JP2001282082A - Hologram recording material composition, hologram recording medium and producing method thereof - Google Patents

Hologram recording material composition, hologram recording medium and producing method thereof

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JP2001282082A
JP2001282082A JP2000158558A JP2000158558A JP2001282082A JP 2001282082 A JP2001282082 A JP 2001282082A JP 2000158558 A JP2000158558 A JP 2000158558A JP 2000158558 A JP2000158558 A JP 2000158558A JP 2001282082 A JP2001282082 A JP 2001282082A
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JP
Japan
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meth
group
compound
prepolymer
allyl
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Pending
Application number
JP2000158558A
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Japanese (ja)
Inventor
Taichi Ichihashi
太一 市橋
Hideo Tanigawa
英夫 谷川
Akira Hashimoto
明 橋本
Naohiko Sakashita
尚彦 坂下
Takashi Matsuo
孝 松尾
Kazunori Yokoyama
和典 横山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Osaka Soda Co Ltd
Original Assignee
Daiso Co Ltd
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hologram recording material composition which exhibits excellent transparency and resolution, etc., the same as the conventional one and enables recording transmission type and reflection type holograms in the high efficiency of refraction. SOLUTION: This recording material composition is prepared by mixing diallylorthophthalate prepolymer 5 g, an acrylic acid adduct of 9,9-bis(4- hydroxyphenyl)fluorene glycydilether 1 g, 3,3',4,4'-tetra(tert-butylperoxyphenyl) benzophenone 3.5 g, merocyanine pigment 0.01 g, diethylsebacate 4 g and acetone 6 g at ordinary temperature. The composition is applied on a glass substrate in such a manner that the thickness after drying gets to 20 μm, solvent is removed from the coated layer under vacuum and the recording medium of a two-layer structure which is composed of the substrate and the recording layer is formed. Further, a glass substrate which is the same as above described one is covered on the recording layer and thus a photosensitive plate of a three- layer structure for hologram recording is formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、新規なホログラム
記録材料組成物、特にホログラムに要求される基本特性
の一つである回折効率に優れた記録媒体を作製し得るホ
ログラム記録材料組成物に関し、さらにこれから得られ
たホログラム記録媒体およびその製法に関する。
The present invention relates to a novel hologram recording material composition, and more particularly to a hologram recording material composition capable of producing a recording medium having excellent diffraction efficiency, which is one of the basic characteristics required for holograms. Furthermore, the present invention relates to a hologram recording medium obtained therefrom and a method for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】ホログラムはレーザーの可干渉性光の干
渉パターンを感光材料等に記録したものであり、多機能
を持つことから光学素子、立体画像ディスプレイ、干渉
計測、画像・情報処理等多岐に亘って利用されている。
2. Description of the Related Art A hologram is a hologram in which an interference pattern of coherent light of a laser is recorded on a photosensitive material or the like. It has been used throughout.

【0003】従来の代表的なホログラム記録材料組成物
としては、重クロム酸ゼラチン感光材料や、漂白処理し
た銀塩感光材料が知られている(例えば「ディスプレー
ホログラフィーハンドブック」、第66−67頁、暁印
書館(1985)、「光工学ハンドブック」、第351
−353頁、朝倉書店(1986))。
As typical conventional hologram recording material compositions, there are known a dichromated gelatin photosensitive material and a bleached silver salt photosensitive material (for example, "Display Holography Handbook", pp. 66-67, Dawn Stamp Library (1985), "Optical Engineering Handbook", No. 351
-353 pages, Asakura Shoten (1986)).

【0004】しかし、重クロム酸ゼラチンは高い回析効
率を持ち、また漂白処理した銀塩感光材料は高い感度を
持つものの、これらはいずれもホログラム作製時の処理
が複雑で、特に湿式現像処理が要求されるという欠点が
あった。
However, although dichromated gelatin has a high diffraction efficiency and bleached silver salt photographic materials have high sensitivity, all of these are complicated in the processing of hologram production, and particularly require wet development. There was a disadvantage that it was required.

【0005】かかる欠点を克服する感光材料として、光
重合性モノマーを含むホログラム記録材料組成物が提案
されている。これは、干渉パターンの光量の多い部分で
光重合性モノマーを光重合することによってその部分の
屈折率変調を起こしてホログラムを記録するものであ
る。例えば、光重合性モノマーとしてのシクロヘキシル
メタクリレート、N−ビニルカルバゾールおよび光重合
開始剤を主成分として含む光重合型記録材料、または、
光重合性モノマーとしてのブチルメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレートと、重合に関与しない
不活性成分としての1 −フェニルナフタレンおよび光開
始剤を主成分とした光重合型記録材料が挙げられる(ア
プライド・オプティック(Appl.Opt.)、15巻、534
頁(1976))。
A hologram recording material composition containing a photopolymerizable monomer has been proposed as a photosensitive material for overcoming such disadvantages. This is to record a hologram by photopolymerizing a photopolymerizable monomer in a portion of the interference pattern where the amount of light is large, thereby causing a refractive index modulation in that portion. For example, a photopolymerizable recording material containing cyclohexyl methacrylate as a photopolymerizable monomer, N-vinylcarbazole and a photopolymerization initiator as main components, or
Photopolymerizable recording materials containing butyl methacrylate and ethylene glycol dimethacrylate as photopolymerizable monomers, 1-phenylnaphthalene as an inactive component not involved in polymerization and a photoinitiator as main components (Applied Optics (Applied Optics) Appl. Opt.), Volume 15, 534
P. (1976)).

【0006】しかし、これらの材料は液状であるため
に、ホログラム記録中に2枚の表面材間で組成物の流動
が起こり、良好な記録の妨げとなっていた。また、ホロ
グラム記録後においても、光量の少ない部分は未反応モ
ノマーとして残り、改めて全面露光の処理を行うことで
記録を安定化させる必要があった。
However, since these materials are liquid, the composition flows between the two surface materials during hologram recording, which hinders good recording. Further, even after the hologram recording, a portion having a small amount of light remains as an unreacted monomer, and it is necessary to stabilize the recording by performing a whole-surface exposure process again.

【0007】ところで、特開平3−36582号公報お
よび特開平3−249685号公報には、重合反応性と
得られたポリマーの屈折率とを異にするアリルモノマー
とアクリルモノマーを主成分として含むホログラム記録
材料組成物が記載されている。この組成物は、2枚の表
面材の間に注入した後、加熱処理を行うことにより、組
成物の流動性を抑え、上記諸問題を解決するというもの
である。
Incidentally, JP-A-3-36582 and JP-A-3-249885 disclose holograms containing, as main components, an allyl monomer and an acrylic monomer having different polymerization reactivity and refractive index of the obtained polymer. A recording material composition is described. After the composition is injected between two surface materials, the composition is subjected to a heat treatment to suppress the fluidity of the composition and solve the above problems.

【0008】しかし、これらのホログラム記録材料組成
物は、これを2枚の表面材の間に固定化するのに上述の
如く加熱処理を必要とするものであり、そのため製膜操
作が煩雑なものとなる難点があった。
However, these hologram recording material compositions require a heat treatment as described above in order to fix them between two surface materials, and thus the film forming operation is complicated. There was a disadvantage.

【0009】特願平11−225446号明細書は、分
子内にアリル基を少なくとも1つ有するアリル系プレポ
リマー(A) 、分子内に重合性不飽和基を少なくとも1つ
有する(メタ)アクリレート系化合物(B) 、および光重
合開始剤(C) からなるホログラム記録材料組成物を記載
している。この材料は記録前に加熱などによる固定化を
必要とせず、製膜操作が容易であり、記録後も再拡散し
て記録性が不鮮明となることはなかった。
Japanese Patent Application No. 11-225446 discloses an allyl prepolymer (A) having at least one allyl group in the molecule and a (meth) acrylate having at least one polymerizable unsaturated group in the molecule. It describes a hologram recording material composition comprising a compound (B) and a photopolymerization initiator (C). This material did not require fixing by heating or the like before recording, the film forming operation was easy, and the recording property was not unclear due to re-diffusion after recording.

【0010】しかし、(メタ)アクリレート系化合物と
して単体の屈折率がアリル系プレポリマーの屈折率より
も低いものを用いた場合、透過型ホログラムにおいては
高感度、高回折効率、高透明性を有するホログラムが得
られたが、反射型ホログラムにおいては感度および回折
効率が低い欠点がある。
However, when a (meth) acrylate-based compound having a refractive index of a simple substance lower than that of an allyl-based prepolymer is used, the transmission hologram has high sensitivity, high diffraction efficiency, and high transparency. Although holograms were obtained, reflection holograms have the disadvantage of low sensitivity and low diffraction efficiency.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、アリ
ル系プレポリマー、ラジカル重合性化合物および光重合
開始剤からなるホログラム材料において、ホログラムの
要求特性である良好な透明性、分解能などの性能を従来
品と同様に発揮しつつ、透過型ホログラムおよび反射型
ホログラムを高回折効率で記録できるホログラム記録材
料組成物を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a hologram material comprising an allyl-based prepolymer, a radical polymerizable compound and a photopolymerization initiator. Is to provide a hologram recording material composition capable of recording transmission holograms and reflection holograms with high diffraction efficiency while exhibiting the same as conventional products.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく研究を重ねた結果、下記の新規なホログラ
ム記録材料組成物を見出し、本発明を完成するに至っ
た。
Means for Solving the Problems As a result of repeated studies to solve the above problems, the present inventors have found the following novel hologram recording material composition and completed the present invention.

【0013】すなわち、本発明によるホログラム記録材
料組成物は、分子内にアリル基を少なくとも1つ有する
溶媒に可溶なアリル系プレポリマー(A) と、ラジカル重
合性化合物(B) と、粘度低下剤(C) と、光重合開始剤
(D) とを含むものである。
That is, the hologram recording material composition according to the present invention comprises an allyl prepolymer (A) soluble in a solvent having at least one allyl group in the molecule, a radical polymerizable compound (B), Agent (C) and photopolymerization initiator
(D).

【0014】ラジカル重合性化合物(B) は、後述するフ
ルオレン系化合物[I]、スルフィド系環状化合物[I
I]、ハロゲン化環状化合物[III]およびカルバゾール
系化合物[IV]からなる群より選ばれる少なくとも1種
のラジカル重合性化合物(B1)10〜100重量%と、フ
ルオレン系化合物[I]、スルフィド系環状化合物[I
I]、ハロゲン化環状化合物[III]およびカルバゾール
系化合物[IV]以外の少なくとも1種のラジカル重合性
化合物(B2)0〜90重量%とからなる。
The radical polymerizable compound (B) includes a fluorene compound [I] and a sulfide cyclic compound [I
I], 10 to 100% by weight of at least one radical polymerizable compound (B1) selected from the group consisting of a halogenated cyclic compound [III] and a carbazole compound [IV], a fluorene compound [I] and a sulfide compound Cyclic compound [I
I], at least one radical polymerizable compound (B2) other than the halogenated cyclic compound [III] and the carbazole compound [IV], in an amount of 0 to 90% by weight.

【0015】フルオレン系化合物[I]は、一般式The fluorene compound [I] has the general formula

【化5】 [式中、R およびR は互いに同一もしくは異な
る1価の有機基を意味し、そのうち少なくとも一方は末
端にラジカル重合性基を有する。M およびM
は、互いに同一もしくは異なり、−(OR)n1−(R
は水酸基および/または酸素原子を有していてもよい低
級アルキレン基、n1は0または1〜5の整数)で示さ
れる2価の有機基または単結合を意味する。X およ
びX は環の置換基であり、互いに同一もしくは異な
り、ハロゲン原子、水酸基または低級アルキル基を意味
する。]で示される。
Embedded image [Wherein, R 1 and R 2 represent the same or different monovalent organic groups, and at least one of them has a radical polymerizable group at a terminal. M 1 and M 2
Are the same or different from each other and are represented by- (OR) n1- (R
Represents a hydroxyl group and / or a lower alkylene group optionally having an oxygen atom, and n1 represents a divalent organic group or a single bond represented by 0 or an integer of 1 to 5). X 1 and X 2 are the same or different from each other and represent a halogen atom, a hydroxyl group, or a lower alkyl group. ].

【0016】スルフィド系環状化合物[II]は、一般式The sulfide-based cyclic compound [II] has the general formula

【化6】 [式中、R およびR は互いに同一もしくは異な
る1価の有機基を意味し、そのうち少なくとも一方は末
端にラジカル重合性基を有する。M およびM
は、互いに同一もしくは異なり、−(OR)n2−(R
は水酸基および/または酸素原子を有していてもよい低
級アルキレン基、n2は0または1〜5の整数)で示さ
れる2価の有機基または単結合を意味する。X は環
の置換基であり、互いに同一もしくは異なり、ハロゲン
原子、水酸基または低級アルキル基、lはX の個数
0〜6、Y は環を構成する複数の原子を意味し、全
てが炭素原子であるか、または一部が炭素原子で、残り
がヘテロ原子である。mは環の員数5〜8である。]で
示される。
Embedded image [In the formula, R 3 and R 4 represent the same or different monovalent organic groups, and at least one of them has a radical polymerizable group at a terminal. M 3 and M 4
Are the same or different from each other and are represented by- (OR) n2- (R
Represents a hydroxyl group and / or a lower alkylene group optionally having an oxygen atom, and n2 represents 0 or an integer of 1 to 5) or a divalent organic group or a single bond. X 3 is a substituent of a ring, the same or different from each other, a halogen atom, a hydroxyl group or a lower alkyl group, 1 represents the number 0 to 6 of X 3 , Y 1 represents a plurality of atoms constituting the ring, It is a carbon atom or some are carbon atoms and the rest are heteroatoms. m is 5-8 ring members. ].

【0017】ハロゲン化環状化合物は、一般式[III]The halogenated cyclic compound has the general formula [III]

【化7】 [式中、X は環の置換基であり、互いに同一もしく
は異なり、少なくとも1つはハロゲン原子であり、他は
水酸基または低級アルキル基である。qは2〜6の整
数、R は互いに同一もしくは異なる1価の有機基を
意味し、そのうち少なくとも一方は末端にラジカル重合
性基を有する。M は−(OR)n3(Rは水酸基お
よび/または酸素原子を有していてもよい低級アルキレ
ン基、n3は0または1〜5の整数)で示される2価の
有機基または単結合を意味する。pは1〜4の整数、Y
は環を構成する複数の原子であり、全てが炭素原子
であるか、または一部が炭素原子で、残りがヘテロ原子
である。kは環の員数5〜8である。]で示される。
Embedded image [In the formula, X 4 is a substituent of a ring, the same or different from each other, at least one is a halogen atom, and the other is a hydroxyl group or a lower alkyl group. q is an integer of 2 to 6, and R 5 is the same or different monovalent organic group, at least one of which has a radical polymerizable group at the terminal. M 5 is - (OR) n3 (R is hydroxyl group and / or substituted lower alkylene group optionally having an oxygen atom, n3 is 0 or an integer of 1 to 5) a divalent organic group or a single bond represented by means. p is an integer of 1-4, Y
2 is a plurality of atoms constituting a ring, all of which are carbon atoms, or a portion of which is a carbon atom, and the remainder are heteroatoms. k has 5 to 8 ring members. ].

【0018】カルバゾール系化合物は、一般式[IV]The carbazole compound has the general formula [IV]

【化8】 [式中、R 、R およびR は互いに同一もし
くは異なる1価の有機基を意味し、そのうち少なくとも
一方は末端にラジカル重合性基を有する。M、M
およびM は、互いに同一もしくは異なり、−(O
R)n4−(Rは水酸基および/または酸素原子を有し
ていてもよい低級アルキレン基、n4は0または1〜5
の整数)で示される2価の有機基または単結合を意味す
る。XおよびX は環の置換基であり、互いに同一
もしくは異なり、ハロゲン原子、水酸基または低級アル
キル基を意味する。]で示される。
Embedded image [Wherein, R 6 , R 7 and R 8 represent the same or different monovalent organic groups, and at least one of them has a radical polymerizable group at a terminal. M 6 , M 7
And M 8 are the same or different from each other, and-(O
R) n4- (R is a hydroxyl group and / or a lower alkylene group optionally having an oxygen atom, n4 is 0 or 1 to 5
An integer) or a divalent organic group or a single bond. X 5 and X 6 are ring substituents, which are the same or different from each other, and represent a halogen atom, a hydroxyl group or a lower alkyl group. ].

【0019】アリル系プルポリマー(A) 、ラジカル重合
性化合物(B) および粘度低下剤(C)の重量比は、(A) :
(B) :(C) =80〜20:3〜60:3〜60、好まし
くは(A) :(B) :(C) =75〜30:5〜50:5〜5
0であり、粘度低下剤(C) は、アリル系プルポリマー
(A) およびラジカル重合性化合物(B) に対し非反応性の
化合物(C1)であるか、または、分子内に(メタ)アリル
基を有する化合物(C2)であり、ラジカル重合性化合物(B
1)とラジカル重合性化合物(B2)の屈折率の加重平均がア
リル系プレポリマー(A) の屈折率および粘度低下剤(C)
の屈折率の加重平均よりも大きい。
The weight ratio of the allylic pull polymer (A), the radical polymerizable compound (B) and the viscosity reducing agent (C) is (A):
(B) :( C) = 80-20: 3-60: 3-60, preferably (A) :( B) :( C) = 75-30: 5-50: 5-5
0, and the viscosity reducing agent (C) is an allyl-based pull polymer.
A compound (C1) that is non-reactive with (A) and the radically polymerizable compound (B), or a compound (C2) having a (meth) allyl group in the molecule, and the radically polymerizable compound (B
The weighted average of the refractive indices of 1) and the radical polymerizable compound (B2) is the refractive index and viscosity reducing agent of the allylic prepolymer (A) (C)
Is greater than the weighted average of the refractive indices.

【0020】本発明で用いられるアリル系プレポリマー
(A) は、分子内にアリル基を少なくとも1つ有するプレ
ポリマーであり、その代表例はジアリルフタレート系プ
レポリマーである。アリル系プレポリマー(A) は、アリ
ル系モノマーの単独重合体であるほか、同モノマーと共
重合可能な他のモノマーと同モノマーとの共重合体であ
ってもよい。
Allyl prepolymer used in the present invention
(A) is a prepolymer having at least one allyl group in the molecule, and a typical example thereof is a diallyl phthalate prepolymer. The allyl-based prepolymer (A) may be a homopolymer of an allyl-based monomer, or may be a copolymer of the same monomer with another monomer copolymerizable with the same monomer.

【0021】ジアリルフタレート系プレポリマーの原料
ジアリルフタレート系モノマーは、ジアリルオルソフタ
レートモノマー、ジアリルイソフタレートモノマー、ジ
アリルテレフタレートモノマーよりなる群から選ばれた
化合物もしくはその2以上の組合わせである。ジアリル
フタレート系モノマーの単独重合によってジアリルフタ
レート系プレポリマーを得るには、例えば特公昭35−
16035号公報に記載の公知の重合反応を行えばよ
い。また、ジアリルフタレート系モノマーを主体とし
て、ジアリルフタレート系モノマーと、同モノマーと共
重合可能な他のモノマーとの共重合によってジアリルフ
タレート系プレポリマーを得るには、例えば工業化学雑
誌、第70巻、第3号、第360〜364頁(1967
年)に記載の公知の重合反応を行えばよい。
The starting material diallyl phthalate monomer of the diallyl phthalate prepolymer is a compound selected from the group consisting of diallyl orthophthalate monomer, diallyl isophthalate monomer and diallyl terephthalate monomer, or a combination of two or more thereof. To obtain a diallyl phthalate-based prepolymer by homopolymerization of a diallyl phthalate-based monomer, for example,
A known polymerization reaction described in JP-A-16035 may be performed. Further, in order to obtain a diallyl phthalate-based prepolymer by copolymerizing a diallyl phthalate-based monomer with a diallyl phthalate-based monomer and another monomer copolymerizable with the same monomer, for example, Industrial Chemistry Magazine, Vol. 70, No. 3, pages 360 to 364 (1967)
) May be performed.

【0022】ジアリルフタレート系モノマーと共重合可
能な他のモノマーとしては、エチレン性二重結合を有す
る芳香族化合物、エチレン性二重結合を有する脂肪族化
合物、または(メタ)アリル化合物を用いることができ
る。
As the other monomer copolymerizable with the diallyl phthalate monomer, an aromatic compound having an ethylenic double bond, an aliphatic compound having an ethylenic double bond, or a (meth) allyl compound can be used. it can.

【0023】エチレン性二重結合を有する芳香族化合物
の例としては、スチレン、α−メチルスチレン、ジビニ
ルベンゼン、ビフェニルカルボン酸ビニル、ベンジルメ
タクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、フェ
ノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェ
ノキシプロピルアクリレート等が例示される。
Examples of the aromatic compound having an ethylenic double bond include styrene, α-methylstyrene, divinylbenzene, vinyl biphenylcarboxylate, benzyl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, phenoxyethyl acrylate, and 2-hydroxy-3-acrylate. Phenoxypropyl acrylate is exemplified.

【0024】エチレン性二重結合を有する脂肪族化合物
の例としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリ
レート、n−ブチルメタクリレート、イソブチルメタク
リレート、2−エチルヘキシルメタクリレート、イソデ
シルメタクリレート、n−ラウリルメタクリレート、n
−ステアリルメタクリレート、メトキシジエチレングリ
コールメタクリレート、シクロヘキシルメタクレート、
テトラヒドロフルフリルメタクリレート、イソボルニル
メタクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、2−ヒド
ロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、2−ヒドロキシブチルメタクリレート、ジ
メチルアミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエ
チルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、tert
−ブチルメタクリレート、イソステアリルメタクリレー
ト、n−ブトキシエチルメタクリレート、イソアミルア
クリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリ
レート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシエチレ
ングリコールアクリレート、メトキシトリエチレングリ
コールアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレ
ート、イソボルニルアクリレート、2−ヒドロキシエチ
ルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレー
ト、2−アクリロイルオキシエチルコハク酸、2−アク
リロイルオキシエチルフタル酸、イソオクチルアクリレ
ート、イソミリスチルアクリレート、イソステアリルア
クリレート、酢酸ビニル等のモノ(メタ)アクリレート
が挙げられる。
Examples of the aliphatic compound having an ethylenic double bond include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, n-lauryl methacrylate, and n-lauryl methacrylate.
-Stearyl methacrylate, methoxydiethylene glycol methacrylate, cyclohexyl methacrylate,
Tetrahydrofurfuryl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, glycidyl Methacrylate, tert
-Butyl methacrylate, isostearyl methacrylate, n-butoxyethyl methacrylate, isoamyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, butoxyethyl acrylate, ethoxyethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, isobornyl acrylate, 2- Mono (meth) acrylates such as hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl phthalic acid, isooctyl acrylate, isomyristyl acrylate, isostearyl acrylate, and vinyl acetate are exemplified. .

