JPH09214108A - Pattern forming method and pattern forming equipment - Google Patents

Pattern forming method and pattern forming equipment

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Publication number
JPH09214108A
JPH09214108A JP24430596A JP24430596A JPH09214108A JP H09214108 A JPH09214108 A JP H09214108A JP 24430596 A JP24430596 A JP 24430596A JP 24430596 A JP24430596 A JP 24430596A JP H09214108 A JPH09214108 A JP H09214108A
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JP
Japan
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ink
blanket
intaglio plate
pattern forming
intaglio
Prior art date
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Pending
Application number
JP24430596A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takuya Hamaguchi
卓也 浜口
Katsuhiko Mizuno
克彦 水野
Takeshi Nakamura
中村  剛
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication of JPH09214108A publication Critical patent/JPH09214108A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method and a pattern forming equipment which can simply form a pattern of high precision. SOLUTION: Ink retained on an intaglis 2 is once transferred on a blanket B, and then transferred on a board S to be printed. At this time, the steady flow viscosity of used ink is set to be in a range of 300-3000 poise, the critical surface tension of the blanket is set to be 20-30 dyne/cm, the hardness is set to be 40-80 deg., and the viscoelasticity tan δ is set to be in a range of 0.05-0.20. The ink transferred on the board S to be printed is baked and made a pattern.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、集積回路や画像表
示装置等の電子装置におけるパターン形成方法と、パタ
ーン形成装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a pattern forming method in an electronic device such as an integrated circuit or an image display device, and a pattern forming device.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、集積回路や画像表示装置等の電子
装置における電極、抵抗体、誘電体等のパターンは、よ
り高い精度で、かつ、低い製造コストでの形成が可能な
ことが要求されている。
2. Description of the Related Art In recent years, patterns of electrodes, resistors, dielectrics and the like in electronic devices such as integrated circuits and image display devices have been required to be formed with higher accuracy and at lower manufacturing cost. ing.

【0003】従来、上記のような電子装置におけるパタ
ーン形成方法としては、蒸着、スパッタリング、メッキ
等により形成した所望の特性を有する薄膜をフォトリソ
グラフィー法によりエッチングする薄膜エッチング法、
スクリーン印刷法等によりインキを塗布して形成した膜
をフォトリソグラフィー法によりエッチングする厚膜エ
ッチング法、スクリーン印刷法、凹版オフセット法等の
印刷法等が挙げられる。
Conventionally, as a pattern forming method in the electronic device as described above, a thin film etching method in which a thin film having desired characteristics formed by vapor deposition, sputtering, plating or the like is etched by photolithography,
Examples thereof include a thick film etching method in which a film formed by applying ink by a screen printing method or the like is etched by a photolithography method, a printing method such as a screen printing method, an intaglio offset method, and the like.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
薄膜エッチング法や厚膜エッチング法では、高精度のパ
ターンを形成することが可能であるが、エッチング工程
を有するために製造コストが高くなってしまうという問
題があった。また、例えば、40〜50インチサイズの
大型画像表示装置のような大面積の基板に電極等のパタ
ーンを形成する場合には、大型薄膜形成装置、大型露光
装置、大型エッチング装置が多数必要となり、この点で
も製造コストの増大を来すという問題があった。
However, although the above-mentioned thin film etching method and thick film etching method can form a highly accurate pattern, the manufacturing cost becomes high because of the etching step. There was a problem. Further, for example, in the case of forming a pattern such as an electrode on a large-area substrate such as a large image display device of 40 to 50 inches, a large number of large thin film forming devices, large exposure devices, and large etching devices are required, In this respect as well, there is a problem that the manufacturing cost increases.

【0005】また、上述のスクリーン印刷法は、エッチ
ング工程がなく、上記の薄膜エッチング法や厚膜エッチ
ング法に比べて工程が簡略であることから製造コスト低
減が期待されていたが、集積回路のように微小面積に回
路が集中している場合や、近年大型化が進んでいる画像
表示装置、例えば、40〜50インチサイズの大型化を
めざすプラズマディスプレイパネル(PDP)に用いら
れる電極パターンの場合には、要求される寸法精度を満
たすことができないという問題がある。特に、大型画像
表示装置の電極パターンを形成する場合、その周辺部で
の寸法精度の低下が生じて実用に供し得ないものであ
る。
Further, since the screen printing method described above does not have an etching step and is simpler than the above-described thin film etching method and thick film etching method, it is expected to reduce the manufacturing cost. In the case where the circuits are concentrated in a very small area, or in the case of an electrode pattern used in an image display device which has recently been increased in size, for example, a plasma display panel (PDP) aiming at an increase in size of 40 to 50 inches. Has a problem that the required dimensional accuracy cannot be satisfied. In particular, when the electrode pattern of a large-sized image display device is formed, the dimensional accuracy of the peripheral portion of the electrode pattern is reduced, which is not practical.

【0006】また、従来の凹版オフセット法では、ブラ
ンケットから被印刷基板へのインキの転移率が低く、連
続印刷時の膜厚、線幅の変動が大きく、要求される寸法
精度をもつパターンを安定して連続印刷するのは困難で
あった。
Further, in the conventional intaglio offset method, the transfer rate of ink from the blanket to the substrate to be printed is low, the film thickness and the line width vary greatly during continuous printing, and a pattern having the required dimensional accuracy is stabilized. It was difficult to print continuously.

【0007】本発明は、上記のような事情に鑑みてなさ
れたものであり、高精度のパターンを簡便に形成するこ
とのできるパターン形成方法と、パターン形成装置を提
供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a pattern forming method and a pattern forming apparatus capable of easily forming a highly accurate pattern.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明のパターン形成方法は、定常流粘度が
300〜3000poise の範囲にあるインキと、臨界表
面張力が20〜30dyne/cm 、硬度が40〜80°、粘
弾性 tanδが0.05〜0.20の範囲にあるブランケ
ットとを使用し、凹版に保持されたインキを一旦ブラン
ケット上に転移させた後、該インキをブランケット上か
ら被印刷基板上に転移させ、その後、前記インキを焼成
するような構成とした。
In order to achieve such an object, the pattern forming method of the present invention comprises an ink having a steady flow viscosity of 300 to 3000 poise and a critical surface tension of 20 to 30 dyne / cm. Using a blanket having a hardness of 40 to 80 ° and a viscoelasticity tan δ of 0.05 to 0.20, the ink held in the intaglio is once transferred onto the blanket, and then the ink is placed on the blanket. From the ink to the substrate to be printed, and then the ink is baked.

【0009】また、本発明のパターン形成方法は、前記
インキが導電性粉末を40〜90重量%、ガラス粉末を
1〜10重量%、バインダー樹脂を5〜55重量%の範
囲で含有する導電性インキであるような構成とした。
In the pattern forming method of the present invention, the ink contains 40 to 90% by weight of conductive powder, 1 to 10% by weight of glass powder, and 5 to 55% by weight of binder resin. It is configured to be ink.

【0010】パターン形成装置の第1の発明は、凹版
と、該凹版にインキを供給するインキ供給部と、前記イ
ンキ供給部から前記凹版に供給されたインキの不要部分
を掻き取るためのドクター部と、前記凹版に保持された
インキを一旦受理して被印刷基板上に転移するためのブ
ランケット胴と、前記被印刷基板を載置するステージと
を備え、前記ブランケット胴は、臨界表面張力が20〜
30dyne/cm 、硬度が40〜80°、粘弾性 tanδが
0.05〜0.20の範囲にあるブランケットを周面に
装着するような構成とした。
A first aspect of the pattern forming apparatus is an intaglio plate, an ink supply unit for supplying ink to the intaglio plate, and a doctor unit for scraping off unnecessary portions of the ink supplied from the ink supply unit to the intaglio plate. A blanket cylinder for once receiving the ink held in the intaglio and transferring it to the substrate to be printed, and a stage for mounting the substrate to be printed. The blanket cylinder has a critical surface tension of 20. ~
A blanket having a hardness of 30 dyne / cm, a hardness of 40 to 80 ° and a viscoelasticity tan δ of 0.05 to 0.20 was attached to the peripheral surface.

【0011】また、本発明のパターン形成装置は、前記
ドクター部によるインキ掻き取り後に前記凹版上に残留
したインキを拭き取るためのインキ拭取部を備えたよう
な構成とした。
Further, the pattern forming apparatus of the present invention is configured to have an ink wiping portion for wiping off the ink remaining on the intaglio plate after the ink is wiped off by the doctor portion.

【0012】さらに、本発明のパターン形成装置は、前
記凹版がシリンダー状であるような構成とし、また、前
記ブランケット胴は、前記シリンダー状の凹版と離接可
能であるような構成とした。
Further, the pattern forming apparatus of the present invention is configured such that the intaglio plate has a cylindrical shape, and the blanket cylinder is capable of being brought into contact with and separated from the cylindrical intaglio plate.

【0013】パターン形成装置の第2の発明は、凹版
と、該凹版にインキを供給するインキ供給部と、前記イ
ンキ供給部から前記凹版に供給されたインキの不要部分
を掻き取るためのドクター部と、前記凹版に保持された
インキを一旦受理して被印刷基板上に転移するための長
尺状のブランケットが巻き回された送り出しローラと、
該送り出しローラから送り出されたブランケットを前記
凹版に接触させてインキを受理させるための圧胴と、該
圧胴を通過した前記ブランケットを巻き取るための巻き
取りローラと、前記圧胴と前記巻き取りローラとの間の
前記ブランケット搬送路に設けたバックアップローラ
と、前記被印刷基板を載置するステージとを備え、前記
ブランケットは、臨界表面張力が20〜30dyne/cm 、
硬度が40〜80°、粘弾性 tanδが0.05〜0.2
0の範囲にあるような構成とした。
A second aspect of the pattern forming apparatus is an intaglio plate, an ink supply unit for supplying ink to the intaglio plate, and a doctor unit for scraping off unnecessary portions of the ink supplied from the ink supply unit to the intaglio plate. And a delivery roller around which a long blanket for receiving the ink held in the intaglio and transferring it to the substrate to be printed is wound,
An impression cylinder for bringing the blanket sent out from the sending roller into contact with the intaglio plate to receive ink, a take-up roller for taking up the blanket passing through the impression cylinder, the impression cylinder and the take-up A backup roller provided in the blanket transporting path between the roller and a roller; and a stage on which the substrate to be printed is placed. The blanket has a critical surface tension of 20 to 30 dyne / cm 2,
Hardness is 40-80 °, viscoelasticity tan δ is 0.05-0.2
The configuration is set to be in the range of 0.

