JP2001305316A - Reflection plate, reflection type display device using the same and method for manufacturing reflection plate - Google Patents

Reflection plate, reflection type display device using the same and method for manufacturing reflection plate

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JP2001305316A
JP2001305316A JP2001039937A JP2001039937A JP2001305316A JP 2001305316 A JP2001305316 A JP 2001305316A JP 2001039937 A JP2001039937 A JP 2001039937A JP 2001039937 A JP2001039937 A JP 2001039937A JP 2001305316 A JP2001305316 A JP 2001305316A
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JP
Japan
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resin
resin layer
substrate
resin material
reflection
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Application number
JP2001039937A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiko Yamanaka
泰彦 山中
Seiji Nishiyama
誠司 西山
Hisahide Wakita
尚英 脇田
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To manufacture a resin layer as the base of a reflection plate having recesses and projections on the surface and scattering property in easy processes and to easily form recesses and projections without generating moire. SOLUTION: A mixture solution is prepared by dissolving a first resin material and a second resin material having photosensitivity in a common solvent, and applied and preliminarily baked on a substrate 301 on which driving elements and terminals of the driving elements are formed. As for the second resin material, a material which is less soluble with the solvent in the mixture liquid than the first resin material is selected so that when the solvent is dried to cause phase separation by preliminary baking, the second resin material first aggregates to produce drops. Thus, a resin layer having the second resin part 308a consisting of the second resin material dispersed and held in the first resin part 308b consisting of the first resin material is formed after preliminary baking. In this process, the form of the second resin part 308a appears on the surface of the resin layer to form fine recesses and projections on the surface of the resin layer.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、外光を利用して表
示を行うための反射板とその製造方法、及び反射板を具
備する反射型表示素子に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a reflection plate for displaying by utilizing external light, a method of manufacturing the same, and a reflection type display device provided with the reflection plate.

【0002】[0002]

【従来の技術】反射型表示素子は、反射板で外光を反射
して表示を行うものであり、自発光の表示素子に比べて
消費電力が小さいことが特長であり、電池駆動の携帯用
機器などに利用されている。しかし、外光を利用するた
めに透過型に比べて表示が暗くなるという欠点がある。
このため、外光の利用効率が高く、視認性に優れた反射
板を用いることが、高い表示品位を得るためには欠かせ
ない。
2. Description of the Related Art A reflection type display element is a type which performs display by reflecting external light with a reflection plate, and has a feature of consuming less power than a self-luminous display element. Used for equipment. However, there is a drawback that the display is darker than in the transmission type because external light is used.
For this reason, it is indispensable to use a reflector having high efficiency of using external light and excellent visibility to obtain high display quality.

【0003】反射板としては、反射率が高いアルミニウ
ムや銀などの金属膜等を用いることにより、反射率を高
めることができる。しかし、平坦な基板上に鏡面性を有
する反射板を用いた場合、図6(b)のように正反射す
る方向のみに光が反射するため、この方向から見た場合
には光源が映りこんで表示が見づらくなり、それ以外の
方向では、ほとんど反射光がないため、非常に暗い表示
となる。この課題を解決するため、反射板の表面に微細
な凹凸を形成することにより、図6(a)のように反射
光を散乱させ、光源の映りこみを抑制するとともに、明
るさ(反射率)、視野角などの視認性を高めた反射型の
液晶表示素子が提案されている(特開平6−27481
号公報)。
The reflectance can be increased by using a metal film such as aluminum or silver having a high reflectance as the reflector. However, when a mirror-like reflecting plate is used on a flat substrate, light is reflected only in the direction of regular reflection as shown in FIG. 6 (b). Therefore, when viewed from this direction, the light source is not reflected. , The display becomes difficult to see, and in other directions, there is almost no reflected light, so that the display becomes very dark. In order to solve this problem, by forming fine irregularities on the surface of the reflector, the reflected light is scattered as shown in FIG. 6A to suppress the reflection of the light source, and the brightness (reflectance) There has been proposed a reflection type liquid crystal display device having improved visibility such as a viewing angle (Japanese Patent Laid-Open No. 6-27481).
No.).

【0004】この従来例は、図7に示すように、凹凸の
ベースとなる突起物414a,414bを、駆動素子4
10が形成された基板411上に形成し、突起物414
a,414b上に樹脂層415を塗布することにより、
滑らかな凹凸を作る。この上に反射部材419を製膜す
ることにより、反射板の表面に微細な凹凸形状を形成
し、良好な視認性を有する反射板を形成したものであ
る。
In this conventional example, as shown in FIG. 7, protrusions 414a and 414b serving as bases of unevenness are formed by driving elements 4a and 4b.
10 is formed on the substrate 411 on which the projections 414 are formed.
a, 414b, by applying a resin layer 415,
Create smooth irregularities. By forming a reflecting member 419 on this, fine irregularities are formed on the surface of the reflecting plate to form a reflecting plate having good visibility.

【0005】このように、反射部材419の下地である
樹脂層415に微細でかつ滑らかな凹凸を形成すること
により、反射光を散乱させることができ、光源の映りこ
みや、正反射以外の方向の表示が暗い、といった課題を
解決し、明るく、視野角の広い反射型表示素子を構成で
きる。
As described above, by forming fine and smooth irregularities on the resin layer 415 which is the base of the reflecting member 419, the reflected light can be scattered, and the reflected light can be scattered. And a reflection type display element having a wide viewing angle can be configured.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例の方法では、微細でかつ滑らかな凹凸を形成する工
程が、1)凹凸の下地となる突起物を形成する、2)突
起物上に樹脂層を塗布して滑らかにする、という2つの
工程が必要であり、冗長であった。
However, in the above-mentioned conventional method, the steps of forming fine and smooth irregularities are: 1) forming projections serving as a base for the irregularities; and 2) forming a resin on the projections. Two steps of applying and smoothing the layer were required, which was redundant.

【0007】また、前記従来例の突起物414a,41
4bは、感光性材料を塗布後、露光および現像によっ
て、所定の箇所にのみ突起物を残す、という方法で形成
しているが、露光時のフォトマスクの突起物位置パター
ンに規則性があると、光の干渉によりモアレ模様が発生
して非常に見づらいものとなる。このため、微細な凹凸
配置には、不規則性が必要であり、前記従来例の場合、
フォトマスクの凹凸パターン配置に不規則性を考慮する
必要があった。
Further, the projections 414a, 41 of the prior art described above.
4b is formed by applying a photosensitive material and then exposing and developing to leave projections only at predetermined positions, but if the pattern of projections on the photomask at the time of exposure has regularity. In addition, moiré patterns are generated due to interference of light, making it very difficult to see. For this reason, irregularities are required for the fine unevenness arrangement, and in the case of the conventional example,
It was necessary to consider irregularities in the arrangement of the uneven pattern of the photomask.

