JP2001291586A - Display pattern forming method of organic el element - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、有機エレクトロル
ミネセンス（ＥＬ）素子の表示パターン（発光パター
ン）を形成する方法に関する。本発明は、固定パターン
による発光表示を行う有機ＥＬ素子等に利用される。[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a method for forming a display pattern (light emission pattern) of an organic electroluminescence (EL) element. INDUSTRIAL APPLICATION This invention is utilized for the organic EL element etc. which perform the light emission display by a fixed pattern.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、固定パターンによる発光表示を行
う有機ＥＬ素子において表示パターンを形成する方法と
しては、陽極及び陰極のうちの一方の電極及び発光層を
ベタに形成し、他方の電極を表示パターンの形状に形成
することにより、表示パターンに相当する部分の発光層
のみに電圧を印加して発光させる方法が知られている。
また、特開平１０−２８４２５４号公報には、表示パタ
ーン形状にくり抜かれた貫通孔を有するようにパターン
化された絶縁層を両電極の間に設け、この絶縁層により
発光パターン以外の部分が発光しないようにした有機Ｅ
Ｌ素子が開示されている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of forming a display pattern in an organic EL device which performs light-emitting display by a fixed pattern, one electrode and a light-emitting layer of an anode and a cathode are formed solid, and the other electrode is displayed. There is known a method in which a voltage is applied to only a portion of a light emitting layer corresponding to a display pattern to emit light by forming the light emitting layer in a pattern shape.
In Japanese Patent Application Laid-Open No. 10-284254, an insulating layer patterned so as to have a through hole cut out in a display pattern shape is provided between both electrodes, and a portion other than the light emitting pattern is illuminated by the insulating layer. Organic E not to be
An L element is disclosed.
【０００３】[0003]
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術はいずれ
も電極又は絶縁層を所定のパターンに形成する工程を必
要とする。この方法としては、蒸着マスクを用いる方
法、フォトリソグラフィによる方法等がある。しかし、
このうち蒸着マスクを用いる方法によると、環状のパタ
ーンの内側に独立して位置する別のパターンを有するパ
ターン（例えば二重丸形状のパターン）等を形成する場
合には、一枚の蒸着マスクで形成することができないた
め、複数枚の蒸着マスクを用いて複数回の蒸着工程を行
わなくてはならない。一方、フォトリソグラフィによる
方法は、適用するパターン形状の自由度は高いが、レジ
ストパターン形成、露光、エッチングなど多くの工数を
必要とし、またレジスト残渣により発光欠陥が生じる恐
れがある。All of the above prior arts require a step of forming an electrode or an insulating layer in a predetermined pattern. As this method, there are a method using a deposition mask, a method using photolithography, and the like. But,
According to the method using an evaporation mask, when a pattern having another pattern independently positioned inside the annular pattern (for example, a double-circle pattern) or the like is formed, one evaporation mask is used. Since it cannot be formed, a plurality of evaporation steps must be performed using a plurality of evaporation masks. On the other hand, the photolithography method has a high degree of freedom in the pattern shape to be applied, but requires many man-hours such as resist pattern formation, exposure, and etching, and may cause a light emission defect due to a resist residue.
【０００４】本発明の目的は、簡単な工程によって様々
な表示パターンを形成することができる有機ＥＬ素子の
表示パターン形成方法を提供することにある。An object of the present invention is to provide a method for forming a display pattern of an organic EL device, which can form various display patterns by a simple process.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明における第１発明の有機ＥＬ素子の表示パタ
ーン形成方法は、透明基板上に有機ＥＬ膜を形成した
後、該有機ＥＬ膜の所定部分に高温マスクを接触させる
ことにより当該部分の発光を失活させることを特徴とす
る。According to a first aspect of the present invention, there is provided a method for forming a display pattern of an organic EL device, comprising: forming an organic EL film on a transparent substrate; By contacting a high temperature mask with a predetermined portion, light emission of the portion is deactivated.
【０００６】第２発明の有機ＥＬ素子の表示パターン形
成方法は、第１発明の方法において、上記高温マスクを
接触させることにより、上記有機ＥＬ膜を構成する発光
層、正孔輸送層および電子輸送層のうち少なくとも一つ
の層の機能を失わせることを特徴とする。A display pattern forming method for an organic EL device according to a second aspect of the present invention is the method according to the first aspect, wherein the high temperature mask is brought into contact with the light emitting layer, hole transport layer, and electron transport constituting the organic EL film. The function of at least one of the layers is lost.
