JP2001310407A - Transparent laminated film - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は高い熱線反射効果と
可視光線反射防止効果を奏する透明積層フィルムに関す
る。さらに詳しくは、優れた熱線反射性を有するととも
に、高い可視光線反射防止性を有して視認性に優れ、窓
例えば建物窓や表示窓に貼ったとき室内灯等の映り込み
を防止し、かつまた優れた導電性による電磁波遮蔽効を
有する透明積層フィルムに関する。The present invention relates to a transparent laminated film having a high heat ray reflection effect and a visible light reflection prevention effect. More specifically, it has excellent heat ray reflectivity, has high anti-reflection properties for visible light, and is excellent in visibility, and prevents reflection of room lights and the like when applied to windows such as building windows and display windows, and Also, the present invention relates to a transparent laminated film having an electromagnetic wave shielding effect due to excellent conductivity.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来の窓に使用されている熱線反射フィ
ルムは、透明な基材フィルム、特にポリエステルフィル
ムの片面に金、銀、銅等からなる金属薄膜層を高屈折率
の透明誘電体層で挟んだ構造の熱線反射層を設けた積層
フィルムであり、可視光線を通すが、近赤外部から赤外
部にかけての光線（熱線）を反射する特性を有してい
る。2. Description of the Related Art A conventional heat-reflection film used for a window is composed of a transparent base material film, in particular, a polyester film, and a metal thin film layer made of gold, silver, copper, or the like on one side thereof. This is a laminated film provided with a heat ray reflective layer having a structure sandwiched between the layers, and has a property of transmitting visible light but reflecting light rays (heat rays) from the near-infrared portion to the infrared portion.
【０００３】この特性を生かし、熱線反射フィルムは熱
線遮蔽フィルムとして、高温作業における監視窓からの
熱輻射を低減したり、建物、自動車、電車等の窓から入
射する太陽エネルギーを遮断して冷暖房効果を向上させ
たり、透明植物容器の熱遮蔽性を向上させたり、あるい
は冷凍冷蔵ショーケースにおける保冷効果を向上させた
りする用途に利用されている。また最近では、前記熱線
反射フィルムが電磁波遮蔽効をも有することから、電磁
波シールドフィルムとして透明な開口部に用い、例えば
電子機器への電磁波によるコンピューターの誤作動を防
止するのに役立っている。また、このような透明開口部
の基材の大部分はガラス板で構成されているが、万一ガ
ラスが破損した場合でも、熱線遮蔽フィルムが貼られて
いるとガラスの飛散を防止できる。Taking advantage of this characteristic, the heat ray reflecting film is used as a heat ray shielding film to reduce heat radiation from a monitoring window in high-temperature work, or to block solar energy incident from windows of buildings, automobiles, trains, etc., to thereby provide a cooling and heating effect. It is used for applications such as improving the heat shielding property of a transparent plant container, or improving the cold preservation effect in a freezing and refrigerated showcase. Recently, since the heat ray reflective film also has an electromagnetic wave shielding effect, it is used as an electromagnetic wave shield film in a transparent opening to help prevent a malfunction of a computer due to an electromagnetic wave to an electronic device, for example. Further, most of the base material of such a transparent opening is formed of a glass plate. Even if the glass is broken, the glass can be prevented from scattering if the heat ray shielding film is attached.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな熱線反射層を有する透明積層フィルムは、可視光線
の一部も反射する特性がある。この為、建物窓に貼られ
た熱線反射フィルムは、これを通して明るい部屋から暗
い所を見た場合、明るい部屋の照明やその他光源がフィ
ルム表面に映り込み、暗い部分の視認性を悪くする。本
発明者の知見によると、このような映り込みは熱線反射
層の膜厚み依存性が大きく、この膜厚みを厚くすれば熱
線反射効果は高くなるが、逆に映り込みが激しく、ハー
フミラー調になり、一方膜厚みを薄くすれば、映り込み
は抑えられるが、熱線反射効果が低くなる。However, a transparent laminated film having such a heat ray reflective layer has a property of reflecting a part of visible light. For this reason, when the heat ray reflective film attached to the building window sees a dark place from a bright room through it, the lighting of the bright room and other light sources are reflected on the film surface, and the visibility of the dark part is deteriorated. According to the knowledge of the present inventors, such reflection is highly dependent on the film thickness of the heat ray reflective layer, and the heat ray reflection effect is enhanced by increasing the film thickness. On the other hand, if the film thickness is reduced, the reflection is suppressed, but the heat ray reflection effect is reduced.
【０００５】本発明の目的は、上記問題点を解決し、優
れた熱線反射効果とともに可視光線反射防止効果に優
れ、室内灯等の映り込みを防止して視認性に優れ、かつ
また優れた導電性（低い表面抵抗値）による電磁波遮蔽
効を有する透明積層フィルムを提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to solve the above-mentioned problems, to provide an excellent heat ray reflection effect and an excellent effect of preventing reflection of visible light, to prevent the reflection of room lights and the like, to provide excellent visibility, and to provide an excellent conductive property. An object of the present invention is to provide a transparent laminated film having an electromagnetic wave shielding effect due to its properties (low surface resistance).
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、本発明
によれば、透明導電性熱線反射フィルムの少なくとも片
面に可視光線反射防止層を積層してなる積層フィルムで
あって、可視光線反射率が５％以下、赤外線反射率が７
５％以上であることを特徴とする透明積層フィルムによ
って達成される。According to the present invention, there is provided a laminated film comprising a transparent conductive heat ray reflective film and a visible ray anti-reflection layer laminated on at least one surface of the film. 5% or less, infrared reflectance is 7
This is achieved by a transparent laminated film characterized by being at least 5%.
【０００７】本発明は、好ましい態様として、前記透明
導電性熱線反射層が金属層と誘電体層を積層してなる層
であり、該金属層がＡｕ、Ａｇ、ＣｕおよびＡｌから選
ばれる１種以上の金属または合金からなる層であり、か
つ該誘電体層がＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ5、ＺｒＯ2、Ｓｎ
Ｏ2、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、Ｉｎ2Ｏ3およびＺｎＯから選ば
れる１種以上からなる層であること、前記透明導電性熱
線反射層の表面抵抗値が１０Ω／□以下であること、前
記可視光線反射防止層が金属、金属酸化物、有機樹脂ま
たはこれらの２種以上の混合物より形成され、低屈折率
層と高屈折率層を有し、かつ最表層が低屈折率層で構成
されていること、前記可視光線反射防止層が基材フィル
ムの、前記透明導電性熱線反射層とは反対側のフィルム
面の上に設けられていること、また、前記透明積層フィ
ルムが、前記透明導電性熱線反射フィルムと前記可視光
線反射防止層を設けた透明な可視光線反射防止フィルム
との基材フィルム面同士を接着剤を介して接合させた積
層フィルムであることを包含する。In a preferred embodiment of the present invention, the transparent conductive heat ray reflective layer is a layer formed by laminating a metal layer and a dielectric layer, and the metal layer is one type selected from Au, Ag, Cu and Al. A layer made of the above metal or alloy, and the dielectric layer is made of TiO 2 , Ta 2 O 5 , ZrO 2 , Sn
A layer composed of at least one selected from O 2 , SiO, SiO 2 , In 2 O 3 and ZnO; a surface resistance value of the transparent conductive heat ray reflective layer of 10 Ω / □ or less; The anti-reflection layer is formed from a metal, a metal oxide, an organic resin or a mixture of two or more of these, has a low refractive index layer and a high refractive index layer, and has an outermost layer composed of a low refractive index layer. That the visible light antireflection layer is provided on a film surface of the base film opposite to the transparent conductive heat ray reflective layer, and the transparent laminated film is the transparent conductive heat ray It includes a laminated film in which the base film surfaces of a reflective film and a transparent visible light antireflection film provided with the visible light antireflection layer are bonded together via an adhesive.
