JP2001305519A - Method for manufacturing liquid crystal display device - Google Patents

Method for manufacturing liquid crystal display device

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JP2001305519A
JP2001305519A JP2000121823A JP2000121823A JP2001305519A JP 2001305519 A JP2001305519 A JP 2001305519A JP 2000121823 A JP2000121823 A JP 2000121823A JP 2000121823 A JP2000121823 A JP 2000121823A JP 2001305519 A JP2001305519 A JP 2001305519A
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JP
Japan
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microlens
pixel electrode
substrate
alignment
pixel
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Application number
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Japanese (ja)
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Hironori Senda
裕能 千田
Hideyo Nozaki
英世 野崎
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance bonding accuracy of a pixel electrode substrate and a microlens substrate, and to eliminate an inspection process which is complicated and requires cost when the pixel electrode substrate and microlens substrate which composes a liquid crystal display panel are stuck together. SOLUTION: In a method manufacturing a liquid crystal display device including a process for positioning and sticking together the pixel electrode substrate 2 on which a pixel electrode pattern 1 is formed, and the microlens substrate 4 on which a microlens pattern 3 corresponding to the pixel electrode pattern 1 is formed, an alignment reference point 1b in the pixel in the pixel electrode pattern 1 of the electrode substrate 2 and an alignment reference point 3b in the microlens in the microlens pattern 3 of the microlens substrate 4 are positioned.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、画素電極パターン
が形成された画素電極基板と、画素電極パターンに対応
したマイクロレンズパターンが形成されたマイクロレン
ズ基板とを位置合わせして貼り合わせる工程を含む液晶
表示装置の製造方法、及び貼り合わせ装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention includes a step of aligning and bonding a pixel electrode substrate on which a pixel electrode pattern is formed and a microlens substrate on which a microlens pattern corresponding to the pixel electrode pattern is formed. The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device and a bonding device.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示パネルの一種として、画素電極
パターンが形成された画素電極基板と画素電極パターン
に対応したマイクロレンズパターンが形成されたマイク
ロレンズ基板とを貼り合わせたものが広く使用されてい
る。
2. Description of the Related Art A type of liquid crystal display panel is widely used in which a pixel electrode substrate on which a pixel electrode pattern is formed and a microlens substrate on which a microlens pattern corresponding to the pixel electrode pattern are formed are bonded. I have.

