JP2001267496A - Semiconductor device comprising input protection circuit - Google Patents

Semiconductor device comprising input protection circuit

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JP2001267496A
JP2001267496A JP2000075941A JP2000075941A JP2001267496A JP 2001267496 A JP2001267496 A JP 2001267496A JP 2000075941 A JP2000075941 A JP 2000075941A JP 2000075941 A JP2000075941 A JP 2000075941A JP 2001267496 A JP2001267496 A JP 2001267496A
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protection circuit
input
semiconductor device
voltage
circuit
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JP2000075941A
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Yoshinobu Sugiura
義信 杉浦
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Ricoh Co Ltd
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    • HELECTRICITY
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device wherein the scale of a circuit for input protection is reduced. SOLUTION: The semiconductor device comprises an input pad I connected to each of a plurality of input terminals A0-An, and a protection circuit P for bypassing an excessive current occurring when an abnormal voltage is applied to the input terminals A0-An. The protection circuit P is connected to the input pad I through transistors FT1-FTn, allowing a single protection circuit P to be shared with a plurality of input terminals A0-An.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置における
入力保護回路に関する。
The present invention relates to an input protection circuit in a semiconductor device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年の半導体技術の発展により、トラン
ジスタの面積は小さくなり、半導体装置の回路部分の高
集積化が進んでいる。一方、半導体装置においては、E
SD(Electro Static Discharge)等によるサージ電圧
が入力端子に印加された際の静電破壊に対する保護を図
るため、一般に入力回路部に保護回路が設けられてい
る。
2. Description of the Related Art With the recent development of semiconductor technology, the area of a transistor has been reduced, and the circuit portion of a semiconductor device has been highly integrated. On the other hand, in a semiconductor device, E
In general, a protection circuit is provided in an input circuit unit in order to protect against electrostatic breakdown when a surge voltage due to SD (Electro Static Discharge) or the like is applied to an input terminal.

【0003】図4は従来の半導体装置における入力回路
部を説明した図である。従来の半導体装置において、入
力回路部は、サージ電圧による過電流(サージ電流)の
流入を防止するため、入力パッドIと入力バッファB間
において入力保護抵抗Rや保護回路P0〜Pnを各入力端
子A0〜An毎に有している。
FIG. 4 is a diagram illustrating an input circuit section in a conventional semiconductor device. In a conventional semiconductor device, an input circuit unit includes an input protection resistor R and protection circuits P0 to Pn between an input pad I and an input buffer B to prevent inflow of an overcurrent (surge current) due to a surge voltage. It is provided for each of A0 to An.

【0004】このように構成される半導体装置では、入
力端子A0〜Anに高いサージ電圧が印加されると、保護
回路P0〜PnのフィールドトランジスタTr1またはTr2
がオンすることにより電流経路が形成され、この電流経
路を過電流(サージ電流)が流れることにより半導体装
置の内部回路への過電流の流入を阻止することができ
る。
In the semiconductor device having such a configuration, when a high surge voltage is applied to the input terminals A0 to An, the field transistors Tr1 or Tr2 of the protection circuits P0 to Pn.
Is turned on, a current path is formed, and an overcurrent (surge current) flows through this current path, thereby preventing an overcurrent from flowing into an internal circuit of the semiconductor device.