【０００８】[0008]
【発明の実施の形態】本発明における透明導電性熱線反
射フィルムの基材フィルムは、透明な熱可塑性樹脂フィ
ルムであり、好ましくは可撓性を有し、スパッタ法や真
空蒸着法等により蒸着層を形成し得る耐熱性を備えた透
明な熱可塑性樹脂フィルムである。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The substrate film of the transparent conductive heat ray reflective film in the present invention is a transparent thermoplastic resin film, preferably having flexibility, and having a vapor deposited layer formed by a sputtering method or a vacuum vapor deposition method. Is a transparent thermoplastic resin film having heat resistance capable of forming a film.
【０００９】かかる基材フィルムを構成する熱可塑性樹
脂としては、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレ
ン−２，６−ナフタレートに代表される芳香族ポリエス
テル、ナイロン６やナイロン６６に代表される脂肪族ポ
リアミド、芳香族ポリアミド、ポリエチレンやポリプロ
ピレンに代表されるポリオレフィン、ポリカーボネート
等が例示される。これらの中、芳香族ポリエステル、さ
らにはポリエチレンテレフタレート及びポリエチレン−
２，６−ナフタレート、特にポリエチレンテレフタレー
トフィルムが好ましい。The thermoplastic resin constituting the base film includes aromatic polyesters such as polyethylene terephthalate and polyethylene-2,6-naphthalate, aliphatic polyamides such as nylon 6 and nylon 66, and aromatic polyamides. And polyolefins typified by polyethylene and polypropylene, and polycarbonates. Among these, aromatic polyesters, and further polyethylene terephthalate and polyethylene-
2,6-Naphthalate, especially polyethylene terephthalate film is preferred.
【００１０】また、熱可塑性樹脂フィルムとしては機械
強度を高めた二軸延伸フィルム、さらには耐熱性及び機
械的強度に優れる、二軸延伸ポリエチレンテレフタレー
トフィルムや二軸延伸ポリエチレン−２，６−ナフタレ
ートフィルムが好ましく、特に二軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフィルムが好ましい。As the thermoplastic resin film, a biaxially stretched film having increased mechanical strength, and further, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film or a biaxially stretched polyethylene-2,6-naphthalate having excellent heat resistance and mechanical strength are used. Films are preferred, and biaxially oriented polyethylene terephthalate films are particularly preferred.
【００１１】前記熱可塑性樹脂フィルムは、従来から知
られている方法で製造することができる。例えば、二軸
延伸ポリエステルフィルムは、芳香族ポリエステルを乾
燥後、Ｔｍ〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度（但し、Ｔｍ：芳
香族ポリエステルの融点）で押出機にて溶融し、ダイ
（例えばＴ−ダイ、Ｉ−ダイ等）から回転冷却ドラム上
に押出し、４０〜９０℃で急冷して未延伸フィルムを製
造し、ついで該未延伸フィルムを（Ｔｇ−１０）〜（Ｔ
ｇ＋７０）℃の温度（Ｔｇ：芳香族ポリエステルのガラ
ス転移温度）で縦方向に２．５〜８．０倍の倍率で延伸
し、次いで又は同時に横方向に２．５〜８．０倍の倍率
で延伸し、必要に応じて１８０〜２５０℃の温度で１〜
６０秒間熱固定することにより製造することができる。
フィルムの厚みは５〜２５０μｍの範囲が好ましい。[0011] The thermoplastic resin film can be manufactured by a conventionally known method. For example, a biaxially stretched polyester film is obtained by drying an aromatic polyester, melting it at a temperature of Tm to (Tm + 70) ° C. (where Tm: the melting point of the aromatic polyester) with an extruder, and forming a die (for example, a T-die, (I-die etc.) on a rotary cooling drum, and quenched at 40 to 90 ° C. to produce an unstretched film. Then, the unstretched film is (Tg-10) to (Tg-10).
g + 70) at a temperature of 2.5 ° C. (Tg: glass transition temperature of aromatic polyester) at a temperature of 2.5 to 8.0 times in the machine direction, and then or simultaneously in a width direction of 2.5 to 8.0 times. At 180 to 250 ° C if necessary.
It can be manufactured by heat setting for 60 seconds.
The thickness of the film is preferably in the range of 5 to 250 μm.
【００１２】前記芳香族ポリエステルには、必要によ
り、適当なフィラーを含有させることができる。このフ
ィラーとしては、従来からポリエステルフィルムの滑り
性付与剤として知られているものが挙げられるが、その
例を挙げると、炭酸カルシウム、酸化カルシウム、酸化
アルミニウム、カオリン、酸化珪素、酸化亜鉛、カーボ
ンブラック、炭化珪素、酸化錫、架橋アクリル樹脂粒
子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン樹脂粒子、架
橋シリコーン樹脂粒子等が挙げられる。かかる滑り性付
与剤の平均粒径は、０．０１〜１０μｍ、含有量はフィ
ルムが透明性を保持する量範囲であって、０．０００１
〜５ｗｔ％であることが好ましい。さらに芳香族ポリエ
ステルには、着色剤、帯電防止剤、酸化防止剤、有機滑
剤、触媒残渣微粒子なども適宜含有させることができ
る。The aromatic polyester may contain a suitable filler if necessary. Examples of the filler include those conventionally known as slipperiness imparting agents for polyester films. Examples thereof include calcium carbonate, calcium oxide, aluminum oxide, kaolin, silicon oxide, zinc oxide, and carbon black. , Silicon carbide, tin oxide, crosslinked acrylic resin particles, crosslinked polystyrene resin particles, melamine resin particles, crosslinked silicone resin particles, and the like. The average particle size of the slipperiness imparting agent is 0.01 to 10 μm, and the content is 0.0001 to 0.01 μm.