【0025】(メタ)アリル化合物の例としては、(メ
タ)アリルアルコール、(メタ)アリルクロライド、酢
酸(メタ)アリル、安息香酸(メタ)アリル、イソ吉草
酸(メタ)アリル、カプリル酸(メタ)アリル、カプロ
ン酸(メタ)アリル、ギ酸(メタ)アリル、ケイ皮酸
(メタ)アリル、サリチル酸(メタ)アリル、ジヒドロ
ジャスミン酸(メタ)アリル、フェニル酢酸(メタ)ア
リル、プロピオン酸(メタ)アリル、酪酸(メタ)アリ
ル、アジピン酸モノ(メタ)アリルエステル、セバシン
酸モノ(メタ)アリルエステル、フタル酸モノ(メタ)
アリルエステル、イソフタル酸モノ(メタ)アリルエス
テル、テレフタル酸モノ(メタ)アリルエステル、コハ
ク酸モノ(メタ)アリルエステル、トリメリットモノ
(メタ)アリルエステル、サクシン酸モノ(メタ)アリ
ルエステル、リシノール酸モノ(メタ)アリルエステ
ル、マレイン酸モノ(メタ)アリルエステル、アジピン
酸ジ(メタ)アリル、セバシン酸ジ(メタ)アリル、フ
タル酸ジ(メタ)アリル、イソフタル酸ジ(メタ)アリ
ル、テレフタル酸ジ(メタ)アリル、コハク酸ジ(メ
タ)アリル、トリメリットジ(メタ)アリル、サクシン
酸ジ(メタ)アリル、リシノール酸ジ(メタ)アリル、
マレイン酸ジ(メタ)アリル、トリ(メタ)アリルフォ
スフェート、トリ(メタ)アリルイソシアヌレート等が
例示される。
Examples of (meth) allyl compounds include (meth) allyl alcohol, (meth) allyl chloride, (meth) allyl acetate, (meth) allyl benzoate, (meth) allyl isovalerate, and (meth) allyl compound. ) Allyl, (meth) allyl caproate, (meth) allyl formate, (meth) allyl cinnamate, (meth) allyl salicylate, (meth) allyl dihydrojasmate, (meth) allyl phenylacetate, (meth) propionate Allyl, (meth) allyl butyrate, mono (meth) allyl adipate, mono (meth) allyl sebacate, mono (meth) phthalate
Allyl ester, mono (meth) allyl isophthalate, mono (meth) allyl terephthalate, mono (meth) allyl succinate, trimellitate mono (meth) allyl ester, mono (meth) allyl succinate, ricinoleic acid Mono (meth) allyl ester, mono (meth) allyl maleate, di (meth) allyl adipate, di (meth) allyl sebacate, di (meth) allyl phthalate, di (meth) allyl isophthalate, terephthalic acid Di (meth) allyl, di (meth) allyl succinate, trimellitdi (meth) allyl, di (meth) allyl succinate, di (meth) allyl ricinoleate,
Examples thereof include di (meth) allyl maleate, tri (meth) allyl phosphate and tri (meth) allyl isocyanurate.

【0026】上記共重合体においては、通常、ジアリル
フタレート系構成単位が主体をなす。
In the above-mentioned copolymer, usually, a diallyl phthalate-based structural unit is mainly used.

【0027】アリル系プレポリマー(A) は、上記の他、
トリアリルイソシアヌレート系モノマーの単独重合体
や、同モノマーと共重合可能な他のモノマーと同モノマ
ーとの共重合体であってもよい。トリアリルイソシアヌ
レート系モノマーと共重合可能な他のモノマーとして
は、上述したエチレン性二重結合を有する芳香族化合
物、エチレン性二重結合を有する脂肪族化合物、および
(メタ)アリル化合物等が例示される。
The allylic prepolymer (A) is, in addition to the above,
A homopolymer of a triallyl isocyanurate monomer or a copolymer of the same monomer with another monomer copolymerizable with the same monomer may be used. Examples of other monomers copolymerizable with the triallyl isocyanurate monomer include the above-described aromatic compounds having an ethylenic double bond, aliphatic compounds having an ethylenic double bond, and (meth) allyl compounds. Is done.

【0028】本発明で用いられるアリル系プレポリマー
(A) としては、単独重合体であるジアリルオルソフタレ
ートプレポリマー、例えばダイソー社製の「ダイソーダ
ップ」(登録商標)、ジアリルイソフタレートプレポリ
マー例えばダイソー社製の「イソダップ」(登録商
標)、ジアリルテレフタレートプレポリマーが好まし
い。ジアリルテレフタレートプレポリマーは、その変性
物例えばダイソー社製の「ダプレン」(登録商標)また
は日本化成社製の「タイクプレポリマー」であってもよ
い。また、エピクロルヒドリンとエチレンオキサイドと
アリルグリシジルエーテルとの3元共重合体、例えばダ
イソー社製の「エピクロマーCGシリーズ」やジエチレ
ングリコールグリシジルメチルエーテルとエチレンオキ
サイドとアリルグリシジルエーテルとの3元共重合体や
2−[1,3−ビス(2−メトキシエトキシエトキシ)
プロピルグリシジルエーテルとエチレンオキサイドとア
リルグリシジルエーテルとの3元共重合体(特開平11
−269263および特開平11−345628号公報
参照)なども使用できる。
Allyl prepolymer used in the present invention
Examples of (A) include a diallyl orthophthalate prepolymer which is a homopolymer, for example, "Disodap" (registered trademark) manufactured by Daiso Corporation, a diallyl isophthalate prepolymer such as "Isodap" (registered trademark) manufactured by Daiso Corporation, diallyl Terephthalate prepolymers are preferred. The diallyl terephthalate prepolymer may be a modified product thereof, for example, “Daprene” (registered trademark) manufactured by Daiso Corporation or “Taike Prepolymer” manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd. Further, a terpolymer of epichlorohydrin, ethylene oxide, and allyl glycidyl ether, such as "Epichromer CG series" manufactured by Daiso, a terpolymer of diethylene glycol glycidyl methyl ether, ethylene oxide, and allyl glycidyl ether, [1,3-bis (2-methoxyethoxyethoxy)
Terpolymer of propyl glycidyl ether, ethylene oxide and allyl glycidyl ether
-269263 and JP-A-11-345628).

【0029】さらに、アリル系プレポリマー(A) は、ジ
アリルフタレート系モノマーおよび/またはジアリルフ
タレート系ポリマーの存在下で、下記一般式で表される
ように、金属原子、芳香環を有する基、および加水分解
性基を有する金属アルコキシドを、例えばゾルーゲル法
により脱水縮合することにより得られる金属酸化物ポリ
マーである有機無機複合透明均質体であってもよい(W
O99/14274号参照)。
Further, the allyl-based prepolymer (A) is a compound having a metal atom, a group having an aromatic ring, and a group represented by the following general formula in the presence of a diallyl phthalate monomer and / or a diallyl phthalate polymer. A transparent homogeneous organic-inorganic composite, which is a metal oxide polymer obtained by dehydrating and condensing a metal alkoxide having a hydrolyzable group by, for example, a sol-gel method (W
O99 / 14274).

【0030】金属アルコキシドは、一般式 X M(Ar) で表される物質である。The metal alkoxide is a substance represented by the general formula X m M (Ar) n R 2 p.

【0031】[式中、Xは一般式R O(R は1
価の有機基)で表されるアルコキシル基、Mはケイ素、
チタン、ジルコニウム、ゲルマニウムおよびアルミニウ
ムからなる群から選択される金属原子、Arは芳香環を
有する基、R は1価の有機基、mおよびnは1以上
の数、pは0以上の数(但しm+n+pは金属原子Mの
価数)である。] 4価の金属原子(Si、Ti、ZrまたはGe)を有す
る金属アルコキシドの例としては下記のものが挙げられ
る。
Wherein X is a general formula R 1 O (R 1 is 1
An alkoxyl group represented by (valent organic group), M is silicon,
A metal atom selected from the group consisting of titanium, zirconium, germanium, and aluminum, Ar is a group having an aromatic ring, R 2 is a monovalent organic group, m and n are 1 or more, and p is 0 or more ( Here, m + n + p is the valence of the metal atom M). Examples of metal alkoxides having a tetravalent metal atom (Si, Ti, Zr or Ge) include the following.

【0032】(CH O) MPh、(C
O) M(CH Ph)、(C O)
M(C OPh)、(C NO)
MPh、(C O) M(C
h)、(CH NO) MPh 、(C
O) M(CH MPh) 、(C
O) M(C Ph) 、(C
10NO) M(C Ph)
(CH O) M(C NPh)(C
)、(C O) M(C
Ph)(C)、(C O)
(C Ph)(C O)、(C
NO) M(CH Ph)(CH N)、
(C O) MPh(CH )、(CH
NO) MPh(C )、(C
O) M(CH Ph)(C O)、(C
O) M(C Ph)(C
)、(C10NO) MPh(C
10N)、(CH O) M(CH OPh)
(C )、(C O) M(C
Ph)(C )、(C
O) MPh(C N)、(C
O) M(C Ph)(C )、
(C O)MPh(C )、
(CH NO) MPh(C)、(C
O) M(CH NPh)(C
)、(C O) M(C
h)(C )、(C NO)
(C Ph)(CH )。
(CH3 O)3 MPh, (C2 H5
 O)3 M (CH2 Ph), (C 2 H3 O)3
 M (C2 H4 OPh), (C3 H8 NO)3
 MPh, (C4 H9 O)3 M (C3 H4 P
h), (CH4 NO)2 MPh2 , (C2 H5
 O)2 M (CH3 MPh)2 , (C3 H
5O)2 M (C4 H8 Ph)2 , (C4 H
10NO)2 M (C2 H 2 O2 Ph)2 ,
(CH3 O)2 M (C4 H9 NPh) (C4H
9 ), (C2 H5 O)2 M (C4 H6 O2
 Ph) (C3 H5), (C2 H3 O)2 M
(C2 H4 Ph) (C2 H5 O), (C3 H
8 NO)2 M (CH2 Ph) (CH4 N),
(C4 H9 O)2 MPh (CH3 ), (CH4
 NO)2 MPh (C2 H5 ), (C2 H5 
O)2 M (CH2 Ph) (C3 H7 O), (C
3 H5O)2 M (C2 H2 Ph) (C5 H9
 O2 ), (C4 H10NO)2 MPh (C4 
H10N), (CH3 O)2 M (CH2 OPh)
(C3 H7 ), (C2 H5 O)2 M (C5 
H8 O2 Ph) (C4H9 ), (C2 H3 
O)2 MPh (C3 H8 N), (C3 H8N
O)2 M (C2 H4 Ph) (C2 H5 ),
(C4 H9 O)2MPh (C2 H3 O2 ),
(CH4 NO)2 MPh (C3 H7), (C2 
H5 O)2 M (CH3 NPh) (C3 H5 O
2 ), (C3 H5 O)2 M (C4 H8 P
h) (C2 H3 ), (C4 H1 0NO)2 M
(C2 H2 O2 Ph) (CH3 ).

【0033】金属アルコキシドとしては(CH O)
MPh、(C O)MPh、(C
O) MPh、(C O) MPh、
(CH O) MPh 、(C O)
MPh 、(C O) MPh
(C O) MPh 等のフェニルアルコ
キシシランが好ましく、そのうちフェニルトリメトキシ
シランが最も好ましい。
As the metal alkoxide, (CH3 O)
3 MPh, (C2 H5 O)3MPh, (C3 H
7 O)3 MPh, (C4 H9 O)3 MPh,
(CH3 O)2 MPh2 , (C2 H5 O)2
 MPh2 , (C3 H 7 O)2 MPh2 ,
(C4 H9 O)2 MPh2 Phenyl alcohol
Xysilanes are preferred, of which phenyltrimethoxy
Silanes are most preferred.

【0034】アルミニウムアルコキシドの好ましい例と
しては下記のものが挙げられる。
Preferred examples of the aluminum alkoxide include the following.

【0035】(CH O) AlPh、(C
O) AlPh、(CO) AlP
h、(C O) AlPh、(CH O)
AlPh 、(C O)AlPh 、(C
O)AlPh 、(C O)Al
Ph
(CH 3 O) 2 AlPh, (C 2 H
5 O) 2 AlPh, (C 3 H 7 O) 2 AlP
h, (C 4 H 9 O) 2 AlPh, (CH 3 O)
AlPh 2 , (C 2 H 5 O) AlPh 2 , (C
3 H 7 O) AlPh 2, (C 4 H 9 O) Al
Ph 2 .

【0036】アリル系プレポリマー(A) は、また、主鎖
にチオエーテル基および/またはハロゲン原子が結合し
たものであってもよい。チオエーテル基および/または
ハロゲン原子の導入はアリル系モノマーの重合系にチオ
ール化合物および/またはハロゲンを添加する方法や、
アリル系プレポリマー(A) にチオール化合物および/ま
たはハロゲンを付加反応させる方法等によって行われ
る。チオエーテル基の導入に用いられるチオール化合物
としては、チオフェノール、2−クロロチオフェノー
ル、4−クロロチオフェノール、4−tert−ブチル
チオフェノール、4−メルカプトフェノール等のチオフ
ェノール類;4,4´−チオジベンゼンチオール等のジ
チオール類;n−ブチルメルカプタン、n−ラウリルメ
ルカプタン等の脂肪族系チオール類が例示される。ま
た、ハロゲン原子の導入に用いられるハロゲンとしては
臭素、塩素が例示される。
The allylic prepolymer (A) may have a thioether group and / or a halogen atom bonded to the main chain. The introduction of a thioether group and / or a halogen atom can be performed by adding a thiol compound and / or a halogen to a polymerization system of an allylic monomer,
It is carried out by a method of adding a thiol compound and / or halogen to the allylic prepolymer (A). Examples of the thiol compound used for introducing a thioether group include thiophenols such as thiophenol, 2-chlorothiophenol, 4-chlorothiophenol, 4-tert-butylthiophenol, and 4-mercaptophenol; Examples thereof include dithiols such as thiodibenzenethiol; and aliphatic thiols such as n-butylmercaptan and n-laurylmercaptan. Examples of the halogen used for introducing a halogen atom include bromine and chlorine.

【0037】上記アリル系モノマー単独重合体もしくは
共重合体、上記有機無機複合透明均質体、およびチオエ
ーテル基(ハロゲン)含有アリル系プレポリマーの例示
物は、それぞれ単独で用いても2種類以上の組み合わせ
で用いてもよい。また、上記アリル系モノマー単独重合
体もしくは共重合体に上記有機無機複合透明均質体およ
び/またはチオエーテル基(ハロゲン)含有アリル系プ
レポリマーを組み合わせで用いてもよい。
The above allyl-based monomer homopolymer or copolymer, the above-mentioned organic-inorganic composite transparent homogeneous material, and the thioether group (halogen) -containing allyl-based prepolymer may be used alone or in combination of two or more. May be used. Further, the organic-inorganic composite transparent homogeneous material and / or the thioether group (halogen) -containing allyl prepolymer may be used in combination with the allyl monomer homopolymer or copolymer.

【0038】ジアリルフタレート系プレポリマーは、軟
化温度が50〜110℃、ウイス(Wijs)法測定に
よるヨウ素価が50〜95、メチルエチルケトン50重
量%溶液粘度(30℃)が50〜300センチポイズお
よびGPC(ゲル・パーミエーション・クロマトグラフ
ィー)法で測定したポリスチレン換算平均分子量が10
000〜100000、好ましくは30000〜600
00である後重合可能なプレポリマーであることが特に
好ましい。
The diallyl phthalate prepolymer has a softening temperature of 50 to 110 ° C., an iodine value of 50 to 95 as measured by a Wijs method, a 50% by weight methyl ethyl ketone solution viscosity (30 ° C.) of 50 to 300 centipoise and a GPC ( The average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography) is 10
000 to 100,000, preferably 30,000 to 600
It is particularly preferred that the prepolymer is a postpolymerizable prepolymer that is 00.

【0039】本発明で用いられるラジカル重合性化合物
(B) は、ラジカル重合性化合物(B1)10〜100重量
%、好ましくは30〜100重量%と、ラジカル重合性
化合物(B2)0〜90重量%、好ましくは0〜70重量%
とからなり、ラジカル重合性化合物(B1)とラジカル重合
性化合物(B2)の屈折率の加重平均がアリル系プレポリマ
ー(A) の屈折率および粘度低下剤(C) の屈折率の加重平
均よりも大きい。
Radical polymerizable compound used in the present invention
(B) is 10 to 100% by weight, preferably 30 to 100% by weight, of the radical polymerizable compound (B1) and 0 to 90% by weight, preferably 0 to 70% by weight of the radically polymerizable compound (B2).
The weighted average of the refractive indices of the radical polymerizable compound (B1) and the radical polymerizable compound (B2) is calculated from the weighted average of the refractive index of the allylic prepolymer (A) and the refractive index of the viscosity reducing agent (C). Is also big.

【0040】以下、ラジカル重合性化合物(B) について
説明をする。
Hereinafter, the radical polymerizable compound (B) will be described.

【0041】ラジカル重合性化合物(B1)は好ましくは常
温で固体である。同化合物(B1)は単独で用いても2以上
の組合わせで用いてもよい。
The radically polymerizable compound (B1) is preferably solid at room temperature. The compound (B1) may be used alone or in combination of two or more.

【0042】ラジカル重合性化合物(B1)のうち、まず、
フルオレン系化合物[I]は下記のようなものである。
Among the radically polymerizable compounds (B1), first,
The fluorene compound [I] is as follows.

【0043】フルオレン系化合物の一般式[I]におい
て、有機基R およびR においてラジカル重合性
基はビニル基、(メタ)アクリロイル基または(メタ)
アクリロイルオキシ基のような官能基であってよい。ラ
ジカル重合性基を有しない有機基R およびR
は、炭素数1〜5の低級アルキル基であってよい。
In the general formula [I] of the fluorene compound, the radical polymerizable group in the organic groups R 1 and R 2 is a vinyl group, a (meth) acryloyl group or a (meth) acryloyl group.
It may be a functional group such as an acryloyloxy group. Organic groups R 1 and R 2 having no radical polymerizable group
May be a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

【0044】M およびM の−(OR)n1−に
おいて、低級アルキレン基Rの炭素数は好ましくは1〜
5、より好ましくは1〜3である。ORとしては、オキ
シメチレン、オキシエチレン、オキシプロピレン、オキ
シブチレン等が例示され、(OR)n1(n1は2〜5
の整数)としては、ジオキシメチレン、ジオキシエチレ
ン、ジオキシプロピレン、ジオキシブチレン、トリオキ
シメチレン、トリオキシエチレン、トリオキシプロピレ
ン、トリオキシブチレン、テトラオキシメチレン、テト
ラオキシエチレン、テトラオキシプロピレン、テトラオ
キシブチレン等が例示される。低級アルキレン基Rが水
酸基を有している場合、水酸基は、同アルキレン基のど
の位置にあってもよいが、水酸基を有するアルキレンは
例えば(2−ヒドロキシ)プロピレンである。
In — (OR) n1 — of M 1 and M 2 , the carbon number of the lower alkylene group R is preferably 1 to
5, more preferably 1-3. Examples of OR include oxymethylene, oxyethylene, oxypropylene, oxybutylene and the like, and (OR) n1 (where n1 is 2 to 5)
) Are dioxymethylene, dioxyethylene, dioxypropylene, dioxybutylene, trioxymethylene, trioxyethylene, trioxypropylene, trioxybutylene, tetraoxymethylene, tetraoxyethylene, tetraoxypropylene, Tetraoxybutylene and the like are exemplified. When the lower alkylene group R has a hydroxyl group, the hydroxyl group may be located at any position of the alkylene group, but the alkylene having a hydroxyl group is, for example, (2-hydroxy) propylene.

【0045】有機基X およびX は、メチル、エ
チル、プロピル等の炭素数1〜5のアルキル基であって
よい。
The organic groups X 1 and X 2 may be alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms such as methyl, ethyl and propyl.