【0005】図5は、半導体装置の入力回路部の各素子
が占める面積を示したレイアウト図である。図におい
て、I/Oセルは入力回路部における各入力端子A0〜
An毎の回路をいい、これには入力保護抵抗Rや保護回
路P0〜Pnが含まれる。各I/Oセルにおいて、保護回
路を構成するトランジスタTr1、Tr2は、1つの入力端
子にサージ電圧が印加されたときに、サージ電流を十分
に迂回させることができるような十分な大きさ(面積)
で形成されている。
FIG. 5 is a layout diagram showing the area occupied by each element of the input circuit section of the semiconductor device. In the figure, I / O cells are input terminals A0 to A0 in an input circuit section.
A circuit for each An, including an input protection resistor R and protection circuits P0 to Pn. In each I / O cell, the transistors Tr1 and Tr2 constituting the protection circuit have a sufficient size (area) such that a surge current can be sufficiently bypassed when a surge voltage is applied to one input terminal. )
It is formed with.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】このような従来の半導
体装置においては、出力回路部において出力端子に対し
ても保護回路が設けられているが、出力端子に対する保
護回路は出力バッファと兼用することができるため、そ
の面積は入力部に比して小さく抑えることができる。こ
れに対し、入力端子に対する保護回路の場合、静電気破
壊防止の用途にのみ使用されるため、出力回路部側のよ
うに効率化は図れない。近年の半導体装置の高集積化に
ともない半導体装置における入力回路部の保護回路の占
める面積の割合は相対的に増大し、半導体装置の高集積
化において入力回路部の保護回路の規模が大きく影響し
ている。
In such a conventional semiconductor device, a protection circuit is provided for an output terminal in an output circuit portion, but the protection circuit for an output terminal also serves as an output buffer. Therefore, the area can be suppressed smaller than that of the input unit. On the other hand, in the case of the protection circuit for the input terminal, since it is used only for the purpose of preventing electrostatic destruction, efficiency cannot be improved as in the output circuit section. With the recent increase in the degree of integration of semiconductor devices, the proportion of the area occupied by the protection circuit of the input circuit portion in the semiconductor device has relatively increased, and the scale of the protection circuit of the input circuit portion has a large effect on the integration of the semiconductor device. ing.

【0007】本発明は上記課題を解決すべくなされたも
のであり、その目的とするところは、入力保護のための
回路の規模を低減できる半導体装置を提供することにあ
る。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and an object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of reducing the size of a circuit for input protection.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明に係る半導体装置は、複数の入力端子と、各
入力端子に異常電圧が印加されたときに生ずる過電流を
迂回させるための保護回路とを有し、保護回路が所定数
の前記入力端子により共用されている。このように、保
護回路が共用されることにより、保護回路の素子数、占
有面積を低減できる。
In order to solve the above-mentioned problems, a semiconductor device according to the present invention has a plurality of input terminals and an overcurrent generated when an abnormal voltage is applied to each input terminal. And the protection circuit is shared by a predetermined number of the input terminals. In this way, by sharing the protection circuit, the number of elements and the occupied area of the protection circuit can be reduced.

【0009】好ましくは、各入力端子は、スイッチング
可能なトランジスタを介して保護回路に接続する。ま
た、そのトランジスタは、通常動作時において入力端子
に印加される電圧の電圧範囲の電圧ではオンしないもの
を使用するのが好ましい。
Preferably, each input terminal is connected to a protection circuit via a switchable transistor. In addition, it is preferable to use a transistor that does not turn on with a voltage in the voltage range of the voltage applied to the input terminal during normal operation.

【0010】保護回路の面積は、少なくとも1つの入力
端子に異常電圧が印加されたときの耐圧を確保するため
に必要な面積よりも大きく、その保護回路を共用する全
ての入力端子に同時に異常電圧が印加されたときの耐圧
を確保するために必要な面積よりも小さくするのが好ま
しい。これにより、1つの入力端子あたりの耐圧を十分
確保しながら、保護回路の面積の縮小化が図れる。
[0010] The area of the protection circuit is larger than the area required to secure the withstand voltage when an abnormal voltage is applied to at least one input terminal, and the abnormal voltage is simultaneously applied to all the input terminals sharing the protection circuit. Is preferably smaller than the area required for securing the withstand voltage when the voltage is applied. Thus, it is possible to reduce the area of the protection circuit while sufficiently securing the withstand voltage per input terminal.

【0011】保護回路の面積は、その保護回路を共用す
る全ての入力端子に同時に異常電圧が印加されたときの
耐圧を確保するために必要な面積にしてもよい。このよ
うに、保護回路の面積を十分に大きくすることにより、
1つの入力端子に接続される保護回路の面積が増加し、
結果として、1つの入力端子当りの耐圧を大きくするこ
とができる。
The area of the protection circuit may be an area necessary for securing a withstand voltage when an abnormal voltage is simultaneously applied to all the input terminals sharing the protection circuit. Thus, by making the area of the protection circuit sufficiently large,
The area of the protection circuit connected to one input terminal increases,
As a result, the breakdown voltage per input terminal can be increased.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、添付の図面を参照し、本発
明に係る半導体装置における保護回路の実施の形態を詳
細に説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a protection circuit in a semiconductor device according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

【0013】以下に説明する半導体装置は、入力回路部
において所定数の入力端子毎に保護回路を共用すること
により、保護回路の素子数を低減し、かつ、占有面積の
低減を図るものである。
In the semiconductor device described below, the protection circuit is shared by a predetermined number of input terminals in the input circuit section, thereby reducing the number of elements of the protection circuit and reducing the occupied area. .

