JP2001246228A

JP2001246228A - 光触媒装置

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Publication number: JP2001246228A
Application number: JP2000059935A
Authority: JP
Inventors: Shinji Kato; 真示加藤; Hirokazu Watanabe; 裕和渡邉; Mikio Hirano; 美喜雄平野; Hisatoku Kurobe; 久徳黒部; Misao Iwata; 美佐男岩田
Original assignee: Noritake Co Ltd
Current assignee: Noritake Co Ltd
Priority date: 2000-03-06
Filing date: 2000-03-06
Publication date: 2001-09-11

Abstract

(57)【要約】【課題】半永久的に使用することのできる光触媒装置
を提供すること。【解決手段】少なくとも底板２１と左右の側板２２，
２３とを有するベースフレーム２と，ベースフレーム２
の内部に配設した紫外線照射用の光源３と，光源３の前
方と後方とにおいてベースフレーム２に取付けたフィル
ター取付け用のフィルターフレーム４と，各フィルター
フレーム４に着脱可能に取付けた光触媒フィルター５と
よりなる。前方と後方の光触媒フィルター５に順次被処
理ガスを通過させると共に，光源３によって紫外線を照
射することにより，上記被処理ガス中の有害成分を分解
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【技術分野】本発明は，空気浄化等を行うために排気ダ
クト等に設置される光触媒装置に関する。

【０００２】

【従来技術】従来より，居住空間や作業空間での悪臭や
有害成分を浄化するために，光触媒を利用した光触媒装
置が用いられている。該光触媒装置は，酸化チタンを担
持した光触媒フィルターと，該光触媒フィルターに紫外
線を照射するための光源とを有する。そして，上記光触
媒装置は，上記光源によって上記光触媒フィルターに紫
外線を照射しながら，被処理ガスを通過させる。これに
より，該被処理ガス中の有害成分を分解除去し，空気浄
化を行っている。

【０００３】

【解決しようとする課題】しかしながら，上記従来の光
触媒装置には，以下の問題がある。即ち，上記光触媒装
置は，使用に伴い有害成分が光触媒としての酸化チタン
の表面に堆積する。これにより，上記酸化チタンの触媒
機能が発揮されず，光触媒装置の機能が低下することと
なる。特に有害成分の発生量が多い場所に設置された場
合には，光触媒装置の機能低下が早く，短期間で使用で
きなくなるという問題がある。

【０００４】本発明は，かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので，半永久的に使用することのできる光触媒
装置を提供しようとするものである。

【０００５】

【課題の解決手段】請求項１に記載の発明は，少なくと
も底板と左右の側板とを有するベースフレームと，該ベ
ースフレームの内部に配設した紫外線照射用の光源と，
該光源の前方と後方とにおいて上記ベースフレームに取
付けたフィルター取付け用のフィルターフレームと，各
フィルターフレームに着脱可能に取付けた光触媒フィル
ターとよりなり，上記前方と後方の光触媒フィルターに
順次被処理ガスを通過させると共に，上記光源によって
紫外線を照射することにより，上記被処理ガス中の有害
成分を分解するよう構成してあることを特徴とする光触
媒装置にある。

【０００６】本発明において最も注目すべきことは，光
触媒フィルターが各フィルターフレームに着脱可能に取
付けてあることである。上記光触媒フィルターとして
は，例えば，セラミック多孔体に酸化チタン等の光触媒
を担持させてなるものがある。また，上記ベースフレー
ムやフィルターフレームは，例えばステンレス鋼，亜鉛
メッキ銅等からなる。また，上記光源としては，例えば
波長３００〜４２０ｎｍの紫外線を発生するブラックラ
イトを用いることができる

【０００７】次に，本発明の作用効果につき説明する。
上記光触媒装置は，例えば，排気ダクトに配設し，該排
気ダクトを流れる被処理ガスを，上記光触媒フィルター
に通過させる。このとき，上記光源によって上記光触媒
フィルターに紫外線を照射する。これにより，上記光触
媒フィルターの光触媒機能によって，上記被処理ガス中
の有害成分を分解し，除去する。

【０００８】上記光触媒装置は，上述のごとく上記光触
媒フィルターが各フィルターフレームに着脱可能に取付
けてある。そのため，上記光触媒フィルターを上記光触
媒装置から取外して交換することができる。それ故，使
用により上記光触媒装置の機能が低下した際に，上記光
触媒フィルターを交換することができる。これにより，
光触媒装置全体を交換することなく，同じ光触媒装置を
半永久的に使用することができる。また，上記光触媒フ
ィルターは，新品に交換しても，洗浄して再生して用い
てもよい。

【０００９】以上のごとく，本発明によれば，半永久的
に使用することのできる光触媒装置を提供することがで
きる。

【００１０】次に，請求項２に記載の発明のように，上
記各フィルターフレームは，上記ベースフレームに対し
着脱可能に取付けてあることが好ましい。これにより，
上記光触媒フィルターの交換を容易に行うことができ
る。

【００１１】次に，請求項３に記載の発明のように，上
記各フィルターフレームには，複数個の光触媒フィルタ
ーが取付けてあることが好ましい。これにより，上記光
触媒フィルターの交換を容易に行うことができる。

【００１２】次に，請求項４に記載の発明のように，上
記光触媒フィルターは，上記フィルターフレームに設け
た取付枠に着脱可能に嵌合されていることが好ましい。
これにより，上記光触媒フィルターを上記フィルターフ
レームに確実に取付けることができる。

【００１３】次に，請求項５に記載の発明のように，上
記光触媒フィルターは，上記取付枠に嵌合すると共に上
記光触媒フィルターの背面を支持する固定具により，上
記取付枠に固定されていることが好ましい。これによ
り，上記光触媒フィルターを上記フィルターフレームに
一層確実に取付けることができ，使用中に脱落するおそ
れがない。

【００１４】次に，請求項６に記載の発明のように，上
記フィルターフレーム及び上記固定具は，上記光触媒フ
ィルターと対面する接触面に弾性部材を有することが好
ましい。これにより，上記光触媒フィルターを上記フィ
ルターフレームに安定して取付けることができる。ま
た，上記光触媒フィルターとフィルターフレームとの間
に隙間を生ずることを防ぐことができる。それ故，上記
光触媒フィルターとフィルターフレームとの間からの被
処理ガスの漏れを確実に防ぐことができる。上記弾性部
材としては，例えばシリコン，ウレタンゴム等がある
が，耐久性の観点からシリコンが好ましい。

【００１５】次に，請求項７に記載の発明のように，上
記光触媒装置は，上記ベースフレーム及び上記フィルタ
ーフレームよりも上方に，光源作動用の電気回路部を配
置していることが好ましい。これにより，上記光触媒装
置を排気ダクト等に配設した場合，万が一，排気ダクト
の底部に水分や異物が溜まった際，これらが上記電気回
路部に入り込むことを防ぐことができる。

