JP2001290285A - Alkali developing solution for planographic printing plate - Google Patents

Alkali developing solution for planographic printing plate

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JP2001290285A
JP2001290285A JP2000102990A JP2000102990A JP2001290285A JP 2001290285 A JP2001290285 A JP 2001290285A JP 2000102990 A JP2000102990 A JP 2000102990A JP 2000102990 A JP2000102990 A JP 2000102990A JP 2001290285 A JP2001290285 A JP 2001290285A
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Japan
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acid
alkali
mass
compound
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JP2000102990A
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Japanese (ja)
Inventor
Shuichi Takamiya
周一 高宮
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an alkali developing solution for a planographic printing plate capable of forming a high sharpness clear image without causing defects to the image area. SOLUTION: The alkali developing solution for a planographic printing plate with an image forming layer containing an IR absorbent contains a surfactant having a dialkylsiloxane group.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータ等の
デジタル信号に基づき、赤外線レーザー走査により直接
製版できる、いわゆるダイレクト製版可能な平版印刷用
原版のアルカリ現像用の現像処理液に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a developing solution for alkali development of a lithographic printing plate precursor capable of making a plate directly by infrared laser scanning based on a digital signal from a computer or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、レーザーの発展はめざましく、特
に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザー、半導
体レーザーは、高出力かつ小型のものが容易に入手でき
るようになっており、このデジタルデータから直接製版
するシステムの露光光源として、これらのレーザーは非
常に有用である。レーザー書き込みに適する画像記録材
料として、例えば特開平7−285275号公報にはク
レゾール樹脂のような結着剤と、光を吸収して熱を発生
する物質と、キノンジアジドのような熱分解性であっ
て、且つ分解前の状態では前記結着剤の溶解性を実質的
に低下させうる化合物とを含有するポジ型の画像記録材
料が提案されている。これは、赤外線照射により露光部
分において前記光を吸収して熱を発生する物質が発熱
し、露光部分をアルカリ可溶性にするもの(ヒートモー
ド型)であるが、支持体であるアルミニウムに吸熱され
てしまうため熱効率が低く、現像工程におけるアルカリ
現像処理液に対する溶解性は満足のいくものではなかっ
た。このため、現像液のアルカリ濃度を上げ、露光部分
の溶解性を確保してきた。
2. Description of the Related Art In recent years, the development of lasers has been remarkable. In particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from near infrared to infrared have become easily available in high power and small size. These lasers are very useful as an exposure light source for a system for making a plate directly from digital data. As an image recording material suitable for laser writing, for example, JP-A-7-285275 discloses a binder such as a cresol resin, a substance that absorbs light to generate heat, and a thermally decomposable material such as quinonediazide. Further, a positive type image recording material containing a compound which can substantially reduce the solubility of the binder before decomposition is proposed. This is a substance (heat mode type) in which a substance that generates heat by absorbing the light in an exposed portion by infrared irradiation generates heat and makes the exposed portion alkali-soluble (heat mode type). Therefore, the thermal efficiency was low, and the solubility in an alkali developing solution in the developing step was not satisfactory. For this reason, the alkali concentration of the developer has been increased to ensure the solubility of the exposed portion.

【0003】ところが、ヒートモード型の平版印刷用原
版は、上記のような高濃度のアルカリ条件下では画像部
のアルカリ現像処理液に対する耐溶解性が低く、画像記
録材料表面に僅かに傷があるだけで溶解され、画像部に
欠陥を生ずるなどの問題があった。特に、アルカリ水溶
液に対して可溶性の高い高分子化合物を使用するポジ型
の平版印刷用原版において、その傾向はより顕著であっ
た。従って、非画像部に残膜が生じないようにアルカリ
現像液のアルカリ濃度を上げるには限度があり、形成し
た画像部に欠陥を与えることなく、高鮮鋭で鮮明な画像
を形成するのは困難であった。特に、ドット部や細線な
どを含む精細な画像において、その高鮮鋭化、再現性の
向上が要求されている。
However, the heat mode type lithographic printing plate precursor has low resistance to dissolution of the image portion in an alkali developing solution under the above-described high-concentration alkaline conditions, and the surface of the image recording material is slightly damaged. Melts only, and causes a defect in the image area. In particular, the tendency was more remarkable in a positive type lithographic printing plate precursor using a polymer compound having high solubility in an aqueous alkali solution. Therefore, there is a limit in increasing the alkali concentration of the alkali developing solution so that a residual film does not occur in a non-image portion, and it is difficult to form a sharp and clear image without giving a defect to a formed image portion. Met. In particular, in a fine image including a dot portion, a thin line, and the like, it is required that the sharpness and the reproducibility be improved.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来におけ
る諸問題を解決し、画像部に欠陥を与えることなく、高
鮮鋭で鮮明な画像を形成しうる平版印刷版用アルカリ現
像処理液を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the conventional problems and provides an alkali developing solution for a lithographic printing plate capable of forming a sharp and clear image without giving a defect to an image portion. The purpose is to do.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは画像部の溶
解抑止力を向上しうる成分に関し、鋭意検討を重ねた結
果、特定の界面活性剤を現像処理液に含有させることに
より、画像部のアルカリ可溶性を低下させうることを見
出し、本発明を完成させるに至った。従って本発明は、
赤外線吸収剤を含む画像形成層を有する平版印刷版用ア
ルカリ現像処理液であって、ジアルキルシロキサン基を
有する界面活性剤を含有することを特徴とするアルカリ
現像処理液に関する。
Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies on components capable of improving the dissolution inhibiting power of the image area. It has been found that the alkali solubility of a part can be reduced, and the present invention has been completed. Therefore, the present invention
The present invention relates to an alkali developing solution for a lithographic printing plate having an image forming layer containing an infrared absorbing agent, wherein the alkali developing solution contains a surfactant having a dialkylsiloxane group.

【0006】本明細書中ではまた、上記アルカリ現像処
理液を用いる製版方法についても触れる。平版印刷用原
版として、支持体上に少なくとも赤外線吸収剤を含有す
る画像形成層を有する平版印刷用原版を用い、該平版印
刷用原版にデジタルデータに基づき赤外線レーザーを照
射して所望の画像様に露光すると、前記赤外線吸収剤に
よりレーザー光が効率よく吸収され、次の過程を通じて
画像が形成される。すなわち、ポジ型の平版印刷用原版
の場合には、露光による吸収エネルギーの蓄積により露
光部分のみが発熱してアルカリ水に可溶性となり、本発
明のアルカリ現像処理液を用いた現像処理により、露光
部のみが除去されて所望の画像が形成され、ネガ型の平
版印刷用原版の場合には、露光による吸収エネルギーの
蓄積により露光部分のみが発熱して酸を発生すると、こ
の酸により共存する架橋剤が架橋反応を起こし、露光部
のみがアルカリ水に不溶性となって像を形成する一方、
非露光部では本発明のアルカリ現像処理液を用いた現像
処理により除去されて、所望の画像が形成される。
In this specification, a plate making method using the above-mentioned alkali developing solution will be described. As a lithographic printing plate precursor, using a lithographic printing plate precursor having an image forming layer containing at least an infrared absorber on a support, irradiating the lithographic printing plate precursor with an infrared laser based on digital data to obtain a desired image. Upon exposure, the laser light is efficiently absorbed by the infrared absorber, and an image is formed through the following process. That is, in the case of a positive type lithographic printing plate precursor, only the exposed portion generates heat due to accumulation of absorbed energy due to exposure and becomes soluble in alkaline water, and the exposed portion is exposed by the developing process using the alkali developing solution of the present invention. In the case of a negative type lithographic printing plate precursor, only the exposed portion generates heat due to accumulation of absorbed energy due to exposure, and generates an acid. Causes a crosslinking reaction, while only the exposed areas become insoluble in alkaline water to form an image,
The non-exposed area is removed by a developing process using the alkali developing solution of the present invention, and a desired image is formed.

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】以下、本発明のアルカリ現像処理
液について説明する。現像処理に用いるアルカリ現像処
理液(以下、単に「現像液」ともいう。)はアルカリ性
の水溶液であって、従来公知のアルカリ水溶液の中から
適宜選択することができる。アルカリ水溶液としては、
ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖と、塩基とからなる現
像液が挙げられ、特にpH12.5〜14.0のものが好ま
しい。前記ケイ酸アルカリとしては、水に溶解したとき
にアルカリ性を示すものであり、例えばケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム、ケイ酸リチウムなどのアルカリ金
属ケイ酸塩、ケイ酸アンモニウムなどが挙げられる。ケ
イ酸アルカリは1種単独でも、2種以上を組み合わせて
用いてもよい。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The alkali developing solution of the present invention will be described below. The alkali developing solution (hereinafter, also simply referred to as "developing solution") used for the developing process is an aqueous alkaline solution, and can be appropriately selected from conventionally known alkaline aqueous solutions. As the alkaline aqueous solution,
Examples thereof include a developer comprising an alkali silicate or a non-reducing sugar and a base, and particularly preferably a developer having a pH of 12.5 to 14.0. The alkali silicate exhibits alkalinity when dissolved in water, and examples thereof include alkali metal silicates such as sodium silicate, potassium silicate, and lithium silicate, and ammonium silicate. The alkali silicate may be used alone or in combination of two or more.

【0008】上記アルカリ水溶液は、ケイ酸塩の成分で
ある酸化ケイ素SiO2とアルカリ酸化物M2O(Mはア
ルカリ金属又はアンモニウム基を表す。)との混合比
率、及び濃度の調整により、現像性を容易に調節するこ
とができる。前記アルカリ水溶液の中でも、前記酸化ケ
イ素SiO2とアルカリ酸化物M2Oとの混合比率(Si
2/M2O:モル比)が0.5〜3.0のものが好ましく、
1.0〜2.0のものがより好ましい。前記SiO2/M2
が0.5未満であると、アルカリ強度が強くなっていくた
め、平版印刷用原版の支持体として汎用のアルミニウム
板などをエッチングしてしまうといった弊害を生ずるこ
とがあり、3.0を超えると、現像性が低下することがあ
る。
The aqueous alkali solution is developed by adjusting the mixing ratio and concentration of silicon oxide SiO 2 as a component of silicate and alkali oxide M 2 O (M represents an alkali metal or ammonium group). Sex can be easily adjusted. Among the aqueous alkali solutions, a mixing ratio of the silicon oxide SiO 2 and the alkali oxide M 2 O (Si
O 2 / M 2 O: molar ratio) is preferably a 0.5 to 3.0,
Those having 1.0 to 2.0 are more preferable. The SiO 2 / M 2 O
If the value is less than 0.5, the alkali strength is increased, so that a harmful effect of etching a general-purpose aluminum plate or the like as a support for the lithographic printing plate precursor may occur. In some cases, the developability may decrease.

【0009】また、現像液中のケイ酸アルカリの濃度と
しては、アルカリ水溶液の質量に対して1〜10質量%
が好ましく、3〜8質量%がより好ましく、4〜7質量
%が最も好ましい。この濃度が1質量%未満であると現
像性、処理能力が低下することがあり、10質量%を超
えると沈澱や結晶を生成しやすくなり、さらに廃液時の
中和の際にゲル化しやすくなり、廃液処理に支障をきた
すことがある。
The concentration of the alkali silicate in the developer is 1 to 10% by mass based on the mass of the aqueous alkali solution.
Is preferably 3 to 8% by mass, and most preferably 4 to 7% by mass. If the concentration is less than 1% by mass, developability and processing capacity may be reduced. If the concentration is more than 10% by mass, precipitates and crystals are easily formed, and gelation tends to occur during neutralization at the time of waste liquid. In some cases, waste liquid treatment may be hindered.

【0010】非還元糖と塩基とからなる現像液におい
て、非還元糖とは遊離性のアルデヒド基やケトン基を持
たないために還元性を有しない糖類を意味し、還元基同
士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非
糖類が結合した配糖体、糖類に水素添加して還元した糖
アルコールに分類される。本発明ではこれらのいずれも
好適に用いることができる。トレハロース型少糖類とし
ては、例えばサッカロースやトレハロースが挙げられ、
前記配糖体としては、例えばアルキル配糖体、フェノー
ル配糖体、カラシ油配糖体などが挙げられる。糖アルコ
ールとしては、例えばD,L−アラビット、リビット、
キシリット、D,L−ソルビット、D,L−アンニッ
ト、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシッ
ト、アロズルシットなどが挙げられる。さらには、二糖
類の水素添加で得られるマルチトール、オリゴ糖の水素
添加で得られる還元体(還元水あめ)なども好適に挙げ
ることができる。
[0010] In a developer comprising a non-reducing sugar and a base, the non-reducing sugar means a saccharide which does not have a reducing property because it has no free aldehyde group or ketone group. Type oligosaccharides, glycosides in which a reducing group of a saccharide is bonded to a non-saccharide, and sugar alcohols obtained by hydrogenating and reducing a saccharide are classified. In the present invention, any of these can be suitably used. Examples of trehalose-type oligosaccharides include saccharose and trehalose,
Examples of the glycoside include an alkyl glycoside, a phenol glycoside, and a mustard oil glycoside. As sugar alcohols, for example, D, L-arabit, rebit,
Xylit, D, L-sorbit, D, L-unnit, D, L-idit, D, L-tallit, zuricit, allozurcit, and the like. Furthermore, maltitol obtained by hydrogenation of a disaccharide, a reductant (reduced starch syrup) obtained by hydrogenation of an oligosaccharide, and the like can also be preferably mentioned.

【0011】上記のうち、非還元糖としては、糖アルコ
ール、サッカロースが好ましく、中でも特に、D−ソル
ビット、サッカロース、還元水あめが適度なpH領域に
緩衝作用がある点でより好ましい。これらの非還元糖は
単独でも、二種以上を組み合わせてもよく、現像液中に
占める割合としては、0.1〜30質量%が好ましく、1
〜20質量%がより好ましい。
Among the above, as the non-reducing sugar, sugar alcohols and saccharose are preferable, and among them, D-sorbitol, saccharose and reduced starch syrup are more preferable because they have a buffering action in an appropriate pH range. These non-reducing sugars may be used alone or in combination of two or more, and the ratio in the developer is preferably 0.1 to 30% by mass, more preferably 1 to 30% by mass.
-20 mass% is more preferable.

【0012】前記ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖に
は、塩基としてアルカリ剤を従来公知の物の中から適宜
選択して組み合わせることができる。該アルカリ剤とし
ては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、
リン酸三アンモニウム、リン酸二ナトリウム、リン酸二
カリウム、リン酸二アンモニウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、
炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ホウ酸ナト
リウム、ホウ酸カリウム、ホウ酸アンモニウムなどの無
機アルカリ剤、クエン酸カリウム、クエン酸三カリウ
ム、クエン酸ナトリウムなどが挙げられる。
The alkali silicate or non-reducing sugar can be combined with an alkali agent as a base by appropriately selecting it from conventionally known ones. Examples of the alkali agent include sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, trisodium phosphate, tripotassium phosphate,
Triammonium phosphate, disodium phosphate, dipotassium phosphate, diammonium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate, ammonium carbonate, sodium hydrogen carbonate,
Examples thereof include inorganic alkali agents such as potassium hydrogen carbonate, ammonium hydrogen carbonate, sodium borate, potassium borate, and ammonium borate, potassium citrate, tripotassium citrate, and sodium citrate.

【0013】さらにモノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジ
イソプロピルアミン、トリイソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、モノイソプロパノールアミ
ン、ジイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチ
レンジアミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も好適に
挙げることができる。これらのアルカリ剤は単独で用い
ても、二種以上を組み合わせて用いてもよい。中でも水
酸化ナトリウム、水酸化カリウムが好ましい。その理由
は、非還元糖に対する添加量を調整することにより、広
いpH領域においてpH調整が可能となるためである。
また、リン酸三ナトリウム、リン酸三カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウムなどもそれ自身に緩衝作用があ
るので好ましい。
Further, monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monoethylamine, diethylamine, triethylamine, monoisopropylamine, diisopropylamine, triisopropylamine, n-butylamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, monoisopropanolamine, diisopropanol Organic alkali agents such as amine, ethyleneimine, ethylenediamine, pyridine and the like can also be suitably mentioned. These alkali agents may be used alone or in combination of two or more. Among them, sodium hydroxide and potassium hydroxide are preferred. The reason is that adjusting the amount of addition to the non-reducing sugar enables pH adjustment in a wide pH range.
Also, trisodium phosphate, tripotassium phosphate, sodium carbonate, potassium carbonate and the like are preferable since they themselves have a buffering action.

