JP2001221897A - 電子線分布測定装置 - Google Patents

電子線分布測定装置

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JP2001221897A
JP2001221897A JP2000034579A JP2000034579A JP2001221897A JP 2001221897 A JP2001221897 A JP 2001221897A JP 2000034579 A JP2000034579 A JP 2000034579A JP 2000034579 A JP2000034579 A JP 2000034579A JP 2001221897 A JP2001221897 A JP 2001221897A
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Yoshiharu Shimaoka
義治 島岡
Tatsunobu Sugita
達信 杉田
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Nissin High Voltage Co Ltd
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Nissin High Voltage Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 電子線照射装置の電子線照射領域において電
子線強度が空間的にゆらぐと被処理物の照射量が局所的
にばらつく。電子線照射量の空間分布を、広い電流範囲
で、より正確に、より長時間測定すること。 【解決手段】 電子線の照射窓の直下に電流測定子を多
数置き、電流測定子を抵抗を介して接地し各電流測定子
に流れる電流を測定する。照射領域での電子線電流の空
間分布がこれから分かる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、電子線照射装置
において照射幅方向に電子線分布を測定するための装置
に関する。電子線照射装置は真空中でフィラメントから
熱電子を発生させ加速し照射窓から大気中に取り出して
被照射物に電子線を照射する装置である。熱電子を発生
するためのフィラメントは真空中にあり加速管や走査管
も真空中にある。被照射物は大気中を搬送されるから間
に照射窓が必要である。照射窓にはTi、Alなど金属
窓箔が貼ってある。これは電子線を通し空気を通さない
から真空を維持できるのである。
【0002】加速電圧は電子線に運動エネルギーを与え
るものである。フィラメントと引出電極の間に高電圧を
掛けて電子ビ−ムを引き出し、これを加速する。加速電
圧は被処理物や目的によって異なる。加速エネルギーは
数百kV〜数MVの程度である。
【0003】電子線照射装置はビーム走査を行う走査型
のものと、ビーム非走査のエリア型のものがある。加速
エネルギーが高いものは走査型にするものが多い。高電
圧を分割して掛けるために、複数枚の電極板が経路に沿
って並んでいる。高速で走行するビームは広がりが狭く
細いビームとすることができる。これをコイルによって
x方向とy方向に走査する。被処理物の上でビームがx
方向y方向に動くから被処理物の全体に一様に電子線を
照射できる。しかし、走査型のものは装置が大規模で複
雑であり高価である。
【0004】エリア型のものはビーム走査をしない。実
効面積が広い蛇行した形状のフィラメントから熱電子を
発生させカソードとの間で加速する。1段階加速である
から低いエネルギーしか得られない。広い実効面積のフ
ィラメントから電子ビ−ムが出るから走査装置は不要で
ある。
【0005】いずれにしても照射窓の直下にはコンベヤ
など搬送装置を設けて被照射物を搬送させる。照射窓の
直下を通過する時被照射物は電子線照射を受ける。電子
線の作用は、高分子、ゴムの架橋、医療材料の滅菌など
である。
【0006】電子ビ−ムの進行方向をz方向とする。被
照射物の搬送方向をx方向とする。搬送方向とビーム方
向の両方に直交する方向をy方向とする。ビームのy方
向への広がりは被処理物の幅を全部覆うものでなければ
