JP2001318203A - Electrically conductive antireflection film and glass panel for cathode-ray tube coated with the same - Google Patents

Electrically conductive antireflection film and glass panel for cathode-ray tube coated with the same

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JP2001318203A
JP2001318203A JP2000134545A JP2000134545A JP2001318203A JP 2001318203 A JP2001318203 A JP 2001318203A JP 2000134545 A JP2000134545 A JP 2000134545A JP 2000134545 A JP2000134545 A JP 2000134545A JP 2001318203 A JP2001318203 A JP 2001318203A
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layer
transition metal
refractive index
glass panel
metal carbonitride
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Toshimasa Kanai
敏正 金井
Tsutomu Imamura
努 今村
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Nippon Electric Glass Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrically conductive antireflection film, capable of attaining reduction of reflected light and the enhancement of contrast, having superior antistatic performance and electromagnetic wave shielding capability, superior heat resistance and less liable to peel from a substrate and to provide a glass panel for a cathode-ray tube having the antireflection film formed on the outer surface of the face part. SOLUTION: The electrically conductive antireflection film includes four layers formed on a substrate, namely a transparent layer whose refractive index is 1.4-2.3 and geometrical thickness is 0.5-250 nm as a first layer, a second layer based on a transition metal carbonitride or a transition metal oxycarbonitride, and a transparent layer whose refractive index is 1.4-2.3 and geometrical thickness is 0.5-100 nm as a third layer in this order from the substrate side and further has a transparent layer whose refractive index is 1.4-1.6 and geometrical thickness is 50-140 nm as an outer layer on the outside of the third layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、導電性反射防止膜と、
この導電性反射防止膜がフェース部の外表面に被覆形成
された陰極線管用ガラスパネルに関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a conductive anti-reflection film,
The present invention relates to a glass panel for a cathode ray tube in which the conductive antireflection film is formed to cover the outer surface of the face portion.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、陰極線管には、反射光の低減
やコントラストの向上が要求されており、最近では、帯
電を防止すること、及び人体に悪影響を及ぼす電磁波を
遮蔽することも求められるようになってきている。
2. Description of the Related Art Conventionally, cathode ray tubes have been required to reduce reflected light and improve contrast. Recently, it has also been required to prevent electrification and shield electromagnetic waves that have a bad effect on the human body. It is becoming.

【0003】そのため、陰極線管の画像表示面であるガ
ラスパネルのフェース部の外表面に導電性反射防止膜を
形成することによって、反射光を低減し、コントラスト
を向上し、さらに帯電防止や電磁波遮蔽の機能を付与す
ることが提案されている。
[0003] Therefore, by forming a conductive anti-reflection film on the outer surface of the face of the glass panel, which is the image display surface of the cathode ray tube, the reflected light is reduced, the contrast is improved, and the antistatic and electromagnetic wave shielding are further prevented. It has been proposed to add the function of.

【0004】例えば特表平6−510382号公報に
は、基体側から順に、NbNを含む層、TiO2を含む
層、SiO2を含む層からなる導電性反射防止膜が提案
されている。
For example, Japanese Patent Publication No. 6-510382 proposes a conductive anti-reflection film composed of a layer containing NbN, a layer containing TiO 2, and a layer containing SiO 2 in order from the substrate side.

【0005】また特開平9−156964号公報には、
基体側から順に、Ti、ZrおよびHfから選択された
金属の窒化物を主成分とする層、Si又はSiの窒化物
を主成分とする層、SiO2層からなる導電性反射防止
膜が提案されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-156964 discloses that
In order from the substrate side, a conductive antireflection film comprising a layer mainly composed of a metal nitride selected from Ti, Zr and Hf, a layer mainly composed of Si or Si nitride, and a SiO 2 layer is proposed. Have been.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、陰極線管を
生産する場合、基体となるガラスパネル上に、各種の機
能膜を形成した後で、ファンネルをフリットシールし、
さらに内部を排気するが、これらのシール工程や排気工
程では、400℃以上の熱処理が施される。
By the way, when producing a cathode ray tube, after forming various functional films on a glass panel as a base, the funnel is frit-sealed.
The inside is further evacuated. In these sealing and evacuation steps, a heat treatment at 400 ° C. or higher is performed.

【0007】しかしながら特表平6−510382号公
報や特開平9−156964号公報に開示された導電性
反射防止膜は、フェース部の外表面の反射光を大幅に低
減しているうえ、更に着色層を有しているため、陰極線
管のコントラストを向上させることはできるが、耐熱性
が不十分であり、熱処理すると反射率や抵抗値が上昇し
やすく、所期の反射率や電磁波遮蔽能力が得られ難く、
また、膜と基体との密着強度が低いため膜剥がれが起こ
りやすい。
However, the conductive anti-reflection film disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-510382 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-156964 greatly reduces the reflected light on the outer surface of the face portion, and further causes coloring. With the layer, the contrast of the cathode ray tube can be improved, but the heat resistance is insufficient, and the reflectance and the resistance value are easily increased by heat treatment, and the expected reflectance and the electromagnetic wave shielding ability are improved. Hard to obtain,
Further, since the adhesion strength between the film and the substrate is low, film peeling is likely to occur.

