JP2001318318A - Specimen temperature controller for microscope - Google Patents

Specimen temperature controller for microscope

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JP2001318318A
JP2001318318A JP2000136601A JP2000136601A JP2001318318A JP 2001318318 A JP2001318318 A JP 2001318318A JP 2000136601 A JP2000136601 A JP 2000136601A JP 2000136601 A JP2000136601 A JP 2000136601A JP 2001318318 A JP2001318318 A JP 2001318318A
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Japan
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pattern
conductive film
temperature controller
heating plate
transparent
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Application number
JP2000136601A
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Japanese (ja)
Inventor
Hideji Tsuchiya
秀治 土屋
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Tokai Hit Co Ltd
Original Assignee
Tokai Hit Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To solve difficulty in making the heat generation temperature of a heating plate uniform in the entire area by being affected by the heat radiation effect, etc., of a frame of the conventional specimen temperature controller for a microscope and the infeasibility of controlling the heat generation temperature of the heating plate by each of arbitrary regions. SOLUTION: Transparent conductive films 13 for heat generation which are formed on the heating plate 17 and generate heat when energized are formed in the patterns meeting the desired heat generation patterns on the transparent plate 7. Then, the heat generation patters of the heating plate 7 are easy in both of causing the heat generation of the entire surface at a uniform temperature and conversely in arbitrarily creating temperature differences by each of the regions. The countermeasure for the heat radiation by the frame 3 may be corrected by making the density and total area of the patterns in the peripheral edges slightly larger than those of others. The need for the special correction means, like the conventional heat diffusion plate, is thereby eliminated.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、顕微鏡用の検体温
度管理器に係り、特に、検体を直接又は間接的に乗せる
透明プレートに加温用発熱体としての透明導電膜を設け
た構造の顕微鏡用の検体温度管理器に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a specimen temperature controller for a microscope, and more particularly to a microscope having a structure in which a transparent conductive film as a heating element for heating is provided on a transparent plate on which a specimen is directly or indirectly placed. The present invention relates to a sample temperature controller for use.

【0002】[0002]

【従来の技術】顕微鏡観察に際して、検体を所望の温度
に保持するために使用される装置の一つに、プレート形
をしたものがある。このタイプ形の顕微鏡観察用温度管
理装置には、加温専用のもの、冷却専用のもの、加温・
冷却兼用のもの等、幾つかの種類があるが、少なくとも
加温機能を備えた種類のものにあっては、加温用の発熱
体として透明な導電膜を用いるのが一般的である。
2. Description of the Related Art One type of apparatus used for maintaining a specimen at a desired temperature during microscopic observation is a plate-shaped apparatus. This type of temperature control device for microscopic observation includes those dedicated to heating, those dedicated to cooling,
There are several types such as a type that also serves as a cooling device. However, a type having at least a heating function generally uses a transparent conductive film as a heating element for heating.

【0003】そのような導電膜を備えた従来の顕微鏡観
察用のプレート形温度管理器の一例を図16乃至図18
に示す。図面では温度管理器の本体a、即ち、顕微鏡の
ステージに乗せる部分だけを示す。この本体aは、顕微
鏡ステージsの丸孔oに嵌めて使用する形態のもので、
合成樹脂によって形成された比較的浅い円形の皿状を為
すフレームbを有し、このフレームbの底壁には、その
中心を中央部とする小判形をした比較的大きな透光孔c
が形成されている。このフレームbの中に、円板形をし
た上下2枚の透明プレートd、eが互いに貼り合わせら
れた状態でぴったり収められており、これら2枚の透明
プレートd、eの間には、接着を兼ねた透明な絶縁材f
が介挿されている。
FIGS. 16 to 18 show an example of a conventional plate-type temperature controller for microscopic observation provided with such a conductive film.
Shown in In the drawing, only the main body a of the temperature controller, that is, a portion to be mounted on the stage of the microscope is shown. The main body a is used by fitting it into the round hole o of the microscope stage s.
It has a relatively shallow circular dish-shaped frame b made of a synthetic resin, and a bottom wall of the frame b has an oval-shaped relatively large light-transmitting hole c with its center at the center.
Are formed. In the frame b, two upper and lower disc-shaped transparent plates d and e are tightly fitted together in a state of being bonded to each other, and an adhesive is provided between the two transparent plates d and e. Transparent insulating material f
Is inserted.

【0004】上側の透明プレートdは検体加温用のもの
(以下、加温用の透明プレートだけを指すときは「加温
プレート」と言う)で、下側の透明プレートeは保護用
のものである。加温プレートdの下面全域には、金属の
蒸着によって形成された透明な発熱用導電膜gが設けら
れており、この導電膜gの上に銅箔などから成る左右2
つの電極帯hが接着されている。この電極帯hは、上下
方向から見て、両端部以外の部分がフレームbの透光孔
cの直線的な縁に沿って延びるように配置されると共
に、両端部は、左右のものどうし先へ行くに従って互い
に近づくように斜めの方向へ延びて加温プレートdの端
にほぼ達している。また、導電膜gのうち電極帯hの一
方の端どうしの中間位置には温度センサーiが接着され
ている。
The upper transparent plate d is for heating a specimen (hereinafter, when only the transparent plate for heating is referred to as "heating plate"), the lower transparent plate e is for protection. It is. A transparent heat-generating conductive film g formed by vapor deposition of metal is provided on the entire lower surface of the heating plate d.
The two electrode strips h are bonded. The electrode band h is disposed so that portions other than both ends extend along the linear edge of the light transmitting hole c of the frame b when viewed from above and below, and both ends are positioned between right and left ends. As it goes, it extends in an oblique direction so as to approach each other and almost reaches the end of the heating plate d. Further, a temperature sensor i is bonded to an intermediate position between one ends of the electrode strips h in the conductive film g.

【0005】2つの電極帯hの一方にはリード線jを経
て給電が行われ、その電流は導電膜gを通って他方の電
極帯hからアース回路へ流れる。この電流により導電膜
gが発熱して、加温プレートdを加温するので、この加
温プレートd上に目的の検体kを直接又はスライドガラ
スmやシャーレを用いて乗せれば、当該検体kが加温さ
れる。導電膜gの発熱温度は、リード線jが接続される
図示しないコントローラーによって調節される。この本
体aでは、フレームbの透光孔cと対応した領域以外の
領域は顕微鏡観察に使用できる可視領域ではないので、
加温プレートdの上面のうちフレームbの透光孔cと対
応した領域以外の部分には、化粧を兼ねた黒色ペイント
nを塗布して、可視不能領域であることを示している。
Power is supplied to one of the two electrode strips h through a lead wire j, and the current flows from the other electrode strip h to the ground circuit through the conductive film g. This current causes the conductive film g to generate heat and heat the heating plate d. Therefore, if the target sample k is placed on the heating plate d directly or by using a slide glass m or a petri dish, the sample k Is heated. The heat generation temperature of the conductive film g is adjusted by a controller (not shown) to which the lead wire j is connected. In this main body a, since the area other than the area corresponding to the light transmitting hole c of the frame b is not a visible area that can be used for microscopic observation,
A portion of the upper surface of the heating plate d other than the region corresponding to the light-transmitting hole c of the frame b is coated with black paint n also serving as a makeup, indicating that the region is an invisible region.

【0006】図面には、2枚の透明プレートd、eの上
側のものdを加温プレートとしたタイプを示してある
が、下側のプレートeの上面に導電膜を形成してこれを
加温プレートとしたタイプもある。また、図面では、フ
レームbの外形が円形であるものを示したが、この外形
の種類には様々ある。例えば、顕微鏡のステージに位置
固定しない汎用タイプのものは正方形や長方形といった
矩形のものが多く、顕微鏡のステージが台形その他の異
形状をしているものに適合するタイプのものは、当該異
形状に合わせた形状に作られる。そして、透明プレート
d、eの形状は、通常、そのフレームbの形に合わせて
規定される。
The drawing shows a type in which the upper one d of the two transparent plates d and e is used as a heating plate, but a conductive film is formed on the upper surface of the lower plate e and this is added. There is also a type with a hot plate. In the drawings, the frame b has a circular outer shape, but there are various types of the outer shape. For example, many general-purpose types that are not fixed on the microscope stage have a rectangular shape such as a square or a rectangle, and those that fit a microscope stage that has a trapezoidal or other irregular shape have a different shape. Made to fit shape. The shapes of the transparent plates d and e are usually defined according to the shape of the frame b.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】従来の顕微鏡用の検体
温度管理器には、導電膜gの発熱状態について幾つかの
問題がある。その一つは、加温プレート7の発熱温度が
その全域においてどうしても均一にならないという問題
である。この原因としては幾つか考えられるが、最も大
きな要因は、加温プレートの外形によっては一対の電極
帯hを互いに平行に配置できなくて導電膜の電気抵抗が
場所によって異なってしまうことと、フレームが放熱作
用を促進して周縁部の温度を下げてしまうことにあると
思われる。
The conventional sample temperature controller for a microscope has several problems with respect to the heat generation state of the conductive film g. One of the problems is that the heating temperature of the heating plate 7 is not necessarily uniform over the entire area. There are several possible causes, but the biggest factor is that depending on the outer shape of the heating plate, the pair of electrode bands h cannot be arranged in parallel with each other, and the electrical resistance of the conductive film differs depending on the location. Is considered to promote the heat radiation action and lower the temperature of the peripheral portion.