ならない。被処理物の単位面積あたりの電子線照射量は
一様であることが要求される。x方向は搬送方向である
から電子線強度と搬送速度が時間的に一様なら、x方向
の照射量は一様になる。
【0007】ところがy方向の電子線照射量は必ずしも
一様になるとは限らない。走査型の場合は走査コイルの
性能のばらつきによってy方向の単位面積あたりの照射
量は揺らぐ。走査型よりもなおエリア型(非走査型)の
場合にy方向の電子線密度のばらつきが問題になる。
【0008】Y方向の電子線照射量が一様でないとする
と、被処理物がどこを通るかということで受ける電子線
の量が異なる。ある部分では電子線照射量が過大になる
し、またある部分では照射量が不足する。被処理物をコ
ンベヤ上においてy方向に一様に分布させても照射量に
ばらつきが生ずる。照射量にばらつきがあるというのは
困った事である。
【0009】電子線の総量は電流を測定することによっ
て分かる。だから電子線量測定は簡単である。電子線総
量は常時モニタされる。ところが空間分布を測定するの
は難しく面倒でもある。簡単に空間分布を測定できな
い。常時モニタするという訳には行かない。走査型の場
合でもエリア型の場合でもx方向に搬送するから、x方
向の分布よりもy方向の電子線照射分布の偏りが重大な
影響を持つ。y方向の電子線分布に偏りがあれば被処理
物の処理にばらつきが生ずる。そのような電子線の分布
偏奇は装置の癖ということもできよう。これを調べる簡
単で確実な方法は今でもない、といってよい。
【0010】
【従来の技術】電子線照射装置において、y方向に電子
線照射量がばらついてはいけない。電子線照射装置を製
造した時だけでなく、定期的に或いは随時にy方向の電
子線量分布を調べることが望ましい。
【0011】電子線量分布を調べる方法が皆無であった
というと正確でない。CTAフィルムというフィルムを
使って電子線の空間分布を測定する手法が知られてい
た。CTAフィルムというのは、電子線を受けて吸光度
が変化する特別な有機高分子材料を透明のテープに塗布
したものである。フィルム状であるから任意の形状に切
断できる。y方向の電子線照射範囲より長くCTAフィ
ルムを切断し、y方向に平行に搬送コンベヤに貼り付け
て、コンベヤを動かして、CTAフィルムを電子線照射
装置の照射窓の下に通す。照射窓を通る時に電子線がC
TAフィルムを照射する。電子線照射量に比例してCT
Aフィルムは吸光度が変化する。吸光度の変化は遅い化
学変化であり平衡に達するまでに約2時間かかる。コン
ベヤからCTAフィルムを取りさり、2時間おいてCT
Aフィルムを吸光度測定装置にかける。するとy方向の
吸光度分布がわかる。y方向の吸光度変化分布から電子
線照射量のy方向分布が求められる。
【0012】図1はCTAフィルムを搬送コンベヤに貼
ってエリア型電子線照射装置の照射窓の直下に通して電
子線量分布を求める従来の手法を示す。搬送コンベヤ2
1に、CTAフィルム22をy方向に平行になるよう貼
ってある。エリア型電子線照射装置の真空チャンバ2内
部のフィラメント(カソード)とアノードよりなる電子
源1から発生した電子線eは照射窓13の窓箔3を通
って大気中(照射室内)に出てコンベヤ21に当たる。
コンベヤ21をx方向に進めCTAフィルム22に電子
線を照射する。電子線量に応じてCTAフィルム22は
吸光度が変わる。フィルムは透明から褐色を帯びるよう
に変化する。肉眼でもそのような変化はわかる。しかし
定量化するために吸光度測定装置で厳密に測定する。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のC
TAフィルムの化学変化を使った方法にはいくつかの欠
点がある。精度が低く、測定可能な電子線量に限界があ
り、測定時間が長く、常時測定不可能というような欠点
である。
【0014】(1)測定精度が不十分 従来のCTAフィルムを使った測定では、 イ.CTAフィルム自体のばらつき ロ.CTAフィルム表面のごみ、汚れ、傷 ハ.CTAフィルム貼付時の波打ち などにより数%の誤差が伴う。CTAフィルムは高分子
材料でありフィルムに塗布した時の厚みばらつき塗布ム
ラなどがあり感度の空間的な揺らぎが生ずる。一様に塗
布できたとしても表面にゴミや汚れや傷があると電子線
