JP2001297695A - Color cathode-ray tube producing method and exposure apparatus - Google Patents

Color cathode-ray tube producing method and exposure apparatus

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JP2001297695A
JP2001297695A JP2000110595A JP2000110595A JP2001297695A JP 2001297695 A JP2001297695 A JP 2001297695A JP 2000110595 A JP2000110595 A JP 2000110595A JP 2000110595 A JP2000110595 A JP 2000110595A JP 2001297695 A JP2001297695 A JP 2001297695A
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JP
Japan
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ray tube
cathode ray
amount
color cathode
main correction
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Application number
JP2000110595A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Toshiyuki Otawa
利幸 大多和
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color cathode-ray tube producing method, enabling the reduction of the dispersion of an electron beam misleading amount for every produced color cathode-ray tube. SOLUTION: The producing method comprises a step (a) of moving a main correcting lens 15, used in the next exposing step to an exposure position in accordance with data for the electron beam misleading amount accumulated on a storage part 21, an exposing step (b) of radiating an ultraviolet bean to a photoresist film, provided on the inner face of a cathode-ray tube panel via the main correcting lens, a step (c) of forming a black matrix and a fluorescent layer, a step (d) of completing the color cathode-ray tube, and a step of measuring the electron beam misleading amount for every completed color cathode-ray tube, along with a step of repeating the steps (a) and (b), using the exposing device for another cathode-ray tube panel an accumulating data obtained by the measurement in the storage part 21.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、陰極線管パネル内
面に塗布されたフォトレジスト膜を露光する装置を使用
して複数台のカラー陰極線管を連続的に順次製造する方
法に関し、特に、先に製造されたカラー陰極線管の電子
ビームミスランディング量の測定結果を後に製造される
カラー陰極線管の露光工程に迅速に反映させるカラー陰
極線管の製造方法及びこの製造方法を実施するために使
用する露光装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for continuously and sequentially manufacturing a plurality of color cathode ray tubes using an apparatus for exposing a photoresist film applied to the inner surface of a cathode ray tube panel. A method of manufacturing a color cathode ray tube for quickly reflecting the measurement result of the amount of electron beam mislanding of the manufactured color cathode ray tube in an exposure process of a color cathode ray tube manufactured later, and an exposure apparatus used for performing the manufacturing method About.

【0002】[0002]

【従来の技術】カラー陰極線管のブラックマトリクス製
造に使用する露光装置としては、例えば、特開平8−1
53467号公報又は特開平11−329234号公報
に開示されたものがある。ブラックマトリクスの製造に
際しては、ランプハウスから出射された紫外線光を、主
補正レンズを介し、マスクの開口部を通して陰極線管パ
ネルの内面に塗布されたフォトレジスト膜に照射し、紫
外線光が照射された部分のフォトレジスト膜を現像除去
し、グラファイト膜を塗布し、エッチングによりフォト
レジスト膜が除去された部分にのみグラファイト膜を残
すことによってブラックマトリクス(BM)を形成す
る。その後、ブラックマトリクスが形成されなかった部
分(BM開口部)に蛍光体層を形成する。従って、露光
工程において紫外線光の照射位置が所望の位置からずれ
た場合には、蛍光体層もずれて形成されることとなり、
このような工程を経て完成したカラー陰極線管には電子
ビームのミスランディングが発生する。従って、露光工
程において紫外線光の照射位置を適正に制御することは
重要である。
2. Description of the Related Art An exposure apparatus used for manufacturing a black matrix of a color cathode ray tube is disclosed in, for example, JP-A-8-1.
There are those disclosed in JP-A-53467 or JP-A-11-329234. In the production of the black matrix, the ultraviolet light emitted from the lamp house was irradiated through the opening of the mask through the main correction lens onto the photoresist film applied on the inner surface of the cathode ray tube panel, and the ultraviolet light was irradiated. A portion of the photoresist film is developed and removed, a graphite film is applied, and a black matrix (BM) is formed by leaving the graphite film only in a portion where the photoresist film has been removed by etching. Thereafter, a phosphor layer is formed in a portion (BM opening) where the black matrix is not formed. Therefore, when the irradiation position of the ultraviolet light is shifted from a desired position in the exposure step, the phosphor layer is also formed with a shift,
Mislanding of the electron beam occurs in the color cathode ray tube completed through these steps. Therefore, it is important to properly control the irradiation position of the ultraviolet light in the exposure step.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、同じ露
光装置を使用している場合であっても、製造工程におけ
る種々の要因によって紫外線光の照射位置は変動してお
り、その結果、製造されたカラー陰極線管毎に電子ビー
ムミスランディング量にバラツキが生じるという問題が
あった。
However, even when the same exposure apparatus is used, the irradiation position of the ultraviolet light fluctuates due to various factors in the manufacturing process. There has been a problem that the electron beam mislanding amount varies for each cathode ray tube.

【0004】また、露光工程における紫外線光の照射位
置の変動は、製造されたカラー陰極線管の電子ビームミ
スランディング量を測定することによって初めて判明す
るので、露光工程における紫外線光の照射位置の変動を
低減させることは困難であった。
[0004] Further, the variation of the irradiation position of the ultraviolet light in the exposure step can be found only by measuring the amount of electron beam mislanding of the manufactured color cathode ray tube. It was difficult to reduce.

【0005】さらにまた、露光工程における紫外線光の
照射位置の変動を補正するためにはランプハウスからの
紫外線光を偏向する主補正レンズを交換することが有効
であるが、主補正レンズを取り外し、別の主補正レンズ
を取り付ける作業は時間がかかる作業であり、同じ露光
装置を使用して複数の陰極線管パネルを順次露光すると
いう連続的な製造工程の中で実施することは困難であっ
た。
Further, in order to correct the variation of the irradiation position of the ultraviolet light in the exposure step, it is effective to replace the main correction lens for deflecting the ultraviolet light from the lamp house. The operation of attaching another main correction lens is a time-consuming operation, and it has been difficult to perform the operation in a continuous manufacturing process of sequentially exposing a plurality of cathode ray tube panels using the same exposure apparatus.