【0008】例えば、加温プレートの外形を前記したプ
レートdのような円形とか、五角形その他の異形状にす
ることを要求される場合(導電膜の外形もそれらプレー
トの外形と同じになる)、単純にそのプレートの周縁部
に沿って一対の電極帯を配置すると、その電極帯どうし
の間隔が全体で一定で無くなるため、結果的に導電膜の
電気抵抗が場所により異なってしまって、発熱温度がま
ちまちになってしまう。そのために、図14に示した本
体aにあっては、フレームbの透光孔cをわざわざ小判
形にして、できるだけ長い距離で電極帯hどうしを平行
に配置できるように配慮しているのであるが、それで
も、フレームbに接触又は近接した場所では温度が低く
なってしまう等、温度ムラを完全に解消することはでき
ない。この点、加温プレートの外形が矩形で良い場合
は、一対の電極帯を互いに平行に配置することはできる
が、それでも、フレームに接触又は近接する領域ではフ
レームの放熱作用によって温度が下がってしまうことは
避けられない。
For example, when the outer shape of the heating plate is required to be circular such as the above-mentioned plate d, a pentagon or other irregular shape (the outer shape of the conductive film is also the same as the outer shape of those plates). If a pair of electrode strips is simply arranged along the periphery of the plate, the interval between the electrode strips will not be constant throughout, and as a result, the electrical resistance of the conductive film will differ depending on the location, and the heat generation temperature Will be mixed. For this reason, in the main body a shown in FIG. 14, the light transmitting hole c of the frame b is made into an oval shape so that the electrode strips h can be arranged in parallel at a distance as long as possible. However, even in such a case, the temperature non-uniformity cannot be completely eliminated, for example, the temperature is lowered at a place in contact with or close to the frame b. In this regard, if the external shape of the heating plate can be rectangular, the pair of electrode strips can be arranged in parallel with each other, but the temperature is still lowered in the area in contact with or close to the frame due to the heat radiation action of the frame. That is inevitable.

【0009】また、倒立顕微鏡用の検体温度管理器の中
には、対物レンズLを検体kにできるだけ近づけること
ができるようにするために、透明プレートにも中央部に
透光孔を設け、この透光孔を塞ぐようにスライドガラス
mを置いて使用するようにした穴あきタイプがあるが、
このタイプのものは、透明プレート自体に透光孔がある
ために、温度ムラが一層顕著になってしまう。特に、そ
のスライドガラスは、透光孔と対応した肝心の可視領域
では加温プレートによって直接加温されることが無く、
加温は周辺からの伝導熱に頼らざるを得ないため、スラ
イドガラスの温度が、透光孔を塞いでいる領域と他の領
域とでかなり違ってしまう。
Further, in the specimen temperature controller for the inverted microscope, a transparent plate is provided with a light transmitting hole in the center of the transparent plate so that the objective lens L can be brought as close as possible to the specimen k. There is a perforated type that is used by placing the slide glass m so as to close the light-transmitting hole,
In this type, since the transparent plate itself has a light-transmitting hole, the temperature unevenness becomes more remarkable. In particular, the slide glass is not directly heated by the heating plate in the essential visible region corresponding to the light transmitting hole,
Since the heating must rely on conduction heat from the surroundings, the temperature of the slide glass is considerably different between the region closing the light transmitting hole and the other region.

【0010】そこで、この穴あきタイプのものにあって
は、アルミニュームなど伝熱性の良い熱拡散板(孔明き
の板)を透明プレートに貼り合わせて、この熱拡散板に
よって導電膜の熱を均等に散らせる試みがあるが、それ
でも温度ムラを完全に無くすことはできないし、熱拡散
板の分だけ本体の厚みや電力消費量が増してしまう。
Therefore, in the case of the perforated type, a heat diffusion plate (perforated plate) having good heat conductivity such as aluminum is attached to a transparent plate, and the heat of the conductive film is transferred by the heat diffusion plate. Although there is an attempt to disperse evenly, it is still impossible to completely eliminate the temperature unevenness, and the thickness and power consumption of the main body increase by the amount of the heat diffusion plate.

【0011】導電膜gの発熱状態についての別の問題
は、加温プレートdの発熱温度を任意の領域ごとにコン
トロールすることができないということである。即ち、
顕微鏡観察をする場合、例えば同種の検体を複数個、異
なる温度に加温してそれらを比較観察したい場合も少な
くないのであるが、この点、従来の検体温度管理器で
は、加温プレートの全域に導電膜が一様に設けられてい
るために、これに同種の検体を複数乗せても、それらは
いずれも同じ温度に加温されるだけであって、少なくと
も意図的に温度差を作ることはできない。このため、温
度を違えた観察をするときは、いちいち検体を乗せ替え
ては、その度にコントローラーの設定温度を変更しなけ
ればならい。このため、操作に手間がかかり、観察のス
ピードも上がらなかった。
Another problem regarding the heat generation state of the conductive film g is that the heat generation temperature of the heating plate d cannot be controlled for each arbitrary region. That is,
When observing with a microscope, for example, it is often the case that a plurality of specimens of the same type are heated to different temperatures to compare and observe them. Since the conductive film is uniformly provided on the substrate, even if a plurality of samples of the same type are placed on the conductive film, they are all heated only to the same temperature, and at least intentionally create a temperature difference. Can not. For this reason, when performing observations at different temperatures, it is necessary to change the set temperature of the controller each time the sample is changed. For this reason, the operation was troublesome and the speed of observation did not increase.

【0012】本発明は上記した従来の問題点に鑑みて為
されたものであり、熱拡散板等の補正手段を設けなくて
も、導電膜だけで、加温プレートの発熱温度を全域に渡
って均一にすることができ、また逆に、領域ごとに温度
差を持たせたりすることが自在にできる新規な顕微鏡用
の検体温度管理器を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and the heat generation temperature of the heating plate can be controlled over the entire area only by the conductive film without providing a correction means such as a heat diffusion plate. It is an object of the present invention to provide a novel microscope sample temperature controller for a microscope, which can make the temperature difference uniform for each region, and conversely make it possible to make the temperature difference for each region.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、請求項1に記載した顕微鏡用の検体温度管理器は、
顕微鏡のステージに乗るフレームと、外周部が上記フレ
ームに保持された透明プレートと、この透明プレート上
に形成され通電されることで発熱する発熱用透明導電膜
と、該透明導電膜への給電を行う給電手段とを備えた顕
微鏡用の検体温度管理器であって、透明導電膜を、透明
プレート上での所望の発熱パターンに応じたパターンで
形成したことを特徴とするものである。
In order to achieve this object, a microscope sample temperature controller according to claim 1 is provided.
A frame to be mounted on a stage of a microscope, a transparent plate having an outer peripheral portion held by the frame, a transparent conductive film for heat generation formed on the transparent plate and being heated by being energized, and a power supply to the transparent conductive film. A specimen temperature controller for a microscope, comprising: a power supply unit for performing the operation; a transparent conductive film formed in a pattern corresponding to a desired heat generation pattern on a transparent plate.

【0014】従って、この検体温度管理器によれば、加
温プレートの発熱パターンは、導電膜のパターン次第で
任意に設定できる。即ち、加温プレートの全面を均一温
度で発熱させることも、逆に、領域ごとに意図的に温度
差を作ることも、いずれも容易である。そして、本発明
では電極間の間隔を平行にするといった配慮は必ずしも
必要無くなるので、導電膜のパターンを選ぶことで、要
求されるフレームの形状に合わせた形の加温プレートの
ほぼ全体をそのまま可視領域として使用することも可能
になる。
Therefore, according to this sample temperature controller, the heat generation pattern of the heating plate can be arbitrarily set depending on the pattern of the conductive film. That is, it is easy to heat the entire surface of the heating plate at a uniform temperature, and conversely, to intentionally create a temperature difference for each region. In the present invention, since it is not always necessary to consider the interval between the electrodes in parallel, by selecting a conductive film pattern, almost the entire heating plate having a shape conforming to the required frame shape is directly visible. It can also be used as an area.