【0014】また、本発明のパターン形成装置は、前記
ドクター部によるインキ掻き取り後に前記凹版上に残留
したインキを拭き取るためのインキ拭取部を備えたよう
な構成とした。
Further, the pattern forming apparatus of the present invention is configured to have an ink wiping portion for wiping off the ink remaining on the intaglio plate after the ink is wiped off by the doctor portion.

【0015】さらに、本発明のパターン形成装置は、前
記凹版がシリンダー状であるような構成とし、また、前
記圧胴が前記シリンダー状の凹版と離接可能であるよう
な構成とした。
Further, the pattern forming apparatus of the present invention is configured such that the intaglio plate has a cylindrical shape, and the impression cylinder can be brought into contact with and separated from the cylindrical intaglio plate.

【0016】そして、本発明のパターン形成装置は、上
述の凹版を20〜100℃の範囲で温度調整が可能であ
るような構成とした。
In the pattern forming apparatus of the present invention, the intaglio plate is constructed so that the temperature can be adjusted within the range of 20 to 100 ° C.

【0017】上記のような本発明は、凹版に保持された
インキが一旦ブランケット上に転移された後に被印刷基
板上に転移されるが、この際、インキの定常流粘度が3
00〜3000poise の範囲にあり、ブランケットの臨
界表面張力が20〜30dyne/cm 、硬度が40〜80
°、粘弾性 tanδが0.05〜0.20の範囲にあるた
め、ブランケットから被印刷基板へのインキの転移率が
極めて高く、凹版の微細パターンを忠実に再現した高精
細なパターンを被印刷基板上に形成することができる。
According to the present invention as described above, the ink held on the intaglio plate is once transferred onto the blanket and then transferred onto the substrate to be printed. At this time, the steady flow viscosity of the ink is 3
It is in the range of 00 to 3000 poise, the critical surface tension of the blanket is 20 to 30 dyne / cm, and the hardness is 40 to 80.
°, viscoelasticity tan δ is in the range of 0.05 to 0.20, the transfer rate of ink from the blanket to the substrate to be printed is extremely high, and a high-definition pattern that faithfully reproduces the fine pattern of the intaglio plate is printed. It can be formed on a substrate.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の最良の実施形態に
ついて説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The preferred embodiments of the present invention will be described below.

【0019】まず、本発明のパターン形成装置について
説明する。図1は、本発明のパターン形成装置の第1の
実施形態を示す概略構成図である。図1において、パタ
ーン形成装置1は、シリンダー状の凹版2、この凹版2
にインキを供給するためのインキ供給部3、凹版2に供
給されたインキの不要部分を掻き取るためのドクター部
4、ブランケットBを周面に装着したブランケット胴
5、被印刷基板Sを載置するステージ6、凹版2のイン
キを拭き取るためのインキ拭取部7、および、ブランケ
ット洗浄部8とを備えている。
First, the pattern forming apparatus of the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a first embodiment of a pattern forming apparatus of the present invention. In FIG. 1, the pattern forming apparatus 1 includes a cylinder-shaped intaglio 2, and this intaglio 2
An ink supply unit 3 for supplying ink to the ink, a doctor unit 4 for scraping off unnecessary portions of the ink supplied to the intaglio 2, a blanket cylinder 5 having a blanket B mounted on its peripheral surface, and a substrate S to be printed are placed. A stage 6 for cleaning, an ink wiping unit 7 for wiping the ink of the intaglio 2, and a blanket cleaning unit 8 are provided.

【0020】また、図2は、本発明のパターン形成装置
の第2の実施形態を示す概略構成図である。図2におい
て、パターン形成装置11は、シリンダー状の凹版1
2、この凹版12にインキを供給するためのインキ供給
部13、凹版12に供給されたインキの不要部分を掻き
取るためのドクター部14、凹版12に保持されたイン
キを一旦受理して被印刷基板上に転移するための長尺状
のブランケットBが巻き回された送り出しローラ15
と、この送り出しローラ15から送り出されたブランケ
ットBを凹版12に接触させてインキを受理させるため
の圧胴16と、圧胴を通過したブランケットBを巻き取
るための巻き取りローラ18と、圧胴16と巻き取りロ
ーラ18との間のブランケット搬送路に設けたバックア
ップローラ17、搬送ローラ19、被印刷基板Sを載置
するステージ20、および、凹版12のインキを拭き取
るためのインキ拭取部21とを備えている。
FIG. 2 is a schematic block diagram showing a second embodiment of the pattern forming apparatus of the present invention. In FIG. 2, the pattern forming device 11 is a cylindrical intaglio 1
2. An ink supply unit 13 for supplying ink to the intaglio plate 12, a doctor unit 14 for scraping off unnecessary portions of the ink supplied to the intaglio plate 12, and an ink held in the intaglio plate 12 for once receiving and printing A delivery roller 15 around which a long blanket B for transferring onto a substrate is wound.
An impression cylinder 16 for bringing the blanket B sent from the sending roller 15 into contact with the intaglio 12 to receive ink, a take-up roller 18 for taking up the blanket B that has passed through the impression cylinder, and an impression cylinder. 16, a backup roller 17 provided in a blanket transport path between the take-up roller 18 and the take-up roller 18, a transport roller 19, a stage 20 on which the substrate S to be printed is placed, and an ink wiping unit 21 for wiping ink off the intaglio plate 12. It has and.

【0021】凹版2,12は、画線部と非画線部とを備
えており、画線部はパターンを形成するための溝形状を
なし、通常、画線部の溝の長手方向が凹版2,12のシ
リンダー周長方向となるようにすることが好ましい。
The intaglio plates 2 and 12 are provided with an image area and a non-image area, and the image area has a groove shape for forming a pattern. Usually, the longitudinal direction of the groove of the image area is an intaglio plate. It is preferable that the circumferential direction of the cylinder is 2,12.

【0022】凹版2,12に形成する画線部(パター
ン)は、種々のパターンが可能であり、本発明では、画
線部を構成する溝の最小線幅を20μm程度、非画線部
の最小幅(パターンの最小形成間隔)を20μm程度と
することができる。また、画線部を構成する溝の深さ
(版深)は5〜50μm程度が好ましい。
The image portions (patterns) formed on the intaglio plates 2 and 12 can have various patterns. In the present invention, the minimum line width of the groove forming the image portions is about 20 μm, and the non-image portion is not. The minimum width (minimum pattern formation interval) can be set to about 20 μm. Further, the depth (plate depth) of the groove constituting the image portion is preferably about 5 to 50 μm.

【0023】このような凹版2,12は、従来の凹版製
版方法により作製することができ、特に制限のあるもの
ではない。例えば、凹版シリンダーの内部に温度調節用
の流路を形成して20〜100℃の範囲で凹版の温度調
節を行うようにし、凹版の温度を常温よりも高く設定す
ることにより、版面上のインキ粘度を制御してドクター
および受理速度を高速化することが可能である。
Such intaglio plates 2 and 12 can be produced by a conventional intaglio plate making method and are not particularly limited. For example, by forming a temperature control flow path inside the intaglio cylinder to adjust the temperature of the intaglio in the range of 20 to 100 ° C. and setting the temperature of the intaglio higher than room temperature, the ink on the plate surface It is possible to control the viscosity and speed up the doctor and acceptance speed.

【0024】インキ供給部3,13は、特に制限はな
く、ディスペンサー、インキングロール等の従来公知の
機構を有するインキ供給装置を使用することができる。
The ink supply parts 3 and 13 are not particularly limited, and an ink supply device having a conventionally known mechanism such as a dispenser or an inking roll can be used.

【0025】また、ドクター部4,14の凹版2,12
への接触圧は、エアー圧可変式等にすることによって、
適宜設定することができる。尚、ドクター部4,14の
材質には特に制限はなく、従来からドクター用部材とし
て使用されているSK鋼、ステンレス、および、刃先表
面をメッキして硬度を上げた材料(例えば、SK鋼等の
表面にニッケルやセラミックスをメッキして硬度を上げ
たもの)等により形成することができる。また、ドクタ
ー部4,14の寸法は、凹版2,12の有効幅、ドクタ
ー部4,14の材質等に応じて適宜設定することができ
る。
Further, the intaglio plates 2 and 12 of the doctor parts 4 and 14
The contact pressure to the
It can be set appropriately. There is no particular limitation on the material of the doctor parts 4 and 14, and SK steel, stainless steel, which has been conventionally used as a member for a doctor, and a material whose hardness is increased by plating the blade surface (for example, SK steel, etc.) Of which the hardness is increased by plating nickel or ceramics on its surface). The dimensions of the doctor parts 4 and 14 can be appropriately set according to the effective width of the intaglio plates 2 and 12, the material of the doctor parts 4 and 14, and the like.

【0026】パターン形成装置1を構成するブランケッ
ト胴5は、周面にブランケットを装着したものである。
このブランケット胴5は、真円度が±10μm以下、円
筒度が±10μm以下であることが好ましい。また、パ
ターン形成装置11を構成する圧胴16およびバックア
ップローラ17も、上記のブランケット胴5と同様に、
真円度が±10μm以下、円筒度が±10μm以下であ
ることが好ましい。
The blanket cylinder 5 constituting the pattern forming apparatus 1 has a blanket mounted on its peripheral surface.
The blanket cylinder 5 preferably has a circularity of ± 10 μm or less and a cylindricity of ± 10 μm or less. In addition, the impression cylinder 16 and the backup roller 17 constituting the pattern forming apparatus 11 are also the same as the blanket cylinder 5 described above.
It is preferable that the circularity is ± 10 μm or less and the cylindricity is ± 10 μm or less.