It is preferably about 5% by weight. Further, the aromatic polyester may appropriately contain a colorant, an antistatic agent, an antioxidant, an organic lubricant, fine particles of catalyst residue, and the like.
【００１３】本発明における透明導電性熱線反射フィル
ムは、前記した透明な熱可塑性樹脂フィルムの少なくと
も片面に熱線反射層を設けた積層フィルムであるが、こ
の熱線反射層は金属層と誘電体層を積層してなる構造を
とり、好ましくはこれらの層が交互に積層された構造を
とる。この積層構造は金属層と誘電体層の２層構造、金
属層の両側に誘電体層を設けたサンドイッチ構造の３層
構造、複数の金属層と複数の誘電体層を交互に積層した
４層乃至１０層の積層構造をとることができる。好まし
い層数は２〜７である。The transparent conductive heat ray reflective film of the present invention is a laminated film having a heat ray reflective layer provided on at least one side of the above-mentioned transparent thermoplastic resin film. The heat ray reflective layer comprises a metal layer and a dielectric layer. It has a laminated structure, and preferably has a structure in which these layers are alternately laminated. This laminated structure has a two-layer structure of a metal layer and a dielectric layer, a three-layer structure of a sandwich structure in which dielectric layers are provided on both sides of the metal layer, and a four-layer structure in which a plurality of metal layers and a plurality of dielectric layers are alternately laminated. A laminated structure of up to 10 layers can be obtained. The preferred number of layers is 2-7.
【００１４】前記金属層を構成する金属としては、Ａ
ｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ等の金属を好ましく例示できる。
これらの中、可視光線の吸収がほとんど無いＡｇ金属が
特に好ましい。また、前記金属は、必要に応じて２種以
上を用いた合金として用いてもよい。かかる金属層の厚
みは、本発明の積層フィルムの波長４００〜７５０ｎｍ
における積分可視光透過率（この波長領域での可視光線
透過率の平均値）が５５％以上及び波長５〜３０μｍの
積分赤外線反射率（この波長領域での赤外線反射率の平
均値）が７５％以上を満足するように定めるのが好まし
い。さらに具体的には、金属層の、一層での厚みは５〜
１０００ｎｍの範囲内にあることが好ましい。この厚み
が５ｎｍ未満であると、十分な熱線反射効果が発揮され
ず、赤外線透過率が高くなり、他方１０００ｎｍを超え
ると、可視光線透過率が低下し、透明性が悪くなるので
好ましくない。The metal constituting the metal layer is A
Preferred examples include metals such as u, Ag, Cu, and Al.
Among them, Ag metal which hardly absorbs visible light is particularly preferable. Further, the metal may be used as an alloy using two or more kinds as necessary. The thickness of such a metal layer is 400 to 750 nm in wavelength of the laminated film of the present invention.
, The integrated visible light transmittance (average value of visible light transmittance in this wavelength region) is 55% or more, and the integrated infrared reflectance (average value of infrared reflectance in this wavelength region) of wavelength 5 to 30 μm is 75%. It is preferable to determine so as to satisfy the above. More specifically, the thickness of one layer of the metal layer is 5 to 5.
Preferably it is in the range of 1000 nm. When the thickness is less than 5 nm, a sufficient heat ray reflection effect is not exhibited, and the infrared transmittance increases. On the other hand, when the thickness exceeds 1000 nm, the visible light transmittance decreases and the transparency deteriorates, which is not preferable.
【００１５】かかる金属層の形成方法としては気相成長
法が好ましく、さらに真空蒸着法、スパッター法または
プラズマＣＶＤ法が好ましい。As a method for forming such a metal layer, a vapor phase growth method is preferable, and a vacuum evaporation method, a sputtering method or a plasma CVD method is more preferable.
【００１６】本発明における前記誘電体層は、透明で高
屈折率な誘電体からなる層であることが好ましい。この
ような誘電体としては、ＴｉＯ2、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、
Ｉｎ2Ｏ3等を例示できる。さらには、アルキルチタネー
ト又はアルキルジルコニウムの加水分解により得られ
る、有機化合物由来のＴｉＯ2又はＺｒＯ2が加工性に優
れるため好ましい。加えて、酸化インジウムや酸化錫も
単一層又は多層にて適用できる。また、かかる誘電体層
は、前述の金属層をサンドイッチ状に挟む積層構造をと
ることにより、透明性の改良効果が増すのでより好まし
い。かかる誘電体層の厚みは、積層フィルムの光学特性
を満足するように前述の金属層と併せて設定することが
好ましいい。誘電体層の一層での厚みは２〜１０００ｎ
ｍの範囲が好ましい。In the present invention, the dielectric layer is preferably a layer made of a transparent dielectric material having a high refractive index. Such dielectrics include TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 ,
In 2 O 3 can be exemplified. Further, TiO 2 or ZrO 2 derived from an organic compound, which is obtained by hydrolysis of alkyl titanate or alkyl zirconium, is preferable because of excellent workability. In addition, indium oxide or tin oxide can be applied in a single layer or in multiple layers. In addition, such a dielectric layer is more preferable because it has a laminated structure in which the above-described metal layer is sandwiched between sandwiches, because the effect of improving transparency is increased. It is preferable that the thickness of the dielectric layer is set in combination with the above-mentioned metal layer so as to satisfy the optical characteristics of the laminated film. The thickness of one dielectric layer is 2 to 1000 n
The range of m is preferred.
【００１７】かかる誘電体層の形成方法としては気相成
長法が好ましく、さらに真空蒸着法、スパッター法また
はプラズマＣＶＤ法が特に好ましい。As a method for forming such a dielectric layer, a vapor phase growth method is preferable, and a vacuum deposition method, a sputtering method or a plasma CVD method is particularly preferable.
【００１８】このようにして得られる透明導電性熱線反
射フィルムの透明導電性熱線反射層（導電層）の表面抵
抗としては、８Ω／□以下が好ましい。この表面抵抗値
が８Ω／□を超えると、電磁波シールド効果が十分に発
揮されない。さらに好ましい表面抵抗値は６Ω／□以下
である。また導電層端部に導電層の表面抵抗値より低い
表面抵抗値を持つ電極を設け、アースを取り出すことに
より、電磁波シールド効果は更に発揮される。The surface resistance of the transparent conductive heat ray reflective layer (conductive layer) of the thus obtained transparent conductive heat ray reflective film is preferably 8 Ω / □ or less. If the surface resistance exceeds 8Ω / □, the electromagnetic wave shielding effect cannot be sufficiently exhibited. A more preferred surface resistance value is 6Ω / □ or less. Further, by providing an electrode having a surface resistance lower than the surface resistance of the conductive layer at the end of the conductive layer and extracting the ground, an electromagnetic wave shielding effect is further exhibited.