【0003】従来、画素電極基板とマイクロレンズ基板
とを貼り合わせる場合、画素電極基板の画素電極パター
ン外に予め設けられたアライメントマークと、マイクロ
レンズ基板のマイクロレンズパターン外に予め設けられ
たアライメントマークにより位置合わせを行い、両者を
貼り合わせている。この場合、マイクロレンズ基板を使
用しているために、非常に高い位置合わせ精度が要求さ
れている。具体的には、画素電極基板を定盤に保持さ
せ、一方、マイクロレンズ基板をホルダーに保持させ、
それぞれのアライメントマークに対し、定盤に開けられ
た穴に設置した光源からの光を照射し、透過してきた光
をホルダーの上方に設けられた顕微鏡とカメラとからな
るマーク検出手段で検出し、得られた検出データに基づ
き、定盤及びホルダーのいずれかに設けられたボールネ
ジ機構や回転偏心カム等の位置合わせ機構により定盤と
ホルダーとを相対的に上下方向、前後左右方向及びθ方
向に移動させて位置合わせを行い、その後で両基板を加
圧し、樹脂系の固定剤により貼り合わせている。
Conventionally, when a pixel electrode substrate and a microlens substrate are bonded to each other, an alignment mark provided before the pixel electrode pattern of the pixel electrode substrate and an alignment mark provided outside the microlens pattern of the microlens substrate are provided. And the two are pasted together. In this case, since a microlens substrate is used, very high positioning accuracy is required. Specifically, the pixel electrode substrate is held on a surface plate, while the microlens substrate is held on a holder,
Each alignment mark is irradiated with light from a light source installed in a hole formed in the surface plate, and the transmitted light is detected by a mark detection means including a microscope and a camera provided above the holder, Based on the obtained detection data, the surface plate and the holder are relatively moved in the vertical direction, the front-rear left-right direction, and the θ direction by a positioning mechanism such as a ball screw mechanism or a rotary eccentric cam provided on one of the surface plate and the holder. The substrates are moved and aligned, and then both substrates are pressed and bonded with a resin-based fixing agent.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
画素電極基板とマイクロレンズ基板との貼り合わせの場
合、それぞれのアライメントマークを検出し、それぞれ
検出したアライメントマークを位置合わせ機構により所
定の誤差範囲内に互いにマッチングさせた後に、両基板
を加圧し、貼り合わせて固定するためには、加圧時のス
トレスが定盤やホルダーに加わり、位置合わせ機構にお
ける弾性変形や駆動系の捩れ及び駆動系の動力伝達系に
おける変形等に基づく位置ズレと、基板自体にアライメ
ントマークを形成する際の誤差に基づく位置ズレとが生
じるという問題がある。更に、加圧時における外来振動
に基づく位置ズレも生じる。このため、貼り合わせた後
の液晶表示パネルは、表示パターン用画素レベルにおい
てもズレが生じる場合がある。従って、貼り合わせた後
の両基板の貼り合わせの状態を検査する煩雑でコストの
かかる検査工程が必須であり、この検査工程において不
良品として判定される液晶表示パネルも少なくない。
However, in the conventional case of bonding a pixel electrode substrate and a microlens substrate, each alignment mark is detected, and the detected alignment mark is set within a predetermined error range by a positioning mechanism. After the two substrates are matched with each other, the two substrates are pressurized, and the substrates are fixed together by applying pressure to the platen and holder, causing elastic deformation in the alignment mechanism, twisting of the drive system, and the drive system. There is a problem that a position shift based on a deformation or the like in the power transmission system and a position shift based on an error in forming an alignment mark on the substrate itself occur. Further, a positional shift due to external vibration during pressurization also occurs. For this reason, in the liquid crystal display panel after the bonding, there is a case where a deviation occurs even at the pixel level for the display pattern. Therefore, a complicated and costly inspection process for inspecting the state of bonding of the two substrates after the bonding is indispensable, and there are not a few liquid crystal display panels which are determined to be defective in this inspection process.

【0005】本発明は、従来の技術の課題を解決しよう
とするものであり、画素電極基板とマイクロレンズ基板
とを貼り合わせる際に、それらの貼り合わせ精度を向上
させ、煩雑でコストのかかる検査工程を省略できるよう
にすることを目的とする。
An object of the present invention is to solve the problems of the prior art. When a pixel electrode substrate and a microlens substrate are bonded to each other, the accuracy of the bonding is improved, and a complicated and costly inspection is performed. The purpose is to be able to omit the process.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、従来の位置
合わせが、最も位置合わせしたい画素電極パターンとマ
イクロレンズパターンとに基づかず、画素電極基板の画
素電極パターン外のアライメントマークとマイクロレン
ズ基板のマイクロレンズパターン外のアライメントマー
クに基づいて行われているために、その精度に問題が生
じていることを見出し、本発明を完成させるに至った。
SUMMARY OF THE INVENTION The present inventor has proposed that the conventional alignment is not based on the pixel electrode pattern and the microlens pattern to be most aligned, but the alignment mark and the microlens outside the pixel electrode pattern on the pixel electrode substrate. The present inventors have found that a problem arises in the accuracy of the alignment mark based on the alignment mark outside the microlens pattern on the substrate, and have completed the present invention.

