JP2001247495A - Method for purifying 1,1-difluoroethane - Google Patents
Method for purifying 1,1-difluoroethaneInfo
- Publication number
- JP2001247495A JP2001247495A JP2000062452A JP2000062452A JP2001247495A JP 2001247495 A JP2001247495 A JP 2001247495A JP 2000062452 A JP2000062452 A JP 2000062452A JP 2000062452 A JP2000062452 A JP 2000062452A JP 2001247495 A JP2001247495 A JP 2001247495A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- difluoroethane
- hydrogen halide
- hydrogen
- purifying
- halide
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、１，１−ジフルオ
ロエタンの精製方法に関し、詳しくは、ハロゲン化水素
を不純物として含有する１，１−ジフルオロエタンか
ら、ハロゲン化水素をほぼ完全に除去するための方法に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for purifying 1,1-difluoroethane, and more particularly, to a method for removing hydrogen halide almost completely from 1,1-difluoroethane containing hydrogen halide as an impurity. It is about the method.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年になって、オゾン層破壊や地球温暖
化といった問題により、ある種のクロロフルオロカーボ
ン類およびハイドロクロロフルオロカーボン類の使用が
制限されているが、１，１−ジフルオロエタンは、これ
らクロロフルオロカーボン類およびハイドロクロロフル
オロカーボン類の代替品として、特に洗浄剤、発泡剤や
噴霧剤等の用途において有用な物質であって、その需要
も増加している。2. Description of the Related Art In recent years, the use of certain chlorofluorocarbons and hydrochlorofluorocarbons has been restricted due to problems such as depletion of the ozone layer and global warming. As a substitute for fluorocarbons and hydrochlorofluorocarbons, it is a substance useful especially in applications such as detergents, foaming agents and sprays, and its demand is increasing.
【０００３】上記１，１−ジフルオロエタンの製造方法
としては、例えば、触媒の存在下に塩化ビニルとフッ化
水素を反応させる方法（特開昭４７−３９０１０号公報
参照）、触媒の存在下に１，１−ジクロロエタンとフッ
化水素を反応させる方法（特開昭５０−１０６９０５号
公報参照）や、触媒の存在下にアセチレンとフッ化水素
を反応させる方法（特開昭５２−５１３０４号公報参
照）等が知られている。As a method for producing 1,1-difluoroethane, for example, a method of reacting vinyl chloride with hydrogen fluoride in the presence of a catalyst (see JP-A-47-39010); For reacting 1,1-dichloroethane with hydrogen fluoride (see JP-A-50-106905) and for reacting acetylene with hydrogen fluoride in the presence of a catalyst (see JP-A-52-51304) Etc. are known.
【０００４】そして、上記のような従来の製造法におい
ては、１，１−ジフルオロエタンを含む得られた反応生
成物中に、未反応のフッ化水素や、さらに場合によって
は副生した塩化水素が残存するので、これらハロゲン化
水素を除去するため、得られた反応生成物の蒸留精製や
水洗浄が行われている。[0004] In the above-mentioned conventional production method, unreacted hydrogen fluoride and, in some cases, by-produced hydrogen chloride are contained in the obtained reaction product containing 1,1-difluoroethane. The remaining reaction products are subjected to distillation purification and washing with water in order to remove these hydrogen halides.
【０００５】しかしながら、上記のような蒸留精製や水
洗浄を施しても、１，１−ジフルオロエタンを含む反応
生成物からハロゲン化水素を完全に除去することは困難
であり、最終的に得られた１，１−ジフルオロエタンに
は、通常、数十〜数千ｐｐｍのハロゲン化水素が含有さ
れることになるのが現状である。[0005] However, it is difficult to completely remove hydrogen halide from the reaction product containing 1,1-difluoroethane even if the above-mentioned distillation purification and washing with water are performed, and thus the finally obtained product is obtained. At present, 1,1-difluoroethane usually contains tens to thousands of ppm of hydrogen halide.
【０００６】ハロゲン化水素は、周知の通り、人体に対
して皮膚刺激性を有する有害性の高い物質であり、ま
た、近年になって１，１−ジフルオロエタンが化粧品、
医薬品等の用途における噴霧剤としても使用されるよう
になったことからも、１，１−ジフルオロエタンからハ
ロゲン化水素をほぼ完全に除去する方法を早急に提案す
ることが求められていた。As is well known, hydrogen halide is a highly harmful substance having skin irritation to the human body. In recent years, 1,1-difluoroethane has been used in cosmetics,
Since it has also been used as a propellant in applications such as pharmaceuticals, it has been required to immediately propose a method for almost completely removing hydrogen halide from 1,1-difluoroethane.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
のような要請のもと、洗浄剤、発泡剤や噴霧剤等として
有用な１，１−ジフルオロエタンから、ハロゲン化水素
をほぼ完全に除去する方法を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for almost completely converting hydrogen halide from 1,1-difluoroethane, which is useful as a detergent, a foaming agent, a spraying agent, etc., under the above-mentioned demands. It is to provide a method of removing.