【００１６】次に，請求項８に記載の発明のように，上
記ベースフレームは，隣接配置する他の光触媒装置との
接続を図るための接続具を，上記側板に有することが好
ましい。これにより，例えば口径の大きい排気ダクトに
上記光触媒装置を複数個並べて使用する際，これらを隙
間なく容易に配置することができる。また，メンテナン
ス等のために上記光触媒装置を排気ダクトから取り出す
際には，該光触媒装置が連結しているため，効率よく取
り出すことができる。また，上記ベースフレームの側板
にシーリング材を介在させて他の光触媒装置を接続する
こともできる。これにより，隣接する一対の光触媒装置
の間の隙間を確実に塞ぎ，被処理ガスの漏れを防ぐこと
ができる。

【００１７】次に，請求項９に記載の発明のように，上
記光触媒装置は，上記被処理ガスを流速０．５〜３．０
ｍ／秒で通過させるよう構成してあることが好ましい。
これにより，上記被処理ガス中の有害成分を確実かつ効
率的に分解することができる。上記被処理ガスの流速が
０．５ｍ／秒未満の場合には，上記被処理ガスを効率よ
く処理できないおそれがある。一方，上記被処理ガスの
流速が３．０ｍ／秒を超える場合には，上記被処理ガス
中の有害成分を確実に分解することができないおそれが
ある。

【００１８】次に，請求項１０に記載の発明のように，
上記光触媒フィルターは，三次元網目構造を有するセラ
ミック多孔体の表面に表層用セラミック粒子によって形
成した凹凸表面層を有してなると共に，該凹凸表面層に
光触媒を担持させてなり，かつ，上記表層用セラミック
粒子は，平均粒径が１μｍ〜１００μｍであることが好
ましい。

【００１９】これにより，被処理ガスの浄化効率に優れ
た光触媒フィルターを有する光触媒装置を得ることがで
きる。即ち，上記光触媒フィルターは，セラミック多孔
体の表面に上記凹凸表面層を形成してなるため，上記セ
ラミック多孔体の表面積が大きくなる。それ故，上記セ
ラミック多孔体の表面に担持する光触媒の表面積も大き
くなるため，その光触媒機能が充分に発揮される。

【００２０】また，上記凹凸表面層を形成する表層用セ
ラミック粒子は，平均粒径が１μｍ〜１００μｍであ
る。そのため，充分な大きさを有する上記凹凸表面層が
形成され，光触媒機能が充分に発揮される。上記平均粒
径が１μｍ未満の場合には，上記凹凸表面層が充分に形
成されない。一方，上記平均粒径が１００μｍを超える
場合には，表層用セラミック粒子がセラミック多孔体か
ら脱離するおそれがある。更に，上記光触媒は上記凹凸
表面層に担持されているため，アンカー効果によりその
担持力が大きく，上記光触媒が剥がれ難いという利点も
ある。なお，上記表層用セラミック粒子としては，例え
ばアルミナ粒子がある。

【００２１】次に，請求項１１に記載の発明のように，
上記セラミック多孔体を構成する骨格筋の直径は１００
〜１０００μｍであることが好ましい。これにより，上
記光触媒フィルターに照射される紫外線が内部にまで充
分に透過する。そのため，上記セラミック多孔体の内部
に担持された光触媒にも紫外線が充分に照射され，触媒
機能を充分に発揮することができる。上記骨格筋の直径
が１００μｍ未満の場合には，光触媒フィルターの強度
が不充分となるおそれがある。一方，上記直径が１００
０μｍを超える場合には，光触媒フィルターの内部にま
で充分に紫外線が照射されないおそれがある。

【００２２】また，上記光触媒フィルターは，厚み５ｍ
ｍにおける光透過率が１０〜５０％であることが好まし
い。これにより，上記セラミック多孔体の内部に担持さ
れた光触媒に光が充分に照射され，触媒機能を充分に発
揮することができる。厚み５ｍｍにおける上記光透過率
が１０％未満の場合には，上記セラミック多孔体の内部
に担持された光触媒の触媒機能が充分に発揮されないお
それがある。一方，上記光透過率が５０％を超える場合
には，上記骨格筋が細くなりすぎるためフィルターとし
ての強度が得られないおそれがある。

【００２３】また，上記光触媒は，酸化チタンであるこ
とが好ましい。これにより，上記光触媒の触媒機能が高
く，一層浄化効率に優れた光触媒装置を得ることができ
る。

【００２４】また，上記光触媒フィルターの製造方法と
しては，三次元網目構造を有する有機多孔体に，セラミ
ック微粉末とバインダーとを含む泥漿を含浸付着させ，
該泥漿が乾燥しない間に表層用セラミック粒子を上記泥
漿に付着させ，乾燥した後，これらを加熱して上記有機
多孔体を焼失させると共に，上記セラミック微粉末及び
表層用セラミック粒子を焼結させて，三次元網目構造を
有するセラミック多孔体の表面に上記表層用セラミック
粒子よりなる凹凸表面層を形成してなるセラミック多孔
体を作製し，次いで，該セラミック多孔体の上記凹凸表
面層に光触媒を担持させることにより，光触媒フィルタ
ーを製造する方法であって，かつ，上記表層用セラミッ
ク粒子は平均粒径１μｍ〜１００μｍであることを特徴
とする光触媒フィルターの製造方法がある。

【００２５】上記平均粒径が１μｍ未満の場合には，上
記凹凸表面層が充分に形成されない。一方，上記平均粒
径が１００μｍを超える場合には，表層用セラミック粒
子がセラミック多孔体から脱離するおそれがある。な
お，上記表層用セラミック粒子としては，例えばアルミ
ナ粒子を用いる。上記セラミック微粉末としては，例え
ばアルミナ粉末を用いる。また，上記有機多孔体として
は，例えばウレタンフォームを用いる。

【００２６】次に，上記光触媒フィルターの製造方法の
作用効果につき説明する。上記凹凸表面層の形成には，
上記のごとく，平均粒径１μｍ〜１００μｍの表層用セ
ラミック粒子を用いる。そのため，上記凹凸表面層を確
実に得ることができる。また，上記のような有機多孔体
を用いるため，複雑な構造の上記セラミック多孔体を容
易に作製することができる。従って，浄化効率に優れた
光触媒フィルターを容易に製造することができる。

【００２７】また，上記セラミック多孔体の骨格筋の直
径は，１００〜１０００μｍであることが好ましい。こ
れにより，上記光触媒の触媒機能が高く，一層浄化効率
に優れた光触媒フィルターを有する光触媒装置を容易に
得ることができる。

【００２８】また，上記光触媒は，酸化チタンであるこ
とが好ましい。これにより，上記光触媒の触媒機能が高
く，一層浄化効率に優れた光触媒装置を容易に得ること
ができる。

