JP2001199934A - Phenol derivative and method for producing the same - Google Patents
Phenol derivative and method for producing the sameInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は医薬中間体、特にフ
ァルネシルトランスフェラーゼ阻害剤(J.Med.Chem., 4
1, 4288 (1998))の中間体として非常に有用なであり、
また、農薬、液晶、耐熱性高分子及び液晶性高分子等の
中間体として有用であるフェノール誘導体とその製造法
に関する。The present invention relates to a pharmaceutical intermediate, particularly a farnesyltransferase inhibitor (J. Med. Chem., 4).
1, 4288 (1998)).
Also, the present invention relates to a phenol derivative useful as an intermediate such as a pesticide, liquid crystal, a heat-resistant polymer and a liquid crystalline polymer, and a method for producing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、芳香環置換フェノール誘導体の製
造法として有機金属化合物とハロゲン化アリール化合物
をPd錯体等の触媒存在下カップリングさせる方法(J.Me
d.Chem.,41, 4288 (1998))などが知られている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a method for producing an aromatic ring-substituted phenol derivative, a method of coupling an organometallic compound and an aryl halide compound in the presence of a catalyst such as a Pd complex (J. Me.
d. Chem., 41, 4288 (1998)).
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】従来の方法は有機金属
化合物等を用いる無水条件下での反応や高温・高圧条件
下での反応、また高価な触媒等を必要とするなど製造上
設備及びコスト面において多くの問題があった。さらに
反応の選択性が必ずしも高くないことから、副生成物が
多く生成し、単離精製が煩雑であるなどの問題もあっ
た。The conventional methods involve a reaction under anhydrous conditions using an organometallic compound or the like, a reaction under high-temperature and high-pressure conditions, and require an expensive catalyst or the like in terms of production equipment and cost. There were many problems in terms of surface. Furthermore, since the selectivity of the reaction is not always high, there are also problems such as generation of many by-products and complicated isolation and purification.
【0004】[0004]
【課題を解決するための手段】本発明は安価な原料を用
いた穏和な反応条件での高選択的なフェノール誘導体の
新規製造法を提供する。すなわち本発明は、(1)一般
式(1)SUMMARY OF THE INVENTION The present invention provides a novel process for producing a highly selective phenol derivative using inexpensive raw materials under mild reaction conditions. That is, the present invention provides (1) general formula (1)
【化9】 [式中、Xは置換されていてもよいベンゼン環、N、O、S
のうち少なくとも一つを有する5員環もしくは6員環の
置換されていてもよい複素環又は置換されていてもよい
それらとベンゼンとの縮合体(ただし置換基は1〜3個
で同一であっても異なっていてもよく、H、OH、置換さ
れてもよいC1〜C6のアルキル基、置換されてもよいC2〜
C6のアルケニル基、置換されてもよいC2〜C6のアルキニ
ル基、置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、置換さ
れてもよいアルキルチオ基、NR4R5、ハロゲン、NO2、C
N、COR6、CO2R6、CONR4R5、SO3R6、SO2NR4R5、SOR6、SO
2R6、OCOR6、OCO2R6、OCONR4R5、OSO2R6、置換されても
よいフェニル基、置換されてもよいフェノキシ基、置換
されてもよいヘテロアリール基または置換されてもよい
ヘテロアリールオキシ基を示し、さらに隣り合う置換基
によって4〜7員環を形成してもよい)を示し、YはCO2
R6、CN、NO2、SO3R6、SO2NR4R5、SOR6、SO2R 6を示し、R
1、R2およびR3はH、置換されてもよいC1〜C6のアルキル
基、置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、置換され
てもよいC2〜C6のアルキニル基、置換されてもよいC1〜
C6のアルコキシ基、置換されてもよいアルキルチオ基、
NR4R5、ハロゲン、NO2、CN、COR6、CO2R6、CONR4R5、SO
3R6、SO2NR4R5、SOR6、SO2R6、OCOR6、OCO2R6、OCONR4R
5、OSO2R6、置換されてもよいフェニル基、置換されて
もよいフェノキシ基、置換されてもよいヘテロアリール
基または置換されてもよいヘテロアリールオキシ基を示
し、R4、R5およびR6はH、置換されてもよいアルキル基
または置換されてもよいフェニル基を示し、R4およびR5
で4〜7の環を形成してもよい、]で示されるシクロヘ
キセノン誘導体を酸化することを特徴とする一般式
(2)Embedded image[Wherein, X is an optionally substituted benzene ring, N, O, S
A 5- or 6-membered ring having at least one of
Optionally substituted heterocycle or optionally substituted
Condensates of these with benzene (provided that the number of substituents is 1-3
May be the same or different; H, OH,
May be C1~ C6Alkyl group of optionally substituted CTwo~
C6An alkenyl group of optionally substituted CTwo~ C6Alkini
Group, optionally substituted C1~ C6An alkoxy group, substituted
Alkylthio group, NRFourRFive, Halogen, NOTwo, C
N, COR6, COTwoR6, CONRFourRFive, SOThreeR6, SOTwoNRFourRFive, SOR6, SO
TwoR6, OCOR6, OCOTwoR6, OCONRFourRFive, OSOTwoR6, Even if replaced
Good phenyl group, optionally substituted phenoxy group, substituted
Heteroaryl group which may be substituted or which may be substituted
A heteroaryloxy group, further adjacent substituents
May form a 4- to 7-membered ring), and Y is COTwo
R6, CN, NOTwo, SOThreeR6, SOTwoNRFourRFive, SOR6, SOTwoR 6And R
1, RTwoAnd RThreeIs H, optionally substituted C1~ C6The alkyl of
Group, optionally substituted CTwo~ C6An alkenyl group, substituted
May be CTwo~ C6Alkynyl group of the optionally substituted C1~
C6An alkoxy group, an optionally substituted alkylthio group,
NRFourRFive, Halogen, NOTwo, CN, COR6, COTwoR6, CONRFourRFive, SO
ThreeR6, SOTwoNRFourRFive, SOR6, SOTwoR6, OCOR6, OCOTwoR6, OCONRFourR
Five, OSOTwoR6An optionally substituted phenyl group,
Phenoxy group, heteroaryl which may be substituted
Represents a group or a heteroaryloxy group which may be substituted.
Then RFour, RFiveAnd R6Is H, an alkyl group which may be substituted
Or a phenyl group which may be substituted;FourAnd RFive
May form a ring of 4 to 7, with
General formula characterized by oxidizing a xenon derivative
(2)
【化10】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は上記で定義したものと
同じものを示す、]で示されるフェノール誘導体の製造
法、(2)一般式(2)Embedded image [Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined above], (2) a method for producing a phenol derivative represented by the following general formula (2):
【化11】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のを同じものを示す、]で示されるフェノール誘導体に
一般式(3) R7-Q (3) [式中、R7は置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、COR
6、CO2R6、CONR4R5を示し、Qは脱離基を示す、]で示さ
れる化合物を反応させることを特徴とする一般式(4)Embedded image Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in (1), and a phenol derivative represented by the general formula (3) R 7 -Q (3) Wherein R 7 is an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, COR
6 , CO 2 R 6 , CONR 4 R 5 , Q represents a leaving group, and a compound represented by the general formula (4):
【化12】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は(1)にて定義し
たものと同じものを示す、]で示されるフェノール誘導
体の製造法、(3)(1)の方法により一般式(2)Embedded image Wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as defined in (1). (3) (1) Formula (2)
【化13】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したも
のを同じものを示す、]で示されるフェノール誘導体を
合成し、次いで(2)の方法を行う、一般式(4)Embedded image Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in (1), and synthesize a phenol derivative represented by the formula: General formula (4)
【化14】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は(1)にて定義し
たものと同じものを示す、]で示されるフェノール誘導
体の製造法、(4)Xが置換されていてもよいベンゼン
環である(1)〜(3)のいずれか1項に記載の製造
法、(5)XがN、O、Sのうち少なくとも一つを有する5
員環もしくは6員環の置換されていてもよい複素環又は
置換されていてもよいそれらとベンゼンとの縮合体であ
る(1)〜(3)のいずれか1項に記載の製造法、
(6)Xが置換されていてもよいベンゼン環であり、そ
の置換基がH、置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、
置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、NR4R5、ハロ
ゲン、NO2、置換されてもよいフェニル基または置換さ
れてもよいフェノキシ基であり、YはCO2R6、CN、NO2、S
O3R6またはSO2NR4R5であり、R4、R5およびR6はH、置換
されてもよいアルキル基または置換されてもよいフェニ
ル基であり、R 4およびR5で4〜7の環を形成してもよ
く、R1、R2およびR3はH、置換されてもよいC1〜C6のア
ルキル基または置換されてもよいフェニル基である
(1)〜(3)のいずれか1項に記載の製造法、(7)
Xが置換されていてもよいピロール、置換されていても
よいフラン、置換されていてもよいチオフェン、置換さ
れていてもよいピリジンまたは置換されていてもよいイ
ンドールであり、その置換基がH、置換されてもよいC1
〜C6のアルキル基、置換されてもよいC1〜C6のアルコキ
シ基、ハロゲン、NR4R5またはNO2であり、YがCO2R6、C
N、SO3R6またはSO2NR4R5である(1)〜(3)のいずれ
か1項に記載の製造法、(8)Xが置換されていてもよ
いベンゼン環であり、その置換基がH、置換されてもよ
いC1〜C6のアルキル基、置換されてもよいC1〜C6のアル
コキシ基、NR4R5、ハロゲンまたはNO2、YはCO2R6、CN、
SO3R6またはSO2NR4R5であり、R4、R5およびR6はH、置換
されてもよいアルキル基または置換されてもよいフェニ
ル基であり、R4およびR5で4〜7の環を形成してもよ
く、R1、R2およびR3はH、置換されてもよいC1〜C6のア
ルキル基である(1)〜(3)のいずれか1項に記載の
製造法、(9)Xが置換されていてもよいピリジンであ
り、その置換基がH、置換されてもよいC1〜C6のアルキ
ル基、置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基またはハ
ロゲンであり、YがCO2R6、CN、SO3R6またはSO2NR4R5で
ある(1)〜(3)のいずれか1項に記載の製造法、
(10)一般式(2)Embedded image[Where X, Y, R1, RTwo, RThreeAnd R7Is defined in (1)
Phenol derivative shown with]
(4) benzene in which X may be substituted
The production according to any one of (1) to (3), which is a ring.