【0008】本発明は上記従来の課題を解決するもので
あり、凹凸形状を形成する工程数を従来に比べて削減す
るとともに、モアレを生じないよう規則性のない凹凸を
容易に形成した反射板および該反射板を具備する反射型
表示素子を提供することを目的とする。
The present invention has been made to solve the above-mentioned conventional problems. The present invention reduces the number of steps for forming a concavo-convex shape as compared with the related art, and easily forms a concavo-convex without irregularities so as not to cause moire. It is another object of the present invention to provide a reflective display device including the reflective plate.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1記載の発明は、反射板であって、基板と、
前記基板上に形成され、表面に微細な凹凸を有する樹脂
層と、前記樹脂層上に設けられ、光を反射する反射部材
と、を有し、前記樹脂層は、少なくとも2種類の樹脂部
を互いに分散保持する構成により、前記凹凸が形成され
てなることを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a reflection plate, comprising: a substrate;
A resin layer formed on the substrate and having fine irregularities on its surface, and a reflecting member provided on the resin layer and reflecting light, wherein the resin layer has at least two types of resin portions. The irregularities are formed by a configuration in which they are dispersed and held.

【0010】請求項2記載の発明は、請求項1記載の反
射板であって、少なくとも2種類の前記樹脂部の配置に
対応して、前記凹凸が形成されてなることを特徴とす
る。
According to a second aspect of the present invention, there is provided the reflector according to the first aspect, wherein the unevenness is formed corresponding to at least two types of arrangement of the resin portions.

【0011】請求項3記載の発明は、請求項1記載の反
射板であって、前記凹凸の段差が0.7μm以下である
ことを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided the reflector according to the first aspect, wherein a step of the unevenness is 0.7 μm or less.

【0012】前記構成とすることにより、反射板の表面
に微細な凹凸が形成された構成とすることができるの
で、良好な反射特性を有する反射板を実現することが可
能となる。特に、前記凹凸の段差が0.7μm以下の微
細な段差を形成した構成とすることができ、より良好な
反射特性を有する反射板を得ることができる。
[0012] With the above configuration, a configuration in which fine irregularities are formed on the surface of the reflection plate can be realized, so that a reflection plate having good reflection characteristics can be realized. In particular, it is possible to adopt a configuration in which a fine step having the unevenness of 0.7 μm or less is formed, and it is possible to obtain a reflector having better reflection characteristics.

【0013】請求項4記載の発明は、請求項1記載の反
射板であって、少なくとも2種類の前記樹脂部は、前記
基板上に塗布された少なくとも2種類の樹脂材料を含む
液体の相分離により形成されてなることを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the reflector according to the first aspect, wherein the at least two kinds of the resin portions are formed by phase separation of a liquid containing at least two kinds of resin materials applied on the substrate. Characterized by being formed by:

【0014】上記構成により、混合液を基板上に塗布し
たのち、少なくとも2種類の樹脂材料を相分離させて、
これによって、少なくとも2種類の樹脂部が形成される
ので、樹脂層表面に規則性を有しない凹凸を形成するこ
とができるので、光の干渉によりモアレ模様が発生する
ようなことはなく、良好な反射特性を有する反射板を得
ることができる。
According to the above arrangement, after applying the mixed solution on the substrate, at least two kinds of resin materials are phase-separated,
As a result, since at least two types of resin portions are formed, irregularities having no regularity can be formed on the surface of the resin layer. A reflection plate having reflection characteristics can be obtained.

【0015】請求項5記載の発明は、請求項1記載の反
射板であって、少なくとも2種類の前記樹脂部の収縮率
は、互いに異なることを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided the reflector according to the first aspect, wherein at least two kinds of the resin portions have different shrinkage rates.

【0016】この構成により、樹脂層表面の凹凸を容易
に形成することができる。
According to this configuration, irregularities on the surface of the resin layer can be easily formed.

【0017】請求項6記載の発明は、反射型表示素子で
あって、請求項1〜請求項5記載の反射板と、前記反射
板上に設けられ、光の吸収量を制御する光制御手段と、
を有することを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a reflective display element, wherein the reflective plate according to any one of the first to fifth aspects and a light control means provided on the reflective plate for controlling a light absorption amount. When,
It is characterized by having.

【0018】この構成により、反射板の表面に微細な凹
凸形状を形成することができ、良好な反射特性を有する
反射型表示素子を実現することができる。
According to this configuration, fine irregularities can be formed on the surface of the reflection plate, and a reflection type display element having good reflection characteristics can be realized.

【0019】請求項7記載の発明は、請求項6記載の反
射型表示素子であって前記樹脂材料は、感光性樹脂を含
むことを特徴とする。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided the reflective display element according to the sixth aspect, wherein the resin material contains a photosensitive resin.

【0020】請求項8記載の発明は、請求項6記載の反
射型表示素子であって、前記基板上には更にアクティブ
素子が形成され、該アクティブ素子を覆うように前記樹
脂層が形成されてなり、前記樹脂層には、上記アクティ
ブ素子に達するコンタクトホールが形成され、該コンタ
クトホールを介して上記アクティブ素子と前記反射部材
とは電気的に接続されてなることを特徴とする。
According to an eighth aspect of the present invention, in the reflective display element of the sixth aspect, an active element is further formed on the substrate, and the resin layer is formed so as to cover the active element. A contact hole reaching the active element is formed in the resin layer, and the active element and the reflection member are electrically connected via the contact hole.

【0021】この構成により、樹脂層を貫通する開口
(コンタクトホール)を形成し、開口を介して基板上に
予め形成したアクティブ素子と、樹脂層上の電極とを接
続して、樹脂層上の反射部材に印加する電圧を制御で
き、反射型表示素子の表示動作を、基板上のアクティブ
素子で行うことが可能となる。
According to this configuration, an opening (contact hole) penetrating the resin layer is formed, and the active element formed in advance on the substrate and the electrode on the resin layer are connected to each other through the opening to form an opening on the resin layer. The voltage applied to the reflective member can be controlled, and the display operation of the reflective display element can be performed by the active element on the substrate.

【0022】請求項9記載の発明は、基板と、前記基板
上に形成され、表面に微細な凹凸を有する樹脂層と、前
記樹脂層上に設けられ、光を反射する反射部材と、を有
し、前記樹脂層は、少なくとも2種類の樹脂部を互いに
分散保持する構成により、前記凹凸が形成されてなる反
射板の製造方法であって、少なくとも2種類以上の樹脂
材料を含む混合液を作製する混合液作製工程と、前記混
合液を基板上に塗布する塗布工程と、前記基板上に塗布
した混合液に含まれる樹脂材料を相分離させて、表面に
凹凸を有する樹脂層を形成する樹脂層工程と、前記樹脂
層上に反射部材を形成する反射部材形成工程と、を含む
ことを特徴とする。
According to a ninth aspect of the present invention, there is provided a substrate, a resin layer formed on the substrate and having fine irregularities on a surface, and a reflecting member provided on the resin layer and reflecting light. The resin layer is a method of manufacturing a reflection plate having the unevenness formed by dispersing and holding at least two types of resin parts, wherein a mixed liquid containing at least two or more types of resin materials is prepared. A mixed liquid preparation step, a coating step of applying the mixed liquid on a substrate, and a resin forming a resin layer having irregularities on the surface by phase-separating a resin material contained in the mixed liquid applied on the substrate The method includes a layer step and a reflecting member forming step of forming a reflecting member on the resin layer.