【０００８】[0008]
【課題を解決するための手段】本発明の発明者らは、上
記目的を達成すべく鋭意研究した結果、ハロゲン化水素
を含む１，１−ジフルオロエタンを特定のプロセスを採
用して精製することにより、ハロゲン化水素をほとんど
完全に除去できることを見出し、さらに研究を続けて本
発明を完成した。Means for Solving the Problems The inventors of the present invention have conducted intensive studies to achieve the above object, and as a result, purifying 1,1-difluoroethane containing hydrogen halide by employing a specific process. The inventors have found that hydrogen halide can be almost completely removed, and have further studied to complete the present invention.
【０００９】すなわち本発明の要旨は、ハロゲン化水素
を不純物として含有する１，１−ジフルオロエタンから
ハロゲン化水素を除去して精製する方法であって、ハロ
ゲン化水素を含有する１，１−ジフルオロエタンをアル
カリ水溶液と接触させてハロゲン化水素を除去する第一
工程と、ハロゲン化水素を除去した１，１−ジフルオロ
エタンを乾燥剤と接触させて水分を除去する第二工程と
を含むことを特徴とする１，１−ジフルオロエタンの精
製方法に存する。That is, the gist of the present invention is a method of purifying by removing hydrogen halide from 1,1-difluoroethane containing hydrogen halide as an impurity, wherein 1,1-difluoroethane containing hydrogen halide is purified. A first step of removing hydrogen halide by contacting with an aqueous alkali solution, and a second step of removing moisture by contacting 1,1-difluoroethane from which hydrogen halide has been removed with a desiccant. The present invention relates to a method for purifying 1,1-difluoroethane.
【００１０】[0010]
【発明の実施の態様】以下に本発明を詳細に説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention will be described in detail.
【００１１】本発明において精製の対象とする、ハロゲ
ン化水素を含有する１，１−ジフルオロエタンとは、例
えば、前述のように塩化ビニルや１，１−ジクロロエタ
ン、またはアセチレンとフッ化水素との反応によって製
造されたものであって、不純物としてハロゲン化水素、
例えば、フッ化水素や塩化水素を含有するものである。The 1,1-difluoroethane containing hydrogen halide to be purified in the present invention includes, for example, the reaction between vinyl chloride, 1,1-dichloroethane, or the reaction of acetylene with hydrogen fluoride as described above. Manufactured by the method, hydrogen halide as an impurity,
For example, it contains hydrogen fluoride or hydrogen chloride.
【００１２】上記１，１−ジフルオロエタンにおけるハ
ロゲン化水素の含有量は、特に限定されるものではな
く、本発明では、例えば、ハロゲン化水素を数ｗｔｐｐ
ｍ(重量ｐｐｍ)から数ｗｔ％まで含有する１，１−ジフ
ルオロエタンを精製の対象とすることができる。The content of the hydrogen halide in the 1,1-difluoroethane is not particularly limited. In the present invention, for example, a hydrogen halide of several wt.
1,1-difluoroethane containing from m (weight ppm) to several wt% can be targeted for purification.
【００１３】上記ハロゲン化水素を含有する１，１−ジ
フルオロエタンを精製するための本発明の第一工程は、
このハロゲン化水素を含有する１，１−ジフルオロエタ
ンをアルカリ水溶液と接触させ、ハロゲン化水素を除去
する工程である。The first step of the present invention for purifying the 1,1-difluoroethane containing hydrogen halide is as follows:
In this step, 1,1-difluoroethane containing hydrogen halide is brought into contact with an aqueous alkali solution to remove the hydrogen halide.
【００１４】この第一工程で使用するハロゲン化水素を
除去するための上記アルカリ水溶液におけるアルカリ物
質としては、例えば、アルカリ金属水酸化物、アルカリ
金属炭酸塩、アルカリ土類金属水酸化物等が挙げられ、
具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化カルシウム、水酸化
バリウムが好ましく、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムが特に好ましい。Examples of the alkaline substance in the alkaline aqueous solution for removing hydrogen halide used in the first step include alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates, and alkaline earth metal hydroxides. And
Specifically, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, potassium carbonate, calcium hydroxide, and barium hydroxide are preferred, and sodium hydroxide and potassium hydroxide are particularly preferred.
