JP2001260563A - Blanket - Google Patents

Blanket

Info

Publication number
JP2001260563A
JP2001260563A JP2000075239A JP2000075239A JP2001260563A JP 2001260563 A JP2001260563 A JP 2001260563A JP 2000075239 A JP2000075239 A JP 2000075239A JP 2000075239 A JP2000075239 A JP 2000075239A JP 2001260563 A JP2001260563 A JP 2001260563A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
blanket
printing
rubber layer
surface rubber
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000075239A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Kamiyoshiya
雅之 上美谷
Toshihiko Takeda
利彦 武田
Yozo Kosaka
陽三 小坂
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP2000075239A priority Critical patent/JP2001260563A/en
Publication of JP2001260563A publication Critical patent/JP2001260563A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a blanket enabling formation of a pattern of high minuteness by an offset printing method using an intaglio or lithography. SOLUTION: The surface glossiness of a surface rubber layer constituting the blanket is made to be within a range of 1-90 deg.. Thereby the blanket is made very excellent in ink receptivity and ink transferability.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、オフセット印刷に
使用するブランケットに係り、特に線幅が50μm程度
の微細パターンの形成に優れるブランケットに関する。
The present invention relates to a blanket used for offset printing, and more particularly to a blanket excellent in forming a fine pattern having a line width of about 50 μm.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子回路や画像表示装置等におけ
る電極の微細なパターン形成は、より高い精度で、か
つ、低い製造コストで実施可能なことが要求されてい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, it has been demanded that fine pattern formation of electrodes in electronic circuits, image display devices, and the like can be performed with higher accuracy and at lower manufacturing cost.

【0003】従来、微細な電極パターンの形成方法とし
て、導電性粉体を含有するパターン形成用ペーストを用
いてスクリーン印刷法やフォトリソグラフィ法によりパ
ターンを形成した後、焼成して電極パターンとする方法
がある。しかし、スクリーン印刷法による電極パターン
形成では、スクリーン印刷版を構成するメッシュ材料の
伸びによる印刷精度の限界があり、また、形成したパタ
ーンにメッシュ目が生じたりパターンのにじみが発生
し、電極パターンのエッジ精度が低いという問題があ
る。また、フォトリソグラフィ法は、高精度の電極パタ
ーンの形成が可能であるものの、製造工程が複雑であ
り、かつ、材料ロスが多く、製造コストの低減に限界が
あった。
Conventionally, as a method of forming a fine electrode pattern, a pattern is formed by a screen printing method or a photolithography method using a pattern forming paste containing a conductive powder and then fired to form an electrode pattern. There is. However, in the formation of the electrode pattern by the screen printing method, there is a limit in printing accuracy due to the elongation of the mesh material constituting the screen printing plate, and the formed pattern has meshes or bleeds of the pattern. There is a problem that edge accuracy is low. In addition, although the photolithography method can form a highly accurate electrode pattern, the manufacturing process is complicated, the material loss is large, and the reduction of the manufacturing cost is limited.

【0004】このため、工程が簡単で量産性を有するオ
フセット印刷法を用いることによって、微細電極パター
ン形成の低コスト化が試みられている。このオフセット
印刷法では、導電性粉体を含有した導体インキを凹版あ
るいは平版の印刷版に供給し、印刷版上のインキパター
ンをブランケットを介して電極被形成物に転移させ、そ
の後、焼成して有機成分を分解、揮発することにより電
極パターンが形成される。
For this reason, it has been attempted to reduce the cost of forming a fine electrode pattern by using an offset printing method which has a simple process and has high productivity. In this offset printing method, a conductive ink containing conductive powder is supplied to an intaglio or lithographic printing plate, and the ink pattern on the printing plate is transferred to an electrode substrate via a blanket, and then fired. Electrode patterns are formed by decomposing and volatilizing organic components.

【0005】また、プラズマディスプレパネルを構成す
る障壁の形成では、障壁形成用ペーストにより所定の厚
みの障壁層を形成し、この障壁層に対してブラストマス
クを介してブラスト処理することにより、ブラストマス
クのパターンに対応した障壁を形成することが行なわれ
ている。従来、上記のブラストマスクは、障壁層上に感
光性樹脂層を形成し、これを露光、現像して形成されて
いた。
In the formation of a barrier constituting a plasma display panel, a barrier layer having a predetermined thickness is formed by a paste for forming a barrier, and the barrier layer is blasted through a blast mask. The formation of a barrier corresponding to this pattern has been performed. Conventionally, the blast mask has been formed by forming a photosensitive resin layer on a barrier layer, exposing and developing the photosensitive resin layer.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上述のオフセット印刷
法は、スクリーン印刷法に比べて精度の高い電極パター
ンの形成が可能であり、また、フォトリソグラフィ法に
比べてインキ使用量が少ないという利点がある。さら
に、フォトリソグラフィ法では、焼成して形成された電
極パターンの幅方向の断面形状は矩形となり、例えば、
プラズマディスプレイパネルの電極パターンのように、
その上から誘電体層を形成する場合、電極のエッジが誘
電体層を突き破って露出してしまうという問題もある
が、オフセット印刷法で得られた電極パターンの幅方向
の断面形状はかまぼこ形なので、この問題を解決できる
利点もある。
The offset printing method described above has the advantages that an electrode pattern can be formed with higher accuracy than the screen printing method, and that the amount of ink used is smaller than that of the photolithography method. is there. Furthermore, in the photolithography method, the cross-sectional shape in the width direction of the electrode pattern formed by firing is rectangular, for example,
Like the electrode pattern of a plasma display panel,
When forming a dielectric layer from above, there is a problem that the edge of the electrode breaks through the dielectric layer and is exposed, but since the cross-sectional shape in the width direction of the electrode pattern obtained by the offset printing method is a semi-cylindrical shape. There is also an advantage that this problem can be solved.

【0007】しかし、従来のブランケットを使用した凹
版オフセット印刷、平版オフセット印刷では、線幅が5
0μm程度の微細パターンの形成において、膜厚方向の
うねりが発生したり、ラインの解像性が悪い、所望の厚
みが得られないという問題があった。
However, in intaglio offset printing and lithographic offset printing using a conventional blanket, the line width is 5
In the formation of a fine pattern of about 0 μm, there are problems that undulation in the film thickness direction occurs, line resolution is poor, and a desired thickness cannot be obtained.

