JP2001308037A - Method for dicing - Google Patents

Method for dicing

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JP2001308037A
JP2001308037A JP2000126034A JP2000126034A JP2001308037A JP 2001308037 A JP2001308037 A JP 2001308037A JP 2000126034 A JP2000126034 A JP 2000126034A JP 2000126034 A JP2000126034 A JP 2000126034A JP 2001308037 A JP2001308037 A JP 2001308037A
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JP
Japan
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water
wafer
cutting
chip
dicing
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Japanese (ja)
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Akinori Shindo
昭則 進藤
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for dicing, capable of preventing an electrical short circuit of an element in a semiconductor chip by sufficiently oxidizing a cut surface of a wafer, in the case of cutting the wafer and dividing the wafer into semiconductor chips. SOLUTION: The method for dicing comprises the step of cutting the wafer 5, formed with a semiconductor element into individual semiconductor chips 5a, while applying cutting water to a dicing saw 7. In this case, as the water, an oxidized water for oxidizing the cut surface of the after is used. As the oxidized water, it is preferred to use hydrogen peroxide water, oxygen-dissolved water, ozone-added water or the like. Thus, the cut surface of the chip can be oxidized sufficiently.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、ウエハをチップに
分離するダイシング方法に関する。特には、チップ内の
素子部が電気的に短絡することを防止できるダイシング
方法関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a dicing method for separating a wafer into chips. In particular, the present invention relates to a dicing method capable of preventing an element portion in a chip from being electrically short-circuited.

【0002】[0002]

【従来の技術】以下、従来のダイシング方法について図
1を参照しつつ説明する。なお、図1は、本発明の実施
の形態によるダイシング方法を説明する図であるが、こ
こでは説明の便宜上用いる。
2. Description of the Related Art A conventional dicing method will be described below with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram illustrating a dicing method according to an embodiment of the present invention, which is used here for convenience of description.

【0003】まず、ダイシングを行うウエハ5の裏面を
粘着シート3に貼り付け、この粘着シート3をフラット
リング1に固定する。この粘着シート3は、個々に分離
した半導体チップ5aが飛散しないように、あるいはダ
イシング後の取扱いが容易なようにするためのものであ
る。
[0003] First, the back surface of a wafer 5 to be diced is attached to an adhesive sheet 3, and the adhesive sheet 3 is fixed to the flat ring 1. The pressure-sensitive adhesive sheet 3 is provided to prevent the individually separated semiconductor chips 5a from scattering or to facilitate handling after dicing.

【0004】次に、円盤状の切削刃(ダイシングソー)
7を矢印のように回転させ、このダイシングソー7に切
削水を吹き付けながら、ウエハ5のスクライブラインに
沿って切断する。このようにして個々のチップ5aに分
離する。
Next, a disk-shaped cutting blade (dicing saw)
The dicing saw 7 is rotated as indicated by an arrow, and the wafer 5 is cut along a scribe line while spraying cutting water on the dicing saw 7. Thus, the chips are separated into individual chips 5a.

【0005】切削水としては、純水又は純水に二酸化炭
素ガスを溶け込ませた液体を用いている。切削水を用い
るのは、切削時に発生する熱によるウエハ5の温度上昇
を抑制すると共に静電気対策のためである。静電気対策
を施さないと、ダイシングによるウエハに静電気が溜ま
り、その静電気がウエハ5又はチップ5aから放電する
時に内部回路等の半導体素子が破壊されてしまうおそれ
があるからである。
[0005] As the cutting water, pure water or a liquid obtained by dissolving carbon dioxide gas in pure water is used. The reason for using the cutting water is to suppress the temperature rise of the wafer 5 due to the heat generated at the time of cutting and to take measures against static electricity. If no countermeasures against static electricity are taken, static electricity accumulates on the wafer due to dicing, and when the static electricity is discharged from the wafer 5 or the chip 5a, semiconductor elements such as internal circuits may be destroyed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、ウエハをダ
イシングした後の切削部分はシリコン基板が露出するの
で、チップ内部の素子との絶縁を確保するため、その切
断面を酸化しておく必要があり、ダイシング時に切削水
が切断面にかかることによって該切断面を酸化してい
る。
Since the silicon substrate is exposed at the cut portion after dicing the wafer, it is necessary to oxidize the cut surface in order to secure insulation from elements inside the chip. In addition, the cutting surface is oxidized by cutting water sprayed on the cutting surface during dicing.

【0007】しかし、上記従来のダイシング方法で切削
水として用いている純水や二酸化炭素ガスを溶け込ませ
た液体は、酸化力が十分ではないため、ウエハの切断面
を十分に酸化することができない。従って、切断面にお
いてチップの能動素子部が露出したような状態となり、
デバイス構造や組立、実装の構造によっては切断面にお
いて能動素子部と電気的に短絡してしまうことがある。
However, pure water or a liquid in which carbon dioxide gas is dissolved, which is used as cutting water in the above-mentioned conventional dicing method, has insufficient oxidizing power, so that the cut surface of the wafer cannot be sufficiently oxidized. . Therefore, the active element portion of the chip is exposed on the cut surface,
Depending on the device structure, assembling, and mounting structures, the cut surface may be electrically short-circuited with the active element portion.