【００２９】

【発明の実施の形態】実施形態例１本発明の実施形態例にかかる光触媒装置につき，図１〜
図１３を用いて説明する。本例の光触媒装置１は，図１
に示すごとく，ベースフレーム２と，その内部に配設し
た紫外線照射用の光源３と，該光源３の前方と後方とに
おいて上記ベースフレーム２に取付けたフィルター取付
け用のフィルターフレーム４とを有する。上記ベースフ
レーム２は，底板２１と左右の側板２２，２３とを有す
る。また，各フィルターフレーム４には，光触媒フィル
ター５が着脱可能に取付けてある。

【００３０】上記光触媒装置１は，図２（Ａ），（Ｂ）
に示すごとく，上記前方と後方の光触媒フィルター５に
順次被処理ガス８を通過させると共に，上記光源３によ
って紫外線を照射することにより，上記被処理ガス８中
の有害成分を分解する。また，上記光触媒装置１には，
上記被処理ガス８を流速０．５〜３．０ｍ／秒で通過さ
せる。

【００３１】また，上記ベースフレーム２やフィルター
フレーム４は，ステンレス鋼（ＳＵＳ３０４）からな
る。また，上記一対のフィルターフレーム４は，約２５
ｍｍの間隔をもって互いに平行に配設してある。また，
上記光源３としては，波長が３００〜４２０ｎｍ，距離
５ｃｍにおける平均強度が２００Ｗ／ｍ²の紫外線を発
生するブラックライトを用いる。また，上記光源３は，
上記一対のフィルターフレーム４の間の中央に４本均等
に配置してある。

【００３２】また，図１に示すごとく，上記各フィルタ
ーフレーム４には，それぞれ６個の光触媒フィルター５
が取付けてある。各光触媒フィルター５の大きさは，２
４０×１２６×１３ｍｍである。また，図３に示すごと
く，上記各フィルターフレーム４は，上記ベースフレー
ム２に対し着脱可能に取付けてある。即ち，図３に示す
ごとく，上記フィルターフレーム４は，上記ベースフレ
ーム２の側板２２，２３に沿って上下方向にスライドす
ることができる。

【００３３】また，図４，図５，図７に示すごとく，上
記光触媒フィルター５は，上記フィルターフレーム４に
設けた取付枠４１に着脱可能に嵌合されている。そし
て，上記光触媒フィルター５は，上記取付枠４１に嵌合
すると共に上記光触媒フィルター５の背面を支持する固
定具４２により，上記取付枠４１に固定されている。

【００３４】即ち，図１，図４の（Ａ）〜（Ｄ）に示す
ごとく，上記各フィルターフレーム４には，６個の略長
方形の開口部４４が設けてある。そして，図４，図６に
示すごとく，該開口部４４の４辺を取り囲むようにし
て，上記取付枠４１が上記フィルターフレーム４に固定
してある。また，図４，図５に示すごとく，上記開口部
４４の長辺に沿って固定された取付枠４１には，上記固
定具４２の係合用屈曲部４２１を係合するための貫通孔
４１１が，それぞれ２箇所に形成されている。

【００３５】また，図４〜図６に示すごとく，上記フィ
ルターフレーム４及び上記固定具４２は，上記光触媒フ
ィルター５と対面する接触面に，シリコンからなる弾性
部材４３を有する。即ち，図６に示すごとく，上記弾性
部材４３は，上記開口部４４の周囲において上記取付枠
４１よりも内側に貼着してある。また，図４（Ａ），
（Ｂ）に示すごとく，上記弾性部材４３は，固定具４２
のにおける光触媒フィルター５との接触面にも貼着して
ある。なお，図４（Ａ）は固定具４２の上面斜視図，図
４（Ｂ）は固定具４２の裏面斜視図を示す。

【００３６】上記光触媒フィルター５を上記フィルター
フレーム４に取付けるに当っては，まず，上記光触媒フ
ィルター５を上記取付枠４１に嵌合させる。次いで，上
記光触媒フィルター５の上から，上記固定具４２を上記
取付枠４１に固定する。この固定は，上記固定具４２の
係合屈曲部４２１を上記取付枠４１の貫通孔４１１に係
合させることにより行う（図５）。

【００３７】これにより，図５に示すごとく，上記光触
媒フィルター５は，上記固定具４２における弾性部材４
３と，上記フィルターフレーム４における弾性部材４３
との間に挟持された状態で固定される。また，上記光触
媒フィルター５は，上記フィルターフレーム４における
弾性部材４３に密着している。

【００３８】また，図１，図７に示すごとく，上記光触
媒装置１は，上記ベースフレーム２及び上記フィルター
フレーム４よりも上方に，光源作動用の電気回路部１１
を配置している。図７に示すごとく，該電気回路部１１
にはインバータ１１１が配設してあり，該インバータ１
１１は上記光源３と電気的に接続されている。また，上
記電気回路部１１の左右の側面には，電気供給用のコネ
クタ１１２が配設してあり，上記インバータ１１１と電
気的に接続されている。なお，コネクタ１１２を除く上
記電気回路部１１は，上記ベースフレーム２及びフィル
ターフレーム４に対して着脱可能なカバー１２によっ
て，上方から覆われている。

【００３９】また，図１，図８，図９に示すごとく，上
記ベースフレーム２は，隣接配置する他の光触媒装置１
との接続を図るための接続具２４を，上記側板２２，２
３に有する。即ち，図８（Ａ）に示すごとく，上記側板
２２には，突出部２４２を有する雄型接続具２４１が，
上下２箇所に配設してある。一方，反対側の側板２３に
は，図８（Ｂ）に示すごとく，上記雄型接続具２４１の
突出部２４２を嵌合させるための凹部２４５を有する雌
型接続具２４４が，上下２箇所に配設してある。

【００４０】上記雄型接続具２４１の突出部２４２は，
図９（Ａ）に示すごとく，先端部２４３が若干上下に広
がった形状である。また，上記雌型接続具２４４の凹部
２４５の上下面には，それぞれ上記凹部の内側に向かっ
て付勢された球状体２４６が取付けてある。そして，隣
り合う一対の光触媒装置１を接続するに当っては，以下
のようにして，上記雄型接続具２４１と雄型接続具２４
３とを接続する。

【００４１】即ち，図９（Ｂ）に示すごとく，上記雄型
接続具２４１の突出部２４２を上記雌型接続具２４４の
凹部２４５に嵌合させる。そして，上記雌型接続具２４
４の一対の球状体２４６によって，上記雄型接続具２４
１の先端部２４３を係合させる。また，上記一対の光触
媒装置１の間には，図９（Ｂ）に示すごとく，弾性部材
２５を介在させておく。また，このとき，上記一対の光
触媒装置１における上記電気回路部１１のコネクタ１１
２は，互いに嵌合し合って接続される。