【0008】また、従来のフォトリソグラフィ法による
ブラストマスクの形成は、工程が煩雑であるという問題
があった。そこで、障壁層上に直接オフセット印刷によ
りマスクパターンを形成することが考えられるが、この
場合、上記のような従来のブランケットにおける精度不
良や被膜厚み不足の問題があった。
Further, there is a problem that the process of forming a blast mask by a conventional photolithography method is complicated. Therefore, it is conceivable to form a mask pattern directly on the barrier layer by offset printing. However, in this case, there are problems such as the above-described poor accuracy and insufficient film thickness of the conventional blanket.

【0009】本発明は、上述のような実情に鑑みてなさ
れたものであり、凹版や平版を用いたオフセット印刷法
により高精細なパターンの形成を可能とするブランケッ
トを提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a blanket capable of forming a high-definition pattern by an offset printing method using an intaglio or planographic printing plate. .

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明のブランケットは、最表面に表面ゴム
層を備え、該表面ゴム層の表面光沢度が1〜90°の範
囲内であるような構成とした。
In order to achieve the above object, the blanket of the present invention has a surface rubber layer on the outermost surface, and the surface rubber layer has a surface gloss within a range of 1 to 90 °. Was adopted.

【0011】また、本発明のブランケットは、硬度が7
0〜90°の範囲内にあるような構成とした。
The blanket of the present invention has a hardness of 7
The configuration was such that the angle was in the range of 0 to 90 °.

【0012】また、本発明のブランケットは、前記表面
ゴム層の厚みが0.2〜1mmの範囲内にあるような構
成とした。また、本発明のブランケットは、前記表面ゴ
ム層の硬度が40〜80°の範囲内にあるような構成と
した。
Further, the blanket of the present invention is configured such that the thickness of the surface rubber layer is in the range of 0.2 to 1 mm. Further, the blanket of the present invention is configured such that the hardness of the surface rubber layer is in the range of 40 to 80 °.

【0013】さらに、本発明のブランケットは、プラズ
マディスプレイパネルの電極形成用であるような構成と
した。
Further, the blanket of the present invention is configured so as to be used for forming electrodes of a plasma display panel.

【0014】上記のような本発明では、表面ゴム層の表
面光沢度が1〜90°の範囲内にあることにより、印刷
されたインキ被膜のエッジがシャープになり、解像性が
極めて良好なものとなる。
In the present invention as described above, since the surface glossiness of the surface rubber layer is in the range of 1 to 90 °, the edge of the printed ink film becomes sharp and the resolution is extremely good. It will be.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。本発明では、ブランケットのインキ受理
性、インキ転移性の指標として、ブランケットの最表面
に位置する表面ゴム層の表面光沢度に着目し、表面光沢
度を1〜90°、好ましくは50〜90°の範囲内とす
るものである。表面ゴム層の表面光沢度が1°未満であ
ると、印刷されたインキ被膜の線幅のうねりが大きくな
り、線幅50μm程度の微細パターンを高精度で形成す
ることが困難となる。尚、本発明において表面ゴム層の
表面光沢度は、グロスメーターを用いて測定した値であ
る。
Embodiments of the present invention will be described below. In the present invention, focusing on the surface glossiness of the surface rubber layer located on the outermost surface of the blanket as an index of ink acceptability and ink transferability of the blanket, the surface glossiness is 1 to 90 °, preferably 50 to 90 °. Within the range. If the surface glossiness of the surface rubber layer is less than 1 °, the swell of the line width of the printed ink film becomes large, and it becomes difficult to form a fine pattern with a line width of about 50 μm with high precision. In the present invention, the surface glossiness of the surface rubber layer is a value measured using a gloss meter.

【0016】また、本発明のブランケットは、硬度(ブ
ランケット全体の硬度)が70〜90°の範囲内にある
ことが好ましい。ブランケットの硬度が70°未満であ
ると、印刷被膜の膜厚方向のうねりが大きくなり、ま
た、90°を超えると、ラインの解像性が悪くなる傾向
にあり好ましくない。尚、上記の硬度は、ハードネステ
スター(JIS Aタイプ)により測定した値である。
The blanket of the present invention preferably has a hardness (hardness of the entire blanket) in the range of 70 to 90 °. If the hardness of the blanket is less than 70 °, the undulation in the thickness direction of the print film becomes large, and if it exceeds 90 °, the line resolution tends to deteriorate, which is not preferable. The hardness is a value measured by a hard nest tester (JIS A type).

【0017】また、本発明のブランケットは、表面ゴム
層の厚みが0.2〜1mmの範囲内にあることが好まし
い。表面ゴム層の厚みが0.2mm未満であると、後述
するよな基材の構成に基布を使用した場合、基布目の影
響を受けたり、表面ゴム層と基材との間に存在するゴミ
の影響を受けて表面平滑性が低下しやすくなる。一方、
表面ゴム層の厚みが1mmを超えると、印刷時における
表面ゴム層のひずみ量が大きくなり、印刷方向に対して
垂直もしくは斜め方向のラインの解像性が悪くなる傾向
にあり好ましくない。上記の表面ゴム層のひずみを抑え
る手法として、表面ゴム層に長さ50〜500μm程度
の短繊維を補強材として添加してもよい。
In the blanket of the present invention, the thickness of the surface rubber layer is preferably in the range of 0.2 to 1 mm. When the thickness of the surface rubber layer is less than 0.2 mm, when the base fabric is used in the configuration of the base material as described later, the base fabric is affected by the texture of the base fabric or exists between the surface rubber layer and the base material. Under the influence of dust, the surface smoothness tends to decrease. on the other hand,
If the thickness of the surface rubber layer exceeds 1 mm, the amount of distortion of the surface rubber layer during printing increases, and the resolution of lines perpendicular or oblique to the printing direction tends to deteriorate, which is not preferable. As a method of suppressing the distortion of the surface rubber layer, short fibers having a length of about 50 to 500 μm may be added to the surface rubber layer as a reinforcing material.

【0018】さらに、本発明のブランケットは、表面ゴ
ム層の硬度が40〜80°の範囲内にあるような構成と
した。表面ゴム層の硬度が40°未満であると、印刷被
膜の膜厚方向のうねりが大きくなり、また、80°を超
えると、ラインの解像性が悪くなる傾向にあり好ましく
ない。尚、上記の表面ゴム層の硬度は、ハードネステス
ター(JIS Aタイプ)により測定した値である。
Further, the blanket of the present invention is configured such that the hardness of the surface rubber layer is in the range of 40 to 80 °. If the hardness of the surface rubber layer is less than 40 °, the undulation in the thickness direction of the print film becomes large, and if it exceeds 80 °, the line resolution tends to deteriorate, which is not preferable. The hardness of the surface rubber layer is a value measured by a hard nest tester (JIS A type).