【００１５】上記アルカリ水溶液の濃度は、特に限定さ
れないが、低すぎる場合にはハロゲン化水素を十分に除
去できないおそれがあるため、その下限は０．１重量％
以上であることが好ましく、０．５〜３０重量％の範囲
内であることがさらに好ましい。The concentration of the alkaline aqueous solution is not particularly limited. However, if the concentration is too low, hydrogen halide may not be sufficiently removed, so the lower limit is 0.1% by weight.
It is preferably at least the above, and more preferably within the range of 0.5 to 30% by weight.
【００１６】ハロゲン化水素を含有する１，１−ジフル
オロエタンをこのアルカリ水溶液に接触させるための方
法は特に限定されず、例えば、１，１−ジフルオロエタ
ンを気体状態でアルカリ水溶液中にバブリングする方
法、またはラシヒリング等の充填材を充填したカラムを
使用して、気体状態の１，１−ジフルオロエタンとアル
カリ水溶液を向流で流通する方法等を採用することがで
きる。また、気体状態でアルカリ水溶液と接触させる場
合の装置としては、気泡塔が好ましく採用される。The method for bringing 1,1-difluoroethane containing hydrogen halide into contact with the aqueous alkali solution is not particularly limited. For example, a method of bubbling 1,1-difluoroethane in a gaseous state into an aqueous alkali solution, or A method in which 1,1-difluoroethane in a gaseous state and an aqueous alkali solution are allowed to flow in countercurrent using a column filled with a filler such as Raschig rings can be employed. A bubble column is preferably used as a device in the case of contacting an alkaline aqueous solution in a gaseous state.
【００１７】なお、１，１−ジフルオロエタンを液体状
態でアルカリ水溶液に接触させることもできるが、１，
１−ジフルオロエタンの沸点は常圧では−２５℃と低
く、液体状態とするためには沸点以下に冷却するか、ま
たは常温では６ｋｇ／ｃｍ2・Ｇ程度に加圧しなければ
ならないことを考慮すれば、気体状態で接触させる方法
が好ましい。The 1,1-difluoroethane can be brought into contact with an aqueous alkali solution in a liquid state.
Considering that the boiling point of 1-difluoroethane is as low as −25 ° C. at normal pressure, and that it must be cooled to the boiling point or lower to form a liquid state or pressurized to about 6 kg / cm 2 · G at normal temperature. The method of contacting in a gaseous state is preferred.
【００１８】本発明では、以上の第一工程によって、精
製の対象となる１，１−ジフルオロエタンに含まれるハ
ロゲン化水素の量を、通常、１ｗｔｐｐｍ以下にまで低
減することが可能である。In the present invention, the amount of hydrogen halide contained in 1,1-difluoroethane to be purified can be reduced to usually 1 wtppm or less by the above first step.
【００１９】上記ハロゲン化水素を含有する１，１−ジ
フルオロエタンを精製するための本発明の第二工程は、
第一工程でハロゲン化水素を除去した１，１−ジフルオ
ロエタンを乾燥剤と接触させて水分を除去する工程であ
る。The second step of the present invention for purifying the hydrogen halide-containing 1,1-difluoroethane is as follows:
In this step, 1,1-difluoroethane from which hydrogen halide has been removed in the first step is brought into contact with a desiccant to remove moisture.
【００２０】即ち、本発明の第一工程では、精製の対象
となる１，１−ジフルオロエタンをアルカリ水溶液と接
触させることにより、１，１−ジフルオロエタンからハ
ロゲン化水素を除去するが、水溶液と接触するため、通
常、得られる１，１−ジフルオロエタンは０．１〜５ｗ
ｔ％程度の水分を含有することになる。ところが、製品
中に水分が多量に含まれる場合、製品品質が安定しない
ばかりではなく、噴霧剤として使用した場合にべとつき
感を与えるおそれがあるのため、製品中の水分は極力低
い方が望ましい。そこで、本発明ではその第二工程にお
いて、１，１−ジフルオロエタンを乾燥剤と接触させて
水分を除去することにしたのである。That is, in the first step of the present invention, hydrogen halide is removed from 1,1-difluoroethane by bringing 1,1-difluoroethane to be purified into contact with an aqueous alkali solution. Therefore, usually, the obtained 1,1-difluoroethane is 0.1 to 5 w
It will contain about t% of water. However, when the product contains a large amount of water, not only the product quality is not stable, but also the product may give a sticky feeling when used as a propellant. Therefore, the water content in the product is preferably as low as possible. Therefore, in the present invention, in the second step, 1,1-difluoroethane is brought into contact with a desiccant to remove water.