【００１９】本発明における可視光線反射防止層は、光
の干渉性を利用した反射防止層であり、高屈折率層と低
屈折率層を有する。この反射防止層は高屈折率層と低屈
折率層を交互に、かつ最外層に低屈折率層が位置するよ
うに積層することが好ましい。この積層構造は高屈折率
層と低屈折率層の２層構造、高屈折率層の両側に低屈折
率層を設けたサンドイッチ構造の３層構造、複数の高屈
折率層と複数の低屈折率層を交互に積層した４層乃至１
０層の積層構造をとることができる。好ましい層数は２
〜７である。これらの層はそれぞれ、優れた反射防止特
性を得るため、後述する所定の膜厚(屈折率ｎ Ｘ 層厚
ｄ)を構成するのが好ましい。The visible light antireflection layer in the present invention is an antireflection layer utilizing light coherence and has a high refractive index layer and a low refractive index layer. The antireflection layer is preferably laminated such that high refractive index layers and low refractive index layers are alternately arranged such that the low refractive index layer is located as the outermost layer. This laminated structure has a two-layer structure of a high refractive index layer and a low refractive index layer, a three-layer structure of a sandwich structure in which a low refractive index layer is provided on both sides of the high refractive index layer, a plurality of high refractive index layers and a plurality of low refractive indexes. 4 to 1 layers in which rate layers are alternately laminated
A stacked structure of zero layers can be obtained. Preferred number of layers is 2
~ 7. Each of these layers preferably has a predetermined film thickness (refractive index n x layer thickness d) described later in order to obtain excellent antireflection characteristics.
【００２０】前記高屈折率層は屈折率が１．６５以上で
あることが好ましい。さらには、高屈折率層がＴｉ
Ｏ2、Ｔａ2Ｏ5、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2 、Ｉｎ2Ｏ3およびＺ
ｎＯから選ばれる１種以上から構成される薄膜であるこ
とが好ましい。また、前記低屈折率層は屈折率が１．５
以下であることが好ましい。さらには、低屈折率層が有
機樹脂または金属酸化物から構成されることが好まし
い。特に、ＳｉＯ2から構成されることが好ましい。The high refractive index layer preferably has a refractive index of 1.65 or more. Further, the high refractive index layer is made of Ti
O 2 , Ta 2 O 5 , ZrO 2 , SnO 2 , In 2 O 3 and Z
The thin film is preferably composed of at least one selected from nO. The low refractive index layer has a refractive index of 1.5.
The following is preferred. Further, it is preferable that the low refractive index layer is composed of an organic resin or a metal oxide. In particular, it is preferable to be composed of SiO 2 .
【００２１】前記可視光線反射防止層は、反射率とし
て、４００ｎｍから７００ｎｍの波長領域で最大５％以
下であることが好ましい。特に、５５０ｎｍにおける反
射率が２％以下、さらには１％以下であることが好まし
い。反射防止層の各層の厚みは、下記式を満足する光学
薄膜となるように設定すると、この効果が最も高くなる
ので好ましい。It is preferable that the visible light reflection preventing layer has a reflectance of 5% or less at a maximum in a wavelength region of 400 nm to 700 nm. In particular, the reflectance at 550 nm is preferably 2% or less, more preferably 1% or less. It is preferable that the thickness of each layer of the antireflection layer be set so as to be an optical thin film satisfying the following formula, since this effect becomes the highest.
【００２２】[0022]
【数１】ｄ＝０．２５×λ／ｎ （上記式中、ｄは層の厚み(nm)、λは波長(550nm)、ｎ
は層構成物質の屈折率を表わす。）D = 0.25 × λ / n (where d is the layer thickness (nm), λ is the wavelength (550 nm), n
Represents the refractive index of the material constituting the layer. )
【００２３】前記可視光線反射防止層の形成方法として
は、真空蒸着法、反応性蒸着法、イオンビーム蒸着法、
スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマ
ＣＶＤ法等の気相成長法があげられる。また、金属酸化
物は微細粒子化し、バインダーに分散させた塗料あるい
はゾル−ゲル法による湿式成膜方式も使用できる。かか
る方式には、グラビアコート法やスクリーンコート法、
ディップコート法、スピンコート法、スプレーコート法
などによる湿式コート法も使用することができる。ま
た、可視光線反射防止層の耐擦傷性向上のために、基材
フィルムの上にハードコート層を設け、その上に該可視
光線反射防止層を設けても良い。The method for forming the visible light antireflection layer includes a vacuum deposition method, a reactive deposition method, an ion beam deposition method,
A vapor phase growth method such as a sputtering method, an ion plating method, and a plasma CVD method may be used. In addition, a metal oxide is formed into fine particles and dispersed in a binder, or a wet film formation method using a sol-gel method can be used. Such methods include gravure coating and screen coating,
A wet coating method such as a dip coating method, a spin coating method, and a spray coating method can also be used. Further, in order to improve the scratch resistance of the visible light antireflection layer, a hard coat layer may be provided on the base film, and the visible light antireflection layer may be provided thereon.
【００２４】本発明におけるハードコート層は有機系層
でも無機系層でも良いが、有機系層が好ましい。有機系
のハードコート層としては、メラミン樹脂やポリウレタ
ン樹脂等のような架橋構造により、表面硬度を向上し耐
擦傷性を高めるものがあるが、これらは耐スチールウー
ル性、耐候性の面で充分といえない点がある。これらの
改良としてはオルガノポリシロキサンを用いたものがあ
るが、これは乾燥時間が長く、高コストの問題も孕んで
いる。そこで、両者の特性を満たすため、紫外線硬化樹
脂を用いることが好ましい。紫外線硬化は、硬化性樹脂
組成物に紫外線を当てると光開始剤が活性化して、ラジ
カルを発生し、このラジカルが重合性のある不飽和結合
を持った分子を活性化し、重合反応を起こして塗膜の重
合反応を急速に進める。このような硬化性樹脂組成物
は、通常、光重合性プレポリマー、光重合性モノマー、
光開始剤を必須成分としている。更に必要に応じて、増
感剤、顔料、充填剤、不活性有機ポリマー、レベリング
剤、チキソトロープ性付与剤、熱重合禁止剤、溶剤等を
添加しても良い。The hard coat layer in the present invention may be an organic layer or an inorganic layer, but is preferably an organic layer. Some organic hard coat layers have a crosslinked structure, such as melamine resin or polyurethane resin, which improves surface hardness and enhances scratch resistance, but these are sufficient in terms of steel wool resistance and weather resistance. There is a point that cannot be said. These improvements include the use of organopolysiloxanes, which have long drying times and are costly. Therefore, in order to satisfy both characteristics, it is preferable to use an ultraviolet curable resin. In ultraviolet curing, when a curable resin composition is irradiated with ultraviolet light, a photoinitiator is activated to generate radicals, and the radicals activate molecules having a polymerizable unsaturated bond, thereby causing a polymerization reaction. Rapidly promotes the polymerization reaction of the coating film. Such a curable resin composition is usually a photopolymerizable prepolymer, a photopolymerizable monomer,
Photoinitiator is an essential component. If necessary, a sensitizer, a pigment, a filler, an inert organic polymer, a leveling agent, a thixotropic agent, a thermal polymerization inhibitor, a solvent, and the like may be added.