【0019】図1は、本発明のブランケットの一実施形
態を示す概略断面図である。図1において、ブランケッ
ト1は、基布2/接着層3/基布4/クッション層5/
基布6からなる積層構造の基材上に表面ゴム層7を備え
たものである。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing an embodiment of the blanket of the present invention. In FIG. 1, a blanket 1 is composed of a base fabric 2 / an adhesive layer 3 / a base fabric 4 / a cushion layer 5 /
A surface rubber layer 7 is provided on a base material having a laminated structure composed of a base cloth 6.

【0020】また、図2は、本発明のブランケットの他
の実施形態を示す概略断面図である。図2において、ブ
ランケット11は、フィルム基材12上に接着層13を
介して表面ゴム層14を設けたものである。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another embodiment of the blanket of the present invention. In FIG. 2, a blanket 11 has a surface rubber layer 14 provided on a film base 12 via an adhesive layer 13.

【0021】表面ゴム層7,14のゴム材料としては、
ニトリルブタジエンゴム(NBR)、ブチルゴム、シリ
コンゴム、ウレタンゴム、エチレンプロピレンゴム、フ
ッ素ゴム、クロロプレンゴム等を挙げることができ、こ
れらのゴム材料を単独、あるいは、2種以上の混合物と
して使用することができる。このようなゴム材料を用い
て表面ゴム層7,14を形成する際に、加硫条件等を適
宜制御することにより、表面光沢度を上述の範囲(1〜
90°)とすることができる。
The rubber material of the surface rubber layers 7 and 14 is as follows.
Examples thereof include nitrile butadiene rubber (NBR), butyl rubber, silicon rubber, urethane rubber, ethylene propylene rubber, fluorine rubber, and chloroprene rubber. These rubber materials can be used alone or as a mixture of two or more. it can. When the surface rubber layers 7 and 14 are formed using such a rubber material, vulcanization conditions and the like are appropriately controlled so that the surface glossiness is within the above range (1 to 1).
90 °).

【0022】また、表面ゴム層7,14には、硬度調
整、帯電防止等を目的として、SiO 2、Al23、T
iO2、ZrO2、CaO、MgO、BaO、カーボン、
SnO2、ITO(インジウムチタン酸化物)等の粉体
を0.1〜10重量%の範囲で含有させてもよい。さら
に、表面ゴム層へのゴミ付着を防止するために、表面ゴ
ム層7,14に帯電防止剤を練り込んでもよい。
The surface rubber layers 7 and 14 have hardness control.
SiO2 for the purpose of conditioning, antistatic, etc. Two, AlTwoOThree, T
iOTwo, ZrOTwo, CaO, MgO, BaO, carbon,
SnOTwo, Powders such as ITO (indium titanium oxide)
May be contained in the range of 0.1 to 10% by weight. Further
In order to prevent dust from adhering to the surface rubber layer,
An antistatic agent may be kneaded into the memory layers 7 and 14.

【0023】上述のブランケット1を構成する基布2,
4,6は特に制限はなく、従来のブランケットに使用さ
れている基布を使用することができる。また、クッショ
ン層5は、スポンジ状の構造を有しており、外部から表
面ゴム層7に圧力が加わった時に、このクッション層5
が圧縮され応力を吸収して表面ゴム層7の変形を防止
し、印刷パターンの寸法精度の低下を防ぐ役目をもって
いる。
The base fabric 2, which constitutes the above-described blanket 1,
No particular limitation is imposed on the substrates 4 and 6, and a base fabric used for a conventional blanket can be used. The cushion layer 5 has a sponge-like structure, and when pressure is applied to the surface rubber layer 7 from the outside, the cushion layer 5
Are compressed to absorb the stress to prevent deformation of the surface rubber layer 7 and to prevent a decrease in dimensional accuracy of the printed pattern.

【0024】上述のブランケット11を構成するフィル
ム基材12は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート、ポリイミド等の樹脂フィル
ムを使用することができる。このフィルム基材12の厚
みは0.1〜1mm、好ましくは0.1〜0.5mm程
度とすることができる。
The film substrate 12 constituting the blanket 11 is, for example, polyethylene terephthalate,
Resin films such as polyethylene naphthalate and polyimide can be used. The thickness of the film substrate 12 can be set to about 0.1 to 1 mm, preferably about 0.1 to 0.5 mm.

【0025】本発明のブランケットは、インキ受理性お
よびインキ転移性が極めて良好であり、印刷皮膜の厚み
が一定でラインの解像性が良好であるため、線幅50μ
m程度の微細パターンを高い精度で印刷することができ
る。そのため、本発明のブランケットは、例えば、基板
上にオフセット印刷法により導体インキを高い精度で印
刷できるので、高精度の電極パターン形成が可能とな
る。さらに、本発明のブランケットは、レジスト材料イ
ンキをオフセット印刷法により高い精度で印刷できるの
で、ブラストマスク等の微細マスクパターンを形成する
ことが可能である
The blanket of the present invention has a very good ink receptivity and ink transferability, and has a constant print film thickness and good line resolution.
A fine pattern of about m can be printed with high accuracy. Therefore, the blanket of the present invention can print the conductive ink with high accuracy on the substrate by, for example, the offset printing method, so that a highly accurate electrode pattern can be formed. Furthermore, since the blanket of the present invention can print the resist material ink with high accuracy by the offset printing method, it is possible to form a fine mask pattern such as a blast mask.

【0026】上述のような本発明のブランケットを使用
してオフセット印刷を行う場合の印刷版(平版、凹版)
としては、シリコン版、水無し版、樹脂版、金属版、ガ
ラス版等を用いることができ、また、上記の各印刷版に
離型処理(シリコンコートやフッ素コート等)を施した
ものを用いてもよい。尚、凹版の場合、版深は、1〜5
0μm以下、好ましくは2〜30μmの範囲とする。
Printing plates (lithographic and intaglio) when offset printing is performed using the blanket of the present invention as described above.
As the plate, a silicon plate, a waterless plate, a resin plate, a metal plate, a glass plate, or the like can be used, and a plate obtained by performing a release treatment (such as a silicon coat or a fluorine coat) on each of the above printing plates is used. You may. In the case of an intaglio, the plate depth is 1 to 5
0 μm or less, preferably in the range of 2 to 30 μm.