【0006】そこで、本発明は、上記したような従来技
術の課題を解決するためになされたものであり、その目
的とするところは、先に製造されたカラー陰極線管の電
子ビームミスランディング量の測定結果を後に製造され
るカラー陰極線管の露光工程に迅速に反映させることに
よって、製造されたカラー陰極線管毎の電子ビームミス
ランディング量のバラツキを小さくすることができるカ
ラー陰極線管の製造方法及びこの製造方法を実施するた
めに使用される露光装置を提供することにある。
Accordingly, the present invention has been made to solve the above-mentioned problems of the prior art, and an object of the present invention is to reduce the amount of electron beam mislanding of a previously manufactured color cathode ray tube. A method for manufacturing a color cathode ray tube capable of reducing the variation in the amount of electron beam mislanding for each manufactured color cathode ray tube by rapidly reflecting the measurement results in an exposure process of a color cathode ray tube manufactured later, and a method for manufacturing the same. An object of the present invention is to provide an exposure apparatus used for performing a manufacturing method.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】請求項1に係るカラー陰
極線管の製造方法は、光源と、光偏向特性の異なる複数
種類の主補正レンズと、上記主補正レンズのいずれかを
選択的に露光用位置に移動させるレンズ交換手段と、記
憶手段とを有する露光装置による露光処理を含む方法で
あって、(a) 上記記憶手段に蓄積された電子ビーム
ミスランディング量に関するデータに基づいて、製造さ
れるカラー陰極線管の電子ビームミスランディング量が
所望の値になるように次の露光工程において使用される
主補正レンズを上記複数種類の主補正レンズの中から選
択して露光用位置に移動させる工程と、(b) 上記光
源から発せられた紫外線光を、露光用位置にある上記主
補正レンズを介し、陰極線管パネルに取り付けられたマ
スクの開口部を通して陰極線管パネルの内面に備えられ
たフォトレジスト膜に照射する露光工程と、(c) 上
記陰極線管パネル内面にブラックマトリクス及び蛍光体
層を形成する工程と、(d) 上記陰極線管パネルを用
いてカラー陰極線管を完成させる工程と、(e) 別の
陰極線管パネルに対して、同じ露光装置を使用して上記
工程(a)及び上記工程(b)を繰り返す工程と並行し
て、完成したカラー陰極線管毎に電子ビームミスランデ
ィング量を測定し、この測定により得られたデータを上
記記憶手段に蓄積する工程とを有することを特徴として
いる。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a color cathode ray tube manufacturing method, wherein a light source, a plurality of types of main correction lenses having different light deflection characteristics, and one of the main correction lenses are selectively exposed. A lens exchanging means for moving to a position for use, and an exposure apparatus having an exposure apparatus having a storage means, wherein: (a) a method of manufacturing based on data relating to an electron beam mislanding amount accumulated in the storage means; Moving the main correction lens to be used in the next exposure step from the plurality of types of main correction lenses to an exposure position so that the electron beam mislanding amount of the color cathode ray tube becomes a desired value. And (b) passing ultraviolet light emitted from the light source through the opening of the mask attached to the cathode ray tube panel through the main correction lens at the exposure position. An exposure step of irradiating a photoresist film provided on the inner surface of the cathode ray tube panel, (c) a step of forming a black matrix and a phosphor layer on the inner surface of the cathode ray tube panel, and (d) using the cathode ray tube panel. The step of completing the color cathode ray tube and the step of (e) repeating the above steps (a) and (b) for another cathode ray tube panel using the same exposure apparatus, Measuring the amount of electron beam mislanding for each cathode ray tube, and storing data obtained by the measurement in the storage means.

【0008】また、請求項2に係るカラー陰極線管の製
造方法は、上記工程(e)における電子ビームミスラン
ディング量の測定の前に、完成したカラー陰極線管をラ
スターエージングする工程を有することを特徴としてい
る。
Further, the method of manufacturing a color cathode ray tube according to claim 2 includes a step of raster aging the completed color cathode ray tube before the measurement of the amount of electron beam mislanding in the step (e). And

【0009】また、請求項3に係るカラー陰極線管の製
造方法は、上記工程(e)における電子ビームミスラン
ディング量の測定を、カラー陰極線管の有効画面の4つ
のコーナー付近、有効画面の中心付近、及び有効画面の
各辺の中心付近において測定することを特徴としてい
る。
According to a third aspect of the present invention, in the method of manufacturing a color cathode ray tube, the measurement of the amount of electron beam mislanding in the step (e) is performed in the vicinity of four corners of the effective screen of the color cathode ray tube and in the vicinity of the center of the effective screen. , And near the center of each side of the effective screen.

【0010】また、請求項4に係る露光装置は、紫外線
光を発する光源と、上記光源から発せられた紫外線光を
偏向する主補正レンズとを有し、上記光源から発せられ
た紫外線光を、露光用位置にある主補正レンズを介し、
陰極線管パネルに取り付けられたマスクの開口部を通し
て陰極線管パネルの内面に備えられたフォトレジスト膜
に照射する装置であって、光偏向特性の異なる複数種類
の主補正レンズを保持し、いずれかの主補正レンズを選
択的に露光用位置に移動させるレンズ交換手段と、同じ
露光装置を使用して先に完成したカラー陰極線管毎に測
定された電子ビームのミスランディング量に関するデー
タを蓄積する記憶手段と、上記記憶手段に蓄積された電
子ビームミスランディング量に関するデータに基づい
て、次に製造されるカラー陰極線管の電子ビームミスラ
ンディング量が所望の値になるように主補正レンズを上
記複数種類の主補正レンズの中から選択して露光用位置
に移動させる制御を行う制御手段とを有することを特徴
としている。
An exposure apparatus according to a fourth aspect of the present invention includes a light source that emits ultraviolet light, and a main correction lens that deflects the ultraviolet light emitted from the light source, and converts the ultraviolet light emitted from the light source into: Through the main correction lens at the exposure position,
An apparatus for irradiating a photoresist film provided on an inner surface of a cathode ray tube panel through an opening of a mask attached to the cathode ray tube panel, and holding a plurality of types of main correction lenses having different light deflection characteristics, Lens replacement means for selectively moving the main correction lens to the exposure position, and storage means for storing data relating to the amount of mislanding of the electron beam measured for each previously completed color cathode ray tube using the same exposure apparatus Based on the data on the amount of electron beam mislanding stored in the storage means, the main correction lens is set to the plurality of types so that the amount of electron beam mislanding of the color cathode ray tube to be manufactured next becomes a desired value. And control means for selecting from the main correction lens and moving the main correction lens to the exposure position.

【0011】また、請求項5に係る露光装置は、上記レ
ンズ交換手段が、上記複数種類の主補正レンズを保持
し、いずれか一つの主補正レンズを選択的に露光用位置
に置くターンテーブルと、上記ターンテーブルを回転さ
せるモータと、上記モータを駆動させる駆動手段とを有
することを特徴としている。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an exposure apparatus, wherein the lens exchange means holds the plurality of types of main correction lenses and selectively places any one of the main correction lenses at an exposure position. , A motor for rotating the turntable, and driving means for driving the motor.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】図1は、本発明の実施の形態に係
るカラー陰極線管の製造方法を実施する際に使用される
露光装置を概略的に示す構成図である。また、図2は、
図1の露光装置の主補正レンズを保持するターンテーブ
ルを概略的に示す平面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is a schematic diagram showing an exposure apparatus used in carrying out a method for manufacturing a color cathode ray tube according to an embodiment of the present invention. Also, FIG.
FIG. 2 is a plan view schematically showing a turntable holding a main correction lens of the exposure apparatus of FIG. 1.