【0027】本発明では、ブランケットBとして、臨界
表面張力が20〜30dyne/cm 、硬度が40〜80°、
粘弾性 tanδが0.05〜0.20の範囲にあるブラン
ケットを使用することを特徴としている。
In the present invention, as the blanket B, the critical surface tension is 20 to 30 dyne / cm, the hardness is 40 to 80 °,
It is characterized by using a blanket having a viscoelasticity tan δ in the range of 0.05 to 0.20.

【0028】ブランケットの臨界表面張力は、測定対象
のブランケットを適当な寸法に切断し、接触角計CA−
D型(協和界面科学(株)製)にて測定したZismanプロ
ットより求める。Zismanプロットに使用した溶剤、およ
びその表面張力を以下に示す。
The critical surface tension of the blanket is measured by cutting the blanket to be measured into an appropriate size and measuring the contact angle meter CA-
It is determined from a Zisman plot measured with a type D (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). The solvents used for the Zisman plot and their surface tensions are shown below.

【0029】 溶剤名 表面張力(dyne/cm) ・エタノール …20.05 ・ジエチレングリコールモノエチルエーテル …31.9 ・トリメチロールプロパントリアクリレート …35.5 ・ジアリルフタレート …36.8 一般に臨界表面張力が20〜30dyne/cmの範囲にある
ゴム材料としては、ジメチルシロキサン、メチルビニル
シロキサン、メチルフルオロビニルシロキサン、メチル
フェニルビニルシロキサン等や、上記ポリマーとNB
R、EPDM、スチレンブタジエンゴム(SBR)との
ブレンド及び共重合系、フッ素ゴム、及びNBR、EP
DM、SBR等にシリコーンオイル等を混り込んだもの
及びNBR、EPDM、SBRをシロキサン雰囲気中で
100〜200℃で1時間程度ベーキングし、表面エネ
ルギーの小さなコート層を形成したものが挙げられる。
Solvent name Surface tension (dyne / cm) -Ethanol ... 20.05-Diethylene glycol monoethyl ether ... 31.9-Trimethylolpropane triacrylate ... 35.5-Diallyl phthalate ... 36.8 Generally, the critical surface tension is 20. Rubber materials in the range of up to 30 dyne / cm include dimethyl siloxane, methyl vinyl siloxane, methyl fluoro vinyl siloxane, methyl phenyl vinyl siloxane, and the above polymers and NB.
R, EPDM, blends and copolymerization systems with styrene-butadiene rubber (SBR), fluororubber, and NBR, EP
Examples thereof include those obtained by mixing silicone oil or the like into DM, SBR, etc., and those obtained by baking NBR, EPDM, SBR in a siloxane atmosphere at 100 to 200 ° C. for about 1 hour to form a coat layer having a small surface energy.

【0030】ブランケットの臨界表面張力が30dyne/
cmを超えると、ブランケットの表面ゴム層のインキに対
するぬれ性が高すぎてブランケットから被印刷基板Sへ
のインキ転移率が低くなりパイリングを生じる原因とな
る。また、臨界表面張力が20dyne/cm未満であると、
凹版2,12からブランケットへのインキの転移性が低
下し、細線再現性、線幅再現性が低下して好ましくな
い。
The critical surface tension of the blanket is 30 dyne /
When it exceeds cm, the wettability of the surface rubber layer of the blanket to the ink is too high, and the ink transfer rate from the blanket to the printed substrate S becomes low, which causes piling. If the critical surface tension is less than 20 dyne / cm,
The transferability of the ink from the intaglio plates 2 and 12 to the blanket is lowered, and the reproducibility of fine lines and line width is lowered, which is not preferable.

【0031】次に、上述のようにして臨界表面張力を所
定の値になるようにしたゴム材料の硬度と粘弾性を、そ
れぞれ硬度が40〜80°、粘弾性 tanδが0.05〜
0.20の範囲となるように調整する。
Next, the hardness and viscoelasticity of the rubber material whose critical surface tension is set to a predetermined value as described above are 40 to 80 ° in hardness and 0.05 to 0.05 in viscoelasticity tan δ, respectively.
Adjust so that the range is 0.20.

【0032】ブランケットの硬度は、JIS C TY
PE ゴム硬度計を用いて測定する。また、ブランケッ
トの粘弾性( tanδ)は、レオバイブロンDDV−II−
EP((株)オリエンテック)にて、温度20℃、周波
数11Hzで測定する。
The hardness of the blanket is JIS C TY.
It is measured using a PE rubber hardness meter. In addition, the viscoelasticity (tan δ) of the blanket is Rheovibron DDV-II-
It is measured at a temperature of 20 ° C. and a frequency of 11 Hz by EP (Orientec Co., Ltd.).

【0033】ブランケットのゴム材料の硬度および粘弾
性は、生ゴム中の架橋基密度、架橋基の局在化状態、充
填剤の種類、含有率、粒径、表面処理、架橋剤種類、1
次加硫条件(温度、時間等)、2次加硫の有無およびそ
の条件等で調整できる。ここで、使用する充填剤として
は煙霧質シリカ、粉砕シリカ、沈殿シリカ、重炭酸カル
シウム、炭酸カルシウム、ケイソウ土、タルク、石英紛
等を使用することができる。
The hardness and viscoelasticity of the blanket rubber material are determined by the density of cross-linking groups in the raw rubber, the localized state of cross-linking groups, the type of filler, the content rate, the particle size, the surface treatment, the type of cross-linking agent, 1
The secondary vulcanization conditions (temperature, time, etc.) can be adjusted by the presence or absence of secondary vulcanization and the conditions thereof. Here, fumed silica, crushed silica, precipitated silica, calcium bicarbonate, calcium carbonate, diatomaceous earth, talc, quartz powder and the like can be used as the filler.

【0034】ブランケットの硬度が40°未満になると
凹版からのインキの受理形状が悪くなり、また、硬度が
80°を超えると被印刷基板へのインキの転移形状が悪
くなり好ましくない。一方、ブランケットの粘弾性 tan
δが0.05未満である場合、凹版2,12からブラン
ケットへのインキの転移性が低下し、画線の細り、エッ
ジ精度の低下となり好ましくなく、粘弾性 tanδが0.
20を超えるとブランケットの粘性的物性が大きくなり
すぎ、被印刷基板のチャッキングに悪影響を与え好まし
くない。
If the hardness of the blanket is less than 40 °, the ink receiving shape from the intaglio will be poor, and if the hardness exceeds 80 °, the ink transfer shape to the printing substrate will be poor, which is not preferable. On the other hand, the viscoelasticity of the blanket tan
When δ is less than 0.05, the transferability of the ink from the intaglio plates 2 and 12 to the blanket is reduced, the image lines are thinned, and the edge precision is reduced, which is not preferable, and the viscoelasticity tan δ is 0.
When it exceeds 20, the viscous physical properties of the blanket become too large, which adversely affects the chucking of the printed substrate, which is not preferable.

【0035】使用するブランケットは、いわゆるコンプ
レッシブル型のブランケットに限定されるものではな
く、圧縮層を備えていないソリッド型のブランケットで
あってもよい。
The blanket used is not limited to the so-called compressible type blanket, but may be a solid type blanket having no compression layer.

【0036】上述のようなブランケットBをパターン形
成装置1のブランケット胴5に装着することにより、ブ
ランケットから被印刷基板Sへのインキの転移率が極め
て高いものとなり、微細なパターンの連続印刷が可能と
なる。また、パターン形成装置11において、上述のよ
うなブランケットBを送り出しローラ15→圧胴16→
バックアップローラ17→巻き取りローラ18からなる
所定の搬送路で送ることにより、バックアップローラ1
7の配設位置にてブランケットBから被印刷基板Sへ極
めて高いインキ転移率で微細なパターンの連続印刷が可
能となる。
By mounting the blanket B as described above on the blanket cylinder 5 of the pattern forming apparatus 1, the ink transfer rate from the blanket to the substrate S to be printed becomes extremely high, and continuous printing of fine patterns is possible. Becomes Further, in the pattern forming apparatus 11, the blanket B as described above is fed out from the roller 15 → the impression cylinder 16 →
By feeding the backup roller 17 to the take-up roller 18, the backup roller 1
It is possible to continuously print a fine pattern with a very high ink transfer rate from the blanket B to the substrate S to be printed at the arrangement position of 7.

【0037】ステージ6,20は、被印刷基板Sを載置
した状態で図1、図2の矢印a方向に往復移動するもの
である。ステージ6,20における被印刷基板Sの保持
は、チャック等による機械保持、吸引による吸着保持
等、いずれの方式であってもよい。また、ステージ6,
20の平坦度は±20μm以下が好ましい。このような
ステージ6,20の移動は、ボールネジ、リニヤガイド
を用いたモーター駆動等の公知の駆動方式により行うこ
とができ、位置決め精度が±10μm以下、真直度が±
10μm以下、上下動が±10μm以下であることが好
ましい。
The stages 6 and 20 move reciprocally in the direction of arrow a in FIGS. 1 and 2 with the substrate S to be printed placed. The printing substrate S may be held on the stages 6 and 20 by any method such as mechanical holding by a chuck or the like, suction holding by suction or the like. Also, stage 6,
The flatness of 20 is preferably ± 20 μm or less. Such movement of the stages 6 and 20 can be performed by a known driving method such as motor driving using a ball screw and a linear guide, and positioning accuracy is ± 10 μm or less and straightness is ±.
It is preferable that the vertical movement is 10 μm or less and the vertical movement is ± 10 μm or less.