The method, (5) wherein X has at least one of N, O, and S
A 6-membered or 6-membered optionally substituted heterocyclic ring or
Condensates of these optionally substituted benzenes
(1) The method according to any one of (1) to (3),
(6) X is an optionally substituted benzene ring;
The substituent of H is optionally substituted C1~ C6An alkyl group of
C which may be substituted1~ C6An alkoxy group, NRFourRFive,Halo
Gen, NOTwoAn optionally substituted phenyl group or substituted
Is a phenoxy group, where Y is COTwoR6, CN, NOTwo, S
OThreeR6Or SOTwoNRFourRFiveAnd RFour, RFiveAnd R6Is H, substitution
Alkyl group or phenyl which may be substituted
R FourAnd RFiveMay form 4-7 rings
, R1, RTwoAnd RThreeIs H, optionally substituted C1~ C6No
Alkyl or phenyl which may be substituted
(7) The production method according to any one of (1) to (3),
X is optionally substituted pyrrole, even if X is substituted
Good furan, optionally substituted thiophene, substituted
Optionally substituted pyridine or optionally substituted
And the substituent is H, optionally substituted C1
~ C6Alkyl group of optionally substituted C1~ C6Alcoqui
Si group, halogen, NRFourRFiveOr NOTwoAnd Y is COTwoR6, C
N, SOThreeR6Or SOTwoNRFourRFiveAny of (1) to (3)
Or (8) X may be substituted.
Benzene ring, the substituent of which is H,
C1~ C6Alkyl group of optionally substituted C1~ C6Al
Coxy group, NRFourRFive, Halogen or NOTwo, Y is COTwoR6, CN,
SOThreeR6Or SOTwoNRFourRFiveAnd RFour, RFiveAnd R6Is H, substitution
Alkyl group or phenyl which may be substituted
RFourAnd RFiveMay form 4-7 rings
, R1, RTwoAnd RThreeIs H, optionally substituted C1~ C6No
The alkyl group according to any one of (1) to (3),
Production method, (9) X is pyridine which may be substituted
Wherein the substituent is H, C which may be substituted1~ C6Archi
Group, optionally substituted C1~ C6An alkoxy group or ha
Logen, Y is COTwoR6, CN, SOThreeR6Or SOTwoNRFourRFiveso
The production method according to any one of (1) to (3),
(10) General formula (2)
【化15】 [式中X、Y、R1、R2およびR3は(1)にて定義したもの
と同じものを示す、]で示されるフェノール誘導体、
(11)一般式(4)Embedded image Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in (1),
(11) General formula (4)
【化16】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は(1)にて定義し
たものと同じものを示す、]で示されるフェノール誘導
体、に関する。Embedded image Wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as defined in (1).
【0005】本発明の一般式(1)から一般式(4)に
おいてXとしては例えば置換されていてもよいフェニ
ル、置換されていてもよいピロール、置換されていても
よいフラン、置換されていてもよいチオフェン、置換さ
れていてもよいピラゾール、置換されていてもよいイミ
ダゾール、置換されていてもよいイソチアゾール、置換
されていてもよいイミダゾール、置換されていてもよい
オキサゾール、置換されていてもよいチアゾール、置換
されていてもよいピリジン、置換されていてもよいピリ
ダジン、置換されていてもよいピリミジン、置換されて
いてもよいピラジン、置換されていてもよいナフタレ
ン、置換されていてもよいインドール、置換されていて
もよいベンゾ[b]フラン、置換されていてもよいベン
ゾ[b]チオフェン、置換されていてもよいベンズ
[d]イミダゾール、置換されていてもよいベンズ
[d]オキサゾール、置換されていてもよいベンゾ
[d]チアゾール、置換されていてもよいプリン、置換
されていてもよいキノリン、置換されていてもよいイソ
キノリン、置換されていてもよいシンノリン、置換され
ていてもよいフタラジン、置換されていてもよいキサゾ
リン、置換されていてもよいキノキサリン、置換されて
いてもよいプテリジンなどであり、好ましくは、置換さ
れていてもよいピロール、置換されていてもよいフラ
ン、置換されていてもよいチオフェン、置換されていて
もよいピラゾール、置換されていてもよいイソキサゾー
ル、置換されていてもよいイソチアゾール、置換されて
いてもよいピリジン、置換されていてもよいピリダジ
ン、置換されていてもよいピリミジン、置換されていて
もよいピラジン、置換されていてもよいインドール、置
換されていてもよいベンゾフラン、置換されていてもよ
いベンゾチオフェン、置換されていてもよいキノリン、
置換されていてもよいイソキノリンであり、さらに好ま
しくは、置換されていてもよいピロール、置換されてい
てもよいフラン、置換されていてもよいチオフェン、置
換されていてもよいピリジン、置換されていてもよいピ
リミジン、置換されていてもよいインドールである。そ
の置換基としては例えば置換されててもよいC1〜C6のア
ルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イ
ソプロピル基、ブチル基、tert-ブチル基、ペンチル
基、へキシル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル
基、ブロモメチル基、ベンジル基など;置換されてもよ
いC2〜C6のアルケニル基としてはビニル基、アリル基、
イソプロペニル基、ブテニル基、ペンテニル基、ヘキセ
ニル基、スチリル基など;置換されてもよいC2〜C6のア
ルキニル基としてはエチニル基、プロピニル基、ブチニ
ル基、ペンチニル基など;置換されてもよいC1〜C6のア
ルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキ
シ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、tert-ブトキシ
基、トリフルオロメトキシ基、ベンジルオキシ基など;
置換されてもよいアルキルチオ基としてはメチルチオ
基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ブチルチオ基、ペ
ンチルチオ基、へキシルチオ基、ベンジルチオ基など;
NR4R5としてはアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルア
ミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピル
アミノ基、イソプロピルアミノ基、ブチルアミノ基、te
rt-ブチルアミノ基、ペンチルアミノ基、ヘキシルアミ
ノ基、ピロリジノ基、ピペリジノ基、モルホリノ基、ア
ニリノ基など;ハロゲンとしてはフッ素、塩素、臭素、
ヨウ素;NO2;CN;COR6としてはホルミル基、アセチル
基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、バ
レリル基、ピバロイル基、ベンソイル基、トルオイル
基、フラノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル
基、シンナモイル基など;CO2R6としてはメトキシカル
ボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニ
ル基、ブトキシカルボニル基、tert-ブトキシカルボニ
ル基、ベンジルオキシカルボニル基、フェノキシカルボ
ニル基など;CONR4R5としてはメチルアミノカルボニル
基、ジメチルアミノカルボニル基、エチルアミノカルボ
ニル基、ジエチルアミノカルボニル基、ピロリジノカル
ボニル基、ピペチジノカルボニル基、モルホリノカルボ
ニル基、アニリノカルボニル基など;SO3R6としてはメ
トキシスルフォニル基、エトキシスルフォニル基、プロ
ポキシスルフォニル基、ブトキシスルフォニル基、ベン
ジルオキシスルフォニル基、フェノキシスルフォニル基
など;SO2NR4R5としてはスルファモイル基、メチルスル
ファモイル基、ジメチルスルファモイル基、エチルスル
ファモイル基、ジエチルスルファモイル基、プロピルス
ルファモイル基、イソプロピルスルファモイル基、ブチ
ルスルファモイル基、tert-ブチルスルファモイル基、
ペンチルスルファモイル基、ヘキシルスルファモイル
基、ピロリジノスルファモイル基、ピペリジノスルファ
モイル基、モルホリノスルファモイル基、アニリノスル
ファモイル基など;SOR6としてはメチルスルフィニル
基、エチルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、
ブチルスルフィニル基、ベンジルスルフィニル基、フェ
ニルスルフィニル基など;SO2R6としてはメチルスルフ
ォニル基、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニ
ル基、ブチルスルフォニル基、ベンジルスルフォニル
基、フェニルスルフォニル基など;OCOR6としては、ア
セチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブチリルオキ
シ基、イソブチリルオキシ基、バレリルオキシ基、ピバ
ロイルオキシ基、ベンソイルオキシ基、トルオイルオキ
シ基、フラノイルオキシ基、ニコチノイルオキシ基、イ
ソニコチノイルオキシ基、シンナモイルオキシ基など;
OCO2R6としてはメトキシカルボニルオキシ基、エトキシ
カルボニルオキシ基、プロポキシカルボニルオキシ基、
ブトキシカルボニルオキシ基、tert-ブトキシカルボニ
ルオキシ基、ベンジルオキシカルボニルオキシ基、フェ
ノキシカルボニルオキシ基など;OCONR4R5としてはメチ
ルアミノカルボニルオキシ基、ジメチルアミノカルボニ
ルオキシ基、エチルアミノカルボニルオキシ基、ジエチ
ルアミノカルボニルオキシ基、ピロリジノカルボニルオ
キシ基、ピペチジノカルボニルオキシ基、モルホリノカ
ルボニルオキシ基、アニリノカルボニルオキシ基など;
OSO2R6としてはメタンスルフォニルオキシ基、エタンス
ルフォニルオキシ基、プロパンスルフォニルオキシ基、
ブタンスルフォニルオキシ基、ペンタンスルフォニルオ
キシ基、ヘキサンスルフォニルオキシ基、ベンゼンスル
フォニルオキシ基、トルエンスルフォニルオキシ基な
ど;置換されてもよいフェニル基としてはヒドロキシフ
ェニル基、クロロフェニル基、メチルフェニル基、トリ
フルオロメチルフェニル基、メトキシフェニル基、tert
-ブトキシフェニル基、ベンジルオキシフェニル基、ト
リフルオロメトキシフェニル基、フェノキシフェニル基
など;置換されてもよいフェノキシ基としてはフェノキ
シ基、ヒドロキシフェノキシ基、クロロフェノキシ基、
メチルフェノキシ基、トリフルオロメチルフェノキシ
基、メトキシフェノキシ基、トリフルオロメトキシフェ
ノキシ基、フェノキシフェノキシ基など;置換されても
よいヘテロアリール基としてはフラニル基、チエニル
基、アゾリル基、ピリジル基、インドリル基、置換され
てもよいヘテロアリールオキシ基としてはフラニルオキ
シ基、チエニルオキシ基、アゾリルオキシ基、ピリジル
オキシ基、インドリルオキシ基などが挙げられる。好ま
しくは、H、置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、置
換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、ハロゲン、N
O2、NR4R5、置換されてもよいフェニル基、置換されて
もよいフェノキシ基、COR6、CO2R6、OCOR6またはOCO2R6
であり、特に好ましくは、H、メチル基、メトキシ基、
フェノキシ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、NO2、アセトキシ基またはベンゾイルオキシ基
である。またXの置換基として隣り合った置換基同士で
形成する環としては、シクロブタン環、シクロペンタン
環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、オキセタン
環、テトラヒドロフラン環、フラン環、ピラン環、ジオ