【0008】具体的には、例えば、チップ端部に発生す
るAlのかえりが切断面に接触することにより、チップ
内の能動素子部が短絡することがある。また、図2に示
すように、ダイボンディング時の導電性接着剤13の這
い上がりによりチップ5aの切断面が短絡することがあ
る。
More specifically, for example, when the burrs of Al generated at the end of the chip come into contact with the cut surface, the active element in the chip may be short-circuited. Further, as shown in FIG. 2, the cut surface of the chip 5a may be short-circuited due to the rise of the conductive adhesive 13 during die bonding.

【0009】図2は、従来のダイシング方法を用いて分
割したチップをリードフレームにダイボンディングした
状態を示す断面図である。
FIG. 2 is a sectional view showing a state in which a chip divided by a conventional dicing method is die-bonded to a lead frame.

【0010】リードフレーム11のダイパッド11a上
には導電性接着剤13を介してチップ5aがダイボンデ
ィングされている。このチップ5a上の電極パッドとリ
ード11bとはボンディングワイヤ15により電気的に
接続されている。
A chip 5a is die-bonded on a die pad 11a of the lead frame 11 via a conductive adhesive 13. The electrode pads on the chip 5a and the leads 11b are electrically connected by bonding wires 15.

【0011】ダイパッド11aにチップ5aをボンディ
ングした際、余分な導電性接着剤13が盛り上がること
によってチップ5aの切断面(端面)に接触し、その結
果、チップ内の能動素子部が電気的に短絡してしまう。
このような短絡を避けるためにチップの切断面を十分に
酸化して絶縁を確保しておく。
When the chip 5a is bonded to the die pad 11a, the excess conductive adhesive 13 bulges into contact with the cut surface (end surface) of the chip 5a, and as a result, the active element portion in the chip is electrically short-circuited. Resulting in.
In order to avoid such a short circuit, the cut surface of the chip is sufficiently oxidized to secure insulation.

【0012】本発明は上記のような事情を考慮してなさ
れたものであり、その目的は、ウエハを切断して半導体
チップに分割する際にその切断面を十分に酸化すること
により、チップ内の素子部が電気的に短絡することを防
止できるダイシング方法を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to sufficiently oxidize a cut surface when a wafer is cut and divided into semiconductor chips so that the inside of the chip can be reduced. It is an object of the present invention to provide a dicing method capable of preventing an element portion from being electrically short-circuited.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明に係るダイシング
方法は、半導体素子が形成されたウエハを、切削刃に切
削水をかけながら個々の半導体チップに切断するダイシ
ング方法であって、上記切削水がウエハの切断面を酸化
する酸化水であることを特徴とする。
A dicing method according to the present invention is a dicing method for cutting a wafer on which semiconductor elements are formed into individual semiconductor chips while applying cutting water to a cutting blade. Is oxidized water that oxidizes the cut surface of the wafer.

【0014】上記ダイシング方法によれば、切削刃に酸
化力の強い酸化水をかけながら、ウエハを個々の半導体
チップに切断しているため、チップ切断面にも酸化水が
かかり、ダイシング後のチップ切断面を十分に酸化する
ことができる。これにより、チップ内部の能動素子と外
部とを完全に絶縁することができる。従って、種々のデ
バイス構造や組立、実装の構造に対してもチップ切断面
において能動素子部と電気的に短絡することを防止する
ことができる。
According to the above-mentioned dicing method, the wafer is cut into individual semiconductor chips while oxidizing water having a strong oxidizing power is applied to the cutting blade. The cut surface can be sufficiently oxidized. Thereby, the active element inside the chip and the outside can be completely insulated. Therefore, even for various device structures, assembling and mounting structures, it is possible to prevent an electrical short circuit with the active element portion on the chip cutting surface.

【0015】また、本発明に係るダイシング方法におい
て、上記酸化水は、過酸化水素水又は酸素溶存水を含む
ものであることが好ましい。
In the dicing method according to the present invention, it is preferable that the oxidized water contains hydrogen peroxide or oxygen-dissolved water.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施の形態について説明する。図1は、本発明の実施の
形態によるダイシング方法を説明するための断面図であ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view illustrating a dicing method according to an embodiment of the present invention.

【0017】まず、ダイシングを行うウエハ5の裏面を
粘着シート3に貼り付け、この粘着シート3をフラット
リング1に固定する。この粘着シート3は、個々に分離
した半導体チップ5aが飛散しないように、あるいはダ
イシング後の取扱いが容易なようにするためのものであ
る。
First, the back surface of the wafer 5 to be diced is attached to the adhesive sheet 3, and the adhesive sheet 3 is fixed to the flat ring 1. The pressure-sensitive adhesive sheet 3 is provided to prevent the individually separated semiconductor chips 5a from scattering or to facilitate handling after dicing.