【００２１】本発明で使用する乾燥剤としては、例え
ば、モレキュラーシーブ、濃硫酸、シリカゲル、無水塩
化カルシウムや無水硫酸カルシウム等を挙げることがで
きるが、本発明ではこれらの中でも特にモレキュラーシ
ーブまたは濃硫酸を好適に使用することができる。モレ
キュラーシーブの種類は特に限定されず、一般に市販さ
れているものを使用すればよいが、使用に際してはあら
かじめ乾燥した窒素等のガスを流通させ、乾燥処理を施
しておくことが好ましい。また、濃硫酸の場合は、その
濃度が低いと水分を十分に除去できない可能性があるた
め、７０％以上のものが好ましく、９０％以上のものが
さらに好ましい。Examples of the desiccant used in the present invention include molecular sieve, concentrated sulfuric acid, silica gel, anhydrous calcium chloride and anhydrous calcium sulfate, and among others, molecular sieve and concentrated sulfuric acid are particularly preferred. Can be suitably used. The type of the molecular sieve is not particularly limited, and a commercially available one may be used. However, it is preferable to use a gas such as nitrogen which has been dried beforehand and to perform a drying treatment. In the case of concentrated sulfuric acid, if the concentration is low, water may not be sufficiently removed, so that the concentration is preferably 70% or more, more preferably 90% or more.
【００２２】乾燥剤としてモレキュラーシーブを使用す
る場合の１，１−ジフルオロエタンとモレキュラーシー
ブの接触方法としては、例えば、管状容器にモレキュラ
ーシーブを充填し、これに気体状態の１，１ージフルオ
ロエタンを流通する方法を挙げることができ、また、乾
燥剤として濃硫酸を使用する場合の１，１−ジフルオロ
エタンと濃硫酸の接触方法としては、例えば、１，１−
ジフルオロエタンを気体状態で濃硫酸中にバブリングす
る方法、またはラシヒリング等の充填材を充填したカラ
ムを使用して、気体状態の１，１−ジフルオロエタンと
濃硫酸を向流で流通する方法を挙げることができる。な
お、これらの操作における温度や圧力の操作条件は、特
に限定されず、通常は常温、常圧下で十分である。When molecular sieve is used as a desiccant, as a method of contacting 1,1-difluoroethane and molecular sieve, for example, a tubular container is filled with molecular sieve, and gaseous 1,1-difluoroethane is circulated through this. When concentrated sulfuric acid is used as a drying agent, the contacting method between 1,1-difluoroethane and concentrated sulfuric acid may be, for example, 1,1-difluoroethane.
A method of bubbling difluoroethane in concentrated sulfuric acid in a gaseous state, or using a column filled with a filler such as Raschig ring, and a method of flowing 1,1-difluoroethane in gaseous state and concentrated sulfuric acid in countercurrent flow may be mentioned. it can. The operating conditions such as temperature and pressure in these operations are not particularly limited, and normal temperature and normal pressure are usually sufficient.
【００２３】以上の第二工程によって、精製の対象とな
る１，１−ジフルオロエタンに含まれる水分の量を、通
常、１０ｗｔｐｐｍ以下にまで低減することが可能であ
る。By the above-mentioned second step, the amount of water contained in 1,1-difluoroethane to be purified can be reduced to usually 10 wtppm or less.
【００２４】以上のように本発明の精製方法によれば、
ハロゲン化水素を含有する１，１−ジフルオロエタンか
らハロゲン化水素を効率よく且つほぼ完全に除去するこ
とができ、水分もほとんど含まない１，１−ジフルオロ
エタンを得ることができる。As described above, according to the purification method of the present invention,
Hydrogen halide can be efficiently and almost completely removed from 1,1-difluoroethane containing hydrogen halide, and 1,1-difluoroethane containing almost no water can be obtained.
