JP2001240582A - Aniline derivative, its intermediate and method for preparing the aniline derivative - Google Patents

Aniline derivative, its intermediate and method for preparing the aniline derivative

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JP2001240582A
JP2001240582A JP2000240819A JP2000240819A JP2001240582A JP 2001240582 A JP2001240582 A JP 2001240582A JP 2000240819 A JP2000240819 A JP 2000240819A JP 2000240819 A JP2000240819 A JP 2000240819A JP 2001240582 A JP2001240582 A JP 2001240582A
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substituted
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Tetsuya Totani
哲也 戸谷
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Nippon Kayaku Co Ltd
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Nippon Kayaku Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method that prepares high selectively an aromatic- substituted aniline derivative in the mild reaction condition. SOLUTION: An oxime derivative shown by formula (3) is prepared by reacting a cyclohexanone derivative shown by formula (1) and a hydroxylamine derivative shown by formula (2), and then an aniline derivative shown by formula (4) is prepared by elimination reaction. (In the formulae, X shows a substitutable aromatic ring, Y shows CO2R6, CN, NO2, SO3R6, SO2NR4R5, SOR6, SO2R6, and R1, R2 and R3 show H, a substitutable alkyl group, alkenyl group alkynyl group, and alkoxy group, R4, R5 and R6 show H, a substitutable alkyl group and phenyl group, the ring of 4-7 members may be formed by R4 and R5.).

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は医薬中間体、特にフ
ァルネシルトランスフェラーゼ阻害剤(J.Med.Chem., 4
1, 4288 (1998))および農薬、液晶、耐熱性高分子及び
液晶性高分子等の中間体として有用な芳香環置換アニリ
ン誘導体とその製造法に関する。
The present invention relates to a pharmaceutical intermediate, particularly a farnesyltransferase inhibitor (J. Med. Chem., 4).
1, 4288 (1998)) and aromatic ring-substituted aniline derivatives useful as intermediates for agricultural chemicals, liquid crystals, heat-resistant polymers and liquid-crystalline polymers, and a process for producing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、芳香環置換アニリン誘導体の製造
法として有機金属化合物とハロゲン化アリール化合物を
Pd錯体等の触媒存在下カップリングさせる方法(J.Med.
Chem., 41, 4288 (1998))などが知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, an organometallic compound and an aryl halide compound have been used as a method for producing an aromatic ring-substituted aniline derivative.
A method of coupling in the presence of a catalyst such as a Pd complex (J. Med.
Chem., 41, 4288 (1998)).

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来の方法は有機金属
化合物等を用いる無水条件下での反応や高温・高圧条件
下での反応、また高価な触媒等を必要とするなど製造上
設備及びコスト面において多くの問題があった。さらに
反応の選択性が必ずしも高くないことから、副生成物が
多く生成し、単離精製が煩雑であるなどの問題もあっ
た。
The conventional methods involve a reaction under anhydrous conditions using an organometallic compound or the like, a reaction under high-temperature and high-pressure conditions, and require an expensive catalyst or the like in terms of production equipment and cost. There were many problems in terms of surface. Furthermore, since the selectivity of the reaction is not always high, there are also problems such as generation of many by-products and complicated isolation and purification.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】本発明は安価な原料を用
いた穏和な反応条件での高選択的な芳香環置換アニリン
誘導体の新規製造法を提供する。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention provides a novel method for producing an aromatic ring-substituted aniline derivative with high selectivity using inexpensive raw materials under mild reaction conditions.

【0005】すなわち本発明は、(1)一般式(1)That is, the present invention relates to (1) general formula (1)

【化26】 [式中Xは、置換されていてもよいベンゼン環、N、O、S
のうち少なくとも一つを有する5員環もしくは6員環の
置換されていてもよい複素環又は置換されていてもよい
それらとベンゼンとの縮合体(ただし置換基は1〜3個
で同一であっても異なっていてもよく、H、OH、置換さ
れていてもよいC1〜C6のアルキル基、置換されていても
よいC2〜C6のアルケニル基、置換されていてもよいC2
C6のアルキニル基、置換されていてもよいC1〜C6のアル
コキシ基、置換されていてもよいアルキルチオ基、NR4R
5、ハロゲン、NO2、CN、COR6、CO2R6、CONR4R5、SO
3R6、SO2NR4R5、SOR6、SO2R6、OCOR6、OCO2R6、OCONR4R
5、OSO2R6、置換されていてもよいフェニル基、置換さ
れていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよいヘ
テロアリール基または置換されていてもよいヘテロアリ
ールオキシ基を示し、さらに隣り合う置換基によって4
〜7員環を形成してもよい)を示し、YはCO2R6、CN、NO
2、SO3R6、SO2NR4R5、SOR6、SO2R6を示し、R1、R2およ
びR3はH、置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基、
置換されていてもよいC2〜C6のアルケニル基、置換され
ていてもよいC2〜C6のアルキニル基、置換されていても
よいC1〜C6のアルコキシ基、置換されていてもよいアル
キルチオ基、NR4R5、ハロゲン、NO2、CN、COR6、CO
2R6、CONR4R5、SO3R6、SO2NR4R5、SOR6、SO2R6、OCO
R6、OCO2R6、OCONR4R5、OSO2R6、置換されていてもよい
フェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基、置換
されていてもよいヘテロアリール基または置換されてい
てもよいヘテロアリールオキシ基を示し、R4、R5および
R6はH、置換されていてもよいアルキル基または置換さ
れていてもよいフェニル基を示し、R4およびR5で4〜7
の環を形成してもよい。]で示されるシクロヘキセノン
誘導体を酸または塩基の存在または非存在下一般式
(2) R7ONH2 (2) [式中、R7はH、置換されていてもよいC1〜C6のアルキル
基、置換されていてもよいC2〜C6のアルケニル基、C1
C6のアシル基、C1〜C6のアルコキシカルボニル基、置換
されていてもよいフェニル基またはスルフォニル基を示
す]で示されるヒドロキシアミン誘導体と反応させるこ
とを特徴とする、一般式(3)
Embedded image [Wherein X is an optionally substituted benzene ring, N, O, S
A 5- or 6-membered optionally substituted heterocyclic ring having at least one of H, OH, an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, an optionally substituted C 2 -C 6 alkenyl group, an optionally substituted C 2 ~
Alkynyl group C 6, optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group, an optionally substituted alkylthio group, NR 4 R
5, halogen, NO 2, CN, COR 6 , CO 2 R 6, CONR 4 R 5, SO
3 R 6 , SO 2 NR 4 R 5 , SOR 6 , SO 2 R 6 , OCOR 6 , OCO 2 R 6 , OCONR 4 R
5 , OSO 2 R 6 , optionally substituted phenyl group, optionally substituted phenoxy group, optionally substituted heteroaryl group or optionally substituted heteroaryloxy group, further adjacent 4 depending on the matching substituent
Or a 7-membered ring), Y is CO 2 R 6 , CN, NO
2, SO 3 R 6, SO 2 NR 4 R 5, SOR 6, shows the SO 2 R 6, R 1, R 2 and R 3 are H, optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group,
Optionally substituted C 2 -C 6 alkenyl group, optionally substituted C 2 -C 6 alkynyl group, optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group, optionally substituted alkylthio group, NR 4 R 5, halogen, NO 2, CN, COR 6 , CO
2 R 6 , CONR 4 R 5 , SO 3 R 6 , SO 2 NR 4 R 5 , SOR 6 , SO 2 R 6 , OCO
R 6 , OCO 2 R 6 , OCONR 4 R 5 , OSO 2 R 6 , optionally substituted phenyl group, optionally substituted phenoxy group, optionally substituted heteroaryl group or substituted Represents a heteroaryloxy group, R 4 , R 5 and
R 6 represents H, an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted phenyl group, and R 4 and R 5 represent 4 to 7
May be formed. The cyclohexenone derivative represented by the general formula (2) R 7 ONH 2 (2) wherein R 7 is H, optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, optionally substituted C 2 -C 6 alkenyl group, C 1 ~
Acyl group C 6, an alkoxycarbonyl group having C 1 -C 6, which comprises reacting a hydroxylamine derivative represented by] shows a an optionally substituted phenyl group or sulfonyl group, the general formula (3)

【化27】 [式中X、Y、R1、R2、R3およびR7は上記で定義したもの
と同じものを示す。]で示されるオキシム誘導体の製造
法、(2)一般式(3)
Embedded image Wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as defined above. A process for producing an oxime derivative represented by the general formula (3):

【化28】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は(1)にて定義し
たものと同じものを示す。]で示されるオキシム誘導体
の脱離反応を行うことを特徴とする一般式(4)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as defined in (1). Wherein an elimination reaction of the oxime derivative represented by the general formula (4) is carried out.

【化29】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のと同じものを示す。]で示されるアニリン誘導体の製
造法、(3)(1)の方法により一般式(3)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in (1). The method for producing an aniline derivative represented by the general formula (3)

【化30】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は(1)にて定義し
たものと同じものを示す。]で示されるオキシム誘導体
を合成し、次いで(2)の方法を行う、一般式(4)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as defined in (1). The oxime derivative represented by the general formula (4) is synthesized by the following method (2).

【化31】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のと同じものを示す。]で示されるアニリン誘導体の製
造法、(4)一般式(3)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in (1). A method for producing an aniline derivative represented by the general formula (3):

【化32】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は(1)にて定義し
たものと同じものを示す。]で示されるオキシム誘導体
の脱離反応を行うことを特徴とする一般式(5)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as defined in (1). A elimination reaction of an oxime derivative represented by the general formula (5):

【化33】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のと同じものを示し、R8はCOR9またはCO2R9を示し、R9
はH、置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基または
置換されていてもよいフェニル基を示す。]で示される
置換アニリン誘導体の製造法、(5)一般式(5)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 represent the same as defined in (1), R 8 represents COR 9 or CO 2 R 9 , and R 9
Represents H, an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group or an optionally substituted phenyl group. A method for producing a substituted aniline derivative represented by the general formula (5):

【化34】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のと同じものを示し、R8は(4)にて定義したものと同
じものを示す。]で示される置換アニリン誘導体のR8
除去することを特徴とする一般式(4)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 represent the same as defined in (1), and R 8 represents the same as defined in (4). Wherein R 8 of the substituted aniline derivative represented by the general formula (4) is removed:

【化35】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のと同じものを示す。]で示されるアニリン誘導体の製
造法、(6)(1)の方法により一般式(3)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in (1). And (6) a method for producing an aniline derivative represented by the following general formula (3):

【化36】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は(1)にて定義し
たものと同じものを示す。]で示されるオキシム誘導体
を合成し、次いで(4)の方法を行う、一般式(5)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as defined in (1). The oxime derivative represented by the general formula (5) is then synthesized according to the method (4).

【化37】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のと同じものを示し、R8は(4)にて定義したものと同
じものを示す。]で示されるN置換アニリン誘導体の製
造法、(7)(1)の方法により一般式(3)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 represent the same as defined in (1), and R 8 represents the same as defined in (4). The method for producing an N-substituted aniline derivative represented by the general formula (3)

【化38】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は(1)にて定義し
たものと同じものを示す。]で示されるオキシム誘導体
を合成し、次いで(4)の方法により一般式(5)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as defined in (1). Oxime derivative represented by the general formula (5)

【化39】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のと同じものを示し、R8は(1)にて定義したものと同
じものを示す。]で示されるN置換アニリン誘導体を合
成し、さらに(5)の方法を行う、一般式(4)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 represent the same as defined in (1), and R 8 represents the same as defined in (1). A N-substituted aniline derivative represented by the general formula (4)

【化40】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のと同じものを示す。]で示されるアニリン誘導体の製
造法、(8)一般式(1)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in (1). (8) a method for producing an aniline derivative represented by the general formula (1):

【化41】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のと同じものを示す。]で示されるシクロヘキセノン誘
導体を一般式(6) R10R11NH (6) [式中、R10およびR11はH、置換されていてもよいC1〜C6
アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を示
し、R10およびR11で4〜7の環を形成してもよい。]で
示されるアミン誘導体と反応させることを特徴とする、
一般式(7A)および/または(7B)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in (1). The cyclohexenone derivative represented by the general formula (6) R 10 R 11 NH (6) [wherein R 10 and R 11 are H, optionally substituted C 1 -C 6
It represents an alkyl group or an optionally substituted phenyl group, and R 10 and R 11 may form a ring of 4 to 7. Characterized by reacting with an amine derivative represented by the formula:
General formula (7A) and / or (7B)

【化42】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のと同じものを示し、R10およびR11は上記で定義したも
のと同じものを示し、R12はR10またはR11を示す。]で示
されるエナミンおよび/またはイミン誘導体の製造法、
(9)一般式(7A)および/または(7B)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 represent the same as defined in (1), R 10 and R 11 represent the same as defined above, and R 12 denotes a R 10 or R 11. A method for producing an enamine and / or imine derivative represented by the formula:
(9) General formula (7A) and / or (7B)

【化43】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のと同じものを示し、R10、R11およびR12は(8)にて
定義したものと同じものを示す。]で示されるエナミン
および/またはイミン誘導体の脱水素反応を行うことを
特徴とする一般式(8)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in (1), and R 10 , R 11 and R 12 are the same as defined in (8) Show things. A dehydrogenation reaction of an enamine and / or imine derivative represented by the general formula (8):

【化44】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のと同じものを示し、R10およびR11は(8)にて定義し
たものと同じものを示す。]で示されるアニリン誘導体
の製造法、(10)(8)の方法により一般式(7A)
および/または(7B)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 represent the same as defined in (1), and R 10 and R 11 represent the same as defined in (8) . The method for producing an aniline derivative represented by the formula (7A)
And / or (7B)

【化45】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のと同じものを示し、R10、R11およびR12は(8)にて
定義したものと同じものを示す。]で示されるエナミン
および/またはイミン誘導体を合成し、次いで(9)の
方法を行う、一般式(8)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in (1), and R 10 , R 11 and R 12 are the same as defined in (8) Show things. The enamine and / or imine derivative represented by the following formula is synthesized, and then the method of (9) is carried out.

【化46】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のと同じものを示し、R10、R11およびR12は(8)にて
定義したものと同じものを示す。]で示されるアニリン
誘導体の製造法、(11)Xが置換されていてもよいベ
ンゼン環である(1)〜(10)のいずれか1項に記載
の製造法、(12)XがN、O、Sのうち少なくとも一つを
有する5員環もしくは6員環の置換されていてもよい複
素環又は置換されていてもよいそのベンゼン縮合体であ
る(1)〜(10)のいずれか1項に記載の製造法、
(13)Xが置換されていてもよいベンゼン環であり、
その置換基がH、置換されていてもよいC1〜C6のアルキ
ル基、置換されていてもよいC1〜C6のアルコキシ基、NR
4R5、ハロゲン、NO2、YはCO2R6、CN、SO3R6またはSO2NR
4R5であり、R4、R5およびR6はH、置換されていてもよい
アルキル基または置換されていてもよいフェニル基であ
り、R4およびR5で4〜7の環を形成してもよく、R1、R2
およびR3はH、置換されていてもよいC1〜C6のアルキル
基である(1)〜(10)のいずれか1項に記載の製造
法、(14)Xが置換されていてもよいピロール、置換
されていてもよいフラン、置換されていてもよいチオフ
ェン、置換されていてもよいピリジンまたは置換されて
いてもよいインドールであり、その置換基がH、置換さ
れていてもよいC1〜C6のアルキル基、置換されていても
よいC1〜C6のアルコキシ基、ハロゲン、NR4R5またはNO2
であり、YがCO2R6、CNであり、R1、R2及びR3がHである
(1)〜(10)のいずれか1項に記載の製造法、(1
5)Xがフェニル基、クロロフェニル基、メトキシフェ
ニル基、ニトロフェニル基またはアミノフェニル基であ
り、YはCO2Me、CO2EtまたはCNであり、R1、R 2及びR3がH
である(1)〜(10)のいずれかに記載の製造法、
(16)Xが置換されていてもよいピリジンであり、そ
の置換基がH、置換されていてもよいC1〜C6のアルキル
基、置換されていてもよいC1〜C6のアルコキシ基または
ハロゲンであり、YがCO2R6、CN、SO3R6またはSO2NR4R5
である(1)〜(10)のいずれか1項に記載の製造
法、(17)一般式(3)
Embedded image[Where X, Y, R1, RTwoAnd RThreeIs also defined in (1)
Shows the same asTen, R11And R12At (8)
Indicates the same as defined. Aniline represented by
Method for producing derivative, (11) X may be substituted
As described in any one of the above (1) to (10), which is a Zenzen ring
(12) X is at least one of N, O, and S
5- or 6-membered ring which may be substituted
An aromatic ring or an optionally substituted benzene condensate thereof
Production method according to any one of (1) to (10),
(13) X is an optionally substituted benzene ring,
The substituent is H, optionally substituted C1~ C6Archi
Group, optionally substituted C1~ C6An alkoxy group, NR
FourRFive, Halogen, NOTwo, Y is COTwoR6, CN, SOThreeR6Or SOTwoNR
FourRFiveAnd RFour, RFiveAnd R6Is H, optionally substituted
An alkyl group or an optionally substituted phenyl group
RFourAnd RFiveMay form a ring of 4 to 7 with R1, RTwo
And RThreeIs H, optionally substituted C1~ C6The alkyl of
The production according to any one of (1) to (10), which is a group
Method, (14) pyrrole optionally substituted with X, substitution
Furan, thiof optionally substituted
Ene, optionally substituted pyridine or substituted
And the substituent is H, substituted
May be C1~ C6Alkyl group, even if it is substituted
Good C1~ C6Alkoxy group, halogen, NRFourRFiveOr NOTwo
And Y is COTwoR6, CN and R1, RTwoAnd RThreeIs H
(1) The method according to any one of (1) to (10),
5) X is phenyl, chlorophenyl, methoxyphen
A nitro, nitrophenyl or aminophenyl group.
And Y is COTwoMe, COTwoEt or CN and R1, R TwoAnd RThreeIs H
The production method according to any one of (1) to (10),
(16) X is pyridine which may be substituted,
Is a substituent of H, optionally substituted C1~ C6The alkyl of
Group, optionally substituted C1~ C6An alkoxy group or
Halogen and Y is COTwoR6, CN, SOThreeR6Or SOTwoNRFourRFive
The production according to any one of (1) to (10), wherein
Method, (17) general formula (3)