【0018】次に、円盤状の切削刃(ダイシングソー)
7を矢印のように回転させ、図示せぬノズルから吐出さ
せた切削水(図示せず)をダイシングソー7に吹き付け
ながら、ウエハ5のスクライブラインに沿って切断す
る。このようにして個々のチップ5aに分離する。
Next, a disk-shaped cutting blade (dicing saw)
7 is rotated as indicated by an arrow, and cutting water (not shown) discharged from a nozzle (not shown) is blown onto the dicing saw 7 to cut the wafer 5 along a scribe line. Thus, the chips are separated into individual chips 5a.

【0019】ここで、切削水としては酸化力の強い酸化
水を用いる。また、酸化水としては、例えば過酸化水素
水、酸素溶存水、オゾン添加水などを用いることが好ま
しい。
Here, oxidized water having a strong oxidizing power is used as the cutting water. As the oxidized water, it is preferable to use, for example, hydrogen peroxide water, oxygen-dissolved water, ozone-added water, and the like.

【0020】上記のような酸化水を用いることにより、
チップの切断面を効率良く酸化するのみでなく、切削時
に発生する熱によるウエハ5の温度上昇を抑制すると共
にダイシング時に発生する静電気を防止することができ
る。
By using the oxidized water as described above,
Not only can the cut surface of the chip be efficiently oxidized, but also the temperature rise of the wafer 5 due to heat generated during cutting can be suppressed, and static electricity generated during dicing can be prevented.

【0021】上記実施の形態によれば、ダイシングソー
7に酸化力の高い酸化水をかけながら、ウエハ5を個々
の半導体チップ5aに切断しているため、チップ切断面
にも酸化水がかかり、ダイシング後のチップ切断面を十
分に酸化することができる。これにより、切断面を外部
と電気的に絶縁し、チップ内部の能動素子と外部とを完
全に絶縁することができる。従って、種々のデバイス構
造や組立、実装の構造に対してもチップ切断面において
能動素子部と電気的に短絡することを防止できる。つま
り、図2に示すような組立構造の場合にチップ端面に導
電性接着剤が這い上がっても、従来のダイシング方法を
用いた場合のような電気的不具合が発生することがな
い。
According to the above embodiment, since the wafer 5 is cut into individual semiconductor chips 5a while oxidizing water having a high oxidizing power is applied to the dicing saw 7, the oxidizing water is also applied to the chip cutting surface. The cut surface of the chip after dicing can be sufficiently oxidized. As a result, the cut surface can be electrically insulated from the outside, and the active element inside the chip can be completely insulated from the outside. Therefore, it is possible to prevent an electrical short circuit with the active element portion on the chip cutting surface for various device structures, assembling and mounting structures. That is, in the case of the assembly structure as shown in FIG. 2, even if the conductive adhesive creeps on the chip end surface, the electric trouble unlike the case of using the conventional dicing method does not occur.

【0022】尚、本発明は上記実施の形態に限定され
ず、種々変更して実施することが可能である。例えば、
十分な酸化力を有する酸化水であれば、本実施の形態で
記載した酸化水以外の酸化水を用いることも可能であ
る。
The present invention is not limited to the above embodiment, but can be implemented with various modifications. For example,
As long as the oxidizing water has a sufficient oxidizing power, oxidizing water other than the oxidizing water described in the present embodiment can be used.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、切
削刃に酸化力の強い酸化水をかけながら、ウエハを個々
の半導体チップに切断している。したがって、そのダイ
シングの際にチップ切断面を十分に酸化することがで
き、それにより、チップ内の素子部が電気的に短絡する
ことを防止できる。
As described above, according to the present invention, the wafer is cut into individual semiconductor chips while oxidizing water having a strong oxidizing power is applied to the cutting blade. Therefore, the cut surface of the chip can be sufficiently oxidized at the time of dicing, thereby preventing the element portion in the chip from being electrically short-circuited.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態によるダイシング方法を説
明するための断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view for explaining a dicing method according to an embodiment of the present invention.

【図2】従来のダイシング方法を用いて分割したチップ
をリードフレームにダイボンディングした状態を示す断
面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state in which a chip divided using a conventional dicing method is die-bonded to a lead frame.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フラットリング 3 粘着シート 5 ウエハ 5a 半導体チップ 7 切削刃(ダイシングソー) 11 リードフレーム 11a ダイパッド 13 導電性接着剤 15 ボンディングワイヤ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Flat ring 3 Adhesive sheet 5 Wafer 5a Semiconductor chip 7 Cutting blade (dicing saw) 11 Lead frame 11a Die pad 13 Conductive adhesive 15 Bonding wire

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体素子が形成されたウエハを、切削
刃に切削水をかけながら個々の半導体チップに切断する
ダイシング方法であって、 上記切削水がウエハの切断面を酸化する酸化水であるこ
とを特徴とするダイシング方法。
1. A dicing method for cutting a wafer on which semiconductor elements are formed into individual semiconductor chips while applying cutting water to a cutting blade, wherein the cutting water is oxidizing water for oxidizing a cut surface of the wafer. A dicing method comprising:
【請求項2】 上記酸化水は、過酸化水素水又は酸素溶
存水を含むものであることを特徴とする請求項1記載の
ダイシング方法。
2. The dicing method according to claim 1, wherein the oxidized water contains hydrogen peroxide water or oxygen-dissolved water.
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