【0038】また、インキ拭取部7,21は、ドクター
部4,14によるインキ掻き取り後に、凹版2,12上
に残留した不要なインキを拭き取るためのものであり、
対となる繰り出しローラ7a,21aと巻き取りローラ
7b,21b、これらの中間に位置するワイピングロー
ラ7c,21c、および、繰り出しローラ7a,21a
からワイピングローラ7c,21cを経て巻き取りロー
ラ7b,21bに巻き取られるワイピングフィルム7
d,21dとを備えている。図示例では、ワイピングロ
ーラ7c,21cがワイピングフィルム7d,21dを
介して凹版2,12に対向しており、時計方向(図の矢
印b方向)に回転する凹版2,12の表面に対して、ワ
イピングフィルム7d,21dが逆方向(図の下から上
方向)に移動することによって、凹版2,12の非画線
部に付着している不要なインキを除去するようになって
いる。尚、このときの凹版2,12に対するワイピング
ローラ7c,21cの押圧力、凹版2,12とワイピン
グフィルム7d,21dとの相対速度は、適宜設定する
ことができる。
The ink wiping parts 7 and 21 are for wiping off unnecessary ink remaining on the intaglio plates 2 and 12 after the ink is scraped off by the doctor parts 4 and 14.
The pair of feeding rollers 7a, 21a and the winding rollers 7b, 21b, the wiping rollers 7c, 21c located between these, and the feeding rollers 7a, 21a.
The wiping film 7 which is wound around the winding rollers 7b and 21b through the wiping rollers 7c and 21c.
d and 21d. In the illustrated example, the wiping rollers 7c and 21c are opposed to the intaglio plates 2 and 12 via the wiping films 7d and 21d, and the surface of the intaglio plates 2 and 12 rotating in the clockwise direction (direction of arrow b in the figure) is By moving the wiping films 7d and 21d in opposite directions (from the bottom to the top in the figure), unnecessary ink adhering to the non-image areas of the intaglio plates 2 and 12 is removed. At this time, the pressing force of the wiping rollers 7c and 21c against the intaglio plates 2 and 12 and the relative speed between the intaglio plates 2 and 12 and the wiping films 7d and 21d can be appropriately set.

【0039】上記のワイピングフィルム7d,21dと
しては、金属箔、合成繊維、合成樹脂、ゴム等いずれで
あってもよく、より具体的には、アルミニウム箔、アル
ミニウムを蒸着したポリエチレンテレフタレートフィル
ム、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニルフィ
ルム、ポリスチレンフィルム、ポリビニルブチラールフ
ィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルメタク
リレートフィルム、ポリ酢酸ビニルフィルム、ナイロン
66フィルム等を使用することができる。
The wiping films 7d and 21d may be any of metal foil, synthetic fiber, synthetic resin, rubber and the like, and more specifically, aluminum foil, aluminum vapor-deposited polyethylene terephthalate film, polyethylene terephthalate. Polyvinyl chloride film, polystyrene film, polyvinyl butyral film, polycarbonate film, polymethylmethacrylate film, polyvinyl acetate film, nylon 66 film and the like can be used.

【0040】本発明のパターン形成装置1では、ブラン
ケット洗浄部8として市販のブランケット洗浄装置を使
用することができる。
In the pattern forming apparatus 1 of the present invention, a commercially available blanket cleaning device can be used as the blanket cleaning unit 8.

【0041】上述のようなパターン形成装置1,11に
おいて、凹版2,12からブランケット胴5上のブラン
ケットB、あるいは、圧胴上を搬送されるブランケット
Bへのインキの転移時の凹版2,12周面の速度(周速
度)vとブランケットBの移動速度vは、1〜300mm
/秒、好ましくは10〜100mm/秒程度とすることが
できる。また、ステージ6,20に保持された被印刷基
板SへのブランケットBからのインキの転移時の被印刷
基板Sの移動速度VとブランケットBの移動速度Vは、
1〜300mm/秒、好ましくは100〜300mm/秒程
度とすることができる。
In the pattern forming apparatuses 1 and 11 as described above, the intaglio plates 2 and 12 when the ink is transferred from the intaglio plates 2 and 12 to the blanket B on the blanket cylinder 5 or the blanket B conveyed on the impression cylinder. The speed (circumferential speed) v of the peripheral surface and the moving speed v of the blanket B are 1 to 300 mm.
/ Sec, preferably about 10 to 100 mm / sec. Further, the moving speed V of the printing substrate S and the moving speed V of the blanket B when the ink is transferred from the blanket B to the printing substrate S held on the stages 6 and 20 are
It may be 1 to 300 mm / sec, preferably about 100 to 300 mm / sec.

【0042】また、本発明のパターン形成装置1,11
では、凹版2とブランケット胴5とを離接可能とし、ま
た、凹版12と圧胴16とを離接可能としてもよい。こ
れにより、凹版2,12からブランケットへのインキの
転移を所定の速度vで終了した後、ブランケット胴5を
凹版2から離間させ、あるいは圧胴16を凹版12から
離間させ、ブランケット胴5あるいは圧胴16、送り出
しローラ15、巻き取りローラ18の回転速度を変化さ
せ、ブランケットから被印刷基板Sへ所定の速度Vでイ
ンキの転移を行うことができる。
Further, the pattern forming apparatuses 1 and 11 of the present invention
Then, the intaglio 2 and the blanket cylinder 5 may be separable from each other, and the intaglio 12 and the impression cylinder 16 may be separable from each other. As a result, after the transfer of ink from the intaglio plates 2 and 12 to the blanket is completed at a predetermined speed v, the blanket cylinder 5 is separated from the intaglio plate 2 or the impression cylinder 16 is separated from the intaglio plate 12 and the blanket cylinder 5 or It is possible to transfer the ink from the blanket to the substrate S to be printed at a predetermined speed V by changing the rotation speeds of the cylinder 16, the feeding roller 15, and the winding roller 18.

【0043】次に、本発明のパターン形成方法を、上述
のパターン形成装置1の作動を含めて説明する。
Next, the pattern forming method of the present invention will be described including the operation of the pattern forming apparatus 1 described above.

【0044】まず、図1において矢印b方向に所定の速
度で回転する凹版2上にインキ供給部3からインキが供
給される。次いで、凹版2がドクター部4と接触して不
要なインキが掻き取られることにより、凹版2の画線部
(溝部)にインキが保持され、さらに、ドクター部4を
通過しても凹版2の非画線部に付着している不要なイン
キがインキ拭取部7のワイピングフィルム7dによって
拭き取られる。
First, ink is supplied from the ink supply unit 3 onto the intaglio plate 2 that rotates at a predetermined speed in the direction of arrow b in FIG. Next, the intaglio plate 2 comes into contact with the doctor part 4 to scrape off unnecessary ink, so that the ink is retained in the image area (groove part) of the intaglio plate 2. The unnecessary ink adhering to the non-image area is wiped off by the wiping film 7d of the ink wiping unit 7.

【0045】上記のように凹版2の画線部に保持された
インキは、次に矢印c方向に所定の速度で回転するブラ
ンケット胴5と接触することによって、ブランケット胴
5の周面に装着されたブランケットBに一旦転移され
る。このときの凹版2周面の速度(周速度)とブランケ
ット胴5周面の速度(周速度)vは、上述の範囲(1〜
300mm/秒、好ましくは10〜100mm/秒程度)で
設定され、凹版2からブランケットBへインキが転移さ
れる。
The ink held on the image area of the intaglio plate 2 is then attached to the peripheral surface of the blanket cylinder 5 by contacting the blanket cylinder 5 which rotates at a predetermined speed in the direction of arrow c. It is once transferred to blanket B. At this time, the speed of the peripheral surface of the intaglio 2 (circumferential speed) and the speed of the peripheral surface of the blanket cylinder 5 (circumferential speed) v are in the above range
The ink is transferred from the intaglio 2 to the blanket B at a speed of 300 mm / sec, preferably about 10 to 100 mm / sec.

【0046】次に、被印刷基板Sが載置されたステージ
6が図1の右方向に移動し、上述のようにインキが転移
されたブランケット胴5との位置合わせが終了した後、
ブランケット胴5と接触しながら右方向に移動して、被
印刷基板S上へインキが転移されて電極の印刷が終了す
る。このときの被印刷基板Sの移動速度Vとブランケッ
ト胴5周面の速度(周速度)Vは、上述の範囲(1〜3
00mm/秒、好ましくは100〜300mm/秒程度)と
なるように設定される。
Next, after the stage 6 on which the substrate S to be printed is placed moves to the right in FIG. 1 and the alignment with the blanket cylinder 5 to which the ink has been transferred is completed as described above,
It moves to the right while being in contact with the blanket cylinder 5, the ink is transferred onto the substrate S to be printed, and the printing of the electrodes is completed. At this time, the moving speed V of the printed substrate S and the speed (circumferential speed) V of the peripheral surface of the blanket cylinder 5 are in the above range (1 to 3).
00 mm / sec, preferably about 100 to 300 mm / sec).

【0047】このように被印刷基板S上へのインキの印
刷が終了した後、ステージ6は図1の左方向に移動して
元の位置に戻り、被印刷基板Sはステージ6から取りは
ずされ、新たな被印刷基板Sが載置される。
After the printing of the ink on the substrate S to be printed is completed in this way, the stage 6 moves to the left in FIG. 1 and returns to the original position, and the substrate S to be printed is removed from the stage 6. A new substrate S to be printed is placed.

【0048】以上で、パターン形成装置1による被印刷
基板Sへのパターン形成が終了し、形成装置1は同様の
操作を繰り返すことにより、連続して被印刷基板Sへの
パターン形成を行うことができる。また、ブランケット
洗浄部8によるブランケットBの洗浄は、1回のパター
ン形成が終了する毎に行ってもよく、また、所定の回数
連続してパターン形成を行った後に洗浄するようにして
もよい。
As described above, the pattern formation on the printed substrate S by the pattern forming apparatus 1 is completed, and the forming apparatus 1 repeats the same operation to continuously form the pattern on the printed substrate S. it can. Further, the blanket cleaning section 8 may clean the blanket B every time one pattern formation is completed, or may be carried out after pattern formation is performed a predetermined number of times continuously.