が局所的に遮られる。また長いCTAフィルムをコンベ
ヤに貼り付ける時に一様に貼るのは難しい。重なったり
波打ったりすることがある。
【0015】(2)測定範囲が狭い CTAフィルムは最大10Mrad程度までしか測定で
きない。図2に吸収線量と吸光度の関係を示す。有機高
分子のフィルムであるから熱に弱く10Mrad以上の
照射量では焼損する。10Mrad以上の電子線分布を
測定したいという要求がある。例えば10Mrad〜1
5Mradの電子線照射をする被処理物も多い。そのよ
うな要求にCTAフィルムは応えることができない。
【0016】(3)測定に要する時間が長い CTAフィルムは電子線を吸収して吸光度が変化するが
反応は遅い。平衡に到達するまでに時間がかかる。電子
線照射後吸光度の値が落ちつくまで2時間程度待つ必要
がある。フィルムを取り出してから2時間放置し、その
後吸光度測定する。これでは時間がかかりすぎる。より
迅速に結果を知りたいものである。このように時間がか
かり特別の測定装置も要るので、CTAフィルムによる
電子線分布測定はこれまであまり実行されていなかっ
た、というのが実状である。
【0017】(4)常時計測ができない CTAフィルムはコンベヤに貼り付けて電子線を当て、
取り外してから電子線照射後2時間養生させなければな
らない。であるから連続的に常時測定するというような
ことは望めない。生産機械としての電子線照射装置の場
合は常時測定の必要性は薄い。しかし実験機械としての
電子線照射装置の場合、パラメータを変化させてコンベ
ヤ上の電子線y方向分布を知りたいということがある。
その場合に常時計測の必要性がある。
【0018】電子線空間分布を高精度で測定できる方法
を提供することが本発明の第1の目的である。10Mr
ad以上の電子線分布をも測定できる方法を提供する事
が本発明の第2の目的である。短時間で電子線空間分布
を測定できる方法を提供する事が本発明の第3の目的で
ある。電子線空間分布を常時計測できる方法を提供する
ことが本発明の第4の目的である。
【0019】
【課題を解決するための手段】本発明の電子線分布測定
装置は、電子線照射装置の照射窓の直下に、複数のビー
ム電流測定子を搬送方向と電子線方向に直角に並べ、電
流測定抵抗を通してアースに接続し、各電流測定抵抗の
両端の電圧によってビーム電流を求める。電子線がビー
ム電流測定子に当たると運動エネルギーを失ってジュー
ル熱を生じ単位電荷分の電流が流れる。これは電流測定
抵抗を通りアースに逃げて消滅する。抵抗を通る時に電
圧を発生するから抵抗両端の電圧を測定することにより
電流検出できる。おのおののビーム電流のデータはデー
タ分析器に入力する。
【0020】電流測定子は金属の棒材である。中実体の
棒でもよい。内部を中空にした棒でもよい。中空棒の場
合は内部に水を通して冷却することができる。電子線に
よってビーム電流測定子は加熱されるから冷却が必要に
なることが多い。ビーム電流測定子はy方向に複数個並
べる。だから照射窓長手方向のビーム強度分布を直ちに
求めることができる。つまり測定に時間がかからない。
化学変化などを利用しないからである。
【0021】電子1個の入射によって流れる電流は全部
がビーム電流測定子からアースに流れる。電流測定抵抗
を使ってビーム電流そのものを測定するので精度が高
い。化学変化を利用すると電流と吸光度の関係には、非
線形性などが介在し複雑である。本発明は直接にビーム
電流を検出するから正確である。
【0022】ビーム電流測定子を冷却しておけば電子線
照射量が増加しても電流を測定できる。10Mrad以
上は測定できないCTAフィルム法に比べ便利である。
この装置を搬送コンベヤの下で照射窓の直下に設けてお
けばコンベヤを止めて電子線を連続照射して常時計測も
可能である。コンベヤが電子線を幾分でも通すものであ
ればコンベヤを動かしながらでも常時計測できる。
【0023】
【発明の実施の形態】電子線は照射窓から出てy方向に
並ぶビーム電流測定子に当たる。ビーム電流測定子は金
属であるから電子は吸収され熱を発生し電流を生ずる。
ビーム電流測定子に流れるビーム電流は抵抗で電圧に変
換される。電流値データは、分析器へ送られる。分析器
にて、各測定位置での電流量がプロットされ、さらに最