【００４２】本例の光触媒装置１は，厨房，食堂，半導
体工場，老人ホーム等における排気ダクトに設置して用
いることができる。その際には，上記光触媒装置１を通
過する被処理ガス８の流速が０．５〜３．０ｍ／秒とな
るよう，排気ダクトの口径を調整して設置する。また，
排気ダクトの口径が大きいときには，上記光触媒装置１
を複数個連結して使用する。このとき，上記のごとく，
隣り合う光触媒装置１を接続具２４によって互いに接続
する。

【００４３】次に，本例の光触媒装置１に用いる上記光
触媒フィルター５につき，図１０〜図１３を用いて説明
する。上記光触媒フィルター５は，図１０（Ａ），
（Ｂ）に示すごとく，三次元網目構造を有するセラミッ
ク多孔体５２の表面に表層用セラミック粒子５３によっ
て形成した凹凸表面層５３０を有してなると共に，該凹
凸表面層５３０に酸化チタンからなる光触媒５４を担持
させてなる。上記表層用セラミック粒子５３は，平均粒
径が２２μｍである。なお，図１０（Ａ）は，説明の便
宜上，凹凸表面層５３０を部分的に省略して，セラミッ
ク多孔体２の骨格筋５２１を露出させて表している。

【００４４】上記セラミック多孔体５２を構成する骨格
筋５２１の直径は，１００〜１０００μｍである。ま
た，上記光触媒フィルター５の光透過率は厚み５ｍｍで
約３０％である。

【００４５】次に，上記光触媒フィルター５の製造方法
につき図１２，図１０を用いて説明する。なお，図１２
は，上記有機多孔体５５における網目構造を構成する１
本の有機繊維に関して説明している。まず，三次元網目
構造（図１０（Ａ）参照）を有する有機多孔体５５に，
セラミック微粉末とバインダーとを含む泥漿５２０を含
浸付着させる（図１２（Ａ））。該泥漿５２０が乾燥し
ない間に表層用セラミック粒子５３を上記泥漿５２０に
付着させる（図１２（Ｂ））。該泥漿５２０を乾燥した
後，これらを加熱して上記有機多孔体５５を焼失させる
と共に，上記セラミック微粉末及び表層用セラミック粒
子５３を焼結させる。

【００４６】これにより，三次元網目構造を有するセラ
ミック多孔体５２の表面に上記表層用セラミック粒子５
３よりなる凹凸表面層５３０を形成してなるセラミック
多孔体５２を作製する（図１２（Ｃ））。また，該セラ
ミック多孔体５２の骨格筋５２１における上記有機多孔
体５５が存在していた部分には，上記有機繊維の焼失に
よって空洞５２９が形成される。

【００４７】次いで，該セラミック多孔体５２の上記凹
凸表面層５３０に，酸化チタンからなる光触媒５４を担
持させることにより光触媒フィルター５を製造する（図
１０（Ａ），（Ｂ），図１３）。なお，上記表層用セラ
ミック粒子５３は，アルミナ粒子である。

【００４８】次に，本例の作用効果につき説明する。上
記光触媒装置１は，排気ダクトに配設し，該排気ダクト
を流れる被処理ガス８を，上記光触媒フィルター５に通
過させる（図２（Ａ），（Ｂ））。このとき，上記光源
３によって上記光触媒フィルター５に紫外線を照射す
る。これにより，上記光触媒フィルター５の光触媒機能
によって，上記被処理ガス８中のアンモニア，アセトア
ルデヒド等の有害成分を分解し，除去する。

【００４９】上記光触媒装置１は，上述のごとく上記光
触媒フィルター５が各フィルターフレーム４に着脱可能
に取付けてある。そのため，上記光触媒フィルター５を
上記光触媒装置１から取外して交換することができる。
それ故，上記光触媒装置１の機能が低下した際に，上記
光触媒フィルター５を交換することができる。これによ
り，光触媒装置１全体を交換することなく，同じ光触媒
装置１を半永久的に使用することができる。

【００５０】上記光触媒フィルター５を交換するに当っ
ては，図３に示すごとく，まずカバー１２を，上記ベー
スフレーム２およびフィルターフレーム４から取外す。
次いで，上記フィルターフレーム４を，上記ベースフレ
ーム２から上方へスライドさせて取外す。次いで，上記
光触媒フィルター５を上記フィルターフレーム４の取付
枠４１から取外す。即ち，図４に示すごとく，固定具４
２を取付枠４１から取外した後，上記光触媒フィルター
５を取外す。

【００５１】そして，上記と逆の手順で，新たな光触媒
フィルター５を上記フィルタフレーム４に取付け，該フ
ィルターフレーム４をベースフレーム２に取付け，上記
カバー１２を上記ベースフレーム２及びフィルターフレ
ーム４に取付ける。上記光触媒フィルター５は，新品に
交換しても，洗浄して再生して用いてもよい。また，使
用後の光触媒フィルター５を粉砕して，新たな光触媒フ
ィルター５における表層用セラミック５３（図１０
（Ｂ））として再利用することもできる。

【００５２】また，上記各フィルターフレーム４は，図
３に示すごとく，上記ベースフレーム２に対し着脱可能
に取付けてあるため，上記光触媒フィルター５の交換を
容易に行うことができる。また，上記各フィルターフレ
ーム４には，適当な大きさの６個の光触媒フィルター５
が取付けてあるため，上記光触媒フィルター５の交換を
一層容易に行うことができる。

【００５３】また，上記光触媒フィルター５は，上記取
付枠４１に嵌合すると共に，上記固定具４２により背面
を支持されることによって固定されている（図５）。そ
のため，上記光触媒フィルター５を上記フィルターフレ
ーム４に一層確実に取付けることができ，使用中に脱落
するおそれがない。

【００５４】また，上記フィルターフレーム４及び上記
固定具４２は，上記光触媒フィルター４と対面する接触
面に弾性部材４３を有するため（図４〜図６），上記光
触媒フィルター５をフィルターフレーム４に安定して取
付けることができる。また，上記光触媒フィルター５と
フィルターフレーム４との間に隙間を生ずることを防ぐ
ことができる。それ故，上記光触媒フィルター５とフィ
ルターフレーム４との間からの被処理ガス８の漏れを確
実に防ぐことができる。上記弾性部材４３としては，耐
久性の観点からシリコンを用いている。

【００５５】また，上記光触媒装置１は，上記ベースフ
レーム２及び上記フィルターフレーム４よりも上方に，
光源作動用の電気回路部１１を配置している（図７）。
これにより，上記光触媒装置１を排気ダクトに配設した
場合，万が一，排気ダクトの底部に水分や異物が溜まっ
た際，これらが上記電気回路部１１に入り込むことを防
ぐことができる。

【００５６】また，上記ベースフレーム２は，隣接配置
する他の光触媒装置１との接続を図るための接続具２４
を，上記側板２２，２３に有する。これにより，例えば
口径の大きい排気ダクトに上記光触媒装置を複数個並べ
て使用する際，これらを隙間なく容易に配置することが
できる。