【0027】本発明のブランケットは、使用するオフセ
ット印刷機の制限は特にない。図3はオフセット印刷機
の一例を示す平面図であり、図4は図3に示されるオフ
セット印刷機の側面図である。図3および図4におい
て、オフセット印刷機21は、印刷定盤23と印刷版盤
24が所定の間隔で配置され、2本のガイドレール2
5,25が平行に敷設された基台22と、図示しない移
動機構によりガイドレール25,25上を自在に移動可
能な印刷ヘッド26とを備えている。
The blanket of the present invention has no particular limitation on the offset printing press used. FIG. 3 is a plan view showing an example of the offset printing press, and FIG. 4 is a side view of the offset printing press shown in FIG. 3 and 4, the offset printing press 21 has a printing platen 23 and a printing plate 24 arranged at a predetermined interval, and has two guide rails 2.
The base 22 includes a base 22 on which the guides 5 and 25 are laid in parallel, and a print head 26 that can be freely moved on the guide rails 25 and 25 by a moving mechanism (not shown).

【0028】印刷ヘッド26には、昇降可能なブランケ
ットロール27と、第1のインキングロール群28が配
設されている。第1のインキングロール群28は、ロー
ルの回転軸方向に揺動する練りローラや、印刷版にイン
キを塗布するインキ付けロールにより構成される。ま
た、基台22には第2のインキングロール群29と、導
体インキを蓄えるインキブレード30が設けられてい
る。第2のインキングロール群29は、インキブレード
30からインキを出すインキ出しロール、ロールの回転
軸方向に揺動する練りローラにより構成される。
The print head 26 is provided with a vertically movable blanket roll 27 and a first inking roll group 28. The first inking roll group 28 includes a kneading roller that swings in the rotation axis direction of the roll, and an inking roll that applies ink to a printing plate. The base 22 is provided with a second inking roll group 29 and an ink blade 30 for storing conductive ink. The second inking roll group 29 includes an ink discharging roll for discharging ink from the ink blade 30, and a kneading roller that swings in the rotation axis direction of the roll.

【0029】このオフセット印刷機21では、微細パタ
ーン被形成体31(図3に1点鎖線で示す)が印刷定盤
23上に載置され、印刷版32(図3に1点鎖線で示
す)が印刷版盤24に装着される。そして、印刷ヘッド
26は、まず、ガイドレール25,25上を第2のイン
キングロール群29上に移動する。ここで、第2のイン
キングロール群29にて練られて均一になったインキ
が、印刷ヘッド26の第1のインキングロール群28に
転移される。次に、印刷ヘッド26はガイドレール2
5,25上を印刷版盤24に向かって移動し、第1のイ
ンキングロール群28のインキ付けロールによって印刷
版32にインキを塗布する。その後、印刷ヘッド26は
ガイドレール25,25上を第2のインキングロール群
29側に戻り、再び、第2のインキングロール群29に
て練られて均一になったインキが、印刷ヘッド26の第
1のインキングロール群28に転移される。この間、ブ
ランケットロール27は印刷版32に接触しない位置に
上昇している。このインキ塗布動作は複数回行ってもよ
い。
In the offset printing machine 21, a fine pattern substrate 31 (indicated by a dashed line in FIG. 3) is placed on a printing platen 23, and a printing plate 32 (indicated by a dashed line in FIG. 3). Is mounted on the printing plate 24. Then, the print head 26 first moves on the guide rails 25, 25 onto the second inking roll group 29. Here, the ink kneaded and uniformed in the second inking roll group 29 is transferred to the first inking roll group 28 of the print head 26. Next, the print head 26 is mounted on the guide rail 2.
5 and 25 are moved toward the printing plate 24 and ink is applied to the printing plate 32 by the inking rolls of the first inking roll group 28. After that, the print head 26 returns to the second inking roll group 29 side on the guide rails 25, 25, and the ink kneaded and uniformized by the second inking roll group 29 again becomes the print head 26. Is transferred to the first inking roll group 28. During this time, the blanket roll 27 has risen to a position where it does not contact the printing plate 32. This ink application operation may be performed a plurality of times.

【0030】次に、ブランケットロール27を印刷位置
に降下させた状態で印刷ヘッド26が印刷定盤23に向
かって移動する。そして、印刷ヘッド26が印刷版盤2
4を通過するときに、印刷版32の画線部上のインキが
ブランケットロール27に転移し、同時に、第1のイン
キングロール群28のインキ付けロールによって印刷版
32に新たにインキが塗布される。印刷ヘッド26は更
に印刷定盤23に向かって移動し、印刷定盤23に載置
された微細パターン被形成体31にブランケットロール
27からインキが印刷される。その後、印刷ヘッド26
は第2のインキングロール群29側に戻る。
Next, the print head 26 moves toward the printing platen 23 with the blanket roll 27 lowered to the printing position. The printing head 26 is connected to the printing plate 2
4, the ink on the image portion of the printing plate 32 is transferred to the blanket roll 27, and at the same time, the printing plate 32 is newly applied with ink by the inking rolls of the first inking roll group 28. You. The print head 26 further moves toward the printing platen 23, and ink is printed from the blanket roll 27 on the fine pattern forming object 31 placed on the printing platen 23. Then, the print head 26
Returns to the second inking roll group 29 side.

【0031】尚、印刷ヘッド26が第2のインキングロ
ール群29側に戻るときに、ブランケットロール27に
よって微細パターン被形成体31上に重ねて印刷しても
よい。また、印刷ヘッドが第2のインキングロール群2
9側に戻るときに、印刷版32からブランケットロール
27にインキを転移させながら戻り、再び印刷ヘッドが
印刷定盤23に向かって移動するときに、ブランケット
ロール27にインキを重ねて転移させてもよい。このよ
うにすることで、パターンを厚く印刷することができ、
また、孔の発生を防止することができる。
When the print head 26 returns to the second inking roll group 29 side, the blanket roll 27 may be used to print over the fine pattern forming body 31. Also, the print head is in the second inking roll group 2
When returning to the side 9, the ink is transferred from the printing plate 32 to the blanket roll 27 while returning, and when the print head moves again toward the printing platen 23, the ink is transferred to the blanket roll 27 in an overlapping manner. Good. By doing so, the pattern can be printed thickly,
Further, generation of holes can be prevented.