【0046】以下、フルオレン系化合物[I]を例示す
る。フルオレン系(メタ)アクリレートとしては、9,
9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシフェニル)
フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイル
オキシメトキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス
(4−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキシ)フ
ェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(2−(メ
タ)アクリロイルオキシプロポキシ)フェニル)フルオ
レン、9,9−ビス(4−(3−(メタ)アクリロイル
オキシプロポキシ)フェニル)フルオレン、9,9−ビ
ス(4−(メタ)アクリロイルオキシジメトキシフェニ
ル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロ
イルオキシジエトキシフェニル)フルオレン、9,9−
ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジプロポキシフ
ェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アク
リロイルオキシトリメトキシフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシトリエ
トキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メ
タ)アクリロイルオキシトリプロポキシフェニル)フル
オレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキ
シテトラメトキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス
(4−(メタ)アクリロイルオキシテトラエトキシフェ
ニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリ
ロイルオキシテトラプロポキシフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ−3−
メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メ
タ)アクリロイルオキシメトキシ−3−メチルフェニ
ル)フルオレン、9,9−ビス(4−(2−(メタ)ア
クリロイルオキシエトキシ)−3−メチルフェニル)フ
ルオレン、9,9−ビス(4−(2−(メタ)アクリロ
イルオキシプロポキシ)−3−メチルフェニル)フルオ
レン、9,9−ビス(4−(3−(メタ)アクリロイル
オキシプロポキシ)−3−メチルフェニル)フルオレ
ン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジ
メトキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−
ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシ−3
−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−
(メタ)アクリロイルオキシジプロポキシ−3−メチル
フェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)ア
クリロイルオキシトリメトキシ−3−メチルフェニル)
フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイル
オキシトリエトキシ−3−メチルフェニル)フルオレ
ン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシト
リプロポキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,
9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシテトラメト
キシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス
(4−(メタ)アクリロイルオキシテトラエトキシ−3
−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−
(メタ)アクリロイルオキシテトラプロポキシ−3−メ
チルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メ
タ)アクリロイルオキシ−3−エチルフェニル)フルオ
レン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ
メトキシ−3−エチルフェニル)フルオレン、9,9−
ビス(4−(2−(メタ)アクリロイルオキシエトキ
シ)−3−エチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス
(4−(2−(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ)
−3−エチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4
−(3−(メタ)アクリロイルオキシプロポキシ)−3
−エチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−
(メタ)アクリロイルオキシジメトキシ−3−エチルフ
ェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アク
リロイルオキシジエトキシ−3−エチルフェニル)フル
オレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキ
シジプロポキシ−3−エチルフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシトリメ
トキシ−3−エチルフェニル)フルオレン、9,9−ビ
ス(4−(メタ)アクリロイルオキシトリエトキシ−3
−エチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−
(メタ)アクリロイルオキシトリプロポキシ−3−エチ
ルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)
アクリロイルオキシテトラメトキシ−3−エチルフェニ
ル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロ
イルオキシテトラエトキシ−3−エチルフェニル)フル
オレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキ
シテトラプロポキシ−3−エチルフェニル)フルオレ
ン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ−
3−プロピルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4
−(メタ)アクリロイルオキシメトキシ−3−プロピル
フェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(2−(メ
タ)アクリロイルオキシエトキシ)−3−プロピルフェ
ニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(2−(メタ)
アクリロイルオキシプロポキシ)−3−プロピルフェニ
ル)フルオレン、9,9−ビス(4−(3−(メタ)ア
クリロイルオキシプロポキシ)−3−プロピルフェニ
ル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロ
イルオキシジメトキシ−3−プロピルフェニル)フルオ
レン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ
ジエトキシ−3−プロピルフェニル)フルオレン、9,
9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシジプロポキ
シ−3−プロピルフェニル)フルオレン、9,9−ビス
(4−(メタ)アクリロイルオキシトリメトキシ−3−
プロピルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−
(メタ)アクリロイルオキシトリエトキシ−3−プロピ
ルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)
アクリロイルオキシトリプロポキシ−3−プロピルフェ
ニル)フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリ
ロイルオキシテトラメトキシ−3−プロピルフェニル)
フルオレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイル
オキシテトラエトキシ−3−プロピルフェニル)フルオ
レン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ
テトラプロポキシ−3−プロピルフェニル)フルオレ
ン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ−
(2−ヒドロキシ)プロポキシフェニル)フルオレン、
9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキシ−(2
−ヒドロキシ)プロポキシ−3−メチルフェニル)フル
オレン、9,9−ビス(4−(メタ)アクリロイルオキ
シ−(2−ヒドロキシ)プロポキシエトキシフェニル)
フルオレン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシア
クリレートすなわち9,9−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)フルオレンのグリシジルエーテルのアクリル酸付
加物(新日鉄化学社製)、ビスフェノールフルオレンジ
メタクリレート(新日鉄化学社製)、ビスフェノキシエ
タノールフルオレンジアクリレート(大阪ガス社製、B
PEF−A)、ビスフェノキシエタノールフルオレンジ
メタアクリレート(大阪ガス社製、BPEF−MA)、
ビスフェノキシエタノールフルオレンジエポキシアクリ
レート(大阪ガス社製、BPEF−GA)、ビスフェノ
ールフルオレンジエポキシアクリレート(大阪ガス社
製、BPF−GA)、ビスクレゾールフルオレンジエポ
キシアクリレート(大阪ガス社製、BCF−GA)等が
挙げられる。
Hereinafter, the fluorene compound [I] will be exemplified. As fluorene (meth) acrylates, 9,
9-bis (4- (meth) acryloyloxyphenyl)
Fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxymethoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) phenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (2- (meth) acryloyloxypropoxy) phenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (3- (meth) acryloyloxypropoxy) phenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxydimethoxy) Phenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxyphenyl) fluorene, 9,9-
Bis (4- (meth) acryloyloxydipropoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytrimethoxyphenyl) fluorene,
9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytriethoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytripropoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyl Oxytetramethoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytetraethoxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytetrapropoxyphenyl) fluorene,
9,9-bis (4- (meth) acryloyloxy-3-
Methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxymethoxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) -3-methylphenyl ) Fluorene, 9,9-bis (4- (2- (meth) acryloyloxypropoxy) -3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (3- (meth) acryloyloxypropoxy) -3- Methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxydimethoxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-
Bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxy-3
-Methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-
(Meth) acryloyloxydipropoxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytrimethoxy-3-methylphenyl)
Fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytriethoxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytripropoxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,
9-bis (4- (meth) acryloyloxytetramethoxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytetraethoxy-3
-Methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-
(Meth) acryloyloxytetrapropoxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxy-3-ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxymethoxy) -3-ethylphenyl) fluorene, 9,9-
Bis (4- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) -3-ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (2- (meth) acryloyloxypropoxy)
-3-ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4
-(3- (meth) acryloyloxypropoxy) -3
-Ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-
(Meth) acryloyloxydimethoxy-3-ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxy-3-ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxy Dipropoxy-3-ethylphenyl) fluorene,
9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytrimethoxy-3-ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytriethoxy-3)
-Ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-
(Meth) acryloyloxytripropoxy-3-ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth)
Acryloyloxytetramethoxy-3-ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytetraethoxy-3-ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytetrapropoxy) -3-ethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxy-
3-propylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4
-(Meth) acryloyloxymethoxy-3-propylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (2- (meth) acryloyloxyethoxy) -3-propylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- ( 2- (meta)
(Acryloyloxypropoxy) -3-propylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (3- (meth) acryloyloxypropoxy) -3-propylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyl Oxydimethoxy-3-propylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxydiethoxy-3-propylphenyl) fluorene,
9-bis (4- (meth) acryloyloxydipropoxy-3-propylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytrimethoxy-3-)
Propylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-
(Meth) acryloyloxytriethoxy-3-propylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth)
(Acryloyloxytripropoxy-3-propylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytetramethoxy-3-propylphenyl)
Fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytetraethoxy-3-propylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxytetrapropoxy-3-propylphenyl) fluorene, 9, 9-bis (4- (meth) acryloyloxy-
(2-hydroxy) propoxyphenyl) fluorene,
9,9-bis (4- (meth) acryloyloxy- (2
-Hydroxy) propoxy-3-methylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4- (meth) acryloyloxy- (2-hydroxy) propoxyethoxyphenyl)
Fluorene, bisphenol fluorene hydroxyacrylate, that is, an acrylic acid adduct of glycidyl ether of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), bisphenol fluorene methacrylate (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.), bisphenoxyethanol fluorene orange acrylate (Osaka Gas, B
PEF-A), bisphenoxyethanol full orange methacrylate (BPEF-MA, manufactured by Osaka Gas Co., Ltd.),
Bisphenoxyethanol full orange epoxy acrylate (manufactured by Osaka Gas, BPEF-GA), bisphenol full orange epoxy acrylate (manufactured by Osaka Gas, BPF-GA), biscresol full orange epoxy acrylate (manufactured by Osaka Gas, BCF-GA), etc. Is mentioned.

【0047】特に好ましいフルオレン化合物は、ビスフ
ェノールフルオレンジヒドロキシアクリレートすなわち
9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレンの
グリシジルエーテルのアクリル酸付加物(新日鉄化学社
製)、ビスフェノールフルオレンジメタクリレート(新
日鉄化学社製)、ビスフェノキシエタノールフルオレン
ジアクリレート(大阪ガス社製、BPEF−A)、ビス
フェノキシエタノールフルオレンジメタアクリレート
(大阪ガス社製、BPEF−MA)、ビスフェノキシエ
タノールフルオレンジエポキシアクリレート(大阪ガス
社製、BPEF−GA)、ビスフェノールフルオレンジ
エポキシアクリレート(大阪ガス社製、BPF−G
A)、ビスクレゾールフルオレンジエポキシアクリレー
ト(大阪ガス社製、BCF−GA)等である。
Particularly preferred fluorene compounds are bisphenol fluorene hydroxyacrylate, that is, acrylic acid adduct of glycidyl ether of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) and bisphenol fluorene methacrylate (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) ), Bisphenoxyethanol full orange acrylate (manufactured by Osaka Gas, BPEF-A), bisphenoxyethanol full orange methacrylate (manufactured by Osaka Gas, BPEF-MA), bisphenoxyethanol full orange epoxy acrylate (manufactured by Osaka Gas, BPEF-GA) ), Bisphenol full orange epoxy acrylate (BPF-G, manufactured by Osaka Gas Co., Ltd.)
A), biscresol full orange epoxy acrylate (BCF-GA, manufactured by Osaka Gas Co., Ltd.) and the like.

【0048】また、フルオレン系化合物は、上記例示化
合物の2量体または3量体程度のオリゴマーであっても
よい。
The fluorene compound may be a dimer or trimer oligomer of the above-exemplified compound.

【0049】これら例示化合物はいずれも単独で用いて
も2以上の組合わせで用いてもよい。
These exemplified compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0050】つぎに、スルフィド系環状化合物[II]に
ついて説明をする。
Next, the sulfide cyclic compound [II] will be described.

【0051】スルフィド系環状化合物の一般式[II]に
おいて、円環は環状構造を意味し、Y は環を構成す
る複数の原子を意味し、mは環の構成原子Y の数、
すなわち環の員数を意味する。mは好ましくは5〜8、
より好ましくは5〜6、最も好ましくは6である。複数
のY は全て炭素原子であってもよいし(この場合、
環は炭素環である)、複数のY の一部が硫黄原子、
窒素原子および/または酸素原子のようなヘテロ原子
で、残りが炭素原子であってもよい(この場合、環はヘ
テロ環である)。また環は飽和でも不飽和でもよいが、
好ましくは不飽和結合を持つ。nは好ましくは1〜5、
より好ましくは1〜3、最も好ましくは2〜3である。
は環の置換基であり、互いに同一もしくは異な
り、ハロゲン原子、水酸基または低級アルキル基であ
る。X の個数を表すlは好ましくは0〜6、よりこ
の0〜4、最も好ましくはn=0〜2である。
In the general formula [II] of the sulfide-based cyclic compound, the ring represents a cyclic structure, Y 1 represents a plurality of atoms constituting the ring, m represents the number of atoms Y 1 constituting the ring,
That is, it means the number of members in the ring. m is preferably 5 to 8,
More preferably, it is 5-6, most preferably 6. A plurality of Y 1 may be all carbon atoms (in this case,
A ring is a carbocycle), a part of the plurality of Y 1 is a sulfur atom,
It may be a heteroatom such as a nitrogen atom and / or an oxygen atom, with the remainder being carbon atoms (in which case the ring is a heterocycle). The ring may be saturated or unsaturated,
It preferably has an unsaturated bond. n is preferably 1 to 5,
More preferably, it is 1-3, most preferably 2-3.
X 3 is a substituent of a ring, which is the same or different and is a halogen atom, a hydroxyl group or a lower alkyl group. L is preferably 0 to 6 representing the number of X 3, more this 0-4, most preferably n = 0 to 2.

【0052】有機基R およびR においてラジカ
ル重合性基はビニル基、(メタ)アクリロイル基または
(メタ)アクリロイルオキシのような官能基であってよ
い。ラジカル重合性基を有しない有機基R およびR
は、炭素数1〜5の低級アルキル基であってよい。
ヘテロ原子は窒素原子、酸素原子および/または硫黄原
子であってよい。
In the organic groups R 3 and R 4 , the radically polymerizable group may be a functional group such as a vinyl group, a (meth) acryloyl group or a (meth) acryloyloxy. Organic groups R 3 and R having no radical polymerizable group
4 may be a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
Heteroatoms may be nitrogen, oxygen and / or sulfur atoms.

【0053】M およびM の−(OR)n2−に
おいて、低級アルキレン基Rの炭素数は好ましくは1〜
5、より好ましくは1〜3である。ORとしては、オキ
シメチレン、オキシエチレン、オキシプロピレン、オキ
シブチレン等が例示され、(OR)n2(n2は2〜5
の整数)としては、ジオキシメチレン、ジオキシエチレ
ン、ジオキシプロピレン、ジオキシブチレン、トリオキ
シメチレン、トリオキシエチレン、トリオキシプロピレ
ン、トリオキシブチレン、テトラオキシメチレン、テト
ラオキシエチレン、テトラオキシプロピレン、テトラオ
キシブチレン等が例示される。低級アルキレン基Rが水
酸基を有している場合、水酸基は、同アルキレン基のど
の位置にあってもよいが、水酸基を有するアルキレンは
例えば(2−ヒドロキシ)プロピレンである。
In — (OR) n2 — of M 3 and M 4 , the carbon number of the lower alkylene group R is preferably 1 to
5, more preferably 1-3. Examples of OR include oxymethylene, oxyethylene, oxypropylene, oxybutylene and the like, and (OR) n2 (where n2 is 2 to 5)
) Are dioxymethylene, dioxyethylene, dioxypropylene, dioxybutylene, trioxymethylene, trioxyethylene, trioxypropylene, trioxybutylene, tetraoxymethylene, tetraoxyethylene, tetraoxypropylene, Tetraoxybutylene and the like are exemplified. When the lower alkylene group R has a hydroxyl group, the hydroxyl group may be located at any position of the alkylene group, but the alkylene having a hydroxyl group is, for example, (2-hydroxy) propylene.

【0054】以下にスルフィド系環状化合物[II]の例
を挙げる。
Examples of the sulfide-based cyclic compound [II] are described below.

【0055】フェニル環の2,3,4の位置に官能基
(アクリル、メタクリル、ビニル)を有するもので、左右
対称のもの ビス(2−(メタ)アクリロイルチオフェニル)スルフィ
ド、ビス(2−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス
(3−(メタ)アクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビ
ス(3−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(4−(メ
タ)アクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(4−
ビニルチオフェニル)スルフィド フェニル環の2,3,4の位置に官能基(アクリル、メ
タクリル、ビニル)を有するもので、左右非対称のもの 2−(メタ)アクリロイルチオフェニル−3’−(メタ)ア
クリロイルチオフェニルスルフィド、2−(メタ)アクリ
ロイルチオフェニル−4’−(メタ)アクリロイルチオフ
ェニルスルフィド、3−(メタ)アクリロイルチオフェニ
ル−4’−(メタ)アクリロイルチオフェニルスルフィ
ド、2−ビニルチオフェニル−3’−ビニルチオフェニ
ルスルフィド、2−ビニルチオフェニル−4’−ビニル
チオフェニルスルフィド、3−ビニルチオフェニル−
4’−ビニルチオフェニルスルフィド、2−(メタ)アク
リロイルチオフェニル−3’−ビニルチオフェニルスル
フィド、2−(メタ)アクリロイルチオフェニル−4’−
ビニルチオフェニルスルフィド、3−(メタ)アクリロイ
ルチオフェニル−4’−ビニルチオフェニルスルフィ
ド、
Functional groups at positions 2, 3, and 4 of the phenyl ring
Bis (2- (meth) acryloylthiophenyl) sulfide, bis (2-vinylthiophenyl) sulfide, bis (acrylic, methacrylic, vinyl)
(3- (meth) acryloylthiophenyl) sulfide, bis (3-vinylthiophenyl) sulfide, bis (4- (meth) acryloylthiophenyl) sulfide, bis (4-
(Vinylthiophenyl) sulfide A compound having a functional group (acryl, methacryl, vinyl) at positions 2, 3, and 4 of the phenyl ring, and asymmetrical 2- (meth) acryloylthiophenyl-3 '-(meth) acryloyl Thiophenyl sulfide, 2- (meth) acryloylthiophenyl-4 '-(meth) acryloylthiophenyl sulfide, 3- (meth) acryloylthiophenyl-4'-(meth) acryloylthiophenyl sulfide, 2-vinylthiophenyl- 3'-vinylthiophenyl sulfide, 2-vinylthiophenyl-4'-vinylthiophenyl sulfide, 3-vinylthiophenyl-
4'-vinylthiophenyl sulfide, 2- (meth) acryloylthiophenyl-3'-vinylthiophenyl sulfide, 2- (meth) acryloylthiophenyl-4'-
Vinylthiophenyl sulfide, 3- (meth) acryloylthiophenyl-4′-vinylthiophenyl sulfide,

【0056】フェニル環の2,3,4の位置に官能基
(アクリル、メタクリル、ビニル)と置換基(ハロゲ
ン、低級アルキル、水酸基)を有するもの ビス(3−ブロモ−2−(メタ)アクリロイルチオフェニ
ル)スルフィド、ビス(4−クロロ−2−(メタ)アクリロ
イルチオフェニル)スルフィド、ビス(3−ヒドロキシ−
2−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(2−メチル
−3−(メタ)アクリロイルチオフェニル)スルフィド、
ビス(4−プロピル−3−(メタ)アクリロイルチオフェ
ニル)スルフィド、ビス(2−エチル−3−ビニルチオフ
ェニル)スルフィド、ビス(2−ブチル−4−(メタ)アク
リロイルチオフェニル)スルフィド、ビス(3−ペンチル
−4−(メタ)アクリロイルチオフェニル)スルフィド、
ビス(2−ヒドロキシ−4−ビニルチオフェニル)スルフ
ィド、3−ブロモ−2−(メタ)アクリロイルチオフェニ
ル−3’−(メタ)アクリロイルチオフェニルスルフィ
ド、3−エチル−2−(メタ)アクリロイルチオフェニル
−4’−(メタ)アクリロイルチオフェニルスルフィド、
2−ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルチオフェニル
−4’−(メタ)アクリロイルチオフェニルスルフィド、
3−ブロモ−2−(メタ)アクリロイルチオフェニル−
2’−ブチル−3’−(メタ)アクリロイルチオフェニル
スルフィド、3−エチル−2−(メタ)アクリロイルチオ
フェニル−3’−ヒドロキシ−4’−(メタ)アクリロイ
ルチオフェニルスルフィド、2−ヒドロキシ−3−(メ
タ)アクリロイルチオフェニル−2’−クロロ−4’−
(メタ)アクリロイルチオフェニルスルフィド、3−ブロ
モ−2−ビニルチオフェニル−2’−ブチル−3’−ビ
ニルチオフェニルスルフィド、3−エチル−2−ビニル
チオフェニル−3’−ヒドロキシ−4’−ビニルチオフ
ェニルスルフィド、2−ヒドロキシ−3−ビニルチオフ
ェニル−2’−クロロ−4’−ビニルチオフェニルスル
フィド、3−ブロモ−2−(メタ)アクリロイルチオフェ
ニル−2’−ブチル−3’−(メタ)アクリロイルチオフ
ェニルスルフィド、3−エチル−2−(メタ)アクリロイ
ルチオフェニル−3’−ヒドロキシ−4’−(メタ)アク
リロイルチオフェニルスルフィド、2−ヒドロキシ−3
−(メタ)アクリロイルチオフェニル−2’−クロロ−
4’−(メタ)アクリロイルチオフェニルスルフィド、3
−ブロモ−2−(メタ)アリロイルチオフェニル−2’−
ブチル−3’−ビニルチオフェニルスルフィド、3−エ
チル−2−(メタ)アクリロイルチオフェニル−3’−ヒ
ドロキシ−4’−ビニルチオフェニルスルフィド、2−
ヒドロキシ−3−(メタ)アクリロイルチオフェニル−
2’−クロロ−4’−ビニルチオフェニルスルフィド
Bis (3-bromo-2- (meth) acryloylthio) having a functional group (acryl, methacryl, vinyl) and a substituent (halogen, lower alkyl, hydroxyl group) at positions 2, 3, and 4 of the phenyl ring Phenyl) sulfide, bis (4-chloro-2- (meth) acryloylthiophenyl) sulfide, bis (3-hydroxy-
2-vinylthiophenyl) sulfide, bis (2-methyl-3- (meth) acryloylthiophenyl) sulfide,
Bis (4-propyl-3- (meth) acryloylthiophenyl) sulfide, bis (2-ethyl-3-vinylthiophenyl) sulfide, bis (2-butyl-4- (meth) acryloylthiophenyl) sulfide, bis ( 3-pentyl-4- (meth) acryloylthiophenyl) sulfide,
Bis (2-hydroxy-4-vinylthiophenyl) sulfide, 3-bromo-2- (meth) acryloylthiophenyl-3 ′-(meth) acryloylthiophenyl sulfide, 3-ethyl-2- (meth) acryloylthiophenyl -4 '-(meth) acryloylthiophenyl sulfide,
2-hydroxy-3- (meth) acryloylthiophenyl-4 ′-(meth) acryloylthiophenyl sulfide,
3-bromo-2- (meth) acryloylthiophenyl-
2'-butyl-3 '-(meth) acryloylthiophenyl sulfide, 3-ethyl-2- (meth) acryloylthiophenyl-3'-hydroxy-4'-(meth) acryloylthiophenyl sulfide, 2-hydroxy-3 -(Meth) acryloylthiophenyl-2'-chloro-4'-
(Meth) acryloylthiophenyl sulfide, 3-bromo-2-vinylthiophenyl-2'-butyl-3'-vinylthiophenyl sulfide, 3-ethyl-2-vinylthiophenyl-3'-hydroxy-4'-vinyl Thiophenyl sulfide, 2-hydroxy-3-vinylthiophenyl-2′-chloro-4′-vinylthiophenyl sulfide, 3-bromo-2- (meth) acryloylthiophenyl-2′-butyl-3 ′-(meta ) Acryloylthiophenyl sulfide, 3-ethyl-2- (meth) acryloylthiophenyl-3′-hydroxy-4 ′-(meth) acryloylthiophenyl sulfide, 2-hydroxy-3
-(Meth) acryloylthiophenyl-2'-chloro-
4 '-(meth) acryloylthiophenyl sulfide, 3
-Bromo-2- (meth) allyloylthiophenyl-2'-
Butyl-3'-vinylthiophenyl sulfide, 3-ethyl-2- (meth) acryloylthiophenyl-3'-hydroxy-4'-vinylthiophenyl sulfide, 2-
Hydroxy-3- (meth) acryloylthiophenyl-
2'-chloro-4'-vinylthiophenyl sulfide