【0007】即ち、本発明は、画素電極パターンが形成
された画素電極基板と、画素電極パターンに対応したマ
イクロレンズパターンが形成されたマイクロレンズ基板
とを位置合わせして貼り合わせる工程を含む液晶表示装
置の製造方法において、画素電極基板の画素電極パター
ン内の画素内アライメント基準点とマイクロレンズ基板
のマイクロレンズパターン内のマイクロレンズ内アライ
メント基準点とを位置合わせすることを特徴とする製造
方法を提供する。このように、最も位置合わせしたい画
素電極パターン内の画素内アライメント基準点とマイク
ロレンズパターン内のマイクロレンズ内アライメント基
準点とを直接に位置合わせするので、精度の高い位置合
わせが可能となる。また、位置合わせを繰り返しなが
ら、画素電極基板とマイクロレンズ基板とを固定化すれ
ば、位置合わせ精度をより高めることが可能となるとと
もに、固定化後の検査工程を省略することも可能とな
る。
That is, the present invention provides a liquid crystal display including a step of aligning and bonding a pixel electrode substrate on which a pixel electrode pattern is formed and a microlens substrate on which a microlens pattern corresponding to the pixel electrode pattern is formed. A method of manufacturing a device, comprising: aligning an alignment reference point in a pixel in a pixel electrode pattern of a pixel electrode substrate with an alignment reference point in a microlens in a microlens pattern of a microlens substrate. I do. In this manner, since the alignment reference point in the pixel in the pixel electrode pattern to be most aligned and the alignment reference point in the microlens in the microlens pattern are directly aligned, highly accurate alignment is possible. Further, if the pixel electrode substrate and the microlens substrate are fixed while repeating the alignment, the alignment accuracy can be further improved, and the inspection step after the fixing can be omitted.

【0008】本発明において、画素内アライメント基準
点としては、画素電極パターンの四隅の4つの画素電極
(好ましくはそれぞれの中心点)から形成された対角線
の交点とし、また、マイクロレンズ内アライメント基準
点としては、マイクロレンズパターンの四隅の4つのマ
イクロレンズ(好ましくはそれぞれの中心点)から形成
される対角線の交点とすることが、全体の精度の均一化
を図る上で好ましい。この場合、画素電極パターンの四
隅の4つの画素のそれぞれの画素中心点は、画像エッジ
処理により容易に求めることができ、マイクロレンズ中
心点は、クロスフィルターを用いた画像輝点処理により
容易に求めることができる。
In the present invention, the alignment reference point in the pixel is an intersection of diagonal lines formed from four pixel electrodes (preferably the respective center points) at the four corners of the pixel electrode pattern. It is preferable that the intersection of diagonal lines formed by four microlenses (preferably, the respective center points) at the four corners of the microlens pattern is used in order to make the overall accuracy uniform. In this case, the pixel center point of each of the four pixels at the four corners of the pixel electrode pattern can be easily obtained by image edge processing, and the micro lens center point can be easily obtained by image bright point processing using a cross filter. be able to.

【0009】なお、画素内アライメント基準点並びにマ
イクロレンズ内アライメント基準点を求める場合、四隅
の4つの画素電極又は四隅の4つのマイクロレンズを選
択せずに、所定の一つ電極画素の中心点や所定の一つの
マイクロレンズの中心点をそれぞれ基準点としてもよ
い。
When the alignment reference point in the pixel and the alignment reference point in the microlens are obtained, the center point and the center point of a predetermined one electrode pixel are selected without selecting the four pixel electrodes at the four corners or the four microlenses at the four corners. The center point of one predetermined micro lens may be set as the reference point.

【0010】また、画素電極基板の画素電極パターン領
域内の画素内アライメント基準点とマイクロレンズ基板
のマイクロレンズパターン内のマイクロレンズ内アライ
メント基準点とを位置合わせする前に、その位置合わせ
精度よりも粗い精度で、画素電極基板の画素電極パター
ン領域外の画素外アライメントマークとマイクロレンズ
基板のマイクロレンズパターン外のマイクロレンズアラ
イメントマークとを予備的に位置合わせすることによ
り、位置合わせ操作を円滑に進めることが可能となる。
Before the alignment reference point in the pixel in the pixel electrode pattern region of the pixel electrode substrate and the alignment reference point in the microlens in the microlens pattern of the microlens substrate are aligned, the alignment accuracy of the microlens pattern must be adjusted. Preliminarily aligning the extra-pixel alignment mark outside the pixel electrode pattern area of the pixel electrode substrate with the microlens alignment mark outside the microlens pattern of the microlens substrate with coarse accuracy, thereby facilitating the alignment operation. It becomes possible.