【0032】[0032]

【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

【0033】[実施例1]図1に示されるような構造を
有し、表面ゴム層の表面光沢度が異なる7種のブランケ
ット(試料1−1〜試料1−7)を作製した。表面ゴム
層はNBRを用いて形成し、各ブランケットの表面ゴム
層の表面光沢度はグロスメーター(日本電色工業(株)
製VGS−1001DP)により測定したものであり、
下記の表1に示した。また、各ブランケットの硬度、お
よび、表面ゴム層の硬度をハードネステスター(JIS
Aタイプ)により測定し、表面ゴム層の厚みとともに
下記の表1に示した。
Example 1 Seven types of blankets (Sample 1-1 to Sample 1-7) having the structure shown in FIG. 1 and having different surface glossiness of the surface rubber layer were prepared. The surface rubber layer is formed using NBR, and the surface glossiness of the surface rubber layer of each blanket is measured by a gloss meter (Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.)
VGS-1001DP).
The results are shown in Table 1 below. In addition, the hardness of each blanket and the hardness of the surface rubber layer were measured using a hard nest tester (JIS
A type) and are shown in Table 1 below together with the thickness of the surface rubber layer.

【0034】次に、下記組成の導体インキを調製した。 導体インキの組成 ・銀粉体 … 77.5重量部 (タップ密度4.5g/cm3、比表面積2.4m2、 平均粒径0.3μm、) ・ガラスフリット(Bi23系ガラス(無アルカリ)) … 2.5重量部 (熱膨張係数81×10-7/℃、ガラス転移温度460℃ 軟化点525℃、平均粒径0.9μm) ・樹脂(日本油脂(株)製 マリアリムA4B-0851) … 20重量部 (アリルエーテルと無水マレイン酸、スチレンの共重合体) ・酸化抑制剤(ハイドロキノン(純正化学(株)製) … 0.5重量部Next, a conductive ink having the following composition was prepared. Composition of conductive ink・ Silver powder: 77.5 parts by weight (tap density 4.5 g / cm 3 , specific surface area 2.4 m 2 , average particle diameter 0.3 μm) ・ Glass frit (Bi 2 O 3 glass ( 2.5 parts by weight (coefficient of thermal expansion: 81 × 10 −7 / ° C., glass transition temperature: 460 ° C., softening point: 525 ° C., average particle size: 0.9 μm) Resin (Mariarim A4B manufactured by NOF Corporation) -0851) ... 20 parts by weight (copolymer of allyl ether, maleic anhydride and styrene)-Oxidation inhibitor (hydroquinone (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd.) ... 0.5 parts by weight

【0035】次に、図3および図4に示されるようなオ
フセット印刷機((株)紅羊社製作所製 エクターLC
D印刷機)のブランケットロールに上記の各ブランケッ
ト(試料1−1〜試料1−7)を装着し、調製した上記
の導体インキを用いてガラス基板(ソーダガラス、35
0mm×450mm、厚さ2.1mm)に下記の印刷条
件でパターン印刷を行い、その後、焼成(580℃に1
0分間保持)を行って電極パターンを形成した。
Next, an offset printing machine as shown in FIGS.
D printing machine), each blanket (Sample 1-1 to Sample 1-7) is mounted on a blanket roll, and a glass substrate (soda glass, 35
0 mm x 450 mm, thickness 2.1 mm), pattern printing is performed under the following printing conditions, and then firing (1 minute at 580 ° C)
(Holding for 0 minutes) to form an electrode pattern.

【0036】印刷条件 印刷速度 : 500mm/秒 印圧 : 0.1mm(印刷版上、基板上ともに) 印刷回数 : 2回 使用印刷版: 東レ(株)製水無し版(DG−2)、
(画線部の幅50μm) 上述の電極パターン形成で得た電極パターンの解像性、
膜厚うねり、膜厚を測定して、結果を下記の表1に示し
た。
Printing conditions Printing speed: 500 mm / sec Printing pressure: 0.1 mm (both on the printing plate and on the substrate) Number of printings: twice Printing plates used: Waterless plate (DG-2) manufactured by Toray Industries, Inc.
(50 μm width of the image area) The resolution of the electrode pattern obtained by the above-described electrode pattern formation,
The waviness and thickness of the film were measured, and the results are shown in Table 1 below.

【0037】[0037]

【表1】 表1に示されるように、表面ゴム層の表面光沢度が1〜
90°の範囲にあるブランケット(試料1−1〜試料1
−6)を用いてオフセット印刷によりパターン印刷を行
い焼成して得られた電極パターンでは、ラインの解像性
は40〜50μmが確保され、また、膜厚のうねりは2
μm以下であり、膜厚は8μmが確保され、比抵抗は約
3μΩ・cmであり、良好な電極パターンが得られた。
特に、表面ゴム層の表面光沢度が50〜90°の範囲に
あるブランケット(試料1−1〜試料1−3)を用いた
場合、ラインの解像性は40μmが確保され、また、膜
厚のうねりは1μm以下であり、さらに良好な電極パタ
ーンが得られた。
[Table 1] As shown in Table 1, the surface glossiness of the surface rubber layer was 1 to
Blanket in the range of 90 ° (Sample 1-1 to Sample 1)
In the electrode pattern obtained by performing pattern printing by offset printing using -6) and firing, the line resolution is 40 to 50 μm, and the undulation of the film thickness is 2 μm.
μm or less, the film thickness was 8 μm, the specific resistance was about 3 μΩ · cm, and a good electrode pattern was obtained.
In particular, when a blanket (sample 1-1 to sample 1-3) in which the surface glossiness of the surface rubber layer is in the range of 50 to 90 ° is used, the resolution of the line is 40 μm, and the film thickness is The undulation was 1 μm or less, and a better electrode pattern was obtained.

【0038】これに対して、表面ゴム層の表面光沢度が
0.5°であるブランケット(試料1−7)を用いてオ
フセット印刷によりパターン印刷を行い焼成して得られ
た電極パターンでは、膜厚は10μmが確保されている
が、ラインの解像性が70μmと大きく、また、膜厚の
うねりが4μmであり、電極パターンとして実用に供し
得ないものであった。
On the other hand, in the electrode pattern obtained by performing pattern printing by offset printing using a blanket (sample 1-7) in which the surface glossiness of the surface rubber layer is 0.5 ° and firing the film, Although a thickness of 10 μm was ensured, the line resolution was as large as 70 μm, and the undulation of the film thickness was 4 μm, which was not practical for use as an electrode pattern.