【0014】図1に本発明に係る半導体装置の入力回路
部の回路図を示す。半導体装置は入力回路部において、
各入力端子A0〜Anに接続される入力パッドI、保護抵
抗R、入力バッファBを有する。入力端子A0〜Anから
入力されたデータや制御信号等は、入力パッドI、保護
抵抗Rおよび入力バッファBを介して所定の処理を行な
う内部回路に伝達される。
FIG. 1 is a circuit diagram of an input circuit section of a semiconductor device according to the present invention. In the semiconductor device,
It has an input pad I connected to each of the input terminals A0 to An, a protection resistor R, and an input buffer B. Data, control signals, and the like input from the input terminals A0 to An are transmitted to an internal circuit that performs predetermined processing via an input pad I, a protection resistor R, and an input buffer B.

【0015】また、各入力端子A0〜Anのそれぞれに対
する入力パッドIはスイッチ用のトランジスタFT0〜
FTnを介して一つの保護回路Pに接続されている。す
なわち、保護回路Pは複数(所定数)の入力端子により
共用されている。保護回路PはP型トランジスタTr1
と、N型トランジスタTr2とが直列に接続されて構成さ
れる。スイッチ用のトランジスタFT0〜FTnには、例
えば、そのしきい値電圧がトランジスタTr1のしきい値
電圧よりも十分に高いフィールドトランジスタを用い
る。フィールドトランジスタFT0〜FTnは、しきい値
が、通常動作時に入力端子に印加される電圧よりも高い
ものであれば他のトランジスタでも代用できる。
An input pad I for each of the input terminals A0 to An is connected to a switching transistor FT0 to FT0.
It is connected to one protection circuit P via FTn. That is, the protection circuit P is shared by a plurality (predetermined number) of input terminals. The protection circuit P is a P-type transistor Tr1
And an N-type transistor Tr2 connected in series. For the switching transistors FT0 to FTn, for example, a field transistor whose threshold voltage is sufficiently higher than the threshold voltage of the transistor Tr1 is used. The field transistors FT0 to FTn can be replaced with other transistors as long as the threshold value is higher than the voltage applied to the input terminal during normal operation.

【0016】このように、本半導体装置においては、各
入力端子A0〜Anはそれぞれのスイッチ用のトランジス
タFT0〜FTnを介して一の保護回路Pに接続されてお
り、入力端子毎に保護回路を設けていた従来の半導体装
置に比して保護回路の素子数を低減できる。
As described above, in the present semiconductor device, each of the input terminals A0 to An is connected to one protection circuit P via each of the switching transistors FT0 to FTn. The number of elements of the protection circuit can be reduced as compared with the conventional semiconductor device provided.

【0017】上記構成を有する半導体装置の入力回路部
における動作を説明する。なお、以下では、説明の便宜
上、入力端子Anに注目して説明する。
The operation in the input circuit section of the semiconductor device having the above configuration will be described. Note that the following description focuses on the input terminal An for convenience of description.

【0018】最初に、実使用時すなわち入力端子に対し
て正常な電圧が印加されている場合の動作を説明する。
First, the operation during actual use, that is, when a normal voltage is applied to the input terminal will be described.