【0008】本発明の目的は、反射光の低減とコントラ
ストの向上を図ることができ、優れた帯電防止性と電磁
波遮蔽の能力を有し、しかも耐熱性に優れ、基体からの
膜剥がれが起こりにくい導電性反射防止膜と、この導電
性反射防止膜がフェース部の外表面に被覆形成された陰
極線管用ガラスパネルを提供することである。
It is an object of the present invention to reduce reflected light and improve contrast, to have excellent antistatic properties and electromagnetic wave shielding ability, to have excellent heat resistance, and to cause film peeling from a substrate. An object of the present invention is to provide a conductive anti-reflection film which is difficult to be provided, and a glass panel for a cathode ray tube in which the conductive anti-reflection film is formed to cover the outer surface of the face portion.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明による第1の導電
性反射防止膜は、基体上に形成される4つの層を含み、
基体側から順に、屈折率が1.4〜2.3の透明層で、
0.5〜250nmの幾何学的厚みを有する第1の層、
遷移金属炭窒化物及び遷移金属炭窒化酸化物のいずれか
を主成分とする第2の層、屈折率が1.4〜2.3の透
明層で、0.5〜100nmの幾何学的厚みを有する第
3の層を備え、さらに第3の層の外側に、屈折率が1.
4〜1.6の透明層で、50〜140nmの幾何学的厚
みを有する外層を備えてなることを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION A first conductive anti-reflective coating according to the present invention includes four layers formed on a substrate,
In order from the substrate side, a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 2.3,
A first layer having a geometric thickness of 0.5 to 250 nm,
A second layer mainly composed of a transition metal carbonitride or a transition metal carbonitride oxide, a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 2.3 and a geometric thickness of 0.5 to 100 nm; And a refractive index of 1. outside the third layer.
It is characterized by comprising an outer layer having a geometrical thickness of 50 to 140 nm, which is a transparent layer of 4 to 1.6.

【0010】また、本発明による第2の導電性反射防止
膜は、基体上に形成される5つの層を含み、基体側から
順に、屈折率が1.4〜2.3の透明層で、0.5〜2
50nmの幾何学的厚みを有する第1の層、遷移金属炭
窒化物及び遷移金属炭窒化酸化物のいずれかを主成分と
する第2の層、屈折率が1.4〜2.3の透明層で、
0.5〜100nmの幾何学的厚みを有する第3の層、
遷移金属窒化物、遷移金属炭窒化物及び遷移金属炭窒化
酸化物のいずれかを主成分とする第4の層を備え、さら
に第4の層の外側に、屈折率が1.4〜1.6の透明層
で、50〜140nmの幾何学的厚みを有する外層を備
えてなることを特徴とする。
The second conductive antireflection film according to the present invention includes five layers formed on a substrate, and is a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 2.3 in order from the substrate side. 0.5-2
A first layer having a geometric thickness of 50 nm, a second layer containing any one of transition metal carbonitride and transition metal carbonitride, and a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 2.3. In layers,
A third layer having a geometric thickness of 0.5-100 nm;
A fourth layer mainly composed of any one of transition metal nitride, transition metal carbonitride and transition metal carbonitride oxide is provided, and a refractive index of 1.4 to 1. 6. The transparent layer according to item 6, comprising an outer layer having a geometric thickness of 50 to 140 nm.

【0011】さらに本発明による第3の導電性反射防止
膜は、基体上に形成される6つの層を含み、基体側から
順に、屈折率が1.4〜2.3の透明層で、0.5〜2
50nmの幾何学的厚みを有する第1の層、遷移金属炭
窒化物及び遷移金属炭窒化酸化物のいずれかを主成分と
する第2の層、屈折率が1.4〜2.3の透明層で、
0.5〜100nmの幾何学的厚みを有する第3の層、
遷移金属窒化物、遷移金属炭窒化物及び遷移金属炭窒化
酸化物のいずれかを主成分とする第4の層、屈折率が
1.4〜3.0の透明層で、0.5〜40nmの幾何学
的厚みを有する第5の層を備え、さらに第5の層の外側
に、屈折率が1.4〜1.6の透明層で、50〜140
nmの幾何学的厚みを有する外層を備えてなることを特
徴とする。
Further, the third conductive anti-reflection film according to the present invention includes six layers formed on the substrate, and is a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 2.3 in order from the substrate side. 0.5-2
A first layer having a geometric thickness of 50 nm, a second layer containing any one of transition metal carbonitride and transition metal carbonitride, and a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 2.3. In layers,
A third layer having a geometric thickness of 0.5-100 nm;
A fourth layer containing any one of transition metal nitride, transition metal carbonitride and transition metal carbonitride as a main component, a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 3.0, and 0.5 to 40 nm; And a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 1.6 and a refractive index of 50 to 140 outside the fifth layer.
It has an outer layer having a geometric thickness of nm.

【0012】また本発明の陰極線管用ガラスパネルは、
上記した5つの層、又は6つの層を含む導電性反射防止
膜がフェース部の外表面に被覆形成され、フェース部の
外表面の平均曲率半径がフェース部中央を通る全放射方
向において10000mm以上であり、肉厚を10.1
6mmに換算した場合の波長550nmにおける光透過
率が70%以上のガラスからなることを特徴とする。
Further, the glass panel for a cathode ray tube of the present invention comprises:
The conductive antireflection film including the five layers or the six layers described above is formed on the outer surface of the face portion so that the average radius of curvature of the outer surface of the face portion is 10,000 mm or more in all radial directions passing through the center of the face portion. Yes, wall thickness 10.1
The glass is characterized by having a light transmittance of 70% or more at a wavelength of 550 nm when converted to 6 mm.

