JP2001219054A - 反応器アッセンブリ - Google Patents
反応器アッセンブリInfo
- Publication number
- JP2001219054A JP2001219054A JP2000388818A JP2000388818A JP2001219054A JP 2001219054 A JP2001219054 A JP 2001219054A JP 2000388818 A JP2000388818 A JP 2000388818A JP 2000388818 A JP2000388818 A JP 2000388818A JP 2001219054 A JP2001219054 A JP 2001219054A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reactor
- reactor assembly
- piercing member
- assembly according
- tubular housing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/015—Apparatus or processes for the preparation of emulsions
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/0053—Details of the reactor
- B01J19/006—Baffles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/18—Stationary reactors having moving elements inside
- B01J19/1806—Stationary reactors having moving elements inside resulting in a turbulent flow of the reactants, such as in centrifugal-type reactors, or having a high Reynolds-number
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2208/00—Processes carried out in the presence of solid particles; Reactors therefor
- B01J2208/00008—Controlling the process
- B01J2208/00654—Controlling the process by measures relating to the particulate material
- B01J2208/00672—Particle size selection
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00002—Chemical plants
- B01J2219/00018—Construction aspects
- B01J2219/0002—Plants assembled from modules joined together
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00051—Controlling the temperature
- B01J2219/00074—Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids
- B01J2219/00076—Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids with heat exchange elements inside the reactor
- B01J2219/00083—Coils
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00049—Controlling or regulating processes
- B01J2219/00051—Controlling the temperature
- B01J2219/00074—Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids
- B01J2219/00087—Controlling the temperature by indirect heating or cooling employing heat exchange fluids with heat exchange elements outside the reactor
- B01J2219/00094—Jackets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/00761—Details of the reactor
- B01J2219/00763—Baffles
- B01J2219/00779—Baffles attached to the stirring means
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C2200/00—Details
- G03C2200/09—Apparatus
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
- Mixers Of The Rotary Stirring Type (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来技術の反応器の欠点の少なくとも１つを
緩和または解消する。 【解決手段】 反応器は、チューブ状ハウジング、少な
くとも１つの反応物質入口、少なくとも１つの反応物質
入口の情報に配置された少なくとも１つの反応混合物出
口、ならびに少なくとも１つの反応物質入口の近傍の領
域に配置された撹拌機および撹拌機（ｅ）と反応混合物
出口との間でチューブ状ハウジング内に配置された穿孔
部材（ｃ）を有する。
緩和または解消する。 【解決手段】 反応器は、チューブ状ハウジング、少な
くとも１つの反応物質入口、少なくとも１つの反応物質
入口の情報に配置された少なくとも１つの反応混合物出
口、ならびに少なくとも１つの反応物質入口の近傍の領
域に配置された撹拌機および撹拌機（ｅ）と反応混合物
出口との間でチューブ状ハウジング内に配置された穿孔