【０００７】第３発明の有機ＥＬ素子の表示パターン形
成方法は、有機ＥＬ膜を構成する少なくとも一つの有機
層を透明基板上に形成した後、該有機層の所定部分に高
温マスクを接触させて当該部分の上記有機層の機能を失
わせることにより、上記有機ＥＬ膜における当該部分の
発光を失活させることを特徴とする。According to a third aspect of the present invention, there is provided a method for forming a display pattern of an organic EL element, comprising: forming at least one organic layer constituting an organic EL film on a transparent substrate; and contacting a predetermined portion of the organic layer with a high-temperature mask. By losing the function of the organic layer in the portion, light emission in the portion in the organic EL film is deactivated.
【０００８】以下、本発明につき詳細に説明する。上記
「透明基板」としては、有機ＥＬ積層体の発光による文
字、図形等の視認が損なわれない程度の透明性を有する
材質からなるものを使用することができる。また、有機
ＥＬ素子の表層としての形状を保持し得るだけの強度を
併せ有し、かつ表面が容易に傷付かない程度の硬さを有
するものが好ましい。そのような基板としては、ガラス
の他、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルスル
ホン、ポリカーボネート等からなるものを使用すること
もできる。この透明基板は無色透明であってもよいし、
適宜の色調に着色された着色透明のものであってもよ
い。Hereinafter, the present invention will be described in detail. As the above-mentioned "transparent substrate", a substrate made of a material having such transparency as not to impair the visibility of characters, figures and the like by light emission of the organic EL laminate can be used. In addition, it is preferable that the organic EL element has strength enough to maintain the shape of the surface layer of the organic EL element and has such hardness that the surface is not easily damaged. As such a substrate, a substrate made of polyethylene terephthalate, polyether sulfone, polycarbonate, or the like can be used in addition to glass. This transparent substrate may be colorless and transparent,
It may be colored and transparent with an appropriate color tone.
【０００９】この透明基板上に、陽極、有機ＥＬ膜及び
陰極を積層して「有機ＥＬ積層膜」が構成される。両極
の間に配置される有機ＥＬ膜は、少なくとも発光層を備
え、この発光層に加えて正孔輸送層及び／又は電子輸送
層を有してもよく、更に正孔注入層及び／又は電子注入
層を有してもよい。陽極、陰極及び有機ＥＬ膜を構成す
る材料としては、それぞれ種々の公知材料を用いること
ができる。これらの各層を形成する方法は、真空蒸着
法、スピンコート法、キャスト法、スパッタリング法、
ＬＢ法等の方法から適宜選択すればよい。なお、本明細
書中において、有機ＥＬ膜を構成する発光層、正孔輸送
層、電子輸送層、正孔注入層および電子注入層等の各層
を「有機層」ともいう。An "organic EL laminated film" is formed by laminating an anode, an organic EL film and a cathode on this transparent substrate. The organic EL film disposed between the two electrodes includes at least a light emitting layer, and may have a hole transport layer and / or an electron transport layer in addition to the light emitting layer. It may have an injection layer. Various known materials can be used for the materials constituting the anode, the cathode, and the organic EL film. The method of forming each of these layers includes a vacuum deposition method, a spin coating method, a casting method, a sputtering method,
What is necessary is just to select suitably from methods, such as LB method. In the present specification, each layer of the organic EL film, such as a light emitting layer, a hole transport layer, an electron transport layer, a hole injection layer, and an electron injection layer, is also referred to as an “organic layer”.