【００２５】また、本発明では、必要に応じて、例えば
第二工程で乾燥剤として硫酸を使用した場合は第二工程
の後に硫酸を除去する工程を追加したり、或いは、１，
１−ジフルオロエタンの合成時に副生するフッ素化ビニ
ル化合物を除去する工程を追加することができる。これ
らの工程は、簡単な蒸留操作によって構成することがで
き、これらの工程を付加することによって、さらに高純
度の１，１−ジフルオロエタンを得ることができる。In the present invention, if necessary, for example, when sulfuric acid is used as a drying agent in the second step, a step of removing sulfuric acid may be added after the second step, or
A step of removing a fluorinated vinyl compound by-produced during the synthesis of 1-difluoroethane can be added. These steps can be constituted by a simple distillation operation, and by adding these steps, 1,1-difluoroethane with higher purity can be obtained.
【００２６】一方、図１は本発明の好ましい実施態様の
工程を示す概念図である。即ち、公知の方法によって製
造された、ハロゲン化水素を不純物として含有する１，
１−ジフルオロエタンを、まずハロゲン化水素除去塔
（１）に導入し、アルカリ水溶液と接触させることによ
りハロゲン化水素を除去する。次いで、ハロゲン化水素
が除去された１，１−ジフルオロエタンを乾燥塔（２）
に導入し、モレキュラーシーブまたは濃硫酸と接触させ
ることにより水分を除去する。さらに、フッ素化ビニル
化合物除去塔（３）を経て精製することにより、ハロゲ
ン化水素、水分およびその他の不純物をほとんど含まな
い高純度の１，１−ジフルオロエタンを得ることができ
るのである。FIG. 1 is a conceptual diagram showing the steps of a preferred embodiment of the present invention. That is, 1, which is produced by a known method and contains hydrogen halide as an impurity.
First, 1-difluoroethane is introduced into a hydrogen halide removal tower (1), and is contacted with an aqueous alkali solution to remove hydrogen halide. Next, the 1,1-difluoroethane from which the hydrogen halide has been removed is added to the drying tower (2).
To remove water by contact with molecular sieves or concentrated sulfuric acid. Further, by purifying through the fluorinated vinyl compound removal tower (3), high-purity 1,1-difluoroethane containing almost no hydrogen halide, moisture and other impurities can be obtained.
【００２７】[0027]
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
【００２８】（実施例１）公知の方法（例えば、特開昭
５０−１０６９０５号公報に記載の方法）に従って、
１，１−ジクロロエタンとフッ化水素を反応させた後、
反応液を水洗浄および蒸留精製して１，１−ジフルオロ
エタンを製造した。この１，１−ジフルオロエタンに含
まれるハロゲン化水素を定量したところ、フッ化水素が
１９００ｗｔｐｐｍ、塩化水素が１１００ｗｔｐｐｍで
あった。以下、実施例において、このハロゲン化水素を
含有する１，１−ジフルオロエタンを粗ジフルオロエタ
ンと称する。なお、ハロゲン化水素の定量は、イオンク
ロマトグラフイー（検出限界ｌｗｔｐｐｍ）により行っ
た。(Example 1) According to a known method (for example, a method described in JP-A-50-106905),
After reacting 1,1-dichloroethane with hydrogen fluoride,
The reaction solution was washed with water and purified by distillation to produce 1,1-difluoroethane. When hydrogen halide contained in the 1,1-difluoroethane was quantified, it was found that hydrogen fluoride was 1900 wtppm and hydrogen chloride was 1100 wtppm. Hereinafter, in Examples, 1,1-difluoroethane containing this hydrogen halide is referred to as crude difluoroethane. The quantification of hydrogen halide was performed by ion chromatography (detection limit: 1 wtppm).
【００２９】第一工程 内容量２５０ｍｌのカラムにラシヒリングを充填し、カ
ラム底部からガス状の粗ジフルオロエタンを流速１５０
０ｍｌ／ｍｉｎで上向きに流通し、カラム上部から２０
ｗｔ％水酸化カリウム水溶液を流速２０ｍｌ／ｍｉｎで
下向きに流通することにより、カラム内部で気／液接触
を行い、粗ジフルオロエタン中のハロゲン化水素の除去
操作を行った。この操作は常温、常圧で行った。First Step A column having a capacity of 250 ml is filled with Raschig rings, and gaseous crude difluoroethane is supplied at a flow rate of 150 from the bottom of the column.
Flow upward at 0 ml / min.
By flowing a wt% aqueous solution of potassium hydroxide downward at a flow rate of 20 ml / min, gas-liquid contact was made inside the column to remove hydrogen halide in the crude difluoroethane. This operation was performed at normal temperature and normal pressure.