【0019】図1を参照し、入力端子Anに接続する入
力パッドIを介して正常な正側の電圧が印加された場
合、トランジスタFTnのゲートGに印加される電圧
は、トランジスタFTnのしきい値電圧に比べて十分に
低いため、トランジスタFTnはオンしない。一方、入
力パッドIを介して正常な負側の電圧が印加された場
合、トランジスタFTnのゲートGに印加される電圧の
大きさは、トランジスタFTnの負側のしきい値電圧に
比べて十分に高いため、トランジスタFTnはオンしな
い。このように、実使用時にはトランジスタFTnはオ
ンしないため、入力端子A0〜An間で短絡は生じない。
したがって、このとき、保護回路Pは動作せず、入力パ
ッドIに印加された電圧は入力バッファBを介して内部
回路に伝達される。
Referring to FIG. 1, when a normal positive voltage is applied via input pad I connected to input terminal An, the voltage applied to gate G of transistor FTn is equal to the threshold of transistor FTn. The transistor FTn does not turn on because it is sufficiently lower than the value voltage. On the other hand, when a normal negative voltage is applied via the input pad I, the magnitude of the voltage applied to the gate G of the transistor FTn is sufficiently smaller than the negative threshold voltage of the transistor FTn. Since it is high, the transistor FTn does not turn on. As described above, since the transistor FTn is not turned on during actual use, no short circuit occurs between the input terminals A0 to An.
Therefore, at this time, the protection circuit P does not operate, and the voltage applied to the input pad I is transmitted to the internal circuit via the input buffer B.

【0020】次に、異常時すなわち入力端子Anに対し
高いサージ電圧が印加されたときの動作を説明する。
Next, the operation when an abnormality occurs, that is, when a high surge voltage is applied to the input terminal An will be described.

【0021】トランジスタFTnのしきい値電圧より高
い正の異常電圧が入力端子Anに印加された場合、トラ
ンジスタFTnがオンする。これにより、サージ電流を
流すための電流経路がトランジスタFTn、保護回路P
のトランジスタTr1により形成される。一方、負側のト
ランジスタFTnのしきい値電圧より低い負の異常電圧
が入力端子Anに印加された場合は、トランジスタFTn
をパンチスルーすることにより、サージ電流を流すため
の電流経路がトランジスタFTn、保護回路Pのトラン
ジスタTr2により形成される。以上のように電流経路が
形成されることにより、サージ電流を迂回させてサージ
電流の内部回路への流入を阻止することができ、サージ
電圧からの保護が実現できる。
When a positive abnormal voltage higher than the threshold voltage of the transistor FTn is applied to the input terminal An, the transistor FTn turns on. As a result, the current path for flowing the surge current becomes the transistor FTn and the protection circuit P
Of the transistor Tr1. On the other hand, when a negative abnormal voltage lower than the threshold voltage of the transistor FTn on the negative side is applied to the input terminal An, the transistor FTn
Is punched through, a current path for flowing a surge current is formed by the transistor FTn and the transistor Tr2 of the protection circuit P. By forming the current path as described above, the surge current can be bypassed to prevent the surge current from flowing into the internal circuit, and protection from surge voltage can be realized.

【0022】図2は、図1に示すように保護回路の共用
化を行なった際の入力回路部のレイアウト図の一例を示
した図である。図において、回路部21には入力バッフ
ァBとトランジスタFT0〜FTnが含まれる。図2に示
すトランジスタTr1、Tr2の面積は、図5に示すI/O
セルに対するトランジスタTr1、Tr2の面積の合計に等
しい。すなわち、図2に示す例では、1つのI/Oセル
当りの保護回路(トランジスタTr1、Tr2)の面積は図
5に示す従来の場合に比して大きくなる。一般にトラン
ジスタの面積が大きいほど、トランジスタに大きな電流
を流すことが可能である。したがって、図2に示す半導
体装置において同時に複数の入力端子にサージ電圧が印
加された場合、従来の半導体装置(図5参照)と等価な
保護回路の許容限界(静電気破壊耐圧)が得られる。ま
た、1つの入力端子にのみサージ電圧が印加された場合
は、従来のものよりも大きな許容限界が得られる。この
ように、保護回路を共用することにより、半導体装置全
体としての面積は増加させずに、1つのセルに対するサ
ージ電圧の耐圧を大きくすることが可能となる。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a layout diagram of the input circuit section when the protection circuit is shared as shown in FIG. In the figure, a circuit section 21 includes an input buffer B and transistors FT0 to FTn. The area of the transistors Tr1 and Tr2 shown in FIG.
It is equal to the sum of the areas of the transistors Tr1, Tr2 for the cell. That is, in the example shown in FIG. 2, the area of the protection circuit (transistors Tr1 and Tr2) per I / O cell is larger than that in the conventional case shown in FIG. In general, the larger the area of a transistor, the larger current can flow through the transistor. Therefore, when a surge voltage is simultaneously applied to a plurality of input terminals in the semiconductor device shown in FIG. 2, an allowable limit (static breakdown voltage) of a protection circuit equivalent to that of the conventional semiconductor device (see FIG. 5) is obtained. Further, when a surge voltage is applied to only one input terminal, a larger permissible limit than the conventional one is obtained. As described above, by sharing the protection circuit, it is possible to increase the withstand voltage of the surge voltage for one cell without increasing the area of the semiconductor device as a whole.

