JP2001223383A - Optical semiconductor device - Google Patents

Optical semiconductor device

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JP2001223383A
JP2001223383A JP2000030602A JP2000030602A JP2001223383A JP 2001223383 A JP2001223383 A JP 2001223383A JP 2000030602 A JP2000030602 A JP 2000030602A JP 2000030602 A JP2000030602 A JP 2000030602A JP 2001223383 A JP2001223383 A JP 2001223383A
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JP
Japan
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light
semiconductor device
optical semiconductor
emitting element
receiving element
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP2000030602A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomoyuki Hatakeyama
智之 畠山
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Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
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Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
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  • Photo Coupler, Interrupter, Optical-To-Optical Conversion Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical semiconductor device which is easily miniaturized by optimizing device performance. SOLUTION: There are provided a light-emitting element 13 which projects light to a scale 10, a photodetector 14 which detects the light from the scale 10, and a wiring board 11 which supports the photodetector 14 and the light- emitting element 13 while electrically connected to the photodetector 14. The light-emitting element 13 and the photodetector 14 are arranged so that the light-emitting element 13 is positioned on an end side on the surface opposite to the surface of the wiring board 11 which faces the scale 10 for polymerization/joint. A translucent part 12 is provided in a region corresponding to a light- emitting surface of the light-emitting element 13 and a light-receiving surface of the photodetector 14 of the wiring board 11.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、対象物に光を照射
し、対象物からの光を検出する機能を有する光半導体装
置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical semiconductor device having a function of irradiating an object with light and detecting light from the object.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来の光半導体装置は、特開平10−1
32668号公報に開示されたものが知られている。
2. Description of the Related Art A conventional optical semiconductor device is disclosed in
The thing disclosed in 32668 gazette is known.

【0003】同公報に開示された光半導体装置は、図1
2に示すように、透光部103aを備えるとともに、こ
の透光部103aを設けたポリイミド樹脂を用いた配線
基板105における照射対象である対象物104と対向
する面と反対側の面に、発光素子101及び受光素子1
02をそれぞれ実装し、発光素子101と受光素子10
2とをエポキシ樹脂106により覆うようにして封止し
ている。
[0003] The optical semiconductor device disclosed in the publication is shown in FIG.
As shown in FIG. 2, a light-emitting portion 103a is provided, and a surface of the wiring substrate 105 using the polyimide resin provided with the light-transmitting portion 103a is opposite to the surface facing the object 104 to be irradiated. Element 101 and light receiving element 1
02, respectively, and the light emitting element 101 and the light receiving element 10
2 is sealed with an epoxy resin 106.

【0004】前記発光素子101及び受光素子102の
実装方法は次の通りである。即ち、発光素子101の表
面電極は、前記配線基板105のランドに直接接合さ
れ、裏面電極は、Auワイヤ107により配線基板10
5のランドに接合されている。
The mounting method of the light emitting element 101 and the light receiving element 102 is as follows. That is, the front electrode of the light emitting element 101 is directly joined to the land of the wiring board 105, and the back electrode is connected to the wiring board 10 by the Au wire 107.
5 lands.

【0005】前記受光素子102は、配線基板105
と、ハンダバンプ108によりフリップチップ接合され
ている。
The light receiving element 102 includes a wiring board 105
And flip-chip bonding by solder bumps 108.

【0006】この光半導体装置は、発光素子101から
の光が配線基板105の透光部103aを通して対象物
104に照射され、その反射光が透光部103bを通過
して受光素子102に入射する。このとき、対象物10
4からの反射光が光源である発光素子101に直接戻る
と、発光素子101の動作が不安定になるため、対象物
104の反射面に対して発光素子101の光軸を相対的
に傾けている。
In this optical semiconductor device, the object 104 is irradiated with light from the light emitting element 101 through the light transmitting part 103a of the wiring board 105, and the reflected light passes through the light transmitting part 103b and enters the light receiving element 102. . At this time, the object 10
When the reflected light from the light source 4 returns directly to the light emitting element 101 as a light source, the operation of the light emitting element 101 becomes unstable. Therefore, the optical axis of the light emitting element 101 is tilted relatively to the reflecting surface of the object 104. I have.

【0007】この図12に示す従来例では、配線基板1
05における対象物104に対向する面と反対面に発光
素子101と、受光素子102とを実装しているため、
発光素子101と対象物104との間隔を小さくでき
る。その結果、性能の最適化を容易に達成しつつ光半導
体装置全体を小型化できるという利点がある。
[0007] In the conventional example shown in FIG.
Since the light emitting element 101 and the light receiving element 102 are mounted on the surface opposite to the surface facing the object 104 in 05,
The distance between the light emitting element 101 and the object 104 can be reduced. As a result, there is an advantage that the entire optical semiconductor device can be downsized while easily optimizing the performance.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
光半導体装置の場合、 (1)発光素子101と受光素子102とを別々に前記
配線基板105に実装している。 (2)配線基板105上に、Auワイヤ107を引き出
すための配線部分が必要である。 (3)発光素子101と受光素子102とを配線基板1
06に、Auワイヤ107及びハンダバンプ108で接
合しているため、接合部分の強度が弱く、接合後に発光
素子101及び受光素子102をエポキシ樹脂106等
で覆い封止する機械的補強が必要である。
However, in the case of the conventional optical semiconductor device, (1) the light emitting element 101 and the light receiving element 102 are separately mounted on the wiring board 105. (2) A wiring portion for drawing out the Au wire 107 is required on the wiring board 105. (3) The light emitting element 101 and the light receiving element 102 are connected to the wiring board 1
In FIG. 06, since the bonding is performed by the Au wire 107 and the solder bump 108, the strength of the bonding portion is weak, and mechanical reinforcement for covering and sealing the light emitting element 101 and the light receiving element 102 with the epoxy resin 106 or the like after the bonding is necessary.

【0009】従来の光半導体装置の場合、上述した実装
上の種々の制約があるため、光半導体装置の小型化を図
る上で限界があった。
In the case of the conventional optical semiconductor device, there are various restrictions on the mounting described above, and there is a limit in reducing the size of the optical semiconductor device.

【0010】また、対象物104の反射面に対し、発光
素子101の光軸を傾ける際に、基板端部109がある
ことで、発光素子101と対象物104との距離に一定
の制限が生じていた。
In addition, when the optical axis of the light emitting element 101 is inclined with respect to the reflecting surface of the object 104, the distance between the light emitting element 101 and the object 104 is limited by the presence of the substrate edge 109. I was

【0011】そこで、本発明は、上記従来の問題点に鑑
みてなされたものであり、装置性能の最適化をより容易
にしつつ、受光素子のサイズと略同等の実装サイズとな
るように小型化することが可能であり、耐久性にも優れ
た光半導体装置を提供することを目的とするものであ
る。
In view of the foregoing, the present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and has been made to reduce the size of a light-receiving element to a size substantially equal to the size of a light-receiving element while facilitating optimization of device performance. It is an object of the present invention to provide an optical semiconductor device that can perform the above-described operations and has excellent durability.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
対象物に対して光を照射する発光素子と、前記対象物か
らの光を受光検出する受光素子と、前記受光素子及び発
光素子を支持するとともに前記受光素子と電気的に接続
された配線基板とを有する光半導体装置であって、前記
発光素子及び前記受光素子を、前記配線基板における前
記対象物に対向する面とは反対側の面に発光素子が端部
側に位置する配置で重合接合するとともに、前記配線基
板の前記発光素子の発光面と前記受光素子の受光面に対
応する領域に透光部を設けたことを特徴とするものであ
る。
According to the first aspect of the present invention,
A light-emitting element that irradiates the object with light, a light-receiving element that receives and detects light from the object, and a wiring board that supports the light-receiving element and the light-emitting element and is electrically connected to the light-receiving element. Wherein the light emitting element and the light receiving element are overlap-bonded to each other on the surface of the wiring board opposite to the surface facing the object in such a manner that the light emitting element is located on the end side. In addition, a light-transmitting portion is provided in a region of the wiring board corresponding to a light-emitting surface of the light-emitting element and a light-receiving surface of the light-receiving element.