【0014】本発明の平版印刷版用アルカリ現像処理液
は、上述のようなアルカリ水溶液中に、ジアルキルシロ
キサン基を有する界面活性剤を含有する。ジアルキルシ
ロキサン基を有する界面活性剤としては、ジアルキルポ
リシロキサン系界面活性剤、特にジメチルポリシロキサ
ン系界面活性剤が挙げられる。具体例としては、下記式
で示されるポリ(エチレンオキシ)シロキサン、アルコ
キシポリ(エチレンオキシ)シロキサンなどのジメチル
ポリシロキサン系界面活性剤がある。
The alkali developing solution for a lithographic printing plate of the present invention contains a surfactant having a dialkylsiloxane group in the above-mentioned aqueous alkali solution. Examples of the surfactant having a dialkylsiloxane group include a dialkylpolysiloxane-based surfactant, particularly, a dimethylpolysiloxane-based surfactant. Specific examples include dimethylpolysiloxane-based surfactants such as poly (ethyleneoxy) siloxane and alkoxypoly (ethyleneoxy) siloxane represented by the following formula.

【0015】 [0015]

【0016】(式中、m、n、sはそれぞれ1〜40の
整数を表し、oは1〜30の整数、pは1〜30の整
数、qは1〜30の整数、rは1〜30の整数を表し、
Rは水素原子又は炭素原子数1〜15個の直鎖又は分岐
のアルキル基を表す。) 中でも好ましいものは、ポリ(エチレンオキシ)シロキ
サンである。本発明で使用するジアルキルシロキサン基
を有する界面活性剤は、カルボン酸基又はスルホン酸基
を一部導入して変性したものも包含する。
(Wherein m, n, and s each represent an integer of 1 to 40, o is an integer of 1 to 30, p is an integer of 1 to 30, q is an integer of 1 to 30, r is 1 to 30) Represents an integer of 30;
R represents a hydrogen atom or a linear or branched alkyl group having 1 to 15 carbon atoms. Among them, preferred is poly (ethyleneoxy) siloxane. The surfactant having a dialkylsiloxane group used in the present invention also includes a surfactant modified by partially introducing a carboxylic acid group or a sulfonic acid group.

【0017】上記のようなジアルキルポリシロキサン系
界面活性剤は、市場において一般に入手することがで
き、市販品の例として、SM−5512(東レシリコー
ン製)、SH−200(東レシリコーン製)、DB11
0N(ダウコーニング製)、シリコーンX-20-250、X-
20-308、X-20-352、F-260、F-239、X-22-351、X-2
2-945、X-22-944、X-20-307(信越化学製)などがあ
る。この界面活性剤の分子量としては100〜1000
0が好ましく、500〜5000がより好ましく、10
00〜3500が最も好ましい。前記分子量が100未
満であると、画像部に対する溶解抑止力を得ることがで
きないことがあり、10000を超えると非画像部の現
像性が低下することがある。
The above-mentioned dialkylpolysiloxane surfactants are generally available on the market. Examples of commercially available products include SM-5512 (manufactured by Toray Silicone), SH-200 (manufactured by Toray Silicone), and DB11.
0N (manufactured by Dow Corning), silicone X-20-250, X-
20-308, X-20-352, F-260, F-239, X-22-351, X-2
2-945, X-22-944, X-20-307 (manufactured by Shin-Etsu Chemical) and the like. The molecular weight of this surfactant is 100 to 1000
0 is preferable, 500 to 5000 is more preferable, and 10
00-3500 is most preferred. If the molecular weight is less than 100, it may not be possible to obtain a dissolution inhibiting power for the image area, and if it exceeds 10,000, the developability of the non-image area may be reduced.

【0018】上記界面活性剤の添加量としては、アルカ
リ現像処理液中に0.001〜10質量%が適当であり、
0.05〜5質量%が好ましい。さらに0.1〜3質量%
が最も好ましい。この添加量が0.001質量%未満であ
ると、形成した画像部の可溶性を十分に抑制できないこ
とがあり、一方10質量%超えると溶解抑止力が強すぎ
て現像感度が低下することがある。上記のような界面活
性剤をアルカリ現像処理液中に含有させることにより、
アルカリ水溶液に可溶性の高い高分子化合物を使用した
場合や、アルカリ濃度を高めた場合でも、画像部が溶解
して画像欠陥を招くことなく、エッジ調の高鮮鋭で鮮明
な画像を形成することが可能となり、ドット部や細線な
どを含む精細な画像を高鮮鋭に再現することができる。
The addition amount of the above surfactant is suitably 0.001 to 10% by mass in the alkali developing solution.
0.05-5 mass% is preferable. 0.1 to 3% by mass
Is most preferred. If the amount is less than 0.001% by mass, the solubility of the formed image area may not be sufficiently suppressed. On the other hand, if the amount exceeds 10% by mass, the dissolution inhibiting power may be too strong to lower the development sensitivity. . By including the above surfactant in the alkali developing solution,
Even when a polymer compound having high solubility in an alkaline aqueous solution is used, or when the alkali concentration is increased, an image portion is dissolved and an image defect is not caused, and a sharp, sharp image with an edge tone can be formed. It is possible to reproduce a fine image including a dot portion and a thin line with high sharpness.

【0019】本発明のアルカリ現像処理液は、上記のと
おり、ケイ酸アルカリ若しくは非還元糖と、塩基を含む
現像液を用いるが、そのカチオン成分として従来よりL
+、Na+、K+、NH4 +が用いられ、中でも、イオン
半径の小さいカチオンを多く含有する系では、画像形成
層への浸透性が高く現像性に優れる一方、画像部まで溶
解して画像欠陥を生ずる。従って、アルカリ濃度を上げ
るには、ある程度の限度があり、画像部に欠陥を生ずる
ことなく、且つ非画像部に画像形成層(残膜)が残存し
ないように完全に処理するためには、微妙な液性条件の
設定が要求された。しかし、前記カチオン成分として、
そのイオン半径の大きいカチオンを用いることにより、
画像形成層中への現像液の浸透性を抑制することがで
き、アルカリ濃度、即ち、現像性を低下させることな
く、画像部の溶解抑止効果をも向上させることができ
る。前記カチオン成分としては、上記アルカリ金属カチ
オン及びアンモニウムイオンのほか、他のカチオンも用
いることができる。
As described above, the alkali developing solution of the present invention uses a developing solution containing an alkali silicate or a non-reducing sugar and a base.
i +, Na +, K + , NH 4 + is used, inter alia, in a system containing a large amount of small cation ionic radius, while the permeability to the image forming layer is higher excellent developability, dissolved to image section Image defects. Therefore, there is a certain limit in increasing the alkali concentration, and it is delicate to completely process the image without causing defects in the image area and leaving no image forming layer (remaining film) in the non-image area. The setting of the proper liquid condition was requested. However, as the cation component,
By using a cation with a large ionic radius,
It is possible to suppress the permeability of the developer into the image forming layer, and it is also possible to improve the effect of suppressing the dissolution of the image portion without lowering the alkali concentration, that is, the developability. As the cation component, other cations can be used in addition to the alkali metal cation and the ammonium ion.

【0020】本発明のアルカリ現像処理液には、さらに
現像性能を高める目的で、以下のような添加剤を加える
ことができる。例えば特開昭58−75152号公報に
記載のNaCl、KCl、KBrなどの中性塩、特開昭
58−190952号公報に記載のEDTA、NTAな
どのキレート剤、特開昭59−121336号公報に記
載の[Co(NH36]Cl3、CoCl2・6H2Oな
どの錯体、特開昭50−51324号公報に記載のアル
キルナフタレンスルホン酸ソーダ、n−テトラデシル−
N,N^ジヒドロキシエチルベタインなどのアニオン又
は両性界面活性剤、米国特許第4,374,920号明
細書に記載のテトラメチルデシンジオールなどの非イオ
ン性界面活性剤、特開昭55−95946号公報に記載
のp−ジメチルアミノメチルポリスチレンのメチルクロ
ライド4級化合物などのカチオニックポリマー、特開昭
56−142528号公報に記載のビニルベンジルトリ
メチルアンモニウムクロライドとアクリル酸ソーダとの
共重合体などの両性高分子電解質、特開昭57−192
951号公報に記載の亜硫酸ソーダなどの還元性無機
塩、特開昭58−59444号公報に記載の塩化リチウ
ムなどの無機リチウム化合物、特開昭59−75255
号公報に記載の有機Si、Tiなどを含む有機金属界面
活性剤、特開昭59−84241号公報に記載の有機ホ
ウ素化合物、EP101010号明細書に記載のテトラ
アルキルアンモニウムオキサイドなどの4級アンモニウ
ム塩等が挙げられる。
The following additives can be added to the alkali developing solution of the present invention for the purpose of further improving the developing performance. For example, neutral salts such as NaCl, KCl and KBr described in JP-A-58-75152, chelating agents such as EDTA and NTA described in JP-A-58-90952, and JP-A-59-121336. Complexes such as [Co (NH 3 ) 6 ] Cl 3 and CoCl 2 .6H 2 O described in JP-A-50-51324;
Anionic or amphoteric surfactants such as N, N-dihydroxyethylbetaine; nonionic surfactants such as tetramethyldecinediol described in U.S. Pat. No. 4,374,920; and JP-A-55-95946. Amphoteric such as cationic polymers such as quaternary compounds of methyl chloride of p-dimethylaminomethylpolystyrene described in JP-A-56-142, and copolymers of vinylbenzyltrimethylammonium chloride and sodium acrylate described in JP-A-56-142528 Polymer electrolyte, JP-A-57-192
No. 951, a reducing inorganic salt such as sodium sulfite, an inorganic lithium compound such as lithium chloride described in JP-A-58-59444, and an inorganic lithium compound described in JP-A-59-75255.
Patent Application Publication No. JP-A-59-84241, organic boron compounds described in JP-A-59-84241, and quaternary ammonium salts such as tetraalkylammonium oxides described in EP101010 And the like.

【0021】本発明の平版印刷版用アルカリ現像処理液
は、後述する赤外線レーザー感応型の画像形成層を有す
る平版印刷用原版の現像処理に最も適しているが、従来
広く用いられているo−キノンジアジド化合物を含む画
像形成層を有する画像記録材料の現像処理にも好適に適
用可能である。
The alkali developing solution for a lithographic printing plate of the present invention is most suitable for developing a lithographic printing original plate having an infrared laser-sensitive type image forming layer, which will be described later. The present invention can be suitably applied to the development processing of an image recording material having an image forming layer containing a quinonediazide compound.

【0022】また、近年では、特に製版・印刷業界にお
いて、製版作業の合理化及び標準化のため、印刷用版材
用の自動現像機が広く用いられている。この自動現像機
は、一般に現像部と後処理部からなり、印刷用版材を搬
送する装置と各処理液槽とスプレー装置とからなり、露
光済みの印刷版を水平に搬送しながら、ポンプで汲み上
げた各処理液をスプレーノズルから吹き付けて現像処理
するものである。また、最近は処理液が満たされた処理
液槽中に液中ガイドロールなどによって印刷用版材を浸
漬搬送させて処理する方法も知られている。このような
自動処理においては、各処理液に処理量や稼働時間など
に応じて補充液を補充しながら処理することができる。
In recent years, an automatic developing machine for a printing plate material has been widely used, especially in the plate making and printing industries, in order to rationalize and standardize the plate making operation. This automatic developing machine generally includes a developing section and a post-processing section, and includes a device for transporting a printing plate material, each processing solution tank, and a spray device. The developing process is performed by spraying each pumped processing liquid from a spray nozzle. Recently, a method is also known in which a printing plate material is immersed and conveyed by a submerged guide roll or the like in a processing liquid tank filled with a processing liquid to perform processing. In such an automatic processing, the processing can be performed while replenishing each processing liquid with a replenisher according to the processing amount, the operating time, and the like.

【0023】この場合、現像液よりもアルカリ強度の高
い水溶液を補充液として現像液中に加えることによっ
て、長時間現像タンク中に現像液を交換することなく多
量の画像形成材料を処理できる。本発明のアルカリ現像
処理液を使用するに際しても、この補充方式を採用する
ことが好ましい態様である。前記補充液としても、本発
明の平版印刷版用アルカリ現像処理液を、現像用の現像
液よりもアルカリ強度の高い水溶液として使用すること
ができる。
In this case, by adding an aqueous solution having a higher alkali strength than the developing solution to the developing solution as a replenishing solution, a large amount of image forming materials can be processed without replacing the developing solution in the developing tank for a long time. In the case of using the alkali developing solution of the present invention, it is a preferable embodiment to adopt this replenishment system. As the replenisher, the alkali developing solution for lithographic printing plate of the present invention can be used as an aqueous solution having higher alkali strength than the developing solution.

【0024】前記現像液及び現像液補充液には、現像性
の促進や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親イ
ンキ性を高める目的で、必要に応じて上記以外の種々の
界面活性剤や有機溶剤などを添加することもできる。界
面活性剤としては、アニオン系、カチオン系、ノニオン
系又は両性界面活性剤が好ましく、有機溶剤としてはベ
ンジルアルコールなどが好ましい。また、ポリエチレン
グリコールもしくはその誘導体、又はポリプロピレング
リコールもしくはその誘導体などの添加も好ましい。さ
らに必要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫
酸又は亜硫酸水素酸のナトリウム塩若しくはカリウム塩
などの無機塩系還元剤、有機カルボン酸、消泡剤、硬水
軟化剤を加えることもできる。
The above-mentioned developer and developer replenisher may contain various surfactants other than those described above, if necessary, for the purpose of accelerating or suppressing the developing property, dispersing the developing residue, and enhancing the ink affinity of the printing plate image area. An agent or an organic solvent can also be added. As the surfactant, an anionic, cationic, nonionic or amphoteric surfactant is preferable, and as the organic solvent, benzyl alcohol or the like is preferable. It is also preferable to add polyethylene glycol or a derivative thereof, or polypropylene glycol or a derivative thereof. If necessary, an inorganic salt-based reducing agent such as hydroquinone, resorcinol, sodium or potassium sulfite or bisulfite, an organic carboxylic acid, an antifoaming agent, and a water softener can also be added.

【0025】本発明のアルカリ現像処理液及び補充液を
用いて現像処理された平版印刷版は、水洗水や界面活性
剤などを含有するリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体
を含む不感脂化液で後処理がなされる。この後処理に
は、これらの処理液を種々組み合わせて行うことができ
る。また、実質的に未使用の現像処理液で処理する、い
わゆる使い捨て処理方式とすることも可能である。
The lithographic printing plate developed using the alkali developing solution and the replenisher of the present invention is a rinsing solution containing washing water or a surfactant, or a desensitizing solution containing gum arabic or a starch derivative. Post processing is performed. In this post-treatment, these treatment liquids can be used in various combinations. It is also possible to use a so-called disposable processing method in which processing is performed with a substantially unused developing processing solution.

【0026】次に本発明のアルカリ現像処理液を適用し
得る平版印刷用原版について説明する。平版印刷用原版
は、支持体上に画像形成層を有し、さらに必要に応じて
他の層を有してなり、画像形成層には(A)赤外線吸収
剤を有し、さらに少なくとも(B)アルカリ可溶性高分
子化合物、(C)アルカリ可溶性高分子化合物と相溶さ
せて該アルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ水溶液へ
の溶解性を低下させるとともに、加熱により該溶解性低
下作用が減少する化合物、(D)環状酸無水物を含有し
て構成される。また、ネガ型の平版印刷用原版の場合に
は、露光部が硬化して画像部となるため、画像形成層に
さらに(E)熱により酸を発生する化合物と、(F)酸
により架橋する架橋剤とを含有して構成される。以下
に、各構成成分について簡単に説明する。
Next, a lithographic printing plate to which the alkali developing solution of the present invention can be applied will be described. The lithographic printing plate precursor has an image forming layer on a support, and further has other layers as necessary. The image forming layer has (A) an infrared absorbent, and further has at least (B) A) an alkali-soluble polymer compound, (C) a compound which is compatible with the alkali-soluble polymer compound to reduce the solubility of the alkali-soluble polymer compound in an aqueous alkali solution, and which reduces the solubility lowering effect by heating; (D) It contains a cyclic acid anhydride. In the case of a negative type lithographic printing plate precursor, since the exposed portion is cured to form an image portion, the image forming layer is further crosslinked with (E) a compound capable of generating an acid by heat and (F) an acid. It is configured to contain a crosslinking agent. Hereinafter, each component will be briefly described.