【0013】[0013]

【作用】以下、本発明の導電性反射防止膜について詳述
する。
The conductive antireflection film of the present invention will be described below in detail.

【0014】まず、本発明による第1の導電性反射防止
膜について説明する。第1の導電性反射防止膜は、4つ
の層により形成されている。
First, the first conductive anti-reflection film according to the present invention will be described. The first conductive antireflection film is formed by four layers.

【0015】最も基体側に形成される第1の層は、屈折
率が1.4〜2.3の透明層で、0.5〜250nm
(好ましくは0.5〜100nm)の幾何学的厚みを有
しており、他の層との干渉効果により表面反射光を低減
する作用を有している。この第1の層の材料は、成膜
性、生産コスト等を考慮すると、SiO2、Si34
SiON、Si2ON2、Al23及びAlONの群から
選ばれた1種が適している。また、これらの膜材料から
なる第1の層が、直接基体上に成膜されると、膜と基体
との密着強度が向上し、膜剥がれが起こり難いという利
点もある。
The first layer formed closest to the substrate is a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 2.3 and a refractive index of 0.5 to 250 nm.
(Preferably 0.5 to 100 nm) and has an effect of reducing surface reflected light by an interference effect with other layers. The material of the first layer is SiO 2 , Si 3 N 4 ,
One selected from the group consisting of SiON, Si 2 ON 2 , Al 2 O 3 and AlON is suitable. Further, when the first layer made of such a film material is formed directly on the substrate, there is an advantage that the adhesion strength between the film and the substrate is improved and the film is hardly peeled off.

【0016】また第2の層は、遷移金属炭窒化物及び遷
移金属炭窒化酸化物のいずれかを主成分とする着色導電
層で、導電性を有し、他の層との干渉効果により、表面
反射光を低減すると共に可視光領域での低反射領域を広
くする作用を有する。さらに400℃以上の熱処理を施
した後の抵抗値の上昇を抑え、かつ光吸収膜としてコン
トラストを向上させる作用も有している。この第2の層
としては、Ti、Zr、Hf、Nbから選択される遷移
金属の炭窒化物及び炭窒化酸化物のいずれかを主成分と
する膜が適しており、特にTiの炭窒化物及び炭窒化酸
化物のいずれかを主成分とする膜を使用すると、可視光
領域での低反射領域が広くなるため好ましい。
The second layer is a colored conductive layer containing a transition metal carbonitride or a transition metal carbonitride oxide as a main component, has conductivity, and has an interference effect with other layers. It has the effect of reducing the surface reflection light and widening the low reflection region in the visible light region. Further, it has an effect of suppressing an increase in resistance value after heat treatment at 400 ° C. or more and improving contrast as a light absorbing film. As the second layer, a film mainly containing one of a transition metal carbonitride and a carbonitride oxide selected from Ti, Zr, Hf, and Nb is suitable. It is preferable to use a film containing any one of carbon nitride and carbonitride oxide because the low-reflection region in the visible light region is widened.

【0017】さらに第3の層は、屈折率が1.4〜2.
3の透明層で、0.5〜100nm(好ましくは10〜
100nm)の幾何学的厚みを有しており、他の層との
干渉効果により表面反射光を低減する作用を有してい
る。この第3の層の材料は、成膜性、生産コスト等を考
慮すると、SiO2、Si34、SiON、Si2
2、Al23及びAlONの群から選ばれた1種が適
している。特に第1の層と第3の層の材料として、Si
34を使用すると、非常に優れた耐熱性が得られるため
好ましい。
Further, the third layer has a refractive index of 1.4 to 2.
3 to 0.5 to 100 nm (preferably 10 to 100 nm).
100 nm), and has the effect of reducing surface reflected light due to the effect of interference with other layers. The material of the third layer is made of SiO 2 , Si 3 N 4 , SiON, Si 2 O in consideration of film forming property, production cost and the like.
One selected from the group consisting of N 2 , Al 2 O 3 and AlON is suitable. In particular, as a material of the first layer and the third layer, Si
With 3 N 4, preferable since excellent heat resistance can be obtained.

【0018】また外層は、屈折率が1.4〜1.6の透
明層で、50〜140nmの幾何学的厚みを有してお
り、他の層との干渉効果により表面反射光を低減する作
用を有している。この外層は、成膜性、生産コストを考
慮すると、SiO2の層であることが好ましい。
The outer layer is a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 1.6 and has a geometric thickness of 50 to 140 nm, and reduces surface reflected light by an interference effect with other layers. Has an action. This outer layer is preferably a SiO 2 layer in consideration of film forming properties and production costs.

【0019】ところで陰極線管用ガラスパネルの光透過
率は、陰極線管に映像を映し出した際の輝度とコントラ
ストに影響する。すなわち、陰極線管用ガラスパネルの
光透過率が高くなるほど、輝度は高くなるが、コントラ
ストが低下し、逆にガラスパネルの光透過率が低くなる
ほど、コントラストは向上するが、輝度が低下する。
Meanwhile, the light transmittance of the glass panel for a cathode ray tube affects the brightness and contrast when an image is projected on the cathode ray tube. That is, the higher the light transmittance of the glass panel for a cathode ray tube, the higher the brightness, but the lower the contrast, and conversely, the lower the light transmittance of the glass panel, the higher the contrast, but the lower the brightness.