【0013】この発明によれば、受光素子と重合された
発光素子を前記配線基板の端部に配置することにより、
発光素子の発光面と対象物との距離を最短にすることが
できる。即ち、発光素子より投射され対象物で反封され
た光を受光素子の受光面で受けるためには、発光素子の
光軸を対象物に対し相対的に傾ける必要がある。発光素
子の光軸を傾けた場合、この発明のように発光素子が配
線基板の端部側に配置されている構成とすることによ
り、発光素子と対象物との距離を短くすることができ、
対象物に対する光半導体装置の配置を、従来例の場合よ
り一層容易に光学性能の最適化距離に調整することが可
能となる。
According to the present invention, by disposing the light emitting element superposed on the light receiving element at the end of the wiring board,
The distance between the light emitting surface of the light emitting element and the object can be minimized. That is, in order to receive the light projected from the light emitting element and sealed off by the object on the light receiving surface of the light receiving element, it is necessary to tilt the optical axis of the light emitting element relative to the object. When the optical axis of the light emitting element is inclined, the distance between the light emitting element and the object can be shortened by adopting a configuration in which the light emitting element is disposed on the end side of the wiring board as in the present invention,
The arrangement of the optical semiconductor device with respect to the object can be more easily adjusted to the optimum distance of the optical performance than in the conventional example.

【0014】請求項2記載の発明は、請求項1記載の光
半導体装置において、前記発光素子が、前記配線基板に
接合された前記受光素子の上面端部に固定されているこ
とを特徴とするものである。
According to a second aspect of the present invention, in the optical semiconductor device according to the first aspect, the light emitting element is fixed to an upper surface end of the light receiving element joined to the wiring board. Things.

【0015】この発明によれば、前記発光素子が、前記
配線基板に接合された前記受光素子の上面端部に固定さ
れているので、光半導体装置を受光素子のサイズとほぼ
同等の占有スペースとなるように小型にすることが可能
となる。
According to the present invention, since the light emitting element is fixed to the upper end of the light receiving element joined to the wiring board, the optical semiconductor device can be occupied by a space occupying substantially the same size as the light receiving element. Thus, it is possible to reduce the size.

【0016】請求項3記載の発明は、請求項1又は2記
載の光半導体装置において、前記配線基板の透光部は、
透光性を有する封止材で封止されていることを特徴とす
るものである。
According to a third aspect of the present invention, in the optical semiconductor device according to the first or second aspect, the light transmitting portion of the wiring board is
It is characterized by being sealed with a light-transmitting sealing material.

【0017】この発明によれば、対象物に対する光半導
体装置の配置を、光学性能の最適化距離に容易に調整す
ることが可能であり、かつ、光半導体装置の耐久性を向
上することが可能となる。
According to the present invention, the arrangement of the optical semiconductor device with respect to the object can be easily adjusted to the optimum distance for the optical performance, and the durability of the optical semiconductor device can be improved. Becomes

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。尚、以下の実施の形態において
は、光半導体装置の応用例として、発光素子である光源
に垂直共振器型面発光レーザ(VCSEL:Verti
cal Cavity SurfaceEmittin
g Laser)を使用した反射型の光学式エンコーダ
ーに応用した場合について説明しているが、本発明はこ
れに限定されるものでなく、各種光センサや光ピックア
ップ等に応用することが可能である。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the following embodiments, as an application example of an optical semiconductor device, a vertical cavity surface emitting laser (VCSEL: Verti) is used as a light source as a light source.
cal Cavity SurfaceEmittin
(g Laser), the present invention is applied to a reflection type optical encoder, but the present invention is not limited to this, and can be applied to various optical sensors and optical pickups. .

【0019】(実施の形態1) (構成)以下に本発明の実施の形態1を、図1、図2を
参照して説明する。図1は、本発明の実施の形態1の光
半導体装置の平面図、図2は、図1のA−A線断面図で
ある。
Embodiment 1 (Configuration) Embodiment 1 of the present invention will be described below with reference to FIGS. FIG. 1 is a plan view of the optical semiconductor device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG.

【0020】本実施の形態1は、本発明の光半導体装置
が応用される光学式エンコーダーであり、移動するスケ
ール10と、透光部12を有し、前記スケール10と対
向しているフレキシブル性を有する配線基板(FPC)
11と、この配線基板11の裏面側、即ち、スケール1
0側の面とは反対側の面に設けられたVCSELを構成
する発光素子13及び受光素子14と、この受光素子1
4上に設けられた複数のAuバンプ15と、このAuバ
ンプ15と電気的に接合される配線基板11上の複数の
ランド16と、透光部12に対向する部分を除き、受光
素子14の上面と配線基板11の間を絶縁性の接着剤で
接合する接着層17とを備えている。
The first embodiment is an optical encoder to which the optical semiconductor device of the present invention is applied. The optical encoder has a movable scale 10 and a light-transmitting portion 12, and has flexibility that opposes the scale 10. Printed circuit board (FPC)
11 and the back side of the wiring board 11, that is, the scale 1
A light emitting element 13 and a light receiving element 14 constituting a VCSEL provided on a surface opposite to the surface on the 0 side;
4, a plurality of lands 16 on the wiring substrate 11 electrically connected to the Au bumps 15, and a portion of the light receiving element 14 except for a portion facing the light transmitting portion 12. An adhesive layer 17 is provided for joining the upper surface and the wiring board 11 with an insulating adhesive.

【0021】配線基板11の裏面側には、Cu等の導電
性の金属からなる配線パターン18と、この配線パター
ン18と同材質又は同材質に加え表面上にNi下地のA
uメッキ処理が施さたランド16が形成されている。
On the back side of the wiring board 11, a wiring pattern 18 made of a conductive metal such as Cu is formed.
A land 16 subjected to a u plating process is formed.

【0022】また、配線基板11には、発光素子13の
発光面20と受光素子14の受光面21と重なる部分を
切り欠き、透光部12を形成している。
In the wiring board 11, a portion overlapping the light emitting surface 20 of the light emitting element 13 and the light receiving surface 21 of the light receiving element 14 is cut out to form the light transmitting portion 12.

【0023】前記接着層17は、前述したAuバンプ1
5とランド16との接合部と、透光部12に対向する部
分を除く受光素子14の上面と配線基板11の裏面のス
ペースを接着する機械的補強性能と、ごみや埃、水分の
侵入を防ぐ封止機能を兼ね備えている。
The adhesive layer 17 is formed of the Au bump 1 described above.
The mechanical reinforcement performance for bonding the joint between the land 5 and the land 16 and the space between the upper surface of the light receiving element 14 and the back surface of the wiring board 11 except for the portion facing the light transmitting portion 12 and the intrusion of dirt, dust, and moisture. It also has a sealing function to prevent.