【００５７】また，メンテナンス等のために上記光触媒
装置１を排気ダクトから取り出す際には，該光触媒装置
１が連結しているため，効率よく取り出すことができ
る。また，図９に示すごとく，上記ベースフレーム２の
側板２２，２３にシーリング材２５を介在させて他の光
触媒装置１を接続することにより，隣接する一対の光触
媒装置１の間の隙間を確実に塞ぐことができる。

【００５８】また，上記光触媒装置１は，被処理ガス８
を流速０．５〜３．０ｍ／秒で通過させることにより，
上記被処理ガス８中の有害成分を確実かつ効率的に分解
することができる。

【００５９】また，本例の光触媒装置１は，上述のよう
な光触媒フィルター５を用いているため，以下のような
作用効果を有する。即ち，上記光触媒フィルター５は，
セラミック多孔体５２の表面に上記凹凸表面層５３０を
形成してなる（図１０（Ａ），（Ｂ））。そのため，上
記セラミック多孔体５２の表面積が大きくなる。それ
故，上記セラミック多孔体５２の表面に担持する光触媒
５４の表面積も大きくなるため，その光触媒機能が充分
に発揮される。これにより，被処理ガスの浄化効率が高
い光触媒フィルター５を有する光触媒装置１を得ること
ができる。

【００６０】また，上記凹凸表面層５３０を形成する表
層用セラミック粒子５３は，平均粒径が１μｍ〜１００
μｍである。そのため，充分な大きさを有する上記凹凸
表面層５３０が形成され，光触媒機能が充分に発揮され
る。更に，上記光触媒５４は上記凹凸表面層５３０に担
持されているため，アンカー効果によりその担持力が大
きく，上記光触媒５４が剥がれ難いという利点もある。

【００６１】また，上記セラミック多孔体５２を構成す
る骨格筋の直径は，１００〜１０００μｍであるため，
上記光触媒フィルター５に照射される紫外線が内部にま
で充分に透過する。また，上記光触媒フィルター５の光
透過率は厚み５ｍｍで３０％であるため，上記セラミッ
ク多孔体５２の内部に担持された光触媒５４にも紫外線
が充分に照射され，触媒機能を充分に発揮することがで
きる。

【００６２】以上のごとく，本例によれば，半永久的に
使用することのできる光触媒装置を提供することができ
る。

【００６３】実施形態例２本例は，図１４に示すごとく，取付枠４１を有する面を
外側に向けて，フィルターフレーム４をベースフレーム
２に取付けた光触媒装置１の例である。その他は，実施
形態例１と同様である。これにより，上記フィルターフ
レーム４を上記ベースフレーム２から取り外すことな
く，光触媒フィルター５を交換することができる。その
ため，光触媒フィルター５の交換作業が容易な光触媒装
置１を得ることができる。その他，実施形態例１と同様
の作用効果を有する。

【００６４】実施形態例３本例は，図１５に示すごとく，光触媒フィルター５をカ
ートリッジ５０としてフィルターフレーム４に着脱可能
にした，光触媒装置１の例である。即ち，図１５に示す
ごとく，上記光触媒フィルター５の側面をステンレス鋼
等からなる枠体５０１で囲い，カートリッジ５０とす
る。このカートリッジ５０をスライド挿入することによ
り，上記フィルターフレーム４に装着する。その他は，
実施形態例１と同様である。

【００６５】これにより，容易に光触媒フィルター５を
交換することができる。また，この場合にも，上記フィ
ルターフレーム４をベースフレーム２から取り外すこと
なく，上記光触媒フィルター５を交換することもでき
る。これにより，上記光触媒フィルター５の交換が一層
容易となる。その他，実施形態例１と同様の作用効果を
有する。

【００６６】実施形態例４本例は，図１６に示すごとく，各フィルターフレーム４
に，光触媒フィルター５を各１枚ずつ取付けた光触媒装
置１の例である。即ち，上記光触媒フィルター５の大き
さは，５００×４００×１３ｍｍであり，フィルターフ
レーム４の略全面にわたって取付けられている。その他
は，実施形態例１と同様である。

【００６７】この場合には，被処理ガスが通過すること
ができる光触媒フィルター５の面積が大きく，また，被
処理ガスの圧力損失が小さくなるため，浄化効率を向上
させることができる。その他，実施形態例１と同様の作
用効果を有する。

【００６８】実験例１本例は，図１７〜図２４に示すごとく，実施形態例１で
示した本発明の光触媒装置の浄化能力を確認した例であ
る。即ち，図１７に示す評価装置６を用いて，各種有害
成分，各種条件について，本発明の光触媒装置１の浄化
能力を評価した。

【００６９】上記評価装置６は，図１７に示すごとく，
浄化室６２と，該浄化室６２に被処理ガス８を供給する
給気室６１と，上記浄化室６２から排出された浄化後の
ガスを導入する排気室６３とを有する。上記給気室６
１，浄化室６２，排気室６３は，互いに配管６４によっ
て繋がれている。そして，上記浄化室６２と排気室６３
との間の配管６４には，被処理ガス８を循環させるため
のファン６５が配設されている。

【００７０】本発明の光触媒装置１は，図１８に示すご
とく，上記浄化室６２におけるガス入口６２１とガス出
口６２２との間に，両者を遮断するように配設してあ
る。また，上記ガス入口６２１と上記光触媒装置１との
間には，被処理ガス８が上記光触媒装置１の全面を均一
に通過させるよう流れを整える整流板６２３が配設して
ある。また，上記浄化室６２の寸法は５５ｃｍ×４５ｃ
ｍ×５ｍ，上記給気室６１及び排気室６３の容積は３ｍ
³である。

【００７１】評価方法としては，まず，上記給気室６１
に各種有害成分を含む所定量の被処理ガス８を注入す
る。この被処理ガス８を，上記評価装置６内を循環さ
せ，注入後５分ごとに上記排気室６３にて上記被処理ガ
ス８をサンプリングする。このサンプリングした被処理
ガス８中に含まれている各種有害成分の濃度を測定し
た。

【００７２】まず，図１９〜図２１に示すごとく，有害
成分としてのアンモニア，アセトアルデヒド，メチルメ
ルカプタンに対する上記光触媒装置１の浄化能力につい
て評価した。即ち，アンモニア，アセトアルデヒド，メ
チルメルカプタンをそれぞれ含む被処理ガス８を用い
て，上述の測定を行った。光触媒装置１における光源３
としては３００〜４００ｎｍに波長のピークを有する紫
外線ランプ（４Ｗ，ノリタケカンパニーリミテド製）を
４本用いた。また，被処理ガス８の流速は１．５ｍ／秒
である。この流速の調整は，上記ファン６５の出力を調
整することにより行った。