キソラン環、ジオキサン環等があげられる。Yとしては
例えばCO2R6としてはメトキシカルボニル基、エトキシ
カルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカル
ボニル基、tert-ブトキシカルボニル基、ベンジルオキ
シカルボニル基など;CN;NO2;SO3R6としてはメトキシ
スルフォニル基、エトキシスルフォニル基、プロポキシ
スルフォニル基、ブトキシスルフォニル基、ベンジルオ
キシスルフォニル基、フェノキシスルフォニル基など;
SO2NR4R5としてはスルファモイル基、メチルスルファモ
イル基、ジメチルスルファモイル基、エチルスルファモ
イル基、ジエチルスルファモイル基、プロピルスルファ
モイル基、イソプロピルスルファモイル基、ブチルスル
ファモイル基、tert-ブチルスルファモイル基、ペンチ
ルスルファモイル基、ヘキシルスルファモイル基、ピロ
リジノスルファモイル基、ピペリジノスルファモイル
基、モルホリノスルファモイル基、アニリノスルファモ
イル基など;SOR6としてはメチルスルフィニル基、エチ
ルスルフィニル基、プロピルスルフィニル基、ブチルス
ルフィニル基、ベンジルスルフィニル基、フェニルスル
フィニル基など;SO2R6としてはメチルスルフォニル
基、エチルスルフォニル基、プロピルスルフォニル基、
ブチルスルフォニル基、ベンジルスルフォニル基、フェ
ニルスルフォニル基などが挙げられる。好ましくは、C
N、CO2R6、NO2、SO3R6またはSO2NR4R5であり、特に好ま
しくは、CN、メトキシカルボニル基またはエトキシカル
ボニル基である。R1、R2およびR3としては例えばH;置
換されててもよいC1〜C6のアルキル基としてはメチル
基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、tert-ブチル基、ペンチル基、へキシル基、トリフ
ルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ベ
ンジル基など;置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基
としてはビニル基、アリル基、イソプロペニル基、ブテ
ニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、スチリル基な
ど;置換されてもよいC2〜C6のアルキニル基としてはエ
チニル基、プロピニル基、ブチニル基、ペンチニル基な
ど;置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基としてはメ
トキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ブトキシ基、tert-ブトキシ基、トリフルオロメト
キシ基、ベンジルオキシ基など;置換されてもよいアル
キルチオ基としてはメチルチオ基、エチルチオ基、プロ
ピルチオ基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、へキシル
チオ基、ベンジルチオ基など;NR4R5としてはアミノ
基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、エチルアミノ
基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、イソプロピ
ルアミノ基、ブチルアミノ基、tert-ブチルアミノ基、
ペンチルアミノ基、ヘキシルアミノ基、ピロリジノ基、
ピペリジノ基、モルホリノ基、アニリノ基など;ハロゲ
ンとしてはフッ素、塩素、臭素、ヨウ素;NO2;CN;COR
6としてはホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、
ブチリル基、イソブチリル基、バレリル基、ピバロイル
基、ベンソイル基、トルオイル基、フラノイル基、ニコ
チノイル基、イソニコチノイル基、シンナモイル基な
ど;CO2R6としてはメトキシカルボニル基、エトキシカ
ルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボ
ニル基、tert-ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基、フェノキシカルボニル基など;CONR4R5
としてはメチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカ
ルボニル基、エチルアミノカルボニル基、ジエチルアミ
ノカルボニル基、ピロリジノカルボニル基、ピペチジノ
カルボニル基、モルホリノカルボニル基、アニリノカル
ボニル基など;SO3R6としてはメトキシスルフォニル
基、エトキシスルフォニル基、プロポキシスルフォニル
基、ブトキシスルフォニル基、ベンジルオキシスルフォ
ニル基、フェノキシスルフォニル基など;SO2NR4R5とし
てはスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメ
チルスルファモイル基、エチルスルファモイル基、ジエ
チルスルファモイル基、プロピルスルファモイル基、イ
ソプロピルスルファモイル基、ブチルスルファモイル
基、tert-ブチルスルファモイル基、ペンチルスルファ
モイル基、ヘキシルスルファモイル基、ピロリジノスル
ファモイル基、ピペリジノスルファモイル基、モルホリ
ノスルファモイル基、アニリノスルファモイル基など;
SOR6としてはメチルスルフィニル基、エチルスルフィニ
ル基、プロピルスルフィニル基、ブチルスルフィニル
基、ベンジルスルフィニル基、フェニルスルフィニル基
など;SO2R6としてはメチルスルフォニル基、エチルス
ルフォニル基、プロピルスルフォニル基、ブチルスルフ
ォニル基、ベンジルスルフォニル基、フェニルスルフォ
ニル基など;OCOR6としては、アセチルオキシ基、プロ
ピオニルオキシ基、ブチリルオキシ基、イソブチリルオ
キシ基、バレリルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ベン
ソイルオキシ基、トルオイルオキシ基、フラノイルオキ
シ基、ニコチノイルオキシ基、イソニコチノイルオキシ
基、シンナモイルオキシ基など;OCO2R6としてはメトキ
シカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、
プロポキシカルボニルオキシ基、ブトキシカルボニルオ
キシ基、tert-ブトキシカルボニルオキシ基、ベンジル
オキシカルボニルオキシ基、ゲノキシカルボニルオキシ
基など;OCONR4R5としてはメチルアミノカルボニルオキ
シ基、ジメチルアミノカルボニルオキシ基、エチルアミ
ノカルボニルオキシ基、ジエチルアミノカルボニルオキ
シ基、ピロリジノカルボニルオキシ基、ピペチジノカル
ボニルオキシ基、モルホリノカルボニルオキシ基、アニ
リノカルボニルオキシ基など;OSO2R6としてはメタンス
ルフォニルオキシ基、エタンスルフォニルオキシ基、プ
ロパンスルフォニルオキシ基、ブタンスルフォニルオキ
シ基、ペンタンスルフォニルオキシ基、ヘキサンスルフ
ォニルオキシ基、ベンゼンスルフォニルオキシ基、トル
エンスルフォニルオキシ基など;置換されてもよいフェ
ニル基としてはヒドロキシフェニル基、クロロフェニル
基、メチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル
基、メトキシフェニル基、tert-ブトキシフェニル基、
ベンジルオキシフェニル基、トリフルオロメトキシフェ
ニル基、フェノキシフェニル基など;置換されてもよい
フェノキシ基としてはフェノキシ基、ヒドロキシフェノ
キシ基、クロロフェノキシ基、メチルフェノキシ基、ト
リフルオロメチルフェノキシ基、メトキシフェノキシ
基、トリフルオロメトキシフェノキシ基、フェノキシフ
ェノキシ基など;置換されてもよいヘテロアリール基と
してはフラニル基、チエニル基、アゾリル基、ピリジル
基、インドリル基、置換されてもよいヘテロアリールオ
キシ基としてはフラニルオキシ基、チエニルオキシ基、
アゾリルオキシ基、ピリジルオキシ基、インドリルオキ
シ基などが挙げられ、好ましくは、H;メチル基、エチ
ル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert-
ブチル基、ペンチル基、へキシル基、トリフルオロメチ
ル基、クロロメチル基、ブロモメチル基、ベンジル基な
どの置換されててもよいC1〜C6のアルキル基、ヒドロキ
シフェニル基、クロロフェニル基、メチルフェニル基、
トリフルオロメチルフェニル基、メトキシフェニル基、
tert-ブトキシフェニル基、ベンジルオキシフェニル
基、トリフルオロメトキシフェニル基、フェノキシフェ
ニル基などの置換されてもよいフェニル基、特に好まし
くはH、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピ
ル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ブロモ
メチル基、ヒドロキシフェニル基、クロロフェニル基、
メチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル基、メ
トキシフェニル基またはトリフルオロメトキシフェニル
基である。 R4、R5およびR6としては例えばH;置換さ
れてもよいアルキル基としてはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert-ブチル
基、ペンチル基、へキシル基;置換されてもよいフェニ
ル基としてはヒドロキシフェニル基、クロロフェニル
基、メチルフェニル基、トリフルオロメチルフェニル
基、メトキシフェニル基、トリフルオロメトキシフェニ
ル基、フェノキシフェニル基などが挙げられ、NR4R5と
してはピロリジニル基、ピペラジニル基、モルホリニル
基などが挙げられる。R7としては例えば置換されてもよ
いC1〜C6のアルキル基としてはメチル基、エチル基、プ
ロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert-ブチル
基、ペンチル基、へキシル基、ベンジル基;COR6として
はホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル
基、イソブチリル基、バレリル基、ピバロイル基、ベン
ソイル基、トルオイル基、フラノイル基、ニコチノイル
基、イソニコチノイル基、シンナモイル基など;CO2R6
としてはメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、
tert-ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニ
ル基、フェノキシカルボニル基など;CONR4R5としては
メチルアミノカルボニル基、ジメチルアミノカルボニル
基、エチルアミノカルボニル基、ジエチルアミノカルボ
ニル基、ピロリジノカルボニル基、ピペチジノカルボニ
ル基、モルホリノカルボニル基、アニリノカルボニル基
などが挙げられる。Qとしては脱離基としての機能をも
つ置換基であればよく、例えば、塩素、臭素およびヨウ
素などのハロゲン、メタンスルフォニルオキシ基、エタ
ンスルフォニルオキシ基、トリフルオロメタンスルフォ
ニルオキシ基、ベンゼンスルフォニルオキシキ基、トル
エンスルフォニルオキシ基などのスルフォニルオキシ基
などが挙げられる。一般式(1)の好ましい化合物とし
ては2−フェニル−4−オキソシクロヘキシ−2−エン
カルボン酸エチルエステル、2−(4−ニトロフェニ
ル)−4−オキソシクロヘキシ−2−エンカルボン酸エ
チルエステル、2−(4−クロロフェニル)−4−オキ
ソシクロヘキシ−2−エンカルボン酸エチルエステル、
2−(4−メトキシフェニル)−4−オキソシクロヘキ
シ−2−エンカルボン酸エチルエステル、2−(4−ト
リル)−4−オキソシクロヘキシ−2−エンカルボン酸
エチルエステル、2−(2−トリル)−4−オキソシク
ロヘキシ−2−エンカルボン酸エチルエステル、2−
(4−ピリジル)−4−オキソシクロヘキシ−2−エン
カルボン酸エチルエステルなどが挙げられる。一般式
(2)の好ましい化合物としては4−ヒドロキシ−2−
ビフェニルカルボン酸エチルエステル、4−ヒドロキシ
−4’−ニトロビフェニ−2−ルカルボン酸エチルエス
テル、4−ヒドロキシ−4’−クロロビフェニ−2−ル
カルボン酸エチルエステル、4−ヒドロキシ−4’−メ
トキシビフェニ−2−ルカルボン酸エチルエステル、4
−ヒドロキシ−4’−メチルビフェニ−2−ルカルボン
酸エチルエステル、4−ヒドロキシ−2’−メチルビフ
ェニ−2−ルカルボン酸エチルエステル、4−(5−ヒ
ドロキシ−2−エトキシカルボニルフェニル)ピリジン
などが挙げられる。一般式(3)の好ましい化合物とし
てはヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化プロピル、ヨ
ウ化ペンチル、臭化へキシル、塩化ベンジル、臭化ベン
ジル、3−クロロメチルピリジンおよびその塩酸塩、塩
化アセチル、クロル炭酸メチル、クロル炭酸エチル、ク
ロル炭酸ベンジルなどが挙げられる。一般式(4)の好
ましい化合物としては4−(3−ピリジルメトキシ)−
2−ビフェニルカルボン酸エチルエステル、4−(3−
ピリジルメトキシ)−4’−ニトロビフェニ−2−ルカ
ルボン酸エチルエステル、4−(3−ピリジルメトキ
シ)−4’−クロロビフェニ−2−ルカルボン酸エチル
エステル、4−(3−ピリジルメトキシ)−4’−メト
キシビフェニ−2−ルカルボン酸エチルエステル、4−
(3−ピリジルメトキシ)−4’−メチルビフェニ−2
−ルカルボン酸エチルエステル、4−(3−ピリジルメ
トキシ)−2’−メチルビフェニ−2−ルカルボン酸エ
チルエステル、4−(5−(3−ピリジルメトキシ)−
2−エトキシカルボニルフェニル)ピリジンなどが挙げ
られる。本発明において、一般式(1)乃至(4)で示
される化合物には、例えば、塩化水素、臭化水素のよう
なハロゲン化水素;硫酸、硝酸、リン酸のようなその他
の無機酸;メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸
のような有機スルホン酸類;又はトリフルオロ酢酸、シ
ュウ酸のようなその他の有機酸類を用いて、塩とするこ
とができるものがあるが、これらも本発明に包含される
ものである。本発明において、一般式(1)乃至(4)
で示される化合物には、例えば、ナトリウム塩、カリウ
ム塩のようなアルカリ金属塩;マグネシウム塩、カルシ