【0023】図3は、保護回路の共用化を行なった際の
入力部の各素子のレイアウトの別の例を示した図であ
る。図3に示す例では、保護回路を構成するトランジス
タTr1、Tr2の面積を、図5に示す1つのI/Oセルに
対する保護回路(トランジスタTr1、Tr2)の面積と等
しくしている。これにより、保護回路(トランジスタT
r1、Tr2)の面積が従来の場合(図5参照)に比して全
体として縮小でき、また、入力バッファ等の回路も保護
回路から距離をおいた場所に配置することができる。こ
のように構成しても、通常は、同時に1つのI/Oセル
にしかサージ電圧が印加されないので、十分な静電気破
壊耐圧が得られると考えられる。また、保護回路の面積
を最小にし、入力端子回路25と保護回路との距離を最
小にすることにより、保護回路としての機能を低下させ
ずに半導体装置全体の面積の縮小化を実現できる。
FIG. 3 is a diagram showing another example of the layout of each element of the input section when the protection circuit is shared. In the example shown in FIG. 3, the area of the transistors Tr1 and Tr2 constituting the protection circuit is made equal to the area of the protection circuit (transistors Tr1 and Tr2) for one I / O cell shown in FIG. Thereby, the protection circuit (transistor T
The area of (r1, Tr2) can be reduced as a whole as compared with the conventional case (see FIG. 5), and the circuit such as the input buffer can be arranged at a place away from the protection circuit. Even with such a configuration, normally, a surge voltage is applied to only one I / O cell at a time, so that it is considered that a sufficient electrostatic breakdown voltage can be obtained. Further, by minimizing the area of the protection circuit and minimizing the distance between the input terminal circuit 25 and the protection circuit, the area of the entire semiconductor device can be reduced without lowering the function as the protection circuit.

【0024】なお、保護回路の面積は、図2、図3の例
に限らず、少なくとも1つの入力端子に異常電圧が印加
されたときの耐圧を確保するために必要な面積よりも大
きく、その保護回路を共用する全ての入力端子に同時に
異常電圧が印加されたときの耐圧を確保するために必要
な面積よりも小さくなるような範囲内で設定してもよ
い。
The area of the protection circuit is not limited to the examples shown in FIGS. 2 and 3, and is larger than an area necessary for securing a withstand voltage when an abnormal voltage is applied to at least one input terminal. The setting may be made within a range that is smaller than an area necessary for securing a withstand voltage when an abnormal voltage is simultaneously applied to all the input terminals sharing the protection circuit.

【0025】このように、高い静電気破壊耐圧を重視し
たいときは、図2に示すレイアウト構成のように保護回
路の面積を大きくし、回路規模の縮小化を重視したいと
きは、図3に示すレイアウト構成のように保護回路の面
積を小さくするように保護回路の面積を最適化すること
ができ、これにより半導体装置全体の回路規模の縮小化
が図れる。
As described above, when the importance is placed on the high electrostatic breakdown voltage, the area of the protection circuit is increased as shown in the layout configuration of FIG. 2, and when the reduction of the circuit scale is emphasized, the layout shown in FIG. As in the configuration, the area of the protection circuit can be optimized so as to reduce the area of the protection circuit, whereby the circuit size of the entire semiconductor device can be reduced.

【0026】以上のように、本実施形態の半導体装置に
よれば、通常時はオンせず、異常電圧印加時においてオ
ンまたはパンチスルーするようなしきい値電圧を持つフ
ィールドトランジスタを介して入力端子間で保護回路を
共用することにより、半導体装置において保護回路の素
子数を低減でき、占有面積を低減できる。
As described above, according to the semiconductor device of the present embodiment, the input terminal is not turned on through the field transistor having the threshold voltage that does not turn on normally but turns on or punches through when an abnormal voltage is applied. By using the same protection circuit, the number of elements of the protection circuit in the semiconductor device can be reduced, and the occupied area can be reduced.