【0013】図1に示されるように、本実施の形態の製
造方法に使用される露光装置は、陰極線管パネル1に取
り付けられたマスク(例えば、アパーチャグリル)2の
開口部(例えば、スリット)を通して陰極線管パネル1
の内面に塗布されたフォトレジスト膜3に、紫外線光を
照射する装置である。この露光装置は、紫外線光を発す
る超高圧水銀ランプ11を備えたランプハウス12と、
フォトレジスト膜3に照射される光量分布を補正する調
光フィルタ13と、平板レンズ14と、フォトレジスト
膜3に向かう紫外線光を偏向させる主補正レンズ15
と、カバーガラス16と、陰極線管パネル1を載せる座
台17とを有する。また、この露光装置は、主補正レン
ズを複数枚保持するターンテーブル18と、このターン
テーブル18を回転させるモータ19と、このモータ1
9の駆動部20と、記憶部21と、この記憶部21に保
持されたデータに基づいて駆動部20を制御する制御部
22とを有する。
As shown in FIG. 1, an exposure apparatus used in the manufacturing method of the present embodiment includes an opening (for example, a slit) of a mask (for example, an aperture grill) 2 attached to a cathode ray tube panel 1. Tube panel 1 through
Is an apparatus for irradiating the photoresist film 3 applied on the inner surface of the substrate with ultraviolet light. The exposure apparatus includes a lamp house 12 having an ultra-high pressure mercury lamp 11 that emits ultraviolet light,
A dimming filter 13 for correcting the distribution of the amount of light applied to the photoresist film 3, a flat lens 14, and a main correction lens 15 for deflecting ultraviolet light directed to the photoresist film 3
, A cover glass 16 and a seat 17 on which the cathode ray tube panel 1 is placed. The exposure apparatus includes a turntable 18 for holding a plurality of main correction lenses, a motor 19 for rotating the turntable 18, and a motor 1
9, a drive unit 20, a storage unit 21, and a control unit 22 that controls the drive unit 20 based on data stored in the storage unit 21.

【0014】平板レンズ14としては、光偏向特性の異
なる複数枚(例えば、3枚)の平板レンズが備えられて
いる。複数枚の平板レンズ14としては、インライン型
電子銃におけるセンタービーム照射位置にBM開口部を
形成する際に使用される厚さが一定の平行平板レンズ1
4aと、サイドビーム照射位置にBM開口部を形成する
際に使用される一端に向うほど厚さが徐々に厚くなる
(即ち、一方の面が他方の面に対して傾斜した)傾斜型
平板レンズ14b,14cとがある。陰極線管パネル1
のフォトレジスト膜3を露光する工程においては、平行
平板レンズ14aを用いた露光と、傾斜型平板レンズ1
4b,14cを用いた露光の3回の露光がなされる。ま
た、露光に使用される平板レンズ14a,14b,14
cの切り替えは、図示しない切り替え機構によって行わ
れる。
As the flat lens 14, a plurality of (for example, three) flat lenses having different light deflection characteristics are provided. As the plurality of flat lenses 14, the parallel flat lens 1 having a constant thickness used when forming the BM opening at the center beam irradiation position in the in-line type electron gun is used.
4a and an inclined flat lens whose thickness gradually increases toward one end used when forming a BM opening at a side beam irradiation position (that is, one surface is inclined with respect to the other surface). 14b and 14c. Cathode ray tube panel 1
In the step of exposing the photoresist film 3, the exposure using the parallel flat lens 14 a and the tilt type flat lens 1
Three exposures of 4b and 14c are performed. Further, flat lenses 14a, 14b, 14 used for exposure
The switching of c is performed by a switching mechanism (not shown).

【0015】主補正レンズ15としては、光偏向特性の
異なる複数枚(例えば、4枚)の主補正レンズ15a,
15b,15c,15dが備えられている。複数枚の主
補正レンズ15a,15b,15c,15dは、図2に
示されるように、ターンテーブル18上のXYシフト台
18a上に配置されている。XYシフト台18aは、そ
の上に載置された主補正レンズ15a,15b,15
c,15dの位置をターンテーブル18の径方向及びそ
れに直交する方向に微調整する機能を持つ。図2におい
て、破線18bで囲われた位置が露光用位置であり、こ
の露光用位置にある主補正レンズが露光工程において使
用される。また、モータ19によってターンテーブル1
8を回転させることによって、露光用位置に置かれる主
補正レンズを複数枚の主補正レンズ15a,15b,1
5c,15dのいずれかに交換することができる。
As the main correction lens 15, a plurality of (for example, four) main correction lenses 15a having different light deflection characteristics are provided.
15b, 15c and 15d are provided. The plurality of main correction lenses 15a, 15b, 15c, 15d are disposed on an XY shift table 18a on a turntable 18, as shown in FIG. The XY shift table 18a has main correction lenses 15a, 15b, and 15 mounted thereon.
It has a function of finely adjusting the positions of c and 15d in the radial direction of the turntable 18 and in the direction perpendicular thereto. In FIG. 2, a position surrounded by a broken line 18b is an exposure position, and the main correction lens at the exposure position is used in the exposure process. Also, the turntable 1 is driven by the motor 19.
By rotating the main correction lens 8, the main correction lens placed at the exposure position is changed into a plurality of main correction lenses 15 a, 15 b, 1.
It can be exchanged for either 5c or 15d.

【0016】主補正レンズ15aは、基準となる光偏向
特性、即ち、所望のミスランディング量を得るための設
計基準レンズであり、製造工程における種々の要因によ
って生じるミスランディング変動を考慮していない光偏
向特性を持つ。主補正レンズ15b,15c,15d
は、主補正レンズ15aの光偏向特性に加えて、電子ビ
ームミスランディングを補正する特性を持つ。電子ビー
ムのミスランディングは、図3(a)に示されるような
シフト成分(図では、画面右方向のシフト成分を示
す)、図3(b)に示されるような回転成分(図では、
時計方向の回転成分を示す)、図3(c)に示されるよ
うなハの字成分(図では、画面上部で内向きのズレ、画
面下部で外向きのズレを持つハの字成分を示す)の組み
合わせと考えることができる。従って、主補正レンズ1
5b,15c,15dは、主補正レンズ15aの光偏向
特性に加えて、シフト成分を補正する特性、回転成分を
補正する特性、ハの字成分を補正する特性の少なくとも
一つを持っている。主補正レンズ15b,15c,15
dとして、いかなる光偏向特性を持っているものを採用
するかは、ミスランディング量の測定結果と所望のミス
ランディング量との差により、その差を小さくする(究
極にはその差を0にする)ための修正量及び修正方向に
よって決定される。尚、主補正レンズの切り替え方式
は、図2に示すターンテーブル方式に限定されず、スラ
イド方式等の他の方式であってもよい。また、主補正レ
ンズの枚数も4枚に限定されず、より一層ミスランディ
ング量を小さく補正する必要がある場合には、4枚より
多くの異なる光偏向特性を持つ主補正レンズを用意する
ことが望ましい。
The main correction lens 15a is a design reference lens for obtaining a reference light deflection characteristic, that is, a desired amount of mislanding, and does not take into account mislanding fluctuations caused by various factors in the manufacturing process. Has deflection characteristics. Main correction lenses 15b, 15c, 15d
Has a characteristic of correcting electron beam mislanding in addition to the light deflection characteristics of the main correction lens 15a. The mislanding of the electron beam is caused by a shift component as shown in FIG. 3A (in the figure, a shift component in the right direction of the screen is shown) and a rotational component as shown in FIG.
A clockwise rotation component is shown, and a V-shape component as shown in FIG. 3C (in the figure, a V-shape component having an inward deviation at the top of the screen and an outward deviation at the bottom of the screen is shown. ) Can be considered as a combination. Therefore, the main correction lens 1
5b, 15c, and 15d have at least one of a characteristic for correcting a shift component, a characteristic for correcting a rotational component, and a characteristic for correcting a C-shape component, in addition to the optical deflection characteristics of the main correction lens 15a. Main correction lenses 15b, 15c, 15
What kind of light deflection characteristic is adopted as d is reduced by the difference between the measurement result of the mislanding amount and the desired mislanding amount (the difference is ultimately set to 0). ) And the correction direction. The method of switching the main correction lens is not limited to the turntable method shown in FIG. 2, but may be another method such as a slide method. Also, the number of main correction lenses is not limited to four, and if it is necessary to correct the mislanding amount even smaller, it is necessary to prepare more than four main correction lenses having different light deflection characteristics. desirable.