ウム塩のようなアルカリ土類金属塩;銅塩、鉄塩のよう
な遷移金属塩;ピリジン塩、アミン塩のような有機塩基
塩などのように塩基類と塩を形成するものがある。これ
らも本発明に包含されるものである。本発明において、
一般式(1)乃至(4)で示される化合物には、光学異
性体、幾何異性体及び互変異性体が存在する場合があ
り、その場合には、本発明は、一種の異性体及び数種の
異性体の任意の割合の混合物をも包含する。また、一般
式(1)乃至(4)で示される化合物の水和物も包含さ
れるものである。In the general formulas (1) to (4) of the present invention, X represents, for example, an optionally substituted phenyl, an optionally substituted pyrrole, an optionally substituted furan, an optionally substituted furan. Thiophene, optionally substituted pyrazole, optionally substituted imidazole, optionally substituted isothiazole, optionally substituted imidazole, optionally substituted oxazole, optionally substituted Good thiazoles, optionally substituted pyridines, optionally substituted pyridazines, optionally substituted pyrimidines, optionally substituted pyrazines, optionally substituted naphthalenes, optionally substituted indoles Optionally substituted benzo [b] furan, optionally substituted benzo [b] thiophene, Optionally substituted benzo [d] imidazole, optionally substituted benzo [d] oxazole, optionally substituted benzo [d] thiazole, optionally substituted purine, optionally substituted Quinoline, optionally substituted isoquinoline, optionally substituted cinnoline, optionally substituted phthalazine, optionally substituted xazoline, optionally substituted quinoxaline, optionally substituted pteridine and the like Preferably, optionally substituted pyrrole, optionally substituted furan, optionally substituted thiophene, optionally substituted pyrazole, optionally substituted isoxazole, substituted Isothiazole, optionally substituted pyridine, optionally substituted pyridazine, Conversion which may be pyrimidine, pyrazine optionally substituted indole optionally substituted, benzofuran optionally substituted, optionally substituted benzothiophene, optionally substituted quinoline,
Optionally substituted isoquinoline, more preferably optionally substituted pyrrole, optionally substituted furan, optionally substituted thiophene, optionally substituted pyridine, optionally substituted Pyrimidine, and optionally substituted indole. Examples of the substituent include a C 1 -C 6 alkyl group which may be substituted, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, and a trialkyl group. A fluoromethyl group, a chloromethyl group, a bromomethyl group, a benzyl group, and the like; as the optionally substituted C 2 to C 6 alkenyl group, a vinyl group, an allyl group,
Isopropenyl group, butenyl group, pentenyl group, hexenyl group, styryl group, etc .; optionally substituted C 2 -C 6 alkynyl group may be ethynyl group, propynyl group, butynyl group, pentynyl group, etc .; Examples of the C 1 -C 6 alkoxy group include a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, a tert-butoxy group, a trifluoromethoxy group, a benzyloxy group and the like;
Examples of the alkylthio group which may be substituted include a methylthio group, an ethylthio group, a propylthio group, a butylthio group, a pentylthio group, a hexylthio group and a benzylthio group;
NR 4 R 5 includes amino, methylamino, dimethylamino, ethylamino, diethylamino, propylamino, isopropylamino, butylamino, te
rt-butylamino group, pentylamino group, hexylamino group, pyrrolidino group, piperidino group, morpholino group, anilino group, etc .; as halogen, fluorine, chlorine, bromine,
Iodine; NO 2 ; CN; COR 6 includes formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, pivaloyl group, benzoyl group, toluoyl group, furanoyl group, nicotinoyl group, isonicotinoyl group, cinnamoyl group, etc. A methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group, a tert-butoxycarbonyl group, a benzyloxycarbonyl group, a phenoxycarbonyl group and the like as CO 2 R 6 ; a methylaminocarbonyl group as CONR 4 R 5 ; Dimethylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, pyrrolidinocarbonyl group, pipetidinocarbonyl group, morpholinocarbonyl group, anilinocarbonyl group, etc .; SO 3 R 6 includes methoxysulfonyl group, Xisulfonyl group, propoxysulfonyl group, butoxysulfonyl group, benzyloxysulfonyl group, phenoxysulfonyl group, etc .; SO 2 NR 4 R 5 includes sulfamoyl group, methylsulfamoyl group, dimethylsulfamoyl group, ethylsulfamoyl group , Diethylsulfamoyl group, propylsulfamoyl group, isopropylsulfamoyl group, butylsulfamoyl group, tert-butylsulfamoyl group,
A pentylsulfamoyl group, a hexylsulfamoyl group, a pyrrolidinosulfamoyl group, a piperidinosulfamoyl group, a morpholinosulfamoyl group, an anilinosulfamoyl group and the like; SOR 6 includes a methylsulfinyl group, an ethylsulfinyl group, Propylsulfinyl group,
Butylsulfinyl group, benzylsulfinyl group, phenylsulfinyl group, etc .; SO 2 R 6 includes methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, propylsulfonyl group, butylsulfonyl group, benzylsulfonyl group, phenylsulfonyl group, etc .; OCOR 6 is acetyl Oxy, propionyloxy, butyryloxy, isobutyryloxy, valeryloxy, pivaloyloxy, benzoyloxy, toluoyloxy, furanoyloxy, nicotinoyloxy, isonicotinoyloxy, cinnamoyl An oxy group;
OCO 2 R 6 includes a methoxycarbonyloxy group, an ethoxycarbonyloxy group, a propoxycarbonyloxy group,
Butoxycarbonyloxy group, tert-butoxycarbonyloxy group, benzyloxycarbonyloxy group, phenoxycarbonyloxy group and the like; OCONR 4 R 5 includes methylaminocarbonyloxy group, dimethylaminocarbonyloxy group, ethylaminocarbonyloxy group, diethylaminocarbonyl An oxy group, a pyrrolidinocarbonyloxy group, a pipetidinocarbonyloxy group, a morpholinocarbonyloxy group, an anilinocarbonyloxy group and the like;
OSO 2 R 6 includes a methanesulfonyloxy group, an ethanesulfonyloxy group, a propanesulfonyloxy group,
Butanesulfonyloxy group, pentanesulfonyloxy group, hexanesulfonyloxy group, benzenesulfonyloxy group, toluenesulfonyloxy group and the like; phenyl groups which may be substituted include hydroxyphenyl group, chlorophenyl group, methylphenyl group, trifluoromethylphenyl Group, methoxyphenyl group, tert
-Butoxyphenyl group, benzyloxyphenyl group, trifluoromethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group and the like; phenoxy groups which may be substituted include phenoxy group, hydroxyphenoxy group, chlorophenoxy group,
A methylphenoxy group, a trifluoromethylphenoxy group, a methoxyphenoxy group, a trifluoromethoxyphenoxy group, a phenoxyphenoxy group and the like; as the optionally substituted heteroaryl group, a furanyl group, a thienyl group, an azolyl group, a pyridyl group, an indolyl group, Examples of the optionally substituted heteroaryloxy group include a furanyloxy group, a thienyloxy group, an azolyloxy group, a pyridyloxy group, and an indolyloxy group. Preferably, H, optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group, halogen, N