【００１０】本発明の方法では、上記有機ＥＬ膜の所定
部分に高温マスクを接触させ、その部分の発光を失活さ
せることにより表示パターンを形成する。この「発光の
失活」は、有機ＥＬ膜を構成する各有機層のいずれか
（例えば発光層、正孔輸送層および電子輸送層のうち少
なくとも一つ）が、高温マスクの接触により付与される
熱で変質して、その有機層が本来有する輸送機能や発光
機能等を失うことにより起こる。ここで「変質」とは、
有機層を構成する化合物が熱により構造変化を起こした
り、分解して揮散したりすることを指す。高温マスク
は、有機ＥＬ膜の形成終了後であってこの有機ＥＬ膜上
に電極を形成する前の段階で有機ＥＬ膜に直接接触させ
てもよく、有機ＥＬ膜上に電極を形成した後この電極越
しに接触させてもよいが、形成されるパターンの精度の
点からは電極の形成前に高温マスクを有機ＥＬ膜に直接
接触させることが好ましい。In the method of the present invention, a display pattern is formed by bringing a high-temperature mask into contact with a predetermined portion of the organic EL film and deactivating light emission in that portion. This “inactivation of light emission” is imparted by contact of a high-temperature mask with any one of the organic layers constituting the organic EL film (for example, at least one of the light-emitting layer, the hole transport layer, and the electron transport layer). It is caused by deterioration due to heat and loss of the transport function, light-emitting function, and the like that the organic layer originally has. Here, "alteration" means
It means that the compound constituting the organic layer undergoes a structural change due to heat or decomposes and volatilizes. The high-temperature mask may be brought into direct contact with the organic EL film at the stage after the formation of the organic EL film is completed and before the electrode is formed on the organic EL film, or after the electrode is formed on the organic EL film. Although the contact may be made through the electrodes, it is preferable that the high-temperature mask be brought into direct contact with the organic EL film before the electrodes are formed from the viewpoint of the accuracy of the pattern to be formed.
【００１１】また、有機ＥＬ膜の発光を左右する有機層
（例えば発光層、正孔輸送層および電子輸送層等のうち
少なくとも一つ）が形成された後であれば、有機ＥＬ膜
の形成が終了する前に高温マスクを接触させてもよい。
上記発光を左右する層の機能が所定の形状に失われてい
れば、その上から残りの有機層をベタに形成しても該当
部分の発光が失活した有機ＥＬ膜が得られる。有機ＥＬ
膜の形成が終了する前に高温マスクを接触させる場合に
は、先に形成された有機層が高温マスクの接触により分
解または炭化されても、その上からさらに有機層が形成
されるので、電極間の短絡を防止できるという利点があ
る。Further, after an organic layer (for example, at least one of a light emitting layer, a hole transporting layer, an electron transporting layer, etc.) which influences light emission of the organic EL film is formed, the organic EL film is not formed. A hot mask may be brought into contact before finishing.
If the function of the layer which affects light emission is lost in a predetermined shape, an organic EL film in which light emission of the corresponding portion is inactivated can be obtained even if the remaining organic layer is solidly formed thereon. Organic EL
If the high-temperature mask is brought into contact before the formation of the film is completed, even if the previously formed organic layer is decomposed or carbonized by the contact of the high-temperature mask, an organic layer is further formed thereon, so that the electrode There is an advantage that a short circuit between them can be prevented.
【００１２】上記「高温マスク」とは、高温に加熱して
使用されるマスク部材をいう。その材質は特に限定され
ないが、成形性および耐熱性に優れ、かつマスク全体を
均一に加熱しやすいことから、金属（例えば鉄、アルミ
ニウム、銅およびこれらの合金等）を使用することが好
ましい。高温マスクの裏面または内部等には、この高温
マスクの加熱や温度制御を容易にする等の目的で、ヒー
タ等の発熱手段を設けることができる。この高温マスク
は、その外形（輪郭、貫通孔の有無等）や表面（有機Ｅ
Ｌ膜等に接触される側の面）に設けられた凹凸等によ
り、有機ＥＬ膜または有機層（以下、合わせて「有機Ｅ
Ｌ膜等」という。）と接触する部分が所定の形状に規定
されている。透明基板上に形成された有機ＥＬ膜等の形
状から、この高温マスクの接触部分を除くことにより、
所望の形状の表示パターンが形成される。The above-mentioned "high-temperature mask" refers to a mask member used by being heated to a high temperature. The material is not particularly limited, but it is preferable to use a metal (for example, iron, aluminum, copper, or an alloy thereof) because of excellent moldability and heat resistance and easy uniform heating of the entire mask. A heating means such as a heater can be provided on the back surface or inside of the high-temperature mask for the purpose of heating the high-temperature mask and facilitating temperature control. This high-temperature mask has its outer shape (contour, presence or absence of through holes, etc.) and surface (organic E).
The organic EL film or the organic layer (hereinafter collectively referred to as “organic E”) is formed by unevenness or the like provided on the surface in contact with the L film or the like.