【0015】本発明における導電膜の具体的なパターン
としては様々な形態が考えられるが、少なくとも、透明
導電膜を透明プレートの全面に空白の無い形で形成する
のでは無く、請求項2に記載したように、当該透明プレ
ート上に部分的に設けることで所望の発熱パターンとす
ることができる。この場合、請求項3に記載のように、
パターンの形態を、1若しくは複数の、線形及び/又は
島形にすれば、導電膜の当該パターンがほぼそのまま発
熱パターンになるため、導電膜のパターン設計を簡単に
行うことができる。導電膜をこのようなパターンに形成
する方法としては、空白にするべき部分にマスキング等
のレジストを付与しておくか、逆に、透明プレートの全
域に形成した導電膜を必要な部分を残してエッチングす
るといった方法を採れば良い。
In the present invention, various forms are conceivable as specific patterns of the conductive film, but at least the transparent conductive film is not formed on the entire surface of the transparent plate without any blank space, but is described in claim 2. As described above, a desired heat generation pattern can be obtained by partially providing on the transparent plate. In this case, as described in claim 3,
If one or a plurality of linear and / or island shapes are used as the pattern, the pattern of the conductive film becomes a heat generation pattern as it is, so that the pattern design of the conductive film can be easily performed. As a method for forming the conductive film in such a pattern, a resist such as masking is applied to a portion to be blank, or conversely, a necessary portion of the conductive film formed on the entire area of the transparent plate is left. A method such as etching may be employed.

【0016】請求項4に記載した顕微鏡用の検体温度管
理器は、請求項3に記載した顕微鏡用の検体温度管理器
において、透明導電膜のパターンを、互いに回路を異に
する複数設け、その複数のパターンのそれぞれに給電手
段を接続したことを特徴とするものである。このように
すると、回路を異にする複数の導電膜は、コントローラ
ーの制御回路の設計次第で、そのいずれかを選択的に発
熱させたり、発熱温度を個別にコントロールすることも
可能になり、また、複数の回路のうちのどれかが断線し
た場合でも、別の回路の導電膜だけは使用できる。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the sample temperature controller for a microscope according to the third aspect, wherein a plurality of patterns of the transparent conductive film having different circuits are provided. Power supply means is connected to each of the plurality of patterns. In this way, a plurality of conductive films having different circuits can selectively generate heat or control the heat generation temperature individually, depending on the design of the control circuit of the controller. Even when one of the plurality of circuits is disconnected, only the conductive film of another circuit can be used.

【0017】請求項5に記載した顕微鏡用の検体温度管
理器は、請求項2から4に記載した顕微鏡用の検体温度
管理器のいずれかにおいて、透明導電膜のパターンは、
フレームに接触又は近接する領域など放熱し易い領域に
おける発熱温度がその他の領域での発熱温度より高くな
るパターンにしたことを特徴とするものである。従っ
て、フレームや透光孔などに接触又は近接した領域での
発熱が他の領域より高くなることで、放熱分の温度を補
正できる。このため、従来の熱拡散板のような特別な補
正手段が必要無くなり、これによって、薄型化、軽量化
を図ることができ、また、穴あきタイプとそうでないタ
イプとを問わずに適用することができる。この発明にお
ける導電膜の上記パターンは、フレームや透光孔などに
接触又は近接した領域での放熱による温度降下を補正す
るためのものであるから、基本的には、透明プレートの
可視領域全体を均一な温度にする目的に用いられことが
多いと思われるが、それに限られる必要もない。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the microscope sample temperature controller according to any one of the second to fourth aspects, wherein the pattern of the transparent conductive film is:
The pattern is characterized in that a heat generation temperature in a region where heat is easily radiated, such as a region in contact with or in proximity to the frame, is higher than a heat generation temperature in other regions. Therefore, the heat generated in a region that is in contact with or in proximity to the frame, the light transmitting hole, or the like is higher than in other regions, so that the temperature of the heat radiation can be corrected. For this reason, a special correction means such as a conventional heat diffusion plate is not required, thereby making it possible to achieve a reduction in thickness and weight, and to apply to both perforated and non-perforated types. Can be. The pattern of the conductive film according to the present invention is for correcting a temperature drop due to heat radiation in a region in contact with or in proximity to the frame, the light-transmitting hole, or the like, and basically covers the entire visible region of the transparent plate. It is often used for the purpose of achieving a uniform temperature, but need not be limited to this.

【0018】請求項6に記載した顕微鏡用の検体温度管
理器は、請求項2から4に記載した顕微鏡用の検体温度
管理器のいずれかにおいて、透明導電膜のパターンは、
当該透明プレート上の複数の領域において互いに温度差
が生じるパターンにしたことを特徴とするものである。
従って、1つの透明プレート上で、複数の検体を同時に
異なる温度に加温することができる。
A microscope specimen temperature controller according to claim 6 is the microscope specimen temperature controller according to any one of claims 2 to 4, wherein the pattern of the transparent conductive film is:
A pattern in which a temperature difference occurs in a plurality of regions on the transparent plate is provided.
Therefore, a plurality of specimens can be simultaneously heated to different temperatures on one transparent plate.

【0019】請求項7に記載した顕微鏡用の検体温度管
理器は、請求項6に記載した顕微鏡用の検体温度管理器
において、温度差が生じる複数の領域を識別させるため
の目視可能な表示を当該透明プレートに設けたことを特
徴とするものである。このようにすれば、当該透明プレ
ート上での温度条件が異なる領域を目視で区別できるた
め、扱いを間違えるおそれが低くなる。この表示は、ペ
イント等によって透明プレート上に直接設けるか、又
は、表示を設けた透明なフィルムを透明プレートに貼る
などすれば良い。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided the microscope sample temperature controller according to the sixth aspect, wherein a visual display for identifying a plurality of regions where temperature differences occur is provided. The transparent plate is provided. With this configuration, regions having different temperature conditions on the transparent plate can be visually distinguished, so that the possibility of mishandling is reduced. This indication may be provided directly on the transparent plate by paint or the like, or a transparent film provided with the indication may be attached to the transparent plate.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下に、本発明の各実施の形態を
図面に従って説明する。尚、導電膜は透明であるので、
図面では、導電膜が形成された部分を線で囲まれた梨地
模様であらわし、梨地模様のない部分を電膜が形成され
ていない空白部としてあらわす。本発明の検体温度管理
器は、透明な導電膜がと空白部とを適宜組み合わせて配
置し、即ち透明な導電膜を透明プレート上に部分的に設
けることにより所望の発熱パターンに応じたパターンを
形成するものである。 〔A.第一の実施の形態〕(図1〜図3) 図1から図3は、第一の実施の形態に係る顕微鏡用の検
体温度管理器の本体1を示すものである。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. Since the conductive film is transparent,
In the drawings, the portion where the conductive film is formed is represented by a satin pattern surrounded by lines, and the portion having no satin pattern is represented by a blank portion where the electrofilm is not formed. The sample temperature controller of the present invention arranges a transparent conductive film and a blank portion in an appropriate combination, that is, a pattern corresponding to a desired heat generation pattern by partially providing a transparent conductive film on a transparent plate. To form. [A. First Embodiment] (FIGS. 1 to 3) FIGS. 1 to 3 show a main body 1 of a sample temperature controller for a microscope according to a first embodiment.

【0021】〔A−1.構造〕この本体1も、前記した
従来の検体温度管理器の本体aと同様、顕微鏡ステージ
25(図3参照)の丸孔25aに嵌めて使用する形態の
もので、合成樹脂によって形成された比較的浅い円形の
皿状を為すフレーム3を有するが、その底壁5に形成さ
れた透光孔5aは、小判形では無く、フレーム3の外形
より一回り程度小さな円形をしている。このフレーム3
の中に、円板形をした硬質ガラス製の上下2枚の透明プ
レート7、9が互いに重なった状態でぴったり収められ
ており、これらの間に、透明なゲル状シリコン接着剤1
1(図面では厚みを誇張してある)が介挿されること
で、透明プレート7と9とが互いに接着されている。
[A-1. Structure] Like the main body a of the above-mentioned conventional sample temperature controller, the main body 1 is also used by fitting it into the round hole 25a of the microscope stage 25 (see FIG. 3). It has a shallow circular dish-shaped frame 3, but the light-transmitting hole 5 a formed in the bottom wall 5 is not an oval shape but a circular shape slightly smaller than the outer shape of the frame 3. This frame 3
The two transparent plates 7 and 9 made of hard glass and having a disc shape are placed in a state of being overlapped with each other, and a transparent gel-like silicone adhesive 1 is placed between them.
The transparent plates 7 and 9 are bonded to each other by interposing 1 (the thickness is exaggerated in the drawing).