【0020】近年、陰極線管用ガラスパネルのフェース
部の外表面のフラット化が図られているが、フェース部
の外表面がフラット化すればするほど、所望の機械的強
度を得る目的で、フェース部の内表面の曲率半径が小さ
くなるように設計され、フェース部の中央部の肉厚に比
べて、周辺部の肉厚が非常に大きくなる。
In recent years, the outer surface of the face portion of the glass panel for a cathode ray tube has been flattened. However, the flatter the outer surface of the face portion is, the more the face portion is required to obtain a desired mechanical strength. Is designed such that the radius of curvature of the inner surface is small, and the thickness of the peripheral portion is much larger than the thickness of the central portion of the face portion.

【0021】従って、このようなフラットガラスパネル
を、光透過率の低いガラスから作製すると、フェース部
の中央部と周辺部の肉厚差による光の透過量の違いが大
きくなり、中央部と周辺部の映像に輝度差が生じること
になる。そのため、ガラスパネルを光透過率の高いガラ
スから作製することによって、フェース部の中央部に比
べて、周辺部の輝度が極端に低下することを防止し、さ
らにフェース部の外表面に着色膜を被覆形成することに
よってコントラストを向上することが試みられている。
Therefore, when such a flat glass panel is made of glass having a low light transmittance, the difference in the amount of light transmission due to the difference in thickness between the central part and the peripheral part of the face part becomes large, and the central part and the peripheral part become large. This causes a luminance difference in the video of the part. Therefore, by making the glass panel from a glass with high light transmittance, it is possible to prevent the luminance of the peripheral part from being extremely lowered compared to the central part of the face part, and to form a colored film on the outer surface of the face part. Attempts have been made to improve contrast by coating.

【0022】しかしながら、上記した特表平6−510
382号公報や特開平9−156964号公報に開示さ
れた導電性反射防止膜は、フェース部裏面の反射光を低
減する効果が小さいという問題もある。この裏面反射率
は、光透過率の高いガラスほど高くなるため、上記のよ
うな従来の導電性反射防止膜を光透過率の高いガラスか
ら作製されたフラットガラスパネルのフェース部の外表
面に被覆形成しても、裏面反射率の低減が図れず、陰極
線管に映し出された映像が二重に見えるという致命的欠
陥を招きやすい。
However, the above-mentioned Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6-510 has been disclosed.
The conductive anti-reflection film disclosed in Japanese Patent Publication No. 382 and Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-156964 also has a problem that the effect of reducing the reflected light on the back surface of the face portion is small. Since the backside reflectance of a glass having a higher light transmittance is higher, the conventional conductive antireflection film as described above is coated on the outer surface of the face portion of a flat glass panel made of a glass having a higher light transmittance. Even if it is formed, it is not possible to reduce the back surface reflectance, and it is likely to cause a fatal defect that the image projected on the cathode ray tube appears double.

【0023】そこで本発明においては、第2の導電性反
射防止膜として、第3の層と外層との間に、遷移金属窒
化物、遷移金属炭窒化物及び遷移金属炭窒化酸化物のい
ずれかを主成分とする第4の層を形成した。この層を加
えることによって、他の層との干渉効果により表面反射
光と裏面反射光を低減すると共に、400℃以上の熱処
理を施した後の反射率や抵抗値の上昇を抑えやすくな
る。さらにこの層は、可視光領域での低反射領域を広く
する作用を有し、しかも光吸収膜としてコントラストを
向上させる作用も有している。この第4の層としては、
Ti、Zr、Hf、Nbから選択される遷移金属の窒化
物、炭窒化物及び炭窒化酸化物のいずれかを主成分とす
る膜が使用でき、特にTiの窒化物、炭窒化物及び炭窒
化酸化物のいずれかを主成分とする膜を使用すると、可
視光領域での低反射領域が広くなるため好ましい。
Therefore, in the present invention, as the second conductive antireflection film, any one of transition metal nitride, transition metal carbonitride and transition metal carbonitride is provided between the third layer and the outer layer. Was formed as the main layer. By adding this layer, the front surface reflected light and the back surface reflected light are reduced by the interference effect with other layers, and the increase in the reflectance and the resistance after the heat treatment at 400 ° C. or more is easily suppressed. Further, this layer has a function of widening a low reflection region in a visible light region, and also has a function of improving contrast as a light absorbing film. As this fourth layer,
A film containing any one of nitride, carbonitride and carbonitride oxide of a transition metal selected from Ti, Zr, Hf and Nb can be used. In particular, nitride, carbonitride and carbonitride of Ti It is preferable to use a film containing any of oxides as a main component, because a low-reflection region in a visible light region is widened.