【0023】この方法により、表面の凹凸を形成する樹
脂層を形成する工程を1回で実現でき、かつ凹凸の規則
性がなくモアレのない反射板を形成することが可能であ
る。
According to this method, the step of forming a resin layer for forming surface irregularities can be realized in one step, and a reflector having no regularity of irregularities and no moire can be formed.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】(実施の形態1)本発明の反射板
および反射型表示素子の実施の形態の一例について図面
に基づいて説明する。図1は、光制御手段として液晶を
用いた反射型液晶表示素子の概略断面図であり、表示部
分中央の一画素分の断面図を示すものである。なお、図
中には省略部分が存在し、また図の縮尺も実際と異なる
部分がある。
(Embodiment 1) An example of an embodiment of a reflection plate and a reflection type display element of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic sectional view of a reflection type liquid crystal display device using liquid crystal as a light control means, and shows a sectional view of one pixel at the center of a display portion. It should be noted that some parts are omitted in the drawings, and some parts of the drawings are different from actual ones.

【0025】図1に示すように、反射型液晶表示素子
は、いわゆる1枚偏光板方式の反射型カラー液晶表示素
子である。基板301と対向基板302との間には所定
の間隙が設けられ、この間隙に液晶が充填された液晶層
303を有する。上記対向基板302には、赤R、緑
G、青Bの各色に対応するカラーフィルタ304が各画
素ごとに配置され、カラーフィルタ304の内側に透明
導電膜からなる共通電極305を有する。上記対向基板
302の外側には偏光板306および位相差板307が
設けられている。
As shown in FIG. 1, the reflection type liquid crystal display device is a so-called single-polarizer type reflection type color liquid crystal display device. A predetermined gap is provided between the substrate 301 and the counter substrate 302, and the gap has a liquid crystal layer 303 filled with liquid crystal. On the counter substrate 302, color filters 304 corresponding to each color of red R, green G, and blue B are arranged for each pixel, and a common electrode 305 made of a transparent conductive film is provided inside the color filters 304. A polarizing plate 306 and a retardation plate 307 are provided outside the counter substrate 302.

【0026】上記基板301上には、表面に凹凸形状を
有する樹脂層308が設けられ、該樹脂層308上には
入射光を反射するための反射部材309が成膜されてい
る。上記樹脂層308表面の凹凸は、反射光を散乱させ
て、光源の映りこみを抑制するとともに、反射率、視野
角などの視認性を得るためのものである。
On the substrate 301, a resin layer 308 having an uneven surface is provided, and a reflection member 309 for reflecting incident light is formed on the resin layer 308. The irregularities on the surface of the resin layer 308 scatter the reflected light to suppress the reflection of the light source and to obtain the visibility such as the reflectance and the viewing angle.

【0027】上記樹脂層308は、第2の樹脂材料から
なる第2樹脂部308aが、第1の樹脂材料からなる第
1樹脂部308b中に分散保持されて形成されて構成さ
れており、上記第2樹脂部308aの形状に沿って樹脂
層308の凸形状が形成されている。
The resin layer 308 is formed by forming a second resin portion 308a made of a second resin material dispersed and held in a first resin portion 308b made of a first resin material. The convex shape of the resin layer 308 is formed along the shape of the second resin portion 308a.

【0028】上記第2樹脂部は、厚みがおよそ2μm、
径がおよそ10μmの滴状体である。第2樹脂部の滴状
体の中央部(樹脂層の凸形状の頂上部分)と、滴状体ど
うしの間の部分(樹脂層の凹形状の底部分)の樹脂層3
08の厚みの差は、約0.5μmである。尚、第2樹脂
部の滴状体の厚み、径、厚みの差は、上記と異なる値で
あってもよく、また、滴状でない形状、例えば棒状等で
もよい。
The second resin portion has a thickness of about 2 μm,
It is a droplet having a diameter of about 10 μm. The central portion of the droplet of the second resin portion (the top of the convex shape of the resin layer) and the portion of the resin layer 3 between the droplets (the bottom of the concave shape of the resin layer)
08 has a thickness difference of about 0.5 μm. Note that the difference in thickness, diameter, and thickness of the droplets of the second resin portion may be different from the above, and may be a non-droplet shape, for example, a rod shape.

【0029】また、上記第2樹脂部は、第1の樹脂材料
と第2の樹脂材料と溶剤との混合液から相分離して形成
されたものであり、第2樹脂部の配置は自然発生的に定
まるために不規則性を有する。なお相分離は、異なる材
料が相溶した混合液が、各々の材料の比率が高い相に分
かれて分離する現象である。
The second resin portion is formed by phase separation from a mixed liquid of the first resin material, the second resin material, and the solvent, and the arrangement of the second resin portion is naturally generated. It has irregularities to be fixed. Note that phase separation is a phenomenon in which a mixed solution in which different materials are compatible is separated into phases in which the ratio of each material is high.

【0030】上記樹脂層308上の反射部材309は、
反射率が高いアルミニウムを主成分とする金属を約0.
2μmの厚みに成膜したものである。なお、反射部材
は、アルミニウム以外の金属、例えば銀を主成分とする
金属を用いることもできる。
The reflecting member 309 on the resin layer 308 is
Metals whose main component is aluminum having a high reflectivity is approximately 0.1%.
The film was formed to a thickness of 2 μm. Note that a metal other than aluminum, for example, a metal containing silver as a main component, can be used for the reflection member.

【0031】上記反射部材309は、各画素ごとに区切
られ、画素電極を兼ねており、樹脂層308を貫通する
開口(コンタクトホール)310で基板301上の駆動
素子311のドレイン端子311aと接続している。こ
の構成により、基板301上の駆動素子311によっ
て、画素電極を兼ねる反射部材309と共通電極305
の間に印加する電圧を変化させることができ、表示動作
が可能となる。
The reflection member 309 is divided for each pixel, also serves as a pixel electrode, and is connected to the drain terminal 311 a of the drive element 311 on the substrate 301 through an opening (contact hole) 310 penetrating the resin layer 308. ing. With this configuration, the driving element 311 on the substrate 301 allows the reflection member 309 also serving as a pixel electrode and the common electrode 305
Can be changed, and the display operation can be performed.

【0032】このように構成することにより、対向基板
302側から入射した光は、偏光板306、位相差板3
07、対向基板302、カラーフィルタ305、液晶層
303を通過し、反射部材309で反射され、逆の経路
を通って、反射型表示素子を見る人の目に入る。このと
き、液晶層に印加する電圧を制御することにより、光の
吸収と透過を制御することができる。このように、本実
施の形態では、液晶層を光制御手段として用いている。
With this configuration, the light incident from the counter substrate 302 side is reflected by the polarizing plate 306 and the retardation plate 3.
07, the counter substrate 302, the color filter 305, and the liquid crystal layer 303, the light is reflected by the reflection member 309, and passes through the reverse path to enter the eyes of the viewer of the reflective display element. At this time, by controlling the voltage applied to the liquid crystal layer, light absorption and transmission can be controlled. As described above, in the present embodiment, the liquid crystal layer is used as a light control unit.

【0033】次に、本発明の反射型表示素子の樹脂層3
08の凹凸を形成する工程について、図2に基づいて説
明する。図2は、本発明の実施の形態1に係る反射型表
示素子の樹脂層の形成工程を示す概略説明図である。
Next, the resin layer 3 of the reflective display element of the present invention
The step of forming the 08 irregularities will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic explanatory view showing a step of forming a resin layer of the reflective display element according to the first embodiment of the present invention.