【0022】この本体1においても、上側の透明プレー
ト7が加温プレートになっていて、その下面に、発熱体
としての透明な導電膜13が、部分的に空白を設けるこ
とによって所要のパターンで形成されている。導電膜1
3は、SiO2−インジウム合金等のコーティング材を
スパッタリング法によってガラス上に薄膜形成したもの
である。導電膜13の形成方法としては、この他に、真
空蒸着等の各種気相法を用いることでも良いし、場合に
よっては、透明な導電性フィルムを所要のパターンに切
り取って加温プレート7に接着するようにしても良い。
Also in the main body 1, the upper transparent plate 7 is a heating plate, and a transparent conductive film 13 as a heating element is provided on a lower surface thereof in a required pattern by partially providing a blank. Is formed. Conductive film 1
No. 3 is obtained by forming a thin film of a coating material such as an SiO 2 -indium alloy on glass by a sputtering method. As a method for forming the conductive film 13, in addition to the above, various vapor-phase methods such as vacuum deposition may be used. In some cases, a transparent conductive film is cut into a required pattern and adhered to the heating plate 7. You may do it.

【0023】この導電膜13のパターンは、加温プレー
ト7の全域をできるだけ均等に加温するように設計され
たパターンの一つであって、全体が、ある程度の幅を持
つ1本の線形をしていて、全体的に見た形は、加温プレ
ート7の中心部に中心をおいた多数の同心円を形成する
ように延びている。具体的には、加温プレート7の中心
で分けた2つの領域に互いに対称を為す形で配置されて
おり、各領域では、上記中心での中心角がほぼ180°
の円弧パターン13aが、5つ、等間隔の波紋様に配置
された形になっていて、この5つの円弧パターン13a
は、その両端が、隣接する2つの円弧パターンの端に各
別に連続することで、全て1本につながっている。中心
部には小さな円形の島形パターン13bが設けられてお
り、この島形パターン13bは一番内側の円弧パターン
13aと並列に接続されている。この線形の導電膜13
の線幅は、一番外側に位置した円弧パターン13a´だ
けが他の円弧パターン13よりある程度細くなっている
ことを除いて、全体が一定になっている。
The pattern of the conductive film 13 is one of patterns designed to heat the entire area of the heating plate 7 as evenly as possible. The overall shape extends so as to form a number of concentric circles centered on the center of the heating plate 7. Specifically, it is arranged symmetrically with each other in two regions divided at the center of the heating plate 7, and in each region, the central angle at the center is approximately 180 °.
Are arranged in the form of five equally-spaced ripples, and the five arc patterns 13a are
Are connected to one end by connecting both ends to the ends of two adjacent arc patterns. A small circular island pattern 13b is provided at the center, and this island pattern 13b is connected in parallel with the innermost arc pattern 13a. This linear conductive film 13
The line width is constant over the whole except that only the outermost arc pattern 13a 'is thinner than the other arc patterns 13 to some extent.

【0024】このようなパターンに形成された導電膜1
3の両端部、即ち、一番外側に位置した2つの円弧パタ
ーン13a´における各自由端には、銅箔など導電性の
良い金属から成る2つの電極15が各別に接着され、こ
の電極15に給電側とアース側の2本のリード線17が
各別に接続されている。これら電極15とリード線17
とによって給電手段が構成されている。円弧パターン1
3aには、図示しない温度センサーが取り付けられてい
る。これらリード線17と温度センサー19はいずれ
も、図示しないコントローラーの温度制御回路に接続さ
れ、給電側のリード線17を経て導電膜13に給電が行
われて導電膜13が発熱する。尚、加温プレート7の上
面には、その周縁部(フレーム3の底壁5の周縁部と対
向した部分)だけに、化粧を兼ねた黒色ペイント21が
塗布されて、使用不能領域であることを示している。
The conductive film 1 formed in such a pattern
3, two electrodes 15 made of a conductive metal such as a copper foil are separately bonded to both ends of the two arc patterns 13a 'located at the outermost sides. Two lead wires 17 on the power supply side and the ground side are separately connected. These electrodes 15 and lead wires 17
The power supply means is constituted by these. Arc pattern 1
A temperature sensor (not shown) is attached to 3a. Both the lead 17 and the temperature sensor 19 are connected to a temperature control circuit of a controller (not shown), and power is supplied to the conductive film 13 through the lead 17 on the power supply side, so that the conductive film 13 generates heat. In addition, on the upper surface of the heating plate 7, only a peripheral portion thereof (a portion facing the peripheral portion of the bottom wall 5 of the frame 3) is coated with the black paint 21 which also serves as a makeup, and is an unusable area. Is shown.

【0025】〔A−2.発熱作用〕本体1は以上のよう
に構成されているので、加温プレート7はその全域にお
いてほぼ均一な温度で発熱する。すなわち、導電膜13
は、全体的に見て、加温プレート7の中心部に中心をお
いた等間隔の多数の同心円を形成するように延びている
ので、加温プレート7はどの領域においてもほぼ均一な
温度で発熱する。一番外側の円弧パターン13a´の線
幅は他の円弧パターン13aの線幅よりある程度細いの
で、その分、電気的抵抗が他より高くなり、従って、こ
の領域での発熱温度は他の領域より高くなるが、ここで
はフレーム3による放熱が積極的に働くので、他より高
い発熱と上記放熱とが相殺されて、結果的には、他の領
域と均等な温度に落ち着く。しかして、加温プレート7
はいずれの位置においても均等な温度で発熱する。
[A-2. Heating action] Since the main body 1 is configured as described above, the heating plate 7 generates heat at a substantially uniform temperature over the entire area. That is, the conductive film 13
Extend as a whole so as to form a large number of equally spaced concentric circles centered on the center of the heating plate 7, so that the heating plate 7 has a substantially uniform temperature in any region. Fever. Since the line width of the outermost arc pattern 13a 'is narrower to some extent than the line width of the other arc patterns 13a, the electric resistance becomes higher by that much, so that the heat generation temperature in this area is higher than that in other areas. However, since the heat radiation by the frame 3 works positively, the heat generation higher than the others and the above-mentioned heat radiation are canceled out, and as a result, the temperature is settled at a temperature equal to other regions. Then, heating plate 7
Generates heat at a uniform temperature in any position.

【0026】〔B.第二の実施の形態〕(図4) 図4は、第二の実施の形態を示す。この第二の実施の形
態が、前記第一の実施の形態に示した検体温度管理器の
本体1と比較して相違する点は、フレーム及び透明プレ
ートの外形と、加温プレートに形成された導電膜のパタ
ーンだけである。従って、図面には加温プレート7Aの
底面とフレーム3Aの外形だけを示してあり、説明はこ
の相違点だけについて行う。(後述する第三から第十三
の実施の形態についても同様とする。)
[B. Second Embodiment] (FIG. 4) FIG. 4 shows a second embodiment. The second embodiment is different from the main body 1 of the sample temperature controller shown in the first embodiment in that the second embodiment is formed on the outer shape of the frame and the transparent plate and on the heating plate. It is only the pattern of the conductive film. Accordingly, only the bottom surface of the heating plate 7A and the outer shape of the frame 3A are shown in the drawing, and only the difference will be described. (The same applies to the third to thirteenth embodiments described later.)