【0027】−(A)赤外線吸収剤− 赤外線吸収剤(以下、「(A)「成分」ということがあ
る。)は、吸収した赤外線を熱に変換する機能を有す
る。本発明において使用可能な赤外線吸収剤としては、
波長700nm以上の領域に、好ましくは波長750nm〜
1200nmの波長領域に赤外線を高効率に吸収しうる染
料又は顔料が好ましく、波長750nm〜1200nmの領
域に吸収極大を有する染料又は顔料がより好ましい。
-(A) Infrared Absorber- An infrared absorber (hereinafter sometimes referred to as "(A)" component) has a function of converting absorbed infrared rays into heat. As the infrared absorber usable in the present invention,
In a wavelength region of 700 nm or more, preferably a wavelength of 750 nm or more
Dyes or pigments capable of absorbing infrared rays with high efficiency in a wavelength region of 1200 nm are preferable, and dyes or pigments having an absorption maximum in a wavelength region of 750 nm to 1200 nm are more preferable.

【0028】前記染料材としては、市販の染料又は文献
(例えば、「染料便覧」、有機合成化学協会編集、昭和
45年刊)に記載の公知のものが挙げられ、例えば、ア
ゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフ
トキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染
料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染
料、シアニン染料、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
Examples of the dye material include commercially available dyes and known dyes described in literatures (eg, “Dye Handbook”, edited by The Society of Synthetic Organic Chemistry, published in 1970). Dyes such as dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squalylium dyes, pyrylium salts, metal thiolate complexes and the like can be mentioned.

【0029】中でも、例えば、特開昭58−12524
6号、特開昭59−84356号、特開昭59−202
829号、特開昭60−78787号等に記載のシアニ
ン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−1
81690号、特開昭58−194595号等に記載の
メチン染料、特開昭58−112793号、特開昭58
−224793号、特開昭59−48187号、特開昭
59−73996号、特開昭60−52940号、特開
昭60−63744号等に記載のナフトキノン染料、特
開昭58−112792号等に記載のスクワリリウム色
素、英国特許434,875号明細書に記載のシアニン
染料、米国特許5,380,635号明細書に記載のジ
ヒドロペリミジンスクアリリウム染料等が好適に挙げら
れる。
Among them, for example, Japanese Patent Application Laid-open No. Sho 58-12524
No. 6, JP-A-59-84356, JP-A-59-202
No. 829, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, JP-A-58-1.
Methine dyes described in JP-A-81690, JP-A-58-194595, JP-A-58-112793, JP-A-58-112793, and
Naphthoquinone dyes described in JP-A-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59-73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744, and JP-A-58-112792. And squarylium dyes described in British Patent No. 434,875, and dihydroperimidine squarylium dyes described in US Patent No. 5,380,635.

【0030】また、米国特許第5,156,938号明
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好ましく、米国特許第
3,881,924号明細書に記載の置換されたアリー
ルベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−1426
45(米国特許第4,327,169号明細書)に記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−1810
51号、同58−220143号、同59−41363
号、同59−84248号、同59−84249号、同
59−146063号、同59−146061号に記載
のピリリウム系化合物、特開昭59−216146号に
記載のシアニン色素、米国特許第4,283,475号
明細書に記載のペンタメチンチオピリウム塩等、特公平
5−13514号、同5−19702号に記載のピリリ
ウム化合物、市販品としては、Epolight III-178、E
polight III-130、Epolight III-125、Epolight
IV−62A(エポリン社製)等も好ましい。
Further, a near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferable, and a substituted aryl benzo (thiol) described in US Pat. No. 3,881,924 is preferable. ) Pyrylium salts, JP-A-57-1426
No. 45 (U.S. Pat. No. 4,327,169), a trimethinethiapyrylium salt described in JP-A-58-1810.
No. 51, No. 58-220143, No. 59-41363
Nos. 59-84248, 59-84249, 59-146063 and 59-146061; pyrylium compounds described in JP-A-59-216146; cyanine dyes described in JP-A-59-216146; U.S. Pat. Nos. 283,475 and pentamethine thiopyrium salts, and the pyrylium compounds described in JP-B-5-13514 and 5-19702; commercially available products include Epolight III-178, E
polight III-130, Epolight III-125, Epolight
IV-62A (Eporin) and the like are also preferable.

【0031】さらに、米国特許第4,756,993 号明細書に
記載の式(I)、(II)で表される近赤外線吸収染料も
好適なものとして挙げることができる。上記のうち、シ
アニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム塩、ニッ
ケルチオレート錯体がより好ましい。
Further, near infrared absorbing dyes represented by formulas (I) and (II) described in US Pat. No. 4,756,993 can also be mentioned as suitable ones. Of the above, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and nickel thiolate complexes are more preferred.

【0032】前記顔料としては、市販の顔料又はカラー
インデックス(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日
本顔料技術協会編)、1977年刊)、「最新顔料応用
技術」(CMC出版、1986年刊)、「印刷インキ技
術」(CMC出版、1984年刊)に記載の顔料が挙げ
られ、たとえば、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔
料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔
料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他ポリマー結合色素が
挙げられる。
Examples of the pigment include commercially available pigment or color index (CI) handbook, “Latest Pigment Handbook” (edited by Japan Pigment Technical Association), published in 1977, “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). And “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984), for example, black pigment, yellow pigment, orange pigment, brown pigment, red pigment, purple pigment, blue pigment, green pigment, Examples include fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bound dyes.

【0033】具体的には、例えば、不溶性アゾ顔料、ア
ゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタ
ロシナニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及
びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン
系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔
料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔
料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、
無機顔料、カーボンブラック等が挙げられる。中でも、
カーボンブラックが好ましい。
Specifically, for example, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelated azo pigments, phthalosinine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, Isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments,
Examples include inorganic pigments and carbon black. Among them,
Carbon black is preferred.

【0034】前記顔料は、表面処理をせずに用いてもよ
いし、表面処理を施した後に用いてもよい。表面処理の
方法としては、樹脂やワックスを表面コートする方法、
界面活性剤を付着させる方法、反応性物質(例えば、シ
ランカップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネ
ート等)を顔料表面に結合させる方法等が挙げられる。
これらの表面処理の方法は、「金属石鹸の性質と応用」
(幸書房)、「印刷インキ技術」(CMC出版、198
4年刊)及び「最新顔料応用技術」(CMC出版、19
86年刊)に記載されている。
The pigment may be used without being subjected to a surface treatment, or may be used after being subjected to a surface treatment. As a method of surface treatment, a method of surface coating a resin or wax,
Examples include a method of attaching a surfactant, and a method of bonding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, or a polyisocyanate) to the pigment surface.
These methods of surface treatment are described in "Properties and Applications of Metallic Soaps"
(Koshobo), "Printing ink technology" (CMC Publishing, 198)
4th year) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 19
1986).

【0035】前記顔料の粒径としては、0.01μm 〜1
0μm が好ましく、0.05μm 〜1μm がより好まし
く、0.1μm 〜1μm が最も好ましい。前記粒径が、0.
01μm 未満であると、感光層塗布液等の分散液を調製
したときの分散物の安定性が劣化することがあり、10
μm を超えると、画像形成層の均一性が悪化することが
ある。
The pigment has a particle size of 0.01 μm to 1 μm.
The thickness is preferably 0 μm, more preferably 0.05 μm to 1 μm, and most preferably 0.1 μm to 1 μm. The particle size is 0.
When the thickness is less than 01 μm, the stability of the dispersion when a dispersion such as a photosensitive layer coating solution is prepared may be deteriorated.
If it exceeds μm, the uniformity of the image forming layer may be deteriorated.

【0036】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に汎用の分散機等、公知の分散技術から
適宜選択することができる。前記分散機としては、超音
波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、ス
ーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、
KDミル、コロイドミル、ダイナトロン、3本ロールミ
ル、加圧ニーダー等が挙げられる。その詳細について
は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)に記載がある。
The method for dispersing the pigment can be appropriately selected from known dispersing techniques such as a general-purpose dispersing machine for producing ink and toner. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser,
Examples include a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. The details are described in “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986).

【0037】前記染料又は顔料の含有量としては、画像
形成層の全固形分質量に対して0.01〜50質量%が好
ましく、0.1〜10質量%がより好ましく、さらに染料
の場合には、0.5〜10質量%が最も好ましく、顔料の
場合には、3.1〜10質量%が最も好ましい。前記含有
量が0.01質量%未満であると、感度が低くなることが
あり、50質量%を超えると、画像形成層の均一性が低
下し、その耐久性が劣化することがある。前記染料又は
顔料は、他の成分と同一層に添加してもよいし、別の層
を設けてそこに添加してもよい。別の層とする場合は、
後述の(C)成分を含有する層に隣接する層に添加する
ことが好ましい。また、染料又は顔料と、アルカリ可溶
性高分子化合物とは同一の層に含有することが好ましい
が、別の層にそれぞれ含有させても構わない。
The content of the dye or pigment is preferably 0.01 to 50% by mass, more preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total solid content of the image forming layer. Is most preferably 0.5 to 10% by mass, and in the case of a pigment, 3.1 to 10% by mass is most preferred. If the content is less than 0.01% by mass, the sensitivity may be lowered. If the content is more than 50% by mass, the uniformity of the image forming layer may be reduced and the durability thereof may be deteriorated. The dye or pigment may be added to the same layer as other components, or may be added to another layer provided. If you want another layer,
It is preferable to add it to a layer adjacent to a layer containing the component (C) described below. The dye or pigment and the alkali-soluble polymer compound are preferably contained in the same layer, but may be contained in different layers.

【0038】−(B)アルカリ可溶性高分子化合物− 使用可能なアルカリ可溶性高分子化合物(以下、
「(B)成分」ということがある。)としては、下記
(1)〜(3)の酸性基を主鎖及び/又は側鎖の構造中
に有するアルカリ水可溶性の高分子化合物を用いること
ができる。 (1)フェノール基(−Ar−OH) (2)スルホンアミド基(−SO2NH−R) (3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド
基」という。) 〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CON
HSO2R〕 前記(1)〜(3)中、Arは置換基を有していてもよ
い2価のアリール連結基を表し、Rは、置換基を有して
いてもよい炭化水素基を表す。以下に、その具体例を示
すが、本発明においては、これらに限定されるものでは
ない。
-(B) Alkali-soluble polymer compound-An alkali-soluble polymer compound that can be used (hereinafter, referred to as "
It may be referred to as “component (B)”. As), an alkali water-soluble polymer compound having the following acidic groups (1) to (3) in the structure of the main chain and / or the side chain can be used. (1) phenol group (-Ar-OH) (2) sulfonamide group (-SO 2 NH-R) ( 3) substituted sulfonamide-based acid group (hereinafter, referred to as "active imide group".) [-SO 2 NHCOR , -SO 2 NHSO 2 R, -CON
HSO 2 R] In the above (1) to (3), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent, and R represents a hydrocarbon group which may have a substituent. Represent. Specific examples are shown below, but the present invention is not limited to these.

【0039】(1)フェノール基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、フェノールとホルム
アルデヒドとの縮重合体、m−クレゾールとホルムアル
デヒドとの縮重合体、p−クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体、m−/p−混合クレゾールとホルムア
ルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール(m
−、p−又はm−/p−混合のいずれでもよい。)とホ
ルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹脂又はピ
ロガロールとアセトンとの縮重合体を挙げることができ
る。さらに、フェノール基を側鎖に有するモノマーを重
合させた高分子化合物を挙げることもできる。
(1) Examples of the alkali-soluble polymer compound having a phenol group include a condensation polymer of phenol and formaldehyde, a condensation polymer of m-cresol and formaldehyde, and a condensation polymer of p-cresol and formaldehyde. , M- / p-mixed cresol and condensation polymer of formaldehyde, phenol and cresol (m
Any of-, p- or m- / p- mixture may be used. ) And formaldehyde, and a novolak resin or a condensation polymer of pyrogallol and acetone. Further, a polymer compound obtained by polymerizing a monomer having a phenol group in a side chain can also be used.

【0040】側鎖にフェノール性水酸基を有する高分子
化合物としては、フェノール性水酸基と重合可能な不飽
和結合をそれぞれ1つ以上有する低分子化合物からなる
重合性モノマーを単独重合、或いは、該重合性モノマー
に他の重合性モノマーを共重合させて得られる高分子化
合物が挙げられる。フェノール基を側鎖に有するモノマ
ーとしては、フェノール基を側鎖に有するアクリルアミ
ド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリ
ル酸エステル又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
As the high molecular compound having a phenolic hydroxyl group in the side chain, a polymerizable monomer composed of a low molecular compound having at least one unsaturated bond capable of polymerizing with the phenolic hydroxyl group is homopolymerized, A polymer compound obtained by copolymerizing a monomer with another polymerizable monomer is exemplified. Examples of the monomer having a phenol group in the side chain include acrylamide, methacrylamide, acrylate, methacrylate or hydroxystyrene having a phenol group in the side chain.

【0041】具体的には、N−(2−ヒドロキシフェニ
ル)アクリルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)
アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)アク
リルアミド、N−(2−ヒドロキシフェニル)メタクリ
ルアミド、N−(3−ヒドロキシフェニル)メタクリル
アミド、N−(4−ヒドロキシフェニル)メタクリルア
ミド、o−ヒドロキシフェニルアクリレート、m−ヒド
ロキシフェニルアクリレート、p−ヒドロキシフェニル
アクリレート、o−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、m−ヒドロキシフェニルメタクリレート、p−ヒド
ロキシフェニルメタクリレート、o−ヒドロキシスチレ
ン、m−ヒドロキシスチレン、p−ヒドロキシスチレ
ン、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルアクリレー
ト、2−(2−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリレ
ート、2−(3−ヒドロキシフェニル)エチルメタクリ
レート、2−(4−ヒドロキシフェニル)エチルメタク
リレート等を好適に挙げることができる。
Specifically, N- (2-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (3-hydroxyphenyl)
Acrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) acrylamide, N- (2-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (3-hydroxyphenyl) methacrylamide, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-hydroxyphenyl acrylate , M-hydroxyphenyl acrylate, p-hydroxyphenyl acrylate, o-hydroxyphenyl methacrylate, m-hydroxyphenyl methacrylate, p-hydroxyphenyl methacrylate, o-hydroxystyrene, m-hydroxystyrene, p-hydroxystyrene, 2- (2 -Hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl acrylate, 2- (2-hydro Shifeniru) ethyl methacrylate, 2- (3-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate, 2- (4-hydroxyphenyl) ethyl methacrylate can be preferably exemplified.

【0042】前記フェノール基を有するアルカリ可溶性
高分子化合物の質量平均分子量としては、5.0×102
〜2.0×105のものが、数平均分子量としては、2.0
×10 2〜1.0×105のものが、画像形成性の点で好ま
しい。また、フェノール基を有するアルカリ可溶性高分
子化合物は、単独での使用のみならず、2種類以上を組
合わせて使用してもよい。組合わせる場合には、米国特
許第4123279号明細書に記載されているような、
t−ブチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体
や、オクチルフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合
体のような、炭素数3〜8のアルキル基を置換基として
有するフェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体を併
用してもよい。これらの縮重合体も、質量平均分子量が
5.0×102〜2.0×105のもの、数平均分子量が2.0
×102〜1.0×105のものが好ましい。
The alkali-soluble compound having a phenol group
The mass average molecular weight of the polymer compound is 5.0 × 10Two
~ 2.0 × 10FiveHas a number average molecular weight of 2.0
× 10 Two~ 1.0 × 10FiveAre preferred in terms of image forming properties.
New In addition, an alkali-soluble polymer having a phenol group
Sub-compounds may be used alone or in combination of two or more.
They may be used together. If combined, use US special
As described in U.S. Pat. No. 4,123,279,
Condensed polymer of t-butylphenol and formaldehyde
Of octylphenol and formaldehyde
An alkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent
With a condensation polymer of phenol and formaldehyde
May be used. These condensation polymers also have a mass average molecular weight.
5.0 × 10Two~ 2.0 × 10FiveHaving a number average molecular weight of 2.0
× 10Two~ 1.0 × 10FiveAre preferred.