【0049】一方、ステージ6から取り出された被印刷
基板Sは、印刷されたインキに対する焼成処理が施され
る。焼成の温度は、使用するインキに応じて適宜設定す
ることができ、例えば、400〜600℃の範囲で設定
することができる。このような焼成が行われることによ
り、被印刷基板S上にパターンが形成される。
On the other hand, the printed substrate S taken out from the stage 6 is subjected to a baking process for the printed ink. The firing temperature can be appropriately set according to the ink used, and can be set, for example, in the range of 400 to 600 ° C. By performing such baking, a pattern is formed on the substrate S to be printed.

【0050】次に、本発明のパターン形成方法を、上述
のパターン形成装置11の作動を含めて説明する。
Next, the pattern forming method of the present invention will be described including the operation of the pattern forming apparatus 11 described above.

【0051】まず、図2において矢印b方向に所定の速
度で回転する凹版12上にインキ供給部13からインキ
が供給される。次いで、凹版12がドクター部14と接
触して不要なインキが掻き取られることにより、凹版1
2の画線部(溝部)にインキが保持され、さらに、ドク
ター部14を通過しても凹版12の非画線部に付着して
いる不要なインキがインキ拭取部21のワイピングフィ
ルム21dによって拭き取られる。
First, ink is supplied from the ink supply unit 13 onto the intaglio plate 12 which rotates at a predetermined speed in the direction of arrow b in FIG. Next, the intaglio 12 comes into contact with the doctor section 14 and unnecessary ink is scraped off.
The ink is held in the image area (groove) of No. 2, and the unnecessary ink adhering to the non-image area of the intaglio plate 12 is wiped by the wiping film 21d of the ink wiping section 21 even if the ink passes through the doctor section 14. Wiped off.

【0052】上記のように凹版12の画線部に保持され
たインキは、次に矢印c方向へ回転する圧胴15上を通
るブランケットBと接触することによって、ブランケッ
ト上に一旦転移される。このときの凹版12周面の速度
(周速度)とブランケットBの移動速度(周速度)v
は、上述の範囲(1〜300mm/秒、好ましくは10〜
100mm/秒程度)で設定され、凹版2からブランケッ
トBへインキが転移される。
The ink held on the image area of the intaglio 12 as described above is once transferred onto the blanket B by contacting the blanket B passing over the impression cylinder 15 rotating in the direction of arrow c. At this time, the speed of the peripheral surface of the intaglio 12 (circumferential speed) and the moving speed of the blanket B (circumferential speed) v
Is in the above range (1 to 300 mm / sec, preferably 10 to
The ink is transferred from the intaglio 2 to the blanket B at about 100 mm / sec.

【0053】次に、このブランケットBは搬送ローラ1
9を経由してバックアップローラ17の送られ、一方、
被印刷基板Sが載置されたステージ20が図2の右方向
に移動し、上述のようにインキが転移されたブランケッ
トとの位置合わせが終了した後、バックアップローラ1
7の下部でブランケットBと接触しながら右方向に移動
して、被印刷基板S上へインキが転移されてパターンの
印刷が終了する。このときの被印刷基板Sの移動速度V
とブランケットBの移動速度Vは、上述の範囲(1〜3
00mm/秒、好ましくは100〜300mm/秒程度)と
なるように設定される。
Next, the blanket B is conveyed by the conveying roller 1.
The backup roller 17 is sent via 9 while
After the stage 20 on which the substrate S to be printed is placed moves to the right in FIG. 2 and the alignment with the blanket to which the ink has been transferred is completed as described above, the backup roller 1
In the lower part of 7, the blanket B is moved to the right while being in contact with the blanket B, the ink is transferred onto the substrate S to be printed, and the printing of the pattern is completed. Moving speed V of the substrate S to be printed at this time
And the moving speed V of the blanket B are in the above range (1 to 3).
00 mm / sec, preferably about 100 to 300 mm / sec).

【0054】このように被印刷基板S上へのインキの印
刷が終了した後、ステージ20は図2の左方向に移動し
て元の位置に戻り、被印刷基板Sはステージ20から取
りはずされ、新たな被印刷基板Sが載置される。
After the printing of the ink on the substrate S to be printed is completed in this way, the stage 20 moves leftward in FIG. 2 and returns to the original position, and the substrate S to be printed is removed from the stage 20. A new substrate S to be printed is placed.

【0055】以上で、パターン形成装置1による被印刷
基板Sへのパターン形成が終了し、形成装置11は同様
の操作を繰り返すことにより、連続して被印刷基板Sへ
のパターン形成を行うことができる。
With the above, the pattern formation on the substrate S to be printed by the pattern forming apparatus 1 is completed, and the forming apparatus 11 repeats the same operation to continuously form the pattern on the substrate S to be printed. it can.

【0056】一方、ステージ20から取り出された被印
刷基板Sは、印刷されたインキに対する焼成処理が施さ
れる。焼成の温度は、使用するインキに応じて適宜設定
することができ、例えば、400〜600℃の範囲で設
定することができる。このような焼成が行われることに
より、被印刷基板S上にパターンが形成される。
On the other hand, the printed substrate S taken out from the stage 20 is subjected to a baking process for the printed ink. The firing temperature can be appropriately set according to the ink used, and can be set, for example, in the range of 400 to 600 ° C. By performing such baking, a pattern is formed on the substrate S to be printed.

【0057】ここで、上述の本発明のパターン形成方法
において使用できるインキの一例として、導電性インキ
について説明する。
Here, a conductive ink will be described as an example of the ink that can be used in the above-described pattern forming method of the present invention.

【0058】使用する導電性インキは、定常流粘度が3
00〜3000poise の範囲にあるインキである。定常
流粘度は、キャリーメッド社製CS100レオメータを
用いて、測定温度20℃、測定剪断速度0.01〜20
0/秒の範囲で測定することができる。定常流粘度が3
00poise 未満であると、ブランケットから被印刷基板
Sへのインキ転移率が100%未満となり、また、30
00poise を超えると凹版2,12からブランケットへ
のインキ転移率が50%以下となり、さらに細線再現
性、線幅再現性が低下し好ましくない。
The conductive ink used has a steady flow viscosity of 3
The ink is in the range of 00 to 3000 poise. The steady flow viscosity was measured using a CarryMed CS100 rheometer at a measurement temperature of 20 ° C. and a measurement shear rate of 0.01 to 20.
It can be measured in the range of 0 / sec. Steady flow viscosity is 3
When it is less than 00 poise, the ink transfer rate from the blanket to the substrate S to be printed becomes less than 100%, and 30
When it exceeds 00 poise, the ink transfer rate from the intaglio plates 2 and 12 to the blanket is 50% or less, and the reproducibility of fine lines and line reproducibility are further deteriorated, which is not preferable.

【0059】このような導電性インキは、導電性粉末を
40〜90重量%、ガラス粉末を1〜10重量%、バイ
ンダー樹脂を5〜55重量%の範囲で含有するものが好
ましく使用できる。
As such a conductive ink, one containing 40 to 90% by weight of the conductive powder, 1 to 10% by weight of the glass powder and 5 to 55% by weight of the binder resin can be preferably used.

【0060】導電性粉末としては、Ag、Au、Pt、
Pd、Al、Ni、C等の単体、合金、もしくは、これ
らの混合物を使用することができる。このような導電性
粉末の粒径は、1〜10μm程度が好ましい。
As the conductive powder, Ag, Au, Pt,
A simple substance such as Pd, Al, Ni, and C, an alloy, or a mixture thereof can be used. The particle size of such conductive powder is preferably about 1 to 10 μm.

【0061】また、ガラス粉末は、上述のように印刷さ
れた電極パターンを焼成する際に、軟化ないし溶融して
上記の導電性粉末を被印刷基板Sに強固に接着させるた
めのものである。このため、ガラス粉末は、焼成温度よ
りも10〜200℃低い軟化点を有することが必要であ
る。このようなガラス粉末としては、PbOを50重量
%以上含有し、他の成分として、ガラスの分相を防止す
る効果をもたせたり、軟化点を調整したり、熱膨張係数
を被印刷基板Sに合わせたりするために、Al23
23 、SiO2 、MgO、CaO、SrO、Ba
O、ZnO、TiO2 、ZrO2 等のなかから適宜選択
して含有させたものを使用することができる。
Further, the glass powder is for softening or melting when the electrode pattern printed as described above is fired so that the conductive powder is firmly adhered to the substrate S to be printed. Therefore, the glass powder needs to have a softening point that is 10 to 200 ° C. lower than the firing temperature. As such a glass powder, PbO is contained in an amount of 50% by weight or more, and as other components, it has an effect of preventing phase separation of glass, adjusts a softening point, and has a coefficient of thermal expansion in the substrate S to be printed. Al 2 O 3 , to match
B 2 O 3 , SiO 2 , MgO, CaO, SrO, Ba
O, ZnO, TiO 2 , ZrO 2 or the like may be appropriately selected and contained.

【0062】このようなガラス粉末の粒度は、350メ
ッシュ程度まで粉砕したものが適当である。導電性イン
キにおけるガラス粉末の含有量が1重量%未満である
と、焼成時における導電性インキと被印刷基板Sとの接
着力が不足となり、また、10重量%を超えると、焼成
して形成した電極パターンの導電性が不十分となり好ま
しくない。
The particle size of such glass powder is suitably crushed to about 350 mesh. When the content of the glass powder in the conductive ink is less than 1% by weight, the adhesive force between the conductive ink and the substrate S to be printed at the time of firing becomes insufficient, and when it exceeds 10% by weight, it is formed by firing. This is not preferable because the conductivity of the formed electrode pattern is insufficient.