【0027】この実施の形態に係る加温プレート7Aの
平面形状は、図面に示す通り、横長長方形の一辺におけ
る中間部に切欠き31があり、これと対向する別の辺の
両端角部が斜めにカットされた形をしている。この加温
プレート7Aに形成された導電膜13Aのパターンも、
加温プレート7Aの全域をできるだけ均等に加温するよ
うに設計されたパターンの一つであって、全体が1本の
線になっている。パターンは、加温プレート7Aの外形
線とほぼ相似の線形を、多数、互いの中央部を共通にし
て等間隔で配列したような形態になっていて、導電膜1
3Aの両端は、前記切欠き31の両脇に各別に位置し、
ここに電極15が接着されている。図面では、導電膜の
線幅を一定に記載してあるが、実施に当たっては、一番
外側のパターンだけある程度細くして、フレーム3Aに
よる放熱と相殺されるようにすると良い。
As shown in the drawing, the planar shape of the heating plate 7A according to this embodiment has a notch 31 in the middle of one side of a horizontally long rectangle, and the corners at both ends of another side opposite to this are oblique. It has a cut shape. The pattern of the conductive film 13A formed on the heating plate 7A also
This is one of the patterns designed to heat the entire area of the heating plate 7A as evenly as possible, and the entire area is a single line. The pattern has such a form that a large number of linear shapes substantially similar to the outer shape of the heating plate 7A are arranged at equal intervals with the central portions of the heating plate 7A being common.
Both ends of 3A are separately located on both sides of the notch 31,
The electrode 15 is bonded here. In the drawings, the line width of the conductive film is shown as being constant. However, in practice, it is preferable to make the outermost pattern thinner to some extent so as to offset the heat radiation by the frame 3A.

【0028】〔C.第三の実施の形態〕(図5) 図5は、第三の実施の形態を示す。この実施の形態に係
る加温プレート7Bの平面形状は、正方形の一辺におけ
る両端部を除く部分に円弧形の切欠き33があり、これ
と対向する辺が切欠き33と平行な円弧状に屈曲した形
をしている。3Bはフレームを示す。この加温プレート
7Bに形成された導電膜13Bのパターンも、加温プレ
ート7Bの全域をできるだけ均等に加温するように設計
されたパターンの一つであって、加温プレート7BのU
字形をした外形線に沿って延びるU字形パターン35
と、このU字形パターン35の内側に等間隔で配置され
U字形パターン35の円弧部とほぼ同じ形の円弧形をし
た多数の円弧形パターン36とで構成され、円弧形パタ
ーン36は互いに並列接続となるように、その両端がU
字形パターン35に連続している。U字形パターン35
の直線部全長に、電極15(二点鎖線で示す)が接着さ
れている。
[C. Third Embodiment] (FIG. 5) FIG. 5 shows a third embodiment. The planar shape of the heating plate 7B according to this embodiment has an arc-shaped notch 33 in a portion of one side of the square except for both ends, and a side opposite to this has an arc-shaped notch 33 parallel to the notch 33. It has a bent shape. 3B shows a frame. The pattern of the conductive film 13B formed on the heating plate 7B is also one of the patterns designed to heat the entire area of the heating plate 7B as uniformly as possible.
U-shaped pattern 35 extending along the outer shape of the character
And a large number of arc-shaped patterns 36 arranged at equal intervals inside the U-shaped pattern 35 and having an arc shape substantially the same as the arc portion of the U-shaped pattern 35. Both ends are U-shaped so that they are connected in parallel.
It continues to the character pattern 35. U-shaped pattern 35
An electrode 15 (indicated by a two-dot chain line) is adhered to the entire length of the straight portion.

【0029】電極15をU字形パターン35の両端部だ
けに設けることも考えられるが、導電膜13Bと電極
(銅箔など)15とでは抵抗値が少なからず異なるた
め、全ての円弧パターン36にそれぞれ同じ量の電流が
流れるようにするためには、図面に示すような形で設け
るのが望ましい。尚、フレーム3Bによる放熱について
は、両端の円弧パターン36の線幅を他よりある程度細
くすることで補正すると良い。
It is conceivable that the electrodes 15 are provided only at both ends of the U-shaped pattern 35. However, since the resistance value of the conductive film 13B and the electrode (such as copper foil) 15 is not small, all the arc patterns 36 are respectively provided. In order to allow the same amount of current to flow, it is desirable to provide them in the form shown in the drawing. Note that the heat radiation by the frame 3B may be corrected by making the line width of the arc pattern 36 at both ends somewhat narrower than the others.

【0030】〔D.第四の実施の形態〕(図6) 図6は、第四の実施の形態を示す。この実施の形態に係
る加温プレート7Cは所謂穴あきタイプのもので、円板
形をしており、その中心部に円形の透光孔39が形成さ
れている。3Cはフレームを示す。
[D. Fourth Embodiment] (FIG. 6) FIG. 6 shows a fourth embodiment. The heating plate 7C according to this embodiment is of a so-called perforated type, has a disk shape, and has a circular light transmitting hole 39 formed at the center thereof. 3C indicates a frame.

【0031】この加温プレート7Cに形成された導電膜
13Cのパターンは、加温プレート7Cに乗せたスライ
ドガラス等をできるだけ均等に加温できるように設計さ
れたパターンの一つであって、全体的に見れば、円周の
一部が途切れた形の円パターン41を加温プレート7の
中心部を中心として多数同心に配置した形態になってい
て、各円パターン41の両端を隣接する内外2つの円パ
ターン41の端に各別に連続させることで1本の線とし
てつながっている。一番内側の円パターン41の自由端
は、加温プレート7Cの外周部まで延ばしてある。この
1本の線の両端に電極15が接着されている。
The pattern of the conductive film 13C formed on the heating plate 7C is one of the patterns designed so that the slide glass or the like placed on the heating plate 7C can be heated as uniformly as possible. To put it in perspective, a large number of circular patterns 41 each having a part of the circumference cut off are arranged concentrically around the center of the heating plate 7, and both ends of each circular pattern 41 are adjacent to each other. The two circular patterns 41 are connected to one end by being continuously connected to the respective ends. The free end of the innermost circular pattern 41 extends to the outer periphery of the heating plate 7C. Electrodes 15 are adhered to both ends of this one wire.

【0032】そして、一番内側の円パターン41は、透
光孔39に近接して延びると共に、その線幅を他の円パ
ターン41より多少細くしてある。従って、透光孔39
に沿って延びる領域での発熱温度は他よりある程度高く
なる。前記したとおり、透光孔39が設けられている加
温プレート7Cにスライドガラスを乗せた場合、そのス
ライドガラスの温度は、どうしても透光孔39と対応し
た肝心の可視領域が他より低くなってしまうのである
が、この実施の形態のように、透光孔39に沿う領域で
の発熱温度が他より高くなるようにしておけば、スライ
ドガラスの可視領域(透光孔を塞いでいる領域)が積極
的に加温されるため、スライドガラスの全体をほぼ均一
な温度にすることができる。一番外側の円パターン41
についても、フレーム3Cの放熱対策として、線幅を他
より細くしてある。
The innermost circular pattern 41 extends in the vicinity of the light transmitting hole 39 and has a slightly smaller line width than the other circular patterns 41. Therefore, the light transmitting hole 39
The exothermic temperature in the region extending along is somewhat higher than the others. As described above, when the slide glass is placed on the heating plate 7C provided with the light-transmitting hole 39, the temperature of the slide glass is inevitably lower in the essential visible region corresponding to the light-transmitting hole 39 than the others. However, if the heat generation temperature in the region along the light transmitting hole 39 is set higher than the others as in this embodiment, the visible region of the slide glass (the region closing the light transmitting hole). Is heated positively, so that the temperature of the entire slide glass can be made substantially uniform. Outermost circle pattern 41
Also, as for heat dissipation of the frame 3C, the line width is made thinner than the others.

【0033】〔E.第五の実施の形態〕(図7) 図7は、第五の実施の形態を示す。この実施の形態に係
る加温プレート7Cも穴あきタイプのもので、外形は、
長方形の中間部を円形にしたような形の板状をしてお
り、その中心部に円形の透光孔39が形成されている。
3Dはフレームを示す。この加温プレート7Dに形成さ
れた導電膜13Dのパターンも、加温プレート7Dに乗
せたスライドガラス等をできるだけ均等に加温できるよ
うに設計されたパターンの一つであって、加温プレート
7Dの長手方向両端部に互いに平行に延びるように配置
されたサイドパターン43と、この両サイドパターン4
3を結ぶように延びて加温プレート7Dの幅方向へ配列
された多数のメインパターン45とから成り、いずれの
部分においても線形をしている。サイドパターン43の
ほぼ全長に電極15が接着されている。この電極の配置
形態の意味は、図5に示す電極と同じである。
[E. Fifth Embodiment] (FIG. 7) FIG. 7 shows a fifth embodiment. The heating plate 7C according to this embodiment is also a perforated type, and the outer shape is as follows.
It has a plate-like shape in which a rectangular middle portion is formed in a circular shape, and a circular light-transmitting hole 39 is formed in the center portion.
3D indicates a frame. The pattern of the conductive film 13D formed on the heating plate 7D is also one of the patterns designed so that the slide glass or the like placed on the heating plate 7D can be heated as uniformly as possible. Side patterns 43 arranged at both ends in the longitudinal direction so as to extend in parallel with each other;
3 and a large number of main patterns 45 arranged in the width direction of the heating plate 7D and are linear in any part. The electrode 15 is adhered to almost the entire length of the side pattern 43. The meaning of the arrangement of the electrodes is the same as that of the electrodes shown in FIG.