【００７３】測定結果は，アンモニア分解能については
図１９，アセトアルデヒド分解能については図２０，メ
チルメルカプタン分解能については図２１に示す。な
お，比較のため，上記浄化室６２に光触媒装置１を配設
しない場合の各種有害成分の濃度変化についても測定し
た。その測定結果も，図１９〜図２１に併せて示す。図
１９〜図２１において，符号Ｆが光触媒装置１を用いた
場合，符号Ｇが光触媒装置を用いなかった場合をそれぞ
れ表す。

【００７４】図１９〜図２１に示すごとく，いずれの有
害成分についても，光触媒装置１を用いることにより，
大幅に濃度が低下している。これにより，本発明の光触
媒装置１は，充分な浄化能力を有することが分かる。

【００７５】次に，図２２に示すごとく，被処理ガス８
の流速の違いによる上記光触媒装置１の浄化能力の違い
につき評価した。即ち，上記被処理ガス８の流速を，そ
れぞれ０．３ｍ／秒，１．０ｍ／秒，１．５ｍ／秒，
３．０ｍ／秒としたときの，アセトアルデヒド分解能を
測定した。測定結果を図２２に示す。図２２において，
符号Ｈは流速０．３ｍ／秒，符号Ｊは流速１．０ｍ／
秒，符号Ｋは１．５ｍ／秒，符号Ｌは３．０ｍ／秒の場
合をそれぞれ表す。図２２から分かるように，被処理ガ
スの流速を０．３ｍ／秒の場合には，浄化能力は劣る
が，１．０ｍ／秒以上であれば充分な浄化能力を得るこ
とができることが分かる。

【００７６】次に，図２３に示すごとく，光触媒装置１
に設置する光源としての紫外線ランプ（波長ピーク３０
０〜４００ｎｍ）の本数の違いによる浄化能力の違いに
つき評価した。即ち，上記光源の本数を４本，６本，８
本としたときの，アセトアルデヒド分解能を測定した。
測定結果を図２３に示す。図２３において，符号Ｍは光
源４本，符号Ｎは光源６本，符号Ｐは光源８本の場合を
それぞれ表す。図２３から分かるように，上記光源の本
数が４本，６本，８本のいずれの場合にも，充分な浄化
能力を得ることができることが分かる。

【００７７】次に，図２４に示すごとく，光触媒装置１
におけるオゾンの有無による浄化能力の違いにつき評価
した。即ち，上記光源をオゾンが発生する紫外線ランプ
（２０Ｗ低圧水銀ランプ，セン特殊光源製）として，ア
セトアルデヒド分解能を測定した。測定結果を，オゾン
発生のない上述の紫外線ランプ（４Ｗ，波長ピーク３０
０〜４００ｎｍ，ノリタケカンパニーリミテド製）を用
いた場合の結果と併せて図２４に示す。図２４におい
て，符号Ｑはオゾンを発生させない場合，符号Ｒはオゾ
ンを発生させる場合をそれぞれ表す。図２４から分かる
ように，オゾンを発生させることにより，上記光触媒装
置１の浄化能力は，一層向上することが分かる。

【００７８】実験例２本例は，図２５に示すごとく，本発明の光触媒装置に対
する被処理ガスの流速と，光触媒装置における圧力損失
との関係を測定した例である。図２５に示すごとく，上
記圧力損失は，流速が大きくなるにつれ略２次曲線的に
増加している。

【００７９】上記圧力損失は，排気ダクトに設置する排
気ファンの容量を縮小させる観点から，１２０Ｐａ以下
であることが望ましい。それ故，図２５に示す結果か
ら，被処理ガスの流速は，２．０ｍ／秒以下であること
が好ましい。また，上記実験例１における実験結果（図
２２）と併せて勘案すると，上記被処理ガスの流速は，
１．０〜２．０ｍ／秒であることが特に好ましいことが
分かる。

【００８０】実施形態例５本例は，図２６〜図２８に示すごとく，空気清浄機用の
光触媒フィルターの具体的な例である。本例の光触媒フ
ィルターは，以下に示すごとく製造した。まず，有機多
孔体に含浸付着させてセラミック多孔体を得るための泥
漿を，以下のようにして作製した。

【００８１】２Ｌポリエチレンポットに，セラミック微
粉末（アルミナ微粉末）４４６．５ｇ，タルク１６．０
ｇ，木節粘土３６．５ｇ，水１５５ｇ，分散剤１２．５
ｇを加えた。次いで，玉石（アルミナ玉石，φ１０ｍ
ｍ）を上記ポリエチレンポットの約１／３まで投入し，
ポットミルにて５時間攪拌混合した。次いで，有機バイ
ンダーであるセラモＴＢ−０１（第一工業製薬（株）
製）を１２７．１ｇ添加し，更に２０時間の攪拌を行な
うことにより，アルミナ微粉末を含む泥漿を得た。

【００８２】次に，上記泥漿に，三次元網目構造を有す
る有機多孔体であるウレタンフォームを投入した。次い
で，ウレタンフォームの表面に泥漿を馴染ませた後に，
余分に付着した泥漿をローラーで押出すことにより除去
した。次いで，上記ウレタンフォームの空隙に詰まった
泥漿を，スプレーを用いて吹き飛ばすことにより目詰ま
りを解消した。

【００８３】次いで，上記ウレタンフォームに付着した
泥漿（図１２（Ａ）参照）に，篩を用いて表層用セラミ
ック粒子（アルミナ粒子）を振り掛けることにより均一
に付着させた（図１２（Ｂ）参照）。ここで，上記アル
ミナ粒子は，平均粒径４７μｍ，２２μｍ，８μｍの３
種類のものを用いた。

【００８４】次いで，余分なアルミナ粒子を払い落とし
て，オーブン中で７０℃，２４時間乾燥させた。その
後，１６００℃，１時間の焼成を行なうことにより，上
記ウレタンフォームを焼失させると共に，上記アルミナ
微粉末とアルミナ粒子を焼結させた（図１２（Ｃ）参
照）。これにより，三次元網目構造を有するセラミック
多孔体の表面に上記アルミナ粒子からなる凹凸表面層を
形成してなるセラミック多孔体を得た。

【００８５】次いで，上記セラミック多孔体をアナター
ゼ型の酸化チタンからなる光触媒のスラリー（石原産業
製ＳＴＳ−０１）に浸漬させた後，スプレーにて過剰な
スラリーを除去し，これを２００℃で乾燥した。これに
より，上記凹凸表面層に，上記酸化チタンからなる光触
媒を膜状に担持させた（図１０（Ｂ）参照）。上記の酸
化チタンスラリー（ＳＴＳ−０１）は，酸化チタンの微
粒子が水系溶媒中に単分散したスラリーである。

【００８６】以上により，上記光触媒フィルターを製造
した（図２６）。なお，凹凸表面層を形成するアルミナ
粒子の平均粒径が４７μｍの光触媒フィルターを試料
１，上記アルミナ粒子の平均粒径が２２μｍの光触媒フ
ィルターを試料２，上記アルミナ粒子の平均粒径が８μ
ｍの光触媒フィルターを試料３とした。図２６は上記試
料２の電子顕微鏡写真である。また，上記凹凸表面層を
有さない光触媒フィルターを比較例１として作製した。