大値、最小値、平均値、ばらつき(最大値/平均値)な
どの分析が行われ、表示される。
【0024】n個のビーム電流測定子G、G、…、
が照射窓の直下にy方向に整列しているとする。ビ
ーム電流測定子は電流測定抵抗R、R、…、R
介してアースされている。電子線照射量をQ、Q
…、Qとする。ビーム電流測定子に流れる電流を
、I、…、Iとする。電流測定抵抗の両端に現
れる電圧をU、U、…、Uとする。
【0025】電子はビーム電流測定子に当たって吸収さ
れ熱を出し、電荷素量e分の電流を生ずる。エネルギー
の高い電子はX線や二次電子を出すこともあるかもしれ
ない。X線は電荷がないから測定上の問題がない。二次
電子が出るとその分だけ電荷が減る。だからI(j=
1,2,…,n)はQにほぼ等しいが僅かに小さいか
もしれない。しかし、その減少分はn個の測定子に共通
であるからIはQに比例すると言える。
【0026】I=αQ (1)
【0027】αは1に近い定数である。これは電子エネ
ルギーに依存する。電流Iは電流測定抵抗Rを通っ
て電圧を発生するから、
【0028】U=R (2)
【0029】である。電圧Uを測定するから、Q
直ちに求めることができる。
【0030】Q=U/αR (3)
【0031】これをデータ分析器に送るようになってい
る。ビーム電流測定子の形状、寸法を任意に変化させる
こともできるが同一としてもよい。円筒状、円柱状、平
板状などおおまかな形状は任意であるが、x方向にある
程度の長さがあった方が良い。そこで「棒材」と表現し
た。
【0032】図3によって、本発明の構成を説明する。
これはエリア型(非走査型)の電子線照射装置である。
本発明はもちろん走査型の電子線照射装置にも適用でき
る。真空チャンバ2はステンレスなど金属製の容器で内
部を真空に保持している。真空チャンバ2の内部に電子
源1が設けられる。電子源1はフィラメントとアノード
を組み合わせたものである。カソードであるフィラメン
トから熱電子を出しアノード間で加速する。加速された
電子線eが下方に向かって平行に飛ぶ。エリア型であ
るから走査機構がない。フィラメントが充分な実効面積
を持ち電子が広い面積において等分に発生するように工
夫されている。照射断面(照射領域)Sは必ずしも矩形
でないが、x方向にk、y方向にhの寸法を持つものと
する。x方向に搬送するからkは短くてもよいがhはか
なり大きい必要がある。
【0033】真空チャンバ2の下方には開口部があり、
この開口部が照射窓13である。照射窓13は電子線断
面S(h×k)よりも大きい広がりを持つ。照射窓13
にはTi、Alなどの薄い金属製の窓箔3が貼ってあ
る。窓箔3の上は真空で、下は大気圧である。窓箔3は
真空チャンバ2内の真空を保持し電子線を透過させると
いう二つの役割がある。
【0034】真空チャンバ2の照射窓13の下には照射
室4が設けられる。金属で囲んだ広い空間であり搬送コ
ンベヤなどが設けられる。ここでは簡単のため搬送機構
は図示していない。図3はyz断面であり、搬送コンベ
ヤは図3において紙面と直角の方向(x方向)に動く。
【0035】照射室4は金属によって閉じられる。電子
線によってX線が出るのでX線が外部に出ないような工
夫がなされる。コンベヤの経路を上下にまげコンベヤの
上下に遮蔽板を垂直に設けたりする。
【0036】照射室4の内部にビームと直角に(xy
面)測定子絶縁支持台5が設けられる。特にy方向に長
い台である。これはセラミック、プラスチックなど絶縁
体の板である。測定子絶縁支持台5の下にはビームキャ
ッチャー7がある。これは金属製の台で放熱の為に設け
てある。測定時間が短く温度が上がらない場合は不要で
ある。またビーム電流測定子に冷却媒体を通す場合もビ
ームキャッチャー7は不要である。
【0037】測定子絶縁支持台5の上には、y方向にい
くつもの棒状のビーム電流測定子6が取り付けられる。
一つ一つのビーム電流測定子6はx方向に延びる金属棒
材である。個々のビーム電流測定子は互いに絶縁されて
おり電気的に独立である。
【0038】n個のビーム電流測定子のどこかに独立の
n本のケーブル8の一端が接続される。n本のケーブル
は照射室4の外部に取り出される。n本のケーブルは多
チャンネル電流計測器9につながれる。これはn個の電