【００２５】前記の光重合性モノマーとしては、官能基
としてアクリロイル基を末端に持つアクリル酸エステル
が好ましく挙げられる。光重合性プレポリマーとして
は、例えばポリエステルアクリレート、ポリウレタンア
クリレート、エポキシアクリレートポリエーテルアクリ
レート、アルキッドアクリレート、ポリールアクリレー
ト等が好ましく挙がられる。重合開始剤としては、紫外
線を吸収して重合反応を開始させるもので、３００〜４
５０ｎｍの紫外線領域の吸収を持っているものが好まし
い。例えば、カルボニル化合物のアセトフェノン類、ベ
ンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイ
ン、ベンゾインエーテル、ベンジルジメチルケタール、
ベンゾイルベンゾエート、イオウ化合物のテトラメチル
チウラムモノサルファイド、チオキサソン類、アゾ化合
物等が挙がられる。As the above-mentioned photopolymerizable monomer, an acrylate ester having an acryloyl group as a functional group at the terminal is preferable. Preferable examples of the photopolymerizable prepolymer include polyester acrylate, polyurethane acrylate, epoxy acrylate polyether acrylate, alkyd acrylate, and polyacrylate. As the polymerization initiator, one that absorbs ultraviolet rays to start a polymerization reaction,
Those having absorption in the ultraviolet region of 50 nm are preferred. For example, acetophenones of carbonyl compounds, benzophenone, Michler's ketone, benzyl, benzoin, benzoin ether, benzyldimethyl ketal,
Benzoyl benzoate, sulfur compounds such as tetramethylthiuram monosulfide, thioxasones, and azo compounds are exemplified.
【００２６】前記硬化性樹脂組成物には、硬度を改善
し、ハードコート層自身の収縮を抑えることができる無
機微細粒子を配合することが好ましい。更に、この無機
微細粒子の表面に官能基を導入するような表面処理を行
なうことで、硬化性樹脂と無機微細粒子の架橋反応が進
み、よりハードコート特性を向上させることができる。
かかる無機微細粒子の平均粒径は１００μｍ以下である
ことが好ましく、また１００ｎｍ以上であることが好ま
しい。無機微細粒子の含有量は２０〜６０ｗｔ％である
ことが好ましい。The curable resin composition preferably contains inorganic fine particles capable of improving hardness and suppressing shrinkage of the hard coat layer itself. Further, by performing a surface treatment for introducing a functional group onto the surface of the inorganic fine particles, a crosslinking reaction between the curable resin and the inorganic fine particles proceeds, and the hard coat characteristics can be further improved.
The average particle size of such inorganic fine particles is preferably 100 μm or less, and more preferably 100 nm or more. The content of the inorganic fine particles is preferably 20 to 60 wt%.
【００２７】前記ハードコート層は、その表面が鉛筆硬
度で４Ｈ以上の硬さを有することが好ましい。また、ハ
ードコート層表面はさらにその上に反射防止層を積層す
るため、表面の濡れ性を良くしておく必要がある。ハー
ドコート表面の水接触角は４０〜８０°であることが好
ましい。この接触角が８０°を超えると積層界面の密着
性不良を起こし、一方４０°未満ではロール上に巻いた
場合ブロッキング現象を起こすことがある。The surface of the hard coat layer preferably has a pencil hardness of 4H or more. In addition, since the anti-reflection layer is further laminated on the surface of the hard coat layer, it is necessary to improve the wettability of the surface. The water contact angle of the hard coat surface is preferably 40 to 80 °. When the contact angle exceeds 80 °, poor adhesion at the lamination interface occurs, while when it is less than 40 °, a blocking phenomenon may occur when wound on a roll.
【００２８】本発明における透明積層フィルムは、前述
したように、透明導電性熱線反射フィルムの少なくとも
片面に可視光線反射防止層を設けた積層フィルムである
が、該可視光線反射防止層は、基材フィルムの、透明導
電性熱線反射層とは反対側のフィルム面の上に設けるこ
とが好ましい。かかる態様の他の例として、透明導電性
熱線反射フィルムと可視光線反射防止層を設けた透明な
可視光反射防止フィルムとを、基材フィルム面同士を接
着剤を介して接合させて透明積層フィルムとする態様を
好ましく挙げることができる。また、前記可視光線反射
防止層は、透明導電性熱線反射フィルムの透明導電性熱
線反射層の上に設けることもでき、この場合が好ましい
こともある。As described above, the transparent laminated film in the present invention is a laminated film in which a visible light-reflecting layer is provided on at least one side of a transparent conductive heat-reflecting film. The film is preferably provided on the film surface opposite to the transparent conductive heat ray reflective layer. As another example of such an embodiment, a transparent conductive heat ray reflective film and a transparent visible light antireflection film provided with a visible light antireflection layer, and a transparent laminated film in which the base film surfaces are bonded to each other via an adhesive. Can be preferably cited. The visible light reflection preventing layer may be provided on the transparent conductive heat ray reflective layer of the transparent conductive heat ray reflective film, and this case may be preferable.
【００２９】前記接着剤としては、紫外線に対して耐久
性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシ
リコーン系粘着剤が好ましい。さらに粘着特性やコスト
の観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。特に剥離強
さの制御が容易なことから、アクリル系粘着剤におい
て、溶剤系およびエマルジョン系の中で溶剤系が好まし
い。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合ポリマーを使
用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用で
きる。例えば、骨格としての主モノマーとしては、エチ
ルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキ
シルアクリレート、オクリルアクリレート等のアクリル
酸エステルを好ましく例示できる。凝集力を向上させる
ためのコモノマーとしては、酢酸ビニル、アクリルニト
リル、スチレン、メチルメタクリレート等を好ましく例
示できる。さらに架橋を促進して安定した粘着力を付与
させ、また水の存在下でもある程度の粘着力を保持する
ための官能基含有モノマーとしては、メタクリル酸、ア
クリル酸、イタコン酸、ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート等を好ましく例示でき
る。The adhesive is preferably one having durability to ultraviolet rays, and is preferably an acrylic adhesive or a silicone adhesive. Further, from the viewpoint of adhesive properties and cost, an acrylic adhesive is preferable. In particular, a solvent-based acrylic pressure-sensitive adhesive is preferably a solvent-based one among a solvent-based one and an emulsion-based one because the peel strength can be easily controlled. When a solution-polymerized polymer is used as the acrylic solvent-based pressure-sensitive adhesive, a known monomer can be used as the monomer. For example, as the main monomer as the skeleton, acrylates such as ethyl acrylate, butyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, and acryl acrylate can be preferably exemplified. Preferable examples of comonomers for improving cohesion include vinyl acetate, acrylonitrile, styrene, methyl methacrylate and the like. Further, functional group-containing monomers for accelerating crosslinking and imparting a stable adhesive force and maintaining a certain adhesive force even in the presence of water include methacrylic acid, acrylic acid, itaconic acid, hydroxyethyl methacrylate, and glycidyl. Methacrylate and the like can be preferably exemplified.