【0034】そして、全てのメインパターン45は、そ
の中間部が透光孔39の輪郭とほぼ平行な円弧形に屈曲
している。従って、この加温プレート7D上での発熱温
度は、透光孔39を中心部とする円形の領域においてほ
ぼ均一になるので、例えば、この加温プレート7Dにシ
ャーレを乗せると、そのシャーレの底壁全体がほぼ均一
な温度で加温される。尚、この導電膜13Dにあって
も、透光孔39に近接して延びる一番内側のメインパタ
ーン45と、一番外側のメインパターン45は、その線
幅を他のメインパターン45より多少細くすると良い。
All of the main patterns 45 are bent at an intermediate portion into an arc shape substantially parallel to the contour of the light transmitting hole 39. Accordingly, since the heat generation temperature on the heating plate 7D becomes substantially uniform in a circular area centered on the light transmitting hole 39, for example, when a petri dish is placed on the heating plate 7D, the bottom of the petri dish is placed. The entire wall is heated at a substantially uniform temperature. Note that, even in the conductive film 13D, the line width of the innermost main pattern 45 and the outermost main pattern 45 extending close to the light transmitting hole 39 is slightly smaller than the other main patterns 45. Good.

【0035】〔F.第六の実施の形態〕(図8) 図8は、第六の実施の形態を示す。この実施の形態に係
る導電膜13Fのパターンも、加温プレート7Fの全域
をできるだけ均等に加温するように設計されたパターン
の一つであって、形態としては図4に示すものと同様で
あるが、ほぼ全体が、互いに平行に延びる2本の線4
7、49になっている。この2本の線47、49の各両
端に電極15が接着されていて、2本の線47、49は
各別に給電される。従って、線47、49の一方に断線
などの故障が生じても、別の線だけで使用することもで
きる。
[F. Sixth Embodiment] (FIG. 8) FIG. 8 shows a sixth embodiment. The pattern of the conductive film 13F according to this embodiment is also one of the patterns designed to heat the entire area of the heating plate 7F as evenly as possible, and the form is the same as that shown in FIG. But almost entirely two lines 4 running parallel to each other
7, 49. The electrodes 15 are adhered to both ends of the two wires 47 and 49, and the two wires 47 and 49 are separately supplied with power. Therefore, even if a failure such as disconnection occurs in one of the lines 47 and 49, it can be used with another line alone.

【0036】〔G.第七の実施の形態〕(図9) 図9は、第七の実施の形態を示す。この実施の形態に係
る導電膜13Gのパターンは、形態としては、大部分に
おいて1本の線でつながったメインパターン51になっ
ているが、このメインパターン51の一部と並列に接続
されたバイパスパターン53を設けてある。メインパタ
ーン51の両端に電極15を接着してある。図面では、
これらパターン51、53の、加温プレート7Gにおけ
る単位面積当たりの大きさを、いずれの領域でもほぼ均
等になるように配分してあるので、加温プレート7Gの
全域がほぼ均等に加温されるが、バイパスパターン53
について、上記単位面積当たりの大きさをメインパター
ン51についてのそれと異ならせれば、1つの加温プレ
ートによって異なる温度での加温を行わせることができ
る。
[G. Seventh Embodiment] (FIG. 9) FIG. 9 shows a seventh embodiment. The pattern of the conductive film 13 </ b> G according to this embodiment is mostly a main pattern 51 connected by one line, but a bypass connected in parallel with a part of the main pattern 51. A pattern 53 is provided. The electrodes 15 are bonded to both ends of the main pattern 51. In the drawing,
Since the sizes of these patterns 51 and 53 per unit area in the heating plate 7G are distributed so as to be substantially equal in any region, the entire area of the heating plate 7G is heated almost uniformly. Is the bypass pattern 53
If the size per unit area is made different from that of the main pattern 51, heating at different temperatures can be performed by one heating plate.

【0037】〔H.第八の実施の形態〕(図10) 図10は、第八の実施の形態を示す。この実施の形態に
係る導電膜13Hのパターンは、形態としては、図2に
示すものと同様、同心円状に配置された多数の円弧パタ
ーン55を順次連続させて1本の線につないだ形になっ
てはいるが、線幅は外側へ行くに従って順次細くしてあ
る。中心部には、円形の島形パターン56を設けてあ
り、この島形パターン56は一番内側の円弧パターン5
5と並列に接続されている。
[H. Eighth Embodiment] (FIG. 10) FIG. 10 shows an eighth embodiment. The pattern of the conductive film 13 </ b> H according to this embodiment has a form similar to that shown in FIG. 2, in which a large number of concentric arc patterns 55 are sequentially connected and connected to one line. However, the line width is gradually reduced toward the outside. A circular island pattern 56 is provided at the center, and the island pattern 56 is the innermost arc pattern 5.
5 and in parallel.

【0038】円弧パターン55の線幅を順次細くする割
合をどの程度にするか、その設定如何によって、加温プ
レート7Hの発熱パターンが違って来る。即ち、フレー
ム3Hでの放熱を補う程度に外側での発熱温度を高くし
た場合は、加温プレート7H上での発熱パターンは全面
ほぼ均一の発熱パターンになり、フレーム3Hの放熱を
上回る程度に外側での発熱温度を高くした場合は、加温
プレート7H上での発熱パターンは、外側へ行くほど高
くなるように変化するパターンになる。従って、例えば
同じ検体を2つ、中央部と周辺部に乗せれば、それら検
体はそれぞれ異なる温度に加温される。勿論、中央部で
の線幅を細くして、周辺部より中央部の方が高温になる
ようにしても良い。
The heating pattern of the heating plate 7H differs depending on how much the line width of the circular arc pattern 55 is sequentially reduced and the setting. That is, when the heat generation temperature on the outside is increased to the extent of compensating the heat radiation in the frame 3H, the heat generation pattern on the heating plate 7H is substantially uniform over the entire surface, and the heat generation pattern on the outside is higher than the heat radiation of the frame 3H. When the heat generation temperature in the heating plate 7H is increased, the heat generation pattern on the heating plate 7H becomes a pattern that changes so as to increase toward the outside. Therefore, for example, if two identical specimens are placed on the central part and the peripheral part, the specimens are heated to different temperatures. Of course, the line width at the central portion may be narrowed so that the central portion has a higher temperature than the peripheral portion.

【0039】尚、このように発熱温度に場所的変化を持
たせる場合の温度調節の方式としては、図面に示すもの
のように導電膜を1体の形にした場合は全体をまとめて
上げ下げする方式になるが、円弧パターン55を、例え
ば、中央領域にあるものと外側領域にあるものとで互い
に独立した形にすれば、それらを各別に制御する方式と
することもできる。
As described above, as a method of adjusting the temperature when the heat generation temperature is changed in place, when the conductive film is formed as a single body as shown in the drawing, the whole is raised and lowered as a whole. However, if the circular arc pattern 55 is, for example, made independent of each other in the central area and in the outer area, it is also possible to control them separately.

【0040】〔I.第九の実施の形態〕(図11) 図11は、第九の実施の形態を示す。この実施の形態に
係る導電膜13Iのパターンは、加温プレート7I上で
の発熱温度が場所的に変化するように設計されたパター
ンの一つであって、その形態は、つづら折り様に屈曲し
て延びる1本の線形をしており、その線幅は、加温プレ
ート7Iの長手方向における3つの区分領域A、B、C
の順で太くなるように変化させてある。従って、加温プ
レート7I上での発熱温度は、B領域が中間温度にな
り、A領域は高温に、C領域は低温になる。加温プレー
ト7Iの上面、即ち、導電膜13Iが形成された面と反
対の面には、3つの領域A、B、Cの境を記した表示ラ
イン61(図面に一点鎖線で示してある)が設けられて
いる。この表示ライン61によって、発熱温度が異なる
領域を目視できる。
[I. Ninth Embodiment] (FIG. 11) FIG. 11 shows a ninth embodiment. The pattern of the conductive film 13I according to the present embodiment is one of the patterns designed so that the heat generation temperature on the heating plate 7I varies locally, and the pattern is bent in a zigzag manner. And the line width is determined by the three divided areas A, B, and C in the longitudinal direction of the heating plate 7I.
It is changed so that it becomes thicker in the order of. Accordingly, the heating temperature on the heating plate 7I is intermediate in the area B, high in the area A, and low in the area C. On the upper surface of the heating plate 7I, that is, on the surface opposite to the surface on which the conductive film 13I is formed, a display line 61 (shown by a dashed line in the drawing) indicating the boundaries of the three regions A, B, and C. Is provided. The display line 61 allows the user to visually check regions having different heat-generating temperatures.