O 2 , NR 4 R 5 , an optionally substituted phenyl group, an optionally substituted phenoxy group, COR 6 , CO 2 R 6 , OCOR 6 or OCO 2 R 6
And particularly preferably, H, a methyl group, a methoxy group,
It is a phenoxy group, a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, NO 2 , an acetoxy group or a benzoyloxy group. The ring formed between adjacent substituents as the substituent of X includes a cyclobutane ring, a cyclopentane ring, a cyclohexane ring, a cycloheptane ring, an oxetane ring, a tetrahydrofuran ring, a furan ring, a pyran ring, a dioxolan ring, and a dioxane ring. And the like. As Y, for example, methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxycarbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group and the like as CO 2 R 6 ; CN; NO 2 ; SO 3 R 6 as methoxycarbonyl group Sulfonyl, ethoxysulfonyl, propoxysulfonyl, butoxysulfonyl, benzyloxysulfonyl, phenoxysulfonyl and the like;
SO 2 NR 4 R 5 includes sulfamoyl, methylsulfamoyl, dimethylsulfamoyl, ethylsulfamoyl, diethylsulfamoyl, propylsulfamoyl, isopropylsulfamoyl, butylsulfamoyl Moyl group, tert-butylsulfamoyl group, pentylsulfamoyl group, hexylsulfamoyl group, pyrrolidinosulfamoyl group, piperidinosulfamoyl group, morpholinosulfamoyl group, anilinosulfamoyl group, etc .; SOR 6 as methylsulfinyl group, ethylsulfinyl group, propylsulfinyl group, butylsulfinyl group, benzylsulfinyl group, phenylsulfinyl group and the like; SO 2 R 6 as methylsulfonyl group, ethylsulfonyl group, propylsulfonyl group,
Examples include a butylsulfonyl group, a benzylsulfonyl group, and a phenylsulfonyl group. Preferably, C
N, CO 2 R 6 , NO 2 , SO 3 R 6 or SO 2 NR 4 R 5 , and particularly preferably CN, methoxycarbonyl group or ethoxycarbonyl group. R 1 , R 2 and R 3 are, for example, H; and optionally substituted C 1 -C 6 alkyl groups are methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl Group, hexyl group, trifluoromethyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, benzyl group and the like; and optionally substituted C 2 -C 6 alkenyl groups include vinyl group, allyl group, isopropenyl group, butenyl group, A pentenyl group, a hexenyl group, a styryl group and the like; an optionally substituted C 2 -C 6 alkynyl group includes an ethynyl group, a propynyl group, a butynyl group and a pentynyl group; and an optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group Groups include methoxy, ethoxy, propoxy, isopropoxy, butoxy, tert-butoxy, trifluoromethoxy, benzyloxy and the like; Good alkylthio groups include methylthio, ethylthio, propylthio, butylthio, pentylthio, hexylthio, benzylthio and the like; NR 4 R 5 is amino, methylamino, dimethylamino, ethylamino, diethylamino Group, propylamino group, isopropylamino group, butylamino group, tert-butylamino group,
Pentylamino group, hexylamino group, pyrrolidino group,
Piperidino group, morpholino group, anilino group, etc .; as halogen, fluorine, chlorine, bromine, iodine; NO 2 ; CN; COR;
6 as formyl group, acetyl group, propionyl group,
Butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, pivaloyl group, benzoyl group, toluoyl group, furanoyl group, nicotinoyl group, isonicotinoyl group, cinnamoyl group; CO 2 R 6 includes methoxycarbonyl group, ethoxycarbonyl group, propoxycarbonyl group, butoxy Carbonyl group, tert-butoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group, etc .; CONR 4 R 5
As a methylaminocarbonyl group, a dimethylaminocarbonyl group, an ethylaminocarbonyl group, a diethylaminocarbonyl group, a pyrrolidinocarbonyl group, a pipetidinocarbonyl group, a morpholinocarbonyl group, and an anilinocarbonyl group; and SO 3 R 6 as methoxysulfonyl Group, ethoxysulfonyl group, propoxysulfonyl group, butoxysulfonyl group, benzyloxysulfonyl group, phenoxysulfonyl group, etc .; SO 2 NR 4 R 5 includes sulfamoyl group, methylsulfamoyl group, dimethylsulfamoyl group, ethylsulfa Moyl group, diethylsulfamoyl group, propylsulfamoyl group, isopropylsulfamoyl group, butylsulfamoyl group, tert-butylsulfamoyl group, pentylsulfamoyl group, hexylsulfur Amoiru group pyrrolidinopyridine sulfamoyl group, piperidinyloxy ɽ sulfamoyl group, morpholinosulfamoyl sulfamoyl group, such as anisole Linus sulfamoyl group;
SOR 6 includes methylsulfinyl, ethylsulfinyl, propylsulfinyl, butylsulfinyl, benzylsulfinyl, phenylsulfinyl and the like; SO 2 R 6 includes methylsulfonyl, ethylsulfonyl, propylsulfonyl and butylsulfonyl , Benzylsulfonyl, phenylsulfonyl, etc .; OCOR 6 includes acetyloxy, propionyloxy, butyryloxy, isobutyryloxy, valeryloxy, pivaloyloxy, benzoyloxy, toluoyloxy, furanoyl Oxy group, nicotinoyloxy group, isonicotinoyloxy group, cinnamoyloxy group and the like; OCO 2 R 6 includes methoxycarbonyloxy group, ethoxycarbonyloxy group,
Propoxycarbonyloxy group, butoxycarbonyloxy group, tert-butoxycarbonyloxy group, benzyloxycarbonyloxy group, genoxycarbonyloxy group, etc .; OCONR 4 R 5 includes methylaminocarbonyloxy group, dimethylaminocarbonyloxy group, ethylamino Carbonyloxy group, diethylaminocarbonyloxy group, pyrrolidinocarbonyloxy group, pipetidinocarbonyloxy group, morpholinocarbonyloxy group, anilinocarbonyloxy group and the like; as OSO 2 R 6 methanesulfonyloxy group, ethanesulfonyloxy group, Propanesulfonyloxy, butanesulfonyloxy, pentanesulfonyloxy, hexanesulfonyloxy, benzenesulfonyloxy, toluenesulfonyloxy A phenyl group which may be substituted, such as a hydroxyphenyl group, a chlorophenyl group, a methylphenyl group, a trifluoromethylphenyl group, a methoxyphenyl group, a tert-butoxyphenyl group,
Benzyloxyphenyl group, trifluoromethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group and the like; phenoxy groups which may be substituted include phenoxy group, hydroxyphenoxy group, chlorophenoxy group, methylphenoxy group, trifluoromethylphenoxy group, methoxyphenoxy group, Trifluoromethoxyphenoxy group, phenoxyphenoxy group and the like; optionally substituted heteroaryl group is furanyl group, thienyl group, azolyl group, pyridyl group, indolyl group, and optionally substituted heteroaryloxy group is furanyloxy group; Thienyloxy group,
Examples include an azolyloxy group, a pyridyloxy group, an indolyloxy group, and preferably H is a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, or a tert- group.