【化47】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は(1)にて定義し
たものと同じものを示す。]で示されるオキシム誘導
体、(18)一般式(7A)および/または(7B)
Embedded image [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as defined in (1). An oxime derivative represented by the general formula (7A) and / or (7B):

【化48】 [式中X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したもの
と同じものを示し、R10、R11およびR12は(8)にて定
義したものと同じものを示す。]で示されるエナミンお
よび/またはイミン誘導体、(19)一般式(4)
Embedded image Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in (1), and R 10 , R 11 and R 12 are the same as defined in (8) Is shown. An enamine and / or imine derivative represented by the general formula (4):

【化49】 [式中X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したもの
と同じものを示す。]で示されるアニリン誘導体、(2
0)一般式(8)
Embedded image Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in (1). An aniline derivative represented by the formula (2)
0) General formula (8)

【化50】 [式中X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したもの
と同じものを示し、R10およびR11は(8)にて定義した
ものと同じものを示す。]で示されるアニリン誘導体、
(21)Xがベンゼン環である(17)〜(20)のい
ずれか1項に記載の化合物、(22)XがN、O、Sのうち
少なくとも一つを有する5員環もしくは6員環の複素環
又はそのベンゼン縮合体である(17)〜(20)のい
ずれか1項に記載の化合物、23)Xが置換されていて
もよいベンゼン環であり、その置換基がH、置換されて
いてもよいC1〜C6のアルキル基、置換されていてもよい
C1〜C6のアルコキシ基、NR4R5、ハロゲンまたはNO2であ
り、YはCO2R6、CN、SO3R6またはSO2NR4R5であり、R4、R
5およびR6はH、置換されていてもよいアルキル基または
置換されていてもよいフェニル基であり、R4およびR5
4〜7の環を形成してもよく、R1、R2およびR3はH、置
換されていてもよいC1〜C6のアルキル基である(17)
〜(20)のいずれか1項に記載の化合物、(24)X
が置換されていてもよいピロール、置換されていてもよ
いフラン、置換されていてもよいチオフェン、置換され
ていてもよいピリジンまたは置換されていてもよいイン
ドールであり、その置換基がH、置換されていてもよいC
1〜C6のアルキル基、置換されていてもよいC1〜C6のア
ルコキシ基、ハロゲン、NR4R5またはNO2であり、YがCO2
R6、CN、SO3R6またはSO2NR4R5である(17)〜(2
0)のいずれか1項に記載の化合物、(25)Xがフェ
ニル基、クロロフェニル基、メトキシフェニル基、ニト
ロフェニル基、アミノフェニル基であり、YがCO2Me、CO
2EtまたはCNであり、R1、R2およびR3がHである(17)
〜(20)のいずれか1項に記載の化合物、(26)X
が置換されていてもよいピリジンであり、その置換基が
H、置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基、置換さ
れていてもよいC1〜C6のアルコキシ基またはハロゲンで
あり、YがCO2R6またはCNである(17)〜(20)のい
ずれか1項に記載の化合物、に関する。
Embedded image [Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 represent the same as defined in (1), and R 10 and R 11 represent the same as defined in (8). An aniline derivative represented by
(21) The compound according to any one of (17) to (20), wherein X is a benzene ring, (22) a 5- or 6-membered ring wherein X has at least one of N, O, and S (17) The compound according to any one of (17) to (20), which is a benzene condensate thereof, 23) X is a benzene ring which may be substituted, and the substituent is H, which may be C 1 -C 6 alkyl group, optionally substituted
Alkoxy groups C 1 ~C 6, NR 4 R 5, halogen or NO 2, Y is CO 2 R 6, CN, a SO 3 R 6, or SO 2 NR 4 R 5, R 4, R
5 and R 6 are H, an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted phenyl group, and R 4 and R 5 may form a ring of 4 to 7, and R 1 , R 2 And R 3 are H, an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group (17)
The compound according to any one of (1) to (20), (24) X
Is an optionally substituted pyrrole, an optionally substituted furan, an optionally substituted thiophene, an optionally substituted pyridine or an optionally substituted indole, wherein the substituent is H, C that may be
1 -C alkyl group having 6, optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group, halogen, NR 4 R 5 or NO 2, Y is CO 2
R 6, CN, a SO 3 R 6, or SO 2 NR 4 R 5 (17 ) ~ (2
(25) X is a phenyl group, a chlorophenyl group, a methoxyphenyl group, a nitrophenyl group, an aminophenyl group, and Y is CO 2 Me, CO
2 Et or CN, and R 1 , R 2 and R 3 are H (17)
The compound according to any one of (20) to (20), (26) X
Is an optionally substituted pyridine, the substituent of which is
H, optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, an alkoxy group or a halogen good C 1 -C 6 substituted, Y is CO 2 R 6 or CN (17) ~ The compound according to any one of (20).

【0006】一般式(1)から一般式(8)においてX
としては例えば、置換されていてもよいフェニル、置換
されていてもよいナフタレン、置換されていてもよいピ
ロール、置換されていてもよいフラン、置換されていて
もよいチオフェン、置換されていてもよいピラゾール、
置換されていてもよいイミダゾール、置換されていても
よいイソチアゾール、置換されていてもよいイミダゾー
ル、置換されていてもよいオキサゾール、置換されてい
てもよいチアゾール、置換されていてもよいピリジン、
置換されていてもよいピリダジン、置換されていてもよ
いピリミジン、置換されていてもよいピラジン、置換さ
れていてもよいナフタレン、置換されていてもよいイン
ドール、置換されていてもよいベンゾ[b]フラン、置
換されていてもよいベンゾ[b]チオフェン、置換され
ていてもよいベンズ[d]イミダゾール、置換されてい
てもよいベンズ[d]オキサゾール、置換されていても
よいベンゾ[d]チアゾール、置換されていてもよいプ
リン、置換されていてもよいキノリン、置換されていて
もよいイソキノリン、置換されていてもよいシンノリ
ン、置換されていてもよいフタラジン、置換されていて
もよいキサゾリン、置換されていてもよいキノキサリ
ン、置換されていてもよいプテリジンなどであり、好ま
しくは、置換されていてもよいフェニル、置換されてい
てもよいナフタレン、置換されていてもよいピロール、
置換されていてもよいフラン、置換されていてもよいチ
オフェン、置換されていてもよいピラゾール、置換され
ていてもよいイソキサゾール、置換されていてもよいイ
ソチアゾール、置換されていてもよいピリジン、置換さ
れていてもよいピリダジン、置換されていてもよいピリ
ミジン、置換されていてもよいピラジン、置換されてい
てもよいインドール、置換されていてもよいベンゾフラ
ン、置換されていてもよいベンゾチオフェン、置換され
ていてもよいキノリン、置換されていてもよいイソキノ
リンであり、さらに好ましくは、置換されていてもよい
フェニル、置換されていてもよいナフタレン、置換され
ていてもよいピロール、置換されていてもよいフラン、
置換されていてもよいチオフェン、置換されていてもよ
いピリジン、置換されていてもよいピリミジン、置換さ
れていてもよいインドールである。
In general formulas (1) to (8), X
As, for example, optionally substituted phenyl, optionally substituted naphthalene, optionally substituted pyrrole, optionally substituted furan, optionally substituted thiophene, optionally substituted Pyrazole,
Optionally substituted imidazole, optionally substituted isothiazole, optionally substituted imidazole, optionally substituted oxazole, optionally substituted thiazole, optionally substituted pyridine,
Optionally substituted pyridazine, optionally substituted pyrimidine, optionally substituted pyrazine, optionally substituted naphthalene, optionally substituted indole, optionally substituted benzo [b] Furan, optionally substituted benzo [b] thiophene, optionally substituted benzo [d] imidazole, optionally substituted benzo [d] oxazole, optionally substituted benzo [d] thiazole, Optionally substituted purine, optionally substituted quinoline, optionally substituted isoquinoline, optionally substituted cinnoline, optionally substituted phthalazine, optionally substituted xazoline, optionally substituted Quinoxaline which may be substituted, pteridine which may be substituted, and the like, preferably substituted Also phenyl, naphthalene optionally substituted, optionally substituted pyrrole,
Optionally substituted furan, optionally substituted thiophene, optionally substituted pyrazole, optionally substituted isoxazole, optionally substituted isothiazole, optionally substituted pyridine, substituted Optionally substituted pyridazine, optionally substituted pyrimidine, optionally substituted pyrazine, optionally substituted indole, optionally substituted benzofuran, optionally substituted benzothiophene, substituted Quinoline which may be substituted, isoquinoline which may be substituted, and more preferably phenyl which may be substituted, naphthalene which may be substituted, pyrrole which may be substituted, and optionally substituted Franc,
An optionally substituted thiophene, an optionally substituted pyridine, an optionally substituted pyrimidine, and an optionally substituted indole.

【0007】その置換基としては例えばH、置換されて
いてもよいC1〜C6のアルキル基としてはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert-
ブチル基、ペンチル基、へキシル基、トリフルオロメチ
ル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ベンジル基な
ど;置換されていてもよいC2〜C6のアルケニル基として
はビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル
基、ペンテニル基、ヘキセニル基、スチリル基など;置
換されていてもよいC2〜C6のアルキニル基としてはエチ
ニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基な
ど;置換されていてもよいC1〜C6のアルコキシ基として
はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポ
キシ基、ブトキシ基、tert-ブトキシ基、トリフルオロ
メトキシ基、ベンジルオキシ基など;置換されていても
よいアルキルチオ基としてはメチルチオ基、エチルチオ
基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、
へキシルチオ基、ベンジルチオ基など;NR4R5としては
アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソ
プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、tert-ブチルアミ
ノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ピロリジ
ノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、アニリノ基など;
ハロゲンとしてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素;NO2;C
N;COR6としてはホルミル基、アセチル基、プロピオニ
ル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ピバ
ロイル基、ベンゾイル基、トルオイル基、フラノイル
基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基、シンナモイ
ル基など;CO2R6としてはメトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシ
カルボニル基、tert-ブトキシカルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基など;CO
NR4R5としてはメチルアミノカルボニル基、ジメチルア
ミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ジエチ
ルアミノカルボニル基、ピロリジノカルボニル基、ピペ
リジノカルボニル基、モルホリノカルボニル基、アニリ
ノカルボニル基など;SO3R6としてはメトキシスルフォ
ニル基、エトキシスルフォニル基、プロポキシスルフォ
ニル基、ブトキシスルフォニル基、ベンジルオキシスル
フォニル基、フェノキシスルフォニル基など;SO2NR4R5
としてはスルファモイル基、メチルスルファモイル基、
ジメチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、
ジエチルスルファモイル基、プロピルスルファモイル
基、イソプロピルスルファモイル基、ブチルスルファモ
イル基、tert-ブチルスルファモイル基、ペンチルスル
ファモイル基、ヘキシルスルファモイル基、ピロリジノ
スルファモイル基、ピペリジノスルファモイル基、モル
ホリノスルファモイル基、アニリノスルファモイル基な
ど;SOR6としてはメチルスルフィニル基、エチルスルフ
ィニル基、プロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニ
ル基、ベンジルスルフィニル基、フェニルスルフィニル
基など;SO2R6としてはメチルスルフォニル基、エチル
スルフォニル基、プロピルスルフォニル基、ブチルスル
フォニル基、ベンジルスルフォニル基、フェニルスルフ
ォニル基など;OCOR6としては、アセチルオキシ基、プ
ロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリル
オキシ基、バレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基、トルオイルオキシ基、フラノイルオ
キシ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキ
シ基、シンナモイルオキシ基など;OCO2R6としてはメト
キシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ
基、プロポキシカルボニルオキシ基、ブトキシカルボニ
ルオキシ基、tert-ブトキシカルボニルオキシ基、ベン
ジルオキシカルボニルオキシ基、フェノキシカルボニル
オキシ基など;OCONR4R5としてはメチルアミノカルボニ
ルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチ
ルアミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニ
ルオキシ基、ピロリジノカルボニルオキシ基、ピペリジ
ノカルボニルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ
基、アニリノカルボニルオキシ基など;OSO2R6としては
メタンスルフォニルオキシ基、エタンスルフォニルオキ
シ基、プロパンスルフォニルオキシ基、ブタンスルフォ
ニルオキシ基、ペンタンスルフォニルオキシ基、ヘキサ
ンスルフォニルオキシ基、ベンゼンスルフォニルオキシ
基、トルエンスルフォニルオキシ基など;置換されてい
てもよいフェニル基としてはヒドロキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、メチルフェニル基、トリフルオロメチ
ルフェニル基、メトキシフェニル基、tert-ブトキシフ
ェニル基、ベンジルオキシフェニル基、トリフルオロメ
トキシフェニル基、フェノキシフェニル基など;置換さ
れていてもよいフェノキシ基としてはフェノキシ基、ヒ
ドロキシフェノキシ基、クロロフェノキシ基、メチルフ
ェノキシ基、トリフルオロメチルフェノキシ基、メトキ
シフェノキシ基、トリフルオロメトキシフェノキシ基、
フェノキシフェノキシ基など;置換されていてもよいヘ
テロアリール基としてはフラニル基、チエニル基、アゾ
リル基、ピリジル基、インドリル基、置換されていても
よいヘテロアリールオキシ基としてはフラニルオキシ
基、チエニルオキシ基、アゾリルオキシ基、ピリジルオ
キシ基、インドリルオキシ基などが挙げられる。好まし
くは、H、置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基、
置換されていてもよいC1〜C6のアルコキシ基、ハロゲ
ン、NO2、NR4R5、置換されていてもよいフェニル基、置
換されていてもよいフェノキシ基、COR6、CO2R6、OCOR6
またはOCO2R6であり、特に好ましくは、H、メチル基、
メトキシ基、フェノキシ基、メトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基、NO2、アセトキシ基またはベンゾ
イルオキシ基である。またXの置換基として隣り合った
置換基同士で形成する環としては、シクロブタン環、シ
クロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン
環、オキセタン環、テトラヒドロフラン環、フラン環、
ピラン環、ジオキソラン環、ジオキサン環等があげられ
る。
The substituent is, for example, H, and the optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group is methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-alkyl.
Butyl group, pentyl group, hexyl group, trifluoromethyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, benzyl group and the like; optionally substituted C 2 -C 6 alkenyl groups are vinyl group, allyl group, isopropenyl Group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, styryl group, etc .; optionally substituted C 2 -C 6 alkynyl groups include ethynyl group, propynyl group, butynyl group, pentynyl group, etc .; optionally substituted C 1 to C 6 alkoxy groups include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, tert-butoxy, trifluoromethoxy, benzyloxy and the like; optionally substituted alkylthio groups Is methylthio, ethylthio, propylthio, butylthio, pentylthio,
Hexylthio group, benzylthio group and the like; NR 4 R 5 includes an amino group, a methylamino group, a dimethylamino group, an ethylamino group, a diethylamino group, a propylamino group, an isopropylamino group, a butylamino group, a tert-butylamino group, Pentylamino, hexylamino, pyrrolidino, piperidino, morpholino, anilino, etc .;
Halogen is fluorine, chlorine, bromine, iodine; NO 2 ; C
N; COR 6 includes formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, pivaloyl group, benzoyl group, toluoyl group, furanoyl group, nicotinoyl group, isonicotinoyl group, cinnamoyl group and the like; CO 2 R 6 Methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, phenoxycarbonyl and the like;
NR 4 R 5 includes methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, ethylaminocarbonyl, diethylaminocarbonyl, pyrrolidinocarbonyl, piperidinocarbonyl, morpholinocarbonyl, anilinocarbonyl and the like; SO 3 R 6 Methoxysulfonyl, ethoxysulfonyl, propoxysulfonyl, butoxysulfonyl, benzyloxysulfonyl, phenoxysulfonyl and the like; SO 2 NR 4 R 5
As a sulfamoyl group, a methylsulfamoyl group,
Dimethylsulfamoyl group, ethylsulfamoyl group,
Diethylsulfamoyl group, propylsulfamoyl group, isopropylsulfamoyl group, butylsulfamoyl group, tert-butylsulfamoyl group, pentylsulfamoyl group, hexylsulfamoyl group, pyrrolidinosulfamoyl group, Piperidinosulfamoyl group, morpholinosulfamoyl group, anilinosulfamoyl group, etc .; SOR 6 as methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, propylsulfinyl group, butylsulfinyl group, benzylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, etc .; SO 2 R methylsulfonyl group as 6, ethylsulfonyl group, propyl sulfonyl group, butylsulfonyl group, a benzyl sulfonyl group, such as phenylsulfonyl group; a OCOR 6 acetyloxy group, propionyloxy group, butyl Aryloxy group, iso-butyryloxy group, valeryloxy group, pivaloyloxy group, benzoyloxy group, toluoyl group, Furano yl group, nicotinoyl group, isonicotinoyl group, etc. cinnamoyl group; OCO 2 R 6 Methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, propoxycarbonyloxy group, butoxycarbonyloxy group, tert-butoxycarbonyloxy group, benzyloxycarbonyloxy group, phenoxycarbonyloxy group and the like; OCONR 4 R 5 is methylaminocarbonyl Oxy, dimethylaminocarbonyloxy, ethylaminocarbonyloxy, diethylaminocarbonyloxy, pyrrolidinocarbonyloxy, piperidinocarbonyloxy, morpholinocarbonyloxy Groups, such as anilinocarbonyl group; methanesulfonyl as OSO 2 R 6 sulfonyl oxy group, ethane sulfonyl group, propane sulfonyl group, butane sulfonyloxy group, pen chest Gandolfo sulfonyloxy group, hexane sulfonyloxy group, benzenesulfonyl group, Toluenesulfonyloxy group and the like; optionally substituted phenyl groups include hydroxyphenyl, chlorophenyl, methylphenyl, trifluoromethylphenyl, methoxyphenyl, tert-butoxyphenyl, benzyloxyphenyl, trifluorophenyl Methoxyphenyl group, phenoxyphenyl group and the like; optionally substituted phenoxy groups include phenoxy group, hydroxyphenoxy group, chlorophenoxy group, methylphenoxy group, trif Fluoromethylphenoxy group, methoxyphenoxy group, trifluoromethoxyphenoxy group,
Phenoxyphenoxy group and the like; optionally substituted heteroaryl group includes furanyl group, thienyl group, azolyl group, pyridyl group, indolyl group, and optionally substituted heteroaryloxy group includes furanyloxy group, thienyloxy group, Examples include an azolyloxy group, a pyridyloxy group, and an indolyloxy group. Preferably, H, optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group,
Optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group, halogen, NO 2, NR 4 R 5 , optionally substituted phenyl, optionally substituted phenoxy group, COR 6, CO 2 R 6 , OCOR 6
Or OCO 2 R 6 , particularly preferably H, a methyl group,
It is a methoxy group, a phenoxy group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, NO 2 , an acetoxy group or a benzoyloxy group. Further, as a ring formed by adjacent substituents as a substituent of X, a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, an oxetane ring, a tetrahydrofuran ring, a furan ring,
Examples include a pyran ring, a dioxolan ring, and a dioxane ring.