【００３０】この処理により得られた１，１−ジフルオ
ロエタンに含まれるハロゲン化水素を定量した結果、フ
ッ化水素がｌｗｔｐｐｍ未満、塩化水素がｌｗｔｐｐｍ
未満であった。ただし、このものには水分が２．４ｗｔ
％含まれていた。なお、水分の定量はカールフィッシャ
ー水分計（検出限界１０ｗｔｐｐｍ）により行った。As a result of quantifying hydrogen halide contained in 1,1-difluoroethane obtained by this treatment, hydrogen fluoride was less than 1 wtppm, and hydrogen chloride was less than 1 wtppm.
Was less than. However, this has a water content of 2.4 wt.
% Was included. The water content was determined by a Karl Fischer moisture meter (detection limit: 10 wtppm).
【００３１】第二工程 内容量３０ｍｌのカラムに、モレキュラーシーブ（東ソ
ー社製ゼオラムＡ−３［商品名］）を２０ｍｌ充填し、
カラム上部から上記の水分を含むガス状の１，１−ジフ
ルオロエタンを流速３００ｍｌ／ｍｉｎで下向きに流通
した。この操作は常温、常圧で行った。この処理により
得られた１，１−ジフルオロエタンの水分量は、１０ｗ
ｔｐｐｍ未満であった。Second step A column having a content of 30 ml was filled with 20 ml of molecular sieve (Zeoram A-3 [trade name] manufactured by Tosoh Corporation),
The gaseous 1,1-difluoroethane containing the above-mentioned water was passed downward from the top of the column at a flow rate of 300 ml / min. This operation was performed at normal temperature and normal pressure. The water content of 1,1-difluoroethane obtained by this treatment is 10 w
It was less than tppm.
【００３２】（実施例２）実施例１における第一工程
を、２００ｍｌの２０ｗｔ％水酸化カリウム水溶液を入
れた内容量１３００ｍｌの気泡塔を使用し、ガス状の粗
ジフルオロエタンを気泡塔底部より流速５００ｍｌ／ｍ
ｉｎでバブリングさせる方法に代えた以外は実施例１と
同様に精製を行った結果、フッ化水素含有量が１ｗｔｐ
ｐｍ未満、塩化水素含有量が１ｗｔｐｐｍ未満、水分が
１０ｗｔｐｐｍ未満の１，１−ジフルオロエタンが得ら
れた。Example 2 The first step in Example 1 was carried out by using a bubble column having a capacity of 1300 ml containing 200 ml of a 20 wt% aqueous solution of potassium hydroxide, and supplying gaseous crude difluoroethane at a flow rate of 500 ml from the bottom of the bubble column. / M
Purification was carried out in the same manner as in Example 1 except that the method of bubbling with in was used. As a result, the hydrogen fluoride content was 1 wtp.
1,1-difluoroethane having a hydrogen chloride content of less than 1 wtppm and a water content of less than 10 wtppm was obtained.
【００３３】（実施例３）実施例１における第二工程
を、２５０ｍｌの９５％濃硫酸を入れた内容量１３００
ｍｌの気泡塔を使用し、ガス状の１，１−ジフルオロエ
タンを気泡塔底部より流速５００ｍｌ／ｍｉｎでバブリ
ングさせる方法に代えた以外は実施例１と同様に精製を
行った結果、フッ化水素含有量が１ｗｔｐｐｍ未満、塩
化水素含有量が１ｗｔｐｐｍ未満、水分が１０ｗｔｐｐ
ｍ未満の１，１−ジフルオロエタンが得られた。Example 3 The second step of Example 1 was repeated except that 250 ml of 95% conc.
Purification was carried out in the same manner as in Example 1 except that a method of bubbling gaseous 1,1-difluoroethane from the bottom of the bubble column at a flow rate of 500 ml / min was performed using a bubble column having a capacity of hydrogen fluoride. Less than 1 wtppm, hydrogen chloride content less than 1 wtppm, water content 10 wtpp
m of 1,1-difluoroethane were obtained.
【００３４】[0034]
【発明の効果】本発明によれば、ハロゲン化水素を不純
物として含む１，１−ジフルオロエタンから、ハロゲン
化水素を効率よくほぼ完全に除去することができる。従
って、本発明によって得られた１，１−ジフルオロエタ
ンは、化粧品、医薬品等の用途における噴霧剤としても
好適に使用することができる。According to the present invention, hydrogen halide can be efficiently and almost completely removed from 1,1-difluoroethane containing hydrogen halide as an impurity. Therefore, the 1,1-difluoroethane obtained according to the present invention can be suitably used as a spray in applications such as cosmetics and pharmaceuticals.