【0043】(2)スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物としては、例えば、スルホンアミド
基を有する化合物を主たるモノマー構成単位とする重合
体、即ち、単独重合体又は前記モノマー構成単位に他の
重合性モノマーを共重合させた共重合体を挙げることが
できる。スルホンアミド基を有する重合性モノマーとし
ては、1分子中に、窒素原子上に少なくとも一つの水素
原子が結合したスルホンアミド基−SO2 −NH−と、
重合可能な不飽和結合とを、それぞれ1以上有する低分
子化合物からなるモノマーが挙げられる。中でも、アク
リロイル基、アリル基又はビニロキシ基と、置換或いは
モノ置換アミノスルホニル基又は置換スルホニルイミノ
基と、を有する低分子化合物が好ましい。前記低分子化
合物としては、例えば、下記一般式(a)〜(e)で表
される化合物が挙げられるが、本発明においては、これ
らに限定されるものではない。
(2) As the alkali-soluble polymer compound having a sulfonamide group, for example, a polymer having a compound having a sulfonamide group as a main monomer structural unit, that is, a homopolymer or another monomer in the monomer structural unit A copolymer obtained by copolymerizing a polymerizable monomer can be used. As a polymerizable monomer having a sulfonamide group, in one molecule, a sulfonamide group —SO 2 —NH— having at least one hydrogen atom bonded to a nitrogen atom;
Examples of the monomer include a low-molecular compound having at least one polymerizable unsaturated bond. Among them, a low-molecular compound having an acryloyl group, an allyl group or a vinyloxy group and a substituted or monosubstituted aminosulfonyl group or a substituted sulfonylimino group is preferable. Examples of the low-molecular compound include compounds represented by the following general formulas (a) to (e), but are not limited to these in the present invention.

【0044】 [0044]

【0045】式中、X1、X2は、それぞれ独立に酸素原
子又はNR7 を表す。R1 、R4 は、それぞれ独立に水
素原子又はCH3を表す。R2、R5、R9、R12、R
16は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数
1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリー
レン基又はアラルキレン基を表す。R3、R7、R13は、
それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよい炭
素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、アリー
ル基又はアラルキル基を表す。また、R6、R17は、そ
れぞれ独立に置換基を有していてもよい炭素数1〜12
のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラル
キル基を表す。R8、R10、R14は、それぞれ独立に水
素原子又はCH3を表す。R11、R15は、それぞれ独立
に単結合又は置換基を有していてもよい炭素数1〜12
のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又
はアラルキレン基を表す。Y1、Y2はそれぞれ独立に単
結合又はCOを表す。
In the formula, X 1 and X 2 each independently represent an oxygen atom or NR 7 . R 1 and R 4 each independently represent a hydrogen atom or CH 3 . R 2 , R 5 , R 9 , R 12 , R
16 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group which may have a substituent. R 3 , R 7 and R 13 are
Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R 6 and R 17 each independently have 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent.
Represents an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, and an aralkyl group. R 8 , R 10 and R 14 each independently represent a hydrogen atom or CH 3 . R 11 and R 15 each independently have a single bond or a carbon number of 1 to 12 which may have a substituent.
Represents an alkylene group, a cycloalkylene group, an arylene group or an aralkylene group. Y 1 and Y 2 each independently represent a single bond or CO.

【0046】中でもm−アミノスルホニルフェニルメタ
クリレート、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メ
タクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニ
ル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
Among them, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p-aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

【0047】(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、例えば、活性イミド基を有す
る化合物を主たるモノマー構成単位とする重合体を挙げ
ることができる。活性イミド基を有する化合物を主たる
モノマー構成単位とする重合体としては、1分子中に、
下記式で表される活性イミド基と、重合可能な不飽和結
合とをそれぞれ1以上有する低分子化合物からなるモノ
マーを単独重合、或いは、該モノマーに他の重合性モノ
マーを共重合させて得られる高分子化合物を挙げること
ができる。
(3) Examples of the alkali-soluble polymer compound having an active imide group include a polymer having a compound having an active imide group as a main monomer constituent unit. As a polymer having a compound having an active imide group as a main monomer structural unit, in one molecule,
An active imide group represented by the following formula and a monomer composed of a low-molecular compound having at least one polymerizable unsaturated bond are homopolymerized, or obtained by copolymerizing the monomer with another polymerizable monomer. High molecular compounds can be mentioned.

【0048】 [0048]

【0049】このような化合物としては、具体的には、
N−(p−トルエンスルホニル)メタクリルアミド、N
−(p−トルエンスルホニル)アクリルアミド等を好適
に挙げることができる。さらに、上記のほか、前記フェ
ノール基を有する重合性モノマー、スルホンアミド基を
有する重合性モノマー、及び活性イミド基を有する重合
性モノマーのうちのいずれか2種類以上を重合させた高
分子化合物、或いは、これら2種以上の重合性モノマー
にさらに他の重合性モノマーを共重合させて得られる高
分子化合物も好適に挙げられる。
Specific examples of such a compound include:
N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N
-(P-Toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably mentioned. Furthermore, in addition to the above, a polymer compound obtained by polymerizing any two or more of the polymerizable monomer having a phenol group, the polymerizable monomer having a sulfonamide group, and the polymerizable monomer having an active imide group, or A polymer compound obtained by copolymerizing another polymerizable monomer with these two or more polymerizable monomers is also preferable.

【0050】フェノール基を有する重合性モノマー(M
1)に、スルホンアミド基を有する重合性モノマー(M
2)及び/又は活性イミド基を有する重合性モノマー
(M3)を共重合させる場合の配合比(M1:M2及び
/又はM3;質量比)としては、50:50〜5:95
が好ましく、40:60〜10:90がより好ましい。
A polymerizable monomer having a phenol group (M
In 1), a polymerizable monomer having a sulfonamide group (M
The mixing ratio (M1: M2 and / or M3; mass ratio) when copolymerizing the polymerizable monomer (M3) having 2) and / or an active imide group is from 50:50 to 5:95.
Is preferred, and 40:60 to 10:90 is more preferred.

【0051】アルカリ可溶性高分子化合物が、前記酸性
基(1)〜(3)より選ばれるいずれかを有するモノマ
ー構成単位と、他の重合性モノマーの構成単位とから構
成される共重合体である場合、該共重合体中に、前記酸
性基(1)〜(3)より選ばれるいずれかを有するモノ
マー構成単位を10モル%以上含むことが好ましく、2
0モル%以上含むことがより好ましい。前記モノマー構
成単位の含有量が、10モル%未満であると、十分なア
ルカリ可溶性が得られずに、現像ラチチュードが狭くな
ることがある。前記共重合体の合成方法としては、従来
より公知のグラフト共重合法、ブロック共重合法、ラン
ダム共重合法等を用いることができる。
The alkali-soluble polymer compound is a copolymer comprising a monomer structural unit having any one of the acidic groups (1) to (3) and a structural unit of another polymerizable monomer. In this case, the copolymer preferably contains at least 10 mol% of a monomer structural unit having any one selected from the acidic groups (1) to (3).
More preferably, the content is 0 mol% or more. When the content of the monomer constitutional unit is less than 10 mol%, sufficient alkali solubility cannot be obtained, and the development latitude may be narrow. As a method for synthesizing the copolymer, a conventionally known graft copolymerization method, block copolymerization method, random copolymerization method, or the like can be used.

【0052】前記酸性基(1)〜(3)より選ばれるい
ずれかを有するモノマーを構成単位とする重合性モノマ
ーと共重合させる。他の重合性モノマーとしては、例え
ば、下記(a)〜(1)に挙げるモノマーを挙げること
ができるが、本発明においては、これらに限定されるも
のではない。
A monomer having any one of the above acidic groups (1) to (3) is copolymerized with a polymerizable monomer having a constitutional unit. As other polymerizable monomers, for example, the following monomers (a) to (1) can be exemplified, but the present invention is not limited thereto.

【0053】(a)2−ヒドロキエチルアクリレート又
は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸
基を有するアクリル酸エステル類、メタクリル酸エステ
ル類。 (b)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 (c)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。
(A) Acrylic esters and methacrylic esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate. (B) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, butyl acrylate, amyl acrylate, hexyl acrylate, octyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl acrylates such as acrylates; (C) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, amyl methacrylate, hexyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl Alkyl methacrylates such as methacrylate.

【0054】(d)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリ
ルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロ
ヘキシルアクリるアミド、N−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアク
リルアミド等のアクリルアミド、又はメタクリルアミ
ド。 (e)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 (f)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (g)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等とスチレン類。
(D) acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide , Acrylamide such as N-ethyl-N-phenylacrylamide, or methacrylamide. (E) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, octyl vinyl ether and phenyl vinyl ether. (F) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate, and vinyl benzoate. (G) Styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, chloromethylstyrene and the like and styrenes.

【0055】、(h)メチルビニルケトン、エチルビニ
ルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケト
ン等のビニルケトン類。 (i)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジェ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 (j)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾー
ル、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 (k)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、
N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタ
クリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリ
ルアミド等の不飽和イミド。 (l)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、イ
タコン酸等の不飽和カルボン酸。
(H) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone and phenyl vinyl ketone. (I) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene. (J) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (K) maleimide, N-acryloylacrylamide,
Unsaturated imides such as N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, and N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide; (L) unsaturated carboxylic acids such as acrylic acid, methacrylic acid, maleic anhydride and itaconic acid;

【0056】前記アルカリ水可溶性高分子化合物として
は、単独重合体、共重合体に関わらず、膜強度の点で、
質量平均分子量が2000以上、数平均分子量が500
以上のものが好ましく、質量平均分子量が5000〜3
00000、数平均分子量が800〜250000であ
り、分散度(質量平均分子量/数平均分子量)が1.1〜
10のものがより好ましい。また、前記アルカリ可溶性
高分子化合物が、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、
クレゾール−アルデヒド樹脂等である場合には、質量平
均分子量が500〜20000であって、数平均分子量
が200〜10000のものが好ましい。
Regarding the alkali water-soluble polymer compound, irrespective of a homopolymer or a copolymer, in terms of film strength,
Mass average molecular weight of 2,000 or more, number average molecular weight of 500
The above is preferable, and the weight average molecular weight is 5000 to 3
00000, the number average molecular weight is 800 to 250,000, and the degree of dispersion (mass average molecular weight / number average molecular weight) is 1.1 to
Ten are more preferred. Further, the alkali-soluble polymer compound is a phenol-formaldehyde resin,
In the case of a cresol-aldehyde resin or the like, those having a mass average molecular weight of 500 to 20,000 and a number average molecular weight of 200 to 10,000 are preferred.

【0057】前記アルカリ水可溶性高分子化合物の含有
量としては、画像形成層の全固形分質量に対して30〜
99質量%が好ましく、40〜95質量%がより好まし
く、50〜90質量%が最も好ましい。前記含有量が、
30質量%未満であると、画像形成層の耐久性が低下す
ることがあり、99質量%を越えると、感度、耐久性が
低下することがある。また、前記高分子化合物は、1種
類のみを用いても、2種類以上を組合わせて用いてもよ
い。
The content of the above-mentioned alkaline water-soluble polymer compound is from 30 to 30% based on the total solid content of the image forming layer.
99 mass% is preferable, 40-95 mass% is more preferable, and 50-90 mass% is most preferable. The content is
If the amount is less than 30% by mass, the durability of the image forming layer may decrease. If the amount exceeds 99% by mass, the sensitivity and the durability may decrease. The polymer compound may be used alone or in combination of two or more.

【0058】−(C)前記アルカリ可溶性高分子化合物
と相溶させて該アルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ
水溶液への溶解性を低下させるとともに、加熱により該
溶解性低下作用が減少する化合物− この(C)成分は、分子内に存在する水素結合性の官能
基の働きにより、前記(B)アルカリ可溶性高分子化合
物との相溶性が良好であり、均一な画像形成層用塗布液
を形成しうるとともに、アルカリ可溶性高分子化合物と
の相互作用により、該アルカリ可溶性高分子化合物のア
ルカリ可溶性を抑制する機能(溶解性抑制作用)を有す
る化合物を指す。
-(C) a compound which is compatible with the above-mentioned alkali-soluble polymer compound to reduce the solubility of the alkali-soluble polymer compound in an aqueous alkali solution and reduces the solubility-lowering effect by heating. The component (C) has good compatibility with the alkali-soluble polymer compound (B) due to the function of a hydrogen-bonding functional group present in the molecule, and can form a uniform coating solution for an image forming layer. In addition, it refers to a compound having a function of suppressing the alkali solubility of the alkali-soluble polymer compound through interaction with the alkali-soluble polymer compound (solubility suppressing action).

【0059】また、加熱によりアルカリ可溶性高分子化
合物に対する前記溶解性抑制作用は消滅するが、この赤
外線吸収剤自体が加熱により分解する化合物である場合
には、分解に十分なエネルギーが、レーザー出力や照射
時間等の諸条件により付与されないと、アルカリ可溶性
高分子化合物の溶解性抑制作用を十分に低下させること
ができず、感度が低下するおそれがある。このため、
(C)成分の熱分解温度としては、150°C以上が好
ましい。
Further, the above-mentioned solubility-suppressing effect on the alkali-soluble polymer compound disappears by heating. However, when the infrared absorbent itself is a compound that decomposes by heating, sufficient energy for the decomposition can be obtained by the laser output or the like. If it is not given by various conditions such as irradiation time, the action of suppressing the solubility of the alkali-soluble polymer compound cannot be sufficiently reduced, and the sensitivity may be lowered. For this reason,
The thermal decomposition temperature of the component (C) is preferably 150 ° C. or higher.

【0060】(C)成分としては、前記(B)アルカリ
可溶性高分子化合物との相互作用を考慮して、例えば、
スルホン化合物、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ア
ミド化合物等の前記アルカリ可溶性高分子化合物と相互
作用しうる化合物の中から適宜選択することができる。
特に、例えば、前記(B)成分として、ノボラック樹脂
を単独で用いる場合には、後述する「(A+C)成分」
が好ましく、以下に例示するシアニン染料A等がより好
ましい。(A+C)成分については後述する。
As the component (C), for example, in consideration of the interaction with the (B) alkali-soluble polymer compound, for example,
It can be appropriately selected from compounds capable of interacting with the alkali-soluble polymer compound, such as a sulfone compound, an ammonium salt, a phosphonium salt, and an amide compound.
In particular, for example, when a novolak resin is used alone as the component (B), the “(A + C) component” described below is used.
Are preferable, and the cyanine dye A exemplified below is more preferable. The (A + C) component will be described later.

【0061】(C)成分と前記(B)アルカリ可溶性高
分子化合物との配合比(C/B)としては、一般に1/
99〜25/75が好ましい。前記混合比が、1/99
未満、即ち、(C)成分が少なすぎると、アルカリ可溶
性高分子化合物との相互作用が不十分となり、アルカリ
可溶性を低下させることができず、良好に画像形成する
ことができないことがあり、25/75を超える、即
ち、(C)成分が多すぎると、相互作用が過大となり、
感度が著しく低下することがある。
The mixing ratio (C / B) of the component (C) and the alkali-soluble polymer compound (B) is generally 1 /
99 to 25/75 is preferred. The mixing ratio is 1/99
When the amount is less than the above, that is, when the amount of the component (C) is too small, the interaction with the alkali-soluble polymer compound becomes insufficient, so that the alkali-solubility cannot be reduced and the image cannot be formed well. If the ratio exceeds / 75, that is, if the component (C) is too large, the interaction becomes excessive,
Sensitivity may be significantly reduced.

【0062】−(A+C)成分− 前記(A)成分及び(C)成分に代えて、これら双方の
特性を有する化合物((A+C)成分)を用いることが
できる。前記(A+C)成分は、光を吸収して熱を発生
する性質(即ち、(A)成分の特性)を有し、しかも7
00〜1200nmの波長領域に吸収域を持つと共に、さ
らにアルカリ可溶性高分子化合物と良好に相溶しうる塩
基性染料である。(A+C)成分は、その分子内にアン
モニウム基、イミニウム基等のアルカリ可溶性高分子化
合物と相互作用する基を有する(即ち、(C)成分の特
性)ため、前記高分子化合物と相互作用して、そのアル
カリ可溶性を抑制することができる。前記(A+C)成
分としては、例えば、下記一般式(Z)で表される化合
物を挙げることができる。
-Component (A + C)-In place of the components (A) and (C), a compound having both properties ((A + C) component) can be used. The component (A + C) has a property of absorbing light to generate heat (that is, the characteristic of the component (A)),
It is a basic dye which has an absorption range in the wavelength region of 00 to 1200 nm and is further compatible with an alkali-soluble polymer compound. The component (A + C) has, in its molecule, a group that interacts with an alkali-soluble polymer compound such as an ammonium group or an iminium group (that is, the property of the component (C)). And its alkali solubility can be suppressed. Examples of the component (A + C) include compounds represented by the following general formula (Z).