【0024】さらに本発明においては、第3の導電性反
射防止膜として上記した第4の層と外層との間に、屈折
率が1.4〜3.0の透明層で、0.5〜40nmの幾
何学的厚みを有する層(第5の層)を形成した。この層
を加えることによって、400℃以上の熱処理を施した
後の抵抗値の上昇を抑えやすくなる。この第5の層は、
成膜性、生産コスト等を考慮すると、Si34、Al
N、SiON、AlON、TiO、Ti23、Ti
2、Ta25、CeO2、ZnO、Nb25、Nd
23、Sb23、HfO2、In23及びSnO2の群か
ら選ばれた1種からなる層であることが好ましい。特に
窒化物であるSi34やAlNの層は、空気中の酸素の
バリア層となるため、熱処理時におけるTiN層の酸化
を完全に防止し、熱処理後の膜の抵抗値の上昇をより一
層低減しやすいため好ましい。
Furthermore, in the present invention, a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 3.0 and a refractive index of 0.5 to 3.0 is provided between the above-mentioned fourth layer as the third conductive antireflection film and the outer layer. A layer (fifth layer) having a geometric thickness of 40 nm was formed. By adding this layer, an increase in resistance value after heat treatment at 400 ° C. or higher can be easily suppressed. This fifth layer
Considering film forming properties, production costs, etc., Si 3 N 4 , Al
N, SiON, AlON, TiO, Ti 2 O 3 , Ti
O 2 , Ta 2 O 5 , CeO 2 , ZnO, Nb 2 O 5 , Nd
It is preferably a layer made of one selected from the group consisting of 2 O 3 , Sb 2 O 3 , HfO 2 , In 2 O 3 and SnO 2 . In particular, the nitride layer of Si 3 N 4 or AlN serves as a barrier layer for oxygen in the air, so that the oxidation of the TiN layer during the heat treatment is completely prevented, and the increase in the resistance value of the film after the heat treatment is reduced. This is preferable because it can be further reduced.

【0025】尚、本発明における幾何学的厚みとは、λ
/4等の光学的厚みと区別されるものであり、波長に依
存しない厚みを意味する。また本発明においては、上記
したような各膜層以外にも、膜の密着性をより向上させ
たり、色調を調整する目的で、付加的な薄膜層を適宜設
けることも可能である。
The geometric thickness in the present invention is λ
/ 4, etc., which means a thickness independent of wavelength. Further, in the present invention, in addition to the above-mentioned respective film layers, an additional thin film layer may be appropriately provided for the purpose of further improving the adhesion of the film or adjusting the color tone.

【0026】本発明の導電性反射防止膜の成膜方法とし
ては、一般的な薄膜形成手段が使用できる。例えばスパ
ッタリング法、真空蒸着法、CVD法、スピンコート
法、ゾルゲル法等が適用できるが、大面積化が容易であ
ることや膜厚を制御しやすいことを考慮すると、スパッ
タリング法が最も好ましい。
As a method for forming the conductive antireflection film of the present invention, a general thin film forming means can be used. For example, a sputtering method, a vacuum evaporation method, a CVD method, a spin coating method, a sol-gel method, or the like can be applied, but the sputtering method is most preferable in consideration of easy area enlargement and easy control of the film thickness.

【0027】次に本発明による陰極線管用ガラスパネル
について説明する。
Next, the glass panel for a cathode ray tube according to the present invention will be described.

【0028】本発明における陰極線管用ガラスパネル
は、フェース部の外表面の平均曲率半径をフェース部中
央を通る全放射方向において10000mm以上に限定
した、所謂フラットパネルタイプのものであり、ガラス
パネルの強度の点から内表面の曲率半径を小さくし、そ
の外表面に上述した本発明による第2、第3の導電性反
射防止膜を被覆している。
The glass panel for a cathode ray tube according to the present invention is of a so-called flat panel type in which the average radius of curvature of the outer surface of the face portion is limited to 10,000 mm or more in all radial directions passing through the center of the face portion. In view of the above, the radius of curvature of the inner surface is reduced, and the outer surface is coated with the above-described second and third conductive antireflection films according to the present invention.

【0029】一方、外表面の平均曲率半径の値が100
00mm未満のガラスパネルでは、フェース部の外表面
が若干湾曲面となり、内表面の曲率半径を大きくするこ
とができるため、上述した第2、第3の導電性反射防止
膜は不要である。すなわち、このような陰極線管用ガラ
スパネルは、フェース部の中央部と周辺部の肉厚差を小
さくすることができるため、敢えて光透過率の高いガラ
ス、つまり裏面反射の起こりやすいガラスを使用する必
要がないからである。
On the other hand, when the value of the average radius of curvature of the outer surface is 100
In a glass panel of less than 00 mm, the outer surface of the face portion is slightly curved, and the radius of curvature of the inner surface can be increased, so that the above-described second and third conductive antireflection films are unnecessary. That is, since such a glass panel for a cathode ray tube can reduce the thickness difference between the central portion and the peripheral portion of the face portion, it is necessary to use a glass having a high light transmittance, that is, a glass which is likely to cause backside reflection. Because there is no.

【0030】さらに本発明における陰極線管用ガラスパ
ネルは、肉厚を10.16mmに換算した場合の波長5
50nmにおけるガラスの光透過率を70%以上に限定
している。その理由は、光透過率が70%未満のガラス
から上記のようなフラットパネルガラスを作製した場
合、フェース部の中央部と周辺部の映像に輝度差が生じ
るので、これを避けるためである。
Further, the glass panel for a cathode ray tube according to the present invention has a wavelength of 5 when converted to a thickness of 10.16 mm.
The light transmittance of the glass at 50 nm is limited to 70% or more. The reason is that when the flat panel glass as described above is manufactured from glass having a light transmittance of less than 70%, a difference in luminance occurs between the center portion and the peripheral portion of the face portion, and this is avoided.