【0039】[実施例2]図1に示されるような構造を
有し、硬度が異なる4種のブランケット(試料2−1〜
試料2−4)を作製した。各ブランケットの表面ゴム層
の表面光沢度、ブランケットの硬度、表面ゴム層の硬度
を実施例1と同様に測定して、表面ゴム層の厚みととも
に下記の表2に示した。尚、表面ゴム層のゴム材料は表
2に示したものを使用した。
Example 2 Four types of blankets (samples 2-1 to 4-2) having a structure as shown in FIG.
Sample 2-4) was produced. The surface glossiness of the surface rubber layer of each blanket, the hardness of the blanket, and the hardness of the surface rubber layer were measured in the same manner as in Example 1, and are shown in Table 2 below together with the thickness of the surface rubber layer. The rubber material of the surface rubber layer used was as shown in Table 2.

【0040】次に、上記の各ブランケットを使用し、実
施例1と同様の導体インキとオフセット印刷機を用いて
電極パターンを形成した。印刷条件および焼成条件は実
施例1と同様とした。上述の電極パターン形成で得た電
極パターンの解像性、膜厚うねり、膜厚を測定して、結
果を下記の表2に示した。
Next, using each of the above blankets, an electrode pattern was formed using the same conductive ink and offset printing machine as in Example 1. Printing conditions and firing conditions were the same as in Example 1. The resolution, thickness waviness, and thickness of the electrode pattern obtained by the above-described electrode pattern formation were measured, and the results are shown in Table 2 below.

【0041】[0041]

【表2】 表2に示されるように、ブランケットの硬度が70〜9
0°の範囲にあるブランケット(試料2−2〜試料2−
3)を用いてオフセット印刷によりパターン印刷を行い
焼成して得られた電極パターンでは、ラインの解像性は
40μmが確保され、また、膜厚のうねりは1μm以下
であり、膜厚は8μmが確保され、比抵抗は約3μΩ・
cmであり、良好な電極パターンが得られた。
[Table 2] As shown in Table 2, the hardness of the blanket was 70-9.
Blanket in the range of 0 ° (Sample 2-2 to Sample 2-
In the electrode pattern obtained by performing pattern printing by offset printing using 3) and firing it, the line resolution is 40 μm, the undulation of the film thickness is 1 μm or less, and the film thickness is 8 μm. Is secured and the specific resistance is about 3μΩ
cm and a good electrode pattern was obtained.

【0042】これに対して、硬度が100°であるブラ
ンケット(試料2−1)を用いてオフセット印刷により
パターン印刷を行い焼成して得られた電極パターンは、
ラインの解像性が50μmとやや大きいものであった。
On the other hand, an electrode pattern obtained by performing pattern printing by offset printing using a blanket (sample 2-1) having a hardness of 100 ° and firing it is as follows:
The line resolution was as large as 50 μm.

【0043】さらに、硬度が60°であるブランケット
(試料2−4)を用いてオフセット印刷によりパターン
印刷を行い焼成して得られた電極パターンでは、膜厚、
ラインの解像性が良好であるものの、膜厚のうねりが4
μmであり、電極パターンとして実用に供し得ないもの
であった。
Further, in the electrode pattern obtained by performing pattern printing by offset printing using a blanket (sample 2-4) having a hardness of 60 ° and firing, the film thickness,
Line resolution is good, but film undulation is 4
μm, which was not practical for use as an electrode pattern.

【0044】[実施例3]図1に示されるような構造を
有し、表面ゴム層の硬度が異なる4種のブランケット
(試料3−1〜試料3−4)を作製した。各ブランケッ
トの表面ゴム層の表面光沢度、ブランケットの硬度、表
面ゴム層の硬度を実施例1と同様に測定して、表面ゴム
層の厚みとともに下記の表3に示した。尚、表面ゴム層
のゴム材料は表3に示すものを使用した。
Example 3 Four types of blankets (Sample 3-1 to Sample 3-4) having the structure shown in FIG. 1 and having different hardnesses of the surface rubber layer were prepared. The surface glossiness of the surface rubber layer of each blanket, the hardness of the blanket, and the hardness of the surface rubber layer were measured in the same manner as in Example 1, and are shown in Table 3 below together with the thickness of the surface rubber layer. The rubber material shown in Table 3 was used for the surface rubber layer.

【0045】次に、上記の各ブランケットを使用し、実
施例1と同様の導体インキとオフセット印刷機を用いて
電極パターンを形成した。印刷条件および焼成条件は実
施例1と同様とした。上述の電極パターン形成で得た電
極パターンの解像性、膜厚うねり、膜厚を測定して、結
果を下記の表3に示した。
Next, using the above blankets, an electrode pattern was formed using the same conductive ink and offset printing machine as in Example 1. Printing conditions and firing conditions were the same as in Example 1. The resolution, thickness waviness, and film thickness of the electrode pattern obtained by the above-described electrode pattern formation were measured, and the results are shown in Table 3 below.

【0046】[0046]

【表3】 表3に示されるように、表面ゴム層の硬度が40〜80
°の範囲にあるブランケット(試料3−2〜試料3−
3)を用いてオフセット印刷によりパターン印刷を行い
焼成して得られた電極パターンでは、ラインの解像性は
40μmが確保され、また、膜厚のうねりは1μm以下
であり、膜厚は8μmが確保され、比抵抗は約3μΩ・
cmであり、良好な電極パターンが得られた。
[Table 3] As shown in Table 3, the hardness of the surface rubber layer was 40 to 80.
° blanket (sample 3-2 to sample 3-
In the electrode pattern obtained by performing pattern printing by offset printing using 3) and firing it, the line resolution is 40 μm, the undulation of the film thickness is 1 μm or less, and the film thickness is 8 μm. Is secured and the specific resistance is about 3μΩ
cm and a good electrode pattern was obtained.

【0047】これに対して、表面ゴム層の硬度が90°
であるブランケット(試料3−1)を用いてオフセット
印刷によりパターン印刷を行い焼成して得られた電極パ
ターンは、ラインの解像性が60μmと大きいものであ
った。
On the other hand, the hardness of the surface rubber layer is 90 °
The electrode pattern obtained by performing pattern printing by offset printing using the blanket (sample 3-1) and firing was as large as 60 μm in line resolution.