【0063】 [0063]

【0064】前記一般式(Z)中、R21〜R24は、それ
ぞれ独立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭
素数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基を表し、R21
22、R23とR24はそれぞれ結合して環構造を形成して
いてもよい。R21〜R24としては、例えば、水素原子、
メチル基、エチル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチ
ル基、ビニル基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げ
られ、これらの基は、さらに置換基を有していてもよ
い。ここで、置換基としては、例えば、ハロゲン原子、
カルボニル基、ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、
カルボキシル基、カルボン酸エステル、スルホン酸エス
テル等が挙げられる。
In the general formula (Z), R 21 to R 24 each independently represent a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl, alkenyl, alkoxy or cycloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms. Represents an alkyl group or an aryl group, and R 21 and R 22 , and R 23 and R 24 may be bonded to each other to form a ring structure. R 21 to R 24 include, for example, a hydrogen atom,
Examples include a methyl group, an ethyl group, a phenyl group, a dodecyl group, a naphthyl group, a vinyl group, an allyl group, and a cyclohexyl group, and these groups may further have a substituent. Here, examples of the substituent include a halogen atom,
Carbonyl group, nitro group, nitrile group, sulfonyl group,
Examples thereof include a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester.

【0065】式中、R25〜R30は、それぞれ独立に置換
基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基を表
し、前記R25〜R30としては、例えば、メチル基、エチ
ル基、フェニル基、ドデシル基、ナフチル基、ビニル
基、アリル基、シクロヘキシル基等が挙げられ、これら
の基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置
換基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、
ニトロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル
基、カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げ
られる。
In the formula, R 25 to R 30 each independently represent an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, and R 25 to R 30 include, for example, a methyl group, Examples include an ethyl group, a phenyl group, a dodecyl group, a naphthyl group, a vinyl group, an allyl group, and a cyclohexyl group, and these groups may further have a substituent. Here, examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group,
Examples include a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester.

【0066】式中、R31〜R33は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
1〜8のアルキル基を表し、前記R32は、前記R31又は
33と結合して環構造を形成していてもよく、m>2の
場合は、複数のR32同士が結合して環構造を形成してい
てもよい。前記R31〜R33としては、例えば、塩素原
子、シクロヘキシル基、R32同士が結合してなるシクロ
ペンチル環、シクロヘキシル環等が挙げられ、これらの
基は、さらに置換基を有していてもよい。ここで、置換
基としては、例えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニ
トロ基、ニトリル基、スルホニル基、カルボキシル基、
カルボン酸エステル、スルホン酸エステル等が挙げられ
る。また、mは1〜8の整数を表し、中でも1〜3が好
ましい。
[0066] In the formula, R 31 to R 33 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, wherein R 32, said R 31 or may be bonded to R 33 to form a ring structure, m> 2, the general may be bonded multiple R 32 together form a ring structure. Examples of R 31 to R 33 include a chlorine atom, a cyclohexyl group, and a cyclopentyl ring and a cyclohexyl ring formed by bonding R 32 to each other, and these groups may further have a substituent. . Here, examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group,
Carboxylic acid esters, sulfonic acid esters and the like can be mentioned. M represents an integer of 1 to 8, and preferably 1 to 3.

【0067】式中、R34〜R35は、それぞれ独立に水素
原子、ハロゲン原子、又は置換基を有してもよい炭素数
1〜8のアルキル基を表し、前記R34は、R35と結合し
て環構造を形成していてもよく、m>2の場合は、複数
のR34同士が結合して環構造を形成していてもよい。前
記R34〜R35としては、例えば、塩素原子、シクロヘキ
シル基、R34同士が結合してなるシクロペンチル環、シ
クロヘキシル環等が挙げられ、これらの基は、さらに置
換基を有していてもよい。ここで、置換基としては、例
えば、ハロゲン原子、カルボニル基、ニトロ基、ニトリ
ル基、スルホニル基、カルボキシル基、カルボン酸エス
テル、スルホン酸エステル等が挙げられる。また、m
は、1〜8の整数を表し、中でも、1〜3が好ましい。
[0067] In the formula, R 34 to R 35 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an optionally substituted alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, wherein R 34 is a R 35 A bond may form a ring structure, and when m> 2, a plurality of R 34 may bond with each other to form a ring structure. As the R 34 to R 35, for example, a chlorine atom, a cyclohexyl group, a cyclopentyl ring R 34 together is attached, cyclohexyl ring and the like, these groups may further have a substituent . Here, examples of the substituent include a halogen atom, a carbonyl group, a nitro group, a nitrile group, a sulfonyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester, and a sulfonic acid ester. Also, m
Represents an integer of 1 to 8, and among them, 1 to 3 is preferable.

【0068】式中、X-は、アニオンを表し、例えば、
過塩素酸、四フッ化ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソ
プロピルナフタレンスルホン酸、5−ニトロ−O−トル
エンスルホン酸、5−スルホサリチル酸、2,5−ジメ
チルベンゼンスルホン酸、2,4,6−トリメチルベン
ゼンスルホン酸、2−ニトロベンゼンスルホン酸、3−
クロロベンゼンスルホン酸、3−ブロモベンゼンスルホ
ン酸、2−フルオロカプリルナフタレンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、1−ナフトール−5−スル
ホン酸、2−メトキシ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイ
ル−ベンゼンスルホン酸及びパラトルエンスルホン酸等
が挙げられる。中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロ
ピルナフタレンスルホン酸、2,5−ジメチルベンゼン
スルホン酸等のアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。
[0068] In the formula, X - represents an anion, for example,
Perchloric acid, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-O-toluenesulfonic acid, 5-sulfosalicylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,4 6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2-nitrobenzenesulfonic acid, 3-
Chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid and para And toluene sulfonic acid. Among them, alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are preferable.

【0069】前記一般式(Z)で表される化合物は、一
般にシアニン染料と呼ばれる化合物であり、具体的に
は、以下に示す化合物が好適に用いられるが、本発明に
おいては、これらに限られるものではない。
The compound represented by the general formula (Z) is a compound generally called a cyanine dye, and specifically, the following compounds are preferably used, but in the present invention, the compounds are not limited to these. Not something.

【0070】上述の(A)成分及び(C)成分に代え
て、これら双方の特性を有する前記(A+C)成分を用
いる場合、該(A+C)成分と前記(B)成分との使用
量比〔(A+C)/(B)〕としては、1/99〜30
/70が好ましく、1/99〜25/75がより好まし
い。
When the component (A + C) having both of these properties is used instead of the component (A) and the component (C), the usage ratio of the component (A + C) to the component (B) [ (A + C) / (B)] is 1/99 to 30
/ 70 is preferable, and 1/99 to 25/75 is more preferable.

【0071】−(D)環状酸無水物− 平版印刷用原版には、さらに環状酸無水物を使用する。
該環状酸無水物は、その構造内にカルボン酸無水物のカ
ルボニル基と共役する結合を有し、そのカルボニル基の
安定性を増すことで分解速度を制御し、保存経時におい
て適当な速度で分解して酸を発生する。そのため、保存
経時での現像性劣化を抑え、現像性を長期間安定に維持
しうる。前記環状酸無水物としては、下記一般式(I)
又は(II)で表される化合物が挙げられる。
-(D) Cyclic Acid Anhydride- For the lithographic printing plate precursor, a cyclic acid anhydride is further used.
The cyclic acid anhydride has a bond conjugated to the carbonyl group of the carboxylic acid anhydride in its structure, controls the decomposition rate by increasing the stability of the carbonyl group, and decomposes at an appropriate rate during storage. To generate acid. Therefore, deterioration of the developability over time can be suppressed, and the developability can be stably maintained for a long period of time. As the cyclic acid anhydride, the following general formula (I)
Or the compound represented by (II) is mentioned.

【0072】 [0072]

【0073】一般式(I)中、R41、R42はそれぞれ独
立に水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素原子
数1〜12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ
基、シクロアルキル基、アリール基、カルボニル基、カ
ルボキシ基もしくはカルボン酸エステルを表す。なお、
41、R42は互いに連結して環構造を形成してもよい。
前記R41、R42としては、例えば水素原子、又は炭素原
子数1〜12の無置換のアルキル基、アリール基、アル
ケニル基、シクロアルキル基などが好適に挙げられ、具
体的には水素原子、メチル基、エチル基、フェニル基、
ドデシル基、ナフチル基、ビニル基、アリル基、シクロ
ヘキシル基などが挙げられ、これらの基は、さらに置換
基を有していてもよい。R41、R42が互いに連結して環
構造を形成する場合、その環状基としては、例えばフェ
ニレン基、ナフチレン基、シクロヘキセン基、シクロペ
ンテン基などが挙げられる。前記置換基としては、例え
ばハロゲン原子、ヒドロキシ基、カルボニル基、スルホ
ン酸エステル、ニトロ基、ニトリル基などが挙げられ
る。
In the general formula (I), R 41 and R 42 are each independently a hydrogen atom or an alkyl, alkenyl, alkoxy or cycloalkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent. Represents a group, an aryl group, a carbonyl group, a carboxy group or a carboxylic acid ester. In addition,
R 41 and R 42 may be linked to each other to form a ring structure.
R 41 and R 42 preferably include, for example, a hydrogen atom, or an unsubstituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an aryl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, and the like. Methyl group, ethyl group, phenyl group,
Examples include a dodecyl group, a naphthyl group, a vinyl group, an allyl group, and a cyclohexyl group, and these groups may further have a substituent. When R 41 and R 42 are linked to each other to form a ring structure, examples of the cyclic group include a phenylene group, a naphthylene group, a cyclohexene group, and a cyclopentene group. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxy group, a carbonyl group, a sulfonic ester, a nitro group, and a nitrile group.

【0074】一般式(II)中、R43、R44、R45、R46
は、それぞれ独立に水素原子、ヒドロキシ基、塩素など
のハロゲン原子、ニトロ基、ニトリル基、又は置換基を
有していてもよい炭素年始数1〜12のアルキル基、ア
ルケニル基、アルコキシ基、シクロアルキル基、アリー
ル基、カルボニル基、カルボキシ基もしくはカルボン酸
エステル基などを表す。前記R43、R44、R45、R46
しては、例えば水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数1
〜12の無置換のアルキル基、アルケニル基、炭素原子
数6〜12のアリール基などが好適に挙げられ、具体的
にはメチル基、ビニル基、フェニル基、アリル基などが
挙げられる。これらの基はさらに置換基を有していても
よい。前記置換基としては、例えばハロゲン原子、ヒド
ロキシ基、カルボニル基、スルホン酸エステル、ニトロ
基、ニトリル基、カルボキシ基などが挙げられる。
In the general formula (II), R 43 , R 44 , R 45 , R 46
Are each independently a hydrogen atom, a hydroxy group, a halogen atom such as chlorine, a nitro group, a nitrile group, or an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent, an alkenyl group, an alkoxy group, It represents an alkyl group, an aryl group, a carbonyl group, a carboxy group, a carboxylate group or the like. R 43 , R 44 , R 45 , and R 46 include, for example, a hydrogen atom, a halogen atom,
Preferable examples include an unsubstituted alkyl group, an alkenyl group and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, such as a methyl group, a vinyl group, a phenyl group and an allyl group. These groups may further have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxy group, a carbonyl group, a sulfonic acid ester, a nitro group, a nitrile group, and a carboxy group.

【0075】環状酸無水物として、例えば無水フタル
酸、3,4,5,6−テトラヒドロ無水フタル酸、テト
ラクロロ無水フタル酸、3−ヒドロキシ無水フタル酸、
3−メチル無水フタル酸、3−フェニル無水フタル酸、
無水トリメット酸、無水ピロメット酸、無水マレイン
酸、フェニル無水マレイン酸、ジメチル無水マレイン
酸、ジクロロ無水マレイン酸、クロロ無水マレイン酸な
どが好適に挙げられる。環状酸無水物の含有量として
は、画像形成層の全固形分含量に対して0.5〜20質量
%が好ましく、1〜15質量%がより好ましく、1〜1
0質量%が最も好ましい。前記含有量が0.5質量%未満
であると現像性の維持効果が不十分となることがあり、
20質量%を超えると画像を形成できないことがある。
Examples of the cyclic acid anhydride include phthalic anhydride, 3,4,5,6-tetrahydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, 3-hydroxyphthalic anhydride,
3-methylphthalic anhydride, 3-phenylphthalic anhydride,
Preferable examples include trimetic anhydride, pyrometic anhydride, maleic anhydride, phenyl maleic anhydride, dimethyl maleic anhydride, dichloromaleic anhydride, and chloromaleic anhydride. The content of the cyclic acid anhydride is preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 1 to 15% by mass, and more preferably 1 to 1% by mass based on the total solid content of the image forming layer.
0% by weight is most preferred. If the content is less than 0.5% by mass, the effect of maintaining developability may be insufficient,
If it exceeds 20% by mass, an image may not be formed.

【0076】以下は、ネガ型平版印刷版の記録層を構成
する成分である。 −(E)熱により酸を発生する化合物− 画像形成材料がネガ型の場合、加熱時に酸を発生する化
合物(以下、「酸発生剤」という。)を併用する。この
酸発生剤は、100°C以上に加熱することにより分解
して酸を発生する化合物を増す。発生する酸としては、
スルホン酸、塩酸等の pKa が2以下の強酸であること
が好ましい。前記酸発生剤としては、特願平11−66
733号に記載のものが挙げられる。前記酸発生剤の添
加量としては、画像形成層の全固形分質量に対し0.01
〜50質量%が好ましく、0.1〜40質量%がより好ま
しく、0.5〜30質量%が最も好ましい。
The following are the components constituting the recording layer of the negative type lithographic printing plate. — (E) Compound that Generates Acid by Heat— When the image forming material is a negative type, a compound that generates an acid when heated (hereinafter, referred to as “acid generator”) is used in combination. The acid generator increases the number of compounds that decompose when heated to 100 ° C. or more to generate an acid. As the generated acid,
It is preferably a strong acid having a pKa of 2 or less, such as sulfonic acid and hydrochloric acid. Examples of the acid generator include Japanese Patent Application No. 11-66.
No. 733. The amount of the acid generator added is 0.01 based on the total solid content of the image forming layer.
Is preferably from 50 to 50% by mass, more preferably from 0.1 to 40% by mass, and most preferably from 0.5 to 30% by mass.

【0077】−(F)酸により架橋する架橋剤− 平版印刷用原版がネガ型である場合、酸により架橋する
架橋剤(以下、単に「架橋剤」という場合がある。)を
併用する。前記架橋剤としては、以下のものを挙げるこ
とができる。 (i)アルコキシメチル基又はヒドロキシメチル基で置
換された芳香族化合物 (ii)N−ヒドロキシメチル基、N−アルコキシメチル
基又はN−アシルオキシメチル基を有する化合物 (iii)エポキシ化合物 さらに、特願平10−53788号に記載のものやフェ
ノール誘導体等も挙げることができる。
-(F) Crosslinking Agent Cross-Linked by Acid- When the lithographic printing plate precursor is of a negative type, a cross-linking agent crosslinked by an acid (hereinafter sometimes simply referred to as "crosslinking agent") is used in combination. Examples of the crosslinking agent include the following. (I) an aromatic compound substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group (ii) a compound having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group (iii) an epoxy compound Nos. 10-53788 and phenol derivatives.

【0078】前記架橋剤の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し5〜80質量%が好ましく、10
〜75質量%がより好ましく、20〜70質量%が最も
好ましい。前記フェノール誘導体を架橋剤として使用す
る場合、該フェノール誘導体の添加量としては、画像形
成材料の全固形分質量に対し5〜70質量%が好まし
く、10〜50質量%がより好ましい。上記の各種化合
物の詳細については、特願平11−66733号に記載
されている。
The amount of the crosslinking agent to be added is preferably from 5 to 80% by weight based on the total weight of the solids in the image forming layer, and is preferably 10 to 80% by weight.
-75 mass% is more preferable, and 20-70 mass% is most preferable. When the phenol derivative is used as a cross-linking agent, the amount of the phenol derivative to be added is preferably 5 to 70% by mass, more preferably 10 to 50% by mass, based on the total solid content of the image forming material. Details of the above various compounds are described in Japanese Patent Application No. 11-66733.