【００３０】粘着剤の製造は、公知の方法で行うことが
できる。例えば、酢酸エチルやトルエン等の有機溶剤の
存在下で、反応釜内に所定の出発物質を投入し、ベンゾ
イルパーオキサイド等のパーオキサイド系やアゾビスイ
ソブチロニトリル等のアゾビス系を触媒として、加熱下
で重合させることで製造できる。分子量を上げるために
は、例えば反応初期にモノマーを一括投入する方法や、
また使用する有機溶剤種では、連鎖移動係数が大きくポ
リマー成長を抑制するトルエンより酢酸エチルを使用す
ると良い。ポリマーの重量平均分子量（Ｍｗ）は４０万
以上が好ましく、５０万以上がさらに好ましい。分子量
が４０万未満では、イソシアネート硬化剤で架橋されて
も、凝集力が十分なものが得られず、荷重をかけての保
持力評価でもすぐに落下したり、またガラス板に貼り合
せた後経時後に剥がした時、粘着剤がガラス板に残るこ
とがある。The production of the pressure-sensitive adhesive can be carried out by a known method. For example, in the presence of an organic solvent such as ethyl acetate or toluene, a predetermined starting material is charged into a reaction vessel, and a peroxide system such as benzoyl peroxide or an azobis system such as azobisisobutyronitrile is used as a catalyst. It can be produced by polymerizing under heating. In order to increase the molecular weight, for example, a method of batch-introducing monomers at the beginning of the reaction,
Further, depending on the kind of the organic solvent to be used, it is preferable to use ethyl acetate rather than toluene, which has a large chain transfer coefficient and suppresses the polymer growth. The weight average molecular weight (Mw) of the polymer is preferably 400,000 or more, more preferably 500,000 or more. If the molecular weight is less than 400,000, even if cross-linked with an isocyanate curing agent, sufficient cohesive strength cannot be obtained. When peeled off after a lapse of time, the adhesive may remain on the glass plate.
【００３１】粘着剤の硬化剤としては、特にアクリル溶
剤系では一般的なイソシアネート系硬化剤やエポキシ系
硬化剤が使用できるが、均一な皮膜を得るためには経時
による粘着剤の流動性と架橋が必要なため、イソシアネ
ート系硬化剤が好ましい。As a curing agent for the pressure-sensitive adhesive, a general isocyanate-based curing agent or an epoxy-based curing agent can be used particularly in the case of an acrylic solvent system. Is required, an isocyanate-based curing agent is preferred.
【００３２】前記粘着剤層には、添加剤として、例えば
安定剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤等を含有さ
せることもできる。粘着剤層の厚みは５〜５０μｍが好
ましい。The pressure-sensitive adhesive layer may contain additives such as a stabilizer, an ultraviolet absorber, a flame retardant, and an antistatic agent. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 5 to 50 μm.
【００３３】粘着剤層の塗布形成方法としては、任意の
公知の方法が使用でき、例えばダイコーター法、グラビ
アコーター法、ブレードコーター法、スプレーコーター
法、エアーナイフコート法、ディップコート法などが挙
げられる。さらに、粘着層の積層前に、必要に応じて密
着性、塗工性向上の目的で、フィルム表面に火炎処理、
コロナ放電処理、プラズマ放電処理などの物理的表面処
理、易接着性の有機または無機樹脂塗布などの化学的表
面処理を行うことが好ましい。Any known method can be used as a method for forming the pressure-sensitive adhesive layer by coating, for example, a die coater method, a gravure coater method, a blade coater method, a spray coater method, an air knife coat method, a dip coat method and the like. Can be Furthermore, before lamination of the adhesive layer, if necessary, for the purpose of improving adhesion and coating properties, the film surface is subjected to a flame treatment,
It is preferable to perform a physical surface treatment such as a corona discharge treatment or a plasma discharge treatment, or a chemical surface treatment such as coating of an easily adhesive organic or inorganic resin.
【００３４】[0034]
【実施例】以下、本発明を実施例により詳述する。な
お、フィルムの特性の測定は、以下の方法にしたがって
実施した。The present invention will be described below in detail with reference to examples. In addition, the measurement of the characteristic of the film was implemented according to the following method.
【００３５】（１）可視光反射率 島津製作所 ＵＶ−３１０１ＰＣ型を用い、透明積層フ
ィルムの反射防止層側に照光して、下記の波長範囲で測
定し、積分可視光反射率をＪＩＳ Ａ５７５９に基づき
計算する。 可視光領域： ４００〜７００ｎｍ(1) Visible light reflectance Using a UV-3101PC type Shimadzu Corporation, illuminating the antireflection layer side of the transparent laminated film, measurement was performed in the following wavelength range, and the integrated visible light reflectance was measured according to JIS A5759. calculate. Visible light region: 400 to 700 nm
【００３６】（２）赤外線反射率 日本分光社製ＦＴ／ＩＲ−７００を用い、透明積層フィ
ルムの導電性熱線反射層側に照光して、フィルムの反射
率を測定し、５〜３０μｍの波長範囲での積分赤外線反
射率を上記（１）の計算法に準じて算出する。(2) Infrared reflectance Using FT / IR-700 manufactured by JASCO Corporation, the transparent heat-reflecting layer side of the transparent laminated film was illuminated to measure the reflectance of the film, and the wavelength range of 5 to 30 μm was measured. Is calculated according to the calculation method of the above (1).
【００３７】（３）表面抵抗値 表面抵抗の測定は、三菱化学(株)製の表面抵抗測定器lo
resta-GP（MCD-T600）を用い、熱線反射層の表面抵抗を
測定する。(3) Surface resistance value The surface resistance was measured using a surface resistance measuring instrument lo manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation.
Using resta-GP (MCD-T600), measure the surface resistance of the heat reflective layer.