部材（ｃ）を有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】１つの要旨では、本発明は、
改善された化学反応器、特に化学的な析出物（または沈
殿物）を製造するための反応器に関する。もう１つの要
旨では、本発明は、逆混合の量を減らす手段も提供し、
それによって、析出粒状物が相対的により単分散の分布
となるようにする手段を提供する。「単分散(monodispe
rse)」なる用語は、粒状物の半径の平均値付近に標準偏
差が位置することによって特徴付けられる。更にもう１
つの要旨では、本発明は、析出物の粒子寸法を制御する
手段を提供する。
改善された化学反応器、特に化学的な析出物（または沈
殿物）を製造するための反応器に関する。もう１つの要
旨では、本発明は、逆混合の量を減らす手段も提供し、
それによって、析出粒状物が相対的により単分散の分布
となるようにする手段を提供する。「単分散(monodispe
rse)」なる用語は、粒状物の半径の平均値付近に標準偏
差が位置することによって特徴付けられる。更にもう１
つの要旨では、本発明は、析出物の粒子寸法を制御する
手段を提供する。
【０００２】
【従来の技術】析出プロセスによって多くのファイン化
学物質が工業的に製造されている。これらの析出物質
は、そのような化学物質が自然に存在する天然の対応物
とはしばしば異なり、最終的な用途において重要なパラ
メーターの１またはそれ以上を、精密にコントロールで
きる、あるいは天然の供給源から入手できる状態から変
えることができる。例として、粒子寸法および粒子寸法
分布の双方は、無機顔料の光学的性質に大きな影響を与
えることがよく知られている。従って、粒子寸法を最適
にして、顔料の粒子寸法の分布の広がりを狭くすること
が望ましい。それは、これらの要因が光沢、隠蔽力(hid
ing power)、着色力および色調を明るくする能力(light
ening power)に影響を与えるからである。顔料およびバ
インダーの組み合わせのそれぞれに対して、最も高いレ
ベルの着色力を与える最適粒子寸法が存在する（UECT，
Vol. A２０ p.２５０，２６０参照）。この最適寸法
は、ミーの理論（Mie's Theory（Gustav Mie（１９０
８）））から計算できる。
学物質が工業的に製造されている。これらの析出物質
は、そのような化学物質が自然に存在する天然の対応物
とはしばしば異なり、最終的な用途において重要なパラ
メーターの１またはそれ以上を、精密にコントロールで
きる、あるいは天然の供給源から入手できる状態から変
えることができる。例として、粒子寸法および粒子寸法
分布の双方は、無機顔料の光学的性質に大きな影響を与
えることがよく知られている。従って、粒子寸法を最適
にして、顔料の粒子寸法の分布の広がりを狭くすること
が望ましい。それは、これらの要因が光沢、隠蔽力(hid
ing power)、着色力および色調を明るくする能力(light
ening power)に影響を与えるからである。顔料およびバ
インダーの組み合わせのそれぞれに対して、最も高いレ
ベルの着色力を与える最適粒子寸法が存在する（UECT，
Vol. A２０ p.２５０，２６０参照）。この最適寸法
は、ミーの理論（Mie's Theory（Gustav Mie（１９０
８）））から計算できる。
【０００３】また、ゴム製品において、沈降シリカのよ
うな充填剤の粒子寸法および粒子寸法分布が重要なパラ
メーターであり、これらは、強化および耐磨耗性の程度
のような物性に影響を与える。最も小さい粒子寸法を有
する充填剤は、最も良好な強化および耐磨耗性を与え
る。
うな充填剤の粒子寸法および粒子寸法分布が重要なパラ
メーターであり、これらは、強化および耐磨耗性の程度
のような物性に影響を与える。最も小さい粒子寸法を有
する充填剤は、最も良好な強化および耐磨耗性を与え
る。
【０００４】写真技術分野では、フィルム内の塩化銀の
結晶の寸法および分布が写真において達成される最終的
な解像度に大きく影響し、画像の粒子の粗さ（grainine
ss）または不鮮明さが問題になるか否かに影響を与え
る。
結晶の寸法および分布が写真において達成される最終的
な解像度に大きく影響し、画像の粒子の粗さ（grainine
ss）または不鮮明さが問題になるか否かに影響を与え
る。
【０００５】従って、反応技術の分野において未解決の
問題点は、析出反応の間、粒子寸法および粒子寸法分布
をコントロールすることである。この問題点は、反応物
質および反応生成物の再混合（いわゆる逆混合(backmix
ing)）が、複数工程のプロセスの場合には、後の反応工
程に悪影響を与え得る、粒子寸法の広い分布をもたらす
場合に、あるいは、単一工程のプロセスの場合には、目
的とする用途には最適でない生成物が生じ得る場合に、
起こる。従って、適当な反応装置を選択して逆混合を最
小限にすることが重要となりる。以下に、一般的な反応
器のデザインを幾つか簡単に説明する。
問題点は、析出反応の間、粒子寸法および粒子寸法分布
をコントロールすることである。この問題点は、反応物
質および反応生成物の再混合（いわゆる逆混合(backmix
ing)）が、複数工程のプロセスの場合には、後の反応工
程に悪影響を与え得る、粒子寸法の広い分布をもたらす
場合に、あるいは、単一工程のプロセスの場合には、目
的とする用途には最適でない生成物が生じ得る場合に、
起こる。従って、適当な反応装置を選択して逆混合を最
小限にすることが重要となりる。以下に、一般的な反応
器のデザインを幾つか簡単に説明する。
【０００６】第１のタイプの反応器は、撹拌装置を備え
た単なる容器(または槽)（即ち、タンク）であり、これ
は、連続撹拌槽反応器（continuous stirred tank reac
tor,CSTR）として知られている。この装置は、槽（また
は容器）を含み、その中に、撹拌要素、例えば回転プロ
ペラまたは翼要素が収容されている。反応物質は、頂部
から、あるいは槽内の口（またはポート）からこの反応
器に同時にまたは順次加えられる。槽の寸法が比較的小
さい限り、優秀な混合の程度を達成することが可能であ
る。槽の寸法が増えると、反応物質の均一な分布を維持
することが困難になり、実際には、槽容積は、寸法が１
００ｍ3より小さい場合に制限される。しかしながら、
出発物質と得られる最終生成物の双方が同じ槽内に同時
に存在し、相互に連続的に混合されるので、これらの逆
混合を避けることはできず、このことは、この反応器の
技術的デザインに固有のものである。そのような反応器
を使用して得られる生成物の寸法の分布は、生成物の経
過時間（または年齢、age）が広がりを有するので必然