【0079】−その他の成分− アルカリ現像処理液を適用するのに好適な平版印刷用原
版の画像形成層には、必要に応じて、さらに種々の添加
剤を添加することができる。例えば、感度を向上させる
目的で、環状酸無水物類、フェノール類、有機酸類、ス
ルホニル化合物類等の公知の添加剤を併用することもで
きる。前記環状酸無水物としては、米国特許第4,11
5,128号明細書に記載のテトラヒドロ無水フタル
酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、3,6−エンドオキシ
−Δ4−テトラヒドロ無水フタル酸、α−フェニル無水
マレイン酸、無水コハク酸、無水プロメリット酸などが
挙げられる。フェノール類としては、ビスフェノール
A、p−ニトロフェノール、p−エトキシフェノール、
2,4,4′−トリヒドロキシベンゾフェノン、2,
3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、4−ヒドロキ
シベンゾフェノン、4,4′,4″−トリヒドロキシト
リフェニルメタン、4,4′,3″,4″−テトラヒド
ロキシ−3,5,3′,5′−テトラメチルトリフェニ
ルメタンなどが挙げられる。
-Other Components- Various additives can be further added to the image forming layer of the lithographic printing plate precursor suitable for applying the alkali developing solution, if necessary. For example, known additives such as cyclic acid anhydrides, phenols, organic acids, and sulfonyl compounds can be used in combination for the purpose of improving sensitivity. As the cyclic acid anhydride, US Pat.
Tetrahydrophthalic anhydride as described in 5,128 Pat, hexahydrophthalic anhydride, 3,6-oxy - [delta 4 - tetrahydrophthalic anhydride, alpha-phenyl maleic anhydride, succinic anhydride, etc. anhydride pro mellitic acid Is mentioned. As phenols, bisphenol A, p-nitrophenol, p-ethoxyphenol,
2,4,4'-trihydroxybenzophenone, 2,
3,4-trihydroxybenzophenone, 4-hydroxybenzophenone, 4,4 ', 4 "-trihydroxytriphenylmethane, 4,4', 3", 4 "-tetrahydroxy-3,5,3 ', 5' -Tetramethyltriphenylmethane and the like.

【0080】前記有機酸類としては、、特開昭60−8
8942号公報、特開平2−96755号公報などに記
載されている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキ
ル硫酸類、ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカル
ボン酸類などがあり、具体的には、p−トルエンスルホ
ン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスル
フィン酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニル
ホスフィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安
息香酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、
3,4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル
酸、4−シクロヘキセン−2,2−ジカルボン酸、エル
カ酸、ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸
などが挙げられる。スルホニル化合物類としては、例え
ばビスヒドロキシフェニルスルホン、メチルフェニルス
ルホン、ジフェニルジスルホンなどが挙げられる。前記
他の環状酸無水物、フェノール類、有機酸類又はスルホ
ニル化合物類の添加量としては、画像形成層の全固形分
質量に対し、0.05〜20質量%が好ましく、0.1〜1
5質量%がより好ましく、0.1〜10質量%が最も好ま
しい。
The organic acids include those described in JP-A-60-8
No. 8942, JP-A-2-96755, and the like, there are sulfonic acids, sulfinic acids, alkyl sulfates, phosphonic acids, phosphoric esters, carboxylic acids, and the like. Sulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, p-toluenesulfinic acid, ethyl sulfate, phenylphosphonic acid, phenylphosphinic acid, phenyl phosphate, diphenyl phosphate, benzoic acid, isophthalic acid, adipic acid, p-toluic acid,
3,4-dimethoxybenzoic acid, phthalic acid, terephthalic acid, 4-cyclohexene-2,2-dicarboxylic acid, erucic acid, lauric acid, n-undecanoic acid, ascorbic acid and the like. Examples of the sulfonyl compounds include bishydroxyphenylsulfone, methylphenylsulfone, and diphenyldisulfone. The amount of the other cyclic acid anhydride, phenol, organic acid or sulfonyl compound to be added is preferably 0.05 to 20% by mass, and more preferably 0.1 to 1% by mass based on the total solid content of the image forming layer.
5 mass% is more preferable, and 0.1 to 10 mass% is most preferable.

【0081】また、現像条件に対する処理性の安定性を
拡げる目的で、特開昭62−251740号公報、特開
平3−208514号公報等に記載の非イオン界面活性
剤、特開昭59−121044号、特開平4−1314
9号公報等に記載の両性界面活性剤を添加することがで
きる。非イオン界面活性剤としては、例えばソルビタン
トリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソル
ビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどが挙げら
れる。両性界面活性剤としては、例えばアルキルジ(ア
ミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチルグリ
シン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル−N
−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン、N−テ
トラデシル−N,N−−ベタイン型(例えば商品名:ア
モーゲンK、第1工業(株)製)などが挙げられる。前
記非イオン界面活性剤又は両性界面活性剤の使用量とし
ては、画像形成層の全固形分質量に対し、0.05〜15
質量%が好ましく、0.1質量%がより好ましい。
For the purpose of expanding the stability of processability under development conditions, nonionic surfactants described in JP-A-62-251740 and JP-A-3-208514, and JP-A-59-121044. No., JP-A-4-1314
An amphoteric surfactant described in JP-A No. 9 and the like can be added. Examples of the nonionic surfactant include sorbitan tristearate, sorbitan monopalmitate, sorbitan triolate, monoglyceride stearate, polyoxyethylene nonyl phenyl ether, and the like. Examples of the amphoteric surfactant include alkyl di (aminoethyl) glycine, alkyl polyaminoethyl glycine hydrochloride, 2-alkyl-N-carboxyethyl-N
-Hydroxyethyl imidazolinium betaine, N-tetradecyl-N, N-betaine type (for example, trade name: Amogen K, manufactured by Daiichi Kogyo Co., Ltd.) and the like. The amount of the nonionic surfactant or the amphoteric surfactant used is 0.05 to 15% based on the total solid content of the image forming layer.
% By mass, more preferably 0.1% by mass.

【0082】前記画像形成層には、露光による加熱後、
直ちに可視像を得るための焼き出し剤や画像着色剤とし
ての染料や顔料を加えることができる。前記焼き出し剤
としては、例えば、露光による加熱によって酸を発生す
る化合物と塩を形成しうる有機染料との組合せが挙げら
れる。具体的には、特開昭50−36209号、特開昭
53−8128号の各公報に記載の、o−ナフトキノン
ジアジド−4−スルホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染
料との組合せ、特開昭53−36223号、特開昭54
−74728号、特開昭60−3626号、特開昭61
−143748号、特開昭61−151644号及び特
開昭63−58440号の各公報に記載の、トリハロメ
チル化合物と塩形成性有機染料との組合せ、が挙げられ
る。前記トリハロメチル化合物として、オキサゾール系
化合物とトリアジン系化合物があり、いずれも経時安定
性に優れ、明瞭な焼き出し画像を与える。前記画像着色
剤としては、例えば、前記塩形成性有機染料以外に、他
の染料を用いることができ、例えば、油溶性染料、塩基
性染料が好適に挙げられる。
After heating by exposure, the image forming layer
A dye or pigment as a printing-out agent or an image coloring agent for immediately obtaining a visible image can be added. Examples of the printing-out agent include a combination of a compound that generates an acid by heating upon exposure and an organic dye that can form a salt. Specifically, a combination of o-naphthoquinonediazide-4-sulfonic acid halogenide and a salt-forming organic dye described in JP-A-50-36209 and JP-A-53-8128, 53-36223, JP-A-54
-74728, JP-A-60-3626, JP-A-61
And combinations of a trihalomethyl compound and a salt-forming organic dye described in JP-A-143748, JP-A-61-151644 and JP-A-63-58440. The trihalomethyl compound includes an oxazole-based compound and a triazine-based compound, all of which have excellent stability over time and give clear print-out images. As the image colorant, for example, other dyes can be used in addition to the salt-forming organic dye, and for example, an oil-soluble dye and a basic dye are preferable.

【0083】具体的には、オイルイエロー#101、オ
イルイエロー#103、オイルピンク#312、オイル
グリーンBG、オイルブルーBOS、オイルブルー#6
03、オイルブラックBY、オイルブラックBS、オイ
ルブラックT−505(以上、オリエント化学工業
(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリスタルバイ
オレット(C.I.42555)、メチルバイオレット
(C.I.42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(C.I.145170B)、マラカイトグリー
ン(C.I.42000)、メチレンブルー(C.I.
52015)等を挙げることができる。また、特開昭6
2−293247号公報に記載の染料は、特に好まし
い。前記各種染料の添加量としては、画像形成層の全固
形分質量に対し、0.01〜10質量%が好ましく、0.1
〜3質量%がより好ましい。
Specifically, Oil Yellow # 101, Oil Yellow # 103, Oil Pink # 312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue # 6
03, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (all manufactured by Orient Chemical Industries, Ltd.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI. 42555), Methyl Violet (CI. 42535) , Ethyl violet, rhodamine B (CI. 145170B), malachite green (CI. 42000), methylene blue (CI.
52015) and the like. In addition, Japanese Unexamined Patent Publication
The dyes described in JP-A-2-293247 are particularly preferred. The amount of the various dyes to be added is preferably 0.01 to 10% by mass, and more preferably 0.1 to 10% by mass based on the total solid content of the image forming layer.
~ 3 mass% is more preferred.

【0084】また、必要に応じて、その塗膜に柔軟性等
を付与する目的で、可塑剤を添加することができる。可
塑剤としては、例えばブチルフタリル、ポリエチレング
リコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオク
チル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸
トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、ア
クリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマーな
どが挙げられる。
[0084] If necessary, a plasticizer may be added for the purpose of imparting flexibility or the like to the coating film. As the plasticizer, for example, butylphthalyl, polyethylene glycol, tributyl citrate, diethyl phthalate, dibutyl phthalate, dihexyl phthalate, dioctyl phthalate, tricresyl phosphate, tributyl phosphate, trioctyl phosphate, tetrahydrofurfuryl oleate, acrylic Examples include oligomers and polymers of acid or methacrylic acid.

【0085】さらに必要に応じて、以下の種々添加剤を
添加することができる。例えば、オニウム塩、o−キノ
ンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スル
ホン酸エステル化合物等の、熱分解性で、未分解状態で
はアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的に低
下させる化合物を併用することができる。該化合物の添
加は、画像部の現像液への溶解阻止能の向上を図る点で
好ましい。前記オニウム塩としては、例えばジアゾニウ
ム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム
塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩
などが挙げられる。中でも、例えばS.I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974), T.S.Bal et al,
Polymer, 21, 423 (1980), 特開昭5−158230号
公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第4,069,
055号、同4,069,056号、特開平3−140
140号に記載のアンモニウム塩、D. C. Necker et a
l, Macromolecules, 17, 2468 (1984), C. S. Wen et a
l, The Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, O
ct (1988)、米国特許第4,069,055号、同4,
069,056号に記載のホスホニウム塩、J. V. Criv
elloet et al. Macromolecules, 10(6), 1307 (1977)、
Chem. & Eng. News, Nov. 28, p.31 (1988)、欧州特許
第104,143号、米国特許第339,049号、同
第410,201号、特開平2−150848号、特開
平2−296514号に記載のヨードニウム塩、
Further, the following various additives can be added as required. For example, onium salts, o-quinonediazide compounds, aromatic sulfone compounds, aromatic sulfonic acid ester compounds and the like, a compound that substantially reduces the solubility of the alkali water-soluble polymer compound in a thermally decomposable, undecomposed state. Can be used together. The addition of the compound is preferred from the viewpoint of improving the ability to inhibit the dissolution of the image area in the developer. Examples of the onium salt include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, and arsonium salts. Among them, for example, SI Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387 (1974), TSBal et al,
Polymer, 21, 423 (1980), diazonium salts described in JP-A-5-158230, U.S. Pat. No. 4,069,
Nos. 055 and 4,069,056, JP-A-3-140
No. 140, DC Necker et a
l, Macromolecules, 17, 2468 (1984), CS Wen et a
l, The Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo, O
ct (1988); U.S. Pat.
No. 069,056, JV Criv
elloet et al. Macromolecules, 10 (6), 1307 (1977),
Chem. & Eng. News, Nov. 28, p. 31 (1988), European Patent No. 104,143, U.S. Patent Nos. 339,049 and 410,201, JP-A-2-150848, JP-A-2-150848. Iodonium salt described in 2-296514,

【0086】J. V. Crivello et al, Polymer J. 17, 7
3 (1985)、J. V. Crivello et al, J.Org. Chem., 43,
3055 (1978)、W. R, Watt et al, J. Polymer Sci., Po
lymerChem. Ed., 22, 1789 (1984)、J. V. Crivello et
al, Polymer bull., 14, 279 (1985)、J. V. Crivello
et al, Macromolecules, 14(5), 1141 (1981), J.V.Cr
ivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed.,
17. 2877 (1979), 欧州特許第370,693号、同2
33,567号、同297,443号、同297,44
2号、米国特許第4,933,377号、同3,90
2,114号、同410,201号、同399,049
号、同4,760,013号、同4,734,444
号、同2,833,827号、独国特許第2,904,
626号、同3,604,580号、同3,604,5
81号に記載のスルホニウム塩、
JV Crivello et al, Polymer J. 17, 7
3 (1985), JV Crivello et al, J. Org. Chem., 43,
3055 (1978), W.R., Watt et al, J. Polymer Sci., Po.
lymerChem. Ed., 22, 1789 (1984), JV Crivello et.
al, Polymer bull., 14, 279 (1985), JV Crivello
et al, Macromolecules, 14 (5), 1141 (1981), JVCr
ivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed.,
17. 2877 (1979), EP 370,693, 2
33,567, 297,443, 297,44
No. 2, U.S. Pat. Nos. 4,933,377 and 3,90
2,114, 410,201, 399,049
Nos. 4,760,013, 4,734,444
No. 2,833,827, German Patent No. 2,904,
626, 3,604,580, 3,604,5
No. 81, a sulfonium salt,

【0087】J. V. Crivello et al, Macromolecules,
10(6), 1307 (1977), J.V. Crivelloet al, J. Polymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979)に記載の
セレノニウム塩、C. S. Wen et al, The Proc. Conf. R
ad. Curing ASIA, p.478, Tokyo, Oct (1988)に記載の
アルソニウム塩などが挙げられる。上記のうち、ジアゾ
ニウム塩が好ましく、中でも、特開平5−158230
号公報に記載のものがより好ましい。
[0087] JV Crivello et al, Macromolecules,
10 (6), 1307 (1977), JV Crivelloet al, J. Polymer
Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1047 (1979), selenonium salts, CS Wen et al, The Proc. Conf.R
ad. Curing ASIA, p.478, Tokyo, Oct (1988). Of the above, diazonium salts are preferable, and among them, JP-A-5-158230
The ones described in the above-mentioned publication are more preferable.

【0088】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサチリル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸などを挙げることが
できる。中でも、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナ
フタレンスルホン酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸などのアルキル芳香族スルホン酸が好ましい。
As the counter ion of the onium salt, tetrafluoroboric acid, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, 5-nitro-o-toluenesulfonic acid,
-Sulfosatilylic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2,4,6-trimethylbenzenesulfonic acid, 2
-Nitrobenzenesulfonic acid, 3-chlorobenzenesulfonic acid, 3-bromobenzenesulfonic acid, 2-fluorocaprylnaphthalenesulfonic acid, dodecylbenzenesulfonic acid, 1-naphthol-5-sulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5- Benzoyl-benzenesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid and the like can be mentioned. Among them, alkyl aromatic sulfonic acids such as hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalenesulfonic acid, and 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid are preferable.

【0089】前記o−キノンジアジド化合物としては、
少なくとも1個のo−キノンジアジド基を有する化合物
で、熱分解によりアルカリ可溶性を増すものが挙げら
れ、種々の構造の化合物を用いることができる。前記o
−キノンジアジドは、熱分解により結着剤の溶解抑制能
を喪失し、且つo−キノンジアジド自身がアルカリ可溶
性の物質に変化する、両効果により平版印刷用原版の溶
解性を助ける。
As the o-quinonediazide compound,
Compounds having at least one o-quinonediazide group, which increase the alkali solubility by thermal decomposition, include compounds having various structures. Said o
-The quinonediazide helps the solubility of the lithographic printing plate precursor due to both effects of losing the ability to suppress the dissolution of the binder by thermal decomposition and converting o-quinonediazide itself into an alkali-soluble substance.