【0024】前記接着層17は、透光部12を除く配線
基板11の受光素子14に対向する部分に熱硬化型接着
剤を所望の厚さとなるように塗布し、次に受光素子14
の上に重ねるように受光素子14上に設けられたバンプ
15と配線基板11上のランド16との位置合わせを行
い、バンプ15とランド16とを圧接により電気的に接
合して、いわゆるフリップチッブ接合を行い、受光素子
14の上面と配線基板11との隙間に熱硬化型接着剤の
層を形成し、加熱硬化して形成する。
The adhesive layer 17 is formed by applying a thermosetting adhesive to a portion of the wiring board 11 facing the light receiving element 14 except for the light transmitting portion 12 so as to have a desired thickness.
The bumps 15 provided on the light receiving element 14 and the lands 16 on the wiring board 11 are aligned so as to overlap with each other, and the bumps 15 and the lands 16 are electrically joined by pressure welding to form a so-called flip chip. Bonding is performed, a layer of a thermosetting adhesive is formed in a gap between the upper surface of the light receiving element 14 and the wiring board 11, and the layer is formed by heating and curing.

【0025】熱硬化型接着剤としては、絶縁性のエポキ
シ樹脂、例えば、商品名TAP0034N(東芝ケミカ
ル(株)製)が利用可能である。
As the thermosetting adhesive, an insulating epoxy resin, for example, TAP0034N (trade name, manufactured by Toshiba Chemical Corporation) can be used.

【0026】尚、前記熱硬化型接着剤はランド16上に
も塗布されるが、バンプ15と、ランド16を圧接する
ことにより接着剤は除去され、受光素子14と配線基板
11とは電気的に接続される。また、接着層17は、熱
硬化型接着剤で構成されるため、加熱硬化の際収縮し、
前記バンプ15とランド16の接合は機械的に強化され
る。
The thermosetting adhesive is also applied on the lands 16, but the adhesive is removed by pressing the bumps 15 and the lands 16, and the light receiving element 14 and the wiring board 11 are electrically connected. Connected to. Further, since the adhesive layer 17 is made of a thermosetting adhesive, it contracts during heat curing,
The bonding between the bump 15 and the land 16 is mechanically strengthened.

【0027】前記配線基板11は、透光部12に相当す
る部分を切り欠きにより形成している。前記切り欠きの
面を垂直下方に延長し、受光素子14の上面に至るスペ
ースは発光素子13を除き光の通路となる透光部となっ
ている。
The wiring board 11 has a portion corresponding to the light transmitting portion 12 formed by notching. The space of the notch extends vertically downward, and a space reaching the upper surface of the light receiving element 14 except for the light emitting element 13 is a light transmitting portion serving as a light passage.

【0028】このスペースを透光部12に対応し第2の
透光部という。前記透光部12と前記第2の透光部とを
合わせて装置の透光部36と称する。
This space corresponds to the light transmitting portion 12 and is called a second light transmitting portion. The light transmitting part 12 and the second light transmitting part are collectively referred to as a light transmitting part 36 of the device.

【0029】装置の透光部36は、発光素子13の発光
面と受光素子14の受光面とを出入する光の通路となる
装置の全ての部分に相当する。
The light-transmitting portion 36 of the device corresponds to all portions of the device which are paths for light entering and exiting the light emitting surface of the light emitting element 13 and the light receiving surface of the light receiving element 14.

【0030】前記接着層17は、表面張力により、オー
プンスペースとなっている装置の透光部36内には広が
らない。
The adhesive layer 17 does not spread into the light transmitting portion 36 of the device which is an open space due to surface tension.

【0031】図2において、接着層17の受光素子14
に接する端面は受光素子14に直交するように表示され
ているが、実際には受光素子14の上面に沿ってやや広
がり、図示を省略したが、わずかに曲面となっている。
In FIG. 2, the light receiving element 14 of the adhesive layer 17
Although the end surface in contact with is shown to be orthogonal to the light receiving element 14, it actually spreads slightly along the upper surface of the light receiving element 14 and is slightly curved, although not shown.

【0032】しかし、その広がりは、受光素子14の受
光面21までは達していない。従って、接着層17は、
装置の透光部36内に配置される発光素子13の発光面
20や受光素子14の受光面21を覆うことはない。A
uバンプ15は、ワイヤボンダーを用いたボールバンプ
法やメッキ法により形成するものとし、受光素子14と
配線基板11を接合後に発光素子13の表面及び後述す
るAuワイヤ19が配線基板11の裏面と接触しないよ
うに、バンプ15の高さ及びランド16の厚さ設定す
る。
However, the spread does not reach the light receiving surface 21 of the light receiving element 14. Therefore, the adhesive layer 17
It does not cover the light emitting surface 20 of the light emitting element 13 or the light receiving surface 21 of the light receiving element 14 arranged in the light transmitting portion 36 of the device. A
The u bumps 15 are formed by a ball bump method or a plating method using a wire bonder. After bonding the light receiving element 14 and the wiring board 11, the surface of the light emitting element 13 and the Au wire 19 described later are connected to the back surface of the wiring board 11. The height of the bump 15 and the thickness of the land 16 are set so as not to make contact.

【0033】発光素子13は、受光素子14の上面の端
部に位置決めされ、発光素子13の裏面電極と受光素子
14とを導電性接着剤やAu−Au接合、又はAu−S
i接合により電気的かつ機械的に受光素子14の上面端
部に固定される。
The light emitting element 13 is positioned at the end of the upper surface of the light receiving element 14 and connects the back electrode of the light emitting element 13 and the light receiving element 14 with a conductive adhesive, an Au-Au junction, or an Au-S
It is electrically and mechanically fixed to the upper surface end of the light receiving element 14 by the i-junction.

【0034】発光素子13の表面電極と受光素子14と
はAuワイヤ19で電気的に接続される.
The surface electrode of the light emitting element 13 and the light receiving element 14 are electrically connected by the Au wire 19.

【0035】図2に示す如く、発光素子13は、受光素
子14の上面に固定されるので、発光素子13の端面と
受光素子14の端面14aはほぼ同一平面上にある。ま
た、受光素子14上に設けられいいるバンプ15と配線
基板11上のランド16とは、互い位置決めされ、圧接
により接合され、さらに接着層17により、配線基板1
1と、受光素子14とが接着されたとき、配線基板11
の端面11aは前記端面13aや14aとはほぼ同一面
に位置出しされるように配置されている。
As shown in FIG. 2, since the light emitting element 13 is fixed on the upper surface of the light receiving element 14, the end face of the light emitting element 13 and the end face 14a of the light receiving element 14 are substantially on the same plane. Further, the bumps 15 provided on the light receiving element 14 and the lands 16 on the wiring board 11 are positioned with each other, are joined by pressure contact, and are further bonded by the adhesive layer 17.
When the light receiving element 14 and the light receiving element 14 are bonded,
Is arranged so as to be located on substantially the same plane as the end faces 13a and 14a.