【0017】図4は、本発明の実施の形態に係るカラー
陰極線管の製造方法を実施する際に使用される電子ビー
ムミスランディング量の測定治具を概略的に示す構成図
である。また、図5は、図4の測定装置における測定原
理を示す説明図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a jig for measuring the amount of mislanding of an electron beam used when the method of manufacturing a color cathode ray tube according to the embodiment of the present invention is performed. FIG. 5 is an explanatory diagram showing a measurement principle in the measurement device of FIG.

【0018】図4に示されるように、電子ビームミスラ
ンディング量の測定治具は、完成したカラー陰極線管の
有効画面1aの4つのコーナー付近、有効画面1aの中
心付近、及び有効画面1aの各辺の中心付近のそれぞれ
9箇所に備えられた測定センサ31と、測定センサ31
からの信号を受信する制御部32とを有する。尚、測定
センサ31による測定位置は、図示の位置に限定され
ず、また、測定箇所も9箇所に限定されない。
As shown in FIG. 4, the jig for measuring the amount of electron beam mislanding includes four corners of the effective screen 1a of the completed color cathode ray tube, a center of the effective screen 1a, and each of the effective screen 1a. A measuring sensor 31 provided at each of nine locations near the center of the side;
And a control unit 32 for receiving a signal from The position measured by the measurement sensor 31 is not limited to the illustrated position, and the number of measurement points is not limited to nine.

【0019】電子ビームミスランディング量の測定に際
しては、先ず、通常の偏向電流を完成したカラー陰極線
管の偏向ヨークに流し、図5(a)に示されるように、
電子ビーム33aをブラックマトリクス開口部(図にお
いて、斜線部の間の部分)34の蛍光体上に照射する。
次に、偏向電流を制御することによって、図5(b)に
実線で示されるように、電子ビーム33bの一端がブラ
ックマトリクスBMの端部BM1と一致するように電子
ビーム33bの照射位置を左に移動させる。そして、電
子ビーム33aと電子ビーム33bのズレ量d1を測定
する。次に、図5(c)に示されれるように、偏向電流
を制御することによって、電子ビーム33cを電子ビー
ム33aよりも右に距離d1ずれるように移動させる。
このとき、ブラックマトリクスBMの端部BM2と電子
ビーム33cの左端との距離S(=d1−d2)がミスラ
ンディング量になる。
In measuring the amount of mislanding of the electron beam, first, a normal deflection current is caused to flow through the deflection yoke of the completed color cathode ray tube, and as shown in FIG.
The electron beam 33a is irradiated onto the phosphor in the black matrix opening (portion between the hatched portions in the drawing) 34.
Next, by controlling the deflection current, the irradiation position of the electron beam 33b is adjusted so that one end of the electron beam 33b coincides with the end BM1 of the black matrix BM as shown by a solid line in FIG. Move left. Then, to measure the displacement amount d 1 of the electron beam 33a and the electron beam 33b. Next, as shown in FIG. 5 (c), by controlling the deflection current, to move the electron beam 33c so that the distance d 1 shifts to the right than the electron beam 33a.
At this time, the distance S (= d 1 −d 2 ) between the end BM 2 of the black matrix BM and the left end of the electron beam 33 c is the amount of mislanding.

【0020】図6は、図1の露光装置及び図4の測定治
具を使用して行う本実施の形態のカラー陰極線管の製造
方法を概略的に示すフローチャートである。本実施の形
態のカラー陰極線管の製造方法は概略的には以下の手順
で実施される。
FIG. 6 is a flowchart schematically showing a method of manufacturing a color cathode ray tube according to the present embodiment using the exposure apparatus of FIG. 1 and the measuring jig of FIG. The method of manufacturing a color cathode ray tube according to the present embodiment is generally performed according to the following procedure.

【0021】先ず、露光対象となる陰極線管パネル1を
露光装置の座台17上に設置し(ステップST11)、
ミスランディング量に関するデータ入力がある場合には
記憶部21にデータを入力し(ステップST12)、露
光装置による主補正レンズ切替工程が実施される(ステ
ップST13)。この工程においては、記憶部21に蓄
積された電子ビームミスランディング量に関するデータ
に基づいて、制御部22が、製造されるカラー陰極線管
の電子ビームミスランディング量が所望の値になるよう
に次の露光工程において使用される主補正レンズを複数
種類の主補正レンズ15a,15b,15c,15dの
中から選択する。そして、駆動部20及びモータ19に
よりターンテーブル18を回転させ、選択された主補正
レンズを露光用位置に移動させる。
First, the cathode ray tube panel 1 to be exposed is set on the seat 17 of the exposure apparatus (step ST11).
If there is data input relating to the amount of mislanding, data is input to the storage unit 21 (step ST12), and a main correction lens switching step by the exposure device is performed (step ST13). In this step, based on the data on the amount of electron beam mislanding stored in the storage unit 21, the control unit 22 controls the following so that the amount of electron beam mislanding of the manufactured color cathode ray tube becomes a desired value. The main correction lens used in the exposure step is selected from a plurality of types of main correction lenses 15a, 15b, 15c, and 15d. Then, the turntable 18 is rotated by the drive unit 20 and the motor 19, and the selected main correction lens is moved to the exposure position.

【0022】次に、露光装置による露光処理が実施され
る(ステップST14)。この処理においては、ランプ
ハウス12から出射された紫外線光を、平板レンズ1
4、露光用位置にある主補正レンズ15を介し、陰極線
管パネル1に取り付けられたマスク2の開口部を通して
陰極線管パネル1の内面に備えられたフォトレジスト膜
3に照射する。その後、露光装置から陰極線管パネル1
を取り外す(ステップST15)。以上で、1台目の陰
極線管パネル1に対する露光工程は終了する。
Next, an exposure process is performed by the exposure device (step ST14). In this process, the ultraviolet light emitted from the lamp house 12 is
4. Irradiate the photoresist film 3 provided on the inner surface of the cathode ray tube panel 1 through the opening of the mask 2 attached to the cathode ray tube panel 1 through the main correction lens 15 at the exposure position. After that, the cathode ray tube panel 1
Is removed (step ST15). Thus, the exposure process for the first cathode ray tube panel 1 is completed.

【0023】次に、1台目の陰極線管パネルに対する露
光工程と同様の工程を2台目の陰極線管パネルに対して
実施し(ステップST21〜ST25)、更に、3台目
以降の陰極線管パネルについても同様に実施する(図示
せず)。
Next, the same process as the exposure process for the first cathode ray tube panel is performed on the second cathode ray tube panel (steps ST21 to ST25), and further, the third and subsequent cathode ray tube panels. Is similarly performed (not shown).