【0008】Yとしては例えばCO2R6としてはメトキシカ
ルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボ
ニル基、ブトキシカルボニル基、tert-ブトキシカルボ
ニル基、ベンジルオキシカルボニル基など;CN;NO2;S
O3R6としてはメトキシスルフォニル基、エトキシスルフ
ォニル基、プロポキシスルフォニル基、ブトキシスルフ
ォニル基、ベンジルオキシスルフォニル基、フェノキシ
スルフォニル基など;SO2NR4R5としてはスルファモイル
基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル
基、エチルスルファモイル基、ジエチルスルファモイル
基、プロピルスルファモイル基、イソプロピルスルファ
モイル基、ブチルスルファモイル基、tert-ブチルスル
ファモイル基、ペンチルスルファモイル基、ヘキシルス
ルファモイル基、ピロリジノスルファモイル基、ピペリ
ジノスルファモイル基、モルホリノスルファモイル基、
アニリノスルファモイル基など;SOR6としてはメチルス
ルフィニル基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフ
ィニル基、ブチルスルフィニル基、ベンジルスルフィニ
ル基、フェニルスルフィニル基など;SO2R6としてはメ
チルスルフォニル基、エチルスルフォニル基、プロピル
スルフォニル基、ブチルスルフォニル基、ベンジルスル
フォニル基、フェニルスルフォニル基などが挙げられ
る。好ましくは、CN、CO2R6、NO2、SO3R6またはSO2NR4R
5であり、特に好ましくは、CN、メトキシカルボニル基
またはエトキシカルボニル基である。
As Y, for example, CO 2 R 6 includes methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl and the like; CN; NO 2 ; S
Examples of O 3 R 6 include a methoxysulfonyl group, an ethoxysulfonyl group, a propoxysulfonyl group, a butoxysulfonyl group, a benzyloxysulfonyl group, and a phenoxysulfonyl group; SO 2 NR 4 R 5 includes a sulfamoyl group, a methylsulfamoyl group, and dimethyl. Sulfamoyl, ethylsulfamoyl, diethylsulfamoyl, propylsulfamoyl, isopropylsulfamoyl, butylsulfamoyl, tert-butylsulfamoyl, pentylsulfamoyl, hexyl Sulfamoyl group, pyrrolidinosulfamoyl group, piperidinosulfamoyl group, morpholinosulfamoyl group,
SOR 6 includes methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, propylsulfinyl group, butylsulfinyl group, benzylsulfinyl group, phenylsulfinyl group and the like; SO 2 R 6 includes methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, Examples thereof include a propylsulfonyl group, a butylsulfonyl group, a benzylsulfonyl group, and a phenylsulfonyl group. Preferably, CN, CO 2 R 6 , NO 2 , SO 3 R 6 or SO 2 NR 4 R
And particularly preferably CN, methoxycarbonyl group or ethoxycarbonyl group.

【0009】R1、R2およびR3としては例えばH;置換さ
れていてもよいC1〜C6のアルキル基としてはメチル基、
エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、te
rt-ブチル基、ペンチル基、へキシル基、トリフルオロ
メチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ベンジル
基など;置換されていてもよいC2〜C6のアルケニル基と
してはビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニ
ル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、スチリル基など;
置換されていてもよいC2〜C6のアルキニル基としてはエ
チニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基な
ど;置換されていてもよいC1〜C6のアルコキシ基として
はメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポ
キシ基、ブトキシ基、tert-ブトキシ基、トリフルオロ
メトキシ基、ベンジルオキシ基など;置換されていても
よいアルキルチオ基としてはメチルチオ基、エチルチオ
基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、
へキシルチオ基、ベンジルチオ基など;NR4R5としては
アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソ
プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、tert-ブチルアミ
ノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ピロリジ
ノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、アニリノ基など;
ハロゲンとしてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素;NO2;C
N;COR6としてはホルミル基、アセチル基、プロピオニ
ル基、ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ピバ
ロイル基、ベンゾイル基、トルオイル基、フラノイル
基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基、シンナモイ
ル基など;CO2R6としてはメトキシカルボニル基、エト
キシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシ
カルボニル基、tert-ブトキシカルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基など;CO
NR4R5としてはメチルアミノカルボニル基、ジメチルア
ミノカルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ジエチ
ルアミノカルボニル基、ピロリジノカルボニル基、ピペ
リジノカルボニル基、モルホリノカルボニル基、アニリ
ノカルボニル基など;SO3R6としてはメトキシスルフォ
ニル基、エトキシスルフォニル基、プロポキシスルフォ
ニル基、ブトキシスルフォニル基、ベンジルオキシスル
フォニル基、フェノキシスルフォニル基など;SO2NR4R5
としてはスルファモイル基、メチルスルファモイル基、
ジメチルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、
ジエチルスルファモイル基、プロピルスルファモイル
基、イソプロピルスルファモイル基、ブチルスルファモ
イル基、tert-ブチルスルファモイル基、ペンチルスル
ファモイル基、ヘキシルスルファモイル基、ピロリジノ
スルファモイル基、ピペリジノスルファモイル基、モル
ホリノスルファモイル基、アニリノスルファモイル基な
ど;SOR6としてはメチルスルフィニル基、エチルスルフ
ィニル基、プロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニ
ル基、ベンジルスルフィニル基、フェニルスルフィニル
基など;SO2R6としてはメチルスルフォニル基、エチル
スルフォニル基、プロピルスルフォニル基、ブチルスル
フォニル基、ベンジルスルフォニル基、フェニルスルフ
ォニル基など;OCOR6としては、アセチルオキシ基、プ
ロピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリル
オキシ基、バレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベ
ンゾイルオキシ基、トルオイルオキシ基、フラノイルオ
キシ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキ
シ基、シンナモイルオキシ基など;OCO2R6としてはメト
キシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ
基、プロポキシカルボニルオキシ基、ブトキシカルボニ
ルオキシ基、tert-ブトキシカルボニルオキシ基、ベン
ジルオキシカルボニルオキシ基、フェノキシカルボニル
オキシ基など;OCONR4R5としてはメチルアミノカルボニ
ルオキシ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチ
ルアミノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニ
ルオキシ基、ピロリジノカルボニルオキシ基、ピペリジ
ノカルボニルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ
基、アニリノカルボニルオキシ基など;OSO2R6としては
メタンスルフォニルオキシ基、エタンスルフォニルオキ
シ基、プロパンスルフォニルオキシ基、ブタンスルフォ
ニルオキシ基、ペンタンスルフォニルオキシ基、ヘキサ
ンスルフォニルオキシ基、ベンゼンスルフォニルオキシ
基、トルエンスルフォニルオキシ基など;置換されてい
てもよいフェニル基としてはヒドロキシフェニル基、ク
ロロフェニル基、メチルフェニル基、トリフルオロメチ
ルフェニル基、メトキシフェニル基、tert-ブトキシフ
ェニル基、ベンジルオキシフェニル基、トリフルオロメ
トキシフェニル基、フェノキシフェニル基など;置換さ
れていてもよいフェノキシ基としてはフェノキシ基、ヒ
ドロキシフェノキシ基、クロロフェノキシ基、メチルフ
ェノキシ基、トリフルオロメチルフェノキシ基、メトキ
シフェノキシ基、トリフルオロメトキシフェノキシ基、
フェノキシフェノキシ基など;置換されていてもよいヘ
テロアリール基としてはフラニル基、チエニル基、アゾ
リル基、ピリジル基、インドリル基、置換されていても
よいヘテロアリールオキシ基としてはフラニルオキシ
基、チエニルオキシ基、アゾリルオキシ基、ピリジルオ
キシ基、インドリルオキシ基などが挙げられ、好ましく
は、H;メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル基、へキシ
ル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモ
メチル基、ベンジル基などの置換されていてもよいC1
C6のアルキル基、ヒドロキシフェニル基、クロロフェニ
ル基、メチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル
基、メトキシフェニル基、tert-ブトキシフェニル基、
ベンジルオキシフェニル基、トリフルオロメトキシフェ
ニル基、フェノキシフェニル基などの置換されていても
よいフェニル基、特に好ましくはH、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、トリフルオロメチル
基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ヒドロキシフェ
ニル基、クロロフェニル基、メチルフェニル基、トリフ
ルオロメチルフェニル基、メトキシフェニル基またはト
リフルオロメトキシフェニル基である。
R 1 , R 2 and R 3 are, for example, H; an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group is a methyl group;
Ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, te
rt- butyl group, a pentyl group, a hexyl group, trifluoromethyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, a benzyl group and the like; substituted The alkenyl group optionally C 2 -C 6 even if vinyl group, an allyl group, Isopropenyl, butenyl, pentenyl, hexenyl, styryl and the like;
The optionally substituted C 2 -C 6 alkynyl group includes an ethynyl group, a propynyl group, a butynyl group, a pentynyl group and the like; and the optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group includes a methoxy group and an ethoxy group. , A propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a tert-butoxy group, a trifluoromethoxy group, a benzyloxy group; and the optionally substituted alkylthio group is a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, a butylthio group, a pentylthio group. ,
Hexylthio group, benzylthio group and the like; NR 4 R 5 includes an amino group, a methylamino group, a dimethylamino group, an ethylamino group, a diethylamino group, a propylamino group, an isopropylamino group, a butylamino group, a tert-butylamino group, Pentylamino, hexylamino, pyrrolidino, piperidino, morpholino, anilino, etc .;
Halogen is fluorine, chlorine, bromine, iodine; NO 2 ; C
N; COR 6 includes formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, pivaloyl group, benzoyl group, toluoyl group, furanoyl group, nicotinoyl group, isonicotinoyl group, cinnamoyl group and the like; CO 2 R 6 Methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl, butoxycarbonyl, tert-butoxycarbonyl, benzyloxycarbonyl, phenoxycarbonyl and the like;
NR 4 R 5 includes methylaminocarbonyl, dimethylaminocarbonyl, ethylaminocarbonyl, diethylaminocarbonyl, pyrrolidinocarbonyl, piperidinocarbonyl, morpholinocarbonyl, anilinocarbonyl and the like; SO 3 R 6 Methoxysulfonyl, ethoxysulfonyl, propoxysulfonyl, butoxysulfonyl, benzyloxysulfonyl, phenoxysulfonyl and the like; SO 2 NR 4 R 5
As a sulfamoyl group, a methylsulfamoyl group,
Dimethylsulfamoyl group, ethylsulfamoyl group,
Diethylsulfamoyl group, propylsulfamoyl group, isopropylsulfamoyl group, butylsulfamoyl group, tert-butylsulfamoyl group, pentylsulfamoyl group, hexylsulfamoyl group, pyrrolidinosulfamoyl group, Piperidinosulfamoyl group, morpholinosulfamoyl group, anilinosulfamoyl group, etc .; SOR 6 as methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, propylsulfinyl group, butylsulfinyl group, benzylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, etc .; SO 2 R methylsulfonyl group as 6, ethylsulfonyl group, propyl sulfonyl group, butylsulfonyl group, a benzyl sulfonyl group, such as phenylsulfonyl group; a OCOR 6 acetyloxy group, propionyloxy group, butyl Aryloxy group, iso-butyryloxy group, valeryloxy group, pivaloyloxy group, benzoyloxy group, toluoyl group, Furano yl group, nicotinoyl group, isonicotinoyl group, etc. cinnamoyl group; OCO 2 R 6 Methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group, propoxycarbonyloxy group, butoxycarbonyloxy group, tert-butoxycarbonyloxy group, benzyloxycarbonyloxy group, phenoxycarbonyloxy group and the like; OCONR 4 R 5 is methylaminocarbonyl Oxy, dimethylaminocarbonyloxy, ethylaminocarbonyloxy, diethylaminocarbonyloxy, pyrrolidinocarbonyloxy, piperidinocarbonyloxy, morpholinocarbonyloxy Groups, such as anilinocarbonyl group; methanesulfonyl as OSO 2 R 6 sulfonyl oxy group, ethane sulfonyl group, propane sulfonyl group, butane sulfonyloxy group, pen chest Gandolfo sulfonyloxy group, hexane sulfonyloxy group, benzenesulfonyl group, Toluenesulfonyloxy group and the like; optionally substituted phenyl groups include hydroxyphenyl, chlorophenyl, methylphenyl, trifluoromethylphenyl, methoxyphenyl, tert-butoxyphenyl, benzyloxyphenyl, trifluorophenyl Methoxyphenyl group, phenoxyphenyl group and the like; optionally substituted phenoxy groups include phenoxy group, hydroxyphenoxy group, chlorophenoxy group, methylphenoxy group, trif Fluoromethylphenoxy group, methoxyphenoxy group, trifluoromethoxyphenoxy group,
Phenoxyphenoxy group and the like; optionally substituted heteroaryl group includes furanyl group, thienyl group, azolyl group, pyridyl group, indolyl group, and optionally substituted heteroaryloxy group includes furanyloxy group, thienyloxy group, An azolyloxy group, a pyridyloxy group, an indolyloxy group, etc., preferably H; methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl, trifluoro C 1- which may be substituted such as methyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, benzyl group, etc.
C 6 alkyl group, hydroxyphenyl group, chlorophenyl group, methylphenyl group, trifluoromethylphenyl group, methoxyphenyl group, tert-butoxyphenyl group,
An optionally substituted phenyl group such as a benzyloxyphenyl group, a trifluoromethoxyphenyl group and a phenoxyphenyl group, particularly preferably H, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a trifluoromethyl group and a chloromethyl group , Bromomethyl, hydroxyphenyl, chlorophenyl, methylphenyl, trifluoromethylphenyl, methoxyphenyl or trifluoromethoxyphenyl.