【0034】まず、図2(a)のように、感光性を有す
る第1の樹脂材料および第2の樹脂材料を共通の溶剤中
に溶解させた混合液を作成した。ここで、第1の樹脂材
料はアクリル系のポジ型感光材料、第2の樹脂材料はス
チレン系のポジ型感光材料を使用し、第1の樹脂材料と
第2の樹脂材料の比率が40対60重量パーセントにな
るように調整した。また、溶剤はプロピレングリコール
モノメチルエーエルアセテート(PGMEA)を用い
た。ここで、第2の樹脂材料は、第1の樹脂材料と比較
して共通の溶剤であるPGMEAに対し溶解性が小さい
材料を選択した。なお、共通の溶剤に対する溶解性が、
第1の樹脂材料に比べて第2の樹脂材料と異なる組み合
わせであれば、第1、2の樹脂材料および溶剤として上
記以外の材料を用いることも可能である。次に、あらか
じめ駆動素子311および駆動素子の端子311aを形
成した基板301上に、前記混合液を塗布し、プリベー
クした。塗布は、スピンコートにより実施し、所定の温
度に設定したホットプレート上に基板を置いてプリベー
クした。プリベークにより溶剤が乾燥させる際、第2の
樹脂材料は、第1の樹脂材料よりも混合液中の溶剤に溶
解しにくいことから、図2(b)のように第2の樹脂材
料308a’が相分離して先に凝集して集まる。
First, as shown in FIG. 2A, a mixed solution was prepared by dissolving a photosensitive first resin material and a second photosensitive resin material in a common solvent. Here, an acrylic positive photosensitive material is used for the first resin material, and a styrene positive photosensitive material is used for the second resin material. The ratio of the first resin material to the second resin material is 40: Adjusted to 60 weight percent. The solvent used was propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA). Here, as the second resin material, a material having lower solubility in PGMEA, which is a common solvent, than the first resin material was selected. In addition, the solubility in a common solvent,
As long as the first resin material is different from the second resin material in combination, materials other than those described above can be used as the first and second resin materials and the solvent. Next, the mixed solution was applied onto the substrate 301 on which the driving elements 311 and the terminals 311a of the driving elements were previously formed, and prebaked. The application was performed by spin coating, and the substrate was prebaked on a hot plate set at a predetermined temperature. When the solvent is dried by pre-baking, the second resin material is less soluble in the solvent in the mixed liquid than the first resin material, so that the second resin material 308a ′ is not dissolved as shown in FIG. After phase separation, they aggregate and collect first.

【0035】次に、第2の樹脂材料が図2(c)のよう
に凝集して第2樹脂部308aを形成したのち、第1の
樹脂材料308b'が残って第1樹脂部308bとな
り、第2樹脂部308aを覆った。
Next, after the second resin material is aggregated to form the second resin portion 308a as shown in FIG. 2C, the first resin material 308b 'remains and becomes the first resin portion 308b. The second resin portion 308a was covered.

【0036】このようにして、図2(d)に示すよう
に、プリベーク後には、第1の樹脂材料からなる第1樹
脂部308b中に第2の樹脂材料からなる第2樹脂部3
08aが分散、保持された樹脂層を形成した。このと
き、上記第1の樹脂材料と上記第2の樹脂材料とは表面
張力が異なる材料を用いているので、第2樹脂部の形状
に沿って樹脂層表面の形状が形成され、樹脂層の表面に
微細な凹凸が形成された。
In this way, as shown in FIG. 2D, after the pre-bake, the second resin portion 3 made of the second resin material is placed in the first resin portion 308b made of the first resin material.
08a was dispersed and held to form a resin layer. At this time, since the first resin material and the second resin material use materials having different surface tensions, the shape of the surface of the resin layer is formed along the shape of the second resin portion, and Fine irregularities were formed on the surface.

【0037】ここで、100℃前後の温度でプリベーク
を実施すると、塗布後の混合溶液から急激に溶剤が揮発
するため、第2の樹脂材料が凝集する時間が短くなり、
各々の第2樹脂部の大きさが図6のように小さくなる。
第2樹脂部が小さい場合、図4のように樹脂層8の表面
はほぼ同じ高さとなり、凹凸が形成されない。このため
プリベークは、塗布後常温より20〜30℃高い温度で
の低温プリベークの次に、100℃前後の高温プリベー
クを実施する2段階プリベークを実施した。
Here, if the pre-baking is performed at a temperature of about 100 ° C., the solvent volatilizes rapidly from the mixed solution after application, so that the time required for the second resin material to coagulate is shortened.
The size of each second resin portion is reduced as shown in FIG.
When the second resin portion is small, the surface of the resin layer 8 has almost the same height as shown in FIG. 4, and no irregularities are formed. For this reason, the prebaking was performed by performing a two-stage prebaking in which a high-temperature prebaking of about 100 ° C was performed after a low-temperature prebaking at a temperature 20 to 30 ° C higher than the normal temperature after coating.

【0038】具体的には、50℃のホットプレートで5
分間乾燥したのち、これに続いて100℃のホットプレ
ートで2分間乾燥させた。このようにすることで、低温
プリベーク時には溶剤の揮発が緩慢となるため第2の樹
脂材料が凝集して図2(c)の構造を形成し、次に高温
プリベークで第1および第2の樹脂材料の両方から溶剤
を揮発させて、図2(d)の形状を形成した。
Specifically, a hot plate at 50 ° C.
After drying for 1 minute, the substrate was dried on a hot plate at 100 ° C. for 2 minutes. In this way, the solvent evaporates slowly during the low-temperature pre-bake, so that the second resin material aggregates to form the structure shown in FIG. 2C, and then the first and second resins are subjected to the high-temperature pre-bake. The solvent was volatilized from both of the materials to form the shape of FIG. 2 (d).

【0039】尚、本実施の形態では、低温プリベークを
実施したが、この代替またはこの工程に追加して、減圧
乾燥または気流による乾燥の工程を用いても高温でのプ
リベークに比べて溶剤の揮発を緩慢にすることができ、
第2の樹脂材料の液滴を成長させて第2樹脂部を形成
し、前述と同様に樹脂層表面に凹凸を形成することがで
きる。
In the present embodiment, the low-temperature pre-bake is performed. However, even if a low-pressure drying or air-flow drying step is used instead of or in addition to this step, the solvent volatilization is higher than in the high-temperature pre-baking. Can be slow,
Droplets of the second resin material are grown to form the second resin portion, and irregularities can be formed on the surface of the resin layer as described above.

【0040】表面に凹凸を有する樹脂層を上記の方法に
より形成したのち、開口部分のみを露光するマスク露光
および現像、リンスの工程により、基板301にあらか
じめ形成した駆動素子の端子上の樹脂層を取り除き、コ
ンタクトホールを開口した。次に、樹脂材料1および樹
脂材料2の硬化温度200℃の恒温槽で1時間焼成し
た。焼成後、前記樹脂膜上にアルミニウムを主成分とす
る反射部材309を製膜し、フォトリソグラフィーおよ
びエッチングの工程により、図2(e)のように、画素
形状にパターニングした。画素形状にパターニングした
反射部材9は、樹脂膜に形成した前記コンタクトホール
を介して基板上の駆動素子311のドレイン端子311
aと接続した。
After forming a resin layer having an uneven surface on the surface by the above-described method, the resin layer on the terminal of the drive element formed in advance on the substrate 301 is formed by mask exposure, development, and rinsing for exposing only the opening. It was removed and a contact hole was opened. Next, the resin material 1 and the resin material 2 were baked for 1 hour in a thermostat at a curing temperature of 200 ° C. After baking, a reflective member 309 containing aluminum as a main component was formed on the resin film, and was patterned into a pixel shape as shown in FIG. 2E by photolithography and etching. The reflection member 9 patterned into the pixel shape is connected to the drain terminal 311 of the drive element 311 on the substrate through the contact hole formed in the resin film.
a.