【0011】また、本発明は、以上の製造方法を実施す
るために適した貼り合わせ装置として、電極パターンが
形成された画素電極基板を保持するための定盤と、画素
電極パターンに対応したマイクロレンズパターンが形成
されたマイクロレンズ基板を保持するためのホルダー
と、画素電極基板とマイクロレンズ基板の位置合わせの
ためのアライメントマークもしくは画素電極又はマイク
ロレンズを確認するための顕微鏡などのマーク検出手段
と、マーク検出手段で得た情報から画素電極基板の画素
電極パターン領域内の画素内アライメント基準点とマイ
クロレンズ基板のマイクロレンズパターン内のマイクロ
レンズ内アライメント基準点とを求める画像処理手段
と、画素内アライメント基準点とマクロレンズ内アライ
メント基準点とを位置合わせできるように定盤及びホル
ダーを相対的に上下方向、前後左右方向及びθ方向に可
動とする位置合わせ機構と、位置合わせ機構により画素
電極基板とマイクロレンズ基板と位置合わせした状態で
それらを加圧可能な加圧手段とを有することを特徴とす
る、画素電極基板とマイクロレンズ基板との貼り合わせ
装置を提供する。この場合、定盤の内部又は下方から位
置合わせのためのアライメントマークもしくは画素電極
又はマイクロレンズに対して光を照射する光源を設ける
ことが好ましい。また、マーク検出手段に、マイクロレ
ンズのマイクロレンズ中心点を求めるためのクロスフィ
ルターを設けることが好ましい。
Further, the present invention provides a bonding apparatus suitable for carrying out the above-described manufacturing method, a platen for holding a pixel electrode substrate on which an electrode pattern is formed, and a microplate corresponding to the pixel electrode pattern. A holder for holding a microlens substrate on which a lens pattern is formed, an alignment mark for alignment between the pixel electrode substrate and the microlens substrate, or a mark detecting means such as a microscope for confirming the pixel electrode or the microlens; An image processing means for obtaining an alignment reference point in a pixel in a pixel electrode pattern region of a pixel electrode substrate and an alignment reference point in a microlens in a microlens pattern of a microlens substrate from information obtained by the mark detection means; Position the alignment reference point and the alignment reference point in the macro lens And a positioning mechanism that relatively moves the platen and holder in the up, down, front, back, left and right directions and the θ direction so that the pixel electrode substrate and the microlens substrate are aligned by the positioning mechanism. Provided is a device for bonding a pixel electrode substrate and a microlens substrate, the device including a pressurizing means capable of pressing. In this case, it is preferable to provide a light source for irradiating the alignment mark for alignment or the pixel electrode or the microlens from inside or below the surface plate. Further, it is preferable that a mark filter is provided with a cross filter for obtaining a micro lens center point of the micro lens.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の製造方法の概念
図の一例である。
FIG. 1 is an example of a conceptual diagram of a manufacturing method according to the present invention.

【0013】まず、画素電極パターン1が形成された画
素電極基板2(図1(a))と、画素電極パターン1に
対応したマイクロレンズパターン3が形成されたマイク
ロレンズ基板4(図1(b))とを用意する。画素電極
パターン1の外側の四隅には画素外アライメントマーク
2aが形成され、画素電極パターン1内の四隅に、位置
合わせ用の画素電極1aを選択する。また、マイクロレ
ンズパターン3の外側の四隅にはマイクロレンズ外アラ
イメントマーク4aが形成され、マイクロレンズパター
ン3内の四隅に、位置合わせ用のマイクロレンズ3aを
選択する。
First, a pixel electrode substrate 2 on which a pixel electrode pattern 1 is formed (FIG. 1A) and a microlens substrate 4 on which a microlens pattern 3 corresponding to the pixel electrode pattern 1 is formed (FIG. 1B )) And prepare. Outside pixel alignment marks 2a are formed at four corners outside the pixel electrode pattern 1, and pixel electrodes 1a for alignment are selected at the four corners within the pixel electrode pattern 1. Further, alignment marks 4a outside the microlens are formed at the four corners outside the microlens pattern 3, and the microlens 3a for alignment is selected at the four corners inside the microlens pattern 3.