【0036】従って、前記発光素子13は配線基板11
の端面に対向する位置に配置されている。また、発光素
子13は上述した如く受光素子14の上面に固定される
が、図2に示すように、その上面は配線基板11の表面
より下部にあり、装置の透光部36の内部に配置されて
いる。
Accordingly, the light emitting element 13 is connected to the wiring board 11
Are arranged at a position facing the end face of the. Further, the light emitting element 13 is fixed to the upper surface of the light receiving element 14 as described above. However, as shown in FIG. 2, the upper surface is lower than the surface of the wiring board 11 and is disposed inside the light transmitting portion 36 of the device. Have been.

【0037】本実施の形態1における配線基板11は、
図1に示す如く、前記受光素子14が実装される実装部
22と、この実装部22と外部の部材とを配線パターン
18で接続する配線部23から構成されている。
The wiring board 11 in the first embodiment is
As shown in FIG. 1, the light receiving element 14 includes a mounting part 22 on which the light receiving element 14 is mounted, and a wiring part 23 connecting the mounting part 22 and an external member by a wiring pattern 18.

【0038】実装部22の面積は、受光素子14の上面
の面積よりわずかに広くなるように設定されている。
The area of the mounting part 22 is set to be slightly larger than the area of the upper surface of the light receiving element 14.

【0039】前記スケール10と配線基板11との位置
関係は図5に示されている。配線基板11の形状は、同
図に示すごとく、中央に穴を投けた円板形状のスケール
10に対向した形状になっている。
The positional relationship between the scale 10 and the wiring board 11 is shown in FIG. As shown in the figure, the shape of the wiring substrate 11 is a shape facing the disk-shaped scale 10 with a hole in the center.

【0040】配線基板11は、固定されており、これに
対向するスケール10は、図示しない駆動機構により中
心軸のまわりに回転移動するようになっている。
The wiring substrate 11 is fixed, and the scale 10 facing the wiring substrate 11 is rotated about a central axis by a driving mechanism (not shown).

【0041】図2には説明の便宜上、スケール10が発
光素子13の上面の発光面20に対して傾いて配置され
ているように描かれているが、この傾きは相対的なもの
であり、スケ−ル10を水平に配置し、発光素子13が
受光素子14を介して実装されている配線基板11を傾
けることにより、スケール10に対し発光素子13の発
光面20を傾むけてもよい。
In FIG. 2, for convenience of explanation, the scale 10 is illustrated as being inclined with respect to the light emitting surface 20 on the upper surface of the light emitting element 13, but the inclination is relative. The light emitting surface 20 of the light emitting element 13 may be tilted with respect to the scale 10 by disposing the scale 10 horizontally and tilting the wiring board 11 on which the light emitting element 13 is mounted via the light receiving element 14.

【0042】尚、以上説明明した光学式エンコーダの構
成から、スケール10を除いた部分が本実施の形態1の
光半導体装置に相当する。
A portion excluding the scale 10 in the configuration of the optical encoder described above corresponds to the optical semiconductor device of the first embodiment.

【0043】(作用)以上に述べた光学式エンコーダー
の構成においては、配線基板11上に形成された配線パ
ターン18を介して外部(図示せず)から発光素子13
に電流を流すことにより、発光面(VCSELのレーザ
出力口)20から図2の矢印で示すようなレーザー光が
投射される
(Operation) In the structure of the optical encoder described above, the light emitting element 13 is externally (not shown) via the wiring pattern 18 formed on the wiring board 11.
2, a laser beam is projected from the light emitting surface (laser output port of the VCSEL) 20 as shown by an arrow in FIG.

【0044】このレーザー光は、透光部12を通ってス
ケール10の表面に到達し、この表面からの反射光は、
スケール10が前記発光面20に対して傾いているので
発光面20に戻ることなく、矢印で示すごとく再び透光
部12を通つて受光素子14上の受光面21に達する。
そして、受光素子14により電気信号に変換され、その
出力は、配線パターン18を経由して外部の処理回路
(図示せず)の入力信号となる。
The laser light reaches the surface of the scale 10 through the light transmitting part 12, and the reflected light from this surface is
Since the scale 10 is inclined with respect to the light emitting surface 20, the scale 10 does not return to the light emitting surface 20, but reaches the light receiving surface 21 on the light receiving element 14 through the light transmitting portion 12 again as shown by the arrow.
Then, the light is converted into an electric signal by the light receiving element 14, and the output becomes an input signal of an external processing circuit (not shown) via the wiring pattern 18.

【0045】この場合、前記スケール10には、所定の
間隔で反射率の高い部分と低い部分とが形成してあり、
かつ、前述の如く回転移動するので、スケール10によ
る反射光の強度はこのスケール10の移動に伴って周期
的に変化し、その変化は受光素子14の出力信号の変化
となり、その出力信号の変化を検出し、カウントするこ
とによりスケール10の移動量が検出される。
In this case, a portion having a high reflectance and a portion having a low reflectance are formed on the scale 10 at predetermined intervals.
In addition, since the light is rotated and moved as described above, the intensity of the reflected light from the scale 10 periodically changes with the movement of the scale 10, and the change becomes a change in the output signal of the light receiving element 14. Is detected and counted, whereby the movement amount of the scale 10 is detected.

【0046】(効果)以上説明した実施の形態1の光半
導体装置によれば、前記受光素子14は、接着層17に
より強固に配線基板11に固定され、発光素子13も導
電性接着剤等により受光素子14に強固に固定されてい
るので、装置全体の機械的強度を碓保できる。
(Effects) According to the optical semiconductor device of the first embodiment described above, the light receiving element 14 is firmly fixed to the wiring board 11 by the adhesive layer 17, and the light emitting element 13 is also fixed by the conductive adhesive or the like. Since it is firmly fixed to the light receiving element 14, the mechanical strength of the entire device can be maintained.

【0047】また、発光素子13は、配線基板11の端
部に対向する位置、即ち、装置全体の端部に配置されて
いるので、発光素子13の発光面20とスケール10と
の距離を短くすることができ、かつ、レーザ光を投射す
る発光面20と反射光を受光する受光面21との距離を
短くすることができ、これにより装置全体を小型化する
ことができる。
Further, since the light emitting element 13 is disposed at a position facing the end of the wiring board 11, that is, at the end of the entire device, the distance between the light emitting surface 20 of the light emitting element 13 and the scale 10 is reduced. In addition, the distance between the light emitting surface 20 for projecting the laser light and the light receiving surface 21 for receiving the reflected light can be shortened, whereby the size of the entire device can be reduced.

【0048】さらに、配線基板11の実装部22は、受
光素子14の面積にほぼ等しい面積に設定されているの
で、実装サイズを小さくすることにより、装置を小型化
できる。
Further, since the mounting portion 22 of the wiring board 11 is set to have an area substantially equal to the area of the light receiving element 14, the device can be downsized by reducing the mounting size.

【0049】尚、前記配線基板11を用いてるため、実
装部22と外部回路との配線部23を同一基板上に形成
できるため、本実施の形態1が構造的に最も簡略であ
り、組み立て工数が少なく製造コストが安いという効果
がある.
Since the wiring substrate 11 is used, the mounting part 22 and the wiring part 23 for the external circuit can be formed on the same substrate. Therefore, the first embodiment is structurally the simplest, and This has the effect of reducing manufacturing costs.