【0057】フェニル環の2,3,4の位置に官能基
(アクリル、メタクリル、ビニル)と置換基(ハロゲ
ン、低級アクリル、水酸基)と有機基M を有
するもの 3−ブロモ−2−(メタ)アクリロイルオキシメトキシチ
オフェニル−2’−ブチル−3’−ビニルチオフェニル
スルフィド、2−ヒドロキシ−2−(メタ)アクリロイル
オキシエトキシチオフェニル−3’−ヒドロキシ−4’
−ビニルチオフェニルスルフィド、3−エチル−3−
(メタ)アクリロイルオキシポロポキシチオフェニル−
2’−クロロ−4’−ビニルチオフェニルスルフィド、
3−ブロモ−2−(メタ)アクリロイルオキシジメトキシ
チオフェニル−2’−ブチル−3’−(メタ)アクリロイ
ルオキシジエトキシチオフェニルスルフィド、3−エチ
ル−2−(メタ)アクリロイルオキシジエトキシチオフェ
ニル−3’−ヒドロキシ,4’−(メタ)アクリロイルオ
キシジメトキシチオフェニルスルフィド、2−ヒドロキ
シ−3−(メタ)アクリロイルオキシジプロポキシチオフ
ェニル−2’−クロロ−4’−(メタ)アクリロイルオキ
シジメトキシチオフェニルスルフィド 飽和環状炭化水素化合物 1,3−ジ(メタ)アクリロイルチオシクロペンタン、
1,4−ジ(メタ)アクリロイルチオシクロヘキサン、
1,4−ジ(メタ)アクリロイルチオシクロヘプタン、
1,6−ジ(メタ)アクリロイルチオシクロオクタン、ビ
ス(3−(メタ)アクリロイルチオシクロペンチル)スルフ
ィド、ビス(4−(メタ)アクリロイルチオシクロヘキシ
ル)スルフィド、ビス(4−(メタ)アクリロイルチオシク
ロヘプチル)スルフィド、ビス(5−(メタ)アクリロイル
チオシクロオクチル)スルフィド 不飽和環状炭化水素化合物 ビス(4−(メタ)アクリロイルチオ−2−シクロヘキセ
ン−1−イル)スルフィド、ビス(4−(メタ)アクリロイ
ルチオ−2−シクロペンテン−1−イル)スルフィド、
ビス(5−(メタ)アクリロイルチオ−2−シクロヘプテ
ン−1−イル)スルフィドビス(5−(メタ)アクリロイル
チオ−2−シクロオクテン−1−イル)スルフィド ヘテロ環化合物 ビス(2−(メタ)アクリロイルチエニル)スルフィド、ビ
ス(3−(メタ)アクリロイルチオピリジル)スルフィド、
ビス(5−(メタ)アクリロイルチオピラニル)スルフィ
ド、ビス(5−(メタ)アクリロイルチオ−1,4−ジチ
アニル)スルフィド
Having a functional group (acryl, methacryl, vinyl), a substituent (halogen, lower acryl, hydroxyl group) and an organic group M 3 M 4 at positions 2, 3, 4 of the phenyl ring 3-bromo-2- (Meth) acryloyloxymethoxythiophenyl-2'-butyl-3'-vinylthiophenylsulfide, 2-hydroxy-2- (meth) acryloyloxyethoxythiophenyl-3'-hydroxy-4 '
-Vinylthiophenyl sulfide, 3-ethyl-3-
(Meth) acryloyloxypoloxythiophenyl-
2'-chloro-4'-vinylthiophenyl sulfide,
3-bromo-2- (meth) acryloyloxydimethoxythiophenyl-2′-butyl-3 ′-(meth) acryloyloxydiethoxythiophenylsulfide, 3-ethyl-2- (meth) acryloyloxydiethoxythiophenyl- 3'-hydroxy, 4 '-(meth) acryloyloxydimethoxythiophenyl sulfide, 2-hydroxy-3- (meth) acryloyloxydipropoxythiophenyl-2'-chloro-4'-(meth) acryloyloxydimethoxythiophenyl Sulfide saturated cyclic hydrocarbon compound 1,3-di (meth) acryloylthiocyclopentane,
1,4-di (meth) acryloylthiocyclohexane,
1,4-di (meth) acryloylthiocycloheptane,
1,6-di (meth) acryloylthiocyclooctane, bis (3- (meth) acryloylthiocyclopentyl) sulfide, bis (4- (meth) acryloylthiocyclohexyl) sulfide, bis (4- (meth) acryloylthiocycloheptyl) ) Sulfide, bis (5- (meth) acryloylthiocyclooctyl) sulfide unsaturated cyclic hydrocarbon compound bis (4- (meth) acryloylthio-2-cyclohexen-1-yl) sulfide, bis (4- (meth) acryloyl) Thio-2-cyclopenten-1-yl) sulfide,
Bis (5- (meth) acryloylthio-2-cyclohepten-1-yl) sulfidebis (5- (meth) acryloylthio-2-cycloocten-1-yl) sulfide heterocyclic compound bis (2- (meth) acryloyl Thienyl) sulfide, bis (3- (meth) acryloylthiopyridyl) sulfide,
Bis (5- (meth) acryloylthiopyranyl) sulfide, bis (5- (meth) acryloylthio-1,4-dithianyl) sulfide

【0058】上記例示化合物はいずれも単独で用いても
2以上の組合わせで用いてもよい。
Any of the above exemplified compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0059】上記化合物のうち、ビス(4−メタクリロ
イルチオフェニル)スルフィド、ビス(4−アクリロイ
ルチオフェニル)スルフィド、ビス(4−ビニルチオフ
ェニル)スルフィドなどが特に好ましい。
Of the above compounds, bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, bis (4-acryloylthiophenyl) sulfide, bis (4-vinylthiophenyl) sulfide and the like are particularly preferred.

【0060】つぎに、ハロゲン化環状化合物[III]につ
いて説明をする。
Next, the halogenated cyclic compound [III] will be described.

【0061】ハロゲン化環状化合物の一般式[III]にお
いて、円環は環状構造を意味し、Y は環を構成する
複数の原子を意味し、kは環の構成原子Y の数、す
なわち環の員数を意味する。kは好ましくは5〜8、よ
り好ましくは5〜6、最も好ましくは6である。複数の
は全て炭素原子であってもよいし(この場合、環
は炭素環である)、複数のY の一部が硫黄原子、窒
素原子および/または酸素原子のようなヘテロ原子で、
残りが炭素原子であってもよい(この場合、環はヘテロ
環である)。また環は飽和でも不飽和でもよいが、好ま
しくは不飽和結合を持ち、特に好ましくはベンゼン環で
ある。
In the general formula [III] of the halogenated cyclic compound,
The ring means a cyclic structure, Y 2 Form a ring
K means a plurality of ring-constituting atoms Y2 The number of
That is, it means the number of members in the ring. k is preferably 5 to 8,
More preferably, it is 5-6, most preferably 6. plural
Y2 May be all carbon atoms (in this case, the ring
Is a carbocycle);2 Some of them are sulfur atoms, nitrogen
A heteroatom such as an elementary atom and / or an oxygen atom,
The remainder may be carbon atoms (in which case the ring is hetero
Ring). The ring may be saturated or unsaturated, but is preferably
Or an unsaturated bond, particularly preferably a benzene ring.
is there.

【0062】X は環の置換基であり、互いに同一も
しくは異なり、少なくとも1つはハロゲン原子であり、
他は水酸基または低級アルキル基である。置換基X
の個数を表すqは2〜6である。
X 4 is a substituent of a ring, which is the same or different from each other, at least one of which is a halogen atom,
Others are a hydroxyl group or a lower alkyl group. Substituent X 4
Q representing the number of is 2 to 6.

【0063】有機基R においてラジカル重合性基は
ビニル基、(メタ)アクリロイル基または(メタ)アク
リロイルオキシのような官能基であってよい。ラジカル
重合性基を有しない有機基R は、炭素数1〜5の低
級アルキル基であってよい。
[0063] radical polymerizable group in the organic group R 5 is a vinyl group may be a functional group such as (meth) acryloyl group or (meth) acryloyloxy. The organic group R 5 does not have a radical polymerizable group can be a lower alkyl group of 1 to 5 carbon atoms.

【0064】M の−(OR)n3−において、低級
アルキレン基Rの炭素数は好ましくは1〜5、より好ま
しくは1〜3である。ORとしては、オキシメチレン、
オキシエチレン、オキシプロピレン、オキシブチレン等
が例示され、(OR)n3(n3は2〜5の整数)とし
ては、ジオキシメチレン、ジオキシエチレン、ジオキシ
プロピレン、ジオキシブチレン、トリオキシメチレン、
トリオキシエチレン、トリオキシプロピレン、トリオキ
シブチレン、テトラオキシメチレン、テトラオキシエチ
レン、テトラオキシプロピレン、テトラオキシブチレン
等が例示される。低級アルキレン基Rが水酸基を有して
いる場合、水酸基は、同アルキレン基のどの位置にあっ
てもよいが、水酸基を有するアルキレンは例えば(2−
ヒドロキシ)プロピレンである。
In — (OR) n3 — of M 5 , the carbon number of the lower alkylene group R is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3. As OR, oxymethylene,
Oxyethylene, oxypropylene, oxybutylene and the like are exemplified, and (OR) n3 (n3 is an integer of 2 to 5) includes dioxymethylene, dioxyethylene, dioxypropylene, dioxybutylene, trioxymethylene,
Examples thereof include trioxyethylene, trioxypropylene, trioxybutylene, tetraoxymethylene, tetraoxyethylene, tetraoxypropylene, and tetraoxybutylene. When the lower alkylene group R has a hydroxyl group, the hydroxyl group may be located at any position of the alkylene group.
Hydroxy) propylene.

【0065】基(M −R )の個数を表すpは1
〜4である。
P representing the number of groups (M 5 -R 5 ) is 1
~ 4.

【0066】ハロゲン化環状化合物[III]、例えばトリ
ハロフェノール系化合物は、下記のものであってよい。
The halogenated cyclic compound [III], for example, a trihalophenol compound may be as follows.

【0067】官能基(アクリル、メタクリル、ビニル)
1個と置換基(ハロゲン、水酸基、低級アルキル基)と
を2個有するもの 2,4−ジブロモフェニル(メタ)アクリレート、2,6
−ジブロモフェニル(メタ)アクリレート、4,6−ジク
ロロ−1−ビニルベンゼン、2,4−ジブロモ−5−エ
チル−3−(メタ)アクリロイルオキシベンゼン、2,6
−ジブロモ−3−ヒドロキシ−フェニルアクリレート、
4,6−ジブロモ−2−プロピル−1−ビニルベンゼ
ン、2,4−ジクロロ−3−メチルフェニル(メタ)アク
リレート、2,6−ジブロモ−5−ヒドロキシフェニル
(メタ)アクリレート、4,6−ジブロモ−2−ブチル−
1−ビニルベンゼン、2,4−ジブロモフェノキシ(メ
タ)アクリレート、2,6−ジブロモフェノキシ(メタ)
アクリレート、2,4−ジクロロ−3−メチルフェノキ
シ(メタ)アクリレート、2,6−ジブロモ−5−ヒドロ
キシフェノキシ(メタ)アクリレート、2,6−ジクロロ
フェノキシ(メタ)アクリレート、2,4−ジブロモ−5
−エチル−1,3−ジ(メタ)アクリロイルベンゼン、
2,6−ジクロロ−3−ヒドロキシ−フェノキシ(メタ)
アクリレート 官能基(アクリル、メタクリル、ビニル)1個と置換基
(ハロゲン、水酸基、低級アルキル基)とを3個有する
もの 2,4,6−トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、
2,4,6−トリクロロ−1−ビニルベンゼン、2,
4,6−トリブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレー
ト、2,3,6−トリブロモフェニル(メタ)アクリレー
ト、2,5,6−トリブロモフェニル(メタ)アクリレー
ト、2,4,5−トリクロロ−1−ビニルベンゼン、
2,4,6−トリブロモフェノキシジエチレングリコー
ル(メタ)アクリレート、2,4,6−トリブロモフェノ
キシトリエチレングリコール(メタ)アクリレート、2,
4,6−トリブロモフェノキシテトラエチレングリコー
ル(メタ)アクリレート、2,4,6−トリクロロフェノ
キシメチル(メタ)アクリレート、2−(2,4,6−ト
リブロモフェノキシ)−エチル(メタ)アクリレート、2
−(2,4,6−トリブロモフェノキシ)−プロピル(メ
タ)アクリレート、3−(2,4,6−トリブロモフェノ
キシ)−プロピル(メタ)アクリレート、2−(2,4,6
−トリブロモフェノキシ)−3−ヒドロキシプロピル(メ
タ)アクリレート、3−(2,4,6−トリブロモフェノ
キシ)−3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート 官能基(アクリル、メタクリル、ビニル)2つと置換基
(ハロゲン、水酸基、低級アクリル基)とを2個有する
もの 2,4−ジブロモ−1,3−ジ(メタ)アクリロイルオキ
シベンゼン、5−(メタ)アクリロイルオキシ−2,4−
ジブロモ−3−(メタ)アクリロイルオキシベンゼン、5
−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ブロモ−4−クロロ
−3−(メタ)アクリロイルオキシベンゼン、1−(メタ)
アクリロイルオキシ−2,5−ジブロモ−4−ヒドロキ
シ−3−メチル−6−(メタ)アクリロイルオキシベンゼ
ン、1−(メタ)アクリロイルオキシ−2−ブロモ−3−
クロロ−4−ヒドロキシ−3−メチル−6−(メタ)アク
リロイルオキシベンゼン 官能基(アクリル、メタクリル、ビニル)2つと置換基
(ハロゲン、水酸基、低級アクリル基)とを3個有する
もの 2,4−ジブロモ−6−メチル−1,3,5−トリ(メ
タ)アクリロイルオキシベンゼン、1,5−ジブロモ−
3−ヒドロキシ−2,4,6−トリ(メタ)アクリロイル
オキシベンゼン、1,5−ジクロロ−3−ヒドロキシ−
2,4,6−トリ(メタ)アクリロイルオキシベンゼン 官能基(アクリル、メタクリル、ビニル)3個と置換基
(ハロゲン、水酸基、低級アルキル基)3個を有するも
の 2,4,6−トリブロモ−1,3,5−トリ(メタ)アク
リロイルオキシベンゼン、2,4,6−トリクロロ−
1,3,5−トリ(メタ)アクリロイルオキシベンゼン 官能基(アクリル、メタクリル、ビニル)と置換基(ハ
ロゲン、水酸基、低級アクルキル基)と有機基M
有するもの 1,4−ジ(メタ)アクリロイルオキシトリメトキシ−
2,6−ジブロモベンゼン、1−(メタ)アクリロイルオ
キシエトキシ−2,3,6−トリブロモベンゼン、1−
(メタ)アクリロイルオキシジプロポキシ−2,4,6−
トリクロロベンゼン、2,4−ジブロモ−1,3−ジ
(メタ)アクリロイルオキシメトキシベンゼン、2,4−
ジブロモ−6−メチル−1,3,5−トリ(メタ)アクリ
ロイルオキシジエトキシベンゼン これら例示化合物はいずれも単独で用いても2以上の組
合わせで用いてもよい。
Functional groups (acryl, methacryl, vinyl)
Having one and two substituents (halogen, hydroxyl group, lower alkyl group) 2,4-dibromophenyl (meth) acrylate, 2,6
-Dibromophenyl (meth) acrylate, 4,6-dichloro-1-vinylbenzene, 2,4-dibromo-5-ethyl-3- (meth) acryloyloxybenzene, 2,6
-Dibromo-3-hydroxy-phenyl acrylate,
4,6-dibromo-2-propyl-1-vinylbenzene, 2,4-dichloro-3-methylphenyl (meth) acrylate, 2,6-dibromo-5-hydroxyphenyl
(Meth) acrylate, 4,6-dibromo-2-butyl-
1-vinylbenzene, 2,4-dibromophenoxy (meth) acrylate, 2,6-dibromophenoxy (meth)
Acrylate, 2,4-dichloro-3-methylphenoxy (meth) acrylate, 2,6-dibromo-5-hydroxyphenoxy (meth) acrylate, 2,6-dichlorophenoxy (meth) acrylate, 2,4-dibromo-5
-Ethyl-1,3-di (meth) acryloylbenzene,
2,6-dichloro-3-hydroxy-phenoxy (meth)
Acrylate having one functional group (acryl, methacryl, vinyl) and three substituents (halogen, hydroxyl group, lower alkyl group) 2,4,6-tribromophenyl (meth) acrylate,
2,4,6-trichloro-1-vinylbenzene, 2,
4,6-tribromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2,3,6-tribromophenyl (meth) acrylate, 2,5,6-tribromophenyl (meth) acrylate, 2,4,5-trichloro-1 -Vinyl benzene,
2,4,6-tribromophenoxydiethylene glycol (meth) acrylate, 2,4,6-tribromophenoxytriethylene glycol (meth) acrylate, 2,
4,6-tribromophenoxytetraethylene glycol (meth) acrylate, 2,4,6-trichlorophenoxymethyl (meth) acrylate, 2- (2,4,6-tribromophenoxy) -ethyl (meth) acrylate, 2
-(2,4,6-tribromophenoxy) -propyl (meth) acrylate, 3- (2,4,6-tribromophenoxy) -propyl (meth) acrylate, 2- (2,4,6
-Tribromophenoxy) -3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 3- (2,4,6-tribromophenoxy) -3-hydroxypropyl (meth) acrylate Two functional groups (acryl, methacryl, vinyl) and substituents (Halogen, hydroxyl group, lower acrylic group) 2,4-dibromo-1,3-di (meth) acryloyloxybenzene, 5- (meth) acryloyloxy-2,4-
Dibromo-3- (meth) acryloyloxybenzene, 5
-(Meth) acryloyloxy-2-bromo-4-chloro-3- (meth) acryloyloxybenzene, 1- (meth)
Acryloyloxy-2,5-dibromo-4-hydroxy-3-methyl-6- (meth) acryloyloxybenzene, 1- (meth) acryloyloxy-2-bromo-3-
Chloro-4-hydroxy-3-methyl-6- (meth) acryloyloxybenzene Having two functional groups (acryl, methacryl, vinyl) and three substituents (halogen, hydroxyl, lower acryl) 2,4- Dibromo-6-methyl-1,3,5-tri (meth) acryloyloxybenzene, 1,5-dibromo-
3-hydroxy-2,4,6-tri (meth) acryloyloxybenzene, 1,5-dichloro-3-hydroxy-
2,4,6-tri (meth) acryloyloxybenzene having three functional groups (acryl, methacryl, vinyl) and three substituents (halogen, hydroxyl group, lower alkyl group) 2,4,6-tribromo-1 , 3,5-tri (meth) acryloyloxybenzene, 2,4,6-trichloro-
1,3,5-tri (meth) acryloyloxybenzene having a functional group (acryl, methacryl, vinyl), a substituent (halogen, hydroxyl group, lower alkenyl group) and an organic group M 5 1,4-di (meth) Acryloyloxytrimethoxy-
2,6-dibromobenzene, 1- (meth) acryloyloxyethoxy-2,3,6-tribromobenzene, 1-
(Meth) acryloyloxydipropoxy-2,4,6-
Trichlorobenzene, 2,4-dibromo-1,3-di
(Meth) acryloyloxymethoxybenzene, 2,4-
Dibromo-6-methyl-1,3,5-tri (meth) acryloyloxydiethoxybenzene These exemplified compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0068】上記化合物のうち、トリブロモフェノール
アクリレート、トリブロモフェノールメタクリレート、
トリブロモフェノキシエチルアクリレート、トリブロモ
フェノキシエチルメタクリレートなどが特に好ましい。
Among the above compounds, tribromophenol acrylate, tribromophenol methacrylate,
Particularly preferred are tribromophenoxyethyl acrylate, tribromophenoxyethyl methacrylate and the like.

【0069】つぎに、カルバゾール系化合物[IV]につ
いて説明をする。
Next, the carbazole compound [IV] will be described.

【0070】カルバゾール系化合物[IV]の有機基R
、R およびR においてラジカル重合性基はビ
ニル基、(メタ)アクリロイル基または(メタ)アクリ
ロイルオキシのような官能基であってよい。ラジカル重
合性基を有しない有機基R、R およびR は、
炭素数1〜5の低級アルキル基であってよい。
Organic group R 6 of carbazole compound [IV]
, R 7 and R 8 the radically polymerizable group may be a functional group such as a vinyl group, a (meth) acryloyl group or a (meth) acryloyloxy. Organic groups R 6 , R 7 and R 8 having no radical polymerizable group are
It may be a lower alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.