【0010】R4、R5およびR6としては例えばH;置換さ
れていてもよいアルキル基としてはメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert-ブ
チル基、ペンチル基、へキシル基;置換されていてもよ
いフェニル基としてはヒドロキシフェニル基、クロロフ
ェニル基、メチルフェニル基、トリフルオロメチルフェ
ニル基、メトキシフェニル基、トリフルオロメトキシフ
ェニル基、フェノキシフェニル基などが挙げられ、NR4R
5としてはピロリジノ基、ピペラジノ基、モルホリノ基
などが挙げられ、好ましくは、H、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ピロリジニル基、ピ
ペラジノ基またはモルホリノ基であり、さらに好ましく
は、H、メチル基、エチル、ピロリジノ基またはピペラ
ジノ基である。
R 4 , R 5 and R 6 are, for example, H; and optionally substituted alkyl groups are methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl and the like. hexyl group; a substituted as the phenyl group optionally hydroxyphenyl group, chlorophenyl group, methylphenyl group, trifluoromethylphenyl group, methoxyphenyl group, a trifluoromethoxyphenyl group, a phenoxyphenyl group and the like, NR 4 R
Examples of 5 include a pyrrolidino group, a piperazino group, a morpholino group, and the like, preferably H, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a pyrrolidinyl group, a piperazino group, or a morpholino group. A methyl group, an ethyl group, a pyrrolidino group or a piperazino group.

【0011】R7としては例えばH;置換されていてもよ
いC1〜C6のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert-ブチル
基、ペンチル基、へキシル基、トリフルオロメチル基、
クロロメチル基、ブロモメチル基、ベンジル基など;置
換されていてもよいC2〜C6のアルケニル基としてはビニ
ル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテニル基、ペン
テニル基、ヘキセニル基、スチリル基など;C1〜C6のア
シル基としてはアセチル基など;C1〜C6のアルコキシカ
ルボニル基としてはメトキシカルボニル基など;置換さ
れていてもよいフェニル基としてはヒドロキシフェニル
基、クロロフェニル基、メチルフェニル基、トリフルオ
ロメチルフェニル基、メトキシフェニル基、tert-ブト
キシフェニル基、ベンジルオキシフェニル基、トリフル
オロメトキシフェニル基、フェノキシフェニル基など;
スルフォニル基であり、特に好ましくはH、アセチル
基、メトキシカルボニル基、スルフォニル基が挙げられ
る。
R 7 is, for example, H; and optionally substituted C 1 -C 6 alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl and the like. Xyl group, trifluoromethyl group,
Chloromethyl group, bromomethyl group, benzyl group and the like; optionally substituted C 2 -C 6 alkenyl groups include vinyl group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, styryl group; C 1 such as an acetyl group as the acyl group -C 6; C 1 -C such a methoxycarbonyl group as alkoxycarbonyl group 6; substituted as a phenyl group optionally hydroxyphenyl group, chlorophenyl group, methylphenyl group , Trifluoromethylphenyl, methoxyphenyl, tert-butoxyphenyl, benzyloxyphenyl, trifluoromethoxyphenyl, phenoxyphenyl and the like;
Sulfonyl group, particularly preferably H, acetyl group, methoxycarbonyl group and sulfonyl group.

【0012】R8でCOR9としては例えばホルミル基、アセ
チル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル
基、バレリル基、ピバロイル基、ベンゾイル基、トルオ
イル基など;CO2R6としてはメトキシカルボニル基、エ
トキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキ
シカルボニル基、tert-ブトキシカルボニル基、ベンジ
ルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基などで
あり、好ましくはホルミル基、アセチル基、ベンゾイル
基であり、特に好ましくはホルミル基、アセチル基であ
る。
In R 8 , COR 9 includes, for example, formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, pivaloyl group, benzoyl group and toluoyl group; and CO 2 R 6 includes methoxycarbonyl group and ethoxy group. Carbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, etc., preferably formyl group, acetyl group, benzoyl group, particularly preferably formyl group, acetyl group It is.

【0013】R10およびR11としては例えばH;置換され
ていてもよいアルキル基としてはメチル基、エチル基、
プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert-ブチル
基、ペンチル基、へキシル基、置換されていてもよいフ
ェニル基としてはフェニル基、ヒドロキシフェニル基、
クロロフェニル基、メチルフェニル基、トリフルオロメ
チルフェニル基、メトキシフェニル基、トリフルオロメ
トキシフェニル基、フェノキシフェニル基である。
R 10 and R 11 are, for example, H; and the optionally substituted alkyl group is a methyl group, an ethyl group,
Propyl group, isopropyl group, butyl group, tert-butyl group, pentyl group, hexyl group, phenyl group which may be substituted phenyl group, hydroxyphenyl group,
A chlorophenyl group, a methylphenyl group, a trifluoromethylphenyl group, a methoxyphenyl group, a trifluoromethoxyphenyl group, and a phenoxyphenyl group.

【0014】一般式(1)〜(8)の好ましい化合物と
しては、以下のものが挙げられる。一般式(1)の好ま
しい化合物としては2−フェニル−4−オキソシクロヘ
キシ−2−エンカルボン酸エチルエステル、2−(4−
ニトロフェニル)−4−オキソシクロヘキシ−2−エン
カルボン酸エチルエステル、2−(4−クロロフェニ
ル)−4−オキソシクロヘキシ−2−エンカルボン酸エ
チルエステル、2−(4−メトキシフェニル)−4−オ
キソシクロヘキシ−2−エンカルボン酸エチルエステ
ル、2−(4−トリル)−4−オキソシクロヘキシ−2
−エンカルボン酸エチルエステル、2−(2−トリル)
−4−オキソシクロヘキシ−2−エンカルボン酸エチル
エステル、2−(4−ピリジル)−4−オキソシクロヘ
キシ−2−エンカルボン酸エチルエステルなどが挙げら
れる。一般式(2)の好ましい化合物としてはヒドロキ
シルアミンおよびその塩酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸
塩、O−メチルヒドロキシルアミンおよびその塩酸塩、
O−ベンジルヒドロキシルアミンおよびその塩酸塩、ヒ
ドロキシルアミン−O−スルホン酸などが挙げられる。
一般式(3)の好ましい化合物としては4−ヒドロキシ
イミノ−2−フェニル−シクロヘキシ−2−エンカルボ
ン酸エチルエステル、4−ヒドロキシイミノ−2−(4
−トリル)シクロヘキシ−2−エンカルボン酸エチルエ
ステル、4−ヒドロキシイミノ−2−(2−トリル)シ
クロヘキシ−2−エンカルボン酸エチルエステル、4−
ヒドロキシイミノ−2−(4−メトキシフェニル)シク
ロヘキシ−2−エンカルボン酸エチルエステル、4−ヒ
ドロキシイミノ−2−(4−クロロフェニル)シクロヘ
キシ−2−エンカルボン酸エチルエステル、4−ヒドロ
キシイミノ−2−(4−ピリジル)シクロヘキシ−2−
エンカルボン酸エチルエステルおよびこれらの塩酸塩、
硫酸塩、酢酸塩などが挙げられる。一般式(4)の好ま
しい化合物としては5−アミノビフェニル−2−カルボ
ン酸エチルエステル、5−アミノ−4’−メチルビフェ
ニル−2−カルボン酸エチルエステル、5−アミノ−
4’−クロロビフェニル−2−カルボン酸エチルエステ
ル、5−アミノ−2’−メチルビフェニル−2−カルボ
ン酸エチルエステル、5−アミノ−4’−メトキシビフ
ェニル−2−カルボン酸エチルエステル、4−(5−ア
ミノ−2−エトキシカルボニルフェニル)ピリジンおよ
びこれらの塩酸塩、硫酸塩、酢酸塩などが挙げられる。
一般式(5)の好ましい化合物としては5−アセチルア
ミノビフェニル−2−カルボン酸エチルエステル、5−
アセチルアミノ−4’−メチルビフェニル−2−カルボ
ン酸エチルエステル、5−アセチルアミノ−4’−クロ
ロビフェニル−2−カルボン酸エチルエステル、5−ア
セチルアミノ−2’−メチルビフェニル−2−カルボン
酸エチルエステル、5−アセチルアミノ−4’−メトキ
シビフェニル−2−カルボン酸エチルエステル、4−
(5−アセチルアミノ−2−エトキシカルボニルフェニ
ル)ピリジンおよびこれらの塩酸塩、硫酸塩、酢酸塩な
どが挙げられる。一般式(6)の好ましい化合物として
はメチルアミン、ジメチルアミン、エチルアミン、ジエ
チルアミン、ベンジルアミン、tert-ブチルアミン、メ
チルベンジルアミン、ピロリジン、ピペリジン、モルホ
リンおよびこれらの塩酸塩、硫酸塩、酢酸塩などが挙げ
られる。一般式(7A)の好ましい化合物としては4−
ジメチルアミノ−2−フェニル−1,3−シクロヘキサ
ジエンカルボン酸エチルエステル、4−ジメチルアミノ
−2−(4−トリル)−1,3−シクロヘキサジエンカ
ルボン酸エチルエステル、4−ジメチルアミノ−2−
(2−トリル)−1,3−シクロヘキサジエンカルボン
酸エチルエステル、4−ジメチルアミノ−2−(4−ク
ロロフェニル)−1,3−シクロヘキサジエンカルボン
酸エチルエステル、4−ジメチルアミノ−2−(4−メ
トキシフェニル)−1,3−シクロヘキサジエンカルボ
ン酸エチルエステル、4−ジメチルアミノ−2−(4−
ピリジル)−1,3−シクロヘキサジエンカルボン酸エ
チルエステル、4−ピロリジニル−2−フェニル−1,
3−シクロヘキサジエンカルボン酸エチルエステル、4
−ピロリジニル−2−(4−トリル)−1,3−シクロ
ヘキサジエンカルボン酸エチルエステル、4−ピロリジ
ニル−2−(2−トリル)−1,3−シクロヘキサジエ
ンカルボン酸エチルエステル、4−ピロリジニル−2−
(4−クロロフェニル)−1,3−シクロヘキサジエン
カルボン酸エチルエステル、4−ピロリジニル−2−
(4−メトキシフェニル)−1,3−シクロヘキサジエ
ンカルボン酸エチルエステル、4−ピロリジニル−2−
(4−ピリジル)−1,3−シクロヘキサジエンカルボ
ン酸エチルエステル、4−ピペリジノ−2−フェニル−
1,3−シクロヘキサジエンカルボン酸エチルエステ
ル、4−ピペリジノ−2−(4−トリル)−1,3−シ
クロヘキサジエンカルボン酸エチルエステル、4−ピペ
リジノ−2−(2−トリル)−1,3−シクロヘキサジ
エンカルボン酸エチルエステル、4−ピペリジノ−2−
(4−クロロフェニル)−1,3−シクロヘキサジエン
カルボン酸エチルエステル、4−ピペリジノ−2−(4
−メトキシフェニル)−1,3−シクロヘキサジエンカ
ルボン酸エチルエステル、4−ピペリジノ−2−(4−
ピリジル)−1,3−シクロヘキサジエンカルボン酸エ
チルエステルなどが挙げられる。一般式(7B)の好ま
しい化合物としては4−メチルイミノ−2−フェニルシ
クロヘキシ−2−エンカルボン酸エチルエステル、4−
メチルイミノ−2−(4−トリル)シクロヘキシ−2−
エンカルボン酸エチルエステル、4−メチルイミノ−2
−(2−トリル)シクロヘキシ−2−エンカルボン酸エ
チルエステル、4−メチルイミノ−2−(4−メトキシ
フェニル)シクロヘキシ−2−エンカルボン酸エチルエ
ステル、4−メチルイミノ−2−(4−クロロフェニ
ル)シクロヘキシ−2−エンカルボン酸エチルエステ
ル、4−メチルイミノ−2−(4−ピリジル)シクロヘ
キシ−2−エンカルボン酸エチルエステルおよびこれら
の塩酸塩、硫酸塩、酢酸塩などが挙げられる。一般式
(8)の好ましい化合物としては5−メチルアミノビフ
ェニル−2−カルボン酸エチルエステル、5−メチルア
ミノ−4’−メチルビフェニル−2−カルボン酸エチル
エステル、5−メチルアミノ−4’−クロロビフェニル
−2−カルボン酸エチルエステル、5−メチルアミノ−
2’−メチルビフェニル−2−カルボン酸エチルエステ
ル、5−メチルアミノ−4’−メトキシビフェニル−2
−カルボン酸エチルエステル、4−(5−メチルアミノ
−2−エトキシカルボニルフェニル)ピリジン、5−ジ
メチルアミノビフェニル−2−カルボン酸エチルエステ
ル、5−ジメチルアミノ−4’−メチルビフェニル−2
−カルボン酸エチルエステル、5−ジメチルアミノ−
4’−クロロビフェニル−2−カルボン酸エチルエステ
ル、5−ジメチルアミノ−2’−メチルビフェニル−2
−カルボン酸エチルエステル、5−ジメチルアミノ−
4’−メトキシビフェニル−2−カルボン酸エチルエス
テル、4−(5−ジメチルアミノ−2−エトキシカルボ
ニルフェニル)ピリジン、5−ベンジルアミノビフェニ
ル−2−カルボン酸エチルエステル、5−ベンジルアミ
ノ−4’−メチルビフェニル−2−カルボン酸エチルエ
ステル、5−ベンジルアミノ−4’−クロロビフェニル
−2−カルボン酸エチルエステル、5−ベンジルアミノ
−2’−メチルビフェニル−2−カルボン酸エチルエス
テル、5−ベンジルアミノ−4’−メトキシビフェニル
−2−カルボン酸エチルエステル、4−(5−ベンジル
アミノ−2−エトキシカルボニルフェニル)ピリジン、
5−ピペリジノビフェニル−2−カルボン酸エチルエス
テル、5−ピペリジノ−4’−メチルビフェニル−2−
カルボン酸エチルエステル、5−ピペリジノ−4’−ク
ロロビフェニル−2−カルボン酸エチルエステル、5−
ピペリジノ−2’−メチルビフェニル−2−カルボン酸
エチルエステル、5−ピペリジノ−4’−メトキシビフ
ェニル−2−カルボン酸エチルエステル、4−(5−ピ
ペリジノ−2−エトキシカルボニルフェニル)ピリジ
ン、5−ピロリジニルビフェニル−2−カルボン酸エチ
ルエステル、5−ピロリジニル−4’−メチルビフェニ
ル−2−カルボン酸エチルエステル、5−ピロリジニル
−4’−クロロビフェニル−2−カルボン酸エチルエス
テル、5−ピロリジニル−2’−メチルビフェニル−2
−カルボン酸エチルエステル、5−ピロリジニル−4’
−メトキシビフェニル−2−カルボン酸エチルエステ
ル、4−(5−ピロリジニル−2−エトキシカルボニル
フェニル)ピリジン、およびこれらの塩酸塩、硫酸塩、
酢酸塩などが挙げられる。一般式(3)で示されるオキ
シム誘導体、一般式(7A)および/または(7B)で
示されるエナミンおよび/またはイミン誘導体はエント
ゲーゲン体とツザーメン体の2種の異性体が存在する
が、本発明はこれらの異性体およびこれらの異性体の任
意の比率の混合物も包含する。製造過程において通常は
両異性体が生成するが、これらはカラムクロマトグラフ
ィー等の通常の方法により分離できる。
Preferred compounds of the general formulas (1) to (8) include the following. Preferred compounds of the general formula (1) include 2-phenyl-4-oxocyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester and 2- (4-
Nitrophenyl) -4-oxocyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester, 2- (4-chlorophenyl) -4-oxocyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester, 2- (4-methoxyphenyl) -4 -Oxocyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester, 2- (4-tolyl) -4-oxocyclohex-2
-Enecarboxylic acid ethyl ester, 2- (2-tolyl)
4-oxocyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester, 2- (4-pyridyl) -4-oxocyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester, and the like. Preferred compounds of the general formula (2) include hydroxylamine and its hydrochloride, sulfate, nitrate, phosphate, O-methylhydroxylamine and its hydrochloride,
O-benzylhydroxylamine and its hydrochloride; hydroxylamine-O-sulfonic acid;
Preferred compounds of the general formula (3) include 4-hydroxyimino-2-phenyl-cyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester and 4-hydroxyimino-2- (4
-Tolyl) cyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester, 4-hydroxyimino-2- (2-tolyl) cyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester, 4-
Ethyl hydroxyimino-2- (4-methoxyphenyl) cyclohex-2-enecarboxylate, ethyl 4-hydroxyimino-2- (4-chlorophenyl) cyclohex-2-enecarboxylate, 4-hydroxyimino-2- (4-pyridyl) cyclohex-2-
Encarboxylic acid ethyl ester and their hydrochlorides,
Sulfate, acetate and the like can be mentioned. Preferred compounds of the general formula (4) include 5-aminobiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-amino-4′-methylbiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-amino-
4'-chlorobiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-amino-2'-methylbiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-amino-4'-methoxybiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 4- ( 5-amino-2-ethoxycarbonylphenyl) pyridine and their hydrochlorides, sulfates, acetates and the like.
Preferred compounds of the general formula (5) include ethyl 5-acetylaminobiphenyl-2-carboxylate,
Acetylamino-4'-methylbiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-acetylamino-4'-chlorobiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-acetylamino-2'-methylbiphenyl-2-carboxylic acid ethyl Ester, 5-acetylamino-4′-methoxybiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 4-
(5-acetylamino-2-ethoxycarbonylphenyl) pyridine and their hydrochlorides, sulfates, acetates and the like. Preferred compounds of the general formula (6) include methylamine, dimethylamine, ethylamine, diethylamine, benzylamine, tert-butylamine, methylbenzylamine, pyrrolidine, piperidine, morpholine and their hydrochlorides, sulfates, acetates and the like. Can be Preferred compounds of the general formula (7A) include 4-
Dimethylamino-2-phenyl-1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-dimethylamino-2- (4-tolyl) -1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-dimethylamino-2-
(2-tolyl) -1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-dimethylamino-2- (4-chlorophenyl) -1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-dimethylamino-2- (4 -Methoxyphenyl) -1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-dimethylamino-2- (4-
Pyridyl) -1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-pyrrolidinyl-2-phenyl-1,
3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4
-Pyrrolidinyl-2- (4-tolyl) -1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-pyrrolidinyl-2- (2-tolyl) -1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-pyrrolidinyl-2 −
(4-chlorophenyl) -1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-pyrrolidinyl-2-
(4-methoxyphenyl) -1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-pyrrolidinyl-2-
(4-pyridyl) -1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-piperidino-2-phenyl-
1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-piperidino-2- (4-tolyl) -1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-piperidino-2- (2-tolyl) -1,3- Cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-piperidino-2-
(4-chlorophenyl) -1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-piperidino-2- (4
-Methoxyphenyl) -1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester, 4-piperidino-2- (4-
Pyridyl) -1,3-cyclohexadienecarboxylic acid ethyl ester. Preferred compounds of the general formula (7B) include 4-methylimino-2-phenylcyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester,
Methylimino-2- (4-tolyl) cyclohex-2-
Encarboxylic acid ethyl ester, 4-methylimino-2
-(2-tolyl) cyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester, 4-methylimino-2- (4-methoxyphenyl) cyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester, 4-methylimino-2- (4-chlorophenyl) cyclohexyl Ethyl-2-enecarboxylate, 4-methylimino-2- (4-pyridyl) cyclohex-2-enecarboxylate, and hydrochlorides, sulfates and acetates thereof. Preferred compounds of the general formula (8) include ethyl 5-methylaminobiphenyl-2-carboxylate, ethyl 5-methylamino-4′-methylbiphenyl-2-carboxylate and 5-methylamino-4′-chloro Biphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-methylamino-
2'-methylbiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-methylamino-4'-methoxybiphenyl-2
-Carboxylic acid ethyl ester, 4- (5-methylamino-2-ethoxycarbonylphenyl) pyridine, 5-dimethylaminobiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-dimethylamino-4'-methylbiphenyl-2
-Carboxylic acid ethyl ester, 5-dimethylamino-
4'-chlorobiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-dimethylamino-2'-methylbiphenyl-2
-Carboxylic acid ethyl ester, 5-dimethylamino-
4'-methoxybiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 4- (5-dimethylamino-2-ethoxycarbonylphenyl) pyridine, 5-benzylaminobiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-benzylamino-4'- Methyl biphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-benzylamino-4'-chlorobiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-benzylamino-2'-methylbiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-benzylamino -4'-methoxybiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 4- (5-benzylamino-2-ethoxycarbonylphenyl) pyridine,
5-piperidinobiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-piperidino-4'-methylbiphenyl-2-
Carboxylic acid ethyl ester, 5-piperidino-4'-chlorobiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-
Piperidino-2'-methylbiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 5-piperidino-4'-methoxybiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 4- (5-piperidino-2-ethoxycarbonylphenyl) pyridine, 5-pyrrolid Ethyl dinylbiphenyl-2-carboxylate, ethyl 5-pyrrolidinyl-4'-methylbiphenyl-2-carboxylate, ethyl 5-pyrrolidinyl-4'-chlorobiphenyl-2-carboxylate, 5-pyrrolidinyl-2 '-Methylbiphenyl-2
-Carboxylic acid ethyl ester, 5-pyrrolidinyl-4 '
-Methoxybiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester, 4- (5-pyrrolidinyl-2-ethoxycarbonylphenyl) pyridine, and their hydrochlorides, sulfates,
Acetate and the like. The oxime derivative represented by the general formula (3) and the enamine and / or imine derivative represented by the general formulas (7A) and / or (7B) have two types of isomers, an entgegen form and a tuzamen form. Also encompasses these isomers and mixtures of these isomers in any ratio. Usually, both isomers are produced during the production process, and these can be separated by ordinary methods such as column chromatography.