【0050】(実施の形態2) (構成)次に、図3を参照して、本発明の実施の形態2
について説明する。尚、実施の形態1の場合と同一の部
材には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。
図3は、本実施の形態2の光半導体装置の断面図であ
る。
Second Embodiment (Configuration) Next, referring to FIG. 3, a second embodiment of the present invention will be described.
Will be described. The same members as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted.
FIG. 3 is a sectional view of the optical semiconductor device according to the second embodiment.

【0051】本実施の形態2は、実施の形態1と以下の
点で異なる。即ち、本実施の形態2における配線基板は
光の透過率の高いガラス基板24で構成されている。こ
のガラス基板24上の配線パターン25は、アルミニウ
ム若しくは銅又はニッケルを蒸着、エッチングして形成
される。
The second embodiment differs from the first embodiment in the following points. That is, the wiring board according to the second embodiment is formed of the glass substrate 24 having high light transmittance. The wiring pattern 25 on the glass substrate 24 is formed by depositing and etching aluminum, copper, or nickel.

【0052】また、ガラス基板24上の発光素子13の
発光面(VCSELのレーザ出力口)20と受光素子1
4の受光面21と重なる部分は、アルミ配線をしないこ
とで透光部を形成している。
The light emitting surface (laser output port of VCSEL) 20 of the light emitting element 13 on the glass substrate 24 and the light receiving element 1
The portion overlapping the light receiving surface 21 of No. 4 forms a light transmitting portion by not using aluminum wiring.

【0053】(作用)本実施の形態2の光半導体装置の
作用は、以下の点で実施の形態1の場合と異なる。即
ち、以上に述べたエンコーダ構成においては、ガラス基
板24上に形成された配線パターン25を介して外部
(図示せす)から発光素子13に電流を流すことによ
り、発光面20から矢印で示すようなレーザ光が投射さ
れる。このレーザ光は、ガラス基板24を通ってスケー
ル10の表面に到達し、そこでの反射光は、同じく矢印
で示すごとく再びガラス基板24を通って受光素子14
上の受光面21に達する。そして受光素子14により電
気信号に変換され、その出力は配線パターン25を経由
して外部の処理回路(図示せず)の入力信号となる。
(Operation) The operation of the optical semiconductor device of the second embodiment is different from that of the first embodiment in the following points. That is, in the encoder configuration described above, a current is applied to the light emitting element 13 from the outside (not shown) via the wiring pattern 25 formed on the glass substrate 24, and as shown by an arrow from the light emitting surface 20. Laser light is projected. This laser light reaches the surface of the scale 10 through the glass substrate 24, and the reflected light therefrom again passes through the glass substrate 24 as shown by the arrow, and the light receiving element 14
The light reaches the upper light receiving surface 21. Then, the light is converted into an electric signal by the light receiving element 14, and the output becomes an input signal of an external processing circuit (not shown) via the wiring pattern 25.

【0054】(効果)上述した実施の形態2の光半導体
装置によれば、光の透過率の高いガラス基板24を用い
ているため、配線基板であるガラス基板24に精密な加
工精度を要する切り欠き等の加工を施さなくてもよく、
これにより、ガラス基板24の表面からのゴミや埃の侵
入を防止できるという効果がある。
(Effect) According to the optical semiconductor device of the second embodiment described above, since the glass substrate 24 having a high light transmittance is used, the glass substrate 24 serving as the wiring substrate needs to be precisely cut. It is not necessary to perform processing such as chipping,
Thereby, there is an effect that dust and dust can be prevented from entering from the surface of the glass substrate 24.

【0055】また、前記ガラス基板24は硬質基材であ
るため、既述した実施の形態1に比べて実装部の機械的
強度が大きくなり、装置全体の耐久性を向上できるとい
う効果も奏する。
Further, since the glass substrate 24 is a hard base material, the mechanical strength of the mounting portion is increased as compared with the above-described first embodiment, and there is an effect that the durability of the entire device can be improved.

【0056】(実施の形態3) (構成)図4を参照して本発明の実施の形態3について
説明する。尚、実施の形態1と同一部分には同一の符号
を付してその説明を省略する。図4は、本実施の形態2
の光半導体装置の断面図である。
(Embodiment 3) (Configuration) Embodiment 3 of the present invention will be described with reference to FIG. The same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. FIG. 4 shows the second embodiment.
It is sectional drawing of the optical semiconductor device of FIG.

【0057】本実施の形態3は、実施の形態1と以下の
点で異なる。即ち、実装部が、透光部26を有するガラ
スエポキシ基板又はガラス基板からなる硬質基板27
と、外部回路(図示せず)との配線部が屈曲性を有する
フレキシブル配線基板である配線基板28からなる2種
類の配線基板で構成される。
The third embodiment differs from the first embodiment in the following points. That is, the mounting portion is a hard substrate 27 made of a glass epoxy substrate or a glass substrate having a light transmitting portion 26.
And a wiring portion for an external circuit (not shown) is formed of two types of wiring boards including a wiring board 28 which is a flexible wiring board having flexibility.

【0058】また、透光部26は、実施の形態1と同様
に、硬質基板27における発光素子13の発光面20と
受光素子14の受光面21との対向部分を切り欠いて構
成している。
Further, as in the first embodiment, the light transmitting portion 26 is formed by cutting out a portion of the hard substrate 27 opposite to the light emitting surface 20 of the light emitting element 13 and the light receiving surface 21 of the light receiving element 14. .

【0059】硬質基板27と配線基板28上には、各々
配線パターン29及び配線パターン30が設けられてい
る。
A wiring pattern 29 and a wiring pattern 30 are provided on the hard substrate 27 and the wiring substrate 28, respectively.

【0060】前記両配線パターン29、30は対向して
おり、ハンダや異方性導電材(図示せず)を用いて電気
的に接合している。尚、前記両配線パターン29、30
の材質は、実施の形態1の場合と同一材質としている。
The two wiring patterns 29 and 30 are opposed to each other, and are electrically connected by using solder or an anisotropic conductive material (not shown). The wiring patterns 29, 30
Are the same as those in the first embodiment.

【0061】(作用)本実地の形態3の作用は、以下の
点で実施の形態1の場合と異なる。
(Operation) The operation of the third embodiment differs from that of the first embodiment in the following points.

【0062】即ち、実施の形態3のエンコーダー構成に
おいては、配線パターン30、配線パターン29の順で
これらを介して外部(図示せす)から発光素子13に電
流を流すことにより、図4に示すように、発光素子13
の発光面20から矢印で示すようなレーザー光が投射さ
れる。
That is, in the encoder configuration of the third embodiment, a current is applied to the light emitting element 13 from the outside (not shown) through the wiring pattern 30 and the wiring pattern 29 in this order, as shown in FIG. As described above, the light emitting element 13
A laser beam as shown by an arrow is projected from the light-emitting surface 20 of FIG.

【0063】このレーザー光は、硬質基板27の透光部
26を通ってスケール10の表面に到達し、そこでの反
射光は矢印で示すごとく再び硬質基板27の透光部26
を通って受光素子14上の受光面21に達する。
The laser beam passes through the light transmitting portion 26 of the hard substrate 27 and reaches the surface of the scale 10, and the reflected light there again returns to the light transmitting portion 26 of the hard substrate 27 as shown by the arrow.
And reaches the light receiving surface 21 on the light receiving element 14.