【0041】次に、反射部材をパターニングした基板3
01に、液晶層の液晶を所定の方向に配向させる配向膜
(図示せぬ)を形成した。一方、あらかじめカラーフィ
ルタ304および共通電極305を形成した対向基板3
02に、基板301と同様に配向膜を形成しておき、基
板301と対向基板302とを一定の間隙を保ちながら
貼り合わせ、間隙に液晶を注入した。この後、対向基板
302上に偏光板306、位相差板307を貼り合わ
せ、図1に示すような本実施の形態の反射型液晶表示素
子を完成した。
Next, the substrate 3 on which the reflecting member is patterned
In No. 01, an alignment film (not shown) for aligning the liquid crystal of the liquid crystal layer in a predetermined direction was formed. On the other hand, the counter substrate 3 on which the color filter 304 and the common electrode 305 have been formed in advance.
In 02, an alignment film was formed in the same manner as the substrate 301, and the substrate 301 and the counter substrate 302 were bonded to each other while maintaining a constant gap, and liquid crystal was injected into the gap. Thereafter, the polarizing plate 306 and the retardation plate 307 were bonded on the opposing substrate 302 to complete the reflection type liquid crystal display device of the present embodiment as shown in FIG.

【0042】以上のように、本発明の反射型表示素子の
製造方法によれば、特開平6−27481に記載のよう
に、1)凹凸の下地となる突起物を形成する、2)突起
物上に樹脂層を塗布して滑らかにする、という2つの工
程を行う必要がなく、表面に凹凸を有する樹脂層を1回
の工程で形成することができるので、工程を簡略化でき
るとともに、良好な反射特性を得ることができた。
As described above, according to the method of manufacturing a reflective display element of the present invention, as described in JP-A-6-27481, 1) a projection serving as a base for unevenness is formed; 2) a projection There is no need to perform two steps of applying a resin layer thereon to make it smooth, and a resin layer having an uneven surface can be formed in a single step. And excellent reflection characteristics.

【0043】また、本発明により樹脂膜の表面に凹凸を
形成した場合、自然発生的に凹凸配置が決まるので、樹
脂膜の表面に不規則な凹凸形状を形成することができ
る。このため、凹凸配置の規則性に起因するモアレが発
生しないという特長を有する。
In the case where irregularities are formed on the surface of the resin film according to the present invention, irregular arrangement is determined spontaneously, so that irregular irregular shapes can be formed on the surface of the resin film. For this reason, there is an advantage that moire caused by the regularity of the uneven arrangement does not occur.

【0044】また、本発明により反射板の表面に微細な
凹凸が形成することができ、特に、前記凹凸の段差を
0.7μm以下の微細なものとすることができるので、
より良好な反射特性を有する反射板を得ることができ
る。
Further, according to the present invention, fine irregularities can be formed on the surface of the reflecting plate, and in particular, the irregularities can be made as fine as 0.7 μm or less.
A reflection plate having better reflection characteristics can be obtained.

【0045】第2樹脂部の滴状体の大きさは、1)第1
の樹脂材料と第2の樹脂材料の比率、2)樹脂層のプリ
ベーク条件、の2つに依存する。このうち2)について
は前述の通りである。1)について、本実施の形態で
は、第1、2の樹脂材料の合計に対する第2の樹脂材料
の比率を40重量%としたが、これが概ね50重量%よ
り小さい場合には、膜の厚みに比べ、滴状体の厚みが小
さくなり、膜表面に凹凸が形成されない。一方、50重
量%より大きい場合には、第2の厚みが膜よりも大きく
なり、樹脂層の表面に凹凸を形成することができる。
The size of the droplets of the second resin portion is as follows:
2) The ratio of the resin material to the second resin material, and 2) the pre-bake condition of the resin layer. Of these, 2) is as described above. Regarding 1), in the present embodiment, the ratio of the second resin material to the total of the first and second resin materials is set to 40% by weight. However, when this ratio is approximately less than 50% by weight, the thickness of the film is reduced. In comparison, the thickness of the droplet is small, and no irregularities are formed on the film surface. On the other hand, when it is more than 50% by weight, the second thickness is larger than that of the film, so that irregularities can be formed on the surface of the resin layer.

【0046】また、本実施の形態では、溶剤として単独
のものを用いたが、複数の溶剤を混合して用いてもよ
い。例えば、溶剤Aに対して溶解しやすい第1の樹脂材
料と、溶剤Bに対し溶解しやすい第2の樹脂材料とを、
溶剤A、Bの混合溶剤中に溶解した混合液を作成する。
この場合、溶剤Aに比べて溶剤Bのほうが揮発性が高い
材料を選択する。このようにすると、プリベーク時に溶
剤Bが混合液中から先に揮発し、溶剤Aに溶けにくい第
2の樹脂材料が先に凝集しはじめる。この方法でも、第
2樹脂部が第1樹脂部中に分散保持された樹脂層を形成
でき、上記実施の形態と同様の効果を得ることができ
る。
In the present embodiment, a single solvent is used, but a plurality of solvents may be mixed and used. For example, a first resin material that is easily dissolved in the solvent A and a second resin material that is easily dissolved in the solvent B are
A mixed solution dissolved in a mixed solvent of the solvents A and B is prepared.
In this case, a material having a higher volatility in the solvent B than in the solvent A is selected. In this case, during prebaking, the solvent B volatilizes from the mixed solution first, and the second resin material that is hardly soluble in the solvent A starts to aggregate first. Also in this method, the resin layer in which the second resin portion is dispersed and held in the first resin portion can be formed, and the same effect as in the above embodiment can be obtained.

【0047】尚、本実施の形態では、溶剤を使用してい
るが、第1の樹脂材料と第2の樹脂材料とが相溶する組
合せであれば、溶剤を使用する必要はない。
Although a solvent is used in the present embodiment, it is not necessary to use a solvent as long as the combination is compatible with the first resin material and the second resin material.

【0048】また、本実施の形態では、プリベーク時に
第2の樹脂材料を凝集させることにより、第1樹脂部中
に第2樹脂部が分散保持された樹脂膜を形成した。ここ
で、第1の樹脂材料として、硬化時の加熱による収縮率
が第2の樹脂材料と異なる材料を用いることにより、よ
り大きな凹凸を樹脂層表面に形成することが可能とな
る。図3にこの様子を示す。図3は反射型表示素子の樹
脂層表面の凹凸形状の形成にについて説明するための概
略説明図である。
In the present embodiment, the resin film in which the second resin portion is dispersed and held in the first resin portion is formed by aggregating the second resin material during the pre-baking. Here, by using, as the first resin material, a material having a different shrinkage ratio due to heating during curing than the second resin material, it is possible to form larger irregularities on the surface of the resin layer. FIG. 3 shows this state. FIG. 3 is a schematic explanatory view for explaining formation of unevenness on the surface of the resin layer of the reflective display element.