【0071】M 、M およびM の−(OR)
n4−において、低級アルキレン基Rの炭素数は好まし
くは1〜5、より好ましくは1〜3である。ORとして
は、オキシメチレン、オキシエチレン、オキシプロピレ
ン、オキシブチレン等が例示され、(OR)n4(n4
は2〜5の整数)としては、ジオキシメチレン、ジオキ
シエチレン、ジオキシプロピレン、ジオキシブチレン、
トリオキシメチレン、トリオキシエチレン、トリオキシ
プロピレン、トリオキシブチレン、テトラオキシメチレ
ン、テトラオキシエチレン、テトラオキシプロピレン、
テトラオキシブチレン等が例示される。低級アルキレン
基Rが水酸基を有している場合、水酸基は、同アルキレ
ン基のどの位置にあってもよいが、水酸基を有するアル
キレンは例えば(2−ヒドロキシ)プロピレンである。
-(OR) of M 6 , M 7 and M 8
In n4- , the number of carbon atoms of the lower alkylene group R is preferably 1 to 5, more preferably 1 to 3. Examples of OR include oxymethylene, oxyethylene, oxypropylene, oxybutylene and the like, and (OR) n4 (n4
Is an integer of 2 to 5) as dioxymethylene, dioxyethylene, dioxypropylene, dioxybutylene,
Trioxymethylene, trioxyethylene, trioxypropylene, trioxybutylene, tetraoxymethylene, tetraoxyethylene, tetraoxypropylene,
Tetraoxybutylene and the like are exemplified. When the lower alkylene group R has a hydroxyl group, the hydroxyl group may be located at any position of the alkylene group, but the alkylene having a hydroxyl group is, for example, (2-hydroxy) propylene.

【0072】X およびX は環の置換基であり、
互いに同一もしくは異なり、ハロゲン原子、水酸基また
は低級アルキル基を意味する。
X 5 and X 6 are ring substituents;
The same or different from each other, it means a halogen atom, a hydroxyl group or a lower alkyl group.

【0073】カルバゾール系化合物[IV]は、下記のも
のであってよい。
The carbazole compound [IV] may be as follows.

【0074】官能基(アクリル、メタクリル、ビニル)
を1個有するもの 1−ビニルカルバゾール、2−ビニルカルバゾール、3
−ビニルカルバゾール、4−ビニルカルバゾール、9−
ビニルカルバゾール、1−(メタ)アクリロイルオキシカ
ルバゾール、2−(メタ)アクリロイルオキシカルバゾー
ル、3−(メタ)アクリロイルオキシカルバゾール、4−
(メタ)アクリロイルオキシカルバゾール、9−(メタ)ア
クリロイルオキシカルバゾール 官能基(アクリル、メタクリル、ビニル)を2または3
個有するもの 1,9−ジビニルカルバゾール、1,5,9−トリビニ
ルカルバゾール、2,7−ジ(メタ)アクリロイルオキシ
カルバゾール、2,8,9−トリ(メタ)アクリロイルオ
キシカルバゾール、1,9−ジ(メタ)アクリロイルオキ
シカルバゾール、3,6,9−トリ(メタ)アクリロイル
オキシカルバゾール、2−(メタ)アクリロイルオキシ−
1−ビニルカルバゾール、6−(メタ)アクリロイルオキ
シ−2−ビニルカルバゾール、2−(メタ)アクリロイル
オキシ−9−(メタ)アクリロイルオキシカルバゾール、
1−(メタ)アクリロイルオキシ−5−(メタ)アクリロイ
ルオキシカルバゾール 官能基(アクリル、メタクリル、ビニル)および置換基
(ハロゲン、低級アルキル、水酸基)を有するもの 2−メチル−1,9−ジビニルカルバゾール、3−ヒド
ロキシ−1,5,9−トリビニルカルバゾール、1−ク
ロロ−2,7−ジ(メタ)アクリロイルオキシカルバゾー
ル、3,7−ジブロモ−2,8,9−トリ(メタ)アクリ
ロイルオキシカルバゾール、1,9−ジ(メタ)アクリロ
イルオキシ−4−ブチルカルバゾール、3,6,9−ト
リ(メタ)アクリロイルオキシ−1−ヒドロキシカルバゾ
ール、2−(メタ)アクリロイルオキシ−5−プロピル−
1−ビニルカルバゾール、6−(メタ)アクリロイルオキ
シ−9−エチル−2−ビニルカルバゾール、2−(メタ)
アクリロイルオキシ−9−(メタ)アクリロイルオキシカ
ルバゾール、1−(メタ)アクリロイルオキシ−9−ヒド
ロキシ−5−(メタ)アクリロイルオキシカルバゾー
Functional groups (acryl, methacryl, vinyl)
1-vinylcarbazole, 2-vinylcarbazole, 3
-Vinyl carbazole, 4-vinyl carbazole, 9-
Vinylcarbazole, 1- (meth) acryloyloxycarbazole, 2- (meth) acryloyloxycarbazole, 3- (meth) acryloyloxycarbazole, 4-
(Meth) acryloyloxycarbazole, 9- (meth) acryloyloxycarbazole 2 or 3 functional groups (acryl, methacryl, vinyl)
Having 1,9-divinylcarbazole, 1,5,9-trivinylcarbazole, 2,7-di (meth) acryloyloxycarbazole, 2,8,9-tri (meth) acryloyloxycarbazole, 1,9- Di (meth) acryloyloxycarbazole, 3,6,9-tri (meth) acryloyloxycarbazole, 2- (meth) acryloyloxy-
1-vinylcarbazole, 6- (meth) acryloyloxy-2-vinylcarbazole, 2- (meth) acryloyloxy-9- (meth) acryloyloxycarbazole,
1- (meth) acryloyloxy-5- (meth) acryloyloxycarbazole functional group (acryl, methacryl, vinyl) and substituent
(Halogen, lower alkyl, hydroxyl group) 2-methyl-1,9-divinylcarbazole, 3-hydroxy-1,5,9-trivinylcarbazole, 1-chloro-2,7-di (meth) acryloyloxy Carbazole, 3,7-dibromo-2,8,9-tri (meth) acryloyloxycarbazole, 1,9-di (meth) acryloyloxy-4-butylcarbazole, 3,6,9-tri (meth) acryloyloxy -1-hydroxycarbazole, 2- (meth) acryloyloxy-5-propyl-
1-vinylcarbazole, 6- (meth) acryloyloxy-9-ethyl-2-vinylcarbazole, 2- (meth)
Acryloyloxy-9- (meth) acryloyloxycarbazole, 1- (meth) acryloyloxy-9-hydroxy-5- (meth) acryloyloxycarbazo

【0075】官能基(アクリル、メタクリル、ビニル)
および置換基(ハロゲン、低級アルキル、水酸基)と有
機基M を有するもの 2−メチル−1,9−ジビニルメトキシカルバゾール、
3−ヒドロキシ−1,5,9−トリビニルエトキシカル
バゾール、1−クロロ−2,7−ジ(メタ)アクリロイル
オキシエトキシカルバゾール、3,7−ジブロモ−2,
8,9−トリ(メタ)アクリロイルオキシジエトキシカル
バゾール、1,9−ジ(メタ)アクリロイルオキシトリメ
トキシ−4−ブチルカルバゾール、3,6,9−トリ
(メタ)アクリロイルオキシテトラメトキシ−1−ヒドロ
キシカルバゾール、2−(メタ)アクリロイルオキシメト
キシ−5−プロピル−1−ビニルカルバゾール、6−
(メタ)アクリロイルオキシジメトキシ−9−エチル−2
−ビニルカルバゾール、2−(メタ)アクリロイルオキシ
トリプロポキシ−9−(メタ)アクリロイルオキシメトキ
シカルバゾール、1−(メタ)アクリロイルオキシエトキ
シ−9−ヒドロキシ−5−(メタ)アクリロイルオキシエ
トキシカルバゾール これら例示化合物はいずれも単独で用いても2以上の組
合わせで用いてもよい。
Functional groups (acryl, methacryl, vinyl)
And those having a substituent (halogen, lower alkyl, hydroxyl group) and an organic group M 6 M 7 2-methyl-1,9-divinylmethoxycarbazole,
3-hydroxy-1,5,9-trivinylethoxycarbazole, 1-chloro-2,7-di (meth) acryloyloxyethoxycarbazole, 3,7-dibromo-2,
8,9-tri (meth) acryloyloxydiethoxycarbazole, 1,9-di (meth) acryloyloxytrimethoxy-4-butylcarbazole, 3,6,9-tricarb
(Meth) acryloyloxytetramethoxy-1-hydroxycarbazole, 2- (meth) acryloyloxymethoxy-5-propyl-1-vinylcarbazole, 6-
(Meth) acryloyloxydimethoxy-9-ethyl-2
-Vinylcarbazole, 2- (meth) acryloyloxytripropoxy-9- (meth) acryloyloxymethoxycarbazole, 1- (meth) acryloyloxyethoxy-9-hydroxy-5- (meth) acryloyloxyethoxycarbazole Any of these may be used alone or in combination of two or more.

【0076】上記化合物のうち、N−ビニルカルバゾー
ル、3,6−ジブロモ−9−ビニルカルバゾール、9−
ビニルカルバゾールが特に好ましい。
Among the above compounds, N-vinylcarbazole, 3,6-dibromo-9-vinylcarbazole, 9-vinylcarbazole
Vinyl carbazole is particularly preferred.

【0077】フルオレン系化合物[I]、スルフィド系
環状化合物[II]、ハロゲン化環状化合物[III]および
カルバゾール系化合物[IV]の各例示化合物を組み合わ
せて用いることもできる。
The fluorene compound [I], the sulfide ring compound [II], the halogenated ring compound [III] and the carbazole compound [IV] can be used in combination.

【0078】フルオレン系化合物[I]、スルフィド系
環状化合物[II]、ハロゲン化環状化合物[III]および
カルバゾール系化合物[IV]のうち、フルオレン系化合
物[I]、スルフィド系環状化合物[II]およびハロゲ
ン化環状化合物[III]が好ましく、フルオレン系化合物
[I]およびハロゲン化環状化合物[III]が最も好まし
い。
Of the fluorene compound [I], sulfide ring compound [II], halogenated ring compound [III] and carbazole compound [IV], fluorene compound [I], sulfide ring compound [II] and The halogenated cyclic compound [III] is preferable, and the fluorene-based compound [I] and the halogenated cyclic compound [III] are most preferable.

【0079】ラジカル重合性化合物(B2)は、分子内にフ
ルオレン骨格、ビス(フェニル)スルフィド骨格、トリ
ハロフェニル骨格、カルバゾール骨格を有さないラジカ
ル重合性化合物であり、単体の分子量が1000以下
で、官能基数が1〜6である。以下、その具体例を挙げ
る。
The radical polymerizable compound (B2) is a radical polymerizable compound having no fluorene skeleton, bis (phenyl) sulfide skeleton, trihalophenyl skeleton, or carbazole skeleton in the molecule. The number of functional groups is 1 to 6. Hereinafter, specific examples thereof will be described.

【0080】芳香族の化合物としては、スチレン、2−
クロロスチレン、2−ブロモスチレン、ビニルトルエ
ン、ジビニルベンゼン、2−ビニルビフェニル、3−ビ
ニルビフェニル、4−ビニルビフェニル、ジビニルビフ
ェニル、4,4’−ジビニルビフェニル、ビニルナフタ
レン、ジビニルナフタレン、2,2−ビス[3,5−ジ
ブロモ−4−(2−メタクリロイルオキシエトキシ)フ
ェニル]プロパン、2,2−ビス[3,5−ジブロモ−
4−(2−アクリロイルオキシエトキシ)フェニル]プ
ロパン、フェニル(メタ)アクリレート、2−フェニル
エチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル
(メタ)アクリレート、フェノールエトキシレートモノ
(メタ)アクリレート、p−クロロフェニル(メタ)ア
クリレート、2−(p−クロロフェノキシ)エチル(メ
タ)アクリレート、p−ブロモフェニル(メタ)アクリ
レート、2−(p−ブロモフェノキシ)エチル(メタ)
アクリレート、1,4−ベンゼンジオールジ(メタ)ア
クリレート、1,3,5−トリイソプロペニルベンゼ
ン、2−(1−ナフチルオキシ)エチル(メタ)アクリ
レート、エトキシレートビスフェノールAジ(メタ)ア
クリレート、ビスフェノールAのジ(2−(メタ)アク
リルオキシエチル)エーテルなどが挙げられる。
As the aromatic compound, styrene, 2-
Chlorostyrene, 2-bromostyrene, vinyltoluene, divinylbenzene, 2-vinylbiphenyl, 3-vinylbiphenyl, 4-vinylbiphenyl, divinylbiphenyl, 4,4′-divinylbiphenyl, vinylnaphthalene, divinylnaphthalene, 2,2- Bis [3,5-dibromo-4- (2-methacryloyloxyethoxy) phenyl] propane, 2,2-bis [3,5-dibromo-
4- (2-acryloyloxyethoxy) phenyl] propane, phenyl (meth) acrylate, 2-phenylethyl (meth) acrylate, 2-phenoxyethyl (meth) acrylate, phenolethoxylate mono (meth) acrylate, p-chlorophenyl ( (Meth) acrylate, 2- (p-chlorophenoxy) ethyl (meth) acrylate, p-bromophenyl (meth) acrylate, 2- (p-bromophenoxy) ethyl (meth)
Acrylate, 1,4-benzenediol di (meth) acrylate, 1,3,5-triisopropenylbenzene, 2- (1-naphthyloxy) ethyl (meth) acrylate, ethoxylate bisphenol A di (meth) acrylate, bisphenol And di (2- (meth) acryloxyethyl) ether of A.

【0081】脂肪族の化合物としては、メチルメタクリ
レート、エチルメタクリレート、n−ブチルメタクリレ
ート、イソブチルメタクリレート、2−エチルヘキシル
メタクリレート、イソデシルメタクリレート、n−ラウ
リルメタクリレート、n−ステアリルメタクリレート、
メトキシジエチレングリコールメタクリレート、シクロ
ヘキシルメタクレート、テトラヒドロフルフリルメタク
リレート、イソボルニルメタクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルメタ
クリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−
ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシブチ
ルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、ジエチルアミノエチルメタクリレート、グリシジル
メタクリレート、tert- ブチルメタクリレート、イソス
テアリルメタクリレート、n−ブトキシエチルメタクリ
レート、イソアミルアクリレート、ラウリルアクリレー
ト、ステアリルアクリレート、ブトキシエチルアクリレ
ート、エトキシエチレングリコールアクリレート、メト
キシトリエチレングリコールアクリレート、テトラヒド
ロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シプロピルアクリレート、2−アクリロイロキシエチル
コハク酸、2−アクリロイロキシエチルフタル酸、イソ
オクチルアクリレート、イソミリスチルアクリレート、
イソステアリルアクリレート、酢酸ビニルなどのモノ
(メタ)アクリレートが挙げられる。
Examples of the aliphatic compound include methyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, isodecyl methacrylate, n-lauryl methacrylate, n-stearyl methacrylate,
Methoxydiethylene glycol methacrylate, cyclohexyl methacrylate, tetrahydrofurfuryl methacrylate, isobornyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-
Hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxybutyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, diethylaminoethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, tert-butyl methacrylate, isostearyl methacrylate, n-butoxyethyl methacrylate, isoamyl acrylate, lauryl acrylate, stearyl acrylate, butoxyethyl acrylate, Ethoxyethylene glycol acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, isobornyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-acryloyloxyethyl succinic acid, 2-acryloyloxyethyl phthalic acid , Isooctyl acrylate Isomyristyl acrylate,
Mono (meth) acrylates such as isostearyl acrylate and vinyl acetate are exemplified.

【0082】これら芳香族および脂肪族の例示化合物は
いずれも単独で用いても2以上の組合わせで用いてもよ
い。
These aromatic and aliphatic exemplified compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0083】本発明で用いられる粘度低下剤(C) は、ア
リル系プルポリマー(A) および/またはラジカル重合性
化合物(B) と非反応性の化合物(C1) であるか、また
は、分子内に(メタ)アリル基を有する化合物(C2)であ
る。
The viscosity reducing agent (C) used in the present invention is a compound (C1) that is non-reactive with the allylic pull polymer (A) and / or the radical polymerizable compound (B), (C2) having a (meth) allyl group.

【0084】粘度低下剤のうち非反応性の化合物(C1)と
しては、ジメチルフタレート、ジエチルフタレートに代
表されるフタル酸エステル類;ジメチルアジペート、ジ
ブチルアジペート、ジメチルセバケート、ジエチルサク
シネートに代表される脂肪族二塩基酸エステル類;トリ
メチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリフ
ェニルホスフェート、トリクレジルホスフェートに代表
される正リン酸エステル類;グリセリルトリアセテー
ト、2−エチルヘキシルアセテートに代表される酢酸エ
ステル類;トリフェニルホスファイト、ジブチルハイド
ロジエンホスファイトに代表される亜リン酸エステル類
などの不活性化合物が例示される。また、一般式が以下
に示されるアルキレングリコールアルキルエーテルが例
示される。
As the non-reactive compound (C1) among the viscosity reducing agents, phthalic esters represented by dimethyl phthalate and diethyl phthalate; dimethyl adipate, dibutyl adipate, dimethyl sebacate and diethyl succinate Aliphatic dibasic acid esters; orthophosphates represented by trimethyl phosphate, triethyl phosphate, triphenyl phosphate and tricresyl phosphate; acetate esters represented by glyceryl triacetate and 2-ethylhexyl acetate; triphenyl phosphate Inactive compounds such as phosphites represented by phyte and dibutyl hydrogen phosphite are exemplified. Further, an alkylene glycol alkyl ether represented by the following general formula is exemplified.

【化9】 [式中、R11とR12は炭素数1から5のアルキル
基、水酸基またはアセチル基、nは1〜5の整数を意味
する。] アルキレングリコールアルキルエーテルとしては、エチ
レングリコールジメチルエーテル、エチレングリコール
ジエチルエーテル、エチレングリコールジプロピルエー
テル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコール
モノプロピルエーテル、ジエチレングリコールジメチル
エーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレング
リコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモ
ノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピル
エーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、
トリエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレ
ングリコールジプロピルエーテル、トリエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノ
エチルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピル
エーテル、酢酸セロソルブエチレングリコールジアセチ
ルエーテル、エチレングリコールモノアセチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジアセチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノアセチルエーテル、トリエチレング
リコールジアセチルエーテル、トリエチレングリコール
モノアセチルエーテルが例示される。
Embedded image [In the formula, R 11 and R 12 represent an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, a hydroxyl group or an acetyl group, and n represents an integer of 1 to 5. Examples of the alkylene glycol alkyl ether include ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, ethylene glycol dipropyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monopropyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, and diethylene glycol dipropyl. Ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monopropyl ether, triethylene glycol dimethyl ether,
Triethylene glycol diethyl ether, triethylene glycol dipropyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, triethylene glycol monopropyl ether, cellosolve ethylene glycol diacetyl ether, ethylene glycol monoacetyl ether, diethylene glycol diacetyl ether, Examples thereof include diethylene glycol monoacetyl ether, triethylene glycol diacetyl ether, and triethylene glycol monoacetyl ether.

【0085】また、重量平均分子量が10000以下で
あるポリエチレングリコールもしくはシリコーンオイル
を用いることもできる。
Further, polyethylene glycol or silicone oil having a weight average molecular weight of 10,000 or less can also be used.

【0086】粘度低下剤(C1)はその屈折率がアリル系プ
レポリマー(A) の屈折率より極力小さいものを選択する
のが好ましい。
The viscosity reducing agent (C1) is preferably selected to have a refractive index as small as possible than that of the allylic prepolymer (A).

【0087】粘度低下剤(C)のうち、分子内に(メタ)
アリル基を有する化合物(C2)としては、(メタ)アリル
アルコール、(メタ)アリルクロライド、酢酸(メタ)
アリル、安息香酸(メタ)アリル、イソ吉草酸(メタ)
アリル、カプリル酸(メタ)アリル、カプロン酸(メ
タ)アリル、ギ酸(メタ)アリル、ケイ皮酸(メタ)ア
リル、サリチル酸(メタ)アリル、ジヒドロジャスミン
酸(メタ)アリル、フェニル酢酸(メタ)アリル、プロ
ピオン酸(メタ)アリル、酪酸(メタ)アリル、アジピ
ン酸モノ(メタ)アリルエステル、セバシン酸モノ(メ
タ)アリルエステル、フタル酸モノ(メタ)アリルエス
テル、イソフタル酸モノ(メタ)アリルエステル、テレ
フタル酸モノ(メタ)アリルエステル、コハク酸モノ
(メタ)アリルエステル、トリメリットモノ(メタ)ア
リルエステル、サクシン酸モノ(メタ)アリルエステ
ル、リシノール酸モノ(メタ)アリルエステル、マレイ
ン酸モノ(メタ)アリルエステル等のモノ(メタ)アリ
ル化合物;アジピン酸ジ(メタ)アリル、セバシン酸ジ
(メタ)アリル、フタル酸ジ(メタ)アリル、イソフタ
ル酸ジ(メタ)アリル、テレフタル酸ジ(メタ)アリ
ル、コハク酸ジ(メタ)アリル、トリメリットジ(メ
タ)アリル、サクシン酸ジ(メタ)アリル、リシノール
酸ジ(メタ)アリル、マレイン酸ジ(メタ)アリル、ト
リ(メタ)アリルフォスフェート、トリ(メタ)アリル
イソシアヌレート等のジ(メタ)アリル化合物などが例
示される。
Among the viscosity reducing agents (C), (meth)
As the compound (C2) having an allyl group, (meth) allyl alcohol, (meth) allyl chloride, acetic acid (meth)
Allyl, (meth) allyl benzoate, isovaleric acid (meth)
Allyl, (meth) allyl caprylate, (meth) allyl caproate, (meth) allyl formate, (meth) allyl cinnamate, (meth) allyl salicylate, (meth) allyl dihydrojasmate, (meth) allyl phenylacetate (Meth) allyl propionate, (meth) allyl butyrate, mono (meth) allyl adipate, mono (meth) allyl sebacate, mono (meth) allyl phthalate, mono (meth) allyl isophthalate, Mono (meth) allyl terephthalate, mono (meth) allyl succinate, mono (meth) allyl trimellitate, mono (meth) allyl succinate, mono (meth) allyl ricinoleate, mono (meth) maleate ) Mono (meth) allyl compounds such as allyl esters; (Meth) allyl, di (meth) allyl sebacate, di (meth) allyl phthalate, di (meth) allyl isophthalate, di (meth) allyl terephthalate, di (meth) allyl succinate, trimellitium (meta) Di (meth) allyl compounds such as allyl, di (meth) allyl succinate, di (meth) allyl ricinoleate, di (meth) allyl maleate, tri (meth) allyl phosphate and tri (meth) allyl isocyanurate Is exemplified.