【0064】そして受光素子14により電気信号に変換
され、その出力は、配線パターン29、配線パターン3
0の順で経由して外部の処理回路(図示せず)の入力信
号となる。
The light is converted into an electric signal by the light receiving element 14, and the output is output to the wiring pattern 29 and the wiring pattern 3.
It becomes an input signal of an external processing circuit (not shown) via 0 in order.

【0065】(効果)上述した本実施の形態3の光半導
体装置によれば、機械的強度を要求される実装部に硬質
基板27を用い、基板形状の自由度を要求される外部回
路との配線に配線基板28を用いることにより、装置の
耐久性と実装設計の自由度の両方を同時に向上できると
いう効果がある。
(Effect) According to the optical semiconductor device of the third embodiment described above, the hard substrate 27 is used for the mounting portion requiring mechanical strength, and the optical semiconductor device can be connected to an external circuit requiring flexibility in the substrate shape. By using the wiring board 28 for the wiring, there is an effect that both the durability of the device and the degree of freedom of the mounting design can be simultaneously improved.

【0066】(実施の形態4) (構成)図6を参照して本発明の実施の形態4について
説明する。尚、実施の形態1と同一部分には同一の符号
を付してその説明を省略する。図6は、本実施の形態4
の光半導体装置の断面図である。
(Embodiment 4) (Configuration) Embodiment 4 of the present invention will be described with reference to FIG. The same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. FIG. 6 shows the fourth embodiment.
It is sectional drawing of the optical semiconductor device of FIG.

【0067】本実施の形態4の光半導体装置は、実態の
形態1と以下の点で異なる。即ち、発光素子13の発光
面20のある上面及びAuワイヤ19が配線基板11の
透光部12の厚さの範囲内に配置されるように、接着層
32の厚さを調整して、受光素子14が配線基板11に
接合される。
The optical semiconductor device of the fourth embodiment differs from the first embodiment in the following points. That is, the thickness of the adhesive layer 32 is adjusted so that the upper surface of the light emitting element 13 with the light emitting surface 20 and the Au wire 19 are arranged within the thickness range of the light transmitting portion 12 of the wiring board 11. The element 14 is joined to the wiring board 11.

【0068】さらに詳述すると、発光素子13の裏面か
らAuワイヤ19の頂部までの距離sが、Auバンプ3
1とランド16との厚みの和以上で、Auバンプ31と
ランド16と配線基板11の透光部12との厚みの和以
下となるようにAuバンプ31の厚さを調整する。
More specifically, the distance s from the back surface of the light emitting element 13 to the top of the Au wire 19 is equal to the Au bump 3.
The thickness of the Au bump 31 is adjusted so as to be not less than the sum of the thicknesses of the first and the lands 16 and not more than the sum of the thicknesses of the Au bump 31, the land 16 and the light transmitting portion 12 of the wiring board 11.

【0069】従って、配線基板11の表面と、スケール
10との距離を実施の形態1と同じにした場合、発光素
子13の発光面(レーザ出力口)20からスケール10
までの距離が、実施の形態1の場合よりも短くなる。
Therefore, when the distance between the surface of the wiring board 11 and the scale 10 is the same as in the first embodiment, the distance from the light emitting surface (laser output port) 20 of the light emitting element 13 to the scale 10
Is shorter than in the first embodiment.

【0070】なお、本実施の形態4では配線基板を、配
線基板11としたが、実施の形態3に示した切り欠きを
有するガラスエポキシ基板としても構わない。
In the fourth embodiment, the wiring substrate is the wiring substrate 11, but may be the glass epoxy substrate having the notch shown in the third embodiment.

【0071】(作用)上述した本実施の形態4の光半導
体装置によれば、発光素子13の発光面から投射される
レーザ光がより接近した位置にあるスケール10で反射
され受光面21に達する。この他の作用は、実施の形態
1の場合と同様である。
(Operation) According to the optical semiconductor device of the fourth embodiment described above, the laser light projected from the light emitting surface of the light emitting element 13 is reflected by the scale 10 located at a closer position and reaches the light receiving surface 21. . Other operations are the same as those in the first embodiment.

【0072】(効果)上述した本実施の形態4の光半導
体装置によれば、配線基板11の表面とAuワイヤ19
の頂部までの距離tが小さくなるので、発光面20と対
象物であるスケール10との距離を最も近接することが
でき、これにより光半導体装置とスケール10との距離
の調整範囲の拡大を図れる。従って、装置性能の最適化
が容易となるという効果がある。
(Effect) According to the optical semiconductor device of the fourth embodiment described above, the surface of the wiring board 11 and the Au wires 19
Is small, the distance between the light emitting surface 20 and the scale 10, which is the object, can be made closest to each other, whereby the adjustment range of the distance between the optical semiconductor device and the scale 10 can be expanded. . Therefore, there is an effect that the optimization of the device performance is facilitated.

【0073】(実施の形態5) (構成)図7、図8を参照して本発明の実施の形態5に
ついて説明する。尚、実施の形態1と同一部分には同一
の符号を付してその説明を省略する。図7は、本実施の
形態5の光半導体装置の平面図、図8は図7のB−B線
断面図である。また、図9は、実施の形態5の光半導体
装置の変形例の断面図である。
(Fifth Embodiment) (Structure) A fifth embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. The same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted. FIG. 7 is a plan view of the optical semiconductor device according to the fifth embodiment, and FIG. 8 is a sectional view taken along line BB of FIG. FIG. 9 is a sectional view of a modification of the optical semiconductor device of the fifth embodiment.

【0074】本実施の形態5の光半導体装置は、実態の
形態1と以下の点で異なる。即ち、配線基板11の透光
部12を含む装置の透光部36を、シリコーン樹脂や紫
外線硬化型のエポキシ樹脂からなる透過性を有する封止
材35で封止する。封止材35は配線基板11の表面か
らはみ出さないものとする。
The optical semiconductor device of the fifth embodiment differs from the first embodiment in the following points. That is, the light-transmitting portion 36 of the device including the light-transmitting portion 12 of the wiring board 11 is sealed with a transparent sealing material 35 made of a silicone resin or an ultraviolet-curable epoxy resin. The sealing material 35 does not protrude from the surface of the wiring board 11.

【0075】また、変形例として図9に示すように、配
線基板11の透光部12を、透光率の高いガラス板38
で配線基板11の表面上から覆い、その周囲をエポキシ
系接着剤39で固定することで封止してもよい。
As a modified example, as shown in FIG. 9, the light transmitting portion 12 of the wiring board 11 is replaced with a glass plate 38 having a high light transmittance.
May be covered from above the surface of the wiring board 11, and the periphery thereof may be fixed by fixing with an epoxy-based adhesive 39.

【0076】(作用)本実施の形態5によれば、発光面
20から投射されるレーザー光は、封止材35を通って
スケール10の表面に到達し、その反射光は矢印で示す
ごとく再び封止材35を通って受光素子14上の受光面
21に達する。
(Operation) According to the fifth embodiment, the laser light projected from the light emitting surface 20 reaches the surface of the scale 10 through the sealing material 35, and the reflected light is again reflected as shown by the arrow. The light reaches the light receiving surface 21 on the light receiving element 14 through the sealing material 35.