【0048】さらに、表面ゴム層の硬度が38°である
ブランケット(試料3−4)を用いてオフセット印刷に
よりパターン印刷を行い焼成して得られた電極パターン
では、膜厚、ラインの解像性が良好であるものの、膜厚
のうねりが4μmであり、電極パターンとして実用に供
し得ないものであった。
Further, in an electrode pattern obtained by performing pattern printing by offset printing using a blanket (sample 3-4) in which the hardness of the surface rubber layer is 38 ° and firing it, the film thickness and line resolution Was good, but the undulation of the film thickness was 4 μm, which was not practical for use as an electrode pattern.

【0049】[実施例4]図1に示されるような構造を
有し、表面ゴム層の厚みが異なる6種のブランケット
(試料4−1〜試料4−6)を作製した。表面ゴム層は
NBRを用いて形成し、各ブランケットの表面ゴム層の
表面光沢度、ブランケットの硬度、表面ゴム層の硬度を
実施例1と同様に測定して、表面ゴム層の厚みとともに
下記の表4に示した。
Example 4 Six types of blankets (Sample 4-1 to Sample 4-6) having the structure shown in FIG. 1 and having different thicknesses of the surface rubber layer were prepared. The surface rubber layer was formed using NBR, and the surface glossiness of the surface rubber layer of each blanket, the hardness of the blanket, and the hardness of the surface rubber layer were measured in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 4.

【0050】次に、上記の各ブランケットを使用し、実
施例1と同様の導体インキとオフセット印刷機を用い
て、電極パターンを形成した。印刷条件および焼成条件
は実施例1と同様とした。
Next, using each of the above blankets, an electrode pattern was formed using the same conductive ink and offset printing machine as in Example 1. Printing conditions and firing conditions were the same as in Example 1.

【0051】上述の電極パターン形成で得た電極パター
ンの解像性、膜厚うねり、膜厚を測定して、結果を下記
の表4に示した。尚、解像性は、上述の実施例1〜3と
同じ印刷方向に沿ったパターンの解像性の他に、印刷方
向に対して斜め方向(60°)のパターンの解像性、印
刷方向に垂直方向(90°)のパターンの解像性も測定
した。
The resolution, undulation and thickness of the electrode pattern obtained by the above-described electrode pattern formation were measured, and the results are shown in Table 4 below. In addition, in addition to the resolution of the pattern in the same printing direction as in the above-described Examples 1 to 3, the resolution of the pattern in the oblique direction (60 °) with respect to the printing direction and the printing direction The resolution of the pattern in the vertical direction (90 °) was also measured.

【0052】[0052]

【表4】 表4に示されるように、表面ゴム層の厚みが0.2〜1
mmの範囲にあるブランケット(試料4−2〜試料4−
5)を用いてオフセット印刷によりパターン印刷を行い
焼成して得られた電極パターンでは、ラインの解像性
(印刷方向に沿ったパターンの解像性)は40μmが確
保され、また、膜厚のうねりは1μm以下であり、膜厚
は8μmが確保され、比抵抗は約3μΩ・cmであり、
良好な電極パターンが得られた。さらに、印刷方向に対
して斜め方向(60°)のパターンの解像性は50〜6
0μmであり、垂直方向(90°)のパターンの解像性
は70〜80μmであり、試料4−2(表面ゴム層厚み
=1mm)を用いた場合がやや大きいものの、実用レベ
ルにある。
[Table 4] As shown in Table 4, the thickness of the surface rubber layer was 0.2 to 1
mm blanket (sample 4-2 to sample 4-
In the electrode pattern obtained by performing pattern printing and firing by offset printing using 5), the line resolution (resolution of the pattern along the printing direction) is 40 μm, and the film thickness is The undulation is 1 μm or less, the film thickness is 8 μm, the specific resistance is about 3 μΩ · cm,
A good electrode pattern was obtained. Further, the resolution of the pattern in the oblique direction (60 °) with respect to the printing direction is 50 to 6
0 μm, and the resolution of the pattern in the vertical direction (90 °) is 70 to 80 μm. When the sample 4-2 (surface rubber layer thickness = 1 mm) is used, it is on a practical level.

【0053】これに対して、表面ゴム層の厚みが1.3
mmであるブランケット(試料4−1)を用いてオフセ
ット印刷によりパターン印刷を行い焼成して得られた電
極パターンは、ラインの解像性(印刷方向に沿ったパタ
ーンの解像性)が60μmと大きく、さらに、印刷方向
に対して斜め方向(60°)、垂直方向(90°)のパ
ターンの解像性は、いずれも300μmを超えるもので
あり、電極パターンとして実用に供し得ないものであっ
た。
On the other hand, the thickness of the surface rubber layer was 1.3.
The electrode pattern obtained by performing pattern printing by offset printing using a blanket (sample 4-1) having a thickness of 2 mm and firing it has a line resolution (pattern resolution along the printing direction) of 60 μm. The resolution of the pattern in the direction oblique (60 °) and the direction perpendicular to the printing direction (90 °) is more than 300 μm, which is not practical for an electrode pattern. Was.

【0054】一方、表面ゴム層の厚みが0.1mmであ
るブランケット(試料4−6)を用いてオフセット印刷
によりパターン印刷を行い焼成して得られた電極パター
ンでは、膜厚、ラインの解像性が良好で、膜厚のうねり
も1μm以下であるが、ブランケットの表面状態が悪
く、これが電極パターンの表面形状に悪影響を与え、電
極パターンとして実用に供し得ないものであった。
On the other hand, in an electrode pattern obtained by performing pattern printing by offset printing using a blanket (sample 4-6) having a surface rubber layer having a thickness of 0.1 mm and baking it, the film thickness and line resolution Although the properties were good and the undulation of the film thickness was 1 μm or less, the surface condition of the blanket was bad, which had a bad influence on the surface shape of the electrode pattern and could not be put to practical use as an electrode pattern.

【0055】[0055]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば表
面ゴム層の表面光沢度を1〜90°の範囲内とすること
により、高いインキ転移率をもち、かつ、インキ受理性
に優れたブランケットが可能となり、このブランケット
を使用して凹版オフセット印刷あるいは平版オフセット
印刷により、線幅50μm程度の高精細パターンを形成
することができる。そして、本発明のブランケットは、
基板上にオフセット印刷法により導体インキを高い精度
で印刷できるので、高精度の電極パターン形成が可能と
なる。さらに、本発明のブランケットは、レジスト材料
インキをオフセット印刷法により高い精度で印刷できる
ので、ブラストマスク等の微細マスクパターン形成が可
能である。
As described in detail above, according to the present invention, by setting the surface glossiness of the surface rubber layer within the range of 1 to 90 °, it is possible to obtain a high ink transfer rate and improve the ink receptivity. An excellent blanket can be formed, and a high-definition pattern having a line width of about 50 μm can be formed by intaglio offset printing or planographic offset printing using the blanket. And the blanket of the present invention is
Since the conductive ink can be printed on the substrate by the offset printing method with high accuracy, it is possible to form the electrode pattern with high accuracy. Further, the blanket of the present invention can print a resist material ink with high accuracy by an offset printing method, so that a fine mask pattern such as a blast mask can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のブランケットの一実施形態を示す概略
断面図である。
FIG. 1 is a schematic sectional view showing one embodiment of a blanket of the present invention.