的に広く、異なる時刻に生まれた種々のものが生成物混
合物に存在する。
た単なる容器(または槽)（即ち、タンク）であり、これ
は、連続撹拌槽反応器（continuous stirred tank reac
tor,CSTR）として知られている。この装置は、槽（また
は容器）を含み、その中に、撹拌要素、例えば回転プロ
ペラまたは翼要素が収容されている。反応物質は、頂部
から、あるいは槽内の口（またはポート）からこの反応
器に同時にまたは順次加えられる。槽の寸法が比較的小
さい限り、優秀な混合の程度を達成することが可能であ
る。槽の寸法が増えると、反応物質の均一な分布を維持
することが困難になり、実際には、槽容積は、寸法が１
００ｍ3より小さい場合に制限される。しかしながら、
出発物質と得られる最終生成物の双方が同じ槽内に同時
に存在し、相互に連続的に混合されるので、これらの逆
混合を避けることはできず、このことは、この反応器の
技術的デザインに固有のものである。そのような反応器
を使用して得られる生成物の寸法の分布は、生成物の経
過時間（または年齢、age）が広がりを有するので必然
的に広く、異なる時刻に生まれた種々のものが生成物混
合物に存在する。
【０００７】析出にしばしば使用される第２のタイプの
反応器は、一方の端部にて反応物質を導入する、垂直に
配置されるシリンダー状チューブを有するチューブ状反
応器である。チューブ内への連続的な流れのために、出
発物質の成分は、反応しながら押されてチューブを通過
し、得られる生成物は他方の端部にてチューブを出る。
連続流れとして引き続いて供給される成分が、チューブ
内でそれより前方に既に存在する成分を押すので、逆混
合は比較的小さい。従って、チューブ状反応器は、流れ
方向における反応物質の混合を最小限とするために使用
される。結果的に、反応物質の濃度は、反応器の長さに
沿って変化することになる。他方、チューブを通過する
物質の層流的な流れのために、物質の軸方向の混合はそ
れほど満足すべきものではない。また、反応の進行が遅
い場合、またはある程度の反応の前に誘導時間がある場
合、あるいは反応物質の拡散がバルク（または本体部）
の粘度によって制限される場合、反応を完結するために
必要な滞留時間を保証するためには非常に長いチューブ
が必要となる場合がある。
反応器は、一方の端部にて反応物質を導入する、垂直に
配置されるシリンダー状チューブを有するチューブ状反
応器である。チューブ内への連続的な流れのために、出
発物質の成分は、反応しながら押されてチューブを通過
し、得られる生成物は他方の端部にてチューブを出る。
連続流れとして引き続いて供給される成分が、チューブ
内でそれより前方に既に存在する成分を押すので、逆混
合は比較的小さい。従って、チューブ状反応器は、流れ
方向における反応物質の混合を最小限とするために使用
される。結果的に、反応物質の濃度は、反応器の長さに
沿って変化することになる。他方、チューブを通過する
物質の層流的な流れのために、物質の軸方向の混合はそ
れほど満足すべきものではない。また、反応の進行が遅
い場合、またはある程度の反応の前に誘導時間がある場
合、あるいは反応物質の拡散がバルク（または本体部）
の粘度によって制限される場合、反応を完結するために
必要な滞留時間を保証するためには非常に長いチューブ
が必要となる場合がある。
【０００８】第３のタイプの反応器は、CSTRおよびチュ
ーブ状反応器の双方の要素を有し、連続フロー撹拌槽反
応器（continuous flow stirred tank reactor、CFST
R）として知られている。このデザインでは、反応物質
は連続的に反応器に入り、生成物は同時に反応器を出
る。従って、いずれの時期においても反応器内に存在す
る生成物は、入ってくるフィードと混合され、反応器内
のいずれの領域においても本質的に均一な組成を有する
溶液が得られる。その結果、反応混合物の一部分におけ
る析出物の成長粒子は、種々の年齢を有し、従って、単
一のCFSTRは狭い粒子寸法分布を得るには適当ではな
い。更に、そのようなCFSTRを完全に満たすために必要
な時間が反応速度の観点から相当長い場合には、定常状
態操作に達するために長い時間（またはインターバル）
が必要である。
ーブ状反応器の双方の要素を有し、連続フロー撹拌槽反
応器（continuous flow stirred tank reactor、CFST
R）として知られている。このデザインでは、反応物質
は連続的に反応器に入り、生成物は同時に反応器を出
る。従って、いずれの時期においても反応器内に存在す
る生成物は、入ってくるフィードと混合され、反応器内
のいずれの領域においても本質的に均一な組成を有する
溶液が得られる。その結果、反応混合物の一部分におけ
る析出物の成長粒子は、種々の年齢を有し、従って、単
一のCFSTRは狭い粒子寸法分布を得るには適当ではな
い。更に、そのようなCFSTRを完全に満たすために必要
な時間が反応速度の観点から相当長い場合には、定常状
態操作に達するために長い時間（またはインターバル）
が必要である。
【０００９】また、チューブ状反応器を複数の混合領域
に分割して、それぞれを撹拌槽（撹拌装置付き槽）とし
て構成することによって、チューブ状反応器と撹拌槽と
のハイブリッドな組み合わせが提供され得る。これら
は、一連のカスケードとして配列され、混合の間、成分
は撹拌装置付きチャンバー内において停滞したままでは
なく、そこを通過して流れている。しかしながら、この
組み合わせには、幾つかの欠点がある。撹拌要素によっ
て生じる遠心力により粒子が沈降する可能性がある。ま
た、撹拌要素の角度を有する速度が全ての点において同
じではなく、撹拌要素の駆動シャフトの近傍では最も小
さく、そのため、均一な混合を達成できない。別の欠点
として、反応器の構成パーツを清掃することが困難であ
る。
に分割して、それぞれを撹拌槽（撹拌装置付き槽）とし
て構成することによって、チューブ状反応器と撹拌槽と
のハイブリッドな組み合わせが提供され得る。これら
は、一連のカスケードとして配列され、混合の間、成分
は撹拌装置付きチャンバー内において停滞したままでは
なく、そこを通過して流れている。しかしながら、この
組み合わせには、幾つかの欠点がある。撹拌要素によっ
て生じる遠心力により粒子が沈降する可能性がある。ま
た、撹拌要素の角度を有する速度が全ての点において同
じではなく、撹拌要素の駆動シャフトの近傍では最も小
さく、そのため、均一な混合を達成できない。別の欠点
として、反応器の構成パーツを清掃することが困難であ
る。
【００１０】別の反応器が、例えばフランス国特許公開