Butyl group, a pentyl group, a hexyl group, trifluoromethyl group, chloromethyl group, bromomethyl group, a substituted have C 1 may be -C 6 alkyl group such as a benzyl group, hydroxyphenyl group, chlorophenyl group, methylphenyl Group,
Trifluoromethylphenyl group, methoxyphenyl group,
tert-butoxyphenyl group, benzyloxyphenyl group, trifluoromethoxyphenyl group, phenyl group which may be substituted such as phenoxyphenyl group, particularly preferably H, methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, trifluoromethyl Group, chloromethyl group, bromomethyl group, hydroxyphenyl group, chlorophenyl group,
A methylphenyl group, a trifluoromethylphenyl group, a methoxyphenyl group or a trifluoromethoxyphenyl group. R 4 , R 5 and R 6 are, for example, H; alkyl groups which may be substituted include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl; Examples of the phenyl group which may be used include a hydroxyphenyl group, a chlorophenyl group, a methylphenyl group, a trifluoromethylphenyl group, a methoxyphenyl group, a trifluoromethoxyphenyl group, a phenoxyphenyl group, and the like, and NR 4 R 5 includes pyrrolidinyl. Group, piperazinyl group, morpholinyl group and the like. As R 7 , for example, an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group may be a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a benzyl group; Examples of COR 6 include formyl group, acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, valeryl group, pivaloyl group, benzoyl group, toluoyl group, furanoyl group, nicotinoyl group, isonicotinoyl group, cinnamoyl group and the like; CO 2 R 6
As a methoxycarbonyl group, an ethoxycarbonyl group, a propoxycarbonyl group, a butoxycarbonyl group,
tert-butoxycarbonyl group, benzyloxycarbonyl group, phenoxycarbonyl group and the like; CONR 4 R 5 includes methylaminocarbonyl group, dimethylaminocarbonyl group, ethylaminocarbonyl group, diethylaminocarbonyl group, pyrrolidinocarbonyl group, pipetidinocarbonyl Group, morpholinocarbonyl group, anilinocarbonyl group and the like. Q may be any substituent having a function as a leaving group.Examples include halogen such as chlorine, bromine and iodine, methanesulfonyloxy group, ethanesulfonyloxy group, trifluoromethanesulfonyloxy group, and benzenesulfonyloxy group. And a sulfonyloxy group such as a toluenesulfonyloxy group. Preferred compounds of the general formula (1) include ethyl 2-phenyl-4-oxocyclohex-2-enecarboxylate and ethyl 2- (4-nitrophenyl) -4-oxocyclohex-2-enecarboxylate 2- (4-chlorophenyl) -4-oxocyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester,
2- (4-methoxyphenyl) -4-oxocyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester, 2- (4-tolyl) -4-oxocyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester, 2- (2- Tolyl) -4-oxocyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester, 2-
(4-pyridyl) -4-oxocyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester and the like. A preferred compound of the general formula (2) is 4-hydroxy-2-
Biphenylcarboxylic acid ethyl ester, 4-hydroxy-4'-nitrobiphenyl-2-ylcarboxylic acid ethyl ester, 4-hydroxy-4'-chlorobiphenyl-2-ylcarboxylic acid ethyl ester, 4-hydroxy-4'-methoxybiphenyl- 2-carboxylic acid ethyl ester, 4
-Hydroxy-4'-methylbiphenyl-2-ylcarboxylic acid ethyl ester, 4-hydroxy-2'-methylbiphenyl-2-ylcarboxylic acid ethyl ester, 4- (5-hydroxy-2-ethoxycarbonylphenyl) pyridine and the like. Can be Preferred compounds of the general formula (3) include methyl iodide, ethyl iodide, propyl iodide, pentyl iodide, hexyl bromide, benzyl chloride, benzyl bromide, 3-chloromethylpyridine and its hydrochloride, acetyl chloride , Methyl chlorocarbonate, ethyl chlorocarbonate, benzyl chlorocarbonate and the like. A preferred compound of the general formula (4) is 4- (3-pyridylmethoxy)-
2-biphenylcarboxylic acid ethyl ester, 4- (3-
Pyridylmethoxy) -4′-nitrobiphenyl-2-ylcarboxylic acid ethyl ester, 4- (3-pyridylmethoxy) -4′-chlorobiphenyl-2-ylcarboxylic acid ethyl ester, 4- (3-pyridylmethoxy) -4 ′ -Methoxybiphenyl-2-ylcarboxylic acid ethyl ester, 4-
(3-pyridylmethoxy) -4′-methylbiphenyl-2
-Ethyl carboxylate, 4- (3-pyridylmethoxy) -2′-methylbiphenyl-2-yl carboxylic acid ethyl ester, 4- (5- (3-pyridylmethoxy)-
2-ethoxycarbonylphenyl) pyridine and the like. In the present invention, compounds represented by the general formulas (1) to (4) include, for example, hydrogen halides such as hydrogen chloride and hydrogen bromide; other inorganic acids such as sulfuric acid, nitric acid and phosphoric acid; Some organic sulfonic acids such as sulfonic acid and p-toluenesulfonic acid; or other organic acids such as trifluoroacetic acid and oxalic acid can be used as salts, which are also included in the present invention. Is what is done. In the present invention, the general formulas (1) to (4)
Include, for example, alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt; alkaline earth metal salts such as magnesium salt and calcium salt; transition metal salts such as copper salt and iron salt; Some compounds form salts with bases such as organic base salts such as amine salts. These are also included in the present invention. In the present invention,
The compounds represented by the general formulas (1) to (4) may include optical isomers, geometric isomers and tautomers, and in this case, the present invention provides a compound having one kind of isomer and number of isomers. It also includes mixtures of any ratio of the isomers of the species. Further, hydrates of the compounds represented by the general formulas (1) to (4) are also included.
【0006】[0006]
【発明の実施の形態】以下本発明を詳細に説明する。反
応工程は次に示すとおりである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail. The reaction steps are as follows.
【化17】 (式中X、Y、R1、R2、R3およびR7は上記を示す。) 本合成法の出発物質となる一般式(1)Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are as described above.) The general formula (1) as a starting material of the present synthesis method
【化18】 (式中X、Y、R1、R2およびR3は上記を示す。)で示され
る化合物は従来公知の方法により合成することができる
が、次のようにして合成することもできる。Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are as defined above) can be synthesized by a conventionally known method, but can also be synthesized as follows.
【化19】 (式中X、Y、Z、W、R1、R2およびR3は上記で定義したも
のと同じものを示す。) この合成法の出発物質となる一般式(A)Embedded image (Wherein X, Y, Z, W, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined above.) The general formula (A) as a starting material of this synthesis method
【化20】 (式中XおよびYは上記で定義されたものと同じものを示
す。)で示されるケトン誘導体はJ. Am. Chem. Soc., 7
2, 1352 (1950)などの方法を応用して合成することがで
き、一般式(B)Embedded image (Wherein X and Y are the same as defined above) are represented by J. Am. Chem. Soc., 7
2, 1352 (1950), etc., and can be synthesized by the general formula (B)
【化21】 で示される化合物は、Synth.Commun., 17, 809 (198
7)、Synth.Commun., 21, 271 (1991)およびTetrahedron
Letters, 24, 3477 (1983)などの方法を応用して合成
することができ、一般式(C)Embedded image Is a compound represented by Synth.Commun., 17, 809 (198
7), Synth.Commun., 21, 271 (1991) and Tetrahedron.
Letters, 24, 3477 (1983), etc., can be used for synthesis, and the general formula (C)
【化22】 で示される化合物はChemistry Letters, 1663 (1993)お
よびOrg. Syntheses Coll. Vol. 3, 305 (1955)などの
方法を応用して合成することができる。Embedded image Can be synthesized by applying methods such as Chemistry Letters, 1663 (1993) and Org. Syntheses Coll. Vol. 3, 305 (1955).
【0007】第1工程:一般式(1)の化合物から一般
式(2)の化合物の製造 一般式(2)First step: Preparation of compound of general formula (2) from compound of general formula (1) General formula (2)
【化23】 (式中X、Y、R1、R2およびR3は上記を示す。)の化合物
は一般式(1)Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are as defined above) are represented by the general formula (1)
【化24】 (式中X、Y、R1、R2およびR3は上記を示す。)の化合物
を溶媒中にて酸化反応を行うことにより製造することが
できる。上記反応に用いる溶媒としては、例えばメタノ
ールやエタノールなどの脂肪族アルコール、トルエンや
クメンなどの芳香族炭化水素、酢酸エチルエステルや安
息香酸メチルエステルなどの脂肪族および芳香族エステ
ル、テトラヒドロフランやジグライムなどのエーテル系
炭化水素、ジクロロメタンや1,2-ジクロロエタンなどの
有機塩素系炭化水素、n-ヘキサンなどの脂肪族炭化水
素、酢酸などの有機酸、アセトニトリルやフェニルニト
リルなどの脂肪族および芳香族ニトリル、水及びそれら
の混合物が挙げられる。好ましくは、芳香族炭化水素、
エーテル系炭化水素、脂肪族炭化水素、有機塩素系炭化
水素、脂肪族および芳香族ニトリル、有機酸、水及びそ
れらの混合物が挙げられる。反応温度は通常室温から4
00℃であり、好ましくは50℃から300℃である。
また本反応は無溶媒で行うこともできる。酸化剤として
はKMnO4やMnO2などの金属酸化物、白金、パラジウム、
オスミウム、イリジウム、ルテニウムおよびロジウムな
どの白金族元素の単体またはその塩、チオニルクロライ
ドや塩化スルフリルなどのハロゲン化剤、DDQなどのキ
ノン誘導体、硫黄、酸素などが挙げられる。白金族元素
の塩としては塩酸塩等の鉱酸塩が挙げられる。白金族元
素の単体またはそれらの塩酸等の塩は活性炭、グラファ
イト、シリカ、アルミナ、シリカ-アルミナ、ゼオライ
ト、チタニア、マグネシア、ジルコニア、けいそう土、
硫酸バリウム等の適当な単体に坦侍された形態であって
もよい。その使用量は通常0.001から20等量であ
り、好ましくは0.05から10等量である。またこれ
ら酸化反応は酸素の共存下で行うこともできる。その精
製法としては再結晶、蒸留およびシリカゲル等を用いた
クロマトグラフィーなどの通常用いられる方法により精
製することができる。Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are as defined above) can be produced by subjecting the compound to an oxidation reaction in a solvent. Examples of the solvent used in the above reaction include aliphatic alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as toluene and cumene, aliphatic and aromatic esters such as ethyl acetate and methyl benzoate, tetrahydrofuran and diglyme. Ether hydrocarbons, organic chlorinated hydrocarbons such as dichloromethane and 1,2-dichloroethane, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, organic acids such as acetic acid, aliphatic and aromatic nitriles such as acetonitrile and phenylnitrile, and water And mixtures thereof. Preferably, an aromatic hydrocarbon,
Ether hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, organochlorine hydrocarbons, aliphatic and aromatic nitriles, organic acids, water and mixtures thereof. Reaction temperature is usually from room temperature to 4
00 ° C., preferably 50 ° C. to 300 ° C.