【図2】本発明のブランケットの他の実施形態を示す概
略断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing another embodiment of the blanket of the present invention.

【図3】本発明のブランケットを使用するオフセット印
刷機の一例を示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing an example of an offset printing press using the blanket of the present invention.

【図4】図3に示されるオフセット印刷機の側面図であ
る。
FIG. 4 is a side view of the offset printing press shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ブランケット 2,4,6…基布 3…接着層 5…クッション層 7…表面ゴム層 11…ブランケット 12…フィルム基材 13…接着層 14…表面ゴム層 21…平版オフセット印刷機 23…印刷定盤 24…印刷版盤 25…ガイドレール 26…印刷ヘッド 27…ブランケットロール 28…第1のインキングロール 29…第2のインキングロール DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Blanket 2, 4, 6 ... Base cloth 3 ... Adhesive layer 5 ... Cushion layer 7 ... Surface rubber layer 11 ... Blanket 12 ... Film base material 13 ... Adhesive layer 14 ... Surface rubber layer 21 ... Planographic offset printing machine 23 ... Printing Surface plate 24 printing plate 25 guide rail 26 print head 27 blanket roll 28 first inking roll 29 second inking roll

フロントページの続き (72)発明者 小坂 陽三 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 Fターム(参考) 2H114 AA02 AA04 CA04 CA10 DA46 EA05 FA02 FA10 5C027 AA01 Continuation of the front page (72) Inventor Yozo Kosaka 1-1-1 Ichigaya-Kaga-cho, Shinjuku-ku, Tokyo Dai-Nippon Printing Co., Ltd. F-term (reference) 2H114 AA02 AA04 CA04 CA10 DA46 EA05 FA02 FA10 5C027 AA01

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 最表面に表面ゴム層を備え、該表面ゴム
層は表面光沢度が1〜90°の範囲内であることを特徴
とするブランケット。
1. A blanket comprising a surface rubber layer on the outermost surface, wherein the surface rubber layer has a surface gloss within a range of 1 to 90 °.
【請求項2】 硬度が70〜90°の範囲内にあること
を特徴とする請求項1に記載のブランケット。
2. The blanket according to claim 1, wherein the hardness is in a range of 70 to 90 °.
【請求項3】 前記表面ゴム層は厚みが0.2〜1mm
の範囲内にあることを特徴とする請求項1または請求項
2に記載のブランケット。
3. The surface rubber layer has a thickness of 0.2 to 1 mm.
The blanket according to claim 1 or claim 2, wherein
【請求項4】 前記表面ゴム層は硬度が40〜80°の
範囲内にあることを特徴とする請求項1乃至請求項3の
いずれかに記載のブランケット。
4. The blanket according to claim 1, wherein the surface rubber layer has a hardness within a range of 40 to 80 °.
【請求項5】 プラズマディスプレイパネルの電極形成
用であることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいず
れかに記載のブランケット。
5. The blanket according to claim 1, wherein the blanket is used for forming an electrode of a plasma display panel.
JP2000075239A 2000-03-17 2000-03-17 Blanket Pending JP2001260563A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000075239A JP2001260563A (en) 2000-03-17 2000-03-17 Blanket

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000075239A JP2001260563A (en) 2000-03-17 2000-03-17 Blanket

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001260563A true JP2001260563A (en) 2001-09-25

Family

ID=18593156

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000075239A Pending JP2001260563A (en) 2000-03-17 2000-03-17 Blanket

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001260563A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6853001B2 (en) 2001-01-09 2005-02-08 Sumitomo Rubber Industries, Ltd. Electrode substrate of plasma display panel and method for making the same
CN100404248C (en) * 2003-02-04 2008-07-23 卡巴-乔利有限公司 Blanket cylinder for an intaglio printing machine

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6853001B2 (en) 2001-01-09 2005-02-08 Sumitomo Rubber Industries, Ltd. Electrode substrate of plasma display panel and method for making the same
CN100404248C (en) * 2003-02-04 2008-07-23 卡巴-乔利有限公司 Blanket cylinder for an intaglio printing machine

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6995031B2 (en) Electrode substrate of plasma display panel and method for making the same
JP4195635B2 (en) Offset printing method and printing ink used therefor
JP4139053B2 (en) Method for manufacturing front plate for plasma display panel
KR20020077034A (en) Resin letterpress for forming film
CN103764402B (en) Forme and prepare the method for described forme
JP2001260563A (en) Blanket
JPH06143855A (en) Screen printing plate and production thereof
JPH09214108A (en) Pattern forming method and pattern forming equipment
JP3532146B2 (en) Transparent electromagnetic wave shielding member and method of manufacturing the same
JP2001234106A (en) Conductor ink
JP2002133944A (en) Conductive ink composition, method for printing very fine pattern using the same, and manufacturing method of translucent electromagnetic shield member
JP3920944B2 (en) Pattern forming paste and pattern forming method
JPH0361593A (en) Printing plate and printing apparatus
JP2002245931A (en) Method of manufacturing electrode substrate for plasma display panel
JP2001264962A (en) Offset printing plate
JP2001297691A (en) Method of producing plasma display panel
JP2002316487A (en) Blanket and method for forming minute electrode pattern by offset printing by using the same
JP2003311916A (en) Method for printing thick film pattern and method for printing electrode pattern of plasma display panel
JP2000117938A (en) Screen printing machine
JPH09318805A (en) Production of liquid crystal color filter
JPH05111996A (en) Membrane pattern forming device
JP2002316471A (en) Electrode pattern forming method by offset printing
JP2002316404A (en) Electrode pattern forming method and offset press using the same
JP2010264632A (en) Offset printing method and method for manufacturing electromagnetic wave shield
JP2004345134A (en) Method for intaglio offset printing

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060322

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070424

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070601

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070601

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070724

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20071211