第2,321,513号、ドイツ国特許公開第1,125,175号ならび
に米国特許第3,716,590号および同第4,268,437号に記載
されている。これらの既知の反応器は、析出反応を実施
するのに適していないか、あるいは全く適当ではない。
第2,321,513号、ドイツ国特許公開第1,125,175号ならび
に米国特許第3,716,590号および同第4,268,437号に記載
されている。これらの既知の反応器は、析出反応を実施
するのに適していないか、あるいは全く適当ではない。
【００１１】チューブ型反応器は、周知であり、流れ方
向の反応物質の混合を最小限にするようにデザインされ
る。結果として、反応物質の濃度は、反応器の長さ方向
に沿って変化する。対照的に、連続流れ撹拌槽反応器
（CFSTR）において反応混合物は入ってくるフィードと
ブレンドされて、反応器のいずれの領域においても本質
的に均一な組成の溶液をもたらす。従って、粒子は種々
の年齢および滞留時間を有することとなる。粒子寸法お
よび年齢は直接的に相関があるので、単一のCFSTRは、
狭い粒子寸法分布を得るには適当ではない。しかしなが
ら、第１反応器に触媒の全てが供給される、直列の３ま
たはそれ以上の撹拌槽はチューブ状反応器の性能に近づ
き得ることが知られている。
向の反応物質の混合を最小限にするようにデザインされ
る。結果として、反応物質の濃度は、反応器の長さ方向
に沿って変化する。対照的に、連続流れ撹拌槽反応器
（CFSTR）において反応混合物は入ってくるフィードと
ブレンドされて、反応器のいずれの領域においても本質
的に均一な組成の溶液をもたらす。従って、粒子は種々
の年齢および滞留時間を有することとなる。粒子寸法お
よび年齢は直接的に相関があるので、単一のCFSTRは、
狭い粒子寸法分布を得るには適当ではない。しかしなが
ら、第１反応器に触媒の全てが供給される、直列の３ま
たはそれ以上の撹拌槽はチューブ状反応器の性能に近づ
き得ることが知られている。
【００１２】多くの種類のファインケミカル物質は、析
出プロセスによって工業的に製造される。これらの析出
物質は、天然の対応物とはしばしば異なり、最終的な用
途において重要なパラメーターの１またはそれ以上を、
より精密にコントロールできる、あるいは天然の供給源
から入手できる状態から変えることができる。例とし
て、粒子寸法および粒子寸法分布の双方は、塗料顔料の
着色力または隠蔽力に大きな影響を与えることがよく知
られている。工業的に重要な顔料の多くは、析出プロセ
スによって製造されている（Ullman's Encyclopaedia o
f Chemical Technology, Vol. A20, pages 243-369参
照）。しかしながら、大きいCST反応器を用いて粒子寸
法分布のコントロールは困難である。それは、反応物質
が同時に均一に分布する状態を達成することが困難であ
るためである。また、界面活性剤または表面薬剤（surf
ace agent）によって粒状物質を均一に被覆することは
困難である。均一な被覆がしばしば望ましく、例えば触
媒粒子の場合にそうである。大きい反応器を使用する場
合、（副反応を防止して適切な方法で最大量の製品を製
造するために、しばしば望ましい）短時間で反応媒体の
温度を変更することも困難である。
出プロセスによって工業的に製造される。これらの析出
物質は、天然の対応物とはしばしば異なり、最終的な用
途において重要なパラメーターの１またはそれ以上を、
より精密にコントロールできる、あるいは天然の供給源
から入手できる状態から変えることができる。例とし
て、粒子寸法および粒子寸法分布の双方は、塗料顔料の
着色力または隠蔽力に大きな影響を与えることがよく知
られている。工業的に重要な顔料の多くは、析出プロセ
スによって製造されている（Ullman's Encyclopaedia o
f Chemical Technology, Vol. A20, pages 243-369参
照）。しかしながら、大きいCST反応器を用いて粒子寸
法分布のコントロールは困難である。それは、反応物質
が同時に均一に分布する状態を達成することが困難であ
るためである。また、界面活性剤または表面薬剤（surf
ace agent）によって粒状物質を均一に被覆することは
困難である。均一な被覆がしばしば望ましく、例えば触
媒粒子の場合にそうである。大きい反応器を使用する場
合、（副反応を防止して適切な方法で最大量の製品を製
造するために、しばしば望ましい）短時間で反応媒体の
温度を変更することも困難である。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】従来技術の上述の欠点
の少なくとも１つを緩和または解消することが本発明の
目的である。
の少なくとも１つを緩和または解消することが本発明の
目的である。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は、モジュール方
式チューブ状反応器（modular tube reactor）に関し、
この反応器は、逆混合の程度が非常に低いレベルであ
る、複数段の混合および反応領域の可能性を提供する。
これは、狭い凝集物寸法分布を有する化学的析出物、特
に「核生成(nucleating)」または「成長(building)」工
程が含まれる析出物（または沈殿物、precipitate）の
製造に有用である。また、反応性種の濃度を変えること
によって一次粒子寸法のコントロールが可能である。別
の態様では、このシステムは、加水分解によって狭い粒
子分布を得るために使用できる。この新しい装置は、こ
れらの問題点を解決する。
式チューブ状反応器（modular tube reactor）に関し、
この反応器は、逆混合の程度が非常に低いレベルであ
る、複数段の混合および反応領域の可能性を提供する。
これは、狭い凝集物寸法分布を有する化学的析出物、特
に「核生成(nucleating)」または「成長(building)」工
程が含まれる析出物（または沈殿物、precipitate）の
製造に有用である。また、反応性種の濃度を変えること
によって一次粒子寸法のコントロールが可能である。別
の態様では、このシステムは、加水分解によって狭い粒
子分布を得るために使用できる。この新しい装置は、こ
れらの問題点を解決する。
【００１５】本発明は、チューブ状ハウジング（例えば
実質的に長尺チューブ状のハウジング）、少なくとも１
つの反応物質入口、少なくとも１つの反応物質入口の上
方に配置された少なくとも１つの反応混合物出口、なら
びに少なくとも１つの反応物質入口の近傍の領域に配置
された撹拌機および撹拌機と反応混合物出口との間でチ