This reaction can also be performed without a solvent. As the oxidizing agent, metal oxides such as KMnO 4 and MnO 2 , platinum, palladium,
Examples include a simple substance of a platinum group element such as osmium, iridium, ruthenium, and rhodium or a salt thereof, a halogenating agent such as thionyl chloride or sulfuryl chloride, a quinone derivative such as DDQ, sulfur, and oxygen. Examples of the salts of platinum group elements include mineral salts such as hydrochlorides. Platinum group elements or their salts such as hydrochloric acid are activated carbon, graphite, silica, alumina, silica-alumina, zeolite, titania, magnesia, zirconia, diatomaceous earth,
It may be in the form of a suitable simple substance such as barium sulfate. The amount used is usually 0.001 to 20 equivalents, preferably 0.05 to 10 equivalents. These oxidation reactions can also be performed in the presence of oxygen. The purification can be carried out by a commonly used method such as recrystallization, distillation and chromatography using silica gel.
【0008】第2工程:一般式(2)の化合物から一般
式(4)の化合物の製造一般式(4)Second step: Preparation of a compound of the general formula (4) from a compound of the general formula (2)
【化25】 (式中X、Y、R1、R2、R3およびR7は上記を示す。)の化
合物は一般式(2)Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are as defined above) are represented by the general formula (2)
【化26】 (式中X、Y、R1、R2およびR3は上記を示す。)の化合物
と一般式(3) R7-Q (3) (式中R7はおよびQは上記を示す。)で表される化合物
を溶媒中塩基の存在下または非存在下にて反応させるこ
とにより製造することができる。溶媒としては例えばメ
タノールやエタノールなどの脂肪族アルコール、トルエ
ンやクメンなどの芳香族炭化水素、酢酸エチルエステル
や安息香酸メチルエステルなどの脂肪族および芳香族エ
ステル、テトラヒドロフランやジグライムなどのエーテ
ル系炭化水素、ジクロロメタンや1,2-ジクロロエタンな
どの有機塩素系炭化水素、n-ヘキサンなどの脂肪族炭化
水素、アセトニトリルやフェニルニトリルなどの脂肪族
および芳香族ニトリル、水及びそれらの混合物が挙げら
れる。好ましくは、芳香族炭化水素、エーテル系炭化水
素、脂肪族炭化水素、有機塩素系炭化水素、脂肪族およ
び芳香族ニトリル、水及びそれらの混合物が挙げられ
る。反応温度は通常−20℃から溶媒還流温度であり、
好ましくは0℃から溶媒還流温度である。また本反応は
無溶媒で行うこともできる。塩基としてはKOHやNaOHな
どのアルカリ金属水酸化物、K2CO3やNa2CO3などのアル
カリ金属炭酸塩、MeONaやEtONaやt-BuOKなどの脂肪族低
級アルコールのアルカリ金属塩、ピリジンやトリエチル
アミンなどの有機塩基、水素化ナトリウムなどの金属水
素化物、酢酸ナトリウムなどの有機酸のアルカリ金属塩
などが挙げられる。好ましくはアルカリ金属炭酸塩、有
機塩基、脂肪族低級アルコールのアルカリ金属塩であ
る。また、その使用量は通常0.1から10当量であ
り、好ましくは0.5から5当量である。その精製法と
しては再結晶、蒸留およびシリカゲル等を用いたクロマ
トグラフィーなどの通常用いられる方法により精製する
ことができる。Embedded image (Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are as defined above) and a compound of the general formula (3) R 7 -Q (3) (where R 7 and Q are as defined above) Can be produced by reacting the compound represented by with or without a base in a solvent. Examples of the solvent include aliphatic alcohols such as methanol and ethanol, aromatic hydrocarbons such as toluene and cumene, aliphatic and aromatic esters such as ethyl acetate and methyl benzoate, ether hydrocarbons such as tetrahydrofuran and diglyme, Examples include organic chlorinated hydrocarbons such as dichloromethane and 1,2-dichloroethane, aliphatic hydrocarbons such as n-hexane, aliphatic and aromatic nitriles such as acetonitrile and phenylnitrile, water, and mixtures thereof. Preferably, aromatic hydrocarbons, ether hydrocarbons, aliphatic hydrocarbons, organic chlorinated hydrocarbons, aliphatic and aromatic nitriles, water and mixtures thereof are used. The reaction temperature is usually from −20 ° C. to the solvent reflux temperature,
The temperature is preferably from 0 ° C. to the reflux temperature of the solvent. This reaction can also be performed without a solvent. Alkali metal hydroxides as bases such as KOH and NaOH, alkali metal carbonates such as K 2 CO 3 or Na 2 CO 3, MeONa and EtONa and t-BuOK alkali metal salt of an aliphatic lower alcohol such as, pyridine Ya Examples thereof include an organic base such as triethylamine, a metal hydride such as sodium hydride, and an alkali metal salt of an organic acid such as sodium acetate. Preferred are alkali metal carbonates, organic bases and alkali metal salts of aliphatic lower alcohols. The amount used is usually 0.1 to 10 equivalents, preferably 0.5 to 5 equivalents. The purification can be carried out by a commonly used method such as recrystallization, distillation and chromatography using silica gel.
【0009】[0009]
【実施例】以下に実施例を示し本発明をさらに具体的に
説明する。 実施例1 5−ヒドロキシビフェニル−2−カルボン酸
エチルエステル(一般式(2)において、Xがフェニル
基、Yがエトキシカルボニル基、R1、R2及びR3がH、であ
る化合物) 4−オキソ−2−フェニルシクロヘキシ−2−エンカル
ボン酸エチルエステル(100mg、0.41mmo
l)をトルエン(5ml)に溶解し、DDQ(112m
g、0.49mmol)加え12時間加熱還流した。冷
却後、反応溶液に水を加えて酢酸エチルエステルにて抽
出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を留去して残留物を得た。残留物を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(ヘキサン−酢酸
エチル系)で精製し、5−ヒドロキシビフェニル−2−
カルボン酸エチルエステル(70mg、70.7%)を
褐色油状物として得た。 1H−NMR(ppm,300MHz,CDCl3) δ7.82(1H,d,J=8.1Hz) 7.20−7.45(5H,m) 6.83(1H,dd,J=2.8 and 8.7H
z) 6.78(1H,d,J=2.2Hz) 4.05(2H,d,J=7.2Hz) 0.98(3H,t,J=7.2Hz)The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. Example 1 5-hydroxybiphenyl-2-carboxylic acid ethyl ester (a compound in which, in the general formula (2), X is a phenyl group, Y is an ethoxycarbonyl group, and R 1 , R 2, and R 3 are H) 4- Oxo-2-phenylcyclohex-2-enecarboxylic acid ethyl ester (100 mg, 0.41 mmol
l) was dissolved in toluene (5 ml), and DDQ (112 m
g, 0.49 mmol) and heated under reflux for 12 hours. After cooling, water was added to the reaction solution, and extracted with ethyl acetate. The organic layer was washed with saturated saline and dried over anhydrous magnesium sulfate, and the solvent was distilled off to obtain a residue. The residue was purified by silica gel column chromatography (hexane-ethyl acetate system) to give 5-hydroxybiphenyl-2-
The carboxylic acid ethyl ester (70 mg, 70.7%) was obtained as a brown oil. 1H-NMR (ppm, 300 MHz, CDCl3) δ 7.82 (1H, d, J = 8.1 Hz) 7.20-7.45 (5H, m) 6.83 (1H, dd, J = 2.8 and) 8.7H
z) 6.78 (1H, d, J = 2.2 Hz) 4.05 (2H, d, J = 7.2 Hz) 0.98 (3H, t, J = 7.2 Hz)
【0010】[0010]
【発明の効果】本発明によれば医農薬、液晶、耐熱性高
分子、及び液晶性高分子等の中間体として有用であるア
ニリン誘導体を選択的に製造できる。本合成法は安価な
原料を用い、特殊な設備や反応条件を必要としない選択
的なフェノール誘導体の工業的製造法を提供できる。According to the present invention, it is possible to selectively produce an aniline derivative which is useful as an intermediate such as a medicinal and agricultural chemical, a liquid crystal, a heat-resistant polymer, and a liquid crystalline polymer. This synthesis method can provide a selective industrial production method of a phenol derivative using inexpensive raw materials and not requiring special equipment or reaction conditions.