【００３８】［実施例１］溶融したポリエチレンテレフ
タレート（固有粘度（オルソクロロフェノール、３５
℃）＝０．６５）をダイより押し出し、常法により冷却
ドラムで冷却して未延伸フィルムとし、次いで縦方向に
９５℃で３．６倍延伸した後、このフィルムを引き続い
て横方向に１２０℃で３．８倍延伸し、次いで２２０℃
で熱固定して、厚さ１５０μｍの二軸延伸ポリエチレン
テレフタレートフィルムを得た。Example 1 Molten polyethylene terephthalate (intrinsic viscosity (orthochlorophenol, 35
° C) = 0.65), extruded from a die, cooled with a cooling drum by a conventional method to give an unstretched film, and then stretched 3.6 times at 95 ° C in the machine direction. Stretched 3.8 times at ℃, then 220 ℃
To obtain a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 150 μm.
【００３９】このフィルムの片面に厚さ１５ｎｍの酸化
チタン層（誘電体層；第１層）を設け、その上に厚さ１
２ｎｍの銀層（金属層；第２層）を設け、さらにその上
に厚さ２５ｎｍの酸化チタン層（誘電体層；第３層）を
設けて透明導電性熱線反射層を形成した。なお、上記３
層はいずれも真空下（５×１０-5ｔｏｒｒ）でのスパッ
タリング法で形成した。A titanium oxide layer (dielectric layer; first layer) having a thickness of 15 nm was provided on one side of this film, and
A 2 nm silver layer (metal layer; second layer) was provided, and a 25 nm thick titanium oxide layer (dielectric layer; third layer) was further provided thereon to form a transparent conductive heat ray reflective layer. The above 3
Each layer was formed by a sputtering method under vacuum (5 × 10 −5 torr).
【００４０】上記透明導電性熱線反射層とは反対側の基
材フィルムの表面に、ポリエステル系樹脂のアンカーコ
ートを塗工し、その上にハードコート剤として、無機微
粒子成分を含有するアクリル系の紫外線硬化型樹脂（Ｊ
ＳＲ社製Z7500）を塗工して、厚さ５μｍのハードコー
ト層（塗膜）を形成させた。An anchor coat of a polyester resin is applied to the surface of the base film opposite to the transparent conductive heat ray reflective layer, and an acrylic coating containing an inorganic fine particle component as a hard coat agent is applied thereon. UV curable resin (J
SR Co., Ltd., Z7500) was applied to form a 5 μm thick hard coat layer (coating film).
【００４１】さらに該ハードコート層の上に、TiOx(n=
1.75，d=78nm)、 TiOx(n=2.0，d=69nm)、SiO2(n=1.48，
d=95nm)の、３層の膜を積層して可視光線反射防止膜
（層）を設けた。該可視光線反射防止膜の上には、さら
に、防汚染層として、パーフルオロアルキル基含有アク
リル樹脂層を厚さ５nmとなるよう塗工した。得られた透
明積層フィルムの特性は表１に示す。Further, on the hard coat layer, TiOx (n =
1.75, d = 78 nm), TiOx (n = 2.0, d = 69 nm), SiO 2 (n = 1.48,
d = 95 nm) to form a visible light antireflection film (layer) by laminating three layers. An acrylic resin layer containing a perfluoroalkyl group was further coated on the visible light antireflection film as a stain-proofing layer to a thickness of 5 nm. Table 1 shows the properties of the obtained transparent laminated film.
【００４２】［実施例２］二軸延伸ポリエチレンテレフ
タレートフィルム（基材フィルム）の厚さを５０μｍに
変更する以外は実施例１と同様に行なって片面に透明導
電性熱線反射層を設けた透明導電性熱線反射フィルムを
得た。Example 2 The same procedure as in Example 1 was carried out except that the thickness of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film (base film) was changed to 50 μm. A heat ray reflective film was obtained.
【００４３】一方、実施例１での二軸延伸フィルムの製
法と同じ方法で厚さ５０μｍの二軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフィルム（基材フィルム）を得、この片面
に実施例１と同じようにアンカー層、ハードコート層、
可視光線反射防止層、防汚染層をこの順に塗工して可視
光線反射防止フィルムを作成した。On the other hand, a biaxially oriented polyethylene terephthalate film (base film) having a thickness of 50 μm was obtained in the same manner as in the production of the biaxially oriented film in Example 1, and an anchor layer was formed on one side in the same manner as in Example 1. , Hard coat layer,
The visible light anti-reflection layer and the anti-contamination layer were applied in this order to prepare a visible light anti-reflection film.
【００４４】前記の透明導電性熱線反射フィルムと可視
光線反射防止フィルムとの、基材フィルム面同士をウレ
タン系接着剤を用いて貼り合わせ、透明積層フィルムを
得た。この透明積層フィルムの特性は表１に示す。The transparent conductive heat ray reflective film and the visible ray anti-reflection film were bonded together with the base film surfaces using a urethane-based adhesive to obtain a transparent laminated film. The properties of this transparent laminated film are shown in Table 1.
【００４５】［比較例１］可視光線反射防止層を設けな
い以外は実施例１と同様に行なって透明積層フィルムを
得た。この透明積層フィルムの特性は表１に示す。Comparative Example 1 A transparent laminated film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the visible light reflection preventing layer was not provided. The properties of this transparent laminated film are shown in Table 1.
【００４６】[0046]
【表１】 [Table 1]
【００４７】[0047]
【発明の効果】本発明によれば、熱線反射効果と可視光
線反射防止効果にすぐれ、室内灯等の映り込みを防止し
て優れた視認性を奏し、かつまた優れた導電性（低い表
面抵抗値）による電磁波遮蔽効を有する透明積層フィル
ムを提供することができる。According to the present invention, the heat ray reflection effect and the visible light reflection prevention effect are excellent, and the reflection of an interior light or the like is prevented to provide excellent visibility, and the excellent conductivity (low surface resistance). ) Can be provided.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AA17B AA17C AA17D AA20B AA21B AA25B AA27B AA28B AB01A AB01C AB01D AB10A AB17A AB24A AB25A AB31A AK01C AK01D AK25 AK42 AT00 AT00E BA05 BA07 BA26 CA23 CC02 EH66A EH66B GB07 GB31 GB41 GB71 JD10 JG01B JG05B JN01 JN01A JN01B JN01C JN01D JN06 JN18C JN18D 5E321 AA23 AA46 BB23 BB25 BB44 CC16 GG05 GH01 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page F term (reference) 4F100 AA17B AA17C AA17D AA20B AA21B AA25B AA27B AA28B AB01A AB01C AB01D AB10A AB17A AB24A AB25A AB31A AK01C AK01D AK25 AK42 AT00 AT00E00 GB01 E26 GB07 J02 JN01A JN01B JN01C JN01D JN06 JN18C JN18D 5E321 AA23 AA46 BB23 BB25 BB44 CC16 GG05 GH01
Claims (6)
も片面に可視光線反射防止層を積層してなる積層フィル
ムであって、可視光線反射率が５％以下、赤外線反射率
が７５％以上であることを特徴とする透明積層フィル
ム。1. A laminated film comprising a transparent conductive heat ray reflective film and a visible ray antireflection layer laminated on at least one surface thereof, wherein the visible ray reflectivity is 5% or less and the infrared ray reflectivity is 75% or more. A transparent laminated film characterized by the following.