L film etc. " ) Is defined in a predetermined shape. By removing the contact portion of the high-temperature mask from the shape of the organic EL film or the like formed on the transparent substrate,
A display pattern having a desired shape is formed.
【００１３】なお、高温マスクの表面に設けられた凹凸
により有機ＥＬ膜等との接触部分を規定する場合には、
接触部と非接触部との高低差が０．１ｍｍ以上であるこ
とが好ましく、０．５〜５ｍｍの範囲とすることが好ま
しい。この方法によると、形成しようとする表示パター
ンに対応した形状の凹部が形成された高温マスク等を、
ベタに形成された有機ＥＬ膜等に接触させる等の簡単な
方法により、任意の形状の表示パターンを形成すること
ができる。非接触部を貫通孔ではなく凹部とすることに
より、従来の蒸着マスク等とは異なり、二重丸形状のパ
ターン等も単独の高温マスクを用いて作製することがで
きる。高温マスクの接触される有機ＥＬ膜等は、ベタに
形成されていてもパターン化されていてもよいが、製造
時の作業性等の点からは少なくともある範囲にわたって
ベタに形成されていることが好ましい。この場合には、
本発明の方法を用いることによる工程簡素化の効果がよ
く発揮される。When the contact portion with the organic EL film or the like is defined by the irregularities provided on the surface of the high-temperature mask,
The height difference between the contact portion and the non-contact portion is preferably 0.1 mm or more, and more preferably in the range of 0.5 to 5 mm. According to this method, a high-temperature mask or the like in which a concave portion having a shape corresponding to a display pattern to be formed is formed,
A display pattern of an arbitrary shape can be formed by a simple method such as contact with a solid organic EL film or the like. By making the non-contact portion a concave portion instead of a through-hole, unlike a conventional vapor deposition mask or the like, a double circular pattern or the like can be produced using a single high-temperature mask. The organic EL film or the like that is brought into contact with the high-temperature mask may be formed solid or patterned, but it is necessary that the organic EL film be formed solid at least over a certain range from the viewpoint of workability during manufacturing. preferable. In this case,
The effect of the process simplification by using the method of the present invention is well exhibited.
【００１４】有機ＥＬ膜等に接触させる際の高温マスク
の温度は、処理しようとする有機層の機能を失わせるこ
とのできる温度であればよく、例えば１５０〜５００
℃、好ましくは１８０〜４８０℃、より好ましくは２０
０〜４５０℃の範囲である。処理温度が低すぎると、有
機層の機能を十分に失わせることができなかったり、有
機層の機能を失わせるために要する接触時間が長くなっ
たりして、得られる表示パターンの精度が低下する。一
方、処理温度を不必要に高くするとエネルギー効率が低
下し、また有機ＥＬ膜の形成後に高温マスクを接触させ
る場合には有機層が分解や炭化等を起こして電極間がシ
ョートする恐れがある。有機ＥＬ膜等と高温マスクとの
接触時間は、処理しようとする有機層の耐熱性（機能を
失う温度）や処理時における高温マスクの温度等により
異なるが、通常は１〜１００秒とすることが好ましく、
５〜１０秒とすることがより好ましい。接触時間が短す
ぎると、有機層の機能を十分に失わせることができなか
ったり、処理の程度にムラが生じたりしやすい。接触時
間が長すぎると、高温マスクと接触していない部分の有
機層までもが熱伝導により機能を失い、得られる表示パ
ターンの寸法精度が低下する場合がある。The temperature of the high-temperature mask when it is brought into contact with the organic EL film or the like may be any temperature at which the function of the organic layer to be processed can be lost, for example, 150 to 500.
° C, preferably 180-480 ° C, more preferably 20 ° C.
The range is 0 to 450 ° C. If the processing temperature is too low, the function of the organic layer cannot be sufficiently lost, or the contact time required for losing the function of the organic layer increases, and the accuracy of the obtained display pattern decreases. . On the other hand, if the processing temperature is unnecessarily increased, the energy efficiency decreases, and if a high-temperature mask is brought into contact after the formation of the organic EL film, the organic layer may be decomposed, carbonized, or the like, and the electrodes may be short-circuited. The contact time between the organic EL film or the like and the high-temperature mask depends on the heat resistance (temperature at which the organic layer loses its function) of the organic layer to be processed, the temperature of the high-temperature mask at the time of processing, and the like. Is preferred,
More preferably, it is set to 5 to 10 seconds. If the contact time is too short, the function of the organic layer cannot be sufficiently lost, or the degree of treatment tends to be uneven. If the contact time is too long, even the portion of the organic layer that is not in contact with the high-temperature mask loses its function due to heat conduction, and the dimensional accuracy of the obtained display pattern may be reduced.