【0024】露光を終えた陰極線管パネル1内面にはブ
ラックマトリクスを形成し(ステップST16又はST
26)、カラー陰極線管を組み立て(ステップST17
又はST27)る。そして、図4の測定治具を使用し
て、完成したカラー陰極線管について電子ビームミスラ
ンディング量を測定する(ステップST18又はST2
8)。この電子ビームミスランディング量測定工程は、
完成したカラー陰極線管毎に実施され、例えば、1台目
のカラー陰極線管のミスランディング量の測定結果(ス
テップST18)は、例えば、回線を通して、即座に図
1の露光装置の記憶部21に入力される(ステップST
22)。但し、記憶部21へのデータ入力は、必ずしも
ステップ21とST23との間である必要はなく、随時
行うことができる。また、1台目のカラー陰極線管のミ
スランディング量の測定に長時間を要する場合には、測
定結果に関するデータの記憶部21への入力は、3台目
以降の陰極線管パネルの露光工程の途中に行われる。
After the exposure, a black matrix is formed on the inner surface of the cathode ray tube panel 1 (step ST16 or ST16).
26), assemble the color cathode ray tube (step ST17)
Or ST27). Then, the electron beam mislanding amount is measured for the completed color cathode ray tube using the measuring jig of FIG. 4 (step ST18 or ST2).
8). This electron beam mislanding amount measurement step
The process is performed for each completed color cathode ray tube, and the measurement result of the mislanding amount of the first color cathode ray tube (step ST18) is immediately input to the storage unit 21 of the exposure apparatus in FIG. (Step ST
22). However, data input to the storage unit 21 does not necessarily have to be between Step 21 and ST23, and can be performed at any time. If it takes a long time to measure the mislanding amount of the first color cathode ray tube, the data on the measurement result is input to the storage unit 21 during the exposure process of the third and subsequent cathode ray tube panels. Done in

【0025】上記したような製造方法においては、先に
製造されたカラー陰極線管の電子ビームミスランディン
グ量の測定結果を直ぐに記憶部21に転送している。ま
た、諸補正レンズの交換をターンテーブル18の回転に
よって行っている。従って、後に製造されるカラー陰極
線管の露光工程において使用される主補正レンズの選択
に際して、最新の電子ビームミスランディング量の測定
結果を反映させることができる。このため、製造工程に
おける種々の要因によって紫外線光の照射位置(即ち、
BM開口部位置)と電子ビームの照射位置の相対的位置
関係が変動しても、主補正レンズの交換によって紫外線
光の照射位置の変動を迅速に修正でき、製造されたカラ
ー陰極線管毎の電子ビームミスランディング量のバラツ
キを小さくすることができる。
In the above-described manufacturing method, the measurement result of the electron beam mislanding amount of the previously manufactured color cathode ray tube is immediately transferred to the storage unit 21. Further, replacement of various correction lenses is performed by rotation of the turntable 18. Therefore, the latest measurement result of the amount of mislanding of the electron beam can be reflected when selecting the main correction lens used in the exposure process of the color cathode ray tube manufactured later. For this reason, the irradiation position of the ultraviolet light (ie,
Even if the relative positional relationship between the BM opening position and the irradiation position of the electron beam fluctuates, the change in the irradiation position of the ultraviolet light can be quickly corrected by exchanging the main correction lens, and the electron for each manufactured color cathode ray tube can be corrected. Variations in the amount of beam mislanding can be reduced.

【0026】次に、本実施の形態のカラー陰極線管の製
造方法をより具体的に説明する。先ず、陰極線管パネル
(ガラスパネル)1を洗浄し、その内面にフォトレジス
ト膜3を塗布する。この陰極線管パネル1にマスク2を
取り付け、図1に示される露光装置の座台17上の所定
位置に陰極線管パネル1を載置する。
Next, a method of manufacturing a color cathode ray tube according to the present embodiment will be described more specifically. First, the cathode ray tube panel (glass panel) 1 is washed, and a photoresist film 3 is applied to the inner surface thereof. A mask 2 is attached to the cathode ray tube panel 1, and the cathode ray tube panel 1 is placed at a predetermined position on a seat 17 of the exposure apparatus shown in FIG.

【0027】次に、図1に示される露光装置の記憶部2
1に蓄積された電子ビームミスランディング量(ここで
は、センタービームミスランディング量)に関するデー
タに基づいて、電子ビームミスランディング量が所望の
値になるように露光工程において使用される主補正レン
ズを複数種類の主補正レンズ15a,15b,15c,
15dの中から選択して露光用位置18bに移動させ
る。ここで、所望のミスランディング量とは設計上決め
られたミスランディング量であり、製造されたカラー陰
極線管が組み込まれる装置(例えば、テレビ受像機やパ
ソコン用のモニタ装置)が持つミスランディング発生要
因を考慮に入れたミスランディング量である。即ち、製
造されたカラー陰極線管が組み込まれる装置が持つミス
ランディング発生要因によって打ち消されるミスランデ
ィング量である。従って、製造されたカラー陰極線管が
組み込まれる装置が持つミスランディング発生要因が全
く無い場合には、所望のミスランディング量は0とな
る。尚、記憶部21に電子ビームミスランディング量に
関するデータが蓄積されていない段階では、設計基準の
主補正レンズ15aを露光用位置に置く。
Next, the storage unit 2 of the exposure apparatus shown in FIG.
Based on the data on the amount of electron beam mislanding (here, the amount of center beam mislanding) accumulated in 1, a plurality of main correction lenses used in the exposure process are used so that the amount of electron beam mislanding becomes a desired value. Types of main correction lenses 15a, 15b, 15c,
15d is selected and moved to the exposure position 18b. Here, the desired mislanding amount is a mislanding amount determined by design, and is a factor of the mislanding occurrence in a device (for example, a television receiver or a monitor device for a personal computer) in which the manufactured color cathode ray tube is incorporated. Is the amount of mislanding taking into account. That is, the mislanding amount is canceled by the mislanding occurrence factor of the device into which the manufactured color cathode ray tube is incorporated. Therefore, if there is no mislanding occurrence factor of the apparatus into which the manufactured color cathode ray tube is incorporated, the desired mislanding amount is zero. In the stage where the data relating to the amount of electron beam mislanding is not stored in the storage unit 21, the main correction lens 15a of the design standard is placed at the exposure position.