【0031】[0031]

【実施例】以下、本発明を実施例及び比較例に基づいて
詳細に説明する。
The present invention will be described below in detail based on examples and comparative examples.

【0032】表1〜5は、実施例の導電性反射防止膜
(試料No.1〜13)と比較例の導電性反射防止膜
(試料No.14)を示すものである。各表には、各試
料の膜構成、熱処理前後の表面反射率と抵抗値を示し
た。また表2〜5には、各試料の熱処理後の裏面反射率
も示した。
Tables 1 to 5 show the conductive anti-reflection coatings of the examples (Sample Nos. 1 to 13) and the conductive anti-reflection coatings of Comparative Examples (Sample No. 14). In each table, the film configuration of each sample, the surface reflectance before and after the heat treatment, and the resistance value are shown. Tables 2 to 5 also show the back surface reflectance of each sample after the heat treatment.

【0033】[0033]

【表1】 [Table 1]

【0034】[0034]

【表2】 [Table 2]

【0035】[0035]

【表3】 [Table 3]

【0036】[0036]

【表4】 [Table 4]

【0037】[0037]

【表5】 [Table 5]

【0038】表1〜5の各導電性反射防止膜は、次のよ
うにして作製した。
Each of the conductive antireflection films shown in Tables 1 to 5 was prepared as follows.

【0039】まず、図1に示すように、フェース部の外
表面の平均曲率半径の最小値(フェース部中央を通る全
放射方向において)が50000mmで、肉厚を10.
16mmに換算した場合の波長550nmにおける光透
過率が80%のガラスからなる陰極線管用ガラスパネル
(17インチサイズ)10を準備し、そのフェース部の
外表面にマグネトロンスパッタコート装置を用いて、各
表に示すような3層乃至6層構造の導電性反射防止膜1
1を形成した。表中の膜構成の欄には、各膜層の材料
と、幾何学的厚みを示した。
First, as shown in FIG. 1, the minimum value of the average radius of curvature of the outer surface of the face portion (in all radial directions passing through the center of the face portion) is 50,000 mm, and the thickness is 10.
A glass panel (17-inch size) 10 for a cathode ray tube made of glass having a light transmittance of 80% at a wavelength of 550 nm when converted to 16 mm was prepared, and the outer surface of the face portion was coated on each surface using a magnetron sputter coater. Conductive antireflection film 1 having a three-layer or six-layer structure as shown in FIG.
1 was formed. In the column of the film configuration in the table, the material of each film layer and the geometric thickness are shown.

【0040】こうして得られた各試料を箱型電気炉に入
れ、450℃、60分間の熱処理を行い、熱処理前後の
表面反射率と抵抗値、及び熱処理後の裏面反射率を測定
すると共に、密着強度を判定した。
Each sample thus obtained was placed in a box-type electric furnace, and heat-treated at 450 ° C. for 60 minutes. The surface reflectance and resistance before and after the heat treatment, and the back surface reflectance after the heat treatment were measured. The strength was determined.

【0041】その結果、実施例であるNo.1〜13の
各試料は、比較例であるNo.14の試料に比べて、熱
処理を施した後の波長550nmと620nmにおける
表面反射率と抵抗値が大幅に低く、また膜とガラスパネ
ルとの密着強度にも優れていた。しかも実施例のNo.
3〜13の各試料は、裏面反射率も低いため、これを陰
極線管用ガラスパネルに使用すれば、映像が二重に見え
ることがないと推定される。また各試料とも、着色層を
有しているため、高いコントラストが得られることが理
解できる。
As a result, in Example No. Each sample of Nos. 1 to 13 is No. 1 as a comparative example. The surface reflectance and the resistance at wavelengths of 550 nm and 620 nm after the heat treatment were significantly lower than those of the sample No. 14, and the adhesion strength between the film and the glass panel was excellent. Moreover, in the example No.
Since each of the samples Nos. 3 to 13 also has a low back surface reflectance, it is presumed that if these are used for a glass panel for a cathode ray tube, an image will not be seen as double. In addition, since each sample has a colored layer, it can be understood that high contrast can be obtained.

【0042】尚、各表中の表面反射率は、瞬間マルチ反
射率測定器を用いて15゜正反射を測定したものであ
る。
The surface reflectance in each table is obtained by measuring 15 ° regular reflection using an instantaneous multi-reflectometer.

【0043】また抵抗値は、ガラスパネルのフェース部
の短辺側の中央部に超音波ハンダで電極を取り付け、電
極間の抵抗をテスターで測定したものである。
The resistance value is obtained by attaching an electrode to the center of the face portion of the glass panel on the short side with an ultrasonic solder and measuring the resistance between the electrodes with a tester.

【0044】さらに裏面反射率は、瞬間マルチ反射率測
定器を用い、ガラスの反射率と吸収率を考慮して求めた
ものである。
Further, the back surface reflectivity was determined by using an instantaneous multi-reflectance measuring device in consideration of the reflectivity and the absorptivity of the glass.