【0088】上記の化合物は単独で用いても2種以上を
組合わせて用いても良い。
The above compounds may be used alone or in combination of two or more.

【0089】本発明組成物における光重合開始剤(D) と
しては、He−Ne(波長633nm)、Ar(波長5
15,488nm)、He−Cd(波長442nm)等
のレーザー光を吸収してラジカルを発生するものが好適
に用いられる。このような光重合開始剤としては、例え
ば、カルボニル化合物、アミン化合物、アリールアミノ
酢酸化合物、有機錫化合物、アルキルアリールホウ素
塩、オニウム塩類、鉄アレーン錯体、トリハロゲノメチ
ル置換トリアジン化合物、有機過酸化物、ビスイミダゾ
ール誘導体、チタノセン化合物およびこれらの開始剤と
光増感色素の組み合わせ等が好ましく使用される。
As the photopolymerization initiator (D) in the composition of the present invention, He—Ne (wavelength 633 nm), Ar (wavelength 5
Those that absorb laser light such as 15,488 nm) and He-Cd (wavelength 442 nm) to generate radicals are preferably used. Such photopolymerization initiators include, for example, carbonyl compounds, amine compounds, arylaminoacetic acid compounds, organotin compounds, alkylaryl boron salts, onium salts, iron arene complexes, trihalogenomethyl-substituted triazine compounds, organic peroxides , Bisimidazole derivatives, titanocene compounds and combinations of these initiators with photosensitizing dyes are preferably used.

【0090】上記カルボニル化合物としては、例えばベ
ンジル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾフェノン、
ジエトキシアセトフェノン等が例示できる。
Examples of the carbonyl compound include benzyl, benzoin ethyl ether, benzophenone,
Diethoxyacetophenone and the like can be exemplified.

【0091】アミン化合物としてはトリエタノールアミ
ン、トリイソプロパノールアミン、2−ジメチルアミノ
安息香酸等が例示できる。
Examples of the amine compound include triethanolamine, triisopropanolamine, 2-dimethylaminobenzoic acid and the like.

【0092】アリールアミノ酢酸化合物としてN−フェ
ニルグリシンが例示できる。
Examples of the arylaminoacetic acid compound include N-phenylglycine.

【0093】有機錫化合物としてトリブチルベンジル錫
が例示できる。
As an organic tin compound, tributylbenzyltin can be exemplified.

【0094】アルキルアリールホウ素塩としてテトラブ
チルアンモニウム・トリフェニルブチルボレート、トリ
フェニル−n−ブチルボレートが例示できる。
Examples of the alkylaryl boron salt include tetrabutylammonium triphenylbutyl borate and triphenyl-n-butyl borate.

【0095】オニウム塩類としてジフェニルヨードニウ
ム塩が例示できる。
Examples of the onium salts include diphenyliodonium salts.

【0096】鉄アレーン錯体としてη −シクロペン
タジエニル−η −クメニル−アイアン(1+)−ヘ
キサフルオロフォスフェイト(1−)が例示できる。
Examples of the iron arene complex include η 5 -cyclopentadienyl-η 6 -cumenyl-iron (1 +)-hexafluorophosphate (1-).

【0097】トリハロゲノメチル置換トリアジン化合物
としてトリス(トリクロロメチル)トリアジンが例示で
きる。
The trihalogenomethyl-substituted triazine compound is exemplified by tris (trichloromethyl) triazine.

【0098】有機過酸化物として3,3′,4,4′−
テトラ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフ
ェノンが例示できる。
As an organic peroxide, 3,3 ', 4,4'-
Tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone can be exemplified.

【0099】ビスイミダゾール誘導体として2,2’−
ビス(o−クロロフェニル)-4,4’,5,5’−テト
ラフェニル−1,1’−ビイミダゾール、ビス(2,
4,5−トリフェニル)イミダゾリルが例示できる。
As a bisimidazole derivative, 2,2′-
Bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,1′-biimidazole, bis (2
4,5-triphenyl) imidazolyl can be exemplified.

【0100】チタノセン化合物としてビス(η
2,4−シクロペンタジエン−1−イル)-ビス(2,
6−ジフルオロ−3−(1H−ピロール−1−イル)-
フェニル)チタニウムが例示できる。
As the titanocene compound, bis (η 5-
2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,4-
6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl)-
(Phenyl) titanium.

【0101】これらは単独で用いても2以上の組み合わ
せで用いてもよい。
These may be used alone or in combination of two or more.

【0102】光増感色素としては、ミヒラケトン、アク
リジンイエロー、メロシアニン、メチレンブルー、カン
ファーキノン、エオシン、脱カルボキシル化ローズベン
ガル等が好適に使用される。光増感色素は、可視領域の
光に吸収を示すものであればよく、上記以外に、例え
ば、シアニン誘導体、メロシアニン誘導体、フタロシア
ニン誘導体、キサンテン誘導体、チオキサンテン誘導
体、アクリジン誘導体、ポルフィリン誘導体、クマリン
誘導体、ベーススチリル誘導体、ケトクマリン誘導体、
キノロン誘導体、スチルベン誘導体、オキサジン誘導
体、チアジン系色素等も使用可能であり、更には「色素
ハンドブック」(大河原信他編、講談社、1986
年)、「機能性色素の化学」(大河原信他編、シーエム
シー、1983年)、「特殊機能材料」(池森忠三郎他
編、シーエムシー、1986年)に記載される光増感色
素も用いることができる。これらは単独で用いても2以
上の組み合わせで用いてもよい。
As the photosensitizing dye, Michella ketone, acridine yellow, merocyanine, methylene blue, camphorquinone, eosin, decarboxylated rose bengal and the like are preferably used. The photosensitizing dye may be any as long as it absorbs light in the visible region.In addition to the above, for example, a cyanine derivative, a merocyanine derivative, a phthalocyanine derivative, a xanthene derivative, a thioxanthene derivative, an acridine derivative, a porphyrin derivative, a coumarin derivative , Base styryl derivatives, ketocoumarin derivatives,
A quinolone derivative, a stilbene derivative, an oxazine derivative, a thiazine dye, and the like can also be used. Further, “Dye Handbook” (edited by Shin Okawara et al., Kodansha, 1986)
Photosensitizing dyes described in "Functional Dye Chemistry" (Nobuo Ogawara et al., CMC, 1983) and "Specially Functional Materials" (Ikedori Chuzaburo et al., CMC, 1986) Can be used. These may be used alone or in combination of two or more.

【0103】クマリン誘導体として、3−(2−ベンゾ
チアゾリル)−7−(ジエチルアミノ)クマリン、3−
(2−ベンゾチアゾリル)−7−(ジブチルアミノ)ク
マリン、3−(2−ベンゾチアゾリル)−7−(ジオク
チルアミノ)クマリン、3−(2−ベンジミダゾリル)
−7−(ジエチルアミノ)クマリン等が例示できる。
As coumarin derivatives, 3- (2-benzothiazolyl) -7- (diethylamino) coumarin,
(2-benzothiazolyl) -7- (dibutylamino) coumarin, 3- (2-benzothiazolyl) -7- (dioctylamino) coumarin, 3- (2-benzimidazolyl)
And -7- (diethylamino) coumarin and the like.

【0104】ケトクマリン誘導体として、3,3´−カ
ルボニルビス(7−ジエチルアミノクマリン)、3,3
´−カルボニルビス−7−ジエチルアミノクマリン−7
´−ビス(ブトキシエチル)アミノクマリン、3,3´
−カルボニルビス(7−ジブチルアミノクマリン)等が
例示できる。
As ketocoumarin derivatives, 3,3'-carbonylbis (7-diethylaminocoumarin), 3,3
'-Carbonylbis-7-diethylaminocoumarin-7
'-Bis (butoxyethyl) aminocoumarin, 3,3'
-Carbonylbis (7-dibutylaminocoumarin) and the like.

【0105】ベーススチリル誘導体として、2−[p−
(ジメチルアミノ)スチリル] ベンゾチアゾール、2−
[p−(ジメチルアミノ)スチリル] ナフト[ 1,2−
d]チアゾール、2−[(m−ヒドロキシ−p−メトキ
シ)スチリル] ベンゾチアゾール等が例示できる。
As the base styryl derivative, 2- [p-
(Dimethylamino) styryl] benzothiazole, 2-
[p- (Dimethylamino) styryl] naphtho [1,2-
d] thiazole, 2-[(m-hydroxy-p-methoxy) styryl] benzothiazole and the like.

【0106】メロシアニン誘導体としては、3−エチル
−5−[(3−エチル−2(3H)−ベンゾチアゾリリ
デン)エチリデン]−2−チオキソ−4−オキサゾリジ
ノン、5−[(1,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメ
チル−2H−インドール−2−イリデン)エチリデン]
−3−エチル−2−チオキソ−4−オキサゾリジノン等
が例示できる。
The merocyanine derivatives include 3-ethyl-5-[(3-ethyl-2 (3H) -benzothiazolylidene) ethylidene] -2-thioxo-4-oxazolidinone, 5-[(1,3-dihydro -1,3,3-trimethyl-2H-indole-2-ylidene) ethylidene]
Examples thereof include -3-ethyl-2-thioxo-4-oxazolidinone.

【0107】有機過酸化物−光増感色素の組み合わせの
具体例としては、3,3´,4,4´−テトラ(ter
t−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノンと、
日本感光色素研究所社製の光増感色素であるNKX65
3、NKX3883、NKX1880、NKX159
5、NKX1695、NK4256、NK1886、N
K1473、NK1474、NK4795、NK427
6、NK4278、NK91、NK1046、NK12
37、NK1420、NK1538、NK3590など
のと組み合わせが好ましい。
Specific examples of the combination of an organic peroxide and a photosensitizing dye include 3,3 ′, 4,4′-tetra (ter
t-butylperoxycarbonyl) benzophenone;
NKX65, a photosensitizing dye manufactured by Japan Photographic Dye Laboratories
3, NKX3883, NKX1880, NKX159
5, NKX1695, NK4256, NK1886, N
K1473, NK1474, NK4795, NK427
6, NK4278, NK91, NK1046, NK12
37, NK1420, NK1538, NK3590 and the like are preferable.

【0108】カルボニル化合物−光増感色素の組み合わ
せの具体例としては、ベンジル−ミヒラケトン、ベンジ
ル−アクリジンイエロー等が挙げられる。また、アミン
化合物と組み合わせる光増感色素としては、脱カルボキ
シル化ローズベンガルが好ましい。ボレート化合物と組
み合わせる光増感色素としては、シアニン類、イソシア
ニン類、プソイドシアニン類等のシアニン系色素が好ま
しい。
Specific examples of the combination of the carbonyl compound and the photosensitizing dye include benzyl-Michler's ketone, benzyl-acridine yellow and the like. As the photosensitizing dye to be combined with the amine compound, decarboxylated rose bengal is preferable. As the photosensitizing dye to be combined with the borate compound, a cyanine dye such as a cyanine, an isocyanine, and a pseudocyanine is preferable.

【0109】本発明組成物における光重合開始剤(D) の
添加量は、カルボニル化合物を使用する場合は、アリル
系プレポリマー(A) とラジカル重合性化合物(B) および
粘度低下剤(C) の合計100重量部に対して、通常0.
1〜15重量%、好ましくは0.3〜10重量%程度で
ある。
In the composition of the present invention, the photopolymerization initiator (D) is added in the case of using a carbonyl compound, when the allylic prepolymer (A), the radical polymerizable compound (B) and the viscosity reducing agent (C) are used. To 100 parts by weight in total,
It is about 1 to 15% by weight, preferably about 0.3 to 10% by weight.

【0110】本発明によるホログラム記録材料組成物
は、必要に応じて、粘度調整剤、熱重合禁止剤、連鎖移
動剤などの添加剤や、溶剤などを含むことができる。
The hologram recording material composition according to the present invention may contain additives such as a viscosity modifier, a thermal polymerization inhibitor, a chain transfer agent, etc., and a solvent, if necessary.

【0111】粘度調整剤としては無機微粒子、例えばシ
リカゲルの微粒子としてダイソー社製の「ダイソーゲル
SPシリーズ」、富士シリシア化学社製の「サイリシ
ア」や「フジシリカゲル」、シオノギ製薬社製の「カー
プレックス」、日本アエロジル社製の「アエロジル」、
トクヤマ社製の「レオロシール」、「トクシール」、
「ファインシール」などが使用できる。または有機微粒
子、例えば特開平10−72510、特開平10−31
0684各公報に記載の方法で作製され得るジアリルフ
タレート系ポリマー、若しくは「新材料シリーズ『超微
粒子ポリマーの最先端技術』」(シーエムシー、室井宗
一監修、1991年)に記載のある花王社製「PB,2
00シリーズ」、鐘紡社製「ベルパールシリーズ」、積
水化成品社製「テクポリマーシリーズ」、積水ファイン
ケミカル社製「ミクロパールシリーズ」、綜研化学社製
「MRシリーズ」「MPシリーズ」などが使用できる。
これら微粒子の粒径はホログラムの膜厚よりも小さけれ
ばよく、通常は0.1〜20μmの範囲が好ましい。
As the viscosity modifier, inorganic fine particles such as silica gel fine particles such as "DAISOGOL SP series" manufactured by Daiso Co., Ltd., "Silycia" and "Fuji Silica Gel" manufactured by Fuji Silysia Chemical Ltd., and "Carplex" manufactured by Shionogi Pharmaceutical Co., Ltd. "," Aerosil "manufactured by Japan Aerosil Co., Ltd.
Tokuyama's "Leo Seal", "Toku Seal",
"Fine seal" can be used. Or organic fine particles, for example, JP-A-10-72510, JP-A-10-31
0684, a diallyl phthalate-based polymer that can be produced by the method described in each of the gazettes, or a product of Kao Corporation described in “New Material Series“ Advanced Technology of Ultrafine Particle Polymer ”” (CMC, supervised by Soichi Muroi, 1991) "PB, 2
00 Series, Kanebo's Bell Pearl Series, Sekisui Plastics' Techpolymer Series, Sekisui Fine Chemical's Micropearl Series, Soken Chemical's MR Series, MP Series, etc. .
The particle size of these fine particles may be smaller than the film thickness of the hologram, and is usually preferably in the range of 0.1 to 20 μm.

【0112】粘度調整剤の添加量は、アリル系プレポリ
マー(A) とラジカル重合性化合物(B) および粘度低下剤
(C) の合計100重量部に対して好ましくは0.5〜3
0重量部程度である。
The amount of the viscosity modifier added depends on the amount of the allylic prepolymer (A), the radical polymerizable compound (B) and the viscosity reducing agent.
(C) preferably 0.5 to 3 parts by weight based on 100 parts by weight in total.
It is about 0 parts by weight.

【0113】溶剤は、粘度調整、相溶性調節の外、製膜
性などを向上させるために有効であり、例えば、アセト
ン、キシレン、トルエン、メチルエチルケトン、テトラ
ヒドロフラン、ベンゼン、塩化メチレン、ジクロロメタ
ン、クロロホルム、メタノール、などがよく用いられ
る。溶剤の使用量は、アリル系プレポリマー(A) とラジ
カル重合性化合物(B) および粘度低下剤(C) の合計10
0重量部に対して0.5〜1000重量部程度である。
The solvent is effective not only for adjusting the viscosity and the compatibility but also for improving the film forming property. Examples thereof include acetone, xylene, toluene, methyl ethyl ketone, tetrahydrofuran, benzene, methylene chloride, dichloromethane, chloroform, methanol , Etc. are often used. The amount of the solvent used is 10 in total of the allyl prepolymer (A), the radical polymerizable compound (B) and the viscosity reducing agent (C).
It is about 0.5 to 1000 parts by weight relative to 0 parts by weight.

【0114】熱重合禁止剤の例としては、生成したラジ
カルを消去する働きのある、例えば、ハイドロキノン、
p−メトキシフェノール、3級ブチルカテコール、ナフ
チルアミン、ジフェニルピクリルヒドラジン、ジフェニ
ルアミンなどが挙げられる。
Examples of the thermal polymerization inhibitor include, for example, hydroquinone,
Examples include p-methoxyphenol, tertiary butylcatechol, naphthylamine, diphenylpicrylhydrazine, diphenylamine and the like.

【0115】連鎖移動剤の例としは、α−メチルスチレ
ンダイマー、2−メルカプトベンズオキサゾール、2−
メルカプトベンゾチアゾール、tert−ブチルアルコー
ル、n−ブタノール、イソブタノール、イソプロピルベ
ンゼン、エチルベンゼン、クロロホルム、メチルエチル
ケトン、プロピレン、塩化ビニルなどが挙げられる。
Examples of the chain transfer agent include α-methylstyrene dimer, 2-mercaptobenzoxazole,
Examples include mercaptobenzothiazole, tert-butyl alcohol, n-butanol, isobutanol, isopropylbenzene, ethylbenzene, chloroform, methyl ethyl ketone, propylene, and vinyl chloride.

【0116】ホログラム記録材料組成物を調製するに
は、例えばアリル系プレポリマー(A)、ラジカル重合性
化合物(B) 、粘度低下剤(C) および光重合開始剤(D) あ
るいは上記任意添加成分を、ガラスビーカーなどの耐有
機溶剤性容器に入れて、全体を撹拌する。この場合、固
体成分の溶解を促進するために、組成物の変性が生じな
い範囲で、これを例えば40〜90℃程度に加熱しても
よい。
To prepare the hologram recording material composition, for example, an allylic prepolymer (A), a radical polymerizable compound (B), a viscosity reducing agent (C) and a photopolymerization initiator (D) or any of the above optional components Is placed in an organic solvent-resistant container such as a glass beaker, and the whole is stirred. In this case, in order to promote the dissolution of the solid component, the composition may be heated to, for example, about 40 to 90 ° C. as long as the composition is not denatured.

【0117】本発明によるホログラム記録材料組成物を
用いてホログラム記録媒体を作製するには、同記録材料
組成物を基板の片面に塗布し、生じた塗膜すなわち記録
層と基板とからなる2層構造の記録媒体を得る。また、
必要に応じて、基板上の記録層の上にフィルム状、シー
ト状ないしは板状の保護材を被せて3層構造体を得る。
組成物の調製工程で溶媒を用いることが好ましい。この
場合、アリル系プレポリマー(A) 、ラジカル重合性化合
物(B) 、粘度低下剤(C) および光重合開始剤(D) を溶剤
に溶解もしくは懸濁させ、得られた溶液もしくは懸濁液
を基板上に塗布し、その後、溶剤を揮散させ記録層を形
成する。記録層に保護材を被せる場合は、保護材被覆の
前に溶媒を風乾や減圧蒸発などによって除去しておくの
がよい。基板は光学的に透明な材料、例えばガラス板や
ポリエチレンテレフタレート板、ポリカーボネート板、
ポリメチルメタクリレート板のようなプラスチック板な
どからなる。基板の厚みは好ましくは0.5〜10mm
である。基板は平面である必要はなく屈曲や湾曲あるい
は表面に凹凸構造のあるものでもよい。保護材も基板と
同じく光学的に透明な材料からなる。保護材の厚みは好
ましくは0.01〜10mmである。塗布方法はグラビ
ア塗布、ロールコーティング塗布、バーコート塗布、ス
ピンコート塗布などである。溶媒除去後の記録層の厚み
は、好ましくは1〜100μmになるように塗布するこ
とが好ましい。
In order to prepare a hologram recording medium using the hologram recording material composition according to the present invention, the recording material composition is applied to one surface of a substrate, and the resulting coating film, that is, a two-layered film composed of a recording layer and a substrate is formed. Obtain a recording medium with a structure. Also,
If necessary, a three-layer structure is obtained by covering the recording layer on the substrate with a film-like, sheet-like or plate-like protective material.
It is preferable to use a solvent in the step of preparing the composition. In this case, the allylic prepolymer (A), the radical polymerizable compound (B), the viscosity reducing agent (C) and the photopolymerization initiator (D) are dissolved or suspended in a solvent, and the resulting solution or suspension is obtained. Is applied onto a substrate, and then the solvent is volatilized to form a recording layer. When covering the recording layer with a protective material, it is preferable to remove the solvent by air drying or evaporation under reduced pressure before coating the protective material. The substrate is an optically transparent material, for example, a glass plate, a polyethylene terephthalate plate, a polycarbonate plate,
It is made of a plastic plate such as a polymethyl methacrylate plate. The thickness of the substrate is preferably 0.5 to 10 mm
It is. The substrate does not need to be flat, but may be bent or curved, or have an uneven structure on the surface. The protective material is also made of an optically transparent material like the substrate. The thickness of the protective material is preferably 0.01 to 10 mm. The application method includes gravure application, roll coating application, bar coating application, spin coating application and the like. It is preferable to apply the recording layer so that the thickness of the recording layer after removing the solvent is preferably 1 to 100 μm.

【0118】ホログラム記録媒体にホログラムを記録す
るには、通常の記録方法が採用できる。すなわち、レー
ザー光をビームスプリッターなどで2つに分光し、一方
を写そうとする物体に照射する。もう一方をそのまま反
射鏡により反射させる。この反射鏡から反射して来た参
照光と物体から反射して来た物体光との干渉でできた縞
模様を捉えることのできる位置に記録媒体を設置する。
この状態で、通常、数秒から数分間レーザー光照射を行
うと、ホログラムとなる干渉縞が記録媒体上に記録され
る。用いるレーザー光の光量は、光強度と照射時間との
積で表して、好ましくは1〜10,000mJ/cm
程度である。光量がこの範囲よりも少ないと記録が困
難であり、またこの範囲を超えるとホログラムの回折効
率が低下する傾向にあるので、いずれの場合も好ましく
ない。
For recording a hologram on a hologram recording medium, a usual recording method can be adopted. That is, the laser light is split into two parts by a beam splitter or the like, and one is irradiated to an object to be photographed. The other is reflected by the reflecting mirror as it is. The recording medium is set at a position where a stripe pattern formed by interference between the reference light reflected from the reflecting mirror and the object light reflected from the object can be captured.
In this state, when laser light irradiation is performed for several seconds to several minutes, interference fringes serving as holograms are recorded on the recording medium. The amount of the laser light used is represented by the product of the light intensity and the irradiation time, and is preferably 1 to 10,000 mJ / cm 2.
It is about. If the amount of light is less than this range, recording is difficult, and if it exceeds this range, the diffraction efficiency of the hologram tends to decrease.