【0028】次に、センタービーム照射位置を露光する
ための平行平板レンズ14aを選択し、ランプハウス1
2から発せられた紫外線光を、調光フィルタ13、平行
平板レンズ14a、露光用位置にある主補正レンズ15
を介し、陰極線管パネル1に取り付けられたマスク2の
開口部を通して陰極線管パネル1の内面に備えられたフ
ォトレジスト膜3に照射する。次に、サイドビーム照射
位置を露光するための傾斜型平板レンズ14bを選択
し、ランプハウス12から発せられた紫外線光を、調光
フィルタ13、傾斜型平板レンズ14b、露光用位置に
ある主補正レンズ15を介し、陰極線管パネル1に取り
付けられたマスク2の開口部を通して陰極線管パネル1
の内面に備えられたフォトレジスト膜3に照射する。次
に、サイドビーム照射位置を露光するための傾斜型平板
レンズ14cを選択し、ランプハウス12から発せられ
た紫外線光を、調光フィルタ13、傾斜型平板レンズ1
4c、露光用位置にある主補正レンズ15を介し、陰極
線管パネル1に取り付けられたマスク2の開口部を通し
て陰極線管パネル1の内面に備えられたフォトレジスト
膜3に照射する。
Next, the parallel plate lens 14a for exposing the center beam irradiation position is selected, and the lamp house 1 is selected.
The ultraviolet light emitted from the light source 2 is converted into a light control filter 13, a parallel plate lens 14a, and a main correction lens 15 at an exposure position.
Irradiate the photoresist film 3 provided on the inner surface of the cathode ray tube panel 1 through the opening of the mask 2 attached to the cathode ray tube panel 1 via the. Next, the inclined flat lens 14b for exposing the side beam irradiation position is selected, and the ultraviolet light emitted from the lamp house 12 is applied to the dimming filter 13, the inclined flat lens 14b, and the main correction at the exposure position. Through the opening of the mask 2 attached to the cathode ray tube panel 1 through the lens 15, the cathode ray tube panel 1
Irradiate the photoresist film 3 provided on the inner surface of the substrate. Next, the inclined flat lens 14c for exposing the side beam irradiation position is selected, and the ultraviolet light emitted from the lamp house 12 is passed through the dimming filter 13, the inclined flat lens 1
4c, irradiate the photoresist film 3 provided on the inner surface of the cathode ray tube panel 1 through the opening of the mask 2 attached to the cathode ray tube panel 1 through the main correction lens 15 at the exposure position.

【0029】次に、露光を終えた陰極線管パネル1は、
フォトレジスト膜3の紫外線光が照射された部分を現像
除去し、その上にグラファイト膜を塗布し、エッチング
によりフォトレジスト膜が除去された部分にのみグラフ
ァイト膜を残すことによってブラックマトリクス(B
M)を形成する。その後、ブラックマトリクスが形成さ
れなかった部分(BM開口部)に蛍光体層を形成する。
Next, the cathode ray tube panel 1 after the exposure is
The black matrix (B) is obtained by developing and removing the portion of the photoresist film 3 irradiated with the ultraviolet light, applying a graphite film thereon, and leaving the graphite film only in the portion where the photoresist film has been removed by etching.
M). Thereafter, a phosphor layer is formed in a portion (BM opening) where the black matrix is not formed.

【0030】次に、陰極線管パネル1に内装処理を施さ
れたガラスファンネルを封着し、さらにネックに電子銃
を封着し、その後、ガラス管内のガス出しを行って高真
空にする。このカラー陰極線管に高電圧を印加して陰極
線管内のゴミを放電によって除去し(シーズニング工
程)、さらに電子銃カソードの活性を行ってエミッショ
ンを整えて(エージング工程)、カラー陰極線管の諸特
性検査を行い(特性検査工程)、ファンネル外装処理及
び防爆バンド巻き付け処理を行う。その後、電子銃によ
って電子ビームを走査することによって、特性の初期的
経時変化を検査し(ラスターエージング工程)、その
後、図4に示される測定治具を用いてセンタービームミ
スランディング量の測定を行う。
Next, the cathode ray tube panel 1 is sealed with a glass funnel which has been subjected to an interior treatment, and further, an electron gun is sealed with a neck. Thereafter, the inside of the glass tube is degassed to make a high vacuum. A high voltage is applied to the color cathode ray tube to remove dust in the cathode ray tube by discharging (seasoning process), and further activate the electron gun cathode to adjust the emission (aging process) to inspect various characteristics of the color cathode ray tube. (Characteristic inspection process), and perform a funnel exterior treatment and an explosion-proof band winding treatment. After that, the electron beam is scanned by an electron gun to inspect the initial time-dependent change in characteristics (raster aging step), and thereafter, the center beam mislanding amount is measured using a measuring jig shown in FIG. .

【0031】センタービームミスランディング量の測定
は、例えば、図4に示す9箇所で行い、測定結果を図4
に示される制御部32から図1に示される記憶部21
に、例えば、回線を通して転送する。制御部22は、記
憶部21に蓄積された測定結果を平均化し、この平均化
された測定結果に基づいて次の露光処理における最適な
主補正レンズの選択をする。
The center beam mislanding amount is measured, for example, at nine locations shown in FIG.
1 to the storage unit 21 shown in FIG.
, For example, through a line. The control unit 22 averages the measurement results stored in the storage unit 21, and selects an optimal main correction lens in the next exposure processing based on the averaged measurement results.

【0032】例えば、TLを、有効画面の左上コーナー
付近のセンタービームミスランディング量、BLを、有
効画面の左下コーナー付近のセンタービームミスランデ
ィング量、TRを、有効画面の右上コーナー付近のセン
タービームミスランディング量、BRを、有効画面の右
下コーナー付近のセンタービームミスランディング量、
Mを、有効画面の中心付近のセンタービームミスランデ
ィング量、Lを、有効画面左辺の中心付近のセンタービ
ームミスランディング量、Rを、有効画面右辺の中心付
近のセンタービームミスランディング量、Tを、有効画
面上辺の中心付近のセンタービームミスランディング
量、Bを、有効画面下辺の中心付近のセンタービームミ
スランディング量としたときに、センタービームミスラ
ンディング量のシフト成分、回転成分、ハの字成分のそ
れぞれを、下記の式(1)〜(3)のように定義する。
尚、TL,BL,TR,BR,M,L,R,T,Bの値
は、有効画面の水平方向(X方向)におけるズレ値であ
り、有効画面に向って顕微鏡視で右方向を正方向、その
逆を負方向としている。また、有効画面の垂直方向(Y
方向)のズレ値は考慮しない。
For example, TL is the center beam mislanding amount near the upper left corner of the effective screen, BL is the center beam mislanding amount near the lower left corner of the effective screen, and TR is the center beam mislanding amount near the upper right corner of the effective screen. Landing amount, BR, the center beam mislanding amount near the lower right corner of the effective screen,
M is the center beam mislanding amount near the center of the effective screen, L is the center beam mislanding amount near the center of the left side of the effective screen, R is the center beam mislanding amount near the center of the right side of the effective screen, T is When the center beam mislanding amount near the center of the upper side of the effective screen, B, is the center beam mislanding amount near the center of the lower side of the effective screen, the shift component, the rotation component, and the C-shaped component of the center beam mislanding amount Each is defined as in the following equations (1) to (3).
The values of TL, BL, TR, BR, M, L, R, T, and B are deviation values in the horizontal direction (X direction) of the effective screen. Direction, and vice versa. In addition, the vertical direction (Y
The deviation value in the direction is not considered.

【0033】 シフト成分=(L+R)/2−M …(1) 回転成分 =(TL+T+TR−BL−B−BR)/6 …(2) ハの字成分=(TL−TR+BR−BL)/4 …(3)Shift component = (L + R) / 2−M (1) Rotation component = (TL + T + TR−BL−B−BR) / 6 (2) C-shape component = (TL−TR + BR−BL) / 4 (3)

【0034】上記の式(1)〜(3)によって求められ
た生産品における現状の各ミスランディング成分をαと
し、各測定点における所望のミスランディング量から求
めた各ミスランディング成分をβとしたときに、各ミス
ランディング成分として修正が必要な量は、下記の式
(4)〜(6)で得られる。
Each of the present mislanding components in the product obtained by the above equations (1) to (3) is represented by α, and each of the mislanding components obtained from the desired mislanding amount at each measurement point is represented by β. Sometimes, the amount that needs to be corrected as each mislanding component is obtained by the following equations (4) to (6).