【0014】次に、画素外アライメントマーク2aとマ
イクロレンズ外アライメントマーク4aとを、顕微鏡等
のマーク検出手段で検出し、その検出情報に基づき、画
素電極基板2とマイクロレンズ基板4とを相対的に移動
させて、画素外アライメントマーク2aとマイクロレン
ズ外アライメントマーク4aとを合わせ込む(図1
(c))。この場合、±1.0μm程度の比較的粗い精
度の位置合わせでもよい。
Next, the extra-pixel alignment mark 2a and the extra-microlens alignment mark 4a are detected by mark detecting means such as a microscope, and the pixel electrode substrate 2 and the micro lens substrate 4 are relatively positioned based on the detected information. To align the out-of-pixel alignment mark 2a and the out-of-pixel alignment mark 4a (FIG. 1).
(C)). In this case, alignment with relatively coarse accuracy of about ± 1.0 μm may be performed.

【0015】次に、画素電極パターン1内の四隅の4つ
の画素電極1aをマーク検出手段である顕微鏡検出し、
画像処理によりその4つの画素電極1aから対角線を引
き、その交点を画素内アライメント基準点1bとして設
定する(図1(c))。この場合、画素電極1aの中心
点は、画像エッジ処理により求めることができる。ま
た、マイクロレンズパターン3内の四隅の4つのマイク
ロレンズ3aを顕微鏡等のマーク検出手段で検出し、画
像処理によりその4つのマイクロレンズ3aから対角線
を引き、その交点をマイクロレンズ内アライメント基準
点3bとして設定する(図1(c))。この場合、マイ
クロレンズ3aの中心点は、マーク検出手段の手前にク
ロスフィルターを設置し、観察画像(図2(a))のも
っとも明るい輝点として求めることができる。具体的に
は、図2(b)に示すように、設定光量以上の幅(ab
間)の中心線をY軸とし、X方向における同様の中心線
をX軸とし、それらのXY交点をマイクロレンズ3aの
中心点とすればよい。
Next, the four pixel electrodes 1a at the four corners in the pixel electrode pattern 1 are detected by a microscope as mark detection means,
A diagonal line is drawn from the four pixel electrodes 1a by image processing, and the intersection is set as an intra-pixel alignment reference point 1b (FIG. 1 (c)). In this case, the center point of the pixel electrode 1a can be obtained by image edge processing. Further, four micro lenses 3a at the four corners in the micro lens pattern 3 are detected by mark detecting means such as a microscope, a diagonal line is drawn from the four micro lenses 3a by image processing, and the intersection is defined as an alignment reference point 3b in the micro lens. (FIG. 1C). In this case, the center point of the microlens 3a can be obtained as the brightest bright spot in the observed image (FIG. 2A) by installing a cross filter before the mark detecting means. More specifically, as shown in FIG.
The center line of (interval) may be the Y axis, the same center line in the X direction may be the X axis, and the XY intersection may be the center point of the microlens 3a.

【0016】次に、画素内アライメント基準点1bとマ
イクロレンズ内アライメント基準点3bとを画像処理に
より重ね合わせる(図1(d))。この場合、±0.1
μm程度の比較的高い精度の位置合わせで行う。
Next, the alignment reference point 1b in the pixel and the alignment reference point 3b in the microlens are overlapped by image processing (FIG. 1D). In this case, ± 0.1
The alignment is performed with relatively high accuracy of about μm.

【0017】この状態で、画素電極基板2とマイクロレ
ンズ基板4とを周囲にシール剤等を介して加圧し、再
度、画素内アライメント基準点1bとマイクロレンズ内
アライメント基準点3bとを画像処理により重ね合わ
せ、再び加圧する。加圧完了後に、樹脂製の固定化剤な
どにより固定する。
In this state, the pixel electrode substrate 2 and the microlens substrate 4 are pressurized around the periphery thereof with a sealant or the like, and the alignment reference point 1b in the pixel and the alignment reference point 3b in the microlens are again processed by image processing. Overlap and press again. After the pressurization is completed, it is fixed with a resin fixing agent or the like.

