚さをA、上部クラッド層23の厚
さをB、LD30のパッド32の下面32aから発光領
域の中心軸Adまでの距離をCで表せば、L=A/2+
B+Cである。これにより、LD30の発光領域の中心
軸Adがコア21の中心軸Agと同じ高さになる。
The prescribed amount L for lowering the LD 30 is a distance from the central axis Ag of the core 21 of the optical waveguide element 20 to the upper surface 20a, and a distance from the lower surface 30a of the LD 30 to the central axis A of the light emitting region.
d and the sum of the thickness of the pad 32. That is, if the thickness of the core 21 is A, the thickness of the upper cladding layer 23 is B, and the distance from the lower surface 32a of the pad 32 of the LD 30 to the center axis Ad of the light emitting region is C, L = A / 2 +
B + C. Thus, the center axis Ad of the light emitting region of the LD 30 becomes the same height as the center axis Ag of the core 21.

【0032】なお、上記の処理は基板10とLD30を
別個な保持具で保持して行うが、位置合わせは基板10
に対してLD30を相対的に移動させて行えばよく、基
板10の保持具を一定位置にとどめてLD30の保持具
を上下、左右、前後の3方向に可動とする必要はない。
また、バンプ13が固化した後、早期にLD30の保持
をやめる場合は、室温まで冷えることによるバンプ13
の収縮を考慮して、上記の規定量Lを補正するとよい。
The above processing is performed by holding the substrate 10 and the LD 30 with separate holders.
However, it is not necessary to move the LD 30 relatively to the substrate 30, and it is not necessary to keep the holder of the substrate 10 at a fixed position and move the holder of the LD 30 in three directions of up, down, left, right, front and back.
When the holding of the LD 30 is stopped early after the bump 13 is solidified, the bump 13 may be cooled to room temperature.
The above-mentioned specified amount L may be corrected in consideration of the contraction of.

【0033】上記の製造方法を実施するための製造装置
の概略構成を図3に模式的に示す。この装置1は、基板
10を保持して水平(前後左右)方向に移動する基板保
持具41、LD30を保持して垂直(上下)方向に移動
する素子保持具42、素子保持具42の高さを監視する
レーザ測長器43、基板10のマーク11およびLD3
0のマーク31の像を撮影する赤外線カメラ44、赤外
線カメラ44で撮影した映像を表示するモニター45、
全体を制御するコントローラ46、および、使用者がモ
ニター46に表示されるマーク11、31の映像を観察
しながら操作する操作部47を有する。
FIG. 3 schematically shows the structure of a manufacturing apparatus for carrying out the above manufacturing method. The apparatus 1 includes a substrate holder 41 that holds a substrate 10 and moves in a horizontal (front-rear, left-right) direction, an element holder 42 that holds an LD 30 and moves in a vertical (up-down) direction, and a height of the element holder 42. Length measuring device 43, mark 11 on substrate 10, and LD3
An infrared camera 44 for capturing an image of the 0 mark 31, a monitor 45 for displaying an image captured by the infrared camera 44,
It has a controller 46 that controls the whole, and an operation unit 47 that the user operates while observing the images of the marks 11 and 31 displayed on the monitor 46.

【0034】基板保持具41は基板10を加熱するヒー
タを兼ねており、素子保持具42はLD30を加熱する
ヒータを兼ねている。また、素子保持具42には下方か
ら加わる圧力を検出するロードセルセンサ48が備えら
れており、これによりLD30のパッド32の下面32
aと光導波路素子20の上面20aの当接、およびパッ
ド32の下面32aとバンプ13の当接が検出される。
The substrate holder 41 also serves as a heater for heating the substrate 10, and the element holder 42 also serves as a heater for heating the LD 30. The element holder 42 is provided with a load cell sensor 48 for detecting a pressure applied from below, whereby the lower surface 32 of the pad 32 of the LD 30 is provided.
The contact between a and the upper surface 20a of the optical waveguide element 20 and the contact between the lower surface 32a of the pad 32 and the bump 13 are detected.