【0119】ホログラム形成後においては、現像、定着
などの後処理は必須ではないが、形成された像のさらな
る安定化を図るために全面光照射や加熱処理を行って、
残存している未反応モノマーおよびアリル基を後重合さ
せてもよい。
After the hologram is formed, post-processing such as development and fixing is not indispensable.
The remaining unreacted monomer and allyl group may be post-polymerized.

【0120】本発明による記録材料組成物を用いて得ら
れた記録媒体にホログラムを作製した後も、アリル系プ
レポリマー(A) は記録媒体中にそのまま残存する。そこ
でこれを機能的に利用することが考えられる。例えば、
基板を不飽和ポリエステル樹脂で構成し、同プレポリマ
ー(A) の残存アリル基を基板樹脂の不飽和基と化学的に
結合させることによって、本発明による記録材料組成物
を基板に強固に固着させることができる。さらに未反応
のアリル基を後硬化させることで、耐熱性を向上させる
こともできる。このように、アリル系プレポリマー(A)
の残存アリル基の機能を利用することによって、ホログ
ラムの材料特性に多様なバリエーションを与えることが
でき、様々な用途に対応できる物性を有するホログラム
が得られる。
The allylic prepolymer (A) remains in the recording medium even after producing a hologram on the recording medium obtained by using the recording material composition according to the present invention. Therefore, it is conceivable to use this functionally. For example,
The recording material composition according to the present invention is firmly fixed to the substrate by forming the substrate from an unsaturated polyester resin and chemically bonding the remaining allyl groups of the prepolymer (A) to the unsaturated groups of the substrate resin. be able to. Further, by post-curing unreacted allyl groups, heat resistance can be improved. Thus, the allylic prepolymer (A)
By utilizing the function of the remaining allyl group of the hologram, various variations can be given to the material characteristics of the hologram, and a hologram having physical properties that can be used in various applications can be obtained.

【0121】[0121]

【作用】本発明の記録材料組成物は、露光前はアリル系
プレポリマー(A) 、ラジカル重合性化合物(B) 、粘度低
下剤(C) および光重合開始剤(D) が相溶しているが、レ
ーザー光照射とともにラジカル重合性化合物(B) が優先
的に光重合して高分子化し、ついにはホログラム記録層
となる。
The recording material composition of the present invention has a composition in which the allyl prepolymer (A), the radical polymerizable compound (B), the viscosity reducing agent (C) and the photopolymerization initiator (D) are compatible before exposure. However, the radical polymerizable compound (B) is preferentially photopolymerized to polymerize with the irradiation of the laser beam, and finally becomes a hologram recording layer.

【0122】すなわち、本発明による記録材料組成物を
基板上に塗布してなる2層構造体、あるいはこの記録層
の上に保護材を被せてなる3層構造体に干渉パターンを
露光すると、まず、光量の多い部分で光重合反応性に富
むラジカル重合性化合物(B)が光重合を開始し、その部
分が体積収縮を来たす。これによって生じた凹みへ光量
の少ない部分から未重合物が流れ込むと共に、アリル系
プレポリマー(A) はラジカル重合性化合物(B) から相分
離し、光量の少ない部分へ排除される。
That is, when an interference pattern is exposed to a two-layer structure obtained by coating the recording material composition according to the present invention on a substrate or a three-layer structure obtained by covering a protective material on this recording layer, The radical polymerizable compound (B), which has high photopolymerization reactivity in a portion having a large amount of light, starts photopolymerization, and the portion undergoes volume shrinkage. The unpolymerized material flows from the portion having a small amount of light into the recess formed by this, and the allyl-based prepolymer (A) is phase-separated from the radically polymerizable compound (B) and is eliminated to the portion having a small amount of light.

【0123】光量の多い部分へと拡散移動したラジカル
重合性化合物(B) は、その光重合がさらに進む。一方、
光量の少ない部分では、アリル系プレポリマー(A) が少
し遅れて単独あるいはラジカル重合性化合物(B) の重合
体との間で光重合が進行する。これらの結果、光量の多
い部分には屈折率の高い、ラジカル重合性化合物(B)の
重合物が集積し、逆に光量の少ない部分には屈折率の低
いアリル系プレポリマー(A) が集積し、かつ、両者が互
いにラジカル共重合より結合した構造を形成する。
The photopolymerization of the radical polymerizable compound (B) which has diffused and moved to a portion having a large amount of light proceeds further. on the other hand,
In the portion where the amount of light is small, the photopolymerization proceeds with the allyl-based prepolymer (A) alone or with the polymer of the radical polymerizable compound (B) with a slight delay. As a result, the polymer of the radical polymerizable compound (B), which has a high refractive index, accumulates in the portion with a large amount of light, and the allylic prepolymer (A), which has a low refractive index, accumulates in the portion with a small amount of light. And a structure in which both are bonded to each other by radical copolymerization is formed.

【0124】ここで、粘度低下剤(C) は系の粘度および
相溶性を調整するための成分であり、アリル系プレポリ
マー(A) とラジカル重合性化合物(B) の分離を促進させ
るための成分として機能する。これは露光初期では系中
に均一に存在するが、最終的には光量の少ない部分、即
ちアリル系プレポリマー(A) 側へと排除される。こうし
て、光量に応じた組成分布、すなわちアリル系プレポリ
マー(A) および粘度低下剤(C) が多い部分とラジカル重
合性化合物(B) が多い部分との屈折率の差に基づいた干
渉パターンがホログラムとして形成される。
The viscosity reducing agent (C) is a component for adjusting the viscosity and compatibility of the system, and is a component for promoting the separation of the allylic prepolymer (A) and the radical polymerizable compound (B). Functions as an ingredient. This is uniformly present in the system at the early stage of exposure, but is eventually removed to a portion where the amount of light is small, that is, to the allylic prepolymer (A) side. Thus, the interference distribution based on the composition distribution according to the light amount, that is, the interference pattern based on the difference in the refractive index between the portion having a large amount of the allyl-based prepolymer (A) and the viscosity reducing agent (C) and the portion having a large amount of the radical polymerizable compound (B) is obtained. Formed as a hologram.

【0125】[0125]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を幾つか挙
げ、本発明を具体的に説明する。ただし、これら実施例
は本発明を限定するものではない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to several embodiments of the present invention. However, these examples do not limit the present invention.

【0126】[0126]

【実施例1】1)アリル系プレポリマー(A) としてジア
リルオルソフタレートプレポリマー(ダイソー社製、
「ダイソーダップ、DAPA」)5g、ラジカル重合性化
合物(B1)として9,9-ビス(4-ヒドロキシフェニル)フ
ルオレンのグリシジルエーテルのアクリル酸付加物(新
日鐵化学社製、「ASF400」)1g、光重合開始剤
として3,3',4,4′−テトラ(tert- ブチルパーオキ
シカルボニル)ベンゾフェノン(日本油脂社製、「BT
TB−25」)3.5g、増感色素としてメロシアニン
系色素(日本感光色素社製、「NK4795」)0.01
g、粘度低下剤(C1)としてジエチルセバケート(和光純
薬社製、「SDE」)4gおよび溶媒としてアセトン6
gを常温で混合し、記録材料組成物を調製した。
Example 1 1) As an allyl prepolymer (A), diallyl orthophthalate prepolymer (manufactured by Daiso Co., Ltd.)
5 g of “Daiso Dap, DAPA”) and 1 g of acrylic acid adduct of glycidyl ether of 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene as a radical polymerizable compound (B1) (“ASF400” manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) And 3,3 ′, 4,4′-tetra (tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone (manufactured by NOF CORPORATION, “BT
TB-25 ") 3.5 g, a merocyanine dye as a sensitizing dye (manufactured by Nippon Kogaku Dyestuffs Co., Ltd.," NK4795 ") 0.01
g, 4 g of diethyl sebacate ("SDE", manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) as a viscosity reducing agent (C1) and acetone 6 as a solvent.
g at room temperature to prepare a recording material composition.

【0127】2)この組成物を60mm×60mmのガ
ラス基板の片面に乾燥後の厚みが20μmになるように
塗布し、減圧下で塗布層から溶媒を除去し、基板と記録
層からなる2層構造の記録媒体を作成した。
2) This composition was applied to one side of a 60 mm × 60 mm glass substrate so that the thickness after drying became 20 μm, the solvent was removed from the coated layer under reduced pressure, and the two layers consisting of the substrate and the recording layer were formed. A recording medium with a structure was created.

【0128】3)この記録媒体の記録層に上記と同一の
ガラスを被せて3層構造のホログラム記録用感光板を作
成した。
3) A hologram recording photosensitive plate having a three-layer structure was formed by covering the recording layer of this recording medium with the same glass as described above.

【0129】4)次に488nmのArイオンレーザー
をビームスプリッターで分光し、それぞれを反射鏡によ
り角度を変えて、両者を再び合成して干渉させ干渉縞を
得た。この干渉縞を捉えることができる位置に上記感光
板を設置した。
4) Next, the 488 nm Ar ion laser was split by a beam splitter, the angles of which were changed by a reflecting mirror, and the two were combined again to cause interference to obtain interference fringes. The photosensitive plate was set at a position where the interference fringes could be captured.

【0130】5)透過型ホログラムおよび反射型ホログ
ラムの例をそれぞれ図1および図2に示す。図中、(1)
は感光板、(2)はレーザー光である。
5) Examples of the transmission hologram and the reflection hologram are shown in FIGS. 1 and 2, respectively. In the figure, (1)
Denotes a photosensitive plate, and (2) denotes a laser beam.

【0131】6)この状態で感光板を露光しホログラム
となる干渉縞を感光板上に記録した。
6) The photosensitive plate was exposed in this state, and interference fringes serving as holograms were recorded on the photosensitive plate.

【0132】この透過型ホログラムおよび反射型ホログ
ラムの露光は、感光板上での1つの光強度を1.0mW
/cm として、10秒間から100秒間、露光量1
mJ/cm から100mJ/cm で行った。
The exposure of the transmission hologram and the reflection hologram is performed by changing one light intensity on the photosensitive plate to 1.0 mW.
/ Cm 2 , exposure amount 1 for 10 seconds to 100 seconds
The measurement was performed at mJ / cm 2 to 100 mJ / cm 2 .

【0133】実施例2〜5 アリル系プレポリマー(A) とラジカル重合性化合物(B1)
と粘度低下剤(C1)を表1に示す量で用いた以外、実施例
1と同様にして、3層構造のホログラム記録用感光板を
作成し、これを用いてホログラム記録を行った。
Examples 2 to 5 Allyl-based prepolymer (A) and radically polymerizable compound (B1)
A hologram recording photosensitive plate having a three-layer structure was prepared in the same manner as in Example 1, except that the amount of the viscosity reducing agent (C1) shown in Table 1 was used, and hologram recording was performed using this.

【0134】実施例6〜7 アリル系プレポリマー(A) としてジアリルイソフタレー
トプレポリマー(ダイソー社製、「ダイソーイソダップ、
DAIP」)、トリアリルイソシアヌレートプレポリマ
ー(日本化成社製、「タイクプレポリマー、TAIC」)
を、ラジカル重合性化合物(B1)としてビスフェノキシエ
タノールフルオレンジアクリレート(大阪ガス社製、「B
PEFA」)、粘度低下剤(C1)としてSDEを、それぞ
れ表1に示す量で用いた以外、実施例1と同様にして、
3層構造のホログラム記録用感光板を作成し、これを用
いてホログラム記録を行った。
Examples 6 to 7 As an allyl-based prepolymer (A), diallyl isophthalate prepolymer (manufactured by Daiso Co., Ltd., “Daiso Isodap,
DAIP "), triallyl isocyanurate prepolymer (Nippon Kasei Co., Ltd.," Tyke prepolymer, TAIC ")
As a radical polymerizable compound (B1), bisphenoxyethanol full orange acrylate (manufactured by Osaka Gas Co., Ltd., "B
PEFA ”) and SDE as the viscosity reducing agent (C1) in the same manner as in Example 1 except that the amounts shown in Table 1 were used.
A hologram recording photosensitive plate having a three-layer structure was prepared, and hologram recording was performed using this.

【0135】実施例8〜9 ラジカル重合性化合物(B1)としてASF400、ラジ
カル重合性化合物(B2)としてジビニルビフェニル(新
日鐵化学社製、DBVP)を、それぞれ表1に示す量で
用いた以外、実施例1と同様にして、3層構造のホログ
ラム記録用感光板を作成し、これを用いてホログラム記
録を行った。
Examples 8 to 9 Except that ASF400 was used as the radical polymerizable compound (B1) and divinyl biphenyl (DBVP manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd.) was used as the radical polymerizable compound (B2) in the amounts shown in Table 1, respectively. In the same manner as in Example 1, a hologram recording photosensitive plate having a three-layer structure was formed, and hologram recording was performed using this.

【0136】実施例10〜17 ラジカル重合性化合物(B1)として、ASF400、ビ
ス(4−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド(住友
精化社製、「MPSMA」)、トリブロモフェノールアク
リレート(第一工業製薬社製、「BR−30」)、トリブロ
モフェノールメタクリレート(第一工業製薬社製、「SR
−804」)、N−ビニルカルバゾール(東京化成社製、
NVC)を、ラジカル重合性化合物(B2)としてDBV
Pを、非反応性粘度低下剤(C1)としてSDEを 、そ
れぞれ表1に示す量で用いた以外、実施例1と同様にし
て、3層構造のホログラム記録用感光板を作成し、これ
を用いてホログラム記録を行った。
Examples 10 to 17 As radical polymerizable compounds (B1), ASF400, bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide ("MPSMA", manufactured by Sumitomo Seika Co., Ltd.), and tribromophenol acrylate (Daiichi Kogyo Seiyaku) Manufactured by "BR-30"), tribromophenol methacrylate (manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd., "SR
-804 "), N-vinylcarbazole (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.,
NVC) as DBV as a radical polymerizable compound (B2).
A hologram recording photosensitive plate having a three-layer structure was prepared in the same manner as in Example 1 except that P was used as the non-reactive viscosity reducing agent (C1) in the amounts shown in Table 1, respectively. Was used to perform hologram recording.

【0137】実施例18〜27 ラジカル重合性化合物(B1)としてASF400を、非
反応性粘度低下剤(C1)としてSDEの代わりにアジ
ピン酸ジエチル(関東化学工業社製、ADE)、アジピン
酸ジブチル(和光純薬工業社製、ADB)、セバシン酸ジ
ブチル(和光純薬工業社製、SDB)、フタル酸ジメチル
(和光純薬工業社製、PDM)、フタル酸ジブチル(関東
化学社製、PDB)、フタル酸ジオクチル(和光純薬工業
社製、PDO)を、(メタ)アリル系粘度低下剤(C2)と
してジアリルオルソフタレートモノマー(ダイソー社
製、DAPM)、ジアリルイソフタレートモノマー(ダイ
ソー社製、DAIM)、ジアリルテレフタレートモノマ
ー(ダイソー社製、DATM)、アジピン酸ジアリル(東
京化成工業社製、ADA)を、それぞれ表2に示す量で
用いた以外、実施例1と同様にして、3層構造のホログ
ラム記録用感光板を作成し、これを用いてホログラム記
録を行った。
Examples 18 to 27 ASF400 was used as the radical polymerizable compound (B1), and diethyl adipate (ADE, manufactured by Kanto Chemical Industry Co., Ltd.) and dibutyl adipate were used as the non-reactive viscosity reducing agent (C1) instead of SDE. ADB), dibutyl sebacate (SDB, manufactured by Wako Pure Chemical Industries), dimethyl phthalate
(Manufactured by Wako Pure Chemical Industries, PDM), dibutyl phthalate (manufactured by Kanto Chemical Co., PDB), dioctyl phthalate (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, PDO) as (meth) allyl-based viscosity reducing agent (C2) The diallyl orthophthalate monomer (DASO, DAPM), the diallyl isophthalate monomer (DAIM, DAIM), the diallyl terephthalate monomer (DATM, DATM), the diallyl adipate (Tokyo Kasei Kogyo, ADA) A hologram recording photosensitive plate having a three-layer structure was prepared in the same manner as in Example 1 except that the amounts shown in Table 2 were used, and hologram recording was performed using this.

【0138】比較例1〜8 ラジカル重合性化合物として下記のものを表3に示す量
で用い、粘度低下剤を使用しなかった以外、実施例1と
ほぼ同様にして、3層構造のホログラム記録用感光板を
作成し、これを用いてホログラム記録を行った。これら
のラジカル重合性化合物はアリル系プレポリマー(A) よ
りも屈折率が低いものである。
Comparative Examples 1 to 8 Holographic recording of a three-layer structure was performed in substantially the same manner as in Example 1 except that the following compounds were used as radical polymerizable compounds in the amounts shown in Table 3 and no viscosity reducing agent was used. A photosensitive plate was prepared, and hologram recording was performed using the photosensitive plate. These radical polymerizable compounds have a lower refractive index than the allyl-based prepolymer (A).

【0139】比較例1:エチレングリコールジメタクリ
レート(新中村化学社製、「NKエステル1G」) 比較例2:トリエチレングリコールジメタクリレート
(新中村化学社製、「NKエステル3G」) 比較例3:ネオペンチルグリコールジアクリレート(新
中村化学社製、「NKエステルA−NPG」) 比較例4:テトラエチレングリコールジアクリレート
(新中村化学社製、「NKエステルA−200」) 比較例5:ノナエチレングリコールジアクリレート(新
中村化学社製、「NKエステルA−400」) 比較例6:トリメチロールプロパントリメタクリレート
(新中村化学社製、「NKエステルTMPT」) 比較例7:テトラメチロールメタンテトラアクリレート
(新中村化学社製、「NKエステルA−TMMT」) 比較例8:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
(新中村化学社製、「NKエステルADP−6」) 比較例9〜13 ラジカル重合性化合物として、ASF400、MPSM
A、BP−30、SR−804、NVC、DBVPを表
4に示す量で用い、粘度低下剤を使用しなかった以外、
実施例1とほぼ同様にして、3層構造のホログラム記録
用感光板を作成し、これを用いてホログラム記録を行っ
た。これらのラジカル重合性化合物は、いずれも、アリ
ル系プレポリマー(A) よりも屈折率が高いものである。
Comparative Example 1: Ethylene glycol dimethacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., “NK Ester 1G”) Comparative Example 2: triethylene glycol dimethacrylate (manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., “NK Ester 3G”) Comparative Example 3: Neopentyl glycol diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., “NK Ester A-NPG”) Comparative Example 4: tetraethylene glycol diacrylate (manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., “NK Ester A-200”) Comparative Example 5: Nonaethylene Glycol diacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., “NK Ester A-400”) Comparative Example 6: Trimethylolpropane trimethacrylate (manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., “NK Ester TMPT”) Comparative Example 7: tetramethylol methane tetraacrylate ( "NK ester A-TMMT" manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) Comparative Example 8 : Dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., “NK Ester ADP-6”) Comparative Examples 9 to 13 As radical polymerizable compounds, ASF400, MPSM
A, BP-30, SR-804, NVC, DBVP were used in the amounts shown in Table 4, and no viscosity reducing agent was used.
In substantially the same manner as in Example 1, a hologram recording photosensitive plate having a three-layer structure was prepared, and hologram recording was performed using this. Each of these radical polymerizable compounds has a higher refractive index than the allyl-based prepolymer (A).

【0140】性能評価 上記実施例および比較例で得られた透過型ホログラムの
回折効率を、光パワーメター(PHOTODYNE 社製、OPTICA
L POWER/ENERGYMETER,MODEL 66XLA )により入射光と回
折光の値の比をとり、次式により算出した。
Performance Evaluation The diffraction efficiency of the transmission holograms obtained in the above Examples and Comparative Examples was measured using an optical power meter (OPTICA, manufactured by PHOTODYNE).
L POWER / ENERGYMETER, MODEL 66XLA), the ratio of the value of the incident light to the value of the diffracted light was calculated, and calculated by the following equation.

【0141】 回折効率(%)=(回折光強度/入射光強度)×100 また、反射型ホログラムの回折効率を、紫外可視分光光
度計(日本分光社製、「V−550」)による透過率の
測定により求めた。
Diffraction efficiency (%) = (diffraction light intensity / incident light intensity) × 100 Further, the diffraction efficiency of the reflection hologram was measured by a transmittance using an ultraviolet-visible spectrophotometer (“V-550” manufactured by JASCO Corporation). Was determined.

【0142】得られた測定値の評価を表1から表4に示
す。
Tables 1 to 4 show the evaluation of the obtained measured values.

【0143】実施例で得られたホログラムは、いずれ
も、着色が無く、現像や定着の操作なしでも透過型ホロ
グラムおよび反射型ホログラムで回折効率が30%以上
の明るいものであった。また、このホログラムはガラス
を剥がしても3ヶ月以上という長期間、安定は像を保っ
た。この記録は、記録層の凹凸ではなく屈折率変調によ
って行われており、可視部にほとんど吸収のない透明な
ものであった。
Each of the holograms obtained in the examples was free of coloring, and was a transmission hologram and a reflection hologram having a diffraction efficiency of 30% or more without any development or fixing operation. Further, the hologram maintained its image stability for a long period of 3 months or more even when the glass was peeled off. This recording was performed not by the unevenness of the recording layer but by the refractive index modulation, and the recording was transparent with little absorption in the visible part.