【0015】本発明において、一般式(1)乃至
(6)、(7A)、(7B)または(8)で示される化
合物には、例えば、塩化水素、臭化水素のようなハロゲ
ン化水素;硫酸、硝酸、リン酸のようなその他の無機
酸;メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸のよう
な有機スルホン酸類;又はトリフルオロ酢酸、シュウ酸
のようなその他の有機酸類を用いて、塩とすることがで
きるものがあるが、これらも本発明に包含されるもので
ある。これらは、塩のまま、または酸を中和して、中間
体として供することができる。本発明において、一般式
(1)乃至(6)、(7A)、(7B)または(8)で
示される化合物には、例えば、ナトリウム塩、カリウム
塩のようなアルカリ金属塩;マグネシウム塩、カルシウ
ム塩のようなアルカリ土類金属塩;銅塩、鉄塩のような
遷移金属塩;ピリジン塩、アミン塩のような有機塩基塩
などのように塩基類と塩を形成するものがある。これら
も本発明の包含されるものであり、これらは、塩のま
ま、または塩基を中和して、中間体として供することが
できる。本発明において、一般式(1)乃至(6)、
(7A)、(7B)または(8)で示される化合物に
は、光学異性体、幾何異性体及び互変異性体が存在する
場合があり、その場合には、本発明は、一種の異性体及
び数種の異性体の任意の割合の混合物をも包含する。ま
た、一般式(1)乃至(6)、(7A)、(7B)また
は(8)で示される化合物の水和物も包含されるもので
ある。
In the present invention, compounds represented by the general formulas (1) to (6), (7A), (7B) or (8) include, for example, hydrogen halides such as hydrogen chloride and hydrogen bromide; Other inorganic acids such as sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid; organic sulfonic acids such as methanesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid; or salts with other organic acids such as trifluoroacetic acid and oxalic acid. Some of these can be performed, and these are also included in the present invention. These can be used as an intermediate as a salt or after neutralizing an acid. In the present invention, compounds represented by the general formulas (1) to (6), (7A), (7B) or (8) include, for example, alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt; magnesium salt and calcium Salts that form salts with bases such as alkaline earth metal salts such as salts; transition metal salts such as copper salts and iron salts; and organic base salts such as pyridine salts and amine salts. These are also included in the present invention, and they can be used as intermediates as salts or after neutralizing a base. In the present invention, the general formulas (1) to (6),
The compound represented by (7A), (7B) or (8) may have optical isomers, geometric isomers and tautomers, and in this case, the present invention relates to a kind of isomer And mixtures of any of the several isomers in any proportion. Further, hydrates of the compounds represented by the general formulas (1) to (6), (7A), (7B) or (8) are also included.

【0016】[0016]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

【0017】反応工程は次に示すとおりである。The reaction steps are as follows.

【化51】 (式中X、Y、R1、R2、R3、R7、R8、R10、R11およびR12
は上記で定義したものと同じものを示す。)
Embedded image (Where X, Y, R 1 , R 2 , R 3 , R 7 , R 8 , R 10 , R 11 and R 12
Indicates the same as defined above. )

【0018】本合成法の出発物質となる一般式(1)General formula (1) which is a starting material of the present synthesis method

【化52】 (式中X、Y、R1、R2およびR3は前記で定義したものと同
じものを示す。)で示される化合物は従来公知の方法に
より合成することができるが、次のようにして合成する
こともできる。
Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined above). The compound represented by the formula It can also be synthesized.

【化53】 (式中X、Y、Z、R1、R2およびR3は上記で定義したもの
と同じものを示す。)この合成法の出発物質となる一般
式(A)
Embedded image (Wherein X, Y, Z, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined above.) The general formula (A) as a starting material of this synthesis method

【化54】 (式中XおよびYは上記で定義されたものと同じものを示
す。)で示されるケトン誘導体はJ. Am. Chem. Soc., 7
2, 1352 (1950)などの方法を応用して合成することがで
き、一般式(B)
Embedded image (Wherein X and Y are the same as defined above) are represented by J. Am. Chem. Soc., 7
2, 1352 (1950), etc., and can be synthesized by the general formula (B)

【化55】 で示される化合物は、Synth.Commun., 17, 809 (198
7)、Synth.Commun., 21, 271 (1991)およびTetrahedron
Letters, 24, 3477 (1983)などの方法を応用して合成
することができ、一般式(C)
Embedded image Is a compound represented by Synth.Commun., 17, 809 (198
7), Synth.Commun., 21, 271 (1991) and Tetrahedron.
Letters, 24, 3477 (1983), etc., can be used for synthesis, and the general formula (C)

【化56】 で示される化合物はChemistry Letters, 1663 (1993)お
よびOrg. Syntheses Coll. Vol. 3, 305 (1955)などの
方法を応用して合成することができる。
Embedded image Can be synthesized by applying methods such as Chemistry Letters, 1663 (1993) and Org. Syntheses Coll. Vol. 3, 305 (1955).

【0019】合成ルート1 第1工程:一般式(1)で示される化合物から一般式
(3)で示される化合物の製造 一般式(3)
Synthesis route 1 First step: Production of compound represented by general formula (3) from compound represented by general formula (1) General formula (3)

【化57】 (式中X、Y、R1、R2、R3およびR7は上記で定義したもの
と同じものを示す。)で示される化合物は一般式(1)
Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as those defined above).

【化58】 (式中X、Y、R1、R2およびR3は上記で定義したものと同
じものを示す。)で示される化合物を溶媒中酸または塩
基の存在または非存在下一般式(2) R7ONH2 (2) (式中R7は上記で定義したものと同じものを示す。)で
示されるヒドロキシアミン誘導体と縮合させることによ
り製造することができる。上記反応に用いる溶媒として
は例えばメタノール、エタノールなどの脂肪族低級アル
コール、トルエンなどの芳香族炭化水素、ヘキサンなど
の脂肪族炭化水素、テトラヒドロフランなどのエーテル
系炭化水素、酢酸エチルエステルなどの脂肪族エステ
ル、アセトニトリルなどの脂肪族ニトリル、水及びそれ
らの混合物が挙げられる。好ましくは、脂肪族低級アル
コール、エーテル系炭化水素、酢酸などの有機酸、水及
びそれらの混合物が挙げられる。また本反応は無溶媒で
行うこともできる。反応温度は通常−20℃から溶媒還
流温度であり、好ましくは0℃から溶媒還流温度であ
る。塩基としてはKOHやNaOHなどのアルカリ金属水酸化
物、K2CO3やNa2CO3などのアルカリ金属炭酸塩、MeONaや
EtONaやt-BuOKなどの脂肪族低級アルコールのアルカリ
金属塩、NaHなどのアルカリ金属水素化物、ピリジンや
トリエチルアミンなどの有機塩基、酢酸ナトリウムなど
の有機酸のアルカリ金属塩などが挙げられる。好ましく
はアルカリ金属水酸化物、アルカリ金属炭酸塩、脂肪族
低級アルコールのアルカリ金属塩、有機塩基、有機酸の
アルカリ金属塩である。また、その使用量は通常0.1
から10当量であり、好ましくは0.5から5当量であ
る。その精製法としては再結晶、蒸留およびシリカゲル
等を用いたクロマトグラフィーなどの通常用いられる方
法により精製することができる。
Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined above) in a solvent in the presence or absence of an acid or a base in the general formula (2) R 7 ONH 2 (2) (wherein R 7 is the same as defined above) and can be produced by condensation with a hydroxyamine derivative represented by the formula: Examples of the solvent used in the above reaction include aliphatic lower alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as toluene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, ether hydrocarbons such as tetrahydrofuran, and aliphatic esters such as ethyl acetate. , Acetonitrile, etc., aliphatic nitriles, water and mixtures thereof. Preferably, aliphatic lower alcohols, ether-based hydrocarbons, organic acids such as acetic acid, water, and mixtures thereof are used. This reaction can also be performed without a solvent. The reaction temperature is usually from −20 ° C. to the solvent reflux temperature, preferably from 0 ° C. to the solvent reflux temperature. Examples of the base include alkali metal hydroxides such as KOH and NaOH, alkali metal carbonates such as K 2 CO 3 and Na 2 CO 3 , MeONa and the like.
Examples include alkali metal salts of aliphatic lower alcohols such as EtONa and t-BuOK, alkali metal hydrides such as NaH, organic bases such as pyridine and triethylamine, and alkali metal salts of organic acids such as sodium acetate. Preferred are alkali metal hydroxides, alkali metal carbonates, alkali metal salts of aliphatic lower alcohols, organic bases and alkali metal salts of organic acids. Also, its usage is usually 0.1
To 10 equivalents, preferably 0.5 to 5 equivalents. The purification can be carried out by a commonly used method such as recrystallization, distillation and chromatography using silica gel.

【0020】第2工程:一般式(3)で示される化合物
から一般式(4)で示される化合物の製造 一般式(4)
Second step: Preparation of the compound represented by the general formula (4) from the compound represented by the general formula (3):

【化59】 (式中X、Y、R1、R2およびR3は上記で定義したものと同
じものを示す。)で表されるアニリン誘導体は一般式
(3)
Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined above). The aniline derivative represented by general formula (3)

【化60】 (式中X、Y、R1、R2、R3およびR7は上記で定義したもの
と同じものを示す。)で示される化合物を溶媒中金属触
媒の存在下脱離反応を行うことにより製造することがで
きる。上記反応に用いる溶媒としては、例えばメタノー
ル、エタノールなどの脂肪族アルコール、トルエンやク
メンなどの芳香族炭化水素、ジエチレングリコールジメ
チルエーテルやトリエチレングリコールジメチルエーテ
ルなどのエーテル系炭化水素、ジクロロメタン、1,2-ジ
クロロエタンなどの有機塩素系炭化水素、n-ヘキサンな
どの脂肪族炭化水素、酢酸などの有機酸、アセトニトリ
ル、水及びそれらの混合物が挙げられる。好ましくは、
脂肪族アルコール、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、
エーテル系炭化水素、有機酸、水及びそれらの混合物が
挙げられる。また本反応は無溶媒で行うこともできる。
反応温度は通常室温から300℃であり、好ましくは5
0℃から250℃である。金属触媒としては白金、パラ
ジウムおよびロジウムなどの白金族元素の単体またはそ
れらの塩酸等の塩などが挙げられる。白金族元素の単体
またはそれらと塩酸等との塩は活性炭、グラファイト、
シリカ、アルミナ、シリカ-アルミナ、ゼオライト、チ
タニア、マグネシア、ジルコニア、けいそう土、硫酸バ
リウム等の適当な担体に坦持された形態であってもよ
い。その使用量は通常0.001から20当量であり、
好ましくは0.05から10当量である。白金カーボ
ン、パラジウムカーボン、ロジウムカーボンなどが挙げ
られ、好ましくはパラジウムカーボンである。その使用
量は通常0.05から20当量であり、好ましくは0.1
から10当量である。その精製法としては再結晶、蒸留
およびシリカゲル等を用いたクロマトグラフィーなどの
通常用いられる方法により精製することができる。
Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as defined above) by subjecting the compound represented by the formula (1) to elimination reaction in the presence of a metal catalyst in a solvent. Can be manufactured. As the solvent used in the above reaction, for example, aliphatic alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as toluene and cumene, ether hydrocarbons such as diethylene glycol dimethyl ether and triethylene glycol dimethyl ether, dichloromethane, 1,2-dichloroethane and the like Organic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, organic acids such as acetic acid, acetonitrile, water, and mixtures thereof. Preferably,
Aliphatic alcohols, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons,
Examples include ether hydrocarbons, organic acids, water, and mixtures thereof. This reaction can also be performed without a solvent.
The reaction temperature is usually from room temperature to 300 ° C, preferably 5 ° C.
0 ° C to 250 ° C. Examples of the metal catalyst include a simple substance of a platinum group element such as platinum, palladium, and rhodium or a salt thereof such as hydrochloric acid. Platinum group elements alone or their salts with hydrochloric acid, etc. are activated carbon, graphite,
It may be in a form supported on a suitable carrier such as silica, alumina, silica-alumina, zeolite, titania, magnesia, zirconia, diatomaceous earth, and barium sulfate. The amount used is usually 0.001 to 20 equivalents,
Preferably it is 0.05 to 10 equivalents. Platinum carbon, palladium carbon, rhodium carbon and the like can be mentioned, and preferred is palladium carbon. The use amount is usually 0.05 to 20 equivalents, preferably 0.1.
To 10 equivalents. The purification can be carried out by a commonly used method such as recrystallization, distillation and chromatography using silica gel.