【0035】コントローラ46は、LD30を保持した
素子保持具42を光導波路素子20上に降下させ、ロー
ドセルセンサ48により当接が検出されると降下を停止
させて、レーザ測長器43で検出された素子保持具42
の高さを記憶する。そして、操作部47を介して使用者
より与えれる指示に応じて基板保持具41を移動させ
る。使用者は水平方向の位置合わせが終了すると降下開
始の指示を与え、これに応じてコントローラ46は素子
保持具42を降下させ、ロードセルセンサ48によりバ
ンプ13への当接が検出されると降下を停止させる。
The controller 46 lowers the element holder 42 holding the LD 30 onto the optical waveguide element 20. When the contact is detected by the load cell sensor 48, the controller 46 stops the lowering. Element holder 42
Memorize the height of Then, the substrate holder 41 is moved in accordance with an instruction given by the user via the operation unit 47. When the horizontal alignment is completed, the user gives an instruction to start lowering. In response to this, the controller 46 lowers the element holder 42, and when the load cell sensor 48 detects contact with the bump 13, the lowering is performed. Stop.

【0036】次いで、基板保持具41と素子保持具42
に基板10とLD30の加熱を行わせてバンプ13を溶
解し、レーザ測長器43で検出される素子保持具42の
高さの変化が規定量Lになるまで素子保持具42を降下
させる。コントローラ46は、この位置に素子保持具4
2を暫時とどめて、バンプ13が固化した後、素子保持
具42によるLD30の保持を解除させる。
Next, the substrate holder 41 and the element holder 42
Then, the substrate 13 and the LD 30 are heated to melt the bumps 13, and the element holder 42 is lowered until the change in the height of the element holder 42 detected by the laser length measuring device 43 reaches the specified amount L. The controller 46 places the element holder 4 in this position.
2 is temporarily stopped, and after the bumps 13 are solidified, the holding of the LD 30 by the element holder 42 is released.

【0037】なお、ここでは、モニター45に表示され
るマーク11、31の映像を観察しながら、使用者が水
平方向の位置合わせをする構成としているが、コントロ
ーラ46が水平方向の位置合わせを自動的に行うように
することもできる。そのためには、コントローラ46に
画像認識機能をもたせるとともに、赤外線カメラ44の
映像信号をコントローラ46に与えるようにすればよ
い。このようにすると、きわめて能率のよい製造装置と
なる。また、モニター45や操作部47は不要になる。
In this embodiment, the user performs the horizontal alignment while observing the images of the marks 11 and 31 displayed on the monitor 45. However, the controller 46 automatically performs the horizontal alignment. It is also possible to perform it. For this purpose, the controller 46 may be provided with an image recognition function and the video signal of the infrared camera 44 may be provided to the controller 46. In this case, an extremely efficient manufacturing apparatus can be obtained. Further, the monitor 45 and the operation unit 47 become unnecessary.

【0038】光集積モジュール3の第2の製造方法につ
いて説明する。この製造方法は、パッド32の下面32
aを光導波路素子20の上面20aに当接させることに
代えて、パッド32の下面32aと光導波路素子20の
上面20aが離間した状態でLD30の下面30aと光
導波路素子20の上面20aの距離を測定する点で、第
1の製造方法と相違する。この工程を図4に示す。LD
30を光導波路素子20の上方の任意の高さに位置させ
て、両者間に例えば双方向レーザ測長器49を進出させ
て、パッド32の下面32aと光導波路素子20の上面
20aの距離Dを測定する。
A second method of manufacturing the optical integrated module 3 will be described. This manufacturing method is applied to the lower surface 32 of the pad 32.
a, the lower surface 32a of the pad 32 and the upper surface 20a of the optical waveguide device 20 are separated from each other, and the distance between the lower surface 30a of the LD 30 and the upper surface 20a of the optical waveguide device 20 is changed. Is different from the first manufacturing method in that This step is shown in FIG. LD
30 is positioned at an arbitrary height above the optical waveguide element 20 and, for example, a bidirectional laser length measuring device 49 is advanced between them, and the distance D between the lower surface 32a of the pad 32 and the upper surface 20a of the optical waveguide element 20 is increased. Is measured.

【0039】この後の処理は第1の製造方法で説明した
とおりである。ただし、図4の状態からLD30を降下
させる量L’は、前述の規定量Lに測定した距離Dを加
えて、L’=A/2+B+C+Dとなる。
The subsequent processing is as described in the first manufacturing method. However, the amount L ′ of lowering the LD 30 from the state of FIG. 4 is L ′ = A / 2 + B + C + D by adding the measured distance D to the above-mentioned specified amount L.