【００１５】本発明の方法は、発光色の異なる複数の発
光材料を含む有機ＥＬ素子にも適用することができる。
例えば、赤色発光層、青色発光層および緑色発光層が積
層されたフルカラー表示用の有機ＥＬ素子の表示パター
ンを形成する場合、各層に含まれる発光材料の耐熱性が
赤色＞青色＞緑色であるとすると、まず赤色発光層を形
成して温度ｒの高温マスクにより赤色表示パターンを形
成し、次いでその上に青色発光層を形成して温度ｂ（ｂ
＜ｒ）の高温マスクにより青色表示パターンを形成し、
さらにその上に緑色発光層を形成して温度ｇ（ｇ＜ｂ）
の高温マスクにより緑色表示パターンを形成すればよ
い。The method of the present invention can be applied to an organic EL device including a plurality of luminescent materials having different luminescent colors.
For example, when forming a display pattern of an organic EL element for full-color display in which a red light emitting layer, a blue light emitting layer, and a green light emitting layer are stacked, it is assumed that the heat resistance of the light emitting material included in each layer is red>blue> green. Then, first, a red light emitting layer is formed, a red display pattern is formed by using a high temperature mask having a temperature r, and then a blue light emitting layer is formed thereon, and a temperature b (b
<R) forming a blue display pattern using the high-temperature mask,
Further, a green light emitting layer is formed thereon, and a temperature g (g <b)
The green display pattern may be formed using the high temperature mask described above.
【００１６】本発明の方法は、セグメントタイプの有機
ＥＬ表示素子における表示パターン形成方法として好適
であり、特に最小パターンサイズ０．５ｍｍ以上（より
好ましくは１ｍｍ以上）の表示パターンの形成に好まし
く利用される。The method of the present invention is suitable as a display pattern forming method for a segment type organic EL display element, and is particularly preferably used for forming a display pattern having a minimum pattern size of 0.5 mm or more (more preferably 1 mm or more). You.
【００１７】[0017]
【発明の実施の形態】以下、実施例により本発明を更に
具体的に説明する。 （実施例１）この実施例１は、ベタに形成された有機Ｅ
Ｌ膜に高温マスクを接触させて、円形の表示パターンを
形成した例である。図２に示すように、ソーダ石灰ガラ
スからなる透明基板１上に、ＩＴＯからなる陽極２を形
成した。次いで、図３に示すように、陽極２の上から有
機ＥＬ膜３を、真空蒸着法によりベタに形成した。この
有機ＥＬ膜３は、陽極２側から順に、銅フタロシアニン
錯体からなる正孔注入層、ＴＰＴＥ（トリフェニルアミ
ンの４量体）からなる正孔輸送層、アルミキノリウム錯
体をホストとしキナクリドンをドーピングした発光層、
アルミキノリウム錯体からなる電子輸送層、およびＬｉ
Ｆからなる電子注入層（いずれも図示せず）を積層して
なる。有機ＥＬ膜３の合計厚さは約１５０ｎｍである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, the present invention will be described more specifically by way of examples. (Example 1) In this example 1, the organic E
This is an example in which a circular display pattern is formed by bringing a high-temperature mask into contact with the L film. As shown in FIG. 2, an anode 2 made of ITO was formed on a transparent substrate 1 made of soda-lime glass. Next, as shown in FIG. 3, an organic EL film 3 was formed over the anode 2 by a vacuum evaporation method. The organic EL film 3 includes, in order from the anode 2 side, a hole injection layer made of a copper phthalocyanine complex, a hole transport layer made of TPTE (tetramer of triphenylamine), and quinacridone doped with an aluminum quinolium complex as a host. Light emitting layer,
An electron transport layer comprising an aluminum quinolium complex, and Li
An electron injection layer made of F (both not shown) is laminated. The total thickness of the organic EL film 3 is about 150 nm.