【0049】図3(a)のように、プリベーク後には樹
脂層の表面に凹凸が形成されていないか、凹凸がわずか
な場合でも、例えば第1の樹脂材料の収縮率が大きい場
合には、硬化後、図3(b)のように、第1樹脂部30
8bの厚みが小さくなり、樹脂層308の表面に必要な
凹凸を形成することが可能となる。
As shown in FIG. 3A, after the pre-baking, no irregularities are formed on the surface of the resin layer, or even if the irregularities are slight, for example, when the contraction rate of the first resin material is large, After curing, as shown in FIG.
8b becomes smaller, and it becomes possible to form necessary irregularities on the surface of the resin layer 308.

【0050】また、本実施の形態では、第1の樹脂材料
および第2の樹脂材料ともに感光性材料を用いた。この
構成により、開口を介して画素電極と駆動素子の端子を
接続することが可能となる。なお、開口の大きさが第2
の樹脂材料で形成される第2樹脂部よりも十分大きい場
合には、第2の樹脂材料は必ずしも感光性の材料である
必要はない。この場合、第1の樹脂材料が感光性材料で
あれば、マスク露光、現像、洗浄の際に開口に位置する
第2樹脂部が同時に洗浄、除去されるため、開口を開け
ることができる。
In this embodiment, a photosensitive material is used for both the first resin material and the second resin material. With this configuration, it is possible to connect the pixel electrode and the terminal of the driving element through the opening. The size of the opening is the second
When the second resin portion is sufficiently larger than the second resin portion formed of the resin material, the second resin material does not necessarily need to be a photosensitive material. In this case, if the first resin material is a photosensitive material, the opening can be opened because the second resin portion located at the opening is simultaneously cleaned and removed during mask exposure, development, and cleaning.

【0051】また、第2の樹脂材料は、プリベーク後に
は液体であり、第1、2の樹脂材料を焼成したのちに固
体化する材料を用いてもよい。例えば、硬化前の常温状
態が液体であるエポキシ系樹脂を第2の樹脂材料として
用いた場合、プリベーク時に第2樹脂部が凝集した際に
は液体である。このため、樹脂層に開口を形成する際、
開口部分に位置する第2樹脂部は、第1樹脂部の現像お
よび洗浄工程により、洗い流すことができる。この後の
焼成により、第1樹脂部に保持された第2樹脂部を熱架
橋させ、固体化させる。この方法によれば、第2の樹脂
材料として感光性を有しない材料を用いることもでき
る。
The second resin material may be a liquid which is liquid after pre-baking and solidifies after firing the first and second resin materials. For example, when an epoxy resin that is liquid at normal temperature before curing is used as the second resin material, it is liquid when the second resin portion aggregates during prebaking. For this reason, when forming an opening in the resin layer,
The second resin portion located at the opening can be washed away by the developing and washing steps of the first resin portion. By the subsequent baking, the second resin portion held by the first resin portion is thermally crosslinked and solidified. According to this method, a non-photosensitive material can be used as the second resin material.

【0052】また、本実施の形態では、各画素に対応し
た基板上の駆動素子で画素ごとに印加する電圧を制御す
る、いわゆるアクティブマトリクス方式の液晶表示素子
を例に挙げたが、各画素に駆動素子を持たない構成によ
り、本発明の反射型表示素子を構成してもよい。駆動素
子を持たない構成には、例えば、櫛型の反射部材を設け
た基板と、櫛型の透明電極を形成した対向基板とを、櫛
型の方向が互いに垂直になるように配置して、一定の間
隙を介して貼り合わせ、間隙に液晶を封入し、上下基板
の電極が交差した各点を画素として電圧を印加する、い
わゆるパッシブマトリスク方式の液晶表示素子がある。
パッシブマトリクス方式では、上下基板の間隙の間での
液晶のねじり角が180度以上のSTN(スーパーツイ
ストネマチック)方式液晶表示素子がある。このように
各画素に駆動素子を持たない構成の場合、樹脂層には、
駆動素子を貫通する開口を形成する必要がなく、従っ
て、第1の樹脂材料、第2の樹脂材料はともに、感光性
を有しない材料を用いることができる。
In this embodiment, a so-called active matrix type liquid crystal display element in which a voltage applied to each pixel is controlled by a driving element on a substrate corresponding to each pixel has been described as an example. The reflective display element of the present invention may be configured by a configuration having no driving element. In a configuration without a driving element, for example, a substrate provided with a comb-shaped reflecting member and a counter substrate formed with a comb-shaped transparent electrode are arranged so that the comb-shaped directions are perpendicular to each other, 2. Description of the Related Art There is a so-called passive matrix type liquid crystal display element in which liquid crystal is sealed in a gap, a liquid crystal is sealed in the gap, and a voltage is applied to each point where the electrodes of the upper and lower substrates intersect as a pixel.
In the passive matrix type, there is an STN (super twisted nematic) type liquid crystal display element in which the twist angle of the liquid crystal between the upper and lower substrates is 180 degrees or more. In the case of a configuration in which each pixel does not have a driving element, the resin layer includes
It is not necessary to form an opening that penetrates the drive element, and therefore, a material having no photosensitivity can be used for both the first resin material and the second resin material.

【0053】(実施の形態2)本発明の実施の形態2の
反射型表示素子の反射板、反射型表示素子およびその製
造方法について説明する。実施の形態2は、実施の形態
1と樹脂層の構成が異なり、その他の部分については共
通である。このため、実施の形態2は、樹脂層の形成す
る工程のみについて、図5に基づいて説明する。図5
は、本発明の実施の形態2に係る反射型表示素子の樹脂
層の形成工程を示す概略説明図である。
(Embodiment 2) A reflector, a reflective display element and a method of manufacturing the same of a reflective display element according to a second embodiment of the present invention will be described. Embodiment 2 is different from Embodiment 1 in the configuration of the resin layer, and the other parts are common. Therefore, in the second embodiment, only the step of forming the resin layer will be described with reference to FIG. FIG.
FIG. 7 is a schematic explanatory view showing a step of forming a resin layer of a reflective display element according to Embodiment 2 of the present invention.

【0054】感光性を有する第1の樹脂材料および第2
の樹脂材料を共通の溶剤中に溶解させた混合液を作成し
た。ここで、第1の樹脂材料はアクリル系のポジ型感光
材料、第2の樹脂材料はスチレン系のポジ型感光材料を
使用し、第1の樹脂材料と第2の樹脂材料の比率を50
対50重量パーセントになるように調整した。尚、本実
施の形態2では、第1の樹脂材料と第2の樹脂材料との
相溶性は、前記実施の形態1に比較して高い。
The first resin material having photosensitivity and the second resin material
A mixed solution was prepared by dissolving the above resin material in a common solvent. Here, an acrylic positive photosensitive material is used for the first resin material, and a styrene positive photosensitive material is used for the second resin material, and the ratio of the first resin material to the second resin material is set to 50.
Adjusted to 50 weight percent. In the second embodiment, the compatibility between the first resin material and the second resin material is higher than that in the first embodiment.