【0144】これに対し、比較例で得られたホログラム
は、いずれも10%未満の回折効率しか示さなかった。
On the other hand, the holograms obtained in the comparative examples all showed a diffraction efficiency of less than 10%.

【0145】[0145]

【表1】 [Table 1]

【表2】 [Table 2]

【表3】 [Table 3]

【表4】 [Table 4]

【0146】[0146]

【発明の効果】本発明によれば、分子内にアリル基を少
なくとも1つ有するアリル系プレポリマー、常温で固体
であるラジカル重合性化合物および光重合開始剤からな
る組成において、粘度低下剤を添加し、ラジカル重合性
化合物として常温で固体であるものと必要に応じて液体
であるものを組み合わせ、ラジカル重性化合物の屈折率
の加重平均がアリル系プレポリマーと粘度低下剤の屈折
率の加重平均よりも大きくなるようにすることで、ホロ
グラムの要求特性である良好な透明性、分解能などの性
能を従来品と同様に発揮しつつ、透過型ホログラムおよ
び反射型ホログラムを高回折効率で記録できるホログラ
ム記録材料組成物を提供することができる。 また、本
発明によるホログラム記録材料組成物は、固体に近いた
めに、従来品のような流動性組成物の固化のための加熱
処理を必要としないので、ホログラム記録媒体の作製に
おける製膜操作を簡便化することができ、作業性がよ
い。
According to the present invention, a viscosity reducing agent is added to a composition comprising an allyl-based prepolymer having at least one allyl group in the molecule, a radical polymerizable compound which is solid at ordinary temperature, and a photopolymerization initiator. Then, a combination of a radical polymerizable compound that is solid at room temperature and a liquid that is liquid as necessary is used, and the weighted average of the refractive indices of the radical heavy compound is the weighted average of the refractive indices of the allyl-based prepolymer and the viscosity reducing agent. A hologram that can record transmission holograms and reflection holograms with high diffraction efficiency while exhibiting the required properties of holograms, such as good transparency and resolution, in the same way as conventional products. A recording material composition can be provided. Further, since the hologram recording material composition according to the present invention is close to a solid and does not require a heat treatment for solidifying a fluid composition as in a conventional product, a film forming operation in the production of a hologram recording medium can be performed. It can be simplified and workability is good.

【0147】さらに、ホログラム記録後の記録媒体は、
透明性が高く、ただ1回のみの露光によりアリル系プレ
ポリマー(A) とラジカル重合性化合物(B) の重合体とが
共に十分な高分子量体として存在しているため両者が再
拡散して記録が不鮮明になる欠点がない。また、長期の
耐熱性、耐侯光、耐溶剤性などに優れている。そのた
め、記録像の安定化のための現像や定着の操作は必須で
はなく、リアルタイムにホログラムを作製できる。
Furthermore, the recording medium after the hologram recording is:
Transparency is high, and the polymer of the allyl-based prepolymer (A) and the polymer of the radical polymerizable compound (B) are both present as a sufficient high molecular weight by only one exposure, so that they are re-diffused. There is no disadvantage that the record becomes unclear. Also, it has excellent long-term heat resistance, weather resistance, solvent resistance and the like. Therefore, development and fixing operations for stabilizing the recorded image are not essential, and a hologram can be produced in real time.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 透過型ホログラムの例を示す概略図である。FIG. 1 is a schematic view showing an example of a transmission hologram.

【図2】 反射型ホログラムの例を示す概略図である。FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an example of a reflection hologram.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1:感光板 2:レーザー光 1: photosensitive plate 2: laser beam

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08F 20/36 C08F 20/36 4J027 20/38 20/38 4J100 212/00 212/00 220/18 220/18 263/08 263/08 290/02 290/02 C08K 5/00 C08K 5/00 C08L 31/08 C08L 31/08 55/00 55/00 101/00 101/00 101/02 101/02 G03F 7/004 501 G03F 7/004 501 7/027 502 7/027 502 7/029 7/029 7/038 501 7/038 501 (71)出願人 000108993 ダイソー株式会社 大阪府大阪市西区江戸堀1丁目10番8号 (74)上記3名の代理人 100060874 弁理士 岸本 瑛之助 (外4名) (72)発明者 市橋 太一 大阪府豊能郡豊能町光風台3丁目3番16号 (72)発明者 谷川 英夫 大阪府池田市緑丘1丁目8番31号 工業技 術院大阪工業技術研究所内 (72)発明者 橋本 明 大阪府大阪市西区江戸堀1丁目10番8号 ダイソー株式会社内 (72)発明者 坂下 尚彦 大阪府大阪市西区江戸堀1丁目10番8号 ダイソー株式会社内 (72)発明者 松尾 孝 大阪府大阪市西区江戸堀1丁目10番8号 ダイソー株式会社内 (72)発明者 横山 和典 大阪府大阪市西区江戸堀1丁目10番8号 ダイソー株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA01 AA04 AB14 AB20 AC08 AD01 BC13 BC19 BC42 BC83 BC92 BJ10 CA00 CC05 CC20 2K008 AA00 DD13 4J002 BF051 CP032 CQ032 EA046 EB126 ED038 EE039 EH048 EH076 EH106 EH107 EH118 EH148 EN109 EN119 EU027 EV047 EW048 EW068 EZ019 FD028 FD149 FD208 GP03 HA08 4J011 PA26 PA27 PA30 PA68 PB23 PC02 QA03 QA09 QA11 QA18 QA19 QA32 QA34 QA39 QA40 QB01 QC01 SA01 SA21 SA31 SA76 SA78 SA82 SA84 SA85 SA86 UA06 WA01 4J026 AA40 BA05 BA06 BA07 BA27 BA29 BA30 BB03 DB06 DB11 DB13 GA06 GA07 4J027 AC01 AC02 AC03 AH03 BA04 BA05 BA07 BA18 BA19 CA01 CA05 CA24 CA31 CB03 CB04 CB08 CB10 CC04 CD10 4J100 AB02Q AB03Q AB08P AB08Q AB09P AB09Q AB16Q AG04Q AL03Q AL04Q AL05Q AL08P AL09Q AL66P AL66Q AL67P AP01P AQ26P BA02P BA02Q BA03P BA03Q BA04P BA04Q BA05P BA06P BA06Q BA11P BA51P BB01P BB03P BB03Q BC04Q BC43P BC43Q BC48P BC49Q BC53Q BC54P BC65P CA01 CA04 FA03 JA38 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C08F 20/36 C08F 20/36 4J027 20/38 20/38 4J100 212/00 212/00 220/18 220 / 18 263/08 263/08 290/02 290/02 C08K 5/00 C08K 5/00 C08L 31/08 C08L 31/08 55/00 55/00 101/00 101/00 101/02 101/02 G03F 7 / 004 501 G03F 7/004 501 7/027 502 7/027 502 7/029 7/029 7/038 501 7/038 501 (71) Applicant 000108993 Daiso Corporation 1-10-8 Edobori, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka (74) The above three agents 100060874 Patent Attorney Enosuke Kishimoto (four others) (72) Inventor Taichi Ichihashi 3-16-16 Kofudai, Toyono-cho, Toyono-gun, Osaka Prefecture (72) Inventor Hideo Tanigawa Ikeda-shi, Osaka Midorioka 1-chome 8-31 Industrial Technology Inside the Osaka Institute of Technology (72) Inventor Akira Hashimoto 1-10-8 Edobori, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka Daiso Corporation (72) Inventor Naohiko Sakashita 1-10-8 Edobori, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka Daiso Corporation (72) Inventor Takashi Matsuo 1-10-8 Edobori, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka Daiso Co., Ltd. (72) Inventor Kazunori Yokoyama 1-10-8 Edobori, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka Daiso Co., Ltd. F-term ( Reference) 2H025 AA01 AA04 AB14 AB20 AC08 AD01 BC13 BC19 BC42 BC83 BC92 BJ10 CA00 CC05 CC20 2K008 AA00 DD13 4J002 BF051 CP032 CQ032 EA046 EB126 ED038 EE039 EH048 EH076 EH106 EH107 EH118 EH147 EV009 EA010E0E0148 PA30 PA68 PB23 PC02 QA03 QA09 QA11 QA18 QA19 QA32 QA34 QA39 QA40 QB01 QC01 SA01 SA21 SA31 SA76 SA78 SA82 SA84 SA85 SA86 UA06 WA01 4J026 AA40 BA05 BA06 BA07 BA27 BA29 BA30 BB03 DB06 DB03 AC03 BA03 BA03 18 BA19 CA01 CA05 CA24 CA31 CB03 CB04 CB08 CB10 CC04 CD10 4J100 AB02Q AB03Q AB08P AB08Q AB09P AB09Q AB16Q AG04Q AL03Q AL04Q AL05Q AL08P AL09Q AL66P AL66Q AL67P AP01P AQ26P BA02P BA03P03 BA03 BA03 BA03 BA03 BA03 BA03 BA03 BA03 BA03 BA03 BA03 BA04 BA03P BC53Q BC54P BC65P CA01 CA04 FA03 JA38

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 分子内にアリル基を少なくとも1つ有す
る溶媒に可溶なアリル系プレポリマー(A) と、ラジカル
重合性化合物(B) と、粘度低下剤(C) と、光重合開始剤
(D) とを含み、 ラジカル重合性化合物(B) は、一般式[I] 【化1】 [式中、R およびR は互いに同一もしくは異な
る1価の有機基を意味し、そのうち少なくとも一方は末
端にラジカル重合性基を有する。M およびM
は、互いに同一もしくは異なり、−(OR)n1−(R
は水酸基および/または酸素原子を有していてもよい低
級アルキレン基、n1は0または1〜5の整数)で示さ
れる2価の有機基または単結合を意味する。X およ
びX は環の置換基であり、互いに同一もしくは異な
り、ハロゲン原子、水酸基または低級アルキル基を意味
する。]で示されるフルオレン系化合物、一般式[II] 【化2】 [式中、R およびR は互いに同一もしくは異な
る1価の有機基を意味し、そのうち少なくとも一方は末
端にラジカル重合性基を有する。M およびM
は、互いに同一もしくは異なり、−(OR)n2−(R
は水酸基および/または酸素原子を有していてもよい低
級アルキレン基、n2は0または1〜5の整数)で示さ
れる2価の有機基または単結合を意味する。X は環
の置換基であり、互いに同一もしくは異なり、ハロゲン
原子、水酸基または低級アルキル基、lはX の個数
0〜6、Y は環を構成する複数の原子を意味し、全
てが炭素原子であるか、または一部が炭素原子で、残り
がヘテロ原子である。mは環の員数5〜8である。]で
示されるスルフィド系環状化合物、一般式[III] 【化3】 [式中、X は環の置換基であり、互いに同一もしく
は異なり、少なくとも1つはハロゲン原子であり、他は
水酸基または低級アルキル基である。qは2〜6の整
数、R は互いに同一もしくは異なる1価の有機基を
意味し、そのうち少なくとも一方は末端にラジカル重合
性基を有する。M は−(OR)n3(Rは水酸基お
よび/または酸素原子を有していてもよい低級アルキレ
ン基、n3は0または1〜5の整数)で示される2価の
有機基または単結合を意味する。pは1〜4の整数、Y
は環を構成する複数の原子であり、全てが炭素原子
であるか、または一部が炭素原子で、残りがヘテロ原子
である。kは環の員数5〜8である。]で示されるハロ
ゲン化環状化合物、および一般式[IV] 【化4】 [式中、R 、R およびR は互いに同一もし
くは異なる1価の有機基を意味し、そのうち少なくとも
一方は末端にラジカル重合性基を有する。M、M
およびM は、互いに同一もしくは異なり、−(O
R)n4−(Rは水酸基および/または酸素原子を有し
ていてもよい低級アルキレン基、n4は0または1〜5
の整数)で示される2価の有機基または単結合を意味す
る。XおよびX は環の置換基であり、互いに同一
もしくは異なり、ハロゲン原子、水酸基または低級アル
キル基を意味する。]で示されるカルバゾール系化合物
からなる群より選ばれる少なくとも1種のラジカル重合
性化合物(B1)10〜100重量%と、フルオレン系化合
物[I]、スルフィド系環状化合物[II]、ハロゲン化
環状化合物[III]およびカルバゾール系化合物[IV]以
外の少なくとも1種のラジカル重合性化合物(B2)0〜9
0重量%とからなり、アリル系プルポリマー(A) 、ラジ
カル重合性化合物(B) および粘度低下剤(C)の重量比
は、(A) :(B) :(C) =80〜20:3〜60:3〜6
0であり、粘度低下剤(C) は、アリル系プルポリマー
(A) およびラジカル重合性化合物(B) に対し非反応性の
化合物(C1)であるか、または、分子内に(メタ)アリル
基を有する化合物(C2)であり、ラジカル重合性化合物(B
1)とラジカル重合性化合物(B2)の屈折率の加重平均がア
リル系プレポリマー(A) の屈折率および粘度低下剤(C)
の屈折率の加重平均よりも大きいことを特徴とするホロ
グラム記録材料組成物。
1. An allyl-based prepolymer (A) soluble in a solvent having at least one allyl group in the molecule, a radical polymerizable compound (B), a viscosity reducing agent (C), and a photopolymerization initiator.
(D), and the radically polymerizable compound (B) is represented by the general formula [I]: [Wherein, R 1 and R 2 represent the same or different monovalent organic groups, and at least one of them has a radical polymerizable group at a terminal. M 1 and M 2
Are the same or different from each other and are represented by- (OR) n1- (R
Represents a hydroxyl group and / or a lower alkylene group optionally having an oxygen atom, and n1 represents a divalent organic group or a single bond represented by 0 or an integer of 1 to 5). X 1 and X 2 are the same or different from each other and represent a halogen atom, a hydroxyl group, or a lower alkyl group. A fluorene compound represented by the general formula [II]: [In the formula, R 3 and R 4 represent the same or different monovalent organic groups, and at least one of them has a radical polymerizable group at a terminal. M 3 and M 4
Are the same or different from each other and are represented by- (OR) n2- (R
Represents a hydroxyl group and / or a lower alkylene group optionally having an oxygen atom, and n2 represents 0 or an integer of 1 to 5) or a divalent organic group or a single bond. X 3 is a substituent of a ring, the same or different from each other, a halogen atom, a hydroxyl group or a lower alkyl group, 1 represents the number 0 to 6 of X 3 , Y 1 represents a plurality of atoms constituting the ring, It is a carbon atom or some are carbon atoms and the rest are heteroatoms. m is 5-8 ring members. A sulfide-based cyclic compound represented by the general formula [III]: [In the formula, X 4 is a substituent of a ring, the same or different from each other, at least one is a halogen atom, and the other is a hydroxyl group or a lower alkyl group. q is an integer of 2 to 6, and R 5 is the same or different monovalent organic group, at least one of which has a radical polymerizable group at the terminal. M 5 is - (OR) n3 (R is hydroxyl group and / or substituted lower alkylene group optionally having an oxygen atom, n3 is 0 or an integer of 1 to 5) a divalent organic group or a single bond represented by means. p is an integer of 1-4, Y
2 is a plurality of atoms constituting a ring, all of which are carbon atoms, or a portion of which is a carbon atom, and the remainder are heteroatoms. k has 5 to 8 ring members. A halogenated cyclic compound represented by the general formula [IV]: [Wherein, R 6 , R 7 and R 8 represent the same or different monovalent organic groups, and at least one of them has a radical polymerizable group at a terminal. M 6 , M 7
And M 8 are the same or different from each other, and-(O
R) n4- (R is a hydroxyl group and / or a lower alkylene group optionally having an oxygen atom, n4 is 0 or 1 to 5
An integer) or a divalent organic group or a single bond. X 5 and X 6 are ring substituents, which are the same or different from each other, and represent a halogen atom, a hydroxyl group or a lower alkyl group. At least one radical polymerizable compound (B1) selected from the group consisting of carbazole compounds represented by the following formula: fluorene compound [I], sulfide ring compound [II], halogenated ring compound At least one radically polymerizable compound (B2) other than [III] and the carbazole compound [IV]
0% by weight, and the weight ratio of the allylic pull polymer (A), the radical polymerizable compound (B) and the viscosity reducing agent (C) is (A) :( B) :( C) = 80-20: 3-60: 3-6
0, and the viscosity reducing agent (C) is an allyl-based pull polymer.
A compound (C1) that is non-reactive with (A) and the radically polymerizable compound (B), or a compound (C2) having a (meth) allyl group in the molecule, and the radically polymerizable compound (B
The weighted average of the refractive indices of 1) and the radical polymerizable compound (B2) is the refractive index and viscosity reducing agent of the allylic prepolymer (A) (C)
A hologram recording material composition, wherein the hologram recording material composition has a refractive index greater than a weighted average.
【請求項2】 アリル系プレポリマー(A) 、ラジカル重
合性化合物(B) 、粘度低下剤(C) の重量比が、(A) :
(B) :(C) =75〜30:5〜50:5〜50である請
求項1記載の記録材料組成物。
2. The weight ratio of the allylic prepolymer (A), the radical polymerizable compound (B) and the viscosity reducing agent (C) is as follows:
2. The recording material composition according to claim 1, wherein (B) :( C) = 75-30: 5-50: 5-50.
【請求項3】 アリル系プレポリマー(A) が、ジアリル
フタレート系プレポリマーである請求項1または2記載
の記録材料組成物。
3. The recording material composition according to claim 1, wherein the allyl prepolymer (A) is a diallyl phthalate prepolymer.
【請求項4】 ジアリルフタレート系プレポリマーが、
ジアリルフタレート系モノマーの単独重合体、もしく
は、同モノマーと他の共重合性モノマーとの共重合体で
ある請求項1〜3のうちいずれか1項記載の記録材料組
成物。
4. The diallyl phthalate prepolymer comprises:
The recording material composition according to any one of claims 1 to 3, wherein the recording material composition is a homopolymer of a diallyl phthalate-based monomer or a copolymer of the same monomer and another copolymerizable monomer.
【請求項5】 ジアリルフタレート系プレポリマーが、
ジアリルオルソフタレートプレポリマー、ジアリルイソ
フタレートプレポリマーおよびジアリルテレフタレート
プレポリマーからなる群より選ばれるプレポリマーもし
くはその2以上の組合せである請求項4記載の記録材料
組成物。
5. The diallyl phthalate-based prepolymer comprises:
The recording material composition according to claim 4, which is a prepolymer selected from the group consisting of diallyl orthophthalate prepolymer, diallyl isophthalate prepolymer and diallyl terephthalate prepolymer, or a combination of two or more thereof.
【請求項6】 アリル系プレポリマー(A) の分子量が1
0000〜100000である請求項1〜5のうちいず
れか1項記載の記録材料組成物。
6. The allylic prepolymer (A) having a molecular weight of 1
The recording material composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the composition is 0000 to 100,000.
【請求項7】 アリル系プレポリマー(A) が、ジアリル
フタレート系モノマーおよび/またはジアリルフタレー
ト系ポリマーの存在下で、金属原子、芳香環を有する
基、および加水分解性基を有する金属アルコキシドを、
ゾルーゲル法により脱水縮合することにより得られる有
機無機複合透明均質体である請求項1〜6のうちいずれ
か1項記載の記録材料組成物。
7. An allylic prepolymer (A) comprising a metal alkoxide having a metal atom, a group having an aromatic ring, and a hydrolyzable group in the presence of a diallyl phthalate monomer and / or a diallyl phthalate polymer.
The recording material composition according to any one of claims 1 to 6, which is an organic-inorganic composite transparent homogeneous material obtained by dehydration-condensation by a sol-gel method.
【請求項8】 アリル系プレポリマー(A) が、主鎖にチ
オエーテル基および/またはハロゲン原子が結合したも
のである請求項1〜6のうちいずれか1項記載の記録材
料組成物。
8. The recording material composition according to claim 1, wherein the allylic prepolymer (A) has a thioether group and / or a halogen atom bonded to a main chain.
【請求項9】 ラジカル重合性化合物(B1)がフルオレン
系化合物[I]である請求項1〜8記載の記録材料組成
物。
9. The recording material composition according to claim 1, wherein the radical polymerizable compound (B1) is a fluorene compound [I].
【請求項10】 ラジカル重合性化合物(B1)がスルフィ
ド系環状化合物[II]である請求項1〜8記載の記録材
料組成物
10. The recording material composition according to claim 1, wherein the radical polymerizable compound (B1) is a sulfide-based cyclic compound [II].
【請求項11】 ラジカル重合性化合物(B1)がハロゲン
化環状化合物[III]である請求項1〜8記載の記録材料
組成物。
11. The recording material composition according to claim 1, wherein the radical polymerizable compound (B1) is a halogenated cyclic compound [III].
【請求項12】 ラジカル重合性化合物(B1)がカルバゾ
ール系化合物[IV]である請求項1〜8記載の記録材料
組成物。
12. The recording material composition according to claim 1, wherein the radical polymerizable compound (B1) is a carbazole compound [IV].
【請求項13】 請求項1〜12のうちいずれか1項記
載のホログラム記録材料組成物からなる記録層が基板上
に形成されてなるホログラム記録媒体。
13. A hologram recording medium wherein a recording layer comprising the hologram recording material composition according to claim 1 is formed on a substrate.
【請求項14】 請求項13記載のホログラム記録媒体
を製造するに当たり、アリル系プレポリマー(A) 、ラジ
カル重合性化合物(B) 、粘度低下剤(C) および光重合開
始剤(D) を溶剤に溶解もしくは懸濁させ、得られた溶液
もしくは懸濁液を基板上に塗布し、その後、溶剤を揮散
させ記録層を形成するホログラム記録媒体の製法。
14. In producing the hologram recording medium according to claim 13, an allylic prepolymer (A), a radical polymerizable compound (B), a viscosity reducing agent (C) and a photopolymerization initiator (D) are used as a solvent. A hologram recording medium in which a recording layer is formed by dissolving or suspending in a solvent, applying the resulting solution or suspension on a substrate, and then volatilizing the solvent.
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