【００１８】図４に示すように、高温マスク４は厚さ５
ｍｍの鉄板からなり、その中央部には直径３ｍｍの貫通
孔４１が設けられている。この高温マスク４をヒータに
より３００℃に加熱して、図１に示すように、有機ＥＬ
膜３の表面に５秒間接触させた。これにより有機ＥＬ膜
３は、高温マスク４が接触した部分であって発光機能を
失った失活部３１と、貫通孔４１により高温マスク４が
接触しなかった部分であって発光機能が維持された発光
部３２とにパタニングされた。なお、この高温マスクに
よる処理は、有機ＥＬ膜３の形成に用いた真空チャンバ
内において、真空を解除した後に窒素雰囲気中で行っ
た。その後、有機ＥＬ膜３上に従来公知の方法で陰極を
形成し、さらに接着剤により封止部材を取り付けて有機
ＥＬ素子を構成した。この有機ＥＬ素子に電圧を印加し
て透明基板１側から観察したところ、図５に示すよう
に、直径２．８ｍｍの円形に発光しており、この円内の
各部において発光輝度はほぼ均一であった。As shown in FIG. 4, the high-temperature mask 4 has a thickness of 5 mm.
and a through hole 41 having a diameter of 3 mm is provided at the center of the iron plate. The high-temperature mask 4 is heated to 300 ° C. by a heater, and as shown in FIG.
The surface of the membrane 3 was contacted for 5 seconds. As a result, the organic EL film 3 is in a portion where the high-temperature mask 4 is in contact with the deactivated portion 31 having lost the light-emitting function, and in a portion where the high-temperature mask 4 is not in contact with the through-hole 41 and the light-emitting function is maintained. The light emitting unit 32 was patterned. The treatment using the high-temperature mask was performed in a vacuum chamber used for forming the organic EL film 3 in a nitrogen atmosphere after releasing the vacuum. Thereafter, a cathode was formed on the organic EL film 3 by a conventionally known method, and a sealing member was attached with an adhesive to form an organic EL element. When a voltage was applied to the organic EL element and observed from the transparent substrate 1 side, as shown in FIG. 5, light was emitted in a circular shape having a diameter of 2.8 mm. there were.
【００１９】なお、貫通孔４１を有する高温マスク４に
代えて、図６に示すように、円形の凹部４２を有する高
温マスク４’を用いた場合にも、同様に円形の表示パタ
ーンを形成することができる。When a high-temperature mask 4 'having a circular recess 42 is used as shown in FIG. 6 instead of the high-temperature mask 4 having the through hole 41, a circular display pattern is similarly formed. be able to.
【００２０】（実施例２）この実施例２は、ベタに形成
された有機ＥＬ膜に高温マスクを接触させて、二重丸形
状の表示パターンを形成した例である。図７に示すよう
に、高温マスク５は厚さ５ｍｍの鉄板からなり、その中
央分には深さ１ｍｍ、幅１ｍｍの外周溝５１および内周
溝５２が設けられている。幅方向の中心における半径
は、外周溝５１が５ｍｍ、内周溝が２ｍｍである。すな
わち、外周溝の内周端と内周溝の外周端との間は２ｍｍ
である。この高温マスク５を３００℃に加熱し、実施例
１と同様にして有機ＥＬ膜３に５秒間接触させた。これ
により有機ＥＬ膜３は、失活部３１と発光部３２とにパ
タニングされた。その後、実施例１と同様に有機ＥＬ素
子を構成し、電圧を印加して透明基板１側から観察した
ところ、図８に示すように、外周溝５１および内周溝５
２に対応する形状の二重丸形状に発光しており、この発
光部分の各部において発光輝度はほぼ均一であった。(Embodiment 2) This embodiment 2 is an example in which a high-temperature mask is brought into contact with a solid organic EL film to form a double circular display pattern. As shown in FIG. 7, the high-temperature mask 5 is made of an iron plate having a thickness of 5 mm, and an outer peripheral groove 51 and an inner peripheral groove 52 having a depth of 1 mm and a width of 1 mm are provided at the center thereof. The radius at the center in the width direction is 5 mm for the outer circumferential groove 51 and 2 mm for the inner circumferential groove. That is, the distance between the inner peripheral end of the outer peripheral groove and the outer peripheral end of the inner peripheral groove is 2 mm.