【0021】合成ルート2 第1工程は合成ルート1と同様にして行うことができ
る。 第2工程:一般式(3)で示される化合物から一般式
(5)で示される化合物への変換 一般式(5)
Synthesis Route 2 The first step can be performed in the same manner as Synthesis Route 1. Second step: Conversion of the compound represented by the general formula (3) to the compound represented by the general formula (5) General formula (5)

【化61】 (式中X、Y、R1、R2、R3およびR8は上記で定義したもの
と同じものを示す。)で表されるアニリン誘導体は一般
式(3)
Embedded image Wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 8 are the same as defined above. The aniline derivative represented by the general formula (3)

【化62】 (式中X、Y、R1、R2、R3およびR7は上記で定義したもの
と同じものを示す。)で示される化合物またはその塩に
塩基の存在下、ハロゲン化アシル、酸無水物およびアル
キルクロロフォルメートを反応させて、脱離反応を行う
ことにより製造することができる。上記反応に用いる溶
媒としては例えばトルエンなどの芳香族炭化水素、ヘキ
サンなどの脂肪族炭化水素、ジクロロメタンなどのハロ
ゲン系炭化水素、テトラヒドロフランなどのエーテル系
炭化水素、酢酸エチルエステルなどの脂肪族エステル、
アセトニトリルなどの脂肪族ニトリル及びそれらの混合
物が挙げられる。好ましくは、芳香族炭化水素、脂肪族
炭化水素、ハロゲン系炭化水素、エーテル系炭化水素及
びそれらの混合物が挙げられる。また本反応は無溶媒で
行うこともできる。反応温度は通常−20℃から溶媒還
流温度であり、好ましくは0℃から溶媒還流温度であ
る。塩基としてはピリジンやトリエチルアミンなどの有
機塩基が挙げられ、同時に溶媒として用いることもでき
る。また、その使用量は通常0.5から大過剰量であ
り、好ましくは0.8から20当量である。ハロゲン化
アシルとしては例えば塩化アセチルおよび塩化プロピオ
ニルなど、酸無水物としては無水酢酸など、アルキルク
ロロフォルメートとしてはクロル炭酸メチル、クロル炭
酸エチル、クロル炭酸ベンジルおよびクロル炭酸ter
t−ブチルなどが挙げられ、またそれらを組み合わせて
使用することもできる。好ましくは塩化アセチル、無水
酢酸およびこれらの併用である。またその使用量として
は通常0.8から10当量であり、好ましくは1から3
当量である。その精製法としては再結晶、蒸留およびシ
リカゲル等を用いたクロマトグラフィーなどの通常用い
られる方法により精製することができる。
Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as defined above) or a salt thereof in the presence of a base in the presence of an acyl halide, an acid anhydride. The compound can be produced by reacting a product with an alkyl chloroformate and performing an elimination reaction. Examples of the solvent used in the above reaction include aromatic hydrocarbons such as toluene, aliphatic hydrocarbons such as hexane, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, ether hydrocarbons such as tetrahydrofuran, aliphatic esters such as ethyl acetate,
Examples include aliphatic nitriles such as acetonitrile and mixtures thereof. Preferably, aromatic hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, halogen-based hydrocarbons, ether-based hydrocarbons and mixtures thereof are used. This reaction can also be performed without a solvent. The reaction temperature is usually from −20 ° C. to the solvent reflux temperature, preferably from 0 ° C. to the solvent reflux temperature. Examples of the base include organic bases such as pyridine and triethylamine, and can also be used as a solvent at the same time. The amount used is usually 0.5 to a large excess, preferably 0.8 to 20 equivalents. Examples of the acyl halide include, for example, acetyl chloride and propionyl chloride; examples of the acid anhydride include acetic anhydride; examples of the alkyl chloroformate include methyl chlorocarbonate, ethyl chlorocarbonate, benzyl chlorocarbonate, and tert-chlorocarbonate.
t-butyl and the like, and they can be used in combination. Preferred are acetyl chloride, acetic anhydride and a combination thereof. Further, the amount of use is usually 0.8 to 10 equivalents, preferably 1 to 3 equivalents.
Is equivalent. The purification can be carried out by a commonly used method such as recrystallization, distillation and chromatography using silica gel.

【0022】第3工程:一般式(5)で示される化合物
から一般式(4)で示される化合物への変換 一般式(4)
Third step: Conversion of the compound represented by the general formula (5) to the compound represented by the general formula (4)

【化63】 (式中X、Y、R1、R2およびR3は上記で定義したものと同
じものを示す。)で表されるアニリン誘導体は一般式
(5)
Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined above). The aniline derivative represented by the general formula (5)

【化64】 (式中X、Y、R1、R2、R3およびR8は上記で定義したもの
と同じものを示す。)で表されるアニリン誘導体から酸
または塩基の存在下加水分解にて、または接触還元にて
R8の除去を行うことにより製造することができる。上記
反応に用いる溶媒としては例えばメタノール、エタノー
ルなどの脂肪族低級アルコール、テトラヒドロフランな
どのエーテル系炭化水素、酢酸エチルエステルなどの脂
肪族エステル、アセトニトリルなどの脂肪族ニトリル、
水及びそれらの混合物が挙げられる。好ましくは、脂肪
族低級アルコール、エーテル系炭化水素、水及びそれら
の混合物が挙げられる。反応温度は通常−20℃から溶
媒還流温度であり、好ましくは0℃から溶媒還流温度で
ある。塩基としてはKOHやNaOHなどのアルカリ金属水酸
化物、K2CO3やNa2CO3などのアルカリ金属炭酸塩、MeONa
やEtONaやt-BuOKなどの脂肪族低級アルコールのアルカ
リ金属塩などが挙げられる。好ましくはアルカリ金属水
酸化物、アルカリ金属炭酸塩である。また、その使用量
は通常0.1から10当量であり、好ましくは0.5から
5当量である。酸としては例えば塩酸、硫酸などの無機
塩が挙げられる。また、その使用量は通常0.1から1
0当量であり、好ましくは0.5から10当量である。
接触還元の場合に用いる触媒としては例えば白金、パラ
ジウムおよびロジウムなどの白金族元素の単体またはそ
の塩などが挙げられる。白金族元素の塩としては塩酸塩
等の鉱酸塩が挙げられる。白金族元素の単体またはそれ
らの塩は活性炭、グラファイト、シリカ、アルミナ、シ
リカ-アルミナ、ゼオライト、チタニア、マグネシア、
ジルコニア、けいそう土、硫酸バリウム等の適当な担体
に坦持された形態であってもよい。その使用量は通常
0.001から20当量であり、好ましくは0.05から
10当量である。その精製法としては再結晶、蒸留およ
びシリカゲル等を用いたクロマトグラフィーなどの通常
用いられる方法により精製することができる。
Embedded image Wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 8 are the same as defined above, by hydrolysis in the presence of an acid or a base, or By catalytic reduction
It can be prepared by removing a R 8. Examples of the solvent used in the above reaction include aliphatic lower alcohols such as methanol and ethanol, ether hydrocarbons such as tetrahydrofuran, aliphatic esters such as ethyl acetate, aliphatic nitriles such as acetonitrile,
Water and mixtures thereof. Preferably, aliphatic lower alcohols, ether hydrocarbons, water, and mixtures thereof are used. The reaction temperature is usually from −20 ° C. to the solvent reflux temperature, preferably from 0 ° C. to the solvent reflux temperature. Bases include alkali metal hydroxides such as KOH and NaOH, alkali metal carbonates such as K 2 CO 3 and Na 2 CO 3 , MeONa
And alkali metal salts of aliphatic lower alcohols such as EtONa and t-BuOK. Preferred are alkali metal hydroxides and alkali metal carbonates. The amount used is usually 0.1 to 10 equivalents, preferably 0.5 to 5 equivalents. Examples of the acid include inorganic salts such as hydrochloric acid and sulfuric acid. The amount used is usually 0.1 to 1
It is 0 equivalent, preferably 0.5 to 10 equivalents.
Examples of the catalyst used in the case of catalytic reduction include a simple substance of a platinum group element such as platinum, palladium and rhodium or a salt thereof. Examples of the salts of platinum group elements include mineral salts such as hydrochlorides. Platinum group elements or their salts are activated carbon, graphite, silica, alumina, silica-alumina, zeolite, titania, magnesia,
It may be in a form supported on a suitable carrier such as zirconia, diatomaceous earth, or barium sulfate. The amount of use is usually 0.001 to 20 equivalents, preferably 0.05 to 10 equivalents. The purification can be carried out by a commonly used method such as recrystallization, distillation and chromatography using silica gel.

【0023】合成ルート3 第1工程:一般式(1)で示される化合物から一般式
(7A)および/または(7B)で示される化合物の製
造 一般式(7A)および/または(7B)
Synthesis Route 3 First step: Preparation of compound represented by general formula (7A) and / or (7B) from compound represented by general formula (1) General formula (7A) and / or (7B)

【化65】 (式中X、Y、R1、R2、R3、R10およびR11は上記を示し、
R12はR10またはR11を示す。)で示される化合物は一般
式(1)
Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 , R 10 and R 11 represent the above,
R 12 represents R 10 or R 11 . The compound represented by the general formula (1)

【化66】 (式中X、Y、R1、R2およびR3は上記で定義したものと同
じものを示す。)で示される化合物を溶媒中酸または塩
基の存在または非存在下一般式(6) R10R11NH (6) (式中R10およびR11は上記で定義したものと同じものを
示す。)で示されるアミン誘導体またはその塩と縮合さ
せることにより製造することができる。上記反応に用い
る溶媒としては例えばトルエンなどの芳香族炭化水素、
ヘキサンなどの脂肪族炭化水素、テトラヒドロフランな
どのエーテル系炭化水素及びそれらの混合物が挙げられ
る。好ましくは芳香族低級アルコールが挙げられる。反
応温度は通常0℃から溶媒還流温度であり、好ましくは
室温から溶媒還流温度である。塩基としてはKOHやNaOH
などのアルカリ金属水酸化物、K2CO3やNa2CO3などのア
ルカリ金属炭酸塩、MeONaやEtONaやt-BuOKなどの脂肪族
低級アルコールのアルカリ金属塩、ピリジンやトリエチ
ルアミンなどの有機塩基、酢酸ナトリウムなどの有機酸
のアルカリ金属塩などが挙げられる。好ましくはアルカ
リ金属炭酸塩、有機塩基、有機酸のアルカリ金属塩であ
る。酸としては酢酸,p−トルエンスルホン酸などの有
機酸などが挙げられる。また、その使用量は通常0.1
から10当量であり、好ましくは0.5から5当量であ
る。また脱水剤として分子ふるいや四塩化チタンなどを
使用することもできる。その精製法としては再結晶、蒸
留およびシリカゲル等を用いたクロマトグラフィーなど
の通常用いられる方法により精製することができる。
Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined above) in a solvent in the presence or absence of an acid or a base in a solvent represented by the general formula (6): 10 R 11 NH (6) (wherein R 10 and R 11 are the same as defined above) or by condensation with an amine derivative or a salt thereof. As the solvent used in the above reaction, for example, an aromatic hydrocarbon such as toluene,
Examples include aliphatic hydrocarbons such as hexane, ether hydrocarbons such as tetrahydrofuran, and mixtures thereof. Preferably, an aromatic lower alcohol is used. The reaction temperature is usually from 0 ° C. to the solvent reflux temperature, preferably from room temperature to the solvent reflux temperature. KOH or NaOH as base
Alkali metal hydroxides such as, an alkali metal carbonate such as K 2 CO 3 or Na 2 CO 3, MeONa and EtONa and t-BuOK alkali metal salt of an aliphatic lower alcohol, such as, an organic base such as pyridine or triethylamine, Examples thereof include alkali metal salts of organic acids such as sodium acetate. Preferred are alkali metal carbonates, organic bases and alkali metal salts of organic acids. Examples of the acid include organic acids such as acetic acid and p-toluenesulfonic acid. Also, its usage is usually 0.1
To 10 equivalents, preferably 0.5 to 5 equivalents. Further, a molecular sieve, titanium tetrachloride or the like can be used as a dehydrating agent. The purification can be carried out by a commonly used method such as recrystallization, distillation and chromatography using silica gel.

【0024】第3工程:一般式(7A)および/または
(7B)で示される化合物から一般式(8)で示される
化合物の製造 一般式(8)
Third step: Preparation of the compound represented by the general formula (8) from the compound represented by the general formula (7A) and / or (7B)

【化67】 (式中X、Y、R1、R2、R3、R10またはR11は上記で定義し
たものと同じものを示す。)で表されるアニリン誘導体
またはその塩は一般式(7A)および/または(7B)
Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 , R 10 or R 11 are the same as defined above) or a salt thereof represented by the general formula (7A) / Or (7B)

【化68】 (式中X、Y、R1、R2、R3、R10、R11およびR12は上記で
定義したものと同じものを示す。)で示される化合物を
溶媒中にて脱水素反応を行うことにより製造することが
できる。上記反応に用いる溶媒としては、例えばメタノ
ールやエタノールなどの脂肪族アルコール、トルエンや
クメンなどの芳香族炭化水素、酢酸エチルエステルや安
息香酸メチルエステルなどの脂肪族および芳香族エステ
ル、テトラヒドロフランやジグライムなどのエーテル系
炭化水素、ジクロロメタンや1,2-ジクロロエタンなどの
有機塩素系炭化水素、n-ヘキサンなどの脂肪族炭化水
素、酢酸などの有機酸、アセトニトリルやフェニルニト
リルなどの脂肪族および芳香族ニトリル、及びそれらの
混合物が挙げられる。好ましくは、芳香族炭化水素、エ
ーテル系炭化水素、脂肪族炭化水素、有機塩素系炭化水
素、脂肪族および芳香族ニトリル、有機酸、及びそれら
の混合物が挙げられる。反応温度は通常室温から400
℃であり、好ましくは50℃から300℃である。また
本反応は無溶媒で行うこともできる。酸化剤としてはKM
nO4やMnO2、CrO2などの金属酸化物、白金、パラジウ
ム、オスミウム、イリジウム、ルテニウムおよびロジウ
ムなどの白金族元素の単体またはその塩、チオニルクロ
ライドや塩化スルフリルなどのハロゲン化剤、DDQなど
のキノン誘導体、硫黄、酸素などが挙げられる。白金族
元素の塩としては塩酸塩等の鉱酸塩が挙げられる。白金
族元素の担体単体またはそれらの塩酸等の塩は活性炭、
グラファイト、シリカ、アルミナ、シリカ-アルミナ、
ゼオライト、チタニア、マグネシア、ジルコニア、けい
そう土、硫酸バリウム等の適当な担体に坦持された形態
であってもよい。その使用量は通常0.001から20
当量であり、好ましくは0.05から10当量である。
またこれら酸化反応は酸素の共存下で行うこともでき
る。その精製法としては再結晶、蒸留およびシリカゲル
等を用いたクロマトグラフィーなどの通常用いられる方
法により精製することができる。
Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 , R 10 , R 11 and R 12 are the same as defined above). It can be manufactured by performing. Examples of the solvent used in the above reaction include aliphatic alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as toluene and cumene, aliphatic and aromatic esters such as ethyl acetate and methyl benzoate, tetrahydrofuran and diglyme. Ether hydrocarbons, organic chlorinated hydrocarbons such as dichloromethane and 1,2-dichloroethane, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, organic acids such as acetic acid, aliphatic and aromatic nitriles such as acetonitrile and phenylnitrile, and And mixtures thereof. Preferably, aromatic hydrocarbons, ether hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, organic chlorinated hydrocarbons, aliphatic and aromatic nitriles, organic acids, and mixtures thereof are used. The reaction temperature is usually from room temperature to 400
° C, preferably from 50 ° C to 300 ° C. This reaction can also be performed without a solvent. KM as oxidizer
nO 4 and MnO 2, metal oxides such as CrO 2, platinum, palladium, osmium, iridium, alone or a salt of a platinum group element such as ruthenium and rhodium, halogenating agents such as thionyl chloride or sulfuryl chloride, such as DDQ Quinone derivatives, sulfur, oxygen and the like. Examples of the salts of platinum group elements include mineral salts such as hydrochlorides. Platinum group element carriers or their salts such as hydrochloric acid are activated carbon,
Graphite, silica, alumina, silica-alumina,
It may be in a form supported on a suitable carrier such as zeolite, titania, magnesia, zirconia, diatomaceous earth, barium sulfate and the like. Its usage is usually 0.001 to 20
Equivalent, preferably 0.05 to 10 equivalents.
These oxidation reactions can also be performed in the presence of oxygen. The purification can be carried out by a commonly used method such as recrystallization, distillation and chromatography using silica gel.