【0045】また密着強度は、消しゴムによる耐擦傷テ
スト(9.8N荷重、200往復)を行うことによって
求めたものであり、テスト後に膜剥がれが確認されない
場合は○、一部でも膜剥がれが確認された場合は×で表
した。
The adhesion strength was determined by performing a scratch resistance test with an eraser (9.8 N load, 200 reciprocations). When no peeling was observed after the test, ○ was observed. When it was done, it was represented by x.

【0046】[0046]

【発明の効果】以上のように本発明の導電性反射防止膜
は、反射光の低減、コントラストの向上、帯電防止及び
電磁波遮蔽について優れた能力を有し、耐熱性に優れ、
400℃以上の熱処理を施した後の表面反射率や抵抗値
が低いため、陰極線管のパネル上に成膜される導電性反
射防止膜として好適である。
As described above, the conductive anti-reflection film of the present invention has excellent ability for reducing reflected light, improving contrast, preventing static electricity and shielding electromagnetic waves, and has excellent heat resistance.
Since the surface reflectance and the resistance after the heat treatment at 400 ° C. or more are low, it is suitable as a conductive anti-reflection film formed on a panel of a cathode ray tube.

【0047】また、この導電性反射防止膜は、陰極線管
以外にも、成膜後に高温の熱処理が施される液晶ディス
プレイ基板やプラズマディスプレイ基板等の各種ディス
プレイ基板にも適用可能である。
The conductive antireflection film can be applied to various display substrates such as a liquid crystal display substrate and a plasma display substrate, which are subjected to a high-temperature heat treatment after film formation, in addition to the cathode ray tube.

【0048】さらに本発明の5つ、又は6つの層を含む
導電性反射防止膜は、光透過率の高い陰極線管用ガラス
パネルのフェース部の外表面に被覆形成しても、裏面反
射率が低く、陰極線管の映像が二重に見えるのを防止で
きるため、フェース部の外表面が平坦な陰極線管用ガラ
スパネルに成膜される導電性反射防止膜として好適であ
る。
Further, even if the conductive anti-reflection film of the present invention including five or six layers is coated on the outer surface of the face portion of the glass panel for a cathode ray tube having high light transmittance, the back surface reflectance is low. Since the image of the cathode ray tube can be prevented from being seen double, it is suitable as a conductive antireflection film formed on a glass panel for a cathode ray tube having a flat outer surface of a face portion.

【0049】また、本発明の陰極線管用ガラスパネル
は、フェース部中央を通る全放射方向におけるフェース
部の外表面の平均曲率半径が10000mm以上のフラ
ットパネルであるが、肉厚を10.16mmに換算した
場合の波長550nmにおける光透過率が70%以上の
ガラスから形成されている。そのため、このガラスパネ
ルは、フェース部の中央部と周辺部の輝度差が小さい。
しかもフェース部の外表面に上記した5つ、又は6つの
層を含む導電性反射防止膜が被覆形成されてなるため、
表面反射率が低く、コントラストが高く、優れた帯電防
止性と電磁波遮蔽性を有し、さらに裏面反射率が低いた
め、映像が二重に見えることのない陰極線管を得ること
が可能となる。
Further, the glass panel for a cathode ray tube according to the present invention is a flat panel in which the average radius of curvature of the outer surface of the face portion in all radial directions passing through the center of the face portion is 10,000 mm or more, but the thickness is converted to 10.16 mm. It is formed of glass having a light transmittance of 70% or more at a wavelength of 550 nm in the case of the above. Therefore, in this glass panel, the difference in luminance between the central portion and the peripheral portion of the face portion is small.
Moreover, since the conductive antireflection film including the above five or six layers is formed on the outer surface of the face part,
Since the front surface reflectance is low, the contrast is high, the antistatic property and the electromagnetic wave shielding property are excellent, and the back surface reflectance is low, it is possible to obtain a cathode ray tube in which an image does not appear double.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】陰極線管用ガラスパネルを示す縦断面図であ
る。
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing a glass panel for a cathode ray tube.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 陰極線管用ガラスパネル 11 導電性反射防止膜 10 Glass panel for cathode ray tube 11 Conductive anti-reflective coating

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09F 9/00 309 H01J 29/88 313 G02B 1/10 A H01J 29/88 Z Fターム(参考) 2K009 AA06 AA07 AA08 AA09 BB02 CC02 DD03 DD04 EE03 4F100 AA12C AA12D AA19 AA20 AA32 AG00A AR00B AR00D AR00E AT00A BA05 BA07 BA10A BA10E BA13 EH66 GB48 JD08 JG01 JG03 JJ03 JN01B JN01D JN01E JN06 JN18B JN18D JN18E YY00 YY00B YY00D YY00E 4G059 AA07 AB11 AC04 AC12 GA02 GA12 5C032 AA02 DD02 DE01 DE03 DG01 DG02 5G435 AA02 AA09 AA11 AA12 AA16 BB02 BB06 BB12 EE03 FF01 GG11 GG32 GG33 HH03 HH05 HH12 KK07 ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) G09F 9/00 309 H01J 29/88 313 G02B 1/10 A H01J 29/88 Z F-term (Reference) 2K009 AA06 AA07 AA08 AA09 BB02 CC02 DD03 DD04 EE03 4F100 AA12C AA12D AA19 AA20 AA32 AG00A AR00B AR00D AR00E AT00A BA05 BA07 BA10A BA10E BA13 EH66 GB48 JD08 JG01 JG03 JJ03 JN01B JN01D JN01E JN06 JN18B JN18D JN18E YY00 YY00B YY00D YY00E 4G059 AA07 AB11 AC04 AC12 GA02 GA12 5C032 AA02 DD02 DE01 DE03 DG01 DG02 5G435 AA02 AA09 AA11 AA12 AA16 BB02 BB06 BB12 EE03 FF01 GG11 GG32 GG33 HH03 HH05 HH12 KK07