ューブ状ハウジング内に配置された穿孔部材を有して成
る反応器アッセンブリを提供し、また、そのような反応
器アッセンブリを複数有し、反応器アッセンブリが直列
に接続されているモジュール方式反応システムを提供す
る。
実質的に長尺チューブ状のハウジング）、少なくとも１
つの反応物質入口、少なくとも１つの反応物質入口の上
方に配置された少なくとも１つの反応混合物出口、なら
びに少なくとも１つの反応物質入口の近傍の領域に配置
された撹拌機および撹拌機と反応混合物出口との間でチ
ューブ状ハウジング内に配置された穿孔部材を有して成
る反応器アッセンブリを提供し、また、そのような反応
器アッセンブリを複数有し、反応器アッセンブリが直列
に接続されているモジュール方式反応システムを提供す
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の態様を、添付図面を参照
して説明する。モジュール方式反応器システムは、垂直
（または鉛直）構造であり、生成物の流れは、重力と反
対の方向である。ステディ軸受け（steady bearing）
（ｇ）によって固定された回転シャフト（ａ）が回転翼
（ｅ１）を駆動する力（またはパワー）を提供する。１
またはそれ以上の反応物質（必要に応じて加熱されてい
る）は、１または複数の口（またはポート、２つを（ｆ
１）および（ｆ２）として図示）を通って混合ゾーン
（Ｒ１）に入る。これらの口は、混合ゾーンの周に沿っ
て測った場合に、可能な限り大きい距離で離れている。
単一または複数の邪魔板（ｑ）がＲ１内に含まれていて
もよく、乱流状の混合を向上させる。エンドキャップ
（ｈ）は、生成物の流れが上向きとなるのを確保する。
反応器チューブより大きい直径を有し、孔を有する薄い
ダイヤフラムから成る逆混合防止要素（ｃ１）を含むこ
とによって逆混合は最小限となる。孔の寸法は、生成物
が自由に通過して移動できるようになっているが、反応
領域内への生成物の相当な逆流が生じるほど大きくな
い。必要な孔の寸法および数は、反応物質の流量、混合
ゾーン内の乱れの程度および媒体の粘度により決まる。
逆混合防止要素は、２つのＯ−リング（ｄ１）および
（ｄ２）によりシールされ、これらは、２つのボルト留
めフランジ（ｂ１）および（ｂ２）によって所定状態で
保持される。生成物は、反応ゾーンを出て、静かな（ま
たは穏やかな）ゾーン（ｊ１）に入る。混合ゾーン（Ｒ
１）において予め反応が完結していな場合には、反応物
質の拡散によって、この領域（ｊ１）において反応は継
続し得る。場合によっては、ゾーン（ｊ１）をジャケッ
トまたは内部コイル（図示せず）によって加熱してよ
い。最も簡単な構成では、生成物は、オーバーフローパ
イプ（図示せず）によってゾーン（ｊ１）を出てよい。
して説明する。モジュール方式反応器システムは、垂直
（または鉛直）構造であり、生成物の流れは、重力と反
対の方向である。ステディ軸受け（steady bearing）
（ｇ）によって固定された回転シャフト（ａ）が回転翼
（ｅ１）を駆動する力（またはパワー）を提供する。１
またはそれ以上の反応物質（必要に応じて加熱されてい
る）は、１または複数の口（またはポート、２つを（ｆ
１）および（ｆ２）として図示）を通って混合ゾーン
（Ｒ１）に入る。これらの口は、混合ゾーンの周に沿っ
て測った場合に、可能な限り大きい距離で離れている。
単一または複数の邪魔板（ｑ）がＲ１内に含まれていて
もよく、乱流状の混合を向上させる。エンドキャップ
（ｈ）は、生成物の流れが上向きとなるのを確保する。
反応器チューブより大きい直径を有し、孔を有する薄い
ダイヤフラムから成る逆混合防止要素（ｃ１）を含むこ
とによって逆混合は最小限となる。孔の寸法は、生成物
が自由に通過して移動できるようになっているが、反応
領域内への生成物の相当な逆流が生じるほど大きくな
い。必要な孔の寸法および数は、反応物質の流量、混合
ゾーン内の乱れの程度および媒体の粘度により決まる。
逆混合防止要素は、２つのＯ−リング（ｄ１）および
（ｄ２）によりシールされ、これらは、２つのボルト留
めフランジ（ｂ１）および（ｂ２）によって所定状態で
保持される。生成物は、反応ゾーンを出て、静かな（ま
たは穏やかな）ゾーン（ｊ１）に入る。混合ゾーン（Ｒ
１）において予め反応が完結していな場合には、反応物
質の拡散によって、この領域（ｊ１）において反応は継
続し得る。場合によっては、ゾーン（ｊ１）をジャケッ
トまたは内部コイル（図示せず）によって加熱してよ
い。最も簡単な構成では、生成物は、オーバーフローパ
イプ（図示せず）によってゾーン（ｊ１）を出てよい。
【００１７】粒子を形成する（即ち、制御された割合
（または速度）で核から粒子を成長させる）、または粒
子を被覆する（またはコーティングする）ために、図２
に示すように、追加のモジュールを重ねることによって
ベースモジュールを補足してよい。（図面の領域上の制
約のため、図２は、水平方向に示しているが、重ねた反
応器は鉛直向きであることが理解されよう。）図２にお
いて、追加のモジュール（Ｒ２）は、図１に先に示した
ものに付け加えたものである。出口チューブ（ｊ１）に
よってゾーン（Ｒ１）から流れる生成物は、もう１つの
逆混合防止要素（ｃ２）を通過して第２混合ゾーン（Ｒ
２）に入る。この場合も、逆混合防止要素（ｃ２）は、
反応器チューブより大きい直径を有し、薄い孔を有する
ダイヤフラムから成り、孔の寸法および数は、生成物が
自由に通過して移動できるようになっているが、先の穏
やかな領域（ｊ１）内への生成物の相当な逆流が生じる
ほど大きくない。必要な孔の寸法および数は、反応物質
の流量、混合ゾーン（Ｒ２）内の乱れの程度および媒体
の粘度により決まる。
（または速度）で核から粒子を成長させる）、または粒
子を被覆する（またはコーティングする）ために、図２
に示すように、追加のモジュールを重ねることによって
ベースモジュールを補足してよい。（図面の領域上の制
約のため、図２は、水平方向に示しているが、重ねた反
応器は鉛直向きであることが理解されよう。）図２にお
いて、追加のモジュール（Ｒ２）は、図１に先に示した
ものに付け加えたものである。出口チューブ（ｊ１）に
よってゾーン（Ｒ１）から流れる生成物は、もう１つの
逆混合防止要素（ｃ２）を通過して第２混合ゾーン（Ｒ
２）に入る。この場合も、逆混合防止要素（ｃ２）は、
反応器チューブより大きい直径を有し、薄い孔を有する
ダイヤフラムから成り、孔の寸法および数は、生成物が
自由に通過して移動できるようになっているが、先の穏
やかな領域（ｊ１）内への生成物の相当な逆流が生じる
ほど大きくない。必要な孔の寸法および数は、反応物質