【0040】第2の製造方法を実施するための製造装置
の概略構成を図5に模式的に示す。この装置2は、図3
に示した装置1に双方向レーザ測長器49を追加し、ロ
ードセルセンサ48を省略したものである。双方向レー
ザ測長器49は水平(前後左右)方向に移動可能であ
り、基板保持具41とその上方に位置する素子保持具4
2との間に進出したり、そこから退避したりすることが
できる。コントローラ46は、双方向レーザ測長器49
を移動させて、LD30と光導波路素子20の上面20
aの距離を見い出す。これで、LD30の下面30aと
光導波路素子20の上面20aの距離が検出される。
FIG. 5 schematically shows the structure of a manufacturing apparatus for performing the second manufacturing method. This device 2 is shown in FIG.
Is a device in which a bidirectional laser length measuring device 49 is added to the device 1 shown in FIG. The bidirectional laser length measuring device 49 is movable in the horizontal (front-rear, left-right) directions, and includes the substrate holder 41 and the element holder 4 located above the substrate holder 41.
2 and can escape from it. The controller 46 includes a bidirectional laser length measuring device 49.
Is moved to the upper surface 20 of the LD 30 and the optical waveguide element 20.
Find the distance of a. Thus, the distance between the lower surface 30a of the LD 30 and the upper surface 20a of the optical waveguide device 20 is detected.

【0041】装置2では、ロードセルセンサ48を省略
しているため、上述の量L’に達する少し前で素子保持
具42の降下を停止させて、その位置で加熱を行ってバ
ンプ13を溶解させる。
In the apparatus 2, since the load cell sensor 48 is omitted, the descent of the element holder 42 is stopped shortly before the above-described amount L 'is reached, and heating is performed at that position to melt the bumps 13. .

【0042】なお、上記の各例では、光導波路素子とレ
ーザダイオード素子の2つの光素子を基板上に有する光
集積モジュールの製造について説明したが、本発明は3
以上の光素子を有する光集積モジュールにも適用可能で
あり、光素子の種類にも制約はない。また、ここでは、
光素子の一方を基板に直接形成しているが、双方を基板
とは独立に製造して基板に固定するようにしてもよい。
その場合、最初に固定した光素子の高さに誤差が生じた
としても、その光素子の上面の高さを基準として他方の
光素子の高さを定めるから、最初に固定した光素子の高
さの誤差は、両素子の高さの一致度に全く影響しない。
In each of the above examples, the manufacture of an optical integrated module having two optical elements, an optical waveguide element and a laser diode element, on a substrate has been described.
The present invention can be applied to an optical integrated module having the above-described optical element, and there is no limitation on the type of the optical element. Also, here
Although one of the optical elements is formed directly on the substrate, both may be manufactured independently of the substrate and fixed to the substrate.
In this case, even if an error occurs in the height of the optical element fixed first, the height of the other optical element is determined based on the height of the upper surface of the optical element. The height error has no effect on the coincidence of the heights of the two elements.

【0043】上記の各例では、バンプ13の高さを設定
すべき高さよりもやや高くしていたが、必ずしも高くす
る必要はない。バンプ13を設定すべき高さよりも低く
しておいて、LD30を固定する時にLD30を引っ張
り上げながら固定してもよい。
In each of the above examples, the height of the bump 13 is slightly higher than the height to be set, but it is not always necessary to make it higher. The bumps 13 may be lower than the height to be set, and the LD 30 may be fixed while being pulled up when the LD 30 is fixed.

【0044】また、赤外線カメラ44は基板保持具41
の下方に配置してもよい。LD30が赤外線を透過しな
い場合に有効である。さらに、測長器43は素子保持具
42と一体の構成として、基板10までの距離を測るよ
うにしてもよい。支持柱がない分、測りたい距離を正確
に測ることができる。
The infrared camera 44 is connected to the substrate holder 41.
May be arranged below. This is effective when the LD 30 does not transmit infrared light. Further, the length measuring device 43 may be configured integrally with the element holder 42 so as to measure the distance to the substrate 10. Since there is no support column, the distance to be measured can be measured accurately.

【0045】[0045]

【発明の効果】本発明の光集積モジュールの製造方法に
よると、基板に新たに固定する光素子の高さに固定用部
材の厚さが影響するのを避けることができるから、素子
間の対応部位の高さを精度よく一致させることができ
る。しかも、基板上に設けられている光素子について
は、高さの誤差要因は対応部位から上の厚さのみであっ
て、対応部位よりも下の厚さは高さの誤差要因とはなら
ない。したがって、対応部位よりも下に多数の層を有す
る光素子に対しても新たな光素子の高さを精度よく一致
させることが可能であり、また、光素子の製造も容易で
ある。
According to the method of manufacturing an optical integrated module of the present invention, it is possible to prevent the thickness of the fixing member from affecting the height of the optical element newly fixed to the substrate. The heights of the parts can be accurately matched. Moreover, as for the optical element provided on the substrate, the only factor of the height error is the thickness above the corresponding portion, and the thickness below the corresponding portion does not become a factor of the height error. Therefore, it is possible to accurately match the height of a new optical element to an optical element having a number of layers below the corresponding portion, and it is easy to manufacture the optical element.