【0025】[0025]

【実施例】以下に実施例を示し本発明をさらに具体的に
説明する。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.

【0026】実施例1 4−ヒドロキシイミノ−2−フ
ェニルシクロヘキシ−2−エンカルボン酸エチルエステ
ル(一般式(3)において、Xがフェニル基、Yがエトキ
シカルボニル基、R1、R2およびR3がH、R7がH、である化
合物) 特開平11−49722に記載の方法によって合成した
4−オキソ−2−フェニルシクロヘキシ−2−エンカル
ボン酸エチルエステル(1.0g、4.1mmol)を
エタノール(15ml)に溶解し、塩酸ヒドロキシルア
ミン(285mg、4.1mmol)と酢酸ナトリウム
(336mg、4.1mmol)を加え室温にて20時
間撹拌した。溶媒を留去した後残留物に飽和重曹水を加
え、酢酸エチルエステルにて抽出した。有機層を水およ
び飽和食塩水で洗浄後無水硫酸マグネシウムで乾燥し、
溶媒を留去して残留物を得た。残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル系)で精
製し、4−ヒドロキシイミノ−2−フェニルシクロヘキ
シ−2−エンカルボン酸エチルエステル(収量1.06
g、収率88.5%)をオキシムに由来する2種の異性
体混合物として得た。 H−NMR(ppm,300MHz,CDCl) 異性体1 δ7.70−8.30(1H,br) 7.28−7.47(5H,m) 6.65(1H,s) 4.09(2H,d,J=7.0Hz) 3.83(1H,t,J=4.5Hz) 2.96(1H,dt,J=4.6 and 17.6H
z) 2.46−2.58(1H,m) 2.27−2.37(1H,m) 2.03−2.13(1H,m) 1.13(3H,t,J=7.0Hz) 異性体2 δ7.60−8.00(1H,br) 7.27−7.55(6H,m) 4.05(2H,d,J=7.0Hz) 3.89(1H,t,J=4.8Hz) 2.10−2.70(4H,m) 1.08(3H,t,J=7.0Hz)
Example 1 Ethyl 4-hydroxyimino-2-phenylcyclohex-2-enecarboxylate (in the general formula (3), X is a phenyl group, Y is an ethoxycarbonyl group, R 1 , R 2 and R Compound wherein 3 is H and R 7 is H) 4-oxo-2-phenylcyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester synthesized by the method described in JP-A-11-49722 (1.0 g, 4.1 mmol) ) Was dissolved in ethanol (15 ml), hydroxylamine hydrochloride (285 mg, 4.1 mmol) and sodium acetate (336 mg, 4.1 mmol) were added, and the mixture was stirred at room temperature for 20 hours. After the solvent was distilled off, saturated aqueous sodium hydrogen carbonate was added to the residue, and the mixture was extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with water and saturated saline and then dried over anhydrous magnesium sulfate.
The solvent was distilled off to obtain a residue. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane-ethyl acetate system) to give 4-hydroxyimino-2-phenylcyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester (yield 1.06).
g, 88.5% yield) as a mixture of two isomers derived from the oxime. 1 H-NMR (ppm, 300 MHz, CDCl 3 ) Isomer 1 δ 7.70-8.30 (1H, br) 7.28-7.47 (5H, m) 6.65 (1H, s) 4.09 (2H, d, J = 7.0 Hz) 3.83 (1H, t, J = 4.5 Hz) 2.96 (1H, dt, J = 4.6 and 17.6H)
z) 2.46-2.58 (1H, m) 2.27-1.37 (1H, m) 2.03-2.13 (1H, m) 1.13 (3H, t, J = 7. 0 Hz) Isomer 2 δ 7.60-8.00 (1H, br) 7.27-7.55 (6H, m) 4.05 (2H, d, J = 7.0 Hz) 3.89 (1H, t) , J = 4.8 Hz) 2.10-2.70 (4H, m) 1.08 (3H, t, J = 7.0 Hz)

【0027】実施例2 5−アミノビフェニル−2−カ
ルボン酸エチルエステル(一般式(4)において、Xが
フェニル基、Yがエトキシカルボニル基、R1、R2およびR
3がH、である化合物) 4−ヒドロキシイミノ−2−フェニルシクロヘキシ−2
−エンカルボン酸エチルエステル(300mg、1,1
6mmol)を2−メトキシエチルエーテル(6ml)
に溶解し、5%Pd/C(150mg)を加えてアルゴ
ン気流下1時間加熱還流した。冷却後5%Pd/Cをろ
過により除去し、溶媒を留去した。残留物をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸エチル系)
で精製し、5−アミノビフェニル−2−カルボン酸エチ
ルエステル(収量230mg、収率82.1%)を淡黄
色結晶として得た。 H−NMR(ppm,300MHz,CDCl) δ7.80(1H,d,J=8.6Hz) 7.25−7.45(5H) 6.65(1H,dd,J=2.1 and 8.6H
z) 6.56(1H,d,J=2.1Hz) 4.03(2H,d,J=7.0Hz) 0.98(3H,t,J=7.0Hz)
Example 2 5-aminobiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester (in the general formula (4), X is a phenyl group, Y is an ethoxycarbonyl group, R 1 , R 2 and R
A compound wherein 3 is H) 4-hydroxyimino-2-phenylcyclohexyl-2
-Enecarboxylic acid ethyl ester (300 mg, 1,1
6 mmol) in 2-methoxyethyl ether (6 ml)
And 5% Pd / C (150 mg) was added, and the mixture was refluxed for 1 hour under an argon stream. After cooling, 5% Pd / C was removed by filtration, and the solvent was distilled off. Silica gel column chromatography of the residue (hexane-ethyl acetate system)
To give 5-aminobiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester (230 mg, 82.1% yield) as pale yellow crystals. 1 H-NMR (ppm, 300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.80 (1 H, d, J = 8.6 Hz) 7.25-7.45 (5H) 6.65 (1 H, dd, J = 2.1 and) 8.6H
z) 6.56 (1H, d, J = 2.1 Hz) 4.03 (2H, d, J = 7.0 Hz) 0.98 (3H, t, J = 7.0 Hz)

【0028】実施例3 5−アセチルアミノビフェニル
−2−カルボン酸エチルエステル(一般式(8)におい
て、Xがフェニル基、Yがエトキシカルボニル基、R1、R2
およびR3がH、R10がH、R11がアセチル基、である化合
物) 4−ヒドロキシイミノ−2−フェニルシクロヘキシ−2
−エンカルボン酸エチルエステル(500mg、1.9
3mmol)にピリジン(0.156ml、1.93m
mol)と無水酢酸0.384ml(150mg、3.
86mmol)を加えて80℃にて30分間撹拌した。
室温とした後塩化アセチル(0.275ml、3.86
mmol)を加え、90℃にて1時間撹拌した。反応終
了後反応溶液に水を加え、酢酸エチルにて抽出を行い、
有機層を5%HCl水、飽和NaHCO3水溶液、飽和
食塩水にて順次洗浄した。溶媒を留去後得られる残留物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢
酸エチル系)で精製し、5−アセチルアミノビフェニル
−2−カルボン酸エチルエステル(収量350mg、収
率64.1%)を淡黄色結晶として、5−ジアセチルア
ミノビフェニル−2−カルボン酸エチルエステル(収量
132mg、収率24.2%)を淡黄色油状物として得
た。 5−アセチルアミノビフェニル−2−カルボン酸エチル
エステル H−NMR(ppm,300MHz,CDCl) δ7.85(1H,d,J=8.3Hz) 7.63(1H,d,J=8.3Hz) 7.26−7.50(6H,m) 4.07(2H,d,J=7.0Hz) 2.19(3H,s) 0.98(3H,t,J=7.0Hz) 5−ジアセチルアミノビフェニル−2−カルボン酸エチ
ルエステル H−NMR(ppm,300MHz,CDCl) δ7.92(1H,d,J=8.0Hz) 7.30−7.41(5H,m) 7.17−7.24(2H,m) 4.11(2H,d,J=6.9Hz) 2.33(6H,s) 1. 00(3H,t,J=6.9Hz)
Example 3 Ethyl 5-acetylaminobiphenyl-2-carboxylate (in the general formula (8), X is a phenyl group, Y is an ethoxycarbonyl group, R 1 and R 2
And R 3 is H, R 10 is H and R 11 is an acetyl group.) 4-Hydroxyimino-2-phenylcyclohexyl-2
-Carboxylic acid ethyl ester (500 mg, 1.9
Pyridine (0.156 ml, 1.93 m)
mol) and 0.384 ml of acetic anhydride (150 mg, 3.
86 mmol) and stirred at 80 ° C. for 30 minutes.
After cooling to room temperature, acetyl chloride (0.275 ml, 3.86)
mmol) and stirred at 90 ° C. for 1 hour. After completion of the reaction, water was added to the reaction solution, and extracted with ethyl acetate.
The organic layer was washed successively with 5% aqueous HCl, saturated aqueous NaHCO3, and saturated saline. The residue obtained after distilling off the solvent was purified by silica gel column chromatography (hexane-ethyl acetate system), and ethyl 5-acetylaminobiphenyl-2-carboxylate (350 mg, 64.1% yield) was eluted. As yellow crystals, ethyl 5-diacetylaminobiphenyl-2-carboxylate (132 mg, 24.2% yield) was obtained as a pale yellow oil. 5-acetylaminobiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester 1 H-NMR (ppm, 300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.85 (1 H, d, J = 8.3 Hz) 7.63 (1 H, d, J = 8. 7.26-7.50 (6H, m) 4.07 (2H, d, J = 7.0 Hz) 2.19 (3H, s) 0.98 (3H, t, J = 7.0 Hz) 5-Diacetylaminobiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester 1 H-NMR (ppm, 300 MHz, CDCl 3 ) δ 7.92 (1H, d, J = 8.0 Hz) 7.30-7.41 (5H, m) 7.17-7.24 (2H, m) 4.11 (2H, d, J = 6.9 Hz) 2.33 (6H, s) 00 (3H, t, J = 6.9 Hz)

【0029】[0029]

【発明の効果】本発明によれば医農薬、液晶、耐熱性高
分子、及び液晶性高分子等の中間体として有用であるア
ニリン誘導体を選択的に製造できる。本合成法は安価な
原料を用い、特殊な設備や反応条件を必要としない選択
的なアニリン誘導体の工業的製造法を提供できる。
According to the present invention, it is possible to selectively produce an aniline derivative which is useful as an intermediate such as a medicinal and agricultural chemical, a liquid crystal, a heat-resistant polymer, and a liquid crystalline polymer. This synthesis method can provide a selective industrial production method of an aniline derivative using inexpensive raw materials and not requiring special equipment or reaction conditions.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07C 229/60 C07C 229/60 231/14 231/14 233/54 233/54 249/02 249/02 251/20 251/20 251/44 251/44 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI theme coat ゛ (Reference) C07C 229/60 C07C 229/60 231/14 231/14 233/54 233/54 249/02 249/02 251 / 20 251/20 251/44 251/44