【0077】(効果)本実施の形態5の光半導体装置に
よれば、発光面20及び受光面21を封止材35で封止
することにより、装置の耐湿性を向上することが可能と
なるという効果がある。
(Effect) According to the optical semiconductor device of the fifth embodiment, by sealing the light emitting surface 20 and the light receiving surface 21 with the sealing material 35, the moisture resistance of the device can be improved. This has the effect.

【0078】(実施の形態6) (構成)図10を参照して本発明の実施の形態6につい
てを説明する。尚、実硬の形態1と同一部材には同一の
符号を付して説明を省略する。図10は、本実施の形態
6の光半導体装置の断面図である。
(Embodiment 6) (Configuration) Embodiment 6 of the present invention will be described with reference to FIG. The same members as those of the actual hard disk 1 are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. FIG. 10 is a sectional view of the optical semiconductor device according to the sixth embodiment.

【0079】本実施の形態6の光半導体装置は、実施の
形態1の光半導体装置と以下の点で異なる。則ち、受光
素子14の周囲とその近傍の配線基板11をエポキシ系
接着剤40で補強したものである。
The optical semiconductor device of the sixth embodiment differs from the optical semiconductor device of the first embodiment in the following points. That is, the wiring substrate 11 around the light receiving element 14 and the vicinity thereof is reinforced with the epoxy adhesive 40.

【0080】尚、本実施の形態6では配線基板11をF
PCとしたが、ガラスエポキシ基板やガラス基板等の硬
質基板でもよい。
In the sixth embodiment, the wiring substrate 11 is
Although a PC was used, a hard substrate such as a glass epoxy substrate or a glass substrate may be used.

【0081】(作用)本実施の形態6の光半導体装置の
作用は、以下の点で実施の形態1の光半導体装置と異な
る。即ち、外部回路(図示せず)と接続される配線部2
3に図10に矢印で示した曲げ応力が加わっても、エポ
キシ系接着剤40により実装部22は影響を受けにくい
という作用を発揮する。
(Operation) The operation of the optical semiconductor device of the sixth embodiment differs from that of the first embodiment in the following points. That is, the wiring section 2 connected to an external circuit (not shown)
In addition, even if the bending stress indicated by the arrow in FIG.

【0082】(効果)上述した光半導体装置によれば、
装置の機械的強度を向上することができるという効果が
ある。
(Effect) According to the above-described optical semiconductor device,
There is an effect that the mechanical strength of the device can be improved.

【0083】(実施の形態7) (構成)図11を参照して本発明の実施の形態7につい
て説明する。実装の形態1と同一部材には同一の符号を
付しで説明を省略する。図11は、本実施の形態7の光
半導体装置の断面図である。
(Embodiment 7) (Configuration) Embodiment 7 of the present invention will be described with reference to FIG. The same members as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and description thereof is omitted. FIG. 11 is a sectional view of the optical semiconductor device according to the seventh embodiment.

【0084】本実施の形態7の光半導体装置は、実施の
形態1の光半導体装置と以下の点で異なる。即ち、受光
素子14上の発光素子13及びAuワイヤ19が、配線
基板49の基板端から露出している。この構成に基づ
き、透光部50と配線基板49と接着層48の面積は基
板端が後退したのに伴い縮小している。
The optical semiconductor device of the seventh embodiment differs from the optical semiconductor device of the first embodiment in the following points. That is, the light emitting element 13 and the Au wire 19 on the light receiving element 14 are exposed from the end of the wiring board 49. Based on this configuration, the areas of the light transmitting portion 50, the wiring substrate 49, and the adhesive layer 48 are reduced as the substrate ends recede.

【0085】(作用)本実施の形態7によれば、発光面
20より投射されるレーザー光は、透光部50を通ら
ず、スケール10の表面に到達し、その反射光は図11
に矢印で示すごとく透光部50を通って受光素子14上
の受光面21に達する。
(Effect) According to the seventh embodiment, the laser light projected from the light emitting surface 20 does not pass through the light transmitting part 50 but reaches the surface of the scale 10 and the reflected light is reflected in FIG.
As shown by an arrow, the light reaches the light receiving surface 21 on the light receiving element 14 through the light transmitting part 50.

【0086】(効果)上述した光半導体装置によれば、
発光素子13を配線基板11から露出する構成とするこ
とで、Auワイヤ19の接合工程を最終工程出行うこと
が可能となる。この結果、Auワイヤ19が配線基板4
9と接触し、組み立て時に断線する危倹率を低減できる
という効果がある。
(Effect) According to the above-described optical semiconductor device,
With the configuration in which the light emitting element 13 is exposed from the wiring board 11, the bonding step of the Au wire 19 can be performed in the final step. As a result, the Au wire 19 is
9 has the effect of reducing the risk of disconnection during assembly.

【0087】以上説明した本発明によれば、以下の構成
を付記することができる。 (付記1)対象物に対して光を照射する発光素子と、前
記対象物からの光を受光検出する受光素子と、前記受光
素子及び発光素子を支持するとともに前記受光素子と電
気的に接続された配線基板とを有する光半導体装置であ
って、前記発光素子及び前記受光素子を、前記配線基板
における前記対象物に対向する面とは反対側の面に接合
するとともに、前記配線基板の前記発光素子の発光面と
前記受光素子の受光面に対応する領域に透光部と、前記
受光素子と前記配線基板の接合部に設けられ、前記受光
素子周縁とその近傍の配線基板領域を補強する絶縁性接
着剤層とを有すること特徴とする光半導体装置。
According to the present invention described above, the following configuration can be added. (Supplementary Note 1) A light emitting element that irradiates light to an object, a light receiving element that receives and detects light from the object, and supports the light receiving element and the light emitting element and is electrically connected to the light receiving element. An optical semiconductor device, comprising: a light-emitting element and a light-receiving element, wherein the light-emitting element and the light-receiving element are joined to a surface of the wiring substrate opposite to a surface facing the object; A light-transmitting portion provided in a region corresponding to the light-emitting surface of the element and the light-receiving surface of the light-receiving element; An optical semiconductor device comprising a conductive adhesive layer.

【0088】この構成により、発光素子と対象物との距
離を短くすることができ、対象物に対する光半導体装置
の配置を、従来例の場合より一層容易に光学性能の最適
化距離に調整することが可能であり、かつ、光半導体装
置の機械的強度を保持することも可能となる。
With this configuration, the distance between the light emitting element and the object can be shortened, and the arrangement of the optical semiconductor device with respect to the object can be more easily adjusted to the optimum distance for the optical performance than in the conventional example. It is also possible to maintain the mechanical strength of the optical semiconductor device.

【0089】(付記2)前記発光素子が、前記配線基板
に接合された前記受光素子の上面端部に固定されている
ことを特徴とする付記1記載の光半導体装置。この構成
により、光半導体装置を受光素子のサイズとほぼ同等の
占有スペースとなるように小型にすることが可能とな
る。
(Supplementary note 2) The optical semiconductor device according to Supplementary note 1, wherein the light emitting element is fixed to an upper surface end of the light receiving element joined to the wiring board. With this configuration, it is possible to reduce the size of the optical semiconductor device so as to have an occupied space substantially equal to the size of the light receiving element.