【0046】本発明の光集積モジュールの製造装置は、
比較的簡素な構成でありながら、上記の効果を奏する製
造方法を実施することができる。
The optical integrated module manufacturing apparatus of the present invention
A manufacturing method that achieves the above effects can be implemented with a relatively simple configuration.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の第1、第2の製造方法で製造した光
集積モジュールの要部を示す上面図および側面図。
FIG. 1 is a top view and a side view showing a main part of an optical integrated module manufactured by first and second manufacturing methods of the present invention.

【図2】 第1の製造方法における製造工程の一部を示
す図。
FIG. 2 is a diagram showing a part of a manufacturing process in a first manufacturing method.

【図3】 第1の製造方法を実施するための製造装置の
概略構成を模式的に示す図。
FIG. 3 is a diagram schematically showing a schematic configuration of a manufacturing apparatus for performing a first manufacturing method.

【図4】 第2の製造方法における製造工程の一部を示
す図。
FIG. 4 is a view showing a part of a manufacturing process in a second manufacturing method.

【図5】 第2の製造方法を実施するための製造装置の
概略構成を模式的に示す図。
FIG. 5 is a diagram schematically showing a schematic configuration of a manufacturing apparatus for performing a second manufacturing method.

【図6】 従来の光集積モジュールの製造方法における
製造工程の一部を示す図。
FIG. 6 is a view showing a part of a manufacturing process in a conventional method for manufacturing an optical integrated module.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1、2 光集積モジュール製造装置 3 光集積モジュール 10 基板 10a 基板上面 11 マーク 12 パッド 13 バンプ 20 光導波路素子 20a 光導波路素子上面 21 コア 22 下部クラッド層 23 上部クラッド層 30 レーザダイオード 30a レーザダイオード下面 31 マーク 32 パッド 32a パッド下面 41 基板保持具 42 素子保持具 43 レーザ測長器 44 赤外線カメラ 45 モニター 46 コントローラ 47 操作部 48 ロードセルセンサ 49 双方向レーザ測長器 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 2 Optical integrated module manufacturing apparatus 3 Optical integrated module 10 Substrate 10a Substrate upper surface 11 Mark 12 Pad 13 Bump 20 Optical waveguide device 20a Optical waveguide device upper surface 21 Core 22 Lower cladding layer 23 Upper cladding layer 30 Laser diode 30a Laser diode lower surface 31 Mark 32 pad 32a pad lower surface 41 substrate holder 42 element holder 43 laser measuring device 44 infrared camera 45 monitor 46 controller 47 operation unit 48 load cell sensor 49 bidirectional laser measuring device

フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 33/00 H01L 31/02 D 5F088 Fターム(参考) 2H037 AA01 BA02 BA11 DA03 DA06 DA18 DA22 2H047 KA03 MA07 RA08 TA05 TA31 TA43 TA44 5F041 AA38 AA39 DA04 DA09 DA19 DB09 EE25 FF14 5F044 PP17 QQ01 QQ09 RR01 5F073 AB25 FA06 FA16 FA22 FA23 5F088 BA16 BA18 BB01 JA03 JA09 JA14 Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat II (reference) H01L 33/00 H01L 31/02 D 5F088 F term (reference) 2H037 AA01 BA02 BA11 DA03 DA06 DA18 DA22 2H047 KA03 MA07 RA08 TA05 TA31 TA43 TA44 5F041 AA38 AA39 DA04 DA09 DA19 DB09 EE25 FF14 5F044 PP17 QQ01 QQ09 RR01 5F073 AB25 FA06 FA16 FA22 FA23 5F088 BA16 BA18 BB01 JA03 JA09 JA14