【0090】上記のようなo−キノンジアジド化合物と
しては、例えば、J.コーサー著「ライト−センシティ
ブ・システムズ」(John Wiley & Sons. Inc.)第33
9〜352頁に記載の化合物が使用可能であるが、中で
も、種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物又は芳香族アミ
ノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸
エステル又はスルホン酸アミドが好ましい。また、特開
昭43−28403号公報に記載の、ベンゾキノン
(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド又は、米国
特許第3,046,120号、同第3,188,210
号に記載のベンゾキノン−(1,2)−ジアジドスルホ
ン酸クロライド又はナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−5−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂とのエステルも好ましい。
Examples of the o-quinonediazide compound as described above include those described in J. Am. Lighter-Sensitive Systems, Coser (John Wiley & Sons. Inc.) 33rd
The compounds described on pages 9 to 352 can be used, and among them, sulfonic esters or sulfonic amides of o-quinonediazide reacted with various aromatic polyhydroxy compounds or aromatic amino compounds are preferable. Also, benzoquinone (1,2) -diazide sulfonic acid chloride or U.S. Pat. Nos. 3,046,120 and 3,188,210 described in JP-A-43-28403.
Also preferred are the esters of benzoquinone- (1,2) -diazidesulfonic acid chloride or naphthoquinone- (1,2) -diazido-5-sulfonic acid chloride described in the above-mentioned item with phenol formaldehyde resin.

【0091】さらに、ナフトキノン−(1,2)−ジア
ジド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムア
ルデヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド
−4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン
樹脂とのエステルも好ましい。その他、例えば特開昭4
7−5303号、特開昭48−63802号、特開昭4
8−63803号、特開昭48−96575号、特開昭
49−38701号、特開昭48−13354号、特公
昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公
昭49−17481号、米国特許第2,797,213
号、同ぢ3,454,400号、同第3,544,32
3号、同第3,573,917号、同第3,674,4
95号、同第3,785,825号、英国特許第1,2
27,602号、同第1,251,345号、同第1,
267,005号、同第1,329,888号、同第
1,330,932号、ドイツ特許第854、890号
などに記載のものも有用である。これらの化合物は単独
でも、数種を組み合わせて混合物として使用してもよ
い。前記オニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳香
族スルホン酸エステル等の添加量としては、画像形成層
の全固形分質量に対し、0.1〜50質量%が好ましく、
0.5〜30質量%がより好ましく、0.5〜20質量%が
最も好ましい。
Further, esters of naphthoquinone- (1,2) -diazide-4-sulfonic acid chloride with phenol formaldehyde resin or cresol-formaldehyde resin, naphthoquinone- (1,2) -diazide-4-sulfonic acid chloride and pyrogallol -Esters with acetone resin are also preferred. In addition, for example,
7-5303, JP-A-48-63802, JP-A-Showa 4
8-63803, JP-A-48-96575, JP-A-49-38701, JP-A-48-13354, JP-B-41-11222, JP-B-45-9610, JP-B-49-17481, US Patent 2,797,213
No. 3,454,400, No. 3,544,32
No. 3, No. 3,573,917, No. 3,674, 4
No. 95, 3,785, 825 and British Patent Nos. 1, 2
No. 27,602, No. 1,251,345, No. 1,
Nos. 267,005, 1,329,888, 1,330,932, and German Patent Nos. 854,890 are also useful. These compounds may be used alone or as a mixture of several kinds. The amount of the onium salt, o-quinonediazide compound, aromatic sulfonic acid ester or the like to be added is preferably from 0.1 to 50% by mass based on the total solid content of the image forming layer.
The content is more preferably from 0.5 to 30% by mass, most preferably from 0.5 to 20% by mass.

【0092】−支持体− 画像形成層を設けるための支持体としては、例えば純ア
ルミニウム板、アルミニウム合金板、アルミニウムがラ
ミネートもしくは蒸着されたプラスチックフィルムなど
が挙げられる。アルミニウム板の表面は砂目立て処理、
ケイ酸ソーダ、フッ化ジルコニウム酸カリウム、リン酸
塩などの水溶液への浸透処理、あるいは、陽極酸化処理
などの表面処理が施されていることが好ましい。また、
米国特許第2,714,066号明細書に記載の砂目立
てした後にケイ酸ナトリウム水溶液中で浸漬処理したア
ルミニウム板、特公昭47−5125号公報に記載のア
ルミニウム板を陽極酸化処理した後、アルカリ金属ケイ
酸塩の水溶液中で浸漬処理したアルミニウム板も好まし
い。
-Support-Examples of the support for providing the image forming layer include a pure aluminum plate, an aluminum alloy plate, and a plastic film on which aluminum is laminated or vapor-deposited. The surface of the aluminum plate is grained,
Preferably, a surface treatment such as a permeation treatment into an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate or the like, or an anodization treatment is performed. Also,
U.S. Pat. No. 2,714,066 describes an aluminum plate grained and then immersed in an aqueous solution of sodium silicate. An aluminum plate immersed in an aqueous solution of a metal silicate is also preferable.

【0093】前記陽極酸化処理としては、例えばリン
酸、クロム酸、硝酸、ホウ酸などの無機酸若しくは蓚
酸、スルファミン酸などの有機酸又はこれらの塩の水溶
液若しくは非水溶液の単独若しくは二種以上を組み合わ
せた電解液中で、アルミニウム板を陽極として電極を流
すことにより施される。また、米国特許第3,658,
662号明細書に記載のシリケート電着も有効である。
As the anodic oxidation treatment, for example, one or two or more of an aqueous solution or a non-aqueous solution of an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, nitric acid, boric acid or an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid or a salt thereof is used. The application is performed by flowing the electrodes in the combined electrolyte with the aluminum plate as the anode. U.S. Pat. No. 3,658,
The silicate electrodeposition described in Japanese Patent No. 662 is also effective.

【0094】また、米国特許第4,087,341号明
細書、特公昭46−27481号公報、特開昭52−3
0503号公報に記載の、電解グレインを施した支持体
に前記陽極酸化処理を施したものも有用である。米国特
許第3,834,998号明細書に記載の砂目立てした
後、化学的にエッチングし、さらに陽極酸化処理したア
ルミニウム板も有用である。これらの処理は支持体の表
面を親水性とする目的で施されるほか、支持体上に設け
られる画像形成層との有害な反応を防止する目的、画像
形成像との密着性を向上させる目的などの種々の目的で
施される。
Also, US Pat. No. 4,087,341, JP-B-46-27481, and JP-A-52-3 are disclosed.
The support described in Japanese Patent No. 0503 which has been subjected to the anodic oxidation treatment on a support provided with electrolytic grains is also useful. An aluminum plate that is grained, chemically etched, and then anodized as described in U.S. Pat. No. 3,834,998 is also useful. These treatments are performed for the purpose of making the surface of the support hydrophilic, for the purpose of preventing harmful reactions with the image forming layer provided on the support, and for the purpose of improving the adhesion with the image formed image. And so on.

【0095】平版印刷用原版は、感光層として画像形成
層を所望の支持体上に塗布することにより作製すること
ができるが、前記画像形成層の形成前に必要に応じて、
支持体上に下塗り層を設けることもできる。下塗り層に
用いる成分としては、種々の有機化合物が挙げられ、例
えばカルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラ
ビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基
を有するホスホン酸類;置換基を有していてもよいフェ
ニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホ
ン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及び
エチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸;置換基を
有していてもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、ア
ルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸;置
換基を有していてもよいフェニルホスフィン酸、ナフチ
ルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホ
スフィン酸などの有機ホスフィン酸;グリシンやβ−ア
ラニンなどのアミノ酸類;トリエタノールアミンの塩酸
塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩などが
挙げられる。前記有機化合物は、1種単独で用いてもよ
く、2種以上を混合して用いてもよい。また、前述した
ジアゾニウム塩を下塗りすることも好ましい態様であ
る。
The lithographic printing plate precursor can be produced by coating an image forming layer as a photosensitive layer on a desired support.
An undercoat layer may be provided on the support. Examples of components used for the undercoat layer include various organic compounds, for example, carboxylic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, and 2-aminoethylphosphonic acid; phenyl which may have a substituent Organic phosphonic acids such as phosphonic acid, naphthylphosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid; phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid which may have a substituent and Organic phosphoric acids such as glycerophosphoric acid; organic phosphinic acids such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid which may have a substituent; amino acids such as glycine and β-alanine; Amine hydrochloride, etc. Such as hydrochloric acid salts of amines having a hydroxyl group. The organic compounds may be used alone or in a combination of two or more. It is also a preferred embodiment to undercoat the above-mentioned diazonium salt.

【0096】また、下塗り層としては、下記一般式(II
I)で表される構成単位を有する有機高分子化合物の少
なくとも1種を含む有機下塗り層も好ましい。
The undercoat layer is represented by the following general formula (II)
An organic undercoat layer containing at least one organic polymer compound having a structural unit represented by I) is also preferable.

【0097】 [0097]

【0098】式中、R51は水素原子、ハロゲン原子又は
アルキル基を表し、R52及びR53は、それぞれ独立に水
素原子、水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、置換アル
キル基、アリール基、置換アリール基、−OR54、−C
OOR55、−CONHR56、−COR57又は−CNを表
し、前記R52及びR53は互いに結合して環構造を形成し
てもよい。ここで、R54〜R57はそれぞれ独立にアルキ
ル基又はアリール基を表す。Xは水素原子、金属原子、
−NR58596061を表す。ここで善意R58〜R61
それぞれ独立に水素原子、アルキル基、置換アルキル
基、アリール基又は置換アリール基を表し、R58及びR
59は互いに結合して環構造を形成してもよい。mは1〜
3の整数を表す。前記下塗り層の乾燥塗布量としては2
〜200mg/m2が好ましく5〜100mg/m2がよ
り好ましい。この乾燥塗布量が2mg/m2未満である
と十分な膜性が得られないことがある。一方200mg
/m2を超えて塗布しても、それ以上の効果を得ること
はできない。
In the formula, R 51 represents a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, and R 52 and R 53 each independently represent a hydrogen atom, a hydroxyl group, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, and a substituted aryl group. Group, -OR 54 , -C
Represents OOR 55 , —CONHR 56 , —COR 57 or —CN, wherein R 52 and R 53 may be bonded to each other to form a ring structure. Here, each represent R 54 to R 57 independently represent an alkyl group or an aryl group. X is a hydrogen atom, a metal atom,
It represents a -NR 58 R 59 R 60 R 61 . Wherein intentioned R 58 to R 61 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group or a substituted aryl group, R 58 and R
59 may combine with each other to form a ring structure. m is 1
Represents an integer of 3. The dry coating amount of the undercoat layer is 2
-200 mg / m < 2 > is preferable, and 5-100 mg / m < 2 > is more preferable. If the dry coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient film properties may not be obtained. 200 mg on the other hand
/ M 2 , no further effect can be obtained.

【0099】前記下塗り層は下記方法により設けること
ができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチ
ルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混合溶
剤に前記有機化合物を溶解させた下塗り層用溶液をアル
ミニウム板などの支持体上に塗布、乾燥して設ける方
法、水又はメタノール、エタノール、エチルエチルケト
ンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤に前記有機
化合物を溶解させた下塗り層用溶液に、アルミニウム板
などの支持体を浸漬して前記有機化合物を吸着させ、そ
の後水等で洗浄、乾燥して設ける方法である。
The undercoat layer can be provided by the following method. That is, water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof, or a solution for the undercoat layer obtained by dissolving the organic compound on a support such as an aluminum plate, a method of providing by drying, water or methanol In a solution for the undercoat layer in which the organic compound is dissolved in an organic solvent such as ethanol or ethyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof, a support such as an aluminum plate is immersed in the support such as an aluminum plate, and the organic compound is adsorbed. It is a method of washing and drying.

【0100】前者では、前記有機化合物の0.005〜1
0質量%濃度の下塗り層用溶液を用いることが好まし
い。一方、後者では、下塗り層用溶液の前記有機化合物
の濃度としては、0.01〜20質量%が好まし、0.05
〜5質量%より好ましい。また、浸漬温度としては20
〜90℃が好ましく、25〜50℃がより好ましい。浸
漬時間としては0.1〜20分が好ましく、2秒〜1分が
より好ましい。前記下塗り層用溶液はアンモニア、トリ
エチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や塩
酸、リン酸などの酸性物質を用いてpH1〜12の範囲
に調整することもできる。また、調子再現性改良を目的
として黄色染料を追加することもできる。
In the former, 0.005 to 1 of the organic compound is used.
It is preferable to use a solution for an undercoat layer having a concentration of 0% by mass. On the other hand, in the latter, the concentration of the organic compound in the undercoat layer solution is preferably 0.01 to 20% by mass, and 0.05% by mass.
-5% by mass or more. The immersion temperature is 20
-90 ° C is preferred, and 25-50 ° C is more preferred. The immersion time is preferably from 0.1 to 20 minutes, more preferably from 2 seconds to 1 minute. The pH of the undercoat layer solution can be adjusted to a range of pH 1 to 12 using a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid. Also, a yellow dye can be added for the purpose of improving tone reproducibility.

【0101】本発明のアルカリ現像処理液により現像す
る平版印刷用原版は一般に、上述の各種成分(成分
(A)〜(F)及びその他の成分)を溶媒に溶解して画
像形成層用塗布液とし、これを所望の支持体上に塗布し
て作製する。前記溶媒としては、例えばエチレンジクロ
ライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、メタ
ノール、エタノール、プロパノール、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパノー
ル、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ−2
−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メチ
ル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、N,
N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルグレア、N−
メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホラ
ン、α−ブチロラクトン、トルエンなどが挙げられる
が、これらに限定されるものではない。前記溶媒は単独
でも2種以上を混合してもよい。
The lithographic printing plate precursor to be developed with the alkali developing solution of the present invention is generally prepared by dissolving the above-mentioned various components (components (A) to (F) and other components) in a solvent and forming a coating solution for an image forming layer. This is applied to a desired support to prepare the support. Examples of the solvent include ethylene dichloride, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, methanol, ethanol, propanol, ethylene glycol monomethyl ether, 1-methoxy-2-propanol, 2-methoxyethyl acetate, and 1-methoxy-2.
-Propyl acetate, dimethoxyethane, methyl lactate, ethyl lactate, N, N-dimethylacetamide,
N-dimethylformamide, tetramethyl glare, N-
Examples include, but are not limited to, methylpyrrolidone, dimethylsulfoxide, sulfolane, α-butyrolactone, toluene, and the like. The solvents may be used alone or in combination of two or more.

【0102】前記溶媒中における各種成分(成分(A)
〜(F)及びその他の成分)の全固形分濃度としては1
〜50質量%が好ましい。た、支持体上に塗布、乾燥し
て設けられる画像形成層の乾燥塗布量(固形分)として
は、一般的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。支持体上
に塗布する方法としては、公知の種々の方法の中から適
宜選択できるが、例えばバーコーター塗布、回転塗布、
スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ塗布、エアーナ
イフ塗布、グレード塗布、ロール塗布などを挙げること
ができる。塗布量が少なくなるにつれて、見かけの感度
は大になるが、画像形成層の皮膜特性は低下する。画像
形成層用塗布液中には、塗布性を良化する目的で界面活
性剤、例えば特開昭62−170950号公報に記載の
フッ素系界面活性剤などを添加することができる。その
添加量としては、画像形成層の全固形分質量に対して0.
01〜1質量%が好ましく、0.05〜0.5質量%がより
好ましい。
Various components (component (A)) in the solvent
To (F) and other components) as 1
~ 50 mass% is preferred. The dry coating amount (solid content) of the image forming layer formed by coating and drying on the support is generally preferably from 0.5 to 5.0 g / m 2 . The method of coating on the support can be appropriately selected from various known methods, for example, bar coater coating, spin coating,
Examples include spray coating, curtain coating, dip coating, air knife coating, grade coating, and roll coating. As the coating amount decreases, the apparent sensitivity increases, but the film characteristics of the image forming layer deteriorate. To the coating solution for the image forming layer, a surfactant, for example, a fluorine-based surfactant described in JP-A-62-170950 can be added for the purpose of improving coating properties. The amount of addition is 0.
It is preferably from 01 to 1% by mass, more preferably from 0.05 to 0.5% by mass.