流測定抵抗R〜Rを介してケーブルをアースし、電
流測定抵抗R〜Rに流れる電流I〜Iを測定す
る装置である。
【0039】複数の電流信号I〜Iが、多チャンネ
ル電流計測器9からデータ分析器10に伝送される。こ
れは電流値をもとに様々の処理をする。モニタ画面に電
子線分布Q〜Qを映し出すことができる。図ではそ
のような状態を例示している。データはメモリに記録し
蓄積できるし、さまざまの演算に利用することもでき
る。
【0040】この例では多チャンネル電流計測器9は照
射室の外部に設けられているが、これに相当するものを
照射室4の内部に設けることもできる。図4にそのよう
な例を示す。測定子絶縁支持台の図示は略す。支持体1
1とおのおののビーム電流測定子6の間に電流測定抵抗
〜Rを接続し、支持体11をグランドに落とす。
ビーム電流測定子に繋いだケーブル8を外部に取り出
す。このケーブルには電流量に比例する電圧U〜U
が現れている。こうすると照射室内部に電流測定抵抗を
収容できる。
【0041】また多チャンネル電流計測器9はn本の独
立の抵抗を用いる必要はない。1本の抵抗だけを用いて
スイッチによって、n個のビーム電流測定子6と1本の
抵抗を切り替えるようにしても良い。こうすると抵抗分
の体積を減らすことができ抵抗値のばらつきの問題もな
い。図5にはそのような多チャンネル電流計測器9の例
を示す。n個の入力端子を1個の端子に選択的に接続す
るスイッチユニット12と、一つの電流測定抵抗R
ある。データ分析器10からチャンネル切り替え信号が
送られ、これによってスイッチを切り替える。測定結果
である電圧U〜Uは時系列的にデータ分析器10に
伝送される。
【0042】
【実施例】[実施例1(ビーム電流測定子が照射領域の
x方向より長い)]図6にビーム電流測定子の一例を示
す。照射領域S(h×k)のy方向(h方向)に均分に
ビーム電流測定子が配分されている。ビーム電流測定子
は角型、丸型、半丸型などの金属棒である。中実体であ
ってもよいし中空体であってもよい。図11にビーム電
流測定子の断面形状の例を示す。x軸に平行なビーム電
流測定子は一定のピッチbでy方向に並んでいる。bn
は、照射領域の幅hにほぼ等しい。ビーム電流測定子の
長さLは、照射領域の長さkより長い(L>k)。これ
によって照射領域Sのy方向のn点での電子線量が分か
る。
【0043】[実施例2(x方向にも複数のビーム電流
測定子がある)]図7にはx方向にもm個のビーム電流
測定子6を並べているものを示す。合計mn個のビーム
電流測定子を照射領域Sに縦横に並べたものである。y
方向のビーム強度分布だけでなくて、x方向のビーム強
度分布も分かる。
【0044】[実施例3(内部に冷却媒体を通すも
の)]図8にはビーム電流測定子を中空にして内部に冷
却媒体を通すものを示す。n個のビーム電流測定子6に
冷却媒体15を通す。測定子は相互に絶縁されていなけ
ればならないから、折り返し点に絶縁導管14を設けて
隣接ビーム電流測定子を繋ぎ蛇行するように冷却媒体
が、ビーム電流測定子と絶縁導管14の内部を進行する
ようにする。常時冷却されるのでビーム電流測定子が加
熱損傷することがない。連続長時間の測定が可能であ
る。冷却媒体としては高抵抗の純水などを用いることが
できる。絶縁導管14は例えばFRP(ファイバ強化プ
ラスチック)を用いることができる。
【0045】[実施例4(内部に冷却媒体を保持す
る)]図9に示すように中空のビーム電流測定子6に熱
容量の大きい冷却媒体を充填するようにもできる。前例
のように媒体を通すのでないからホースや絶縁導管が不
要である。これでも1分〜数分の測定に耐える。
【0046】[実施例5(ビーム電流測定子を内部で抵
抗によってアースした)]高電圧中で金属部材は浮動電
位になるとチャージアップ、放電などがおこって好まし
くない。これを回避できる構成例を述べる。図10はビ
ーム電流測定子6を抵抗によって支持台に接続したもの
を示す。支持台17はアースされ、その上に絶縁物16
を介してビーム電流測定子6が乗せてある。これは図4
で示したものと同じである。そのようにするとビーム電
流測定子6が抵抗18(R)でグランドに接続されて
いるから、ケーブルが途中で断線(19)しても、ビー
ム電流測定子の電位が浮動しない。