【0018】次に、本発明の製造方法を実施するのに適
した貼り合わせ装置の例を図3に示す。この装置は、画
素電極パターンが形成された画素電極基板31を保持す
るための定盤32と、画素電極パターンに対応したマイ
クロレンズパターンが形成されたマイクロレンズ基板3
3を保持するためのホルダー34と、画素電極基板31
とマイクロレンズ基板33の位置合わせのためのアライ
メントマーク(図示せず)もしくは画素電極又はマイク
ロレンズを確認するためのマーク検出手段としての顕微
鏡35と、マーク検出手段で得た情報から画素電極基板
31の画素電極パターン領域内の画素内アライメント基
準点とマイクロレンズ基板のマイクロレンズパターン内
のマイクロレンズ内アライメント基準点とを求めるパー
ソナルコンピュータ等の画像処理手段(図示せず)と、
画素内アライメント基準点とマクロレンズ内アライメン
ト基準点とを位置合わせできるように定盤32及びホル
ダー34を相対的に上下方向、前後左右方向及びθ方向
に可動とする位置合わせ機構(図示せず)と、位置合わ
せ機構により画素電極基板とマイクロレンズ基板と位置
合わせした状態でそれらを加圧可能な加圧手段(図示せ
ず)とから構成されている。更に、定盤32に開けられ
た穴36の奥に位置合わせのためのアライメントマーク
もしくは画素電極又はマイクロレンズに対して光を照射
する光源37が設けられている。
Next, FIG. 3 shows an example of a bonding apparatus suitable for carrying out the manufacturing method of the present invention. This apparatus comprises a surface plate 32 for holding a pixel electrode substrate 31 on which a pixel electrode pattern is formed, and a microlens substrate 3 on which a microlens pattern corresponding to the pixel electrode pattern is formed.
3 and a pixel electrode substrate 31
And an alignment mark (not shown) for aligning the microlens substrate 33 or a microscope 35 as mark detection means for confirming a pixel electrode or a microlens, and a pixel electrode substrate 31 based on information obtained by the mark detection means. Image processing means (not shown) such as a personal computer for obtaining an intra-pixel alignment reference point in the pixel electrode pattern region and an in-microlens alignment reference point in the microlens pattern of the microlens substrate;
A positioning mechanism (not shown) that relatively moves the platen 32 and the holder 34 in the up-down direction, the front-rear left-right direction, and the θ direction so that the alignment reference point in the pixel and the alignment reference point in the macro lens can be aligned. And a pressing means (not shown) capable of pressing the pixel electrode substrate and the microlens substrate in a state where they are aligned by an alignment mechanism. Further, a light source 37 for irradiating light to an alignment mark for alignment or a pixel electrode or a microlens is provided in the back of a hole 36 formed in the surface plate 32.

【0019】この装置においては、光源37からの光
は、画素電極基板31とマイクロレンズ基板33とを通
過し、ホルダー34に開けられた穴38を通過し、二つ
のプリズム39及び40を経て顕微鏡35に入射し、検
出される。この場合、プリズム40と顕微鏡35との間
には、マーク検出手段の構成要素としてクロスフィルタ
ー41を設けることができる。二つのプリズムの代わり
に二つの鏡を使用してもよい。
In this device, light from a light source 37 passes through a pixel electrode substrate 31 and a microlens substrate 33, passes through a hole 38 formed in a holder 34, passes through two prisms 39 and 40, and then passes through a microscope. It is incident on 35 and detected. In this case, a cross filter 41 can be provided between the prism 40 and the microscope 35 as a component of the mark detecting means. Two mirrors may be used instead of two prisms.

【0020】また、プリズムや鏡に代えて、図4に示す
ように、移動可能な顕微鏡35を使用してもよい。
Further, a movable microscope 35 may be used as shown in FIG. 4 instead of the prism and the mirror.

【0021】[0021]

【本発明の効果】本発明によれば、画素電極基板とマイ
クロレンズ基板とを位置合わせし、加圧し、固定化して
貼り合わせる際に、画素レベルで位置合わせを行ってい
るために、高精度の貼り合わせが可能となり、高品質の
液晶表示装置を製造することができる。しかも、加圧段
階におけるズレやアライメントマークを画素電極基板や
マイクロレンズ基板に形成する際の位置ズレを補正する
ことができるので、貼り合わせ後のズレによる製品不良
の発生を抑制することができる。このため、張り合わせ
工程の後の検査工程を省略することができる。
According to the present invention, when the pixel electrode substrate and the microlens substrate are aligned, pressurized, fixed and bonded at the pixel level, high precision is achieved. Can be bonded, and a high-quality liquid crystal display device can be manufactured. In addition, it is possible to correct misalignment in the pressing stage and misalignment in forming the alignment mark on the pixel electrode substrate or the microlens substrate, so that occurrence of a product defect due to misalignment after bonding can be suppressed. Therefore, the inspection step after the bonding step can be omitted.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の製造方法の概略説明図である。FIG. 1 is a schematic explanatory view of a manufacturing method of the present invention.