【００８７】上記酸化チタンスラリー（ＳＴＳ−０１）
は酸化チタン濃度が３０％と非常に濃いため，図２６に
示すごとく，本例の光触媒フィルターは，上記凹凸表面
層の凹凸が吸収されてしまうほど酸化チタンの膜が厚く
形成されている。なお，図２６において，比較的白い部
分が凸状となっており，比較的黒い部分が凹状となって
いる。また，筋状の黒色部は，酸化チタンの膜に生じた
ひび割れ部である。

【００８８】また，本例の光触媒フィルターをハンドリ
ングした後に，酸化チタン膜の脱落を確認したところ，
上記酸化チタン膜の脱落はなかった。一方，比較例１の
試料をハンドリングした後には，図２７に示すごとく，
酸化チタン膜の脱落が確認できた。

【００８９】これは，上記凹凸表面層の有無による差で
あると考えられる。即ち，本例の光触媒フィルターは凹
凸表面層を有しているため，上記酸化チタン膜と凹凸表
面層との間のアンカー効果によって，酸化チタンの担持
力が向上したものと考えられる。

【００９０】次に，上記試料１〜３の光触媒フィルター
における，酸化チタンの担持量を測定した（図２８）。
即ち，上記各光触媒フィルターのセラミック多孔体１ｃ
ｍ³当りの酸化チタンの担持量を測定した。

【００９１】測定結果を図２８に示す。図２８より分か
るように，試料１〜３の酸化チタンの担持量は，比較例
１に対して圧倒的に多い。即ち，上記凹凸表面層を有す
る本発明の光触媒フィルターは，酸化チタンを多く担持
していることが分かる。

【００９２】また，上記試料１〜３及び比較例１の試料
について，単位体積当りの表面積を測定した。算出方法
は，（試料１cm³当りの表面積）＝（比表面積〔m²/g〕）×
（嵩密度〔g/cm³〕）である。算出結果を表１に示す。

【００９３】

【表１】

【００９４】表１から分かるように，試料１〜３の単位
体積当りの表面積は，上記凹凸表面層を有しない比較例
１の試料の１０倍以上であった。この結果から，本発明
の光触媒フィルターは，上記凹凸表面層を形成したこと
により，大幅に表面積が増大したことが分かる。

【００９５】実験例３本例においては，図２９，図３０に示すごとく，実施形
態例５で示した本発明に用いる光触媒フィルター５の光
触媒性能を評価した。実験方法は以下の通りである。ま
ず，図２９に示すごとく，１．３リットルの反応器７１
（PYREX製）内に，上記光触媒フィルター５の試料（５
０×５０×１０ｍｍ）を，５０×５０ｍｍ面が垂直面と
なるように，上方から糸７２により吊るして配置した。

【００９６】また，図２９に示すごとく，上記反応器７
１はスターラー７３の上に載置され，該スターラー７３
によって回転する攪拌子７４が上記反応器７１内の底部
に配置してある。また，上記反応器７１の側方には，上
記光触媒フィルター５の５０×５０ｍｍ面の正面となる
位置にブラックライト７５を配置した。

【００９７】次いで，上記攪拌子７４を回転させて反応
器７１内のガスを流動させながら，０．２ｍｌのアセト
アルデヒド（純度９０％，２３℃の飽和状態）を，注入
口７６からシリンジを用いて注入した。アセトアルデヒ
ドの注入は，上記ブラックライト７４の点灯から０，２
０，４０，６０，８０分後にそれぞれ行なった（図３
０）。

【００９８】次いで，ブラックライト７５を点灯してか
ら所定時間に，反応器７１内のガスをシリンジでサンプ
ルリングした。このとき，上記ブラックライト７５の光
強度は，上記光触媒フィルター５の位置で波長３６０ｎ
ｍにおいて１ｍＷ／ｃｍ²とした。サンプリングしたガ
スをガスクロマトグラフに注入して定量分析を行なっ
た。なお，上記ブラックライト７５は，点灯後５８分後
に消灯した（図３０の破線）。

【００９９】測定結果は，図３０に示す通りである。同
図より分かるように，ブランクの場合には，アセトアル
デヒドは殆ど減少せず，注入される度に蓄積され，濃度
が上昇している。これは，紫外線のみでは，アセトアル
デヒドの分解は殆ど起らないことを示している。また，
図３０より分かるように，従来の光触媒フィルターを用
いた場合には，アセトアルデヒドは，注入後１分後に約
３／５まで減少し，２０分後には略全て吸着分解され，
アセトアルデヒドの蓄積は殆どなかった。

【０１００】これに対し，本発明の光触媒フィルターを
用いた場合には，アセトアルデヒドは，注入後１分後に
約１／４まで激減し，１０分程度で略全て吸着分解され
た。この結果より，本発明の光触媒フィルターの吸着・
分解性能が従来品よりも優れていることが分かる。

【０１０１】また，従来の光触媒フィルターの場合に
は，ブラックライト消灯後は，注入後２０分経過しても
アセトアルデヒドは完全に除去されずに蓄積されてい
る。これに対し，本発明の光触媒フィルターの場合に
は，ブラックライト消灯後にも，注入後１０分後にはア
セトアルデヒドは完全に除去された。これは，上記光触
媒フィルターの吸着性能が，従来品よりも優れているこ
とを示している。即ち，このアセトアルデヒドの吸着の
効果は，本発明の光触媒フィルターが凹凸表面層を有し
ていることによる効果と考えられる。

【０１０２】実施形態例６本例は，図３１に示すごとく，電子顕微鏡写真を用い，
実施形態例５の光触媒フィルター５と従来品の骨格筋の
太さを比較観察した例である。即ち，図３１（Ａ）が，
実施形態例５の試料２を１０倍に拡大した電子顕微鏡写
真である。一方，図３１（Ｂ）が，市販のセラミック多
孔体（メッシュサイズ＃８）に光触媒を担持させた従来
の光触媒フィルターを１０倍に拡大した電子顕微鏡写真
である。図３１（Ａ），（Ｂ）において，白色部分が骨
格筋を表し，黒色部分が空孔部を表す。

【０１０３】図３１（Ａ），（Ｂ）から分かるように，
実施形態例５の試料２（図３１（Ａ））は，従来品（図
３１（Ｂ））と比較して，骨格筋が細く，空孔部が大き
いことが分かる。即ち，本例によれば，本発明の光触媒
フィルターに用いられているセラミック多孔体の骨格筋
は従来品に比べて細く，光触媒フィルターの内部にまで
光が照射され易い構造となっていることが分かる。

【０１０４】

【発明の効果】上述のごとく，本発明によれば，半永久
的に使用することのできる光触媒装置を提供することが
できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施形態例１における，光触媒装置の斜視図。