Claims (11)
のうち少なくとも一つを有する5員環もしくは6員環の
置換されていてもよい複素環又は置換されていてもよい
それらとベンゼンとの縮合体(ただし置換基は1〜3個
で同一であっても異なっていてもよく、H、OH、置換さ
れてもよいC1〜C6のアルキル基、置換されてもよいC2〜
C6のアルケニル基、置換されてもよいC2〜C6のアルキニ
ル基、置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、置換さ
れてもよいアルキルチオ基、NR4R5、ハロゲン、NO2、C
N、COR6、CO2R6、CONR4R5、SO3R6、SO2NR4R5、SOR6、SO
2R6、OCOR6、OCO2R6、OCONR4R5、OSO2R6、置換されても
よいフェニル基、置換されてもよいフェノキシ基、置換
されてもよいヘテロアリール基または置換されてもよい
ヘテロアリールオキシ基を示し、さらに隣り合う置換基
によって4〜7員環を形成してもよい)を示し、YはCO2
R6、CN、NO2、SO3R6、SO2NR4R5、SOR6、SO2R 6を示し、R
1、R2およびR3はH、置換されてもよいC1〜C6のアルキル
基、置換されてもよいC2〜C6のアルケニル基、置換され
てもよいC2〜C6のアルキニル基、置換されてもよいC1〜
C6のアルコキシ基、置換されてもよいアルキルチオ基、
NR4R5、ハロゲン、NO2、CN、COR6、CO2R6、CONR4R5、SO
3R6、SO2NR4R5、SOR6、SO2R6、OCOR6、OCO2R6、OCONR4R
5、OSO2R6、置換されてもよいフェニル基、置換されて
もよいフェノキシ基、置換されてもよいヘテロアリール
基または置換されてもよいヘテロアリールオキシ基を示
し、R4、R5およびR6はH、置換されてもよいアルキル基
または置換されてもよいフェニル基を示し、R4およびR5
で4〜7の環を形成してもよい。]で示されるシクロヘ
キセノン誘導体を酸化することを特徴とする一般式
(2) 【化2】 [式中、X、Y、R1、R2およびR3は上記で定義したものと
同じものを示す。]で示されるフェノール誘導体の製造
法。1. A compound of the general formula (1)[Wherein, X is an optionally substituted benzene ring, N, O, S
A 5- or 6-membered ring having at least one of
Optionally substituted heterocycle or optionally substituted
Condensates of these with benzene (provided that the number of substituents is 1-3
May be the same or different; H, OH,
May be C1~ C6Alkyl group of optionally substituted CTwo~
C6An alkenyl group of optionally substituted CTwo~ C6Alkini
Group, optionally substituted C1~ C6An alkoxy group, substituted
Alkylthio group, NRFourRFive, Halogen, NOTwo, C
N, COR6, COTwoR6, CONRFourRFive, SOThreeR6, SOTwoNRFourRFive, SOR6, SO
TwoR6, OCOR6, OCOTwoR6, OCONRFourRFive, OSOTwoR6, Even if replaced
Good phenyl group, optionally substituted phenoxy group, substituted
Heteroaryl group which may be substituted or which may be substituted
A heteroaryloxy group, further adjacent substituents
May form a 4- to 7-membered ring), and Y is COTwo
R6, CN, NOTwo, SOThreeR6, SOTwoNRFourRFive, SOR6, SOTwoR 6And R
1, RTwoAnd RThreeIs H, optionally substituted C1~ C6The alkyl of
Group, optionally substituted CTwo~ C6An alkenyl group, substituted
May be CTwo~ C6Alkynyl group of the optionally substituted C1~
C6An alkoxy group, an optionally substituted alkylthio group,
NRFourRFive, Halogen, NOTwo, CN, COR6, COTwoR6, CONRFourRFive, SO
ThreeR6, SOTwoNRFourRFive, SOR6, SOTwoR6, OCOR6, OCOTwoR6, OCONRFourR
Five, OSOTwoR6An optionally substituted phenyl group,
Phenoxy group, heteroaryl which may be substituted
Represents a group or a heteroaryloxy group which may be substituted.
Then RFour, RFiveAnd R6Is H, an alkyl group which may be substituted
Or a phenyl group which may be substituted;FourAnd RFive
May form 4 to 7 rings. ]
General formula characterized by oxidizing a xenon derivative
(2)[Where X, Y, R1, RTwoAnd RThreeIs defined as above
Show the same thing. Production of phenol derivatives represented by
Law.
ものを同じものを示す。]で示されるフェノール誘導体
に一般式(3) R7-Q (3) [式中、R7は置換されてもよいC1〜C6のアルキル基、COR
6、CO2R6、CONR4R5を示し、Qは脱離基を示す。]で示さ
れる化合物を反応させることを特徴とする一般式(4) 【化4】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は請求項1にて定義
したものと同じものを示す。]で示されるフェノール誘
導体の製造法。2. A compound of the general formula (2) [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as those defined in claim 1]. Formula phenol derivative represented by] (3) R 7 -Q ( 3) [ wherein the alkyl group of R 7 is optionally substituted C 1 -C 6, COR
6 , CO 2 R 6 , CONR 4 R 5 , and Q represents a leaving group. Wherein a compound represented by the general formula (4) is reacted: [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as those defined in claim 1]. A method for producing a phenol derivative represented by the formula:
ものを同じものを示す。]で示されるフェノール誘導体
を合成し、次いで請求項2の方法を行う、一般式(4) 【化6】 [式中、X、Y、R1、R2、R3およびR7は請求項1にて定義
したものと同じものを示す。]で示されるフェノール誘
導体の製造法。3. The method according to claim 1, wherein the compound has the general formula (2): [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as those defined in claim 1]. A phenol derivative represented by the following general formula (4) is synthesized, and then the method of claim 2 is carried out. [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as those defined in claim 1]. A method for producing a phenol derivative represented by the formula:
る請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造法。4. The process according to claim 1, wherein X is an optionally substituted benzene ring.
5員環もしくは6員環の置換されていてもよい複素環又
は置換されていてもよいそれらとベンゼンとの縮合体で
ある請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造法。5. A 5-membered or 6-membered optionally substituted heterocyclic ring having X or at least one of N, O and S, or a condensed product of benzene and an optionally substituted heterocyclic ring. The method according to any one of claims 1 to 3.
り、その置換基がH、置換されてもよいC1〜C6のアルキ
ル基、置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、NR
4R5、ハロゲン、NO2、置換されてもよいフェニル基また
は置換されてもよいフェノキシ基であり、YはCO2R6、C
N、NO2、SO3R6またはSO2NR4R5であり、R4、R5およびR6
はH、置換されてもよいアルキル基または置換されても
よいフェニル基であり、R4およびR5で4〜7の環を形成
してもよく、R1、R2およびR3はH、置換されてもよいC1
〜C6のアルキル基または置換されてもよいフェニル基で
ある請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造法。6. X is an optionally substituted benzene ring.
Wherein the substituent is H, C which may be substituted1~ C6Archi
Group, optionally substituted C1~ C6An alkoxy group, NR
FourRFive, Halogen, NOTwoA phenyl group which may be substituted or
Is an optionally substituted phenoxy group, and Y is COTwoR6, C
N, NOTwo, SOThreeR6Or SOTwoNRFourRFiveAnd RFour, RFiveAnd R6
Is H, an optionally substituted alkyl group or an optionally substituted
A good phenyl group and RFourAnd RFiveForms 4-7 rings
May be R1, RTwoAnd RThreeIs H, optionally substituted C1
~ C6With an alkyl group or an optionally substituted phenyl group
The method according to any one of claims 1 to 3.
されていてもよいフラン、置換されていてもよいチオフ
ェン、置換されていてもよいピリジンまたは置換されて
いてもよいインドールであり、その置換基がH、置換さ
れてもよいC1〜C6のアルキル基、置換されてもよいC1〜
C6のアルコキシ基、ハロゲン、NR4R5またはNO2であり、
YがCO2R6、CN、SO3R6またはSO2NR4R5である請求項1〜
3のいずれか1項に記載の製造法。(7) X is an optionally substituted pyrrole, an optionally substituted furan, an optionally substituted thiophene, an optionally substituted pyridine or an optionally substituted indole, substituent is H, alkyl group optionally C 1 -C 6 substituted, unsubstituted or optionally C 1 ~ and
An alkoxy group having C 6, halogen, NR 4 R 5 or NO 2,
Y is CO 2 R 6, CN, SO 3 R 6 , or SO 2 NR 4 a R 5 is claim 1
4. The production method according to any one of 3.
り、その置換基がH、置換されてもよいC1〜C6のアルキ
ル基、置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基、NR
4R5、ハロゲンまたはNO2、YはCO2R6、CN、SO3R6またはS
O2NR4R5であり、R4、R5およびR6はH、置換されてもよい
アルキル基または置換されてもよいフェニル基であり、
R4およびR5で4〜7の環を形成してもよく、R1、R2およ
びR3はH、置換されてもよいC1〜C6のアルキル基である
請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造法。(8) X is an optionally substituted benzene ring;
Wherein the substituent is H, C which may be substituted1~ C6Archi
Group, optionally substituted C1~ C6An alkoxy group, NR
FourRFive, Halogen or NOTwo, Y is COTwoR6, CN, SOThreeR6Or S
OTwoNRFourRFiveAnd RFour, RFiveAnd R6Is H, may be substituted
An alkyl group or a phenyl group which may be substituted,
RFourAnd RFiveMay form a ring of 4 to 7 with R1, RTwoAnd
And RThreeIs H, optionally substituted C1~ C6Is an alkyl group of
The production method according to claim 1.
り、その置換基がH、置換されてもよいC1〜C6のアルキ
ル基、置換されてもよいC1〜C6のアルコキシ基またはハ
ロゲンであり、YがCO2R6、CN、SO3R6またはSO2NR4R5で
ある請求項1〜3のいずれか1項に記載の製造法。9. X is an optionally substituted pyridine, wherein the substituent is H, an optionally substituted C 1 -C 6 alkyl group, and an optionally substituted C 1 -C 6 alkoxy group. Or the halogen, and Y is CO 2 R 6 , CN, SO 3 R 6 or SO 2 NR 4 R 5 , The production method according to claim 1.
のと同じものを示す。]で示されるフェノール誘導体。10. A compound of the general formula (2) Wherein X, Y, R 1 , R 2 and R 3 are the same as defined in claim 1. A phenol derivative represented by the formula:
したものと同じものを示す。]で示されるフェノール誘
導体。11. A compound of the general formula (4) [Wherein, X, Y, R 1 , R 2 , R 3 and R 7 are the same as those defined in claim 1]. A phenol derivative represented by the formula:
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JP2000009682A JP2001199934A (en) | 2000-01-19 | 2000-01-19 | Phenol derivative and method for producing the same |
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JP2007217342A (en) * | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Chiba Univ | Method for producing aniline and phenol compounds |
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2000
- 2000-01-19 JP JP2000009682A patent/JP2001199934A/en active Pending
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