【0047】
【発明の効果】(1)CTAフィルムのように化学反応
を使わず直接電子線のビーム電流を計測する。精度の良
い電子線電流測定ができる。 (2)ビーム負荷に対して適当な測定時間、或いは冷却
を施せば測定電流の制限がなくなる。CTAフィルムで
は計測できなかった高い線量(10Mrad以上)に相
当するビーム電流を計測できる。 (3)リアルタイムで計測できる。 (4)測定子を冷却すれば常設することができる。任意
の時に分布測定できる。 (5)取り外しが簡単である。
【図面の簡単な説明】
【図1】CTAフィルムを用いた従来例にかかる電子線
電流測定方法を説明するための電子線照射装置の概略斜
視図。
【図2】CTAフィルムを用いた従来例にかかる電子線
電流測定において照射量と吸光度が比例するが10Mr
ad以上は計測できないことを示すグラフ。
【図3】本発明の概略の構成を示す電子線照射装置の断
面図。
【図4】アースされた照射室内部の金属導体に電流測定
子が抵抗を介してつながっている例を示す断面図。
【図5】多チャンネル電流計測器の内部構成の一例を示
す図。
【図6】電流測定子が照射領域Sのx方向より長いもの
である実施例を示す斜視図。
【図7】電流測定子がx方向にも複数個に分割されてお
りy方向への分割を合わせてmn個縦横に存在する実施
例を示す斜視図。
【図8】電流測定子の内部を中空にして絶縁導管とつな
ぎ、内部に冷却媒体を流すようにした実施例を示す斜視
図。
【図9】電流測定子の内部を中空にし内部に冷却媒体を
密封した実施例を示す斜視図。
【図10】照射室の内部においてアースされた板の上に
絶縁体を介して電流測定子を置き、電流測定子と板を抵
抗によって接続している実施例を示す斜視図。
【図11】ビーム電流測定子の断面形状。(a)は正方
形中実体断面、(b)は正方形筒型断面、(c)は円形
中実体断面、(d)は円筒形断面、(e)は半円中実体
断面、(f)は半円筒体断面。
【符号の説明】 1 電子源 2 真空チャンバ 3 窓箔 4 照射室 5 測定子絶縁支持台 6 ビーム電流測定子 7 ビームキャッチャー 8 ケーブル 9 多チャンネル電流計測器 10 データ分析器 11 支持体 12 スイッチユニット 13 照射窓 14 絶縁導管 15 冷却媒体 16 絶縁物 17 支持台 18 抵抗 19 ケーブル断線 21 搬送コンベヤ 22 CTAフィルム

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子線照射装置の照射窓直下の電子線照
    射領域Sに、複数のビーム電流測定子を搬送方向と電子
    線方向に直角に並べ、電流測定抵抗を通してアースに接
    続し、各電流測定抵抗に流れる電流によって電子線電流
    の空間分布を求める事を特徴とする電子線分布測定装
    置。
  2. 【請求項2】 電子線照射領域Sの搬送方向の長さkよ
    り、ビーム電流測定子の長さLが長い事を特徴とする請
    求項1に記載の電子線分布測定装置。
  3. 【請求項3】 搬送方向にもビーム電流測定子を複数個
    設け、縦横にビーム電流測定子を照射領域に並べた事を
    特徴とする請求項1に記載の電子線分布測定装置。
  4. 【請求項4】 ビーム電流測定子内部を空洞とし内部に
    冷却媒体を流すことによってビーム電流測定子を冷却す
    る事を特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の電子線
    分布測定装置。
  5. 【請求項5】 要求精度内に抵抗値の揃った抵抗器を、
    各ビーム電流測定子に付け、抵抗器の一端をアースに落
    とし、電圧信号を照射室外に設けた電流計測装置に送る
    ことを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の電子線
    分布測定装置。
  6. 【請求項6】 ビーム電流測定子の内部を空洞として冷
    却媒体を内蔵させた事を特徴とする請求項1〜3または
    5の何れかに記載の電子線分布測定装置。
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