の流量、混合ゾーン（Ｒ２）内の乱れの程度および媒体
の粘度により決まる。
【００１８】逆混合防止要素は、２つのＯ−リング（ｄ
３）および（ｄ４）により所定状態で保持される。１ま
たはそれ以上の薬剤または追加の媒体が１または複数の
口（２つを（ｆ３）および（ｆ４）として図示）を通っ
て入ることができる。混合は、中央シャフト（ａ）に接
続された回転翼（ｅ２）によって実施される。この場合
も、必要に応じて単一または複数の邪魔板がゾーン（Ｒ
２）内に含まれていてもよく、混合を補助する。第３の
逆流防止要素（ｃ３）は、生成物が混合ゾーン（Ｒ２）
に再入するのを防止する。この場合も、逆流防止要素
（ｃ３）は、反応器チューブより大きい直径を有し、薄
い孔を有するダイヤフラムから成り、孔の寸法は、生成
物が自由に通過して移動できるようになっているが、ゾ
ーン（ｊ２）から混合ゾーン（Ｒ２）内への生成物の相
当な逆流が生じるほど大きくない。必要な孔の寸法は、
反応物質の流量、ゾーン（Ｒ２）内の乱れの程度および
媒体の粘度により決まる。逆流防止要素（ｃ３）は、２
つのＯ−リング（ｄ５）および（ｄ６）（１つのみを図
示）により所定状態で保持される。ゾーン（Ｒ２）は、
２つのボルト留め可能なフランジ（ｂ３）および（ｂ
４）によりシールされ、これらは、Ｏ−リング（ｃ２）
および（ｃ３）を所定状態でシールするように圧力を加
える。生成物は、必要に応じてジャケットまたは内部コ
イルによって加熱または冷却してよい穏やかなゾーン
（ｊ２）を経由してゾーン（Ｒ２）を出る。ゾーン（ｊ
２）の長さは、析出またはコーティング反応がその中で
完結するようになっている。生成物は、オーバーフロー
パイプ（ｏ）によって重ねた反応器から取り出される。
３）および（ｄ４）により所定状態で保持される。１ま
たはそれ以上の薬剤または追加の媒体が１または複数の
口（２つを（ｆ３）および（ｆ４）として図示）を通っ
て入ることができる。混合は、中央シャフト（ａ）に接
続された回転翼（ｅ２）によって実施される。この場合
も、必要に応じて単一または複数の邪魔板がゾーン（Ｒ
２）内に含まれていてもよく、混合を補助する。第３の
逆流防止要素（ｃ３）は、生成物が混合ゾーン（Ｒ２）
に再入するのを防止する。この場合も、逆流防止要素
（ｃ３）は、反応器チューブより大きい直径を有し、薄
い孔を有するダイヤフラムから成り、孔の寸法は、生成
物が自由に通過して移動できるようになっているが、ゾ
ーン（ｊ２）から混合ゾーン（Ｒ２）内への生成物の相
当な逆流が生じるほど大きくない。必要な孔の寸法は、
反応物質の流量、ゾーン（Ｒ２）内の乱れの程度および
媒体の粘度により決まる。逆流防止要素（ｃ３）は、２
つのＯ−リング（ｄ５）および（ｄ６）（１つのみを図
示）により所定状態で保持される。ゾーン（Ｒ２）は、
２つのボルト留め可能なフランジ（ｂ３）および（ｂ
４）によりシールされ、これらは、Ｏ−リング（ｃ２）
および（ｃ３）を所定状態でシールするように圧力を加
える。生成物は、必要に応じてジャケットまたは内部コ
イルによって加熱または冷却してよい穏やかなゾーン
（ｊ２）を経由してゾーン（Ｒ２）を出る。ゾーン（ｊ
２）の長さは、析出またはコーティング反応がその中で
完結するようになっている。生成物は、オーバーフロー
パイプ（ｏ）によって重ねた反応器から取り出される。
【００１９】非常に狭い粒子寸法分布が望ましい場合、
あるいは２以上のコーティングが望ましい場合には、追
加の反応器を同様の方法で重ねてもよい。
あるいは２以上のコーティングが望ましい場合には、追
加の反応器を同様の方法で重ねてもよい。
【００２０】上述のチューブ状反応器は、同時に係属し
ているカナダ国特許出願第2,292,819号（本願の優先権
主張日と同日に出願）に記載されているようなシリカを
製造するために使用することができる。
ているカナダ国特許出願第2,292,819号（本願の優先権
主張日と同日に出願）に記載されているようなシリカを
製造するために使用することができる。
【図１】 図１は、本発明の好ましい態様の模式図であ
り、反応器のデザインにおいて最小限に必要なベースモ
ジュールを示す。
り、反応器のデザインにおいて最小限に必要なベースモ
ジュールを示す。
【図２】 図２は、本発明の好ましい態様の模式図であ
る。
る。
ａ…回転シャフト、ｂ…フランジ、ｃ…逆混合防止要
素、ｄ…Ｏ−リング、ｅ…回転翼、ｆ…ポート、ｇ…ス
テディ軸受け、ｈ…エンドキャップ、ｏ…オーバーフロ
ーパイプ、Ｒ…混合ゾーン。
素、ｄ…Ｏ−リング、ｅ…回転翼、ｆ…ポート、ｇ…ス
テディ軸受け、ｈ…エンドキャップ、ｏ…オーバーフロ
ーパイプ、Ｒ…混合ゾーン。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ギルズ・アーゼノールト カナダ、エヌ０エヌ・１エイチ０、オンタ リオ、コートライト、ポスト・オフィス・ ボックス87、メイン・ストリート134番 (72)発明者 デイビッド・ドロープ カナダ、エヌ０エヌ・２アール０、オンタ リオ、ペトロリア、ボックス453、ペトロ リア・ストリート4214番
Claims (10)
- 【請求項１】 チューブ状ハウジング、少なくとも１つ
の反応物質入口、少なくとも１つの反応物質入口の上方
に配置された少なくとも１つの反応混合物出口、ならび
に少なくとも１つの反応物質入口の近傍の領域に配置さ
れた撹拌機および撹拌機と反応混合物出口との間でチュ
ーブ状ハウジング内に配置された穿孔部材を有して成る
反応器アッセンブリ。 - 【請求項２】 穿孔部材はディスク形状である請求の範
囲第１項に記載の反応器アッセンブリ。 - 【請求項３】 穿孔部材は開口部を有する請求項１に記
載の反応器アッセンブリ。 - 【請求項４】 穿孔部材はスロットを有する請求項１に
記載の反応器アッセンブリ。 - 【請求項５】 穿孔部材は、チューブ状ハウジングの長
手方向軸に対して実質的に横断方向であるチューブ状ハ
ウジングの断面の実質的に全てを占める請求項１に記載
の反応器アッセンブリ。 - 【請求項６】 反応器アッセンブリは複数の反応物質入
口を有する請求項１に記載の反応器アッセンブリ。 - 【請求項７】 複数の穿孔部材を有する請求項１に記載
の反応器アッセンブリ。 - 【請求項８】 穿孔部材は、チューブ状ハウジングの長
手方向軸に対して実質的に横断方向であるチューブ状ハ
ウジングの断面の実質的に全てを占める請求項２に記載
の反応器アッセンブリ。 - 【請求項９】 穿孔部材は開口部を有する請求項２に記
載の反応器アッセンブリ。 - 【請求項１０】 請求項１〜９のいずれかに記載の反応
器アッセンブリを複数有し、反応器アッセンブリが直列