It is. This high-temperature mask 5 was heated to 300 ° C. and brought into contact with the organic EL film 3 for 5 seconds in the same manner as in Example 1. As a result, the organic EL film 3 was patterned into the deactivated portion 31 and the light emitting portion 32. After that, an organic EL element was formed in the same manner as in Example 1, and a voltage was applied to the organic EL element. Observation was made from the transparent substrate 1 side. As shown in FIG.
Light was emitted in a double circular shape corresponding to No. 2, and the light emission luminance was almost uniform in each portion of the light emitting portion.
【００２１】なお、上記実施例１および２では有機ＥＬ
膜の形成が終了した後に高温マスクを接触させたが、有
機ＥＬ膜の形成途中、例えば正孔輸送層まで形成した段
階で高温マスクを接触させてこの正孔輸送層を所定のパ
ターンで変質させてもよく、また発光層まで形成した段
階で高温マスクを接触させてて正孔輸送層および／また
は発光層を所定のパターンで変質させてもよい。その
後、電子輸送層および電子注入層を形成することによ
り、この変質部分の発光が失活した有機ＥＬ膜が得られ
る。In Examples 1 and 2, the organic EL was used.
After the formation of the film was completed, the high-temperature mask was brought into contact. However, during the formation of the organic EL film, for example, at the stage when the hole transport layer was formed, the high-temperature mask was brought into contact with the high-temperature mask to alter the hole transport layer in a predetermined pattern. The hole transport layer and / or the light emitting layer may be altered in a predetermined pattern by contacting a high temperature mask when the light emitting layer is formed. Thereafter, by forming an electron transport layer and an electron injection layer, an organic EL film in which light emission of the altered portion is inactivated is obtained.
【００２２】また、上記実施例１および２では有機ＥＬ
膜を構成する各有機層の材料として低分子系のものを用
い、その成膜には真空蒸着法を用いたが、本発明の方法
は高分子系の材料からなる有機層のパタニングにも適用
することができる。このように高分子系の材料（ポリフ
ェニレンビニレン、ポリビニルカルバゾール等）を用い
た有機層は、スピンコート法等により大面積の均一な成
膜を容易にかつ迅速に行うことができるので、ベタに形
成した有機ＥＬ膜等に高温マスクを接触させてパタニン
グするという本発明の方法には好適である。In Examples 1 and 2, the organic EL was used.
A low molecular weight material was used as the material for each organic layer constituting the film, and the film was formed by vacuum evaporation.However, the method of the present invention is also applicable to patterning of an organic layer made of a high molecular weight material. can do. As described above, an organic layer using a polymer material (polyphenylenevinylene, polyvinylcarbazole, or the like) can be easily and quickly formed into a large-area uniform film by a spin coating method or the like. This method is suitable for the method of the present invention in which a high-temperature mask is brought into contact with an organic EL film or the like to perform patterning.
【００２３】[0023]
【発明の効果】本発明の表示パターン形成方法では、例
えばベタに形成された有機ＥＬ膜等の所定部分に高温マ
スクを接触させて発光を失活させることにより表示パタ
ーンを形成する。この方法によると、環状のパターンの
内側に独立して位置する別のパターンを有するパターン
（例えば二重丸形状のパターン）であっても、レジスト
パターンを形成したり複数の蒸着マスク等を使用したり
することなく作成することができる。従って、製造工程
が簡略化されかつ安価にパタニングを行うことができ、
さらにレジスト残渣が発光に悪影響を及ぼすことがな
い。また、蒸着マスクを用いる方法では、マスクの厚み
がカゲとなってパターン端部の有機ＥＬ膜がやや薄くな
るなど均一な成膜が困難であったが、本発明の方法では
ベタに成膜した後にパタニングすればよいので均一な成
膜が容易である。更に、発光層のうち表示パターンを構
成する部分と表示パターン以外の部分との間に段差がな
いので、発光層上に陰極等を均一に形成することも容易
である。According to the display pattern forming method of the present invention, a display pattern is formed by bringing a high-temperature mask into contact with a predetermined portion of a solid organic EL film or the like to inactivate light emission. According to this method, even if the pattern has another pattern independently positioned inside the annular pattern (for example, a double circular pattern), a resist pattern is formed or a plurality of evaporation masks are used. Can be created without having to do so. Therefore, the manufacturing process can be simplified and patterning can be performed at low cost.