【0055】次に、あらかじめ駆動素子311および駆
動素子の端子311aを形成した基板301上に、前記
混合液を塗布し、プリベークした。プリベークで溶剤を
乾燥させることにより、図5(a)のように、第1の樹
脂材料と第2の樹脂材料を互いに相分離させ、図5
(b)のように、ネットワーク状に第1の樹脂材料から
なる第1樹脂部308cと第2の樹脂材料からなる第2
樹脂部308dとが相分離して分かれた樹脂層308を
形成した。
Next, the mixed solution was applied onto the substrate 301 on which the driving elements 311 and the terminals 311a of the driving elements were previously formed, and prebaked. By drying the solvent by pre-baking, the first resin material and the second resin material are phase-separated from each other as shown in FIG.
As shown in (b), a first resin portion 308c made of a first resin material and a second resin portion 308c made of a second resin material are formed in a network.
A resin layer 308 separated from the resin portion 308d by phase separation was formed.

【0056】次に、開口部分のみを露光するマスク露光
および現像、リンスの工程により、基板301にあらか
じめ形成した駆動素子の端子311a上の樹脂層を取り
除き、図5(b)のようにコンタクトホール310を開
口した。
Next, the resin layer on the terminals 311a of the driving elements formed in advance on the substrate 301 is removed by mask exposure, development, and rinsing steps that expose only the openings, and contact holes are formed as shown in FIG. 310 was opened.

【0057】次に、第1の樹脂材料および第2の樹脂材
料の硬化温度200℃の恒温槽で1時間焼成した。硬化
時の熱収縮率が第1の樹脂材料と第2の樹脂材料とで異
なる材料を選択しておくことにより、樹脂層308の表
面に微細な凹凸を形成した。本実施の形態の場合、第2
の樹脂材料の熱収縮率が、第1の樹脂材料の熱収縮率よ
りも大きいことから、第2樹脂部308dの厚みが薄く
なり、図5(c)のように、樹脂層308内での各樹脂
材料の配置に対応した微細な凹凸を樹脂層308の表面
に形成した。尚、上記第1の樹脂材料の熱収縮率が、上
記第2の樹脂材料の熱収縮率よりも大きくてもよい。
Next, the first resin material and the second resin material were baked for 1 hour in a thermostat at a curing temperature of 200 ° C. Fine unevenness was formed on the surface of the resin layer 308 by selecting a material having a different heat shrinkage ratio between the first resin material and the second resin material during curing. In the case of this embodiment, the second
Since the heat shrinkage of the resin material is larger than the heat shrinkage of the first resin material, the thickness of the second resin portion 308d is reduced, and as shown in FIG. Fine irregularities corresponding to the arrangement of each resin material were formed on the surface of the resin layer 308. The heat shrinkage of the first resin material may be higher than the heat shrinkage of the second resin material.

【0058】焼成後、前記樹脂膜上にアルミニウムを主
成分とする反射部材309を製膜し、フォトリソグラフ
ィーおよびエッチングの工程により、実施の形態1で説
明した図2(e)のように、反射部材309を画素形状
にパターニングした。なお、反射部材309は、樹脂膜
に形成した前記コンタクトホール310を介して基板上
の駆動素子の端子311aと接続させた。
After baking, a reflection member 309 containing aluminum as a main component is formed on the resin film, and the reflection member 309 is formed by photolithography and etching as shown in FIG. 2E described in the first embodiment. The member 309 was patterned into a pixel shape. The reflecting member 309 was connected to the terminal 311a of the driving element on the substrate via the contact hole 310 formed in the resin film.

【0059】この後、実施の形態1と同じ工程を実施
し、反射型液晶表示素子を完成した。
Thereafter, the same steps as those of the first embodiment were performed to complete a reflection type liquid crystal display device.

【0060】上記のように実施の形態2の構成および製
造方法によっても、実施の形態1と同様に樹脂層の表面
に微細な凹凸を形成することができ、同様の効果を得る
ことができる。
As described above, according to the configuration and the manufacturing method of the second embodiment, fine irregularities can be formed on the surface of the resin layer similarly to the first embodiment, and the same effect can be obtained.

【0061】なお、樹脂層を構成する樹脂材料を基板上
に塗布し、プリベークにより相分離させた際の樹脂層の
形態は、材料の種類、比率等により変化し、前記実施の
形態1に示したような、一方が滴状体として形成される
場合以外に、本実施の形態2のように、2種類の樹脂が
不規則に入り組み、一方の樹脂がネットワークを形成す
る網状となる場合、がある。このように実施の形態1、
2のどちらであっても、2種類の樹脂部の配置に対応し
て、樹脂層の表面に微細な凹凸を形成することができ、
同様の効果を得ることができる。
The form of the resin layer when the resin material constituting the resin layer is applied to the substrate and phase-separated by pre-baking changes according to the type and ratio of the material. Other than the case where one of them is formed as a droplet, as in the case of the second embodiment, when two kinds of resins are irregularly intertwined and one of the resins becomes a network forming a network, There is. Thus, Embodiment 1,
In either case, fine irregularities can be formed on the surface of the resin layer in accordance with the arrangement of the two types of resin portions,
Similar effects can be obtained.

【0062】(その他の事項) (1)上記実施の形態では、光制御手段として、液晶を
用いた反射型液晶表示素子について示したが、本発明の
反射型表示素子は、液晶を用いた表示素子に限定される
ものではない。例えば、溶液中に分散させた微粒子を電
界で移動させることにより、光の吸収、透過を制御する
電気泳動ディスプレイに適用することも可能であり、液
晶表示素子以外の反射型表示素子にも用いることができ
る。
(Other Matters) (1) In the above embodiment, the reflection type liquid crystal display device using liquid crystal was shown as the light control means. However, the reflection type display device of the present invention is a display device using liquid crystal. It is not limited to the element. For example, it can be applied to an electrophoretic display that controls light absorption and transmission by moving fine particles dispersed in a solution by an electric field, and can be used for a reflective display element other than a liquid crystal display element. Can be.

【0063】(2)上記実施の形態では、相分離によっ
て2種類の樹脂部を形成したが、相分離以外の方法によ
っても2種類の樹脂部を形成することができる。即ち、
2種類の樹脂材料が相溶状態になく、単に混合されてい
る状態に、例えば、加熱したり紫外線照射することによ
って2種類の樹脂材料を分離して2種類の樹脂部を形成
するようなこともできる。
(2) In the above embodiment, two types of resin parts are formed by phase separation. However, two types of resin parts can be formed by a method other than phase separation. That is,
In a state where two types of resin materials are not in a compatible state but simply mixed, for example, by heating or irradiating ultraviolet rays, two types of resin materials are separated to form two types of resin parts. Can also.

【0064】(3)上記実施の形態では、2種類の樹脂
材料により樹脂層を形成したが、3種類以上の樹脂材料
を用いても同様の効果を得ることができる。
(3) In the above embodiment, the resin layer is formed of two types of resin materials, but the same effect can be obtained by using three or more types of resin materials.

【0065】(4)上記実施の形態では、硬化時の熱収
縮率が異なる材料を用いることにより、樹脂層表面に微
細な凹凸を形成したが、材料によって物性、例えば、粘
度、表面張力等が異なる材料を用いる等の方法によって
も樹脂層表面に微細な凹凸を形成することができる。
(4) In the above embodiment, fine irregularities are formed on the surface of the resin layer by using materials having different heat shrinkage rates at the time of curing. However, physical properties such as viscosity, surface tension and the like depend on the material. Fine irregularities can be formed on the surface of the resin layer also by a method such as using a different material.