【0063】また、導電性インキに含有されるバインダ
ー樹脂としては、低温での焼成が可能であり、かつ、焼
成のおいて分解、気化して炭化物が電極中に残存しない
ような樹脂が好ましい。具体的には、エチルセルロー
ス、メチルセルロース、ニトロセルロース、セルロース
アセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブ
チレート等のセルロース樹脂、メチルメタクリレート、
エチルメタクリレート、ノルマルブチルメタクリレー
ト、イソブチルメタクリレート、イソプロピルメタクリ
レート、2−エチルメタクリレート、2−ヒドロキシエ
チルメタクリレート等の重合体からなるアクリル樹脂が
挙げられる。
Further, the binder resin contained in the conductive ink is preferably a resin which can be burned at a low temperature and which is decomposed and vaporized during firing so that the carbide does not remain in the electrode. Specifically, ethyl cellulose, methyl cellulose, nitrocellulose, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose resins such as cellulose butyrate, methyl methacrylate,
Examples of the acrylic resin include polymers such as ethyl methacrylate, normal butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, isopropyl methacrylate, 2-ethyl methacrylate, and 2-hydroxyethyl methacrylate.

【0064】また、導電性インキには、粘度調整用に、
溶剤としてテルピネオール、ブチルカルビトールアセテ
ート等を含有させることができる。
Further, the conductive ink has a
Terpineol, butyl carbitol acetate, etc. can be contained as a solvent.

【0065】[0065]

【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples.

【0066】導電性インキの調製 導電性粉末として、平均粒径1μmの銀粒子を準備し
た。また、ガラス粉末としてIWFフリット7570
(岩城ガラス(株)製 300メッシュ、軟化点440
℃)を350メッシュ粒径に粉砕したガラス粉末を準備
した。
Preparation of conductive ink As conductive powder, silver particles having an average particle diameter of 1 μm were prepared. Also, as a glass powder, IWF frit 7570
(Iwashiro Glass Co., Ltd. 300 mesh, softening point 440
Glass powder was prepared by crushing (.degree. C.) to a particle size of 350 mesh.

【0067】さらに、バインダー樹脂として、ポリエス
テルアクリレートオリゴマー、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレートを4
0:40:30(重量比)で調合したものを準備した。
Further, as a binder resin, polyester acrylate oligomer, trimethylolpropane triacrylate, and hydroxyethyl acrylate are used as the binder resin.
A mixture prepared at 0:40:30 (weight ratio) was prepared.

【0068】次に、下記の表1に示されるような組成で
導電性粉末、ガラス粉末およびバインダー樹脂を3本ロ
ールミルにて混合して導電性インキA〜Cを調製し、各
導電性インキの定常流粘度を下記の測定条件で測定して
結果を表1に示した。
Next, conductive powders, glass powders, and binder resins having the compositions shown in Table 1 below were mixed in a three-roll mill to prepare conductive inks A to C. The steady flow viscosity was measured under the following measurement conditions, and the results are shown in Table 1.

【0069】(定常流粘度の測定条件)キャリーメッド
社製CS100レオメータを用いて、測定温度20℃、
測定剪断速度100/秒で測定する。
(Conditions for Measuring Steady Flow Viscosity) Using a CS100 rheometer manufactured by CarryMed, a measuring temperature of 20 ° C.
Measurement The shear rate is 100 / sec.

【0070】[0070]

【表1】 ブランケットの作製 基布と圧縮層からなる基材上に表面ゴムを塗布した後、
PETフィルムを表面ゴム塗布面に圧着させた状態で加
硫を行い、その後、フィルムを剥離して表面ゴム層(厚
さ約100μm)を形成してブランケット(試料1〜
9)を作製した。各ブランケット(試料1〜9)の作製
条件は、以下に示す通りとした。
[Table 1] Preparation of blanket After applying the surface rubber on the base material consisting of the base cloth and the compression layer,
The PET film was vulcanized while being pressed against the surface coated with rubber, and then the film was peeled off to form a surface rubber layer (thickness: about 100 μm) and a blanket (Sample 1 to Sample 1).
9) was produced. The production conditions of each blanket (Samples 1 to 9) were as shown below.

【0071】 試料1: (組成物) 信越シリコーン(株)製 KE−108 …100重量部 硬化剤 信越シリコーン(株)製 CAT−108 … 5重量部 充填剤 カキウチ(株)製 セラトムFW−14 … 30重量部 (加硫条件) 1次加硫 25℃、75時間 試料2: (組成物) 信越シリコーン(株)製 KE−742U …100重量部 架橋剤 ジメチル-2,5ジt−ブチルフェロキシヘキサン … 5重量部 (加硫条件) 1次加硫 170℃、20分間 試料3: (組成物) 信越シリコーン(株)製 KE−785U …100重量部 架橋剤 2,5- ジメチル−2,5 t−ブチルフェロキシヘキサン … 5重量部 (加硫条件) 1次加硫 170℃、20分間 2次加硫 200℃、4時間 試料4: (組成物) 信越シリコーン(株)製 FE361U …100重量部 架橋剤 C−8A … 5重量部 (加硫条件) 1次加硫 165℃、10分間 2次加硫 200℃、4時間 試料5: (組成物) 信越シリコーン(株)製 KE−108 …100重量部 硬化剤 信越シリコーン(株)製 CAT−108 … 5重量部 日本エアロジル(株)製 エアロジル200 … 15重量部 (加硫条件) 1次加硫 25℃、75時間 試料6: (組成物) 信越シリコーン(株)製 KE−742U …100重量部 架橋剤 ジメチル-2,5ジt−ブチルフェロキシヘキサン … 5重量部 (加硫条件) 1次加硫 120℃、20分間 試料7: (組成物) 信越シリコーン(株)製 KE−785U …100重量部 架橋剤 2,5- ジメチル−2,5 t−ブチルフェロキシヘキサン … 5重量部 (加硫条件) 1次加硫 150℃、40分間 2次加硫 200℃、5時間 試料8: (組成物) 信越シリコーン(株)製 KE−108 …100重量部 硬化剤 信越シリコーン(株)製 CAT−108 … 5重量部 充填剤 カキウチ(株)製 セラトムFW−14 … 30重量部 ジメチルシリコーンオイル … 5重量部 (加硫条件) 1次加硫 25℃、75時間 試料9: (組成物) 信越シリコーン(株)製 KE−5570 …100重量部 日本合成ゴム(株)製 JSR N220SH 10… 10重量部 架橋剤 2,5- ジメチル−2,5 t−ブチルフェロキシヘキサン … 5重量部 硫黄 …0.3重量部 チラウム …0.1重量部 (加硫条件) 1次加硫 150℃、40分間 2次加硫 200℃、5時間 上述のように作製した各ブランケットの臨界表面張力、
硬度、粘弾性は、下記の表2に示す通りであった。
Sample 1: (Composition) KE-108 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. 100 parts by weight Curing agent CAT-108 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. 5 parts by weight Filler CERATOM FW-14 manufactured by Kakiuchi Co., Ltd. 30 parts by weight (vulcanization condition) Primary vulcanization 25 ° C., 75 hours Sample 2: (Composition) Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. KE-742U ... 100 parts by weight Crosslinking agent Dimethyl-2,5 di-t-butylferroxy Hexane: 5 parts by weight (vulcanization condition) Primary vulcanization 170 ° C., 20 minutes Sample 3: (Composition) Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. KE-785U: 100 parts by weight Crosslinking agent 2,5-Dimethyl-2,5 5 parts by weight (vulcanization condition) Primary vulcanization 170 ° C., 20 minutes Secondary vulcanization 200 ° C., 4 hours Sample 4: (Composition) FE361U manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. 100 parts Part Crosslinking agent C-8A ... 5 parts by weight (vulcanization condition) Primary vulcanization 165 ° C., 10 minutes Secondary vulcanization 200 ° C., 4 hours Sample 5: (Composition) KE-108 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. 100 parts by weight Curing agent CAT-108 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd .... 5 parts by weight Aerosil 200 manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd. 15 parts by weight (vulcanization conditions) Primary vulcanization 25 ° C., 75 hours Sample 6: (composition ) Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. KE-742U ... 100 parts by weight Cross-linking agent Dimethyl-2,5 di-t-butylferroxyhexane ... 5 parts by weight (vulcanization condition) Primary vulcanization 120 ° C., 20 minutes Sample 7: ( Composition) Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. KE-785U 100 parts by weight Crosslinking agent 2,5-dimethyl-2,5 t-butylferroxyhexane 5 parts by weight (vulcanization conditions) Primary vulcanization 150 ° C, 40 Secondary vulcanization 2 minutes 0 ° C, 5 hours Sample 8: (Composition) KE-108 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. 100 parts by weight Curing agent CAT-108 manufactured by Shin-Etsu Silicone Co., Ltd. 5 parts by weight CERATOM FW- manufactured by Kakiuchi Co., Ltd. 14 30 parts by weight Dimethyl silicone oil 5 parts by weight (vulcanization conditions) Primary vulcanization 25 ° C., 75 hours Sample 9: (Composition) Shin-Etsu Silicone KE-5570 100 parts by weight Japan Synthetic Rubber ( Co., Ltd. JSR N220SH 10 ... 10 parts by weight Cross-linking agent 2,5-dimethyl-2,5 t-butylferroxyhexane ... 5 parts by weight Sulfur ... 0.3 parts by weight Thallium ... 0.1 parts by weight (vulcanization condition) Primary vulcanization 150 ° C., 40 minutes Secondary vulcanization 200 ° C., 5 hours Critical surface tension of each blanket prepared as described above,
The hardness and viscoelasticity were as shown in Table 2 below.

【0072】尚、臨界表面張力は、下記の溶剤を使用
し、協和界面科学(株)、接触角計CA−D型にて測定
し、Zismanプロットより算出した。
The critical surface tension was measured with a contact angle meter CA-D type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd. using the following solvents and calculated from Zisman plot.