【0041】〔J.第十の実施の形態〕(図12) 図12は、第十の実施の形態を示す。この実施の形態に
係る導電膜13Jのパターンも、加温プレート7J上で
の発熱温度が段階的に異なるように設計されたパターン
の一つであって、形態は、この加温プレート7Jの輪郭
とほぼ相似形を為す3つの矩形パターン65を、その中
央部を共通にして配置した形になっており、各矩形パタ
ーンの1角部は途切れていて、この途切れた位置を順次
連続させて1本の線につないである。一番内側の矩形パ
ターン65にはこれの内側を通るバイパスパターン66
を並列に接続してある。そして、各矩形パターン65
は、その線幅が、外側のものほど広くなっている。従っ
て、加温プレート7J上での発熱温度は、その中央部か
ら周辺部側へ行くに従って低くなる。
[J. Tenth Embodiment] (FIG. 12) FIG. 12 shows a tenth embodiment. The pattern of the conductive film 13J according to this embodiment is also one of the patterns designed so that the heat generation temperature on the heating plate 7J varies stepwise, and the form is the contour of the heating plate 7J. The three rectangular patterns 65, which are substantially similar to the above, are arranged with their central portions in common, and one corner of each rectangular pattern is interrupted. Connected to a book line. The innermost rectangular pattern 65 has a bypass pattern 66 passing through it.
Are connected in parallel. Then, each rectangular pattern 65
, The line width becomes wider as the line width increases. Therefore, the heat generation temperature on the heating plate 7J decreases from the central portion toward the peripheral portion.

【0042】〔K.第十一の実施の形態〕(図13) 図13は、第十一の実施の形態を示す。この実施の形態
では、比較的幅広な線形に延びる導電膜13Kを、加温
プレート7Kの周縁部沿いの領域だけに設けてある。従
って、この加温プレート7Kは、周縁部だけが所要の温
度で発熱し、中央部は周縁部よりだいぶ低い温度にな
る。
[K. Eleventh Embodiment] (FIG. 13) FIG. 13 shows an eleventh embodiment. In this embodiment, a relatively wide linearly extending conductive film 13K is provided only in a region along the periphery of the heating plate 7K. Accordingly, in the heating plate 7K, only the peripheral portion generates heat at a required temperature, and the central portion has a much lower temperature than the peripheral portion.

【0043】〔L.第十二の実施の形態〕(図14) 図14は、第十二の実施の形態を示す。この実施の形態
では、円板形をした加温プレート7Lの中央部だけに導
電膜13Lを設けてあり、従って、この加温プレート7
Lは、表示ライン61の内側領域だけがコントローラー
によって制御される温度で発熱し、その他の領域は中央
部よりだいぶ低い温度になる。
[L. Twelfth Embodiment] (FIG. 14) FIG. 14 shows a twelfth embodiment. In this embodiment, the conductive film 13L is provided only at the center of the disk-shaped heating plate 7L.
In L, only the area inside the display line 61 generates heat at a temperature controlled by the controller, and the other areas have a much lower temperature than the central part.

【0044】〔M.第十三の実施の形態〕(図15) 図15は、第十三の実施の形態を示す。この実施の形態
では、導電膜13Mが島形に形成されている。即ち、矩
形をした加温プレート7Mの周縁部を除く範囲に、大き
さの異なる矩形の島形をした左右2つの島パターン71
を配置し、これら島パターン71どうしを接続パターン
73で接続すると共に、島パターン71からはリードパ
ターン75を各別に延ばし、このリードパターン75の
端に電極15を接着してある。従って、この加温プレー
ト7Mでの発熱パターンは、島パターン71と接続パタ
ーン71の形状にほぼ従ったパターンになる。尚、2つ
の島パターン71への給電が各別に行われるようにし
て、これら2つの島パターンを個々に制御するようにし
ても良い。
[M. Thirteenth Embodiment] (FIG. 15) FIG. 15 shows a thirteenth embodiment. In this embodiment, the conductive film 13M is formed in an island shape. That is, two right and left island patterns 71 having rectangular island shapes having different sizes are provided in a range excluding the peripheral portion of the rectangular heating plate 7M.
These island patterns 71 are connected to each other by connection patterns 73, and lead patterns 75 are separately extended from the island patterns 71, and the electrodes 15 are bonded to the ends of the lead patterns 75. Therefore, the heat generation pattern on the heating plate 7M substantially follows the shapes of the island pattern 71 and the connection pattern 71. Note that power may be separately supplied to the two island patterns 71, and the two island patterns may be individually controlled.

【0045】以上、本発明の実施の形態を説明したが、
本発明の具体的構成がこの実施の形態に限定されるもの
では無く、本発明の要旨から外れない範囲での設計変更
等があっても本発明に含まれる。特に、導電膜のパター
ンは、実施の形態で示した種類に限らず、様々な形態が
考えられる。そして、本発明は、保護用プレートにアー
ス用導電膜を設けたノイズレスタイプのものや、冷却素
子を備えた加温・冷却兼用タイプのもの、その他、導電
膜を発熱体とした加温プレートを備えた各種の顕微鏡用
の検体温度管理器に広く適用することができる。上記実
施の形態では、電極15とリード線17とによって給電
手段を構成したが、本発明はこれに限定されず、透明導
電膜に給電することができるものであれば、これらに限
定されるものではない。
The embodiment of the present invention has been described above.
The specific configuration of the present invention is not limited to this embodiment, and any change in design or the like without departing from the spirit of the present invention is also included in the present invention. In particular, the pattern of the conductive film is not limited to the type described in the embodiment, and various shapes can be considered. The present invention relates to a noiseless type in which a protective plate is provided with a grounding conductive film, a heating / cooling type in which a cooling element is provided, and a heating plate in which a conductive film is used as a heating element. The present invention can be widely applied to the provided sample temperature controllers for various microscopes. In the above embodiment, the power supply means is constituted by the electrode 15 and the lead wire 17, but the present invention is not limited to this, and is limited to these as long as the power can be supplied to the transparent conductive film. is not.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、熱拡散
板等の補正手段を設けなくても、導電膜だけで、加温プ
レートの発熱温度を均一にしたり、逆に領域ごとに温度
差を持たせたりすることが自在にできる。
As described above, according to the present invention, the heat generation temperature of the heating plate can be made uniform by using only the conductive film without providing a correction means such as a heat diffusion plate or the like. A temperature difference can be freely provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第一の実施の形態に係る検体温度管理
器を示す分解斜視図である。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing a sample temperature controller according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1に示す検体温度管理器の加温プレートの拡
大底面図である。
FIG. 2 is an enlarged bottom view of a heating plate of the specimen temperature controller shown in FIG.

【図3】図1に示す検体温度管理器を同図のA−A線に
沿って切断した拡大断面図である。
FIG. 3 is an enlarged sectional view of the sample temperature controller shown in FIG. 1 taken along the line AA in FIG.

【図4】本発明の第二の実施の形態に係る検体温度管理
器の導電膜のパターンを示す図である。
FIG. 4 is a view showing a pattern of a conductive film of a sample temperature controller according to a second embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第三の実施の形態に係る検体温度管理
器の導電膜のパターンを示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a pattern of a conductive film of a sample temperature controller according to a third embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第四の実施の形態に係る検体温度管理
器の導電膜のパターンを示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing a pattern of a conductive film of a sample temperature controller according to a fourth embodiment of the present invention.

【図7】本発明の第五の実施の形態に係る検体温度管理
器の導電膜のパターンを示す図である。
FIG. 7 is a diagram showing a pattern of a conductive film of a sample temperature controller according to a fifth embodiment of the present invention.

【図8】本発明の第六の実施の形態に係る検体温度管理
器の導電膜のパターンを示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing a pattern of a conductive film of a sample temperature controller according to a sixth embodiment of the present invention.

【図9】本発明の第七の実施の形態に係る検体温度管理
器の導電膜のパターンを示す図である。
FIG. 9 is a diagram showing a pattern of a conductive film of a sample temperature controller according to a seventh embodiment of the present invention.