Further, the resist residue does not adversely affect light emission. Further, in the method using an evaporation mask, it was difficult to form a uniform film, for example, the thickness of the mask became a key and the organic EL film at the end of the pattern became slightly thin. Since patterning may be performed later, uniform film formation is easy. Furthermore, since there is no step between the portion constituting the display pattern and the portion other than the display pattern in the light emitting layer, it is easy to uniformly form the cathode and the like on the light emitting layer.
【図１】実施例１において、有機ＥＬ膜に高温マスクを
接触させた後の状態を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing a state after a high-temperature mask is brought into contact with an organic EL film in Example 1.
【図２】実施例１において、透明基板上に陽極を成膜し
た段階を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing a stage in which an anode is formed on a transparent substrate in Example 1.
【図３】実施例１において、陽極上に有機ＥＬ膜を成膜
した段階を示す斜視図である。FIG. 3 is a perspective view showing a stage in which an organic EL film is formed on an anode in Example 1.
【図４】実施例１に使用した高温マスクを示す斜視図で
ある。FIG. 4 is a perspective view showing a high-temperature mask used in Example 1.
【図５】実施例１により製造された有機ＥＬ素子を発光
時に透明基板側から見た平面図である。FIG. 5 is a plan view of the organic EL element manufactured according to Example 1 as viewed from the transparent substrate side during light emission.
【図６】実施例１に使用可能な他の高温マスクを示す斜
視図である。FIG. 6 is a perspective view showing another high-temperature mask that can be used in the first embodiment.
【図７】実施例２に使用した高温マスクを示す斜視図で
ある。FIG. 7 is a perspective view showing a high-temperature mask used in Example 2.
【図８】実施例２により製造された有機ＥＬ素子を発光
時に透明基板側から見た平面図である。FIG. 8 is a plan view of the organic EL element manufactured according to Example 2 as viewed from the transparent substrate side during light emission.
【符号の説明】 １；透明基板、２；陽極、３；有機ＥＬ膜、３１；失活
部、３２；発光部、４；高温マスク、４１；貫通孔、
５；高温マスク、５１；外周溝、５２；内周溝。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1; transparent substrate, 2; anode, 3; organic EL film, 31; deactivating portion, 32; light emitting portion, 4; high temperature mask, 41;
5; high-temperature mask, 51; outer peripheral groove, 52; inner peripheral groove.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 村崎 孝則 愛知県刈谷市豊田町２丁目１番地 株式会 社豊田自動織機製作所内 Ｆターム(参考） 3K007 AB18 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 4K029 AA09 AA24 BA50 BA62 BB02 CA01 HA02 HA03 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continuing on the front page (72) Inventor Takanori Murasaki 2-1-1 Toyota-cho, Kariya-shi, Aichi F-term in Toyota Industries Corporation (reference) 3K007 AB18 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 4K029 AA09 AA24 BA50 BA62 BB02 CA01 HA02 HA03
Claims (3)
該有機ＥＬ膜の所定部分に高温マスクを接触させること
により当該部分の発光を失活させることを特徴とする有
機ＥＬ素子の表示パターン形成方法。After forming an organic EL film on a transparent substrate,
A method of forming a display pattern for an organic EL element, comprising: inactivating a light emission in a predetermined portion of the organic EL film by contacting the high temperature mask with the predetermined portion.
り、上記有機ＥＬ膜を構成する発光層、正孔輸送層およ
び電子輸送層のうち少なくとも一つの層の機能を失わせ
る請求項１記載の有機ＥＬ素子の表示パターン形成方
法。2. The organic EL according to claim 1, wherein the function of at least one of the light emitting layer, the hole transport layer, and the electron transport layer constituting the organic EL film is lost by contacting the high temperature mask. A method for forming a display pattern of an element.
有機層を透明基板上に形成した後、該有機層の所定部分
に高温マスクを接触させて当該部分の上記有機層の機能
を失わせることにより、上記有機ＥＬ膜における当該部
分の発光を失活させることを特徴とする有機ＥＬ素子の
表示パターン形成方法。3. After forming at least one organic layer constituting an organic EL film on a transparent substrate, a high-temperature mask is brought into contact with a predetermined portion of the organic layer to lose the function of the organic layer in the portion. Wherein the light emission of the portion of the organic EL film is deactivated.
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