【図１】本発明の好ましい実施態様の工程を示す概念図
である。FIG. 1 is a conceptual diagram showing the steps of a preferred embodiment of the present invention.
１ ハロゲン化水素除去塔 ２ 乾燥塔 ３ フッ素化ビニル化合物除去塔 ４ 精製された１，１−ジフルオロエタン REFERENCE SIGNS LIST 1 hydrogen halide removal tower 2 drying tower 3 fluorinated vinyl compound removal tower 4 purified 1,1-difluoroethane
Claims (3)
１，１−ジフルオロエタンからハロゲン化水素を除去し
て精製する方法であって、ハロゲン化水素を含有する
１，１−ジフルオロエタンをアルカリ水溶液と接触させ
てハロゲン化水素を除去する第一工程と、ハロゲン化水
素を除去した１，１−ジフルオロエタンを乾燥剤と接触
させて水分を除去する第二工程とを含むことを特徴とす
る１，１−ジフルオロエタンの精製方法。1. A method for purifying by removing hydrogen halide from 1,1-difluoroethane containing hydrogen halide as an impurity, comprising contacting 1,1-difluoroethane containing hydrogen halide with an aqueous alkali solution. 1,1-difluoroethane comprising a first step of removing hydrogen halide by heating and a second step of removing water by contacting 1,1-difluoroethane from which hydrogen halide has been removed with a drying agent. Purification method.
酸である請求項１に記載の１，１−ジフルオロエタンの
精製方法。2. The method for purifying 1,1-difluoroethane according to claim 1, wherein the desiccant is molecular sieve or concentrated sulfuric acid.
ハロゲン化水素が、フッ化水素または塩化水素であり、
フッ化水素、塩化水素および水分の量を、それぞれフッ
化水素ｌｗｔｐｐｍ以下、塩化水素ｌｗｔｐｐｍ以下、
水分１０ｗｔｐｐｍ以下とする請求項１または２に記載
の１，１−ジフルオロエタンの精製方法。3. The hydrogen halide contained in 1,1-difluoroethane is hydrogen fluoride or hydrogen chloride,
Hydrogen fluoride, hydrogen chloride and the amount of water, respectively, hydrogen fluoride lwtppm or less, hydrogen chloride lwtppm or less,
The method for purifying 1,1-difluoroethane according to claim 1 or 2, wherein the water content is 10 wtppm or less.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000062452A JP2001247495A (en) | 2000-03-07 | 2000-03-07 | Method for purifying 1,1-difluoroethane |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000062452A JP2001247495A (en) | 2000-03-07 | 2000-03-07 | Method for purifying 1,1-difluoroethane |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001247495A true JP2001247495A (en) | 2001-09-11 |
Family
ID=18582463
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000062452A Pending JP2001247495A (en) | 2000-03-07 | 2000-03-07 | Method for purifying 1,1-difluoroethane |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001247495A (en) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100839063B1 (en) * | 2003-11-10 | 2008-06-19 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | Purification method of, 1,1-difluoroethane |
| WO2008120642A1 (en) * | 2007-03-30 | 2008-10-09 | Showa Denko K.K. | Method for producing 1,2,3,4-tetrachlorohexafluorobutane and method for purifying 1,2,3,4-tetrachlorohexafluorobutane |
| US20110071325A1 (en) * | 2008-05-16 | 2011-03-24 | Showa Denko K.K. | Production process and purification process for 1,2,3,4-tetrachlorohexafluorobutane |
| WO2015093527A1 (en) * | 2013-12-20 | 2015-06-25 | 日本ゼオン株式会社 | Method for purifying hydrofluorocarbon compound |
| CN112094172A (en) * | 2020-09-23 | 2020-12-18 | 江西佳因光电材料有限公司 | Method and device for purifying trichlorobromomethane crude product |
-
2000
- 2000-03-07 JP JP2000062452A patent/JP2001247495A/en active Pending
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7696392B2 (en) | 2003-11-10 | 2010-04-13 | Showa Denko K.K. | Purification method of 1,1-difluoroethane |
| KR100839063B1 (en) * | 2003-11-10 | 2008-06-19 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | Purification method of, 1,1-difluoroethane |
| JP5274449B2 (en) * | 2007-03-30 | 2013-08-28 | 昭和電工株式会社 | Process for producing and purifying 1,2,3,4-tetrachlorohexafluorobutane |
| WO2008120642A1 (en) * | 2007-03-30 | 2008-10-09 | Showa Denko K.K. | Method for producing 1,2,3,4-tetrachlorohexafluorobutane and method for purifying 1,2,3,4-tetrachlorohexafluorobutane |