【図10】本発明の第八の実施の形態に係る検体温度管
理器の導電膜のパターンを示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing a pattern of a conductive film of a sample temperature controller according to an eighth embodiment of the present invention.

【図11】本発明の第九の実施の形態に係る検体温度管
理器の導電膜のパターンを示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a pattern of a conductive film of a sample temperature controller according to a ninth embodiment of the present invention.

【図12】本発明の第十の実施の形態に係る検体温度管
理器の導電膜のパターンを示す図である。
FIG. 12 is a diagram showing a pattern of a conductive film of a sample temperature controller according to a tenth embodiment of the present invention.

【図13】本発明の第十一の実施の形態に係る検体温度
管理器の導電膜のパターンを示す図である。
FIG. 13 is a diagram showing a pattern of a conductive film of the sample temperature controller according to the eleventh embodiment of the present invention.

【図14】本発明の第十二の実施の形態に係る検体温度
管理器の導電膜のパターンを示す図である。
FIG. 14 is a diagram showing a pattern of a conductive film of a sample temperature controller according to a twelfth embodiment of the present invention.

【図15】本発明の第十三の実施の形態に係る検体温度
管理器の導電膜のパターンを示す図である。
FIG. 15 is a diagram showing a pattern of a conductive film of a sample temperature controller according to a thirteenth embodiment of the present invention.

【図16】従来の検体温度管理器の一例を示す平面図で
ある。
FIG. 16 is a plan view showing an example of a conventional sample temperature controller.

【図17】図16の検体温度管理器の加温プレートを拡
大した斜視図である。
FIG. 17 is an enlarged perspective view of a heating plate of the sample temperature controller in FIG. 16;

【図18】図16のB−B線に沿って切断した拡大断面
図である。
FIG. 18 is an enlarged sectional view taken along the line BB of FIG. 16;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…顕微鏡用の検体温度管理器 3…フレーム 7
…透明プレート 13…透明導電膜 13a、13a´…透明導電膜の
パターン 17…リード線 19…温度センサー 25…顕微
鏡のステージ 3A…フレーム 7A…透明プレート 13A…透
明導電膜 3B…フレーム 7B…透明プレート 13B…透
明導電膜 35、36…透明導電膜のパターン 3C…フレーム 7C…透明プレート 13C…透
明導電膜 41…透明導電膜のパターン 3D…フレーム 7D…透明プレート 13D…透
明導電膜 43、45…透明導電膜のパターン 3F…フレーム 7F…透明プレート 13F…透
明導電膜 47、49…透明導電膜のパターン 3G…フレーム 7G…透明プレート 13G…透
明導電膜 51、53…透明導電膜のパターン 3H…フレーム 7H…透明プレート 13H…透
明導電膜 55、56…透明導電膜のパターン 3I…フレーム 7I…透明プレート 13I…透
明導電膜 61…表示 3J…フレーム 7J…透明プレート 13J…透
明導電膜 65…透明導電膜のパターン 3K…フレーム 7K…透明プレート 13K…透
明導電膜 3L…フレーム 7L…透明プレート 13L…透
明導電膜 3M…フレーム 7M…透明プレート 13M…透
明導電膜 71…(島形の)透明導電膜のパターン
73、75…透明導電膜のパターン
1 ... Sample temperature controller for microscope 3 ... Frame 7
... Transparent plate 13 ... Transparent conductive film 13a, 13a '... Transparent conductive pattern 17 ... Lead wire 19 ... Temperature sensor 25 ... Microscope stage 3A ... Frame 7A ... Transparent plate 13A ... Transparent conductive film 3B ... Frame 7B ... Transparent plate 13B: Transparent conductive film 35, 36: Pattern of transparent conductive film 3C: Frame 7C: Transparent plate 13C: Transparent conductive film 41: Pattern of transparent conductive film 3D: Frame 7D: Transparent plate 13D: Transparent conductive film 43, 45: Transparent Pattern of conductive film 3F: Frame 7F: Transparent plate 13F: Transparent conductive film 47, 49: Pattern of transparent conductive film 3G: Frame 7G: Transparent plate 13G: Transparent conductive film 51, 53: Pattern of transparent conductive film 3H: Frame 7H ... Transparent plate 13H ... Transparent conductive film 55,56 ... Transparent conductive Film pattern 3I ... Frame 7I ... Transparent plate 13I ... Transparent conductive film 61 ... Display 3J ... Frame 7J ... Transparent plate 13J ... Transparent conductive film 65 ... Transparent conductive film pattern 3K ... Frame 7K ... Transparent plate 13K ... Transparent conductive film 3L ... Frame 7L ... Transparent plate 13L ... Transparent conductive film 3M ... Frame 7M ... Transparent plate 13M ... Transparent conductive film 71 ... (Island-shaped) transparent conductive film pattern
73, 75: Pattern of transparent conductive film

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】顕微鏡のステージに乗るフレームと、外周
部が上記フレームに保持された透明プレートと、この透
明プレート上に形成され通電されることで発熱する発熱
用透明導電膜と、該透明導電膜への給電を行う給電手段
とを備えた顕微鏡用の検体温度管理器であって、透明導
電膜を、透明プレート上での所望の発熱パターンに応じ
たパターンで形成したことを特徴とする顕微鏡用の検体
温度管理器。
A frame mounted on a stage of a microscope; a transparent plate having an outer peripheral portion held by the frame; a transparent conductive film formed on the transparent plate and generating heat when energized; A specimen temperature controller for a microscope, comprising: a power supply unit for supplying power to a film, wherein the transparent conductive film is formed in a pattern corresponding to a desired heat generation pattern on a transparent plate. Sample temperature controller for use.
【請求項2】請求項1に記載した顕微鏡用の検体温度管
理器において、透明導電膜は、当該透明プレート上に部
分的に設けられて所望のパターンに形成されていること
を特徴とする顕微鏡用の検体温度管理器。
2. The microscope sample temperature controller according to claim 1, wherein the transparent conductive film is partially provided on the transparent plate and formed in a desired pattern. Sample temperature controller for use.
【請求項3】請求項2に記載した顕微鏡用の検体温度管
理器において、透明導電膜のパターンを、1若しくは複
数の、線形及び/又は島形にしたことを特徴とする顕微
鏡用の検体温度管理器。
3. The sample temperature controller for a microscope according to claim 2, wherein the pattern of the transparent conductive film is formed into one or a plurality of linear and / or island shapes. Management device.
【請求項4】請求項3に記載した顕微鏡用の検体温度管
理器において、透明導電膜のパターンを、互いに回路を
異にする複数設け、その複数のパターンのそれぞれに給
電手段を接続したことを特徴とする顕微鏡用の検体温度
管理器。
4. A sample temperature controller for a microscope according to claim 3, wherein a plurality of patterns of the transparent conductive film having different circuits are provided, and power supply means is connected to each of the plurality of patterns. Characteristic sample temperature controller for microscopes.
【請求項5】請求項2から4に記載した顕微鏡用の検体
温度管理器のいずれかにおいて、透明導電膜のパターン
は、フレームに接触又は近接する領域など放熱し易い領
域における発熱温度がその他の領域での発熱温度より高
くなるパターンにしたことを特徴とする顕微鏡用の検体
温度管理器。
5. The sample temperature controller for a microscope according to claim 2, wherein the pattern of the transparent conductive film has a heat generation temperature in an area where heat is easily radiated such as an area in contact with or close to the frame. A specimen temperature controller for a microscope, wherein the pattern has a pattern that is higher than an exothermic temperature in a region.
【請求項6】請求項2から4に記載した顕微鏡用の検体
温度管理器のいずれかにおいて、透明導電膜のパターン
は、当該透明プレート上の複数の領域において互いに温
度差が生じるパターンにしたことを特徴とする顕微鏡用
の検体温度管理器。
6. A sample temperature controller for a microscope according to claim 2, wherein the pattern of the transparent conductive film is a pattern in which a temperature difference occurs in a plurality of regions on the transparent plate. A specimen temperature controller for microscopes, characterized by the following.
【請求項7】請求項6に記載した顕微鏡用の検体温度管
理器において、温度差が生じる複数の領域を識別させる
ための目視可能な表示を当該透明プレートに設けたこと
を特徴とする顕微鏡用の検体温度管理器。
7. A sample temperature controller for a microscope according to claim 6, wherein a visual indication for identifying a plurality of regions where a temperature difference occurs is provided on said transparent plate. Sample temperature controller.
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