【0090】(付記3)前記配線基板の透光部は、透光
性を有する封止材で封止されていることを特徴とする付
記1又は2記載の光半導体装置。この構成により、対象
物に対する光半導体装置の配置を、光学性能の最適化距
離に容易に調整することが可能であり、かつ、光半導体
装置の耐久性を向上できる。
(Supplementary Note 3) The optical semiconductor device according to Supplementary note 1 or 2, wherein the light transmitting portion of the wiring substrate is sealed with a sealing material having a light transmitting property. With this configuration, it is possible to easily adjust the arrangement of the optical semiconductor device with respect to the object to the optimum distance for the optical performance, and to improve the durability of the optical semiconductor device.

【0091】[0091]

【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、従来例の
場合より一層容易に光学性能の最適化距離に調整するこ
とが可能な光半導体装置を提供することができる。
According to the first aspect of the present invention, it is possible to provide an optical semiconductor device capable of adjusting the optical performance to the optimum distance more easily than in the conventional example.

【0092】請求項2記載の発明によれば、受光素子の
サイズとほぼ同等の占有スペースとなるように小型にす
ることが可能な光半導体装置を提供することができる。
According to the second aspect of the present invention, it is possible to provide an optical semiconductor device which can be reduced in size so as to have an occupied space substantially equal to the size of the light receiving element.

【0093】請求項3記載の発明によれば、耐湿性等の
耐久性を向上できる光半導体装置を提供することができ
る。
According to the third aspect of the present invention, it is possible to provide an optical semiconductor device capable of improving durability such as moisture resistance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の実施の形態1の光半導体装置の平面図
である。
FIG. 1 is a plan view of an optical semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】図1のA−A線断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line AA of FIG.

【図3】本発明の実施の形態2の光半導体装置の断面図
である。
FIG. 3 is a sectional view of an optical semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.

【図4】本発明の実施の形態3の光半導体装置の断面図
である。
FIG. 4 is a sectional view of an optical semiconductor device according to a third embodiment of the present invention.

【図5】図1に示す実施の形態1の光半導体装置の変形
例の平面図である。
FIG. 5 is a plan view of a modification of the optical semiconductor device of the first embodiment shown in FIG.

【図6】本発明の実施の形態4の光半導体装置の断面図
である。
FIG. 6 is a sectional view of an optical semiconductor device according to a fourth embodiment of the present invention.

【図7】本発明の実施の形態5の光半導体装置の平面図
である。
FIG. 7 is a plan view of an optical semiconductor device according to a fifth embodiment of the present invention.

【図8】図7のB−B線断面図である。FIG. 8 is a sectional view taken along line BB of FIG. 7;

【図9】本発明の実施の形態5の光半導体装置の変形例
の断面図である。
FIG. 9 is a sectional view of a modification of the optical semiconductor device according to the fifth embodiment of the present invention.

【図10】本発明の実施の形態6の光半導体装置の断面
図である。
FIG. 10 is a sectional view of an optical semiconductor device according to a sixth embodiment of the present invention.

【図11】本発明の実施の形態7の光半導体装置の断面
図である。
FIG. 11 is a sectional view of an optical semiconductor device according to a seventh embodiment of the present invention.

【図12】従来の光半導体装置の断面図である。FIG. 12 is a sectional view of a conventional optical semiconductor device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 スケール 11 配線基板 11a 端面 12 透光部 13 発光素子 13a 端面 14 受光素子 15 バンプ 16 ランド 17 接着層 18 配線パターン 19 ワイヤ 20 発光面 21 受光面 22 実装部 23 配線部 24 ガラス基板 25 配線パターン 26 透光部 27 硬質基板 28 配線基板 29 配線パターン 30 配線パターン 31 バンプ 32 接着層 35 封止材 38 ガラス板 39 エポキシ系接着剤 40 エポキシ系接着剤 48 接着層 49 配線基板 50 透光部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Scale 11 Wiring board 11a End face 12 Translucent part 13 Light emitting element 13a End face 14 Light receiving element 15 Bump 16 Land 17 Adhesive layer 18 Wiring pattern 19 Wire 20 Light emitting surface 21 Light receiving surface 22 Mounting part 23 Wiring part 24 Glass substrate 25 Wiring pattern 26 Translucent part 27 Hard substrate 28 Wiring board 29 Wiring pattern 30 Wiring pattern 31 Bump 32 Adhesive layer 35 Sealing material 38 Glass plate 39 Epoxy-based adhesive 40 Epoxy-based adhesive 48 Adhesive layer 49 Wiring board 50 Light-transmitting part

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2F065 AA07 AA09 AA39 BB02 BB03 BB29 DD13 FF17 FF65 FF67 GG06 HH04 JJ09 MM04 PP22 QQ51 2F103 BA04 CA03 DA13 EA02 EA12 EB02 EB11 EB27 EB32 ED21 GA02 GA03 GA08 GA15 5F073 AB17 BA04 EA29 FA21 FA30 5F089 BA01 BA04 BB02 BC11 BC16 CA20 EA01 EA03  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page F-term (reference) 2F065 AA07 AA09 AA39 BB02 BB03 BB29 DD13 FF17 FF65 FF67 GG06 HH04 JJ09 MM04 PP22 QQ51 2F103 BA04 CA03 DA13 EA02 EA12 EB02 EB11 EB27 EB32 EB21 GA03 FA03 5F089 BA01 BA04 BB02 BC11 BC16 CA20 EA01 EA03

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対象物に対して光を照射する発光素子
と、 前記対象物からの光を受光検出する受光素子と、 前記受光素子及び発光素子を支持するとともに前記受光
素子と電気的に接続された配線基板とを有する光半導体
装置であって、 前記発光素子及び前記受光素子を、前記配線基板におけ
る前記対象物に対向する面とは反対側の面に発光素子が
端部側に位置する配置で重合接合するとともに、前記配
線基板の前記発光素子の発光面と前記受光素子の受光面
に対応する領域に透光部を設けたこと、 を特徴とする光半導体装置。
1. A light emitting element for irradiating light to an object, a light receiving element for receiving and detecting light from the object, and supporting the light receiving element and the light emitting element and being electrically connected to the light receiving element. An optical semiconductor device comprising: a wiring substrate, wherein the light emitting element and the light receiving element are located on an end side on a surface of the wiring substrate opposite to a surface facing the object. An optical semiconductor device, wherein the light-transmitting portion is provided in a region corresponding to the light-emitting surface of the light-emitting element and the light-receiving surface of the light-receiving element on the wiring substrate, while being superposed and joined in an arrangement.
【請求項2】 前記発光素子が、前記配線基板に接合さ
れた前記受光素子の上面端部に固定されていることを特
徴とする請求項1記載の光半導体装置。
2. The optical semiconductor device according to claim 1, wherein said light emitting element is fixed to an upper surface end of said light receiving element joined to said wiring board.
【請求項3】 前記配線基板の透光部は、透光性を有す
る封止材で封止されていることを特徴とする請求項1又
は2記載の光半導体装置。
3. The optical semiconductor device according to claim 1, wherein the light-transmitting portion of the wiring substrate is sealed with a light-transmitting sealing material.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005002011A1 (en) * 2003-06-26 2005-01-06 Sumitomo Electric Industries,Ltd. Communication module
JP2008112800A (en) * 2006-10-30 2008-05-15 Sendai Nikon:Kk Light-emitting diode, encoder and method of covering light-emitting diode

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