【0103】本発明の平版印刷用原版は赤外線レーザー
で記録することができる他、紫外線ランプによる記録や
サーマルヘッド等による熱的な記録も可能である。前記
赤外線レーザーとしては波長700〜1200nmの赤
外線を放射するレーザーが好ましく、同波長範囲の赤外
線を放射する固体レーザー又は半導体レーザーがより好
ましい。
The lithographic printing plate precursor of the present invention can be recorded by an infrared laser, and can also be recorded by an ultraviolet lamp or thermally by a thermal head or the like. As the infrared laser, a laser that emits infrared light having a wavelength of 700 to 1200 nm is preferable, and a solid-state laser or semiconductor laser that emits infrared light having the same wavelength range is more preferable.

【0104】[0104]

【発明の効果】本発明の平版印刷版用アルカリ現像処理
液で、赤外線吸収剤を含む画像形成層を有する平版印刷
用原版を処理することにより、現像性を維持しながら画
像部に画像欠陥を招くことなく、エッジ調の高鮮鋭で鮮
明な画像を形成することができる。
The lithographic printing plate precursor having an image forming layer containing an infrared absorbing agent is treated with the alkali developing solution for lithographic printing plate of the present invention, whereby image defects are formed in the image area while maintaining the developing property. Without inviting, it is possible to form a sharp, sharp image with an edge tone.

【0105】[0105]

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらに制限されるものではない。なお、
実施例中の「%」は全て「質量%」を表す。 <平版印刷版用原版の作成>0.3mm厚のアルミニウ
ム板(材質1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱
脂した後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−
水懸濁液を用い、この表面を砂目立てし、水でよく洗浄
した。洗浄後、このアルミニウム板を45℃の25%水
酸化ナトリウム水溶液に9秒間浸漬してエッチングを行
い、水洗した後、さらに20%硝酸水溶液に20秒間浸
漬し、再度水洗した。このときの砂目立て表面のエッチ
ング量は、約3g/m 2であった。
The present invention will be described below in detail with reference to examples.
However, the present invention is not limited to these. In addition,
All “%” in the examples represent “% by mass”. <Preparation of a lithographic printing plate precursor> 0.3 mm thick aluminum
Wash the plate (material 1050) with trichlorethylene and remove
After grease, nylon brush and 400 mesh pumice-
Using a water suspension, grain this surface and wash it well with water
did. After washing, the aluminum plate was washed with 45% water at 45 ° C.
Etch for 9 seconds in an aqueous solution of sodium oxide
After washing with water, immerse in a 20% nitric acid aqueous solution for 20 seconds.
Pickled and washed again with water. Etching of the grained surface at this time
Approximately 3 g / m TwoMet.

【0106】次に、このアルミニウム板を7%硫酸を電
解液として、電流密度15A/dm 2の直流電流で3g
/m2の陽極酸化被膜を設けた後、水洗、乾燥した。こ
れを、30℃の珪酸ナトリウム2.5%水溶液で10秒
処理し、下記下塗り層用塗布液を塗布し、80℃下で1
5秒間乾燥して支持体を得た。乾燥後の下塗り層の乾燥
塗布量は、15mg/m2であった。
Next, the aluminum plate was charged with 7% sulfuric acid.
Current density 15A / dm Two3g with direct current
/ MTwoAfter providing an anodic oxide film, the substrate was washed with water and dried. This
This was treated with a 2.5% aqueous solution of sodium silicate at 30 ° C for 10 seconds.
And apply the following undercoat layer coating solution,
The support was obtained by drying for 5 seconds. Drying of the undercoat layer after drying
Application amount is 15mg / mTwoMet.

【0107】<下塗り層用塗布液> 下記共重合体P(分子量28000) 0.3g メタノール 100g 水 1g<Coating solution for undercoat layer> The following copolymer P (molecular weight: 28,000) 0.3 g methanol 100 g water 1 g

【0108】 [0108]

【0109】<特定の共重合体の合成> 合成例(特定の共重合体1) 攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備えた500ml三つ口
フラスコにメタクリル酸31.0g(0.36モル)、
クロロギ酸エチル39.1g(0.36モル)及びアセ
トニトリル200mlを入れ、氷水浴で冷却しながら混合
物を攪拌した。この混合物にトリエチルアミン36.4
g(0.36モル)を約1時間かけて滴下ロートにより
滴下した。滴下終了後、氷水浴を取り去り、室温下で3
0分間混合物を攪拌した。この反応混合物にp-アミノベ
ンゼンスルホンアミド51.7g(0.30モル)を加
え、油浴にて70℃に温めながら混合物を1時間攪拌し
た。反応終了後、この混合物を水1リットルにこの水を
攪拌しながら投入し、30分間得られた混合物を攪拌し
た。この混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水
500mlでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、
得られた固体を乾燥することにより、N-(p-アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミドの白色固体が得られ
た(収量46.9g)
<Synthesis of Specific Copolymer> Synthesis Example (Specific Copolymer 1) 31.0 g (0.36 mol) of methacrylic acid was placed in a 500 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel.
39.1 g (0.36 mol) of ethyl chloroformate and 200 ml of acetonitrile were added, and the mixture was stirred while cooling in an ice water bath. To this mixture was added triethylamine 36.4.
g (0.36 mol) was dropped by a dropping funnel over about 1 hour. After dropping, remove the ice-water bath and allow
The mixture was stirred for 0 minutes. To the reaction mixture was added 51.7 g (0.30 mol) of p-aminobenzenesulfonamide, and the mixture was stirred for 1 hour while warming to 70 ° C. in an oil bath. After completion of the reaction, the mixture was added to 1 liter of water while stirring the water, and the resulting mixture was stirred for 30 minutes. The mixture was filtered to remove a precipitate, which was slurried with 500 ml of water, and then the slurry was filtered.
By drying the obtained solid, a white solid of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide was obtained (yield 46.9 g).

【0110】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た20ml三つ口フラスコにN-(p-アミノスルホニルフェ
ニル)メタクリルアミド4.61g、(0.0192モ
ル)、メタクリル酸エチル2.94g(0.0258モ
ル)、アクリロニトリル0.80g(0.015モル)
及びN,N-ジメチルアセトアミド20gを入れ、湯水浴に
より65℃に加熱しながら混合物を攪拌した。この混合
物に「V-65」(和光純薬(株)製)0.15gを加
え、65℃に保ちながら窒素気流下2時間混合物を攪拌
した。この反応混合物にさらにN-(p-アミノスルホニル
フェニル)メタクリルアミド4.61g、メタクリル酸
エチル2.94g、アクリロニトリル0.80g、N,N-
ジメチルアセトアミド及び「V−65」0.15gの混
合物を2時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終
了後、さらに65℃で2時間得られた混合物を攪拌し
た。反応終了後、メタノール40gを混合物に加え、冷
却し、得られた混合物を水2リットルにこの水を攪拌し
ながら投入し、30分間混合物を攪拌した後、析出物を
ろ過により取り出し、乾燥することにより15gの白色
固体を得た。ゲルパーミエーションクロマトグラフィー
により、この特定の共重合体の重量平均分子量(ポリス
チレン標準)を測定したところ、53,000であっ
た。
Next, 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, (0.0192 mol) and 2.94 g of ethyl methacrylate were placed in a 20 ml three-necked flask equipped with a stirrer, a condenser and a dropping funnel. 0.0258 mol), 0.80 g (0.015 mol) of acrylonitrile
And 20 g of N, N-dimethylacetamide, and the mixture was stirred while being heated to 65 ° C. in a hot water bath. 0.15 g of "V-65" (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) was added to the mixture, and the mixture was stirred for 2 hours under a nitrogen stream while maintaining the temperature at 65 ° C. To this reaction mixture, 4.61 g of N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, 2.94 g of ethyl methacrylate, 0.80 g of acrylonitrile, N, N-
A mixture of dimethylacetamide and 0.15 g of “V-65” was added dropwise by a dropping funnel over 2 hours. After the addition was completed, the resulting mixture was further stirred at 65 ° C. for 2 hours. After completion of the reaction, methanol (40 g) was added to the mixture, and the mixture was cooled. The obtained mixture was poured into 2 liters of water while stirring the water. The mixture was stirred for 30 minutes, and the precipitate was removed by filtration and dried. Gave 15 g of a white solid. The weight average molecular weight (polystyrene standard) of this specific copolymer was measured to be 53,000 by gel permeation chromatography.

【0111】得られた支持体上に下記画像形成層塗布液
を、乾燥塗布量が、1.8g/m2となるように塗布
し、ポジ型の平版印刷用原版を得た。 <画像形成層用塗布液> 上記特定の共重合体1[(B)成分] 0.4g m,p−クレゾールノボラック[(B)成分] 0.6g (m/p比=6/4、重量平均分子量8000、 未反応クレゾールを0.5%含有) シアニン染料A[(A+C)成分] 0.1g 無水フタル酸[(D)成分] 0.05g p−トルエンスルホン酸 0.002g エチルバイオレット 0.02g (対イオン:6−ヒドロキシ−β−ナフタレンスルホン酸) ナフトキノン1,2−ジアジド−5−スルホニルクロイドと ピロガロール−アセトン樹脂とのエステル化物 0.01g フッ素系界面活性剤 0.05g (商品名:メガファックF−177、大日本インキ化学工業(株)製) メチルエチルケトン 8g 1−メトキシ−2−プロパノール 4g
The following coating solution for the image forming layer was applied on the obtained support so that the dry coating amount was 1.8 g / m 2 , to obtain a positive type lithographic printing original plate. <Coating liquid for image forming layer> Specific copolymer 1 [component (B)] 0.4 g m, p-cresol novolak [component (B)] 0.6 g (m / p ratio = 6/4, weight) Average molecular weight 8000, contains 0.5% of unreacted cresol) Cyanine dye A [(A + C) component] 0.1 g Phthalic anhydride [(D) component] 0.05 g p-Toluenesulfonic acid 0.002 g Ethyl violet 0. 02g (counter ion: 6-hydroxy-β-naphthalenesulfonic acid) Esterified product of naphthoquinone 1,2-diazide-5-sulfonyl chloride and pyrogallol-acetone resin 0.01 g Fluorine surfactant 0.05 g (trade name: Megafac F-177, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.) Methyl ethyl ketone 8 g 1-methoxy-2-propanol 4 g

【0112】[0112]

【実施例1〜7及び比較例1】(SiO2含有のアルカ
リ現像処理液の調製)酸化ケイ素SiO2及び酸化カリ
ウムK2Oの混合比SiO2/K2Oが1.1のケイ酸カ
リウム4.0%水溶液1リットルに各種シロキサン化合
物を下記表1に記載の量、添加し、本発明のアルカリ現
像処理液(1)〜(7)を作製した。、上記組成でシロ
キサンを含まないものを比較例1とした。
EXAMPLES 1 TO 7 AND COMPARATIVE EXAMPLE 1 (Preparation of Alkaline Developing Solution Containing SiO 2 ) Potassium Silicate with a Mixing Ratio of Silicon Oxide SiO 2 and Potassium Oxide K 2 O of SiO 2 / K 2 O of 1.1 Various siloxane compounds were added to 1 liter of a 4.0% aqueous solution in the amounts shown in Table 1 below to prepare alkali developing solutions (1) to (7) of the present invention. Comparative Example 1 having the above composition and containing no siloxane.

【0113】[0113]

【実施例8〜14及び比較例2】(非還元糖含有のアル
カリ現像処理液の調製)非還元糖と塩基とを組み合わせ
たD−ソルビット/酸化カリウムK2Oよりなるカリウ
ム塩5.0%水溶液1リットルに各種シロキサン化合物
を下記表1に記載の量添加し、本発明のアルカリ現像処
理液(8)〜(14)を作製した。上記組成でシロキサ
ンを含まないものを比較例2とした。
EXAMPLES 8 to 14 and Comparative Example 2] (non-reducing sugars alkaline developing solution containing preparations) nonreducing sugar and a base and the combined D- sorbitol / potassium oxide K 2 potassium salt 5.0 O consisting% Various siloxane compounds were added to 1 liter of the aqueous solution in the amounts shown in Table 1 below to prepare alkali developing solutions (8) to (14) of the present invention. Comparative Example 2 having the above composition and containing no siloxane was used.

【0114】上記より得られた平版印刷用原版に出力5
00mW、波長830nmビーム径17μm(1/
2)の半導体レーザーを用いて主走査速度5m/秒に
て露光し、25℃に保持した。この平版印刷用原版を、
上記の各種アルカリ現像処理液を満たした自動現像機P
S900NP(富士写真フイルム(株)製)により、現像
温度25℃、28℃、30℃、12秒で現像処理した。現像処
理が終了したのち、水洗工程を経て、ガム(GU−7
(1:1))などで処理して、製版が完了した平版印刷
版を得た。
Output 5 to the lithographic printing plate precursor obtained above
00 mW, wavelength 830 nm, beam diameter 17 μm (1 /
The semiconductor laser of e 2 ) was exposed at a main scanning speed of 5 m / sec and kept at 25 ° C. This lithographic printing plate is
Automatic developing machine P filled with the above various alkali developing solutions
The film was developed with S900NP (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) at a developing temperature of 25 ° C., 28 ° C., 30 ° C. for 12 seconds. After the development processing is completed, the gum (GU-7) is passed through a water washing step.
(1: 1)) to obtain a lithographic printing plate in which plate making was completed.

【0115】<画像部/非画像部のバランスの評価> (非画像部の現像性の評価)上記のようにして現像温度
25℃、28℃、30℃で現像処理して得た平版印刷版の非画
像部の現像性を「非画像部の残膜の有無」を観察すること
で、官能評価を行った。印刷物の汚れ評価と併せて、結
果を表2に示す。 −基準− ○:十分に現像され、非画像部上の画像形成層の残存は
認められなかった。印刷物上には汚れがなかった。 △:非画像部上に画像形成層が若干残存していた。印刷
物上には汚れがなかった。 ×:現像不良が認められ、非画像部に画像形成層が残存
していた。印刷物上に汚れが発生した。
<Evaluation of balance between image area and non-image area> (Evaluation of developability of non-image area)
The sensory evaluation was performed on the lithographic printing plate obtained by developing at 25 ° C., 28 ° C., and 30 ° C. by observing “the presence or absence of a residual film in the non-image portion” of the non-image portion. The results are shown in Table 2 together with the evaluation of the stain on the printed matter. -Criterion- A: sufficiently developed, no residual image-forming layer on non-image area observed. There was no stain on the printed matter. Δ: The image forming layer was slightly left on the non-image portion. There was no stain on the printed matter. C: Defective development was observed, and the image forming layer remained in the non-image area. Smear occurred on printed matter.

【0116】(画像部の膜べりの評価)上記のようにして
現像温度25℃、28℃、30℃で現像処理して得た平版印刷
版の「画像部の欠陥」を下記基準に従い、目視により観
察し、官能評価を行った。評価結果を以下の表2に示
す。 −基準− ○:画像部に欠陥は認められなかった。印刷物上でも画
像部の白ぬけはなかった。 △:画像部濃度が若干低下し、一部に欠陥が認められ
た。印刷物上では、画像部の白ぬけはなかった。 ×:画像部濃度が大幅に低下し、画像部に欠陥した部分
有り。印刷物上に画像部の色抜けが発生した。
(Evaluation of film loss in image area) The "defects in the image area" of the lithographic printing plate obtained by developing at 25.degree. C., 28.degree. C., and 30.degree. C. as described above were visually observed according to the following criteria. And sensory evaluation was performed. The evaluation results are shown in Table 2 below. -Criteria- A: No defect was observed in the image area. There was no whitening of the image area even on the printed matter. Δ: Image density slightly decreased, and some defects were observed. On the printed material, there was no whitening in the image area. X: The density of the image portion was significantly reduced, and there was a defective portion in the image portion. Color loss in the image area occurred on the printed matter.

【0117】[0117]

【表1】 [Table 1]

【0118】実施例1〜7及び比較例1:SiO2含有
のアルカリ現像処理液 実施例8〜14及び比較例2:非還元糖含有のアルカリ
現像処理液
Examples 1 to 7 and Comparative Example 1: Alkali developing solution containing SiO 2 Examples 8 to 14 and Comparative Example 2: Alkali developing solution containing non-reducing sugar

【0119】[0119]

【表2】 [Table 2]

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 赤外線吸収剤を含む画像形成層を有する
平版印刷版用アルカリ現像処理液であって、ジアルキル
シロキサン基を有する界面活性剤を含有することを特徴
とするアルカリ現像処理液。
1. An alkali developing solution for a lithographic printing plate having an image forming layer containing an infrared absorbing agent, wherein the alkali developing solution contains a surfactant having a dialkylsiloxane group.
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