【0035】 シフト成分修正量=(シフト成分α)−(シフト成分β) …(4) 回転成分修正量 =(回転成分α) −(回転成分β) …(5) ハの字成分修正量=(ハの字成分α)−(ハの字成分β) …(6)Shift component correction amount = (shift component α) − (shift component β) (4) rotation component correction amount = (rotation component α) − (rotation component β) (5) C-shaped component correction amount = (C-shape component α) − (C-shape component β) (6)

【0036】上記式(4)〜(6)で求められた各ミス
ランディング成分の修正量の中で、最も大きな値を示す
ミスランディング成分の修正量が所定の規定値を越えて
いる場合には、予め上記修正量に相当する光偏向特性を
備えた主補正レンズを選択して、露光用位置に移動させ
る。
In the case where the correction amount of the mislanding component having the largest value among the correction amounts of the respective mislanding components obtained by the above equations (4) to (6) exceeds a predetermined value, Then, a main correction lens having a light deflection characteristic corresponding to the correction amount is selected in advance and moved to the exposure position.

【0037】このように本実施の形態の製造方法によれ
ば、BM製造で使用している露光装置別にセンタービー
ムミスランディング量を把握し、所望のミスランディン
グ量に対して変動が認められる場合には、その変動した
ミスランディング成分と所望のミスランディング成分と
の差から修正量を求めたうえで、露光装置別にミスラン
ディング修正を迅速に行うことができる。従って、製造
されたカラー陰極線管毎にミスランディング量のバラツ
キを少なくでき、製造されたカラー陰極線管毎の特性を
一定にできる。
As described above, according to the manufacturing method of the present embodiment, the center beam mislanding amount is grasped for each exposure apparatus used in the BM manufacturing, and when the desired mislanding amount varies, Can determine the amount of correction from the difference between the fluctuating mislanding component and the desired mislanding component, and then quickly correct the mislanding for each exposure apparatus. Therefore, the variation in the amount of mislanding can be reduced for each manufactured color cathode ray tube, and the characteristics of each manufactured color cathode ray tube can be made constant.

【0038】また、センタービームミスランディング量
測定工程をラスターエージング工程の後に実施している
ので、カラー陰極線管のセンタービームミスランディン
グ量の測定データとして、正確なデータが得られる。但
し、センタービームミスランディング量測定工程は、ラ
スターエージング工程の前に実施してもよい。
Further, since the center beam mislanding amount measurement step is performed after the raster aging step, accurate data can be obtained as the measurement data of the center beam mislanding amount of the color cathode ray tube. However, the center beam mislanding amount measuring step may be performed before the raster aging step.

【0039】[0039]

【発明の効果】以上説明したように、請求項1から3ま
での製造方法によれば、先に製造されたカラー陰極線管
の電子ビームミスランディング量の測定結果を後に製造
されるカラー陰極線管の露光工程において使用される主
補正レンズの選択に迅速に反映させているので、製造さ
れたカラー陰極線管毎の電子ビームミスランディング量
のバラツキを小さくすることができるという効果があ
る。
As described above, according to the manufacturing method of the first to third aspects, the measurement result of the amount of electron beam mislanding of the color cathode ray tube manufactured earlier is used for the color cathode ray tube manufactured later. Since this is promptly reflected in the selection of the main correction lens used in the exposure process, there is an effect that the variation in the amount of electron beam mislanding for each manufactured color cathode ray tube can be reduced.

【0040】また、請求項2の発明によれば、電子ビー
ムミスランディング量の測定の前に、完成したカラー陰
極線管をラスターエージングさせているので、信頼性の
高い測定データに基づいて後に製造されるカラー陰極線
管の露光工程において使用される主補正レンズの選択を
行うことができ、製造されたカラー陰極線管毎の電子ビ
ームミスランディング量のバラツキを小さくすることが
できるという効果がある。
According to the second aspect of the present invention, since the completed color cathode ray tube is raster-aged before the measurement of the amount of electron beam mislanding, it is manufactured later based on highly reliable measurement data. The main correction lens used in the exposure process of the color cathode ray tube can be selected, and there is an effect that the variation in the amount of electron beam mislanding for each manufactured color cathode ray tube can be reduced.

【0041】また、請求項4及び5の露光装置によれ
ば、先に製造されたカラー陰極線管の電子ビームミスラ
ンディング量の測定結果を後に製造されるカラー陰極線
管の露光工程において使用される主補正レンズの選択に
迅速に反映させているので、製造されたカラー陰極線管
毎の電子ビームミスランディング量のバラツキを小さく
することができるという効果がある。
According to the exposure apparatus of the fourth and fifth aspects, the measurement result of the amount of electron beam mislanding of the previously manufactured color cathode ray tube is mainly used in the exposure process of the color cathode ray tube manufactured later. Since it is promptly reflected in the selection of the correction lens, there is an effect that the variation in the amount of mislanding of the electron beam for each manufactured color cathode ray tube can be reduced.

【0042】また、請求項5の発明によれば、ターンテ
ーブルを回転させることにより主補正レンズの交換がで
きるので、主補正レンズの交換を迅速に行うことができ
るという効果がある。
According to the fifth aspect of the present invention, since the main correction lens can be replaced by rotating the turntable, the main correction lens can be quickly replaced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明の実施の形態に係るカラー陰極線管の
製造方法を実施する際に使用される露光装置を概略的に
示す構成図である。
FIG. 1 is a configuration diagram schematically showing an exposure apparatus used when performing a method of manufacturing a color cathode ray tube according to an embodiment of the present invention.

【図2】 図1の露光装置の主補正レンズを保持するタ
ーンテーブル機構を概略的に示す平面図である。
FIG. 2 is a plan view schematically showing a turntable mechanism for holding a main correction lens of the exposure apparatus of FIG.

【図3】 電子ビームミスランディング成分を示す図で
あり、(a)はシフト成分、(b)は回転成分、(c)
はハの字成分を示す。
3A and 3B are diagrams showing electron beam mislanding components, wherein FIG. 3A shows a shift component, FIG. 3B shows a rotation component, and FIG.
Indicates a C-shaped component.

【図4】 本発明の実施の形態に係るカラー陰極線管の
製造方法を実施する際に使用される電子ビームミスラン
ディング量の測定治具を概略的に示す構成図である。
FIG. 4 is a configuration diagram schematically showing a jig for measuring an amount of mislanding of an electron beam used when carrying out a method of manufacturing a color cathode ray tube according to an embodiment of the present invention.

【図5】 図4の測定装置における測定原理を示す説明
図である。
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a measurement principle in the measurement device of FIG.