【0073】 溶剤名 表面張力(dyne/cm ) ・エタノール 20.05 ・ジエチレングリコールモノエチルエーテル 31.9 ・トリメチロールプロパントリアクリレート 35.5 ・ジアリルフタレート 36.8 また、表面ゴム層の硬度は、JIS C TYPE ゴ
ム硬度計を用いて測定した。
Solvent name Surface tension (dyne / cm 2) ・ Ethanol 20.05 ・ Diethylene glycol monoethyl ether 31.9 ・ Trimethylolpropane triacrylate 35.5 ・ Diallyl phthalate 36.8 The hardness of the surface rubber layer is JIS. It was measured using a C TYPE rubber hardness meter.

【0074】また、粘弾性 tanδは、(株)オリエンテ
ック製のレオバイブロンDDV-II-EPにて、温度20℃、
周波数11Hzで測定した。
Further, the viscoelasticity tan δ was measured with Rheovibron DDV-II-EP manufactured by Orientec Co., Ltd. at a temperature of 20 ° C.
It was measured at a frequency of 11 Hz.

【0075】[0075]

【表2】 電極の形成 図1に示されるようなパターン形成装置に上記の導電性
インキA〜C、ブランケット試料1〜9を使用してガラ
ス基板(サイズ300×400mm)上に電極パターン
形成を行った。
[Table 2] Formation of Electrodes Electrode patterns were formed on a glass substrate (size 300 × 400 mm) by using the above conductive inks A to C and blanket samples 1 to 9 in the pattern forming apparatus as shown in FIG.

【0076】使用した凹版オフセット方式のパターン形
成装置は、下記の仕様とした。
The intaglio offset type pattern forming apparatus used had the following specifications.

【0077】 (凹版) ・サイズ :有効周長=550mm(胴径約180mmφ) 有効長さ=500mm ・回転速度 :5〜300mm/秒(周速度) ・版深 :25μm (インキ供給部) ディスペンサー (ドクター部) ・サイズ :ドクター=450mm ホルダー=600mm ・圧 :エアー圧可変 ・動作 :上下動 (ブランケット胴) ・サイズ :有効周長=450mm(胴径約180mmφ) 有効長さ=600mm ・回転速度 :5〜300mm/秒(周速度) ・動作 :上下動 ・ブランケット装着方式 :巻き込み式 (ステージ) ・速度 :5〜400mm/秒 ・アライメント:ピン当て方式、XY調整機構、アライメントカメラ ・定盤サイズ :700×700mm ・ガラス基板保持方式 :真空吸着方式 ・定盤平坦度 :10μm (インキ拭取部) ・方式 :フィルム拭き取り方式 ・フィルム送り速度 :5〜200mm/秒 ・フィルム巻き径 :約200mmφ ・ワイピングローラ :ゴムローラ(径100mmφ) ・ワイピングフィルム:ポリエステルフィルム 凹版に形成した画線部は、電極パターン(パターン全体
のサイズ=150×210mm)であり、版深25μ
m、線幅は70〜150μmの範囲で異なる線幅をもつ
ものとした。
(Intaglio) -Size: Effective perimeter = 550 mm (body diameter about 180 mmφ) Effective length = 500 mm-Rotation speed: 5-300 mm / sec (peripheral speed) -Plate depth: 25 μm (ink supply part) Dispenser ( Doctor :) Size: Doctor = 450mm Holder = 600mm ・ Pressure: Variable air pressure ・ Operation: Vertical movement (Blanket cylinder) ・ Size: Effective circumference = 450mm (Cylinder diameter about 180mmφ) Effective length = 600mm ・ Rotation speed: 5 to 300 mm / sec (peripheral speed) ・ Operation: Vertical movement ・ Blanket mounting method: Entrainment method (stage) ・ Speed: 5 to 400 mm / second ・ Alignment: Pin contact method, XY adjustment mechanism, alignment camera ・ Surface plate size: 700 × 700 mm ・ Glass substrate holding method: Vacuum suction method ・ Surface plate flatness: 10 μm・ Method: Film wiping method ・ Film feed speed: 5 to 200 mm / sec ・ Film winding diameter: Approximately 200 mmφ ・ Wiping roller : Rubber roller (diameter 100 mmφ) ・ Wiping film: Polyester film Image area formed on intaglio plate Is an electrode pattern (entire pattern size = 150 × 210 mm), plate depth 25 μ
m and the line width are different from each other in the range of 70 to 150 μm.

【0078】凹版とブランケット胴の周速度vは40m
m/秒とし、ブランケット胴の周速度Vとガラス基板の
移動速度Vは300mm/秒とした。
The peripheral speed v of the intaglio and blanket cylinder is 40 m
The blanket cylinder peripheral velocity V and the glass substrate moving velocity V were 300 mm / sec.

【0079】上記のようにパターン形成装置によってガ
ラス基板上に電極パターンを印刷した後、ガラス基板を
600℃に60分間保持して導電性インキの焼成を行っ
て電極パターン(試料1〜11)を形成した。また、形
成した電極パターンの膜厚、パターン形状、電気抵抗値
を測定、評価して、下記の表3に示した。
After the electrode pattern was printed on the glass substrate by the pattern forming apparatus as described above, the glass substrate was kept at 600 ° C. for 60 minutes to bake the conductive ink to form the electrode pattern (Samples 1 to 11). Formed. Further, the film thickness, pattern shape, and electric resistance value of the formed electrode pattern were measured and evaluated, and shown in Table 3 below.

【0080】尚、電極パターン(試料1〜5)形成にお
いて使用した導電性インキA〜Cとブランケット試料1
〜3の組み合わせは、下記の表3に示されるものとし
た。また、電極パターン(試料6〜11)形成では、下
記のような導電性インキAとブランケット試料4〜9の
組み合わせとした。
The conductive inks A to C used for forming the electrode patterns (Samples 1 to 5) and the blanket sample 1 were used.
The combinations of 3 to 3 are shown in Table 3 below. In forming the electrode patterns (Samples 6 to 11), the following combinations of conductive ink A and blanket samples 4 to 9 were used.

【0081】 電極試料6 : 導電性インキAとブランケット試料4の組み合わせ 電極試料7 : 導電性インキAとブランケット試料5の組み合わせ 電極試料8 : 導電性インキAとブランケット試料6の組み合わせ 電極試料9 : 導電性インキAとブランケット試料7の組み合わせ 電極試料10: 導電性インキAとブランケット試料8の組み合わせ 電極試料11: 導電性インキAとブランケット試料9の組み合わせElectrode sample 6: Combination of conductive ink A and blanket sample 4 Electrode sample 7: Combination of conductive ink A and blanket sample 5 Electrode sample 8: Combination of conductive ink A and blanket sample 6 Electrode sample 9: Conductivity Electrolytic ink A and blanket sample 7 combination Electrode sample 10: Conductive ink A and blanket sample 8 combination Electrode sample 11: Conductive ink A and blanket sample 9 combination

【0082】[0082]

【表3】 表3に示されるように、定常流粘度が300〜3000
poise の範囲にあるインキ試料Aを使用し、かつ、臨界
表面張力が20〜30dyne/cm 、硬度が40〜80°、
粘弾性 tanδが0.05〜0.20の範囲にあるブラン
ケット試料(1〜3)を用いた場合、インキ転移率が高
く、導電性や直線性が良好で高精度な電極パターン(試
料1,4,5)の形成が可能であった。
[Table 3] As shown in Table 3, the steady flow viscosity is 300 to 3000.
Using ink sample A in the poise range, and having a critical surface tension of 20 to 30 dyne / cm, hardness of 40 to 80 °,
When the blanket samples (1 to 3) having a viscoelasticity tan δ in the range of 0.05 to 0.20 were used, the ink transfer rate was high, the conductivity and linearity were good, and the highly accurate electrode pattern (Sample 1, 4, 5) could be formed.

【0083】一方、電極パターン(試料6)の形成で
は、ガラス基板のチャッキング不良が発生し、電極パタ
ーン形成が不可能であった。また、電極パターン(試料
7,9,10)の形成では、凹版からブランケットへの
インキの転移不良が発生し、電極パターン形成が不可能
であった。さらに、電極パターン(試料8,11)の形
成では、ブランケットからガラス基板へのインキの転移
不良が発生し、電極パターン形成が不可能であった。
On the other hand, in the formation of the electrode pattern (Sample 6), chucking failure of the glass substrate occurred and it was impossible to form the electrode pattern. Further, in the formation of the electrode patterns (Samples 7, 9 and 10), defective transfer of ink from the intaglio to the blanket occurred, making it impossible to form the electrode pattern. Further, in the formation of the electrode patterns (Samples 8 and 11), defective transfer of ink from the blanket to the glass substrate occurred, and it was impossible to form the electrode pattern.