| TWI409243B (en) * | 2007-03-30 | 2013-09-21 | Showa Denko Kk | 1,2,3,4-tetrachlorohexafluorobutane and its purification method |
| KR101127322B1 (en) | 2007-03-30 | 2012-03-29 | 쇼와 덴코 가부시키가이샤 | Method for producing 1,2,3,4-tetrachlorohexafluorobutane and method for purifying 1,2,3,4-tetrachlorohexafluorobutane |
| US8293955B2 (en) | 2007-03-30 | 2012-10-23 | Showa Denko K.K. | Production process for 1,2,3,4-tetrachlorohexafluorobutane and refining process |
| US8415516B2 (en) * | 2008-05-16 | 2013-04-09 | Showa Denko K.K. | Production process and purification process for 1,2,3,4-tetrachlorohexafluorobutane |
| US20110071325A1 (en) * | 2008-05-16 | 2011-03-24 | Showa Denko K.K. | Production process and purification process for 1,2,3,4-tetrachlorohexafluorobutane |
| WO2015093527A1 (en) * | 2013-12-20 | 2015-06-25 | 日本ゼオン株式会社 | Method for purifying hydrofluorocarbon compound |
| JPWO2015093527A1 (en) * | 2013-12-20 | 2017-03-23 | 日本ゼオン株式会社 | Method for purifying fluorinated hydrocarbon compounds |
| US9682906B2 (en) | 2013-12-20 | 2017-06-20 | Zeon Corporation | Method for purifying hydrofluorocarbon compound |
| CN112094172A (en) * | 2020-09-23 | 2020-12-18 | 江西佳因光电材料有限公司 | Method and device for purifying trichlorobromomethane crude product |
| CN112094172B (en) * | 2020-09-23 | 2023-10-24 | 江西佳因光电材料有限公司 | Method and device for purifying crude trichlorobromomethane |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| ES2910712T3 (en) | Process for the production of HFO trans-1234ze from HFC-245fa | |
| CN101293809A (en) | Integrated HFC trans-1234ZE manufacture process | |
| JP2021504365A (en) | High-purity 2-chloro-1,1,1,2-tetrafluoropropane (HCFC-244BB) manufacturing process | |
| JP2001247495A (en) | Method for purifying 1,1-difluoroethane | |
| CN103483143B (en) | The integrin manufacturing method of HFC anti-form-1 234ZE | |
| US11555002B2 (en) | Method to neutralize and remove HF from a crude stream containing hydrochlorofluoroolefin | |
| KR100488229B1 (en) | Process for producing difluoromethane | |
| JP2001181220A (en) | Method for producing purified fluorocarbon or chlorofluorocarbon | |
| WO2014185321A1 (en) | Purification method for dichloromethane, and production method for difluoromethane using said purification method | |
| US4251457A (en) | Process for purification of the off-gases resulting from the production of benzoyl chloride from phosgene | |
| US6605193B2 (en) | Recovery of HFC-32 | |
| JP3822981B2 (en) | Method for producing high purity carbon monoxide | |
| JP3180228B2 (en) | Removal method of stabilizer in trichlorethylene | |
| US5744661A (en) | Purification of 1, 1-difluoroethane | |
| JPH0499737A (en) | Purification of 1,1-dichloro-1-fluoroethane | |
| KR100317113B1 (en) | The method of purifying hydrogen chloride | |
| JPH10287595A (en) | Purification of hexafluoroethane | |
| JPS5992903A (en) | Removal of bromine in chlorine | |
| KR20000035824A (en) | Process for producing difluoromethane | |
| JP2007131554A (en) | Method for separation and recovery of pentafluoroethane and pentafluoroethane production method including the separation and recovery method | |
| JPH09155140A (en) | Separation method of hydrogen chloride and pentafluoroethane | |
| JP4458784B2 (en) | Method for producing pentafluoroethane and use thereof | |
| JPH09271673A (en) | Method for regenerating catalyst and production of trichloroethylene utilizing the same | |
| KR20060041265A (en) | Azeotropic mixture of fluoromethane and hydrogen chloride and process for purifying fluoromethane | |
| JP2001342007A (en) | Hydrogen fluoride separation method |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060424 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060530 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20061107 |