Claims (26)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】一般式(1) 【化1】 [式中Xは、置換されていてもよいベンゼン環、置換さ
れていてもよいナフタレン環、N、O、Sのうち少なくと
も一つを有する5員環もしくは6員環の置換されていて
もよい複素環又は置換されていてもよいそれらとベンゼ
ンとの縮合体(ただし置換基は1〜3個で同一であって
も異なっていてもよく、H、OH、置換されていてもよいC
1〜C6のアルキル基、置換されていてもよいC2〜C6のア
ルケニル基、置換されていてもよいC2〜C6のアルキニル
基、置換されていてもよいC1〜C6のアルコキシ基、置換
されていてもよいアルキルチオ基、NR4R5、ハロゲン、N
O2、CN、COR6、CO2R6、CONR4R5、SO3R6、SO2NR4R5、SOR
6、SO2R6、OCOR6、OCO2R6、OCONR4R5、OSO2R6、置換さ
れていてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェ
ノキシ基、置換されていてもよいヘテロアリール基また
は置換されていてもよいヘテロアリールオキシ基を示
し、さらに隣り合う置換基によって4〜7員環を形成し
てもよい)を示し、YはCO2R6、CN、NO2、SO3R6、SO2NR4
R5、SOR6、SO2R6を示し、R1、R2およびR3はH、置換され
ていてもよいC1〜C6のアルキル基、置換されていてもよ
いC2〜C6のアルケニル基、置換されていてもよいC2〜C6
のアルキニル基、置換されていてもよいC1〜C6のアルコ
キシ基、置換されていてもよいアルキルチオ基、NR
4R5、ハロゲン、NO2、CN、COR6、CO2R6、CONR4R5、SO3R
6、SO2NR4R5、SOR6、SO2R6、OCOR6、OCO2R6、OCONR
4R5、OSO2R6、置換されていてもよいフェニル基、置換
されていてもよいフェノキシ基、置換されていてもよい
ヘテロアリール基または置換されていてもよいヘテロア
リールオキシ基を示し、R4、R5およびR6はH、置換され
ていてもよいアルキル基または置換されていてもよいフ
ェニル基を示し、R4およびR5で4〜7の環を形成しても
よい。]で示されるシクロヘキセノン誘導体を酸または
塩基の存在または非存在下一般式(2) R7ONH2 (2) [式中、R7はH、置換されていてもよいC1〜C6のアルキル
基、置換されていてもよいC2〜C6のアルケニル基、C1
C6のアシル基、C1〜C6のアルコキシカルボニル基、置換
されていてもよいフェニル基またはスルフォニル基を示
す]で示されるヒドロキシアミン誘導体と反応させるこ
とを特徴とする、一般式(3) 【化2】 [式中X、Y、R1、R2、R3およびR7は上記で定義したもの
と同じものを示す。]で示されるオキシム誘導体の製造
法。
1. A compound of the general formula (1) [Wherein X is an optionally substituted benzene ring, an optionally substituted naphthalene ring, a 5- or 6-membered ring having at least one of N, O, and S] Heterocycles or condensed products thereof which may be substituted with benzene (provided that the number of substituents may be the same or different from 1 to 3, and H, OH, optionally substituted C
1 -C 6 alkyl group, a substituted optionally optionally C 2 be -C 6 alkenyl group, optionally substituted C 2 -C 6 alkynyl group, optionally substituted C 1 -C 6 of Alkoxy group, optionally substituted alkylthio group, NR 4 R 5 , halogen, N
O 2 , CN, COR 6 , CO 2 R 6 , CONR 4 R 5 , SO 3 R 6 , SO 2 NR 4 R 5 , SOR
6, SO 2 R 6, OCOR 6, OCO 2 R 6, OCONR 4 R 5, OSO 2 R 6, optionally substituted phenyl, phenoxy groups that may be substituted, an optionally substituted heteroaryl Y represents CO 2 R 6 , CN, NO 2 , SO 2 , which represents an aryl group or an optionally substituted heteroaryloxy group, and may further form a 4- to 7-membered ring with adjacent substituents. 3 R 6 , SO 2 NR 4
R 5, SOR 6, shows the SO 2 R 6, R 1, R 2 and R 3 are H, optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, optionally substituted C 2 -C 6 An alkenyl group of optionally substituted C 2 -C 6
Alkynyl group, optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group, an optionally substituted alkylthio group, NR
4 R 5 , halogen, NO 2 , CN, COR 6 , CO 2 R 6 , CONR 4 R 5 , SO 3 R
6, SO 2 NR 4 R 5 , SOR 6, SO 2 R 6, OCOR 6, OCO 2 R 6, OCONR
4 R 5 , OSO 2 R 6 , optionally substituted phenyl group, optionally substituted phenoxy group, optionally substituted heteroaryl group or optionally substituted heteroaryloxy group, R 4 , R 5 and R 6 represent H, an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted phenyl group, and R 4 and R 5 may form a ring of 4 to 7; The cyclohexenone derivative represented by the general formula (2) R 7 ONH 2 (2) wherein R 7 is H, optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, optionally substituted C 2 -C 6 alkenyl group, C 1 ~
Acyl group C 6, an alkoxycarbonyl group having C 1 -C 6, which comprises reacting a hydroxylamine derivative represented by] shows a an optionally substituted phenyl group or sulfonyl group, the general formula (3) Embedded image Wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as defined above. A method for producing an oxime derivative represented by the formula:
【請求項2】一般式(3) 【化3】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は請求項1にて定義
したものと同じものを示す。]で示されるオキシム誘導
体の脱離反応を行うことを特徴とする一般式(4) 【化4】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義した
ものと同じものを示す。]で示されるアニリン誘導体の
製造法。
2. A compound of the general formula (3) [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as those defined in claim 1]. Wherein an elimination reaction of the oxime derivative represented by the general formula (4) is carried out. [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in claim 1]. A method for producing an aniline derivative represented by the formula:
【請求項3】請求項1の方法により一般式(3) 【化5】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は請求項1にて定義
したものと同じものを示す。]で示されるオキシム誘導
体を合成し、次いで請求項2の方法を行う、一般式
(4) 【化6】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義した
ものと同じものを示す。]で示されるアニリン誘導体の
製造法。
3. The method according to claim 1, wherein the compound has the general formula (3): [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as those defined in claim 1]. Wherein the oxime derivative represented by the general formula (4) is synthesized and then the method of claim 2 is carried out. [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in claim 1]. A method for producing an aniline derivative represented by the formula:
【請求項4】一般式(3) 【化7】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は請求項1にて定義
したものと同じものを示す。]で示されるオキシム誘導
体の脱離反応を行うことを特徴とする一般式(5) 【化8】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義した
ものと同じものを示し、R 8はCOR9またはCO2R9を示し、R
9はH、置換されていてもよいC1〜C6のアルキル基または
置換されていてもよいフェニル基を示す。]で示される
置換アニリン誘導体の製造法。
4. A compound of the general formula (3)[Where X, Y, R1, RTwo, RThreeAnd R7Is defined in claim 1
Shows the same thing as Oxime induction
General formula (5) characterized in that a body elimination reaction is carried out.[Where X, Y, R1, RTwoAnd RThreeIs defined in claim 1
Indicates the same thing as R 8Is COR9Or COTwoR9And R
9Is H, optionally substituted C1~ C6An alkyl group or
The phenyl group which may be substituted is shown. ]
A method for producing a substituted aniline derivative.
【請求項5】一般式(5) 【化9】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義した
ものと同じものを示し、R 8は請求項4にて定義したもの
と同じものを示す。]で示される置換アニリン誘導体のR
8を除去する行うことを特徴とする一般式(4) 【化10】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義した
ものと同じものを示す。]で示されるアニリン誘導体の
製造法。
5. A compound of the general formula (5)[Where X, Y, R1, RTwoAnd RThreeIs defined in claim 1
Indicates the same thing as R 8Is defined in claim 4.
Indicates the same as R of the substituted aniline derivative represented by
8General formula (4) characterized by removing[Where X, Y, R1, RTwoAnd RThreeIs defined in claim 1
Show the same thing as the one. ] Of the aniline derivative shown
Manufacturing method.
【請求項6】請求項1の方法により一般式(3) 【化11】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は請求項1にて定義
したものと同じものを示す。]で示されるオキシム誘導
体を合成し、次いで請求項4の方法を行う、一般式
(5) 【化12】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義した
ものと同じものを示し、R 8は請求項4にて定義したもの
と同じものを示す。]で示されるN置換アニリン誘導体
の製造法。
6. The method according to claim 1, wherein the compound has the general formula (3):[Where X, Y, R1, RTwo, RThreeAnd R7Is defined in claim 1
Shows the same thing as Oxime induction
A compound of the general formula
(5)[Where X, Y, R1, RTwoAnd RThreeIs defined in claim 1
Indicates the same thing as R 8Is defined in claim 4.
Indicates the same as N-substituted aniline derivatives represented by
Manufacturing method.
【請求項7】請求項1の方法により一般式(3) 【化13】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は請求項1にて定義
したものと同じものを示す。]で示されるオキシム誘導
体を合成し、次いで請求項4の方法により一般式(5) 【化14】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義した
ものと同じものを示し、R 8は請求項1にて定義したもの
と同じものを示す。]で示されるN置換アニリン誘導体
を合成し、さらに請求項5の方法を行う、一般式(4) 【化15】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義した
ものと同じものを示す。]で示されるアニリン誘導体の
製造法。
7. The method according to claim 1, wherein the compound has the general formula (3):[Where X, Y, R1, RTwo, RThreeAnd R7Is defined in claim 1
Shows the same thing as Oxime induction
A compound is synthesized, and then the compound of the general formula (5) is prepared by the method of claim 4.[Where X, Y, R1, RTwoAnd RThreeIs defined in claim 1
Indicates the same thing as R 8Is defined in claim 1
Indicates the same as N-substituted aniline derivatives represented by
Is synthesized, and the method according to claim 5 is further performed, wherein the compound represented by the general formula (4) is[Where X, Y, R1, RTwoAnd RThreeIs defined in claim 1
Show the same thing as the one. ] Of the aniline derivative shown
Manufacturing method.
【請求項8】一般式(1) 【化16】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義した
ものと同じものを示す。]で示されるシクロヘキセノン
誘導体を一般式(6) R10R11NH (6) [式中、R10およびR11はH、置換されていてもよいC1〜C6
アルキル基または置換されていてもよいフェニル基を示
し、R10およびR11で4〜7の環を形成してもよい。]で
示されるアミン誘導体と反応させることを特徴とする、
一般式(7A)および/または(7B) 【化17】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義した
ものと同じものを示し、R 10およびR11は上記で定義した
ものと同じものを示し、R12はR10またはR11を示す。]で
示されるエナミンおよび/またはイミン誘導体の製造
法。
8. A compound of the general formula (1)[Where X, Y, R1, RTwoAnd RThreeIs defined in claim 1
Show the same thing as the one. Cyclohexenone represented by
The derivative is represented by the general formula (6) RTenR11NH (6) [wherein, RTenAnd R11Is H, optionally substituted C1~ C6
Represents an alkyl group or a phenyl group which may be substituted
Then RTenAnd R11May form 4 to 7 rings. ]so
Characterized by reacting with the amine derivative shown,
Formula (7A) and / or (7B)[Where X, Y, R1, RTwoAnd RThreeIs defined in claim 1
Indicates the same thing as R TenAnd R11Is defined above
Indicates the same thing as R12Is RTenOr R11Is shown. ]so
Of the enamine and / or imine derivatives shown
Law.
【請求項9】一般式(7A)および/または(7B) 【化18】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義した
ものと同じものを示し、R 10、R11およびR12は請求項8
にて定義したものと同じものを示す。]で示されるエナ
ミンおよび/またはイミン誘導体の脱水素反応を行うこ
とを特徴とする一般式(8) 【化19】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義した
ものと同じものを示し、R 10およびR11は請求項8にて定
義したものと同じものを示す。]で示されるアニリン誘
導体の製造法。
9. A compound of the formula (7A) and / or (7B)[Where X, Y, R1, RTwoAnd RThreeIs defined in claim 1
Indicates the same thing as R Ten, R11And R12Is claim 8
Indicates the same as defined in Ena shown by]
Dehydrogenation of min and / or imine derivatives
General formula (8) characterized by the following:[Where X, Y, R1, RTwoAnd RThreeIs defined in claim 1
Indicates the same thing as R TenAnd R11Is defined in claim 8.
Indicates the same as the one defined. Aniline invitation
Manufacturing method of conductor.
【請求項10】請求項8の方法により一般式(7A)お
よび/または(7B) 【化20】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義した
ものと同じものを示し、R 10、R11およびR12は請求項8
にて定義したものと同じものを示す。]で示されるエナ
ミンおよび/またはイミン誘導体を合成し、次いで請求
項9の方法を行う、一般式(8) 【化21】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義した
ものと同じものを示し、R 10、R11およびR12は請求項8
にて定義したものと同じものを示す。]で示されるアニ
リン誘導体の製造法。
10. The method according to claim 8, wherein the compound represented by the general formula (7A)
And / or (7B)[Where X, Y, R1, RTwoAnd RThreeIs defined in claim 1
Indicates the same thing as R Ten, R11And R12Is claim 8
Indicates the same as defined in Ena shown by]
Synthesizing a min and / or imine derivative,
Performing the method of item 9, general formula (8)[Where X, Y, R1, RTwoAnd RThreeIs defined in claim 1
Indicates the same thing as R Ten, R11And R12Is claim 8
Indicates the same as defined in [Ani]
Method for producing phosphorus derivative.
【請求項11】Xが置換されていてもよいベンゼン環で
ある請求項1〜10のいずれか1項に記載の製造法。
11. The process according to claim 1, wherein X is an optionally substituted benzene ring.
【請求項12】XがN、O、Sのうち少なくとも一つを有す
る5員環もしくは6員環の置換されていてもよい複素環
又は置換されていてもよいそのベンゼン縮合体である請
求項1〜10のいずれか1項に記載の製造法。
(12) X is a 5- or 6-membered optionally substituted heterocyclic ring having at least one of N, O and S, or an optionally substituted benzene condensate thereof. 11. The production method according to any one of 1 to 10.
【請求項13】Xが置換されていてもよいベンゼン環で
あり、その置換基がH、置換されていてもよいC1〜C6
アルキル基、置換されていてもよいC1〜C6のアルコキシ
基、NR4R5、ハロゲン、NO2、YはCO2R6、CN、SO3R6また
はSO2NR4R5であり、R 4、R5およびR6はH、置換されてい
てもよいアルキル基または置換されていてもよいフェニ
ル基であり、R4およびR5で4〜7の環を形成してもよ
く、R1、R2およびR3はH、置換されていてもよいC1〜C6
のアルキル基である請求項1〜10のいずれか1項に記
載の製造法。
13. X is an optionally substituted benzene ring.
And the substituent is H, optionally substituted C1~ C6of
Alkyl group, optionally substituted C1~ C6The alkoxy of
Group, NRFourRFive, Halogen, NOTwo, Y is COTwoR6, CN, SOThreeR6Also
Is SOTwoNRFourRFiveAnd R Four, RFiveAnd R6Is H, substituted
Alkyl group or phenyl which may be substituted
RFourAnd RFiveMay form 4-7 rings
, R1, RTwoAnd RThreeIs H, optionally substituted C1~ C6
The alkyl group according to any one of claims 1 to 10,
Manufacturing method.
【請求項14】Xが置換されていてもよいピロール、置
換されていてもよいフラン、置換されていてもよいチオ
フェン、置換されていてもよいピリジンまたは置換され
ていてもよいインドールであり、その置換基がH、置換
されていてもよいC 1〜C6のアルキル基、置換されていて
もよいC1〜C6のアルコキシ基、ハロゲン、NR4R5またはN
O2であり、YがCO2R6、CNであり、R1、R2及びR3がHであ
る請求項1〜10のいずれか1項に記載の製造法。
(14) a pyrrole or a substituent in which X may be substituted;
Optionally substituted furan, optionally substituted thio
Phen, optionally substituted pyridine or substituted
And the substituent is H, substituted
C that may be 1~ C6An alkyl group of which is substituted
Good C1~ C6Alkoxy group, halogen, NRFourRFiveOr N
OTwoAnd Y is COTwoR6, CN and R1, RTwoAnd RThreeIs H
The method according to claim 1.
【請求項15】Xがフェニル基、クロロフェニル基、メ
トキシフェニル基、ニトロフェニル基またはアミノフェ
ニル基であり、YはCO2Me、CO2EtまたはCNであり、R1、R
2及びR3がHである請求項1〜10のいずれかに記載の製
造法。
15. X is a phenyl, chlorophenyl, methoxyphenyl, nitrophenyl or aminophenyl group, Y is CO 2 Me, CO 2 Et or CN, R 1 , R 2
Process according to any one of claims 1 to 10 2 and R 3 are H.
【請求項16】Xが置換されていてもよいピリジンであ
り、その置換基がH、置換されていてもよいC1〜C6のア
ルキル基、置換されていてもよいC1〜C6のアルコキシ基
またはハロゲンであり、YがCO2R6、CN、SO3R6またはSO2
NR4R5である請求項1〜10のいずれか1項に記載の製
造法。
16. X is an optionally substituted pyridine, wherein the substituent is H, an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group or an optionally substituted C 1 -C 6 An alkoxy group or a halogen, and Y is CO 2 R 6 , CN, SO 3 R 6 or SO 2
NR 4 Process according to any one of claims 1 to 10 R 5.
【請求項17】一般式(3) 【化22】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は請求項1にて定義
したものと同じものを示す。]で示されるオキシム誘導
体。
17. A compound of the general formula (3) [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as those defined in claim 1]. An oxime derivative represented by the formula:
【請求項18】一般式(7A)および/または(7B) 【化23】 [式中X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義したも
のと同じものを示し、R10、R11およびR12は請求項8に
て定義したものと同じものを示す。]で示されるエナミ
ンおよび/またはイミン誘導体。
18. A compound of the general formula (7A) and / or (7B) [Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in claim 1, and R 10 , R 11 and R 12 are the same as defined in claim 8] Is shown. And / or an imine derivative represented by the formula:
【請求項19】一般式(4) 【化24】 [式中X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義したも
のと同じものを示す。]で示されるアニリン誘導体。
19. A compound of the general formula (4) Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in claim 1. An aniline derivative represented by the formula:
【請求項20】一般式(8) 【化25】 [式中X、Y、R1、R2およびR3は請求項1にて定義したも
のと同じものを示し、R10およびR11は請求項8にて定義
したものと同じものを示す。]で示されるアニリン誘導
体。
20. The general formula (8) [Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 represent the same as defined in claim 1, and R 10 and R 11 represent the same as defined in claim 8]. An aniline derivative represented by the formula:
【請求項21】Xがベンゼン環である請求項17〜20
のいずれか1項に記載の化合物。
21. The method according to claim 17, wherein X is a benzene ring.
The compound according to any one of the above.
【請求項22】XがN、O、Sのうち少なくとも一つを有す
る5員環もしくは6員環の複素環又はそのベンゼン縮合
体である請求項17〜20のいずれか1項に記載の化合
物。
22. The compound according to any one of claims 17 to 20, wherein X is a 5- or 6-membered heterocyclic ring having at least one of N, O and S, or a benzene condensate thereof. .
【請求項23】Xが置換されていてもよいベンゼン環で
あり、その置換基がH、置換されていてもよいC1〜C6
アルキル基、置換されていてもよいC1〜C6のアルコキシ
基、NR4R5、ハロゲンまたはNO2であり、YはCO2R6、CN、
SO3R6またはSO2NR4R 5であり、R4、R5およびR6はH、置換
されていてもよいアルキル基または置換されていてもよ
いフェニル基であり、R4およびR5で4〜7の環を形成し
てもよく、R1、R2およびR3はH、置換されていてもよいC
1〜C6のアルキル基である請求項17〜20のいずれか
1項に記載の化合物。
(23) X is an optionally substituted benzene ring;
And the substituent is H, optionally substituted C1~ C6of
Alkyl group, optionally substituted C1~ C6The alkoxy of
Group, NRFourRFive, Halogen or NOTwoAnd Y is COTwoR6, CN,
SOThreeR6Or SOTwoNRFourR FiveAnd RFour, RFiveAnd R6Is H, substitution
Optionally substituted alkyl group or substituted
Is a phenyl group, and RFourAnd RFiveForm 4-7 rings with
May be, R1, RTwoAnd RThreeIs H, optionally substituted C
1~ C621. An alkyl group according to any one of claims 17 to 20.
2. The compound according to item 1.
【請求項24】Xが置換されていてもよいピロール、置
換されていてもよいフラン、置換されていてもよいチオ
フェン、置換されていてもよいピリジンまたは置換され
ていてもよいインドールであり、その置換基がH、置換
されていてもよいC 1〜C6のアルキル基、置換されていて
もよいC1〜C6のアルコキシ基、ハロゲン、NR4R5またはN
O2であり、YがCO2R6、CN、SO3R6またはSO2NR4R5である
請求項17〜20のいずれか1項に記載の化合物。
(24) a pyrrole or a substituent in which X may be substituted;
Optionally substituted furan, optionally substituted thio
Phen, optionally substituted pyridine or substituted
And the substituent is H, substituted
C that may be 1~ C6An alkyl group of which is substituted
Good C1~ C6Alkoxy group, halogen, NRFourRFiveOr N
OTwoAnd Y is COTwoR6, CN, SOThreeR6Or SOTwoNRFourRFiveIs
A compound according to any one of claims 17 to 20.
【請求項25】Xがフェニル基、クロロフェニル基、メ
トキシフェニル基、ニトロフェニル基、アミノフェニル
基であり、YがCO2Me、CO2EtまたはCNであり、R1、R2
よびR3がHである請求項17〜20のいずれか1項に記
載の化合物。
25. X is a phenyl, chlorophenyl, methoxyphenyl, nitrophenyl or aminophenyl group, Y is CO 2 Me, CO 2 Et or CN, and R 1 , R 2 and R 3 are 21. The compound according to any one of claims 17 to 20, which is H.
【請求項26】Xが置換されていてもよいピリジンであ
り、その置換基がH、置換されていてもよいC1〜C6のア
ルキル基、置換されていてもよいC1〜C6のアルコキシ基
またはハロゲンであり、YがCO2R6またはCNである請求項
17〜20のいずれか1項に記載の化合物。
26. X is an optionally substituted pyridine, wherein the substituent is H, an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, an optionally substituted C 1 -C 6 an alkoxy group or a halogen compound according to any one of claims 17 to 20 Y is CO 2 R 6 or CN.
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