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基体上に形成される4つの層を含み、基
体側から順に、屈折率が1.4〜2.3の透明層で、
0.5〜250nmの幾何学的厚みを有する第1の層、
遷移金属炭窒化物及び遷移金属炭窒化酸化物のいずれか
を主成分とする第2の層、屈折率が1.4〜2.3の透
明層で、0.5〜100nmの幾何学的厚みを有する第
3の層を備え、さらに第3の層の外側に、屈折率が1.
4〜1.6の透明層で、50〜140nmの幾何学的厚
みを有する外層を備えてなることを特徴とする導電性反
射防止膜。
1. A transparent layer comprising four layers formed on a substrate and having a refractive index of 1.4 to 2.3 in order from the substrate side.
A first layer having a geometric thickness of 0.5 to 250 nm,
A second layer mainly composed of a transition metal carbonitride or a transition metal carbonitride oxide, a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 2.3 and a geometric thickness of 0.5 to 100 nm; And a refractive index of 1. outside the third layer.
A conductive anti-reflection film comprising a transparent layer having a thickness of 4 to 1.6 and an outer layer having a geometric thickness of 50 to 140 nm.
【請求項2】 基体上に形成される5つの層を含み、基
体側から順に、屈折率が1.4〜2.3の透明層で、
0.5〜250nmの幾何学的厚みを有する第1の層、
遷移金属炭窒化物及び遷移金属炭窒化酸化物のいずれか
を主成分とする第2の層、屈折率が1.4〜2.3の透
明層で、0.5〜100nmの幾何学的厚みを有する第
3の層、遷移金属窒化物、遷移金属炭窒化物及び遷移金
属炭窒化酸化物のいずれかを主成分とする第4の層を備
え、さらに第4の層の外側に、屈折率が1.4〜1.6
の透明層で、50〜140nmの幾何学的厚みを有する
外層を備えてなることを特徴とする導電性反射防止膜。
2. A transparent layer including five layers formed on a substrate and having a refractive index of 1.4 to 2.3 in order from the substrate side.
A first layer having a geometric thickness of 0.5 to 250 nm,
A second layer mainly composed of a transition metal carbonitride or a transition metal carbonitride oxide, a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 2.3 and a geometric thickness of 0.5 to 100 nm; And a fourth layer containing any one of transition metal nitride, transition metal carbonitride and transition metal carbonitride oxide as a main component, and a refractive index outside the fourth layer. Is 1.4 to 1.6
A conductive layer having a geometric thickness of 50 to 140 nm.
【請求項3】 基体上に形成される6つの層を含み、基
体側から順に、屈折率が1.4〜2.3の透明層で、
0.5〜250nmの幾何学的厚みを有する第1の層、
遷移金属炭窒化物及び遷移金属炭窒化酸化物のいずれか
を主成分とする第2の層、屈折率が1.4〜2.3の透
明層で、0.5〜100nmの幾何学的厚みを有する第
3の層、遷移金属窒化物、遷移金属炭窒化物及び遷移金
属炭窒化酸化物のいずれかを主成分とする第4の層、屈
折率が1.4〜3.0の透明層で、0.5〜40nmの
幾何学的厚みを有する第5の層を備え、さらに第5の層
の外側に、屈折率が1.4〜1.6の透明層で、50〜
140nmの幾何学的厚みを有する外層を備えてなるこ
とを特徴とする導電性反射防止膜。
3. A transparent layer having six layers formed on a substrate and having a refractive index of 1.4 to 2.3 in order from the substrate side.
A first layer having a geometric thickness of 0.5 to 250 nm,
A second layer mainly composed of a transition metal carbonitride or a transition metal carbonitride oxide, a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 2.3 and a geometric thickness of 0.5 to 100 nm; , A fourth layer containing any one of transition metal nitride, transition metal carbonitride and transition metal carbonitride as a main component, and a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 3.0. A fifth layer having a geometric thickness of 0.5 to 40 nm, and a transparent layer having a refractive index of 1.4 to 1.6 outside the fifth layer,
A conductive anti-reflection film comprising an outer layer having a geometric thickness of 140 nm.
【請求項4】 請求項2および請求項3のいずれか一つ
に記載される導電性反射防止膜がフェース部の外表面に
被覆形成され、フェース部の外表面の平均曲率半径がフ
ェース部中央を通る全放射方向において10000mm
以上であり、肉厚を10.16mmに換算した場合の波
長550nmにおける光透過率が70%以上のガラスか
らなることを特徴とする陰極線管用ガラスパネル。
4. The conductive anti-reflection film according to claim 2 is formed on the outer surface of the face portion so that the average radius of curvature of the outer surface of the face portion is at the center of the face portion. 10,000 mm in all radial directions passing through
A glass panel for a cathode ray tube, wherein the glass panel has a light transmittance of 70% or more at a wavelength of 550 nm when the thickness is converted to 10.16 mm.
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