に接続されているモジュール方式反応システム。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CA2292862 | 1999-12-22 | ||
| CA002292862A CA2292862A1 (en) | 1999-12-22 | 1999-12-22 | Modular reactor system allowing control of particle size during chemical precipitation |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001219054A true JP2001219054A (ja) | 2001-08-14 |
Family
ID=4164917
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000388818A Pending JP2001219054A (ja) | 1999-12-22 | 2000-12-21 | 反応器アッセンブリ |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20010006611A1 (ja) |
| EP (1) | EP1110601A3 (ja) |
| JP (1) | JP2001219054A (ja) |
| KR (1) | KR20010070324A (ja) |
| CA (1) | CA2292862A1 (ja) |
| TW (1) | TW527213B (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009195817A (ja) * | 2008-02-21 | 2009-09-03 | Toray Eng Co Ltd | マイクロリアクタ |
| WO2011122586A1 (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-06 | 国立大学法人横浜国立大学 | 化学・物理処理装置及び化学・物理処理方法 |
| JP2012166191A (ja) * | 2011-02-11 | 2012-09-06 | Xerox Corp | 粒子を製造するための連続乳化凝集プロセス |
| JP2013514883A (ja) * | 2009-12-22 | 2013-05-02 | カサンドラ オイル テクノロジー アーベー | リアクタ |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7146999B2 (en) * | 2005-03-08 | 2006-12-12 | Gregory C. Giese | Modular fluid handling device |
| DE102006038476B4 (de) * | 2006-08-17 | 2010-05-20 | Itn Nanovation Ag | Kontinuierlich arbeitender Autoklav |
| US7726331B1 (en) | 2007-05-23 | 2010-06-01 | Giese Gregory C | Modular fluid handling device II |
| KR100926414B1 (ko) * | 2008-06-09 | 2009-11-12 | 케이엔디티앤아이 주식회사 | 분할주입에 의한 거대 결정입자의 제조방법 |
| GB201117064D0 (en) * | 2011-10-04 | 2011-11-16 | Univ Brunel | A modular flow reactor |
| DE102012104311A1 (de) | 2012-05-18 | 2013-11-21 | Xylem Ip Holdings Llc | Anlaufmomentreduzierung für Pumpvorrichtungen |
| DE102012104310A1 (de) * | 2012-05-18 | 2013-11-21 | Xylem Ip Holdings Llc | Pumpvorrichtung in Modulbauweise |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DD63648A (ja) * | ||||
| US3556734A (en) * | 1968-02-05 | 1971-01-19 | Leander J Peterson | Exhaust gas conditioning apparatus |
| US3716590A (en) * | 1971-03-24 | 1973-02-13 | Inst Chimie Macromolecular Pet | Process for preparing the p,p-dinitrobibenzyl |
| DE2825655A1 (de) * | 1978-06-12 | 1979-12-20 | Hoechst Ag | Verfahren zur kontinuierlichen diazotierung von aminen |
| US4578449A (en) * | 1983-03-25 | 1986-03-25 | General Electric Company | Two-stage process for preparation of polyphenylene oxides |
| JPS59196733A (ja) * | 1983-04-22 | 1984-11-08 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 反応装置 |
| JPH0669360B2 (ja) * | 1987-10-21 | 1994-09-07 | 生体機能利用化学品新製造技術研究組合 | 液−液異相系の反応装置 |
| ES2044672T3 (es) * | 1990-12-14 | 1994-01-01 | Gutehoffnungshuette Man | Filtro de carbon activado para la separacion de sustancias nocivas, tales como por ejemplo dioxinas y furanos de gases de humo antes de la entrada en la chimenea de los gases de humo. |