【0066】[0066]

【発明の効果】上記構成により、反射部材の下地として
表面に微細な凹凸を有する樹脂層を1回の工程で形成す
ることにより、工程の簡略化を図るとともに、良好な反
射特性を有する反射板、および前記反射板を具備した反
射型表示素子を実現した。
According to the above construction, a resin layer having fine irregularities on its surface is formed as a base of a reflecting member in a single step, thereby simplifying the steps and providing a reflecting plate having good reflection characteristics. , And a reflective display device including the reflective plate.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1に係る反射型表示素子の
概略断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view of a reflective display element according to Embodiment 1 of the present invention.

【図2】本発明の実施の形態1に係る反射型表示素子の
樹脂層の形成工程を示す概略説明図である。
FIG. 2 is a schematic explanatory view showing a step of forming a resin layer of the reflective display element according to the first embodiment of the present invention.

【図3】反射型表示素子の樹脂層の形成について説明す
るための概略説明図である。
FIG. 3 is a schematic explanatory view for explaining formation of a resin layer of a reflective display element.

【図4】反射型表示素子の樹脂層表面の凹凸形状の形成
について説明するための概略説明図である。
FIG. 4 is a schematic explanatory view for explaining formation of unevenness on the surface of a resin layer of a reflective display element.

【図5】本発明の実施の形態2に係る反射型表示素子の
樹脂層の形成工程を示す概略説明図である。
FIG. 5 is a schematic explanatory view showing a step of forming a resin layer of a reflective display element according to Embodiment 2 of the present invention.

【図6】反射型表示素子の反射部材での光の反射方向を
示す説明図であり、図6(a)は、微細な凹凸を有する
反射部材での光の反射方向を示す説明図、図6(b)
は、鏡面性を有する反射部材での光の反射方向を示す説
明図である。
6A and 6B are explanatory diagrams illustrating directions of light reflected by a reflecting member of a reflective display element, and FIG. 6A is an explanatory diagram illustrating a direction of reflecting light by a reflecting member having fine irregularities. 6 (b)
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a light reflection direction on a reflection member having a mirror surface.

【図7】従来の反射型表示素子の構成を示す説明図であ
る。
FIG. 7 is an explanatory diagram showing a configuration of a conventional reflective display element.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

301 基板 302 対向基板 303 液晶層 304 カラーフィルタ 305 共通電極 306 偏光板 307 位相差板 308 樹脂層 309 反射部材 310 開口(コンタクトホール) 311 駆動素子 311a 駆動素子のドレイン端子 301 substrate 302 opposing substrate 303 liquid crystal layer 304 color filter 305 common electrode 306 polarizing plate 307 retardation plate 308 resin layer 309 reflecting member 310 opening (contact hole) 311 driving element 311a drain terminal of driving element

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板と、 前記基板上に形成され、表面に微細な凹凸を有する樹脂
層と、 前記樹脂層上に設けられ、光を反射する反射部材と、を
有し、 前記樹脂層は、少なくとも2種類の樹脂部を互いに分散
保持する構成により、前記凹凸が形成されてなることを
特徴とする反射板。
1. A substrate, a resin layer formed on the substrate and having fine irregularities on a surface, and a reflecting member provided on the resin layer and reflecting light, wherein the resin layer is A reflector having a structure in which at least two kinds of resin parts are dispersedly held with each other;
【請求項2】 少なくとも2種類の前記樹脂部の配置に
対応して、前記凹凸が形成されてなることを特徴とする
請求項1記載の反射板。
2. The reflection plate according to claim 1, wherein the irregularities are formed corresponding to at least two types of arrangement of the resin portions.
【請求項3】 前記凹凸の段差が0.7μm以下である
ことを特徴とする請求項1記載の反射板。
3. The reflector according to claim 1, wherein a step of the unevenness is 0.7 μm or less.
【請求項4】 少なくとも2種類の前記樹脂部は、前記
基板上に塗布された少なくとも2種類の樹脂材料を含む
液体の相分離により形成されてなることを特徴とする請
求項1記載の反射板。
4. The reflection plate according to claim 1, wherein the at least two types of resin portions are formed by phase separation of a liquid containing at least two types of resin materials applied on the substrate. .
【請求項5】 少なくとも2種類の前記樹脂部の収縮率
は、互いに異なることを特徴とする請求項1記載の反射
板。
5. The reflection plate according to claim 1, wherein the shrinkage rates of at least two types of resin portions are different from each other.
【請求項6】 請求項1〜請求項5記載の反射板と、 前記反射板上に設けられ、光の吸収量を制御する光制御
手段と、を有することを特徴とする反射型表示素子。
6. A reflection-type display element, comprising: the reflection plate according to claim 1; and light control means provided on the reflection plate for controlling an amount of light absorbed.
【請求項7】 前記樹脂部は、感光性樹脂を含むことを
特徴とする請求項6記載の反射型表示素子。
7. The reflective display device according to claim 6, wherein the resin portion includes a photosensitive resin.
【請求項8】 前記基板上には更にアクティブ素子が形
成され、該アクティブ素子を覆うように前記樹脂層が形
成されてなり、 前記樹脂層には、上記アクティブ素子に達するコンタク
トホールが形成され、該コンタクトホールを介して上記
アクティブ素子と前記反射部材とは電気的に接続されて
なることを特徴とする請求項6記載の反射型表示素子。
8. An active element is further formed on the substrate, the resin layer is formed so as to cover the active element, and a contact hole reaching the active element is formed in the resin layer. 7. The reflective display device according to claim 6, wherein the active element and the reflective member are electrically connected via the contact hole.
【請求項9】 基板と、 前記基板上に形成され、表面に微細な凹凸を有する樹脂
層と、 前記樹脂層上に設けられ、光を反射する反射部材と、を
有し、 前記樹脂層は、少なくとも2種類の樹脂部を互いに分散
保持する構成により、前記凹凸が形成されてなる反射板
の製造方法であって、 少なくとも2種類の樹脂材料を含む混合液を作製する混
合液作製工程と、 前記混合液を基板上に塗布する塗布工程と、 前記基板上に塗布した混合液に含まれる樹脂材料を相分
離させて、表面に凹凸を有する樹脂層を形成する樹脂層
工程と、 前記樹脂層上に反射部材を形成する反射部材形成工程
と、を含むことを特徴とする反射板の製造方法。
9. A substrate, a resin layer formed on the substrate and having fine irregularities on the surface, and a reflecting member provided on the resin layer and reflecting light, wherein the resin layer A method of manufacturing a reflection plate having the irregularities formed by dispersing and holding at least two types of resin parts, wherein a mixed liquid preparation step of preparing a mixed liquid containing at least two types of resin materials; A coating step of applying the mixture on a substrate; a resin layer step of phase-separating a resin material contained in the mixture applied on the substrate to form a resin layer having irregularities on the surface; A method for manufacturing a reflection plate, comprising: a reflection member forming step of forming a reflection member thereon.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7166872B2 (en) 2002-08-22 2007-01-23 Seiko Epson Corporation Device substrate, production method therefor, electronic device, production method therefor, optic device, production method therefor, and electronic apparatus
KR20100095384A (en) 2009-02-20 2010-08-30 닛폰 비 케미컬 가부시키 가이샤 Anti-glare coating composition, anti-glare film and method of producing the same
JP2010225297A (en) * 2009-03-19 2010-10-07 Futaba Corp Method of manufacturing cold cathode electron source, and cold cathode electron source

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