【0084】[0084]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によればイ
ンキとして定常流粘度が300〜3000poise の範囲
のインキを使用し、凹版に保持されたインキは一旦ブラ
ンケット上に転移された後、被印刷基板上に転移される
が、ブランケットの臨界表面張力が20〜30dyne/cm
、硬度が40〜80°、粘弾性 tanδが0.05〜
0.20の範囲であるので、凹版からブランケットへの
インキの転移率と、ブランケットから被印刷基板へのイ
ンキの転移率が極めて高いものとなり、これにより、凹
版の微細パターンを忠実に再現した高精細なパターンを
被印刷基板上に形成することができ、集積回路のように
微小面積に集中しているような電極や抵抗体、誘電体
等、あるいは、大面積の画像表示装置に使用するための
電極等のパターンを優れた直線性と高い精度で簡便に形
成することができる。また、インキ拭取部により凹版上
の不要なインキを拭き取るように構成されているので、
ドクター部によるインキ掻き取り残りや、過剰なインキ
掻き取りが生じることがなく、地汚れ、ざらつき、ス
ジ、ムラ、ピンホール等の欠陥のないパターン形成が可
能となり、さらに、凹版をシリンダー状とすることによ
り、パターンの印刷形成の高速化が可能であるととも
に、ブランケット胴あるいは圧胴とシリンダー状の凹版
とを離接可能とすることにより、凹版からブランケット
へのインキの転移条件とブランケットから被印刷基板へ
のインキの転移条件を独立して最適なものとすることが
でき、パターン形成の高精度化と製造コストの低減の両
立が可能となる。さらに、長尺状のブランケットを使用
することにより、常時ブランケットの新しい面を使用し
てパターン形成が可能であり、ブランケットの交換を行
うことなく、安定して高精度のパターン形成が行える。
As described in detail above, according to the present invention, an ink having a constant flow viscosity of 300 to 3000 poise is used as the ink, and the ink retained on the intaglio plate is once transferred onto the blanket, Although transferred to the substrate to be printed, the critical surface tension of the blanket is 20 to 30 dyne / cm
, Hardness 40 to 80 °, viscoelasticity tan δ 0.05 to
Since it is in the range of 0.20, the ink transfer rate from the intaglio to the blanket and the ink transfer rate from the blanket to the substrate to be printed are extremely high, which makes it possible to faithfully reproduce the fine pattern of the intaglio. A fine pattern can be formed on a substrate to be printed, and it is used for an image display device with a large area such as electrodes, resistors, and dielectrics that are concentrated in a very small area like an integrated circuit. It is possible to easily form the pattern of the electrodes and the like with excellent linearity and high accuracy. Also, since the ink wiping unit is configured to wipe off unnecessary ink on the intaglio plate,
It is possible to form patterns without defects such as background stains, roughness, streaks, unevenness, pinholes, etc. without causing ink residue or excessive ink scraping by the doctor part. By doing so, it is possible to speed up the pattern print formation, and by enabling the blanket cylinder or impression cylinder and the cylinder-shaped intaglio to be separated from and contacted with each other, the ink transfer condition from the intaglio to the blanket and the printing from the blanket. The conditions for transferring ink to the substrate can be optimized independently, and it is possible to achieve both high precision pattern formation and reduction in manufacturing cost. Furthermore, by using a long blanket, it is possible to always form a pattern using a new surface of the blanket, and it is possible to stably and highly accurately form a pattern without replacing the blanket.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のパターン形成装置の第1の実施形態を
示す概略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing a first embodiment of a pattern forming apparatus of the present invention.

【図2】本発明のパターン形成装置の第2の実施形態を
示す概略構成図である。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing a second embodiment of a pattern forming apparatus of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,11…パターン形成装置 2,12…凹版 3,13…インキ供給部 4,14…ドクター部 5…ブランケット胴 6,20…ステージ 7,21…インキ拭取部 8…ブランケット洗浄部 15…送り出しローラ 16…圧胴 17…バックアップローラ 18…巻き取りローラ B…ブランケット S…被印刷基板 1, 11 ... Pattern forming device 2, 12 ... Intaglio 3, 13 ... Ink supply part 4, 14 ... Doctor part 5 ... Blanket cylinder 6, 20 ... Stage 7, 21 ... Ink wiping part 8 ... Blanket cleaning part 15 ... Sending out Roller 16 ... Impression cylinder 17 ... Backup roller 18 ... Winding roller B ... Blanket S ... Printed substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09D 11/00 PTH C09D 11/00 PTH ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Office reference number FI Technical display location C09D 11/00 PTH C09D 11/00 PTH

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 定常流粘度が300〜3000poise の
範囲にあるインキと、臨界表面張力が20〜30dyne/c
m 、硬度が40〜80°、粘弾性 tanδが0.05〜
0.20の範囲にあるブランケットとを使用し、凹版に
保持されたインキを一旦ブランケット上に転移させた
後、該インキをブランケット上から被印刷基板上に転移
させ、その後、前記インキを焼成することを特徴とする
パターン形成方法。
1. An ink having a steady flow viscosity in the range of 300 to 3000 poise and a critical surface tension of 20 to 30 dyne / c.
m, hardness 40 to 80 °, viscoelasticity tan δ 0.05 to
Using a blanket in the range of 0.20, the ink held in the intaglio is once transferred onto the blanket, then the ink is transferred from the blanket onto the substrate to be printed, and then the ink is baked. A pattern forming method characterized by the above.
【請求項2】 前記インキは、導電性粉末を40〜90
重量%、ガラス粉末を1〜10重量%、バインダー樹脂
を5〜55重量%の範囲で含有する導電性インキである
ことを特徴とする請求項1に記載のパターン形成方法。
2. The ink is conductive powder of 40 to 90.
The pattern forming method according to claim 1, which is a conductive ink containing glass powder in an amount of 1 to 10% by weight and a binder resin in an amount of 5 to 55% by weight.
【請求項3】 凹版と、該凹版にインキを供給するイン
キ供給部と、前記インキ供給部から前記凹版に供給され
たインキの不要部分を掻き取るためのドクター部と、前
記凹版に保持されたインキを一旦受理して被印刷基板上
に転移するためのブランケット胴と、前記被印刷基板を
載置するステージとを備え、前記ブランケット胴は、臨
界表面張力が20〜30dyne/cm 、硬度が40〜80
°、粘弾性 tanδが0.05〜0.20の範囲にあるブ
ランケットを周面に装着したものであることを特徴とす
るパターン形成装置。
3. An intaglio plate, an ink supply unit for supplying ink to the intaglio plate, a doctor unit for scraping off unnecessary portions of the ink supplied from the ink supply unit to the intaglio plate, and an intaglio plate held by the intaglio plate. The blanket cylinder is provided with a blanket cylinder for receiving the ink and transferring the ink onto the substrate to be printed, and a stage on which the substrate to be printed is placed. The blanket cylinder has a critical surface tension of 20 to 30 dyne / cm 2 and a hardness of 40. ~ 80
A pattern forming apparatus, characterized in that a blanket having a viscoelasticity tan δ in the range of 0.05 to 0.20 is mounted on the peripheral surface.
【請求項4】 前記ドクター部によるインキ掻き取り後
に前記凹版上に残留したインキを拭き取るためのインキ
拭取部を備えたことを特徴とする請求項3に記載のパタ
ーン形成装置。
4. The pattern forming apparatus according to claim 3, further comprising an ink wiping portion for wiping ink remaining on the intaglio plate after the ink is wiped off by the doctor portion.
【請求項5】 前記凹版はシリンダー状であることを特
徴とする請求項3または請求項4に記載のパターン形成
装置。
5. The pattern forming apparatus according to claim 3, wherein the intaglio plate has a cylindrical shape.
【請求項6】 前記ブランケット胴は、前記シリンダー
状の凹版と離接可能であることを特徴とする請求項5に
記載のパターン形成装置。
6. The pattern forming apparatus according to claim 5, wherein the blanket cylinder is separable from and in contact with the cylindrical intaglio plate.
【請求項7】 凹版と、該凹版にインキを供給するイン
キ供給部と、前記インキ供給部から前記凹版に供給され
たインキの不要部分を掻き取るためのドクター部と、前
記凹版に保持されたインキを一旦受理して被印刷基板上
に転移するための長尺状のブランケットが巻き回された
送り出しローラと、該送り出しローラから送り出された
ブランケットを前記凹版に接触させてインキを受理させ
るための圧胴と、該圧胴を通過した前記ブランケットを
巻き取るための巻き取りローラと、前記圧胴と前記巻き
取りローラとの間の前記ブランケット搬送路に設けたバ
ックアップローラと、前記被印刷基板を載置するステー
ジとを備え、前記ブランケットは、臨界表面張力が20
〜30dyne/cm 、硬度が40〜80°、粘弾性 tanδが
0.05〜0.20の範囲にあることを特徴とするパタ
ーン形成装置。
7. An intaglio plate, an ink supply section for supplying ink to the intaglio plate, a doctor section for scraping off unnecessary portions of the ink supplied from the ink supply section to the intaglio plate, and an intaglio plate held by the intaglio plate. A delivery roller around which a long blanket for receiving the ink and transferring it to the substrate to be printed is wound, and a blanket fed from the delivery roller is brought into contact with the intaglio plate to receive the ink. An impression cylinder, a take-up roller for taking up the blanket that has passed through the impression cylinder, a backup roller provided in the blanket conveyance path between the impression cylinder and the take-up roller, and the substrate to be printed. And a stage on which the blanket has a critical surface tension of 20.
A pattern forming apparatus characterized by having a hardness of -40 dyne / cm, a hardness of 40-80 °, and a viscoelasticity tan δ of 0.05-0.20.
【請求項8】 前記ドクター部によるインキ掻き取り後
に前記凹版上に残留したインキを拭き取るためのインキ
拭取部を備えたことを特徴とする請求項7に記載のパタ
ーン形成装置。
8. The pattern forming apparatus according to claim 7, further comprising an ink wiping portion for wiping off the ink remaining on the intaglio plate after the ink is wiped off by the doctor portion.
【請求項9】 前記凹版はシリンダー状であることを特
徴とする請求項7または請求項8に記載のパターン形成
装置。
9. The pattern forming apparatus according to claim 7, wherein the intaglio plate has a cylindrical shape.
【請求項10】 前記圧胴は、前記シリンダー状の凹版
と離接可能であることを特徴とする請求項9に記載のパ
ターン形成装置。
10. The pattern forming apparatus according to claim 9, wherein the impression cylinder is separable from and in contact with the cylindrical intaglio plate.
【請求項11】 前記凹版は20〜100℃の範囲で温
度調節が可能であることを特徴とする請求項3乃至請求
項10のいずれかに記載のパターン形成装置。
11. The pattern forming apparatus according to claim 3, wherein the temperature of the intaglio plate can be adjusted within a range of 20 to 100 ° C.
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