| EP0614866B1 (en) * | 1991-10-07 | 1997-01-02 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Method for hydrating a cycloolefin |
-
1999
- 1999-12-22 CA CA002292862A patent/CA2292862A1/en not_active Abandoned
-
2000
- 2000-12-04 TW TW089125938A patent/TW527213B/zh active
- 2000-12-11 EP EP00126539A patent/EP1110601A3/en not_active Withdrawn
- 2000-12-20 US US09/742,968 patent/US20010006611A1/en not_active Abandoned
- 2000-12-21 JP JP2000388818A patent/JP2001219054A/ja active Pending
- 2000-12-21 KR KR1020000079547A patent/KR20010070324A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009195817A (ja) * | 2008-02-21 | 2009-09-03 | Toray Eng Co Ltd | マイクロリアクタ |
| JP2013514883A (ja) * | 2009-12-22 | 2013-05-02 | カサンドラ オイル テクノロジー アーベー | リアクタ |
| US9180425B2 (en) | 2009-12-22 | 2015-11-10 | Cassandra Oil Technology Ab | Reactor comprising a rotor |
| WO2011122586A1 (ja) * | 2010-03-29 | 2011-10-06 | 国立大学法人横浜国立大学 | 化学・物理処理装置及び化学・物理処理方法 |
| JPWO2011122586A1 (ja) * | 2010-03-29 | 2013-07-08 | 均 當麻 | 化学・物理処理装置及び化学・物理処理方法 |
| JP2012166191A (ja) * | 2011-02-11 | 2012-09-06 | Xerox Corp | 粒子を製造するための連続乳化凝集プロセス |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1110601A3 (en) | 2002-02-06 |
| CA2292862A1 (en) | 2001-06-22 |
| US20010006611A1 (en) | 2001-07-05 |
| EP1110601A2 (en) | 2001-06-27 |
| TW527213B (en) | 2003-04-11 |
| KR20010070324A (ko) | 2001-07-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5067767B2 (ja) | 混合装置及びプロセス | |
| Schrimpf et al. | Taylor‐Couette reactor: Principles, design, and applications | |
| DE60209110T2 (de) | Verfahren und vorrichtung zur materialverarbeitung | |
| JP2001219054A (ja) | 反応器アッセンブリ | |
| US6742774B2 (en) | Process for high shear gas-liquid reactions | |
| Peng et al. | A review of microreactors based on slurry Taylor (segmented) flow | |
| JP2001516279A (ja) | 二連剪断混合装置を使用する重合方法 | |
| JP3727595B2 (ja) | マイクロミキサー | |
| JP2005046652A (ja) | マイクロリアクター | |
| WO1994005413A1 (en) | Method and apparatus for mixing fluids | |
| CN104437286B (zh) | 一种生产超细碳酸铈的沉淀反应器 | |
| JP2007204298A (ja) | 微粒子生成装置及びマイクロチャネル基板 | |
| US20070077185A1 (en) | Method for operating fluids of chemical apparatus | |
| Pal et al. | Tuning of particle size in a helical coil reactor | |
| JP3261139B2 (ja) | 沈降装置及び沈降方法 | |
| JP5453092B2 (ja) | 溶質の析出法及び装置 | |
| WO2007075174A2 (en) | Thin film tube reactor | |
| JP2007254176A (ja) | 微粒子製造方法、微粒子製造に用いるスタティックミキサー及びスタティックミキサーを用いた複数の流体の混合方法。 | |
| JP2007533433A (ja) | 粒子状材料の形成方法 | |
| JPH08109208A (ja) | 乳化重合用シード粒子製造方法及び連続多段乳化重合方法 | |
| JP2000093778A (ja) | ミキシング装置 | |
| Kiran | Process Intensification of Protein Crystallization Through Innovative Process Equipment and Operation | |
| FI101863B (fi) | Laite hienojakoisen metallisaostuman valmistamiseksi reaktorissa | |
| WO2021204834A1 (en) | Tubular reactor with mixing means | |
| WO2022119477A1 (ru) | Статический смеситель для дробления пузырьков газа в газожидкостной смеси |