【図6】 図1の露光装置及び図4の測定治具を使用し
て行う本実施の形態のカラー陰極線管の製造方法を概略
的に示すフローチャートである。
6 is a flowchart schematically showing a method of manufacturing a color cathode ray tube according to the present embodiment, which is performed using the exposure apparatus of FIG. 1 and the measuring jig of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 陰極線管パネル、 1a 有効画面、 2 マス
ク、 3 フォトレジスト膜、 11 光源、 12
ランプハウス、 13 調光フィルタ、 14(14
a,14b,14c) 平板レンズ、 15(15a,
15b,15c,15d) 主補正レンズ、 16 カ
バーガラス、 18 ターンテーブル、 18a XY
シフト部、 18b 露光用位置、 19 モータ、
20 駆動部、 21 記憶部、 22 制御部。
Reference Signs List 1 cathode ray tube panel, 1a effective screen, 2 mask, 3 photoresist film, 11 light source, 12
Lamp house, 13 dimming filter, 14 (14
a, 14b, 14c) flat lens, 15 (15a,
15b, 15c, 15d) Main correction lens, 16 cover glass, 18 turntable, 18a XY
Shift unit, 18b exposure position, 19 motor,
20 drive part, 21 storage part, 22 control part.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01J 9/42 H01J 9/42 A 9/44 9/44 A ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) H01J 9/42 H01J 9/42 A 9/44 9/44 A

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光源と、光偏向特性の異なる複数種類の
主補正レンズと、上記主補正レンズのいずれかを選択的
に露光用位置に移動させるレンズ交換手段と、記憶手段
とを有する露光装置による露光処理を含むカラー陰極線
管の製造方法であって、(a) 上記記憶手段に蓄積さ
れた電子ビームミスランディング量に関するデータに基
づいて、製造されるカラー陰極線管の電子ビームミスラ
ンディング量が所望の値になるように次の露光工程にお
いて使用される主補正レンズを上記複数種類の主補正レ
ンズの中から選択して露光用位置に移動させる工程と、
(b) 上記光源から発せられた紫外線光を、露光用位
置にある上記主補正レンズを介し、陰極線管パネルに取
り付けられたマスクの開口部を通して陰極線管パネルの
内面に備えられたフォトレジスト膜に照射する露光工程
と、(c) 上記陰極線管パネル内面にブラックマトリ
クス及び蛍光体層を形成する工程と、(d) 上記陰極
線管パネルを用いてカラー陰極線管を完成させる工程
と、(e) 別の陰極線管パネルに対して、同じ露光装
置を使用して上記工程(a)及び上記工程(b)を繰り
返す工程と並行して、完成したカラー陰極線管毎に電子
ビームミスランディング量を測定し、この測定により得
られたデータを上記記憶手段に蓄積する工程とを有する
ことを特徴とするカラー陰極線管の製造方法。
1. An exposure apparatus comprising: a light source; a plurality of types of main correction lenses having different light deflection characteristics; lens exchange means for selectively moving any of the main correction lenses to an exposure position; A method for manufacturing a color cathode ray tube including an exposure process according to (a), wherein the amount of electron beam mislanding of the manufactured color cathode ray tube is determined based on the data on the amount of electron beam mislanding stored in the storage means. A step of selecting a main correction lens to be used in the next exposure step from among the plurality of types of main correction lenses and moving the main correction lens to an exposure position so as to have a value of
(B) passing the ultraviolet light emitted from the light source through the opening of the mask attached to the cathode ray tube panel through the main correction lens at the exposure position to the photoresist film provided on the inner surface of the cathode ray tube panel; An exposure step of irradiating; (c) a step of forming a black matrix and a phosphor layer on the inner surface of the cathode ray tube panel; (d) a step of completing a color cathode ray tube using the cathode ray tube panel; In parallel with the step of repeating the above steps (a) and (b) using the same exposure apparatus for the CRT panel, the amount of electron beam mislanding was measured for each completed color cathode ray tube, Storing the data obtained by the measurement in the storage means.
【請求項2】 上記工程(e)における電子ビームミス
ランディング量の測定の前に、完成したカラー陰極線管
をラスターエージングする工程を有することを特徴とす
る請求項1記載のカラー陰極線管の製造方法。
2. A method for manufacturing a color cathode ray tube according to claim 1, further comprising a step of raster aging the completed color cathode ray tube before the measurement of the amount of electron beam mislanding in the step (e). .
【請求項3】 上記工程(e)における電子ビームミス
ランディング量の測定を、カラー陰極線管の有効画面の
4つのコーナー付近、有効画面の中心付近、及び有効画
面の各辺の中心付近において測定することを特徴とする
請求項1又は2のいずれか一つに記載のカラー陰極線管
の製造方法。
3. The measurement of the amount of mislanding of the electron beam in the step (e) is performed near four corners of the effective screen of the color cathode ray tube, near the center of the effective screen, and near the center of each side of the effective screen. The method for manufacturing a color cathode ray tube according to claim 1, wherein:
【請求項4】 紫外線光を発する光源と、 上記光源から発せられた紫外線光を偏向する主補正レン
ズとを有し、上記光源から発せられた紫外線光を、露光
用位置にある主補正レンズを介し、陰極線管パネルに取
り付けられたマスクの開口部を通して陰極線管パネルの
内面に備えられたフォトレジスト膜に照射する露光装置
において、 光偏向特性の異なる複数種類の主補正レンズを保持し、
いずれかの主補正レンズを選択的に露光用位置に移動さ
せるレンズ交換手段と、 同じ露光装置を使用して先に完成したカラー陰極線管毎
に測定された電子ビームのミスランディング量に関する
データを蓄積する記憶手段と、 上記記憶手段に蓄積された電子ビームミスランディング
量に関するデータに基づいて、次に製造されるカラー陰
極線管の電子ビームミスランディング量が所望の値にな
るように主補正レンズを上記複数種類の主補正レンズの
中から選択して露光用位置に移動させる制御を行う制御
手段とを有することを特徴とする露光装置。
4. A light source that emits ultraviolet light, and a main correction lens that deflects the ultraviolet light emitted from the light source. The main correction lens that is located at an exposure position emits the ultraviolet light emitted from the light source. In an exposure apparatus for irradiating a photoresist film provided on the inner surface of a cathode ray tube panel through an opening of a mask attached to the cathode ray tube panel, a plurality of types of main correction lenses having different light deflection characteristics are held,
Lens exchange means for selectively moving one of the main correction lenses to the exposure position, and accumulating data on the amount of mislanding of the electron beam measured for each previously completed color cathode ray tube using the same exposure equipment And a main correction lens, based on the data on the amount of electron beam mislanding stored in the storage means, so that the amount of electron beam mislanding of the color cathode ray tube manufactured next has a desired value. An exposure apparatus comprising: a control unit that performs a control of selecting one of a plurality of types of main correction lenses and moving the lens to an exposure position.
【請求項5】 上記レンズ交換手段が、 上記複数種類の主補正レンズを保持し、いずれか一つの
主補正レンズを選択的に露光用位置に置くターンテーブ
ルと、 上記ターンテーブルを回転させるモータと、 上記モータを駆動させる駆動手段とを有することを特徴
とする請求項4記載の露光装置。
5. A turntable for holding the plurality of types of main correction lenses and selectively placing any one of the main correction lenses at an exposure position, and a motor for rotating the turntable. 5. An exposure apparatus according to claim 4, further comprising a driving unit for driving said motor.
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