【図2】クロスフィルターを使用した場合の説明図であ
る。
FIG. 2 is an explanatory diagram when a cross filter is used.

【図3】本発明の製造方法を実施するのに適した貼り合
わせ装置の概略図である。
FIG. 3 is a schematic view of a bonding apparatus suitable for performing the manufacturing method of the present invention.

【図4】本発明の製造方法を実施するのに適した貼り合
わせ装置の概略図である。
FIG. 4 is a schematic view of a bonding apparatus suitable for carrying out the manufacturing method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 画素電極パターン、1a 位置合わせ用画素電極、
1b 画素内アライメント基準点、 2 画素電極基
板、2a 画素外アライメントマーク、2b 画素内ア
ライメント基準点、3 マイクロレンズパターン、3a
位置合わせ用のマイクロレンズ、3b マイクロレン
ズ内アライメント基準点、4 マイクロレンズ基板、4
a マイクロレンズ外アライメントマーク
1 pixel electrode pattern, 1a alignment pixel electrode,
1b In-pixel alignment reference point, 2 pixel electrode substrate, 2a Non-pixel alignment mark, 2b In-pixel alignment reference point, 3 micro lens pattern, 3a
Microlens for alignment, 3b Reference point in microlens, 4 microlens substrate, 4
a Alignment mark outside micro lens