【0027】[0027]

【発明の効果】本発明の半導体装置によれば、入力保護
のための回路を構成する部品数、規模を低減できるた
め、半導体装置全体としての回路規模を低減することが
可能となる。
According to the semiconductor device of the present invention, the number of components constituting the circuit for input protection and the scale thereof can be reduced, so that the circuit scale of the entire semiconductor device can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】 本発明に係る半導体装置の入力回路部の回路
図。
FIG. 1 is a circuit diagram of an input circuit section of a semiconductor device according to the present invention.

【図2】 本発明に係る半導体装置の入力回路部のレイ
アウト図。
FIG. 2 is a layout diagram of an input circuit portion of the semiconductor device according to the present invention.

【図3】 本発明に係る半導体装置の入力回路部の別の
レイアウト図。
FIG. 3 is another layout diagram of the input circuit section of the semiconductor device according to the present invention.

【図4】 従来の保護回路を備えた半導体装置の入力回
路部の回路図。
FIG. 4 is a circuit diagram of an input circuit section of a semiconductor device having a conventional protection circuit.

【図5】 従来の半導体装置の入力回路部のレイアウト
図。
FIG. 5 is a layout diagram of an input circuit section of a conventional semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 入力端子回路部(入力バッファ、入力保護抵抗を
含む) 21 入力端子回路部(入力バッファ、入力保護抵抗を
含む) 23 回路部(入力保護抵抗等を含む) 25 入力端子回路部(入力バッファを含む) A0〜An 入力端子 B 入力バッファ FT0〜FTn スイッチ用トランジスタ G スイッチ用トランジスタのゲート I 入力パッド P,P0〜Pn 保護回路 R 入力保護抵抗 Tr1 P型トランジスタ Tr2 N型トランジスタ
11 input terminal circuit section (including input buffer and input protection resistor) 21 input terminal circuit section (including input buffer and input protection resistor) 23 circuit section (including input protection resistor and the like) 25 input terminal circuit section (including input buffer resistance) A0 to An Input terminal B Input buffer FT0 to FTn Switch transistor G Switch transistor gate I Input pad P, P0 to Pn protection circuit R Input protection resistor Tr1 P-type transistor Tr2 N-type transistor

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数の入力端子と、 前記各入力端子に異常電圧が印加されたときに生ずる過
電流を迂回させるための保護回路とを有し、 該保護回路は所定数の前記入力端子により共用されるこ
とを特徴とする半導体装置。
A plurality of input terminals; and a protection circuit for bypassing an overcurrent generated when an abnormal voltage is applied to each of the input terminals, wherein the protection circuit includes a predetermined number of the input terminals. A semiconductor device characterized by being shared.
【請求項2】 前記各入力端子は、スイッチング可能な
トランジスタを介して前記保護回路に接続されることを
特徴とする請求項1記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein each of said input terminals is connected to said protection circuit via a switchable transistor.
【請求項3】 前記トランジスタは、通常動作時におい
て入力端子に印加される電圧の電圧範囲の電圧ではオン
しないことを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 2, wherein said transistor is not turned on at a voltage in a voltage range of a voltage applied to an input terminal during a normal operation.
【請求項4】 前記保護回路の面積を、その保護回路を
共用する全ての入力端子に同時に異常電圧が印加された
ときの耐圧を確保するために必要な面積にすることを特
徴とする請求項1記載の半導体装置。
4. The protection circuit according to claim 1, wherein an area required for securing a withstand voltage when an abnormal voltage is simultaneously applied to all the input terminals sharing the protection circuit is set. 2. The semiconductor device according to 1.
【請求項5】 前記保護回路の面積を、少なくとも1つ
の入力端子に異常電圧が印加されたときの耐圧を確保す
るために必要な面積よりも大きく、かつ、その保護回路
を共用する全ての入力端子に同時に異常電圧が印加され
たときの耐圧を確保するために必要な面積よりも小さく
することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
5. An area of the protection circuit is larger than an area necessary for securing a withstand voltage when an abnormal voltage is applied to at least one input terminal, and all inputs sharing the protection circuit are provided. 2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the area is smaller than an area necessary for securing a withstand voltage when an abnormal voltage is simultaneously applied to the terminals.
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