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 同一の基板上に複数の光素子を有する光
集積モジュールの製造方法において、 基板上に既に設けられている第1の光素子の上面を基準
として第2の光素子の下面の高さを定め、定めた高さで
第2の光素子を基板上に固定することを特徴とする光集
積モジュールの製造方法。
1. A method of manufacturing an optical integrated module having a plurality of optical elements on the same substrate, wherein a lower surface of a second optical element is defined with reference to an upper surface of the first optical element already provided on the substrate. A method of manufacturing an optical integrated module, comprising determining a height and fixing a second optical element on a substrate at the determined height.
【請求項2】 第1の光素子の上面に第2の光素子の下
面を当接させ、第1の光素子の上面と第2の光素子の下
面の高低差が所定値となるように第2の光素子を基板に
対して相対的に移動させて、移動後の位置で第2の光素
子を基板上に固定することを特徴とする請求項1に記載
の光集積モジュールの製造方法。
2. A lower surface of a second optical element is brought into contact with an upper surface of the first optical element so that a height difference between an upper surface of the first optical element and a lower surface of the second optical element becomes a predetermined value. The method according to claim 1, wherein the second optical element is moved relative to the substrate, and the second optical element is fixed on the substrate at a position after the movement. .
【請求項3】 第1の光素子の上面と第2の光素子の下
面の高低差を検出し、第1の光素子の上面と第2の光素
子の下面の高低差が所定値となるように第2の光素子を
基板に対して相対的に移動させて、移動後の位置で第2
の光素子を基板上に固定することを特徴とする請求項1
に記載の光集積モジュールの製造方法。
3. A height difference between an upper surface of the first optical element and a lower surface of the second optical element is detected, and a height difference between an upper surface of the first optical element and a lower surface of the second optical element becomes a predetermined value. Move the second optical element relative to the substrate as described above, and move the second optical element to the second position at the position after the movement.
2. The optical element according to claim 1, wherein the optical element is fixed on a substrate.
3. The method for manufacturing an optical integrated module according to item 1.
【請求項4】 第1の光素子は光導波路素子であり、第
2の光素子は発光素子であって、第1の光素子の光入射
部位に第2の光素子の光出射部位を対向させることを特
徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載
の光集積モジュールの製造方法。
4. The first optical element is an optical waveguide element, the second optical element is a light emitting element, and a light emitting part of the second optical element is opposed to a light incident part of the first optical element. The method for manufacturing an optical integrated module according to any one of claims 1 to 3, wherein:
【請求項5】 同一の基板上に複数の光素子を有する光
集積モジュールの製造装置において、 基板を保持する基板保持手段と、基板上に固定する光素
子を保持し、基板保持手段に対して相対的に上下方向、
左右方向および前後方向に移動する素子保持手段と、基
板保持手段に保持された基板上の光素子の上面と素子保
持手段に保持された光素子の下面の当接を検出する当接
検出手段と、基板保持手段に対する素子保持手段の相対
的な上下方向の移動量を検出する移動量検出手段とを備
えることを特徴とする光集積モジュールの製造装置。
5. An apparatus for manufacturing an optical integrated module having a plurality of optical elements on the same substrate, comprising: a substrate holding means for holding the substrate; and an optical element for fixing the optical element on the substrate. Relatively up and down direction,
Element holding means for moving in the left-right direction and front-back direction; contact detection means for detecting contact between the upper surface of the optical element on the substrate held by the substrate holding means and the lower surface of the optical element held by the element holding means; An optical integrated module manufacturing apparatus, comprising: a moving amount detecting means for detecting a vertical moving amount of the element holding means relative to the substrate holding means.
【請求項6】 同一の基板上に複数の光素子を有する光
集積モジュールの製造装置において、 基板を保持する基板保持手段と、基板上に固定する光素
子を保持し、基板保持手段に対して相対的に上下方向、
左右方向および前後方向に移動する素子保持手段と、基
板保持手段に保持された基板上の光素子の上面と素子保
持手段に保持された光素子の下面の高低差を検出する高
低差検出手段と、基板保持手段に対する素子保持手段の
相対的な上下方向の移動量を検出する移動量検出手段と
を備えることを特徴とする光集積モジュールの製造装
置。
6. An apparatus for manufacturing an optical integrated module having a plurality of optical elements on the same substrate, comprising: a substrate holding means for holding the substrate; and an optical element for fixing the optical element on the substrate. Relatively up and down direction,
An element holding means that moves in the left-right direction and the front-back direction; a height difference detection means for detecting a height difference between an upper surface of the optical element on the substrate held by the substrate holding means and a lower surface of the optical element held by the element holding means; An optical integrated module manufacturing apparatus, comprising: a moving amount detecting means for detecting a vertical moving amount of the element holding means relative to the substrate holding means.
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