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 画素電極パターンが形成された画素電極
基板と、画素電極パターンに対応したマイクロレンズパ
ターンが形成されたマイクロレンズ基板とを位置合わせ
して貼り合わせる工程を含む液晶表示装置の製造方法に
おいて、 画素電極基板の画素電極パターン内の画素内アライメン
ト基準点とマイクロレンズ基板のマイクロレンズパター
ン内のマイクロレンズ内アライメント基準点とを位置合
わせすることを特徴とする製造方法。
1. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising: aligning and bonding a pixel electrode substrate on which a pixel electrode pattern is formed and a microlens substrate on which a microlens pattern corresponding to the pixel electrode pattern is formed. 5. The manufacturing method according to claim 1, wherein an alignment reference point in the pixel in the pixel electrode pattern of the pixel electrode substrate is aligned with an alignment reference point in the microlens in the microlens pattern of the microlens substrate.
【請求項2】 画素内アライメント基準点が、画素電極
パターンの四隅の4つの画素電極から形成される対角線
の交点であり、マイクロレンズ内アライメント基準点
が、マイクロレンズパターンの四隅の4つのマイクロレ
ンズから形成される対角線の交点である請求項1記載の
製造方法。
2. An intra-pixel alignment reference point is an intersection of diagonal lines formed from four pixel electrodes at four corners of a pixel electrode pattern, and an intra-microlens alignment reference point is four microlenses at four corners of a microlens pattern. 2. The method according to claim 1, wherein the intersection is a diagonal line formed from:
【請求項3】 画素電極パターンの四隅の4つの画素の
それぞれの画素中心点を画像エッジ処理により求め、得
られた画素中心点を基準に画素内アライメント基準点を
求め、且つマイクロレンズパターンの四隅の4つのマイ
クロレンズのそれぞれのマイクロレンズ中心点をクロス
フィルターを用いた画像輝点処理により求め、得られた
マイクロレンズ中心点を基準にマイクロレンズ内アライ
メント基準点を求める請求項1又は2記載の製造方法。
3. The pixel center point of each of the four pixels at the four corners of the pixel electrode pattern is determined by image edge processing, an intra-pixel alignment reference point is determined based on the obtained pixel center point, and the four corners of the microlens pattern are determined. 3. The microlens center point of each of the four microlenses is obtained by image bright spot processing using a cross filter, and the alignment reference point in the microlens is obtained based on the obtained microlens center point. Production method.
【請求項4】 画素電極基板の画素電極パターン領域内
の画素内アライメント基準点とマイクロレンズ基板のマ
イクロレンズパターン内のマイクロレンズ内アライメン
ト基準点とを位置合わせする前に、その位置合わせ精度
よりも粗い精度で、画素電極基板の画素電極パターン領
域外の画素外アライメントマークとマイクロレンズ基板
のマイクロレンズパターン外のマイクロレンズアライメ
ントマークとを予備的に位置合わせする請求項1〜3の
いずれかに記載の製造方法。
4. An alignment reference point in a pixel in a pixel electrode pattern area of a pixel electrode substrate and an alignment reference point in a microlens in a microlens pattern of a microlens substrate before alignment are adjusted. 4. The pre-alignment method according to claim 1, wherein coarse alignment marks outside the pixel electrode pattern area of the pixel electrode substrate and micro lens alignment marks outside the micro lens pattern of the micro lens substrate are roughly aligned. Manufacturing method.
【請求項5】 画素内アライメント基準点とマイクロレ
ンズ内アライメント基準点とを位置合わせした後に、画
素電極基板とマイクロレンズ基板とを加圧し、その状態
で再度位置合わせを行い、再び加圧する請求項1〜4の
いずれかに記載の製造方法。
5. After aligning the alignment reference point in the pixel with the alignment reference point in the microlens, the pixel electrode substrate and the microlens substrate are pressurized, and in that state, the alignment is performed again and the pressure is applied again. The method according to any one of claims 1 to 4.
【請求項6】 画素電極パターンが形成された画素電極
基板を保持するための定盤と、画素電極パターンに対応
したマイクロレンズパターンが形成されたマイクロレン
ズ基板を保持するためのホルダーと、画素電極基板とマ
イクロレンズ基板の位置合わせのためのアライメントマ
ークもしくは画素電極又はマイクロレンズを確認するた
めのマーク検出手段と、マーク検出手段で得た情報から
画素電極基板の画素電極パターン領域内の画素内アライ
メント基準点とマイクロレンズ基板のマイクロレンズパ
ターン内のマイクロレンズ内アライメント基準点とを求
める画像処理手段と、画素内アライメント基準点とマク
ロレンズ内アライメント基準点とを位置合わせできるよ
うに定盤及びホルダーを相対的に上下方向、前後左右方
向及びθ方向に可動とする位置合わせ機構と、位置合わ
せ機構により画素電極基板とマイクロレンズ基板とを位
置合わせした状態でそれらを加圧可能な加圧手段とを有
することを特徴とする、画素電極基板とマイクロレンズ
基板との貼り合わせ装置。
6. A platen for holding a pixel electrode substrate on which a pixel electrode pattern is formed, a holder for holding a microlens substrate on which a microlens pattern corresponding to the pixel electrode pattern is formed, and a pixel electrode. A mark detecting means for confirming an alignment mark or a pixel electrode or a micro lens for alignment between the substrate and the microlens substrate, and an intra-pixel alignment in a pixel electrode pattern area of the pixel electrode substrate from information obtained by the mark detecting means. Image processing means for determining a reference point and an alignment reference point in a microlens in a microlens pattern of a microlens substrate, and a platen and a holder so that the alignment reference point in a pixel and the alignment reference point in a macrolens can be aligned. Relatively movable in up / down direction, front / rear / left / right direction and θ direction A pixel electrode substrate and a microlens substrate, wherein the pixel electrode substrate and the microlens substrate are pressurized in a state where the pixel electrode substrate and the microlens substrate are aligned by the positioning mechanism. Bonding equipment.
【請求項7】 定盤の内部又は下方から位置合わせのた
めのアライメントマークもしくは画素電極又はマイクロ
レンズに対して光を照射する光源が設けられている請求
項6の貼り合わせ装置。
7. The bonding apparatus according to claim 6, wherein a light source for irradiating light to an alignment mark, a pixel electrode, or a microlens for alignment from inside or below the surface plate is provided.
【請求項8】 マーク検出手段に、マイクロレンズのマ
イクロレンズ中心点を求めるためのクロスフィルターが
設けられている請求項6又は7の貼り合わせ装置。
8. The bonding apparatus according to claim 6, wherein the mark detecting means is provided with a cross filter for determining a center point of the micro lens.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6502324B2 (en) * 2000-12-12 2003-01-07 International Business Machines Corporation Method of alignment between sheet materials, method of alignment, substrate assembling method and aligning apparatus

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