【図２】（Ａ）図１のＡ−Ａ線矢視断面相当の説明図，
（Ｂ）図１のＢ−Ｂ線矢視断面相当の説明図。

【図３】実施形態例１における，フィルターフレーム及
び光触媒フィルターの着脱方法の説明図。

【図４】実施形態例１における，取付枠と光触媒フィル
ターと固定具の斜視図。

【図５】実施形態例１における，取付枠に光触媒フィル
ターを固定した状態を示す断面図。

【図６】実施形態例１における，フィルターフレームの
開口部及びその周辺の上面図。

【図７】図２のＣ−Ｃ線矢視断面相当の説明図。

【図８】（Ａ）図１のＤ方向から見た側面図，（Ｂ）図
１のＥ方向から見た側面図。

【図９】実施形態例１における，接続具の（Ａ）接続前
の説明図，（Ｂ）接続状態の説明図。

【図１０】実施形態例１における，（Ａ）光触媒フィル
ターの説明図，及び（Ｂ）（Ａ）のＳ−Ｓ線矢視断面説
明図。

【図１１】実施形態例１における，セラミック多孔体の
斜視図。

【図１２】実施形態例１における，光触媒フィルターの
製造方法の説明図。

【図１３】実施形態例１における，光触媒フィルターの
図面代用電子顕微鏡写真（１２０倍）。

【図１４】実施形態例２における，光触媒装置の横断面
説明図。

【図１５】実施形態例３における，フィルターフレーム
の斜視図。

【図１６】実施形態例４における，フィルターフレーム
の斜視図。

【図１７】実験例１における，評価装置の斜視図。

【図１８】実験例１における，浄化室の斜視図。

【図１９】実験例１における，アンモニア分解能を表す
線図。

【図２０】実験例１における，アセトアルデヒド分解能
を表す線図。

【図２１】実験例１における，メチルメルカプタン分解
能を表す線図。

【図２２】実験例１における，被処理ガスの流量の違い
による浄化能力の違いを表す線図。

【図２３】実験例１における，ブラックライトの本数の
違いによる浄化能力の違いを表す線図。

【図２４】実験例１における，オゾン発生の有無による
浄化能力の違いを表す線図。

【図２５】実験例２における，被処理ガスの流量と圧力
損失との関係を表す線図。

【図２６】実施形態例５における，光触媒フィルターの
表面の図面代用電子顕微鏡写真（２５０倍）。

【図２７】比較例１の光触媒フィルターの表面の図面代
用電子顕微鏡写真（１０００倍）。

【図２８】実施形態例５における，光触媒フィルターの
酸化チタン担持量の測定結果を表す線図。

【図２９】実験例３における，実験方法を表す説明図。

【図３０】実験例３における，光触媒フィルターによる
アセトアルデヒドの濃度減少を表す線図。

【図３１】実施形態例５における，（Ａ）本発明に用い
る光触媒フィルターの電子顕微鏡写真（１０倍），
（Ｂ）従来の光触媒フィルターの電子顕微鏡写真。

【符号の説明】

１．．．光触媒装置，２．．．ベースフレーム，２１．．．底板，２２，２３．．．側板，３．．．光源，４．．．フィルターフレーム，４１．．．取付枠，４２．．．固定具，４３．．．弾性部材，５．．．光触媒フィルター，

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者渡邉裕和愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番36 号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内 (72)発明者平野美喜雄愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番36 号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内 (72)発明者黒部久徳愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番36 号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内 (72)発明者岩田美佐男愛知県名古屋市西区則武新町三丁目１番36 号株式会社ノリタケカンパニーリミテド内Ｆターム(参考） 4D048 AA08 AA17 AA19 AA22 AB03 BA07Y BB02 BB11 BB18 CA01 CA02 CC04 CC08 CC09 DA05 EA01 4G069 AA03 AA08 BA01A BA04A CA11 CA17 CD02 DA06 EA14 FA06 FB15 FB79 4G075 AA03 AA37 BA01 BA04 BA05 CA33 CA54 DA02 DA05 EB01 EE15 EE34 FB02 FB04

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも底板と左右の側板とを有する
ベースフレームと，該ベースフレームの内部に配設した
紫外線照射用の光源と，該光源の前方と後方とにおいて
上記ベースフレームに取付けたフィルター取付け用のフ
ィルターフレームと，各フィルターフレームに着脱可能
に取付けた光触媒フィルターとよりなり，上記前方と後
方の光触媒フィルターに順次被処理ガスを通過させると
共に，上記光源によって紫外線を照射することにより，
上記被処理ガス中の有害成分を分解するよう構成してあ
ることを特徴とする光触媒装置。
【請求項２】請求項１において，上記各フィルターフ
レームは，上記ベースフレームに対し着脱可能に取付け
てあることを特徴とする光触媒装置。
【請求項３】請求項１又は２において，上記各フィル
ターフレームには，複数個の光触媒フィルターが取付け
てあることを特徴とする光触媒装置。
【請求項４】請求項１〜３のいずれか一項において，
上記光触媒フィルターは，上記フィルターフレームに設
けた取付枠に着脱可能に嵌合されていることを特徴とす
る光触媒装置。
【請求項５】請求項１〜４のいずれか一項において，
上記光触媒フィルターは，上記取付枠に嵌合すると共に
上記光触媒フィルターの背面を支持する固定具により，
上記取付枠に固定されていることを特徴とする光触媒装
置。
【請求項６】請求項１〜５のいずれか一項において，
上記フィルターフレーム及び上記固定具は，上記光触媒
フィルターと対面する接触面に弾性部材を有することを
特徴とする光触媒装置。
【請求項７】請求項１〜６のいずれか一項において，
上記光触媒装置は，上記ベースフレーム及び上記フィル
ターフレームよりも上方に，光源作動用の電気回路部を
配置していることを特徴とする光触媒装置。
【請求項８】請求項１〜７のいずれか一項において，
上記ベースフレームは，隣接配置する他の光触媒装置と
の接続を図るための接続具を，上記側板に有することを
特徴とする光触媒装置。
【請求項９】請求項１〜８のいずれか一項において，
上記光触媒装置は，上記被処理ガスを流速０．５〜３．
０ｍ／秒で通過させるよう構成してあることを特徴とす
る光触媒装置。
【請求項１０】請求項１〜９のいずれか一項におい
て，上記光触媒フィルターは，三次元網目構造を有する
セラミック多孔体の表面に表層用セラミック粒子によっ
て形成した凹凸表面層を有してなると共に，該凹凸表面
層に光触媒を担持させてなり，かつ，上記表層用セラミ
ック粒子は，平均粒径が１μｍ〜１００μｍであること
を特徴とする光触媒装置。
【請求項１１】請求項１０において，上記セラミック
多孔体を構成する骨格筋の直径は１００〜１０００μｍ
であることを特徴とする光触媒装置。