体層を積層してなる層であり、該金属層がＡｕ、Ａｇ、
ＣｕおよびＡｌから選ばれる１種以上の金属または合金
からなる層であり、かつ該誘電体層がＴｉＯ2、Ｔａ2Ｏ
5、ＺｒＯ2、ＳｎＯ2、ＳｉＯ、ＳｉＯ2、Ｉｎ2Ｏ3およ
びＺｎＯから選ばれる１種以上からなる層である請求項
１記載の透明積層フィルム。2. The transparent conductive heat ray reflective layer is a layer formed by laminating a metal layer and a dielectric layer, and the metal layer is made of Au, Ag,
A layer made of one or more metals or alloys selected from Cu and Al, and the dielectric layer is made of TiO 2 , Ta 2 O
5, a transparent laminated film of ZrO 2, SnO 2, SiO, according to claim 1, wherein a layer comprising one or more selected from SiO 2, In 2 O 3 and ZnO.
０Ω／□以下である請求項１または２記載の透明積層フ
ィルム。3. A transparent conductive heat ray reflective layer having a surface resistance of 1
3. The transparent laminated film according to claim 1, which has a value of 0 Ω / □ or less.
物、有機樹脂またはこれらの２種以上の混合物より形成
され、低屈折率層と高屈折率層を有し、かつ最表層が低
屈折率層で構成されている請求項１記載の透明積層フィ
ルム。4. The visible light antireflection layer is formed of a metal, a metal oxide, an organic resin, or a mixture of two or more thereof, has a low refractive index layer and a high refractive index layer, and has a low outermost layer. The transparent laminated film according to claim 1, which is constituted by a refractive index layer.
の、透明導電性熱線反射層とは反対側のフィルム面の上
に設けられている請求項１または４記載の透明積層フィ
ルム。5. The transparent laminated film according to claim 1, wherein the visible light antireflection layer is provided on the film surface of the substrate film opposite to the transparent conductive heat ray reflection layer.
射フィルムと可視光線反射防止層を設けた透明な可視光
反射防止フィルムの基材フィルム面同士を接着剤を介し
て接合させた積層フィルムである請求項１または５記載
の透明積層フィルム。6. The transparent laminated film is a laminated film in which the base film surfaces of a transparent conductive heat reflection film and a transparent visible light reflection prevention film provided with a visible light reflection prevention layer are bonded to each other via an adhesive. The transparent laminated film according to claim 1 or 5.
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|---|---|
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Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006301487A (en) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Nidec Copal Corp | Near-infrared ray cut filter |
| WO2009016955A1 (en) * | 2007-07-31 | 2009-02-05 | Central Glass Company, Limited | Laminated glass having plastic film inserted therein |
| JP2009035438A (en) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Central Glass Co Ltd | Infrared ray reflective laminated glass |
| JP2009157273A (en) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Nippon Shokubai Co Ltd | Light selective transmission filter |
| WO2009148045A1 (en) * | 2008-06-06 | 2009-12-10 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | Heat shielding resin base and construction member using the same |
| WO2010090250A1 (en) * | 2009-02-05 | 2010-08-12 | セントラル硝子株式会社 | Laminated glass with plastic film insert |
| WO2011152147A1 (en) * | 2010-06-03 | 2011-12-08 | 富士フイルム株式会社 | Heat ray shielding material |
| JP2013208718A (en) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Tokai Rubber Ind Ltd | Transparent laminated film |
| WO2013151136A1 (en) * | 2012-04-05 | 2013-10-10 | コニカミノルタ株式会社 | Infrared-shielding film and infrared-shielding element |
| WO2013191285A1 (en) * | 2012-06-21 | 2013-12-27 | 日東電工株式会社 | Light transmitting substrate with infrared light reflecting function |
| JP2015118281A (en) * | 2013-12-18 | 2015-06-25 | 富士フイルム株式会社 | Heat ray shielding material and window glass |
| JP2018106054A (en) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Film for glass, and glass |
| KR20180132302A (en) | 2017-06-02 | 2018-12-12 | 코오롱글로벌 주식회사 | Substrate with an infrared reflective multilayer film, and method for manufacturing the same |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR101983629B1 (en) | 2011-06-27 | 2019-05-29 | 도레이 카부시키가이샤 | Laminate film and automotive window glass using same |
| WO2013137288A1 (en) | 2012-03-16 | 2013-09-19 | 東レ株式会社 | Multi-layer laminated film |
| WO2018012252A1 (en) | 2016-07-15 | 2018-01-18 | 東レ株式会社 | Film and layered body |
-
2000
- 2000-04-28 JP JP2000130018A patent/JP3901911B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006301487A (en) * | 2005-04-25 | 2006-11-02 | Nidec Copal Corp | Near-infrared ray cut filter |
| WO2009016955A1 (en) * | 2007-07-31 | 2009-02-05 | Central Glass Company, Limited | Laminated glass having plastic film inserted therein |
| JP2009035438A (en) * | 2007-07-31 | 2009-02-19 | Central Glass Co Ltd | Infrared ray reflective laminated glass |
| JP2009157273A (en) * | 2007-12-27 | 2009-07-16 | Nippon Shokubai Co Ltd | Light selective transmission filter |
| WO2009148045A1 (en) * | 2008-06-06 | 2009-12-10 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | Heat shielding resin base and construction member using the same |
| US9012015B2 (en) | 2009-02-05 | 2015-04-21 | Central Glass Company, Limited | Laminated glass with plastic film insert |
| JP2010180089A (en) * | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Central Glass Co Ltd | Laminated glass with plastic film insert |
| WO2010090250A1 (en) * | 2009-02-05 | 2010-08-12 | セントラル硝子株式会社 | Laminated glass with plastic film insert |
| WO2011152147A1 (en) * | 2010-06-03 | 2011-12-08 | 富士フイルム株式会社 | Heat ray shielding material |
| JP2011253093A (en) * | 2010-06-03 | 2011-12-15 | Fujifilm Corp | Heat ray shield |
| JP2013208718A (en) * | 2012-03-30 | 2013-10-10 | Tokai Rubber Ind Ltd | Transparent laminated film |
| WO2013151136A1 (en) * | 2012-04-05 | 2013-10-10 | コニカミノルタ株式会社 | Infrared-shielding film and infrared-shielding element |
| JPWO2013151136A1 (en) * | 2012-04-05 | 2015-12-17 | コニカミノルタ株式会社 | Infrared shielding film and infrared shielding body |
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| JP2015118281A (en) * | 2013-12-18 | 2015-06-25 | 富士フイルム株式会社 | Heat ray shielding material and window glass |
| JP2018106054A (en) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | Film for glass, and glass |
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